JP2005100608A - 光情報記録媒体用スタンパの製造方法、光情報記録媒体用スタンパ、光情報記録媒体用スタンパの原盤および光情報記録媒体 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 エッチング層102およびエッチング層102の上に形成されたレジスト層103を有する原盤の、レジスト層103の特定部分104を露光によって結晶状態を変化させる工程と、特定部分104を除去する工程と、レジスト層103の除去された部分に重なるエッチング層102の部分を除去する工程と、レジスト層103を除去し導電膜105を形成させる工程と、導電膜105を電極として電鋳を行う工程と、導電膜105からエッチング層102を剥離する工程とを備えた。
【選択図】 図1
Description
結晶状態が変化した前記フォトレジスト層の前記特定部分、または前記特定部分以外の部分を、エッチングにより選択的に除去する工程と、
前記フォトレジスト層が除去されて生じる、外部へ露出した前記エッチング層の一部をエッチングにより選択的に除去する工程と、
前記フォトレジスト層の残りの部分を除去し、前記エッチングストッパ層および前記エッチング層の表面側に導電膜を形成する工程と、
前記導電膜を電極として電鋳を行う工程と、
前記導電膜から前記エッチング層と前記エッチングストッパ層を剥離する工程とを備えた光情報記録媒体用スタンパの製造方法である。
前記フォトレジスト層は、前記耐酸性を有する材料とは材料もしくは組成が異なる無機酸化物を主成分とする、第1の本発明の光情報記録媒体用スタンパの製造方法である。
前記エッチング層を除去するエッチングは、CHF系ガスによるドライエッチングである、第7の本発明の光情報記録媒体用スタンパの製造方法である。
前記導電膜から前記エッチング層と前記エッチングストッパ層とを剥離する工程は、前記第1のNi薄膜を形成させた層と前記第2のNi薄膜を形成させた層とを剥離する工程である、第1の本発明の光情報記録媒体用スタンパの製造方法である。
前記信号ピットの深さとピット幅とにそれぞれ対応する凸部の高さと幅との比が実質上1.0以上である、光情報記録媒体用スタンパである。
前記エッチング層の上に形成されたエッチング可能なフォトレジスト層とを基板上に備え、
前記フォトレジスト層は、その特定部分の結晶状態が露光によって変化させられ、前記特定部分または前記特定部分以外の部分がエッチングにより選択的に除去されており、
前記エッチング層は、前記フォトレジスト層が除去されて生じる、外部へ露出した前記エッチング層の一部が、エッチングにより選択的に除去されることにより凹部が形成されている、光情報記録媒体用スタンパの原盤である。
前記高密度光情報記録媒体の情報記録面上に形成された信号ピットの深さとピット幅とにそれぞれ対応する前記凹部の深さと幅との比が実質上1.0以上である、光情報記録媒体用スタンパの原盤である。
その情報記録面に形成されたピットの深さとピット幅との比が実質上1.0以上である、第21の本発明の光情報記録媒体。
図1を用いて、本発明の実施の形態1の光情報記録媒体用スタンパの製造方法の一例を説明する。図1(a)〜(i)は、本実施の形態1の光情報記録媒体用スタンパの製造方法の工程を示す図である。
次に、図4を用いて、本発明の実施の形態2の光情報記録媒体用スタンパの製造方法の一例を説明する。図4(a)〜(i)は、本実施の形態2の光情報記録媒体用スタンパの製造方法の工程を示す図である。
させる(c)。
導電膜305と金属層306の剥離方法については、実施の形態1と同様に行うことで良好なスタンパ307の作製を実現することができる。
102、202、302 エッチング層
103、203、303 レジスト層
104、204、304 露光部分
105、205、208、305 導電膜
106、206、306 金属層
107、207、307 スタンパ
108,208,308 凹状パターン
109,209,309 信号パターン
Claims (23)
- エッチングストッパ層の上に形成されたエッチング層、および前記エッチング層の上に形成されたエッチング可能なフォトレジスト層を少なくとも有する原盤部材の前記フォトレジスト層の特定部分の結晶状態を、露光によって変化させる工程と、
結晶状態が変化した前記フォトレジスト層の前記特定部分、または前記特定部分以外の部分を、エッチングにより選択的に除去する工程と、
前記フォトレジスト層が除去されて生じる、外部へ露出した前記エッチング層の一部をエッチングにより選択的に除去する工程と、
前記フォトレジスト層の残りの部分を除去し、前記エッチングストッパ層および前記エッチング層の表面側に導電膜を形成する工程と、
前記導電膜を電極として電鋳を行う工程と、
前記導電膜から前記エッチング層と前記エッチングストッパ層を剥離する工程とを備えた光情報記録媒体用スタンパの製造方法。 - 前記エッチング層は耐酸性を有する材料を主成分とし、
前記フォトレジスト層は、前記耐酸性を有する材料とは材料もしくは組成が異なる無機酸化物を主成分とする、請求項1に記載の光情報記録媒体用スタンパの製造方法。 - 前記耐酸性を有する材料は、耐酸性の樹脂材料である、請求項2に記載の光情報記録媒体用スタンパの製造方法。
- 前記エッチング層は、酸素または酸素を含むガスによりドライエッチングが可能な樹脂である、請求項2に記載の光情報記録媒体用スタンパの製造方法。
- 前記エッチング層は、アクリルまたはポリイミドを主成分とする材料で形成されている、請求項2に記載の光情報記録媒体用スタンパの製造方法。
- 前記エッチングストッパ層は、Si、SiO2、ZnSiO2、SiNのいずれかの材料で形成されている、請求項2に記載の光情報記録媒体用スタンパの製造方法。
- 前記耐酸性を有する材料は、耐酸性の無機酸化物である、請求項2に記載の光情報記録媒体用スタンパの製造方法。
- 前記エッチング層は、SiO2を主成分とする材料で形成され、
前記エッチング層を除去するエッチングは、CHF系ガスによるドライエッチングである、請求項7に記載の光情報記録媒体用スタンパの製造方法。 - 前記エッチングストッパ層は、Si材料で形成されている、請求項7に記載の光情報記録媒体用スタンパの製造方法。
- 前記エッチング層の厚みは、実質上40nm以上100nm以下である、請求項1に記載の光情報記録媒体用スタンパの製造方法。
- 前記フォトレジスト層は、半金属、半金属化合物、半金属または半金属化合物の酸化物、半金属または半金属化合物の窒化物、遷移金属、遷移金属の酸化物、遷移金属の窒化物のいずれかの材料で形成されている、請求項1に記載の光情報記録媒体用スタンパの製造方法。
- 前記導電膜は、無電解メッキにより形成されている、請求項1に記載の光情報記録媒体用スタンパの製造方法。
- 前記導電膜を形成する工程は、Ni材料のスパッタによる第1のNi薄膜を形成する工程と、前記第1のNi薄膜の表面をO2もしくはArガスのプラズマにより処理する工程と、前記処理後の前記第1のNi薄膜の上にNi材料のスパッタによる第2のNi薄膜を形成させる工程であり、
前記導電膜から前記エッチング層と前記エッチングストッパ層とを剥離する工程は、前記第1のNi薄膜を形成させた層と前記第2のNi薄膜を形成させた層とを剥離する工程である、請求項1に記載の光情報記録媒体用スタンパの製造方法。 - 前記フォトレジスト層に対する前記エッチング層の選択比が1.0以上である、請求項1に記載の光情報記録媒体用スタンパの製造方法。
- 請求項1に記載の光情報記録媒体用スタンパの製造方法により製造される、光情報記録媒体用スタンパ。
- 情報記録面上に信号ピットが形成された、高密度光情報記録媒体用のスタンパであって、
前記信号ピットの深さとピット幅とにそれぞれ対応する凸部の高さと幅との比が実質上1.0以上である、光情報記録媒体用スタンパ。 - 前記信号ピット幅の大きさは0.18μm以下である、請求項16に記載の光情報記録媒体用スタンパ。
- エッチング層と、
前記エッチング層の上に形成されたエッチング可能なフォトレジスト層とを基板上に備え、
前記フォトレジスト層は、その特定部分の結晶状態が露光によって変化させられ、前記特定部分または前記特定部分以外の部分がエッチングにより選択的に除去されており、
前記エッチング層は、前記フォトレジスト層が除去されて生じる、外部へ露出した前記エッチング層の一部が、エッチングにより選択的に除去されることにより凹部が形成されている、光情報記録媒体用スタンパの原盤。 - 前記光情報記録媒体は、高密度光情報記録媒体であって、
前記高密度光情報記録媒体の情報記録面上に形成された信号ピットの深さとピット幅とにそれぞれ対応する前記凹部の深さと幅との比が実質上1.0以上である、光情報記録媒体用スタンパの原盤。 - 前記凹部の幅は、0.18μm以下である、請求項19に記載の光情報記録媒体用スタンパの原盤。
- 請求項1に記載の光情報記録媒体用スタンパの製造方法によって作製された光情報記録媒体用スタンパを用いて、射出圧縮成形により作製した光情報記録媒体。
- 前記光情報記録媒体は、高密度光情報記録媒体であって、
その情報記録面に形成されたピットの深さとピット幅との比が実質上1.0以上である、請求項21に記載の光情報記録媒体。 - 前記信号ピット幅の大きさは0.18μm以下である、請求項21に記載の光情報記録媒体。
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2004
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