TW202307470A - 防眩性積層體、光學積層體、偏光板及影像顯示裝置 - Google Patents
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Abstract
本發明提供一種鉛筆硬度及耐彎曲性優異之防眩性積層體。
本發明之防眩性積層體於基材上具有樹脂層，上述樹脂層自上述基材側起具有第1樹脂層及第2樹脂層，上述樹脂層含有平均粒徑為0.5 μm以上之第1粒子，上述第1粒子之個數基準之70%以上遍及存在於上述第1樹脂層及上述第2樹脂層，上述防眩性積層體滿足下述式1。
5＜t1/t2＜15 （式1）
[式1中，t1表示上述第1樹脂層之平均厚度，t2表示上述第2樹脂層之平均厚度]
Description
本發明係關於一種防眩性積層體、光學積層體、偏光板及影像顯示裝置。
為了對電視、筆記型PC、桌上型PC之顯示器等影像顯示裝置之表面賦予防眩性，存在設置防眩性積層體之情況。防眩性係指抑制照明及人物等背景映入之特性。
又，為了對影像顯示裝置之表面賦予防污性、抗反射性及防眩性等，存在設置光學積層體之情況。
防眩性積層體係由基材上具有表面為凹凸形狀之防眩層之基本構成所組成。防眩性積層體多數情況用作影像顯示裝置等之表面構件，因此其常與人之手指及物體等接觸。由此，防眩性積層體較佳為鉛筆硬度較高。
光學積層體係由基材上具有光學功能層之基本構成所組成。光學積層體多數情況用作影像顯示裝置等之表面構件，因此其常與人之手指及物體等接觸。由此，光學積層體較佳為鉛筆硬度良好。
為了提高防眩性積層體之鉛筆硬度，作為防眩層之樹脂成分，較佳為使用硬化性樹脂組成物之硬化物（例如專利文獻1～2）。
為了使光學積層體之鉛筆硬度良好，作為光學功能層之黏合劑樹脂，較佳為使用硬化性樹脂組成物之硬化物。
硬化性樹脂組成物之硬化物雖易使光學積層體之鉛筆硬度良好，但與基材之密接性有不佳之傾向。於專利文獻3及4中，提出一種使用硬化性樹脂組成物之硬化物作為光學功能層之黏合劑樹脂且密接性良好之光學積層體。
[先前技術文獻]
[專利文獻]
專利文獻1：日本專利第6840215號公報
專利文獻2：國際公開號WO2018/070426
專利文獻3：日本特開2012-234163號公報
專利文獻4：日本特開2015-188772號公報
[發明所欲解決之課題]
專利文獻1～2之防眩性積層體由於防眩層之硬度較高，故而鉛筆硬度良好。但專利文獻1～2之防眩性積層體存在耐彎曲性不充分之情況。具體而言，於將專利文獻1～2之防眩性積層體應用於可摺疊型之影像顯示裝置或可捲曲型之影像顯示裝置之情形時，存在防眩性積層體產生裂痕之情況。於使用丙烯酸樹脂基材作為防眩性積層體之基材之情形時，上述耐彎曲性有變差之傾向。
專利文獻3～4之光學積層體其初期之密接性良好。但專利文獻3～4之光學積層體存在隨著時間變化，密接性降低或光學特性發生變化之情況。具體而言，專利文獻3～4之光學積層體於利用紫外線照射實施耐光性試驗之情形時，存在密接性降低或穿透影像清晰度發生變化之情況。
本發明之課題在於提供一種鉛筆硬度及耐彎曲性優異之防眩性積層體、以及使用其之偏光板及影像顯示裝置。
本發明之課題在於提供一種光學積層體、以及使用其之偏光板及影像顯示裝置，上述光學積層體可抑制耐光性試驗後之密接性之降低及穿透影像清晰度之變化。
[解決課題之技術手段]
本發明提供以下[1]～[31]之防眩性積層體、光學積層體、偏光板及影像顯示裝置。
[1]一種防眩性積層體，其於基材上具有樹脂層，
上述樹脂層自上述基材側起具有第1樹脂層及第2樹脂層，
上述樹脂層含有平均粒徑為0.5 μm以上之第1粒子，
上述第1粒子之個數基準之70%以上遍及存在於上述第1樹脂層及上述第2樹脂層，
上述防眩性積層體滿足下述式1，
5.0＜t1/t2＜15.0 （式1）
[式1中，t1表示上述第1樹脂層之平均厚度，t2表示上述第2樹脂層之平均厚度]。
[2]如[1]所記載之防眩性積層體，其中，表示上述第1粒子之平均粒徑之D1與表示上述第2樹脂層之平均厚度之t2為t2＜D1之關係。
[3]如[1]或[2]所記載之防眩性積層體，其中，表示上述第1粒子之平均粒徑之D1與表示上述第1樹脂層之平均厚度之t1為D1＜t1之關係。
[4]如[1]至[3]中任一項所記載之防眩性積層體，其中，上述第1粒子為有機粒子。
[5]如[1]至[4]中任一項所記載之防眩性積層體，其中，上述基材之上述樹脂層側之表面之平均傾斜角為5.0度以上且15.0度以下。
[6]如[1]至[5]中任一項所記載之防眩性積層體，其中，上述基材之上述樹脂層側之表面之算術平均高度為0.05 μm以上且0.25 μm以下。
[7]如[1]至[6]中任一項所記載之防眩性積層體，其中，表示上述第1樹脂層之厚度方向之正中之壓痕硬度之H1與表示上述第2樹脂層之厚度方向之正中之壓痕硬度之H2為H1＜H2之關係。
[8]如[7]所記載之防眩性積層體，其中，40 MPa＜H2－H1。
[9]如[7]所記載之防眩性積層體，其中，40 MPa＜H2－H1≦100 MPa。
[10]如[1]至[9]中任一項所記載之防眩性積層體，其中，上述樹脂層含有硬化性樹脂組成物之硬化物。
[11]如[1]至[10]中任一項所記載之防眩性積層體，其中，上述基材為丙烯酸樹脂基材。
[12]一種防眩性積層體，其於基材上具有樹脂層，
上述樹脂層含有平均粒徑為0.5 μm以上之第1粒子，
於將較上述樹脂層之厚度方向之中心更靠上述基材側之區域定義為第1區域，將較上述樹脂層之厚度方向之中心更靠上述基材之相反側之區域定義為第2區域時，上述第1粒子之個數基準之70%以上存在於上述第2區域，
上述防眩性積層體滿足下述條件1A或條件2A：
＜條件1A＞
上述基材之上述樹脂層側之表面之平均傾斜角為5.0度以上且20.0度以下；
＜條件2A＞
上述基材之上述樹脂層側之表面之算術平均高度為0.10 μm以上且0.40 μm以下。
[13]如[12]所記載之防眩性積層體，其中，表示上述第1粒子之平均粒徑之D1與表示上述樹脂層之平均厚度之t為2.0＜t/D1＜6.0之關係。
[14]如[12]或[13]所記載之防眩性積層體，其中，上述第1粒子為有機粒子。
[15]如[12]至[14]中任一項所記載之防眩性積層體，其中，上述樹脂層含有硬化性樹脂組成物之硬化物。
[16]如[12]至[15]中任一項所記載之防眩性積層體，其中，上述基材為丙烯酸樹脂基材。
[17]一種光學積層體，其於基材上具有樹脂層，
上述樹脂層自上述基材側起具有第1樹脂層及第2樹脂層，
上述第1樹脂層具有相互獨立之區域α1及包圍上述區域α1之區域α2，上述區域α1所含之樹脂與上述區域α2所含之樹脂不同，
上述第2樹脂層具有相互獨立之區域β1及包圍上述區域β1之區域β2，上述區域β1所含之樹脂與上述區域β2所含之樹脂不同，
上述光學積層體滿足下述條件1B或條件2B：
＜條件1B＞
表示上述基材之上述樹脂層側之表面之平均傾斜角之θa1與表示上述第1樹脂層之上述第2樹脂層側之表面之平均傾斜角之θa2為θa2＜θa1之關係；
＜條件2B＞
表示上述基材之上述樹脂層側之表面之算術平均高度之Pa1與表示上述第1樹脂層之上述第2樹脂層側之表面之算術平均高度之Pa2為Pa2＜Pa1之關係。
[18]如[17]所記載之光學積層體，其中，上述θa1為5.0度以上且20.0度以下。
[19]如[17]或[18]所記載之光學積層體，其中，上述θa2為10.0度以下。
[20]如[17]所記載之光學積層體，其中，上述Pa1為0.05 μm以上且0.25 μm以下。
[21]如[17]或[18]所記載之光學積層體，其中，上述Pa2為0.15 μm以下。
[22]如[17]至[21]中任一項所記載之光學積層體，其中，於將較上述第1樹脂層之厚度方向之中心更靠上述基材側之區域定義為第1區域，將較上述第1樹脂層之厚度方向之中心更靠上述第2樹脂層側之區域定義為第2區域時，上述區域α1之70%以上存在於上述第2區域。
[23]如[17]至[22]中任一項所記載之光學積層體，其中，上述區域α1所含之樹脂與上述區域β2所含之樹脂實質上相同，上述區域α2所含之樹脂與上述區域β1所含之樹脂實質上相同。
[24]如[17]至[23]中任一項所記載之光學積層體，其中，上述樹脂層含有平均粒徑為0.5 μm以上之第1粒子。
[25]如[24]所記載之光學積層體，其中上述第2樹脂層含有上述第1粒子。
[26]如[24]或[25]所記載之光學積層體，其中，上述第1粒子為有機粒子。
[27]如[17]至[26]中任一項所記載之光學積層體，其中，上述基材為丙烯酸樹脂基材。
[28]如[17]至[27]中任一項所記載之光學積層體，其中，上述樹脂層含有硬化性樹脂組成物之硬化物。
[29]一種偏光板，其具有偏光元件、配置於上述偏光元件之一側之第1透明保護板、及配置於上述偏光元件之另一側之第2透明保護板，上述第1透明保護板及上述第2透明保護板之至少一者為選自[1]至[16]所記載之防眩性積層體及[17]至[28]所記載之光學積層體中的任一防眩性積層體或光學積層體。
[30]一種影像顯示裝置，其於顯示元件上具有選自[1]至[16]所記載之防眩性積層體及如[17]至[28]所記載之光學積層體中的任一防眩性積層體或光學積層體。
[31]如[30]所記載之影像顯示裝置，其中，上述影像顯示裝置為可摺疊型之影像顯示裝置或可捲曲型之影像顯示裝置，且於上述顯示元件上具有[1]至[16]中任一項所記載之防眩性積層體。
[發明之效果]
本發明之防眩性積層體可使鉛筆硬度及耐彎曲性良好。本發明之偏光板及影像顯示裝置由於具有鉛筆硬度及耐彎曲性優異之防眩性積層體，故而可提高偏光板及影像顯示裝置之設計之自由度。
本發明之光學積層體、偏光板及影像顯示裝置可抑制耐光性試驗後之密接性之降低及穿透影像清晰度之變化。
以下，對本發明之實施形態進行說明。
[第1實施形態之防眩性積層體]
本發明之第1實施形態之防眩性積層體於基材上具有樹脂層，
上述樹脂層自上述基材側起具有第1樹脂層及第2樹脂層，
上述樹脂層含有平均粒徑為0.5 μm以上之第1粒子，
上述第1粒子之個數基準之70%以上遍及存在於上述第1樹脂層及上述第2樹脂層，
上述防眩性積層體滿足下述式1。
5.0＜t1/t2＜15.0 （式1）
[式1中，t1表示上述第1樹脂層之平均厚度，t2表示上述第2樹脂層之平均厚度]
圖1係表示本發明之第1實施形態之防眩性積層體100A之一實施形態之剖視圖。
圖1之防眩性積層體100A於基材10上具有樹脂層20A。又，圖1之樹脂層20A自基材10側起具有第1樹脂層21A及第2樹脂層22A。又，圖1之樹脂層20A含有平均粒徑為0.5 μm以上之第1粒子23A。又，圖1中之第1粒子23A遍及存在於第1樹脂層21A及第2樹脂層22A。
再者，圖1係示意性剖視圖。即，構成防眩性積層體100A之各層之縮小比例、各材料之縮小比例、及表面凹凸之縮小比例係為了易於圖示而示意化者，與實際之縮小比例有差異。除圖1以外之圖亦同樣與實際之縮小比例有差異。
＜基材＞
作為基材，較佳為透光性、平滑性、耐熱性及機械強度良好。作為此種基材，可列舉含有聚酯、三乙醯纖維素（TAC）、二乙酸纖維素、醋酸丁酸纖維素、聚醯胺、聚醯亞胺、聚醚碸、聚碸、聚丙烯、聚甲基戊烯、聚氯乙烯、聚乙烯縮醛、聚醚酮、丙烯酸樹脂、聚碳酸酯、聚胺酯（polyurethane）及非晶質烯烴（環烯烴聚合物，Cyclo-Olefin-Polymer：COP）等樹脂之樹脂基材。樹脂基材可為將2種以上之樹脂基材貼合所得者。
為了使機械強度及尺寸穩定性良好，樹脂基材較佳為進行延伸處理。
樹脂基材之中，較佳為由於吸濕性較低故而易於使尺寸穩定性良好且由於光學各向異性較低故而易於使視認性良好之丙烯酸樹脂基材。又，對於丙烯酸樹脂基材，藉由對樹脂層用塗佈液設定特定之組成且設定特定之乾燥條件，可易於藉由塗佈1次，形成第1樹脂層及第2樹脂層。
丙烯酸樹脂基材由於較硬且較脆，故而若於丙烯酸樹脂基材上形成含有硬化性樹脂組成物之硬化物之樹脂層，則存在耐彎曲性變得不充分之情況。即便於丙烯酸樹脂基材上形成含有硬化性樹脂組成物之硬化物之樹脂層，本發明之防眩性積層體亦可藉由使第1粒子存在於樹脂層之厚度方向之特定之位置、及滿足式1等方法，易於抑制耐彎曲性之降低。
於本說明書中，丙烯酸樹脂意指丙烯酸系樹脂及/或甲基丙烯酸系樹脂。
作為丙烯酸樹脂基材含有之丙烯酸樹脂，並無特別限制，例如，較佳為使1種(甲基)丙烯酸烷基酯聚合而成者，或將2種以上(甲基)丙烯酸烷基酯組合並使之聚合而成者，更具體而言，較佳為使用(甲基)丙烯酸甲酯所得者。又，作為丙烯酸樹脂，亦可列舉日本特開2000-230016號公報、日本特開2001-151814號公報、日本特開2002-120326號公報、日本特開2002-254544號公報、日本特開2005-146084號公報等中所記載者。作為丙烯酸樹脂，可使用具有內酯環結構之丙烯酸樹脂、具有醯亞胺環結構之丙烯酸樹脂等具有環結構者。
丙烯酸樹脂之玻璃轉移點（Tg）較佳為100℃以上且150℃以下，更佳為105℃以上且135℃以下，進而較佳為110℃以上且130℃以下。
若丙烯酸樹脂之玻璃轉移點為100℃以上，則可易於抑制形成樹脂層時丙烯酸樹脂基材過度溶解。若丙烯酸樹脂之玻璃轉移點為150℃以下，則可易於控制形成樹脂層時丙烯酸樹脂基材溶解之程度。
丙烯酸樹脂基材可含有除丙烯酸樹脂以外之樹脂，丙烯酸樹脂相對於構成丙烯酸樹脂基材之所有樹脂之比率較佳為80質量%以上，更佳為90質量%以上，進而較佳為95質量%以上。
丙烯酸樹脂基材例如可藉由對由濕度控制之丙烯酸樹脂所構成之顆粒進行熔融擠出後，進行冷卻，並縱向延伸，其後橫向延伸而製造。
於熔融擠出步驟中，可使用單軸、雙軸、或雙軸以上之螺桿，螺桿之旋轉方向、轉速、熔融溫度可任意設定。
延伸較佳為於延伸後進行以使其為所需之厚度。又，延伸倍率並無限定，較佳為1.2倍以上且4.5倍以下。延伸時之溫度、濕度可任意決定。延伸方法為一般方法即可。
基材之平均厚度較佳為10 μm以上，更佳為20 μm以上，進而較佳為35 μm以上。藉由將基材之平均厚度設為10 μm以上，可易於使防眩性積層體之操作性良好。
基材之平均厚度較佳為100 μm以下，更佳為80 μm以下，進而較佳為60 μm以下。藉由將基材之平均厚度設為100 μm以下，可易於使防眩性積層體之耐彎曲性更良好。
作為基材之平均厚度之較佳之範圍之實施形態，可列舉10 μm以上且100 μm以下、10 μm以上且80 μm以下、10 μm以上且60 μm以下、20 μm以上且100 μm以下、20 μm以上且80 μm以下、20 μm以上且60 μm以下、35 μm以上且100 μm以下、35 μm以上且80 μm以下、35 μm以上且60 μm以下。
上述基材之平均厚度意指防眩性積層體之完成時之基材之平均厚度。如下所述，藉由樹脂層用塗佈液，基材之一部分溶解，由此，防眩性積層體之完成時之基材之平均厚度存在較初期之基材之平均厚度減少之情況。由此，初期之基材之平均厚度較佳為設為較防眩性積層體之完成時之基材之平均厚度更厚。初期之基材之平均厚度與防眩性積層體之完成時之基材之平均厚度之差由於根據樹脂層之厚度、樹脂層用塗佈液之組成、上述塗佈液之乾燥條件等而不同，故而不能一概而論，較佳為0.1 μm以上且10 μm以下，更佳為1 μm以上且5 μm以下。
關於基材之平均厚度，例如可自藉由掃描穿透式電子顯微鏡（STEM）拍攝之防眩性積層體之剖面照片之任意部位選擇20點，藉由其平均值算出。STEM之加速電壓較佳為設為10 kV以上且30 kV以下，STEM之倍率較佳為設為1000倍以上且7000倍以下。
為了對基材之平均厚度、第1樹脂層之厚度、第2樹脂層之厚度、樹脂層之厚度方向上之第1粒子之位置、基材之樹脂層側之表面之平均傾斜角、基材之樹脂層側之表面之算術平均高度等進行測定，必須製作防眩性積層體之剖面露出之測定用樣品。上述樣品例如可藉由下述（A1）～（A2）之步驟製作。再者，於由於對比度不足而難以看到界面等之情形時，可藉由四氧化鋨、四氧化釕、磷鎢酸等對上述樣品實施染色處理作為預處理。
於本說明書中，實施各種測定及評價、以及用於測定及評價之取樣之環境係於溫度23±5℃、相對濕度40%以上且65%以下測定，除非另有說明。又，於實施測定、評價及取樣前，將作為對象之防眩性積層體暴露於上述環境30分鐘以上。上述環境係第1實施形態之防眩性積層體、第2實施形態之防眩性積層體、光學積層體共通之環境。
基材其基材之樹脂層側之表面之平均傾斜角較佳為5.0度以上且15.0度以下。
藉由將平均傾斜角設為5度以上，可易於使防眩性積層體之耐彎曲性更良好。認為耐彎曲性變得良好之理由在於，基材與樹脂層之密接性變得良好，由此，於彎曲時不產生界面剝離。
藉由將平均傾斜角設為15度以下，可易於抑制內部霧度上升。又，於基材之一部分藉由樹脂層用塗佈液溶解之實施形態之情形時，藉由將平均傾斜角設為15度以下，可易於使鉛筆硬度良好。認為於上述實施形態中可易於使鉛筆硬度良好之理由在於，樹脂層內基材成分不過度溶出，由此，樹脂層之硬度不易降低。
基材之平均傾斜角更佳為5.5度以上，進而較佳為6.0度以上。基材之平均傾斜角更佳為14.0度以下，進而較佳為13.0度以下。
作為基材之平均傾斜角之較佳之範圍之實施形態，可列舉5.0度以上且15.0度以下、5.0度以上且14.0度以下、5.0度以上且13.0度以下、5.5度以上且15.0度以下、5.5度以上且14.0度以下、5.5度以上且13.0度以下、6.0度以上且15.0度以下、6.0度以上且14.0度以下、6.0度以上且13.0度以下。
基材之平均傾斜角及基材之算術平均高度例如可如下進行測定。
（1）藉由掃描穿透式電子顯微鏡（STEM），拍攝防眩性積層體之剖面照片。STEM之加速電壓較佳為設為10 kV以上且30 kV以下，STEM之倍率較佳為設為5000倍以上且10000倍以下。
（2）自剖面照片之影像，獲得基材與樹脂層之界面之稜線，獲得高度資料。具體而言，實施下述（a）～（l）。基材與樹脂層之界面相當於基材之樹脂層側之表面。
（a）由公用域之開源影像處理軟體ImageJ（版本1.52a），顯示拍攝之影像。
（b）由影像中顯示之比例顯示，求出每個像素之長度。
（c）選擇「FreeHand Selections（自由選擇工具）」，以包含界面之方式創建ROI，調節亮度，以使顏色以界面為界明顯不同。
（d）應用2次Process-Smooth。
（e）將Image-Type（影像類型）設為8位元。
（f）選擇「Straight（直線）」，沿著界面畫線。
（g）導入並執行作為Image J之Plugin（外掛程式）之ABSnake。此時將「Gradient threshold（梯度閾值）」設定為10，將Draw color（繪製顏色）設定為Red（紅色）。其他設定維持預設。
（h）目視確認界面可藉由Red追蹤。若有缺陷，則自（f）重新開始。
（i）執行Image-Adjust-Color Threshold（影像-調整-顏色閾值）。以將Red與除Red以外之部分分開之方式，設定閾值。具體而言，將Color space（色空間）設為RGB，勾選「Red」、「Green（綠色）」及「Blue（藍色）」之「Pass」，將Red之範圍之上下限設為最大值（255），將「Green」及「Blue」之範圍之上下限設為最小值（0）。
（j）執行Process-Binary-Make Binary，藉由界面之追蹤線之部分與除上述追蹤線以外之部分二值化。
（k）藉由File-Save As（檔案另存為），保存藉由「Text Image（文字影像）」二值化之資料。
（l）由二值化之資料，將界面轉換成高度資料點列。
（3）由高度資料點列，按照下述（m）～（q）之步序，算出平均傾斜角、算術平均高度。
（m）藉由最小平方法之二次回歸，求出高度資料之中心線，自高度資料減去高度資料之中心線，藉此將中心線轉換成O，將上方向轉換成正，將下方向轉換成負。將中心線之方向設為x軸，將與之垂直之方向（高度方向）設為y軸。
（n）使用（b）中求出之每個像素之長度，將高度資料換算成長度。
（o）應用截止波長為0.5 μm之高斯低通濾波器。
（p）算出藉由tan
-1（（y
i+1－y
i-1）/2∆x）[y
i係高度資料點列之第i個點之高度，∆x係相鄰點之x軸方向之距離]求出之各點之傾斜角度之絕對值之算術平均，藉此求出平均傾斜角。
（q）藉由算出各點之高度之絕對值之算術平均，求出算術平均高度。
基材其基材之樹脂層側之表面之算術平均高度較佳為0.05 μm以上且0.25 μm以下。
藉由將算術平均高度設為0.05 μm以上，可易於使防眩性積層體之耐彎曲性更良好。認為耐彎曲性變得良好之理由在於，基材與樹脂層之密接性變得良好，由此，於彎曲時不產生界面剝離。
藉由將算術平均高度設為0.25 μm以下，可易於抑制內部霧度上升。又，於基材之一部分藉由樹脂層用塗佈液溶解之實施形態之情形時，藉由將算術平均高度設為0.25 μm以下，可易於使鉛筆硬度良好。認為於上述實施形態中可易於使鉛筆硬度良好之理由在於，樹脂層內基材成分不過度溶出，由此，樹脂層之硬度不易降低。
基材之算術平均高度更佳為0.07 μm以上，進而較佳為0.09 μm以上。基材之算術平均高度更佳為0.23 μm以下，進而較佳為0.20 μm以下。
作為基材之算術平均高度之較佳之範圍之實施形態，可列舉0.05 μm以上且0.25 μm以下、0.05 μm以上且0.23 μm以下、0.05 μm以上且0.20 μm以下、0.07 μm以上且0.25 μm以下、0.07 μm以上且0.23 μm以下、0.07 μm以上且0.20 μm以下、0.09 μm以上且0.25 μm以下、0.09 μm以上且0.23 μm以下、0.09 μm以上且0.20 μm以下。
為了使基材之樹脂層側之表面之平均傾斜角及算術平均高度為上述範圍，較佳為藉由樹脂層用塗佈液使基材之一部分溶解。其中，於藉由樹脂層用塗佈液使基材溶解時，較佳為對樹脂層用塗佈液設定特定之組成且設定特定之乾燥條件。下文將對特定之組成及特定之乾燥條件進行說明。
第1實施形態及第2實施形態之防眩性積層體之基材、以及光學積層體之基材可含有抗氧化劑、紫外線吸收劑、光穩定劑及塑化劑等添加劑。
為了提高密接性，可對第1實施形態及第2實施形態之防眩性積層體之基材之表面、以及光學積層體之基材之表面實施電暈放電處理等物理處理或化學處理，或形成易接著層。
＜樹脂層＞
樹脂層需要自基材側起具有第1樹脂層及第2樹脂層。
又，第1樹脂層與第2樹脂層需要滿足下述式1。
5.0＜t1/t2＜15.0 （式1）
[式1中，t1表示第1樹脂層之平均厚度，t2表示第2樹脂層之平均厚度]
第1樹脂層及第2樹脂層例如可藉由在基材上塗佈含有第1粒子、樹脂成分及溶劑之樹脂層用塗佈液並使其乾燥，視需要使其硬化而形成。樹脂層用塗佈液可視需要進而含有無機微粒子、添加劑。
於上述方法之情形時，樹脂層用塗佈液使基材之一部分溶解，自基材溶出之成分與樹脂層用塗佈液混合而形成之區域為第1樹脂層，幾乎不含自基材溶出之成分而以樹脂層用塗佈液作為主成分之區域為第2樹脂層。即，於上述方法之情形時，可藉由使用1種樹脂層用塗佈液並塗佈1次，形成第1樹脂層及第2樹脂層。
上述方法關鍵的是，對樹脂層用塗佈液設定特定之組成且設定特定之乾燥條件。下文將對特定之組成及特定之乾燥條件進行說明。
於基材上塗佈樹脂層用塗佈液之方法並無特別限制，可列舉旋轉塗佈法、浸漬法、噴霧法、模嘴塗佈法、棒式塗佈法、凹版塗佈法、輥式塗佈法、液面彎曲式塗佈法（meniscus coater method）、軟版印刷法、網版印刷法、液滴塗佈法（bead coater method）等通用之塗佈方法。
於使樹脂層用塗佈液硬化時，較佳為照射紫外線及電子束等游離輻射。作為紫外線源之具體例，可列舉超高壓水銀燈、高壓水銀燈、低壓水銀燈、碳弧燈、黑光螢光燈及金屬鹵化物燈等。又，作為紫外線之波長，較佳為190 nm以上且380 nm以下之波長區域。作為電子束源之具體例，可列舉科克羅夫特沃爾頓（Cockcroft Wharton）型、凡德格拉夫（Van de Graaff）型、共振變壓器型、絕緣芯變壓器型、直線型、高頻高壓加速器型、高頻型等之各種電子束加速器。
再者，作為使樹脂層為2層之手段，考慮如下述比較例1-3及1-4所述之手段，即，準備2種樹脂層用塗佈液，形成第1層之樹脂層後，積層第2層之樹脂層。然而，於第1層之塗佈液含有粒子之情形時，不易使防眩性良好，於第2層之塗佈液含有粒子之情形時，不易使耐彎曲性良好。又，於採用使用2種樹脂層用塗佈液以使樹脂層為2層之手段之情形時，不易使第1層與第2層之密接性良好。
由此，較佳為如上述方法所述，藉由使用1種樹脂層用塗佈液並塗佈1次，形成第1樹脂層及第2樹脂層。
於樹脂層為單層之情形時，不易使防眩性積層體之耐彎曲性或鉛筆硬度良好。例如，於為硬度較高之樹脂層之單層之情形時，不易使防眩性積層體之耐彎曲性良好。又，於為硬度較低之樹脂層之單層之情形時，不易使防眩性積層體之鉛筆硬度良好。
進而，即便樹脂層具有第1樹脂層及第2樹脂層，於不滿足式1之情形時，亦無法使防眩性積層體之耐彎曲性或鉛筆硬度良好。由於第2樹脂層距離基材比第1樹脂層遠，故而關於自基材溶出之成分之含量，第2樹脂層少於第1樹脂層。藉此，第2樹脂層之硬度易於高於第1樹脂層之硬度。t1/t2為15.0以上意指硬度較高之第2樹脂層之厚度之比率較小。由此，於t1/t2為15.0以上之情形時，無法使防眩性積層體之鉛筆硬度良好。又，t1/t2為5.0以下意指硬度較高之第2樹脂層之厚度之比率較大。由此，於t1/t2為5.0以下之情形時，無法使防眩性積層體之耐彎曲性良好。
t1/t2較佳為5.5以上，更佳為6.0以上。又，t1/t2較佳為14.0以下，更佳為13.5以下。
作為t1/t2之較佳之範圍之實施形態，可列舉超過5.0且未達15.0、超過5.0且為14.0以下、超過5.0且為13.5以下、5.5以上且未達15.0、5.5以上且14.0以下、5.5以上且13.5以下、6.0以上且未達15.0、6.0以上且14.0以下、6.0以上且13.5以下。
關於整個樹脂層之厚度（換言之，第1樹脂層與第2樹脂層之合計厚度），下限較佳為7.0 μm以上，更佳為8.0 μm以上，進而較佳為9.0 μm以上，上限較佳為15.0 μm以下，更佳為14.0 μm以下，進而較佳為13.0 μm以下。
作為整個樹脂層之厚度之較佳之範圍之實施形態，可列舉7.0 μm以上且15.0 μm以下、7.0 μm以上且14.0 μm以下、7.0 μm以上且13.0 μm以下、8.0 μm以上且15.0 μm以下、8.0 μm以上且14.0 μm以下、8.0 μm以上且13.0 μm以下、9.0 μm以上且15.0 μm以下、9.0 μm以上且14.0 μm以下、9.0 μm以上且13.0 μm以下。
關於第1樹脂層之平均厚度t1，下限較佳為5.0 μm以上，更佳為7.0 μm以上，進而較佳為8.5 μm以上，上限較佳為13.0 μm以下，更佳為12.0 μm以下，進而較佳為11.0 μm以下。藉由將t1設為5.0 μm以上，可易於使耐彎曲性良好，藉由將t1設為13.0 μm以下，可易於抑制鉛筆硬度之降低。
作為t1之較佳之範圍之實施形態，可列舉5.0 μm以上且13.0 μm以下、5.0 μm以上且12.0 μm以下、5.0 μm以上且11.0 μm以下、7.0 μm以上且13.0 μm以下、7.0 μm以上且12.0 μm以下、7.0 μm以上且11.0 μm以下、8.5 μm以上且13.0 μm以下、8.5 μm以上且12.0 μm以下、8.5 μm以上且11.0 μm以下。
關於第2樹脂層之平均厚度t2，下限較佳為0.3 μm以上，更佳為0.5 μm以上，進而較佳為0.7 μm以上，上限較佳為4.0 μm以下，更佳為3.0 μm以下，進而較佳為2.7 μm以下。藉由將t2設為0.3 μm以上，可易於使鉛筆硬度良好，藉由將t2設為4.0 μm以下，可易於抑制耐彎曲性之降低。
作為t2之較佳之範圍之實施形態，可列舉0.3 μm以上且4.0 μm以下、0.3 μm以上且3.0 μm以下、0.3 μm以上且2.7 μm以下、0.5 μm以上且4.0 μm以下、0.5 μm以上且3.0 μm以下、0.5 μm以上且2.7 μm以下、0.7 μm以上且4.0 μm以下、0.7 μm以上且3.0 μm以下、0.7 μm以上且2.7 μm以下。
關於第1樹脂層之平均厚度、及第2樹脂層之平均厚度，例如可自藉由掃描穿透式電子顯微鏡（STEM）拍攝之防眩性積層體之剖面照片之任意部位選擇20點，藉由其平均值算出。STEM之加速電壓較佳為設為10 kV以上且30 kV以下，STEM之倍率較佳為設為1000倍以上且7000倍以下。
樹脂層需要含有平均粒徑為0.5 μm以上之第1粒子。
於樹脂層不含第1粒子之情形時，無法對防眩性積層體賦予防眩性。
樹脂層需要第1粒子之個數基準之70%以上遍及存在於第1樹脂層及第2樹脂層。
第1粒子23A遍及存在於第1樹脂層21A及第2樹脂層22A意指，如圖1所示，於樹脂層20A之厚度方向，第1粒子23A存在於第1樹脂層21A側及第2樹脂層22A側兩側。另一方面，於圖2中，第1粒子23A不遍及存在於第1樹脂層21A及第2樹脂層22A，而是存在於第2樹脂層22A側單側。於圖3中，第1粒子23A不遍及存在於第1樹脂層21A及第2樹脂層22A，而是存在於第1樹脂層21A側單側。
於本說明書中，有時將「第1粒子之個數基準之70%以上遍及存在於第1樹脂層及第2樹脂層」記載為「第1粒子滿足厚度方向之位置之條件」。於本說明書中，有時將「第1粒子之個數基準之70%以上不遍及存在於第1樹脂層及第2樹脂層」記載為「第1粒子不滿足厚度方向之位置之條件」。
於第1粒子不滿足厚度方向之位置之條件之情形時，無法使防眩性及耐彎曲性良好。
於第1粒子不滿足厚度方向之位置之條件之情形時，第1粒子之個數基準之超過30%不遍及第1樹脂層及第2樹脂層，而是存在於第1樹脂層及第2樹脂層之任一者。於本說明書中，有時將不遍及第1樹脂層及第2樹脂層而是存在於第1樹脂層及第2樹脂層之任一者之第1粒子記載為「偏向之第1粒子」。於第1樹脂層中含有大量偏向之第1粒子之情形時，由於第1粒子，樹脂層之表面不易形成凹凸，由此，無法使防眩性良好。又，於將防眩性積層體彎曲時，存在於第1粒子與樹脂層之界面產生剝離之情況，上述剝離導致耐彎曲性降低。樹脂層之硬度越硬，第1粒子與樹脂層之界面之剝離越不易抑制。由此，於第2樹脂層中含有大量偏向之第1粒子之情形時，無法使耐彎曲性良好。
第1粒子於樹脂層之厚度方向上存在於第1樹脂層側及第2樹脂層側兩側之比率基於個數基準，較佳為80%以上，更佳為90%以上。
樹脂層之厚度方向上之第1粒子存在之位置例如可自藉由掃描穿透式電子顯微鏡（STEM）拍攝之防眩性積層體之剖面照片判別。又，上述個數基準之比率可自上述剖面照片算出。再者，為了提高數值之可靠性，較佳為獲得複數張剖面照片，將第1粒子之合計數設為50以上，基於此，算出上述個數基準之比率。
STEM之加速電壓較佳為設為10 kV以上且30 kV以下，STEM之倍率較佳為設為1000倍以上且7000倍以下。
表示第1樹脂層之厚度方向之正中之壓痕硬度之H1與表示第2樹脂層之厚度方向之正中之壓痕硬度之H2較佳為H1＜H2之關係。
藉由滿足H1＜H2之關係，可易於使防眩性積層體之鉛筆硬度及耐彎曲性良好。
關於H1與H2，較佳為40 MPa＜H2－H1。藉由使H2－H1超過40 MPa，可易於使防眩性積層體之鉛筆硬度及耐彎曲性良好。H2－H1更佳為45 MPa以上，進而較佳為50 MPa以上。
若H2－H1過大，則由於H2過大故而防眩性積層體之耐彎曲性易於降低，或由於H1過小故而防眩性積層體之鉛筆硬度易於降低。由此，H2－H1較佳為100 MPa以下，更佳為90 MPa以下，進而較佳為80 MPa以下。
H2之值可藉由構成樹脂層用塗佈液之樹脂成分調整。H1之值由於是構成樹脂層用塗佈液之樹脂成分與自基材溶出之成分之混合物之值，故而可藉由上述2種成分調整。
作為H2－H1之較佳之範圍之實施形態，可列舉超過40 MPa且為100 MPa以下、超過40 MPa且為90 MPa以下、超過40 MPa且為80 MPa以下、45 MPa以上且100 MPa以下、45 MPa以上且90 MPa以下、45 MPa以上且80 MPa以下、50 MPa以上且100 MPa以下、50 MPa以上且90 MPa以下、50 MPa以上且80 MPa以下。
關於H1，為了易於使鉛筆硬度良好，下限較佳為150 MPa以上，更佳為160 MPa以上，進而較佳為170 MPa以上，為了易於抑制耐彎曲性之降低，上限較佳為250 MPa以下，更佳為240 MPa以下，進而較佳為230 MPa以下。
作為H1之較佳之範圍之實施形態，可列舉150 MPa以上且250 MPa以下、150 MPa以上且240 MPa以下、150 MPa以上且230 MPa以下、160 MPa以上且250 MPa以下、160 MPa以上且240 MPa以下、160 MPa以上且230 MPa以下、170 MPa以上且250 MPa以下、170 MPa以上且240 MPa以下、170 MPa以上且230 MPa以下。
關於H2，為了易於使鉛筆硬度良好，下限較佳為230 MPa以上，更佳為240 MPa以上，進而較佳為245 MPa以上，為了易於抑制耐彎曲性之降低，上限較佳為310 MPa以下，更佳為290 MPa以下，進而較佳為285 MPa以下。
作為H2之較佳之範圍之實施形態，可列舉230 MPa以上且310 MPa以下、230 MPa以上且290 MPa以下、230 MPa以上且285 MPa以下、240 MPa以上且310 MPa以下、240 MPa以上且290 MPa以下、240 MPa以上且285 MPa以下、245 MPa以上且310 MPa以下、245 MPa以上且290 MPa以下、245 MPa以上且285 MPa以下。
-壓痕硬度之測定方法-
為了對H1～H3進行測定，必須製作測定對象之層之剖面露出之測定用樣品。上述樣品例如可藉由下述（A1）～（A2）之步驟製作。
（A1）製作將防眩性積層體切割成任意大小所得之切斷樣品後，製作藉由樹脂包埋上述切斷樣品所得之包埋樣品。切斷樣品之大小例如設為縱10 mm×橫3 mm之短條狀。包埋用樹脂較佳為環氧樹脂。
包埋樣品例如可藉由以下而獲得，即，於將切斷樣品配置於矽包埋板內後，流入包埋用樹脂，進而使包埋用樹脂硬化後，自矽包埋板取出切斷樣品及包裹其之包埋用樹脂。於以下例示之Struers公司製造之環氧樹脂之情形時，上述硬化之步驟較佳為於常溫放置12小時使之硬化。包埋樣品之形狀為塊狀。
矽包埋板例如可列舉DOSAKA EM公司製造者。矽包埋板有時亦稱為Si-Capsule。包埋用環氧樹脂例如可使用將Struers公司製造之商品名「EPOFIX」與該公司製造之商品名「EPOFIX用硬化劑」以10：1.2加以混合所得者。
（A2）對塊狀之包埋樣品垂直進行切割，製作防眩性積層體之剖面露出而成之壓痕硬度之測定用樣品。壓痕硬度之測定用樣品之形狀維持塊狀。包埋樣品較佳為以通過切斷樣品之中心之方式切割。包埋樣品較佳為使用鑽石刀切割。
作為切割塊狀之包埋樣品之裝置，例如可列舉Leica Microsystems公司製造之商品名「Ultramicrotome EMUC7」。於切割塊狀之包埋樣品時，較佳為最初粗略地切割（粗修整），最終於「速度：1.00 mm/s」、「進給（FEED）：70 nm」之條件精密地修整。
如上所述自塊狀之包埋樣品切下之切片之中，不存在孔等缺陷且厚度為60 nm以上且100 nm以下之均一之切片可用作第1樹脂層之平均厚度、第2樹脂層之平均厚度、樹脂層之厚度方向上之第1粒子之位置、基材之樹脂層側之表面之平均傾斜角、基材之樹脂層側之表面之算術平均高度、第1粒子之粒徑、無機微粒子之粒徑之測定用樣品。
H1～H3係將三角錐壓頭（材質：鑽石三角錐）垂直壓入上述樣品之切割面之特定之位置而測定。
關於特定之位置，於H1之測定中為第1樹脂層之厚度方向之正中，於H2之測定中為第2樹脂層之厚度方向之正中，於H3之測定中為基材之厚度方向之正中。第1樹脂層之厚度方向之正中較佳為第1樹脂層之厚度方向之中心，可容許自上述中心偏移0.10 μm。同樣，第2樹脂層之厚度方向之正中較佳為第2樹脂層之厚度方向之中心，可容許自上述中心偏移0.10 μm。同樣，基材之厚度方向之正中較佳為基材之厚度方向之中心，可容許自上述中心偏移0.10 μm。
壓痕硬度較佳為於下述條件測定。
＜測定條件＞
•使用壓頭：三角錐壓頭（型號：TI-0039，BRUKER公司製造）
•壓入條件：負載控制方式
•最大負載：50 μN
•負載施加時間：10秒鐘（負載變化率：5 μN/sec）
•保持時間：5秒鐘
•保持負載：50 μN
•卸載時間：10秒鐘（負載變化率：-5 μN/sec）
壓痕硬度可如下算出。
首先，藉由對與壓入負載F（N）對應之壓入深度h（nm）連續進行測定，繪製負載-位移曲線。藉由對繪製之負載-位移曲線進行解析，算出用最大壓入負載F
max（N）除以壓頭與測定對象之層相接之投影面積A
p（mm
2）所得之值，作為壓痕硬度H
IT（下述式2）。
H
IT＝F
max/A
p（式2）
其中，A
p係使用標準試樣之熔融石英（BRUKER公司製造之5-0098），並藉由Oliver-Pharr法修正壓頭前端曲率之接觸投影面積。
於本說明書中，H1～H3意指20個樣品之測定值之平均值。
《第1粒子》
第1粒子係平均粒徑為0.5 μm以上之粒子。於平均粒徑未達0.5 μm之情形時，不易於樹脂層之表面形成凹凸形狀，無法使防眩性良好。
作為第1粒子，可列舉：由聚甲基丙烯酸甲酯、聚丙烯酸-苯乙烯共聚物、三聚氰胺樹脂、聚碳酸酯、聚苯乙烯、聚氯乙烯、苯并胍胺-三聚氰胺-甲醛縮合物、聚矽氧、氟系樹脂及聚酯系樹脂等樹脂之1種以上所形成之有機粒子；由二氧化矽（silica）、氧化鋁、氧化鋯及氧化鈦等無機物之1種以上所形成之無機粒子。該等之中，有機粒子由於分散穩定性優異，且比重相對小，故而於第1粒子可易於滿足厚度方向之位置之條件之方面較佳。
關於第1粒子之含量，相對於樹脂層用塗佈液之樹脂成分100質量份，下限較佳為0.5質量份以上，更佳為1.0質量份以上，進而較佳為1.5質量份以上，上限較佳為10.0質量份以下，更佳為5.0質量份以下，進而較佳為3.0質量份以下。
藉由將第1粒子之含量設為0.5質量份以上，可易於使防眩性良好。又，藉由將第1粒子之含量設為10.0質量份以下，可易於抑制耐彎曲性之降低。
作為第1粒子之含量相對於樹脂成分100質量份之較佳之範圍之實施形態，可列舉0.5質量份以上且10.0質量份以下、0.5質量份以上且5.0質量份以下、0.5質量份以上且3.0質量份以下、1.0質量份以上且10.0質量份以下、1.0質量份以上且5.0質量份以下、1.0質量份以上且3.0質量份以下、1.5質量份以上且10.0質量份以下、1.5質量份以上且5.0質量份以下、1.5質量份以上且3.0質量份以下。
第1粒子之平均粒徑較佳為0.8 μm以上，更佳為1.0 μm以上。
為了使第1粒子易於滿足厚度方向之位置之條件，第1粒子之平均粒徑較佳為3.0 μm以下，更佳為2.7 μm以下，進而較佳為2.5 μm以下。
作為第1粒子之平均粒徑之較佳之範圍之實施形態，可列舉0.8 μm以上且3.0 μm以下、0.8 μm以上且2.7 μm以下、0.8 μm以上且2.5 μm以下、1.0 μm以上且3.0 μm以下、1.0 μm以上且2.7 μm以下、1.0 μm以上且2.5 μm以下。
第1粒子之平均粒徑例如可藉由以下（B1）～（B3）之操作算出。
（B1）藉由光學顯微鏡拍攝防眩性積層體之穿透觀察影像。倍率較佳為500倍以上且2000倍以下。
（B2）自觀察影像抽取任意10個粒子，算出各粒子之粒徑。關於粒徑，對以任意之平行之2條直線夾著粒子之剖面時該2條直線間距離最大之2條直線之組合中之直線間距離，進行測定。
（B3）於相同樣品之另一屏幕之觀察影像中進行5次相同之操作，將由合計50個量粒徑之數量平均所得之值作為粒子之平均粒徑。
然而，於無法光學觀察到第1粒子時，藉由以下（B4）～（B6）算出第1粒子之平均粒徑。
（B4）藉由切片機由防眩性積層體製作剖面通過第1粒子之中心之切片。切片之厚度較佳為60 nm～100 nm。可對1個第1粒子連續製作複數個切片，將自各切片藉由（B5）之作業算出之粒徑極大之切片，作為剖面通過第1粒子之中心之切片。
（B5）藉由掃描穿透式電子顯微鏡（STEM）觀察所得之切片，算出粒徑。粒徑之算出方法設為與（B2）相同。倍率較佳為5000倍以上且20000倍以下。
（B6）對20個量粒子進行（B4）～（B5）之操作，將由20個量粒徑之數量平均所得之值作為第1粒子之平均粒徑。
表示第1粒子之平均粒徑之D1與表示第2樹脂層之平均厚度之t2較佳為t2＜D1之關係。藉由使t2＜D1，可易於藉由第1粒子對防眩性積層體之表面賦予凹凸形狀，由此，可易於使防眩性良好。
D1－t2較佳為0.5 μm以上，更佳為0.7 μm以上。
若D1－t2過大，則第1粒子突出於第2樹脂層之表面，由此，存在耐彎曲性降低之情況。由此，D1－t2較佳為2.0 μm以下，更佳為1.7 μm以下，進而較佳為1.5 μm以下。
作為D1－t2之較佳之範圍之實施形態，可列舉0.5 μm以上且2.0 μm以下、0.5 μm以上且1.7 μm以下、0.5 μm以上且1.5 μm以下、0.7 μm以上且2.0 μm以下、0.7 μm以上且1.7 μm以下、0.7 μm以上且1.5 μm以下。
表示第1粒子之平均粒徑之D1與表示第1樹脂層之平均厚度之t1較佳為D1＜t1之關係。藉由使D1＜t1，可易於使耐彎曲性更良好。
t1－D1較佳為4.0 μm以上，更佳為5.0 μm以上，進而較佳為6.0 μm以上。
若t1－D1過大，則硬度較低之第1樹脂層之厚度增加，由此，存在鉛筆硬度降低之情況。由此，t1－D1較佳為10.0 μm以下，更佳為9.0 μm以下，進而較佳為8.5 μm以下。
作為t1－D1之較佳之範圍之實施形態，可列舉5.0 μm以上且10.0 μm以下、5.0 μm以上且9.0 μm以下、5.0 μm以上且8.5 μm以下、6.0 μm以上且10.0 μm以下、6.0 μm以上且9.0 μm以下、6.0 μm以上且8.5 μm以下。
《無機微粒子》
樹脂層可含有無機微粒子。藉由樹脂層含有比重相對大之無機微粒子，第1粒子不易沈於樹脂層之下方，由此，第1粒子可易於滿足厚度方向之位置之條件。又，無機微粒子可提高第1粒子之分散性，易於抑制耐彎曲性之降低。
於本說明書中，無機微粒子意指平均一次粒徑為200 nm以下之無機粒子。
無機微粒子之平均粒徑較佳為1 nm以上且200 nm以下，更佳為2 nm以上且100 nm以下，進而較佳為5 nm以上且50 nm以下。
無機微粒子之平均粒徑可藉由以下（C1）～（C3）之操作算出。
（C1）藉由TEM或STEM，拍攝防眩性積層體之剖面。TEM或STEM之加速電壓較佳為設為10 kV以上且30 kV以下，倍率較佳為設為5萬倍以上且30萬倍以下。
（C2）自觀察影像抽取任意10個無機微粒子，算出各無機微粒子之粒徑。關於粒徑，對以任意之平行之2條直線夾著無機微粒子之剖面時該2條直線間距離最大之2條直線之組合中之直線間距離，進行測定。
（C3）於相同樣品之另一屏幕之觀察影像中進行5次相同之操作，將由合計50個量粒徑之數量平均所得之值作為無機微粒子之平均粒徑。
作為無機微粒子，可列舉由二氧化矽、氧化鋁、氧化鋯及氧化鈦等所構成之微粒子。該等之中，較佳為易於抑制內部霧度之產生之二氧化矽。
關於無機微粒子之含量，相對於樹脂層用塗佈液之樹脂成分100質量份，下限較佳為0.1質量份以上，更佳為0.5質量份以上，進而較佳為0.7質量份以上，上限較佳為5.0質量份以下，更佳為3.0質量份以下，進而較佳為2.0質量份以下。
藉由將無機微粒子之含量設為0.1質量份以上，第1粒子可易於滿足厚度方向之位置之條件。又，藉由將無機微粒子之含量設為5.0質量份以下，可抑制第1粒子過度浮於樹脂層之上方，由此，第1粒子可易於滿足厚度方向之位置之條件。
作為無機微粒子之含量相對於樹脂成分100質量份之較佳之範圍之實施形態，可列舉0.1質量份以上且5.0質量份以下、0.1質量份以上且3.0質量份以下、0.1質量份以上且2.0質量份以下、0.5質量份以上且5.0質量份以下、0.5質量份以上且3.0質量份以下、0.5質量份以上且2.0質量份以下、0.7質量份以上且5.0質量份以下、0.7質量份以上且3.0質量份以下、0.7質量份以上且2.0質量份以下。
《樹脂成分》
樹脂層較佳為含有硬化性樹脂組成物之硬化物作為樹脂成分。藉由樹脂層含有硬化性樹脂組成物之硬化物，可易於使防眩性積層體之鉛筆硬度良好。硬化性樹脂組成物之硬化物較佳為含有於第1樹脂層及第2樹脂層兩者中。
相對於樹脂層用塗佈液之樹脂成分之總量，硬化性樹脂組成物之比率較佳為80質量%以上，更佳為90質量%以上，進而較佳為95質量%以上，最佳為100質量%。
作為硬化性樹脂組成物之硬化物，可列舉熱固性樹脂組成物之硬化物及游離輻射硬化性樹脂組成物之硬化物。該等之中，較佳為易於提高鉛筆硬度且於未硬化之組成物之狀態易於使基材溶解之游離輻射硬化性樹脂組成物之硬化物。
熱固性樹脂組成物係至少含有熱固性樹脂之組成物，其係藉由加熱而發生硬化之樹脂組成物。
作為熱固性樹脂，可列舉丙烯酸樹脂、胺酯樹脂、酚樹脂、尿素三聚氰胺樹脂、環氧樹脂、不飽和聚酯樹脂、聚矽氧樹脂等。關於熱固性樹脂組成物，於該等硬化性樹脂中視需要添加有硬化劑。
游離輻射硬化性樹脂組成物係含有具有游離輻射硬化性官能基之化合物（以下亦稱為「游離輻射硬化性化合物」）之組成物。作為游離輻射硬化性官能基，可列舉(甲基)丙烯醯基、乙烯基、烯丙基等乙烯性不飽和鍵基、及環氧基、氧雜環丁基（oxetanyl）等。作為游離輻射硬化性化合物，較佳為具有乙烯性不飽和鍵基之化合物。
游離輻射意指電磁波或帶電粒子束之中具有可使分子聚合或交聯之能量量子者，通常使用紫外線或電子束，此外，亦可使用X射線、γ射線等電磁波、α射線、離子束等帶電粒子束。
於本說明書中，(甲基)丙烯醯基表示丙烯醯基或甲基丙烯醯基。又，於本說明書中，(甲基)丙烯酸酯表示丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯。
作為游離輻射硬化性化合物，具有1個游離輻射硬化性官能基之單官能之游離輻射硬化性化合物、具有2個以上游離輻射硬化性官能基之多官能之游離輻射硬化性化合物均可使用。又，作為游離輻射硬化性化合物，單體及低聚物均可使用。
為了易於使基材之一部分溶解，並提高鉛筆硬度且抑制硬化收縮，較佳為使用下述（a）～（c）之混合物作為游離輻射硬化性化合物。下述（a）～（c）較佳為具有乙烯性不飽和鍵基作為游離輻射硬化性官能基之化合物，更佳為(甲基)丙烯酸酯系化合物。(甲基)丙烯酸酯系化合物亦可使用藉由環氧乙烷、環氧丙烷、己內酯、三聚異氰酸、烷基、環狀烷基、芳香族、雙酚等使分子骨架之一部分改質所得者。
（a）單官能之游離輻射硬化性單體
（b）多官能之游離輻射硬化性單體
（c）多官能之游離輻射硬化性低聚物
藉由含有（a）單官能之游離輻射硬化性單體作為游離輻射硬化性化合物，可易於使基材之一部分溶解，且可易於使自基材溶出之成分與樹脂層用塗佈液之成分相溶。又，藉由含有（a）單官能之游離輻射硬化性單體，樹脂層用塗佈液之黏度降低，由此，樹脂層用塗佈液與自基材溶出之成分之混合物易於對流。其結果，第1樹脂層之厚度相對於第2樹脂層之厚度變大，由此，可易於使t1/t2超過5。
然而，若（a）單官能之游離輻射硬化性單體之量過多，則會使基材過度溶解，由此，存在基材之強度降低或防眩性積層體之鉛筆硬度降低之情況。又，若（a）單官能之游離輻射硬化性單體之量過多，則上述對流變得激烈，由此，第1樹脂層之厚度相對於第2樹脂層之厚度變得過大，存在t1/t2超過15之情況。
藉由含有（b）多官能之游離輻射硬化性單體作為游離輻射硬化性化合物，可易於使防眩性積層體之鉛筆硬度良好。然而，若（b）多官能之游離輻射硬化性單體之量過多，則存在樹脂層之硬度變得過高，防眩性積層體之耐彎曲性降低之情況。
藉由含有（c）多官能之游離輻射硬化性低聚物作為游離輻射硬化性化合物，可易於維持防眩性積層體之鉛筆硬度且抑制硬化收縮。然而，若（c）多官能之游離輻射硬化性低聚物之量過多，則存在防眩性積層體之鉛筆硬度降低之情況。
相對於游離輻射硬化性化合物之總量，（a）單官能之游離輻射硬化性單體之量較佳為10質量%以上且40質量%以下，更佳為15質量%以上且35質量%以下，進而較佳為17質量%以上且33質量%以下。
相對於游離輻射硬化性化合物之總量，（b）多官能之游離輻射硬化性單體之量較佳為5質量%以上且20質量%以下，更佳為6質量%以上且15質量%以下，進而較佳為7質量%以上且13質量%以下。
相對於游離輻射硬化性化合物之總量，（c）多官能之游離輻射硬化性低聚物之量較佳為40質量%以上且80質量%以下，更佳為50質量%以上且77質量%以下，進而較佳為55質量%以上且75質量%以下。
作為（a）單官能之游離輻射硬化性單體，可列舉(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸丙酯、(甲基)丙烯酸丁酯、(甲基)丙烯酸戊酯、(甲基)丙烯酸己酯、(甲基)丙烯酸環己酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯、(甲基)丙烯酸月桂酯、(甲基)丙烯酸硬脂酯、(甲基)丙烯酸異莰酯、(甲基)丙烯酸2-羥基乙酯、(甲基)丙烯酸4-羥基丁酯、(甲基)丙烯酸2-羥基丙酯等。該等之中，(甲基)丙烯酸4-羥基丁酯等具有羥基之單官能單體由於易於使與基材之密接性良好，故而較佳。
（b）多官能之游離輻射硬化性單體之中，作為二官能之游離輻射硬化性單體，可列舉乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、雙酚A四乙氧基二丙烯酸酯、雙酚A四丙氧基二丙烯酸酯、1,6-己二醇二丙烯酸酯等。作為三官能以上之游離輻射硬化性單體，可列舉三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、新戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、新戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二新戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、二新戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、三聚異氰酸改質三(甲基)丙烯酸酯等。
為了提高鉛筆硬度且抑制硬化收縮，（b）多官能之游離輻射硬化性單體之官能基數較佳為3以上且5以下，更佳為3以上且4以下，進而較佳為3。
作為（c）多官能之游離輻射硬化性低聚物，可列舉(甲基)丙烯酸胺酯、環氧(甲基)丙烯酸酯、聚酯(甲基)丙烯酸酯、聚醚(甲基)丙烯酸酯等丙烯酸酯系聚合體等。
(甲基)丙烯酸胺酯例如藉由多元醇及有機二異氰酸酯與羥基(甲基)丙烯酸酯之反應而獲得。
較佳之環氧(甲基)丙烯酸酯係使三官能以上之芳香族環氧樹脂、脂環族環氧樹脂、脂肪族環氧樹脂等與(甲基)丙烯酸發生反應所得之(甲基)丙烯酸酯，使二官能以上之芳香族環氧樹脂、脂環族環氧樹脂、脂肪族環氧樹脂等、多元酸及(甲基)丙烯酸發生反應所得之(甲基)丙烯酸酯，及使二官能以上之芳香族環氧樹脂、脂環族環氧樹脂、脂肪族環氧樹脂等、酚類及(甲基)丙烯酸發生反應所得之(甲基)丙烯酸酯。
為了維持鉛筆硬度且抑制硬化收縮，（c）多官能之游離輻射硬化性低聚物之官能基數較佳為4以上且8以下，更佳為5以上且7以下，進而較佳為6。
為了維持鉛筆硬度且抑制硬化收縮，（c）多官能之游離輻射硬化性低聚物之重量平均分子量較佳為1000以上且5000以下，更佳為1100以上且3500以下，進而較佳為1200以上且2000以下。
於本說明書中，重量平均分子量係藉由GPC分析所測定且以標準聚苯乙烯換算所得之平均分子量。
於游離輻射硬化性化合物為紫外線硬化性化合物之情形時，游離輻射硬化性組成物較佳為含有光聚合起始劑或光聚合促進劑等添加劑。
作為光聚合起始劑，可列舉選自苯乙酮、二苯甲酮、α-羥烷基苯甲酮（alpha-hydroxyalkyl phenone）、米其勒酮（Michler's ketone）、苯偶姻、苯偶醯二甲基縮酮、苯甲醯基苯甲酸酯、α-醯基肟酯、9-氧硫𠮿
類等中之1種以上。
光聚合促進劑可減輕硬化時由空氣所導致之聚合抑制，提高硬化速度，例如可列舉選自對二甲胺基苯甲酸異戊酯、對二甲胺基苯甲酸乙酯等中之1種以上。
《添加劑》
樹脂層用塗佈液可視需要含有調平劑、折射率調整劑、抗靜電劑、防污劑、紫外線吸收劑、光穩定劑、抗氧化劑、黏度調整劑及熱聚合起始劑等添加劑。
《溶劑》
樹脂層用塗佈液較佳為含有溶劑。
作為溶劑，較佳為選擇可使基材溶解之溶劑。然而，若使基材過度溶解，則基材之強度降低，由此，較佳為根據基材之種類選擇適當之溶劑。
又，溶劑較佳為除基材之溶解性以外亦將溶劑固有之蒸發速度考慮在內而選擇。其原因在於，於溶劑之蒸發速度較慢之情形時，易於使基材過度溶解。溶劑蒸發之速度亦可藉由乾燥條件控制。例如，若提高乾燥溫度，則溶劑蒸發之速度變快。又，若加快乾燥風速，則溶劑蒸發之速度變快。
根據以上，較佳為將基材之溶解性、蒸發速度、乾燥條件考慮在內而選擇溶劑。
作為溶劑，可列舉：丙酮、甲基乙基酮、甲基異丁基酮、環己酮等酮類；二
烷、四氫呋喃等醚類；己烷等脂肪族烴類；環己烷等脂環式烴類；甲苯、二甲苯等芳香族烴類；二氯甲烷、二氯乙烷等鹵化碳類；乙酸甲酯、乙酸乙酯、乙酸丁酯等酯類；異丙醇、丁醇、環己醇等醇類；甲基賽路蘇、乙基賽路蘇等賽路蘇類；丙二醇單甲醚乙酸酯等二醇醚類；乙酸賽路蘇類；二甲基亞碸等亞碸類；二甲基甲醯胺、二甲基乙醯胺等醯胺類；等。溶劑可為單獨1種，亦可為2種以上之混合物。
丙烯酸樹脂基材易於溶解於溶劑中。由此，於使用丙烯酸樹脂基材作為基材之情形時，較佳為以溶劑固有之蒸發速度較快之溶劑作為主成分。主成分意指為溶劑之總量之50質量%以上，較佳為70質量%以上，更佳為90質量%以上，最佳為100質量%。
於本說明書中，蒸發速度較快之溶劑意指於將乙酸丁酯之蒸發速度設為100時，蒸發速度為100以上之溶劑。蒸發速度較快之溶劑之蒸發速度更佳為120以上且300以下，進而較佳為140以上且220以下。
作為蒸發速度較快之溶劑，例如，可列舉異丙醇（蒸發速度150）、甲基異丁基酮（蒸發速度160）、甲苯（蒸發速度200）。
《乾燥條件》
於由樹脂層用塗佈液形成樹脂層時，較佳為控制乾燥條件。
乾燥條件可藉由乾燥溫度及乾燥機內之風速控制。乾燥溫度及風速之較佳之範圍由於根據樹脂層用塗佈液之組成而不同，故而不能一概而論，乾燥溫度較佳為85℃以上且105℃以下，乾燥風速較佳為5 m/s以上且20 m/s以下。乾燥時間較佳為30秒以上且90秒以下。乾燥條件之中，乾燥溫度較重要。若降低乾燥溫度，則t1/t2有變小之傾向，若提高乾燥溫度，則t1/t2有變大之傾向。為了藉由樹脂層用塗佈液使基材之一部分溶解，且使自基材溶出之成分與樹脂層用塗佈液之混合物流動，確保第1樹脂層之厚度，游離輻射之照射較佳為於塗佈液之乾燥後進行。
＜其他層＞
第1實施形態及下述第2實施形態之防眩性積層體、以及下述光學積層體可具有除基材及樹脂層以外之層。作為其他層，可列舉抗反射層、防污層及抗靜電層等。
＜光學特性、表面形狀＞
關於第1實施形態及下述第2實施形態之防眩性積層體、以及下述光學積層體，JIS K7361-1：1997之總光線穿透率較佳為70%以上，更佳為80%以上，進而較佳為85%以上。
測定總光線穿透率及下述霧度時之光入射面設為基材側。
關於第1實施形態及下述第2實施形態之防眩性積層體、以及下述光學積層體，JIS K7136：2000之霧度較佳為0.5%以上，更佳為1.0%以上，進而較佳為1.5%以上。藉由將霧度設為0.5%以上，可易於使防眩性良好。
又，為了易於抑制影像之解像度之降低，第1實施形態及下述第2實施形態之防眩性積層體、以及下述光學積層體之霧度較佳為20%以下，更佳為10%以下，進而較佳為5%以下。
作為防眩性積層體及光學積層體之霧度之較佳之範圍之實施形態，可列舉0.5%以上且20%以下、0.5%以上且10%以下、0.5%以上且5%以下、1.0%以上且20%以下、1.0%以上且10%以下、1.0%以上且5%以下、1.5%以上且20%以下、1.5%以上且10%以下、1.5%以上且5%以下。
關於第1實施形態及下述第2實施形態之防眩性積層體、以及下述光學積層體，為了易於使防眩性良好，樹脂層側之表面之JIS B0601：2001之算術平均粗糙度Ra較佳為0.03 μm以上，更佳為0.05 μm以上。又，關於第1實施形態及下述第2實施形態之防眩性積層體、以及下述光學積層體，為了易於抑制影像之解像度之降低，樹脂層側之表面之Ra較佳為0.12 μm以下，更佳為0.10 μm以下。Ra意指臨界值0.8 mm時之值。
作為樹脂層側之表面之Ra之較佳之範圍之實施形態，可列舉0.03 μm以上且0.12 μm以下、0.03 μm以上且0.10 μm以下、0.05 μm以上且0.12 μm以下、0.05 μm以上且0.10 μm以下。
＜大小、形狀等＞
第1實施形態及下述第2實施形態之防眩性積層體、以及下述光學積層體可為切成特定之大小之單片狀之形態，亦可為將長條片捲成卷狀所得之卷狀之形態。單片之大小並無特別限定，最大徑為2英吋以上且500英吋以下左右。「最大徑」係指將防眩性積層體或光學積層體之任意2點連結時之最大長度。例如，於防眩性積層體或光學積層體為長方形之情形時，長方形之對角線為最大徑。於防眩性積層體或光學積層體為圓形之情形時，圓之直徑為最大徑。
卷狀之寬度及長度並無特別限定，一般而言，寬度為500 mm以上且3000 mm以下、長度為500 m以上且5000 m以下左右。卷狀之形態之防眩性積層體或光學積層體可根據影像顯示裝置等之大小，切成單片狀使用。切割時，較佳為物性不穩定之卷端部除外。
單片之形狀亦並無特別限定，例如，可為三角形、四邊形、五邊形等多邊形，可為圓形，亦可為隨機之不定形。更具體而言，於防眩性積層體或光學積層體為四邊形形狀之情形時，縱橫比並無特別限定，只要作為顯示屏幕沒有問題即可。例如，可列舉橫：縱＝1：1、4：3、16：10、16：9、2：1、5：4、11：8等。
[第2實施形態之防眩性積層體]
本發明之防眩性積層體於基材上具有樹脂層，
上述樹脂層含有平均粒徑為0.5 μm以上之第1粒子，
於將較上述樹脂層之厚度方向之中心更靠上述基材側之區域定義為第1區域，將較上述樹脂層之厚度方向之中心更靠上述基材之相反側之區域定義為第2區域時，上述第1粒子之個數基準之70%以上存在於上述第2區域，
上述防眩性積層體滿足下述條件1A或條件2A。
＜條件1A＞
上述基材之上述樹脂層側之表面之平均傾斜角為5.0度以上且20.0度以下。
＜條件2A＞
上述基材之上述樹脂層側之表面之算術平均高度為0.10 μm以上且0.40 μm以下。
圖5係表示本發明之第2實施形態之防眩性積層體100B之一實施形態之剖視圖。
圖5之防眩性積層體100B於基材10上具有樹脂層20B。又，圖5之樹脂層20B含有平均粒徑為0.5 μm以上之第1粒子23B。又，於將較樹脂層20B之厚度方向之中心更靠基材10側之區域定義為第1區域21B，將較樹脂層20B之厚度方向之中心更靠基材10之相反側之區域定義為第2區域22B時，圖5中之第1粒子23B存在於第2區域22B。
再者，圖5係示意性剖視圖。即，構成防眩性積層體100B之各層之縮小比例、各材料之縮小比例、及表面凹凸之縮小比例係為了易於圖示而示意化者，與實際之縮小比例有差異。除圖5以外之圖亦同樣與實際之縮小比例有差異。
＜基材＞
作為基材，較佳為透光性、平滑性、耐熱性及機械強度良好。作為此種基材，可列舉含有聚酯、三乙醯纖維素（TAC）、二乙酸纖維素、醋酸丁酸纖維素、聚醯胺、聚醯亞胺、聚醚碸、聚碸、聚丙烯、聚甲基戊烯、聚氯乙烯、聚乙烯縮醛、聚醚酮、丙烯酸樹脂、聚碳酸酯、聚胺酯及非晶質烯烴（Cyclo-Olefin-Polymer：COP）等樹脂之樹脂基材。樹脂基材可為將2種以上之樹脂基材貼合所得者。
為了使機械強度及尺寸穩定性良好，樹脂基材較佳為進行延伸處理。
樹脂基材之中，較佳為由於吸濕性較低故而易於使尺寸穩定性良好且由於光學各向異性較低故而易於使視認性良好之丙烯酸樹脂基材。又，對於丙烯酸樹脂基材，藉由對樹脂層用塗佈液設定特定之組成且設定特定之乾燥條件，可易於滿足條件1A及或條件2A且滿足第1粒子之厚度方向之位置。
丙烯酸樹脂基材由於較硬且較脆，故而若於丙烯酸樹脂基材上形成含有硬化性樹脂組成物之硬化物之樹脂層，則存在耐彎曲性變得不充分之情況。即便於丙烯酸樹脂基材上形成含有硬化性樹脂組成物之硬化物之樹脂層，本發明之防眩性積層體亦可藉由滿足條件1A或條件2A等方法，易於抑制耐彎曲性之降低且維持鉛筆硬度。
第2實施形態之丙烯酸樹脂基材之實施形態除非特別說明，否則可設為與第1實施形態之丙烯酸樹脂基材之實施形態相同之實施形態。例如，第2實施形態之丙烯酸樹脂基材之玻璃轉移點之實施形態可設為與第1實施形態之丙烯酸樹脂基材之玻璃轉移點之實施形態相同之實施形態。
基材之平均厚度較佳為10 μm以上，更佳為20 μm以上，進而較佳為35 μm以上。藉由將基材之平均厚度設為10 μm以上，可易於使防眩性積層體之操作性良好。
基材之平均厚度較佳為100 μm以下，更佳為80 μm以下，進而較佳為60 μm以下。藉由將基材之平均厚度設為100 μm以下，可易於使防眩性積層體之耐彎曲性更良好。
作為基材之平均厚度之較佳之範圍之實施形態，可列舉10 μm以上且100 μm以下、10 μm以上且80 μm以下、10 μm以上且60 μm以下、20 μm以上且100 μm以下、20 μm以上且80 μm以下、20 μm以上且60 μm以下、35 μm以上且100 μm以下、35 μm以上且80 μm以下、35 μm以上且60 μm以下。
上述基材之平均厚度意指防眩性積層體之完成時之基材之平均厚度。如下所述，藉由樹脂層用塗佈液，基材之一部分溶解，由此，防眩性積層體之完成時之基材之平均厚度存在較初期之基材之平均厚度減少之情況。由此，初期之基材之平均厚度較佳為設為較防眩性積層體之完成時之基材之平均厚度更厚。初期之基材之平均厚度與防眩性積層體之完成時之基材之平均厚度之差由於根據樹脂層之厚度、樹脂層用塗佈液之組成、上述塗佈液之乾燥條件等而不同，故而不能一概而論，較佳為0.1 μm以上且10 μm以下，更佳為1 μm以上且5 μm以下。
關於基材之平均厚度，例如可自藉由掃描穿透式電子顯微鏡（STEM）拍攝之防眩性積層體之剖面照片之任意部位選擇20點，藉由其平均值算出。STEM之加速電壓較佳為設為10 kV以上且30 kV以下，STEM之倍率較佳為設為1000倍以上且7000倍以下。
為了對基材之平均厚度、樹脂層之厚度、樹脂層之厚度方向上之第1粒子之位置、基材之樹脂層側之表面之平均傾斜角、基材之樹脂層側之表面之算術平均高度等進行測定，必須製作防眩性積層體之剖面露出之測定用樣品。上述樣品例如可藉由下述（A1'）～（A2'）之步驟製作。再者，於由於對比度不足而難以看到界面等之情形時，可藉由四氧化鋨、四氧化釕、磷鎢酸等對上述樣品實施染色處理作為預處理。
（A1'）步驟A1'與第1實施形態之步驟A1相同。
（A2'）對塊狀之包埋樣品垂直進行切割，製作防眩性積層體之剖面露出所成之測定用樣品。測定用樣品係使用自塊狀之包埋樣品切下之較薄之切片（關於測定之樣品之條件，之後將進行說明）。包埋樣品較佳為以通過切斷樣品之中心之方式切割。包埋樣品較佳為使用鑽石刀切割。
作為切割包埋樣品之裝置，例如可列舉Leica Microsystems公司製造之商品名「Ultramicrotome EMUC7」。於切割包埋樣品時，較佳為最初粗略地切割（粗修整），最終於「速度：1.00 mm/s」、「進給：70 nm」之條件精密地修整。
如上所述自塊狀之包埋樣品切下之切片之中，不存在孔等缺陷且厚度為60 nm以上且100 nm以下之均一之切片可用作基材之平均厚度、樹脂層之厚度、樹脂層之厚度方向上之第1粒子之位置、基材之樹脂層側之表面之平均傾斜角、基材之樹脂層側之表面之算術平均高度、第1粒子之粒徑、無機微粒子之粒徑之測定用樣品。
《條件1A、條件2A》
本發明之第2實施形態之防眩性積層體需要滿足下述條件1A或條件2A。本發明之第2實施形態之防眩性積層體滿足條件1A及條件2A之至少一者即可，較佳為滿足兩者。
＜條件1A＞
上述基材之上述樹脂層側之表面之平均傾斜角為5.0度以上且20.0度以下。
＜條件2A＞
上述基材之上述樹脂層側之表面之算術平均高度為0.10 μm以上且0.40 μm以下。
-條件1Α-
於基材之平均傾斜角未達5.0度之情形時，基材與樹脂層之密接性不足，由此，於防眩性積層體之彎曲時產生界面剝離，故而不易使防眩性積層體之耐彎曲性良好。
若基材之平均傾斜角超過20.0度，則意指樹脂層內基材成分過度溶出。由此，若基材之平均傾斜角超過20.0度，則不易使防眩性積層體之鉛筆硬度良好。又，若基材之平均傾斜角超過20.0度，則內部霧度上升，由此，解像度易於降低。
基材之平均傾斜角較佳為6.0度以上，更佳為8.0度以上，進而較佳為10.0度以上。基材之平均傾斜角較佳為19.5度以下，更佳為19.0度以下，進而較佳為18.5度以下。
作為基材之平均傾斜角之較佳之範圍之實施形態，可列舉5.0度以上且20.0度以下、5.0度以上且19.5度以下、5.0度以上且19.0度以下、5.0度以上且18.5度以下、6.0度以上且20.0度以下、6.0度以上且19.5度以下、6.0度以上且19.0度以下、6.0度以上且18.5度以下、8.0度以上且20.0度以下、8.0度以上且19.5度以下、8.0度以上且19.0度以下、8.0度以上且18.5度以下、10.0度以上且20.0度以下、10.0度以上且19.5度以下、10.0度以上且19.0度以下、10.0度以上且18.5度以下。
基材之平均傾斜角及基材之算術平均高度例如可藉由與第1實施形態相同之方法進行測定。
-條件2Α-
於基材之算術平均高度未達0.10 μm之情形時，基材與樹脂層之密接性不足，由此，於防眩性積層體之彎曲時產生界面剝離，故而不易使防眩性積層體之耐彎曲性良好。
若基材之算術平均高度超過0.40 μm，則意指樹脂層內基材成分過度溶出。由此，若基材之算術平均高度超過0.40 μm，則不易使防眩性積層體之鉛筆硬度良好。又，若基材之算術平均高度超過0.40 μm，則內部霧度上升，由此，解像度易於降低。
基材之算術平均高度較佳為0.15 μm以上，更佳為0.20 μm以上。基材之算術平均高度更佳為0.38 μm以下，進而較佳為0.36 μm以下。
作為基材之算術平均高度之較佳之範圍之實施形態，可列舉0.10 μm以上且0.40 μm以下、0.10 μm以上且0.38 μm以下、0.10 μm以上且0.36 μm以下、0.15 μm以上且0.40 μm以下、0.15 μm以上且0.38 μm以下、0.15 μm以上且0.36 μm以下、0.20 μm以上且0.40 μm以下、0.20 μm以上且0.38 μm以下、0.20 μm以上且0.36 μm以下。
為了將基材之樹脂層側之表面之平均傾斜角及算術平均高度設為上述範圍，較佳為藉由樹脂層用塗佈液使基材之一部分溶解。其中，於藉由樹脂層用塗佈液使基材溶解時，較佳為對樹脂層用塗佈液設定特定之組成且設定特定之乾燥條件。下文將對特定之組成及特定之乾燥條件進行說明。
＜樹脂層＞
樹脂層需要含有平均粒徑為0.5 μm以上之第1粒子。
於樹脂層不含第1粒子之情形時，無法對防眩性積層體賦予防眩性。
關於本發明之防眩性積層體，於將較樹脂層之厚度方向之中心更靠基材側之區域定義為第1區域，將較樹脂層之厚度方向之中心更靠基材之相反側之區域定義為第2區域時，第1粒子之個數基準之70%以上需要存在於第2區域。
參照圖5及圖6，圖5中之第1粒子23B存在於第2區域22B，圖6中之第1粒子23B存在於第1區域21B。
於第2實施形態中，樹脂層較佳為單層。
第1粒子之個數基準之70%以上不存在於第2區域，則第1粒子之個數基準之30%以上存在於第1區域。
存在於第1區域之第1粒子由於不易使樹脂層之表面為凹凸形狀，故而如下述比較例2-2所述，不易使防眩性良好。
如下述比較例2-1所述，若第1粒子之含量之絕對值較多，則即便第1粒子之個數基準之70%以上不存在於第2區域，亦可使防眩性良好。但於該情形時，引起耐彎曲性之降低之第1粒子與樹脂層之界面增加，由此，無法使防眩性積層體之耐彎曲性良好。
第1粒子存在於第2區域之比率基於個數基準，較佳為75%以上，更佳為80%以上。
於本說明書中，樹脂層之厚度方向上之第1粒子存在之位置係藉由下述（1）～（5）之方法判別。
（1）藉由掃描穿透式電子顯微鏡（STEM），拍攝防眩性積層體之剖面照片。STEM之加速電壓較佳為設為10 kV以上且30 kV以下，STEM之倍率較佳為設為1000倍以上且7000倍以下。
（2）基於剖面照片，算出樹脂層之基材側之表面之稜線之標高之平均X1、樹脂層之與基材之相反側之表面之稜線之標高之平均X2（參照圖5之符號X1及X2）。
（3）將X1及X2之標高之中間定義為樹脂層之厚度方向之中心M（參照圖5之符號M）。
（4）基於剖面照片，對存在於較樹脂層之厚度方向之中心更靠基材側之第1區域之第1粒子、及存在於較樹脂層之厚度方向之中心更靠基材之相反側之第2區域之第1粒子之個數進行計數。關於遍及樹脂層之厚度方向之中心存在於第1區域及第2區域兩者之第1粒子，根據各區域之面積比率，對各區域分配個數。例如，關於第1區域之面積比率為40%且第2區域之面積比率為60%之第1粒子，對第1區域分配0.4個，對第2區域分配0.6個。
（5）為了提高數值之可靠性，獲得複數張剖面照片，將第1粒子之合計數設為50以上，基於此，算出存在於第1區域及第2區域之第1粒子之個數基準之比率。
樹脂層例如可藉由在基材上塗佈含有第1粒子、樹脂成分及溶劑之樹脂層用塗佈液並使其乾燥，視需要使其硬化而形成。樹脂層用塗佈液可視需要進而含有無機微粒子、添加劑。
於上述方法之情形時，樹脂層用塗佈液藉由使基材之一部分溶解，而使基材之樹脂層側之表面凹凸化。自基材溶出之成分與樹脂層用塗佈液混合，成為樹脂層之構成成分。
上述方法中，關鍵的是，對樹脂層用塗佈液設定特定之組成且設定特定之乾燥條件。下文將對特定之組成及特定之乾燥條件進行說明。
於基材上塗佈樹脂層用塗佈液之方法並無特別限制，可列舉旋轉塗佈法、浸漬法、噴霧法、模嘴塗佈法、棒式塗佈法、凹版塗佈法、輥式塗佈法、液面彎曲式塗佈法、軟版印刷法、網版印刷法、液滴塗佈法等通用之塗佈方法。
於使樹脂層用塗佈液硬化時，較佳為照射紫外線及電子束等游離輻射。作為紫外線源之具體例，可列舉超高壓水銀燈、高壓水銀燈、低壓水銀燈、碳弧燈、黑光螢光燈及金屬鹵化物燈等。又，作為紫外線之波長，較佳為190 nm以上且380 nm以下之波長區域。作為電子束源之具體例，可列舉科克羅夫特沃爾頓型、凡德格拉夫型、共振變壓器型、絕緣芯變壓器型、直線型、高頻高壓加速器型、高頻型等之各種電子束加速器。
關於樹脂層之平均厚度，下限較佳為6.0 μm以上，更佳為7.0 μm以上，進而較佳為8.0 μm以上，上限較佳為15.0 μm以下，更佳為14.0 μm以下，進而較佳為13.0 μm以下。
藉由將樹脂層之平均厚度設為6.0 μm以上，可易於使鉛筆硬度良好。藉由將樹脂層之平均厚度設為15.0 μm以下，可易於抑制耐彎曲性之降低。
作為樹脂層之平均厚度之較佳之範圍之實施形態，可列舉6.0 μm以上且15.0 μm以下、6.0 μm以上且14.0 μm以下、6.0 μm以上且13.0 μm以下、7.0 μm以上且15.0 μm以下、7.0 μm以上且14.0 μm以下、7.0 μm以上且13.0 μm以下、8.0 μm以上且15.0 μm以下、8.0 μm以上且14.0 μm以下、8.0 μm以上且13.0 μm以下。
關於樹脂層之平均厚度，例如可自藉由掃描穿透式電子顯微鏡（STEM）拍攝之防眩性積層體之剖面照片之任意部位選擇20點，藉由其平均值算出。STEM之加速電壓較佳為設為10 kV以上且30 kV以下，STEM之倍率較佳為設為1000倍以上且7000倍以下。
《第1粒子》
第1粒子係平均粒徑為0.5 μm以上之粒子。於平均粒徑未達0.5 μm之情形時，不易於樹脂層之表面形成凹凸形狀，無法使防眩性良好。
作為第1粒子，可列舉：由聚甲基丙烯酸甲酯、聚丙烯酸-苯乙烯共聚物、三聚氰胺樹脂、聚碳酸酯、聚苯乙烯、聚氯乙烯、苯并胍胺-三聚氰胺-甲醛縮合物、聚矽氧、氟系樹脂及聚酯系樹脂等樹脂之1種以上所形成之有機粒子；由二氧化矽、氧化鋁、氧化鋯及氧化鈦等無機物之1種以上所形成之無機粒子。該等之中，有機粒子由於分散穩定性優異，且比重相對小，故而於第1粒子可易於滿足厚度方向之位置之條件之方面較佳。
關於第1粒子之含量，相對於樹脂層用塗佈液之樹脂成分100質量份，下限較佳為0.5質量份以上，更佳為1.0質量份以上，進而較佳為1.5質量份以上，上限較佳為10.0質量份以下，更佳為5.0質量份以下，進而較佳為3.0質量份以下。
藉由將第1粒子之含量設為0.5質量份以上，可易於使防眩性良好。又，藉由將第1粒子之含量設為10.0質量份以下，可易於抑制耐彎曲性之降低。
作為第1粒子之含量相對於樹脂成分100質量份之較佳之範圍之實施形態，可列舉0.5質量份以上且10.0質量份以下、0.5質量份以上且5.0質量份以下、0.5質量份以上且3.0質量份以下、1.0質量份以上且10.0質量份以下、1.0質量份以上且5.0質量份以下、1.0質量份以上且3.0質量份以下、1.5質量份以上且10.0質量份以下、1.5質量份以上且5.0質量份以下、1.5質量份以上且3.0質量份以下。
第1粒子之平均粒徑較佳為0.8 μm以上，更佳為1.0 μm以上。
為了使第1粒子易於滿足厚度方向之位置之條件，第1粒子之平均粒徑較佳為3.0 μm以下，更佳為2.7 μm以下，進而較佳為2.5 μm以下。
作為第1粒子之平均粒徑之較佳之範圍之實施形態，可列舉0.8 μm以上且3.0 μm以下、0.8 μm以上且2.7 μm以下、0.8 μm以上且2.5 μm以下、1.0 μm以上且3.0 μm以下、1.0 μm以上且2.7 μm以下、1.0 μm以上且2.5 μm以下。
第1粒子之平均粒徑例如可藉由與第1實施形態相同之方法算出。
表示第1粒子之平均粒徑之D1與表示樹脂層之平均厚度之t較佳為2.0＜t/D1＜6.0之關係。
藉由將t/D1設為未達6.0，可易於藉由第1粒子對防眩性積層體之表面賦予凹凸形狀，由此，可易於使防眩性良好。藉由將t/D1設為超過2.0，第1粒子突出於樹脂層之表面，由此，可易於抑制耐彎曲性降低。
關於t/D1，下限更佳為2.5以上，進而較佳為3.5以上，上限更佳為5.0以下，進而較佳為4.5以下。
作為t/D1之較佳之範圍之實施形態，可列舉超過2.0且未達6.0、超過2.0且為5.0以下、超過2.0且為4.5以下、2.5以上且未達6.0、2.5以上且5.0以下、2.5以上且4.5以下、3.5以上且未達6.0、3.5以上且5.0以下、3.5以上且4.5以下。
關於t－D1，為了易於抑制耐彎曲性降低，下限較佳為2.0 μm以上，更佳為3.0 μm以上，進而較佳為4.0 μm以上，為了易於使防眩性良好，上限較佳為10 μm以下，更佳為8.0 μm以下，進而較佳為7.0 μm以下。
作為t－D1之較佳之範圍之實施形態，可列舉2.0 μm以上且10 μm以下、2.0 μm以上且8.0 μm以下、2.0 μm以上且7.0 μm以下、3.0 μm以上且10 μm以下、3.0 μm以上且8.0 μm以下、3.0 μm以上且7.0 μm以下、4.0 μm以上且10 μm以下、4.0 μm以上且8.0 μm以下、4.0 μm以上且7.0 μm以下。
《無機微粒子》
樹脂層可含有無機微粒子。藉由樹脂層含有比重相對大之無機微粒子，第1粒子不易沈於樹脂層之下方，由此，第1粒子可易於滿足厚度方向之位置之條件。又，無機微粒子可提高第1粒子之分散性，易於抑制耐彎曲性之降低。
第2實施形態之無機微粒子之平均粒徑及種類之實施形態可設為與第1實施形態之無機微粒子之平均粒徑及種類之實施形態相同之實施形態。
關於無機微粒子之含量，相對於樹脂層用塗佈液之樹脂成分100質量份，下限較佳為0.1質量份以上，更佳為0.5質量份以上，進而較佳為0.7質量份以上，上限較佳為5.0質量份以下，更佳為3.0質量份以下，進而較佳為2.0質量份以下。
藉由將無機微粒子之含量設為0.1質量份以上，第1粒子可易於滿足厚度方向之位置之條件。又，藉由將無機微粒子之含量設為5.0質量份以下，可抑制第1粒子過度浮於樹脂層之上方，由此，可易於抑制耐彎曲性之降低。
作為無機微粒子之含量相對於樹脂成分100質量份之較佳之範圍之實施形態，可列舉0.1質量份以上且5.0質量份以下、0.1質量份以上且3.0質量份以下、0.1質量份以上且2.0質量份以下、0.5質量份以上且5.0質量份以下、0.5質量份以上且3.0質量份以下、0.5質量份以上且2.0質量份以下、0.7質量份以上且5.0質量份以下、0.7質量份以上且3.0質量份以下、0.7質量份以上且2.0質量份以下。
《樹脂成分》
樹脂層較佳為含有硬化性樹脂組成物之硬化物作為樹脂成分。藉由樹脂層含有硬化性樹脂組成物之硬化物，可易於使防眩性積層體之鉛筆硬度良好。
相對於樹脂層用塗佈液之樹脂成分之總量，硬化性樹脂組成物之比率較佳為80質量%以上，更佳為90質量%以上，進而較佳為95質量%以上，最佳為100質量%。
作為硬化性樹脂組成物之硬化物，可列舉熱固性樹脂組成物之硬化物及游離輻射硬化性樹脂組成物之硬化物。該等之中，較佳為易於提高鉛筆硬度且於未硬化之組成物之狀態易於使基材溶解之游離輻射硬化性樹脂組成物之硬化物。
第2實施形態之熱固性樹脂組成物之實施形態可設為與第1實施形態之熱固性樹脂組成物之實施形態相同之實施形態。
游離輻射硬化性樹脂組成物係含有具有游離輻射硬化性官能基之化合物（以下亦稱為「游離輻射硬化性化合物」）之組成物。作為游離輻射硬化性官能基，可列舉(甲基)丙烯醯基、乙烯基、烯丙基等乙烯性不飽和鍵基、及環氧基、氧雜環丁基等。作為游離輻射硬化性化合物，較佳為具有乙烯性不飽和鍵基之化合物。
游離輻射意指電磁波或帶電粒子束之中具有可使分子聚合或交聯之能量量子者，通常使用紫外線或電子束，此外，亦可使用X射線、γ射線等電磁波、α射線、離子束等帶電粒子束。
於本說明書中，(甲基)丙烯醯基表示丙烯醯基或甲基丙烯醯基。又，於本說明書中，(甲基)丙烯酸酯表示丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯。
作為游離輻射硬化性化合物，具有1個游離輻射硬化性官能基之單官能之游離輻射硬化性化合物、具有2個以上游離輻射硬化性官能基之多官能之游離輻射硬化性化合物均可使用。又，作為游離輻射硬化性化合物，單體及低聚物均可使用。
為了易使基材之一部分溶解，並提高鉛筆硬度且抑制硬化收縮，較佳為使用下述（a）～（c）之混合物作為游離輻射硬化性化合物。下述（a）～（c）較佳為具有乙烯性不飽和鍵基作為游離輻射硬化性官能基之化合物，更佳為(甲基)丙烯酸酯系化合物。(甲基)丙烯酸酯系化合物亦可使用藉由環氧乙烷、環氧丙烷、己內酯、三聚異氰酸、烷基、環狀烷基、芳香族、雙酚等使分子骨架之一部分改質所得者。
（a）單官能之游離輻射硬化性單體
（b）多官能之游離輻射硬化性單體
（c）多官能之游離輻射硬化性低聚物
藉由含有（a）單官能之游離輻射硬化性單體作為游離輻射硬化性化合物，可易使基材之一部分溶解，由此，可易於滿足條件1A或條件2A。又，藉由含有（a）單官能之游離輻射硬化性單體，可易使自基材溶出之成分與樹脂層用塗佈液之成分相溶，由此，可易使樹脂層之物理特性良好。
然而，若（a）單官能之游離輻射硬化性單體之量過多，則會使基材過度溶解，由此，存在基材之強度降低或防眩性積層體之鉛筆硬度降低之情況。
藉由含有（b）多官能之游離輻射硬化性單體作為游離輻射硬化性化合物，可易使防眩性積層體之鉛筆硬度良好。然而，若（b）多官能之游離輻射硬化性單體之量過多，則存在樹脂層之硬度變得過高，防眩性積層體之耐彎曲性降低之情況。
藉由含有（c）多官能之游離輻射硬化性低聚物作為游離輻射硬化性化合物，可易於維持防眩性積層體之鉛筆硬度且抑制硬化收縮。然而，若（c）多官能之游離輻射硬化性低聚物之量過多，則存在防眩性積層體之鉛筆硬度降低之情況。
相對於游離輻射硬化性化合物之總量，（a）單官能之游離輻射硬化性單體之量較佳為10質量%以上且40質量%以下，更佳為13質量%以上且30質量%以下，進而較佳為15質量%以上且25質量%以下。
相對於游離輻射硬化性化合物之總量，（b）多官能之游離輻射硬化性單體之量較佳為5質量%以上且20質量%以下，更佳為6質量%以上且15質量%以下，進而較佳為7質量%以上且13質量%以下。
相對於游離輻射硬化性化合物之總量，（c）多官能之游離輻射硬化性低聚物之量較佳為50質量%以上且85質量%以下，更佳為60質量%以上且80質量%以下，進而較佳為65質量%以上且75質量%以下。
第2實施形態之（a）單官能之游離輻射硬化性單體、（b）多官能之游離輻射硬化性單體、及（c）多官能之游離輻射硬化性低聚物之實施形態可設為與第1實施形態之（a）單官能之游離輻射硬化性單體、（b）多官能之游離輻射硬化性單體、及（c）多官能之游離輻射硬化性低聚物之實施形態相同之實施形態。
於游離輻射硬化性化合物為紫外線硬化性化合物之情形時，與第1實施形態同樣地，游離輻射硬化性組成物較佳為含有光聚合起始劑或光聚合促進劑等添加劑。
與第1實施形態同樣地，樹脂層用塗佈液可視需要含有添加劑。
《溶劑》
樹脂層用塗佈液較佳為含有溶劑。
作為溶劑，較佳為選擇可使基材溶解之溶劑。然而，若使基材過度溶解，則基材之強度降低，由此，較佳為根據基材之種類選擇適當之溶劑。溶劑較佳為包含Hansen溶解度參數之3種成分中作為極性成分之δp為7.0（J/cm
3）
0.5以上且10.0（J/cm
3）
0.5以下之溶劑。藉由δp為7.0（J/cm
3）
0.5以上，可易使基材溶解，藉由δp為10.0（J/cm
3）
0.5以下，可使基材不過於溶解。甲苯、異丙醇（IPA）、甲基乙基酮（MEK）、甲基異丁基酮（MIBK）之δp[（J/cm
3）
0.5]之值如下所述。
（[甲苯：1.4、IPA：6.1、MEK：9.0、MIBK：6.1]）
又，溶劑較佳為除基材之溶解性以外亦將溶劑固有之蒸發速度考慮在內而選擇。其原因在於，於溶劑之蒸發速度較慢之情形時，易使基材過度溶解。溶劑蒸發之速度亦可藉由乾燥條件控制。例如，若提高乾燥溫度，則溶劑蒸發之速度變快。又，若加快乾燥風速，則溶劑蒸發之速度變快。
根據以上，較佳為將基材之溶解性、蒸發速度、乾燥條件考慮在內而選擇溶劑。
第2實施形態之溶劑之種類之實施形態可設為與第1實施形態之溶劑之種類之實施形態相同之實施形態。
丙烯酸樹脂基材易於溶解於溶劑中。由此，於使用丙烯酸樹脂基材作為基材之情形時，較佳為以溶劑固有之蒸發速度較快之溶劑作為主成分。主成分意指為溶劑之總量之50質量%以上，較佳為70質量%以上，更佳為90質量%以上，最佳為100質量%。
於本說明書中，蒸發速度較快之溶劑意指於將乙酸丁酯之蒸發速度設為100時，蒸發速度為100以上之溶劑。蒸發速度較快之溶劑之蒸發速度更佳為120以上且450以下，進而較佳為140以上且400以下。
作為蒸發速度較快之溶劑，例如，可列舉異丙醇（蒸發速度150）、甲基異丁基酮（蒸發速度160）、甲苯（蒸發速度200）、甲基乙基酮（蒸發速度370）。
進而，溶劑較佳為包含分子量較小且極性較高之溶劑。極性較高之溶劑較佳為Hansen溶解度參數之δp為上述範圍之溶劑。藉由包含分子量較小、極性較高且蒸發速度為上述之溶劑，可易使丙烯酸樹脂基材適當溶解。作為此種溶劑，可列舉甲基乙基酮。
為了易於滿足條件1A或條件2A，甲基乙基酮之量較佳為溶劑之總量之20質量%以上且40質量%以下。
《乾燥條件》
於由樹脂層用塗佈液形成樹脂層時，較佳為控制乾燥條件。
又，本發明之防眩性積層體較佳為以2個階段使樹脂層用塗佈液乾燥。具體而言，第1階段之乾燥較佳為減弱乾燥之強度，第2階段之乾燥較佳為增強乾燥之強度。於第1階段之強度較弱之乾燥時，基材之溶解進行，且自基材溶出之成分與樹脂層用塗佈液之成分混合，形成混合物，且可延長上述混合物之對流時間，由此，可易於滿足第1粒子之厚度方向之位置之條件。又，藉由減弱第1階段之乾燥之強度，自基材溶出之成分與樹脂層用塗佈液之成分易於混合，可易使樹脂層為單一層。繼而，於第2階段實施強度較強之乾燥，藉此可抑制基材過度溶解，由此，可易於抑制基材之平均傾斜角及基材之算術平均高度變得過大。
乾燥條件可藉由乾燥溫度及乾燥機內之風速控制。乾燥溫度及風速之較佳之範圍由於根據樹脂層用塗佈液之組成而不同，故而不能一概而論，較佳為設為下述條件。
＜第1階段之乾燥＞
乾燥溫度較佳為65℃以上且85℃以下，乾燥風速較佳為0.5 m/s以上且2 m/s以下。乾燥時間較佳為20秒以上且40秒以下。
＜第2階段之乾燥＞
乾燥溫度較佳為65℃以上且85℃以下，乾燥風速較佳為15 m/s以上且25 m/s以下。乾燥時間較佳為20秒以上且40秒以下。
為了易於藉由樹脂層用塗佈液使基材之一部分溶解，且使自基材溶出之成分與樹脂層用塗佈液充分混合，游離輻射之照射較佳為於塗佈液之乾燥後進行。
[光學積層體]
本發明之光學積層體於基材上具有樹脂層，
上述樹脂層自上述基材側起具有第1樹脂層及第2樹脂層，
上述第1樹脂層具有相互獨立之區域α1及包圍上述區域α1之區域α2，上述區域α1所含之樹脂與上述區域α2所含之樹脂不同，
上述第2樹脂層具有相互獨立之區域β1及包圍上述區域β1之區域β2，上述區域β1所含之樹脂與上述區域β2所含之樹脂不同，
上述光學積層體滿足下述條件1B或條件2B。
＜條件1B＞
表示上述基材之上述樹脂層側之表面之平均傾斜角之θa1與表示上述第1樹脂層之上述第2樹脂層側之表面之平均傾斜角之θa2為θa2＜θa1之關係。
＜條件2B＞
表示上述基材之上述樹脂層側之表面之算術平均高度之Pa1與表示上述第1樹脂層之上述第2樹脂層側之表面之算術平均高度之Pa2為Pa2＜Pa1之關係。
圖8係表示本發明之光學積層體100C之一實施形態之剖視圖。
圖8之光學積層體100C於基材10上具有樹脂層20C。又，圖8之樹脂層20C自基材10側起具有第1樹脂層21C及第2樹脂層22C。
又，圖8之第1樹脂層21C具有相互獨立之區域α1、及包圍上述區域α1之區域α2。又，圖8之第2樹脂層22C具有相互獨立之區域β1、及包圍上述區域β1之區域β2。於本說明書中，有時將如圖8之第1樹脂層及第2樹脂層般具有相互獨立之區域n1、及包圍上述區域n1之區域n2之構造稱為「海島構造」。
再者，圖8係示意性剖視圖。即，構成光學積層體100C之各層之縮小比例、各材料之縮小比例、及表面凹凸之縮小比例係為了易於圖示而示意化者，與實際之縮小比例有差異。除圖8以外之圖亦同樣與實際之縮小比例有差異。
＜基材＞
作為基材，較佳為透光性、平滑性、耐熱性及機械強度良好。作為此種基材，可列舉含有聚酯、三乙醯纖維素（TAC）、二乙酸纖維素、醋酸丁酸纖維素、聚醯胺、聚醯亞胺、聚醚碸、聚碸、聚丙烯、聚甲基戊烯、聚氯乙烯、聚乙烯縮醛、聚醚酮、丙烯酸樹脂、聚碳酸酯、聚胺酯及非晶質烯烴（Cyclo-Olefin-Polymer：COP）等樹脂之樹脂基材。樹脂基材可為將2種以上之樹脂基材貼合所得者。
為了使機械強度及尺寸穩定性良好，樹脂基材較佳為進行延伸處理。
樹脂基材之中，較佳為由於吸濕性較低故而易使尺寸穩定性良好且由於光學各向異性較低故而易使視認性良好之丙烯酸樹脂基材。又，對於丙烯酸樹脂基材，藉由對樹脂層用塗佈液設定特定之組成且設定特定之乾燥條件，可易於滿足條件1B及或條件2B且使第1樹脂層及第2樹脂層為海島構造。
丙烯酸樹脂基材由於較硬且較脆，故而於在丙烯酸樹脂基材上形成其他層之情形時，不易使密接性良好。尤其是於在丙烯酸樹脂基材上形成含有硬化性樹脂組成物之硬化物之樹脂層之類的較硬之樹脂層之情形時，基材與樹脂層之密接性易於變得不充分。即便於丙烯酸樹脂基材上形成含有硬化性樹脂組成物之硬化物之樹脂層，本發明之光學積層體亦可藉由滿足條件1B或條件2B且使樹脂層具有海島構造等方法，易於抑制密接性之降低且抑制影像清晰度之變化。
於本說明書中，丙烯酸樹脂意指丙烯酸系樹脂及/或甲基丙烯酸系樹脂。
光學積層體之丙烯酸樹脂基材之實施形態除非特別說明，否則可設為與第1實施形態之丙烯酸樹脂基材之實施形態相同之實施形態。例如，光學積層體之丙烯酸樹脂基材之玻璃轉移點之實施形態可設為與第1實施形態之丙烯酸樹脂基材之玻璃轉移點之實施形態相同之實施形態。
樹脂基材所含有之丙烯酸樹脂等樹脂之重量平均分子量較佳為10,000以上且500,000以下，更佳為50,000以上且300,000以下。藉由將樹脂之重量平均分子量設為上述範圍，可易於控制條件1B、條件2B、上述海島構造。
基材之平均厚度較佳為10 μm以上，更佳為20 μm以上，進而較佳為35 μm以上。藉由將基材之平均厚度設為10 μm以上，可易使光學積層體之操作性良好。
基材之平均厚度較佳為100 μm以下，更佳為80 μm以下，進而較佳為60 μm以下。藉由將基材之平均厚度設為100 μm以下，可易使光學積層體之耐彎曲性更良好。
作為基材之平均厚度之較佳之範圍之實施形態，可列舉10 μm以上且100 μm以下、10 μm以上且80 μm以下、10 μm以上且60 μm以下、20 μm以上且100 μm以下、20 μm以上且80 μm以下、20 μm以上且60 μm以下、35 μm以上且100 μm以下、35 μm以上且80 μm以下、35 μm以上且60 μm以下。
上述基材之平均厚度意指光學積層體之完成時之基材之平均厚度。如下所述，藉由樹脂層用塗佈液，基材之一部分溶解，由此，光學積層體之完成時之基材之平均厚度存在較初期之基材之平均厚度減少之情況。由此，初期之基材之平均厚度較佳為設為較光學積層體之完成時之基材之平均厚度更厚。初期之基材之平均厚度與光學積層體之完成時之基材之平均厚度之差由於根據樹脂層之厚度、樹脂層用塗佈液之組成、上述塗佈液之乾燥條件等而不同，故而不能一概而論，較佳為0.1 μm以上且10 μm以下，更佳為1 μm以上且5 μm以下。
關於基材之平均厚度，例如可自藉由掃描穿透式電子顯微鏡（STEM）拍攝之光學積層體之剖面照片之任意部位選擇20點，藉由其平均值算出。STEM之加速電壓較佳為設為10 kV以上且30 kV以下，STEM之倍率較佳為設為1000倍以上且7000倍以下。
為了對基材之平均厚度、第1樹脂層之厚度、第2樹脂層之厚度、第1樹脂層之厚度方向上之區域α1之位置、樹脂層之厚度方向上之第1粒子之位置、θa1、θa2、Pa1、Pa2等進行測定，必須製作光學積層體之剖面露出之測定用樣品。上述樣品例如可藉由下述（A1''）～（A2''）之步驟製作。再者，於由於對比度不足而難以看到界面等之情形時，可藉由四氧化鋨、四氧化釕、磷鎢酸等對上述樣品實施染色處理作為預處理。
（A1''）步驟A1''與第1實施形態之步驟A1相同。
（A2''）對塊狀之包埋樣品垂直進行切割，製作光學積層體之剖面露出所成之測定用樣品。測定用樣品係使用自塊狀之包埋樣品切下之較薄之切片（關於測定之樣品之條件，之後將進行說明）。包埋樣品較佳為以通過切斷樣品之中心之方式切割。包埋樣品較佳為使用鑽石刀切割。
作為切割包埋樣品之裝置，例如可列舉Leica Microsystems公司製造之商品名「Ultramicrotome EMUC7」。於切割包埋樣品時，較佳為最初粗略地切割（粗修整），最終於「速度：1.00 mm/s」、「進給：70 nm」之條件精密地修整。
如上所述自塊狀之包埋樣品切下之切片之中，不存在孔等缺陷且厚度為60 nm以上且100 nm以下之均一之切片可用作基材之平均厚度、第1樹脂層之厚度、第2樹脂層之厚度、第1樹脂層之厚度方向上之區域α1之位置、樹脂層之厚度方向上之第1粒子之位置、θa1、θa2、Pa1、Pa2、第1粒子之粒徑、無機微粒子之粒徑之測定用樣品。
＜樹脂層＞
樹脂層需要自基材側起具有第1樹脂層及第2樹脂層。藉由具有第1樹脂層及第2樹脂層作為樹脂層，可易使密接性良好且易於抑制鉛筆硬度之降低。
於樹脂層為單層之情形時，不易使光學積層體之耐彎曲性或鉛筆硬度良好。例如，於為硬度較高之樹脂層之單層之情形時，不易使光學積層體之耐彎曲性良好。又，於為硬度較低之樹脂層之單層之情形時，不易使光學積層體之鉛筆硬度良好。
第1樹脂層及第2樹脂層例如可藉由在基材上塗佈含有樹脂成分及溶劑之樹脂層用塗佈液並使其乾燥，視需要使其硬化而形成。樹脂層用塗佈液可視需要進而含有第1粒子、無機微粒子、添加劑。
於上述方法之情形時，例如樹脂層用塗佈液使基材之一部分溶解，可藉由以自基材溶出之樹脂成分作為主成分且含有少量樹脂層用塗佈液之樹脂成分之區域，形成第1樹脂層，進而，藉由自基材溶出之樹脂成分之含量較少且以樹脂層用塗佈液之樹脂成分作為主成分之區域，形成第2樹脂層。即，於上述方法之情形時，可藉由使用1種樹脂層用塗佈液並塗佈1次，形成第1樹脂層及第2樹脂層。又，藉由上述方法形成之第2樹脂層由於自基材溶出之樹脂成分之含量較少，故而可易使鉛筆硬度良好。
上述方法關鍵的是，對樹脂層用塗佈液設定特定之組成且設定特定之乾燥條件。下文將對特定之組成及特定之乾燥條件進行說明。
於基材上塗佈樹脂層用塗佈液之方法並無特別限制，可列舉旋轉塗佈法、浸漬法、噴霧法、模嘴塗佈法、棒式塗佈法、凹版塗佈法、輥式塗佈法、液面彎曲式塗佈法、軟版印刷法、網版印刷法、液滴塗佈法等通用之塗佈方法。
於使樹脂層用塗佈液硬化時，較佳為照射紫外線及電子束等游離輻射。作為紫外線源之具體例，可列舉超高壓水銀燈、高壓水銀燈、低壓水銀燈、碳弧燈、黑光螢光燈及金屬鹵化物燈等。又，作為紫外線之波長，較佳為190 nm以上且380 nm以下之波長區域。作為電子束源之具體例，可列舉科克羅夫特沃爾頓型、凡德格拉夫型、共振變壓器型、絕緣芯變壓器型、直線型、高頻高壓加速器型、高頻型等之各種電子束加速器。
第1樹脂層需要具有相互獨立之區域α1及包圍上述區域α1之區域α2，上述區域α1所含之樹脂與上述區域α2所含之樹脂不同。進而，上述第2樹脂層需要具有相互獨立之區域β1及包圍上述區域β1之區域β2，上述區域β1所含之樹脂與上述區域β2所含之樹脂不同。
由於第1樹脂層具有上述區域α1及上述區域α2，且第2樹脂層具有上述區域β1及上述區域β2，故而可易使耐光性試驗後之密接性良好。
區域α1所含之樹脂與區域α2所含之樹脂不同，意指樹脂之組成及分子量中之至少一者不同。區域α1所含之樹脂與區域α2所含之樹脂較佳為樹脂之組成不同。作為樹脂之組成不同之例，可列舉：區域α1與區域α2含有不同種類之樹脂之情況；區域α1與區域α2雖含有相同種類之樹脂，但樹脂之混合比率不同之情況；等。
區域β1所含之樹脂與區域β2所含之樹脂不同，意指樹脂之組成及分子量中之至少一者不同。區域β1所含之樹脂與區域β2所含之樹脂較佳為樹脂之組成不同。作為樹脂之組成不同之例，可列舉：區域β1與區域β2含不同種類之樹脂之情況；區域β1與區域β2雖含相同種類之樹脂，但樹脂之混合比率不同之情況；等。
於本說明書中，區域α1、區域α2、區域β1及區域β2之樹脂意指所謂之黏合劑樹脂。由此，下述第1粒子等粒子並非指區域α1、區域α2、區域β1及區域β2之樹脂。
若區域β1之比率較多，則硬度易於變得不充分，若區域α2之比率較多，則密接性易於變差。由此，區域α1與區域α2之面積比較佳為1：99～10：90，更佳為2：98～5：95。
若區域β1之比率較多，則硬度易於變得不充分，若區域β2之比率較多，則密接性易於變差。由此，區域β1與區域β2之面積比較佳為5：95～50：50，更佳為10：90～40：60。
上述之面積比可自藉由掃描穿透式電子顯微鏡（STEM）拍攝之光學積層體之剖面照片算出。為了提高數值之可靠性，獲得複數張剖面照片，將區域α1或區域β1之合計數設為50以上，基於此，算出面積比率。
第1樹脂層及第2樹脂層較佳為區域α1所含有之樹脂與區域β2所含有之樹脂實質上相同，且較佳為區域α2所含有之樹脂與區域β1所含有之樹脂實質上相同。藉由具備上述構成，可易使耐光性試驗後之密接性良好。藉由上述構成可易使耐光性試驗後之密接性良好之原因被認為在於，第1樹脂層與第2樹脂層之親和性提高，由此，即便於耐光性試驗等嚴酷之環境，第1樹脂層與第2樹脂層之界面之密接性亦不易降低。
為了使第1樹脂層易於構成為具有上述區域α1及上述區域α2，且使第2樹脂層易於構成為具有上述區域β1及上述區域β2，較佳為降低樹脂層用塗佈液所含有之成分彼此之相溶性，或降低樹脂層用塗佈液所含有之成分與自基材溶出之成分之相溶性。
藉由如上述般降低相溶性，由於下述（1）～（4）之情況，可易於在本發明之光學積層體中形成第1樹脂層及第2樹脂層。
（1）於在基材上塗佈樹脂層用塗佈液時，基材之一部分溶解。
（2）以自基材溶出之樹脂成分作為主成分且含有少量樹脂層用塗佈液之樹脂成分之區域為第1樹脂層，自基材溶出之樹脂成分之含量較少且以樹脂層用塗佈液之樹脂成分作為主成分之區域為第2樹脂層。
（3）由於相溶性較低，故而於上述（2）時，少量含有於第1樹脂層之樹脂層用塗佈液之樹脂成分形成區域α1，自基材溶出之樹脂成分形成區域α2。
（4）由於相溶性較低，故而於上述（2）時，少量含有於第2樹脂層之自基材溶出之樹脂成分形成區域β1，樹脂層用塗佈液之樹脂成分形成區域β2。
於將較第1樹脂層之厚度方向之中心更靠基材側之區域定義為第1區域，將較第1樹脂層之厚度方向之中心更靠第2樹脂層側之區域定義為第2區域時，較佳為區域α1之70%以上存在於上述第2區域。藉由具有上述構成，可易使耐光性試驗後之密接性更良好。
區域α1存在於第2區域之比率基於個數基準，較佳為80%以上，更佳為90%以上，進而較佳為95%以上。
於本說明書中，第1樹脂層之厚度方向上之區域α1存在之位置係藉由下述（1）～（5）之方法判別。
（1）藉由掃描穿透式電子顯微鏡（STEM），拍攝光學積層體之剖面照片。STEM之加速電壓較佳為設為10 kV以上且30 kV以下，STEM之倍率較佳為設為1000倍以上且7000倍以下。
（2）基於剖面照片，算出第1樹脂層之基材側之表面之稜線之標高之平均X1、第1樹脂層之第2樹脂層側之表面之稜線之標高之平均X2（參照圖9之符號X1及X2）。
（3）將X1及X2之標高之中間定義為第1樹脂層之厚度方向之中心M（參照圖9之符號M）。
（4）基於剖面照片，對存在於較第1樹脂層之厚度方向之中心更靠基材側之第1區域之區域α1、及存在於較第1樹脂層之厚度方向之中心更靠第2樹脂層側之第2區域之區域α1之個數進行計數。關於遍及第1樹脂層之厚度方向之中心存在於第1區域及第2區域兩者之區域α1，根據區域α1之面積比率，對第1區域及第2區域分配個數。例如，關於存在於第1區域之面積比率為40%且存在於第2區域之面積比率為60%之區域α1，對第1區域分配0.4個，對第2區域分配0.6個。
（5）為了提高數值之可靠性，獲得複數張剖面照片，將區域α1之合計數設為50以上，基於此，算出存在於第1區域及第2區域之區域α1之個數基準之比率。
關於整個樹脂層之厚度（換言之，第1樹脂層與第2樹脂層之合計厚度），下限較佳為4.0 μm以上，更佳為5.0 μm以上，進而較佳為6.0 μm以上，上限較佳為15.0 μm以下，更佳為12.0 μm以下，進而較佳為10.0 μm以下。
作為整個樹脂層之厚度之較佳之範圍之實施形態，可列舉4.0 μm以上且15.0 μm以下、4.0 μm以上且12.0 μm以下、4.0 μm以上且10.0 μm以下、5.0 μm以上且15.0 μm以下、5.0 μm以上且12.0 μm以下、5.0 μm以上且10.0 μm以下、6.0 μm以上且15.0 μm以下、6.0 μm以上且12.0 μm以下、6.0 μm以上且10.0 μm以下。
關於第1樹脂層之平均厚度t1，下限較佳為3.0 μm以上，更佳為4.0 μm以上，進而較佳為4.5 μm以上，上限較佳為10.0 μm以下，更佳為8.0 μm以下，進而較佳為7.0 μm以下。藉由將t1設為3.0 μm以上，可易使密接性及耐彎曲性良好，藉由將t1設為10.0 μm以下，可易於抑制鉛筆硬度之降低。
作為t1之較佳之範圍之實施形態，可列舉3.0 μm以上且10.0 μm以下、3.0 μm以上且8.0 μm以下、3.0 μm以上且7.0 μm以下、4.0 μm以上且10.0 μm以下、4.0 μm以上且8.0 μm以下、4.0 μm以上且7.0 μm以下、4.5 μm以上且10.0 μm以下、4.5 μm以上且8.0 μm以下、4.5 μm以上且7.0 μm以下。
關於第2樹脂層之平均厚度t2，下限較佳為0.3 μm以上，更佳為0.5 μm以上，進而較佳為1.0 μm以上，上限較佳為4.0 μm以下，更佳為3.0 μm以下，進而較佳為2.7 μm以下。藉由將t2設為0.3 μm以上，可易使鉛筆硬度良好，藉由將t2設為4.0 μm以下，可易於抑制耐彎曲性之降低。
作為t2之較佳之範圍之實施形態，可列舉0.3 μm以上且4.0 μm以下、0.3 μm以上且3.0 μm以下、0.3 μm以上且2.7 μm以下、0.5 μm以上且4.0 μm以下、0.5 μm以上且3.0 μm以下、0.5 μm以上且2.7 μm以下、1.0 μm以上且4.0 μm以下、1.0 μm以上且3.0 μm以下、1.0 μm以上且2.7 μm以下。
為了易於抑制密接性及耐彎曲性之降低，t1/t2較佳為1.5以上，更佳為1.8以上，進而較佳為2.0以上。又，為了易使鉛筆硬度良好，t1/t2較佳為10.0以下，更佳為5.0以下，進而較佳為3.0以下。
作為t1/t2之較佳之範圍之實施形態，可列舉1.5以上且10.0以下、1.5以上且5.0以下、1.5以上且3.0以下、1.8以上且10.0以下、1.8以上且5.0以下、1.8以上且3.0以下、2.0以上且10.0以下、2.0以上且5.0以下、2.0以上且3.0以下。
關於第1樹脂層之平均厚度、及第2樹脂層之平均厚度，例如可自藉由掃描穿透式電子顯微鏡（STEM）拍攝之光學積層體之剖面照片之任意部位選擇20點，藉由其平均值算出。STEM之加速電壓較佳為設為10 kV以上且30 kV以下，STEM之倍率較佳為設為1000倍以上且7000倍以下。
《樹脂成分》
樹脂層較佳為含有硬化性樹脂組成物之硬化物作為樹脂成分。藉由樹脂層含有硬化性樹脂組成物之硬化物，可易使光學積層體之鉛筆硬度良好。
相對於樹脂層用塗佈液之樹脂成分之總量，硬化性樹脂組成物之比率較佳為80質量%以上，更佳為90質量%以上，進而較佳為95質量%以上，最佳為100質量%。
作為硬化性樹脂組成物之硬化物，可列舉熱固性樹脂組成物之硬化物及游離輻射硬化性樹脂組成物之硬化物。該等之中，較佳為易於提高鉛筆硬度且於未硬化之組成物之狀態易使基材溶解之游離輻射硬化性樹脂組成物之硬化物。
光學積層體之熱固性樹脂組成物之實施形態可設為與第1實施形態之防眩性積層體之熱固性樹脂組成物之實施形態相同之實施形態。
游離輻射硬化性樹脂組成物係含有具有游離輻射硬化性官能基之化合物（以下亦稱為「游離輻射硬化性化合物」）之組成物。作為游離輻射硬化性官能基，可列舉(甲基)丙烯醯基、乙烯基、烯丙基等乙烯性不飽和鍵基、及環氧基、氧雜環丁基等。作為游離輻射硬化性化合物，較佳為具有乙烯性不飽和鍵基之化合物。
游離輻射意指電磁波或帶電粒子束之中具有可使分子聚合或交聯之能量量子者，通常使用紫外線或電子束，此外，亦可使用X射線、γ射線等電磁波、α射線、離子束等帶電粒子束。
於本說明書中，(甲基)丙烯醯基表示丙烯醯基或甲基丙烯醯基。又，於本說明書中，(甲基)丙烯酸酯表示丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯。
作為游離輻射硬化性化合物，具有1個游離輻射硬化性官能基之單官能之游離輻射硬化性化合物、具有2個以上游離輻射硬化性官能基之多官能之游離輻射硬化性化合物均可使用。又，作為游離輻射硬化性化合物，單體及低聚物均可使用。再者，單官能之游離輻射硬化性單體由於易使與其他樹脂成分之相溶性良好，故而有不易於第1樹脂層及第2樹脂層形成海島構造之傾向。於使用單官能之游離輻射硬化性單體之情形時，應注意上述特性。
為了易使基材之一部分溶解，並於第1樹脂層及第2樹脂層形成海島構造，提高鉛筆硬度且抑制硬化收縮，較佳為使用下述（a）～（c）之混合物作為游離輻射硬化性化合物。下述（a）～（c）較佳為具有乙烯性不飽和鍵基作為游離輻射硬化性官能基之化合物，更佳為(甲基)丙烯酸酯系化合物。(甲基)丙烯酸酯系化合物亦可使用藉由環氧乙烷、環氧丙烷、己內酯、三聚異氰酸、烷基、環狀烷基、芳香族、雙酚等使分子骨架之一部分改質所得者。
（a）二官能之游離輻射硬化性單體
（b）三官能以上之游離輻射硬化性單體
（c）多官能之游離輻射硬化性低聚物
藉由含有（a）二官能之游離輻射硬化性單體作為游離輻射硬化性化合物，可易使基材之一部分溶解，由此，可易於增大θa1或Pa1。然而，若（a）二官能之游離輻射硬化性單體之量過多，則會使基材過度溶解，由此，存在基材之強度降低或光學積層體之鉛筆硬度降低之情況。
藉由含有（b）三官能以上之游離輻射硬化性單體作為游離輻射硬化性化合物，可易使光學積層體之鉛筆硬度良好。然而，若（b）三官能以上之游離輻射硬化性單體之量過多，則存在樹脂層之硬度變得過高，光學積層體之耐彎曲性降低之情況。
藉由含有（c）多官能之游離輻射硬化性低聚物作為游離輻射硬化性化合物，可易於維持光學積層體之鉛筆硬度且抑制硬化收縮。然而，若（c）多官能之游離輻射硬化性低聚物之量過多，則存在光學積層體之鉛筆硬度降低之情況。
相對於游離輻射硬化性化合物之總量，（a）二官能之游離輻射硬化性單體之量較佳為10質量%以上且40質量%以下，更佳為13質量%以上且30質量%以下，進而較佳為15質量%以上且25質量%以下。
相對於游離輻射硬化性化合物之總量，（b）三官能以上之游離輻射硬化性單體之量較佳為25質量%以上且55質量%以下，更佳為30質量%以上且50質量%以下，進而較佳為35質量%以上且45質量%以下。
相對於游離輻射硬化性化合物之總量，（c）多官能之游離輻射硬化性低聚物之量較佳為25質量%以上且55質量%以下，更佳為30質量%以上且50質量%以下，進而較佳為35質量%以上且45質量%以下。
光學積層體之（a）單官能之游離輻射硬化性單體、（b）多官能之游離輻射硬化性單體、及（c）多官能之游離輻射硬化性低聚物之實施形態可設為與第1實施形態之防眩性積層體之（a）單官能之游離輻射硬化性單體、（b）多官能之游離輻射硬化性單體、及（c）多官能之游離輻射硬化性低聚物之實施形態相同之實施形態。
於游離輻射硬化性化合物為紫外線硬化性化合物之情形時，與第1實施形態同樣地，游離輻射硬化性組成物較佳為含有光聚合起始劑或光聚合促進劑等添加劑。
《第1粒子》
為了易使防眩性良好，樹脂層較佳為含有平均粒徑為0.5 μm以上之第1粒子。為了易使防眩性更良好，更佳為第2樹脂層含有上述第1粒子。
為了易使防眩性更良好，第1粒子較佳為第1粒子之個數基準之70%以上存在於第2樹脂層側。上述比率較佳為80%以上，更佳為90%以上。
樹脂層之厚度方向上之第1粒子存在之位置例如可自藉由掃描穿透式電子顯微鏡（STEM）拍攝之光學積層體之剖面照片判別。又，上述個數基準之比率可自上述剖面照片算出。再者，為了提高數值之可靠性，較佳為獲得複數張剖面照片，將第1粒子之合計數設為50以上，基於此，算出上述個數基準之比率。
再者，關於遍及第1樹脂層及第2樹脂層存在於第1樹脂層及第2樹脂層兩者之第1粒子，根據各層之面積比率，對各層分配個數。例如，關於存在於第1樹脂層之面積比率為40%且存在於第2樹脂層之面積比率為60%之第1粒子，對第1樹脂層分配0.4個，對第2樹脂層分配0.6個。
STEM之加速電壓較佳為設為10 kV以上且30 kV以下，STEM之倍率較佳為設為1000倍以上且7000倍以下。
作為第1粒子，可列舉：由聚甲基丙烯酸甲酯、聚丙烯酸-苯乙烯共聚物、三聚氰胺樹脂、聚碳酸酯、聚苯乙烯、聚氯乙烯、苯并胍胺-三聚氰胺-甲醛縮合物、聚矽氧、氟系樹脂及聚酯系樹脂等樹脂之1種以上所形成之有機粒子；由二氧化矽、氧化鋁、氧化鋯及氧化鈦等無機物之1種以上所形成之無機粒子。該等之中，有機粒子由於分散穩定性優異，且比重相對小，故而於易使第1粒子位於第2樹脂層之方面較佳。
關於第1粒子之含量，相對於樹脂層用塗佈液之樹脂成分100質量份，下限較佳為0.5質量份以上，更佳為1.0質量份以上，進而較佳為1.3質量份以上，上限較佳為10.0質量份以下，更佳為5.0質量份以下，進而較佳為3.0質量份以下。
藉由將第1粒子之含量設為0.5質量份以上，可易使防眩性良好。又，藉由將第1粒子之含量設為10.0質量份以下，可易於抑制耐彎曲性之降低。
作為第1粒子之含量相對於樹脂成分100質量份之較佳之範圍之實施形態，可列舉0.5質量份以上且10.0質量份以下、0.5質量份以上且5.0質量份以下、0.5質量份以上且3.0質量份以下、1.0質量份以上且10.0質量份以下、1.0質量份以上且5.0質量份以下、1.0質量份以上且3.0質量份以下、1.3質量份以上且10.0質量份以下、1.3質量份以上且5.0質量份以下、1.3質量份以上且3.0質量份以下，可易於抑制耐彎曲性之降低。
為了易使防眩性良好，第1粒子之平均粒徑較佳為0.8 μm以上，更佳為1.0 μm以上。
為了易於抑制耐彎曲性之降低，第1粒子之平均粒徑較佳為3.0 μm以下，更佳為2.7 μm以下，進而較佳為2.5 μm以下。
作為第1粒子之平均粒徑之較佳之範圍之實施形態，可列舉0.8 μm以上且3.0 μm以下、0.8 μm以上且2.7 μm以下、0.8 μm以上且2.5 μm以下、1.0 μm以上且3.0 μm以下、1.0 μm以上且2.7 μm以下、1.0 μm以上且2.5 μm以下。
第1粒子之平均粒徑例如可藉由與第1實施形態之防眩性積層體相同之方法算出。
關於表示第1粒子之平均粒徑之D1與表示第2樹脂層之平均厚度之t2，t2－D1較佳為-0.5 μm以上，且較佳為2.0 μm以下。
若t2－D1為-0.5 μm以上，則可易於藉由第1粒子對光學積層體之表面賦予凹凸形狀，由此，可易使防眩性良好。t2－D1更佳為0 μm以上，進而較佳為0.1 μm以上。
若t2－D1為2.0 μm以下，則第1粒子不易突出於第2樹脂層之表面，由此，可易使耐擦傷性良好。t2－D1更佳為1.5 μm以下，進而較佳為0.8 μm以下。
作為t2－D1之較佳之範圍之實施形態，可列舉-0.5 μm以上且2.0 μm以下、-0.5 μm以上且1.5 μm以下、-0.5 μm以上且0.8 μm以下、0 μm以上且2.0 μm以下、0 μm以上且1.5 μm以下、0 μm以上且0.8 μm以下、0.1 μm以上且2.0 μm以下、0.1 μm以上且1.5 μm以下、0.1 μm以上且0.8 μm以下。
《無機微粒子》
樹脂層可含有無機微粒子。藉由樹脂層含有比重相對大之無機微粒子，第1粒子不易沈於樹脂層之下方，由此，可易使第1粒子位於第2樹脂層。又，無機微粒子可提高第1粒子之分散性，易於抑制耐彎曲性之降低。
光學積層體之無機微粒子之平均粒徑及種類之實施形態可設為與第1實施形態之防眩性積層體之無機微粒子之平均粒徑及種類之實施形態相同之實施形態。
關於無機微粒子之含量，相對於樹脂層用塗佈液之樹脂成分100質量份，下限較佳為0.1質量份以上，更佳為0.5質量份以上，進而較佳為0.7質量份以上，上限較佳為5.0質量份以下，更佳為3.0質量份以下，進而較佳為2.0質量份以下。
藉由將無機微粒子之含量設為0.1質量份以上，可易使第1粒子位於第2樹脂層。又，藉由將無機微粒子之含量設為5.0質量份以下，可抑制第1粒子過度浮於樹脂層之上方，由此，可易於抑制耐彎曲性之降低。
作為無機微粒子之含量相對於樹脂成分100質量份之較佳之範圍之實施形態，可列舉0.1質量份以上且5.0質量份以下、0.1質量份以上且3.0質量份以下、0.1質量份以上且2.0質量份以下、0.5質量份以上且5.0質量份以下、0.5質量份以上且3.0質量份以下、0.5質量份以上且2.0質量份以下、0.7質量份以上且5.0質量份以下、0.7質量份以上且3.0質量份以下、0.7質量份以上且2.0質量份以下。
與第1實施形態同樣地，樹脂層用塗佈液可視需要含有添加劑。
《溶劑》
樹脂層用塗佈液較佳為含有溶劑。
作為溶劑，較佳為選擇可使基材溶解之溶劑。越使用易使基材溶解之溶劑作為溶劑，θa1及Pa1之值越易於變大。然而，若使基材過度溶解，則基材之強度降低，由此，較佳為根據基材之種類選擇適當之溶劑。
又，溶劑較佳為除基材之溶解性以外亦將溶劑固有之蒸發速度考慮在內而選擇。溶劑蒸發之速度亦可藉由乾燥條件控制。例如，若提高乾燥溫度，則溶劑蒸發之速度變快。又，若加快乾燥風速，則溶劑蒸發之速度變快。
若溶劑之乾燥較慢，則基材之溶解進行，θa1及Pa1易於變大。又，若溶劑之乾燥較慢且乾燥時之溫度較高，則於第1樹脂層與第2樹脂層之層間，樹脂成分之移動變得劇烈，θa2及Pa2易於變大。
根據以上，較佳為將基材之溶解性、蒸發速度、乾燥條件考慮在內而選擇溶劑。
光學積層體之溶劑之種類之實施形態可設為與第1實施形態之防眩性積層體之溶劑之種類之實施形態相同之實施形態。
丙烯酸樹脂基材易於溶解於溶劑中。由此，於使用丙烯酸樹脂基材作為基材之情形時，較佳為含有溶劑固有之蒸發速度較快之溶劑。
於本說明書中，蒸發速度較快之溶劑意指於將乙酸丁酯之蒸發速度設為100時，蒸發速度為100以上之溶劑。又，於本說明書中，蒸發速度較慢之溶劑意指於將乙酸丁酯之蒸發速度設為100時，蒸發速度未達100之溶劑。
蒸發速度較快之溶劑之蒸發速度更佳為120以上且450以下，進而較佳為140以上且400以下。
作為蒸發速度較快之溶劑，例如，可列舉異丙醇（蒸發速度150）、甲基異丁基酮（蒸發速度160）、甲苯（蒸發速度200）、甲基乙基酮（蒸發速度370）。
蒸發速度較快之溶劑較佳為溶劑之總量之75質量%以上且85質量%以下。
又，為了易於在第1樹脂層及第2樹脂層形成海島構造，較佳為含有溶劑固有之蒸發速度較慢且極性較高、分子量較大之溶劑作為溶劑。關於具備上述特性之溶劑，由於塗佈液之黏性變大，故而塗佈液易於成為凝膠狀。由此，具備上述特性之溶劑可易使塗佈液之相溶性降低，因此，可易於形成海島構造。作為具備上述特性之溶劑，可列舉環己酮及二丙酮醇等。
蒸發速度較慢且極性較高、分子量較大之溶劑較佳為溶劑之總量之15質量%以上且25質量%以下。
《乾燥條件》
於由樹脂層用塗佈液形成樹脂層時，較佳為控制乾燥條件。
又，本發明之光學積層體較佳為以2個階段使樹脂層用塗佈液乾燥。具體而言，第1階段之乾燥較佳為減小乾燥風速，第2階段之乾燥較佳為增大乾燥風速。於第1階段之乾燥時，可藉由含有自基材溶出之樹脂成分作為主成分且含有少量樹脂層用塗佈液之樹脂成分之區域，形成第1樹脂層，進而，藉由含有少量自基材溶出之樹脂成分且含有樹脂層用塗佈液之樹脂成分作為主成分之區域，形成第2樹脂層。進而，藉由提高第1階段之乾燥溫度，易使樹脂成分移動，由此，可易於形成海島構造。
繼而，藉由實施第2階段之乾燥，可抑制基材過度溶解，由此，可易於抑制θa1及Pa1變得過大。
進而，於第1階段之乾燥及第2階段之乾燥中，較佳為控制乾燥時間。樹脂層用塗佈液之乾燥之乾燥時間變長，意指對樹脂層用塗佈液之樹脂成分照射游離輻射之時間變長。換言之，樹脂層用塗佈液之乾燥之乾燥時間變長，意指樹脂層用塗佈液之樹脂成分長時間保持未硬化且具有流動性之狀態。由此，若樹脂層用塗佈液之乾燥之乾燥時間變長，則於第1樹脂層與第2樹脂層之層間，樹脂成分之移動變得劇烈，θa2及Pa2易於變大，由此，不易滿足條件1B及條件2B。
乾燥條件可藉由乾燥溫度及乾燥機內之風速控制。
乾燥溫度及風速之較佳之範圍由於根據樹脂層用塗佈液之組成而不同，故而不能一概而論，較佳為設為下述條件。
＜第1階段之乾燥＞
乾燥溫度較佳為75℃以上且95℃以下，乾燥風速較佳為1 m/s以上且10 m/s以下。乾燥時間較佳為20秒以上且40秒以下。
＜第2階段之乾燥＞
乾燥溫度較佳為75℃以上且95℃以下，乾燥風速較佳為15 m/s以上且30 m/s以下。乾燥時間較佳為20秒以上且40秒以下。
為了易於藉由樹脂層用塗佈液使基材之一部分溶解，且使自基材溶出之成分與樹脂層用塗佈液充分混合，游離輻射之照射較佳為於塗佈液之乾燥後進行。
＜條件1B、條件2B＞
本發明之光學積層體需要滿足下述條件1B或條件2B。本發明之光學積層體滿足條件1B及條件2B之至少一者即可，較佳為滿足兩者。
＜條件1B＞
表示上述基材之上述樹脂層側之表面之平均傾斜角之θa1與表示上述第1樹脂層之上述第2樹脂層側之表面之平均傾斜角之θa2為θa2＜θa1之關係。
＜條件2B＞
表示上述基材之上述樹脂層側之表面之算術平均高度之Pa1與表示上述第1樹脂層之上述第2樹脂層側之表面之算術平均高度之Pa2為Pa2＜Pa1之關係。
-條件1B-
於不滿足θa2＜θa1之關係之情形時，由於θa1較小，故而不易使初期之密接性良好，或者由於θa2較大，故而不易抑制耐光性試驗後之穿透影像清晰度之變化。
於耐光性試驗前後穿透影像清晰度發生變化之原因被認為在於，於耐光性試驗之前後，第1樹脂層與第2樹脂層之界面之折射率差發生變化。本發明之光學積層體不僅存在第1樹脂層與第2樹脂層之界面，亦存在基材與第1樹脂層之界面。基材（尤其是丙烯酸樹脂基材）比較不易藉由耐光性試驗而變性。另一方面，樹脂層用塗佈液之樹脂成分比較易於藉由耐光性試驗而變性。由此，基材之樹脂成分之含量較少之第2樹脂層於耐光性試驗前後，折射率易於發生變化。另一方面，基材、及含有大量基材之樹脂成分之第1樹脂層於耐光性試驗前後，折射率不易發生變化。由此，認為於由於θa2較大故而不滿足θa2＜θa1之關係之情形時，不易抑制耐光性試驗後之穿透影像清晰度之變化。
-條件2B-
於不滿足Pa2＜Pa1之關係之情形時，由於Pa1較小，故而不易使初期之密接性良好，或者由於Pa2較大，故而不易抑制耐光性試驗後之穿透影像清晰度之變化。
於由於Pa2較大故而不滿足Pa2＜Pa1之關係之情形時，認為不易抑制耐光性試驗後之穿透影像清晰度之變化之理由為與條件1B相同之理由。
為了易使初期之密接性良好，θa1較佳為5.0度以上，更佳為8.0度以上，進而較佳為10.0度以上。為了易使鉛筆硬度良好，θa1較佳為20.0度以下，更佳為18.0度以下，進而較佳為17.0度以下。
作為θa1之較佳之範圍之實施形態，可列舉5.0度以上且20.0度以下、5.0度以上且18.0度以下、5.0度以上且17.0度以下、8.0度以上且20.0度以下、8.0度以上且18.0度以下、8.0度以上且17.0度以下、10.0度以上且20.0度以下、10.0度以上且18.0度以下、10.0度以上且17.0度以下。
為了易於抑制耐光性試驗後之穿透影像清晰度之變化，θa2較佳為10.0度以下，更佳為8.0度以下，進而較佳為6.0度以下，進而更佳為4.0度以下。
為了易使密接性良好，θa2較佳為超過0度，更佳為1.0度以上，進而較佳為2.0度以上。
作為θa2之較佳之範圍之實施形態，可列舉超過0度且為10.0度以下、超過0度且為8.0度以下、超過0度且為6.0度以下、超過0度且為4.0度以下、1.0度以上且10.0度以下、1.0度以上且8.0度以下、1.0度以上且6.0度以下、1.0度以上且4.0度以下、2.0度以上且10.0度以下、2.0度以上且8.0度以下、2.0度以上且6.0度以下、2.0度以上且4.0度以下。
為了易使初期之密接性良好，Pa1較佳為0.05 μm以上，更佳為0.07 μm以上，進而較佳為0.10 μm以上。為了易使鉛筆硬度良好，Pa1較佳為0.25 μm以下，更佳為0.23 μm以下，進而較佳為0.20 μm以下。
作為Pa1之較佳之範圍之實施形態，可列舉0.05 μm以上且0.25 μm以下、0.05 μm以上且0.23 μm以下、0.05 μm以上且0.20 μm以下、0.07 μm以上且0.25 μm以下、0.07 μm以上且0.23 μm以下、0.07 μm以上且0.20 μm以下、0.10 μm以上且0.25 μm以下、0.10 μm以上且0.23 μm以下、0.10 μm以上且0.20 μm以下。
為了易於抑制耐光性試驗後之穿透影像清晰度之變化，Pa2較佳為0.15 μm以下，更佳為0.13 μm以下，進而較佳為0.10 μm以下，進而更佳為0.06 μm以下。
為了易使密接性良好，Pa2較佳為0.02 μm以上，更佳為0.04 μm以上，進而較佳為0.05 μm以上。
作為Pa2之較佳之範圍之實施形態，可列舉0.02 μm以上且0.15 μm以下、0.02 μm以上且0.13 μm以下、0.02 μm以上且0.10 μm以下、0.04 μm以上且0.15 μm以下、0.04 μm以上且0.13 μm以下、0.04 μm以上且0.10 μm以下、0.05 μm以上且0.15 μm以下、0.05 μm以上且0.13 μm以下、0.05 μm以上且0.10 μm以下。
θa1及θa2、以及Pa1及Pa2例如可如下進行測定。
（1）藉由掃描穿透式電子顯微鏡（STEM），拍攝光學積層體之剖面照片。STEM之加速電壓較佳為設為10 kV以上且30 kV以下，STEM之倍率較佳為設為5000倍以上且10000倍以下。
（2）自剖面照片之影像，獲得基材與樹脂層之界面之稜線、及第1樹脂層與第2樹脂層之界面之稜線，獲得高度資料。具體而言，實施第1實施形態之步序（a）～（l）。基材與樹脂層之界面相當於基材之樹脂層側之表面。第1樹脂層與第2樹脂層之界面相當於第1樹脂層之第2樹脂層側之表面。
（3）由高度資料點列，按照第1實施形態之步序（m）～（q）之步序，算出平均傾斜角、算術平均高度。
於本說明書中，θa1及θa2、以及Pa1及Pa2意指20個樣品之測定值之平均值。
為了將θa1及θa2、以及Pa1及Pa2設為上述範圍，如上所述，藉由樹脂層用塗佈液使基材之一部分溶解、適當調整樹脂層用塗佈液之組成、及將樹脂層用塗佈液之乾燥條件設為適當之範圍較為重要。
[偏光板]
本發明之偏光板係具有偏光元件、配置於上述偏光元件之一側之第1透明保護板、及配置於上述偏光元件之另一側之第2透明保護板者，上述第1透明保護板及上述第2透明保護板之至少一者為選自上述本發明之第1實施形態之防眩性積層體、上述本發明之第2實施形態之防眩性積層體、及上述本發明之光學積層體中的任一防眩性積層體或光學積層體。
偏光板例如藉由將偏光板與λ/4相位差板組合，而用於賦予抗反射性。於該情形時，於影像顯示裝置之顯示元件上配置λ/4相位差板，偏光板配置於較λ/4相位差板更靠視認者側。
於將偏光板用於液晶顯示裝置之情形時，偏光板用於賦予液晶快門之功能。於該情形時，液晶顯示裝置係按照下側偏光板、液晶顯示元件、上側偏光板之順序配置，下側偏光板之偏光元件之吸收軸與上側偏光板之偏光元件之吸收軸正交配置。於上述構成中，較佳為使用本發明之偏光板作為上側偏光板。
＜透明保護板＞
本發明之偏光板之第一透明保護板及第二透明保護板之至少一者為選自上述本發明之第1實施形態之防眩性積層體、上述本發明之第2實施形態之防眩性積層體、及上述本發明之光學積層體中的任一防眩性積層體或光學積層體。較佳之實施形態為以下實施形態，即，第一透明保護板及第二透明保護板之中，光出射側之透明保護板為選自上述本發明之第1實施形態之防眩性積層體、上述本發明之第2實施形態之防眩性積層體、及上述本發明之光學積層體中的任一防眩性積層體或光學積層體。防眩性積層體及光學積層體較佳為以基材側之面為偏光元件側之方式配置。
於第一透明保護板及第二透明保護板之一者為選自上述本發明之第1實施形態之防眩性積層體、上述本發明之第2實施形態之防眩性積層體、及上述本發明之光學積層體中的任一防眩性積層體或光學積層體之情形時，另一透明保護板並無特別限定，較佳為光學各向同性之透明保護板。
於本說明書中，光學各向同性係指面內相位差為20 nm以下，較佳為10 nm以下，更佳為5 nm以下。丙烯酸膜、三乙醯纖維素（TAC）膜易於賦予光學各向同性。
＜偏光元件＞
作為偏光元件，例如，可列舉：藉由碘等染色並延伸之聚乙烯醇膜、聚乙烯甲醛膜、聚乙烯縮醛膜、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物系皂化膜等片型偏光元件，由平行排列之多個金屬線所構成之線柵型偏光元件，塗佈有溶致性液晶或二色性賓-主材料之塗佈型偏光元件，多層薄膜型偏光元件等。該等偏光元件可為具備反射不穿透之偏光成分之功能之反射型偏光元件。
＜大小、形狀等＞
本發明之偏光板之大小及形狀之實施形態可設為與上述本發明之防眩性積層體或本發明之光學積層體之大小及形狀之實施形態相同之實施形態。
[影像顯示裝置]
本發明之影像顯示裝置係於顯示元件上具有選自上述本發明之第1實施形態之防眩性積層體、上述本發明之第2實施形態之防眩性積層體、及上述本發明之光學積層體中的任一防眩性積層體或光學積層體者。
圖4、圖7、圖10係表示本發明之影像顯示裝置500之實施形態之剖視圖。圖4之影像顯示裝置500於顯示元件200上具有本發明之第1實施形態之防眩性積層體100A。圖7之影像顯示裝置500於顯示元件200上具有本發明之第2實施形態之防眩性積層體100B。圖10之影像顯示裝置500於顯示元件200上具有本發明之光學積層體100C。於影像顯示裝置內，防眩性積層體或光學積層體較佳為以基材側朝向顯示元件側之方式配置。
作為顯示元件，可列舉：液晶顯示元件；EL顯示元件（有機EL顯示元件、無機EL顯示元件）；電漿顯示元件；使用QD（Quantum dot，量子點）之顯示元件；次毫米LED（Mini LED）、微LED（Micro LED）顯示元件等LED顯示元件；等。該等顯示元件可於顯示元件之內部具有觸控面板功能。
作為液晶顯示元件之液晶之顯示方式，可列舉IPS方式、VA方式、多疇（multi-domain）方式、OCB方式、STN方式、TSTN方式等。於顯示元件為液晶顯示元件之情形時，需要背光源。背光源配置於液晶顯示元件之配置有防眩性積層體或光學積層體之側之相反側。
又，本發明之影像顯示裝置可為於顯示元件與防眩性積層體之間具有觸控面板之帶觸控面板之影像顯示裝置。於該情形時，較佳為於帶觸控面板之影像顯示裝置之最表面配置防眩性積層體或光學積層體，且以防眩性積層體或光學積層體之基材側朝向顯示元件側之方式配置。
影像顯示裝置之大小並無特別限定，較佳為有效顯示區域之最大徑為2英吋以上且500英吋以下。
影像顯示裝置之有效顯示區域係指可顯示影像之區域。例如，於影像顯示裝置具有包圍顯示元件之殼體之情形時，殼體之內側之區域為有效影像區域。
有效影像區域之最大徑係指將有效影像區域內之任意2點連結時之最大長度。例如，於有效影像區域為長方形之情形時，長方形之對角線為最大徑。又，於有效影像區域為圓形之情形時，圓之直徑為最大徑。
本發明之第1實施形態之防眩性積層體及本發明之第2實施形態之防眩性積層體之耐彎曲性優異。由此，於顯示元件上具有本發明之第1實施形態之防眩性積層體或本發明之第2實施形態之防眩性積層體之影像顯示裝置較佳為可摺疊型之影像顯示裝置或可捲曲型之影像顯示裝置。
[實施例]
接著，藉由實施例對本發明更詳細地進行說明，但本發明完全未受限於該等例。再者，「份」及「%」除非特別說明，否則為質量基準。
＜第1實施形態之防眩性積層體之實施例＞
1.測定及評價
如以下般進行實施例及比較例之防眩性積層體之測定及評價。再者，各測定及評價時之環境設為溫度23±5℃、相對濕度40%以上且65%以下。又，於各測定及評價之開始前，將對象樣品暴露於上述環境30分鐘以上後，進行測定及評價。將結果表示於表2中。關於比較例1-7之防眩性積層體，由於樹脂層為單層構造，故而於表2中，將第2樹脂層之相關數值記為「-」。
1-1.第1樹脂層及第2樹脂層之平均厚度
依據說明書本文之記載，製作實施例及比較例之防眩性積層體之剖面露出之樣品。自藉由掃描穿透式電子顯微鏡拍攝之上述樣品之剖面照片之任意部位選擇20點，藉由其平均值，算出第1樹脂層之平均厚度即t1、及第2樹脂層之平均厚度即t2。
1-2.第1粒子之位置
依據說明書本文之記載，製作實施例及比較例之防眩性積層體之剖面露出之樣品。由藉由掃描穿透式電子顯微鏡拍攝之上述樣品之剖面照片，算出遍及存在於第1樹脂層及第2樹脂層之第1粒子之個數基準之比率。於算出上述比率時，獲得複數張剖面照片直至第1粒子之合計數超過50。同時，算出僅存在於第1樹脂層之第1粒子之個數基準之比率、及僅存在於第2樹脂層之第1粒子之個數基準之比率。
1-3.基材之樹脂層側之表面之平均傾斜角、基材之樹脂層側之表面之算術平均高度
依據說明書本文之記載，製作實施例及比較例之防眩性積層體之剖面露出之樣品。由藉由掃描穿透式電子顯微鏡拍攝之上述樣品之剖面照片，依據說明書本文之記載，算出基材之樹脂層側之表面之平均傾斜角、及基材之樹脂層側之表面之算術平均高度。
1-4.壓痕硬度
依據說明書本文之記載，製作實施例及比較例之防眩性積層體之剖面露出之樣品。接著，使用測定裝置（Bruker公司，商品號：TI950），依據說明書本文之記載，對樣品之第1樹脂層之厚度方向之正中之壓痕硬度、及樣品之第2樹脂層之厚度方向之正中之壓痕硬度進行測定。將20個樣品之測定值之平均值設為各實施例及比較例之H1及H2。
1-5.總光線穿透率（Tt）及霧度（Hz）
將實施例及比較例之防眩性積層體切割成10 cm見方。關於切割部位，目視確認無污物或損傷等異常點後，自隨機之部位選擇。使用霧度計（HM-150，村上色彩技術研究所製造），對各樣品之JIS K7361-1：1997之總光線穿透率、及JIS K7136：2000之霧度進行測定。
再者，事先打開裝置之電源開關後等待15分鐘以上以使光源穩定，於入口開口（設置測定樣品之部位）不放置任何東西而進行校正，其後將測定樣品放置於入口開口，進行測定。光入射面係設為基材側。
1-6.耐彎曲性
對於實施例及比較例之防眩性積層體，使用JIS K5600-5-1：1999規定之圓筒形心軸法進行耐彎曲性試驗。將逐漸減小心軸之直徑從而防眩性積層體最初產生破裂之心軸之直徑表示於表2中。直徑為5 mm以下為合格水準。於將防眩性積層體捲繞於心軸時，基材側成為心軸側。
1-7.鉛筆硬度
製作將實施例及比較例之防眩性積層體切成50 mm×100 mm之大小所得之樣品。依據JIS K5600-5-4：1999，於負載500 g、速度1.4 mm/秒之條件，對上述樣品之樹脂層上表面之鉛筆硬度進行測定。
測定係使用東洋精機製作所之鉛筆硬度試驗機（商品號：NP型鉛筆劃痕塗膜硬度試驗機）。使用背膠牽條（mending tape，3M公司，商品號「810-3-18」），將切成之樣品之兩端部貼合於鉛筆硬度試驗機之底座。進行5次鉛筆硬度試驗，將未觀察到3次以上之損傷等外觀異常時之硬度設為各樣品之鉛筆硬度之值。例如，使用2H鉛筆，進行5次試驗，若3次未發生外觀異常，則該防眩性積層體之鉛筆硬度為2H。關於外觀異常，不包括變色，而是對損傷及凹陷進行確認。鉛筆硬度為2H以上為合格水準。
1-8.防眩性
製作於實施例及比較例之防眩性積層體之基材側經由厚度25 μm之透明黏著劑層（Panac公司，商品名「Panaclean PD-S1」，折射率1.49）貼合有黑色板（Kuraray公司，商品名「COMOGLAS DFA2CG 502K（黑）系」，總光線穿透率0%，厚度2 mm，折射率1.49）而成之樣品（樣品之大小：縱10 cm×橫10 cm）。請20位受驗者，於亮室環境下（該樣品之第一主面上之照度為500 lux以上且1000 lux以下。照明：Hf32型之直管三波長型日光色螢光燈）自與該樣品之第1主面之中心之直線距離為50 cm上方目視上述樣品，按照下述基準，對是否成功獲得觀測者自身之映入不明顯之程度之防眩性進行評價。評價時之照明位置為於鉛直方向上距離水平台向上2 m之高度。受驗者係30～40歲之視力0.7以上之健康人。
A：回答良好之人有14名以上
B：回答良好之人有7名以上且13名以下
C：回答良好之人為6名以下
2.防眩性積層體之製作
[實施例1-1]
（基材之製造）
使用雙軸擠出機於260℃將甲基丙烯酸甲酯及丙烯酸甲酯之共聚物混練，獲得顆粒狀組成物（玻璃轉移點：134℃）。對所得之顆粒狀組成物利用T字模（T字模溫度：260℃）進行熔融擠出成型，噴出至130℃之冷卻輥上。接著，於延伸溫度145℃，縱向及橫向以延伸倍率1.5倍進行逐次雙軸延伸。其後進行冷卻，獲得厚度40 μm之丙烯酸樹脂基材。
（樹脂層之形成）
於上述丙烯酸樹脂基材上，藉由邁耶棒式塗佈法（Meyer bar coating method）以6.0 g/m
2之塗佈量塗佈表1之實施例1-1之樹脂層用塗佈液後，利用風速15 m/s、溫度100℃之熱風進行60秒鐘乾燥。接著，於氧濃度200 ppm以下之氮氣環境下，以累計光量為100 mJ/cm
2之方式照射紫外線，藉此使樹脂層塗佈液之游離輻射硬化性樹脂組成物硬化，而形成第1樹脂層及第2樹脂層，從而獲得實施例1-1之防眩性積層體。於本說明書中，塗佈量意指乾燥後之塗佈量。
[實施例1-2～1-4]、[比較例1-1～1-2、1-5～1-7]
將樹脂層用塗佈液之組成、樹脂層用塗佈液之塗佈量、及樹脂層用塗佈液之乾燥條件改成表1中記載之組成等，除此以外，與實施例1-1同樣地進行，獲得實施例1-2～1-4、及比較例1-1～1-2、1-5～1-7之防眩性積層體。再者，比較例1-7之防眩性積層體其樹脂層為第1樹脂層之單層構造。
[比較例1-3]
於上述丙烯酸樹脂基材上，藉由邁耶棒式塗佈法以6.0 g/m
2之塗佈量塗佈表1之比較例1-3之第1層之樹脂層用塗佈液後，利用風速15 m/s、溫度100℃之熱風進行60秒鐘乾燥。接著，於氧濃度200 ppm以下之氮氣環境下，以累計光量為50 mJ/cm
2之方式照射紫外線，藉此使第1層之樹脂層塗佈液之游離輻射硬化性樹脂組成物硬化，而形成第1樹脂層。
繼而，於第1樹脂層上，藉由邁耶棒式塗佈法以2.0 g/m
2之塗佈量塗佈表1之比較例1-3之第2層之樹脂層用塗佈液後，利用風速15 m/s、溫度70℃之熱風進行60秒鐘乾燥。接著，於氧濃度200 ppm以下之氮氣環境下，以累計光量為100 mJ/cm
2之方式照射紫外線，藉此使第2層之樹脂層塗佈液之游離輻射硬化性樹脂組成物硬化，而形成第2樹脂層，從而獲得比較例1-3之防眩性積層體。
[比較例1-4]
將第1層及第2層之樹脂層用塗佈液之組成、第1層及第2層之樹脂層用塗佈液之塗佈量、以及第1層及第2層之樹脂層用塗佈液之乾燥條件改為表1中記載之組成等，除此以外，與比較例1-3同樣地進行，獲得比較例1-4之防眩性積層體。
[表1]
| 實施例1-1 | 實施例1-2 | 實施例1-3 | 實施例1-4 | 比較例1-1 | 比較例1-2 | 比較例1-3 | 比較例1-4 | 比較例1-5 | 比較例1-6 | 比較例1-7 | |||||
| 第1層 | 第2層 | 第1層 | 第2層 | ||||||||||||
| 樹脂層用塗佈液[質量份] | 第1粒子 | 球狀聚丙烯酸苯乙烯共聚物 3.5 μm | - | - | - | - | 2 | - | - | - | - | - | - | - | - |
| 球狀聚丙烯酸苯乙烯共聚物 2.5 μm | 2 | - | - | 2 | - | 2 | - | - | - | - | 2 | - | - | ||
| 球狀聚丙烯酸苯乙烯共聚物 2.0 μm | - | - | 2 | - | - | - | - | - | - | - | - | 2 | 2 | ||
| 球狀聚丙烯酸苯乙烯共聚物 1.5 μm | - | - | - | - | - | - | - | - | 2 | - | - | - | - | ||
| 球狀聚丙烯酸苯乙烯共聚物 1.0 μm | - | 2 | - | - | - | - | - | 2 | - | - | - | - | - | ||
| 無機微粒子 | 二氧化矽微粒子 12 nm | 1 | 1 | 1 | 1 | 1 | 1 | - | 1 | - | - | 1 | 1 | 1 | |
| 游離輻射樹脂組成物 | 游離輻射硬化性化合物 | 六官能丙烯酸胺酯低聚物 | 70 | 70 | 60 | 70 | 70 | 60 | - | 80 | - | 100 | 70 | 60 | - |
| 二官能丙烯酸酯單體 | - | - | - | - | - | - | 100 | - | 80 | - | - | - | 100 | ||
| 三官能丙烯酸酯單體 | 10 | 10 | 10 | 10 | 20 | 10 | - | 20 | 20 | - | 20 | 10 | - | ||
| 單官能丙烯酸酯單體 | 20 | 20 | 30 | 20 | 10 | 30 | - | - | - | - | 10 | 30 | - | ||
| 光聚合起始劑 | 5 | 5 | 5 | 5 | 5 | 5 | 5 | 5 | 5 | 5 | 5 | 5 | 5 | ||
| 聚矽氧系調平劑 | 0.1 | 0.1 | 0.1 | 0.1 | 0.1 | 0.1 | 0.1 | 0.1 | 0.1 | 0.1 | 0.1 | 0.1 | 0.1 | ||
| 溶劑 | 甲苯 | 75 | 75 | 75 | 75 | 75 | 75 | 90 | 105 | 75 | 105 | 90 | 90 | 90 | |
| 異丙醇 | 30 | 30 | 30 | 30 | 30 | 30 | - | - | - | - | - | - | - | ||
| 甲基異丁基酮 | 45 | 45 | 45 | 45 | 45 | 45 | 60 | 45 | 75 | 45 | 60 | 60 | 60 | ||
| 塗佈量[g/m 2] | 6.0 | 7.0 | 7.0 | 7.0 | 6.0 | 6.0 | 6.0 | 2.0 | 6.0 | 1.5 | 3.5 | 8.5 | 6.0 | ||
| 乾燥條件 | 溫度[℃] | 100 | 100 | 100 | 100 | 80 | 110 | 100 | 70 | 70 | 70 | 80 | 110 | 100 | |
| 風速[m/s] | 15 | 15 | 15 | 15 | 15 | 15 | 15 | 15 | 15 | 15 | 15 | 15 | 15 | ||
| 時間[s] | 60 | 60 | 60 | 60 | 60 | 60 | 60 | 60 | 60 | 60 | 60 | 60 | 60 |
表1中，六官能丙烯酸胺酯低聚物表示三菱化學公司之丙烯酸胺酯低聚物（商品名：紫光UV-7600B，重量平均分子量：1400），二官能丙烯酸酯單體表示四乙二醇二丙烯酸酯，三官能丙烯酸酯單體表示新戊四醇三丙烯酸酯，單官能丙烯酸酯單體表示丙烯酸4-羥基丁酯，光聚合起始劑表示IGM Resins B.V.公司之商品名「Omnirad 184」。
[表2]
| 實施例 1-1 | 實施例 1-2 | 實施例 1-3 | 實施例 1-4 | 比較例 1-1 | 比較例 1-2 | 比較例 1-3 | 比較例 1-4 | 比較例 1-5 | 比較例 1-6 | 比較例1-7 | ||
| t1 [μm] | 9.0 | 9.5 | 10.5 | 9.5 | 8.0 | 8.5 | 10 | 9 | 4 | 13 | 9.5 | |
| t2 [μm] | 1.0 | 1.5 | 0.8 | 1.5 | 3.0 | 0.5 | 1.5 | 1 | 1.5 | 0.8 | - | |
| t1/t2 | 9.0 | 6.3 | 13.1 | 6.3 | 2.7 | 17.0 | 6.7 | 9.0 | 2.7 | 16.3 | - | |
| D1 [μm] | 2.5 | 1.0 | 2.0 | 2.5 | 3.5 | 2.5 | 1.0 | 1.5 | 2.5 | 2.0 | 2.0 | |
| 第1粒子之位置[%] | 遍及存在於第1樹脂層及第2樹脂層之比率 | 87 | 80 | 75 | 90 | 85 | 76 | 0 | 0 | 92 | 72 | - |
| 僅存在於第1樹脂層之比率 | 13 | 15 | 25 | 10 | 15 | 26 | 0 | 100 | 8 | 28 | 100 | |
| 僅存在於第2樹脂層之比率 | 0 | 5 | 0 | 0 | 0 | 0 | 100 | 0 | - | - | - | |
| 平均傾斜角 [度] | 12.5 | 12.4 | 12.0 | 11.2 | 11 | 12.4 | 11.8 | 4.5 | 10.4 | 12.7 | 12.6 | |
| 算術平均高度 [μm] | 0.12 | 0.10 | 0.09 | 0.18 | 0.11 | 0.14 | 0.11 | 0.05 | 0.1 | 0.12 | 0.18 | |
| 壓痕硬度[MPa] | 第1樹脂層 | 213 | 220 | 180 | 224 | 230 | 210 | 190 | 220 | 225 | 201 | 225 |
| 第2樹脂層 | 267 | 277 | 250 | 284 | 265 | 252 | 260 | 263 | 262 | 248 | - | |
| 總光線穿透率[%] | 91.5 | 91.7 | 91.6 | 91.5 | 91.5 | 91.5 | 91.5 | 91.7 | 91.7 | 91.7 | 91.7 | |
| 霧度[%] | 1.9 | 1.1 | 1.7 | 1.8 | 2.1 | 1.8 | 1.5 | 0.4 | 1.6 | 1.6 | 1.6 | |
| 耐彎曲性 | 心軸徑[mm] | 4 | 5 | 4 | 4 | 6 | 4 | 7 | 5 | 6 | 4 | 5 |
| 鉛筆硬度 | 2H | 2H | 2H | 2H | 2H | H | 2H | 2H | H | H | HB | |
| 防眩性 | A | B | A | A | A | A | A | C | A | A | B |
根據表2之結果，可確認第1實施形態之實施例之防眩性積層體之鉛筆硬度、耐彎曲性及防眩性良好。
＜第2實施形態之防眩性積層體之實施例＞
3.測定及評價
如以下般進行實施例及比較例之防眩性積層體之測定及評價。再者，各測定及評價時之環境設為溫度23±5℃、相對濕度40%以上且65%以下。又，於各測定及評價之開始前，將對象樣品暴露於上述環境30分鐘以上後，進行測定及評價。將結果表示於表4中。
3-1.基材之樹脂層側之表面之平均傾斜角、基材之樹脂層側之表面之算術平均高度
依據說明書本文之記載，製作實施例及比較例之防眩性積層體之剖面露出之樣品。由藉由掃描穿透式電子顯微鏡拍攝之上述樣品之剖面照片，依據說明書本文之記載，算出基材之樹脂層側之表面之平均傾斜角、及基材之樹脂層側之表面之算術平均高度。
3-2.第1粒子之位置
依據說明書本文之記載，製作實施例及比較例之防眩性積層體之剖面露出之樣品。由藉由掃描穿透式電子顯微鏡拍攝之上述樣品之剖面照片，算出存在於第2區域之第1粒子之個數基準之比率。於算出上述比率時，獲得複數張剖面照片直至第1粒子之合計數超過50。
3-3.樹脂層之平均厚度
依據說明書本文之記載，製作實施例及比較例之防眩性積層體之剖面露出之樣品。自藉由掃描穿透式電子顯微鏡拍攝之上述樣品之剖面照片之任意部位選擇20點，藉由其平均值，算出樹脂層之平均厚度即t。
3-4.總光線穿透率（Tt）及霧度（Hz）
藉由與上述1-5相同之方法，對實施例及比較例之防眩性積層體之總光線穿透率及霧度進行測定。
3-5.耐彎曲性
藉由與上述1-6相同之方法，對實施例及比較例之防眩性積層體使用圓筒形心軸法進行耐彎曲性試驗。
3-6.鉛筆硬度
藉由與上述1-7相同之方法，對實施例及比較例之防眩性積層體之樹脂層上表面之鉛筆硬度進行測定。
3-7.防眩性
藉由與上述1-8相同之方法，對實施例及比較例之防眩性積層體之防眩性進行評價。
4.防眩性積層體之製作
[實施例2-1]
（基材之製造）
使用雙軸擠出機於260℃將甲基丙烯酸甲酯及丙烯酸甲酯之共聚物混練，獲得顆粒狀組成物（玻璃轉移點：134℃）。對所得之顆粒狀組成物利用T字模（T字模溫度：260℃）進行熔融擠出成型，噴出至130℃之冷卻輥上。接著，於延伸溫度145℃，縱向及橫向以延伸倍率1.5倍進行逐次雙軸延伸。其後進行冷卻，獲得厚度40 μm之丙烯酸樹脂基材。
（樹脂層之形成）
於上述丙烯酸樹脂基材上，藉由邁耶棒式塗佈法以6.0 g/m
2之塗佈量塗佈表3之實施例2-1之樹脂層用塗佈液後，利用風速1 m/s、溫度70℃之熱風進行30秒鐘乾燥，而實施第1階段之乾燥。進而，對於上述塗佈液，利用風速20 m/s、溫度70℃之熱風進行30秒鐘乾燥，而實施第2階段之乾燥。接著，於氧濃度200 ppm以下之氮氣環境下，以累計光量為100 mJ/cm
2之方式照射紫外線，藉此使樹脂層塗佈液之游離輻射硬化性樹脂組成物硬化，而形成樹脂層，從而獲得實施例2-1之防眩性積層體。於本說明書中，塗佈量意指乾燥後之塗佈量。
[實施例2-2～2-4]、[比較例2-1～2-4]
將樹脂層用塗佈液之組成、樹脂層用塗佈液之塗佈量、及樹脂層用塗佈液之乾燥條件改成表3中記載之組成等，除此以外，與實施例2-1同樣地進行，獲得實施例2-2～2-4、及比較例2-1～2-4之防眩性積層體。
[表3]
| 實施例2-1 | 實施例2-2 | 實施例2-3 | 實施例2-4 | 比較例2-1 | 比較例2-2 | 比較例2-3 | 比較例2-4 | |||
| 樹脂層用塗佈液[質量份] | 第1粒子（球狀聚丙烯酸苯乙烯共聚物 2.0 μm） | 2.0 | 2.0 | 2.0 | 2.0 | 5.0 | 1.5 | 2.0 | 2.0 | |
| 無機微粒子（二氧化矽微粒子 12 nm） | 1.0 | 1.0 | 1.0 | 1.0 | - | 1.0 | 1.0 | 1.0 | ||
| 游離輻射樹脂組成物 | 游離輻射硬化性化合物 | 六官能丙烯酸胺酯低聚物 | 70 | 70 | 70 | 70 | 70 | 50 | 60 | 70 |
| 二官能丙烯酸酯單體 | - | - | - | - | - | 50 | - | - | ||
| 三官能丙烯酸酯單體 | 10 | 10 | 10 | 10 | 20 | - | 10 | 20 | ||
| 四官能丙烯酸酯單體 | - | - | - | - | 10 | - | - | 10 | ||
| 單官能丙烯酸酯單體 | 20 | 20 | 20 | 20 | - | - | 30 | - | ||
| 光聚合起始劑 | 5 | 5 | 5 | 5 | 5 | 5 | 5 | 5 | ||
| 聚矽氧系調平劑 | 0.1 | 0.1 | 0.1 | 0.1 | 0.1 | 0.1 | 0.1 | 0.1 | ||
| 溶劑 | 甲苯 | 90 | 105 | 98 | 90 | 90 | 90 | 90 | 90 | |
| 異丙醇 | 22 | 22 | 22 | 22 | 22 | 22 | 22 | 22 | ||
| 甲基乙基酮 | 38 | 23 | 30 | 38 | 38 | - | 38 | - | ||
| 甲基異丁基酮 | - | - | - | - | - | 38 | - | 38 | ||
| 塗佈量[g/m 2] | 6.0 | 6.0 | 6.0 | 6.0 | 6.0 | 6.0 | 6.0 | 6.0 | ||
| 乾燥條件 | 第1階段 | 溫度[℃] | 70 | 70 | 80 | 80 | 100 | 70 | 80 | 80 |
| 風速[m/s] | 1 | 1 | 1 | 1 | 15 | 1 | 1 | 15 | ||
| 時間[s] | 30 | 30 | 30 | 30 | 60 | 30 | 30 | 60 | ||
| 第2階段 | 溫度[℃] | 70 | 70 | 70 | 70 | - | - | 70 | - | |
| 風速[m/s] | 20 | 20 | 20 | 20 | - | - | 20 | - | ||
| 時間[s] | 30 | 30 | 30 | 30 | - | - | 30 | - |
表3中，六官能丙烯酸胺酯低聚物表示三菱化學公司之丙烯酸胺酯低聚物（商品名：紫光UV-7600B，重量平均分子量：1400），二官能丙烯酸酯單體表示四乙二醇二丙烯酸酯，三官能丙烯酸酯單體表示新戊四醇三丙烯酸酯，四官能丙烯酸酯單體表示新戊四醇四丙烯酸酯，單官能丙烯酸酯單體表示丙烯酸4-羥基丁酯，光聚合起始劑表示IGM Resins B.V.公司之商品名「Omnirad 184」。
[表4]
| 實施例2-1 | 實施例2-2 | 實施例2-3 | 實施例2-4 | 比較例2-1 | 比較例2-2 | 比較例2-3 | 比較例2-4 | ||
| 平均傾斜角 [度] | 12.5 | 8.2 | 15.3 | 18.4 | 14.5 | 11.6 | 24.3 | 1.2 | |
| 算術平均高度 [μm] | 0.25 | 0.18 | 0.32 | 0.36 | 0.22 | 0.16 | 0.43 | 0.06 | |
| T [μm] | 8.5 | 8.0 | 8.5 | 9.0 | 8.5 | 7.5 | 9.5 | 7 | |
| D1 [μm] | 2.0 | 2.0 | 2.0 | 2.0 | 2.0 | 2.0 | 2.0 | 2.0 | |
| t/D1 | 4.3 | 4.0 | 4.3 | 4.5 | 4.3 | 3.8 | 4.8 | 3.5 | |
| 存在於第1區域之第1粒子之比率[%] | 81 | 78 | 83 | 89 | 53 | 62 | 92 | 72 | |
| 總光線穿透率[%] | 91.6 | 91.6 | 91.6 | 91.6 | 91.6 | 91.8 | 91.5 | 91.6 | |
| 霧度[%] | 2.1 | 1.8 | 2.3 | 2.5 | 3.5 | 0.4 | 2.6 | 1.9 | |
| 耐彎曲性 | 心軸徑[mm] | 4 | 5 | 4 | 4 | 6 | 5 | 4 | 6 |
| 鉛筆硬度 | 2H | 2H | 2H | 2H | 2H | 2H | H | 2H | |
| 防眩性 | A | A | A | A | A | C | A | A | |
根據表4之結果，可確認實施例之防眩性積層體之鉛筆硬度、耐彎曲性及防眩性良好。
另一方面，比較例2-1及2-2之防眩性積層體係第1粒子之個數基準之70%以上不存在於第2區域者。比較例2-1之防眩性積層體雖第1粒子之個數基準之70%以上不存在於第2區域，但第1粒子之含量較多，因此，防眩性為合格水準。但比較例2-1之防眩性積層體由於第1粒子之含量較多，故而引起耐彎曲性之降低之第1粒子與樹脂層之界面增加，由此無法抑制防眩性積層體之耐彎曲性之降低。比較例2-2之防眩性積層體由於第1粒子之個數基準之70%以上不存在於第2區域，第1粒子之含量不多，故而無法使防眩性良好。關於比較例2-1及2-2之防眩性積層體，認為第1粒子之個數基準之70%以上不存在於第2區域之理由在於，由於初期之乾燥之強度較強，故而於塗佈液之對流充分發生前溶劑揮發，因此，第1粒子難以因對流而浮至樹脂層之上方。
比較例2-3之光學積層體之基材之平均傾斜角及基材之算術平均高度較大。即，比較例2-3之光學積層體由於樹脂層內基材之成分大量溶出，故而樹脂層之硬度降低，無法使鉛筆硬度良好。關於比較例2-3之光學積層體，認為由於單官能單體之比率較多，故而基材之溶出過度進行，由此基材之平均傾斜角及基材之算術平均高度變大。
比較例2-4之光學積層體由於基材之平均傾斜角及基材之算術平均高度較小，故而基材與樹脂層之密接性變差，由此無法抑制耐彎曲性之降低。關於比較例2-4之光學積層體，認為由於不含單官能單體且不含極性較高之甲基乙基酮，故而基材之溶出不進行，基材之平均傾斜角及基材之算術平均高度變小。再者，關於比較例2-2之光學積層體，認為其雖亦不含單官能單體且不含極性較高之甲基乙基酮，但其含有大量官能基數較少之二官能單體，因此，使基材溶解。
＜光學積層體之實施例＞
5.測定及評價
如以下般進行實施例及比較例之光學積層體之測定及評價。再者，各測定及評價時之環境設為溫度23±5℃、相對濕度40%以上且65%以下。又，於各測定及評價之開始前，將對象樣品暴露於上述環境30分鐘以上後，進行測定及評價。將結果表示於表6中。
5-1.區域α1及區域β1之有無、區域α1存在於第2區域之比率
依據說明書本文之記載，製作實施例及比較例之光學積層體之剖面露出之樣品。由藉由掃描穿透式電子顯微鏡拍攝之上述樣品之剖面照片，確認區域α1及區域β1之有無。進而，算出區域α1與區域α2之面積比、及區域β1與區域β2之面積比。於第1樹脂層21內存在獨立之區域α1、區域α1所含之樹脂與區域α2所含之樹脂不同、於第2樹脂層22內存在獨立之區域β1、區域β1所含之樹脂與區域β2所含之樹脂不同可藉由照片之亮度差進行判別。
進而，算出存在於第2區域之區域α之個數基準之比率。於算出上述比率時，獲得複數張剖面照片直至區域α之合計數超過50。
5-2.θa1及θa2、以及Pa1及Pa2
依據說明書本文之記載，製作實施例及比較例之光學積層體之剖面露出之樣品。由藉由掃描穿透式電子顯微鏡拍攝之上述樣品之剖面照片，依據說明書本文之記載，算出θa1及θa2、以及Pa1及Pa2。
5-3.第1樹脂層及第2樹脂層之平均厚度
依據說明書本文之記載，製作實施例及比較例之光學積層體之剖面露出之樣品。自藉由掃描穿透式電子顯微鏡拍攝之上述樣品之剖面照片之任意部位選擇20點，藉由其平均值，算出第1樹脂層之平均厚度即t1、第2樹脂層之平均厚度即t2。
5-4.總光線穿透率（Tt）及霧度（Hz）
將實施例及比較例之光學積層體切割成10 cm見方。關於切割部位，目視確認無污物或損傷等異常點後，自隨機之部位選擇。使用霧度計（HM-150，村上色彩技術研究所製造），對各樣品之JIS K7361-1：1997之總光線穿透率、及JIS K7136：2000之霧度進行測定。
再者，事先打開裝置之電源開關後等待15分鐘以上以使光源穩定，於入口開口（設置測定樣品之部位）不放置任何東西而進行校正，其後將測定樣品放置於入口開口，進行測定。光入射面係設為基材側。
5-5.密接性
藉由下述方法，對實施例及比較例之光學積層體之密接性進行評價。
進而，對實施下述耐光性試驗後之實施例及比較例之光學積層體之密接性進行評價。
評價用樣品交叉切割成縱10方格、橫10方格之合計100方格之柵格狀。切割間隔設為1 mm。於切割時，自第2樹脂層側插入切刀刃，以切刀刃到達基材之上部之方式進行交叉切割。
於實施交叉切割之樣品之表面，貼附膠帶（米其邦股份有限公司製造，製品名「Sellotape（註冊商標）」），依據JIS K 5600-5-6：1999規定之交叉切割法，進行剝離試驗。根據剝離試驗之結果，按照下述評價基準對密接性進行評價。
＜評價基準＞
A：格子圖案中可確認剝離之交叉切割部分未達5%。
B：格子圖案中可確認剝離之交叉切割部分為5%以上且未達15%。
C：格子圖案中可確認剝離之交叉切割部分為15%以上。
＜耐光性試驗＞
於依據JIS B7751之紫外線碳弧燈式耐光性及耐候性試驗機（Suga Test Instruments公司製造之商品名「FAL-AU·B」，光源：紫外線碳弧燈，放射照度：500 W/m
2，黑面板溫度：63℃）內，以樹脂層側朝向光源之方式設置實施例及比較例之光學積層體，實施200小時之試驗。
5-6.穿透影像清晰度（JIS K7374：2007之穿透影像清晰度）
對實施例及比較例之光學積層體之穿透影像清晰度進行測定。光入射面設為基材側。測定裝置係使用Suga Test Instruments公司製造之圖像清晰度測定器（商品名：ICM-1T）。將4個光梳之寬度之穿透影像清晰度之合計量表示於表6中（單位為「%」）。4個光梳之寬度係使用0.125 mm、0.5 mm、1.0 mm及2.0 mm。
進而，對於上述耐光性試驗後之實施例及比較例之光學積層體，與上述同樣地測定穿透影像清晰度。將4個光梳之寬度之穿透影像清晰度之合計量表示於表6中（單位為「%」）。
將耐光性試驗前後之穿透影像清晰度之差表示於表6中（單位為「%」）。上述差為10.0%以下為合格水準，合格水準之中，更佳為上述差為5.0%以下。
5-7.防眩性
製作於實施例及比較例之光學積層體之基材側經由厚度25 μm之透明黏著劑層（Panac公司，商品名「Panaclean PD-S1」，折射率1.49）貼合有黑色板（Kuraray公司，商品名「COMOGLAS DFA2CG 502K（黑）系」，總光線穿透率0%，厚度2 mm，折射率1.49）而成之樣品（樣品之大小：縱20 cm×橫30 cm）。請20位受驗者，於亮室環境下（該樣品之第一主面上之照度為500 lux以上且1000 lux以下。照明：Hf32型之直管三波長型日光色螢光燈）自與該樣品之第1主面之中心之直線距離為50 cm上方目視上述樣品，按照下述基準，對是否成功獲得觀測者自身之映入不明顯之程度之防眩性進行評價。評價時之照明位置為於鉛直方向上距離水平台向上2 m之高度。受驗者係30～40歲之視力0.7以上之健康人。
A：回答良好之人有14名以上
B：回答良好之人有7名以上且13名以下
C：回答良好之人為6名以下
6.光學積層體之製作
[實施例3-1]
（基材之製造）
使用雙軸擠出機於260℃將甲基丙烯酸甲酯及丙烯酸甲酯之共聚物混練，獲得顆粒狀組成物（玻璃轉移點：134℃）。對所得之顆粒狀組成物利用T字模（T字模溫度：260℃）進行熔融擠出成型，噴出至130℃之冷卻輥上。接著，於延伸溫度145℃，縱向及橫向以延伸倍率1.5倍進行逐次雙軸延伸。其後進行冷卻，獲得厚度40 μm之丙烯酸樹脂基材。
（樹脂層之形成）
於上述丙烯酸樹脂基材上，藉由邁耶棒式塗佈法以6.0 g/m
2之塗佈量塗佈表5之實施例3-1之樹脂層用塗佈液後，利用風速5 m/s、溫度90℃之熱風進行30秒鐘乾燥，而實施第1階段之乾燥。進而，對於上述塗佈液，利用風速20 m/s、溫度90℃之熱風進行30秒鐘乾燥，而實施第2階段之乾燥。接著，於氧濃度200 ppm以下之氮氣環境下，以累計光量為100 mJ/cm
2之方式照射紫外線，藉此使樹脂層塗佈液之游離輻射硬化性樹脂組成物硬化，而形成第1樹脂層及第2樹脂層，從而獲得實施例3-1之光學積層體。於本說明書中，塗佈量意指乾燥後之塗佈量。
[實施例3-2～3-4]、[比較例3-1～3-3]
將樹脂層用塗佈液之組成、樹脂層用塗佈液之塗佈量、及樹脂層用塗佈液之乾燥條件改成表5中記載之組成等，除此以外，與實施例3-1同樣地進行，獲得實施例3-2～3-4、及比較例3-1～3-3之光學積層體。
[表5]
| 實施例 3-1 | 實施例 3-2 | 實施例 3-3 | 實施例 3-4 | 比較例 3-1 | 比較例3-2 | 比較例 3-3 | |||
| 樹脂層用塗佈液[質量份] | 第1粒子（球狀聚丙烯酸苯乙烯共聚物 2.0 μm） | 1.5 | 1.5 | 1.5 | 1.5 | 1.5 | 1.5 | 1.5 | |
| 無機微粒子（二氧化矽微粒子 12 nm） | 1.0 | 1.0 | 1.0 | 1.0 | 1.0 | 1.0 | 1.0 | ||
| 游離輻射樹脂組成物 | 游離輻射硬化性化合物 | 六官能丙烯酸胺酯低聚物 | 40 | 38 | 38 | 43 | 40 | 40 | 50 |
| 二官能丙烯酸酯單體 | 20 | 25 | 25 | 15 | 20 | 35 | - | ||
| 三官能丙烯酸酯單體 | 40 | 37 | 37 | 42 | 30 | 15 | 50 | ||
| 單官能丙烯酸酯單體 | - | - | - | - | 10 | - | - | ||
| 光聚合起始劑 | 5 | 5 | 5 | 5 | 5 | 5 | 5 | ||
| 聚矽氧系調平劑 | 0.1 | 0.1 | 0.1 | 0.1 | 0.1 | 0.1 | 0.1 | ||
| 溶劑 | 甲苯 | 60 | 60 | 60 | 60 | 60 | 60 | 45 | |
| 異丙醇 | 30 | 30 | 30 | 30 | 30 | 30 | 30 | ||
| 甲基異丁基酮 | 30 | 30 | 30 | 30 | 30 | 30 | 30 | ||
| 環己酮 | 30 | 30 | 30 | 30 | 30 | 30 | 45 | ||
| 塗佈量[g/m 2] | 6.0 | 6.0 | 6.0 | 6.0 | 6.0 | 6.0 | 6.0 | ||
| 乾燥條件 | 第1階段 | 溫度[℃] | 90 | 80 | 90 | 90 | 70 | 90 | 90 |
| 風速[m/s] | 5 | 5 | 5 | 5 | 5 | 5 | 5 | ||
| 時間[s] | 30 | 30 | 30 | 30 | 30 | 90 | 30 | ||
| 第2階段 | 溫度[℃] | 90 | 90 | 90 | 90 | 70 | 90 | 90 | |
| 風速[m/s] | 20 | 20 | 20 | 20 | 20 | 20 | 20 | ||
| 時間[s] | 30 | 30 | 30 | 30 | 30 | 60 | 30 |
表5中，六官能丙烯酸胺酯低聚物表示三菱化學公司之丙烯酸胺酯低聚物（商品名：紫光UV-7600B，重量平均分子量：1400），二官能丙烯酸酯單體表示四乙二醇二丙烯酸酯，三官能丙烯酸酯單體表示新戊四醇三丙烯酸酯，單官能丙烯酸酯單體表示丙烯酸4-羥基丁酯，光聚合起始劑表示IGM Resins B.V.公司之商品名「Omnirad 184」。
[表6]
| 實施例3-1 | 實施例3-2 | 實施例3-3 | 實施例3-4 | 比較例3-1 | 比較例3-2 | 比較例3-3 | ||
| 區域α1之有無 | 有 | 有 | 有 | 有 | 無 | 有 | 有 | |
| 區域α1與區域α2之面積比α1/（α1＋α2）×100 | 2.5 | 3.0 | 3.5 | 1.8 | - | 2.4 | 1.1 | |
| 區域α1存在於第2區域之比率[%] | 100 | 100 | 100 | 100 | - | 100 | 100 | |
| 區域β1之有無 | 有 | 有 | 有 | 有 | 有 | 有 | 有 | |
| 區域β1與區域β2之面積比β1/（β1＋β2）×100 | 21 | 18 | 15 | 12 | 10 | 32 | 10 | |
| θa1[度] | 12.5 | 10.8 | 16.5 | 8.6 | 10.4 | 11.2 | 3.5 | |
| θa2[度] | 4.5 | 6.7 | 5.7 | 3.6 | 1.5 | 24.5 | 4.6 | |
| 條件1之符合與否 | 符合 | 符合 | 符合 | 符合 | 符合 | 不符合 | 符合 | |
| Pa1[μm] | 0.13 | 0.12 | 0.18 | 0.11 | 0.10 | 0.08 | 0.03 | |
| Pa2[μm] | 0.07 | 0.07 | 0.09 | 0.06 | 0.02 | 0.21 | 0.04 | |
| 條件2之符合與否 | 符合 | 符合 | 符合 | 符合 | 符合 | 不符合 | 符合 | |
| t1[μm] | 5.0 | 4.2 | 4.4 | 3.8 | 3.0 | 4.8 | 4.0 | |
| t2[μm] | 2.2 | 2.0 | 2.2 | 2.0 | 2.5 | 1.6 | 2.0 | |
| 總光線穿透率[%] | 91.6 | 91.6 | 91.6 | 91.6 | 91.6 | 91.6 | 91.6 | |
| 霧度[%] | 1.8 | 1.2 | 1.5 | 1.5 | 1.2 | 2.2 | 1.3 | |
| 防眩性 | A | A | A | A | A | A | A | |
| 密接性 | 耐光性試驗前 | A | A | A | A | A | A | A |
| 耐光性試驗後 | A | A | A | B | C | A | C | |
| 穿透影像清晰度 | 耐光性試驗前 | 314.2 | 322.4 | 302 | 317.6 | 329.6 | 292.1 | 333.5 |
| 耐光性試驗後 | 320.1 | 329.2 | 308.2 | 322.4 | 333.1 | 308.2 | 339.3 | |
| 前後之差 | 5.9 | 6.8 | 6.2 | 4.8 | 3.5 | 16.1 | 5.8 | |
| 評價 | A | A | A | AA | AA | C | A |
根據表6之結果，可確認實施例之光學積層體可抑制耐光性試驗後之密接性之降低及穿透影像清晰度之變化。
另一方面，比較例3-1之光學積層體係第1樹脂層不具有區域α1者。由此，比較例3-1之光學積層體無法使第1樹脂層與第2樹脂層之親和性良好，耐光性試驗後之密接性降低。比較例3-1由於樹脂層用塗佈液含有單官能單體，故而相溶性良好，因此，認為不易形成海島構造，未形成區域α1。
比較例3-2之光學積層體係θa1及Pa1較大，條件1B及條件2B均未滿足者。由此，比較例3-2之光學積層體於耐光性試驗後，穿透影像清晰度發生劇烈變動。比較例3-2未滿足條件1B及條件2B之原因被認為在於，由於乾燥時間較長，故而於第1樹脂層與第2樹脂層之層間，樹脂成分之移動變得劇烈，θa2及Pa2變大。
比較例3-3之光學積層體係θa1及Pa1較小，條件1B及條件2B均未滿足者。由此，比較例3-3之光學積層體無法使耐光性試驗後之密接性良好。再者，比較例3-3之光學積層體之耐光性試驗前之密接性亦不充分。比較例3-3不滿足條件1B及條件2B之原因被認為在於，樹脂層用塗佈液不含二官能單體。
10:基材
20A:樹脂層
21A:第1樹脂層
22A:第2樹脂層
23A:第1粒子
20B:樹脂層
21B:第1區域
22B:第2區域
23B:第1粒子
20C:樹脂層
21C:第1樹脂層
22C:第2樹脂層
100A:防眩性積層體
100B:防眩性積層體
100C:光學積層體
200:顯示元件
500:影像顯示裝置
[圖1]係表示本發明之第1實施形態之防眩性積層體之一實施形態之剖視圖。
[圖2]係表示比較例1-3之防眩性積層體之剖視圖。
[圖3]係表示比較例1-4之防眩性積層體之剖視圖。
[圖4]係表示本發明之影像顯示裝置之一實施形態之剖視圖。
[圖5]係表示本發明之第2實施形態之防眩性積層體之一實施形態之剖視圖。
[圖6]係表示比較例2-2之防眩性積層體之剖視圖。
[圖7]係表示本發明之影像顯示裝置之一實施形態之剖視圖。
[圖8]係表示本發明之光學積層體之一實施形態之剖視圖。
[圖9]係對算出光學積層體之第1樹脂層之厚度方向上之區域α1之位置之方法進行說明之圖。
[圖10]係表示本發明之影像顯示裝置之一實施形態之剖視圖。
10:基材
20A:樹脂層
21A:第1樹脂層
22A:第2樹脂層
23A:第1粒子
100A:防眩性積層體
Claims (31)
- 一種防眩性積層體，其於基材上具有樹脂層， 上述樹脂層自上述基材側起具有第1樹脂層及第2樹脂層， 上述樹脂層含有平均粒徑為0.5 μm以上之第1粒子， 上述第1粒子之個數基準之70%以上遍及存在於上述第1樹脂層及上述第2樹脂層， 上述防眩性積層體滿足下述式1， 5.0＜t1/t2＜15.0 （式1） [式1中，t1表示上述第1樹脂層之平均厚度，t2表示上述第2樹脂層之平均厚度]。
- 如請求項1之防眩性積層體，其中，表示上述第1粒子之平均粒徑之D1與表示上述第2樹脂層之平均厚度之t2為t2＜D1之關係。
- 如請求項1之防眩性積層體，其中，表示上述第1粒子之平均粒徑之D1與表示上述第1樹脂層之平均厚度之t1為D1＜t1之關係。
- 如請求項1之防眩性積層體，其中，上述第1粒子為有機粒子。
- 如請求項1之防眩性積層體，其中，上述基材之上述樹脂層側之表面之平均傾斜角為5.0度以上且15.0度以下。
- 如請求項1之防眩性積層體，其中，上述基材之上述樹脂層側之表面之算術平均高度為0.05 μm以上且0.25 μm以下。
- 如請求項1之防眩性積層體，其中，表示上述第1樹脂層之厚度方向之正中之壓痕硬度之H1與表示上述第2樹脂層之厚度方向之正中之壓痕硬度之H2為H1＜H2之關係。
- 如請求項7之防眩性積層體，其中，40 MPa＜H2－H1。
- 如請求項7之防眩性積層體，其中，40 MPa＜H2－H1≦100 MPa。
- 如請求項1之防眩性積層體，其中，上述樹脂層含有硬化性樹脂組成物之硬化物。
- 如請求項1之防眩性積層體，其中，上述基材為丙烯酸樹脂基材。
- 一種防眩性積層體，其於基材上具有樹脂層， 上述樹脂層含有平均粒徑為0.5 μm以上之第1粒子， 於將較上述樹脂層之厚度方向之中心更靠上述基材側之區域定義為第1區域，將較上述樹脂層之厚度方向之中心更靠上述基材之相反側之區域定義為第2區域時，上述第1粒子之個數基準之70%以上存在於上述第2區域， 上述防眩性積層體滿足下述條件1A或條件2A： ＜條件1A＞ 上述基材之上述樹脂層側之表面之平均傾斜角為5.0度以上且20.0度以下； ＜條件2A＞ 上述基材之上述樹脂層側之表面之算術平均高度為0.10 μm以上且0.40 μm以下。
- 如請求項12之防眩性積層體，其中，表示上述第1粒子之平均粒徑之D1與表示上述樹脂層之平均厚度之t為2.0＜t/D1＜6.0之關係。
- 如請求項12之防眩性積層體，其中，上述第1粒子為有機粒子。
- 如請求項12之防眩性積層體，其中，上述樹脂層含有硬化性樹脂組成物之硬化物。
- 如請求項12之防眩性積層體，其中，上述基材為丙烯酸樹脂基材。
- 一種光學積層體，其於基材上具有樹脂層， 上述樹脂層自上述基材側起具有第1樹脂層及第2樹脂層， 上述第1樹脂層具有相互獨立之區域α1及包圍上述區域α1之區域α2，上述區域α1所含之樹脂與上述區域α2所含之樹脂不同， 上述第2樹脂層具有相互獨立之區域β1及包圍上述區域β1之區域β2，上述區域β1所含之樹脂與上述區域β2所含之樹脂不同， 上述光學積層體滿足下述條件1B或條件2B： ＜條件1B＞ 表示上述基材之上述樹脂層側之表面之平均傾斜角之θa1與表示上述第1樹脂層之上述第2樹脂層側之表面之平均傾斜角之θa2為θa2＜θa1之關係； ＜條件2B＞ 表示上述基材之上述樹脂層側之表面之算術平均高度之Pa1與表示上述第1樹脂層之上述第2樹脂層側之表面之算術平均高度之Pa2為Pa2＜Pa1之關係。
- 如請求項17之光學積層體，其中，上述θa1為5.0度以上且20.0度以下。
- 如請求項17之光學積層體，其中，上述θa2為10.0度以下。
- 如請求項17之光學積層體，其中，上述Pa1為0.05 μm以上且0.25 μm以下。
- 如請求項17之光學積層體，其中，上述Pa2為0.15 μm以下。
- 如請求項17之光學積層體，其於將較上述第1樹脂層之厚度方向之中心更靠上述基材側之區域定義為第1區域，將較上述第1樹脂層之厚度方向之中心更靠上述第2樹脂層側之區域定義為第2區域時，上述區域α1之70%以上存在於上述第2區域。
- 如請求項17之光學積層體，其中，上述區域α1所含之樹脂與上述區域β2所含之樹脂實質上相同，上述區域α2所含之樹脂與上述區域β1所含之樹脂實質上相同。
- 如請求項17之光學積層體，其中，上述樹脂層含有平均粒徑為0.5 μm以上之第1粒子。
- 如請求項24之光學積層體，其中，上述第2樹脂層含有上述第1粒子。
- 如請求項24之光學積層體，其中，上述第1粒子為有機粒子。
- 如請求項17之光學積層體，其中，上述基材為丙烯酸樹脂基材。
- 如請求項17之光學積層體，其中，上述樹脂層含有硬化性樹脂組成物之硬化物。
- 一種偏光板，其具有偏光元件、配置於上述偏光元件之一側之第1透明保護板、及配置於上述偏光元件之另一側之第2透明保護板，上述第1透明保護板及上述第2透明保護板之至少一者為選自請求項1之防眩性積層體、請求項12之防眩性積層體及請求項17之光學積層體中的任一者。
- 一種影像顯示裝置，其於顯示元件上具有選自請求項1之防眩性積層體、請求項12之防眩性積層體及請求項17之光學積層體中的任一者。
- 如請求項30之影像顯示裝置，其中，上述影像顯示裝置為可摺疊型之影像顯示裝置或可捲曲型之影像顯示裝置，且於上述顯示元件上具有請求項1之防眩性積層體或請求項12之防眩性積層體。
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