CN103492913B - 光学层叠体 - Google Patents
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Abstract
本发明提供一种光学层叠体,该光学层叠体的低透湿性的(甲基)丙烯酸系树脂薄膜(基材薄膜)与硬涂层的密合性优异,并且干涉斑得到了抑制。本发明的光学层叠体具备:由(甲基)丙烯酸系树脂薄膜形成的基材层(10)、将硬涂层形成用组合物涂敷在(甲基)丙烯酸系树脂薄膜上而形成的硬涂层(30)及在上述基材层与上述硬涂层之间通过上述硬涂层形成用组合物渗透至上述(甲基)丙烯酸系树脂薄膜而形成的渗透层(20),其中,上述渗透层的厚度为1.2μm以上。
Description
技术领域
本发明涉及光学层叠体。
背景技术
对于液晶显示器(LCD,Liquid Crystal Display)、阴极射线管显示装置(CRT,Cathode Ray Tube)、等离子体显示器(PDP,Plasma Display Panel)、电致发光显示器(ELD,Electroluminescence Display)等图像显示装置而言,如果由于来自外部的接触而使其表面受到损伤,则有时显示图像的视认性会下降。因此,为了保护图像显示装置的表面,使用了包含基材薄膜与硬涂层的光学层叠体。代表性地使用了三乙酰纤维素(TAC)作为光学层叠体的基材薄膜。然而,由TAC形成的基材薄膜的透湿度高。因此,在将包含这种基材薄膜的光学层叠体用于LCD时,有高温高湿下水分透过该光学层叠体而使起偏器的光学特性劣化这样的问题。近年来,除于在屋内使用以外,LCD也大量用于汽车导航系统、便携信息终端之类在屋外使用的设备中,从而要求即便在高温高湿等严酷的条件下也不会产生上述问题的可靠性高的LCD。
为了解决上述问题,提出了在低透湿性的环烯烃基材薄膜上涂敷硬涂层形成用组合物而成的光学层叠体(专利文献1)。然而,这种环烯烃基材薄膜有与硬涂层的密合性差这样的问题。另外,有由于基材薄膜与硬涂层的折射率差而产生干涉斑(干涉不均,interference unevenness)这样的问题。进而,上述环烯烃基材薄膜不具有充分的紫外线吸收能力,从而使用了这些基材薄膜的光学层叠体有由于外部光等产生光学特性劣化这样的问题。如此,在使用低透湿性且紫外线吸收能力高的基材薄膜的同时满足基材薄膜与硬涂层之间充分的密合性而使得干涉斑小的光学层叠体尚未被实际应用。
现有技术文献
专利文献
专利文献1:日本特开2006-110875号公报
发明内容
发明所要解决的问题
本发明是为了解决上述现有问题而进行的,其目的在于,提供一种光学层叠体,该光学层叠体为低透湿性,并且具有紫外线吸收能力的(甲基)丙烯酸系树脂薄膜(基材薄膜)与硬涂层的密合性优异,而且干涉斑得到抑制。
用于解决问题的手段
本发明的光学层叠体具备:由(甲基)丙烯酸系树脂薄膜形成的基材层、在(甲基)丙烯酸系树脂薄膜上涂敷硬涂层形成用组合物而形成的硬涂层及在上述基材层与上述硬涂层之间通过上述硬涂层形成用组合物渗透至上述(甲基)丙烯酸系树脂薄膜而形成的渗透层,其中,上述渗透层的厚度为1.2μm以上。
在优选的实施方案中,在上述渗透层中,用于形成(甲基)丙烯酸系树脂薄膜的(甲基)丙烯酸系树脂的浓度自硬涂层一侧向基材层一侧连续地升高。
在优选的实施方案中,在500nm~600nm的波长区域中的硬涂层的反射光谱的振幅为0.5%以下。
在优选的实施方案中,上述基材层的折射率与硬涂层的折射率之差的绝对值为0.01~0.15。
在优选的实施方案中,上述(甲基)丙烯酸系树脂薄膜对波长为380nm的光的透过率为15%以下。
在优选的实施方案中,用于形成上述(甲基)丙烯酸系树脂薄膜的(甲基)丙烯酸系树脂具有显现正的双折射的结构单元与显现负的双折射的结构单元。
在优选的实施方案中,用于形成上述(甲基)丙烯酸系树脂薄膜的(甲基)丙烯酸系树脂在侧链上具有芳香环。
在优选的实施方案中,上述硬涂层形成用组合物包含具有两个以上的(甲基)丙烯酰基的固化性化合物。
在优选的实施方案中,上述硬涂层形成用组合物还包含单官能单体。
在优选的实施方案中,上述单官能单体的重均分子量为500以下。
在优选的实施方案中,上述单官能单体具有羟基。
在优选的实施方案中,上述单官能单体为(甲基)丙烯酸羟基烷基酯和/或N-(2-羟基烷基)(甲基)丙烯酰胺。
在优选的实施方案中,上述硬涂层形成用组合物包含氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯和/或氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯的低聚物。
在一种实施方案中,上述硬涂层形成用组合物包含具有羟基的(甲基)丙烯酸系预聚物。
在一种实施方案中,上述硬涂层形成用组合物不含溶剂。
在优选的实施方案中,上述硬涂层的与上述渗透层相反的一侧的表面具有凹凸结构。
在优选的实施方案中,本发明的光学层叠体在上述硬涂层的与上述渗透层相反的一侧上还具备防反射层。
本发明的另一方面提供一种偏振薄膜。上述偏振薄膜包含上述光学层叠体。
本发明的又一方面提供一种图像显示装置。上述图像显示装置包含上述光学层叠体。
本发明的再一方面提供一种光学层叠体的制造方法。上述光学层叠体的制造方法包括下述工序:将硬涂层形成用组合物涂布在上述(甲基)丙烯酸系树脂薄膜上而形成涂布层,并且在80℃~140℃下对上述涂布层进行加热。
发明效果
根据本发明,通过具备将硬涂层形成用组合物涂敷于(甲基)丙烯酸系树脂薄膜(基材薄膜)上而形成的基材层、硬涂层以及通过硬涂层形成用组合物渗透至(甲基)丙烯酸系树脂薄膜而形成的渗透层,提供在使用低透湿性的(甲基)丙烯酸系树脂薄膜作为基材薄膜的同时基材薄膜与硬涂层的密合性优异并且干涉斑得到抑制的光学层叠体。本发明的光学层叠体能够在不设置锚固层(anchor layer)并且不对(甲基)丙烯酸系树脂薄膜(基材薄膜)进行物理处理的情况下获得(甲基)丙烯酸系树脂薄膜(基材薄膜)与硬涂层的优异的密合性。另外,根据本发明,还能够密合性优异地在除了具有低透湿性以外还具有紫外线吸收能力的(甲基)丙烯酸系树脂薄膜(基材薄膜)上形成硬涂层。
附图说明
图1(a)是本发明的优选实施方式的光学层叠体的剖面示意图;图1(b)是现有的具有常规硬涂层的光学层叠体的剖面示意图的一个例子。
图2是本发明的另一实施方式的光学层叠体的剖面示意图。
图3是实施例的评价所使用的层叠体(R1)的硬涂层表面的高速傅里叶变换(FFT)光谱。
图4A是实施例1的光学层叠体的硬涂层表面的反射光谱。
图4B是实施例1的光学层叠体的硬涂层表面的FFT光谱。
图5A是比较例3的光学层叠体的硬涂层表面的反射光谱。
图5B是比较例3的光学层叠体的硬涂层表面的FFT光谱。
具体实施方式
以下,对本发明的优选实施方式进行说明,但本发明并不限于这些实施方式。
A.光学层叠体的整体构成
图1(a)是本发明的优选实施方式的光学层叠体的剖面示意图;图1(b)是现有的具有常规硬涂层的光学层叠体的剖面示意图。图1(a)所示的光学层叠体100依次具备:由(甲基)丙烯酸系树脂薄膜形成的基材层10、渗透层20和硬涂层30。硬涂层30是将硬涂层形成用组合物涂敷在(甲基)丙烯酸系树脂薄膜上而形成的。渗透层20是通过硬涂层形成用组合物渗透至(甲基)丙烯酸系树脂薄膜而形成的。基材层10是在这样地使硬涂层形成用组合物渗透至(甲基)丙烯酸系树脂薄膜时在(甲基)丙烯酸系树脂薄膜中硬涂层形成用组合物未到达(渗透)的部分。另一方面,图1(b)所示的光学层叠体200未形成渗透层。图1(a)及(b)所示的边界A是根据(甲基)丙烯酸系树脂薄膜的硬涂层形成用组合物涂敷面而规定的边界。因此,边界A在光学层叠体100中是渗透层20与硬涂层30的边界,在未形成渗透层的光学层叠体200中是基材层10’(即,(甲基)丙烯酸系树脂薄膜)与硬涂层30’的边界。此外,在本说明书中,所谓“(甲基)丙烯酸”是指丙烯酸和/或甲基丙烯酸。
如上所述,在光学层叠体100中,渗透层20是通过硬涂层形成用组合物渗透至(甲基)丙烯酸系树脂薄膜而形成的。即,所谓渗透层20是指在(甲基)丙烯酸系树脂薄膜中存在硬涂层成分的部分。渗透层20的厚度为1.2μm以上。此外,所谓渗透层20的厚度是指在上述(甲基)丙烯酸系树脂薄膜中存在硬涂层成分的部分的厚度,具体而言,是在(甲基)丙烯酸系树脂薄膜中存在硬涂层成分的部分(渗透层)与不存在硬涂层成分的部分(基材层)的边界B与边界A的距离。
本发明的光学层叠体根据需要也可在硬涂层30的外侧上配置任何适当的其它层(未图示)。代表性地,其它层是隔着粘结剂层(未图示)而配置的。
对于用于形成上述(甲基)丙烯酸系树脂薄膜的(甲基)丙烯酸系树脂而言,也可通过将其溶解析出到硬涂层形成用组合物中而使硬涂层中存在该(甲基)丙烯酸系树脂。
图2是本发明的另一实施方式的光学层叠体的剖面示意图。光学层叠体300在硬涂层30的与渗透层20相反的一侧上还包含阻挡层40。阻挡层40是通过如下产生的:将用于形成上述(甲基)丙烯酸系树脂薄膜的(甲基)丙烯酸系树脂溶解析出到硬涂层形成用组合物中,从而硬涂层形成用组合物与该(甲基)丙烯酸系树脂发生相分离。具备阻挡层40的光学层叠体的耐划伤性优异。
本发明的光学层叠体在500nm~600nm的波长区域中的硬涂层的反射光谱的振幅优选为0.5%以下,更优选为0.3%以下,进一步优选为0.1%以下。根据本发明,可获得反射光谱的振幅小即干涉斑小的光学层叠体。
由于本发明的光学层叠体具有规定厚度的渗透层,因此即便选择折射率差大的材料作为(甲基)丙烯酸系树脂薄膜及硬涂层的形成材料,也能够防止干涉斑的产生。对于本发明的光学层叠体而言,例如可将基材层的折射率与硬涂层的折射率之差的绝对值设为0.01~0.15。当然,也可将该折射率之差的绝对值设定为低于0.01。
本发明的光学层叠体例如被应用于偏振薄膜(也称为偏振板)。具体而言,在偏振薄膜中,可适宜地将本发明的光学层叠体设置于起偏器的单面或双面上,用作起偏器的保护材料。
B.基材层
上述基材层由(甲基)丙烯酸系树脂薄膜形成。更详细而言,如上述那样,当将硬涂层形成用组合物涂敷在(甲基)丙烯酸系树脂薄膜上时,基材层是在(甲基)丙烯酸系树脂薄膜中该硬涂层形成用组合物未到达(渗透)的部分。
上述(甲基)丙烯酸系树脂薄膜包含(甲基)丙烯酸系树脂。(甲基)丙烯酸系树脂薄膜例如可通过对含有包含(甲基)丙烯酸系树脂作为主成分的树脂成分的成形材料进行挤出成形而获得。
上述(甲基)丙烯酸系树脂薄膜的透湿度优选为200g/m2·24小时以下,更优选为80g/m2·24小时以下。根据本发明,即便这样地使用透湿度高的(甲基)丙烯酸系树脂薄膜,也能够获得(甲基)丙烯酸系树脂薄膜与硬涂层的密合性优异且干涉斑得到了抑制的光学层叠体。此外,透湿度例如可通过基于JIS Z0208的方法在温度为40℃、相对湿度为92%的试验条件下进行测定。
上述(甲基)丙烯酸系树脂薄膜对波长为380nm的光的透过率优选为15%以下,更优选为12%以下,进一步优选为9%以下。波长为380nm的光的透过率为上述范围时,显现出优异的紫外线吸收能力,因此可防止由光学层叠体的外部光等引起的紫外线劣化。
上述(甲基)丙烯酸系树脂薄膜的面内相位差Re优选为10nm以下,更优选为7nm以下,进一步优选为5nm以下,特别优选为3nm以下,最优选为1nm以下。(甲基)丙烯酸系树脂薄膜的厚度方向相位差Rth优选为15nm以下,更优选为10nm以下,进一步优选为5nm以下,特别优选为3nm以下,最优选为1nm以下。面内相位差及厚度方向相位差为上述范围时,可显著地抑制由相位差引起的对图像显示装置的显示特性的不良影响。更具体而言,可显著地抑制干涉斑或用于3D显示器用液晶显示装置时的3D影像失真。面内相位差及厚度方向相位差为上述范围的(甲基)丙烯酸系树脂薄膜例如可通过使用下述的具有戊二酰亚胺结构的(甲基)丙烯酸系树脂而获得。此外,面内相位差Re及厚度方向相位差Rth可分别根据下述式求出:
Re=(nx-ny)×d
Rth=(nx-nz)×d
此处,nx为(甲基)丙烯酸系树脂薄膜的慢轴方向的折射率,ny为(甲基)丙烯酸系树脂薄膜的快轴方向的折射率,nz为(甲基)丙烯酸系树脂薄膜的厚度方向的折射率,d(nm)为(甲基)丙烯酸系树脂薄膜的厚度。慢轴是指薄膜面内的折射率成为最大的方向,快轴是指于在面内与慢轴垂直的方向。代表性地,Re及Rth是通过使用波长为590nm的光来进行测定的。
可采用任何适当的(甲基)丙烯酸系树脂作为上述(甲基)丙烯酸系树脂。例如,可列举:聚甲基丙烯酸甲酯等聚(甲基)丙烯酸酯、甲基丙烯酸甲酯-(甲基)丙烯酸共聚物、甲基丙烯酸甲酯-(甲基)丙烯酸酯共聚物、甲基丙烯酸甲酯-丙烯酸酯-(甲基)丙烯酸共聚物、(甲基)丙烯酸甲酯-苯乙烯共聚物(MS树脂等)、具有脂环族烃基的聚合物(例如甲基丙烯酸甲酯-甲基丙烯酸环己酯共聚物、甲基丙烯酸甲酯-(甲基)丙烯酸降冰片酯共聚物等)。优选地,可列举聚(甲基)丙烯酸甲酯等聚(甲基)丙烯酸C1-6烷基酯。更优选地,可列举以甲基丙烯酸甲酯为主成分(50~100重量%,优选为70~100重量%)的甲基丙烯酸甲酯系树脂。
上述(甲基)丙烯酸系树脂的重均分子量优选为10000~500000。重均分子量过小时,有制成薄膜时机械强度不足的倾向。重均分子量过大时,有熔融挤出时的粘度高、成形加工性下降、成形品的生产性下降的倾向。
上述(甲基)丙烯酸系树脂的玻璃化转变温度优选为110℃以上,更优选为120℃以上。玻璃化转变温度为上述范围时,可获得耐久性及耐热性优异的(甲基)丙烯酸系树脂薄膜。玻璃化转变温度的上限并无特别限定,但就成形性等观点而言,优选为170℃以下。
上述(甲基)丙烯酸系树脂优选具有显现正的双折射的结构单元与显现负的双折射的结构单元。具有这些结构单元时,可通过调节其存在比来控制(甲基)丙烯酸系树脂薄膜的相位差,并可获得低相位差的(甲基)丙烯酸系树脂薄膜。作为显现正的双折射的结构单元,例如可列举:构成内酯环、聚碳酸酯、聚乙烯醇、乙酸纤维素、聚酯、聚芳酯、聚酰亚胺、聚烯烃等的结构单元;及下述通式(1)所示的结构单元。作为显现负的双折射的结构单元,例如可列举:来自苯乙烯系单体、马来酰亚胺系单体等的结构单元;聚甲基丙烯酸甲酯的结构单元;及下述通式(3)所示的结构单元等。在本说明书中,所谓显现正的双折射的结构单元是指当仅具有该结构单元的树脂显示正的双折射特性时(即,在树脂的拉伸方向上出现慢轴时)的结构单元。另外,所谓显现负的双折射的结构单元是指当仅具有该结构单元的树脂显示负的双折射特性时(即,在与树脂的拉伸方向垂直的方向上出现慢轴时)的结构单元。
可优选使用具有内酯环结构或戊二酰亚胺结构的(甲基)丙烯酸系树脂作为上述(甲基)丙烯酸系树脂。具有内酯环结构或戊二酰亚胺结构的(甲基)丙烯酸系树脂的耐热性优异。更优选为具有戊二酰亚胺结构的(甲基)丙烯酸系树脂。使用具有戊二酰亚胺结构的(甲基)丙烯酸系树脂时,如上述那样,可获得低透湿且相位差及紫外线透过率小的(甲基)丙烯酸系树脂薄膜。具有戊二酰亚胺结构的(甲基)丙烯酸系树脂(以下也称为戊二酰亚胺树脂)例如记载于日本特开2006-309033号公报、日本特开2006-317560号公报、日本特开2006-328329号公报、日本特开2006-328334号公报、日本特开2006-337491号公报、日本特开2006-337492号公报、日本特开2006-337493号公报、日本特开2006-337569号公报、日本特开2007-009182号公报及日本特开2009-161744号公报中。在本说明书中,引用这些记载作为参考。
上述戊二酰亚胺树脂优选包含下述通式(1)所示的结构单元(以下也称为戊二酰亚胺单元)及下述通式(2)所示的结构单元(以下也称为(甲基)丙烯酸酯单元)。
在式(1)中,R1及R2分别独立地是氢或碳数为1~8的烷基,R3是氢、碳数为1~18的烷基、碳数为3~12的环烷基或包含碳数为5~15的芳香环的取代基。在式(2)中,R4及R5分别独立地是氢或碳数为1~8的烷基,R6是氢、碳数为1~18的烷基、碳数为3~12的环烷基或包含碳数为5~15的芳香环的取代基。
戊二酰亚胺树脂根据需要也可进一步含有下述通式(3)所示的结构单元(以下也称为芳香族乙烯基单元)。
在式(3)中,R7是氢或碳数为1~8的烷基,R8是碳数为6~10的芳基。
在上述通式(1)中,优选为R1及R2分别独立地是氢或甲基,R3是氢、甲基、丁基或环己基,进一步优选为R1为甲基,R2是氢,R3为甲基。
在上述戊二酰亚胺树脂中,作为戊二酰亚胺单元,可仅含有一种,也可含有上述通式(1)中的R1、R2及R3不同的多种。
戊二酰亚胺单元可通过将上述通式(2)所示的(甲基)丙烯酸酯单元酰亚胺化来形成。另外,戊二酰亚胺单元也可通过将马来酸酐等酸酐或上述酸酐与碳数为1~20的直链或侧链的醇的半酯;丙烯酸、甲基丙烯酸、马来酸、马来酸酐、衣康酸、衣康酸酐、巴豆酸、富马酸、柠康酸等α,β-烯键式不饱和羧酸等酰亚胺化来形成。
在上述通式(2)中,优选为R4及R5分别独立地是氢或甲基,R6是氢或甲基,更优选为R4是氢,R5为甲基,R6为甲基。
在上述戊二酰亚胺树脂中,作为(甲基)丙烯酸酯单元,可仅含有一种,也可含有上述通式(2)中的R4、R5及R6不同的多种。
在上述戊二酰亚胺树脂中,作为上述通式(3)所示的芳香族乙烯基单元,优选包含苯乙烯、α-甲基苯乙烯等,更优选包含苯乙烯。通过具有这种芳香族乙烯基单元,可降低戊二酰亚胺结构的正的双折射性,从而能够获得更低相位差的(甲基)丙烯酸系树脂薄膜。
在上述戊二酰亚胺树脂中,作为芳香族乙烯基单元,可仅含有一种,也可含有R7及R8不同的多种。
上述戊二酰亚胺树脂中的上述戊二酰亚胺单元的含量优选基于例如R3的结构等而使其变化。以戊二酰亚胺树脂的总结构单元为基准,戊二酰亚胺单元的含量优选为1重量%~80重量%,更优选为1重量%~70重量%,进一步优选为1重量%~60重量%,特别优选为1重量%~50重量%。戊二酰亚胺单元的含量为上述范围时,可获得耐热性优异的低相位差的(甲基)丙烯酸系树脂薄膜。
上述戊二酰亚胺树脂中的上述芳香族乙烯基单元的含量可根据目的或所需的特性而适当地进行设定。根据用途的不同,芳香族乙烯基单元的含量也可为0。在含有芳香族乙烯基单元时,以戊二酰亚胺树脂的戊二酰亚胺单元为基准,其含量优选为10重量%~80重量%,更优选为20重量%~80重量%,进一步优选为20重量%~60重量%,特别优选为20重量%~50重量%。芳香族乙烯基单元的含量为上述范围时,可获得低相位差且耐热性及机械强度优异的(甲基)丙烯酸系树脂薄膜。
对于上述戊二酰亚胺树脂而言,根据需要,也可进一步使除了戊二酰亚胺单元、(甲基)丙烯酸酯单元及芳香族乙烯基单元以外的其它结构单元共聚合。作为其它结构单元,例如可列举由丙烯腈或甲基丙烯腈等腈系单体及马来酰亚胺、N-甲基马来酰亚胺、N-苯基马来酰亚胺、N-环己基马来酰亚胺等马来酰亚胺系单体构成的结构单元。在上述戊二酰亚胺树脂中,这些其它结构单元可直接共聚合,也可接枝共聚合。
上述(甲基)丙烯酸系树脂薄膜包含紫外线吸收剂。只要可获得上述所需的特性,就可采用任何适当的紫外线吸收剂作为紫外线吸收剂。作为上述紫外线吸收剂的代表例,可列举:三嗪系紫外线吸收剂、苯并三唑系紫外线吸收剂、二苯甲酮系紫外线吸收剂、氰基丙烯酸酯系紫外线吸收剂、苯并噁嗪系紫外线吸收剂及噁二唑系紫外线吸收剂。这些紫外线吸收剂可单独使用,也可组合使用多种。
相对于(甲基)丙烯酸系树脂100重量份,上述紫外线吸收剂的含量优选为0.1重量份~5重量份,更优选为0.2重量份~3重量份。紫外线吸收剂的含量为上述范围时,可有效地吸收紫外线,并且不会降低薄膜成形时的薄膜的透明性。紫外线吸收剂的含量少于0.1重量份时,有紫外线的阻断效果变得不充分的倾向。紫外线吸收剂的含量多于5重量份时,有着色增多或成形后的薄膜的雾值变高而使透明性恶化的倾向。
上述(甲基)丙烯酸系树脂薄膜根据目的可含有任何适当的添加剂。作为添加剂,例如可列举:受阻酚系、磷系、硫系等抗氧化剂;耐光稳定剂、耐候稳定剂、热稳定剂等稳定剂;玻璃纤维、碳纤维等补强材料;近红外线吸收剂;三(二溴丙基)磷酸酯、三芳基磷酸酯、氧化锑等阻燃剂;阴离子系、阳离子系、非离子系的表面活性剂等抗静电剂;无机颜料、有机颜料、染料等着色剂;有机填料或无机填料;树脂改性剂;有机填充剂或无机填充剂;增塑剂;润滑剂;抗静电剂;阻燃剂;相位差降低剂等。所含的添加剂的种类、组合、含量等可根据目的或所需的特性而适当地进行设定。
作为上述(甲基)丙烯酸系树脂薄膜的制造方法并无特别限定,例如可通过任何适当的混合方法将(甲基)丙烯酸系树脂、紫外线吸收剂及根据需要的其它聚合物或添加剂等充分地混合,预先制成热塑性树脂组合物,然后对其进行薄膜成形。或者,也可将(甲基)丙烯酸系树脂、紫外线吸收剂及根据需要的其它聚合物或添加剂等分别制成不同的溶液,然后进行混合而制成均匀的混合液,接着进行薄膜成形。
为了制造上述热塑性树脂组合物,可利用例如Omni Mixer等任何适当的混合机对上述薄膜原料进行预掺混,然后对所获得的混合物进行挤出混炼。此时,挤出混炼中所使用的混合机并无特别限定,例如可使用单螺杆挤出机、双螺杆挤出机等挤出机或加压捏合机等任何适当的混合机。
作为上述薄膜成形的方法,例如可列举溶液浇铸法(溶液流延法)、熔融挤出法、压延法、压缩成形法等任何适当的薄膜成形法。优选为熔融挤出法。由于熔融挤出法不使用溶剂,因此可降低制造成本或溶剂对地球环境或作业环境施加的负荷。
作为上述熔融挤出法,例如可列举T型模头法、膨胀法等。成形温度优选为150~350℃,更优选为200~300℃。
通过上述T型模头法进行薄膜成形时,可在公知的单螺杆挤出机或双螺杆挤出机的前端部安装T型模头,并且卷取挤出成薄膜状的薄膜,从而获得辊状的薄膜。此时,也可适当地调节卷取辊的温度,并且在挤出方向上施加拉伸,由此进行单轴拉伸。另外,也可向与挤出方向垂直的方向拉伸薄膜,由此进行同时双轴拉伸、逐次双轴拉伸等。
只要可获得上述所需的相位差,上述(甲基)丙烯酸系树脂薄膜就可为未拉伸薄膜或拉伸薄膜中的任一种。在为拉伸薄膜时,可为单轴拉伸薄膜或双轴拉伸薄膜中的任一种。在为双轴拉伸薄膜时,可为同时双轴拉伸薄膜或逐次双轴拉伸薄膜中的任一种。
上述拉伸温度优选在作为薄膜原料的热塑性树脂组合物的玻璃化转变温度附近,具体而言,优选在(玻璃化转变温度-30℃)~(玻璃化转变温度+30℃)的范围内,更优选在(玻璃化转变温度-20℃)~(玻璃化转变温度+20℃)的范围内。拉伸温度低于(玻璃化转变温度-30℃)时,有所获得的薄膜的雾值增大或者薄膜破裂或破损而无法获得规定的拉伸倍率的风险。与此相对,拉伸温度超过(玻璃化转变温度+30℃)时,有所获得的薄膜的厚度不均增大或无法充分地改善拉伸率、抗撕裂蔓延强度及挠曲耐疲劳性(flex fatigueresistance)等力学性质的倾向。并且,有变得容易产生薄膜粘着在辊上之类的故障的倾向。
上述拉伸倍率优选为1.1~3倍,更优选为1.3~2.5倍。拉伸倍率为上述范围时,可大幅地改善薄膜的拉伸率、抗撕裂蔓延强度及挠曲耐疲劳性等力学性质。其结果是,可制造厚度不均小、双折射实质上为零(因此相位差小)、并且雾值小的薄膜。
为了使上述(甲基)丙烯酸系树脂薄膜的光学各向同性或机械特性稳定化,可在拉伸处理后进行热处理(退火)等。热处理的条件可采用任何适当的条件。
上述(甲基)丙烯酸系树脂薄膜的厚度优选为10μm~200μm,更优选为20μm~100μm。厚度低于10μm时,有强度下降的风险。厚度超过200μm时,有透明性下降的风险。
上述(甲基)丙烯酸系树脂薄膜的表面的润湿张力优选为40mN/m以上,更优选为50mN/m以上,进一步优选为55mN/m以上。表面的润湿张力为至少40mN/m以上时,(甲基)丙烯酸系树脂薄膜与硬涂层的密合性进一步提升。为了调节表面的润湿张力,可实施任意适当的表面处理。作为表面处理,例如可列举:电晕放电处理、等离子体处理、喷洒臭氧、照射紫外线、火焰处理、化学试剂处理。这些之中,优选电晕放电处理、等离子体处理。
C.渗透层
如上所述,上述渗透层是通过硬涂层形成用组合物渗透至(甲基)丙烯酸系树脂薄膜而形成的。换言之,渗透层可对应于形成(甲基)丙烯酸系树脂薄膜的(甲基)丙烯酸系树脂与形成硬涂层的成分的相容化区域的一部分。
在上述渗透层中,优选用于形成(甲基)丙烯酸系树脂薄膜的(甲基)丙烯酸系树脂的浓度自硬涂层一侧向基材层一侧连续地升高。这是因为,通过使(甲基)丙烯酸系树脂的浓度连续地变化、即未形成由于(甲基)丙烯酸系树脂的浓度变化而产生的界面,可抑制界面反射,从而可获得干涉斑小的光学层叠体。
上述渗透层的厚度的下限为1.2μm,优选为1.5μm,更优选为2.5μm,进一步优选为3μm。渗透层的厚度的上限优选为((甲基)丙烯酸系树脂薄膜的厚度×70%)μm,更优选为((甲基)丙烯酸系树脂薄膜的厚度×40%)μm,进一步优选为((甲基)丙烯酸系树脂薄膜的厚度×30%)μm,特别优选为((甲基)丙烯酸系树脂薄膜×20%)μm。渗透层的厚度为上述范围时,可获得(甲基)丙烯酸系树脂薄膜与硬涂层的密合性优异且干涉斑得到抑制的光学层叠体。此外,渗透层的厚度可通过硬涂层的反射光谱或利用SEM、TEM等电子显微镜进行观察来进行测定。利用反射光谱对渗透层的厚度进行测定的测定方法的细节将在下面作为实施例的评价方法来进行阐述。
D.硬涂层
如上所述,硬涂层是在上述(甲基)丙烯酸系树脂薄膜上涂敷硬涂层形成用组合物而形成的。硬涂层形成用组合物包含例如可利用热、光(紫外线等)或电子束等来进行固化的固化性化合物。硬涂层形成用组合物优选包含光固化型的固化性化合物。固化性化合物也可为单体、低聚物及预聚物中的任一种。
上述硬涂层形成用组合物优选包含具有两个以上的(甲基)丙烯酰基的固化性化合物。该具有两个以上的(甲基)丙烯酰基的固化性化合物中所含的(甲基)丙烯酰基的个数的上限优选为100个。由于具有两个以上的(甲基)丙烯酰基的固化性化合物与(甲基)丙烯酸系树脂的相容性优异,因此涂敷时易于在(甲基)丙烯酸系树脂薄膜中渗透及扩散。此外,在本说明书中,“(甲基)丙烯酰基”是指甲基丙烯酰基和/或丙烯酰基。
作为上述具有两个以上的(甲基)丙烯酰基的固化性化合物,例如可列举:三环癸烷二甲醇二丙烯酸酯、季戊四醇二(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二羟甲基丙烷四丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、1,6-己二醇(甲基)丙烯酸酯、1,9-壬二醇二丙烯酸酯、1,10-癸二醇(甲基)丙烯酸酯、聚乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、聚丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、二丙二醇二丙烯酸酯、异氰脲酸三(甲基)丙烯酸酯、乙氧化甘油三丙烯酸酯、乙氧化季戊四醇四丙烯酸酯及它们的低聚物或预聚物等。具有两个以上的(甲基)丙烯酰基的固化性化合物可单独使用,也可组合使用多种。此外,在本说明书中,所谓“(甲基)丙烯酸酯”是指丙烯酸酯和/或甲基丙烯酸酯。
上述具有两个以上的(甲基)丙烯酰基的固化性化合物优选具有羟基。上述硬涂层形成用组合物含有这种固化性化合物时,可将硬涂层形成时的加热温度设定得更低,并且将加热时间设定得更短,从而可效率良好地生产由加热引起的变形得到了抑制的光学层叠体。另外,可获得(甲基)丙烯酸系树脂薄膜与硬涂层的密合性优异的光学层叠体。作为具有羟基及两个以上的(甲基)丙烯酰基的固化性化合物,例如可列举季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇五丙烯酸酯等。
上述具有两个以上的(甲基)丙烯酰基的固化性化合物的含有比例优选是:相对于硬涂层形成用组合物中的单体、低聚物及预聚物的总量为30重量%~100重量%;更优选是:相对于硬涂层形成用组合物中的单体、低聚物及预聚物的总量为40重量%~95重量%;特别优选是:相对于硬涂层形成用组合物中的单体、低聚物及预聚物的总量为50重量%~95重量%。在为上述范围时,可获得(甲基)丙烯酸系树脂薄膜与硬涂层的密合性优异且干涉斑得到抑制的光学层叠体。另外,可有效地防止硬涂层的固化收缩。
在上述硬涂层形成用组合物中,作为固化性化合物,也可含有单官能单体。由于单官能单体易于在(甲基)丙烯酸系树脂薄膜中渗透,因此含有单官能单体时,可获得(甲基)丙烯酸系树脂薄膜与硬涂层的密合性优异且干涉斑得到了抑制的光学层叠体。另外,硬涂层形成用组合物含有单官能单体时,可将硬涂层形成时的加热温度设定得更低,并且将加热时间设定得更短,从而可效率良好地生产由加热引起的变形得到了抑制的光学层叠体。上述硬涂层形成用组合物包含单官能单体时,单官能单体的含有比例优选是:相对于硬涂层形成用组合物中的全部固化性化合物为40重量%以下;更优选是:相对于硬涂层形成用组合物中的全部固化性化合物为30重量%以下;特别优选是:相对于硬涂层形成用组合物中的全部固化性化合物为20重量%以下。单官能单体的含有比例多于40重量%时,有无法获得所需的硬度及耐划伤性的风险。
上述单官能单体的重均分子量优选为500以下。在为这种单官能单体时,易于在(甲基)丙烯酸系树脂薄膜中渗透及扩散。作为这种单官能单体,例如可列举:乙氧化邻苯基苯酚(甲基)丙烯酸酯、甲氧基聚乙二醇(甲基)丙烯酸酯、苯氧基聚乙二醇(甲基)丙烯酸酯、丙烯酸2-乙基己酯、丙烯酸月桂酯、丙烯酸异辛酯、丙烯酸异十八烷基酯(isostearylacrylate)、丙烯酸环己酯、丙烯酸异冰片酯、丙烯酸苄酯、丙烯酸2-羟基-3-苯氧基酯、丙烯酰吗啉、(甲基)丙烯酸2-羟基乙酯、(甲基)丙烯酸4-羟基丁酯、二甲氨基丙基丙烯酰胺、N-(2-羟基乙基)(甲基)丙烯酰胺等。
上述单官能单体优选具有羟基。在为这种单官能单体时,可将硬涂层形成时的加热温度设定得更低,并且将加热时间设定得更短,从而可效率良好地生产由加热引起的变形得到了抑制的光学层叠体。另外,上述硬涂层形成用组合物包含具有羟基的单官能单体时,可获得(甲基)丙烯酸系树脂薄膜与硬涂层的密合性优异的光学层叠体。作为这种单官能单体,例如可列举:(甲基)丙烯酸2-羟基乙酯、(甲基)丙烯酸2-羟基丙酯、(甲基)丙烯酸4-羟基丁酯、丙烯酸2-羟基-3-苯氧基酯、1,4-环己烷甲醇单丙烯酸酯等(甲基)丙烯酸羟基烷基酯;N-(2-羟基乙基)(甲基)丙烯酰胺、N-羟甲基(甲基)丙烯酰胺等N-(2-羟基烷基)(甲基)丙烯酰胺等。其中,优选丙烯酸4-羟基丁酯、N-(2-羟基乙基)丙烯酰胺。
上述单官能单体的沸点优选高于硬涂层形成时的涂布层的加热温度(后述)。上述单官能单体的沸点例如优选为150℃以上,更优选为180℃以上,特别优选为200℃以上。在为上述范围时,可通过硬涂层形成时的加热来防止单官能单体挥发,并且可使单官能单体充分地在(甲基)丙烯酸系树脂薄膜中渗透。
在硬涂层形成用组合物中,优选包含氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯和/或氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯的低聚物作为固化性化合物。硬涂层形成用组合物包含氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯和/或氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯的低聚物时,可形成柔性且与(甲基)丙烯酸系树脂薄膜的密合性优异的硬涂层。上述氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯例如可通过使由(甲基)丙烯酸或(甲基)丙烯酸酯及多元醇获得的(甲基)丙烯酸羟基酯与二异氰酸酯发生反应而获得。氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯及氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯的低聚物可单独使用,也可组合使用多种。
作为上述(甲基)丙烯酸酯,例如可列举:(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸异丙酯、(甲基)丙烯酸丁酯、(甲基)丙烯酸环己酯等。
作为上述多元醇,例如可列举:乙二醇、1,3-丙二醇、1,2-丙二醇、二乙二醇、二丙二醇、新戊二醇、1,3-丁二醇、1,4-丁二醇、1,6-己二醇、1,9-壬二醇、1,10-癸二醇、2,2,4-三甲基-1,3-戊二醇、3-甲基-1,5-戊二醇、羟基新戊酸新戊二醇酯、三环癸烷二甲醇、1,4-环己二醇、螺二醇、氢化双酚A、环氧乙烷加成双酚A(双酚A环氧乙烷加成物,bisphenol A-ethylene oxide adduct)、环氧丙烷加成双酚A(双酚A环氧丙烷加成物,bisphenol A-propylene oxide adduct)、三羟甲基乙烷、三羟甲基丙烷、甘油、3-甲基戊烷-1,3,5-三醇、季戊四醇、二季戊四醇、三季戊四醇、葡萄糖类等。
作为上述二异氰酸酯,例如可使用芳香族、脂肪族或脂环族这样的各种二异氰酸酯类。作为上述二异氰酸酯的具体例子,可列举:二异氰酸四亚甲酯、二异氰酸六亚甲酯、异佛尔酮二异氰酸酯、2,4-甲苯二异氰酸酯、4,4-二苯基二异氰酸酯、1,5-萘二异氰酸酯、3,3-二甲基-4,4-二苯基二异氰酸酯、二甲苯二异氰酸酯、二异氰酸三甲基六亚甲酯、4,4-二苯基甲烷二异氰酸酯及它们的氢化物等。
上述氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯及氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯的低聚物的总和含有比例优选是:相对于硬涂层形成用组合物中的单体、低聚物及预聚物的总量为5重量%~70重量%;更优选是:相对于硬涂层形成用组合物中的单体、低聚物及预聚物的总量为5重量%~50重量%;特别优选是:相对于硬涂层形成用组合物中的单体、低聚物及预聚物的总量为5重量%~30重量%。在为上述范围时,可形成硬度、柔性及密合性的平衡优异的硬涂层。
上述硬涂层形成用组合物也可包含具有羟基的(甲基)丙烯酸系预聚物。硬涂层形成用组合物包含具有羟基的(甲基)丙烯酸系预聚物时,可减少固化收缩,并且可在硬涂层中形成阻挡层,从而形成耐划伤性优异的硬涂层。另外,通过使该(甲基)丙烯酸系预聚物具有羟基,可获得(甲基)丙烯酸系树脂薄膜与硬涂层的密合性优异的光学层叠体。具有羟基的(甲基)丙烯酸系预聚物优选为由具有碳原子数为1~10的直链状或侧链状烷基的(甲基)丙烯酸羟基烷基酯聚合得到的聚合物。作为具有羟基的(甲基)丙烯酸系预聚物,例如可列举由选自(甲基)丙烯酸2-羟基乙酯、(甲基)丙烯酸2,3-二羟基丙酯、(甲基)丙烯酸2-羟基-3-丙烯酰氧基丙酯、(甲基)丙烯酸2-丙烯酰氧基-3-羟基丙酯中的至少一种单体聚合得到的聚合物。具有羟基的(甲基)丙烯酸系预聚物可单独使用,也可组合使用多种。
上述具有羟基的(甲基)丙烯酸系预聚物的含有比例优选是:相对于硬涂层形成用组合物中的单体、低聚物及预聚物的总量为5重量%~50重量%;更优选是:相对于硬涂层形成用组合物中的单体、低聚物及预聚物的总量为10重量%~30重量%。在为上述范围时,可获得涂敷性优异的硬涂层形成用组合物。另外,可有效地防止所形成的硬涂层的固化收缩。
上述硬涂层形成用组合物优选包含任何适当的光聚合引发剂。作为光聚合引发剂,例如可列举:2,2-二甲氧基-2-苯基苯乙酮、苯乙酮、二苯甲酮、氧杂蒽酮、3-甲基苯乙酮、4-氯二苯甲酮、4,4’-二甲氧基二苯甲酮、安息香丙醚、苄基二甲基缩酮、N,N,N’,N’-四甲基-4,4’-二氨基二苯甲酮、1-(4-异丙基苯基)-2-羟基-2-甲基丙烷-1-酮、硫杂蒽酮系化合物等。
在一种实施方式中,硬涂层的与基材层相反的一侧的表面具有凹凸结构。硬涂层的表面为凹凸结构时,可给光学层叠体赋予防眩性。作为形成这种凹凸结构的方法,例如可列举使硬涂层形成用组合物中含有微粒子的方法。微粒子可为无机微粒子,也可为有机微粒子。作为无机微粒子,例如可列举:二氧化硅微粒子、二氧化钛微粒子、氧化铝微粒子、氧化锌微粒子、氧化锡微粒子、碳酸钙微粒子、硫酸钡微粒子、滑石微粒子、高岭土微粒子、硫酸钙微粒子等。作为有机微粒子,例如可列举:聚甲基丙烯酸甲酯树脂粉末(PMMA微粒子)、有机硅树脂粉末、聚苯乙烯树脂粉末、聚碳酸酯树脂粉末、丙烯酸苯乙烯树脂粉末、苯并胍胺树脂粉末、三聚氰胺树脂粉末、聚烯烃树脂粉末、聚酯树脂粉末、聚酰胺树脂粉末、聚酰亚胺树脂粉末、聚氟乙烯树脂粉末等。这些微粒子可单独使用,也可组合使用多种。
上述微粒子的形状可采用任何适当的形状。优选为大致球形,更优选为纵横比在1.5以下的大致球形。微粒子的重均粒径优选为1μm~30μm,更优选为2μm~20μm。微粒子的重均粒径例如可通过库尔特计数(Coulter counter)法来测定。
上述硬涂层形成用组合物包含上述微粒子时,上述微粒子的含有比例优选是:相对于硬涂层形成用组合物中的单体、低聚物及预聚物的总量为1重量%~60重量%;更优选是:相对于硬涂层形成用组合物中的单体、低聚物及预聚物的总量为2重量%~50重量%。
上述硬涂层形成用组合物可进一步包含任何适当的添加剂。作为添加剂,例如可列举:流平剂、抗结块剂、分散稳定剂、触变剂、抗氧化剂、紫外线吸收剂、消泡剂、增粘剂、分散剂、表面活性剂、催化剂、填料、润滑剂、抗静电剂等。
作为上述流平剂,例如可列举氟系或有机硅系的流平剂,优选为有机硅系流平剂。作为上述有机硅系流平剂,例如可列举:反应性硅酮、聚二甲基硅氧烷、聚醚改性聚二甲基硅氧烷、聚甲基烷基硅氧烷等。其中,优选为反应性硅酮。添加反应性硅酮时,给硬涂层表面赋予滑动性,耐划伤性可长期持续。上述流平剂的含有比例优选是:相对于硬涂层形成用组合物中的单体、低聚物及预聚物的总量为5重量%以下;更优选是:相对于硬涂层形成用组合物中的单体、低聚物及预聚物的总量为0.01重量%~5重量%。
上述硬涂层形成用组合物可含有溶剂,也可不含有溶剂。作为溶剂,例如可列举:二丁醚、二甲氧基甲烷、二甲氧基乙烷、二乙氧基乙烷、环氧丙烷、1,4-二噁烷、1,3-二氧杂环戊烷、1,3,5-三噁烷、四氢呋喃、丙酮、甲基乙酮(MEK)、二乙酮、二丙酮、二异丁酮、环戊酮(CPN)、环己酮、甲基环己酮、甲酸乙酯、甲酸丙酯、甲酸正戊酯、乙酸甲酯、乙酸乙酯、丙酸甲酯、丙酸乙酯、乙酸正戊酯、乙酰丙酮、二丙酮醇、乙酰乙酸甲酯、乙酰乙酸乙酯、甲醇、乙醇、1-丙醇、2-丙醇、1-丁醇、2-丁醇、1-戊醇、2-甲基-2-丁醇、环己醇、异丙醇(IPA)、乙酸异丁酯、甲基异丁酮(MIBK)、2-辛酮、2-戊酮、2-己酮、2-庚酮、3-庚酮、乙二醇单乙醚乙酸酯、乙二醇单乙醚、乙二醇单丁醚、乙二醇单甲醚、丙二醇单甲醚乙酸酯、丙二醇单甲醚等。这些可单独使用,也可组合使用多种。
根据本发明,即便使用不含溶剂的硬涂层形成用组合物或者作为溶剂仅包含(甲基)丙烯酸系树脂薄膜形成材料的不良溶剂的硬涂层形成用组合物,也可使硬涂形成用组合物在(甲基)丙烯酸系树脂薄膜中渗透,从而形成具有所需的厚度的渗透层。
上述硬涂层的厚度优选为1μm~20μm,更优选为3μm~10μm。
如上所述,也可将形成(甲基)丙烯酸系树脂薄膜的(甲基)丙烯酸系树脂溶解析出到硬涂层形成用组合物中,从而使硬涂层中存在该(甲基)丙烯酸系树脂。硬涂层中存在形成(甲基)丙烯酸系树脂薄膜的(甲基)丙烯酸系树脂时,在一种实施方式中,该(甲基)丙烯酸系树脂的浓度自渗透层的基材层一侧向硬涂层连续地降低。在这种实施方式中,由于使(甲基)丙烯酸系树脂的浓度连续地变化、即未形成由(甲基)丙烯酸系树脂的浓度变化而产生的界面,因此可抑制界面反射,从而可获得干涉斑小的光学层叠体。在另一实施方式中,该(甲基)丙烯酸系树脂与硬涂层形成用组合物产生相分离,在硬涂层的与渗透层相反的一侧上形成阻挡层。在这种实施方式中,也优选该(甲基)丙烯酸系树脂的浓度自渗透层的基材层一侧向除阻挡层以外的硬涂层连续地降低。
阻挡层的厚度优选为1μm~10μm,更优选为2μm~5μm。
此外,阻挡层的厚度可通过硬涂层的反射光谱或利用SEM、TEM等电子显微镜进行观察来进行测定。
E.其它层
在本发明的光学层叠体中,根据需要可在硬涂层的外侧上配置任何适当的其它层。作为代表例,可列举防反射层及防眩层。可采用于本领域中通常使用的防反射层及防眩层作为防反射层及防眩层。
F.光学层叠体的制造方法
本发明的光学层叠体的制造方法包括下述工序:将硬涂层形成用组合物涂布在(甲基)丙烯酸系树脂薄膜上而形成涂布层,并且对上述涂布层进行加热。优选的是,硬涂层通过对加热后的涂布层进行固化处理来形成。
可采用任何适当的方法作为硬涂层形成用组合物的涂布方法。例如,可列举:棒式涂布法、辊式涂布法、凹版涂布法、杆式涂布法、狭缝式涂布法(slot orifice coating)、淋幕式涂布法、喷注式涂布法(fountain coating)、逗号刮涂式涂布法(comma coating)。
上述涂布层的加热温度可根据硬涂层形成用组合物的组成而设定为适当的温度,优选设定为(甲基)丙烯酸系树脂薄膜中所含的树脂的玻璃化转变温度以下。在(甲基)丙烯酸系树脂薄膜中所含的树脂的玻璃化转变温度以下的温度下进行加热时,可获得由加热引起的变形得到了抑制的光学层叠体。上述涂布层的加热温度例如为80℃~140℃。在上述范围的温度下进行加热时,硬涂层形成用组合物中的单体、低聚物和/或预聚物良好地在(甲基)丙烯酸系树脂薄膜中渗透及扩散。经过上述加热及之后的固化处理后,由渗透了的硬涂层形成用组合物及(甲基)丙烯酸系树脂薄膜的形成材料形成上述C项中所说明的渗透层。其结果是,可获得(甲基)丙烯酸系树脂薄膜与硬涂层的密合性优异且干涉斑得到了抑制的光学层叠体。此外,硬涂层形成用组合物包含溶剂时,可通过上述加热对所涂布的硬涂层形成用组合物进行干燥。
在一种实施方式中,上述加热温度可根据上述具有两个以上的(甲基)丙烯酰基的固化性化合物及上述单官能单体的含有比例来进行设定。硬涂层形成用组合物中所含的具有两个以上的(甲基)丙烯酰基的固化性化合物和/或单官能单体越多,越可在低温的加热温度(例如为80℃~100℃)下获得密合性优异且干涉斑得到了抑制的光学层叠体,并可形成环境负荷小且效率好的制造工序。
作为上述固化处理,可采用任何适当的固化处理。代表性地,固化处理是通过照射紫外线来进行的。照射紫外线的累积光量优选为200mJ~400mJ。
实施例
以下,通过实施例对本发明进行具体说明,但本发明并不限于这些实施例。实施例的评价方法如下所述。另外,在实施例中,只要未明确记载,“份”及“%”就为重量基准。
(1)折射率
基材层及硬涂层的折射率是使用ATAGO公司制造的阿贝折射仪(产品名:DR-M2/1550)并选择单溴代萘作为中间液来进行测定的。
(2)渗透层的厚度
在实施例及比较例中获得的光学层叠体的基材层一侧上,通过厚度为20μm的丙烯酸系粘结剂来贴合黑色丙烯酸板(三菱丽阳公司制造,厚度为2mm)。接着,在如下条件下,使用瞬时多频分光光谱仪系统(instantaneou smulti-spot photometry system,大冢电子公司制造,产品名:MCPD3700)对硬涂层的反射光谱进行测定,并且通过FFT光谱的波峰位置对(硬涂层+渗透层)的厚度进行评价。此外,折射率使用了上述(1)中所测得的值。
·反射光谱测定条件
参照:镜面
算法:FFT法
计算波长:450nm~850nm
·检测条件
曝光时间:20毫秒
指示灯增益:正常
累积次数:10次
·FFT法
膜厚值的范围:2μm~15μm
膜厚分辨率:24nm
另外,实施例1~6、8、9及比较例1~6的硬涂层的厚度是通过对下述层叠体(R1)进行上述反射光谱测定来进行评价的。实施例7的硬涂层的厚度是通过对下述层叠体(R2)进行上述反射光谱测定来进行评价的。
·层叠体(R1):除了使用PET基材(东丽公司制造,产品名:U48-3,折射率:1.60)作为基材薄膜并且将涂布层的加热温度设为60℃以外,与实施例1同样地进行操作而获得。
·层叠体(R2):除了使用PET基材(东丽公司制造,产品名:U48-3,折射率:1.60)作为基材薄膜并且将涂布层的加热温度设为60℃以外,与实施例7同样地进行操作而获得。
此外,由于硬涂层形成用组合物不在这些层叠体中所使用的PET基材中渗透,因此通过由层叠体(R1)及层叠体(R2)获得的FFT光谱的波峰位置仅测出硬涂层的厚度。该评价的结果是,实施例1~6、8、9及比较例1~6的硬涂层的厚度为5.3μm,实施例7的硬涂层的厚度为4.4μm。将层叠体(R1)的FFT光谱示于图3中。
将由((硬涂层+渗透层)的厚度)-((硬涂层)的厚度)算出的正值作为渗透层的厚度。此外,在根据FFT光谱渗透层的厚度为0μm时(比较例1及4),利用SEM对光学层叠体的剖面进行观察,实际确认到了未形成渗透层。
(3)硬涂层的密合性
基于JIS K-5400的棋盘格剥离试验(棋盘格数:100格),评价硬涂层与基材薄膜的密合性。
(4)干涉斑1
在实施例及比较例中获得的光学层叠体的基材层一侧上,通过丙烯酸系粘结剂来贴合黑色丙烯酸板(三菱丽阳公司制造,厚度为2mm),然后在三波长荧光灯下目测观察干涉斑,并且根据以下基准进行评价。
4:未产生干涉斑
3:观察到产生少许干涉斑,但实用上没有问题
2:观察到产生较多的干涉斑
1:观察到产生明显的干涉斑
(5)干涉斑2
对于在实施例及比较例中获得的光学层叠体,根据由上述(2)的评价测得的硬涂层的反射光谱在500nm~600nm的波长区域中的振幅来评价干涉斑。
<制造例1>基材薄膜A的制作
在220℃下,利用双螺杆混炼机将日本特开2010-284840号公报的制造例1中所记载的酰亚胺化MS树脂100重量份和三嗪系紫外线吸收剂(ADEKA公司制造,产品名:T-712)0.62重量份混合,制作树脂粒料(pellet)。在100.5kPa、100℃的条件下将所获得的树脂粒料干燥12小时,并且在270℃的模头温度下利用单螺杆挤出机由T型模头中挤出,从而使其成形为薄膜状(厚度为160μm)。进而,在150℃的气氛下向该薄膜的输送方向拉伸该薄膜(厚度为80μm),接着在150℃的气氛下向与薄膜输送方向正交的方向拉伸,从而获得厚度为40μm的基材薄膜A((甲基)丙烯酸系树脂薄膜)。所获得的基材薄膜A对波长为380nm的光的透过率为8.5%,面内相位差Re为0.4nm,厚度方向相位差Rth为0.78nm。另外,所获得的基材薄膜A的透湿度为61g/m2·24小时。此外,透光率是如下测定的:使用日立高新技术株式会社制造的分光光度计(装置名称:U-4100)在200nm~800nm的波长区域测定透过率光谱,并且读取波长为380nm时的透过率。另外,相位差值是如下测定的:使用王子科学仪器株式会社(OjiScientific Instruments)制造的产品名为“KOBRA21-ADH”的设备在波长为590nm、23℃的条件下进行测定。透湿度是通过依据JIS K0208的方法在温度为40℃、相对湿度为92%的条件下进行测定的。
<实施例1>
将包含异氰脲酸三丙烯酸酯13份、季戊四醇三丙烯酸酯16份、二季戊四醇六丙烯酸酯62份及异佛尔酮二异氰酸酯聚氨基甲酸酯9份的紫外线固化型树脂(DIC公司制造,产品名:UNIDIC17-806,固体成分:80%,溶剂:乙酸丁酯)100份、流平剂(DIC公司制造,产品名:GRANDIC PC-4100)5份和光聚合引发剂(Ciba Japan公司制造,产品名:Irgacure907)3份混合,以使固体成分浓度成为50%的方式用甲基异丁酮进行稀释,从而制备硬涂层形成用组合物。
将所获得的硬涂层形成用组合物涂布于制造例1中获得的基材薄膜A上来形成涂布层,并且在110℃下将上述涂布层加热1分钟。利用高压水银灯对加热后的涂布层照射累积光量为300mJ/cm2的紫外线而使涂布层固化,从而形成基材层、硬涂层及渗透层,获得光学层叠体。将该光学层叠体供于上述(2)~(5)的评价。将结果示于下述表1中。另外,将上述(2)的评价获得的实际的反射光谱示于图4A中,并且将FFT光谱示于图4B中。
<实施例2>
除了将涂布层的加热温度设为120℃以外,与实施例1同样地进行操作而获得光学层叠体。将该光学层叠体供于上述(2)~(5)的评价。将结果示于下述表1中。
<实施例3>
将包含由季戊四醇系丙烯酸酯与氢化二甲苯二异氰酸酯获得的氨基甲酸酯丙烯酸酯、二季戊四醇六丙烯酸酯、季戊四醇三丙烯酸酯、季戊四醇四丙烯酸酯、具有2-羟基乙基及2,3-二羟基丙基的(甲基)丙烯酸聚合物及光反应引发剂(Ciba Japan公司制造,产品名:Irgacure184;BASF公司制造,产品名:Lucirin TPO)的紫外线固化型树脂(DIC公司制造,产品名:PC1070,固体成分:66%,溶剂:乙酸乙酯、乙酸丁酯)100份和流平剂(DIC公司制造,产品名:GRANDIC PC-4100)5份混合,以使固体成分浓度成为50%的方式用甲基异丁酮进行稀释,从而制备硬涂层形成用组合物。此外,上述紫外线固化型树脂(PC1070)的组成如下所示。
将所获得的硬涂层形成用组合物涂布于制造例1中获得的基材薄膜上而形成涂布层,并且将上述涂布层在120℃下加热1分钟。利用高压水银灯对加热后的涂布层照射累积光量为300mJ/cm2的紫外线而使涂布层固化,从而形成基材层、硬涂层及渗透层,获得光学层叠体。将该光学层叠体供于上述(2)~(5)的评价。将结果示于下述表1中。
<实施例4>
将上述紫外线固化型树脂(DIC公司制造,产品名:PC1070,固体成分:66%,溶剂:乙酸乙酯、乙酸丁酯)100份、季戊四醇三丙烯酸酯(PETA)(大阪有机化学工业公司制造,产品名:Viscoat#300)40份、流平剂(DIC公司制造,产品名:GRANDIC PC-4100)5份和光反应引发剂(Ciba Japan公司制造,产品名:Irgacure907)1.2份混合,以使固体成分浓度成为50%的方式用甲基异丁酮进行稀释,从而制备硬涂层形成用组合物。
将所获得的硬涂层形成用组合物涂布于制造例1中获得的基材薄膜上而形成涂布层,将上述涂布层在100℃下加热1分钟。利用高压水银灯对加热后的涂布层照射累积光量为300mJ/cm2的紫外线而使涂布层固化,从而形成基材层、硬涂层及渗透层,获得光学层叠体。将该光学层叠体供于上述(2)~(5)的评价。将结果示于下述表1中。
<实施例5>
除了使用了季戊四醇三丙烯酸酯(PETA)(大阪有机化学工业公司制造,产品名:Viscoat#300)代替紫外线固化型树脂(DIC公司制造,产品名:UNIDIC17-806)以外,与实施例1同样地进行操作而获得光学层叠体。将该光学层叠体供于上述(2)~(5)的评价。将结果示于下述表1中。
<实施例6>
除了使用了季戊四醇三丙烯酸酯(PETA)(大阪有机化学工业公司制造,产品名:Viscoat#300)代替紫外线固化型树脂(DIC公司制造,产品名:UNIDIC17-806)并且将涂布层的加热温度设为100℃以外,与实施例1同样地进行操作而获得光学层叠体。将该光学层叠体供于上述(2)~(5)的评价。将结果示于下述表1中。
<实施例7>
除了使用了氨基甲酸酯丙烯酸酯低聚物60份、季戊四醇四丙烯酸酯30份及季戊四醇三丙烯酸酯10份的混合物(日本合成公司制造,产品名:UV-7600-B)代替紫外线固化型树脂(DIC公司制造,产品名:UNIDIC17-806)100份以外,与实施例1同样地进行操作而获得光学层叠体。将该光学层叠体供于上述(2)~(5)的评价。将结果示于下述表1中。
<实施例8>
除了用异丙醇代替甲基异丁酮来进行稀释而制备硬涂层形成用组合物以外,与实施例1同样地进行操作而获得光学层叠体。将该光学层叠体供于上述(2)~(5)的评价。将结果示于下述表1中。
<实施例9>
除了使用二季戊四醇六丙烯酸酯(DPHA)(新中村化学公司制造,产品名:A-DPH)30份、季戊四醇三丙烯酸酯(PETA)(大阪有机化学工业公司制造,产品名:Viscoat#300)55份及丙烯酰吗啉(ACMO)(兴人公司制造)15份的混合物代替紫外线固化型树脂(DIC公司制造,产品名:UNIDIC17-806)100份并且不使用溶剂而制备硬涂层形成用组合物以外,与实施例1同样地进行操作而获得光学层叠体。将该光学层叠体供于上述(2)~(5)的评价。将结果示于下述表1中。
<实施例10>
除了使用二季戊四醇六丙烯酸酯(DPHA)(新中村化学公司制造,产品名:A-DPH)30份、季戊四醇三丙烯酸酯(PETA)(大阪有机化学工业公司制造,产品名:Viscoat#300)55份及丙烯酰吗啉(ACMO)(兴人公司制造)15份的混合物代替紫外线固化型树脂(DIC公司制造,产品名:UNIDIC17-806)100份且不使用溶剂而制备硬涂层形成用组合物并且将涂布层的加热温度设为95℃以外,与实施例1同样地进行操作而获得光学层叠体。将该光学层叠体供于上述(2)~(5)的评价。将结果示于下述表1中。
<实施例11>
除了使用UNIDIC17-806(100份)与季戊四醇三丙烯酸酯(PETA)(大阪有机化学工业公司制造,产品名:Viscoat#300)40份的混合树脂代替紫外线固化型树脂(DIC公司制造,产品名:UNIDIC17-806)100份并且将涂布层的加热温度设为100℃以外,与实施例1同样地进行操作而获得光学层叠体。将该光学层叠体供于上述(2)~(5)的评价。将结果示于下述表1中。
<实施例12>
除了使用UNIDIC17-806(100份)与丙烯酰吗啉(ACMO)(兴人公司制造)20份的混合树脂代替紫外线固化型树脂(DIC公司制造,产品名:UNIDIC17-806)100份并且将涂布层的加热温度设为100℃以外,与实施例1同样地进行操作而获得光学层叠体。将该光学层叠体供于上述(2)~(5)的评价。将结果示于下述表1中。
<实施例13>
除了使用UNIDIC17-806(100份)与丙烯酰吗啉(ACMO)(兴人公司制造)20份的混合树脂代替紫外线固化型树脂(DIC公司制造,产品名:UNIDIC17-806)100份并且将涂布层的加热温度设为95℃以外,与实施例1同样地进行操作而获得光学层叠体。将该光学层叠体供于上述(2)~(5)的评价。将结果示于下述表1中。
<实施例14>
将紫外线固化型树脂(DIC公司制造,产品名:UNIDIC17-806,固体成分:80%,溶剂:乙酸丁酯)100份、丙烯酸4-羟基丁酯(4-HBA)(大阪有机化学工业公司制造)20份、流平剂(DIC公司制造,产品名:GRANDIC PC-4100)5份和光聚合引发剂(Ciba Japan公司制造,产品名:Irgacure907)3份混合,以使固体成分浓度成为50%的方式用甲基异丁酮进行稀释而制备硬涂层形成用组合物,除了使用该硬涂层形成用组合物并且将涂布层的加热温度设为90℃以外,与实施例1同样地进行操作而获得光学层叠体。将该光学层叠体供于上述(2)~(5)的评价。将结果示于下述表1中。
<实施例15>
将紫外线固化型树脂(DIC公司制造,产品名:UNIDIC17-806,固体成分:80%,溶剂:乙酸丁酯)100份、N-(2-羟基乙基)丙烯酰胺(HEAA)(兴人公司制造)20份、流平剂(DIC公司制造,产品名:GRANDIC PC-4100)5份和光聚合引发剂(Ciba Japan公司制造,产品名:Irgacure907)3份混合,以使固体成分浓度成为50%的方式用甲基异丁酮进行稀释而制备硬涂层形成用组合物,除了使用该硬涂层形成用组合物并且将涂布层的加热温度设为90℃以外,与实施例1同样地进行操作而获得光学层叠体。将该光学层叠体供于上述(2)~(5)的评价。将结果示于下述表1中。
<实施例16>
将上述日本合成公司制造的“UV-7600-B”80份、丙烯酸4-羟基丁酯(4-HBA)(大阪有机化学工业公司制造)20份、流平剂(DIC公司制造,产品名:GRANDIC PC-4100)5份和光聚合引发剂(Ciba Japan公司制造,产品名:Irgacure907)3份混合,以使固体成分浓度成为50%的方式用甲基异丁酮进行稀释而制备硬涂层形成用组合物,除了使用该硬涂层形成用组合物并且将涂布层的加热温度设为90℃以外,与实施例1同样地进行操作而获得光学层叠体。将该光学层叠体供于上述(2)~(5)的评价。将结果示于下述表1中。
<实施例17>
将上述日本合成公司制造的“UV-7600-B”80份、N-(2-羟基乙基)丙烯酰胺(HEAA)(兴人公司制造)20份、流平剂(DIC公司制造,产品名:GRANDIC PC-4100)5份和光聚合引发剂(Ciba Japan公司制造,产品名:Irgacure907)3份混合,以使固体成分浓度成为50%的方式用甲基异丁酮进行稀释而制备硬涂层形成用组合物,除了使用该硬涂层形成用组合物并且将涂布层的加热温度设为90℃以外,与实施例1同样地进行操作而获得光学层叠体。将该光学层叠体供于上述(2)~(5)的评价。将结果示于下述表1中。
<实施例18>
将紫外线固化型树脂(DIC公司制造,产品名:UNIDIC17-806,固体成分:80%,溶剂:乙酸丁酯)106份、丙烯酸4-羟基丁酯(4-HBA)(大阪有机化学工业公司制造)15份、流平剂(DIC公司制造,产品名:GRANDIC PC-4100)5份和光聚合引发剂(Ciba Japan公司制造,产品名:Irgacure907)3份混合,以使固体成分浓度成为50%的方式用甲基异丁酮进行稀释而制备硬涂层形成用组合物,除了使用该硬涂层形成用组合物并且将涂布层的加热温度设为90℃以外,与实施例1同样地进行操作而获得光学层叠体。将该光学层叠体供于上述(2)~(5)的评价。将结果示于下述表1中。
<实施例19>
将紫外线固化型树脂(DIC公司制造,产品名:UNIDIC17-806,固体成分:80%,溶剂:乙酸丁酯)106份、N-(2-羟基乙基)丙烯酰胺(HEAA)(兴人公司制造)15份、流平剂(DIC公司制造,产品名:GRANDIC PC-4100)5份和光聚合引发剂(Ciba Japan公司制造,产品名:Irgacure907)3份混合,以使固体成分浓度成为50%的方式用甲基异丁酮进行稀释而制备硬涂层形成用组合物,除了使用该硬涂层形成用组合物并且将涂布层的加热温度设为90℃以外,与实施例1同样地进行操作而获得光学层叠体。将该光学层叠体供于上述(2)~(5)的评价。将结果示于下述表1中。
<实施例20>
将紫外线固化型树脂(DIC公司制造,产品名:UNIDIC17-806,固体成分:80%,溶剂:乙酸丁酯)88份、丙烯酸4-羟基丁酯(4-HBA)(大阪有机化学工业公司制造)30份、流平剂(DIC公司制造,产品名:GRANDIC PC-4100)5份和光聚合引发剂(Ciba Japan公司制造,产品名:Irgacure907)3份混合,以使固体成分浓度成为50%的方式用甲基异丁酮进行稀释而制备硬涂层形成用组合物,除了使用该硬涂层形成用组合物并且将涂布层的加热温度设为90℃以外,与实施例1同样地进行操作而获得光学层叠体。将该光学层叠体供于上述(2)~(5)的评价。将结果示于下述表1中。
<实施例21>
将季戊四醇三丙烯酸酯(PETA)(大阪有机化学工业公司制造,产品名:Viscoat#300)80份、丙烯酸4-羟基丁酯(4-HBA)(大阪有机化学工业公司制造)20份、流平剂(DIC公司制造,产品名:GRANDIC PC-4100)5份和光聚合引发剂(Ciba Japan公司制造,产品名:Irgacure907)3份混合,以使固体成分浓度成为50%的方式用甲基异丁酮进行稀释而制备硬涂层形成用组合物,除了使用该硬涂层形成用组合物并且将涂布层的加热温度设为90℃以外,与实施例1同样地进行操作而获得光学层叠体。将该光学层叠体供于上述(2)~(5)的评价。将结果示于下述表1中。
<比较例1>
除了使用了环烯烃系基材(日本ZEON公司制造,产品名:Zeonor ZF14)代替制造例1中获得的基材薄膜A以外,与实施例1同样地进行操作而获得光学层叠体。将该光学层叠体供于上述(2)~(5)的评价。将结果示于下述表1中。
<比较例2>
除了使用三乙酰纤维素(TAC)基材(富士胶片公司制造,产品名:TD80UL)代替制造例1中获得的基材薄膜A并且将涂布层的加热温度设为60℃以外,与实施例1同样地进行操作而获得光学层叠体。将该光学层叠体供于上述(2)~(5)的评价。将结果示于下述表1中。
<比较例3>
除了使用了三乙酰纤维素(TAC)基材(富士胶片公司制造,产品名:TD80UL)代替制造例1中获得的基材薄膜A以外,与实施例1同样地进行操作而获得光学层叠体。将该光学层叠体供于上述(2)~(5)的评价。将结果示于下述表1中。另外,将上述(2)的评价获得的实际的反射光谱示于图5A中,并且将FFT光谱示于图5B中。
<比较例4>
除了将涂布层的加热温度设为60℃以外,与实施例1同样地进行操作而获得光学层叠体。将该光学层叠体供于上述(2)~(5)的评价。将结果示于下述表1中。
<比较例5>
除了将涂布层的加热温度设为80℃以外,与实施例1同样地进行操作而获得光学层叠体。将该光学层叠体供于上述(2)~(5)的评价。将结果示于下述表1中。
<比较例6>
除了将涂布层的加热温度设为100℃以外,与实施例1同样地进行操作而获得光学层叠体。将该光学层叠体供于上述(2)~(5)的评价。将结果示于下述表1中。
表1
由表1也表明:本发明的光学层叠体具有规定厚度的渗透层,由此基材薄膜((甲基)丙烯酸系树脂薄膜)与硬涂层的密合性优异,并且干涉斑得到了抑制。另外,根据本发明,即便使用不含溶剂的硬涂层形成用组合物(实施例9及10)或者作为溶剂仅包含薄膜基材形成材料的不良溶剂的硬涂层形成用组合物(实施例8),也可获得具有规定厚度的渗透层的光学层叠体。
另外,实施例中所使用的基材薄膜A((甲基)丙烯酸系树脂薄膜)的透湿度较低。具体而言,如上所述,基材薄膜A的透湿度为61g/m2·24小时,低于例如厚度相同的TAC基材(Konica Minolta公司制造,产品名:KC4UY,透湿度:800g/m2·24小时)的透湿度。根据本发明,即便使用如此低透湿性的(甲基)丙烯酸系树脂薄膜作为基材薄膜,也可获得基材薄膜与硬涂层的密合性优异且干涉斑得到了抑制的光学层叠体。
产业上的可利用性
本发明的光学层叠体可适宜地用于图像显示装置中。本发明的光学层叠体可适宜地用作图像显示装置的前板(front plate)或起偏器的保护材料,尤其是可适宜地用作液晶显示装置(其中特别是三维液晶显示装置)的前板。
符号说明
10 基材层
20 渗透层
30 硬涂层
40 阻挡层
100、200、300 光学层叠体
Claims (19)
1.一种光学层叠体,其具备:由(甲基)丙烯酸系树脂薄膜形成的基材层、在所述(甲基)丙烯酸系树脂薄膜上涂敷硬涂层形成用组合物而形成的硬涂层及在所述基材层与所述硬涂层之间通过所述硬涂层形成用组合物渗透至所述(甲基)丙烯酸系树脂薄膜而形成的渗透层,其中,所述渗透层的厚度为1.2μm以上,所述光学层叠体在所述硬涂层的与所述渗透层相反的一侧上还包含阻挡层,
所述阻挡层是通过如下产生的:将用于形成所述(甲基)丙烯酸系树脂薄膜的(甲基)丙烯酸系树脂溶解析出到所述硬涂层形成用组合物中,所述硬涂层形成用组合物与所述(甲基)丙烯酸系树脂发生相分离。
2.根据权利要求1所述的光学层叠体,其中,在所述渗透层中,用于形成所述(甲基)丙烯酸系树脂薄膜的(甲基)丙烯酸系树脂的浓度自所述硬涂层一侧向所述基材层一侧连续地升高。
3.根据权利要求1所述的光学层叠体,其中,在500nm~600nm的波长区域中的所述硬涂层的反射光谱的反射率的振幅为0.5%以下。
4.根据权利要求1所述的光学层叠体,其中,所述基材层的折射率与所述硬涂层的折射率之差的绝对值为0.01~0.15。
5.根据权利要求1所述的光学层叠体,其中,所述(甲基)丙烯酸系树脂薄膜对波长为380nm的光的透过率为15%以下。
6.根据权利要求1所述的光学层叠体,其中,用于形成所述(甲基)丙烯酸系树脂薄膜的(甲基)丙烯酸系树脂具有显现正的双折射的结构单元与显现负的双折射的结构单元。
7.根据权利要求1所述的光学层叠体,其中,所述硬涂层形成用组合物包含具有两个以上的(甲基)丙烯酰基的固化性化合物。
8.根据权利要求7所述的光学层叠体,其中,所述硬涂层形成用组合物还包含单官能单体。
9.根据权利要求8所述的光学层叠体,其中,所述单官能单体的重均分子量为500以下。
10.根据权利要求8所述的光学层叠体,其中,所述单官能单体具有羟基。
11.根据权利要求10所述的光学层叠体,其中,所述单官能单体为(甲基)丙烯酸羟基烷基酯和/或N-(2-羟基烷基)(甲基)丙烯酰胺。
12.根据权利要求1所述的光学层叠体,其中,所述硬涂层形成用组合物包含氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯和/或氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯的低聚物。
13.根据权利要求1所述的光学层叠体,其中,所述硬涂层形成用组合物包含具有羟基的(甲基)丙烯酸系预聚物。
14.根据权利要求1所述的光学层叠体,其中,所述硬涂层形成用组合物不含溶剂。
15.根据权利要求1所述的光学层叠体,其中,所述硬涂层的与所述渗透层相反的一侧的表面具有凹凸结构。
16.根据权利要求1所述的光学层叠体,其中,在所述硬涂层的与所述渗透层相反的一侧上还具备防反射层。
17.一种偏振薄膜,其包含权利要求1所述的光学层叠体。
18.一种图像显示装置,其包含权利要求1所述的光学层叠体。
19.权利要求1~16中任一项所述的光学层叠体的制造方法,其包括下述工序:将硬涂层形成用组合物涂布在(甲基)丙烯酸系树脂薄膜上而形成涂布层,并且在80℃~140℃下对所述涂布层进行加热。
Applications Claiming Priority (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2011-095721 | 2011-04-22 | ||
JP2011095721 | 2011-04-22 | ||
JP2012-093002 | 2012-04-16 | ||
JP2012093002A JP6128576B2 (ja) | 2011-04-22 | 2012-04-16 | 光学積層体 |
PCT/JP2012/060420 WO2012144508A1 (ja) | 2011-04-22 | 2012-04-18 | 光学積層体 |
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Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN103492913A CN103492913A (zh) | 2014-01-01 |
CN103492913B true CN103492913B (zh) | 2017-03-15 |
Family
ID=47041614
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN201280019681.5A Active CN103492913B (zh) | 2011-04-22 | 2012-04-18 | 光学层叠体 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US9720134B2 (zh) |
JP (1) | JP6128576B2 (zh) |
KR (1) | KR101931400B1 (zh) |
CN (1) | CN103492913B (zh) |
TW (1) | TWI592303B (zh) |
WO (1) | WO2012144508A1 (zh) |
Families Citing this family (45)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6128576B2 (ja) | 2011-04-22 | 2017-05-17 | 日東電工株式会社 | 光学積層体 |
JP2014095731A (ja) * | 2012-10-12 | 2014-05-22 | Fujifilm Corp | 光学フィルム、偏光板ならびに液晶表示装置 |
JP6609093B2 (ja) | 2013-05-13 | 2019-11-20 | 日東電工株式会社 | ハードコートフィルム、偏光板及び画像表示装置 |
JPWO2015025835A1 (ja) * | 2013-08-23 | 2017-03-02 | Dic株式会社 | 積層フィルム、光学素子、偏光板及び画像表示装置 |
CN109554122B (zh) * | 2013-08-30 | 2022-03-01 | 日东电工株式会社 | 偏振膜用固化型胶粘剂、偏振膜、光学膜和图像显示装置 |
JP6235287B2 (ja) | 2013-09-30 | 2017-11-22 | 日東電工株式会社 | 光学積層体 |
KR101697404B1 (ko) * | 2013-09-30 | 2017-01-17 | 주식회사 엘지화학 | 편광판 및 이를 포함하는 화상표시장치 |
KR101697402B1 (ko) * | 2013-09-30 | 2017-01-17 | 주식회사 엘지화학 | 편광판 및 이를 포함하는 화상표시장치 |
JP6238684B2 (ja) * | 2013-11-07 | 2017-11-29 | 日東電工株式会社 | 光学積層体 |
JP5991777B2 (ja) | 2014-09-26 | 2016-09-14 | 日本製紙株式会社 | ハードコートフィルム及びその製造方法 |
US11433651B2 (en) | 2015-03-18 | 2022-09-06 | Riken Technos Corporation | Hard coat laminated film |
KR102516912B1 (ko) | 2015-03-18 | 2023-03-31 | 리껭테크노스 가부시키가이샤 | 점착 필름 |
CN107428141B (zh) * | 2015-03-18 | 2019-12-03 | 理研科技株式会社 | 硬涂层层叠膜 |
EP3272527B1 (en) | 2015-03-18 | 2022-05-11 | Riken Technos Corporation | Anti-glare hard coat laminated film |
CN107405859B (zh) | 2015-03-18 | 2020-04-17 | 理研科技株式会社 | 成型体 |
KR102551428B1 (ko) * | 2015-03-18 | 2023-07-04 | 리껭테크노스 가부시키가이샤 | 다층 하드 코팅 필름 |
CN108481856A (zh) | 2015-03-18 | 2018-09-04 | 理研科技株式会社 | 硬涂层层合膜及其生产方法 |
JP6689031B2 (ja) | 2015-03-27 | 2020-04-28 | 日東電工株式会社 | 光学積層体 |
WO2017086141A1 (ja) * | 2015-11-16 | 2017-05-26 | 富士フイルム株式会社 | 光学フィルム、画像表示装置、および光学フィルムの製造方法 |
JP2017097322A (ja) * | 2015-11-16 | 2017-06-01 | 富士フイルム株式会社 | 光学フィルム、画像表示装置、および光学フィルムの製造方法 |
TWI745316B (zh) | 2015-11-25 | 2021-11-11 | 日商理研科技股份有限公司 | 門體 |
JP6719919B2 (ja) * | 2015-11-25 | 2020-07-08 | リケンテクノス株式会社 | ハードコート積層フィルム |
JP6599789B2 (ja) * | 2015-11-25 | 2019-10-30 | リケンテクノス株式会社 | ハードコート積層フィルム |
US11774166B2 (en) | 2015-11-25 | 2023-10-03 | Riken Technos Corporation | Door body |
JP6644534B2 (ja) | 2015-12-08 | 2020-02-12 | リケンテクノス株式会社 | ハードコート積層フィルム |
JP6728854B2 (ja) * | 2016-03-25 | 2020-07-22 | 三菱ケミカル株式会社 | 樹脂積層体及びその製造方法 |
US11073638B2 (en) * | 2016-09-07 | 2021-07-27 | Largan Precision Co., Ltd. | Optical image lens assembly and plastic material thereof, image capturing apparatus and electronic device |
EP3808800B1 (en) | 2016-09-14 | 2022-01-05 | Riken Technos Corporation | Hard coat laminated film |
WO2018056688A1 (en) * | 2016-09-21 | 2018-03-29 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Optical member, polarization member, and display device employing polymer film |
JP7064313B2 (ja) | 2016-11-25 | 2022-05-10 | リケンテクノス株式会社 | ハードコート積層フィルム |
JP6937115B2 (ja) * | 2016-12-13 | 2021-09-22 | 日東電工株式会社 | 光学積層体 |
KR102090810B1 (ko) | 2016-12-16 | 2020-03-18 | 주식회사 엘지화학 | 광학 필름 형성용 조성물, 광학 필름 및 이를 포함하는 편광판 |
JP6825363B2 (ja) * | 2016-12-28 | 2021-02-03 | 三菱ケミカル株式会社 | 樹脂積層体及びその製造方法並びにディスプレー前面板及び移動体用グレージング |
KR102510766B1 (ko) * | 2017-04-10 | 2023-03-17 | 닛토덴코 가부시키가이샤 | 광학 적층체, 편광판, 및 화상표시장치 |
KR102604388B1 (ko) * | 2017-04-10 | 2023-11-22 | 닛토덴코 가부시키가이샤 | 광학 적층체, 편광판, 및 화상표시장치 |
WO2019031786A1 (en) * | 2017-08-08 | 2019-02-14 | Samsung Electronics Co., Ltd. | OPTICAL ELEMENT, POLARIZING ELEMENT, AND DISPLAY DEVICE |
KR102671594B1 (ko) | 2018-03-22 | 2024-06-03 | 닛토덴코 가부시키가이샤 | 광학부재 및 그 제조 방법 |
CN109192879B (zh) * | 2018-08-31 | 2021-01-29 | 京东方科技集团股份有限公司 | 柔性显示用盖板及其制备方法和柔性显示装置 |
KR102363874B1 (ko) * | 2018-10-18 | 2022-02-15 | 주식회사 엘지화학 | 편광판, 액정 패널 및 디스플레이 장치 |
CN113678029B (zh) * | 2019-04-12 | 2023-08-08 | 富士胶片株式会社 | 硬涂膜及其制造方法、具备硬涂膜的物品及图像显示装置 |
WO2022044975A1 (ja) | 2020-08-27 | 2022-03-03 | 日東電工株式会社 | ハードコート層付偏光板および該ハードコート層付偏光板を含む画像表示装置 |
CN116234688A (zh) | 2020-09-29 | 2023-06-06 | 日东电工株式会社 | 光学构件、其制造方法及配光元件 |
CN112778929A (zh) * | 2021-01-28 | 2021-05-11 | 深圳市康成泰实业有限公司 | 复合光固化保护膜及其贴膜方法和应用 |
TW202307470A (zh) | 2021-06-14 | 2023-02-16 | 日商大日本印刷股份有限公司 | 防眩性積層體、光學積層體、偏光板及影像顯示裝置 |
CN118119863A (zh) * | 2021-10-20 | 2024-05-31 | 爱天思株式会社 | 硬涂膜及其制造方法 |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007090656A (ja) * | 2005-09-28 | 2007-04-12 | Dainippon Printing Co Ltd | 透光性物品 |
WO2008032813A1 (fr) * | 2006-09-15 | 2008-03-20 | Toray Industries, Inc. | Filtre d'affichage plasma |
CN101156089A (zh) * | 2005-03-30 | 2008-04-02 | 大日本印刷株式会社 | 防眩性光学叠层体 |
JP2008165041A (ja) * | 2006-12-28 | 2008-07-17 | Dainippon Printing Co Ltd | ハードコートフィルム、及びその製造方法 |
JP2010065109A (ja) * | 2008-09-10 | 2010-03-25 | Nippon Shokubai Co Ltd | 熱可塑性樹脂組成物とそれを用いたフィルム |
JP2010237648A (ja) * | 2009-03-09 | 2010-10-21 | Toppan Printing Co Ltd | 反射防止フィルム及びその製造方法、偏光板、透過型液晶ディスプレイ |
Family Cites Families (50)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH06184267A (ja) | 1992-12-17 | 1994-07-05 | Mitsui Toatsu Chem Inc | 密着性に優れた光硬化型樹脂組成物 |
JP2002036436A (ja) | 2000-07-19 | 2002-02-05 | Fuji Photo Film Co Ltd | ハードコートフイルム及び機能性薄膜付きハードコートフイルム |
TW200307733A (en) | 2002-02-01 | 2003-12-16 | Natoco Co Ltd | Composition curable with actinic energy ray and use thereof |
JP3953829B2 (ja) | 2002-02-20 | 2007-08-08 | 大日本印刷株式会社 | 表面が強化された反射防止層、反射防止材、および反射防止体 |
JP3982377B2 (ja) | 2002-10-08 | 2007-09-26 | Jsr株式会社 | 光硬化性樹脂組成物及び光学部材 |
JP4475016B2 (ja) * | 2003-06-30 | 2010-06-09 | 東レ株式会社 | ハードコートフィルム、反射防止フィルムおよび画像表示装置 |
JP2005097371A (ja) * | 2003-09-22 | 2005-04-14 | Fuji Photo Film Co Ltd | フッ素含有樹脂組成物及び光学物品、並びにそれを用いた画像表示装置 |
JP2005133026A (ja) | 2003-10-31 | 2005-05-26 | Lintec Corp | コーティング用組成物、ハードコートフィルムおよび光ディスク |
WO2005060651A2 (en) | 2003-12-18 | 2005-07-07 | Afg Industries, Inc. | Protective layer for optical coatings with enhanced corrosion and scratch resistance |
JP4479260B2 (ja) | 2004-02-04 | 2010-06-09 | コニカミノルタオプト株式会社 | 光学フィルムの製造方法 |
US20070243364A1 (en) | 2004-04-28 | 2007-10-18 | Shigetoshi Maekawa | Acrylic Resin Films and Process for Producing the Same |
WO2006016592A1 (en) * | 2004-08-12 | 2006-02-16 | Fujifilm Corporation | Anti-reflection film |
US7585560B2 (en) | 2004-09-30 | 2009-09-08 | Dai Nippon Printing Co., Ltd. | Optical laminate |
JP4895160B2 (ja) * | 2004-09-30 | 2012-03-14 | 大日本印刷株式会社 | 光学積層体 |
JP2006110875A (ja) | 2004-10-15 | 2006-04-27 | Toppan Printing Co Ltd | ハードコートフィルムおよび表示媒体 |
JP4746863B2 (ja) * | 2004-11-11 | 2011-08-10 | リンテック株式会社 | 防眩性ハードコート層形成用材料及び防眩性ハードコートフィルム |
US7622194B2 (en) * | 2004-12-28 | 2009-11-24 | Fujifilm Corporation | Optical film, anti-reflection film, polarizing plate, and image display device |
JP2006205545A (ja) | 2005-01-28 | 2006-08-10 | Toray Ind Inc | ハードコートフィルム |
JP2006274119A (ja) | 2005-03-30 | 2006-10-12 | Mitsui Chemicals Inc | 熱可塑性エラストマー組成物及びその積層成形品 |
WO2007015512A1 (ja) | 2005-08-04 | 2007-02-08 | Nippon Shokubai Co., Ltd. | 低複屈折共重合体 |
JP5045052B2 (ja) * | 2005-11-10 | 2012-10-10 | Jsr株式会社 | 硬化性樹脂組成物及び反射防止膜 |
JP5015462B2 (ja) | 2006-01-11 | 2012-08-29 | 株式会社ダイセル | 防眩性フィルム及びその製造方法 |
WO2007114364A1 (ja) * | 2006-03-31 | 2007-10-11 | Dai Nippon Printing Co., Ltd. | 光学積層体及び光学積層体の製造方法 |
US7700255B2 (en) | 2006-04-28 | 2010-04-20 | Konica Minolta Business Technologies, Inc. | Intermediate transfer material, image forming method and image forming apparatus |
JP2008012675A (ja) | 2006-06-30 | 2008-01-24 | Dainippon Printing Co Ltd | 光学積層体、及びその製造方法 |
JP2008165205A (ja) | 2006-12-05 | 2008-07-17 | Fujifilm Corp | 光学フィルム、反射防止フィルム、それを用いた偏光板およびディスプレイ装置 |
JP2008181078A (ja) * | 2006-12-27 | 2008-08-07 | Nitto Denko Corp | 偏光子保護フィルム、偏光板、および画像表示装置 |
JP5125118B2 (ja) * | 2007-01-29 | 2013-01-23 | 大日本印刷株式会社 | コーティング組成物、硬化膜、光学積層体及びその製造方法 |
JP5063141B2 (ja) * | 2007-02-28 | 2012-10-31 | リンテック株式会社 | 防眩性ハードコートフィルムの製造方法 |
US20080284950A1 (en) * | 2007-04-02 | 2008-11-20 | Dai Nippon Printing Co., Ltd. | Composition, single layer, member or laminate for realizing an antistatic (and hardcoat) features |
JP4958609B2 (ja) * | 2007-04-06 | 2012-06-20 | リンテック株式会社 | 防眩性ハードコートフィルム及びその製造方法 |
JP5186834B2 (ja) | 2007-08-10 | 2013-04-24 | 大日本印刷株式会社 | ハードコートフィルム |
TWI409311B (zh) | 2007-08-10 | 2013-09-21 | Dainippon Printing Co Ltd | 硬塗膜 |
JP5078520B2 (ja) * | 2007-09-19 | 2012-11-21 | リンテック株式会社 | 防眩性ハードコートフィルム及びその製造方法 |
JP5568832B2 (ja) | 2007-09-28 | 2014-08-13 | 大日本印刷株式会社 | 硬化性樹脂組成物及びハードコートフィルム |
JP5504605B2 (ja) | 2007-10-30 | 2014-05-28 | 大日本印刷株式会社 | ハードコート層用硬化性樹脂組成物、及びハードコートフィルム |
JP5291919B2 (ja) | 2007-11-20 | 2013-09-18 | 富士フイルム株式会社 | ディスプレイ表面に用いる偏光板用保護フィルム又は画像表示装置前面板用フィルム |
US20100272971A1 (en) | 2007-12-28 | 2010-10-28 | Nippon Shokubai Co., Ltd. | Optical film and image display apparatus having the same |
JP2009161609A (ja) | 2007-12-28 | 2009-07-23 | Three M Innovative Properties Co | ハードコートフィルム及び印刷体 |
JP2009185282A (ja) | 2008-01-11 | 2009-08-20 | Nitto Denko Corp | ハードコートフィルム、ハードコートフィルムの製造方法、光学素子および画像表示装置 |
JP2009262148A (ja) | 2008-03-31 | 2009-11-12 | Dainippon Printing Co Ltd | 多層塗工膜の製造方法 |
JP2010039418A (ja) | 2008-08-08 | 2010-02-18 | Konica Minolta Opto Inc | 反射防止フィルム、反射防止フィルムの製造方法、偏光板及び画像表示装置 |
JP5235557B2 (ja) | 2008-08-11 | 2013-07-10 | 名阪真空工業株式会社 | ディスプレイ面板用透明多層シート |
JP2010082564A (ja) * | 2008-09-30 | 2010-04-15 | Dainippon Printing Co Ltd | 微小気泡を利用した多層塗工膜の製造方法 |
JP5262609B2 (ja) | 2008-11-17 | 2013-08-14 | 大日本印刷株式会社 | 光学シートの製造方法 |
SG174870A1 (en) * | 2009-04-20 | 2011-11-28 | Tokuyama Corp | Coating composition |
JP5476843B2 (ja) * | 2009-08-04 | 2014-04-23 | 大日本印刷株式会社 | 光学積層体、偏光板及び画像表示装置 |
JP6128576B2 (ja) * | 2011-04-22 | 2017-05-17 | 日東電工株式会社 | 光学積層体 |
JP2012234164A (ja) * | 2011-04-22 | 2012-11-29 | Nitto Denko Corp | 光学積層体 |
JP6128629B2 (ja) * | 2011-04-22 | 2017-05-17 | 日東電工株式会社 | 光学積層体 |
-
2012
- 2012-04-16 JP JP2012093002A patent/JP6128576B2/ja active Active
- 2012-04-18 KR KR1020137030671A patent/KR101931400B1/ko active IP Right Grant
- 2012-04-18 CN CN201280019681.5A patent/CN103492913B/zh active Active
- 2012-04-18 US US14/111,866 patent/US9720134B2/en active Active
- 2012-04-18 WO PCT/JP2012/060420 patent/WO2012144508A1/ja active Application Filing
- 2012-04-20 TW TW101114322A patent/TWI592303B/zh active
-
2017
- 2017-07-31 US US15/664,747 patent/US10203430B2/en not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN101156089A (zh) * | 2005-03-30 | 2008-04-02 | 大日本印刷株式会社 | 防眩性光学叠层体 |
JP2007090656A (ja) * | 2005-09-28 | 2007-04-12 | Dainippon Printing Co Ltd | 透光性物品 |
WO2008032813A1 (fr) * | 2006-09-15 | 2008-03-20 | Toray Industries, Inc. | Filtre d'affichage plasma |
JP2008165041A (ja) * | 2006-12-28 | 2008-07-17 | Dainippon Printing Co Ltd | ハードコートフィルム、及びその製造方法 |
JP2010065109A (ja) * | 2008-09-10 | 2010-03-25 | Nippon Shokubai Co Ltd | 熱可塑性樹脂組成物とそれを用いたフィルム |
JP2010237648A (ja) * | 2009-03-09 | 2010-10-21 | Toppan Printing Co Ltd | 反射防止フィルム及びその製造方法、偏光板、透過型液晶ディスプレイ |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN103492913A (zh) | 2014-01-01 |
JP6128576B2 (ja) | 2017-05-17 |
US20170329050A1 (en) | 2017-11-16 |
US20140227482A1 (en) | 2014-08-14 |
TWI592303B (zh) | 2017-07-21 |
US10203430B2 (en) | 2019-02-12 |
TW201300236A (zh) | 2013-01-01 |
KR101931400B1 (ko) | 2018-12-20 |
WO2012144508A1 (ja) | 2012-10-26 |
JP2012234163A (ja) | 2012-11-29 |
US9720134B2 (en) | 2017-08-01 |
KR20140037093A (ko) | 2014-03-26 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
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C06 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
C14 | Grant of patent or utility model | ||
GR01 | Patent grant |