JPH03223883A - ホログラムの複製方法 - Google Patents

ホログラムの複製方法

Info

Publication number
JPH03223883A
JPH03223883A JP2023490A JP2023490A JPH03223883A JP H03223883 A JPH03223883 A JP H03223883A JP 2023490 A JP2023490 A JP 2023490A JP 2023490 A JP2023490 A JP 2023490A JP H03223883 A JPH03223883 A JP H03223883A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
ionizing radiation
hologram
base film
roller
resin liquid
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2023490A
Other languages
English (en)
Inventor
Hiroyuki Amamiya
裕之 雨宮
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Dai Nippon Printing Co Ltd
Original Assignee
Dai Nippon Printing Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Dai Nippon Printing Co Ltd filed Critical Dai Nippon Printing Co Ltd
Priority to JP2023490A priority Critical patent/JPH03223883A/ja
Publication of JPH03223883A publication Critical patent/JPH03223883A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03HHOLOGRAPHIC PROCESSES OR APPARATUS
    • G03H1/00Holographic processes or apparatus using light, infrared or ultraviolet waves for obtaining holograms or for obtaining an image from them; Details peculiar thereto
    • G03H1/02Details of features involved during the holographic process; Replication of holograms without interference recording
    • G03H1/0276Replicating a master hologram without interference recording
    • G03H1/028Replicating a master hologram without interference recording by embossing

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Holo Graphy (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明はホログラムの複製方法に関する。
〔従来の技術 及び発明が解決しようとする課題〕
ホログラムは立体像を再生することや多重記録が可能な
ことから物品への目新しい美麗な外観付与や偽造防止手
段等の各種用途に利用されており、その需要は急速に伸
びている。そのためホログラムを大量に複製する必要が
あり、その複製方法として熱プレス用のホログラム原版
を作成し、該ホログラム原版を熱可塑性樹脂フィルム面
に加熱圧接することにより該原版の凹凸形状をフィルム
表面に賦型してホログラムを複製する方法が主に知られ
ている。
しかしながら、上記の複製方法は基材フィルムの予備加
熱やホログラム原版の加熱が必要であり、しかもプレス
時に充分な熱加圧が必要なため煩雑であり作業効率が悪
かった。またホログラム原版が熱プレスの繰り返しによ
り劣化したり、熱可塑性フィルムが加熱され引っ張られ
ているため寸法変化が発生したり、更に熱可塑性樹脂に
よる粘弾性の関係からホログラムの再現性に劣る1、I
Bがあった。
本出願人は上記従来の複製方法の欠点に鑑み、基+4フ
ィルムに乾燥後に未架橋でも非粘着固体状となる電離放
射線硬化性樹脂を塗布してホログラム形成用フィルムを
別途川音しておき、その形成用フィルムをホログラム原
版が設けられたホログラム賦型用ローラに加熱圧着せし
めて樹脂膜にホログラムの凹凸形状を賦型してローラか
ら剥離した後、電離放射線を照射して賦型後の樹脂膜を
硬化させることによりホログラムの複製ができる複製装
置(特開昭61−15623号公報)を提案している。
この複製装置によれば、ホログラム原版を熱プレスする
ことによりホログラムの複製を行う前記の従来方法に比
べて生産性が向上して大量のホログラムを効率良く複製
することが可能となるが、固体状の電離放射線硬化性樹
脂層に対してローラプレスするため該樹脂層と賦型用ロ
ーラの間にエアーが混入して賦型不良が起こる虞れがあ
り、また賦型前に加熱により樹脂層を成る程度軟化さゼ
でいるものの固体状の樹脂層に対して賦型用ローラにて
プレス賦型する関係から特に微細なホログラム凹凸を忠
実に再現する場合には限界があった。
しかも賦型用ローラから剥離した後に電離放射線硬化性
樹脂を硬化させるため、硬化させるまでに賦型された樹
脂層の凹凸形状がくずれて再現性が低下する広れもあっ
た。更にホログラム形成用フィルムを予め別途準備して
おかなければならず、その際には電離放射線硬化性樹脂
を基材フィルムに塗布した後に乾燥させて固体状にする
必要があり、そしてホログラム賦型工程とのオンライン
方式を採用していないことからも、結局、大量複製する
だめの生産効率の点でも未だ改良の余地を残すものであ
った。
本発明は上記の点に濫みなされたもので、再現性が極め
て良好な高品質の複製ホログラムが得られ、生産効率の
点でもより優れたホログラムの複製方法を提供すること
を目的とする。
(課題を解決するための手段〕 本発明:よ、 (1)  ホログラム原版を設けたホログラム賦型用ロ
ーラと押印ローラからなる一対のニップローラ間に基材
フィルムが接する地点で、咳賦型用ローラと基材フィル
ム間に、粘度が5000cps以下の電離放射線硬化性
樹脂液を該樹脂液が液溜り状態となる程度に過剰に塗布
供給し、基材フィルムがホログラム賦型用ローラに接触
している間に電離放射線を基材フィルム側及び/又は賦
型用ローラ内部側より照射し、賦型用ローラと基材フィ
ルム間に介在している電離放射線硬化性樹脂液を硬化さ
せて基材フィルムと密着せしめ、しかる後、基材フィル
ム及び該フィルムに富着した電離放射線硬化i樹脂層を
賦型用ローラから剥離することを特徴とするホログラム
の複製方法。
(2)  基材フィルム及び該フィルムに密着した電離
放射線硬化性樹脂層をホログラム賦型用ローラから剥離
した後、該フィルムに向けて更に電離放射線を照射する
上記(1)記載の複製方法。
(3)溶剤を含まない電離放射線硬化性樹脂液を使用す
る上記(1)又は(2)記載の複製方法。
を要旨とするものである。
〔実施例] 以下、本発明の実施例を図面に基づき説明する。
第1図は本発明複製方法の一実施例を示す複製工程の要
部概略断面図であり、図中1はホログラム原版、2はホ
ログラム原版1を設けて構成されるホログラム賦型用ロ
ーラ、3は押圧ローラ、4は図示しない供給装置から送
り出される基材フィルム、5は電離放射線硬化性樹脂液
、6は電離放射線照射装置、7は賦型用ローラ2と一対
で設けられる剥離用ローラを示す。
本発明複製方法は図示の如く基材フィルム4をホログラ
ム賦型用ローラ2と押圧ローラ3からなる一対のニップ
ローラ間に導く。その二、プローラ間に導かれる直前の
基材フィルム4上に粘度が5000cps以下の電離放
射線硬化性樹脂液5を、該樹脂液5が賦型用ローラ2と
接する地点で液溜り状態(図中、Aはその液溜りを示す
)となる程度に過剰に塗布供給する。樹脂i5は賦型用
ローラ2と基材フィルム4に挟持された状態で送られる
。次いで、基材フィルム4がホログラム賦型用ローラ2
に当接している間(具体的には押圧ローラ3と剥離用ロ
ーラフの間に位置している時期)に、電路放射線照射装
置6から一電離放射線を照射し、賦型用ローラ2と基材
フィルム4の間に介在している電離放射線硬化樹脂液を
硬化させて基材フィルム4に密着せしめる。しかる後、
剥離用ローラ7等の適宜手段により基材フィルム4及び
該フィルム4に密着した電離放射線硬化性樹脂層を紙型
用ローラ2から剥離する。その結果、図示の如き表面に
ホログラム原版1によるホログラムの凹凸が形成された
電離放射線硬化性樹脂層5aからなる複製ホログラム8
が得られる。
本発明方法では、粘度が5000cps以下という低粘
度の電離放射線硬化性樹脂液を使用し、かかる低粘度の
樹脂液を賦型用ローラ(又は基材フィルム)に塗布して
前記の如<′l&溜りAが発生するように過剰に供給す
ることにより、該樹脂液5が賦型用ローラ2に送り込ま
れる際に液溜りAにおいて脱気され、基材フィルムと賦
型用ローラ間への不用な気体混入が防止される。また樹
脂液は低粘度のため基材フィルムと賦型用ローラの間に
挟持された後にホログラム原版lの凹凸形状に忠実に追
従し易く、そのホログラム原版1と接触している間に硬
化されるためホログラム原版のままの凹凸形状が型どら
れると共に、その凹凸形状がローラ2から剥離した後に
くずれる広れもなく確実に保持される。
また本発明方法は上記のような複製工程を、基材フィル
ムの送り速度が通常5〜50m/+inとなる程度に実
施することができる。
本発明で使用するホログラム原版lは、図示の如くロー
ラ本体9の周表面に設けられるもので、その原版表面に
は物体からの光の波面に相当する干渉縞である凹凸が形
成されている。この原版1は従来既知の方法によって作
成することができ、原版lに形成されるホログラムは材
料表面の凹凸によりホログラム情報を記録できるタイプ
のものであり、具体的にはりンブマンホログラムを除く
、フレネルホログラム、フーリエ変換ホログラム、クラ
ウンホーファーホログラム等の原理のもの、及びそれら
の原理を利用したイメージホログラム、レインボーホロ
グラム、ホログラフインクステレオグラム、ホログラフ
ィック回折格子等が通用される。フレふルホログラムの
場合を一例にしてレリーフホログラム原版を作成する方
法について説明すると、感光体としてガラス基板上にフ
ォトレジスト(例えばシプレー社製: AZ−1350
J)を厚み2.5μmに塗布し、アルゴンレーザー光を
ビームスプリッタ−(ハーフミラ−)で分割した一方の
光を被撮影体に当てて反射又は透過した光(物体光)を
感光体上に導き、他方の光をそのまま感光体上に導いて
互いに干渉させて露光し、所定の現像液(例えば前述の
フォトレジストであれば、同社製のAZデヘロンパー)
により現像することにより得られるものをそのまま、或
いは更に銀を厚み400人程度広着し、該蒸着膜を電極
として二ンケルメノキを行って厚さ1m程度のメ7ト層
を形成し、得られたメツキ層を剥離することにより得ら
れる。
ホログラム賦型用ローラ2は上記のホログラム原版1を
円筒形のローラ本体9に張り合わせることにより構成さ
れる他、金属製のローラ本体9の表面に光蝕刻手段等に
より直接ホログラムの凹凸を形成して構成したものでも
よい。
基材フィルム4としては、ポリエチレンテレフタレート
等のポリエステル、ナイロン等のポリアミド、ポリ塩化
ビニル、ポリメタクリル酸メチル等のアクリル樹脂、ポ
リカーボ7−ト、ポリスチレン、ポリアクリレート、フ
ッ素系樹脂、ポリプロピレン、三酢酸セルロース、セロ
ファン等からなるプラスチックフィルムを単独で使用し
ても又は適宜積層させた基材として使用しても良い。そ
の他にこれらプラスチックフィルムに他の装飾層などを
積層したものを使用することもできる。その=−例とし
ては印刷層を積層したものを使用することができ、その
場合、印刷層はホログラム形成面側であってもその反対
面側であってもよいが、電離放射線の樹脂への到達を阻
害しないように印刷インキの材料等を適宜選定するか、
或いは電離放射線の照射方向を選択する必要がある。ま
た基材フィルム4の樹脂液5の塗工面に公知のコロナ放
電、プライマー処理等を行い、易接着処理を施してもよ
い。フィルム4の厚さは用途に応して適宜選定されるが
、一般に10〜100μm程度である。
本発明に使用する電離放射線硬化性樹脂液は粘度が50
00cps以下、好ましくは5Qcps以上、且つ10
00cps以下であり、この粘度が5000cpsを越
えると流動性不良で気泡混入等の虚れがあり、そのため
ホログラム再現性不良となる等の不具合がある。中でも
溶剤集添加の電離放射線硬化性樹脂を使用すれば、硬化
による樹脂膜の体積収縮等による形状変形、気泡発生等
の不具合が生しることがなく好ましい。またン容剤無添
加タイプのもので−よ溶剤を除去するための予備乾燥工
程が不要となり、また必要に応して基材フィルム4へ塗
布した後、加熱して樹脂の粘度を適宜調整することがで
きる。上記樹脂液の粘度調整は、低粘度の電離放射線硬
化性樹脂液組成物を選定するか及び/又は電離放射線硬
化性樹脂液を加温等により、賦型用ローラと基材フィル
ム間ムこ挾持されて硬化される迄の間のみ所定の粘度と
なるように保持すればよい。
電離放射線硬化性樹脂[5の塗布供給方法は特に制約さ
れるものではなく、例えば第1図に例示の如くロールコ
ート装置10により賦型用ローラ2面に先ず塗布し、基
材フィルム4が該ローラ2に下方側より当接する直前に
塗布供給したり、或いは第2図に示すようにロールコー
ト装置10により基材フィルム4が賦型用ローラ2に当
接する少し以前に予め塗布しておく方法等を適用するこ
とができる。尚、樹脂液5の液溜りAによる脱気効果が
より確実に得られ易いという点から第1図に図示の如き
塗布態様が好ましい。また塗布手段もロールコーティン
グ法に限定されない。
電離放射線の照射は、一般に図示の如く基材フィルム4
側から行われるが、この他にホログラム状型用ローラ2
が電離放射線透過性の材質にて構成されている場合は、
その賦型用ローラ2の内部側から照射しても(具体的に
はローラ中空内に設置した照射装置により)、或いはフ
ィルム側とローラ内部側の両方向から同時に照射しても
よい。
この際の樹脂液の硬化腹合いは、少なくとも樹脂e5の
流動性が失われ且つフィルム4との密着性が生しせしめ
られる程度である。
本発明では電離放射線硬化性樹脂層が密着した基材フィ
ルム4を賦型用ローラ2から剥離した後、図示しないが
必要に応じて復製ホログラム8に更に電離放射線を照射
してホログラム形成樹脂層をより完全に硬化させてもよ
い。
樹脂液5に使用する電離放射線硬化性樹脂とじては、分
子中に重合性不飽和結合又はエボキン基を有するプレポ
リマー、オリゴマー及び/又は単量体を適宜混合した組
成物が挙げられる。プレポリマー、オリゴマーとしては
不飽和ジカルボン酸と多価アルコールの縮合物等の不飽
和ポリエステル頚;ポリエステルメタクリレート、ポリ
エーテルメタクリレート、ポリオールメタクリレ−し、
メラミンメタクリレート等のメタクリレート類;ポリエ
ステルアクリレート、エポキシアクリレート、ウレタン
アクリレート、ポリエーテルアクリレート、ポリオール
アクリレート、メラミンアクリレート等のアクリレート
類等がある。また上記単量体としてはスチレン、α−メ
チルスチレン等のスチレン系単量体;アクリル酸メチル
、アクリル酸−2−エチルへキシル、アクリル酸メトキ
シエチル、アクリル酸ブトキシエチル、アクリル酸フェ
ニル等のアクリル酸エステル類;メタクリル酸メチル、
メタクリル酸エチル、メタクリル酸エトキシメチル、メ
タクリル酸フェニル、メタクリル酸ラウリル等のメタク
リル酸エステル類;アクリルFA  2   (N、 
 N−ジエチルアミノ)エチル、メタクリル酸−2−(
N、N−ジメチルアミノ)エチル、アクリルa12− 
(N、N−ジエチルアミノ)メチル、アクリル酸−2−
1,N−ジエチルアミノ)プロピル等の不飽和酸の置換
アミノアルコールエステル類ニアクリルアミド、メタク
リルアミド等の不飽和カルボン酸アミド:エチレングリ
コールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリ
レート、I、6−ヘキサンジオールジアクリレート、ジ
エチレングリコールジアクリレート、トリエチレングリ
コールジアクリレート等の化合物;ジプロピレングリコ
ールジアクリレート、エチレングリコールアクリレート
、プロピレングリコールジメタクリレート、ジエチレン
グリコールジメタクリレート等の多官能性化合物;分子
中に2個以上のチオール基を有するポリチール化合物、
例えばトリメチールプロパントリチオグリコレート、ト
リメチロールプロパントリチオプロピレート、ペンタエ
リスリトールテトラチオグリコール等が挙げられる。
以上の化合物を必要に応じ1種もしくは2種以上混合し
て用いるが、樹脂組成物に通常の塗工適性を付与するた
めに、前記プレポリマー又はオリゴマーを5重蓋%以上
、前記単量体及び/又はポリチオールを95重量%以下
とすることが好ましい。
上記単量体の選定に際しては、硬化物の可撓性が要求さ
れる場合は塗工通性上支障のない範囲で単量体の量を少
なめにしたり、1官能又は2官能アクリレ一ト単量体を
用い比較的低架橋密度の構造とする。また硬化物の耐熱
性、硬度、耐溶剤性等を要求される場合には塗工通性支
障のない範囲で単量耐の量を多めにしたり、3官能以上
のアクリレート系単量体を用い、高架橋密度構造とする
のが好ましい、■、2官能単量体と3官能以上の単量体
を混合し塗工適性と硬化物の物性とを調整することもで
きる。そのような1官能アクリレ一ト系単量体としては
、2−ヒドロキシアクリレート、2−へキシルアクリレ
ート、フェノキシエチルアクリレート等が挙げられる。
2官能アクリレ一ト系単量体としては、エチレングリコ
ールジアクリレート、1.6−ヘキサンジオールジアク
リレート等が、3官能以上のアクリレート系単量体とし
てはトリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタ
エリスリトールへキサアクリレート等が挙げられる。
また硬化後の樹脂層の可撓性、表面硬度等の物性を調節
するために前記プレポリマー、オリゴマ、単量体の少な
くとも1種に対して下記のような電離放射線非硬化性樹
脂を1〜70重量%、好ま5くは5〜50重量%重量%
子用いことができる。その電離放射線非硬化性樹脂とし
てはウレタン系、繊維素系、ポリエステル系、アクリル
系、ブチラール系、ポリ塩化ビニル、ポリ酢酸ビニル等
の熱可望性樹脂を用いることができ、特に可撓性の点か
ら繊維素系、ウレタン系、ブチラールが好ましい。特に
紫外線で硬化させる場合には上記樹脂組成物に光重合開
始剤として、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、ミ
ヒラーベンゾイルベンゾエート、α−アミロキシムエス
テル、テトラメチルメウラムモノサルファイド、チオキ
サントン類、及び/′又は光増怒剤としてn−ブチルア
ミン、トリエチルアミン、トリーn−ブチルホスフィン
等を混合して用いることもできる。更に必要に応し、硬
化反応を阻害しない範囲で公知の染料、顔料等の着色剤
を添加しても良い。
電離放射線としては主に紫外線、電子線が使用され、好
ましくは電子線である。紫外線源としては超高圧水銀灯
、高圧水銀灯、低圧水銀灯、カーボンアーク、ブラック
ライトランプ、メタルハライドランプ等の光源が用いら
れる。電子線源としてはコックロフトワルトン型、バン
プグラフ型、共振変圧器型、絶縁コア変圧器型、或いは
直線型、ダイナミドロン型、高周波型等の電子線加速器
を用いることができる。
次に、具体的な実施例を挙げて本発明を更に詳細に説明
する。
尖施黴1 厚さ25+gmの易接着性のポリエステルフィルム(東
し製:391)を基材フィルムとして用い、電離放射線
硬化性樹脂として無溶剤で粘度が87Qcps/25°
Cの紫外線硬化性樹脂(大日精化1)1製セイ力ビーム
E X −880926B )を用い、第1図に図示の
製造嬰様で下記の条件Qこ基づいて、ホログラムの複製
を行った。
ホし1グラム原版は、ホトレジストを感光↑7(料とU
、てレリーフ状干渉縞を記録した2次ホログラム面に化
学銀メンキをし、更にニッケルメッキした後二、ケル金
属膜を剥がしてプレマスター版を造る。このマスク版の
レリーフ面E:H型剤処理をした後、再びニッケルメッ
キをして剥離する。この操作を繰り返して二ンケル金属
からなるエンボス原版を作成して使用した。
基材フィルムは送り速度20m/minで送り、電離放
射線照射は1灯のオヅンレス高圧水銀灯にて120 W
 / cmで紫外線を基材フィルム側から閘射し、更に
賦型用ローラから剥離した後に同様の条件の紫外線を照
射した。
実−施貢−λ 実施例1と同様の基+(フィルA iこ、電離放R1線
硬化性樹脂として無溶剤で粘度3000cps/25°
Cの紫外線硬化性樹脂(大O情化■製:セイカビムE 
X −[80926A )を、第2図に図示の如きリハ
スロールコータにより塗布する他は、実施例1と同様に
してホログラムを複製した。
ル較甜 上記の実施例において紫外線硬化性樹脂として粘度が6
000 cps/25°Cのものを使用した他は、同様
の条件にて複製を行ったところ、気泡の混入が発生L、
ホコグラノ、の再現性が悪く、複製品は品質が著しく劣
るものであった。
[発明の効果] 以上説明したように、本発明複製方法はホログラム賦型
用ローラのホログラム原版に電離放射線硬化性樹脂液が
基材フィルムにて背後から押圧され挟持充填されている
間に、硬化されて基材フィルムとの密着が図られ、しか
る後に賦型用ローラからホログラムの凹凸形状が賦型さ
れた硬化樹脂層が密着した基材フィルムを剥離している
ため、樹脂液か不用穿Q:流動することがなく原版の形
状通りに賦型され、再現性が翫めて優れたホログラムを
複製することができる。しかも電離放射線硬化性樹脂液
として低粘度のものを使用しているため、ホI′1グラ
ム原版の凹凸形状に対して追従し易く、原版に忠実なホ
ログラム再現が可能であり、また」二足樹脂液を液溜り
ができる程度に過剰にフィル、!、W打に塗布供給して
賦型用ローラに送るため、該ローラと基材フィルム間へ
の不用な気体の混入が確実に防止されて賦型不良を起こ
す虞れがなく、これによっても良好なホログラムの再現
性が確保される。
また本発明方法は樹脂液の加熱や、賦型用ローらの加熱
等が不要であり、しかもロール状にてホログラム原版ユ
ニよる賦型ができるため、作業性が簡易であり、しかも
予め別工程にてホログラム形成用フィルムをY1!備す
る必要もないため、一連の作業工程によって生産効率の
高いホログラム複製を行うことができ、大量複製に好適
である。
更に本発明によれば、基材フィルムの剥離後に再度;雛
放射線の照射を行って、より完全な硬化がなされて耐久
性に優れた電離放射線硬化性樹脂からなる複製ホログラ
ムを得ることができる。また溶剤無添加の電離放射線硬
化性樹脂液を用いることにより、溶剤除去のための予備
乾燥工程等が不要となって製造工程の簡略化が図かれ、
より簡易迅速なホログラムの複製が可能となる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明方法の一実施例を示す複製工程の要部概
略断面図、第2図は本発明の他の態様例を示す複製工程
の要部概略断面図である。 1・・・ホログラム原版 2・・・ホログラム賦型用ローラ 3・・・押圧ローラ     4・・・基材フィルム5
・・・電離放射線硬化性樹脂液 6・・・電離放射線照射装置

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)ホログラム原版を設けたホログラム賦型用ローラ
    と押圧ローラからなる一対のニップローラ間に基材フィ
    ルムが接する地点で、該賦型用ローラと基材フィルム間
    に、粘度が5000cps以下の電離放射線硬化性樹脂
    液を該樹脂液が液溜り状態となる程度に過剰に塗布供給
    し、基材フィルムがホログラム賦型用ローラに接触して
    いる間に電離放射線を基材フィルム側及び/又は賦型用
    ローラ内部側より照射し、賦型用ローラと基材フィルム
    間に介在している電離放射線硬化性樹脂液を硬化させて
    基材フィルムと密着せしめ、しかる後、基材フィルム及
    び該フィルムに密着した電離放射線硬化性樹脂層を賦型
    用ローラから剥離することを特徴とするホログラムの複
    製方法。
  2. (2)基材フィルム及び該フィルムに密着した電離放射
    線硬化性樹脂層をホログラム賦型用ローラから剥離した
    後、該フィルムに向けて更に電離放射線を照射する請求
    項1記載の複製方法。
  3. (3)溶剤を含まない電離放射線硬化性樹脂液を使用す
    る請求項1又は2記載の複製方法。
JP2023490A 1990-01-30 1990-01-30 ホログラムの複製方法 Pending JPH03223883A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2023490A JPH03223883A (ja) 1990-01-30 1990-01-30 ホログラムの複製方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2023490A JPH03223883A (ja) 1990-01-30 1990-01-30 ホログラムの複製方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH03223883A true JPH03223883A (ja) 1991-10-02

Family

ID=12021497

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2023490A Pending JPH03223883A (ja) 1990-01-30 1990-01-30 ホログラムの複製方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH03223883A (ja)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5477380A (en) * 1993-06-14 1995-12-19 Dai Nippon Printing Co., Ltd. Projection screen
EP0726142A3 (en) * 1995-02-09 1997-04-16 Dainippon Printing Co Ltd Continuous film laminating and delamination system
JP2000264000A (ja) * 1999-03-15 2000-09-26 Dainippon Printing Co Ltd 変色性蒸着媒体とその製造方法
US8456590B2 (en) 2007-01-09 2013-06-04 Dai Nippon Printing Co., Ltd. Optical sheet, surface light source and display device

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5477380A (en) * 1993-06-14 1995-12-19 Dai Nippon Printing Co., Ltd. Projection screen
EP0726142A3 (en) * 1995-02-09 1997-04-16 Dainippon Printing Co Ltd Continuous film laminating and delamination system
JP2000264000A (ja) * 1999-03-15 2000-09-26 Dainippon Printing Co Ltd 変色性蒸着媒体とその製造方法
US8456590B2 (en) 2007-01-09 2013-06-04 Dai Nippon Printing Co., Ltd. Optical sheet, surface light source and display device

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPH0135737B2 (ja)
TW200906585A (en) Materials having a textured surface and methods for producing same
JPS61156273A (ja) ホログラムの複製装置
JPS6331847B2 (ja)
JP2004358925A (ja) 表面装飾用転写シート、物品の表面装飾方法および装飾物品
JP3286824B2 (ja) 熱硬化性樹脂化粧板用賦型シート
JPH03223883A (ja) ホログラムの複製方法
JPS6353602B2 (ja)
JPS58144879A (ja) ホログラムの複製方法
JPH0685103B2 (ja) ホログラムの複製方法
JP2004130557A (ja) 微細な凹凸の製造方法
JPH0647883A (ja) 電離放射線照射によるエンボスシート製造方法
CN1100533A (zh) 紫外光固化全息复制技术
JPS6147425B2 (ja)
JPH06238751A (ja) 凹凸模様を有する化粧材の製造方法
JPS58144878A (ja) ホログラムの複製方法
JPH08508106A (ja) 印刷物上にホログラフィ微細構造及び他の回析格子を複製するための方法及びその装置
JPH04151188A (ja) レリーフパターンの複製方法
JPH03284786A (ja) ホログラム複製型およびその製造方法並びにホログラムの製造方法
JPH03166583A (ja) ホログラム複製型およびその製造方法並びにホログラムの製造方法
JPH02281285A (ja) ホログラム複製型およびその製造方法並びにホログラムの製造方法
JPH0416268A (ja) リアル凹凸面を有するシートの製造方法
JP2531792B2 (ja) 光記録媒体用基板の製造方法
JP4235071B2 (ja) 微細凹凸パターンの複製方法および複製装置
JP2670865B2 (ja) 光学的記録媒体用基板の連続製造方法およびその装置