JPWO2012128333A1 - 光学積層体、偏光板及び画像表示装置 - Google Patents

Abstract

優れた帯電防止性能及び光学特性を有する光学積層体を提供する。光透過性基材と、上記光透過性基材の少なくとも一方の面上にハードコート層とを有する光学積層体であって、上記ハードコート層は、五酸化アンチモン及びウレタン樹脂を含有し、上記五酸化アンチモンは、ハードコート層中に三次元網目構造を形成して分散している光学積層体。

Description

本発明は、光学積層体、偏光板及び画像表示装置に関する。

陰極線管表示装置（ＣＲＴ）、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）、フィールドエミッションディスプレイ（ＦＥＤ）、タッチパネル、タブレットＰＣ、電子ペーパー等の画像表示装置の最表面には、防眩性、反射防止性や帯電防止性等の種々の性能を有する機能層からなる光学積層体が設けられている。

このような光学積層体の基材としては、透明性や硬度性に優れるアクリル樹脂等のプラスチック基材が使用されている。しかし、このようなプラスチック基材は、絶縁特性が高いため帯電しやすく、埃等の付着による汚れが生じ、使用する場合のみならずディスプレイ製造工程においても、帯電してしまうことにより障害が発生するといった問題があった。

このような帯電を防止するために、上記光学積層体の一部に帯電防止剤を含有した帯電防止層を設けることが、従来より行われている。
上記帯電防止剤としては、π共役系電導性有機化合物、アルミニウムや銅等の金属単体又は合金、アンチモンをドープした酸化錫（ＡＴＯ）又はスズをドープした酸化インジウム（ＩＴＯ）等の金属酸化物系の導電性超微粒子、有機電導ポリマー、４級アンモニウム塩系等の導電性微粒子が知られている（特許文献１〜５）。

しかしながら、このような帯電防止剤を使用する場合、光学積層体の導電性を高めようとすると、帯電防止剤の添加量を多くせざるを得ず、その結果、光学積層体のヘイズが増大して光透過性が低下し、充分な光学特性が得られないといった問題があった。

特開平５−３３９３０６号公報 特開平１１−４２７２９号公報 特開２００２−３７５１号公報 特開２００４−３３８３７９号公報 特開２００５−１５４７４９号公報

本発明は、上記現状に鑑み、帯電防止性能及び光透過性や低ヘイズ等の光学特性を有するとともに、硬度及び密着性にも優れる光学積層体を提供することを目的とする。

本発明は、光透過性基材と、上記光透過性基材の少なくとも一方の面上にハードコート層とを有する光学積層体であって、上記ハードコート層は、五酸化アンチモン、及び、重量平均分子量が１０００以上１万未満であり、かつ、６官能以上のウレタン（メタ）アクリレートオリゴマーを含有し、上記五酸化アンチモンの含有量が、ハードコート層中１５〜７０質量％であり、上記ウレタン（メタ）アクリレートオリゴマーの含有量が、ハードコート層の樹脂成分中３０〜７０質量％であり、上記五酸化アンチモンは、ハードコート層中に三次元網目構造を形成して分散していることを特徴とする光学積層体である。
上記ハードコート層は、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレートからなる群より選択される少なくとも１種を更に含有することが好ましい。
また、上記ハードコート層は、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレートの硬化物及び／又はジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレートを、樹脂成分中３０〜７０質量％含有することが好ましい。
本発明の光学積層体は、上記ハードコート層上に低屈折率層を更に有することが好ましい。

本発明はまた、偏光素子を備えてなる偏光板であって、上記偏光板は、偏光素子表面に上述の光学積層体を備えることを特徴とする偏光板でもある。
本発明はまた、上述の光学積層体、又は、上述の偏光板を備えることを特徴とする画像表示装置でもある。
以下、本発明を詳細に説明する。

本発明は、光透過性基材と、上記光透過性基材の少なくとも一方の面上に、ハードコート層とを有する光学積層体であって、上記ハードコート層は、五酸化アンチモンと特定のウレタン（メタ）アクリレートオリゴマーとを所定量含有し、上記五酸化アンチモンは上記ハードコート層中に特定の状態で分散していることを特徴とするものである。このため、本発明の光学積層体は、優れた帯電防止性能を有し、かつ、ヘイズが低く、光透過性及び硬度にも優れるものである。

本発明の光学積層体は、ハードコート層が五酸化アンチモン及びウレタン（メタ）アクリレートオリゴマーを含有し、上記五酸化アンチモンがハードコート層中に三次元網目構造を形成して分散している。
上記三次元網目構造とは、五酸化アンチモンが互いに導通がとれる程度に連続して隣接して分散しており、光学積層体の断面において網目状に存在しているのが観察される状態をいう。このような特定の状態で五酸化アンチモンがハードコート層中に分散して存在するため、五酸化アンチモンの添加量が少なくても、本発明の光学積層体は、優れた帯電防止性能を発揮することができる。
なお、上記三次元網目構造は、上記ハードコート層の厚み方向の断面をＴＥＭ等で観察することにより確認することができ、例えば、本発明の光学積層体では、ハードコート層の厚み方向の断面ＴＥＭ観察において、多数の五酸化アンチモンが隣接して密集した領域（密な領域）と殆ど存在しない領域（粗な領域）とが観察されるのに対し、上記五酸化アンチモンが三次元網目構造を形成していない場合、断面ＴＥＭ観察において、五酸化アンチモンはほぼ均一な分散状態で観察される。ただし、本発明の光学積層体において、ハードコート層の断面ＴＥＭ観察における上記粗な領域では、該ハードコート層に含有される五酸化アンチモンの上述した導通が断絶されることはなく、断面において、そして断面に現れない部分でも五酸化アンチモンが互いに導通がとれる程度に連続して隣接して分散している。
すなわち、本発明の光学積層体では、ハードコート層の厚み方向の断面の単位面積当たりに占める五酸化アンチモンの断面積が不均一となるのに対し、上記五酸化アンチモンが三次元網目構造を形成していない場合、ハードコート層の厚み方向の断面の単位面積当たりに占める五酸化アンチモンの断面積がほぼ均一となる。具体的には、例えば、ハードコート層における五酸化アンチモンの含有量を後述する範囲とし、上記ハードコート層の厚み方向の断面ＴＥＭ観察にて５００ｎｍ×５００ｎｍの領域を任意に１０カ所選んだとき、各領域に占める五酸化アンチモンの断面積の割合は、最も小さな領域で１〜１５％、最も大きな領域で６０〜８０％となる。これに対し、上記と同量の五酸化アンチモンが三次元網目構造を形成していないハードコート層について、上記各領域に占める五酸化アンチモンの断面積の割合を同様にして求めると、全ての領域で２０〜５０％となる。
更に、上記五酸化アンチモンがハードコート層中で上述した三次元網目構造を形成していることで、上記ハードコート層の表面抵抗値を低く（例えば、ハードコート層における五酸化アンチモンの含有量が後述する範囲の場合、１×１０^１２Ω／□未満）することができる。一方で、例えば、本発明における五酸化アンチモンと同量の帯電防止剤が、均一分散したハードコート層や、凝集体を形成しているが上述した三次元網目構造を形成していないハードコート層では、このような低い表面抵抗値が得られない。

また、本発明においては、帯電防止剤である五酸化アンチモンの添加量が少なくても優れた帯電防止性能を付与することができるので、ヘイズや光透過性に影響を与えることがなく、光学特性にも優れた光学積層体とすることができる。
以下、本発明の光学積層体の構成について説明する。

＜ハードコート層＞
本発明の光学積層体は、ハードコート層を有する。
上記ハードコート層は、五酸化アンチモン及びウレタン樹脂を含有する。また、上記ハードコート層において、上記五酸化アンチモンは、上述のように、三次元網目構造を形成するように分散している。このため、本発明の光学積層体は、帯電防止性能及び光学特性に優れる。
なお、本明細書において、上記ハードコート層とは、特に説明がない限りは硬化した塗膜層を示す。

上記五酸化アンチモンとしては、特に限定されないが、導電性が高く、少量の添加で帯電防止性能を好適に付与し得ることから、パイロクロア型構造を有するものが好ましい。
なお、上記パイロクロア型構造とは、五酸化アンチモンが正四面体をつくり、各正四面体の頂点を共有して３次元的につながった構造を意味する。
上記五酸化アンチモンは、分子中に水分子を含むことから親水性高いが、上記ウレタン（メタ）アクリレートオリゴマーは疎水性が高いため、五酸化アンチモンとウレタン（メタ）アクリレートオリゴマーとは相溶性が悪く凝集しやすい。一方で、上記パイロクロア型構造を有する上記五酸化アンチモンは、イオン伝導性の性質を持っているので、上述した三次元網目構造を形成しやすくなるのである。

上記五酸化アンチモンの平均一次粒径は、１０〜１００ｎｍであることが好ましい。１０ｎｍ未満であると、上記三次元網目構造を形成できないおそれがある。１００ｎｍを超えると、適度な凝集を起こさず、上記三次元網目構造を形成できなかったり、凝集塊が大きくなってヘイズが高くなるおそれがある。上記平均一次粒径は、３０〜７０ｎｍであることがより好ましい。
なお、上記平均一次粒径は、ヘテロダイン法により測定して得られた値である。

上記五酸化アンチモンの含有量は、ハードコート層中７〜３５質量％である。７質量％未満であると、三次元網目構造を構成せず、帯電防止性能が不充分となる。３５質量％を超えると、ヘイズが高くなったり、光透過性基材へのハードコート層の密着性が低下したりする。上記五酸化アンチモンの含有量は、ハードコート層中１０〜３０質量％であることが好ましい。

上記ウレタン（メタ）アクリレートオリゴマーとしては特に限定されず、多価アルコールと有機ポリイソシアネートとの反応によって得られる公知のものを挙げることができる。
上記多価アルコールとしては、例えば、ネオペンチルグリコール、３−メチル−１，５−ペンタンジオール、エチレングリコール、プロピレングリコール、１，４−ブタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、トリシクロデカンジメチロール、ビス−［ヒドロキシメチル］−シクロヘキサン等；上記多価アルコールと多塩基酸（例えば、コハク酸、フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、テレフタル酸、アジピン酸、アゼライン酸、テトラヒドロ無水フタル酸等）との反応によって得られるポリエステルポリオール；上記多価アルコールとε−カプロラクトンとの反応によって得られるポリカプロラクトンポリオール；ポリカーボネートポリオール（例えば、１，６−ヘキサンジオールとジフェニルカーボネートとの反応によって得られるポリカーボネートジオール等）；及び、ポリエーテルポリオールを挙げることができる。上記ポリエーテルポリオールとしては、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリテトラメチレングリコール、エチレンオキサイド変性ビスフェノールＡ等を挙げることができる。

上記有機ポリイソシアネートとしては、例えばイソホロンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、トリレンジイソシアネート、キシレンジイソシアネート、ジフェニルメタン−４，４’−ジイソシアネート、ジシクロペンタニルイソシアネート等が挙げられる。

なかでも、上記ウレタン（メタ）アクリレートオリゴマーは、上記多価アルコール及び有機ポリイソシアネートと、ヒドロキシ（メタ）アクリレート化合物との反応によって得られるウレタン（メタ）アクリレートオリゴマーであることが好ましい。なお、本明細書では、（メタ）アクリレートは、アクリレート及びメタクリレートを表す。

上記ヒドロキシ（メタ）アクリレート化合物としては、例えば、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、ジメチロールシクロヘキシルモノ（メタ）アクリレート、ヒドロキシカプロラクトン（メタ）アクリレート等が挙げられる。
なかでも、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレートであることが硬度の面から好ましい。

上記ウレタン（メタ）アクリレートオリゴマーは、重量平均分子量が、１０００以上１万未満である。１０００未満であると、五酸化アンチモンによる三次元網目構造が構成できず、帯電防止性能が不充分となる。１万以上であると、五酸化アンチモンがハードコート層を形成するための組成物の段階で凝集してしまい、分散をさせることができず該組成物の塗布ができなくなる。上記重量平均分子量は、１０００以上７０００以下であることが好ましい。
なお、上記重量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）法（ポリスチレン換算）により得られる値である。

上記ウレタン（メタ）アクリレートオリゴマーは、６官能以上である。上記ウレタン（メタ）アクリレートが６官能未満であると、ハードコート層の硬度が低くなり、光透過性基材との密着性も悪くなる。上記ウレタン（メタ）アクリレートオリゴマーの官能基数の好ましい下限は６、好ましい上限は２０である。

上記ウレタン（メタ）アクリレートオリゴマーとして、市販品を用いてもよい。本発明において上記ウレタン（メタ）アクリレートオリゴマーとして使用できる市販品としては、例えば、日本合成化学工業社製：ＵＶ１７００Ｂ（重量平均分子量２０００、１０官能）、ＵＶ７６００Ｂ（重量平均分子量１５００、６官能）、日本化薬社製：ＤＰＨＡ４０Ｈ（重量平均分子量７０００、１０官能）、ＵＸ５０００（重量平均分子量１０００、６官能）、ＵＸ５００３（重量平均分子量７０００、６官能）、根上工業社製：ＵＮ３３２０ＨＳ（重量平均分子量５０００、１５官能）、ＵＮ９０４（重量平均分子量４９００、１５官能）、ＵＮ３３２０ＨＣ（重量平均分子量１５００、１０官能）、ＵＮ３３２０ＨＡ（重量平均分子量１５００、６官能）、荒川化学工業社製：ＢＳ５７７（重量平均分子量１０００、６官能）、及び、新中村化学工業社製：Ｕ１５ＨＡ（重量平均分子量２０００、１５官能）等を挙げることができる。
なかでも、帯電防止性能、硬度、基材との密着に優れる点から、ＵＶ１７００Ｂ、ＤＰＨＡ４０Ｈ、ＵＶ７６００Ｂ、ＢＳ５７７、ＢＳ５７７ＣＰ、ＵＸ５０００が好ましい。
更に、耐久試験後のハードコート層の光透過性基材との密着性能の面から、ＵＶ１７００Ｂ、ＤＰＨＡ４０Ｈがより好ましい。

上記ウレタン（メタ）アクリレートオリゴマーの含有量は、ハードコート層の樹脂成分中３０〜７０質量％である。３０質量％未満であると、ウレタン（メタ）アクリレートオリゴマーが少ないため、ハードコート層を形成するための組成物の粘度が低く、上記五酸化アンチモンの三次元網目構造を形成できなくなり、本発明の光学積層体の帯電防止性能が悪化する。７０質量％を超えると、上記組成物の粘度が高くなり、ハードコート層を形成できなくなる。
上記ウレタン（メタ）アクリレートオリゴマーの含有量は、ハードコート層の樹脂成分中３０〜５０質量％であることがより好ましい。

上記ハードコート層はまた、上記ウレタン（メタ）アクリレートオリゴマー以外の樹脂を更に含んでいてもよい。
上記ウレタン（メタ）アクリレートオリゴマー以外の樹脂としては、例えば、紫外線若しくは電子線により硬化する樹脂である電離放射線硬化型樹脂、電離放射線硬化型樹脂と溶剤乾燥型樹脂（熱可塑性樹脂等、塗工時に固形分を調整するために添加した溶剤を乾燥させるだけで、被膜となるような樹脂）との混合物、又は、熱硬化型樹脂を挙げることができる。より好ましくは電離放射線硬化型樹脂である。なお、本明細書において、「樹脂」は、モノマー、オリゴマー等の樹脂成分も包含する概念である。

上記電離放射線硬化型樹脂としては、例えば、アクリレート系の官能基を有する化合物等の１又は２以上の不飽和結合を有する化合物を挙げることができる。１の不飽和結合を有する化合物としては、例えば、エチル（メタ）アクリレート、エチルヘキシル（メタ）アクリレート、スチレン、メチルスチレン、Ｎ−ビニルピロリドン等を挙げることができる。２以上の不飽和結合を有する化合物としては、例えば、ポリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオール（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート等の多官能化合物、及び、上記多官能化合物と（メタ）アクリレート等との反応生成物（例えば、多価アルコールのポリ（メタ）アクリレートエステル）、上記多官能化合物の変性物等を挙げることができる。

また、上記電離放射線硬化型樹脂として、不飽和二重結合を有する比較的低分子量のポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリチオールポリエン樹脂等も使用することができる。

バインダー樹脂として含有し得る上記ウレタン（メタ）アクリレートオリゴマー以外の樹脂としては、耐擦傷性、耐溶剤性に優れ、かつ、強靭な硬化塗膜を形成し得るようにできる点で、具体的には、ジメチロールトリシクロデカンジアクリレート、（エトキシ化）ビスフェノールＡジアクリレート、（プロポキシ化）ビスフェノールＡジアクリレート、シクロヘキサンジメタノールジアクリレート、（ポリ）エチレングリコールジアクリレート、（エトキシ化）１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、（プロポキシ化）１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、（エトキシ化）ネオペンチルグリコールジアクリレート、（プロポキシ化）ネオペンチルグリコールジアクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジアクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、プロピレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリス（アクリロキシエチル）イソシアヌレート、カプロラクトン変性トリス（アクリロキシエチル）イソシアヌレート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，２，３−シクロヘキサンテトラ（メタ）アクリレート等の多価アルコールと（メタ）アクリル酸とのエステル化合物；ポリウレタンポリ（メタ）アクリレート、ポリエステルポリ（メタ）アクリレート、ポリエーテルポリ（メタ）アクリレート、ポリアクリルポリ（メタ）アクリレート、ポリアルキッドポリ（メタ）アクリレート、ポリエポキシポリ（メタ）アクリレート、ポリスピロアセタールポリ（メタ）アクリレート、ポリブタジエンポリ（メタ）アクリレート、ポリチオールポリエンポリ（メタ）アクリレート、ポリシリコンポリ（メタ）アクリレート等の多官能のポリ（メタ）アクリレート化合物が好ましい。
なかでも、上記ハードコート層は、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、及び、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレートからなる群より選択される少なくとも一種の化合物を更に含有することがより好ましい。

上記ウレタン（メタ）アクリレートオリゴマー以外の樹脂の含有量は、ハードコート層中３０〜７０質量％であることが好ましい。３０質量％未満であると、ハードコート層の膜質が弱く、傷が入りやすくなるおそれがある。また、ハードコート層の光透過性基材との密着性が悪化するおそれがある。７０質量％を超えると、帯電防止性能が発揮されなくなる（上記五酸化アンチモンの三次元網目構造を形成できなくなる）おそれがある。また、ハードコート層の上に、別の層を積層する際、層間の密着性が悪化してしまうおそれがある。
上記ウレタン（メタ）アクリレートオリゴマー以外の樹脂の含有量は、ハードコート層中５０〜７０質量％であることがより好ましい。

上記ハードコート層は、上述した五酸化アンチモン、ウレタン（メタ）アクリレートオリゴマー及びウレタン（メタ）アクリレートオリゴマー以外の樹脂の他に、必要に応じて、その他の成分を含んでいてもよい。上記その他の成分としては、光重合開始剤、レベリング剤、重合促進剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤、屈折率調整剤等を挙げることができる。

上記ハードコート層は、層厚みが０．５〜８μｍであることが好ましい。０．５μｍ未満であると、鉛筆硬度や耐スクラッチ性が悪くなることがある。また、単位面積当たりの粒子総量が少なくなるため、帯電防止性が悪化してしまうおそれがある。８μｍを超えると、ヘイズが高く、全光線透過率が低くなり、カールやクラックが発生することがあり、また、製造コストの上昇ともなる。
上記層厚みは、１〜４μｍであることがより好ましい。

上記ハードコート層は、上記五酸化アンチモン、ウレタン（メタ）アクリレートオリゴマー、及び、必要に応じてウレタン（メタ）アクリレートオリゴマー以外の樹脂と他の成分とを溶剤に混合して分散して調製したハードコート層用組成物を用いて形成することができる。

上記溶剤としては、アルコール（例、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロピルアルコール、ｎ−ブタノール、ｓ−ブタノール、ｔ−ブタノール、ベンジルアルコール、ＰＧＭＥ、エチレングリコール）、ケトン（例、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、ヘプタノン、ジイソブチルケトン、ジエチルケトン）、脂肪族炭化水素（例、ヘキサン、シクロヘキサン）、ハロゲン化炭化水素（例、メチレンクロライド、クロロホルム、四塩化炭素）、芳香族炭化水素（例、ベンゼン、トルエン、キシレン）、アミド（例、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ｎ−メチルピロリドン）、エーテル（例、ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン）、エステル（例、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、ＰＧＭＥＡ）等を挙げることができる。
なかでも、上記溶剤としては、五酸化アンチモンの分散性が良い点で、ＰＧＭＥが好ましい。上記ＰＧＭＥは、上記溶剤中に１５質量％以上含まれることが好ましい。

上記混合分散する方法としては、特に限定されず、公知の方法を用いることができ、ペイントシェーカー、ビーズミル、ニーダー等の公知の装置を使用して行うとよい。

上記ハードコート層は、上記ハードコート層用組成物を、後述する光透過性基材上に塗布して塗膜を形成し、必要に応じて該塗膜を乾燥させた後に、硬化させることにより形成することができる。
上記塗布の方法としては、例えば、スピンコート法、ディップ法、スプレー法、ダイコート法、バーコート法、ロールコーター法、メニスカスコーター法、フレキソ印刷法、スクリーン印刷法、ビードコーター法等の公知の各種方法を挙げることができる。
上記乾燥の方法としては、５０〜１００℃で１５〜１２０秒行うのが好ましい。

上記塗膜を硬化させる方法は、上記組成物の内容等に応じて適宜選択すれば良い。例えば、上記組成物が紫外線硬化型のものであれば、塗膜に紫外線を照射することにより硬化させれば良い。
このようにして形成されたハードコート層は、五酸化アンチモンが三次元網目構造を形成して分散したものとなる。この理由は明確ではないが、上述したように、ハードコート層用組成物における五酸化アンチモンとして、パイロクロア構造を有するものとすることで、ウレタン（メタ）アクリレートオリゴマーとの相溶性が悪化して凝集しやすくなるが、該パイロクロア構造を有する五酸化アンチモンは、イオン伝導性の性質をもっているので上記三次元網目構造を形成しやすくなるからであると推測される。

本発明の光学積層体におけるハードコート層は、上述したように、五酸化アンチモン及びウレタン（メタ）アクリレートオリゴマーを含む特定の成分からなり、該ハードコート層において、五酸化アンチモンが三次元網目構造を形成するように分散した状態で存在する。その結果、帯電防止性能、光学特性及び硬度に優れた光学積層体とすることができる。また、このようにして得られたハードコート層は、高屈折率材料（アンチモン）の添加量が少なくてすむ。

＜光透過性基材＞
本発明の光学積層体は、光透過性基材を有する。
上記光透過性基材としては、透過率が高く、平滑性、耐熱性を備え、機械的強度に優れたものが好ましい。
上記光透過性基材を形成する材料の具体例としては、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリブチレンナフタレート、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）、セルロースジアセテート、セルロースアセテートブチレート、ポリアミド、ポリイミド、ポリエーテルスルフォン、ポリスルフォン、ポリプロピレン（ＰＰ）、シクロオレフィンポリマー（ＣＯＰ）、シクロオレフィンコポリマー（ＣＯＣ）、ポリメチルペンテン、ポリ塩化ビニル、ポリビニルアセタール、ポリエーテルケトン、ポリメタクリル酸メチル、ポリカーボネート、又は、ポリウレタン等の熱可塑性樹脂が挙げられる。好ましくは、ポリエチレンテレフタレートを挙げることができる。

上記光透過性基材の厚さは、４〜３００μｍであることが好ましく、より好ましくは下限が５μｍであり、上限が２００μｍである。
上記光透過性基材は、その上に形成する層との接着性を向上させるために、コロナ放電処理、ケン化、酸化処理等の物理的な処理の他、アンカー剤又はプライマー等の塗料の塗布を予め行ってもよい。

＜低屈折率層＞
本発明の光学積層体は、更に、低屈折率層を有することが好ましい。
上記低屈折率層を形成することにより、反射防止性に優れた光学積層体とすることができる。

上記低屈折率層は、上記ハードコート層よりも低い屈折率を有するものが好ましい。本発明の好ましい態様によれば、上記ハードコート層の屈折率が１．５以上であり、上記低屈折率層の屈折率が１．５未満である。上記ハードコート層の屈折率は、より好ましくは１．５５以上、更に好ましくは１．５８以上である。上記低屈折率層の屈折率は、より好ましくは１．４２以下、更に好ましくは１．３７以下である。

上記低屈折率層は、１）シリカ又はフッ化マグネシウムを含有する樹脂、２）低屈折率樹脂であるフッ素系材料、３）シリカ又はフッ化マグネシウムを含有するフッ素系材料、４）シリカ又はフッ化マグネシウムの薄膜、等のいずれかで構成されていてもよい。

上記フッ素系材料とは、少なくとも分子中にフッ素原子を含む重合性化合物又はその重合体である。上記重合性化合物としては、特に限定されないが、例えば、電離放射線で硬化する官能基（電離放射線硬化性基）や熱で硬化する極性基（熱硬化極性基）等の硬化反応性の基を有するものが好ましい。また、これらの反応性の基を同時に併せ持つ化合物でもよい。

フッ素原子を含有する電離放射線硬化性基を有する重合性化合物としては、エチレン性不飽和結合を有するフッ素含有モノマーを広く用いることができる。より具体的には、フルオロオレフィン類（例えばフルオロエチレン、ビニリデンフルオライド、テトラフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、パーフルオロブタジエン、パーフルオロ−２，２−ジメチル−１，３−ジオキソールなど）を例示することができる。（メタ）アクリロイルオキシ基を有するものとして、２，２，２−トリフルオロエチル（メタ）アクリレート、２，２，３，３，３−ペンタフルオロプロピル（メタ）アクリレート、２−（パーフルオロブチル）エチル（メタ）アクリレート、２−（パーフルオロヘキシル）エチル（メタ）アクリレート、２−（パーフルオロオクチル）エチル（メタ）アクリレート、２−（パーフルオロデシル）エチル（メタ）アクリレート、α−トリフルオロメタクリル酸メチル、α−トリフルオロメタクリル酸エチルのような、分子中にフッ素原子を有する（メタ）アクリレート化合物；分子中に、フッ素原子を少なくとも３個持つ炭素数１〜１４のフルオロアルキル基、フルオロシクロアルキル基又はフルオロアルキレン基と、少なくとも２個の（メタ）アクリロイルオキシ基とを有する含フッ素多官能（メタ）アクリル酸エステル化合物などもある。

フッ素原子を含有する熱硬化性極性基を有する重合性化合物としては、例えば、４−フルオロエチレン−パーフルオロアルキルビニルエーテル共重合体；フルオロエチレン−炭化水素系ビニルエーテル共重合体；エポキシ、ポリウレタン、セルロース、フェノール、ポリイミド等の各樹脂のフッ素変性品などを例示することができる。上記熱硬化性極性基としては、例えば、水酸基、カルボキシル基、アミノ基、エポキシ基等の水素結合形成基が好ましく挙げられる。これらは、塗膜との密着性だけでなく、シリカなどの無機超微粒子との親和性にも優れている。

電離放射線硬化性基と熱硬化性極性基とを併せ持つ重合性化合物（フッ素系樹脂）としては、アクリル又はメタクリル酸の部分及び完全フッ素化アルキル、アルケニル、アリールエステル類、完全または部分フッ素化ビニルエーテル類、完全または部分フッ素化ビニルエステル類、完全または部分フッ素化ビニルケトン類等を例示することができる。

フッ素原子を含有する上記重合性化合物の重合体としては、例えば、上記電離放射線硬化性基を有する重合性化合物の含フッ素（メタ）アクリレート化合物を少なくとも１種類含むモノマー又はモノマー混合物の重合体；含フッ素（メタ）アクリレート化合物の少なくとも１種類と、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレートの如き分子中にフッ素原子を含まない（メタ）アクリレート化合物との共重合体；フルオロエチレン、フッ化ビニリデン、トリフルオロエチレン、クロロトリフルオロエチレン、３，３，３−トリフルオロプロピレン、１，１，２−トリクロロ−３，３，３−トリフルオロプロピレン、ヘキサフルオロプロピレンのような含フッ素モノマーの単独重合体又は共重合体；などが挙げられる。

また、これらの共重合体にシリコーン成分を含有させたシリコーン含有フッ化ビニリデン共重合体も、上記重合性化合物の重合体として用いることができる。この場合のシリコーン成分としては、（ポリ）ジメチルシロキサン、（ポリ）ジエチルシロキサン、（ポリ）ジフェニルシロキサン、（ポリ）メチルフェニルシロキサン、アルキル変性（ポリ）ジメチルシロキサン、アゾ基含有（ポリ）ジメチルシロキサンや、ジメチルシリコーン、フェニルメチルシリコーン、アルキル・アラルキル変性シリコーン、フルオロシリコーン、ポリエーテル変性シリコーン、脂肪酸エステル変性シリコーン、メチル水素シリコーン、シラノール基含有シリコーン、アルコキシ基含有シリコーン、フェノール基含有シリコーン、メタクリル変性シリコーン、アクリル変性シリコーン、アミノ変性シリコーン、カルボン酸変性シリコーン、カルビノール変性シリコーン、エポキシ変性シリコーン、メルカプト変性シリコーン、フッ素変性シリコーン、ポリエーテル変性シリコーン等が例示できる。中でもジメチルシロキサン構造を有するものが好ましい。

上記したほか、さらには、分子中に少なくとも１個のイソシアナト基を有する含フッ素化合物と、アミノ基、ヒドロキシル基、カルボキシル基等のイソシアナト基と反応する官能基を分子中に少なくとも１個有する化合物とを反応させて得られる化合物；フッ素含有ポリエーテルポリオール、フッ素含有アルキルポリオール、フッ素含有ポリエステルポリオール、フッ素含有ε−カプロラクトン変性ポリオール等のフッ素含有ポリオールと、イソシアナト基を有する化合物とを反応させて得られる化合物；なども、フッ素系樹脂として用いることができる。

低屈折率層の形成にあっては、例えば原料成分を含む組成物（屈折率層用組成物）を用いて形成することができる。より具体的には、原料成分（樹脂等）及び必要に応じて添加剤（例えば、後述の「空隙を有する微粒子」、重合開始剤、帯電防止剤、防汚剤、防眩剤等）を溶剤に溶解又は分散してなる溶液又は分散液を、低屈折率層用組成物として用い、上記組成物による塗膜を形成し、上記塗膜を硬化させることにより低屈折率層を得ることができる。なお、重合開始剤、帯電防止剤、防汚剤、防眩剤等の添加剤は、公知のものを使用することができる。また、有機帯電防止剤を添加することで帯電防止性能を付与できる。

上記溶剤としては、上述のハードコート層の形成において使用できる溶剤と同様の溶剤を挙げることができる。なかでも、メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）、イソプロピルアルコール（ＩＰＡ）、ｎ−ブタノール、ｓ−ブタノール、ｔ−ブタノール、プロピレングリコールモノメチルエーテル（ＰＧＭＥ）、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）が好ましい。

上記低屈折率層用組成物の調製方法は、成分を均一に混合できれば良く、公知の方法に従って実施すれば良い。例えば、上記ハードコート層の形成で上述した公知の装置を使用して混合分散することができる。
低屈折率層の形成方法は、公知の方法に従うとよい。例えば、上記ハードコート層の形成で上述した各種方法を用いることができる。

上記低屈折率層においては、低屈折率剤として、「空隙を有する微粒子」を利用することが好ましい。「空隙を有する微粒子」は低屈折率層の層強度を保持しつつ、その屈折率を下げることができる。本発明において、「空隙を有する微粒子」とは、微粒子の内部に気体が充填された構造及び／又は気体を含む多孔質構造体を形成し、微粒子本来の屈折率に比べて微粒子中の気体の占有率に反比例して屈折率が低下する微粒子を意味する。また、本発明にあっては、微粒子の形態、構造、凝集状態、被膜内部での微粒子の分散状態により、内部、及び／又は表面の少なくとも一部にナノポーラス構造の形成が可能な微粒子も含まれる。この微粒子を使用した低屈折率層は、屈折率を１．２５〜１．４２に調節することが可能である。

空隙を有する無機系の微粒子としては、例えば、特開２００１−２３３６１１号公報に記載された方法によって調製されたシリカ微粒子を挙げることができる。また、特開平７−１３３１０５号公報、特開２００２−７９６１６号公報、特開２００６−１０６７１４号公報等に記載された製法によって得られるシリカ微粒子であってもよい。空隙を有するシリカ微粒子は製造が容易でそれ自身の硬度が高いため、バインダーと混合して低屈折率層を形成した際、その層強度が向上され、かつ、屈折率を１．２０〜１．４５程度の範囲内に調整することを可能とする。特に、空隙を有する有機系の微粒子の具体例としては、特開２００２−８０５０３号公報で開示されている技術を用いて調製した中空ポリマー微粒子が好ましく挙げられる。

被膜の内部及び／又は表面の少なくとも一部にナノポーラス構造の形成が可能な微粒子としては先のシリカ微粒子に加え、比表面積を大きくすることを目的として製造され、充填用のカラム及び表面の多孔質部に各種化学物質を吸着させる除放材、触媒固定用に使用される多孔質微粒子又は断熱材や低誘電材に組み込むことを目的とする中空微粒子の分散体や凝集体を挙げることができる。そのような具体的としては、市販品として日本シリカ工業社製の商品名ＮｉｐｓｉｌやＮｉｐｇｅｌの中から多孔質シリカ微粒子の集合体、日産化学工業社製のシリカ微粒子が鎖状に繋がった構造を有するコロイダルシリカＵＰシリーズ（商品名）から、本発明の好ましい粒子径の範囲内のものを利用することが可能である。

「空隙を有する微粒子」の平均粒子径は、５ｎｍ以上３００ｎｍ以下であることが好ましく、下限が５ｎｍであり上限が１００ｎｍであることがより好ましく、下限が１０ｎｍであり上限が８０ｎｍであることが更に好ましい。微粒子の平均粒子径がこの範囲内にあることにより、低屈折率層に優れた透明性を付与することが可能となる。なお、上記平均粒子径は、動的光散乱法によって測定した値である。「空隙を有する微粒子」は、上記低屈折率層中にマトリックス樹脂１００質量部に対して、通常０．１〜５００質量部程度、１０〜２００質量部程度とするのが好ましい。

低屈折率層の形成においては、上記低屈折率層用組成物の粘度は、好ましい塗布性が得られる０．５〜５ｃｐｓ（２５℃）の範囲であることが好ましく、より好ましくは０．７〜３ｃｐｓ（２５℃）である。上記範囲の粘度とすることにより、可視光線の優れた反射防止膜を実現でき、かつ、均一で塗布ムラのない薄膜を形成することができ、かつ基材に対する密着性に特に優れた低屈折率層を形成することができる。

樹脂の硬化手段は、上記ハードコート層で説明した方法と同様であってよい。硬化処理のために光照射手段が利用される場合には、光照射により、例えばラジカルを発生して重合性化合物の重合を開始させる光重合開始剤がフッ素系樹脂組成物に添加されることが好ましい。

低屈折率層の膜厚（ｎｍ）ｄ_Ａは、下記式（Ｉ）：
ｄ_Ａ＝ｍλ／（４ｎ_Ａ） （Ｉ）
（上記式中、
ｎ_Ａは低屈折率層の屈折率を表し、
ｍは正の奇数を表し、好ましくは１を表し、
λは波長であり、好ましくは４８０〜５８０ｎｍの範囲の値である）
を満たすものが好ましい。

また、本発明にあっては、低屈折率層は下記式（ＩＩ）：
１２０＜ｎ_Ａｄ_Ａ＜１４５ （ＩＩ）
を満たすことが低反射率化の点で好ましい。

＜他の層＞
上記光学積層体は、上述した光透過性基材、ハードコート層、及び、低屈折率層の他に、他の任意の層を有していてもよい。上記任意の層としては、防眩層、防汚層、高屈折率層、中屈折率層、帯電防止層等を挙げることができる。これらの層は、公知の防眩剤、低屈折率剤、高屈折率剤、帯電防止剤、防汚剤等と樹脂及び溶剤等とを混合して、公知の方法により形成するとよい。なかでも、防汚層を更に形成することが好ましい。

＜光学積層体＞
本発明の光学積層体は、ＪＩＳ Ｋ５６００−５−４（１９９９）による鉛筆硬度試験（荷重４．９Ｎ）において、Ｈ以上であることが好ましく、２Ｈ以上であることがより好ましく、３Ｈ以上であることが更に好ましい。

本発明の光学積層体は、表面抵抗値が１０^１２Ω／□以下であることが好ましい。
１０^１２Ω／□を超えると、目的とする帯電防止性能が発現しなくなるおそれがある。上記表面抵抗値は、１０^１１Ω／□以下であることがより好ましく、１０^１０Ω／□以下であることが更に好ましい。
上記表面抵抗値は、表面抵抗値測定器（三菱化学社製、製品番号；Ｈｉｒｅｓｔａ ＩＰ ＭＣＰ−ＨＴ２６０）にて測定することができる。

本発明の光学積層体は、全光線透過率が９０％以上であることが好ましい。９０％未満であると、本発明の光学積層体を画像表示装置の表面に装着した場合において、色再現性や視認性を損なうおそれがある。上記全光線透過率は、９５％以上であることがより好ましい。
上記全光線透過率は、ヘイズメーター（村上色彩技術研究所製、製品番号；ＨＭ−１５０）を用いてＪＩＳ Ｋ−７３６１に準拠した方法により測定することができる。

本発明の光学積層体は、ヘイズが０．７％以下であることが好ましい。０．７％を超えると、ディスプレイ表面に装着した場合において、光透過性が低下したり視認性を損なうおそれがある他、所望のコントラストが得られないおそれがある。上記ヘイズは、０．２〜０．７％の範囲であることがより好ましい。
上記ヘイズは、ヘイズメーター（村上色彩技術研究所製、製品番号；ＨＭ−１５０）を用いてＪＩＳ Ｋ−７１３６に準拠した方法により測定することができる。

本発明の光学積層体を製造する方法としては、光透過性基材上にハードコート層用組成物を用いてハードコート層を形成し、形成されたハードコート層上に低屈折率層用組成物を用いて低屈折率層を形成する方法が挙げられる。
上記ハードコート層用組成物及びハードコート層は、上述した材料又は形成方法と同様の材料及び形成方法により得ることができる。
上記低屈折率層用組成物及び低屈折率層もまた、上述した材料又は形成方法と同様の材料及び形成方法により得ることができる。

＜偏光板及び画像表示装置＞
本発明の光学積層体は、偏光素子の表面に、上記光学積層体の、光透過性基材のハードコート層が存在する面と反対側の面側を、設けることによって、偏光板とすることができる。このような偏光板もまた本発明の一つである。

上記偏光素子としては特に限定されず、例えば、ヨウ素等により染色し、延伸したポリビニルアルコールフィルム、ポリビニルホルマールフィルム、ポリビニルアセタールフィルム、エチレン−酢酸ビニル共重合体系ケン化フィルム等を使用することができる。上記偏光素子と上記光学積層体とのラミネート処理においては、光透過性基材にケン化処理を行うことが好ましい。ケン化処理によって、接着性が良好になり帯電防止効果も得ることができる。また、粘着剤を使用して接着させてもよい。上記粘着剤としては、例えば、アクリル系粘着剤、ウレタン粘着剤、シリコーン系粘着剤、又は、水系粘着剤等を挙げることができる。

本発明の光学積層体及び上記偏光板は、画像表示装置に備えることができる。このような画像表示装置もまた本発明の一つである。
上記画像表示装置は、ＬＣＤ、ＰＤＰ、ＦＥＤ、ＥＬＤ（有機ＥＬ、無機ＥＬ）、ＣＲＴ、タッチパネル、電子ペーパー、タブレットＰＣ等が挙げられる。

ＬＣＤは、透過性表示体と、上記透過性表示体を背面から照射する光源装置とを備えてなるものである。本発明の画像表示装置がＬＣＤである場合、この透過性表示体の表面に、上記光学積層体又は上記偏光板が形成されてなるものである。

本発明の光学積層体を有する液晶表示装置の場合、光源装置の光源は光学積層体の光透過性基材側から照射される。なお、ＳＴＮ型、ＶＡ型、ＩＰＳ型の液晶表示装置には、液晶表示素子と偏光板との間に、位相差板が挿入されてよい。この液晶表示装置の各層間には必要に応じて接着剤層が設けられてよい。

ＰＤＰは、表面ガラス基板（表面に電極を形成）と当該表面ガラス基板に対向して間に放電ガスが封入されて配置された背面ガラス基板（電極及び、微小な溝を表面に形成し、溝内に赤、緑、青の蛍光体層を形成）とを備えてなるものである。本発明の画像表示装置がＰＤＰである場合、上記表面ガラス基板の表面、又はその前面板（ガラス基板又はフィルム基板）に上述した光学積層体を備えるものでもある。

その他の画像表示装置は、電圧をかけると発光する硫化亜鉛、ジアミン類物質：発光体をガラス基板に蒸着し、基板にかける電圧を制御して表示を行うＥＬＤ装置、又は、電気信号を光に変換し、人間の目に見える像を発生させるＣＲＴなどの画像表示装置であってもよい。この場合、上記のような各表示装置の最表面又はその前面板の表面に上述した光学積層体を備えるものである。

本発明の光学積層体は、いずれの場合も、テレビジョン、コンピュータなどのディスプレイ表示に使用することができる。特に、液晶パネル、ＰＤＰ、ＥＬＤ、ＦＥＤ、タッチパネル、電子ペーパーなどの高精細画像用ディスプレイの表面に好適に使用することができる。

本発明の光学積層体は、上述した構成からなるものであるため、帯電防止性能及び光学特性に優れたものである。
このため、本発明の防眩性は、陰極線管表示装置（ＣＲＴ）、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）等のディスプレイ、特に高精細化ディスプレイに好適に使用することができる。

実施例１に係る光学積層体のハードコート層の断面ＴＥＭ写真である。 比較例１に係る光学積層体のハードコート層の断面ＴＥＭ写真である。

以下に実施例及び比較例を掲げて本発明を更に詳しく説明するが、本発明はこれら実施例及び比較例のみに限定されるものではない。
なお、文中、「部」又は「％」とあるのは特に断りのない限り、質量基準である。

（実施例１）
Ｃ４１０６（ペルノックス社製、ＵＶ硬化型導電性ハードコートインキ、固形分約３２％、五酸化アンチモン分散体）に、ＵＶ−７６００Ｂ［日本合成化学工業社製；ＵＶ硬化型ウレタンアクリレート／ペンタエリスリトールトリアクリレート（ＰＥＴＡ）＝６５／３５（質量比）の混合体］、及び、Ｉｒｇ１８４（チバ・ジャパン社製、光重合開始剤）を添加し、下記混合溶剤にて固形分が４５％になるように再調整してハードコート層用組成物を得た。得られたハードコート層用組成物の配合比率を表１に示す。
混合溶剤：ＰＧＭＥ／ＭＥＫ／ＩＰＡ／アセチルアセトン＝６５／２４／５／６
ＰＧＭＥ、ＭＥＫ、ＩＰＡ：ザ・インクテック社製
アセチルアセトン：ダイセル化学工業社製
上記ハードコート層用組成物を、Ａ１５９８（東洋紡績社製、ＰＥＴフィルム、厚み１００μｍ）の易接着面に乾燥重量６ｇ／ｍ^２、厚み３μｍで塗布して塗膜を形成し、オーブンにて７０℃で１分間加熱して該塗膜を乾燥させ、塗膜に紫外線１００ｍＪ／ｃｍ^２を照射して該塗膜を硬化させてハードコート層を作製した。
次に、形成したハードコート層の上に、下記組成の低屈折率層用組成物を、乾燥後（７０℃×１分）の膜厚が０．１μｍとなるように塗布し、塗膜を形成した。そして、紫外線照射装置（フュージョンＵＶシステムジャパン社製、光源Ｈバルブ）を用いて、照射線量２００ｍＪ／ｃｍ^２で紫外線照射を行って該塗膜硬化させて、実施例１の光学積層体を得た。上記膜厚は、反射率の極小値が波長５５０ｎｍ付近になるように調整した。

（低屈折率層用組成物）
中空状処理シリカ微粒子（該シリカ微粒子の固形分は２０質量％溶液；メチルイソブチルケトン、平均粒径５０ｎｍ） ６５質量部
ペンタエリスリトールトリアクリレート（ＰＥＴＡ） １０質量部
重合開始剤（イルガキュア１２７；チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製） ０．３５質量部
シリコーンオイル（Ｘ２２１６４Ｅ；信越化学社製） １質量部
ＭＩＢＫ ３２０質量部
ＰＧＭＥ １６１質量部

（実施例２）
ＵＶ−７６００Ｂの代わりに、ＵＮ９０４（根上工業社製；ＵＶ硬化型ウレタンアクリレート／ＤＰＨＡ＝８０／２０の混合体）とＰＥＴ３０（日本化薬社製、ＰＥＴＡ）とを質量比７：３で混合したものを使用した点以外は実施例１と同様にして、実施例２の光学積層体を作製した。

（実施例３）
ＵＶ−７６００Ｂの代わりに、ＵＶ１７００Ｂ（日本合成化学工業社製；ＵＶ硬化型ウレタンアクリレート／ＤＰＨＡ＝６０／４０の混合体）を使用した点以外は実施例１と同様にして、実施例３の光学積層体を作製した。

（実施例４）
ＵＶ−７６００Ｂの代わりに、ＤＰＨＡ４０Ｈ（日本化薬社製；ＵＶ硬化型ウレタンアクリレート／ＤＰＨＡ＝６０／４０の混合体）を使用した点以外は実施例１と同様にして、実施例４の光学積層体を作製した。

（実施例５）
ＵＶ−７６００Ｂの代わりに、ＵＶ−７６００Ｂ（日本合成化学工業社製；ＵＶ硬化型ウレタンアクリレート／ＰＥＴＡ＝６５／３５の混合体）とＰＥＴＡとを質量比６０／４０で混合したものを使用した点以外は実施例１と同様にして、実施例５の光学積層体を作製した。

（実施例６）
ＵＶ−７６００Ｂの代わりに、ＵＶ−７６００Ｂ（日本合成化学工業社製；ＵＶ硬化型ウレタンアクリレート／ＰＥＴＡ＝６５／３５の混合体）と、 Ｍ３１５(東亜合成社製、モノマー)とを質量比６０／４０で混合したものを使用した点以外は実施例１と同様にして、実施例６の光学積層体を作製した。

（実施例７）
Ｃ４１０６の配合量を３３部から４７部に増大させた点以外は、実施例１と同様にして、実施例７の光学積層体を作製した。

（実施例８）
Ｃ４１０６の配合量を３３部から１２部に減少させた点以外は、実施例１と同様にして、実施例７の光学積層体を作製した。

（比較例１）
ＵＶ−７６００Ｂの代わりに、ＵＴ−４６６０（日本合成化学工業社製；ＵＶ硬化型ウレタンアクリレート／ＰＥＴＡ＝２０／８０の混合体）を使用した点以外は実施例１と同様にして、比較例１の光学積層体を作製した。

（比較例２）
ＵＶ−７６００Ｂの代わりに、ＵＶ−７６００Ｂ／ＰＥＴ３０（日本化薬社製；ＰＥＴＡ）＝１／９の混合品を使用した点以外は実施例１と同様にして、比較例２の光学積層体を作製した。

（比較例３）
ＵＶ−７６００Ｂの代わりに、ＰＥＴ３０（日本化薬社製；ＰＥＴＡ）を使用した点以外は実施例１と同様にして、比較例３の光学積層体を作製した。

（比較例４）
ＵＶ−７６００Ｂの代わりに、ＤＰＨＡ（日本化薬社製；６官能モノマー）を使用した点以外は実施例１と同様にして、比較例４の光学積層体を作製した。

（比較例５）
ＵＶ−７６００Ｂの代わりに、ＥＢＥＣＲＹＬ６００（エポキシアクリレート、２官能、分子量５００、ダイセルサイテック社製）を使用した点以外は実施例１と同様にして、比較例５の光学積層体を作製した。

（比較例６）
ＵＶ−７６００Ｂの代わりに、Ｍ８０３０（東亜合成社製；ポリエステルアクリレート）を使用した点以外は実施例１と同様にして、比較例６の光学積層体を作製した。

（比較例７）
Ｃ４１０６の配合量を３３部から５．５部に変更した点以外は、実施例１と同様にして、比較例７の光学積層体を作製した。

（比較例８）
帯電防止材料を、五酸化アンチモンからＡＴＯに変更した点以外は、実施例１と同様にして、比較例８の光学積層体を作製した。

（比較例９）
Ｃ４１０６の配合量を３３部から５０．５部に増大した点以外は、実施例１と同様にして、比較例９の光学積層体を作製した。

（比較例１０）
Ｃ４１０６の配合量を３３部から７８部に増大した点以外は、実施例１と同様にして、比較例１１の光学積層体を作製した。

（比較例１１）
ＵＶ−７６００Ｂの代わりに、ＵＮ９０４（根上工業社製；ＵＶ硬化型ウレタンアクリレート／ＤＰＨＡ＝８０／２０）の混合体）を使用した点以外は実施例１と同様にして、比較例１１の光学積層体を作製した。

（比較例１２）
ＵＶ−７６００Ｂに代わりに、ＵＸＴ６０００（ウレタンアクリレート、分子量６０００、２官能、日本化薬社製）を使用した点以外は実施例１と同様にして、比較例１２の光学積層体を作製した。

（比較例１３）
ＵＶ−７６００Ｂに代わりに、ＵＸ３２０４（ウレタンアクリレート、分子量１３０００、２官能、日本化薬社製）を使用した点以外は実施例１と同様にしてハードコート層用組成物を調製したが、五酸化アンチモンが凝集して塗工することができなかった。

（比較例１４）
混合溶剤に代わりに、トルエンを用いてハードコート層用組成物を調製したが、五酸化アンチモンが凝集して塗工することができなかった。

上記で得られた光学積層体について、下記の項目について評価した。評価結果を表２に示す。
（表面抵抗値測定）
上記で得られた光学積層体の表面抵抗値を、三菱化学社製Ｈｉｒｅｓｔａ ＩＰ ＭＣＰ−ＨＴ２６０にて測定し、下記の基準にて評価した。
◎：１×１０^１１Ω／□未満
○：１×１０^１１Ω／□以上１×１０^１２Ω／□未満
×：１×１０^１２Ω／□以上

（ヘイズ）
ＰＥＴ基材面側をガラスに粘着させて、光学積層体のヘイズを、ヘイズメーター（村上色彩技術研究所製、製品番号；ＨＭ−１５０）を用いてＪＩＳ Ｋ−７１３６に準拠した方法により測定した。

（全光線透過率）
得られた光学積層体の全光線透過率を、ヘイズメーター（村上色彩技術研究所製、製品番号；ＨＭ−１５０）を用いてＪＩＳ Ｋ−７３６１に準拠した方法により測定した。

（密着性）
得られた光学積層体のハードコート層と光透過性基材との密着性について、クロスカット基盤目試験を行い、元のカット部数（１００）に対するテープを剥がした後に光透過性基材上に残存したカット部数の比について、下記の基準にて評価した。
○：９０／１００〜１００／１００
△：５０／１００〜８９／１００
×：０／１００〜４９／１００

（鉛筆硬度）
各光学積層体を、温度２５℃、相対湿度６０％の条件で２時間調湿した後、ＪＩＳ−Ｓ−６００６が規定する試験用鉛筆（硬度ＨＢ〜３Ｈ）を用いて、ＪＩＳＫ５６００−５−４（１９９９）が規定する鉛筆硬度評価方法に従い、４．９Ｎの荷重にて、ハードコート層が形成された表面の鉛筆硬度を測定した。なお、鉛筆硬度は３Ｈ以上であると良好なものと判断する。

（低屈折率層との密着性）
各光学積層体の低屈折率層の表面を、スチールウール ＃００００番（商品名：ＢＯＮ ＳＴＡＲ、日本スチールウール社製）を用い摩擦荷重３００ｇ／ｃｍ^２、１０往復摩擦させ、裏面に黒テープを貼り、３波長蛍光灯下、目視で以下の基準にて評価した。
○：傷なし
×：傷発生あり

表２より、実施例の光学積層体は、ハードコート層中で五酸化アンチモンが三次元網目構造を形成して分散しており、また、帯電防止性に優れ、かつ、ヘイズも良好であった。なお、実施例１に係る光学積層体のハードコート層の断面ＴＥＭ写真を図１に示した。図１中に示されたスケールは、１目盛が１００ｎｍである。
一方、比較例１〜７に係る光学積層体は、いずれもハードコート層中で五酸化アンチモンが三次元網目構造を形成して分散しておらず、表面抵抗値が高く帯電防止性に劣るものであった。なお、比較例１に係る光学積層体のハードコート層の断面ＴＥＭ写真を図２に示した。図２中に示されたスケールは、１目盛が１００ｎｍである。
ＡＴＯを帯電防止材料として用いた比較例８に係る光学積層体は、実施例１に係る光学積層体と同等の帯電防止性を有していたが、ヘイズが若干高く、全光線透過率及びハードコート層と基材及び低屈折率層との密着性に劣るものであった。
五酸化アンチモンの配合量の多かった比較例９及び１０に係る光学積層体は、ヘイズ及び全光線透過率に劣り、ハードコート層と基材及び低屈折率層との密着性にも劣っていた。比較例１０に係る光学積層体は、更にハードコート層と光透過性基材との密着性にも劣っていた。
また、ＵＶ硬化型ウレタンアクリレートの含有量が多かった比較例１１に係る光学積層体は、ハードコート層と光透過性基材との密着性に劣るものであった。
更に、ＵＶ硬化型ウレタンアクリレートが２官能であった比較例１２に係る光学積層体は、ハードコート層と光透過性基材との密着性に劣り、また、ハードコート層の硬度にも劣っていた。

本発明の光学積層体は、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）、タッチパネル、電子ペーパー等の高精細化ディスプレイに好適に使用することができる。

Claims (6)

1. 光透過性基材と、前記光透過性基材の少なくとも一方の面上にハードコート層とを有する光学積層体であって、
   前記ハードコート層は、五酸化アンチモン、及び、重量平均分子量が１０００以上１万未満であり、かつ、６官能以上のウレタン（メタ）アクリレートオリゴマーを含有し、
   五酸化アンチモンの含有量が、ハードコート層中７〜３５質量％であり、
   ウレタン（メタ）アクリレートオリゴマーの含有量が、ハードコート層の樹脂成分中３０〜７０質量％であり、
   前記五酸化アンチモンは、ハードコート層中に三次元網目構造を形成して分散している
   ことを特徴とする光学積層体。
2. ハードコート層は、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、及び、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレートからなる群より選択される少なくとも１種を更に含有する請求項１記載の光学積層体。
3. ハードコート層は、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレートの及び／又はジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレートを、樹脂成分中３０〜７０質量％含有する請求項２記載の光学積層体。
4. ハードコート層上に、低屈折率層を更に有する請求項１、２又は３記載の光学積層体。
5. 偏光素子を備えてなる偏光板であって、
   前記偏光板は、偏光素子表面に請求項１、２、３又は４記載の光学積層体を備えることを特徴とする偏光板。
6. 請求項１、２、３又は４の光学積層体、又は、請求項５記載の偏光板を備えることを特徴とする画像表示装置。