TWI542472B - 光學積層體、偏光板及影像顯示裝置 - Google Patents

光學積層體、偏光板及影像顯示裝置 Download PDF

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Description

光學積層體、偏光板及影像顯示裝置
本發明係關於一種光學積層體、偏光板及影像顯示裝置。
於陰極射線管顯示裝置(CRT)、液晶顯示器(LCD)、電漿顯示器(PDP)、電致發光顯示器(ELD)、場發射顯示器(FED)、觸控面板、平板電腦、電子紙等影像顯示裝置之最表面上，設置有由具有防眩性、抗反射性或抗靜電性等各種性能之功能層所構成之光學積層體。
作為此種光學積層體之基材，使用透明性或硬度性優異之丙烯酸系樹脂等塑膠基材。然而，此種塑膠基材存在如下問題：由於絕緣特性高而容易帶電，會產生由灰塵等附著所帶來之污垢，不僅於使用之情形時，而且於顯示器製造步驟中，亦會由於帶電而發生故障等。
為防止此種帶電，進行先前於上述光學積層體之一部分設置含有抗靜電劑之抗靜電層。
作為上述抗靜電劑，已知有：π共軛系導電性有機化合物，鋁或銅等金屬單體或合金，摻銻之氧化錫(ATO)或摻錫之氧化銦(ITO)等金屬氧化物系之導電性超微粒子，有機導電聚合物，四級銨鹽系等之導電性微粒子(專利文獻1~5)。
然而，於使用此種抗靜電劑之情形時，若欲提高光學積層體之導電性，則不得不增加抗靜電劑之添加量，其結 果為，存在光學積層體之霧度(haze)增大而透光性下降，無法獲得充分之光學特性等問題。
專利文獻1：日本特開平5-339306號公報
專利文獻2：日本特開平11-42729號公報
專利文獻3：日本特開2002-3751號公報
專利文獻4：日本特開2004-338379號公報
專利文獻5：日本特開2005-154749號公報
鑒於上述現狀，本發明之目的在於提供一種具有抗靜電性能及透光性或低霧度等光學特性，並且硬度及密合性亦優異之光學積層體。
本發明係一種光學積層體，具有透光性基材與於上述透光性基材之至少一面上之硬塗層，其特徵在於：上述硬塗層含有五氧化二銻、及重量平均分子量為1000以上未達1萬且為6官能以上之(甲基)丙烯酸胺基甲酸酯寡聚物，上述五氧化二銻之含量於硬塗層中為15~70質量%，上述(甲基)丙烯酸胺基甲酸酯寡聚物(urethane(metha)acrylate oligomer)之含量於硬塗層之樹脂成分中為30~70質量%，上述五氧化二銻形成三維網狀結構而分散於硬塗層中。
上述硬塗層較佳為進而含有選自由新戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、二新戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、新戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯組成之群中之至少1種。
又，上述硬塗層較佳為樹脂成分中含有30~70質量% 之新戊四醇三(甲基)丙烯酸酯及/或二新戊四醇六(甲基)丙烯酸酯。
本發明之光學積層體較佳為於上述硬塗層上進而具有低折射率層。
又，本發明亦係一種偏光板，具備偏光元件而成，其特徵在於上述偏光板於偏光元件表面上具備上述光學積層體。
又，本發明亦係一種影像顯示裝置，其特徵在於：具備上述光學積層體或上述偏光板。
以下，詳細地說明本發明。
本發明係一種光學積層體，具有透光性基材與於上述透光性基材之至少一面上之硬塗層，其特徵在於：上述硬塗層含有特定量之五氧化二銻與特定的(甲基)丙烯酸胺基甲酸酯寡聚物，上述五氧化二銻為以特定之狀態分散於上述硬塗層中。因此，本發明之光學積層體具有優異之抗靜電性能、且霧度低、透光性及硬度亦優異。
本發明之光學積層體的硬塗層含有五氧化二銻及(甲基)丙烯酸胺基甲酸酯寡聚物，且上述五氧化二銻形成三維網狀結構而分散於硬塗層中。
所謂上述三維網狀結構，係指五氧化二銻連續地鄰接分散為可相互導通之程度，使得觀察到於光學積層體之剖面中網狀地存在的狀態。由於五氧化二銻會分散於硬塗層中以此種特定之狀態存在，故而即使五氧化二銻之添加量少，本發明之光學積層體亦可發揮優異抗靜電性能。
再者，上述三維網狀結構可藉由利用TEM(Transmission Electron Microscope，穿透式電子顯微鏡)觀察上述硬塗層厚度方向之剖面而確認，例如，本發明之光學積層體，於TEM觀察硬塗層之厚度方向之剖面中觀察到大量五氧化二銻鄰接而密集之區域(稠密區域)與幾乎不存在之區域(稀疏區域)，相對於此，於上述五氧化二銻未形成三維網狀結構之情形時，於TEM觀察剖面中觀察到五氧化二銻為大致均勻之分散狀態。但是，本發明之光學積層體，於TEM觀察硬塗層剖面中之上述稀疏區域中，該硬塗層所含有之五氧化二銻的上述導通不會被中斷，而且於剖面中，未出現在剖面之部分，五氧化二銻也是連續鄰接分散為可相互導通之程度。
即，本發明之光學積層體，五氧化二銻於硬塗層厚度方向之剖面的每單位面積中所佔之剖面積不均勻，相對於此，上述五氧化二銻未形成三維網狀結構之情形時，五氧化二銻於硬塗層厚度方向之剖面的每單位面積中所佔之剖面積大致均勻。具體而言，例如，將硬塗層中之五氧化二銻之含量設為下述範圍，利用TEM觀察上述硬塗層厚度方向之剖面並任意選取10處500nm×500nm區域，此時五氧化二銻之剖面積於各區域所佔之比例，在最小區域中為1~15%，在最大區域中為60~80%。相對於此，對與上述等量之五氧化二銻未形成三維網狀結構之硬塗層若以相同之方式求出五氧化二銻之剖面積於上述各區域所佔之比例，則在所有區域為20~50%。
進而，上述五氧化二銻於硬塗層中形成上述三維網狀結構，藉此可降低上述硬塗層之表面電阻值(例如，於硬塗層中五氧化二銻之含量為下述範圍之情形時，未達1×1012Ω/□)。另一方面，例如，即使由與本發明之五氧化二銻等量之抗靜電劑來形成均勻分散之硬塗層或凝聚體，但未形成上述三維網狀結構之硬塗層，亦無法獲得此種較低之表面電阻值。
又，於本發明中，即便作為抗靜電劑之五氧化二銻之添加量少亦可賦予優異之抗靜電性能，因此可不對霧度或透光性造成影響而製成光學特性亦優異之光學積層體。
以下，說明本發明之光學積層體之構成。
<硬塗層>
本發明之光學積層體具有硬塗層。
上述硬塗層含有五氧化二銻及胺基甲酸酯樹脂。又，上述五氧化二銻如上所述以形成三維網狀結構之方式而分散於上述硬塗層中。因此，本發明之光學積層體之抗靜電性能及光學特性優異。
再者，本說明書中，上述硬塗層只要無特別說明則表示已硬化之塗膜層。
上述五氧化二銻並無特別限定，但就導電性高，以少量之添加即可較佳地賦予抗靜電性能方面而言，較佳為具有焦綠石(pyrochlore)型結構者。
再者，所謂上述焦綠石型結構，意指五氧化二銻形成正四面體，共有各正四面體之頂點且3維地連接而成之結 構。
上述五氧化二銻由於分子中含有水分子而親水性高，但上述(甲基)丙烯酸胺基甲酸酯寡聚物之疏水性高，因此五氧化二銻與(甲基)丙烯酸胺基甲酸酯寡聚物之相溶性差而容易凝聚。另一方面，具有上述焦綠石型結構之上述五氧化二銻，具有離子傳導性之性質，因此容易形成上述三維網狀結構。
上述五氧化二銻之平均一次粒徑較佳為10~100nm。若未達10nm，則有無法形成上述三維網狀結構之虞。若超過100nm，則有不產生適當之凝聚使得無法形成上述三維網狀結構或凝聚塊變大使霧度變高之虞。上述平均一次粒徑更佳為30~70nm。
再者，上述平均一次粒徑由外差法測定所得之值。
上述五氧化二銻之含量於硬塗層中為7~35質量%。若未達7質量%，則不構成三維網狀結構，抗靜電性能會不充分。若超過35質量%，則霧度會變高或硬塗層對透光性基材之密合性會降低。上述五氧化二銻之含量於硬塗層中較佳為10~30質量%。
上述(甲基)丙烯酸胺基甲酸酯寡聚物並無特別限定，可列舉藉由多元醇與有機聚異氰酸酯之反應所獲得的公知者。
上述多元醇，例如可列舉：新戊二醇、3-甲基-1,5-戊二醇、乙二醇、丙二醇、1,4-丁二醇、1,6-己二醇、三羥甲基丙烷、新戊四醇、三環癸烷二甲醇、雙-[羥甲基]-環己烷等； 藉由上述多元醇與多元酸(例如，琥珀酸、鄰苯二甲酸、六氫鄰苯二甲酸酐、對苯二甲酸、己二酸、壬二酸、四氫鄰苯二甲酸酐等)之反應所獲得之聚酯多元醇；藉由上述多元醇與ε-己內酯之反應所獲得之聚己內酯多元醇；聚碳酸酯多元醇(例如，藉由1,6-己二醇與碳酸二苯酯之反應所獲得之聚碳酸酯二醇等)；及聚醚多元醇。上述聚醚多元醇，可列舉：聚乙二醇、聚丙二醇、聚丁二醇(polytetramethylene glycol)、環氧乙烷改質雙酚A等。
上述有機聚異氰酸酯，例如可列舉：異佛爾酮二異氰酸酯、六亞甲基二異氰酸酯、甲苯二異氰酸酯、二甲苯二異氰酸酯、二苯甲烷-4,4'-二異氰酸酯、異氰酸二環戊酯(dicyclopentanyl isocyanate)等。
其中，上述(甲基)丙烯酸胺基甲酸酯寡聚物較佳為藉由上述多元醇及有機聚異氰酸酯與(甲基)丙烯酸羥基酯化合物之反應所獲得之(甲基)丙烯酸胺基甲酸酯寡聚物。再者，本說明書中，(甲基)丙烯酸酯表示丙烯酸酯及甲基丙烯酸酯。
上述(甲基)丙烯酸羥基酯化合物，例如可列舉：新戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、新戊四醇二(甲基)丙烯酸酯、二新戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、二新戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸羥基乙酯、(甲基)丙烯酸羥基丙酯、(甲基)丙烯酸羥基丁酯、單(甲基)丙烯酸二羥甲基環己酯、羥基己內酯(甲基)丙烯酸酯等。其中，就硬度方面而言較佳為新戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、二新戊四醇五(甲基)丙烯酸酯。
上述(甲基)丙烯酸胺基甲酸酯寡聚物之重量平均分子量為1000以上、未達1萬。若未達1000，則無法由五氧化二銻構成三維網狀結構，抗靜電性能會不充分。若為1萬以上，則五氧化二銻於用以形成硬塗層之組成物的階段會發生凝聚，無法使其分散而無法進行該組成物之塗佈。上述重量平均分子量較佳為1000以上、7000以下。
再者，上述重量平均分子量係藉由凝膠滲透層析法(GPC，Gel Permeation Chromatography)(聚苯乙烯換算)所獲得之值。
上述(甲基)丙烯酸胺基甲酸酯寡聚物為6官能以上。若上述(甲基)丙烯酸胺基甲酸酯未達6官能，則硬塗層之硬度會變低，與透光性基材之密合性亦變差。上述(甲基)丙烯酸胺基甲酸酯寡聚物之官能基數之較佳下限為6，較佳上限為20。
上述(甲基)丙烯酸胺基甲酸酯寡聚物亦可使用市售品。於本發明中可用作上述(甲基)丙烯酸胺基甲酸酯寡聚物之市售品，例如可列舉：日本合成化學工業公司製造：UV1700B(重量平均分子量2000，10官能)、UV7600B(重量平均分子量1500，6官能)；日本化藥公司製造：DPHA40H(重量平均分子量7000，10官能)、UX5000(重量平均分子量1000，6官能)、UX5003(重量平均分子量7000，6官能)；根上工業公司製造：UN3320HS(重量平均分子量5000，15官能)、UN904(重量平均分子量4900，15官能)、UN3320HC(重量平均分子量1500，10官能)、UN3320HA (重量平均分子量1500，6官能)；荒川化學工業公司製造：BS577(重量平均分子量1000，6官能)；及新中村化學工業公司製造：U15HA(重量平均分子量2000，15官能)等。
其中，就抗靜電性能、硬度、與基材之密合優異方面而言，較佳為UV1700B、DPHA40H、UV7600B、BS577、BS577CP、UX5000。
進而，就耐久試驗後之硬塗層與透光性基材之密合性能方面而言，更佳為UV1700B、DPHA40H。
上述(甲基)丙烯酸胺基甲酸酯寡聚物之含量於硬塗層之樹脂成分中為30~70質量%。若未達30質量%，則(甲基)丙烯酸胺基甲酸酯寡聚物會較少，因此用以形成硬塗層之組成物的黏度較低，無法形成上述五氧化二銻之三維網狀結構，使得本發明之光學積層體之抗靜電性能惡化。若超過70質量%，則上述組成物之黏度會變高，而無法形成硬塗層。
上述(甲基)丙烯酸胺基甲酸酯寡聚物之含量於硬塗層之樹脂成分中更佳為30~50質量%。
又，上述硬塗層中亦可進而含有除上述(甲基)丙烯酸胺基甲酸酯寡聚物以外之樹脂。
作為除上述(甲基)丙烯酸胺基甲酸酯寡聚物以外之樹脂，例如可列舉：游離放射線硬化型樹脂(為藉由紫外線或電子束硬化之樹脂)、游離放射線硬化型樹脂與溶劑乾燥型樹脂(熱塑性樹脂等，只需於塗敷時使用以調整固形物成分而添加之溶劑乾燥即可形成被膜之樹脂)之混合物、或 熱硬化型樹脂。更佳為游離放射線硬化型樹脂。再者，於本說明書中，「樹脂」係亦包含單體、寡聚物等樹脂成分之概念。
上述游離放射線硬化型樹脂，例如可列舉具有丙烯酸酯系之官能基之化合物等具有1個或2個以上之不飽和鍵的化合物。具有1個不飽和鍵之化合物，例如可列舉：(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸乙基己酯、苯乙烯、甲基苯乙烯、N-乙烯吡咯啶酮等。具有2個以上之不飽和鍵結之化合物，例如可列舉：聚羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、己二醇(甲基)丙烯酸酯、三丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、二乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、新戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、二新戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、新戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、1,6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯等多官能化合物，及上述多官能化合物與(甲基)丙烯酸酯等之反應生成物(例如，多元醇之聚(甲基)丙烯酸酯)，上述多官能化合物之改質物等。
又，上述游離放射線硬化型樹脂，亦可使用具有不飽和雙鍵的分子量相對較低之聚酯樹脂、聚醚樹脂、丙烯酸系樹脂、環氧樹脂、醇酸樹脂、螺縮醛樹脂(spiroacetal resin)、聚丁二烯樹脂、多硫醇多烯樹脂等。
可作為黏合劑樹脂而含有之上述(甲基)丙烯酸胺基甲酸酯寡聚物以外之樹脂，就耐擦傷性、耐溶劑性優異，且可形成強韌之硬化塗膜方面而言，具體而言，較佳為：二羥甲基三環癸烷二丙烯酸酯、(乙氧化)雙酚A二丙烯酸酯、 (丙氧化)雙酚A二丙烯酸酯、環己烷二甲醇二丙烯酸酯、(聚)乙二醇二丙烯酸酯、(乙氧化)1,6-己二醇二丙烯酸酯、(丙氧化)1,6-己二醇二丙烯酸酯、(乙氧化)新戊二醇二丙烯酸酯、(丙氧化)新戊二醇二丙烯酸酯、羥基三甲基乙酸新戊二醇二丙烯酸酯(hydroxy pivalic acid neopentylglycol diacrylate)、新戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、新戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、環氧乙烷改質三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、環氧丙烷改質三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、異氰尿酸三(丙烯氧乙基)酯、己內酯改質異氰尿酸三(丙烯氧乙基)酯、三羥甲基乙烷三(甲基)丙烯酸酯、二新戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二新戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、二新戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、烷基改質二新戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、烷基改質二新戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、烷基改質二新戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、己內酯改質二新戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、1,2,3-環己烷四(甲基)丙烯酸酯等多元醇與(甲基)丙烯酸之酯化合物；聚胺基甲酸酯聚(甲基)丙烯酸酯、聚酯聚(甲基)丙烯酸酯、聚醚聚(甲基)丙烯酸酯、聚丙烯酸聚(甲基)丙烯酸酯、聚醇酸聚(甲基)丙烯酸酯、聚環氧聚(甲基)丙烯酸酯、聚螺縮醛聚(甲基)丙烯酸酯、聚丁二烯聚(甲基)丙烯酸酯、多硫醇多烯聚(甲基)丙烯酸酯(polythiol polyene poly(meth)acrylate)、多晶矽聚(甲基)丙烯酸酯(polysilicone poly(meth)acrylate)等多官能之聚(甲基)丙烯酸酯化合物。
其中，上述硬塗層更佳為進而含有選自由新戊四醇三 (甲基)丙烯酸酯、二新戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、新戊四醇四(甲基)丙烯酸酯及三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯構成之群中之至少一種化合物。
上述(甲基)丙烯酸胺基甲酸酯寡聚物以外之樹脂含量較佳為於硬塗層中30~70質量%。若未達30質量%，則有硬塗層之膜質較弱而容易受傷之虞。又，會有硬塗層與透光性基材之密合性惡化之虞。若超過70質量%，則會有無法發揮抗靜電性能(無法形成上述五氧化二銻之三維網狀結構)之虞。又，於硬塗層上積層其他層時會有層間之密合性惡化之虞。
上述(甲基)丙烯酸胺基甲酸酯寡聚物以外之樹脂含量更佳為於硬塗層中50~70質量%。
上述硬塗層，除上述五氧化二銻、(甲基)丙烯酸胺基甲酸酯寡聚物及(甲基)丙烯酸胺基甲酸酯寡聚物以外之樹脂以外，亦可視需要含有其他成分。上述其他成分，可列舉：光聚合起始劑、調平劑、聚合促進劑、紫外線吸收劑、抗氧化劑、折射率調整劑等。
上述硬塗層之層厚較佳為0.5~8μm。若未達0.5μm，則有時鉛筆硬度或耐擦傷性會變差。又，由於每單位面積之粒子總量變少，故而有抗靜電性惡化之虞。若超過8μm，則有時霧度較高，總透光率變低，產生捲縮(curl)或裂痕(crack)，又，製造成本亦會上升。
上述層厚度更佳為1~4μm。
上述硬塗層可使用硬塗層用組成物來形成，該硬塗層 用組成物係將上述五氧化二銻、(甲基)丙烯酸胺基甲酸酯寡聚物、及視需要之(甲基)丙烯酸胺基甲酸酯寡聚物以外之樹脂與其他成分混合於溶劑並分散所調製而成。
上述溶劑，可列舉：醇(例如，甲醇、乙醇、丙醇、異丙醇、正丁醇、第二丁醇、第三丁醇、苄醇、PGME(Propylene Glycol Monomethyl Ether，丙二醇單甲醚)、乙二醇)、酮(例如，丙酮、甲基乙基酮、甲基異丁基酮、環戊酮、環己酮、庚酮、二異丁基酮、二乙基酮)、脂肪族烴(例如，己烷、環己烷)、鹵化烴(例如，二氯甲烷、三氯甲烷、四氯化碳)、芳香族烴(例如，苯、甲苯、二甲苯)、醯胺(例如，二甲基甲醯胺、二甲基乙醯胺、正甲基吡咯啶酮)、醚(例如，二乙基醚、二烷、四氫呋喃)、酯(例如，乙酸甲酯、乙酸乙酯、乙酸丁酯、PGMEA(Propylene Glycol Monomethyl Ether Acetate，丙二醇單甲醚乙酸酯))等。
其中，上述溶劑，就五氧化二銻之分散性良好方面而言，較佳為PGME。上述PGME較佳為於上述溶劑中含有15質量%以上。
上述混合分散之方法，並無特別限定，可使用公知方法，使用塗料振盪器(paint shaker)、珠磨機(bead mill)、捏合機等公知裝置進行即可。
上述硬塗層可藉由將上述硬塗層用組成物塗佈於下述透光性基材上形成塗膜，並視需要於使該塗膜乾燥後使其硬化而形成。
上述塗佈之方法，例如可列舉：旋轉塗佈法、浸漬法(dip method)、噴霧法、壓模塗佈法(die coat method)、棒塗法、輥塗法(roll coater method)、新月形塗佈法(meniscus coater method)、膠版印刷法(flexographic printing method)、網版印刷法(screen printing method)、珠塗佈法(bead coating method)等公知之各種方法。
上述乾燥之方法，較佳為於50~100℃進行15~120秒。
硬化上述塗膜之方法只要依照上述組成物之內容等適當選擇即可。例如，若上述組成物為紫外線硬化型者，則藉由對塗膜照射紫外線而使其硬化即可。
以此種方式所形成之硬塗層，五氧化二銻形成三維網狀結構而分散。雖然其理由尚不明確，但推測其原因為：如上所述，由於以具有焦綠石結構者作為硬塗層用組成物中之五氧化二銻，使得與(甲基)丙烯酸胺基甲酸酯寡聚物之相溶性惡化而容易凝聚，但該具有焦綠石結構之五氧化二銻具有離子導電性之性質，因此容易形成上述三維網狀結構。
本發明之光學積層體中之硬塗層係如上所述，由含有五氧化二銻及(甲基)丙烯酸胺基甲酸酯寡聚物之特定成分所構成，於該硬塗層中，五氧化二銻為形成三維網狀結構的方式分散之狀態存在。其結果，可製作抗靜電性能、光學特性及硬度優異之光學積層體。又，以此種方式獲得之硬塗層，高折射率材料(銻)之添加量少亦可。
<透光性基材>
本發明之光學積層體具有透光性基材。
上述透光性基材，較佳為透射率高，具有平滑性、耐熱性且機械強度優異。
形成上述透光性基材之材料之具體例，可列舉：聚對苯二甲酸乙二酯(PET)、聚萘二甲酸乙二酯、聚對苯二甲酸丁二酯、聚萘二甲酸丁二酯、三乙醯纖維素(TAC，triacetylcellulose)、二醋酸纖維素、醋酸丁酸纖維素(cellulose acetate butyrate)、聚醯胺、聚醯亞胺、聚醚碸、聚碸、聚丙烯(PP，poly propylene)、環烯烴聚合物(COP，Cyclo Olefin Polymer)、環烯烴共聚物(COC，Cyclo Olefin Copolymer)、聚甲基戊烯、聚氯乙烯、聚乙烯縮醛、聚醚酮、聚甲基丙烯酸甲酯、聚碳酸酯、或聚胺基甲酸酯等熱塑性樹脂。較佳為可列舉聚對苯二甲酸乙二酯。
上述透光性基材之厚度較佳為4~300μm，更佳為下限5μm，上限200μm。
關於上述透光性基材，為提高與形成於其上之層的接著性，除電暈放電處理、皂化、氧化處理等物理性處理以外，亦可預先進行錨固劑(anchor agent)或底漆(primer)等塗料之塗佈。
<低折射率層>
本發明之光學積層體較佳為進而具有低折射率層。
可藉由形成上述低折射率層而製作抗反射性優異之光學積層體。
上述低折射率層較佳為具有較上述硬塗層低之折射率 者。根據本發明之較佳態樣，上述硬塗層之折射率為1.5以上，上述低折射率層之折射率未達1.5。上述硬塗層之折射率更佳為1.55以上，進而最佳為1.58以上。上述低折射率層之折射率更佳為1.42以下，進而最佳為1.37以下。
上述低折射率層可由下述任一者構成：1)含有二氧化矽或氟化鎂之樹脂、2)為低折射率樹脂之氟系材料、3)含有二氧化矽或氟化鎂之氟系材料、4)二氧化矽或氟化鎂之薄膜等。
上述氟系材料係至少於分子中含有氟原子之聚合性化合物或其聚合物。上述聚合性化合物並無特別限定，例如較佳為具有利用游離放射線硬化之官能基(游離放射線硬化性基)或利用熱硬化之極性基(熱硬化極性基)等硬化反應性之基者。又，亦可為同時一併具有該等反應性之基的化合物。
含有氟原子之具有游離放射線硬化性基的聚合性化合物，可廣泛使用具有乙烯性不飽和鍵之含氟單體。更具體而言，可例示：氟烯烴(fluoroolefin)類(例如氟乙烯、偏二氟乙烯、四氟乙烯、六氟丙烯、全氟丁二烯(perfluoro butadiene)、全氟-2,2-二甲基-1,3-二唑等(perfluoro-2,2-dimethyl-1,3-dioxol))。具有(甲基)丙烯醯氧基者亦存在：(甲基)丙烯酸2,2,2-三氟乙酯、(甲基)丙烯酸2,2,3,3,3-五氟丙酯、(甲基)丙烯酸2-(全氟丁基)乙酯、(甲基)丙烯酸2-(全氟己基)乙酯、(甲基)丙烯酸2-(全氟辛基)乙酯、(甲基)丙烯酸2-(全氟癸基)乙酯、α-三氟甲基丙烯酸 甲酯、α-三氟甲基丙烯酸乙酯之類，其等於分子中具有氟原子之(甲基)丙烯酸酯化合物；於分子中含有具有至少3個氟原子之碳數1~14的氟烷基、氟環烷基或氟伸烷基及至少2個(甲基)丙烯醯氧基之含氟多官能(甲基)丙烯酸酯化合物等。
含有氟原子之具有熱硬化性極性基之聚合性化合物，例如可例示：4-氟乙烯-全氟烷基乙烯醚共聚物；氟乙烯-烴系乙烯醚共聚物；環氧樹脂、聚胺基甲酸酯、纖維素、酚、聚醯亞胺等各樹脂之氟改質品等。上述熱硬化性極性基例如可較佳地列舉：羥基、羧基、胺基、環氧基等氫鍵形成基。該等不僅與塗膜之密合性優異，而且與二氧化矽等無機超微粒子之親和性亦優異。
一併具有游離放射線硬化性基與熱硬化性極性基之聚合性化合物(氟系樹脂)，可例示：丙烯酸或甲基丙烯酸之部分及完全氟化烷基、烯基、芳基酯類，完全或部分氟化乙烯醚類，完全或部分氟化乙烯酯類，完全或部分氟化乙烯酮類等。
含有氟原子之上述聚合性化合物之聚合物，例如可列舉：含有至少1種具有上述游離放射線硬化性基之聚合性化合物之含氟(甲基)丙烯酸酯化合物的單體或單體混合物之聚合物；含氟(甲基)丙烯酸酯化合物之至少1種與如(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸丙酯、(甲基)丙烯酸丁酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯之分子中不含氟原子之(甲基)丙烯酸酯化合物的共聚物；氟乙烯、偏二氟乙 烯、三氟乙烯、氯三氟乙烯、3,3,3-三氟丙烯、1,1,2-三氯-3,3,3-三氟丙烯、六氟丙烯之類含氟單體的均聚物或共聚物等。
又，亦可使用於該等共聚物含有聚矽氧成分之含聚矽氧偏二氟乙烯共聚物作為上述聚合性化合物之聚合物。此情形之聚矽氧成分，可例示：(聚)二甲基矽氧烷、(聚)二乙基矽氧烷、(聚)二苯基矽氧烷、(聚)甲基苯基矽氧烷(methylphenylsiloxane)、烷基改質(聚)二甲基矽氧烷、含偶氮基(聚)二甲基矽氧烷，或二甲基聚矽氧、苯基甲基聚矽氧、烷基．芳烷基改質聚矽氧、氟聚矽氧、聚醚改質聚矽氧、脂肪酸酯改質聚矽氧、甲基氫聚矽氧(Methyl hydrogen silicone)、含矽醇基聚矽氧、含烷氧基聚矽氧、含酚基聚矽氧、甲基丙烯酸改質聚矽氧、丙烯酸改質聚矽氧、胺基改質聚矽氧、羧酸改質聚矽氧、甲醇改質聚矽氧、環氧改質聚矽氧、巰基改質聚矽氧、氟改質聚矽氧、聚醚改質聚矽氧等。其中較佳為具有二甲基矽氧烷結構者。
除上述以外，進而亦可將如下化合物用作氟系樹脂：使於分子中具有至少1個異氰酸基之含氟化合物與於分子中具有至少1個胺基、羥基、羧基等與異氰酸基反應之官能基之化合物進行反應所獲得的化合物；使含氟聚醚多元醇、含氟烷基多元醇、含氟聚酯多元醇、含氟ε-己內酯改質多元醇等含氟多元醇與具有異氰酸基之化合物進行反應所獲得的化合物等。
於形成低折射率層時，例如可使用含有原料成分之組 成物(折射率層用組成物)而形成。更具體而言，可將使原料成分(樹脂等)及視需要之添加劑(例如，下述「具有空隙之微粒子」、聚合起始劑、抗靜電劑、防污劑、防眩劑等)於溶劑溶解或分散而成之溶液或分散液用作低折射率層用組成物，由上述組成物形成塗膜並使上述塗膜硬化，藉此而獲得低折射率層。
再者，聚合起始劑、抗靜電劑、防污劑、防眩劑等添加劑可使用公知者。又，可藉由添加有機抗靜電劑而賦予抗靜電性能。
上述溶劑可列舉，與可用於形成上述硬塗層中之溶劑相同的溶劑。其中，較佳為：甲基異丁基酮(MIBK)、甲基乙基酮(MEK)、異丙醇(IPA)、正丁醇、第二丁醇、第三丁醇、丙二醇單甲醚(PGME)、丙二醇單甲醚乙酸酯(PGMEA)。
上述低折射率層用組成物之製備方法只要可使成分均勻地混合即可，且只要按照公知方法實施即可。例如，可在上述硬塗層之形成使用上述公知裝置進行混合分散。
低折射率層之形成方法只要按照公知之方法即可。例如，可在上述硬塗層之形成使用上述各種方法。
於上述低折射率層中較佳為利用「具有空隙之微粒子」作為低折射率劑。「具有空隙之微粒子」可保持低折射率層之層強度且同時降低其折射率。於本發明中所謂「具有空隙之微粒子」，意指如下：於微粒子內部形成填充有氣體之結構及/或含有氣體之多孔質結構體，與微粒子原本之折射 率相比，折射率與微粒子中氣體之佔有率成反比例下降。又，於本發明中，因微粒子之形態、結構、凝聚狀態及於被膜內部微粒子之分散狀態的不同，亦包含可於被膜內部及/或表面之至少一部分形成奈米孔隙(nanoporous)結構之微粒子。使用該微粒子之低折射率層可將折射率調節至1.25~1.42。
具有空隙之無機系微粒子，例如可列舉藉由日本特開2001-233611號公報所記載之方法製備之二氧化矽微粒子。又，亦可由日本特開平7-133105號公報、日本特開2002-79616號公報、日本特開2006-106714號公報等所記載之製法而獲得之二氧化矽微粒子。具有空隙之二氧化矽微粒子由於製造容易且其自身之硬度高，故而於與黏合劑混合而形成低折射率層時，其層強度會提高，且可調整折射率至1.20~1.45左右之範圍內。尤其是作為具有空隙之有機系微粒子之具體例，較佳可列舉使用日本特開2002-80503號公報所揭示之技術製備之中空聚合物微粒子。
可於被膜內部及/或表面之至少一部分形成奈米孔隙結構之微粒子，除上述二氧化矽微粒子以外，可列舉：為增大比表面積而製造且使填充用之管柱及表面之多孔質部吸附各種化學物質的緩釋材、用於觸媒固定用之多孔質微粒子或者目的為於隔熱材料或低介電材料加入中空微粒子之分散體或凝聚體。此種具體例，可利用處於本發明之較佳粒徑之範圍內之以下市售品，Nihon Silica工業公司製造商 品名Nipsi I或Nipge I中之多孔質二氧化矽微粒子之聚集體，日產化學工業公司製造之具有二氧化矽微粒子鏈狀地連接之結構的Colloidal Silica UP系列(商品名)。
「具有空隙之微粒子」之平均粒徑較佳為5nm以上且300nm以下，更佳為下限為5nm且上限為100nm，進而最佳為下限為10nm且上限為80nm。藉由微粒子之平均粒徑處於該範圍內，可對低折射率層賦予優異之透明性。再者，上述平均粒徑由動態光散射法所測定之值。「具有空隙之微粒子」於上述低折射率層中相對於基質(matrix)樹脂100質量份通常設為0.1~500質量份左右，較佳為設為10~200質量份左右。
於形成低折射率層時，上述低折射率層用組成物之黏度較佳為可獲得較佳塗佈性之0.5~5cps(25℃)之範圍，更佳為0.7~3cps(25℃)。藉由設為上述範圍之黏度，可實現對可見光線優異之抗反射膜，可形成均勻且無塗佈不均之薄膜且可形成對基材之密合性尤其優異之低折射率層。
樹脂之硬化方法亦可與上述硬塗層中說明之方法相同。於為硬化處理而利用光照射方法之情形時，較佳為將藉由光照射而產生例如自由基使聚合性化合物之聚合開始的光聚合起始劑添加於氟系樹脂組成物。
低折射率層之膜厚(nm)dA較佳為滿足下述式(I)者：dA=mλ/(4nA) (I)
(上述式中，nA表示低折射率層之折射率， m表示正奇數，較佳為表示1，λ為波長，較佳為480~580nm範圍之值)。
又，於本發明中，就低反射率化方面而言，低折射率層較佳為滿足下述式(II)：120<nAdA<145 (II)。
<其他層>
上述光學積層體除上述透光性基材、硬塗層及低折射率層以外，亦可具有其他任意之層。上述任意之層可列舉：防眩層、防污層、高折射率層、中折射率層、抗靜電層等。該等層只要使公知之防眩劑、低折射率劑、高折射率劑、抗靜電劑、防污劑等與樹脂及溶劑等混合，並藉由公知之方法形成即可。其中，最佳為形成防污層。
<光學積層體>
本發明之光學積層體於JIS K5600-5-4(1999)之鉛筆硬度試驗(荷重4.9N)中較佳為H以上，更佳為2H以上，最佳為3H以上。
本發明之光學積層體之表面電阻值較佳為1012Ω/□以下。
若超過1012Ω/□，則有無法表現目標之抗靜電性能之虞。上述表面電阻值更佳為1011Ω/□以下，最佳為1010Ω/□以下。
上述表面電阻值可利用表面電阻值測定器(三菱化學公司製造，製品編號：Hiresta IP MCP-HT260)進行測定。
本發明之光學積層體較佳為總透光率為90%以上。若 未達90%，則於將本發明之光學積層體安裝於影像顯示裝置表面之情形時，會有損害顏色再現性或視認性之虞。上述總透光率更佳為95%以上。
上述總透光率可使用霧度計(haze meter，村上色彩技術研究所製造，製品編號：HM-150)並藉由依據JIS K-7361之方法而測定。
本發明之光學積層體之霧度較佳為0.7%以下。若超過0.7%，則安裝於顯示器表面之情形時，除有透光性下降或視認性受損之虞以外，亦有無法獲得所需之對比度之虞。上述霧度更佳為0.2~0.7%之範圍。
上述霧度可使用霧度計(村上色彩技術研究所製造，製品編號：HM-150)並藉由依據JIS K-7136之方法而測定。
製造本發明之光學積層體之方法可列舉於透光性基材上使用硬塗層用組成物形成硬塗層，再於形成之硬塗層上使用低折射率層用組成物形成低折射率層的方法。
上述硬塗層用組成物及硬塗層可藉由與上述材料或形成方法相同之材料及形成方法獲得。
又，上述低折射率層用組成物及低折射率層亦可藉由與上述材料或形成方法相同之材料及形成方法獲得。
<偏光板及影像顯示裝置>
本發明之光學積層體可藉由將上述光學積層體之與透光性基材之存在硬塗層之面相反側之面側設置於偏光元件之表面而製造偏光板。又，此種偏光板亦為本發明之一。
上述偏光元件並無特別限定，例如可使用藉由碘等進 行染色且經延伸之聚乙烯醇膜、聚乙烯甲醛膜、聚乙烯縮醛膜、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物系皂化膜等。於上述偏光元件與上述光學積層體之層疊處理中，較佳為對透光性基材進行皂化處理。藉由皂化處理，而接著性變良好且亦可獲得抗靜電效果。又，亦可使用黏著劑使其接著。上述黏著劑例如可列舉：丙烯酸系黏著劑、胺基甲酸酯黏著劑、聚矽氧系黏著劑或水系黏著劑等。
可於影像顯示裝置具備本發明之光學積層體及上述偏光板。又，此種影像顯示裝置亦為本發明之一。
上述影像顯示裝置可列舉LCD、PDP、FED、ELD(有機EL、無機EL)、CRT、觸控面板、電子紙、平板電腦等。
LCD係具備透射性顯示體與自背面照射上述透射性顯示體之光源裝置而成者。於本發明之影像顯示裝置為LCD之情形時，於該透射性顯示體之表面形成有上述光學積層體或上述偏光板而成。
於具有本發明之光學積層體之液晶顯示裝置之情形時，光源裝置之光源自光學積層體之透光性基材側進行照射。再者，於STN型、VA型、IPS型之液晶顯示裝置，亦可於液晶顯示元件與偏光板之間插入相位差板。於該液晶顯示裝置之各層間亦可視需要設置接著劑層。
PDP係具備表面玻璃基板(於表面形成電極)及面對該表面玻璃基板並於中間封入放電氣體而配置之背面玻璃基板(於表面形成電極及微小溝槽，於溝槽內形成紅、綠、藍之螢光體層)而成者。於本發明之影像顯示裝置為PDP 之情形時，亦為於上述表面玻璃基板之表面或其前面板(玻璃基板或膜基板)具備上述光學積層體者。
其他影像顯示裝置係將施加電壓即發光之硫化鋅、二胺類物質：發光體蒸鍍至玻璃基板，控制施加於基板之電壓而進行顯示之ELD裝置，或將電氣訊號轉換為光而產生人眼可見之像的CRT等影像顯示裝置。於此情形時，於如上所述之各顯示裝置之最表面或其前面板之表面具備上述光學積層體。
本發明之光學積層體於任一情形時均可用於電視機、電腦等顯示器顯示。尤其是，可較佳地用於液晶面板、PDP、ELD、FED、觸控面板、電子紙等高畫質影像用顯示器之表面。
本發明之光學積層體係由上述之構成而成者，故而抗靜電性能及光學特性優異。
因此，本發明之防眩性可較佳地用於陰極射線管顯示裝置(CRT)、液晶顯示器(LCD)、電漿顯示器(PDP)、電致發光顯示器(ELD)等顯示器，尤其是高畫質化顯示器。
以下，舉出實施例及比較例而更詳細地說明本發明，但本發明並非僅限定於該等實施例及比較例。
再者，文中之「份」或「%」只要並無特別說明，則為質量基準。
(實施例1)
於C4106(Pelnox公司製造，UV硬化型導電性硬塗油 墨，固形物成分為約32%，五氧化二銻分散體)添加UV-7600B[日本合成化學工業公司製造，UV硬化型丙烯酸胺基甲酸酯/新戊四醇三丙烯酸酯(PETA，Pentaerythritol Triacrylate)=65/35(質量比)之混合體]及Irg 184(Ciba Japan公司製造，光聚合起始劑)，再利用下述混合溶劑以固形物成分成為45%之方式進行再調整而獲得硬塗層用組成物。將所得之硬塗層用組成物之調配比率示於表1。
混合溶劑：PGME/MEK/IPA/乙醯丙酮=65/24/5/6
PGME、MEK、IPA：The Inktec公司製造
乙醯丙酮：Daicel化學工業公司製造
將上述硬塗層用組成物以乾燥重量6g/m2、厚度3μm塗佈於A1598(東洋紡織公司製造，PET膜、厚度100μm)之易接著面而形成塗膜，利用烘箱於70℃加熱1分鐘而使該塗膜乾燥，對塗膜照射100mJ/cm2之紫外線使該塗膜硬化而製作硬塗層。
繼而，於形成之硬塗層上，以乾燥後(70℃×1分鐘)之膜厚為0.1μm之方式塗佈下述組成之低折射率層用組成物而形成塗膜。而且，使用紫外線照射裝置(Fusion UV Systems Japan公司製造，光源H型燈泡)，以照射量200mJ/cm2進行紫外線照射使該塗膜硬化，而獲得實施例1之光學積層體。上述膜厚係以反射率之極小值於波長550nm附近之方式進行調整。
(低折射率層用組成物)
中空狀處理二氧化矽微粒子(該二氧化矽微粒子之固
(實施例2)
除使用使UN904(根上工業公司製造，UV硬化型丙烯酸胺基甲酸酯/DPHA=80/20之混合體)與PET30(日本化藥公司製造，PETA)以質量比7：3混合而成者代替UV-7600B以外，以與實施例1相同之方式製作實施例2之光學積層體。
(實施例3)
除使用UV1700B(日本合成化學工業公司製造，UV硬化型丙烯酸胺基甲酸酯/DPHA=60/40之混合體)代替UV-7600B以外，以與實施例1相同之方式製作實施例3之光學積層體。
(實施例4)
除使用DPHA40H(日本化藥公司製造，UV硬化型丙烯酸胺基甲酸酯/DPHA=60/40之混合體)代替UV-7600B以外，以與實施例1相同之方式製作實施例4之光學積層體。
(實施例5)
除使用使UV-7600B(日本合成化學工業公司製造，UV硬化型丙烯酸胺基甲酸酯/PETA=65/35之混合體)與PETA以質量比60/40混合而成者代替UV-7600B以外，以與實施例1相同之方式製作實施例5之光學積層體。
(實施例6)
除使用使UV-7600B(日本合成化學工業公司製造，UV硬化型丙烯酸胺基甲酸酯/PETA=65/35之混合體)與M315(東亞合成公司製造，單體)以質量比60/40混合而成者代替UV-7600B以外，以與實施例1相同之方式製作實施例6之光學積層體。
(實施例7)
除將C4106之摻合量自33份增加至47份以外，以與實施例1相同之方式製作實施例7之光學積層體。
(實施例8)
除將C4106之摻合量自33份減少至12份以外，以與實施例1相同之方式製作實施例8之光學積層體。
(比較例1)
除使用UT-4660(日本合成化學工業公司製造，UV硬化型丙烯酸胺基甲酸酯/PETA=20/80之混合體)代替UV-7600B以外，以與實施例1相同之方式製作比較例1之光學積層體。
(比較例2)
除使用UV-7600B/PET30(日本化藥公司製造，PETA)=1/9之混合品代替UV-7600B以外，以與實施例1相同之方式製作比較例2之光學積層體。
(比較例3)
除使用PET30(日本化藥公司製造，PETA)代替UV-7600B以外，以與實施例1相同之方式製作比較例3之光學積層體。
(比較例4)
除使用DPHA(日本化藥公司製造，6官能單體)代替UV-7600B以外，以與實施例1相同之方式製作比較例4之光學積層體。
(比較例5)
除使用EBECRYL600(環氧丙烯酸酯，2官能，分子量500，Daicel-Cytec公司製造)代替UV-7600B以外，以與實施例1相同之方式製作比較例5之光學積層體。
(比較例6)
除使用M8030(東亞合成公司製造，聚酯丙烯酸酯)代替UV-7600B以外，以與實施例1相同之方式製作比較例6之光學積層體。
(比較例7)
除將C4106之摻合量自33份變更為5.5份以外，以與實施例1相同之方式製作比較例7之光學積層體。
(比較例8)
除將抗靜電材料自五氧化二銻變更為ATO以外，以與實施例1相同之方式製作比較例8之光學積層體。
(比較例9)
除將C4106之摻合量自33份增加為50.5份以外，以與實施例1相同之方式製作比較例9之光學積層體。
(比較例10)
除將C4106之摻合量自33份增加為78份以外，以與實施例1相同之方式製作比較例10之光學積層體。
(比較例11)
除使用UN904(根上工業公司製造，UV硬化型丙烯酸胺基甲酸酯/DPHA=80/20)之混合體)代替UV-7600B以外，以與實施例1相同之方式製作比較例11之光學積層體。
(比較例12)
除使用UXT6000(丙烯酸胺基甲酸酯，分子量6000，2官能，日本化藥公司製造)代替UV-7600B以外，以與實施例1相同之方式製作比較例12之光學積層體。
(比較例13)
除使用UX3204(丙烯酸胺基甲酸酯，分子量13000，2官能，日本化藥公司製造)代替UV-7600B方面以外，以與實施例1相同之方式而製備硬塗層用組成物，但五氧化二銻會凝聚而無法塗敷。
(比較例14)
使用甲苯代替混合溶劑而製備硬塗層用組成物，但五氧化二銻會凝聚而無法塗敷。
針對上述所得之光學積層體評價下述項目。將評價結果示於表2。
(表面電阻值測定)
利用三菱化學公司製造Hiresta IP MCP-HT260測定上述所得之光學積層體的表面電阻值，並利用下述基準進行評價。
◎：未達1×1011Ω/□
○：1×1011Ω/□以上且未達1×1012Ω/□
×：1×1012Ω/□以上
(霧度)
使PET基材面側黏著於玻璃，使用霧度計(村上色彩技術研究所製造，製品編號：HM-150)並藉由依據JIS K-7136之方法測定光學積層體的霧度。
(總透光率)
使用霧度計(村上色彩技術研究所製造，製品編號：HM-150)並藉由依據JIS K-7361之方法測定所得之光學積層體的總透光率。
(密合性)
對所得之光學積層體之硬塗層與透光性基材的密合性進行橫切(cross cut)棋盤格試驗，利用下述基準對剝離膠帶後殘存於透光性基材上之切割份數相對於原來之切割份數(100)的比進行評價。
○：90/100~100/100
△：50/100~89/100
×：0/100~49/100
(鉛筆硬度)
將各光學積層體於溫度25℃、相對濕度60%之條件進行2小時濕度控制後，使用JIS-S-6006規定之試驗用鉛筆(硬度HB~3H)，依照JISK5600-5-4(1999)規定之鉛筆硬度評價方法，於4.9N之荷重測定形成有硬塗層之表面的鉛筆硬度。再者，若鉛筆硬度為3H以上則判斷為良好。
(與低折射率層之密合性)
將各光學積層體之低折射率層之表面使用鋼絲絨(Steel Wool)#0000號(商品名：BON STAR，日本Steel Wool公司製造)於摩擦荷重300g/cm2往返摩擦10次，並於背面貼附黑膠帶，利用以下基準於三波長螢光燈下以目視進行評價。
○：無損傷
×：有損傷產生
根據表2，關於實施例之光學積層體，於硬塗層中五氧化二銻形成分散之三維網狀結構，又，抗靜電性優異且霧度亦良好。再者，將實施例1之光學積層體的硬塗層之剖面TEM照片示於圖1。圖1中所示之比例尺係1刻度為100nm。
另一方面，比較例1~7之光學積層體均為於硬塗層中五氧化二銻未形成分散之三維網狀結構，使得表面電阻值高且抗靜電性較差。再者，將比較例1之光學積層體的硬塗層之剖面TEM照片示於圖2。圖2中所示之比例尺係1刻度為100nm。
使用ATO作為抗靜電材料之比較例8的光學積層體，具有與實施例1之光學積層體同等的抗靜電性，但霧度稍高，總透光率、硬塗層與基材及低折射率層的密合性差。
五氧化二銻之摻合量較多之比較例9及10之光學積層體霧度及總透光率差，硬塗層與基材及低折射率層的密合性亦差。比較例10之光學積層體之硬塗層與透光性基材的密合性更差。
又，UV硬化型丙烯酸胺基甲酸酯之含量較多之比較例11之光學積層體之硬塗層與透光性基材的密合性差。
進而，UV硬化型丙烯酸胺基甲酸酯為2官能之比較例12之光學積層體之硬塗層與透光性基材的密合性差，又，硬塗層之硬度亦差。
[產業上之可利用性]
本發明之光學積層體適宜地用於液晶顯示器(LCD)、 電漿顯示器(PDP)、電致發光顯示器(ELD)、觸控面板、電子紙等高畫質化顯示器。
圖1係實施例1之光學積層體的硬塗層之剖面TEM照片。
圖2係比較例1之光學積層體的硬塗層之剖面TEM照片。

Claims (6)

  1. 一種光學積層體，具有透光性基材與於該透光性基材之至少一面上之硬塗層，其特徵在於：該光學積層體之霧度值為0.7%以下，該硬塗層含有：具有焦綠石(pyrochlore)型結構之五氧化二銻、及重量平均分子量為1000以上未達1萬且為6官能以上之(甲基)丙烯酸胺基甲酸酯寡聚物，具有焦綠石型結構之五氧化二銻之含量於硬塗層中為7~35質量%，(甲基)丙烯酸胺基甲酸酯寡聚物之含量於硬塗層之樹脂成分中為30~70質量%，該具有焦綠石型結構之五氧化二銻形成三維網狀結構而分散於硬塗層中。
  2. 如申請專利範圍第1項之光學積層體，其中，硬塗層進而含有選自新戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、二新戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、新戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、及三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯構成之群中的至少1種。
  3. 如申請專利範圍第2項之光學積層體，其中，硬塗層於樹脂成分中含有30~70質量%之新戊四醇三(甲基)丙烯酸酯及/或二新戊四醇六(甲基)丙烯酸酯。
  4. 如申請專利範圍第1、2或3項之光學積層體，其中，於硬塗層上進而具有低折射率層。
  5. 一種偏光板，具備偏光元件而成，其特徵在於：於偏光元件表面具備申請專利範圍第1、2、3或4項之光學積 層體。
  6. 一種影像顯示裝置，具備申請專利範圍第1、2、3或4項之光學積層體、或申請專利範圍第5項之偏光板。
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