TW201425045A - 光學積層體、使用其之偏光板及影像顯示裝置 - Google Patents

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Abstract

本發明提供一種光學積層體及高效率地製造該光學積層體之方法，該光學積層體係於丙烯酸系基材上具有樹脂層者，其抑制干涉條紋之產生，且提高丙烯酸系基材與樹脂層之密接性。本發明之光學積層體係於丙烯酸系基材之一個面上具有樹脂層者，於該光學積層體厚度方向之剖面，丙烯酸系基材-樹脂層界面顯示具有山部及谷部之稜線，且與上述光學積層體厚度方向垂直之方向的基準長度30 μm中上述稜線之長度為31~45 μm。

Description

光學積層體、使用其之偏光板及影像顯示裝置
本發明係關於一種光學積層體、使用其之偏光板及影像顯示裝置。
於影像顯示裝置中，LCD(Liquid Crystal Display，液晶顯示裝置)、搭載有觸控面板之LCD或ELD(Electroluminescence Display，電致發光)、電子紙等具有省電、輕量、薄型等特徵，因此取代先前之CRT(Cathode-Ray Tube，陰極射線管)顯示器而於近年迅速普及。
用於此種影像顯示裝置之表面或內部之光學積層體係通常要求賦予硬度以於使用時不受傷，因此，通常藉由在透光性基材上設置硬塗層等而賦予硬度。例如，於LCD，通常於液晶單元之影像顯示面側配置偏光元件，並利用在透光性基材上設置有硬塗層之硬塗膜作為偏光板保護膜，藉此對影像顯示面賦予硬度。
先前，作為上述硬塗膜之透光性基材，使用由三乙醯纖維素所代表之纖維素酯構成的膜。此係基於如下優點：纖維素酯之透明性、光學均向性優異，且面內幾乎並無相位差(延遲值較低)，因此極少使入射直線偏光之振動方向發生變化，而對液晶顯示裝置之顯示品質之影響較少，且具有適度之透水性，因此可使製造使用光學積層體而成之偏光板時殘留於偏光片之水分透過光學積層體而乾燥等優點。
然而，纖維素酯膜為成本考量下不利之原材料，又，耐濕、耐熱性並不足，若將以纖維素酯膜為基材之硬塗膜作為偏光板保護膜而於高溫多濕之環境下使用，則存在會使偏光功能或色相等偏光板功能降低之缺點。
由於上述纖維素酯膜之問題，故而提出使用以丙烯酸系樹脂為主成分的透明塑膠基材，該丙烯酸系樹脂係透明性、耐熱性、機械強度優異且與纖維素酯膜相比廉價且於市場上容易獲得。
然而，於以丙烯酸系樹脂為主成分之基材之單面或雙面形成有硬塗層的光學積層體存在丙烯酸系基材與硬塗層之密接性較差的問題。又，丙烯酸系基材與硬塗層之間會產生折射率差，於使用該光學積層體形成偏光板等之情形，亦存在產生干涉條紋而外觀不良之問題。
針對上述問題，例如，專利文獻1中揭示：除了對基材膜進行電暈放電處理、氧化處理等物理性處理外，亦進行稱為錨固劑(anchor agent)或底塗劑之塗料的塗佈，此後形成硬塗層，藉此謀求基材膜與硬塗層之密接性提高。又，例如，專利文獻2中揭示於基材膜與硬塗層之界面形成凹凸之方法。
然而，該等方法中，需要增加硬塗膜之製造時所必需之步驟，會有進行特殊處理之必要，因此生產性較差。
[專利文獻1]日本特開2011-81359號公報
[專利文獻2]日本特開平8-197670號公報
又，丙烯酸系基材與先前常用之纖維素酯膜或聚酯系膜相比，通常可使用之溶劑全都具有使基材膨潤之力，反倒因溶劑而導致基材易強烈地受到膨潤之影響，存在加工時基材本身斷開等問題，並且亦存在先前透明塑膠基材方面已知之技術無法直接用於丙烯酸系基材之問題。
本發明之目的在於在上述狀況下提供一種光學積層體，係於丙烯酸系基材上具有樹脂層，能以相對較少之製造步驟獲得，可丙烯酸系基材本身不斷開而製造加工，且抑制干涉條紋之產生，且丙烯酸系基材與樹脂層之密接性優異。
本發明人為了解決上述課題而反覆進行努力研究，結果發現，於丙烯酸系基材之一個面上具有樹脂層之光學積層體中，於丙烯酸系基材-樹脂層界面設有特定形狀之凹凸，藉此可解決上述課題。本發明係基於該見解而完成者。
即，本發明提供以下發明。
[1]一種光學積層體，係於丙烯酸系基材之一個面上具有樹脂層者，且於該光學積層體厚度方向之剖面，丙烯酸系基材-樹脂層界面顯示具有山部及谷部之稜線，且與上述光學積層體厚度方向垂直之方向的基準長度30μm中上述稜線之長度為31~45μm。
[2]如[1]之光學積層體，其中於上述光學積層體厚度方向之剖面，與光學積層體厚度方向垂直之方向的基準長度30μm中，將丙烯酸系基材-樹脂層界面之谷部中自最深之谷底起按深淺順序排前3名之平均深度作為基準深度，繼而將丙烯酸系基材-樹脂層界面之山部中自最高之峰頂起按高低順 序排前3名之平均高度作為基準高度，該基準高度與基準深度之高低差為0.3~3.5μm。
[3]如[1]或[2]之光學積層體，其中上述稜線之平均傾斜角θa為15~48°。
[4]如[1]至[3]中任一項之光學積層體，其中上述稜線顯示之凹凸之平均間隔Sm為0.5~7μm。
[5]一種偏光板，係於偏光膜之至少一個面積層[1]至[4]中任一項之光學積層體而成。
[6]一種影像顯示裝置，其具備[1]至[4]中任一項之光學積層體及/或[5]之偏光板。
本發明之光學積層體係於丙烯酸系基材上具有樹脂層，能以相對較少之製造步驟獲得，干涉條紋之產生受到抑制，且丙烯酸系基材與樹脂層之密接性優異。
1‧‧‧丙烯酸系基材
2‧‧‧樹脂層
3‧‧‧硬塗層
4‧‧‧丙烯酸系基材-樹脂層界面
4a‧‧‧最大值點
4a-1‧‧‧y座標最大之最大值點(3點)
4b‧‧‧最小值點
4b-1‧‧‧y座標最小值最小值(3點)
5a‧‧‧基準深度
5b‧‧‧基準高度
h‧‧‧基準高度與基準深度之高低差
h1~h12‧‧‧鄰接之極值點間之高低差
圖1係顯示本發明之光學積層體之一態樣之剖面的掃描型穿透式電子顯微鏡照片(STEM)。
圖2係將本發明之光學積層體之一態樣之剖面中的丙烯酸系基材-樹脂層界面放大而顯示之掃描型穿透式電子顯微鏡照片(STEM)。
圖3係表示本發明之光學積層體之一態樣之剖面的示意圖。
圖4係表示本發明之光學積層體之丙烯酸系基材-樹脂層界面之稜線、及基準高度與基準深度之高低差的示意圖。
圖5係表示本發明之光學積層體之丙烯酸系基材-樹脂層界面之稜線、 及鄰接之極值點間之高低差的示意圖。
圖6係顯示實施例10中獲得之本發明之光學積層體之剖面的掃描型穿透式電子顯微鏡照片(STEM)。
圖7係將實施例10中所獲得之本發明之光學積層體之剖面中自硬塗層-樹脂層界面至丙烯酸系基材-樹脂層界面放大而顯示的掃描型穿透式電子顯微鏡照片(STEM)。
圖8係顯示比較例8中所獲得之光學積層體之剖面的掃描型穿透式電子顯微鏡照片(STEM)。
圖9係將比較例8中所獲得之本發明之光學積層體之剖面中自硬塗層-樹脂層界面至丙烯酸系基材-樹脂層界面放大而顯示的掃描型穿透式電子顯微鏡照片(STEM)。
本發明之光學積層體係於丙烯酸系基材之一個面上具有樹脂層者，且其特徵在於：其於該光學積層體厚度方向之剖面，丙烯酸系基材-樹脂層界面顯示具有山部及谷部之稜線，上述光學積層體與厚度方向垂直之方向的基準長度30μm中上述稜線之長度為31~45μm。
本發明之光學積層體係於丙烯酸系基材上具有樹脂層，如圖1及圖2所示般，丙烯酸系基材與樹脂層之界面(以下，有時簡稱為丙烯酸系基材-樹脂層界面)具有凹凸。
又，上述稜線之長度較佳為31~45μm，更佳為32~42μm。若該稜線之長度未達31μm，則丙烯酸系基材-樹脂層界面之凹凸形狀不足或平坦之部分變多，因此丙烯酸系基材-樹脂層界面之密接性惡化， 或者容易產生干涉條紋。另一方面，若該稜線之長度超過45μm，則光學積層體之霧度上升。
上述稜線之長度具體係按以下所示之方式進行測定。
(基準長度30μm中稜線之長度之測定方法)
此處，上述基準長度30μm中之稜線之長度例如可藉由使用影像解析軟體(Image-Pro、Media Cybernetic公司製造)之上述剖面之影像解析進行測定。具體而言，使用利用電子顯微鏡等進行剖面觀察之影像，使用上述影像解析軟體，於上述影像內之樹脂層與基材膜端部間之直線上取上述基準長度，並使用上述影像解析軟體測定該基準長度中上述界面長度。更具體而言，使用影像解析軟體Image-Pro Plus、Sharp Stack 6.2版，構成測定、校準、空間之校準精靈(wizard)、主動影像、並以單位(微米)進行操作，結合影像之比例尺劃定義線，進行校準。校準後，利用距離測定於界面兩末端之2點間取基準長度。繼而，利用手動測定製作痕跡線(trace line)(閾值=3、平滑化=0、速度=3、雜訊=5、自動)，最終比照標準，藉此自動地測定曲線，並讀取實測值作為界面之長度。
又，本發明之光學積層體係於上述光學積層體厚度方向之剖面，與光學積層體厚度方向垂直之方向的基準長度30μm中，將丙烯酸系基材-樹脂層界面之谷部中自最深之谷底起按深淺順序排前3名之平均深度作為基準深度，繼而將丙烯酸系基材-樹脂層界面之山部中自最高之峰頂起按高低順序排前3名之平均高度作為基準高度，該基準高度與基準深度之高低差較佳為0.3~3.5μm，該高低差更佳為0.7~3.0μm，進而較佳為1.0~2.5μm。若該高低差為3.5μm以下，則難以產生霧度，若為0.3μm以 上，則難以產生干涉條紋，丙烯酸系基材-樹脂層界面間之密接性改善。
上述基準深度與平均高度之高低差具體而言係按以下所述之方式進行測定。
(基準高度與基準深度之高低差之測定方法)
如圖4所示般，於上述光學積層體之厚度方向之剖面，丙烯酸系基材-樹脂層界面顯示具有山部及谷部之稜線，於以光學積層體之厚度方向為y軸(其中，樹脂層側為正方向)、以垂直於該y軸之方向為x軸的xy平面中，於該x軸方向取30μm之基準長度L，於該基準長度L，稜線所具有之最小值點4b中，自y座標最小者中選擇3點(4b-1)並以其平均y座標作為基準深度5b，另一方面，於該基準長度L，稜線所具有之最大值點4a中，自y座標最大者中選擇3點(4a-1)並以其平均y座標作為基準高度5a，該基準深度5b與基準高度5a之差(絕對值)為基準深度5b與基準高度5a之高低差。
本發明之光學積層體係上述稜線之平均傾斜角θa較佳為15~48°，更佳為20~48°，進而較佳為25~45°。若平均傾斜角θa為48°以下，則難以產生霧度，若為15°以上，則難以產生干涉條紋，丙烯酸系基材-樹脂層界面間之密接性改善。
上述平均傾斜角θa具體而言係按以下所述之方式進行測定。
(平均傾斜角θa之測定方法)
如圖5所示般，於上述光學積層體之厚度方向之剖面，丙烯酸系基材-樹脂層界面顯示具有山部及谷部之稜線，於以光學積層體之厚度方向為y 軸(其中，樹脂層側為正方向)、以垂直於該y軸之方向為x軸的xy平面中，於該x軸方向取30μm之基準長度L，並於該基準長度L確定稜線所具有之極值點(最大值點4a及最小值點4b)，將全部之鄰接之極值點間之高低差(h1~h12、絕對值)之和記作總高低差ΣH，此時tan-1(總高低差ΣH/基準長度L)所表示之值為平均傾斜角θa。
進而，本發明之光學積層體係上述稜線所示之凹凸之平均間隔Sm較佳為0.5~7μm，更佳為1~6μm，進而較佳為2~5μm。若平均間隔Sm為0.5μm以上則難以產生霧度，若為7μm以下則難以產生干涉條紋，丙烯酸系基材-樹脂層界面間之密接性改善。
再者，上述平均間隔Sm可依據JIS B0601(1994)進行測定。
本發明之光學積層體係基材含有丙烯酸系樹脂，因此，與具備由三乙醯纖維素(TAC)構成之基材者相比，耐濕熱性及平滑性優異，並且可較佳地防止皺褶之產生。再者，於本說明書中，所謂「丙烯酸系樹脂」，係指丙烯酸系樹脂及/或甲基丙烯酸系樹脂。
<丙烯酸系基材>
作為丙烯酸系基材所含有之丙烯酸系樹脂，並無特別限定，例如，較佳為將1種或2種以上(甲基)丙烯酸烷基酯組合並使之聚合而成者，更具體而言，較佳為使用(甲基)丙烯酸甲酯而獲得者。
作為丙烯酸系基材所含有之丙烯酸系樹脂，可使用具有內酯環結構之丙烯酸系樹脂、具有醯亞胺環結構之丙烯酸系樹脂等具有環結構者。
作為上述具有內酯環結構之丙烯酸系樹脂之具體例，例如可 列舉日本特開2000-230016號公報、日本特開2001-151814號公報、日本特開2002-120326號公報、日本特開2002-254544號公報、日本特開2005-146084號公報等中記載者。
作為上述具有內酯環結構之丙烯酸系樹脂，較佳為具有下述通式(1)所表示之內酯環結構。
通式(1)中，R1、R2及R3分別獨立地表示氫原子或碳數1~20之有機基。再者，上述有機基可含有氧原子。
上述具有內酯環結構之丙烯酸系樹脂之結構中，通式(1)所表示之內酯環結構之含有率較佳為5~90質量%，更佳為10~70質量%，進而較佳為10~60質量%，最佳為10~50質量%。若上述通式(1)所表示之內酯環結構之含有率為5質量%以上，則耐熱性、耐溶劑性、表面硬度改善，若為90質量%以下，則成形加工性改善。
上述具有內酯環結構之丙烯酸系樹脂係重量平均分子量較佳為1000~200萬，更佳為5000~100萬，進而較佳為1萬~50萬，最佳為5萬~50萬。若上述具有內酯環結構之丙烯酸系樹脂之重量平均分子量為上述範圍內，則就上述本發明之效果之觀點而言，較佳。
又，作為上述具有醯亞胺環結構之丙烯酸系樹脂，例如可列 舉具有戊二醯亞胺結構或N-取代順丁烯二醯亞胺結構之丙烯酸系樹脂等。
作為上述具有戊二醯亞胺結構之丙烯酸系樹脂，較佳為具有下述通式(2)所表示之戊二醯亞胺(glutarimide)結構。
上述通式(2)中，R4及R5相互獨立地表示氫原子或甲基，R6表示氫原子、碳數1~6之直鏈烷基、環戊基、環己基或苯基。
再者，上述戊二醯亞胺結構例如可利用甲基胺等醯亞胺化劑使(甲基)丙烯酸酯聚合物醯亞胺化而形成。此處，所謂「(甲基)丙烯酸」係指「丙烯酸」及「甲基丙烯酸」。
作為上述具有N-取代順丁烯二醯亞胺結構之丙烯酸系樹脂，較佳為具有下述通式(3)所表示之N-取代順丁烯二醯亞胺結構。
上述通式(3)中，R7及R8相互獨立地表示氫原子或甲基， R9表示氫原子、碳數1~6之直鏈烷基、環戊基、環己基或苯基。
再者，於主鏈具有上述N-取代順丁烯二醯亞胺結構之丙烯酸系樹脂例如可使N-取代順丁烯二醯亞胺與(甲基)丙烯酸酯共聚合而形成。
又，上述丙烯酸系樹脂係玻璃轉移點(Tg)較佳為100~140℃，更佳為105~135℃，進而較佳為110~130℃。若丙烯酸系樹脂之玻璃轉移點(Tg)為110℃以上，則形成樹脂層時難以受樹脂層形成用組成物中所含之溶劑的損害，另一方面，若為150℃以下，則於與樹脂層之界面容易形成凹凸。
丙烯酸系基材亦可含有丙烯酸系樹脂以外之樹脂，但丙烯酸系基材中丙烯酸系樹脂之比率較佳為80質量%以上，更佳為90質量%以上。
作為上述丙烯酸系基材之厚度，較佳為20~300μm，更佳為上限為200μm且下限為30μm。若上述丙烯酸系基材之厚度為20μm以上，則本發明之光學積層體難以產生皺褶，另一方面，若為300μm以下，則本發明之光學積層體變薄，而透光性等光學特性優異。
上述丙烯酸系基材較佳為經延伸之丙烯酸系基材。藉由製成延伸丙烯酸系基材，可使基材之強度或尺寸穩定性良好。
上述丙烯酸系基材例如可藉由如下方式進行製造：將經濕度控制之丙烯酸系樹脂構成的顆粒(碎片)進行通常之熔融擠出後，一面進行冷卻一面向縱方向延伸，此後向橫方向延伸。
上述熔融擠出步驟中，可使用1軸、2軸、或2軸以上之螺桿(screw)，螺桿之旋轉方向、轉數、熔融溫度可任意地設定。
上述延伸較佳為以於延伸後成為所需厚度之方式進行。又，延伸倍率 並無限定，較佳為1.2倍以上且4.5倍以下。延伸時之溫度、濕度可任意地決定。延伸方法為通常之方法即可。
上述丙烯酸系基材亦可含有丙烯酸系橡膠粒子、抗氧化劑、紫外線吸收劑、塑化劑等。
又，於本發明中，上述丙烯酸系基材於不偏離本發明之主旨之範圍內亦可進行皂化處理、輝光放電處理、電暈放電處理、電漿處理、紫外線(UV)處理、及火焰處理等表面處理。
<樹脂層>
作為上述樹脂層，並無特別限定，例如較佳為含有一官能~三官能(甲基)丙烯酸酯、尤佳為含有二官能(甲基)丙烯酸酯之游離輻射硬化性樹脂組成物A之硬化物。於使用一官能或三官能(甲基)丙烯酸酯之情形，較佳為與二官能(甲基)丙烯酸酯混合使用。
作為二官能(甲基)丙烯酸酯之具體例，可列舉：異三聚氰酸二(甲基)丙烯酸酯、聚伸烷二醇二(甲基)丙烯酸酯(polyalkylene glycol di(meth)acrylate)、或1,6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,9-壬二醇二(甲基)丙烯酸酯等。尤其是，二官能(甲基)丙烯酸酯中，就抑制由游離輻射硬化性樹脂組成物A引起之基材破斷、上述表面凹凸之控制較為容易之觀點而言，尤其是聚伸烷二醇二(甲基)丙烯酸酯最佳。
又，作為聚伸烷二醇二(甲基)丙烯酸酯，可列舉：二乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、三乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、四乙二醇二(甲基)丙烯酸酯等聚乙二醇二(甲基)丙烯酸酯，二丙二醇二(甲基)丙烯酸酯等聚丙二醇二(甲基)丙烯酸酯，及二丁二醇二(甲基)丙烯酸酯、三丁二醇二(甲基)丙烯酸酯、四丁二醇 二(甲基)丙烯酸酯等聚丁二醇二(甲基)丙烯酸酯。
此處，於本說明書中，所謂游離輻射硬化性樹脂組成物，表示電子束硬化性樹脂組成物及/或紫外線硬化性樹脂組成物。
再者，於本說明書中，所謂「(甲基)丙烯酸酯」係指甲基丙烯酸酯及丙烯酸酯。
作為上述一官能(甲基)丙烯酸酯之具體例，可列舉：(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸丁酯、(甲基)丙烯酸己酯、(甲基)丙烯酸環己酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯、(甲基)丙烯酸苯酯、伸烷二醇單(甲基)丙烯酸酯(乙二醇單(甲基)丙烯酸酯、丙二醇單(甲基)丙烯酸酯、丁二醇單(甲基)丙烯酸酯等)或聚伸烷二醇單(甲基)丙烯酸酯(聚乙二醇單(甲基)丙烯酸酯、聚丙二醇單(甲基)丙烯酸酯、聚丁二醇單(甲基)丙烯酸酯等)，較佳為伸烷二醇單(甲基)丙烯酸酯。
作為上述三官能(甲基)丙烯酸酯之具體例，可列舉：異三聚氰酸三丙烯酸酯、聚伸烷二醇三(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、新戊四醇三(甲基)丙烯酸酯等。
再者，上述一官能、二官能、三官能之各化合物之PEO(聚環氧乙烷)改質品、EO(環氧乙烷)改質品亦較佳。
於上述游離輻射硬化性樹脂組成物A含有二官能(甲基)丙烯酸酯與一官能(甲基)丙烯酸酯或三官能(甲基)丙烯酸酯之情形，較佳為二官能(甲基)丙烯酸酯之質量比大於一官能(甲基)丙烯酸酯及三官能(甲基)丙烯酸酯之合計質量比。
上述游離輻射硬化性樹脂組成物A亦可進而含有一官能~三官能(甲基) 丙烯酸酯以外之光聚合性單體、光聚合性寡聚物、光聚合性聚合物等，於為紫外線硬化性樹脂組成物之情形含有起始劑。
(二官能(甲基)丙烯酸酯)
上述二官能(甲基)丙烯酸酯較佳為分子量為180~1000者，更佳為分子量為200~750者，尤佳為分子量為220~450者。若二官能(甲基)丙烯酸酯之分子量為上述範圍內，則可容易地獲得滿足上述基準長度30μm中稜線之長度、基準高度與基準深度之高低差、平均傾斜角θa者，且密接性或干涉條紋防止性優異。
游離輻射硬化性樹脂組成物A中之二官能(甲基)丙烯酸酯之調配量以固形物成分量計更佳為50~100質量%，尤佳為70~100質量%。於對二官能(甲基)丙烯酸酯併用一官能(甲基)丙烯酸酯及/或三官能(甲基)丙烯酸酯之情形，游離輻射硬化性樹脂組成物A中一官能(甲基)丙烯酸酯及/或三官能(甲基)丙烯酸酯之調配量較佳設為上述二官能(甲基)丙烯酸酯調配量之剩餘部分。
再者，於樹脂層中添加有折射率調整材料或抗靜電材料等其他功能性成分之情形，推測如圖7所示般，功能性成分並非存在於樹脂層之下部而是偏靠密集於上部，因此後述之溶劑進行揮發動作之同時，溶解之丙烯酸系基材之材料成分會流出至樹脂層中而形成丙烯酸系基材-樹脂層界面之凹凸。再者，藉此於界面產生適度之凹凸，使密接性良好並且干涉條紋防止性亦良好，不僅如此，亦可良好地產生目標之功能(抗靜電性或高折射率性、低折射率性等)，因此亦較佳。
(光聚合性聚合物)
作為上述光聚合性聚合物，較佳為具有(甲基)丙烯醯基作為官能基者，較佳為官能基數為10~250個者，更佳為官能基數為10~100個者，進而較佳為官能基數為10~50個者。
光聚合性聚合物之重量平均分子量較佳為10,000~100,000，更佳為12,000~40,000。
游離輻射硬化性樹脂組成物A中光聚合性聚合物之調配量以固形物成分量計較佳為0~40質量%，更佳為0~30質量%。
(光聚合性寡聚物)
作為上述光聚合性寡聚物，可使用2官能以上者，較佳為具有(甲基)丙烯醯基作為官能基者，較佳為官能基數為2~30個者，更佳為官能基數為2~20個者，進而較佳為官能基數為3~15個者。
光聚合性寡聚物之重量平均分子量較佳為1,000~10,000，更佳為1,500~10,000。
游離輻射硬化性樹脂組成物A中光聚合性寡聚物之調配量以固形物成分量計較佳為0~40質量%，更佳為0~30質量%。
(一官能~三官能(甲基)丙烯酸酯以外之光聚合性單體)
作為上述光聚合性單體，可列舉具有(甲基)丙烯醯基之化合物等具有1個或2個以上不飽和鍵者。作為具有1個不飽和鍵之單官能單體，例如可列舉：苯乙烯、甲基苯乙烯、N-乙烯吡咯啶酮等。作為具有2個以上不飽和鍵之多官能單體，例如可列舉：新戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二新戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、二新戊四醇五(甲基)丙烯酸酯等及經環氧乙烷(EO)等使該等改質之多官能化合物等。
藉由使用單官能單體，而折射率調整變容易，且可形成折射率更高之樹脂層，另一方面，若使用多官能單體，則硬度良好。
上述光聚合性單體之分子量較佳為200~1,000，更佳為250~750。
游離輻射硬化性樹脂組成物A中一官能~三官能(甲基)丙烯酸酯以外之光聚合性單體之調配量以固形物成分量計較佳為0~40質量%，更佳為0~30質量%。
上述游離輻射硬化性樹脂組成物A較佳為進而含有溶劑。
該溶劑較佳為選擇使丙烯酸系基材適度膨潤者。其中，丙烯酸系基材與先前常用之TAC基材不同，能利用幾乎所有種類之溶劑進行膨潤。由此，受溶劑之影響較強，亦存在膨潤度過強而破裂之情形，因此選擇以下之溶劑，藉此，可使基材適度地膨潤，構成基材之樹脂成分與構成樹脂層之樹脂成分移動之平衡變適度，而可於界面獲得較佳之稜線。
進而，上述溶劑可根據使用之樹脂成分之種類及溶解性而選擇使用。作為上述溶劑，較佳為醇類(甲醇、乙醇、異丙醇、1-丁醇)，其他各溶劑種類方面存在碳數更多者較為良好之傾向，其中存在蒸發速度較快者較為良好之傾向。例如，酮類可例示甲基異丁基酮，芳香族烴類可例示甲苯，二醇類可例示丙二醇單甲醚等，亦可為該等之混合溶劑。
於本發明中，尤其是出於與樹脂之相溶性、塗敷性優異，又於丙烯酸系基材-樹脂層界面形成本案之特殊凹凸形狀，進而加工時不出現基材斷開之不良情況等理由，尤佳為含有選自甲基異丁基酮、異丙醇及1-丁醇、丙二醇單甲醚中之一種以上者。若為該等溶劑，則丙烯酸系基材可無破裂而適度地膨潤。
相反地，酯類(乙酸甲酯、乙酸乙酯、乙酸丙酯、乙酸丁酯等)或酮類(丙酮、甲基乙基酮、環己酮、二丙酮醇)、賽路蘇類、醚類(二烷、四氫呋喃、丙二醇單甲醚乙酸酯等)、脂肪族烴類(己烷等)、芳香族烴類(二甲苯)、鹵代烴類(二氯甲烷、二氯乙烷等)、賽路蘇類(甲基賽路蘇、乙基賽路蘇等)、賽路蘇乙酸酯類、亞碸類(二甲基亞碸等)、醯胺類(二甲基甲醯胺、二甲基乙醯胺等)存在使丙烯酸系基材過度膨潤之情形，因此於對基材施加張力時，較佳為不使用。
上述游離輻射硬化性樹脂組成物A中，溶劑之含有比率並無特別限定，例如，關於上述較佳之溶劑，相對於游離輻射硬化性樹脂組成物A之固形物成分100質量份，較佳為30~300質量份，更佳為100~220質量份。若溶劑之含有比率為上述範圍以內，則可容易地獲得滿足上述基準長度30μm中之稜線之長度、基準高度與基準深度之高低差、平均傾斜角θa者。若相對於游離輻射硬化性樹脂組成物A之固形物成分100質量份而溶劑之含有比率為30質量份以上，則上述基準長度30μm中之稜線之長度、基準高度與基準深度之高低差、平均傾斜角θa增大，若相對於游離輻射硬化性樹脂組成物A之固形物成分100質量份而溶劑之含有比率為300質量份以下，則上述基準長度30μm中之稜線之長度、基準高度與基準深度之高低差、平均傾斜角θa減小。
本發明之光學積層體中之丙烯酸系基材-樹脂層界面具有山部及谷部之稜線，其係藉由將含有聚伸烷二醇二(甲基)丙烯酸酯等二官能(甲基)丙烯酸酯之游離輻射硬化性樹脂組成物A與上述較佳之溶劑組合而有效地獲得。例如，利用溶劑使丙烯酸系基材適度膨潤，伴隨於此，具有適當分子量之 二官能(甲基)丙烯酸酯等滲透至丙烯酸系基材。又，樹脂層之成分滲透至丙烯酸系基材時，相反地丙烯酸系基材之材料成分會被擠出至樹脂層方向，溶劑自丙烯酸系基材向樹脂層之空氣面方向揮發等，因此經膨潤之丙烯酸系基材之材料成分亦滲透至樹脂層中。可認為，各成分如上述般自上部向下部、自下部向上部動作，藉此於界面產生具有適度山部及谷部之稜線，使密接性良好並且干涉條紋防止性亦良好。該等稜線之構造或平均傾斜角可藉由較佳之樹脂層之成分或溶劑之種類、以及乾燥溫度之控制進行調整。
為了本發明之光學積層體之丙烯酸系基材-樹脂層界面形成上述特定之稜線結構，作為較佳之製造方法之1例而存在如下方法：(第一步驟)將以聚伸烷二醇二(甲基)丙烯酸酯等二官能二(甲基)丙烯酸酯為主成分、及含有溶劑之游離輻射硬化性樹脂組成物A塗佈於丙烯酸系基材，(第二步驟)藉由游離輻射硬化性樹脂組成物A中之溶劑、單體等使丙烯酸系基材膨潤，(第三步驟)一面以適當之乾燥溫度使溶劑乾燥一面使丙烯酸系基材膨潤，同時藉由丙烯酸系基材之材料成分與游離輻射硬化性樹脂組成物A之成分相互移動而於丙烯酸系基材/樹脂層界面形成凹凸狀之最佳稜線，(第四步驟)有照射游離輻射使游離輻射硬化性樹脂組成物A硬化而形成樹脂層的方法，但只要為製造上述特定稜線之條件，則光學積層體之製造方法並不 限定於此。
於樹脂層中添加有折射率調整材料或抗靜電材料等其他功能性成分之情形，可藉由該丙烯酸系基材之材料成分之逆流而使功能性成分偏靠分佈於樹脂層之上部，各功能成分密集於光學積層體之表面側，因此可良好地產生目標之功能(抗靜電性或高折射率性、低折射率性等)，因此較佳。
上述游離輻射硬化性樹脂組成物A亦可進而含有溶劑乾燥型樹脂。藉由併用溶劑乾燥型樹脂，可有效地防止塗佈面之被膜缺陷。再者，上述所謂溶劑乾燥型樹脂，係指熱塑性樹脂等塗敷時僅為了調整固形物成分所添加之溶劑乾燥而形成被膜之樹脂。
作為上述溶劑乾燥型樹脂，並無特別限定，通常可使用熱塑性樹脂。
作為上述熱塑性樹脂，並無特別限定，例如可列舉：苯乙烯系樹脂、(甲基)丙烯酸系樹脂、乙酸乙烯酯系樹脂、乙烯醚系樹脂、含鹵素之樹脂、脂環式烯烴系樹脂、聚碳酸酯系樹脂、聚酯系樹脂、聚醯胺系樹脂、纖維素衍生物、聚矽氧系樹脂及橡膠或彈性體等。上述熱塑性樹脂較佳為非結晶性、且可溶於有機溶劑(尤其是可溶解複數種聚合物或硬化性化合物之共用溶劑)。尤其是，就製膜性、透明性或耐候性之觀點而言，較佳為苯乙烯系樹脂、(甲基)丙烯酸系樹脂、脂環式烯烴系樹脂、聚酯系樹脂、纖維素衍生物(纖維素酯類等)等。
作為上述起始劑，並無特別限定，可使用公知者，例如，作為光聚合起始劑，具體例可列舉：苯乙酮類、二苯基酮類、米希勒苯醯苯甲酸酯(Michler-benzoyl benzoate)、α-澱粉肟酯(α-amyloxim ester)、噻噸酮類、苯丙酮類、苯偶醯(benzil)類、安息香(benzoyl)類、醯基氧化 膦(acylphosphine oxide)類。又，較佳為混合光敏劑而使用，作為其具體例，例如可列舉：正丁基胺、三乙基胺、聚正丁基膦等。
作為上述光聚合起始劑，於上述光聚合性單體/寡聚物/聚合物為具有自由基聚合性不飽和基之樹脂系之情形，較佳為將苯乙酮類、二苯基酮類、噻噸酮類、安息香、安息香甲基醚等單獨或混合使用，1-羥基環己基苯基酮由於與游離輻射硬化型樹脂之相溶性、及黃變亦較少之理由，故而尤佳。又，於上述光聚合性單體/寡聚物/聚合物具有陽離子聚合性官能基之情形，作為上述光聚合起始劑，較佳為將芳香族重氮鎓鹽、芳香族鋶鹽、芳香族錪鹽、茂金屬化合物、安息香磺酸酯等單獨或製成混合物而使用。
上述紫外線硬化性樹脂組成物中，上述起始劑之含量較佳為相對於上述光聚合性單體、光聚合性寡聚物及光聚合性聚合物之合計量100質量份為1~10質量份。若起始劑之含量為1質量份以上，則就光學積層體之樹脂層之硬度之觀點而言較佳，若為10質量份以下，則可抑制由起始劑過度殘留而導致之樹脂劣化並且可防止成本提高，獲得目標之樹脂層或後述硬塗層之表面的鉛筆硬度。
上述起始劑之含量之更佳下限係相對於上述光聚合性單體、光聚合性寡聚物及光聚合性聚合物之合計量100質量份為2質量份，更佳之上限為8質量份。藉由上述起始劑之含量為該範圍，而使上述硬化更確實。
藉由使上述游離輻射硬化性樹脂組成物A中含有功能性成分，而可進而對樹脂層賦予功能。
作為功能性成分，可列舉：抗靜電劑、折射率調整劑、防污劑、滑澤 劑、防眩劑、硬塗性賦予劑等通常之光學片材所使用者。
上述游離輻射硬化性樹脂組成物A亦可含有抗靜電劑。
作為抗靜電劑，較佳為有機系者，更具體而言，可列舉：鋰離子鹽、四級銨鹽、離子性液體等離子性者，或聚噻吩、聚苯胺、聚吡咯、聚乙炔等電子導電性者。
進而，上述游離輻射硬化性樹脂組成物A亦可含有氟、聚矽氧等防污劑。
於使用上述功能性成分之情形，其含量較佳為相對於游離輻射硬化性樹脂組成物A中之總固形物成分之合計質量為1~30質量%。
再者，本發明之光學積層體於使用含有抗靜電劑之游離輻射硬化性樹脂組成物A形成樹脂層之情形(即，樹脂層含有抗靜電劑之情形)，藉由與上述二官能(甲基)丙烯酸酯之組合，且由於上述理由，而抗靜電劑偏在於樹脂層之上表面，因此進而提高抗靜電性能。又，於使用含有二氧化矽、氧化鋁等超微粒子作為硬塗性賦予劑之游離輻射硬化性樹脂組成物A而形成樹脂層之情形(即，樹脂層含有硬塗性賦予劑之情形)，藉由與上述聚伸烷二醇二(甲基)丙烯酸酯之組合，且由於上述理由，而硬塗性賦予劑偏在於樹脂層之上表面，因此進而提高硬塗性能。
作為上述游離輻射硬化性樹脂組成物A之製備方法，只要可使各成分均勻地混合則並無特別限定，例如可使用塗料振盪機、珠磨機、捏合機、攪拌機等公知之裝置進行。
又，作為將上述游離輻射硬化性樹脂組成物A塗佈於上述丙烯酸系基材上之方法，並無特別限定，例如可列舉旋轉塗佈法、浸漬法、 噴霧法、模具塗佈法、棒式塗佈法、凹版塗佈法、輥式塗佈法、液面彎曲式塗佈法(meniscus coater method)、軟版印刷法、網版印刷法、液滴塗佈(bead coater)等公知之方法。
於上述丙烯酸系基材上塗佈上述游離輻射硬化性樹脂組成物A而形成之塗膜係較佳為根據需要進行加熱及/或乾燥，並藉由活性能量射線照射等使之硬化。
乾燥步驟中，乾燥時間較佳為20秒~2分鐘，更佳為30秒~1分鐘。又，乾燥步驟中，乾燥溫度較佳為40~90℃，更佳為50~80℃。若乾燥溫度超過100℃，則即便選擇對丙烯酸之膨潤性較佳之溶劑，亦存在溶劑之滲透力等提昇而基材破裂之情形，因此，乾燥溫度較佳為於使用任何溶劑之情況下基本皆為90℃以下。例如，作為較佳之溶劑有甲基異丁基酮，即便為該溶劑，若乾燥溫度為100℃而於施加張力之情形，有丙烯酸系基材斷開之情況。
最低溫度係只要溶劑可乾燥之程度即可，較佳為50℃以上。例如，為甲基異丁基酮且乾燥溫度為30℃之情形，乾燥不充分而直接以紫外線等進行硬化，則該情形硬化進行會不順利，亦產生未硬化部分。此時，存在密接性降低之情況。
作為上述活性能量射線照射，可列舉紫外線或電子束之照射。
作為上述紫外線照射之紫外線源之具體例，例如可列舉：超高壓水銀燈、高壓水銀燈、低壓水銀燈、碳弧燈、黑光螢光燈、金屬鹵化物燈等光源。又，作為紫外線之波長，可使用190~380nm之波長區域。
作為上述電子束照射之電子束源之具體例，可列舉：柯克勞夫-沃耳吞(Cockcroft Walton)型、範德格拉夫(Van de Graaff)型、共振變壓器型、絕緣心變壓器型、或直線型、地那米(dynamitron)型、高頻型等各種電子束加速器。
再者，上述樹脂層之較佳膜厚(硬化時)為0.5~100μm，更佳為0.8~20μm；更為容易於丙烯酸系基材/樹脂層界面形成凹凸狀之最佳稜線，又，捲曲防止性或裂痕防止性尤其優異，故最佳為3.5~13μm之範圍。
又，為了提高密接性，樹脂層之膜厚較佳為0.8μm以上且未達3μm。樹脂層之膜厚為0.8μm亦是為了形成凹凸狀之最佳稜線所需要之最低限膜厚。樹脂層之膜厚為0.8μm以上且未達3μm之情形，上述基準高度與基準深度之高低差較佳為0.3~1.5μm。
再者，上述高低差無論於樹脂層之膜厚取任何值之情形，均設為滿足樹脂層膜厚>高低差之關係。
上述樹脂層之膜厚係利用電子顯微鏡(SEM、TEM、STEM)觀察剖面並測定任意10處而得之平均值(μm)。
又，本發明之光學積層體亦可於上述樹脂層上直接具有選自低折射率層、硬塗層、防污層、防眩層、抗靜電層、及高折射率層中之1者以上。
<硬塗層>
硬塗層較佳為由游離輻射硬化性樹脂組成物B之硬化物構成。
硬塗層係其硬度於JIS K5600-5-4(1999)之鉛筆硬度試驗(荷重4.9N) 中較佳為H以上，更佳為2H以上。又，上述硬塗層亦可為含有功能性成分者。
形成硬塗層之游離輻射硬化性樹脂組成物B之詳細情況係除了以二官能(甲基)丙烯酸酯為必需成分以外，與上述游離輻射硬化性樹脂組成物A相同。
又，游離輻射硬化性樹脂組成物B中，光聚合性單體(尤其是多官能單體)之調配量較佳為30~100質量%，更佳為40~90質量%，進而較佳為50~80質量%。此時，游離輻射硬化性樹脂組成物B之剩餘部分較佳設為光聚合性寡聚物及光聚合性聚合物之至少一者。
又，硬塗層之形成方法與上述樹脂層相同。其他硬塗層之詳細情況亦與上述樹脂層相同。
於本發明中，較佳為於樹脂層之上積層硬塗層。為了獲得作為光學積層體之硬度，可考慮使樹脂層本身成為高硬度。然而，於在丙烯酸系基材之上直接、即於樹脂層使用具有多官能之反應性官能基之材料形成2H以上之高硬度的情形，具有於對硬塗層進行部分施壓之情形等而丙烯酸系基材容易破裂之缺點。因此，於本發明之光學積層體中，樹脂層處於丙烯酸系基材與硬塗層之間，因此，硬塗層之衝擊並不直接傳遞至丙烯酸系基材，具有緩衝作用，較佳。又，藉由形成樹脂層/硬塗層之結構，與僅僅積層硬塗層之情形相比，亦可提高硬度。
但，於積層硬塗層等之情形，其與樹脂層之間形成新界面，即增加了會產生干涉條紋之部分。該情形時，較重要為積層之層之折射率儘可能接近其下方之層。因此，為了良好地維持干涉條紋防止性，硬塗層之折射率 較佳為與樹脂層之折射率大致相同，較佳之折射率差為0.03以下。
硬塗層之膜厚較佳為1~20μm，更佳為3.5~13μm。
<低折射率層>
本發明之光學積層體較佳為於上述硬塗層上進而具有低折射率層。
作為上述低折射率層，較佳為使用含有如下材料之低折射率層形成用組成物而形成：1)含有二氧化矽或氟化鎂等低折射率無機微粒子之樹脂、2)為低折射率樹脂之氟系樹脂、3)含有二氧化矽或氟化鎂等低折射率無機微粒子之氟系樹脂、4)二氧化矽或氟化鎂等低折射率無機薄膜等中之任一者。關於氟系樹脂以外之樹脂，可使用與上述丙烯酸系樹脂同樣之樹脂。
又，上述二氧化矽較佳為中空二氧化矽微粒子，上述中空二氧化矽微粒子例如可利用日本特開2005-099778號公報之實施例中記載之製造方法進行製作。
該等低折射率層係其折射率較佳為1.47以下，尤佳為1.42以下。又，低折射率層之厚度並無限定，通常自10nm~1μm左右之範圍內設當設定即可。
作為上述氟系樹脂，可使用至少分子中含有氟原子之聚合性化合物或其聚合物。作為聚合性化合物，並無特別限定，例如較佳為具有經游離輻射進行硬化之官能基、進行熱硬化之極性基等硬化反應性基者。又，亦可為同時一併具有該等反應性基之化合物。相對於該聚合性化合物，所謂聚合物，為一概不具有如上所述之反應性基等者。
作為具有上述利用游離輻射進行硬化之官能基的聚合性化合物，可廣泛使用具有乙烯性不飽和鍵之含氟單體。更具體而言，可例示： 氟烯烴(fluoroolefin)類(例如，氟乙烯、偏二氟乙烯、四氟乙烯、六氟丙烯、全氟丁二烯、全氟-2,2-二甲基-1,3-二唑(perfluoro-2,2-dimethyl-1,3-dioxol)等)。作為具有(甲基)丙烯醯氧基者，存在：(甲基)丙烯酸2,2,2-三氟乙酯、(甲基)丙烯酸2,2,3,3,3-五氟丙酯、(甲基)丙烯酸2-(全氟丁基)乙酯、(甲基)丙烯酸2-(全氟己基)乙酯、(甲基)丙烯酸2-(全氟辛基)乙酯、(甲基)丙烯酸2-(全氟癸基)乙酯、α-三氟甲基丙烯酸甲酯、α-三氟甲基丙烯酸乙酯等分子中具有氟原子之(甲基)丙烯酸酯化合物；分子中包含具有至少3個氟原子之碳數1~14之氟烷基、氟環烷基或氟伸烷基及至少2個(甲基)丙烯醯氧基的含氟多官能(甲基)丙烯酸酯化合物等。
作為上述進行熱硬化之極性基之較佳者，例如為羥基、羧基、胺基、環氧基等氫鍵形成基。該等不僅與塗膜之密接性優異，與二氧化矽等無機超微粒子之親和性亦優異。作為具有熱硬化性極性基之聚合性化合物，例如可列舉：4-氟乙烯-全氟烷基乙烯醚共聚物；氟乙烯-烴系乙烯醚共聚物；環氧樹脂、聚胺基甲酸酯、纖維素、酚類、聚醯亞胺等各樹脂之氟改質品等。
作為一併具有上述經游離輻射進行硬化之官能基與進行熱硬化之極性基的聚合性化合物，可例示：丙烯酸或甲基丙烯酸之部分及完全氟化烷基、烯基、芳基酯類、完全或部分氟化乙烯醚類、完全或部分氟化乙烯酯類、完全或部分氟化乙烯酮類等。
又，作為氟系樹脂，例如可列舉如下者。
含有至少1種具有上述游離輻射硬化性基之聚合性化合物之含氟(甲基)丙烯酸酯化合物的單體或單體混合物之聚合物；上述含氟(甲基)丙烯酸酯化 合物之至少1種、與如(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸丙酯、(甲基)丙烯酸丁酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯之分子中不含氟原子之(甲基)丙烯酸酯化合物的共聚物；氟乙烯、偏二氟乙烯、三氟乙烯、氯三氟乙烯、3,3,3-三氟丙烯、1,1,2-三氯-3,3,3-三氟丙烯、六氟丙烯等含氟單體之均聚物或共聚物等。亦可使用使該等共聚物含有聚矽氧成分而成之含聚矽氧之偏二氟乙烯共聚物。作為該情形之聚矽氧成分，可例示：(聚)二甲基矽氧烷、(聚)二乙基矽氧烷、(聚)二苯基矽氧烷、(聚)甲基苯基矽氧烷、烷基改質(聚)二甲基矽氧烷、含偶氮基之(聚)二甲基矽氧烷、二甲基聚矽氧、苯基甲基聚矽氧、烷基改質聚矽氧、芳烷基改質聚矽氧、氟聚矽氧、聚醚改質聚矽氧、脂肪酸酯改質聚矽氧、甲基氫聚矽氧、含矽醇基之聚矽氧、含烷氧基之聚矽氧、含酚基之聚矽氧、甲基丙烯酸改質聚矽氧、丙烯酸改質聚矽氧、胺基改質聚矽氧、羧酸改質聚矽氧、甲醇改質聚矽氧、環氧改質聚矽氧、巰基改質聚矽氧、氟改質聚矽氧、聚醚改質聚矽氧等。其中，較佳為具有二甲基矽氧烷結構者。
進而，由如下之化合物構成之非聚合物或聚合物亦可用作氟系樹脂。即，可使用：使分子中具有至少1個異氰酸酯基之含氟化合物、與分子中具有至少1個如胺基、羥基、羧基之與異氰酸酯基反應之官能基的化合物發生反應而獲得的化合物；使如含氟聚醚多元醇、含氟烷基多元醇、含氟聚酯多元醇、含氟ε-己內酯改質多元醇之含氟多元醇、與具有異氰酸酯基之化合物反應而獲得的化合物等。
又，低折射率層形成用組成物中除了上述具有氟原子之聚合性化合物或聚合物，亦可含有如上述所記載之各熱塑性樹脂。進而，可適 當使用用以使反應性基等硬化之硬化劑、用以提高塗敷性或賦予防污性之各種添加劑、溶劑。
於上述低折射率層之形成中較佳為將上述低折射率層形成用組成物之黏度設為可獲得較佳塗佈性之0.5~5mPa‧s(25℃)、較佳為0.7~3mPa‧s(25℃)之範圍。可實現可見光之優異之抗反射層，且可形成均勻且無塗佈不均之薄膜，且可形成密接性尤其優異之低折射率層。
樹脂之硬化手段可與前述之硬塗層之硬化手段相同。於為了硬化處理而使用加熱手段之情形，較佳為於低折射率層形成用組成物中添加藉由加熱而例如產生自由基使聚合性化合物開始聚合之熱聚合起始劑。
本發明之光學積層體較佳為總透光率為80%以上。若未達80%，則於安裝於影像顯示裝置之情形，存在損及色再現性或視認性之虞，並且有無法獲得所需對比度之虞。上述總透光率更佳為90%以上。
上述總透光率可使用測霧計(村上色彩技術研究所製造、產品編號：HM-150)利用依據JIS K-7361之方法進行測定。
又，本發明之光學積層體係霧度較佳為1%以下。若為1%以下，則可獲得所需之光學特性，於將本發明之光學積層體設置於影像顯示表面時視認性不會劣化。霧度更佳為0.8%以下，進而較佳為0.5%以下。
上述霧度可使用測霧計(村上色彩技術研究所製造、產品編號：HM-150)利用依據JIS K-7136之方法進行測定。
本發明之偏光板係於偏光膜之至少一個面積層本發明之光學積層體而成。
作為上述偏光膜，並無特別限定，例如可使用經碘等染色、且經延伸 之聚乙烯醇膜、聚乙烯醇縮甲醛膜、聚乙烯醇縮乙醛膜、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物系皂化膜等。於上述偏光膜與上述光學積層體之層壓處理中，較佳為對丙烯酸系基材進行皂化處理。藉由皂化處理，可使接著性良好且亦獲得抗靜電效果。
本發明亦提供具備上述光學積層體及/或上述偏光板而成之影像顯示裝置。
作為上述影像顯示裝置，可列舉：電視、電腦、LCD、PDP(Plasma Display Panel，電漿顯示器)、FED(field emission display，場發射顯示裝置)、ELD(有機EL、無機EL)、CRT、平板PC(tablet PC)、電子紙、行動電話等，進而亦可較佳地用於影像顯示裝置等所使用之觸控面板。
上述之代表例即LCD係具備透過性顯示體、及自背面照射上述透過性顯示體之光源裝置而成者。於本發明之影像顯示裝置為LCD之情形，其為於該透過性顯示體之表面形成有本發明之光學積層體及/或本發明之偏光板而成者。其中，於搭載有觸控面板之影像顯示裝置之情形，不限用於表面，亦可用作構成觸控面板之透明基板。
上述之代表例即LCD係具有透過性顯示體、及自背面照射上述透過性顯示體之光源裝置而成者。於本發明之影像顯示裝置為LCD之情形，其為於該透過性顯示體之表面形成有本發明之光學積層體及/或本發明之偏光板而成者。又，根據搭載有觸控面板之影像顯示裝置之情形或LCD等之情形，不限用於表面，亦可用作構成裝置內部之透明基板等。
於本發明之液晶顯示裝置中，光源裝置之光源係自光學積層體或偏光板之下側進行照射。再者，亦可於液晶顯示元件與偏光板之間插 入相位差板。該液晶顯示裝置之各層間亦可根據需要而設置接著劑層。
此處，當本發明具有上述光學積層體之液晶顯示裝置之情形，於該液晶顯示裝置中，作為背光光源並無特別限定，較佳為白色發光二極體(白色LED)，本發明之影像顯示裝置較佳為具備白色發光二極體作為背光光源之VA模式或IPS模式之液晶顯示裝置。
上述所謂白色LED，係指螢光體方式、即藉由將使用化合物半導體之發藍色光或紫外光之發光二極體與螢光體組合而發白色的元件。其中，由將使用化合物半導體之藍色發光二極體與釔鋁石榴石系黃色螢光體組合而成之發光元件所構成的白色發光二極體，其具有連續且範圍較廣之發光光譜，故而對抗反射性能及明處對比度之改善較為有效，並且其發光效率亦優異，因此作為本發明之上述背光光源較佳。又，可廣泛地利用耗電較小之白色LED，因此亦可實現節能化之效果。
又，上述所謂VA(Vertical Alignment，垂直配向)模式，係未施加電壓時液晶分子以垂直於液晶單元之基板之方式配向而顯示為暗顯示，並藉由利用電壓之施加使液晶分子倒伏而顯示為亮顯示的動作模式。
又，上述所謂IPS(In-Plane Switching，面內切換)模式，係利用對設置於液晶單元之一基板之梳形電極(interdigitated array electrode)對施加的橫向電場使液晶於基板面內旋轉而進行顯示的方式。
上述影像顯示裝置即PDP具備：於表面形成有電極之表面玻璃基板，及與該表面玻璃基板對向且於之間封入放電氣體而配置、於表面形成有電極及微小之槽、槽內形成有紅、綠、藍之螢光體層的背面玻璃基板。於本發明之影像顯示裝置為PDP之情形，其為於上述表面玻璃基板 之表面或其前面板(玻璃基板或膜基板)具備上述光學積層體者。
上述影像顯示裝置亦可為將一旦施加電壓即發光之硫化鋅、二胺類物質：發光體蒸鍍於玻璃基板並對施加於基板之電壓進行控制而進行顯示的ELD裝置、或將電訊號轉換為光而產生人眼可見之像之CRT等影像顯示裝置。於該情形，其為於如上所述之各顯示裝置之最表面或其前面板之表面具備上述光學積層體者。
[實施例]
繼而，利用實施例進而對本發明進行詳細情況之說明，但本發明不受該等例任何限定。
實施例1
(丙烯酸系基材之製造)
將由甲基丙烯酸甲酯及丙烯酸甲酯之共聚物(玻璃轉移點：130℃)構成之顆粒加以熔融混練，並一面使之通過過濾器而去除雜質，一面利用熔融擠出之方法將聚合物自模具之間隙擠出。繼而，一面冷卻聚合物，一面於縱方向延伸至1.2倍，此後，於橫方向延伸至1.5倍，而獲得厚度40μm之丙烯酸系基材。
(樹脂層形成用組成物之製備)
使四乙二醇二丙烯酸酯(東亞合成股份有限公司製造、「M240」)100質量份、及起始劑(BASF公司製造、「Irg184」)4質量份溶解於甲基異丁基酮150質量份，而製備樹脂層形成用組成物。
再者，於表1中顯示樹脂層形成用組成物之組成。
(硬塗層形成用組成物1之製備)
使二新戊四醇六丙烯酸酯(日本化藥股份有限公司製造)50質量份、丙烯酸胺基甲酸酯(日本合成化學工業股份有限公司製造、「UV1700B」、10官能、重量平均分子量：2,000)50質量份、及起始劑(BASF公司製造、「Irg184」)4質量份溶解於甲基異丁基酮150質量份，而製備硬塗層形成用組成物1。
(光學積層體之製造)
利用模具塗佈法於丙烯酸系基材上塗敷樹脂層形成用組成物，於70℃下乾燥1分鐘使溶劑蒸發，以乾燥後之塗佈量成為4g/m2(乾燥膜厚3.5μm)之方式形成樹脂層。對所獲得之塗膜以照射量70mJ/cm2照射紫外線而使塗膜半硬化(半固化狀態)。
繼而，利用模具塗佈方法將硬塗層形成用組成物1塗敷於以上述方式形成之樹脂層上，於70℃下乾燥1分鐘使溶劑蒸發，以乾燥後之塗佈量成為8g/m2(乾燥膜厚7μm)之方式形成硬塗層1。對所獲得之塗膜以紫外線照射量200mJ/cm2照射紫外線而使塗膜完全硬化(完全固化狀態)，獲得光學積層體。
實施例2~16及比較例1~10
將樹脂層形成用組成物之組成變更為表1~3中所示者，除此以外，以與實施例1同樣之方式獲得光學積層體。
實施例17
作為硬塗層形成用組成物，使用按以下方式製備之硬塗層形成用組成物2代替上述硬塗層形成用組成物1，除此以外，以與實施例1同樣之方式獲得光學積層體。
(硬塗層形成用組成物2之製備)
使二新戊四醇六丙烯酸酯(日本化藥股份有限公司製造)30質量份、丙烯酸胺基甲酸酯(荒川化學工業股份有限公司製造、「BS577」、6官能、重量平均分子量：1,000)46質量份、單體(東亞合成股份有限公司製造、「M315」、3官能)20質量份、含四級銨鹽之寡聚物(TAISEI FINE CHEMICAL股份有限公司製造、「1SX3000」)4質量份、及起始劑(BASF公司製造、「Irg184」)4質量份溶解於甲基異丁基酮130質量份及N-丁醇20質量份，而製備硬塗層形成用組成物2。
實施例17中所獲得之光學積層體係於硬塗層中含有抗靜電劑，因此具有抗靜電性。
針對實施例1~17及比較例1~10中所獲得之光學積層體，進行下述評價。將結果示於表1~3。
(基準長度30μm中稜線之長度)
使用掃描型穿透式電子顯微鏡(STEM)對所獲得之光學積層體之厚度方向之剖面進行拍攝，基於該畫面，並基於上述「基準長度30μm中稜線之長度之測定方法」進行測定。
(基準高度與基準深度之高低差)
如圖4所示般，於上述光學積層體之厚度方向之剖面，丙烯酸系基材-樹脂層界面顯示具有山部及谷部之稜線，於以光學積層體之厚度方向為y軸(其中，樹脂層側為正方向)、以垂直於該y軸之方向為x軸的xy平面，於該x軸方向取30μm之基準長度L，於該基準長度L中稜線所具有之最小值點4b中，自y座標最小者中選擇3點(4b-1)，並以其等之平均y座標 作為基準深度5b，另一方面，於該基準長度L中稜線所具有之最大值點4a中，自y座標最大者中選擇3點(4a-1)，並以其等之平均y座標作為基準高度5a，將該基準深度5b與基準高度5a之差(絕對值)作為基準深度5b與基準高度5a之高低差。
(平均傾斜角θa)
如圖5所示，於上述光學積層體之厚度方向之剖面，丙烯酸系基材-樹脂層界面顯示具有山部及谷部之稜線，於以光學積層體之厚度方向為y軸(其中，樹脂層側為正方向)、以垂直於該y軸之方向為x軸的xy平面，於該x軸方向取30μm之基準長度L，於該基準長度L確定稜線所具有之極值點(最大值點4a及最小值點4b)，將全部之鄰接之極值點間之高低差(h1~h12、絕對值)之和記作總高低差ΣH，此時，將tan-1(總高低差ΣH/基準長度L)所表示之值作為平均傾斜角θa。
(凹凸之平均間隔Sm)
依據JIS B0601(1994)進行測定。
(密接性)
基於JIS K 5600，對光學積層體之硬塗層劃1mm見方且合計100格之棋盤格，使用Nichiban(股)製造之工業用24mm之Cellotape(註冊商標)連續5次進行剝離試驗，計算殘留之方格之數量。
根據未剝離之方格之數，按以下方式進行評價。○等級以上作為製品較佳。
A：90-100
B：80-89
C：50-79
D：未達50
(干涉條紋)
於與光學積層體之硬塗層相反側之面貼合黑色膠帶後，於三波長管螢光燈下以目視評價有無干涉條紋。將不可見干涉條紋之情形記為A，將稍稍可見之情形記為B，將可見之情形記為C。
(製造加工性)
於將樹脂層形成用組成物塗佈於丙烯酸系基材上並進行乾燥的階段，進行拉伸試驗。拉伸程度設為2.2N/cm。
其結果為，將拉伸時未斷開之情形評價為「良好」，將即便產生少許斷裂而於製造加工上產生問題者評價為「不良」。
製造加工性為「不良」之光學積層體係基材本身之物性弱化，因此即便使樹脂層、硬塗層等硬化，鉛筆硬度(JIS K5600-5-4)亦非2H以上。
(霧度)
使用測霧計(村上色彩技術研究所製造、產品編號：HM-150)依據JIS K-7136測定光學積層體之霧度值(%)，並按以下評價基準進行評價。
A：霧度值為0.8以下
C：霧度值超過0.8
(表面電阻)
對上述實施例及比較例中製作之各光學積層體，使用表面電阻值測定器(Hiresta HT-210、三菱油化股份有限公司製造)測定表面電阻值。
ND：未測出
ND：未測出
ND：未測出
PEG二(甲基)丙烯酸酯1：四乙二醇二丙烯酸酯(東亞合成股份有限公司製造、「M240」、分子量：286)
PEG二(甲基)丙烯酸酯2：三乙二醇二甲基丙烯酸酯(共榮社化學股份有限公司製造、「Light ester 3EG」、分子量：270)
PEG二(甲基)丙烯酸酯3：四乙二醇二甲基丙烯酸酯(共榮社化學股份有限公司製造、「Light ester 4EG」、分子量：314)
順丁烯二醯亞胺聚合物：(東亞合成股份有限公司製造、「UVT302」)
PETA：新戊四醇三丙烯酸酯
多官能聚合物：荒川化學工業製造、「BS371」
多官能寡聚物：第一工業製藥股份有限公司製造、「R1403」
單體1：二新戊四醇六丙烯酸酯、日本化藥股份有限公司製造
單體2：鄰苯酚EO改質丙烯酸酯、東亞合成股份有限公司製造之M106
四級銨鹽：Colcoat公司製造、「Colcoat NR121X」
ATO粒子：摻銻氧化錫之甲基異丁基酮分散液、Mitsubishi Materials Electronic Chemicals股份有限公司製造、「EPT5DL2MIBK」
反應性二氧化矽：日產化學工業股份有限公司製造、「MIBKSD」、平均粒徑：12nm
氧化鋯：氧化鋯之MEK分散液(固形物成分30%分散液、堺化學工業製造、「SZR-K 4nm」)
MIBK：甲基異丁基酮
PGME：丙二醇單甲醚
MEK：甲基乙基酮
[產業上之可利用性]
本發明之光學積層體可較佳地用於陰極射線管顯示裝置(CRT)、液晶顯示器(LCD)、電漿顯示器(PDP)、電致發光顯示器(ELD)、觸控面板、電子紙、行動電話等顯示器，尤其是高精細化顯示器。
1‧‧‧丙烯酸系基材
2‧‧‧樹脂層
3‧‧‧硬塗層

Claims (6)

  1. 一種光學積層體，係於丙烯酸系基材之一個面上具有樹脂層者，於該光學積層體厚度方向之剖面，丙烯酸系基材-樹脂層界面顯示具有山部及谷部之稜線，與上述光學積層體厚度方向垂直之方向的基準長度30μm中上述稜線之長度為31~45μm。
  2. 如申請專利範圍第1項之光學積層體，其中於上述光學積層體厚度方向之剖面，與光學積層體厚度方向垂直之方向的基準長度30μm中，將丙烯酸系基材-樹脂層界面之谷部中自最深之谷底起按深淺順序排前3名的平均深度作為基準深度，繼而將丙烯酸系基材-樹脂層界面之山部中自最高之峰頂起按高低順序排前3名的平均高度作為基準高度，該基準高度與基準深度之高低差為0.3~3.5μm。
  3. 如申請專利範圍第1或2項之光學積層體，其中上述稜線之平均傾斜角θa為15~48°。
  4. 如申請專利範圍第1或2項之光學積層體，其中上述稜線顯示之凹凸之平均間隔Sm為0.5~7μm。
  5. 一種偏光板，其係於偏光膜之至少一個面積層申請專利範圍第1或2項之光學積層體而成。
  6. 一種影像顯示裝置，係具備申請專利範圍第1項之光學積層體及/或申請專利範圍第5項之偏光板。
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