CN103443661A - 光学层叠体、偏振片和图像显示装置 - Google Patents

光学层叠体、偏振片和图像显示装置 Download PDF

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Abstract

本发明提供具有优异抗静电性能和光学特性的光学层叠体。本发明是一种光学层叠体，其具有透光性基材，在所述透光性基材的至少一侧的面上具有硬涂层，所述硬涂层含有五氧化二锑和聚氨酯树脂，所述五氧化二锑分散在硬涂层中形成三维网状结构。

Description

光学层叠体、偏振片和图像显示装置
技术领域
本发明涉及光学层叠体、偏振片和图像显示装置。
背景技术
在阴极射线管显示装置(CRT)、液晶显示屏(LCD)、等离子体显示屏(PDP)、电致发光显示屏(ELD)、场发射显示屏(FED)、触摸屏、平板电脑、电子纸等图像显示装置的最外表面设有光学层叠体，光学层叠体是由具有防眩性、防反射性、抗静电性等各种性能的功能层形成的。
作为这样的光学层叠体的基材，已经使用了透明性和硬度性优异的丙烯酸系树脂等塑料基材。然而，这样的塑料基材因其绝缘特性高而容易产生静电，因尘埃等的附着而引起污染，不仅在使用时，在显示器制造工序中也存在因产生静电而引起故障的问题。
为了防止上述静电，以往在上述光学层叠体的一部分设置含有抗静电剂的抗静电层。
作为上述抗静电剂，已知有π共轭导电性有机化合物、铝或铜等金属单质或合金、掺杂了锑的氧化锡(ATO)或掺杂了锡的氧化铟(ITO)等金属氧化物系的导电性超微颗粒、有机导电聚合物、季铵盐系等的导电性微粒(专利文献1～5)。
然而，在使用上述抗静电剂时，如果想要提高光学层叠体的导电性，则不得不增加抗静电剂的添加量，因而光学层叠体的雾度增大而透光性下降，存在无法得到充分的光学特性的问题。
现有技术文献
专利文献
专利文献1日本特开平5-339306号公报
专利文献2日本特开平11-42729号公报
专利文献3日本特开2002-3751号公报
专利文献4日本特开2004-338379号公报
专利文献5日本特开2005-154749号公报
发明内容
发明要解决的问题
鉴于上述现状，本发明目的为提供具有抗静电性能以及透光性和低雾度等光学特性、并且硬度和密合性均优异的光学层叠体。
用于解决问题的手段
本发明为一种光学层叠体，其具有透光性基材，在所述透光性基材的至少一侧的面上具有硬涂层，其特征在于，所述硬涂层含有五氧化二锑和官能度为6以上的氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯低聚物，所述五氧化二锑在硬涂层中的含量为15质量%～70质量%，所述氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯低聚物在硬涂层的树脂成分中的含量为30质量%～70质量%，所述氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯低聚物的重均分子量为1000以上且低于1万，所述五氧化二锑分散在硬涂层中形成三维网状结构。
上述硬涂层进一步优选含有选自季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯组成的组中的至少1种。
另外，上述硬涂层优选在其树脂成分中含有30质量%～70质量%的季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯的固化物和/或二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯。
本发明的光学层叠体优选在上述硬涂层上进一步具有低折射率层。
本发明还涉及具备偏振元件的偏振片，其特征在于，所述偏振片在偏振元件表面具备上述的光学层叠体。
本发明还涉及图像显示装置，其特征在于，其具备上述的光学层叠体或上述的偏振片。
下面详细说明本发明。
本发明为一种光学层叠体，其具有透光性基材，在所述透光性基材的至少一侧的面上具有硬涂层，其特征在于，所述硬涂层按照规定量含有五氧化二锑和特定的氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯低聚物，所述五氧化二锑以特定状态分散在所述硬涂层中。因此，本发明的光学层叠体具有优异的抗静电性能，且雾度低，透光性和硬度也优异。
本发明的光学层叠体的硬涂层含有五氧化二锑和氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯低聚物，所述五氧化二锑分散在硬涂层中形成三维网状结构。
上述三维网状结构是指如下状态：五氧化二锑以可以相互导通的程度连续地邻接并分散，在光学层叠体的截面可观察到其以网状存在。五氧化二锑以上述特定状态分散存在于硬涂层中，所以即使五氧化二锑的添加量少，本发明的光学层叠体也可以发挥优异的抗静电性能。
需要说明的是，上述三维网状结构可以通过利用TEM等对上述硬涂层的厚度方向截面进行观察来进行确认。例如本发明的光学层叠体的情况下，在硬涂层的厚度方向截面的TEM观察中观察到大量五氧化二锑相邻接且稠密的区域(密集区域)和几乎不存在五氧化二锑的区域(稀疏区域)；与此相对，在上述五氧化二锑未形成三维网状结构时，在截面的TEM观察中可观察到五氧化二锑为大致均匀的分散状态。但是，对于本发明的光学层叠体，在硬涂层截面的TEM观察中的上述稀疏区域中，该硬涂层所含有的五氧化二锑的上述导通并未被切断，在截面上，五氧化二锑以即使在截面上未出现五氧化二锑的部分中也以能够相互导通的程度连续地邻接并分散。
即，本发明的光学层叠体中，硬涂层的厚度方向截面的每单位面积中五氧化二锑所占的截面积不均匀；与此相对，在上述五氧化二锑未形成三维网状结构时，硬涂层的厚度方向截面的每单位面积中五氧化二锑所占的截面积大致均匀。具体来说，例如在使硬涂层中的五氧化二锑的含量为后述的范围、并且在上述硬涂层的厚度方向截面的TEM观察中任意地选择10处500nm×500nm的区域时，各区域中五氧化二锑所占的截面积的比例为：在最低的区域中为1%～15%，在最高的区域中为60%～80%。与此相对，对于与上述相同量的五氧化二锑未形成三维网状结构的硬涂层，若同样地求出上述各区域中五氧化二锑所占的截面积的比例，则该比例在全部区域中为20%～50%。
进一步，上述五氧化二锑在硬涂层中形成了上述三维网状结构，由此可以降低上述硬涂层的表面电阻率(例如硬涂层中的五氧化二锑的含量为后述范围时，所述表面电阻率低于1×1012Ω/□)。另一方面，在例如均匀分散有与本发明中的五氧化二锑相同量的抗静电剂的硬涂层、和形成了凝集体但未形成上述三维网状结构的硬涂层中得不到如此低的表面电阻率。
另外，在本发明中，即使作为抗静电剂的五氧化二锑的添加量少，也可以赋予优异的抗静电性能，因而可以在对雾度和透光性不产生影响的条件下形成光学特性优异的光学层叠体。
以下对本发明的光学层叠体的构成进行说明。
＜硬涂层＞
本发明的光学层叠体具有硬涂层。
上述硬涂层含有五氧化二锑和氨基甲酸酯树脂。另外，在上述硬涂层中，上述五氧化二锑如上所述以形成三维网状结构的方式分散。因此，本发明的光学层叠体的抗静电性能和光学特性优异。
需要说明的是，在本说明书中，只要没有特殊的说明，上述硬涂层表示固化了的涂膜层。
对于上述五氧化二锑没有特别的限定，但从导电性高、少量添加即可适当地赋予抗静电性能方面考虑，优选具有焦绿石型结构的五氧化二锑。
需要说明的是，上述焦绿石型结构是指五氧化二锑构成正四面体、以共有各正四面体的顶点的方式进行三维连接的结构。
上述五氧化二锑因分子中含有水分子而有高亲水性，而上述氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯低聚物有高疏水性，因此五氧化二锑和氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯低聚物的相容性差而容易发生凝集。另一方面，具有上述焦绿石型结构的上述五氧化二锑具有离子传导性的性质，因而容易形成上述三维网状结构。
上述五氧化二锑的平均一次粒径优选为10nm～100nm。若低于10nm，则有可能无法形成上述三维网状结构。若超过100nm，则不能引起适度的凝集，有可能无法形成上述三维网状结构、或者凝集块变大而使雾度增加。上述平均一次粒径更优选为30nm～70nm。
需要说明的是，上述平均一次粒径为通过外差法进行测定而得到的值。
上述五氧化二锑在硬涂层中的含量为7质量%～35质量%。若低于7质量%，则不能构成三维网状结构，抗静电性能不足。若超过35质量%，则雾度增加、或者硬涂层对透光性基材的密合性下降。上述五氧化二锑在硬涂层中的含量优选为10质量%～30质量%。
对于上述氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯低聚物没有特别的限定，可以举出公知的由多元醇与有机聚异氰酸酯的反应而得到的物质。
作为上述多元醇，例如可以举出新戊二醇、3-甲基-1,5-戊烷二醇、乙二醇、丙二醇、1,4-丁二醇、1,6-己二醇、三羟甲基丙烷、季戊四醇、三环癸烷二甲醇、双-[羟基甲基]-环己烷等；由上述多元醇与多元酸(例如琥珀酸、邻苯二甲酸、六氢邻苯二甲酸酐、对苯二甲酸、己二酸、壬二酸、四氢邻苯二甲酸酐等)的反应而得到的聚酯多元醇；由上述多元醇与ε-己内酯的反应而得到的聚己内酯多元醇；聚碳酸酯多元醇(例如由1,6-己二醇与碳酸二苯酯的反应而得到的聚碳酸酯二醇等)；以及聚醚多元醇。作为上述聚醚多元醇，可以举出聚乙二醇、聚丙二醇、聚丁二醇、环氧乙烷改性双酚A等。
另外，作为上述有机多异氰酸酯，可以举出例如异佛尔酮二异氰酸酯、六甲撑二异氰酸酯、甲苯二异氰酸酯、二甲苯二异氰酸酯、4,4’-二苯基甲烷二异氰酸酯、二环戊基异氰酸酯等。
其中，上述氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯低聚物优选为由上述多元醇及有机多异氰酸酯、与羟基(甲基)丙烯酸酯化合物的反应而得到的氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯低聚物。需要说明的是，在本说明书中，“(甲基)丙烯酸酯”表示丙烯酸酯和甲基丙烯酸酯。
作为上述羟基(甲基)丙烯酸酯化合物，可以举出例如季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇二(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸羟乙酯、(甲基)丙烯酸羟丙酯、(甲基)丙烯酸羟丁酯、单(甲基)丙烯酸二羟甲基环己酯、羟基己内酯(甲基)丙烯酸酯等。
其中，从硬度方面考虑，优选为季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯。
上述氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯低聚物的重均分子量为1000以上且小于1万。若小于1000，则不能构成基于五氧化二锑的三维网状结构，抗静电性能不足。若重均分子量为1万以上，则五氧化二锑在用于形成硬涂层的组合物的阶段发生凝集，无法使其分散从而无法进行该组合物的涂布。上述重均分子量优选为1000以上、7000以下。
需要说明的是，上述重均分子量是通过渗透色谱法(GPC)法(聚苯乙烯换算)而得到的值。
上述氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯低聚物的官能度为6以上。若上述氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯低聚物的官能度小于6，则硬涂层的硬度降低，其与透光性基材的密合性也变差。上述氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯低聚物的官能基数的优选下限为6、优选上限为20。
也可以使用市售品作为上述氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯低聚物。作为在本发明中可以用作上述氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯低聚物的市售品，可以举出例如日本合成化学工业株式会社制造的UV1700B(重均分子量为2000、官能度为10)、UV7600B(重均分子量为1500、官能度为6)；日本化药株式会社制造的DPHA40H(重均分子量为7000、官能度为10)、UX5000(重均分子量为1000、官能度为6)、UX5003(重均分子量为7000、官能度为6)；根上工业株式会社制造的UN3320HS(重均分子量为5000、官能度为15)、UN904(重均分子量为4900、官能度为15)、UN3320HC(重均分子量为1500、官能度为10)、UN3320HA(重均分子量为1500、官能度为6)；荒川化学工业株式会社制造的BS577(重均分子量为1000、官能度为6)；以及新中村化学工业株式会社制造的U15HA(重均分子量为2000、官能度为15)等。
其中，从抗静电性能、硬度、与基材的密合优异的方面考虑，优选UV1700B、DPHA40H、UV7600B、BS577、BS577CP、UX5000。
进一步，从耐久试验后的硬涂层与透光性基材的密合性能方面考虑，更优选为UV1700B、DPHA40H。
上述氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯低聚物在硬涂层的树脂成分中的含量为30质量%～70质量%。若低于30质量%，则氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯低聚物少，因此用于形成硬涂层的组合物的粘度低，无法形成上述五氧化二锑的三维网状结构，本发明的光学层叠体的抗静电性能变差。若超过70质量%，则上述组合物粘度增加，将无法形成硬涂层。
上述氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯低聚物在硬涂层的树脂成分中的含量更优选为30质量%～50质量%。
另外，上述硬涂层还可以含有上述氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯低聚物以外的树脂。
作为上述氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯低聚物以外的树脂，可以举出例如：作为藉由紫外线或电子射线而固化的树脂的电离射线固化型树脂、电离射线固化型树脂与溶剂干燥型树脂(热塑性树脂等仅通过对在涂布时为调整固含量而添加的溶剂进行干燥即可形成覆膜这样的树脂)的混合物；或热固化型树脂。更优选为电离射线固化型树脂。需要说明的是，在本说明书中，“树脂”为还包括单体、低聚物等树脂成分的概念。
作为上述电离射线固化型树脂，可以举出例如具有丙烯酸酯系官能团的化合物等具有1个或2个以上不饱和键的化合物。作为具有1个不饱和键的化合物，例如，可以举出(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸乙基己酯、苯乙烯、甲基苯乙烯、N-乙烯基吡咯烷酮等。作为具有2个以上不饱和键的化合物，可以举出例如多羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、己二醇(甲基)丙烯酸酯、三丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、二乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、1,6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯等多官能团化合物；以及上述多官能团化合物与(甲基)丙烯酸酯等的反应产物(例如多元醇的聚(甲基)丙烯酸酯)；上述多官能团化合物的改性物；等等。
另外，作为上述电离射线固化型树脂，也可以使用具有不饱和双键的分子量比较低的聚酯树脂、聚醚树脂、丙烯酸系树脂、环氧树脂、醇酸树脂、螺缩醛树脂、聚丁二烯树脂、多硫醇-多烯树脂等。
对于可作为粘结剂树脂含有的上述氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯低聚物以外的树脂来说，从耐擦伤性、耐溶剂性优异且可形成强韧的固化涂膜的方面考虑，具体来说，优选三环癸烷二甲醇二丙烯酸酯、(乙氧基化)双酚A二丙烯酸酯、(丙氧基化)双酚A二丙烯酸酯、环己烷二甲醇二丙烯酸酯、(聚)乙二醇二丙烯酸酯、(乙氧基化)1,6-己二醇二丙烯酸酯、(丙氧基化)1,6-己二醇二丙烯酸酯、(乙氧基化)新戊二醇二丙烯酸酯、(丙氧基化)新戊二醇二丙烯酸酯、羟基特戊酸新戊二醇二丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、环氧乙烷改性三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、环氧丙烷改性三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、三(丙烯酰氧乙基)异氰脲酸酯、己内酯改性三(丙烯酰氧乙基)异氰脲酸酯、三羟甲基乙烷三(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、烷基改性二季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、烷基改性二季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、烷基改性二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、己内酯改性二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、1,2,3-环己烷四(甲基)丙烯酸酯等多元醇与(甲基)丙烯酸的酯化合物；聚氨酯(甲基)丙烯酸酯、聚酯聚(甲基)丙烯酸酯、聚醚聚(甲基)丙烯酸酯、聚丙烯酰基(甲基)丙烯酸酯、聚醇酸聚(甲基)丙烯酸酯、聚环氧聚(甲基)丙烯酸酯、聚螺缩醛聚(甲基)丙烯酸酯、聚丁二烯聚(甲基)丙烯酸酯、聚硫醇聚烯聚(甲基)丙烯酸酯、聚硅聚(甲基)丙烯酸酯等高官能度的聚(甲基)丙烯酸酯化合物。
其中，上述硬涂层更优选进一步含有选自季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯和三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯组成的组中的至少1种化合物。
上述氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯低聚物以外的树脂在硬涂层中的含量优选为30质量%～70质量%。若低于30质量%，则硬涂层的膜质地软，有可能容易产生伤痕。另外，硬涂层与透光性基材的密合性有可能变差。若超过70质量%，有可能发挥不出抗静电性能(不能形成上述五氧化二锑的三维网状结构)。另外，在硬涂层之上层叠其他层时，层间的密合性有可能变差。
上述氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯低聚物以外的树脂在硬涂层中的含量更优选为50质量%～70质量%。
除了上述五氧化二锑、氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯低聚物和氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯低聚物以外的树脂之外，上述硬涂层也可以按照需要含有其他成分。作为上述其他成分，可以举出光聚合引发剂、流平剂、聚合促进剂、紫外线吸收剂、抗氧化剂、折射率调整剂等。
上述硬涂层优选层厚度为0.5μm～8μm。若小于0.5μm，则铅笔硬度和耐划伤性有时会变差。另外，每单位面积的颗粒总量减少，因此抗静电性有可能会变差。若超过8μm，则雾度增加，总光线透过率降低，有时会产生翘曲或开裂；另外，制造成本也会上升。
上述层厚度更优选为1μm～4μm。
上述硬涂层可以使用硬涂层用组合物来形成，所述硬涂层用组合物如下制备：将上述五氧化二锑、氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯低聚物以及必要的氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯低聚物以外的树脂和其他成分混合分散到溶剂中而成。
作为上述溶剂，可以举出醇(例如甲醇、乙醇、丙醇、异丙醇、正丁醇、仲丁醇、叔丁醇、苯甲醇、PGME、乙二醇)、酮(例如丙酮、甲基乙基酮、甲基异丁基酮、环戊酮、环己酮、庚酮、二异丁基酮、二乙基酮)、脂肪族烃(例如己烷、环己烷)、卤代烃(例如二氯甲烷、氯仿、四氯化碳)、芳香族烃(例如苯、甲苯、二甲苯)、酰胺(例如二甲基甲酰胺、二甲基乙酰胺、N-甲基吡咯烷酮)、醚(例如二乙醚、二氧六环、四氢呋喃)、酯(例如乙酸甲酯、乙酸乙酯、乙酸丁酯、PGMEA)等。
其中，作为上述溶剂，从对五氧化二锑的分散性良好的方面考虑，优选PGME。在上述溶剂中所含有的上述PGME优选为15质量%以上。
对于上述混合分散的方法没有特别的限定，可以使用公知的方法，可以使用涂料摇摆器、珠磨机、捏合机等公知的装置来进行混合分散。
对于上述硬涂层，可以将上述硬涂层用组合物涂布在后述的透光性基材上来形成涂膜，并根据需求对该涂膜进行干燥后，使上述涂膜固化，由此来形成该硬涂层。
作为上述涂布的方法，可以举出例如旋涂法、浸渍法、喷雾法、模涂法、棒涂法、辊涂法、弯月面涂布法、苯胺印刷法、丝网印刷法、液滴涂布法等各种公知的方法。
对于上述干燥方法来说，优选在50℃～100℃进行15秒～120秒。
使上述涂膜固化的方法根据上述组合物的内容等酌情选择即可。例如，若上述组合物为紫外线固化型，则可以通过对涂膜照射紫外线来进行固化。
对于如此形成的硬涂层来说，五氧化二锑形成三维网状结构而分散。其原因尚不明确，但是推测是由于如下原因：如上所述，选择具有焦绿石结构的五氧化二锑作为硬涂层用组合物中的五氧化二锑，由此其与氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯低聚物的相容性变差从而容易发生凝集，而该具有焦绿石结构的五氧化二锑具有离子传导性的性质，因而容易形成上述三维网状结构。
如上所述，本发明的光学层叠体中的硬涂层由含有五氧化二锑和氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯低聚物的特定成分构成，该硬涂层中，五氧化二锑以形成三维网状结构而分散的状态存在。因而，可以形成抗静电性能、光学特性和硬度优异的光学层叠体。另外，对于如此而得到的硬涂层来说，较少的高折射率材料(锑)的添加量即可解决问题。
＜透光性基材＞
本发明的光学层叠体具有透光性基材。
作为上述透光性基材，优选透光率高并具备平滑性、耐热性且机械强度优异的透光性基材。
作为形成上述透光性基材的材料的具体例，可以举出聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚萘二甲酸乙二醇酯、聚对苯二甲酸丁二醇酯、聚萘二甲酸丁二醇酯、三乙酰纤维素(TAC)、二乙酸纤维素、乙酸丁酸纤维素、聚酰胺、聚酰亚胺、聚醚砜、聚砜、聚丙烯(PP)、环烯烃聚合物(COP)、环烯烃共聚物(COC)、聚甲基戊烯、聚氯乙烯、聚乙烯基缩醛、聚醚酮、聚甲基丙烯酸甲酯、聚碳酸酯或者聚氨酯等热塑性树脂。优选可以举出聚对苯二甲酸乙二醇酯。
上述透光性基材的厚度优选为4μm～300μm，更优选下限为5μm、上限为200μm。
为了提高与在其上形成的层的粘接性，除了电晕放电处理、皂化、氧化处理等物理性的处理之外，还可以对上述透光性基材预先进行锚定剂或底层涂料等涂料的涂布。
＜低折射率层＞
本发明的光学层叠体进一步优选具有低折射率层。
通过形成上述低折射率层，可以得到抗反射性能优异的光学层叠体。
上述低折射率层优选具有比上述硬涂层更低的折射率。根据本发明的优选实施方式，上述硬涂层的折射率为1.5以上，而上述低折射率层的折射率为小于1.5。上述硬涂层的折射率更优选为1.55以上，进一步优选为1.58以上。上述低折射率层的折射率更优选为1.42以下，进一步优选为1.37以下。
上述低折射率层优选由下述物质中的任意一种构成：1)含有二氧化硅或氟化镁的树脂；2)作为低折射率树脂的氟系树脂；3)含有二氧化硅或氟化镁的氟系材料；4)二氧化硅或氟化镁薄膜；等等。
上述氟系材料是指分子中至少包含氟原子的聚合性化合物或其聚合物。对于上述聚合性化合物没有特别限定，优选例如具有受电离射线作用而固化的官能团(电离射线固化性基团)、热固化的极性基团(热固化极性基团)等固化反应性的基团的化合物。另外，也可以是同时兼具这些反应性基团的化合物。
作为含氟原子且具有电离射线固化性基团的聚合性化合物，可以广泛使用具有烯键式不饱和键的含氟单体。更具体地说，可以例示氟代烯烃类(例如氟乙烯、偏氟乙烯、四氟乙烯、六氟丙烯、全氟丁二烯、全氟-2,2-二甲基-1,3-间二氧杂环戊烯等)。作为具有(甲基)丙烯酰氧基的聚合性化合物，还包括(甲基)丙烯酸2,2,2-三氟乙酯、(甲基)丙烯酸2,2,3,3,3-五氟丙酯、(甲基)丙烯酸2-(全氟丁基)乙酯、(甲基)丙烯酸2-(全氟己基)乙酯、(甲基)丙烯酸2-(全氟辛基)乙酯、(甲基)丙烯酸2-(全氟癸基)乙酯、α-三氟甲基丙烯酸甲酯、α-三氟甲基丙烯酸乙酯那样的分子中具有氟原子的(甲基)丙烯酸酯化合物；分子中具有至少带3个氟原子的碳原子数为1～14的氟代烷基、氟代环烷基或氟代亚烷基与具有至少2个(甲基)丙烯酰氧基的含氟多官能(甲基)丙烯酸酯化合物；等等。
作为含有氟原子且具有热固化性极性基团的聚合性化合物，例如，可以例示出4-氟乙烯-全氟烷基乙烯基醚共聚物；氟乙烯-烃类乙烯基醚共聚物；环氧、聚氨酯、纤维素、苯酚、聚酰亚胺等各树脂的氟改性物等。作为上述热固化极性基团，优选可以举出例如羟基、羧基、氨基、环氧基等可形成氢键的基团。这些基团不仅与涂膜的密合性优异，与二氧化硅等无机超微粒的亲和性也优异。
作为兼具上述电离射线固化性基团和热固化性极性基团的聚合性化合物(氟系树脂)，可以例示丙烯酸或甲基丙烯酸的部分和完全氟代烷基酯、链烯基酯、芳基酯类、完全或部分氟化乙烯基醚类、完全或部分氟化乙烯基酯类、完全或部分氟化乙烯基酮类等。
作为含氟原子的上述聚合性化合物的聚合物，例如可以举出含有至少一种具有上述电离射线固化性基团的聚合性化合物的含氟(甲基)丙烯酸酯化合物的的单体或单体混合物的聚合物；含氟(甲基)丙烯酸酯化合物的至少一种与(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸丙酯、(甲基)丙烯酸丁酯、(甲基)丙烯酸-2-乙基己酯那样的分子中不含氟原子的(甲基)丙烯酸酯化合物的共聚物；氟乙烯、偏氟乙烯、三氟乙烯、三氟氯乙烯、3,3,3-三氟丙烯、1,1,2-三氯-3,3,3-三氟丙烯、六氟丙烯那样的含氟单体的均聚物或共聚物；等等。
另外，也可以将这些共聚物中含有有机硅成分的含有机硅偏氟乙烯共聚物用作上述聚合性化合物的聚合物。作为该情况下的有机硅成分，可以例示出(聚)二甲基硅氧烷、(聚)二乙基硅氧烷、(聚)二苯基硅氧烷、(聚)甲基苯基硅氧烷、烷基改性(聚)二甲基硅氧烷、含偶氮基的(聚)二甲基硅氧烷、二甲基有机硅、苯基甲基有机硅、烷基/芳烷基改性有机硅、氟有机硅、聚醚改性有机硅、脂肪酸酯改性有机硅、甲基含氢有机硅、含硅烷醇基的有机硅、含烷氧基的有机硅、含苯酚基的有机硅、甲基丙烯酸改性有机硅、丙烯酸改性有机硅、氨基改性有机硅、羧酸改性有机硅、甲醇改性有机硅、环氧改性有机硅、巯基改性有机硅、氟改性有机硅、聚醚改性有机硅等。其中优选具有二甲基硅氧烷结构的有机硅成分。
除上述外，进一步，作为氟系树脂可以使用使分子中具有至少1个异氰酸酯基的含氟化合物与分子中具有至少1个与异氰酸酯基反应的官能团(例如，氨基、羟基、羧基等)的化合物反应而得到的化合物；使含氟聚醚多元醇、含氟烷基多元醇、含氟聚酯多元醇、含氟ε-己内酯改性多元醇等含氟多元醇与具有异氰酸酯基的化合物反应而得到的化合物；等等。
在形成低折射率层时，例如可以使用含有原料成分的组合物(折射率层用组合物)来形成。更具体来说，将原料成分(树脂等)和必要的添加剂（例如后述的“具有空隙的微粒”、聚合引发剂、抗静电剂、防污剂、防眩剂等）在溶解或分散在溶剂中，将所得到的溶液或分散液作为低折射率层用组合物，利用上述组合物形成涂膜，使上述涂膜固化，由此可以得到低折射率层。需要说明的是，聚合引发剂、抗静电剂、防污剂、防眩剂等添加剂可以使用公知的物质。另外，通过添加有机抗静电剂可以赋予抗静电性能。
作为上述溶剂，可以举出与在上述的硬涂层的形成中可以使用的溶剂相同的溶剂。其中，优选甲基异丁基酮(MIBK)、甲基乙基酮(MEK)、异丙醇(IPA)、正丁醇、仲丁醇、叔丁醇、丙二醇单甲醚(PGME)、丙二醇单甲醚乙酸酯(PGMEA)。
上述低折射率层用组合物的制备方法只要能够均匀地混合成分即可，可以依照公知的方法实施。例如可以在上述硬涂层的形成中使用上述公知的装置进行混合分散。
低折射率的形成方法依照公知的方法即可。例如可以在上述硬涂层的形成中使用上述各种方法。
在上述低折射率层中，优选利用“具有空隙的微粒”作为低折射率剂。“具有空隙的微粒”可以保持低折射率层的层强度，同时降低其折射率。本发明中，“具有空隙的微粒”是指如下微粒：形成在微粒的内部填充有气体的结构和／或包含气体的多孔质结构体，相比于微粒原本的折射率，其折射率与微粒中的气体的占有率成反比例地降低。另外，本发明中也可含有如下微粒：因微粒的形态、结构、凝集状态、在覆膜内部的微粒的分散状态而能够在内部和/或表面的至少一部分中形成纳米多孔结构的颗粒。使用了该微粒的低折射率层能够将折射率调节至1.25～1.42。
作为具有空隙的无机系微粒，可以举出根据例如日本特开2001-233611号公报所述的方法制备的氧化硅微粒。另外，也可以为根据日本特开平7-133105号公报、日本特开2002-79616号公报、日本特开2006-106714号公报等所述的制法得到的氧化硅微粒。具有空隙的氧化硅微粒制造容易且其自身的硬度高，因此在与粘合剂混合来形成低折射率层时，其层强度得以提高，并且能够将折射率调整至1.20～1.45左右的范围内。作为具有空隙的有机系微粒的具体示例，特别优选可以举出使用日本特开2002－80503号公报所公开的技术制备的中空聚合物微粒。
作为在能够在覆膜的内部和/或表面的至少一部分中形成纳米多孔结构的颗粒，除了上述的氧化硅颗粒还可以举出如下颗粒：以增大比表面积为目的而制造的、使各种化学物质吸附在柱和表面的多孔质部位的填充用缓释材料、用于固定催化剂的多孔质微粒；或以加入到绝热材料或低介电材料中作为目的的中空微粒分散体或凝集体。作为如上所述的具体物质，作为市售品能够利用选自日本silica工业株式会社制造的商品名为Nipsil或Nipgel中的多孔质氧化硅的集合体、选自日产化学工业株式制造的具有氧化硅微粒链状连接结构的colloidal silica UP series(商品名)中的处于本发明的优选粒径范围内的产品。
“具有空隙的微粒”的平均粒径优选为5nm以上且300nm以下，更优选下限为5nm且上限为100nm，进一步优选下限为10nm且上限为80nm。微粒的平均粒径在该范围内，由此能够赋予低折射率层以优异的透明性。需要说明的是，上述平均粒径为通过动态光散射法测定的值。在上述低折射率层中，相对于100质量份的基体树脂，“具有空隙的微粒”通常为0.1质量份～500质量份的程度，优选为10质量份～200质量份的程度。
在低折射率的形成中，上述低折射率层用组合物的粘度的范围优选为能够得到良好涂布性的0.5cps～5cps(25℃)，更优选为0.7cps～3cps(25℃)。通过使粘度为上述范围，可以实现可见光线优异的防反射膜，并且可以形成均匀且无涂布不均的薄膜，并且可以形成针对基材的密合性特别优异的低折射率层。
树脂的固化手段可以与在上述硬涂层中说明过的手段相同。在为了固化处理而利用光照射单元的情况下，优选将光聚合引发剂添加到氟类树脂组合物中，所述光聚合引发剂通过光照射而产生例如自由基，从而引发聚合性化合物的聚合。
低折射率层的膜厚(nm)dA优选满足下式(I)。
dA＝mλ/(4nA)    (I)
(在上述式中，nA表示低折射率层的折射率；m表示正的奇数、优选表示1；λ为波长并且优选为480nm～580nm的范围的值)
另外，本发明中从低反射率化方面考虑，低折射率层优选满足下述式(II)：
120＜nAdA＜145    (II)
＜其他层＞
除了上述透光性基材、硬涂层和低折射率层之外，上述光学层叠体也可以具有其他任意的层。作为上述任意的层，可以举出防眩层、防污层、高折射率层、中折射率层、抗静电层等。这些层可以通过将公知的防眩剂、低折射率剂、高折射率剂、抗静电剂、防污剂等与树脂及溶剂等进行混合，由公知的方法来形成。其中，优选进一步形成防污层。
＜光学层叠体＞
本发明的光学层叠体优选在基于JIS K5600-5-4(1999)的铅笔硬度试验(负荷4.9N)中为H以上，更优选为2H以上，进一步优选为3H以上。
本发明光学层叠体的表面电阻率优选为1012Ω/□以下。
若超过1012Ω/□，则有可能无法实现目标抗静电性能。上述表面电阻率更优选为1011Ω/□以下、进一步优选为1010Ω/□以下。
上述表面电阻率是利用表面电阻率测定仪(三菱化学株式会社制造、产品编号：Hiresta IP MCP-HT260)测定得到的值。
本发明的光学层叠体的总光线透过率优选为90%以上。若小于90%，则在将本发明的光学层叠体安装于图像显示装置的表面的情况下，有可能损害色彩再现性或视认性。上述总光线透过率更优选为95％以上。
上述总光线透过率可以使用雾度计(村上色彩技术研究所制造，产品型号；HM-150)，通过基于JIS K-7361的方法进行测定。
本发明光学层叠体的雾度优选为0.7%以下。若超过0.7%，则在安装于显示屏表面的情况下，透光性可能会下降、或者视认性可能会受损，此外可能得不到所期望的对比度。上述雾度的范围更优选为0.2%～0.7%。
上述雾度可以通过使用雾度计(村上色彩技术研究所制造，产品型号；HM-150)，通过基于JIS K-7136的方法来测定。
作为制造本发明的光学层叠体的方法，可以举出如下方法：使用硬涂层用组合物在透光性基材上形成硬涂层，使用低折射率层用组合物在所形成的硬涂层上形成低折射率层的方法。
上述硬涂层用组合物和硬涂层可以通过与上述材料或形成方法相同的材料和形成方法来得到。
另外，上述低折射率层用组合物和低折射率层也可以通过与上述材料或形成方法相同的材料和形成方法来得到。
＜偏振片及图像显示装置＞
在偏振元件的表面设置本发明的光学层叠体，将上述光学层叠体的、透光性基材的与存在硬涂层的面相反一侧的面侧设置在偏振元件的表面，从而可以形成偏振片。这样的偏振片也是本发明之一。
作为上述偏振元件没有特别限定，例如可以使用经碘等染色并进行了拉伸的聚乙烯醇膜、聚乙烯基甲醛膜、聚乙烯基缩乙醛膜、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物系皂化膜等等。在上述偏振元件和上述光学层叠体的层积处理中，优选对透光性基材进行皂化处理。通过皂化处理，粘接性变好，还可以得到抗静电效果。另外，还可以使用粘着剂使其粘接。作为上述粘着剂，例如，可以举出丙烯酸系粘着剂、聚氨酯粘着剂、有机硅系粘着剂或者水系粘着剂等。
本发明的光学层叠体和上述偏振片可以设置于图像显示装置。这样的图像显示装置也是本发明之一。
上述图像显示装置可以举出LCD、PDP、FED、ELD(有机EL、无机EL)、CRT、触摸屏、电子纸、平板电脑等。
LCD具备透过性显示体以及从背面对上述透过性显示体进行照射的光源装置。本发明的图像显示装置为LCD时，在该透过性显示体的表面上形成有上述光学层叠体或上述偏振片。
在为具有本发明光学层叠体的液晶显示装置时，光源装置的光源从光学层叠体的透光性基材侧照射。另外，在STN型、VA型、IPS型的液晶显示装置中，可以在液晶显示元件与偏振片之间插入相位差板。在该液晶显示装置的各层间可以根据需求设置粘结剂层。
PDP具备表面玻璃基板(在表面形成电极)和背面玻璃基板(在表面形成电极和微小的槽，在槽内形成有红、绿、蓝的荧光体层)，该背面玻璃基板是与该表面玻璃基板相对向并在之间封入有放电气体而配置的。本发明的图像显示装置为PDP时，其也为在上表面玻璃基板的表面或其前面板(玻璃基板或膜基板)上具备上述光学层叠体的装置。
其它图像显示装置可以为ELD装置或CRT等图像显示装置，ELD装置是在玻璃基板上蒸镀施加电压时会发光的硫化锌、二胺类物质等发光体并控制施加至基板的电压来进行显示的装置；CRT是将电信号转换为光，产生人眼可见的图像的装置。这种情况下，在上述各显示装置的最外表面或其前面板的表面上具备上述光学层叠体。
在任意情况下，本发明的光学层叠体均可用于电视机、计算机等的显示屏显示。特别是，能够适合用于液晶面板、PDP、ELD、FED、触控面板、电子纸等高精细图像用显示器的表面。
发明的效果
本发明的光学层叠体具有上述构成，因而其抗静电性能和光学特性优异。
因此，本发明的光学层叠体可适合地用于阴极射线管显示装置(CRT)、液晶显示屏(LCD)、等离子体显示屏(PDP)、电致发光显示屏(ELD)等显示屏中，特别是可适合地用于高精细化显示屏中。
附图说明
图1为实施例1涉及的光学层叠体的硬涂层的截面TEM照片。
图2为比较例1涉及的光学层叠体的硬涂层的截面TEM照片。
具体实施方式
以下，举出实施例和比较例更详细地说明本发明，但本发明不仅限于这些实施例和比较例。
另外，只要没有特别声明，文中的“份”或“%”为质量基准。
(实施例1)
在C4106(PELNOX公司制造的UV固化型导电性硬涂层油墨、固含量约为32%、五氧化二锑分散体)中添加UV-7600B[日本合成化学工业株式会社制；UV固化型氨基甲酸酯丙烯酸酯/季戊四醇三丙烯酸酯(PETA)＝65/35(质量比)的混合体]和Irg184(Ciba Japan公司制的光聚合引发剂)，用下述混合溶剂进行再调整，使固含量为45%，从而得到了硬涂层用组合物。所得到的硬涂层用组合物的混配比例列于表1中。
混合溶剂：PGME/MEK/IPA/乙酰丙酮＝65/24/5/6
PGME、MEK、IPA：THE INCTEC公司制造
乙酰丙酮：Daicel Chemical Industries公司制造
在A1598(TOYOBO公司制、PET膜、厚度为100μm)的易接合面上以干燥重量为6g/m2、厚度为3μm的条件涂布上述硬涂层用组合物来形成涂膜，然后在烘箱中以70℃加热1分钟来对该涂膜进行干燥，对涂膜照射100mJ/cm2的紫外线来使该涂膜固化，从而制成了硬涂层。
接着，在所形成的硬涂层上涂布下述组成的低折射率层用组合物，使干燥后(70℃×1分钟)的膜厚为0.1μm，从而形成了涂膜。然后，使用紫外线照射装置(Fusion UVSystems Japan社制造、光源H灯泡)，以辐照剂量200mJ/cm2进行紫外线照射而使该涂膜固化，得到实施例1的光学层叠体。对上述膜厚进行了调整，使反射率的极小值在波长550nm附近。
(低折射率层用组合物)
中空状处理二氧化硅微粒(该二氧化硅微粒的固含量为20质量%的溶液；甲基异丁基酮、平均粒径为50nm)                                           65质量份
季戊四醇三丙烯酸酯(PETA)                                   10质量份
聚合引发剂(Irgacure127、Ciba Specialty Chemicals公司制造)  0.35质量份
改性硅油(X22164E；信越化学株式会社制造)                    1质量份
MIBK                                                       320质量份
PGMEA                                                      161质量份
【表1】
材料名 质量份
C4106 33
UV-7600B 35
Irg184 2
PGME 21
MEK 11
IPA 2
乙酰丙酮 3
(实施例2)
除了使用将UN904(根上工业株式会社制；UV固化型氨基甲酸酯丙烯酸酯/DPHA＝80/20的混合体)与PET30(日本化药株式会社制、PETA)以质量比7：3混合而成的物质来代替UV-7600B以外，与实施例1同样地制作了实施例2的光学层叠体。
(实施例3)
除了使用UN1700B(日本合成工业株式会社制；UV固化型氨基甲酸酯丙烯酸酯/DPHA＝60/40的混合体)来代替UV-7600B以外，与实施例1同样地制作了实施例3的光学层叠体。
(实施例4)
除了使用DPHA40H(日本化药株式会社制；UV固化型氨基甲酸酯丙烯酸酯/DPHA＝60/40的混合体)来代替UV-7600B以外，与实施例1同样地制作了实施例4的光学层叠体。
(实施例5)
除了使用将UV-7600B(日本合成化学工业株式会社制；UV固化型氨基甲酸酯丙烯酸酯/PETA＝65/35的混合体)与PET30(日本化药株式会社制、PETA)以质量比60：40混合而成的物质来代替UV-7600B以外，与实施例1同样地制作了实施例5的光学层叠体。
(实施例6)
除了使用将UV-7600B(日本合成化学工业株式会社制；UV固化型氨基甲酸酯丙烯酸酯/PETA＝65/35的混合体)与M315(东亚合成株式会社制、单体)以质量比60/40混合而成的物质来代替UV-7600B以外，与实施例1同样地制作了实施例6的光学层叠体。
(实施例7)
除了将C4106的混配量从33份增大到47份以外，与实施例1同样地制作了实施例7的光学层叠体。
(实施例8)
除了将C4106的混配量从33份减少到12份以外，与实施例1同样地制作了实施例8的光学层叠体。
(比较例1)
除了使用UT-4660(日本合成工业株式会社制；UV固化型氨基甲酸酯丙烯酸酯/PETA＝20/80的混合体)来代替UV-7600B以外，与实施例1同样地制作了比较例1的光学层叠体。
(比较例2)
除了使用UV-7600B/PET30(日本化药株式会社制；PETA)=1/9的混合品来代替UV-7600B以外，与实施例1同样地制作了比较例2的光学层叠体。
(比较例3)
除了使用PET30(日本化药株式会社制；PETA)来代替UV-7600B以外，与实施例1同样地制作了比较例3的光学层叠体。
(比较例4)
除了使用DPHA(日本化药株式会社制；官能度为6的单体)来代替UV-7600B以外，与实施例1同样地制作了比较例4的光学层叠体。
(比较例5)
除了使用EBECRYL600(环氧丙烯酸酯、官能度为2、分子量为500、DAICEL-CYTEC公司制造)来代替UV-7600B以外，与实施例1同样地制作了比较例5的光学层叠体。
(比较例6)
除了使用M8030(东亚合成株式会社制；聚酯丙烯酸酯)来代替UV-7600B以外，与实施例1同样地制作了比较例6的光学层叠体。
(比较例7)
除了将C4106的混配量从33份变更为5.5份以外，与实施例1同样地制作了比较例7的光学层叠体。
(比较例8)
除了将抗静电材料由五氧化二锑变更为ATO以外，与实施例1同样地制作了比较例8的光学层叠体。
(比较例9)
除了将C4106的混配量从33份增加到50.5份以外，与实施例1同样地制作了比较例9的光学层叠体。
(比较例10)
除了将C4106的混配量从33份增加到78份以外，与实施例1同样地制作了比较例11的光学层叠体。
(比较例11)
除了使用UN904(根上工业株式会社制；UV固化型氨基甲酸酯丙烯酸酯/DPHA＝80/20的混合体)来代替UV-7600B以外，与实施例1同样地制作了比较例11的光学层叠体。
(比较例12)
除了使用UXT6000(氨基甲酸酯丙烯酸酯、分子量为6000、官能度为2、日本化药株式会社制造)来代替UV-7600B以外，与实施例1同样地制作了比较例12的光学层叠体。
(比较例13)
除了使用UX3204(氨基甲酸酯丙烯酸酯、分子量为13000、官能度为2、日本化药株式会社制造)以外，与实施例1同样地制备了硬涂层用组合物，但五氧化二锑发生凝集而无法进行涂覆。
(比较例14)
使用甲苯代替混合溶剂制备了硬涂层用组合物，但五氧化二锑发生凝集而无法进行涂覆。
对于上述中所得到的光学层叠体来说，针对下述项目进行了评价。评价结果在表2中示出。
(表面电阻率测定)
利用三菱化学株式会社制造的Hiresta IP MCP－HT260对上述中所得到的光学层叠体的表面电阻率进行测定，按照如下基准进行了评价。
◎：低于1×1011Ω/□
○：1×1011Ω/□以上且低于1×1012Ω/□
×：1×1012Ω/□以上
(雾度)
使PET基材面侧粘着在玻璃上，使用雾度计(村上色彩技术研究所制造，产品型号；HM-150)，通过基于JIS K-7136的方法对光学层叠体的雾度进行了测定。
(总光线透过率)
使用雾度计(村上色彩技术研究所制造，产品型号；HM-150)，通过基于JIS K-7361的方法对所得到的光学层叠体的总光线透过率进行了测定。
(密合性)
对于所得到的光学层叠体的硬涂层与透光性基材的密合性，进行交叉切割纵横网格试验，对于剥去胶带后残存在透光性基材上的切割部数量相对于原切割部数量(100)之比，以如下基准进行了评价。
○：90/100～100/100
△：50/100～89/100
×：0/100～49/100
(铅笔硬度)
在温度25℃、相对湿度60%的条件下对各光学层叠体进行2小时调湿后，使用JIS-S-6006所规定的试验用铅笔(硬度HB～3H)，按照JIS K5600-5-4(1999)所规定的铅笔硬度评价方法，以4.9N的负荷测定形成有硬涂层的表面的铅笔硬度。需要说明的是，若铅笔硬度为3H以上则判断为良好。
(与低折射率层的密着性)
使用Steel Wool＃0000号(商品名：BON STAR、Japan steel wool公司制造)以摩擦负荷300g/cm2对各光学层叠体的低折射率层的表面往复摩擦10次，在其背面贴合黑色胶带，在三基色荧光灯下利用目视以如下的基准进行了评价。
○：无伤痕
×：产生伤痕
由表2可知，对于实施例的光学层叠体来说，五氧化二锑在硬涂层中以形成三维网状结构的方式分散，另外其抗静电性优异且雾度也良好。需要说明的是，图1中示出了实施例1涉及的光学层叠体的硬涂层的截面TEM照片。图1中所示的尺度为1刻度100nm。
另一方面，对于比较例1～7涉及的光学层叠体来说，五氧化二锑在硬涂层中均未以形成三维网状结构的方式分散，表面电阻率高且抗静电性差。需要说明的是，图2中示出了比较例1涉及的光学层叠体的硬涂层的截面TEM照片。图2中所示的尺度为1刻度100nm。
使用ATO作为抗静电材料的比较例8涉及的光学层叠体具有与实施例1涉及的光学层叠体同等的抗静电性，但其雾度较高、总光线透过率和硬涂层与基材及低折射率层之间的密合性差。
五氧化二锑的混配量较多的比较例9和10涉及的光学层叠体的雾度和总光线透过率差，硬涂层与基材及低折射率层之间的密合性也差。进一步，比较例10涉及的光学层叠体的硬涂层与透光性基材的密合性也差。
另外，UV固化型氨基甲酸酯丙烯酸酯含量较多的比较例11涉及的光学层叠体的硬涂层与透光性基材的密合性差。
进一步，UV固化型氨基甲酸酯丙烯酸酯的官能度为2的比较例12涉及的光学层叠体的硬涂层与透光性基材的密合性差；另外，硬涂层的硬度也差。
工业实用性
本发明的光学层叠体可以适合地用于液晶显示屏(LCD)、等离子体显示屏(PDP)、电致发光显示屏(ELD)、触摸屏、电子纸等的高精细化显示屏中。

Claims (6)

1.一种光学层叠体，其具有透光性基材和硬涂层，所述硬涂层在所述透光性基材的至少一侧的面上，其特征在于，所述硬涂层含有五氧化二锑和氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯低聚物，所述五氧化二锑在硬涂层中的含量为7质量%～35质量%，所述氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯低聚物在硬涂层的树脂成分中的含量为30质量%～70质量%，所述五氧化二锑分散在硬涂层中形成三维网状结构，所述氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯低聚物的重均分子量为1000以上且低于1万、且官能度为6以上。
2.如权利要求1所述的光学层叠体，其中，所述硬涂层进一步含有选自季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯和三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯组成的组中的至少1种物质。
3.如权利要求2所述的光学层叠体，其中，所述硬涂层的树脂成分中含有30质量%～70质量%的季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯和/或二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯。
4.如权利要求1、2或3所述的光学层叠体，其中，在所述硬涂层上进一步具有低折射率层。
5.一种具备偏振元件的偏振片，其特征在于，所述偏振片在偏振元件表面具备权利要求1、2、3或4所述的光学层叠体。
6.一种图像显示装置，其特征在于，所述图像显示装置具备权利要求1、2、3或4所述的光学层叠体或权利要求5所述的偏振片。
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