KR102090810B1 - 광학 필름 형성용 조성물, 광학 필름 및 이를 포함하는 편광판 - Google Patents

광학 필름 형성용 조성물, 광학 필름 및 이를 포함하는 편광판 Download PDF

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    • C08J2451/06—Characterised by the use of graft polymers in which the grafted component is obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds; Derivatives of such polymers grafted on to homopolymers or copolymers of aliphatic hydrocarbons containing only one carbon-to-carbon double bond
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J2451/00—Characterised by the use of graft polymers in which the grafted component is obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds; Derivatives of such polymers
    • C08J2451/08—Characterised by the use of graft polymers in which the grafted component is obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds; Derivatives of such polymers grafted on to macromolecular compounds obtained otherwise than by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
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    • G02B5/30—Polarising elements
    • G02B5/3025—Polarisers, i.e. arrangements capable of producing a definite output polarisation state from an unpolarised input state

Abstract

본 발명은 방현층 및 광투과성 기재 필름 간의 부착성을 향상시키고, 상기 방현층 및 광학 필름이 적절한 헤이즈, 낮은 광택도 및 우수한 방현 특성 등 뛰어난 광학 특성을 나타낼 수 있게 하는 광학 필름 형성용 조성물, 광학 필름 및 편광판에 관한 것이다. 상기 광학 필름 형성용 조성물은 광투과성 기재 필름 상에 침식층 및 표면 요철을 갖는 방현층을 형성하기 위한 광학 필름 형성용 수지 조성물로서, 3관능 이상의 다관능 (메트)아크릴레이트계 화합물과, 친수성 작용기 및 광경화성 작용기를 갖는 침투성 화합물을 포함하는 바인더 형성용 화합물; 서브-미크론(sub-㎛) 스케일을 갖는 2종 이상의 투광성 미립자; 및 상기 광투과성 기재 필름의 적어도 일부를 녹일 수 있는 침투성 용매를 포함하고, 상기 바인더 형성용 화합물 : 침투성 용매는 1 : 0.04 이상의 중량비를 갖는 것이다.

Description

광학 필름 형성용 조성물, 광학 필름 및 이를 포함하는 편광판{COMPOSITION FOR FORMING OPTICAL FILM, OPTICAL FILM AND POLARIZER COMPRISING THE SAME}
관련 출원(들)과의 상호 인용
본 출원은 2016년 12월 16일자 한국 특허 출원 제 10-2016-0173016호에 기초한 우선권의 이익을 주장하며, 해당 한국 특허 출원의 문헌에 개시된 모든 내용은 본 명세서의 일부로서 포함된다.
본 발명은 방현층 및 광투과성 기재 필름 간의 부착성을 향상시키고, 상기 방현층 및 광학 필름이 적절한 헤이즈, 낮은 광택도 및 우수한 방현 특성 등 뛰어난 광학 특성을 나타낼 수 있게 하는 광학 필름 형성용 조성물, 광학 필름 및 편광판에 관한 것이다.
유기 전계 발광 소자 (OELD), 또는 액정 표시 소자 (LCD) 와 같은 화상 표시 장치에 있어서는, 외광의 반사 또는 상의 비침에 의한 콘트라스트의 저하나, 시인성의 저하를 방지하는 것이 요구된다. 이를 위해, 광의 산란 또는 광학 간섭 등을 이용해 상의 비침이나 반사 등을 줄이기 위해, 화상 표시 장치의 표면에 반사 방지 필름 등의 광학 적층 필름이 형성되고 있다.
예를 들어, 액정 표시 소자 등에 있어서는 이전부터 방현층을 포함하는 광학 적층 필름이 일반적으로 형성되어 왔다. 이러한 방현층은 주로 바인더와, 이러한 바인더 내에 포함된 미립자를 포함하며, 이러한 미립자는 통상 바인더 표면에 일부가 돌출되게 형성되어 있다. 즉, 상기 방현층은 상기 바인더 표면에 돌출된 미립자에 의한 표면 요철을 가짐에 따라, 광 산란/광 반사 등을 제어하여 화상 표시 장치의 시인성 저하 등을 억제할 수 있다.
그런데, 상술한 바와 같은 방현층을 갖는 광학 필름은 통상 화상 표시 장치의 최표면에 형성되어 광 산란/광 반사 등을 제어하므로, 외부로부터 충격이 가해지는 경우가 많고, 이 때문에 방현층 및 기재 필름과의 우수한 부착성이나 경도 등의 기계적 물성이 요구되고 있다.
그러나, 이전에 알려진 광학 필름의 경우, 기재 필름 및 바인더의 종류에 따라 상기 부착성이나 경도가 충분치 못한 경우가 많았다. 또한, 이러한 바인더 등의 종류를 변경하여 부착성 또는 경도를 확보하고자 하는 경우, 오히려 방현층 등의 광학 특성이 저하되어 광 산란/광 반사 등을 제어하는 방현 특성 등이 제대로 발현되지 못하는 경우도 있었다.
공개특허공보 제10-2013-0127984호 등록특허공보 제10-1656454호 공개특허공보 제10-2016-0031448호 공개특허공보 제10-2014-0072859호
이에 본 발명은 방현층 및 광투과성 기재 필름 간의 부착성을 향상시키고, 상기 방현층 및 광학 필름이 적절한 헤이즈, 낮은 광택도 및 우수한 방현 특성 등 뛰어난 광학 특성을 나타낼 수 있게 하는 광학 필름 형성용 조성물을 제공하는 것이다.
본 발명은 또한, 방현층 및 기재 필름 간의 향상된 부착성과 함께, 우수한 광학 특성을 나타내는 광학 필름을 제공하는 것이다.
또한, 본 발명은 광학 필름을 포함하는 편광판을 제공하는 것이다.
본 발명은 광투과성 기재 필름 상에 침식층 및 표면 요철을 갖는 방현층을 형성하기 위한 광학 필름 형성용 수지 조성물로서,
3관능 이상의 다관능 (메트)아크릴레이트계 화합물과, 친수성 작용기 및 광경화성 작용기를 갖는 침투성 화합물을 포함하는 바인더 형성용 화합물;
서브-미크론(sub-㎛) 스케일을 갖는 2종 이상의 투광성 미립자; 및
상기 광투과성 기재 필름의 적어도 일부를 녹일 수 있는 침투성 용매를 포함하고,
상기 바인더 형성용 화합물 : 침투성 용매는 1 : 0.04 이상의 중량비를 가지며, 상기 광학 필름 형성용 수지 조성물의 전체 100 중량부에 대해, 상기 침투성 용매가 1 내지 4.5 중량부로 포함되는 광학 필름 형성용 수지 조성물을 제공한다.
본 발명은 또한, 광투과성 기재 필름;
상기 광투과성 기재 필름의 적어도 일부와 중첩되도록 상기 광투과성 기재 필름 내에 침식되어 형성되어 있고, 제 1 (메트)아크릴레이트계 가교 중합체를 포함한 제 1 바인더를 포함하는 침식층; 및
제 2 (메트)아크릴레이트계 가교 중합체를 포함한 제 2 바인더와, 상기 제 2 바인더 상에 분산된 서브-미크론(sub-㎛) 스케일을 갖는 2종 이상의 투광성 미립자를 포함하며, 상기 광투과성 기재필름 및 침식층 상에 표면 요철을 갖도록 형성된 방현층;을 포함하고,
상기 침식층은 100 nm이상 2㎛ 이하의 두께를 가지며,
상기 방현층의 전체 헤이즈가 1 내지 5%이고, 60° 광택도가 75% 내지 90%인 광학 필름을 제공한다.
또한, 본 발명은 상기 광학 필름을 포함하는 편광판을 제공한다.
이하, 발명의 구체적인 구현예에 따른 광학 필름 형성용 조성물, 광학 필름 및 이를 포함하는 편광판 등에 대해 설명하기로 한다.
본 명세서에서, 미크론(㎛) 스케일이라 함은, 1mm 미만, 즉, 1000㎛ 미만의 입자 크기 또는 입경을 가짐을 지칭하며, 나노(nm) 스케일이라 함은 1㎛ 미만, 즉, 1000 nm 미만의 입자 크기 또는 입경을 가짐을 지칭하고, 서브-미크론(sub-㎛) 스케일이라 함은 미크론 스케일 또는 나노 스케일의 입자 크기 또는 입경을 가짐을 지칭한다.
또한, 광중합성 화합물은 빛이 조사되면, 예를 들어 가시 광선 또는 자외선이 조사되면 가교, 경화 또는 중합 반응을 일으키는 화합물을 통칭한다.
또한, (메트)아크릴[(meth)acryl]은 아크릴(acryl) 및 메타크릴(methacryl) 양쪽 모두를 포함하는 의미이다.
또한, (공)중합체는 공중합체(co-polymer) 및 단독 중합체(homo-polymer) 양쪽 모두를 포함하는 의미이다.
또한, 침투성 화합물이라 함은 구조 중에 친수성 작용기, 예를 들어, 히드록시기 또는 알콕시기 등을 가지거나, 분자량이 상대적으로 작아 용액 상에서 이동이 용이함에 따라, 일부가 용해된 광투과성 기재 필름의 틈으로 침투할 수 있고, 이러한 침투 상태로 다관능 광경화성/광중합성 화합물(예를 들어, 다관능 (메트)아크릴레이트계 화합물)과 경화/가교되어 바인더, 수지 또는 (공)중합체를 형성할 수 있는 화합물을 포괄하여 지칭할 수 있다. 이를 위해, 상기 침투성 화합물은 상기 기재 필름 내로 침투할 수 있도록 히드록시기나 알콕시기 등 친수성 작용기를 가질 수 있고, 분자량이 상대적으로 작으며, 상기 다관능 광경화성/광중합성 화합물과 경화/가교 반응을 일으킬 수 있도록 (메트)아크릴레이트기나, 테트라하이드로퍼퓨릴기 등 광경화성 작용기를 가질 수 있다. 이때, 분자량이 "상대적으로 작다"고 함은 상기 침투성 화합물의 분자량이 조성물 중에 포함되는 전체 바인더 형성용 화합물의 분자량 평균 값보다 작게 됨을 지칭할 수 있다.
또한, 침투성 용매라 함은 상기 광투과성 기재 필름의 적어도 일부를 녹여, 상기 침투성 화합물이 기재 필름 내로 침투할 수 있는 틈을 형성하는 임의의 유기 용매를 포괄하여 지칭할 수 있다.
또한, 중공 실리카 입자(silica hollow particles)라 함은 규소 화합물 또는 유기 규소 화합물로부터 도출되는 실리카 입자로서, 상기 실리카 입자의 표면 및/또는 내부에 빈 공간이 존재하는 형태의 입자를 의미한다.
발명의 일 구현예에 따르면, 광투과성 기재 필름 상에 침식층 및 표면 요철을 갖는 방현층을 형성하기 위한 광학 필름 형성용 수지 조성물로서,
3관능 이상의 다관능 (메트)아크릴레이트계 화합물과, 친수성 작용기 및 광경화성 작용기를 갖는 침투성 화합물을 포함하는 바인더 형성용 화합물;
서브-미크론(sub-㎛) 스케일을 갖는 2종 이상의 투광성 미립자; 및
상기 광투과성 기재 필름의 적어도 일부를 녹일 수 있는 침투성 용매를 포함하고,
상기 바인더 형성용 화합물 : 침투성 용매는 1 : 0.04 이상의 중량비를 가지며, 상기 광학 필름 형성용 수지 조성물의 전체 100 중량부에 대해, 상기 침투성 용매가 1 내지 4.5 중량부로 포함되는 광학 필름 형성용 수지 조성물이 제공된다.
일 구현예의 광학 필름 형성용 수지 조성물은 방현층을 형성하기 위한 기본적인 성분인 복수 종의 투광성 미립자 및 3관능 이상의 다관능 (메트)아크릴레이트계 화합물을 포함하는 한편, 소정의 침투성 화합물 및 침투성 용매를 포함하는 것이다.
본 발명자들의 실험 결과, 이러한 침투성 화합물 및 침투성 용매를 포함하는 조성물로 방현층을 형성하는 경우, 다음의 원리로 인해 광투과성 기재 필름 상에 침식층 및 방현층이 각각 형성되는 것으로 확인되었다.
즉, 상기 일 구현예의 수지 조성물을 셀룰로오스에스테르계 기재 필름(예를 들어, TAC 기재 필름), 폴리에스테르계 기재 필름(예를 들어, PET 기재 필름), 폴리(메트)아크릴레이트계 기재 필름(예를 들어, PMMA계 기재 필름), 폴리카보네이트계 기재 필름, 사이클로올레핀계(COP) 기재 필름, 아크릴(Acryl)계 기재 필름 등과 같은 광투과성 기재 필름에 도포하게 되면, 상기 침투성 용매가 이러한 기재 필름의 적어도 일부를 녹여 침투하게 된다. 그 틈으로, 상기 히드록시기나 알콕시기 등의 친수성 작용기를 갖고 상대적으로 작은 분자량을 갖는 침투성 화합물이 젖어 들어 기재 필름 내로 침투할 수 있다. 이어서 방현층의 바인더를 형성하기 위한 광경화 공정을 진행하면, 상기 침투성 화합물의 광경화성 작용기와, 상기 다관능 (메트)아크릴레이트계 화합물의 (메트)아크릴레이트기가 서로 반응하면서, 상기 다관능 (메트)아크릴레이트계 화합물 및 침투성 화합물의 가교 공중합체가 광투과성 기재 필름 내에 침투된 상태로 형성될 수 있고, 이러한 가교 공중합체가 침식층의 바인더로 되면서, 광투과성 기재 필름 내에 침식층이 형성될 수 있다.
또한, 상기 침식층 및 광투과성 기재 필름 상에는, 상기 투광성 미립자가 포함된 상태로, 상기 다관능 (메트)아크릴레이트계 화합물의 가교 중합체가 광경화에 의해 형성되면서 방현층이 형성될 수 있다.
이와 같이, 광투과성 기재 필름 내의 침식층과, 상기 기재 필름 및 침식층 상에 직접 접촉되어 방현층(특히, 이러한 방현층은 침식층과 서로 가교 결합을 형성한 상태로 형성될 수 있다.)이 형성되면서, 상기 기재 필름과 방현층의 부착성이 크게 향상될 수 있다.
더 나아가, 상기 일 구현예의 조성물은 침투성 화합물 및 침투성 용매를 소정의 비율, 예를 들어, 상기 바인더 형성용 화합물 : 침투성 용매가 1 : 0.04 이상의 중량비로 되는 비율, 혹은 1 : 0.04 내지 1 : 0.1, 혹은 1 : 0.04 내지 1 : 0.07로 되는 비율로 포함하게 되며, 상기 일 구현예의 조성물의 전체 100 중량부에 대해, 상기 침투성 용매가 1 내지 4.5 중량부, 혹은 1.2 내지 4 중량부, 혹은 1.3 내지 3 중량부로 포함될 수 있다. 이러한 침투성 화합물 및 침투성 용매의 함유 비율 및 함량 등에 의해 상기 방현층 및 광학 필름의 표면 경도와, 광학 특성 또한 우수하게 유지할 수 있음이 확인되었다.
만일, 침투성 용매의 비율 또는 함량이 지나치게 작아지거나, 포함되지 않는 경우, 상기 침식층이 제대로 형성되지 않고, 기재 필름과 방현층 간의 부착성이 크게 저하될 수 있다. 반대로, 침투성 용매의 비율 또는 함량이 지나치게 높아지는 경우에는, 침식석 용매나 침투성 화합물 등이 방현층 내에서 투광성 미립자, 예를 들어, 유기 미립자의 응집에 영향을 줄 수 있으므로, 상기 방현층 및 광학 필름의 표면 경도가 저하되거나, 방현층의 표면 요철이 제대로 구현되지 않아 상기 방현층의 광택도가 높아지거나 헤이즈가 적절한 범위를 벗어나는 등 방현 특성 및 광학 특성이 크게 저하될 수 있다.
반대로, 상술한 일 구현예의 조성물을 사용하는 경우, 방현층 및 광투과성 기재 필름 간의 부착성을 향상시키고, 상기 방현층 및 광학 필름이 적절한 헤이즈, 낮은 광택도 및 우수한 방현 특성 등 뛰어난 광학 특성을 나타낼 수 있게 된다.
이하, 일 구현예의 조성물을 각 성분별로 구체적으로 설명하기로 한다.
먼저, 일 구현예의 조성물은 적어도 가시광선에 대한 투광성을 나타내는 광투과성 기재 필름 상에 형성되어 침식층 및 방현층을 형성할 수 있다. 이러한 광투과성 기재 필름의 대표적인 예로서, 셀룰로오스에스테르계 기재 필름, 폴리에스테르계 기재 필름, 폴리(메트)아크릴레이트계 기재 필름, 폴리카보네이트계 기재 필름, 사이클로올레핀계(COP) 기재 필름, 또는 아크릴(Acryl)계 기재 필름을 들 수 있다. 이들 기재 필름 상에 일 구현예의 조성물을 형성함에 따라, 침식층을 적절히 형성할 수 있고, 우수한 경도 및 광학 특성을 나타내는 방현층을 형성할 수 있다. 이러한 셀룰로오스에스테르계 기재 필름, 폴리에스테르계 기재 필름, 폴리(메트)아크릴레이트계 기재 필름, 폴리카보네이트계 기재 필름, 사이클로올레핀계(COP) 기재 필름, 또는 아크릴(Acryl)계 기재 필름으로는 이전부터 광학 필름의 기재 필름으로 적용 가능한 것으로 알려진 임의의 수지 필름, 예를 들어, 트리아세틸 셀룰로오스(TAC)계 필름이나, 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET)계 기재 필름, 폴리메틸메타크릴레이트(PMMA)계 기재 필름, 사이클로올레핀계(COP) 기재 필름, 또는 아크릴(Acryl)계 기재 필름 등을 별다른 제한 없이 모두 적용할 수 있다.
또, 기재 필름의 우수한 기계적 물성과, 내수성, 저투습성 그리고, 일 구현예 조성물로 형성되는 광학 필름의 우수한 광학 특성 등을 고려하여, 상기 광투과성 기재 필름은 20 내지 500㎛, 혹은 30 내지 200㎛, 혹은 40 내지 150㎛의 두께를 갖는 필름으로 될 수 있으며, 이러한 두께를 갖는 폴리에스테르계 기재 필름, 폴리(메트)아크릴레이트계 기재 필름, 사이클로올레핀계(COP) 기재 필름, 또는 아크릴(Acryl)계 기재 필름을 적절히 사용할 수 있다.
한편, 상기 일 구현예의 조성물은 침식층 및 방현층의 바인더를 형성하기 위한 화합물로서, 3관능 이상의 다관능 (메트)아크릴레이트계 화합물과, 친수성 작용기 및 광경화성 작용기를 갖는 침투성 화합물을 포함한다.
이들 화합물에서, 상기 3관능 이상의 (메트)아크릴레이트기를 갖는 다관능 (메트)아크릴레이트계 화합물로는, 3 내지 6 관능의 단분자 형태의 (메트)아크릴레이트계 화합물 및/또는 10 관능 이상의 (메트)아크릴레이트계 작용기를 갖는 폴리우레탄계 중합체, 폴리(메트)아크릴계 중합체 또는 폴리에스테르계 중합체를 함께 사용할 수 있다.
이러한 바인더의 조성에 의해, 상기 방현층 및 광학 필름의 헤이즈 특성을 보다 바람직한 범위로 유지하고, 상선명도를 보다 향상시키는데 기여할 수 있다. 만일, 3 내지 6 관능의 단분자 형태의 (메트)아크릴레이트계 화합물만을 사용할 경우, 상기 헤이즈 특성이 적절한 범위를 벗어나거나, 상선명도 등이 저하될 수 있고, 기재와, 방현층 간의 부착성이 저하될 수 있다.
상기 3 내지 6 관능의 단분자 형태의 (메트)아크릴레이트계 화합물의 구체적인 예로는, 분자당 3 내지 6개의 (메트)아크릴레이트계 작용기와, 방향족 고리를 갖는 단분자 형태의 화합물(예를 들어, 하기 실시예에서 사용된 UA-306T 등), 펜타에리스리톨 트리(메트)아크릴레이트 또는 트리알킬올프로판 트리(메트)아크릴레이트 등을 들 수 있다.
그리고, 상기 10 관능 이상의 (메트)아크릴레이트계 작용기를 갖는 폴리우레탄계 중합체, 폴리(메트)아크릴계 중합체 또는 폴리에스테르계 중합체로는, 폴리우레탄계 중합체, 폴리(메트)아크릴계 중합체 또는 폴리에스테르계 중합체의 주쇄에 평균 10 내지 80 개, 혹은 평균 10 내지 50 개의 (메트)아크릴레이트계 작용기가 결합된 중합체를 사용할 수 있고, 이러한 중합체는 1000 내지 200000의 중량 평균 분자량을 가질 수 있다.
또한, 상기 3 내지 6 관능의 단분자 형태의 (메트)아크릴레이트계 화합물과, 상기 10 관능 이상의 (메트)아크릴레이트계 작용기를 갖는 중합체는, 예를 들어, 1 : 1 내지 10 : 1의 중량비, 혹은 1 : 1 내지 5 : 1, 혹은 1 : 1 내지 3 : 1의 중량비로 사용될 수 있다.
한편, 상기 침투성 화합물로는, 히드록시기나 알콕시기 등의 친수성 작용기를 갖고, 상대적으로 작은 분자량을 가짐에 따라 광투과성 기재 필름 내로 침투할 수 있고, 상술한 다관능 (메트)아크릴레이트계 화합물과 광경화되어 침식층의 바인더를 형성할 수 있는 임의의 화합물을 사용할 수 있다. 이러한 침투성 화합물의 구체적인 예로는 히드록시기나 알콕시 등 친수성 작용기와, (메트)아크릴레이트기나, 테트라하이드로퍼퓨릴기 등 광경화성 작용기를 갖는 단분자 형태의 화합물, 예를 들어, 테트라하이드로퍼퓨릴 알코올(THFA), 히드록시(메트)아크릴레이트계 화합물 또는 2-(2-에톡시에톡시) 에틸아크릴레이트 등을 들 수 있다.
이러한 침투성 화합물은 상기 일 구현예의 조성물의 전체 100 중량부에 대해, 1 내지 10 중량부, 혹은 1.5 내지 5 중량부, 혹은 1.7 내지 4 중량부의 함량으로 포함될 수 있다. 만일, 침투성 화합물의 함량이 지나치게 작아지거나, 포함되지 않는 경우, 상기 침식층이 제대로 형성되지 않고 기재 필름과 방현층 간의 부착성이 크게 저하될 수 있다. 반대로, 침투성 화합물의 비율이 지나치게 높아지는 경우에는, 상기 침투성 화합물 등이 방현층에서 침투성 용매와 함께 투광성 미립자, 예를 들어, 유기 미립자의 응집에 영향을 줄 수 있다. 그 결과, 상기 방현층 및 광학 필름의 표면 경도가 저하되거나, 방현층의 표면 요철이 제대로 구현되지 않아 상기 방현층의 방현 특성 및 광학 특성이 크게 저하될 수 있다. 또한, 침투성 화합물 및/또는 침투성 용매의 함량이 지나치게 높아지는 경우, 코팅층의 안정성이나 생산성 또한 저하될 수 있다.
한편, 상기 일 구현예의 조성물은 방현층에 표면 요철을 형성하여 광 산란/광 반사를 제어할 수 있는 복수 종의 투광성 미립자를 포함한다. 또한, 이러한 투광성 미립자는 적절한 입경 범위를 가짐에 따라 방현층 상에 표면 요철을 발현시킬 수 있고, 일정한 굴절율 범위를 가짐에 따라, 방현층이 외부 광 산란/광 반사를 제어할 수 있게 한다.
일 예에서, 상기 투광성 미립자로는 서로 다른 입경 및 굴절율을 갖는 2종 이상의 미립자, 예를 들어, 미크론(㎛) 스케일의 유기 미립자와, 나노(nm) 스케일의 무기 미립자 등을 함께 사용할 수 있다.
보다 구체적으로, 상기 유기 미립자로는, 이전부터 방현층 등에 사용 가능한 것으로 알려진 수지 입자를 별다른 제한 없이 모두 사용할 수 있고, 이의 구체적인 예로는, 폴리스티렌계 수지, 폴리(메트)아크릴레이트계 수지 또는 폴리(메트)아크릴레이트-co-스티렌계 공중합체 수지를 포함하는 수지 미립자를 들 수 있다.
또, 이러한 유기 미립자는, 예를 들어, 1 내지 5㎛, 혹은 1.5 내지 4㎛의 입경을 갖는 구형 입자로서, 1.5 내지 1.6, 혹은 1.5 내지 1.57, 혹은 1.51 내지 1.56, 혹은 1.53 내지 1.56의 굴절율을 갖는 것으로 될 수 있다.
그리고, 상기 무기 미립자로는 실리카, 알루미나, 지르코니아 또는 티타니아를 포함하는 금속 산화물 미립자를 사용할 수 있으며, 예를 들어, 10nm 내지 300nm, 혹은 50 내지 200nm의 입경을 갖는 구형 입자로서, 1.4 내지 1.75, 혹은, 1.4 내지 1.65, 혹은 1.42 내지 1.48, 혹은 1.42 내지 1.45의 굴절율을 갖는 것으로 될 수 있다.
상술한 유기/무기 미립자를 포함함에 따라, 상기 방현층 표면으로 돌출되는 요철의 크기가 균일하고도 적절하게 제어되어 방현층의 헤이즈 특성이나, 광택도가 바람직한 범위로 조절될 수 있으며, 그 결과, 상기 방현층 및 광학 필름이 보다 우수한 방현 특성/광학 특성을 나타낼 수 있다.
상술한 투광성 미립자는 일 구현예의 조성물에 포함되는 바인더 형성용 화합물 및 투광성 미립자를 합한 총 100 중량부를 기준으로, 예를 들어, 1 내지 30 중량부, 혹은 2 내지 20 중량부, 혹은 3 내지 10 중량부, 혹은 3 내지 5 중량부의 함량으로 포함될 수 있다. 또, 상기 유기 미립자 및 무기 미립자는 5 : 1 내지 1 : 5, 혹은 3 : 1 내지 1 : 3, 혹은 2 : 1 내지 1 : 2의 중량비로 사용될 수 있다. 이로서, 상기 방현층 및 광학 필름의 광학 특성/방현 특성이 더욱 향상될 수 있다. 만일, 상기 미립자의 총 함량이 지나치게 작으면 방현층 상의 표면 요철 구현이 제대로 되지 않아 외부 광의 산란/반사 등이 제대로 제어되지 못하여 방현 특성이 저하될 수 있다. 반대로, 상기 미립자의 총 함량이 지나치게 크면 투과 이미지 광의 굴절이 증가하여 광학 필름의 상 선명도가 크게 저하될 수 있다.
한편, 상술한 일 구현예의 조성물은 상술한 바인더 형성용 화합물 및 투광성 미립자들 외에, 침투성 용매를 더 포함한다. 이러한 침투성 용매는 이미 상술한 바와 같이, 광투과성 기재 필름의 일부를 녹여 침투성 화합물이 스며들 수 있도록 하고 침식층의 형성을 가능케 하는 성분이다.
이러한 침투성 용매는 상기 바인더 형성용 화합물 : 침투성 용매가 1 : 0.04 이상의 중량비로 되는 비율, 혹은 1 : 0.04 내지 1 : 0.1, 혹은 1 : 0.04 내지 1 : 0.07로 되는 비율로 포함되며, 상기 일 구현예의 조성물의 전체 100 중량부에 대해, 1 내지 4.5 중량부, 혹은 1.2 내지 4 중량부, 혹은 1.3 내지 3 중량부로 포함될 수 있다. 이러한 침투성 용매의 함유 비율 및 함량 등에 의해, 침식층의 형성에도 불구하고, 일 구현예의 조성물을 형성되는 방현층 및 광학 필름의 표면 경도와, 광학 특성이 우수하게 유지될 수 있다.
상기 침투성 용매로는, 광투과성 기재 필름의 종류에 따라 해당 기재 필름을 적절한 수준으로 용해시킬 수 있는 용매를 당업자가 자명하게 선택하여 사용할 수 있다. 다만, 이미 상술한 종류의 기재 필름, 즉, 셀룰로오스에스테르계 기재 필름, 폴리에스테르계 기재 필름, 폴리(메트)아크릴레이트계 기재 필름, 사이클로올레핀계(COP) 기재 필름, 또는 아크릴(Acryl)계 기재 필름 등에 침식층/방현층을 형성하고자 하는 경우, 상기 침투성 용매로는 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸케톤, 또는 아세톤 등의 케톤계 용매, 톨루엔, 자일렌 또는 테트라하이드로퓨란 등을 적절히 사용할 수 있다.
한편, 일 구현예의 수지 조성물은 상술한 각 성분 외에 광개시제 및 침투성 용매 외의 유기 용매를 더 포함할 수 있다.
이러한 조성물에서, 상기 광개시제로는 통상적으로 알려진 광개시제를 큰 제한 없이 사용할 수 있다. 상기 광개시제의 예로는 1-히드록시시클로헥실페닐케톤, 벤질 디메틸케탈, 히드록시디메틸아세토페논, 벤조인, 벤조인메틸 에테르, 벤조인 에틸 에테르, 벤조인이소프로필 에테르, 및 벤조인 부틸 에테르 중 선택된 하나의 단일물 또는 둘 이상의 혼합물을 들 수 있다.
이때, 상기 광개시제는 상술한 바인더 형성용 화합물 100 중량부에 대해 0.1 내지 10 중량부로 첨가될 수 있다. 상기 광개시제가 0.1 중량부 미만으로 포함되는 경우, 자외선 조사에 의한 충분한 광경화가 일어나지 않을 수 있으며, 10 중량부를 초과하여 포함되는 경우, 상기 방현층과 기재 필름 등의 부착성이 저하될 수 있다. 더 나아가, 상기 광개시제가 지나치게 큰 함량으로 포함될 경우, 시간의 경과에 따라 미반응 개시제에 의해 방현층 및 이를 포함한 광학필름이 황변을 나타내게 되어 상기 광학필름의 광학 특성이 저하될 수 있다.
또한, 상기 조성물은 침투성 용매 외에, 일 구현예의 조성물에 포함된 나머지 성분들을 분산/용해시키기 위한 매질로서의 유기 용매를 더 포함할 수 있다. 이와 같은 유기 용매가 첨가되는 경우, 그 구성의 한정은 없으나, 조성물의 적절한 점도 확보 및 최종 형성되는 필름의 막강도 등을 고려하여, 상기 바인더 형성용 화합물 100 중량부에 대해, 바람직하게는 50 내지 700 중량부, 더욱 바람직하게는 100 내지 500 중량부, 가장 바람직하게는 150 내지 450 중량부를 사용할 수 있다.
이때, 사용 가능한 유기 용매의 종류는 그 구성의 한정은 없으나, 상기 침투성 용매와 상이한 종류의 탄소수 1 내지 6의 저급 알코올류, 아세테이트류, 셀로솔브류, 디메틸포름아마이드 및 프로필렌글리콜모노메틸에테르로 이루어진 군에서 선택되는 1종 또는 1 종 이상의 혼합물을 사용할 수 있다.
이때, 상기 저급 알코올류는 메탄올, 에탄올, 이소프로필알코올, 부틸알코올, 이소부틸알코올, 또는 디아세톤 알코올 등을 예로 들 수 있다. 그리고, 상기 아세테이트류는 메틸아세테이트, 에틸아세테이트, 이소프로필아세테이트, 부틸아세테이트, 또는 셀로솔브아세테이트가 이용될 수 있다.
한편, 상기 일 구현예의 조성물은 분산제, 레벨링제, 웨팅제, 소포제 및 대전 방지제로 이루어진 군에서 선택되는 1종 이상의 첨가제를 더 포함할 수 있다. 이때, 상기 첨가제는 각각 상기 바인더 형성용 화합물 100 중량부에 대해 0.01 내지 10 중량부의 범위 내에서 첨가될 수 있다.
상기 침식층/방현층은 상술한 일 구현예의 조성물을 광투과성 기재 필름의 일면에 도포하고 건조 및 광경화를 진행하여 형성할 수 있고, 이러한 건조 및 광경화의 조건은 일반적인 방현층의 형성 공정 조건에 따를 수 있으며, 구체적인 공정 조건은 이하의 실시예에도 기술되어 있다.
한편, 발명의 다른 구현예에 따르면, 상술한 일 구현예의 조성물로 형성된 광학 필름이 제공된다. 이러한 광학 필름의 일 예는 광투과성 기재 필름; 상기 광투과성 기재 필름의 적어도 일부와 중첩되도록 상기 광투과성 기재 필름 내에 침식되어 형성되어 있고, 제 1 (메트)아크릴레이트계 가교 중합체를 포함한 제 1 바인더를 포함하는 침식층; 및 제 2 (메트)아크릴레이트계 가교 중합체를 포함한 제 2 바인더와, 상기 제 2 바인더 상에 분산된 서브-미크론(sub-㎛) 스케일을 갖는 2종 이상의 투광성 미립자를 포함하며, 상기 광투과성 기재필름 및 침식층 상에 표면 요철을 갖도록 형성된 방현층;을 포함하고, 상기 침식층은 50nm 이상 2㎛ 이하의 두께를 가지며, 상기 방현층의 전체 헤이즈가 1 내지 5%이고, 60° 광택도가 75% 내지 90%인 것이다.
상기 다른 구현예의 광학 필름은 일 구현예의 수지 조성물로 형성됨에 따라, 3관능 이상의 다관능 (메트)아크릴레이트계 화합물과, 상기 침투성 화합물의 가교 공중합체(즉, 제 1 (메트)아크릴레이트계 가교 중합체)를 포함하는 제 1 바인더가 광투과성 기재 필름 내에 침식 및 형성되며, 이에 의해, 예를 들어, 도 1 및 2에 도시된 바와 같은 침식층이 포함된다.
또한, 이러한 침식층 및 광투과성 기재 필름 상에는, 일 구현예의 조성물 중에서 기재 필름 내로 침투하지 못한 다관능 (메트)아크릴레이트계 화합물의 가교 중합체(즉, 제 1 (메트)아크릴레이트계 가교 중합체보다 큰 분자량을 갖는 제 2 (메트)아크릴레이트계 가교 중합체)를 제 1 바인더로서 포함하는 방현층이 형성되어 있으며, 이러한 제 2 바인더 내에는 2종 이상의 투광성 미립자, 예를 들어, 이미 상술한 유기 및 무기 미립자가 포함되어 표면 요철을 형성하고 있다.
이때, 상기 제 1 및 제 2 바인더는 단일한 광경화 공정에 의해 형성되며, 제 1 및 제 2 바인더를 형성하는 다관능(메트)아크릴레이트계 화합물의 적어도 일부가 서로 가교 결합을 형성할 수 있으므로, 침식층 및 방현층은 서로 화학적으로 결합되어 있다. 따라서, 다른 구현예의 광학 필름은 기재 필름/침식층과 방현층 간에 우수한 부착력을 나타낼 수 있다.
또한, 상기 광학 필름은 침투성 화합물 및/또는 침투성 용매가 적절한 비율로 포함된 일 구현예의 조성물로 형성됨에 따라, 침식층이 100nm 이상 2㎛ 이하, 혹은 150 nm 이상 1.5 ㎛ 이하, 혹은 300nm 이상 1.3㎛ 이하, 혹은 500nm 이상 1.0㎛ 이하의 적절한 두께로 형성될 수 있다. 이에 더하여, 상기 광학 필름은 침투성 화합물 및/또는 침투성 용매 등의 적절한 비율로 인해, 이들 성분이 투광성 미립자의 응집을 방해하지 않으며, 그 결과 상기 방현층 및 광학 필름이 우수한 표면 경도와 함께, 적절한 헤이즈 및 낮은 광택도 등 우수한 방현 특성/광학 특성을 나타낼 수 있다.
따라서, 다른 구현예의 광학 필름은 우수한 기재 필름과의 부착성 및 높은 표면 경도와 함께, 우수한 방현 특성/광학 특성을 동시에 나타낼 수 있으므로, 다양한 편광판 및/또는 화상 표시 장치에 바람직하게 사용될 수 있다.
이하, 상술한 광학 필름에 대해 보다 구체적으로 설명하기로 한다. 다만, 침식층/방현층 등에 포함되는 각 성분에 대해서는, 이미 일 구현예의 조성물에 대해 구체적으로 설명한 바가 있으므로, 이하에서는 이를 제외하고 나머지 사항을 중심으로 설명하기로 한다.
상기 다른 구현예의 광학 필름에서, 상기 방현층은 1 내지 10㎛, 혹은 2 내지 8㎛의 두께를 가질 수 있다. 이로서, 상술한 투광성 미립자가 방현층 표면에 적절한 표면 요철을 형성하여 방현층이 우수한 방현 특성을 나타낼 수 있으며, 방현층 및 침식층 간의 두께 비율이 바람직하게 제어되어, 기재 필름 및 방현층 간의 보다 향상된 부착성이 발현될 수 있다.
그리고, 상기 광학 필름에서, 상기 제 2 바인더는 1.50 내지 1.60의 굴절율을 가질 수 있다. 이로서, 상기 방현층의 제 2 바인더와, 투광성 미립자들이 적절한 굴절율 차이, 예를 들어, 제 2 바인더와, 투광성 미립자의 굴절율 차이의 절대 값이 0.25 이하, 혹은 0.01 내지 0.25, 혹은 0.02 내지 0.25, 혹은 0.02 내지 0.10으로 될 수 있으며, 방현층이 낮은 광택도, 적절한 헤이즈 특성 및 더욱 향상된 방현 특성을 나타낼 수 있다.
다른 구현예의 광학 필름은 상술한 각 성분 및 구성에 따라, 경도 및 부착성 등 우수한 기계적 물성뿐 아니라, 외부 광의 산란이나 반사를 적절하게 억제하여 우수한 방현 특성을 가질 수 있으며, 낮은 광택도와, 적절한 헤이즈 특성 등의 우수한 광학 특성을 나타낼 수 있다. 이와 같은 뛰어난 광학 특성은 그 표면의 낮은 광택도로 정의될 수 있다. 예를 들어, 상기 방현층 및 광학 필름은 60° 광택도가 75% 내지 90%, 혹은 80% 내지 88%로 될 수 있으며, 20° 광택도가 45% 내지 68%, 혹은 55% 내지 67%로 될 수 있다.
또, 상기 광학 필름은 전체 헤이즈가 1 내지 5%, 혹은 1 내지 4%, 혹은 1 내지 3.5%로 되어 적절한 수준을 유지할 수 있다. 상기 전체 헤이즈가 지나치게 높아지는 경우 광학 특성이 저하됨은 자명하며, 전체 헤이즈 값이 지나치게 낮아지는 경우에도, 외부 반사 이미지가 산란되지 못하고 시인되므로, 화면의 시인성 및 상선명도가 악화될 수 있다.
한편, 상술한 다른 구현예의 광학 필름은 상기 방현층 상에 형성된 저굴절층을 더 포함할 수도 있다. 이러한 저굴절층은 광중합성 화합물의 (공)중합체를 포함한 바인더 수지와, 상기 바인더 수지에 분산되어 있는 중공 실리카 입자를 포함할 수 있다.
이러한 저굴절층을 포함함에 따라, 상기 광투과성 기재 필름에서의 반사 자체가 줄어들 수 있으며, 그 결과 다른 구현예의 광학 필름에서 간섭 무늬의 발생 및 반사율이 더욱 감소될 수 있다. 또한, 이러한 저굴절층을 사용해 화상 표시 장치의 표시면에서의 난반사를 줄여 해상도 및 시인성을 보다 향상시킬 수 있다.
이러한 저굴절층은 상기 기재 필름에서의 반사나, 표시 장치의 표시면에서의 난반사 등을 효과적으로 억제하기 위해, 예를 들어, 1.3 내지 1.5의 굴절율을 가지며, 1 내지 300nm의 두께를 가질 수 있다.
한편, 상기 저굴절층은 광중합성 화합물 및 중공 실리카 입자를 포함하는 저굴절층 형성용 광경화성 코팅 조성물로부터 형성될 수 있다. 구체적으로, 상기 저굴절층은 광중합성 화합물의 (공)중합체를 포함한 바인더 수지 및 상기 바인더 수지에 분산된 중공 실리카 입자를 포함할 수 있다.
상기 저굴절층에 포함되는 광중합성 화합물은 (메트)아크릴레이트 또는 비닐기를 포함하는 단량체 또는 올리고머를 포함할 수 있다. 구체적으로, 상기 광중합성 화합물은 (메트)아크릴레이트 또는 비닐기를 1이상, 또는 2이상, 또는 3이상 포함하는 단량체 또는 올리고머를 포함할 수 있다.
상기 (메트)아크릴레이트를 포함한 단량체 또는 올리고머의 구체적인 예로는, 펜타에리스리톨 트리(메트)아크릴레이트, 펜타에리스리톨 테트라(메트)아크릴레이트, 디펜타에리스리톨 펜타(메트)아크릴레이트, 디펜타에리스리톨 헥사(메트)아크릴레이트, 트리펜타에리스리톨 헵타(메트)아크릴레이트, 트릴렌 디이소시아네이트, 자일렌 디이소시아네이트, 헥사메틸렌 디이소시아네이트, 트리메틸올프로판 트리(메트)아크릴레이트, 트리메틸올프로판 폴리에톡시 트리(메트)아크릴레이트, 트리메틸롤프로판트리메타크릴레이트, 에틸렌글리콜 디메타크릴레이트, 부탄디올 디메타크릴레이트, 헥사에틸 메타크릴레이트, 부틸 메타크릴레이트 또는 이들의 2종 이상의 혼합물이나, 또는 우레탄 변성 아크릴레이트 올리고머, 에폭사이드 아크릴레이트 올리고머, 에테르아크릴레이트 올리고머, 덴드리틱 아크릴레이트 올리고머, 또는 이들의 2종 이상의 혼합물을 들 수 있다. 이때 상기 올리고머의 분자량은 1,000 내지 10,000인 것이 바람직하다.
상기 비닐기를 포함하는 단량체 또는 올리고머의 구체적인 예로는, 디비닐벤젠, 스티렌 또는 파라메틸스티렌을 들 수 있다.
한편, 상기 저굴절층 형성용 광경화성 코팅 조성물은 광반응성 작용기를 포함한 불소계 화합물을 더 포함할 수 있다. 이에 따라, 상기 저굴절층의 바인더 수지는 이미 상술한 광중합성 화합물 및 상기 광반응성 작용기를 포함한 불소계 화합물간의 가교 중합체를 포함할 수 있다.
상기 광반응성 작용기를 포함한 불소계 화합물은 1이상의 광반응성 작용기가 포함 또는 치환될 수 있으며, 상기 광반응성 작용기는 빛의 조사에 의하여, 예를 들어 가시 광선 또는 자외선의 조사에 의하여 중합 반응에 참여할 수 있는 작용기를 의미한다. 상기 광반응성 작용기는 빛의 조사에 의하여 중합 반응에 참여할 수 있는 것으로 알려진 다양한 작용기를 포함할 수 있으며, 이의 구체적인 예로는 (메트)아크릴레이트기, 에폭사이드기, 비닐기(Vinyl) 또는 싸이올기(Thiol)를 들 수 있다.
상기 광반응성 작용기를 포함한 불소계 화합물은 1 중량% 내지 25중량%의 불소 함량을 가질 수 있다. 상기 광반응성 작용기를 포함한 불소계 화합물에서 불소의 함량이 너무 작으면, 상기 저굴절층의 내오염성이나 내알칼리성 등의 물성을 충분히 확보하기 어려울 수 있다. 또한, 상기 광반응성 작용기를 포함한 불소계 화합물에서 불소의 함량이 너무 크면, 상기 저굴절층의 내스크래치성 등 표면 특성이 저하될 수 있다.
상기 광반응성 작용기를 포함한 불소계 화합물은 규소 또는 규소 화합물을 더 포함할 수 있다. 즉, 상기 광반응성 작용기를 포함한 불소계 화합물은 선택적으로 내부에 규소 또는 규소 화합물을 함유할 수 있다.
상기 광반응성 작용기를 포함한 불소계 화합물은 2,000 내지 200,000의 중량평균분자량(GPC법에 의해 측정한 폴리스티렌 환산의 중량평균분자량)을 가질 수 있다. 상기 광반응성 작용기를 포함한 불소계 화합물의 중량평균분자량이 너무 작으면, 상기 구현예의 광경화성 코팅 조성물로부터 얻어진 저굴절층이 충분한 내알카리 특성을 갖지 못할 수 있다. 또한, 상기 광반응성 작용기를 포함한 불소계 화합물의 중량평균분자량이 너무 크면, 상기 구현예의 광경화성 코팅 조성물로부터 얻어진 저굴절층이 충분한 내구성이나 내스크래치성을 갖지 못할 수 있다.
상기 광경화성 코팅 조성물은 상기 (메트)아크릴레이트 또는 비닐기를 포함하는 단량체 또는 올리고머의 광중합성 화합물의 100 중량부를 기준으로, 상기 광반응성 작용기를 포함한 불소계 화합물 0.1 내지 10중량부를 포함할 수 있다. 상기 광중합성 화합물 대비 상기 광반응성 작용기를 포함한 불소계 화합물이 과량으로 첨가되는 경우 상기 광경화성 코팅 조성물의 코팅성이 저하되거나 상기 광경화성 코팅 조성물로부터 얻어진 저굴절층이 충분한 내구성이나 내스크래치성을 갖지 못할 수 있다. 또한, 상기 광중합성 화합물 대비 상기 광반응성 작용기를 포함한 불소계 화합물의 양이 너무 작으면, 상기 광경화성 코팅 조성물로부터 얻어진 저굴절층이 충분한 내알카리 특성을 갖지 못할 수 있다.
한편, 상기 중공 실리카 입자는 200 ㎚ 미만의 최대 직경을 가지며 그 표면 및/또는 내부에 빈 공간이 존재하는 형태의 실리카 입자를 의미한다. 상기 중공 실리카 입자는 1 내지 200㎚, 또는 10 내지 100㎚ 의 직경을 가질 수 있다.
상기 중공 실리카 입자로는 그 표면이 불소계 화합물로 코팅된 것을 단독으로 사용하거나, 불소계 화합물로 표면이 코팅되지 않는 중공 실리카 입자와 혼합하여 사용할 수도 있다. 상기 중공 실리카 입자의 표면을 불소계 화합물로 코팅하면 표면 에너지를 보다 낮출 수 있으며, 이에 따라 상기 광경화성 코팅 조성물 내에서 상기 중공 실리카 입자가 보다 균일하게 분포할 수 있고, 상기 광경화성 코팅 조성물로부터 얻어지는 필름의 내구성이나 내스크래치성을 보다 높일 수 있다.
그리고, 상기 중공 실리카 입자는 소정의 분산매에 분산된 콜로이드상으로 조성물에 포함될 수 있다. 상기 중공 실리카 입자를 포함하는 콜로이드상은 분산매로 유기 용매를 포함할 수 있다.
여기서, 상기 분산매 중 유기 용매로는 메탄올, 이소프로필알코올, 에틸렌글리콜, 부탄올 등의 알코올류; 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸케톤 등의 케톤류; 톨루엔, 자일렌 등의 방향족 탄화수소류; 디메틸포름아미드. 디메틸아세트아미드, N-메틸피롤리돈 등의 아미드류; 초산에틸, 초산부틸, 감마부틸로락톤 등의 에스테르류; 테트라하이드로퓨란, 1,4-디옥산 등의 에테르류; 또는 이들의 혼합물이 포함될 수 있다.
상기 광경화성 코팅 조성물은 상기 광중합성 화합물 100 중량부에 대하여 상기 중공 실리카 입자 10 내지 500 중량부, 또는 50 내지 400중량부를 포함할 수 있다. 상기 중공 실리카 입자가 과량으로 첨가될 경우 바인더의 함량 저하로 인하여 코팅막의 내스크래치성이나 내마모성이 저하될 수 있다. 또한, 상기 중공 실리카 입자가 소량으로 첨가될 경우 중공 실리카 입자의 균일한 막형성이 이루어지지 않을 수 있고, 반사율 및 굴절율이 높아져 원하는 효과가 제대로 나타나지 않을 수 있다.
상기 광중합 개시제로는 광경화성 코팅 조성물에 사용될 수 있는 것으로 알려진 화합물이면 크게 제한 없이 사용 가능하며, 구체적으로 벤조 페논계 화합물, 아세토페논계 화합물, 비이미다졸계 화합물, 트리아진계 화합물, 옥심계 화합물 또는 이들의 2종 이상의 혼합물을 사용할 수 있다.
상기 광중합성 화합물 100 중량부에 대하여, 상기 광중합 개시제는 1 내지 100 중량부의 함량으로 사용될 수 있다.
한편, 상기 광경화성 코팅 조성물은 유기 용매를 더 포함할 수 있다.
상기 유기 용매의 비제한적인 예를 들면 케톤류, 알코올류, 아세테이트류 및 에테르류, 또는 이들의 2종 이상의 혼합물을 들 수 있다.
이러한 유기 용매의 구체적인 예로는, 메틸에틸케논, 메틸이소부틸케톤, 아세틸아세톤 또는 이소부틸케톤 등의 케톤류; 메탄올, 에탄올, n-프로판올, i-프로판올, n-부탄올, i-부탄올, 또는 t-부탄올 등의 알코올류; 에틸아세테이트, i-프로필아세테이트, 또는 폴리에틸렌글리콜 모노메틸에테르 아세테이트 등의 아세테이트류; 테트라하이드로퓨란 또는 프로필렌글라이콜 모노메틸에테르 등의 에테르류; 또는 이들의 2종 이상의 혼합물을 들 수 있다.
상기 유기 용매는 상기 광경화성 코팅 조성물에 포함되는 각 성분들을 혼합하는 시기에 첨가되거나 각 성분들이 유기 용매에 분산 또는 혼합된 상태로 첨가되면서 상기 광경화성 코팅 조성물에 포함될 수 있다.
한편, 다른 구현예의 광학 필름에 포함되는 저굴절층은 상술한 광경화성 코팅 조성물을 방현층 위에 도포하고 도포된 결과물을 건조 및 광경화함으로서 얻어질 수 있다. 이러한 저굴절층의 구체적인 공정 조건은 당업자에게 자명한 조건에 따를 수 있다.
발명의 또 다른 구현예에 따르면, 상술한 광학 필름을 포함하는 편광판 및 화상 표시 장치가 제공된다.
이러한 편광판 및 화상 표시 장치의 일 예는 다음과 같이 이루어질 수 있다.
상기 화상 표시 장치는 서로 대향하는 1쌍의 편광판; 상기 1쌍의 편광판 사이에 순차적으로 적층된 박막트랜지스터, 컬러필터 및 액정셀; 및 백라이트 유닛을 포함하는 액정디스플레이 장치일 수 있으며, 상기 편광판 중 적어도 화상 표시면 측의 편광판에는 편광 소자와, 편광 소자 상에 형성된 상술한 구현예의 광학 필름이 포함될 수 있다.
이러한 광학 필름은, 예를 들어, 편광자 보호 필름 및/또는 반사 방지 필름으로서 작용하여 이미 상술한 우수한 특성을 나타낼 수 있다. 한편, 상기 편광판 및/또는 화상 표시 소자는 상기 구현예의 광학 필름을 포함함을 제외하고는 통상적인 구성에 따를 수 있으므로, 이에 관한 추가적인 설명은 생략하기로 한다.
본 발명에 따르면, 방현층 및 광투과성 기재 필름 간의 부착성을 향상시키고, 상기 방현층 및 광학 필름이 적절한 헤이즈, 낮은 광택도 및 우수한 방현 특성 등 뛰어난 광학 특성을 나타낼 수 있게 하는 광학 필름 형성용 조성물이 제공될 수 있다.
이러한 조성물을 사용하여, 우수한 기계적 물성과, 광학 특성을 동시에 충족하는 광학 필름이 제공될 수 있고, 이는 다양한 화상 표시 장치에서 바람직하게 사용되어 그 시인성 등을 크게 향상시킬 수 있다.
도 1은 실시예 2 에서 형성된 광학 필름의 단면 형태(특히, 기재 필름/침식층/ 방현층의 형성)를 나타내는 전자 현미경 사진이다.
도 2는 실시예 3에서 형성된 광학 필름의 단면 형태(특히, 기재 필름/침식층/ 방현층의 형성)를 나타내는 전자 현미경 사진이다.
발명의 구체적인 구현예를 하기의 실시예에서 보다 상세하게 설명한다. 단, 하기의 실시예는 발명의 구체적인 구현예를 예시하는 것일 뿐, 발명의 구체적인 구현예의 내용이 하기의 실시예에 의하여 한정되는 것은 아니다.
< 제조예 : 방현층 / 침식층 형성용 조성물의 제조>
(1) 방현층 형성용 조성물의 제조
하기 표 1 및 2의 성분을 균일하게 혼합하여 광학 필름(방현층) 형성용 조성물을 제조하였다. 표 1 및 2에서 사용된 모든 성분의 함량은 중량부 단위로 나타내었다.
제조예1 제조예2 제조예3 제조예4 제조예 5 제조예 6
침투성 화합물 THFA 1.79 1.79 3.6 　 　
HEA 1.8 　 　 1.79 3.45
기타 바인더 UA-306T 3.60 8.80 3.6 　 3.45
Beamset371 12.4 8.80 3.60 　 　
8BR-500 　 　 7.2 12.41 7.30
TMPTA 4.14 　 3.6 12.41 6.20
PETA 12.4 8.27 12.41 8.9 　 6.20
유기미립자
(굴절율)		 103BQ
(약 1.52)		 1.1 0.44 0.67 0.4 　 　
113BQ
(약 1.56)		 0.44 0.33 0.4 0.99 0.91
무기미립자
(굴절율)		 MA-ST(12nm)
(1.430)		 0.1 0.29 0.17 0.3 0.17 0.26
개시제 I184 1.8 0.80 0.80 1.8 0.80 0.80
레벨링제 T100 0.5 0.13 0.13 0.4 0.13 0.13
침투성 용매 메틸에틸케톤 1.1 1.48 1.48 1.1 1.34 1.34
기타 용매 IPA 34.4 34.91 34.91 22.9 34.98 34.98
EtOH 34.4 34.91 34.91 45.8 34.98 34.98
합계 100 100 100 100 100 100
침투성 용매/바인더 형성용 화합물(중량비) 0.041 0.06 0.06 0.04 0.05 0.05
비교
제조예1		 비교
제조예2		 비교
제조예3		 비교
제조예4		 비교
제조예5		 비교
제조예6		 비교
제조예7
침투성 화합물 THFA
HEA 12.4 3.45
기타 바인더 UA-306T 3.45 3.60 3.45 3.60
Beamset371 13.3 13.5 12.4 8.80 8.80
8BR-500 10.75 7.30
TMPTA 6.20 8.27 6.20 8.27
PETA 13.3 13.5 1.8 6.20 5.93 6.20 5.93
유기미립자
(굴절율)		 103BQ
(약 1.52)		 1.2 1.1 0.5 0.44 0.44
113BQ
(약 1.56)		 0.5 0.91 0.44 0.91 0.44
무기미립자
(굴절율)		 MA-ST(12nm)
(1.430)		 0.2 0.1 0.2 0.26 0.29 0.26 0.29
개시제 I184 1.8 1.8 1.8 0.80 0.80 0.80 0.80
레벨링제 T100 0.4 0.4 0.13 0.13 0.13 0.13
침투성 용매 메틸에틸케톤 5.8 1.34 1.48 5.86
기타 용매 IPA 34.9 32.1 35.0 34.98 34.91 32.72 47.50
EtOH 34.9 32.1 35.0 34.98 34.91 32.72 23.80
합계 100 100 100 100 100 100 100
침투성 용매/바인더 형성용 화합물(중량비) 0 0.21 0 0.05 0.06 0.22 0
1) THFA: 테트라하이드로퍼퓨릴 알코올
2) HEA: 2-히드록시에틸아크릴레이트
3) UA-306T: (Kyoeisha): 톨루엔 디이소시아네이트에 펜타에리스리톨 트리아크릴레이트 2개가 반응하여 형성된 6관능 아크릴레이트계 화합물
4) Beamset371(ARAKAWA CHEMICAL):
폴리우레탄/에스테르 주쇄에, 50 관능 내외의 에폭시 아크릴레이트 작용기가 결합된 중합체
5) 8BR-500 (TAISEI FINE CHEMICAL):
폴리아크릴 주쇄에, 40 관능 내외의 우레탄 아크릴레이트 작용기가 결합된 중합체
6) TMPTA: 트리메틸올프로판 트리아크릴레이트
7) PETA: Pentaerythritol triacrylate
8) I184(Irgacure 184): 광개시제, Ciba사 제품.
9) T-100(Tego glide 100): 레벨링제, Evonik사 제품.
10) 103BQ(XX-103BQ, Sekisui Plastic사 제품): 굴절율 1.515(약 1.52), 평균 입경 2㎛인 PMMA-PS 가교 공중합체 미립자
11) 113BQ(XX-113BQ, Sekisui Plastic사 제품): 굴절율 1.555(약 1.56), 평균 입경 2㎛인 PMMA-PS 가교 공중합체 미립자
12) MA-ST: 부피 평균 입경이 12nm이고, 굴절율이 1.43인 구형의 실리카 미립자 (Nissan Chemical사 제품)
< 실시예 1 내지 6 및 비교예 1 내지 7: 광학 필름의 제조>
하기 표 3 및 4에 나타난 바와 같이, 두께 80 ㎛ 및 굴절율 1.6~1.7의 PET 기재 필름(또는 두께 60 ㎛ 및 굴절율 1.4~1.6 의 아크릴 기재 필름)에, 상기 제조예 1 내지 6 또는 비교 제조예 1 내지 7에서 각각 제조된 조성물을 도포하고 90℃에서 1분 건조한 이후, 150 mJ/㎠의 자외선을 조사하여 방현층을 제조하였다.
방현층 형성하여 광학 필름을 각각 제조한 후, 실시예 2 및 3의 광학 필름 단면을 전자 현미경으로 관찰하여 침식층 형성 여부를 확인하였다. 상기 실시예 2 및 3의 전자 현미경 사진은 각각 도 1 및 2에 도시하였다(도1 에서는 관찰 방향으로 인해 투광성 미립자가 관찰되지 않음.). 이와 동일한 방법으로 나머지 실시예 및 비교예에 대해서도 침식층 형성 여부를 확인하였다.
< 실험예 : 광학필름의 물성 측정>
상기 제조된 광학필름의 물성을 하기의 방법에 따라 측정하고, 이를 하기 표 3 및 4 에 나타내었다.
1. 굴절율 (Refractive Index) 측정
광학 필름에 포함된 바인더, 방현층 등의 굴절율은 ellipsometer를 이용하여 웨이퍼 위에 코팅된 상태로 각각 측정하였다. 보다 구체적으로, 바인더나, 방현층 및 저굴절층의 굴절율은 각 조성물을 3cm X 3cm 웨이퍼에 도포하고, 스핀코터를 이용하여 코팅을 진행한 후(코팅 조건: 1500rpm, 30초), 90℃에서 2분간 건조하고 질소 퍼징 하에 180mJ/cm2 의 조건으로 자외선을 조사하였다. 이를 통해 100nm의 두께를 갖는 각 코팅층을 형성하였다.
이러한 코팅층에 대해, J. A. Woollam Co.의 굴절율 측정 장비(모델명: M-2000)를 사용하여, 70°의 입사각을 적용하고, 380nm 내지 1000nm의 파장 범위에서 선편광을 측정하였다. 상기 측정된 선평광 측정 데이터(ellipsometry data (Ψ,Δ))를 Complete EASE software를 이용하여 하기 일반식 1의 코쉬 모델(Cauchy model)로 MSE가 3 이하가 되도록 최적화(fitting)하였다.
Figure 112017125435350-pat00001
상기 식에서, n(λ)는 λ 파장(300nm~1800nm)에서의 굴절율이고, A, B, C,는 코쉬 파라미터이다.
한편, 기재 필름 및 각 미립자의 굴절율은 시판품에 관하여 제공되는 정보를 사용하였다.
2. 침식층 / 방현층 두께 평가
도 1 및 도 2와 같은 전자 현미경 사진을 통해 침식층/방현층의 평균 두께를 측정하였다.
3. 전체/내부/외부 헤이즈 평가
4cm x 4cm의 광학 필름 시편을 준비하고 헤이즈 측정기(HM-150, A 광원, 무라카미사)로 3회 측정하여 평균값을 계산하고, 이를 전체 헤이즈 값으로 산출하였다. 측정시, 투과율은 JIS K 7361 규격, 헤이즈는 JIS K 7105 규격에 의해 측정하였다. 내부 헤이즈 측정시에는, 측정 대상 광학 필름의 코팅면에 전체 헤이즈가 0인 점착 필름을 붙여 표면의 요철을 평탄하게 만들어준 후, 위 전체 헤이즈와 동일 방법으로 내부 헤이즈를 측정하였다.
4. 20°/ 60°광택도 평가
BYK Gardner 사의 micro-TRI-gloss 를 사용하여 20°/60° 광택도를 각각 측정하였다. 측정시, 기재 필름의 코팅층이 형성되지 않은 면에 광이 투과하지 못하도록 검정 테이프(3M)를 붙이고, 빛의 입사각을 각각 20°/60°로 달리하여 20°/60° 광택도를 측정하였고, 5회 이상 측정한 평균값을 각 광택도 값으로 산출하였다.
5. 연필경도( 500gf )
ASTM D3363 표준 규격에 따라 측정하며, 측정 기기는 JS tech의 연필 경도기를 사용하였다. 측정시 필름 시편은 7cm x7cm으로 잘라 제작하고, 유리판 위에 고정시킨 후, 미츠비시 사의 연필을 시용하여 500g 하중 하에서의 경도를 측정하였다. 한 연필당 5회 측정하여 4회 이상 양호할 경우, 해당 경도에서의 긁힘이 없는 것으로 평가하였다. 측정 길이는 5cm이며, 경도 측정 초반부의 0.5cm에서의 긁힘은 제외하고 판정하였다.
6. 부착력 평가
방현층과, 기재 필름의 부착력을 방현측 표면에서 측정하였다.
실시예1 실시예2 실시예3 실시예4 실시예5 실시예6
기재 필름 PET 아크릴 아크릴 PET 아크릴 아크릴
기재필름 굴절율 1.6~1.7
(복굴절)		 1.4~1.6 1.4~1.6 1.6~1.7
(복굴절)		 1.4~1.6 1.4~1.6
조성물 제조예 1 제조예 2 제조예 3 제조예 4 제조예 5 제조예 6
방현층 두께
(㎛)		 4.5 4.4 5 5 5.1 5.5
방현층(제2바인더 굴절율) 1.524 1.522 1.526 1.524 1.516 1.519
침식층 형성 여부 O O O O O O
침식층 두께 ~500nm ~900 nm ~600nm ~500nm ~600nm ~1000nm
전체헤이즈 1.1 2.9 3.1 2.1 2.5 2.6
내부헤이즈 0.6 2.1 2.3 1.8 1.3 1.6
광택도(20도) 67 64 65 65.2 63 63
광택도(60도) 86.0 84 86 86.3 85 87
연필경도 3H 3H 3H 3H 3H 3H
부착력 >4B 5B 5B >4B 5B 5B
비교예1 비교예2 비교예3 비교예 4 비교예 5 비교예 6 비교예 7
기재 필름 PET PET PET 아크릴 아크릴 아크릴 아크릴
기재필름 굴절율 1.6~1.7
(복굴절)		 1.6~1.7
(복굴절)		 1.6~1.7
(복굴절)		 1.4~1.6 1.4~1.6 1.4~1.6 1.4~1.6
조성물 비교제조예1 비교제조예2 비교제조예3 비교제조예4 비교제조예5 비교제조예6 비교제조예7
방현층 두께
(㎛)		 4.5 4.5 4.5 5 4.6 5.4 5.1
방현층(제2바인더 굴절율) 1.524 1.524 1.523 1.522 1.521 1.519 1.521
침식층 형성 여부 X O O X X O X
침식층 두께 0 ~500nm ~1.5㎛ 0 0 ~1100nm 0
전체헤이즈 1.2 0.7 2.2 3.2 3.1 1.9 2.9
내부헤이즈 0.7 0.6 2.0 2.3 2.1 1.7 1.8
광택도(20도) 66.6 70.7 70.0 65 64 70 64
광택도(60도) 87.1 92.6 91.7 86 85 91.5 86
연필경도 3H 3H H 3H 3H 3H 3H
부착력 2B >4B 3B <3B <3B 5B <3B
상기 표 3를 참고하면, 실시예의 광학 필름은 낮은 광택도 및 적절한 수준의 헤이즈 특성 등 우수한 광학 특성과, 높은 표면 경도 및 부착력 등 뛰어난 기계적 특성을 나타내는 것으로 확인되었다.
이에 비해, 침투성 화합물 및/또는 침투성 용매가 포함되지 않거나, 그 적절한 비율/함량을 벗어나는 조성물로 형성된 비교예 1 내지 7은 침식층이 형성되지 않아 부착력이 떨어지거나(비교예 1, 4, 5, 7), 침식층 형성시 유기 미립자의 응집이 적절히 제어되지 못하여, 표면 경도가 열악하거나(비교예 3), 광학 특성(헤이즈가 지나치게 낮거나, 광택도가 높음)이 열악한 것(비교예 2, 3, 6)으로 확인되었다. 참고로, 광택도가 지나치게 높으면 외부 광의 반사를 제대로 억제할 수 없으며, 헤이즈 값이 지나치게 낮으면 외부 반사 이미지가 산란되지 못하고 시인되므로, 화면의 시인성 및 상선명도가 열악하게 된다.

Claims (18)

  1. 광투과성 기재 필름 상에 침식층 및 표면 요철을 갖는 방현층을 형성하기 위한 광학 필름 형성용 수지 조성물로서,
    3관능 이상의 다관능 (메트)아크릴레이트계 화합물과, 친수성 작용기 및 광경화성 작용기를 갖는 침투성 화합물을 포함하는 바인더 형성용 화합물;
    서브-미크론(sub-㎛) 스케일을 갖는 2종 이상의 투광성 미립자; 및
    상기 광투과성 기재 필름의 적어도 일부를 녹일 수 있는 침투성 용매로서, 케톤계 용매, 톨루엔, 자일렌 또는 테트라하이드로퓨란을 포함한 침투성 용매를 포함하고,
    상기 바인더 형성용 화합물 : 침투성 용매는 1 : 0.04 이상의 중량비를 가지며, 상기 광학 필름 형성용 수지 조성물의 전체 100 중량부에 대해, 상기 침투성 용매가 1 내지 4.5 중량부로 포함되는 광학 필름 형성용 수지 조성물.
  2. 제 1 항에 있어서, 상기 광투과성 기재 필름은 20 내지 500㎛의 두께를 갖는 셀룰로오스에스테르계 기재 필름, 폴리에스테르계 기재 필름, 폴리(메트)아크릴레이트계 기재 필름, 폴리카보네이트계 기재 필름, 사이클로올레핀계(COP) 기재 필름 또는 아크릴(Acryl)계 기재 필름인 광학 필름 형성용 수지 조성물.
  3. 제 1 항에 있어서, 상기 3관능 이상의 다관능 (메트)아크릴레이트계 화합물은 3 내지 6 관능의 단분자 형태의 (메트)아크릴레이트계 화합물과, 10 관능 이상의 (메트)아크릴레이트계 작용기를 갖는 폴리우레탄계 중합체, 폴리(메트)아크릴계 중합체 또는 폴리에스테르계 중합체를 포함하는 광학 필름 형성용 수지 조성물.
  4. 제 1 항에 있어서, 상기 침투성 화합물은 테트라하이드로퍼퓨릴 알코올(THFA), 히드록시(메트)아크릴레이트계 화합물 또는 2-(2-에톡시에톡시) 에틸아크릴레이트를 포함하는 광학 필름 형성용 수지 조성물.
  5. 제 1 항에 있어서, 상기 침투성 화합물은 상기 광학 필름 형성용 수지 조성물의 전체 100 중량부에 대해, 1 내지 10 중량부의 함량으로 포함되는 광학 필름 형성용 수지 조성물.
  6. 제 1 항이 있어서, 상기 투광성 미립자는 미크론(㎛) 스케일의 유기 미립자와, 나노(nm) 스케일의 무기 미립자를 포함하는 광학 필름 형성용 수지 조성물.
  7. 제 6 항에 있어서, 상기 유기 미립자는 폴리스티렌계 수지, 폴리(메트)아크릴레이트계 수지 또는 폴리(메트)아크릴레이트-co-스티렌계 공중합체 수지를 포함하는 수지 미립자인 광학 필름 형성용 수지 조성물.
  8. 제 6 항에 있어서, 상기 유기 미립자는 1 내지 5㎛의 입경을 갖는 구형 입자로서, 1.5 내지 1.6의 굴절율을 갖는 광학 필름 형성용 수지 조성물.
  9. 제 6 항에 있어서, 상기 무기 미립자는 실리카, 알루미나, 지르코니아 또는 티타니아를 포함하는 금속 산화물 미립자인 광학 필름 형성용 수지 조성물.
  10. 제 6 항에 있어서, 상기 무기 미립자는 10nm 내지 300nm의 입경을 갖는 구형 입자로서, 1.4 내지 1.75의 굴절율을 갖는 광학 필름 형성용 수지 조성물.
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Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR102384287B1 (ko) * 2018-11-07 2022-04-06 주식회사 엘지화학 광학 필름, 광학 필름 제조방법, 및 이를 포함하는 편광판
KR102294399B1 (ko) * 2018-11-07 2021-08-25 주식회사 엘지화학 광학 필름, 광학 필름 제조방법, 및 이를 포함하는 편광판
JP7196969B2 (ja) * 2020-09-14 2022-12-27 大日本印刷株式会社 艶消物品
WO2022054644A1 (ja) * 2020-09-14 2022-03-17 大日本印刷株式会社 艶消物品
CN115991959B (zh) * 2023-03-23 2023-06-16 富维薄膜（山东）有限公司 一种涂布液及其在全息猫眼防伪用聚酯薄膜中的应用

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101656454B1 (ko) * 2013-06-21 2016-09-09 주식회사 엘지화학 편광자 보호 필름 및 이를 포함하는 편광판

Family Cites Families (30)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4215458B2 (ja) 2002-06-26 2009-01-28 日本製紙株式会社 防眩フィルム
JP4044485B2 (ja) 2003-05-02 2008-02-06 日東電工株式会社 光学フィルム、その製造方法、およびそれを用いた偏光板
TWI417564B (zh) 2005-02-21 2013-12-01 Dainippon Printing Co Ltd Manufacturing method and manufacturing apparatus for optical laminate
TWI409169B (zh) 2005-02-21 2013-09-21 Dainippon Printing Co Ltd Anti-glare optical laminate
TWI411817B (zh) * 2005-02-21 2013-10-11 Dainippon Printing Co Ltd Optical laminates
CN101156089B (zh) 2005-03-30 2010-05-19 大日本印刷株式会社 防眩性光学叠层体
JPWO2008020587A1 (ja) 2006-08-14 2010-01-07 大日本印刷株式会社 防眩性光学積層体
US8715784B2 (en) 2007-03-09 2014-05-06 Dai Nippon Printing Co., Ltd. Method of producing optical layered body, optical layered body, polarizer and image display device
JP2009061686A (ja) * 2007-09-06 2009-03-26 Teijin Dupont Films Japan Ltd 防眩性積層体
JPWO2009041321A1 (ja) 2007-09-26 2011-01-27 コニカミノルタオプト株式会社 光学フィルム、偏光板および画像表示装置
JP2009086360A (ja) * 2007-09-28 2009-04-23 Dainippon Printing Co Ltd 反射防止フィルム
JP2009262148A (ja) 2008-03-31 2009-11-12 Dainippon Printing Co Ltd 多層塗工膜の製造方法
KR101205252B1 (ko) 2008-10-21 2012-11-28 다이니폰 인사츠 가부시키가이샤 광학 시트
JP5008734B2 (ja) * 2010-03-18 2012-08-22 大日本印刷株式会社 防眩性フィルム、防眩性フィルムの製造方法、偏光板及び画像表示装置
KR101928586B1 (ko) * 2010-09-21 2018-12-12 다이니폰 인사츠 가부시키가이샤 대전 방지성 하드 코트 필름, 그 제조 방법, 편광판 및 화상 표시 장치
WO2012053632A1 (ja) 2010-10-22 2012-04-26 大日本印刷株式会社 防眩性フィルム、偏光板及び画像表示装置
JP6128576B2 (ja) 2011-04-22 2017-05-17 日東電工株式会社 光学積層体
JP2013045031A (ja) 2011-08-26 2013-03-04 Nippon Paper Industries Co Ltd 防眩ハードコートフィルム
KR101226228B1 (ko) 2011-08-26 2013-01-28 주식회사 엘지화학 반사 방지 필름
JP5653378B2 (ja) * 2011-09-27 2015-01-14 日本製紙株式会社 防眩ハードコートフィルム
WO2013054804A1 (ja) 2011-10-12 2013-04-18 大日本印刷株式会社 画像表示装置用防眩シート
TWI541534B (zh) 2011-10-17 2016-07-11 Dainippon Printing Co Ltd Optical film, polarizing plate and image display device
JP6141592B2 (ja) * 2011-11-16 2017-06-07 富士フイルム株式会社 光学フィルム、偏光板、画像表示装置、及び光学フィルムの製造方法
JP2013142773A (ja) 2012-01-11 2013-07-22 Dainippon Printing Co Ltd ハードコートフィルム、及びその製造方法、並びに、低反射フィルム
JP6261858B2 (ja) 2012-06-28 2018-01-17 日東電工株式会社 画像表示装置、防眩性フィルムおよび防眩性フィルムの製造方法
JP2014063050A (ja) 2012-09-21 2014-04-10 Fujifilm Corp 防眩フィルムの製造方法、防眩フィルム、偏光板、及び画像表示装置
JP6336804B2 (ja) 2013-05-13 2018-06-06 富士フイルム株式会社 反射防止フィルム、偏光板、カバーガラス、画像表示装置、反射防止フィルムの製造方法、反射防止フィルムと清掃用布を含むキット、反射防止フィルムの清掃方法
JP2016526705A (ja) 2013-06-21 2016-09-05 エルジー・ケム・リミテッド 偏光子保護フィルム、その製造方法、および偏光子保護フィルムを含む偏光板
US10338276B2 (en) 2014-09-12 2019-07-02 Fujifilm Corporation Antireflective film, polarizing plate, cover glass, image display device, and method of manufacturing antireflective film
TWI650234B (zh) 2014-12-26 2019-02-11 凸版巴川光學薄膜股份有限公司 光學積層體、偏光板及顯示裝置

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101656454B1 (ko) * 2013-06-21 2016-09-09 주식회사 엘지화학 편광자 보호 필름 및 이를 포함하는 편광판

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