JPH04370540A - 光記録ディスク - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、ディスク状の基板の上
に紫外線硬化性の転写層を有し、この上に記録膜を備え
る光記録ディスクに関する。

【０００２】

【従来の技術】一般に、光記録ディスクの基板表面には
同心円またはスパイラルのトラッキング用グルーブが設
けられており、このものを設ける方法として、プラスチ
ック射出成形によって基板とグルーブを一体成形する方
法と、基板上にグルーブを有する転写層を設けるいわゆ
る２Ｐ（光重合；Ｐｈｏｔｏ−Ｐｏｌｙｍｅｒｒｉｚａ
ｔｉｏｎ）法とが知られている。

【０００３】このうち、後者の２Ｐ法は、図２〜図５に
示されるような工程でグルーブを形成する必要がある。 すなわち、グルーブ作製原盤３０（以下にスタンパ３０
という）又は光透過性の基板１１（光学ガラス又は透明
樹脂にて形成される）の上に紫外線硬化性樹脂溶液１２
ａを、中心軸に対して同心円状に塗布した後（図２参照
）、スタンパ３０と基板１１とを圧接し、しかる後、基
板１１を通して紫外線ＵＶを照射することにより、紫外
線硬化性樹脂溶液１２ａを硬化させ、転写層１２を形成
させる。（図３参照）。基板１１と一体化した転写層１
２をスタンパ３０から剥離すると、硬化した転写層１２
の表面上にスタンパ３０のグルーブパターンが転写複製
される（図４および図５参照）。

【０００４】しかる後、転写層１２の表面に記録層１３
を積層し（図５参照）、接着剤層１４を介して別の基板
１５を接着することにより光記録ディスクが製造される
（図１参照）。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら上記、従
来の光記録ディスクにおいては、紫外線硬化性樹脂溶液
１２ａを紫外線により硬化させる際に、硬化収縮がおこ
る。そのため、この収縮力により基板の反りが生じてし
まい、光による記録・再生における収差の問題が顕著に
なってしまう。

【０００６】このような問題を解決するために、本発明
は創案されたものであって、その目的は、従来の問題点
を解決し、基板の反りを許容限度内に納め、光による記
録・再生における収差の問題を回避できる光記録ディス
クを提供することにある。

【０００７】

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に本発明は、光透過性のディスク状のガラス基板と、こ
の基板の上に設けられたグルーブを有する紫外線硬化性
の転写層と、この転写層の上に直接または中間層を介し
て設けられた記録膜を有する光記録ディスクにおいて、
前記転写層の厚さＴは、前記基板の厚さをｔ（μｍ）と
した場合、Ｔ≦０．１７×ｔとなるように構成した。

【０００８】

【作用】紫外線硬化性樹脂溶液を紫外線により硬化させ
て転写層を形成する際に、転写層の厚さを、基板との関
係で所定範囲内に設定しているので、基板の反りは許容
限度内に納められる。

【０００９】

【実施例】以下、本発明の光記録ディスクについて、図
１に基づいて説明する。本発明の光記録ディスク１は、
光透過性の基板１１と、この基板の上に設けられたグル
ーブを有する紫外線硬化性の転写層１２と、この転写層
１２の上に直接または中間層を介して設けられた記録膜
１３と、接着層１４を介して設けられる保護基板１５を
備えている。

【００１０】基板１１は、ディスク形状をなし、ガラス
材質から形成される。この基板１１の厚さは、１．１〜
１．２ｍｍ程度、直径は、３００ｍｍ程度である。この
ような基板１１の上には、トラッキング用のグルーブを
備える転写層１２が設けられる。転写層１４は、上述の
ごとくスタンパを用い、紫外線硬化性の樹脂を硬化させ
ることに形成される。用いる紫外線硬化性の樹脂として
は、ウレタンアクリレート、エポキシアクリレート、ア
クリル酸エステル等が挙げられる。

【００１１】このような転写層１２の厚さは、前記基板
１１の厚さをｔ（μｍ）とした場合、Ｔ≦０．１７×ｔ
となるように設定される。この転写層１２の厚さＴが、
０．１７×ｔを越えると、転写層の硬化収縮の影響が大
きくなりなり、基板のそりが許容限度を越え実用に絶え
なくなってしまう。一方、この厚さを極端に薄くしよう
とすると、紫外線硬化性の樹脂溶液を拡げるのに極めて
長い時間がかかり生産性が悪い。また、一様に広がらな
いことが起こりやすいという不都合が生じる。

【００１２】ちなみに、基板１１の厚さｔを１２００μ
ｍ（１．２ｍｍ）、直径ｄを３００ｍｍとした場合、転
写層Ｔの厚さは２００μｍ以下に設定しなければならな
い。また、転写層の厚さとは、基板１１と転写層１２と
の界面から転写層１２の凸部の先端までの距離をいう。

【００１３】このような転写層１２の上には、直接また
は誘電体層などの中間層を介して記録膜１３が積層され
る。記録膜１３は、光記録可能な材料から形成される。 例えば、ＴｅＦｅＣｏ、ＧｄＴｂＦｅ、ＧａＴｂＣｏ、
ＧｄＦｅＢｉ、ＤｙＦｅ、ＧｄＦｅ、ＧｄＣｏ、ＢｉＳ
ｍＹｂＣｏＧｅＩＧ、ＢｉＳｍＥｒＧａＩＧ、ＧｄＩＧ
、ＣｏＣｒ、ＣｒＯ２　、ＰｔＣｏ、ＥｕＯＦｅ、Ｅｕ
Ｏ、ＭｎＣｕＢｉ、ＭｎＡｌＧｅ、ＭｎＢｉ等の光磁気
記録材料や、Ｔｅ系やシアニン等の有機色素系のピット
形成タイプの記録材料や、Ａｓ−Ｔｅ−Ｇｅ系、Ｓｎ−
Ｔｅ−Ｓｅ系、ＴｅＯｘ　系、Ｓｂ２　Ｓｅ３　等の相
変化による記録材料や、フォトクロミック材料等の記録
材料が一例として挙げられる。

【００１４】このような、記録膜１３の上には、通常、
接着層１４を介して、ガラスや樹脂等のディスク状の保
護基板１５が形成される。接着層１４は、上記の紫外線
硬化性の樹脂が用いられる。この接着層１４の厚さは、
１２０μｍ程度である。この接着層１４によっても基板
１１の反りは、生じ得るのであって、この接着層１４の
存在をも考慮して上記の転写層１２の厚みは設定されて
いる。

【００１５】以下、具体的実験例を示し、本発明をさら
に詳細に説明する。 実験例 まず、直径約３３０ｍｍのスタンパ３０を回転させつつ
、中心から約１００ｍｍの位置に紫外線硬化性樹脂溶液
１２ａを連続的に滴下し、中心軸に対してリング状の溶
液帯（幅約５ｍｍ）を作製した。その後、スタンパ３０
をスタンパの上方に対向して設置された直径３００ｍｍ
、厚さ１．２ｍｍのガラス基板１１の方に移動させてス
タンパ３０と基板１１とを圧接し、紫外線硬化性樹脂溶
液を内側および外側に延ばし、基板１１のほぼ全面に塗
設した。しかる後、基板１１を通して紫外線ＵＶを照射
することにより、紫外線硬化性樹脂溶液を硬化させ、ス
タンパを基板から離して基板表面に転写層１２を形成さ
せた。

【００１６】この転写層１２の上に、ＴｅＦｅＣｏの光
磁気記録膜１３をスパッタ法で形成した。この上に、紫
外線硬化性の接着剤１４を介して、ガラスの保護基板１
５（厚さ１．２ｍｍ）を張り付けてサンプルを作製した
。

【００１７】このようなサンプル作製において、転写層
１２の厚さを、５０μｍのもの（本発明サンプル）と、
９０μｍのもの（比較サンプル）の２種類を作製した。 これら２種類のサンプルについて、反りおよび記録特性
の評価テストを行ったところ、転写層の厚いもの（９０
μｍ）は、反りが大きく、記録特性が悪いという結果が
得られた。

【００１８】

【発明の効果】上記実験例の結果から、本発明の効果は
明らかである。すなわち、本発明は、光透過性のディス
ク状の基板と、この基板の上に設けられたグルーブを有
する紫外線硬化性の転写層と、この転写層の上に直接ま
たは中間層を介して設けられた記録膜を有する光記録デ
ィスクにおいて、前記転写層の厚さＴ（μｍ）は、前記
基板の厚さをｔ（μｍ）とした場合、Ｔ≦０．１７×ｔ
となるようにしているので、紫外線硬化性樹脂溶液を紫
外線により硬化させる際に発生する基板の反りを許容限
度内に納めることができ、光による記録・再生における
収差の問題が確実に回避できるという効果を奏する。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の光記録ディスクの概略断面図である。

【図２】紫外線硬化性樹脂溶液の滴下状態を示す概略断
面図である。

【図３】紫外線露光工程の概略断面図である。

【図４】転写複製工程の、特に、剥離の状態を示す概略
断面図である。

【図５】転写層剥離後の状態を示す概略断面図である。

【符号の説明】

１１…基板 １２…転写層 １２ａ…紫外線硬化性樹脂溶液

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】　　光透過性のディスク状の基板と、この
   基板の上に設けられたグルーブを有する紫外線硬化性の
   転写層と、この転写層の上に直接または中間層を介して
   設けられた記録膜を有する光記録ディスクにおいて、前
   記転写層の厚さＴ（μｍ）は、前記基板の厚さをｔ（μ
   ｍ）とした場合、 Ｔ≦０．１７×ｔ となるようにしたことを特徴とする光記録ディスク。