CN102958963A - 抗静电层用固化性树脂组合物、光学薄膜、偏振片以及显示面板 - Google Patents

抗静电层用固化性树脂组合物、光学薄膜、偏振片以及显示面板 Download PDF

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Abstract

本发明提供一种可形成抗静电性充分、且与邻接的HC层的密接性优异的抗静电层的抗静电层用固化性树脂组合物及具有该抗静电层的光学薄膜。本发明公开一种抗静电层用固化性树脂组合物，其特征在于包含(A)抗静电剂；(B)在1个分子中具有2个以上的光固化性基，且分子量为900以下的多官能单体；以及(C)在1个分子中具有6个以上的(甲基)丙烯酰基，且重均分子量为1000～11000的聚氨酯丙烯酸酯；所述(A)相对于该(A)、(B)及(C)的总量的比例为1～30质量％，且所述(C)相对于该(B)及(C)的总量的比例为1～40质量％。另外，本发明公开一种光学薄膜，其在TAC基材的一侧，从TAC基材侧开始设置由该抗静电层用固化性树脂组合物的固化物形成的膜厚为1～5μm的抗静电层及硬涂层。

Description

抗静电层用固化性树脂组合物、光学薄膜、偏振片以及显示面板
技术领域
本发明涉及一种设置于液晶显示器(LCD，Liquid CrystalDisplay)、阴极管显示设备(CRT，Cathode-ray Tube)或等离子体显示器(PDP，Plasma Display Panel)等显示器(图像显示设备)的前面的具有抗静电层的光学薄膜及该抗静电层用的组合物，以及使用该光学薄膜的偏振片及显示面板。
背景技术
在上述的显示器中，通常在最外表面设置有包含具有抗反射性、硬涂性或抗静电性等各种功能的层的光学薄膜。另外，在本说明书中，有时将硬涂简单称为“HC”。
作为此种光学薄膜的功能层之一，已知有用于赋予抗静电性的抗静电层。该抗静电层通过添加掺杂有锑的氧化锡(ATO，AntimonyTin Oxide)或掺杂有锡的氧化铟(ITO，Indium Tin Oxide)等金属氧化物系的导电性超微粒、高分子型导电性组合物或季铵盐系导电材料等抗静电剂而形成(例如专利文献1)。在使用这些抗静电剂的情况下，为了同时兼具所需的抗静电性与光学特性(低雾值或高全光线透射率)，要通过形成含有抗静电剂的0.1～1μm左右的薄膜层来赋予所需的功能。
另外，在上述的显示器中，要求对显示器的图像显示面赋予硬度，以使其在处理时不受损伤。对此，在专利文献1中公开有如下的光学薄膜的构成：在三乙酰纤维素(以下，有时仅称为“TAC(Triacetyl Cellulose)”基材上设置薄膜的防静电层，并在该抗静电层上设置HC层。
然而，由于抗静电层为薄膜，因此存在如下的问题：层中所包含的季戊四醇三丙烯酸酯(以下，有时简单称为“PETA(Pentaerythritol triacrylate)”或二季戊四醇六丙烯酸酯(以下，有时简单称为“DPHA(Di-Pentaerythritol hexaacrylate)”之类的粘合剂成分及抗静电剂的量有限，进而容易造成与邻接于该抗静电层的HC层的密接性不足。
在以基材/抗静电层/HC层为基本构成的光学薄膜中，有抗静电层与HC层之间的界面及抗静电层与基材之间的界面，而在各个界面存在密接性的问题。
在抗静电层与HC层之间的界面，抗静电层与HC层的各个反应性基进行交联键合而密接，但同时要求抗静电层发挥抗静电性能。在抗静电剂为金属氧化物的情况下，为了使抗静电层发挥抗静电性能，抗静电剂的微粒彼此必需密接，因此要添加大量的抗静电剂，但存在雾值增加、或全光线透射率恶化的情况。然而，若重视光学特性而减少金属氧化物的量，则难以发挥抗静电性能。另外，若增加抗静电剂的量，则存在于抗静电层与邻接层的界面的粘合剂成分的量不足，从而抗静电层与邻接层的密接性变差的可能性。然而，若重视密接性而减少金属氧化物的量，则难以发挥抗静电性能。
在抗静电剂为季铵盐的情况下，为了使抗静电层发挥抗静电性能，层内必需存在含量比粘合剂更多的季铵盐。或者，季铵盐必需集中存在于抗静电层的与HC层邻接的界面附近。然而，在此种情况下，存在如下的可能性：存在于界面附近的季铵盐阻碍抗静电层与HC层的密接，存在于抗静电层与邻接的HC层的界面的粘合剂成分(具有提高与HC层的交联密度的反应性基的成分)的量不足，从而抗静电层与邻接的HC层的密接性变差。然而，若重视密接性而减少季铵盐的量，则抗静电性能会恶化。
为了同时实现抗静电性与密接性，可考虑单纯地增多PETA(季戊四醇三丙烯酸酯)或DPHA(二季戊四醇六丙烯酸酯)之类的粘合剂成分的量的方法，但若增多此种粘合剂成分的量，则抗静电层的膜厚增厚，伴随于此，存在抗静电层的卷曲(翘曲)变大的问题，以及分散于抗静电层中的昂贵的抗静电剂的使用量也增加，而导致成本增加的问题。另外，为了提高密接性，可考虑增加粘合剂中的具有反应性基的成分的方法，但如上所述，为了显现抗静电性能而有必要的抗静电剂的量，粘合剂的量有限制，因此难以采用该方法。
另外，如上所述，因作为薄膜的抗静电层的层中所包含的粘合剂成分与抗静电剂的总量有限，故若要通过减少抗静电剂的使用量，并相应量地增加粘合剂成分的使用量来提高抗静电层与HC层的密接性，则存在抗静电剂的使用量减少而导致抗静电性能降低的问题。
另一方面，在抗静电层与基材之间的界面上，为了使抗静电层密接于基材，需要使抗静电层的组合物的粘合剂成分渗透至基材内，且在基材与抗静电层的界面上，渗透至基材内的粘合剂成分与形成抗静电层的粘合剂成分固化结合。
在抗静电剂为季铵盐的情况下，已知现有技术为了提高耐久性或抗静电性而使用分子量较大的季铵盐。然而，若季铵盐的分子量较大，则抗静电层的组合物的粘合剂成分难以渗透至基材内，因此为了获得抗静电层与基材的密接性，必需使用大量的渗透性溶剂、或使用可渗透至基材内的分子量较小的粘合剂。然而，在该情况下，存在抗静电层与HC层的界面的密接性变差的问题。
另外，目前已知有通过使用渗透性溶剂而可防止干扰条纹、且可使外观变得良好的技术，但若使用渗透性溶剂，则有时于基材内也会形成新的界面，除上述的密接性恶化以外，也有产生干扰条纹且外观变差的问题。
[现有技术文献]
[专利文献]
[专利文献1]日本专利特开2009-086660号公报
发明内容
(发明所要解决的问题)
本发明是为了解决上述问题而完成的发明，其第一目的在于提供一种抗静电层用固化性树脂组合物，该抗静电层用固化性树脂组合物可形成光学特性及外观良好、抗静电性充分、且与邻接的HC层及TAC基材的密接性优异的抗静电层。
另外，本发明的第二目的在于提供一种光学薄膜，其具有使用上述组合物所形成的抗静电层，且灰尘附着防止性优异。
另外，本发明的第三目的在于提供一种偏振片，其具有上述光学薄膜。
另外，本发明的第四目的在于提供一种显示面板，其具有上述光学薄膜。
(解决问题的手段)
本发明人等进行了努力研究，结果得知，若作为抗静电层的组合物中所包含的粘合剂成分、且用于提高与邻接的HC层的交联密度并获得密接性的PETA或DPHA之类的分子量为900以下的分子量比较小的粘合剂成分，大体上全部渗透至TAC基材中时，或者根据粘合剂成分从TAC基材的属于与HC层的界面的表面向TAC基材的不为HC层的背面的深度方向的渗透程度的不同，粘合剂成分偏存于基材中时，基材上的抗静电层中所包含的粘合剂成分减少，在HC层与抗静电层的界面进行反应的成分不足，因此有时无法充分获得抗静电层与HC层的密接性。另外，也得知：若渗透至TAC基材内部的部分并非以梯度形式渗透，而是渗透的材料全部一样地渗透至TAC基材内的相同深度，则在TAC基材内形成粘合剂渗透层，而在基材内产生新的界面，且产生干扰条纹等而导致外观恶化。
因此，本发明者等人发现：通过将组合物中所包含的抗静电剂、属于难以渗透至TAC基材或不渗透至TAC基材的粘合剂成分的特定分子量的聚氨酯丙烯酸酯、及渗透至TAC基材的粘合剂成分(多官能单体)设定为特定的比例，可形成具有充分的抗静电性，并且与HC层及TAC基材的密接性优异的抗静电层，作为光学薄膜整体，可获得优异的灰尘附着防止性能，从而完成本发明。
即，解决上述问题的本发明的抗静电层用固化性树脂组合物的特征在于包含：
(A)抗静电剂，
(B)在1个分子中具有2个以上的光固化性基、且分子量为900以下的多官能单体，以及
(C)在1个分子中具有6个以上的丙烯酰基及/或甲基丙烯酰基、且重均分子量为1000～11000的聚氨酯丙烯酸酯，
所述(A)相对于该(A)、(B)及(C)的总量的比例为1～30质量％，且
所述(C)相对于该(B)及(C)的总量的比例为1～40质量％。
通过将抗静电剂(A)的比例设为上述范围，使用上述组合物所形成的膜厚为1～5μm的抗静电层具有充分的抗静电性，即便是在其上层叠HC层而形成光学薄膜的情况下，也可确保充分的灰尘附着防止性。
现有技术中，抗静电层的膜厚为考虑到光学性能及透明性，按0.1～1μm左右的薄膜设置的，但若为此种薄膜层，为了赋予抗静电性，必需将层内的组合物的大部分设为抗静电性材料，因此无法添加足够量的具有为了显现与基材或其上方的层的密接性所必需的反应性基的某些粘合剂。因此，在本申请中，使膜厚变厚至某种程度，并确保抗静电层与邻接层的密接性，故可使抗静电性材料以外的具有反应性基的粘合剂成分的充分添加变得可能。
另外，通过将聚氨酯丙烯酸酯(C)相对于多官能单体(B)与聚氨酯丙烯酸酯(C)的总量的比例设为上述范围，即便于TAC基材上从TAC基材侧起依序形成抗静电层及HC层，也由于聚氨酯丙烯酸酯(C)不渗透至TAC基材内或相较于多官能单体(B)更不易渗透至TAC基材内，因此可利用聚氨酯丙烯酸酯(C)获得抗静电层与HC层之间的充分的密接性，且由于多官能单体(B)渗透至TAC基材内，因此也可获得抗静电层与TAC基材的密接性。
在本发明的抗静电层用固化性树脂组合物中，就抑制抗静电剂朝TAC基材的渗透且涂布性优异而言，优选抗静电剂(A)是重均分子量为1000～50000的季铵盐。
在本发明的抗静电层用固化性树脂组合物中，就提高多官能单体(B)及聚氨酯丙烯酸酯(C)的作用的观点而言，优选还包括(D)渗透性溶剂及(E)非渗透性溶剂。
在本发明的抗静电层用固化性树脂组合物中，也可将上述抗静电层用固化性树脂组合物的膜厚为1～5μm的固化物的表面电阻率设为小于1×1012Ω/□。通过将抗静电层用固化性树脂组合物的固化物(也即抗静电层)设为此种抗静电性能，在抗静电层上层叠5～15μm的硬涂层而成的光学薄膜可发挥灰尘附着防止性。
再者，表面电阻率是指如下的值：在TAC基材上形成上述抗静电层用固化性树脂组合物的膜厚为1～5μm的固化物(抗静电层)，然后利用高电阻率计(三菱化学Analytech(株式会社)制造，商品名：Hiresta IP MCP-HT260)，在施加电压1000V、温度25℃、湿度40％调湿24小时的条件下，对该固化物表面进行测定所得的值。
本发明的光学薄膜是在三乙酰纤维素基材的一侧，从所述三乙酰纤维素基材侧开始邻接地设置膜厚为1～5μm的抗静电层及硬涂层的光学薄膜，其特征在于，该抗静电层由上述抗静电层用固化性树脂组合物的固化物形成，上述多官能单体(B)渗透至所述三乙酰纤维素基材的抗静电层侧的界面附近的区域并固化。
在TAC基材的一侧，从TAC基材侧开始设置有膜厚为1～5μm的抗静电层及HC层的本发明的光学薄膜，因抗静电层包含上述抗静电层用固化性树脂组合物的固化物，而具有充分的灰尘附着防止性。进而，HC层与抗静电层的密接性变得优异。另外，通过多官能单体(B)渗透至TAC基材的抗静电层侧的界面侧的区域并固化，也可获得抗静电层与TAC基材的密接性。作为光学薄膜整体，可获得优异的灰尘附着防止性能。
在本发明的光学薄膜的优选的实施方式中，也可将上述硬涂层、上述抗静电层及上述三乙酰纤维素基材间的方格密接性试验的密接率设定为90～100％，且将在温度30℃、湿度40％下，以每小时500W/m2的光量照射紫外线192小时后的所述密接率设定为80～100％。
再者，所谓方格密接性试验(Cross Cut Adhesion Test)的密接率，是指针对在温度25℃、湿度40％下调湿24小时后的光学薄膜，依据JIS K5400的方格试验(Cross Cut Test)方法，在硬涂层面上以1mm间隔横竖分别切入11条缝隙来制作100个方格，将Nichiban(株式会社)制造的Cellotape(注册商标)贴附于方格上后，迅速将其在90°的方向拉伸而使其剥离，并根据下述基准所算出的未剥落而残留的方格的比例。
密接率(％)＝(未剥落的方格数/合计方格数100)×100
在本发明的光学薄膜的优选的实施方式中，也可在硬涂层的与抗静电层相反侧的面进一步设置低折射率层。
在本发明的光学薄膜的优选的实施方式中，硬涂层也可采用含有电离放射线固化性树脂的组合物的固化物。
本发明的偏振片的特征在于，在光学薄膜的三乙酰纤维素基材侧设置有偏振元件。
本发明的显示面板的特征在于，在光学薄膜的三乙酰纤维素基材侧配置有显示器。
(发明效果)
通过使以上述特定的比例含有抗静电剂(A)、多官能单体(B)及聚氨酯丙烯酸酯(C)的组合物固化而形成为膜厚1～5μm的抗静电层，即便为在TAC基材上从TAC基材侧起具有抗静电层及HC层的层构成，可获得具有充分的灰尘附着防止性，且抗静电层与TAC基材及HC层的密接性良好的光学薄膜。另外，以上述特定的比例含有该抗静电剂(A)、多官能单体(B)及聚氨酯丙烯酸酯(C)的组合物，适合用于形成具有此种特性的光学薄膜中所使用的抗静电层中。
附图说明
图1表示本发明的光学薄膜的层构成的一例的示意图。
图2表示本发明的光学薄膜的层构成的另一例的示意图。
图3表示本发明的偏振片的层构成的一例的示意图。
具体实施方式
以下，对本发明的抗静电层用固化性树脂组合物(以下，有时简单称为“抗静电层用组合物”)、光学薄膜以及使用该光学薄膜的偏振片及显示面板加以说明。
在本发明中，(甲基)丙烯酰基表示丙烯酰基及/或甲基丙烯酰基，(甲基)丙烯酸酯表示丙烯酸酯及/或甲基丙烯酸酯。
本发明的光不仅包括可见光以及紫外线及X射线等非可见区域的波长的电磁波，也包括如电子束之类的粒子束及统称为电磁波与粒子束的放射线或电离放射线。
在本发明中，所谓“硬涂层”，是指在JIS K5600-5-4(1999)中规定的铅笔硬度试验(4.9N负荷)中显示“H”以上的硬度者。
再者，关于薄膜及片材，根据JIS-K6900中的定义，片材是指较薄且通常其厚度比长度及宽度小的平坦制品，薄膜是指厚度与长度及宽度相比极小、且最大厚度被任意限定的较薄的平坦制品，其通常以卷的形态供给。因此，片材中厚度特别薄者可称为薄膜，但由于片材与薄膜的边界并不清楚，难以明确地加以区分，因此在本发明中，包括厚度较厚者及较薄者两者的含义，均定义为“薄膜”。
在本发明中，树脂除了单体或寡聚物的概念以外，也包含聚合物的概念，其是指固化后成为抗静电层或HC层等其他功能层的基质的成分。
在本发明中，所谓分子量，在具有分子量分布的情况下，是指作为在THF(Tetrahydrofuran，四氢呋喃)溶剂中通过凝胶渗透层析法(GPC，Gel Permeation Chromatograph)所测定的聚苯乙烯换算值的重均分子量，在不具有分子量分布的情况下，是指化合物本身的分子量。
在本发明中，所谓微粒的平均粒径，在组合物中的微粒的情况下，是指使用日机装(株式会社)制造的Microtrac粒度分析计所测定的值，在固化膜中的微粒的情况下，是指通过穿透式电子显微镜(TEM，Transmission electron microscopy)照片所观察的固化膜的剖面的10个粒子的平均值。
在本发明中，所谓渗透，是指使TAC基材溶解或溶胀。
在本发明中，所谓固态成分，是指去除溶剂的成分。
(抗静电层用固化性树脂组合物)
本发明的抗静电层用固化性树脂组合物的特征在于包含：
(A)抗静电剂，
(B)在1个分子中具有2个以上的光固化性基、且分子量为900以下的多官能单体，以及
(C)在1个分子中具有6个以上的(甲基)丙烯酰基、且重均分子量为1000～11000的聚氨酯丙烯酸酯，
所述(A)相对于该(A)、(B)及(C)的总量的比例为1～30质量％，且
所述(C)相对于该(B)及(C)的总量的比例为1～40质量％。
通过将抗静电剂(A)的比例设为上述范围，抗静电层可赋予抗静电性，且即便在在膜厚为1～5μm的抗静电层上形成HC层的情况下，也可确保充分的灰尘附着防止性。
另外，通过将聚氨酯丙烯酸酯(C)相对于多官能单体(B)及聚氨酯丙烯酸酯(C)的总量的比例设为上述范围，若在TAC基材上从TAC基材侧起依序形成抗静电层、HC层，则因聚氨酯丙烯酸酯(C)不会渗透至TAC基材内，或相较于多官能单体(B)更不易渗透至TAC基材内，故在抗静电层与HC层的界面也存在聚氨酯丙烯酸酯(C)，聚氨酯丙烯酸酯(C)所具有的(甲基)丙烯酰基与HC层中的反应性基固化结合，由此可获得抗静电层与HC层的充分的密接性。
进而，多官能单体(B)适度渗透至TAC基材内(并非一样地渗透至相同深度，而是以梯度形式渗透)，TAC基材中所存在的已渗透的多官能单体(B)的反应性基(光固化性基)与抗静电层中所存在的多官能单体(B)的反应性基及聚氨酯丙烯酸酯(C)的反应性基((甲基)丙烯酰基)固化结合，因此也可获得抗静电层与TAC基材的密接性。
以下，针对作为本发明的抗静电层用组合物的必需成分的上述抗静电剂(A)、多官能单体(B)及聚氨酯丙烯酸酯(C)、以及可视需要而适当含有的其他成分加以说明。
(A：抗静电剂)
抗静电剂(A)为对作为抗静电层用组合物的固化膜的抗静电层或光学薄膜赋予导电性来防止带电，并具有赋予防止灰尘或尘土附着，或防止因带电而在工序内产生不良的性质(也即抗静电性)的作用的成分。
作为抗静电剂(A)，可使用先前公知的抗静电剂，并无特别限定。
例如可列举专利文献1中所记载的季铵盐等阳离子性化合物、磺酸盐基等阴离子性化合物、氨基酸系等两性化合物、氨基醇系等的非离子性化合物、有机金属化合物及金属螯合物化合物、以及将这些化合物高分子量化而成的化合物、聚合性化合物、平均1次粒径为1～100nm的氧化铟锡(ITO)等导电性超微粒、以及脂肪族共轭系的聚乙炔等高分子型导电性组合物。
在本发明的抗静电层用固化性树脂组合物中，就抑制抗静电剂(A)朝TAC基材的渗透、且涂布性优异而言，优选抗静电剂(A)是重均分子量为1000～50000的季铵盐。若超过上述上限，则组合物的涂布性恶化，若低于上述下限，则抗静电剂容易渗出至抗静电层的与HC层的界面上，而有抗静电层与HC层的密接性恶化的可能性。
先前，抗静电层的膜厚，考虑到光学性能及透明性，以0.1～1μm左右的薄膜设置，但若为此种薄膜层，则为了赋予抗静电性，必需将层内的组合物的大部分设为抗静电性材料，因此难以添加足够量的具有为了显现与基材或其上方的层的密接性所必需的反应性基的树脂组合物。因此，在本发明中，将膜厚设为1～5μm，较先前更厚，并确保抗静电层与邻接层的密接性，因此可使抗静电性材料以外的具有反应性基的树脂组合物的充分添加变得可能。因膜厚增加，故较理想的是所添加的抗静电剂选择透明性较高的材料。在该方面，优选为透明性高于无机材料的有机材料，进而，有机材料中，着色极少的季铵盐最合适。当使用季铵盐时，在透明性基材为TAC的情况下，可使光学薄膜整体的全光线透射率变成90％以上，就此点而言也优选。另外，也可使雾值变成0.5％以下。全光线透射率可依据JIS K7361(1997)，通过村上色彩技术研究所制造的HM150等来测定，雾值可依据JIS K7136(2000)，通过村上色彩技术研究所制造的HM150等来测定。
进而，就通过HC层与粘合剂成分的交联反应来提高抗静电层与HC层的密接性方面而言，优选该季铵盐具有光固化性基。光固化性基优选为聚合性不饱和基，更优选为电离放射线固化性不饱和基。作为其具体例，可列举(甲基)丙烯酰基、(甲基)丙烯酰氧基、乙烯基及烯丙基等具有乙烯性不饱和键的基以及环氧基等。
作为此种重均分子量为1000～50000的季铵盐的市售品，例如可列举三菱化学(株式会社)制造的商品名H6100，以及新中村化学工业(株式会社)制造的商品名Uniresin AS-10/M、UniresinAS-12/M、Uniresin AS-15/M及Uniresin ASH26等。
在抗静电层用组合物中，相对于抗静电剂(A)与后述的多官能单体(B)及聚氨酯丙烯酸酯(C)的总量，含有1～30质量％的抗静电剂(A)。
若抗静电剂(A)的比例相对于上述总量(A+B+C)小于1质量％，则无法获得充分的抗静电性能。另外，若抗静电剂(A)的比例相对于上述总量(A+B+C)超过30质量％，则抗静电层用组合物中的多官能单体(B)及聚氨酯丙烯酸酯(C)的比例减少，无法获得抗静电层与邻接于该层的TAC基材或HC层的充分的密接性。
抗静电剂(A)的比例相对于上述总量(A+B+C)为1～30质量％，但优选为5～20质量％。
(B：多官能单体)
多官能单体(B)为固化后成为抗静电层基质的粘合剂成分之一一，且为1个分子中具有2个以上的光固化性基的分子量为900以下的单体。其分子量较小且为多官能，因而有助于提高抗静电层内或与邻接于抗静电层的HC层的交联密度，有助于提升密接性的成分。另外，多官能单体通过其至少一部分渗透至TAC基材内并固化，而也有助于提升抗静电层与TAC基材的密接性。
若多官能单体(B)的分子量超过900，则朝TAC基材的渗透性下降，而有无法获得抗静电层与TAC基材的充分密接性的可能性。
多官能单体(B)的分子量只要为900以下即可，但就使多官能单体(B)适度地朝TAC基材渗透，并使抗静电层与HC层的密接性及抗静电性(表面电阻率)高度地并存的观点而言，多官能单体(B)的分子量优选为230以上，更优选为290以上。若分子量小于230，则多官能单体(B)朝TAC基材的渗透并不适度，会有全部渗透至一样的深度而产生新的界面的情况，且有在其界面所反射的光与在抗静电层与HC层的界面所反射的光、或在HC层表面所反射的光之间产生光干涉，并产生干涉条纹而导致外观恶化的可能性。
作为多官能单体(B)，可使用一种或两种以上。
多官能单体(B)的光固化性基，为了形成交联结构而为2个以上，优选为具有3个以上，更优选为具有5个以上。若为3个以上，则容易获得抗静电层与HC层及TAC基材的充分密接性。作为光固化性基，可列举与抗静电剂中所列举的光固化性基相同者。
作为多官能单体(B)，例如可列举季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯及三羟甲基丙烷六(甲基)丙烯酸酯以及这些的改性体。
再者，作为改性体，可列举EO(Ethylene oxide，环氧乙烷)改性体、PO(Propylene oxide，环氧丙烷)改性体、CL(Caprolactone，己内酯)改性体及异三聚氰酸改性体等。
在上述多官能单体中，就固化反应性的观点而言，与甲基丙烯酰相比，光固化性基为丙烯酰基更优选。
作为多官能单体(B)，尤其可优选地使用二季戊四醇五丙烯酸酯(DPPA，Di-Pentaerythritol pentaacrylate)、二季戊四醇六丙烯酸酯(DPHA)。
在本发明的抗静电层用组合物中，多官能单体(B)满足上述抗静电剂的含有比例，且相对于多官能单体(B)与后述的聚氨酯丙烯酸酯(C)的总量为60～99质量％。若不足60质量％，则无法获得抗静电层与HC层及TAC基材的充分的密接性。另外，若超过99质量％，则聚氨酯丙烯酸酯(C)的比例较少，无法获得抗静电层与HC层的充分的密接性。
(C：聚氨酯丙烯酸酯)
聚氨酯丙烯酸酯(C)为固化后成为抗静电层基质的粘合剂成分之一，其1个分子中具有6个以上的(甲基)丙烯酰基，且重均分子量为1000～11000，优选为1000～10000，更优选为1000～5000。
通过重均分子量为1000～11000，则涂布性良好，不渗透至TAC基材内，或相较于多官能单体(B)更不易渗透至TAC基材内，容易控制渗透，且确实地存在于整个抗静电层中。
在抗静电剂(A)为季铵盐的情况下，作为该化合物的性质，与亲水性化合物的兼容性好。因此，若抗静电层中的粘合剂为具有OH基的化合物(PETA、PETTA(季戊四醇四丙烯酸酯)、DPPA(二季戊四醇五丙烯酸酯)等)，则抗静电剂过度分散于整个层中，而无法获得抗静电性。已知DPHA在结构式上不含OH基，但通常于合成上难以形成100％的6官能，因此实际上为与5官能或4官能部分的混合化合物，由于通常所市售的树脂为残留有OH基的化合物，故而无法获得优选的抗静电性。
可控制该分散性者为属于疏水性树脂的聚氨酯丙烯酸酯(C)。通过使聚氨酯丙烯酸酯(C)存在于整个层中，在抗静电剂(A)为季铵盐系的情况下，可确实地控制抗静电剂在层内过度分散、或在与HC的界面方向渗出的情况。容易在HC界面方向渗出的原因在于，如上所述，因季铵盐喜欢亲水性，故将抗静电层层叠并固化时，在其表面存在空气，与该空气中的水分发生反应而渗出。
而且，具有6个以上的(甲基)丙烯酰基，有助于提高抗静电层内或与邻接于抗静电层的HC层中的反应性基的交联密度，而提升抗静电层与HC层的密接性。另外，由于提高了渗透至TAC基材的抗静电层的多官能单体(B)的反应性基、与抗静电层中所存在的聚氨酯丙烯酸酯(C)的(甲基)丙烯酰基或多官能单体的反应性基的交联密度，故而聚氨酯丙烯酸酯(C)也有助于提升抗静电层与TAC基材的密接性。在从密接性方面来看的情况下，不添加聚氨酯丙烯酸酯(C)，只要为除了抗静电剂(A)以外的具有大量反应性基的多官能单体(B)即可，但为了如上述般控制抗静电剂(A)在抗静电层内的变动，若仅为多官能单体(B)，则难以控制，为了抗静电剂(A)不分散，需要疏水性且具有大量反应性基的聚氨酯丙烯酸酯(C)。
另外，含有聚氨酯丙烯酸酯(C)对于抑制卷曲(翘曲)的产生也有效。
若聚氨酯丙烯酸酯(C)的重均分子量小于1000，则存在如下的可能性：聚氨酯丙烯酸酯(C)容易渗透至TAC基材内，过度渗透至TAC基材内，导致抗静电层与HC层的界面的丙烯酰基减少，难以获得抗静电层与HC层的密接性。
若聚氨酯丙烯酸酯(C)的重均分子量超过11000，则存在涂布性恶化的可能性。
只要聚氨酯丙烯酸酯(C)具有6个以上的(甲基)丙烯酰基，则也可含有电离放射线固化性不饱和基等其他的交联反应性的官能基。(甲基)丙烯酰基只要合计具有6个以上的丙烯酰基与甲基丙烯酰基即可，可仅具有丙烯酰基，也可仅具有甲基丙烯酰基。
作为本发明的聚氨酯丙烯酸酯(C)，只要具有聚氨酯键(-NH-CO-O-)、具有6个以上的(甲基)丙烯酰基、且为上述重均分子量，则并无特别限定。作为聚氨酯丙烯酸酯(C)，优选为制成涂膜时光能够透过的透光性的C，也可根据要求性能等而适当采用属于通过以紫外线或电子束所代表的电离放射线而固化的树脂的电离放射线固化性聚氨酯丙烯酸酯、其他公知的聚氨酯丙烯酸酯等。
作为上述聚氨酯丙烯酸酯的市售品，例如可列举专利文献1中所记载的日本合成化学工业(株式会社)制造的商品名UV1700B、根上工业(株式会社)制造的商品名UN3320HS、荒川化学工业(株式会社)制造的商品名BS577以及新中村化学工业(株式会社)制造的商品名U15HA、U15H、U9HA、U9H、U6HA及U6H等。
在本发明的抗静电层用组合物中，聚氨酯丙烯酸酯(C)满足上述抗静电剂的含有比例，且相对于上述多官能单体(B)与聚氨酯丙烯酸酯(C)的总量为1～40质量％。若小于1质量％，则无法获得抗静电层与HC层的充分密接性。另外，若超过40质量％，则多官能单体(B)的比例较少，无法获得抗静电层与TAC基材的充分密接性。
聚氨酯丙烯酸酯(C)的比例相对于上述总量(B+C)为1～40质量％，但优选为5～30质量％。
如此，通过粘合剂中的多官能单体(B)、聚氨酯丙烯酸酯(C)的比例适当，抗静电剂(A)既不会于抗静电层内过度分散，也不会渗出，可在层内以能够发挥抗静电性的程度集中存在。正因为其为该组成，抗静电层的表面电阻率才能够小于1×1012Ω/□。
在抗静电层用组合物中，除上述(A)、(B)及(C)成分以外，视需要也可含有适当的溶剂及聚合引发剂。以下，对这些其他成分加以说明。
(溶剂)
作为溶剂，可使用专利文献1中所记载的丙酮等酮系溶剂、乙酸甲酯等酯系溶剂、乙腈等含氮系溶剂、甲基乙二醇等二醇系溶剂、THF等醚系溶剂、二氯甲烷等卤化烃溶剂及甲基溶纤剂等二醇醚系溶剂等渗透性溶剂。
作为渗透性溶剂，优选选自乙酸甲酯、乙酸乙酯、乙酸丁酯、甲基乙基酮、甲基异丁基酮(MIBK，Methyl Isobutyl Ketone)及环己酮中的至少一种。
另外，也可使用丙二醇单甲基醚(PGME，Propylene GlycolMonomethyl Ether)、正丙醇、异丙醇、正丁醇、仲丁醇、异丁醇及叔丁醇等非渗透性溶剂。
上述溶剂可单独地使用一种，也可将两种以上混合来使用。
在本发明的抗静电层用组合物中，就推测通过使用渗透性溶剂，可促进上述多官能单体(B)朝TAC基材的渗透、提升抗静电层与TAC基材的密接性而言，优选使用渗透性溶剂。
另外，在本发明的抗静电层用组合物中，就推测通过使用非渗透性溶剂，可抑制上述聚氨酯丙烯酸酯(C)朝TAC基材的渗透、提升抗静电层与HC层的密接性而言，优选使用非渗透性溶剂。
因此，在本发明的抗静电层用组合物中，在溶剂为一种的情况下，优选使用渗透溶剂，但在两种以上溶剂的情况下，最优选将渗透性溶剂与非渗透性溶剂组合使用。其原因在于，虽然即便是一种溶剂(仅渗透溶剂)，也可通过聚氨酯丙烯酸酯(C)的分子量来控制渗透，但将渗透性溶剂与非渗透性溶剂组合使用可更容易地控制渗透，而获得使用组合物的抗静电层的稳定的性能。
在将渗透性溶剂与非渗透性溶剂组合使用的情况下，优选为其质量比为渗透性溶剂∶非渗透性溶剂＝100∶0～，优选为90∶10～50∶50，且相对于抗静电层用组合物的总固态成分100质量份优选为30～500质量份。
(聚合引发剂)
聚合引发剂为引发或促进上述粘合剂成分(B)的交联反应的成分，视需要可适当地选择使用先前公知的自由基及阳离子聚合引发剂等。作为自由基聚合引发剂，例如可优选地使用Ciba Japan(株式会社)制造的商品名Irgacure184(1-羟基-环己基-苯基-酮)。在使用聚合引发剂的情况下，其含量相对于抗静电层用组合物的总固态成分的合计质量，优选为0.4～2.0质量％。通过如上述般将抗静电层用组合物中所使用的聚合引发剂的量设为HC层中所使用的聚合引发剂的量的1/10～1/2，可使抗静电层的反应性基大量残留。由此，反应难以进行，故也防止卷曲的产生。
(抗静电层用固化性树脂组合物的制备)
上述抗静电层用固化性树脂组合物可通过使上述(A)、(B)及(C)成分混合分散于溶剂中而获得。另外，即便无溶剂，上述(A)、(B)或(C)成分仍具有充分的流动性的情况下，也可无溶剂。混合分散可使用涂料振荡机或珠磨机等公知的方法。
在本发明的抗静电层用固化性树脂组合物中，通过将抗静电剂(A)设为上述范围，也可使上述抗静电层用固化性树脂组合物的膜厚为1～5μm的固化物的表面电阻率小于1×1012Ω/□。通过使抗静电层为此种抗静电性能，即便层叠膜厚比较厚的HC层，也可在整个光学薄膜中发挥优异的灰尘附着防止性能。
若抗静电层的膜厚小于1μm，则为了维持相同的表面电阻而必需增加作为抗静电剂的季铵盐的量，但在该情况下，存在抗静电剂的反应性基减少，抗静电层与HC层的密接恶化的可能性。
若抗静电层的膜厚超过5μm，则表面电阻容易表现，但存在产生卷曲、成本升高、处理性恶化的可能性。
进而，在抗静电层用组合物中，通过使抗静电剂(A)相对于抗静电剂(A)、多官能单体(B)及聚氨酯丙烯酸酯(C)的总量为5～20质量％，且使聚氨酯丙烯酸酯(C)相对于多官能单体(B)及聚氨酯丙烯酸酯(C)的总量为5～30质量％，则除了可获得充分的抗静电性以外，也可获得光学薄膜的密接性相对于紫外线(UV)的优异的耐久性。
(光学薄膜)
本发明的光学薄膜为于三乙酰纤维素基材的一侧，从该三乙酰纤维素基材侧开始邻接地设置膜厚为1～5μm的抗静电层及硬涂层而成者，其特征在于，该抗静电层包含上述抗静电层用固化性树脂组合物的固化物，且上述多官能单体(B)渗透至三乙酰纤维素基材的抗静电层侧的界面侧的区域并固化。
在TAC基材的一侧从TAC基材侧起设置膜厚为1～5μm的抗静电层、及HC层的光学薄膜，通过抗静电层由上述抗静电层用固化性树脂组合物的固化物形成，可具有充分的灰尘附着防止性，并且HC层与抗静电层的密接性优异。另外，通过使多官能单体(B)渗透至TAC基材的抗静电层侧的界面侧的区域并固化，也可获得抗静电层与TAC基材的密接性。作为光学薄膜整体，可获得优异的灰尘附着防止性能。
在本发明的光学薄膜的优选的实施方式中，通过使抗静电层由上述抗静电层用组合物的固化物形成，也可使光学薄膜的上述硬涂层、上述抗静电层及上述三乙酰纤维素基材间的方格密接性试验的密接率为90～100％，且使于温度30℃、湿度40％下以每小时500W/m2的光量照射192小时紫外线后(以下，有时简单称为“耐紫外线(UV，Ultraviolet)试验后”)的该密接率为80～100％。
该密接率表示HC层、抗静电层及TAC基材的密接，即抗静电层与HC层间的密接及抗静电层与TAC基材间的密接性。
在现有的具有不含聚氨酯丙烯酸酯(C)，主要仅含有多官能单体(B)作为粘合剂的组合物，或即便含有聚氨酯丙烯酸酯(C)也未以特定的比例含有抗静电剂(A)、多官能单体(B)及聚氨酯丙烯酸酯(C)的组合物的固化物所构成的抗静电层的光学薄膜中，抗静电层与TAC基材间的密接虽良好，但抗静电层与HC层间的密接并不充分。如此，在抗静电层与HC层间的密接性并不充分的情况下，若进行密接性试验，则抗静电层与TAC基材间虽不产生剥离，但抗静电层与HC层之间会产生剥离而剥落。在抗静电层与TAC基材间的密接并不充分的情况下，抗静电层与TAC基材间会产生剥离而剥落。因此，作为光学薄膜，为了获得优异的密接性，需要抗静电层与HC层间的密接及抗静电层与TAC基材间的密接。
通过使上述抗静电层用组合物固化而形成抗静电层，膜厚为1～5μm的抗静电层与HC层间的密接及抗静电层与TAC基材间的密接优异，作为光学薄膜整体显现优异的密接性。尤其，该密接性在耐UV试验后较显著。本发明的光学薄膜在耐UV试验后也显现优异的密接性。
图1为表示本发明的光学薄膜的层构成的一例的示意图。在三乙酰纤维素基材10的一侧，依序邻接地设置有抗静电层20及硬涂层30。图2为表示本发明的光学薄膜的层构成的另一例的示意图。在与图1相同的光学薄膜的硬涂层上进一步设置有低折射率层40。
以下，对作为本发明的光学薄膜的必需构成要素的三乙酰纤维素基材、抗静电层及硬涂层，以及可视需要而适当设置的高折射率层、中折射率层、低折射率层、防眩层及防污层等其他层加以说明。
(三乙酰纤维素基材)
本发明中所使用的三乙酰纤维素基材为透光性较高的三乙酰纤维素薄膜，且只要为满足可用作光学薄膜的透光性基材的物性者，则并无特别限定，可适当地选择使用目前公知的硬涂薄膜或光学薄膜的TAC基材。
可见光区域380～780nm中的TAC基材的平均透光率优选为80％以上，特优选为90％以上。再者，透光率的测定采用使用紫外可见分光亮度计(例如岛津制作所(株式会社)制造的商品名UV-3100PC)，在室温、大气中所测定的值。
可对TAC基材实施皂化处理或设置底涂层等表面处理。另外，可添加抗静电剂等添加剂。
TAC基材的厚度并无特别限定，通常为30～200μm，优选为40～200μm。
(抗静电层)
本发明的抗静电层由上述抗静电层用固化性树脂组合物的固化物形成，膜厚为1～5μm。若膜厚薄于1μm，则无法获得充分的抗静电性能，无法充分地添加用于确保与其他层的密接性而必需的粘合剂。若厚于5μm，则由于抗静电剂不能以某种程度紧密地存在于层内而无法发挥性能，故而抗静电层的卷曲变大，因此加工性恶化，若膜厚进一步变厚，则所包含的抗静电剂等的量增加，成本增加。
作为抗静电层的性能，表面电阻优选为小于1×1012Ω/□，更优选为1×1011Ω/□以下、进而为1×1010Ω/□以下。只要抗静电层的表面电阻良好，层叠有HC层的光学薄膜的灰尘附着防止性可更良好。
(硬涂层)
硬涂层为在JIS K5600-5-4(1999)中规定的铅笔硬度试验(4.9N负荷)中，显示“H”以上的硬度的层，且对本发明的光学薄膜赋予硬度。
HC层包含硬涂层用组合物的固化物，可使用先前公知的硬涂层，也可为包含仅含粘合剂成分的硬涂层用组合物的固化物者，另外，也可在组合物中含有上述抗静电层用组合物中所列举的聚合引发剂等。为了提高HC层的硬度等，也可含有先前公知的赋予硬度的成分，例如日本专利特开2008-165040号公报中记载的具有与粘合剂成分的交联反应性的反应性二氧化硅微粒。
作为具体例，可通过将含有电离放射线固化性树脂作为透明树脂的树脂组合物涂布在透明基材上，并使该树脂组合物中所包含的单体、寡聚物及预聚物交联及/或聚合而形成HC层。
作为透明树脂，优选电离放射线固化性树脂，作为单体、寡聚物及预聚物的官能基，优选电离放射线聚合性的官能基，其中优选光聚合性官能基。通过该官能基与抗静电层用树脂组合物中的聚氨酯丙烯酸酯(C)的反应性基固化结合，可获得抗静电层与HC层的充分的密接性。
作为光聚合性官能基，可列举(甲基)丙烯酰基、乙烯基、苯乙烯基、烯丙基等不饱和聚合性官能基等。
另外，作为预聚物及寡聚物，可列举聚氨酯(甲基)丙烯酸酯、聚酯(甲基)丙烯酸酯、环氧(甲基)丙烯酸酯等丙烯酸酯、不饱和聚酯、环氧树脂等。
作为单体，可列举苯乙烯、α-甲基苯乙烯等苯乙烯系单体，(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸-2-乙基己酯、季戊四醇(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇乙氧基四(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、三羟甲基丙烷乙氧基三(甲基)丙烯酸酯、甘油丙氧基三丙烯酸酯、二-三羟甲基丙烷四丙烯酸酯、聚乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、双酚F的EO改性二(甲基)丙烯酸酯、双酚A的EO改性二(甲基)丙烯酸酯、异三聚氰酸EO改性二(甲基)丙烯酸酯、异三聚氰酸EO改性三(甲基)丙烯酸酯、聚丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、三羟甲基丙烷PO改性三(甲基)丙烯酸酯、三羟甲基丙烷EO改性三(甲基)丙烯酸酯、二-三羟甲基丙烷四(甲基)丙烯酸酯等丙烯酸系单体，三羟甲基丙烷三硫代乙醇酸酯、三羟甲基丙烷三硫代丙醇盐、季戊四醇四硫甘醇等分子中具有2个以上的硫醇基的多元醇化合物，另外，具有2个以上的不饱和键的聚氨酯(甲基)丙烯酸酯或聚酯(甲基)丙烯酸酯等。
尤其，就提高交联密度、获得抗损伤性的观点而言，优选多官能丙烯酸酯单体，其中，季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯因与抗静电层的密接良好、铅笔硬度也良好而更优选。另外，在这些单体中混合聚氨酯多官能丙烯酸酯等寡聚物成分也可使硬度变得良好，并且使聚合收缩减少，可良好地形成防止卷曲或裂痕的性能，故优选。
在此种树脂组合物中，也可为了提升硬度而含有二氧化硅等无机微粒等。另外，为了使与树脂组合物的兼容性变佳，可进行有机表面处理，也可具有反应性基。
另外，作为粘合剂，也可将聚合物添加至上述树脂组合物中来使用。作为聚合物，例如可列举聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA，Polymethyl Methacrylate)、乙酸-丙酸纤维素(CAP，Cellulose AcetatePropionate)等。通过添加聚合物，可调整涂液的粘度，由此有使涂布变得容易的优点。
另外，在上述树脂组合物中，视需要可添加光自由基聚合引发剂。优选的添加量相对于上述树脂组合物的总固态成分的合计质量为0.8～8.0质量％。作为光自由基聚合引发剂，可使用苯乙酮类、苯偶姻类、二苯甲酮类、氧化膦类、缩酮类、蒽醌类、9-噻吨酮类、偶氮化合物等。
作为苯乙酮类，可列举2，2-二甲氧基苯乙酮、2，2-二乙氧基苯乙酮、对二甲基苯乙酮、1-羟基-二甲基苯基酮、1-羟基-二甲基-对异丙基苯基酮、1-羟基环己基苯基酮、2-甲基-4-甲硫基-2-吗啉基苯丙酮、2-苄基-2-二甲基氨基-1-(4-吗啉基苯基)-丁酮、4-苯氧基二氯苯乙酮、4-叔丁基-二氯苯乙酮等，作为苯偶姻类，可列举苯偶姻、苯偶姻甲醚、苯偶姻乙醚、苯偶姻异丙醚、苄基二甲基缩酮、苯偶姻苯磺酸酯、苯偶姻甲苯磺酸酯、苯偶姻甲醚、苯偶姻乙醚等。
另外，作为二苯甲酮类，可使用二苯甲酮、羟基二苯甲酮、4-苯甲酰基-4′-甲基二苯基硫化物、2，4-二氯二苯甲酮、4，4-二氯二苯甲酮及对氯二苯甲酮、4，4′-二甲基氨基二苯甲酮(米其勒酮)、3，3′，4，4′-四(叔丁基过氧化羰基)二苯甲酮等。
另外，也可混合使用光敏剂，作为其具体例，可列举正丁基胺、三乙胺、聚-正丁基膦等。
HC层的膜厚只要适当调节即可，例如，只要为1～20μm即可。优选为5～15μm。若超过15μm则无法获得优异的灰尘附着防止性能，若小于5μm，则硬度变得不足、且密接性也变弱。
通常，若层叠于抗静电层上的HC层变厚，则灰尘附着防止性能变差，但若为本申请的构成及组合物，则可获得优异的灰尘附着防止性能。
在本发明的光学薄膜的优选的实施形态中，即便以抗静电层为1～5μm、HC层为5～15μm的方式在抗静电层上层叠有较厚的HC层，光学薄膜也可获得充分的灰尘附着防止性能、及充分的抗静电层与HC层的密接性。
(其他层)
在本发明的光学薄膜中，在不脱离本发明的主旨的范围内，在上述HC层的与抗静电层相反侧的面上，也可为了提升光学薄膜的抗反射性、防眩性及防污性等而设置高折射率层、中折射率层、低折射率层、防眩层及防污层等其他层。
(高折射率层及中折射率层)
高折射率层及中折射率层是为了调整本发明的光学薄膜的反射率而设置的层。在设置高折射率层的情况下，虽未图示，但通常邻接于低折射率层的TAC基材侧而设置。另外，在设置中折射率层的情况下，虽未图示，但通常从TAC基材侧起依序设置中折射率层、高折射率层及低折射率层。
高折射率层及中折射率层包含主要含有粘合剂成分及折射率调整用粒子的组合物的固化物。作为粘合剂成分，可使用抗静电层用组合物中所列举的多官能单体等。作为折射率调整用粒子，例如可列举粒径为100nm以下的微粒。作为此种微粒，可列举选自氧化锌(折射率：1.90)、二氧化钛(折射率：2.3～2.7)、二氧化铈(折射率：1.95)、掺锡氧化铟(折射率：1.95)、掺锑氧化锡(折射率：1.80)、氧化钇(折射率：1.87)、氧化锆(折射率：2.0)中的一种以上。
具体而言，高折射率层的折射率优选为1.50～2.80。中折射率层的折射率低于高折射率层的折射率，优选为1.50～2.00。
高折射率层及中折射率层的膜厚只要适当调节即可，优选为50～300nm。
(低折射率层)
低折射率层包含含有二氧化硅或氟化镁等折射率较低的成分及粘合剂成分的组合物、或者含有偏二氟乙烯共聚物等含氟树脂的低折射率层用组合物的固化物，可形成现有公知的低折射率层。
在用于形成低折射率层的组合物中，为了降低低折射率层的折射率，也可含有中空粒子。中空粒子是指具有外壳层且被外壳层所包围的内部为多孔质组织或空穴的粒子。该多孔质组织或空穴中含有空气(折射率：1)，通过使低折射率层含有折射率为1.20～1.45的中空粒子，可降低低折射率层的折射率。中空粒子的平均粒径优选为1～100nm。中空粒子可使用先前公知的低折射率层中所使用的粒子，例如可例举日本专利特开2008-165040号公报中所记载的具有空隙的微粒。
当上述脂肪酸金属盐粒子的个数平均一次粒径小于上述下限时，存在如下的情形：容易产生脂肪酸金属盐粒子彼此的凝聚、或脂肪酸金属盐粒子对于着色树脂粒子的掩埋等不良情况，对碳粉的印字性能造成不良影响。
另一方面，当上述脂肪酸金属盐粒子的个数平均一次粒径超过上述上限时，存在如下的情形：脂肪酸金属盐粒子易于从着色树脂粒子游离(脱离)，无法将所需的外添剂的功能(对碳粉赋予带电稳定性、及流动性等的功能)充分地赋予至碳粉粒子，对碳粉的印字性能造成不良影响。
(防眩层)
防眩层包含含有粘合剂成分及防眩剂的防眩层用组合物的固化物，粘合剂成分可使用上述抗静电层用组合物中所列举的多官能单体等。
作为防眩剂，可列举微粒，例如可列举苯乙烯颗粒(折射率为1.59)、三聚氰胺颗粒(折射率为1.57)及丙烯酸颗粒(折射率为1.49)等。此种赋予防眩性的微粒的平均粒径优选为100～500nm。赋予防眩性的微粒的含量相对于防眩层用组合物中所包含的粘合剂成分的总质量，优选为2～30质量％。
(防污层)
根据本发明的优选的实施方式，为了防止光学薄膜最表面的污渍，可在光学薄膜的与TAC基材相反侧的最表面设置防污层。通过防污层，可对光学薄膜谋求防污性及耐擦伤性的进一步的改善。防污层包含含有防污剂及粘合剂成分的防污层用组合物的固化物。
防污层用组合物的粘合剂成分可使用先前公知者，例如可使用上述抗静电层用组合物中列举的多官能单体。
防污层用组合物中所包含的防污剂可从公知的均化剂等防污剂中适当选择一种或两种以上来使用。防污剂的含量相对于防污层用组合物中所包含的粘合剂成分的总质量，优选为0.1～5质量％。
(光学薄膜的制造方法)
作为本发明的光学薄膜的制造方法，若为可获得上述光学薄膜的层构成的方法，则并无特别限定，可使用先前公知的方法。
作为其一例，包括如下步骤：(i)准备三乙酰纤维素基材；(ii)准备上述抗静电层用组合物及硬涂层用组合物；(iii)在该TAC基材的一侧涂布该抗静电层用组合物来制成涂膜；(iv)对该抗静电层用组合物的涂膜进行光照射，使其固化而形成抗静电层；(v)在抗静电层上涂布该硬涂层用组合物来制成涂膜；(vi)对该HC层用组合物的涂膜进行光照射，使其固化而形成HC层。
此外，也可在上述(iv)步骤中不使抗静电层用组合物的涂膜完全固化(full cure)，而使其半固化(half cure)，并在该半固化的涂膜上涂布HC层用组合物来制成涂膜，使该半固化的涂膜与HC层用组合物的涂膜合并后进行光照射，然后使其完全固化而获得光学薄膜。通过以上述的方式使用半固化法，有抗静电层与HC层的密接性提高的优点。
涂布方法只要使用先前公知的方法即可，并无特别限定，可使用凹版涂布法、旋涂法、浸渍法、喷雾法、斜板式涂布法、棒涂法、辊涂法、弯月面涂布法、快干印刷法、网版印刷法及液滴涂布法(bead coater)等各种方法。
光照射主要使用紫外线、可见光、电子束或电离放射线等。在紫外线固化的情况下，使用从超高压水银灯、高压水银灯、低压水银灯、碳弧灯、氙弧灯、金属卤化物灯等的光线发出的紫外线等。能量射线源的照射量以紫外线波长365nm下的累计曝光量计为50～500mJ/cm2。半固化的情况下的照射量为5～50mJ/cm2。在光照射的基础上还进行加热的情况下，通常在40℃～120℃的温度下进行处理。
在涂布抗静电层用组合物后、且进行光照射前，也可进行干燥。作为干燥方法，例如可列举减压干燥或加热干燥、进而将这些干燥加以组合的方法等。另外，在以常压进行干燥的情况下，优选为在30～110℃下进行干燥。例如，在使用甲基乙基酮作为抗静电层用组合物的溶剂的情况下，可在室温～80℃、优选为40℃～70℃的范围内的温度下，进行20秒～3分钟、优选为30秒～1分钟的干燥步骤。
HC层或低折射率层等的组合物只要以与上述抗静电层相同的方法制备即可。另外，在在HC层上设置低折射率层等的情况下，可使用上述抗静电层的涂布方法或固化方法。
(偏振片)
本发明的偏振片的特征在于：在上述光学薄膜的三乙酰纤维素基材侧设置有偏振元件。图3是表示本发明的偏振片的层构成的一例的示意图。图3中所示的偏振片80具有光学薄膜1、及层叠有保护薄膜50与偏振层60的偏振元件70，且偏振元件70设置于光学薄膜1的三乙酰纤维素基材10侧。
再者，所谓在光学薄膜的三乙酰纤维素基材侧配置有偏振元件，不仅包括独立地形成光学薄膜及偏振元件的情形，也包括构成光学薄膜的构件兼作构成偏振元件的构件的情形。
另外，在将本发明的偏振片用于显示面板的情况下，通常在偏振元件侧配置显示面板。
再者，关于光学薄膜，由于只要使用上述光学薄膜即可，故而省略此处的说明。以下，对本发明的偏振片中的其他构成加以说明。
(偏振元件)
作为本发明中所使用的偏振元件，只要具备规定的偏振特性即可，并无特别限定，可使用液晶显示设备中通常所使用的偏振元件。
关于偏振元件的形态，只要为能够长时间保持规定的偏振特性的形态即可，并无特别限定，例如可仅由偏振层构成，也可将保护薄膜与偏振层贴合而成。在将保护薄膜与偏振层贴合的情况下，可仅在偏振层的单面上形成保护薄膜，也可在偏振层的两面上形成保护薄膜。
作为偏振层，通常使用通过使碘浸渗于包含聚乙烯醇的薄膜中，并将其单轴拉伸而形成了聚乙烯醇与碘的络合物的偏振层。
另外，作为保护薄膜，只要可保护上述偏振层、且具有所需的透光性，则并无特别限定。作为保护薄膜的透光性，在可见光区域中的透射率优选为80％以上，更优选为90％以上。再者，上述保护薄膜的透射率可通过JIS K7361-1(塑料-透明材料的全光透射率的试验方法)进行测定。
作为构成保护薄膜的树脂，例如可列举纤维素衍生物、环烯烃系树脂、聚甲基丙烯酸甲酯、聚乙烯醇、聚酰亚胺、聚芳酯、聚对苯二甲酸乙二醇酯等。其中，优选为使用纤维素衍生物或环烯烃系树脂。
保护薄膜可由单一的层构成，也可层叠多个层而构成。另外，在保护薄膜为层叠有多个层的情况下，可层叠有同一组成的多个层，另外，也可层叠有具有不同组成的多个层。
另外，关于保护薄膜的厚度，若为可使本发明的偏振片的可挠性处于所需的范围内、且通过与偏振层贴合而可使偏振元件的尺寸变化处于规定的范围内的范围即可，并无特别限定，但优选为5～200μm的范围内，特优选为15～150μm的范围内，更优选为30～100μm的范围内。若上述厚度薄于5μm，则存在本发明的偏振片的尺寸变化变大的可能性。另外，若上述厚度厚于200μm，则例如在对本发明的偏振片进行裁剪加工时，存在加工屑增加、或裁剪刀的磨损变快的可能性。
保护薄膜可具有相位差性。通过使用具有相位差性的保护薄膜，存在可使本发明的偏振片成为具有显示面板的视角补偿功能者的优点。
作为保护薄膜具有相位差性的实施方式，只要为可显现所需的相位差性的实施方式即可，则并无特别限定。作为此种实施方式，例如可列举：保护薄膜由单一层构成，并含有显现相位差性的光学特性显现剂，由此具有相位差性的实施方式；以及通过具有在包含上述树脂的保护薄膜上层叠有包含具有折射率各向异性的化合物的位相差层的构成，而具有相位差性的实施方式。在本发明中，这些的任一实施方式均可优选地使用。
(显示面板)
本发明的显示面板的特征在于，在上述光学薄膜的三乙酰纤维素基材侧配置有显示器。
作为显示器，可列举LCD、PDP、ELD(ElectroluminescentDisplay，电场发光显示器)(有机EL、无机EL)、CRT、触控面板、电子纸、平板计算机(Tablet Personal Computer)等。
本发明的显示面板也可用于触控面板、电子纸、平板PC等。
作为上述显示器的代表例的LCD，为透过型，且为具备透过性显示体及从背面照射其的光源装置。在上述显示器为LCD的情况下，其在该透过性显示体的表面上配置本发明的光学薄膜或具备该光学薄膜的上述偏振片而成。
作为上述显示器的另一例的PDP，具备表面玻璃基板、及与该表面玻璃基板对置配置且两者间填充有放电气体的背面玻璃基板而成。在上述显示器为PDP的情况下，其在表面玻璃基板的表面或其前面板(玻璃基板或薄膜基板)上具备上述光学薄膜。
上述显示器也可为若施加电压则发光的硫化锌、二胺类物质等发光体蒸镀于玻璃基板上，并控制施加于基板的电压来进行显示的ELD装置，或者将电讯号转换为光，产生人眼可见的像的CRT等显示器。在此情况下，其在ELD装置或CRT的最外表面或其前面板的表面上具备上述光学薄膜。
[实施例]
以下，列举实施例更具体地说明本发明。本发明并不受这些记载限制。
制备具有以下的组成的抗静电层用组合物1及HC层用组合物1。
(抗静电层用组合物1)
抗静电剂(A)：日本化成(株式会社)制造的商品名UV-ASHC-01(重均分子量为20000，固态成分为70％，固态成分中季铵盐成分为15％)：固态成分换算1质量份
多官能单体(B)：二季戊四醇六丙烯酸酯(DPHA)(商品名：KAYARAD DPHA，日本化药(株式会社)制造，6官能，分子量为578)：64质量份
聚氨酯丙烯酸酯(C)：荒川化学工业(株式会社)制造的商品名BS577(6官能，重均分子量为1000)：35质量份
聚合引发剂：Ciba Specialty Chemicals(株式会社)制造的商品名Irgacure184(1-羟基环己基苯基酮)：1质量份
甲基乙基酮：100质量份
(HC层用组合物1)
二季戊四醇六丙烯酸酯(商品名：KAYARAD DPHA，日本化药(株式会社)制造，6官能，分子量为578)：98质量份
聚合引发剂：Ciba Specialty Chemicals(株式会社)制造的商品名Irgacure184(1-羟基环己基苯基酮)：4质量份
甲基乙基酮：100质量份
(实施例1)
准备厚度为80μm的TAC基材(Fuji Film(株式会社)制造的商品名TF80UL)，在TAC基材的单面涂布所制备的上述抗静电层用组合物1，并在温度为70℃的热烘箱中干燥60秒钟而使涂膜中的溶剂蒸发，然后以使累计光量达到50mJ的方式照射紫外线而使涂膜固化，由此形成干燥时的厚度为2.5μm的抗静电层。
继而，在所获得的抗静电层上涂布所制备的上述硬涂层用组合物1，与抗静电层同样地进行干燥，然后以使累计光量达到150mJ的方式照射紫外线而使涂膜固化，形成干燥时的厚度为12μm的硬涂层，由此制成于TAC基材的一侧从TAC基材侧起依序具有抗静电层及硬涂层的光学薄膜。
另外，为了测定抗静电层的表面电阻率，与上述光学薄膜同样地在TAC基材(TF80UL)上进行至形成抗静电层的步骤为止，制成在TAC基材的一侧仅具有抗静电层的层叠体。
(实施例2～7)
在实施例1中，将抗静电层用组合物1中所包含的抗静电剂(A)、多官能单体(B)及聚氨酯丙烯酸酯(C)的量或种类分别如表1所示般加以替换，除此以外，以与实施例1相同的方式制作光学薄膜及层叠体。再者，实施例7中所使用的聚氨酯丙烯酸酯(C)为商品名UV-7610B(日本合成制造)。
(比较例1、2)
在实施例1中，将抗静电层用组合物1中所包含的抗静电剂(A)、多官能单体(B)及聚氨酯丙烯酸酯(C)的量分别如表1所示般加以替换，除此以外，以与实施例1相同的方式制作光学薄膜及层叠体。
(比较例3)
在实施例1中，作为抗静电层用组合物1中所包含的多官能单体(B)，使用日本化药(株式会社)制造的R128H(单官能，分子量为222)来代替DPHA，并将抗静电剂(A)、多官能单体(B)及聚氨酯丙烯酸酯(C)的量分别如表1所示般加以替换，除此以外，以与实施例1相同的方式制作光学薄膜及层叠体。
(比较例4)
在实施例1中，作为抗静电层用组合物1中所包含的多官能单体(B)，使用日本化药(株式会社)制造的DPCA60(6官能，分子量为1263)来代替DPHA，并将抗静电剂(A)、多官能单体(B)及聚氨酯丙烯酸酯(C)的量分别如表1所示般加以替换，除此以外，以与实施例1相同的方式制作光学薄膜及层叠体。
(比较例5)
在实施例1中，作为抗静电层用组合物1中所包含的聚氨酯丙烯酸酯(C)，使用Daicel-Cytec(株式会社)制造的EBECRYL270(2官能，分子量为1500)来代替BS577，并将抗静电剂(A)、多官能单体(B)及聚氨酯丙烯酸酯(C)的量分别如表1所示般加以替换，除此以外，以与实施例1相同的方式制作光学薄膜及层叠体。
(比较例6)
在实施例1中，作为抗静电层用组合物1中所包含的聚氨酯丙烯酸酯(C)，使用Daicel-Cytec(株式会社)制造的EBECRYL5129(6官能，分子量为800)来代替BS577，并将抗静电剂(A)、多官能单体(B)及聚氨酯丙烯酸酯(C)的量分别如表1所示般加以替换，除此以外，以与实施例1相同的方式制作光学薄膜及层叠体。
(比较例7)
在实施例1中，作为抗静电层用组合物1中所包含的聚氨酯丙烯酸酯(C)，使用荒川化学工业(株式会社)制造的BS371MLV(50官能，分子量为20000)来代替BS577，并将抗静电剂(A)、多官能单体(B)及聚氨酯丙烯酸酯(C)的量分别如表1所示般加以替换，除此以外，以与实施例1相同的方式制作光学薄膜及层叠体。
(比较例8～11)
在实施例1中，将抗静电层用组合物1中所包含的抗静电剂(A)、多官能单体(B)及聚氨酯丙烯酸酯(C)的量分别如表1所示般加以替换，除此以外，以与实施例1相同的方式制作光学薄膜及层叠体。
(参考例1)
在实施例6中，将抗静电层用组合物1中所包含的溶剂替换为仅为非渗透溶剂，除此以外，以与实施例6相同的方式制作光学薄膜及层叠体。
(比较例12)
在实施例3中，将抗静电层用组合物1中所包含的聚氨酯丙烯酸酯(C)替换为己内酯改性二季戊四醇六丙烯酸酯(商品名：KAYARAD DPCA-60，日本化药(株式会社)制造)，除此以外，以与实施例3相同的方式制作光学薄膜及层叠体。该化合物因与DPHA相同的理由而存在亲水性倾向。
(参考例2)
在实施例3中，将抗静电层用组合物1中所包含的抗静电剂(A)替换为抗静电剂(B)(金属微粒：ATO，商品名：ELCOM V3560，日挥触媒化成制造)，除此以外，以与实施例3相同的方式制作光学薄膜及层叠体。
(参考例3)
在参考例2中，将抗静电层用组合物1中所包含的抗静电剂(B)的量如表1所示般增多，除此以外，以与参考例2相同的方式制作光学薄膜及层叠体。
(抗静电层的表面电阻率的评价)
针对实施例1～7、比较例1～12、及参考例1～3的基材上层叠有抗静电层的层叠体，利用高电阻率计(Mitsubishi ChemicalAnalytech(株式会社)制造的商品名Hiresta IP MCP-HT260)以施加电压1000V测定表面电阻率。将其结果示于表1。再者，本案中所记载的表面电阻率的单位Ω/□是指Ω/sq.(每单位面积的电阻)。
(光学薄膜的灰尘附着防止性的评价)
利用聚酯布将实施例及比较例中所制作的包含基材/抗静电层/硬涂层的光学层叠体的HC层面往返擦拭20次，然后使该擦拭面接近香烟灰并以下述基准评价尘埃附着防止。
○：灰不附着，具有灰尘附着防止效果而良好。
×：灰大量附着，无灰尘附着防止效果。
(光学薄膜的密接性的评价)
针对实施例1～7、比较例1～12、及参考例1～3的光学薄膜，在温度25℃、湿度40％下调湿24小时后，依据JIS K5400的方格试验的方法，在硬涂层面上以1mm间隔横竖分别切入11条缝隙来制作100个方格，将Nichiban(株式会社)制造的Cellotape(注册商标)贴附于方格上后，迅速将其于90°的方向上拉伸而使其剥离，并根据下述基准来算出密接率。
密接率(％)＝(未剥落的方格数/合计方格数100)×100
另外，针对实施例1～7、比较例1～12、及参考例1～3的光学薄膜，也求出在温度25℃、湿度40％下调湿24小时后，在温度30℃、湿度40％下以每小时500W/m2的光量照射紫外线192小时后的密接率。将耐UV试验前后的光学薄膜的密接率的测定结果一并示于表1中。
Figure BDA00002647706800321
(结果的总结)
根据表1，实施例1～7中均获得良好的层叠体(抗静电层)的表面电阻率，且光学薄膜的密接性也良好。另外，光学特性及外观也良好。
然而，在比较例1、2中，由于抗静电层用组合物中未包含多官能单体(B)或聚氨酯丙烯酸酯(C)，故虽然耐UV试验前的密接率良好，但耐UV试验后的密接率较差。
在比较例3中，由于多官能单体(B)为单官能，故而未获得充分的密接率。
在比较例4中，多官能单体(B)的分子量超过1000，且密接率较低，尤其耐UV试验后的密接率较低。可认为其原因在于：多官能单体(B)朝TAC基材的渗透不充分，TAC基材与抗静电层的密接性变得不充分。
在比较例5中，聚氨酯丙烯酸酯(C)的官能基数为2而较少，且密接率较低，尤其耐UV试验后的密接率较低。可认为其原因在于：由聚氨酯丙烯酸酯(C)所引起的交联较少，抗静电层与HC层的密接性变得不充分。
在比较例6中，聚氨酯丙烯酸酯(C)的分子量小于1000，尤其耐UV试验后的密接率较低。可认为其原因在于：由于聚氨酯丙烯酸酯(C)过度渗透至TAC基材内，故而抗静电层与HC层的密接性变得不充分。
在比较例7中，聚氨酯丙烯酸酯(C)的分子量超过10000，且密接率较低，尤其耐UV试验后的密接率较低。表面电阻率也较高，可认为其原因在于：聚氨酯丙烯酸酯(C)未完全渗透至TAC基材内，抗静电层中的抗静电剂(A)的相对量变少。
在比较例8中，抗静电剂(A)的含有比例较少，表面电阻率变高。
在比较例9中，抗静电剂(A)的含有比例较多，抗静电性良好，但由于成为粘合剂的多官能单体(B)及聚氨酯丙烯酸酯(C)的量变少，故而于耐UV试验前后密接率较低。
在比较例10中，由于多官能单体(B)的含有比例较多，聚氨酯丙烯酸酯(C)的含有比例较少，故而密接率较低，尤其耐UV试验后的密接率较低。
在比较例11中，由于聚氨酯丙烯酸酯(C)的含有比例较多，多官能单体(B)的含有比例较少，故而耐UV试验前密接率良好，但耐UV试验后的密接率较低。
在参考例1中，密接率较低，表面电阻率较高。可认为其原因在于：由于将抗静电层用组合物中的溶剂仅设为被渗透溶剂，故而聚氨酯丙烯酸酯(C)未充分渗透至TAC基材内，抗静电层中的抗静电剂(A)的相对量变少。
在比较例12中，由于未使用作为疏水性树脂的聚氨酯丙烯酸酯(C)，故而季铵盐过度分散，表面电阻率较高。因此，也未获得灰尘附着防止性。
在参考例2中，使用金属微粒作为抗静电剂。由于设为可获得与季铵盐的情形相同的全光线透射率的水程度的添加量(相当少)，故而表面电阻率较差。
在参考例3中，为了不考虑全光线透射率而获得必需的抗静电性，调配有比参考例2更多的作为抗静电剂的金属微粒，因此密接性较差。因添加量较多而存在着色，全光线透射率低于季铵盐的情形(88％)、雾值(0.8％)变高。
对实施例、比较例及参考例的光学薄膜的灰尘附着防止性进行评价的结果，在层叠体的表面电阻率小于1×1012Ω/□的情况下均良好，但在除此以外的情况下，灰大量附着。即，若为具有优选的表面电阻率的抗静电层，则即便于其上层叠有HC层，也可对光学薄膜赋予灰尘附着防止性。
符号说明
1、2光学薄膜
10三乙酰纤维素基材
20抗静电层
30硬涂层
40低折射率层
50保护薄膜
60偏振层
70偏振元件
80偏振片

Claims (11)

1.一种抗静电层用固化性树脂组合物，其特征在于，
包含
A：抗静电剂；
B：在1个分子中具有2个以上的光固化性基，且分子量为900以下的多官能单体；以及
C：在1个分子中具有6个以上的丙烯酰基及/或甲基丙烯酰基，且重均分子量为1000～11000的聚氨酯丙烯酸酯，
所述A相对于所述A、B及C的总量的比例为1～30质量％，
且所述C相对于所述B及C的总量的比例为1～40质量％。
2.如权利要求1所述的抗静电层用固化性树脂组合物，其中，
所述A是重均分子量为1000～50000的季铵盐。
3.如权利要求1或2所述的抗静电层用固化性树脂组合物，其中，
还包括
D：渗透性溶剂；及
E：非渗透性溶剂。
4.如权利要求1～3中任一项所述的抗静电层用固化性树脂组合物，其中，
所述抗静电层用固化性树脂组合物的膜厚为1～5μm的固化物的表面电阻率小于1×1012Ω/□。
5.一种光学薄膜，其特征在于，是在三乙酰纤维素基材的一侧，从所述三乙酰纤维素基材侧开始邻接地设置有膜厚为1～5μm的抗静电层、及硬涂层的光学薄膜，
所述抗静电层由权利要求1～4中任一项所述的抗静电层用固化性树脂组合物的固化物形成，
所述多官能单体B渗透至所述三乙酰纤维素基材的抗静电层侧的界面附近的区域并固化。
6.如权利要求5所述的光学薄膜，其具有灰尘附着防止性。
7.如权利要求5或6所述的光学薄膜，其中，
所述硬涂层、所述抗静电层及所述三乙酰纤维素基材间的方格密接性试验的密接率为90～100％，且在温度30℃、湿度40％下，以每小时500W/m2的光量照射紫外线192小时后的所述密接率为80～100％。
8.如权利要求5～7中任一项所述的光学薄膜，其中，
在所述硬涂层的与抗静电层相反侧的面，还设置有低折射率层。
9.如权利要求5～8中任一项所述的光学薄膜，其中，
所述硬涂层为含有电离放射线固化性树脂的组合物的固化物。
10.一种偏振片，其特征在于，
在所述权利要求5～9中任一项所述的光学薄膜的三乙酰纤维素基材侧设置有偏振元件。
11.一种显示面板，其特征在于，
在所述权利要求5～9中任一项所述的光学薄膜的三乙酰纤维素基材侧配置有显示器。
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN105593715A (zh) * 2013-09-30 2016-05-18 日东电工株式会社 光学层叠体
CN107791632A (zh) * 2017-11-24 2018-03-13 惠州市摩码菱丽光电材料有限公司 一种tac基材的低反射率无彩虹纹硬化保护膜及其制备方法
CN108802885A (zh) * 2018-04-23 2018-11-13 深圳市运宝莱光电科技有限公司 一种电磁屏蔽偏光片及制备方法

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR102406865B1 (ko) * 2017-12-18 2022-06-10 디아이씨 가부시끼가이샤 활성 에너지선 경화성 조성물, 및, 그것을 사용한 필름
WO2024101232A1 (ja) * 2022-11-07 2024-05-16 Ａｇｃ株式会社 フィルム及び半導体パッケージの製造方法

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007332181A (ja) * 2006-06-12 2007-12-27 Nippon Kasei Chem Co Ltd 帯電防止組成物、帯電防止層および帯電防止フィルム
US20090075074A1 (en) * 2007-09-12 2009-03-19 Dai Nippon Printing Co., Ltd. Optical layered body, method of producing the same, polarizer, and image display device

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006306008A (ja) 2005-03-31 2006-11-09 Jsr Corp 帯電防止用積層体
CN101410729B (zh) * 2006-03-31 2011-03-30 大日本印刷株式会社 光学层积体
KR101574351B1 (ko) * 2008-09-16 2015-12-03 닛본 페인트 홀딩스 가부시키가이샤 내지문성 광경화성 조성물 및 내지문성 코팅층이 설치된 도장물

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007332181A (ja) * 2006-06-12 2007-12-27 Nippon Kasei Chem Co Ltd 帯電防止組成物、帯電防止層および帯電防止フィルム
US20090075074A1 (en) * 2007-09-12 2009-03-19 Dai Nippon Printing Co., Ltd. Optical layered body, method of producing the same, polarizer, and image display device

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN105593715A (zh) * 2013-09-30 2016-05-18 日东电工株式会社 光学层叠体
CN107791632A (zh) * 2017-11-24 2018-03-13 惠州市摩码菱丽光电材料有限公司 一种tac基材的低反射率无彩虹纹硬化保护膜及其制备方法
CN108802885A (zh) * 2018-04-23 2018-11-13 深圳市运宝莱光电科技有限公司 一种电磁屏蔽偏光片及制备方法

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