CN101410247B - 光学层积体和光学层积体的制造方法 - Google Patents

Abstract

本发明提供光学层积体和光学层积体的制造方法，所述光学层积体兼备优异的抗静电性能和密合性。该光学层积体通过在透光性基材上依次形成抗静电层和硬膜层而构成，在上述层积体的截面外观上，上述硬膜层的截面纹样存在于从硬膜层经由抗静电层到透光性基材中。

Description

光学层积体和光学层积体的制造方法

技术领域

本发明涉及一种新颖的光学层积体和光学层积体的制造方法。

背景技术

构成各种显示装置(以字符处理器、计算机、电视机等电子设备的显示屏为代表)的光学元件等的成型体采用显示出绝缘性的塑料或玻璃来形成，所以存在容易带电且容易附着灰尘的问题。例如，对于构成显示装置的防反射片等塑料制光学元件，若在加工工序或显示装置的组装工序等中，带电而附着灰尘，则会给显示装置的图像显示功能造成不良影响。并且，LCD中的IPS“面内切换(in-plane switching)”、VA“象限垂直配向(domain vertical alignment)”模式中，表面膜的带电还会导致图像模糊。

因此，为了防止上述问题，有文献提出了在透明材料上形成抗静电层的方法。抗静电层通常采用含有抗静电剂和由紫外线固化型树脂构成的粘结剂的组合物来形成(专利文献1～3)。

该情况下，若为了提高抗静电性能，大量混合抗静电剂，则粘结剂的含量相对降低，引起与抗静电层邻接的层的层间强度(密合性)或膜强度下降等问题。若密合性或膜强度降低，则会引起以抗静电层为起点的剥离。这样的剥离除了导致在制造工序中发生各种故障之外，还导致产品价值下降。另一方面，若为了提高密合性或膜强度而提高树脂粘结剂的含量，则抗静电剂的含量相对下降，所以抗静电性能也相应下降。

【专利文献1】日本特开2005-305844

【专利文献2】日本特开2005-231089

【专利文献3】日本特开2005-241989

发明内容

因此，本发明的主要目的在于，提供一种兼备优异的抗静电性能和密合性的光学层积体及其制造方法。

本发明人鉴于现有技术的问题，进行了深入研究，结果发现，通过采用特定的层结构，能够实现上述目的，从而完成了本发明。

本发明涉及一种光学层积体，其是在透光性基材上依次形成有抗静电层和硬膜层而成的层积体，其特征在于，在所述层积体的截面外观上，所述硬膜层的截面纹样(断面相)存在于从硬膜层经由抗静电层到透光性基材中。

优选上述抗静电层使用含有抗静电剂和热塑性树脂的热干燥型组合物来形成。

优选上述抗静电剂是选自聚乙炔、聚苯胺、聚噻吩、聚吡咯、聚苯硫醚、聚(1，6-庚二烯)、聚亚联苯基(聚对亚苯基)、聚对苯硫醚、聚苯乙炔、聚(2，5-噻吩)(Poly(2，5-thienylene))、聚呋喃、聚(3，4-亚乙基二氧噻吩)、聚异硫茚、多并苯和它们的衍生物中的至少一种导电性高分子。

优选上述抗静电层的厚度为10～500nm。

优选上述硬膜层由含有树脂和溶剂的硬膜层形成用组合物形成，上述溶剂对抗静电层的热塑性树脂具有溶解性。

优选上述光学层积体实质上不存在干涉条纹。

优选上述光学层积体是在硬膜层上形成有选自由防眩层、低折射率层和防污层组成的组中的至少1层而成的。

优选在上述光学层积体中，选自由防眩层、低折射率层和防污层组成的组中的至少1层和硬膜层中的至少1层具有抗静电性能。

上述光学层积体优选用作防反射用层积体。

本发明还提供一中偏振片，该偏振片为具备偏振元件的偏振片，其特征在于，所述偏振片在偏振元件表面上设有所述光学层积体。

优选上述偏振片还具有至少1层除光学层积体含有的抗静电层以外的抗静电层。

本发明还提供光学层积体的制造方法，其是在透光性基材上依次形成有抗静电层和硬膜层而成的光学层积体的制造方法，其特征在于，所述抗静电层使用含有抗静电剂和热塑性树脂的热干燥型组合物来形成，所述硬膜层由含有树脂和溶剂的硬膜层形成用组合物形成，所述溶剂对上述抗静电层的所述热塑性树脂具有溶解性。

在本发明的光学层积体中，在该层积体的截面外观上，硬膜层的截面纹样存在于从硬膜层通过抗静电层到透光性基材的区域内，所以能够发挥优异的密合性。即，在本发明的层积体中，维持基材/抗静电层/硬膜层形成为一体的状态。因此，本发明的层积体能够在维持良好的密合性的同时，使用与现有技术相同或更多的抗静电剂，结果，本发明的层积体能够发挥更优异的抗静电性能。

尤其是使用有机系抗静电剂(聚噻吩、聚苯胺、聚吡咯等)作为抗静电剂的情况下，可发挥优异的抗静电性能的同时，进一步提高层积体的全光线透过率，并且还能够降低雾值。聚噻吩因透明性高而特别优选。

作为硬膜层积体，本发明的光学层积体能够适合用作防反射层积体(包括用为防眩性层积体的情况)。并且，本发明的光学层积体可以用于透过型显示装置。尤其是，可以用于电视、计算机、字符处理器等显示屏的显示。特别是本发明的光学层积体适合用作CRT、ELD、PDP、液晶面板等显示屏的表面。

本发明的光学层积体是在透光性基材上依次形成有抗静电层和硬膜层而成的层积体，其特征在于，在所述层积体的截面外观上，所述硬膜层的截面纹样存在于从硬膜层经由抗静电层到透光性基材中。该硬膜的截面纹样是指，在切割光学层积体的截面时，由于硬膜层的硬度高，所以硬膜层以某种切痕的外观残留。即，是指硬膜层的截面的图案。

上述截面外观可以通过透过型电子显微镜(TEM)进行观察。例如，在后述比较例3(该例是本发明以外的类型，是聚噻吩粘结剂为紫外线固化型材料时的结果。除此之外的现有类型(即，主要是为了赋予抗静电性而使用分散有导电性超微粒的材料的类型)的观察结果也相同)的光学层积体中，如TEM(10万倍)的截面图(即图2)所示，依次存在硬膜层、抗静电层和透光性基材的各截面纹样。上部的纵向条纹图案的区域为硬膜层的截面纹样，中心附近的黑色层为抗静电层的截面纹样，该黑色层下侧为基材的截面纹样。即，在透光性基材的区域内未发现上述层积体的硬膜层的截面纹样。相对于此，根据本发明的光学层积体的TEM(10万倍)的截面图(即图1)，发现硬膜层的截面纹样从硬膜层经由抗静电层达到透光性基材侧而存在。换言之，能够确认到硬膜层的截面纹样经由抗静电层侵入到透光性基材侧。作为这样的光学层积体，例如可以举出如下得到的光学层积体：例如，用于形成硬膜层的硬膜层形成用组合物中含有的溶剂将分别包含于抗静电层和透光性基材中的树脂粘结剂溶胀、溶解，同时所述组合物渗透到抗静电层中，并达到透光性基材而得到光学层积体。图1中，由抗静电层达到了基材侧的硬膜层部分(纵向条纹图案的区域)很小，为0.1～0.2μm，但根据用于硬膜层形成用组合物的溶剂的不同，达到了基材侧的硬膜层部分有时也会达5～6μm或其以上的6～20μm。

像这样，在截面的外观性状中具有硬膜层的截面纹样从硬膜层经由抗静电层达到透光性基材而连续存在的结构，所以能够有效维持硬膜层、抗静电层和透光性基材实质成一体的结构，结果本发明的光学层积体能够发挥高密合性。

下面，具体说明本发明中使用的基材、组合物。此外，在本发明中，在没有特别说明的情况下，将单体、低聚物、预聚物等固化性树脂前体总称为“树脂”。

透光性基材

透光性基材优选具有平滑性、耐热性且机械强度优异的材料。作为形成透光性基材的材料的具体例，可以举出聚酯(聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯)、三乙酸纤维素、二乙酸纤维素、乙酸丁酸纤维素、聚酯、聚酰胺、聚酰亚胺、聚醚砜、聚砜、聚丙烯、聚甲基戊烯、聚氯乙烯、聚乙烯醇缩醛、聚醚酮、聚甲基丙烯酸甲酯、聚碳酸酯或者聚氨酯等热塑性树脂，优选聚酯(聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯)、三乙酸纤维素。

上述透光性基材优选使用上述热塑性树脂作为富有柔软性的膜状体，根据要求固化性的使用方式，也可以使用这些热塑性树脂的板，或者还可以使用玻璃板的板状体。

除此之外，作为上述透光性基材，可以举出具有脂环结构的非晶环烯烃聚合物(Cyclo-Olefin-Polymer：COP)膜。上述透光性基材是使用降冰片烯系聚合物、单环的环状烯烃系聚合物、环状共轭二烯系聚合物、乙烯基脂环式烃类聚合物等的基材，例如，可以举出日本Zeon株式会社制造的ZEONEX或ZEONOR(降冰片烯系树脂)、SUMITOMO BAKELITE株式会社制造的SUMILITE FS-1700、JSR株式会社制造的ARTON(改性降冰片烯系树脂)、三井化学株式会社制造的APEL(环状烯烃共聚物)、Ticona公司制造的Topas(环状烯烃共聚物)、日立化成株式会社制造的OPTOREZ OZ-1000系列(脂环式丙烯酸树脂)等。

此外，作为三乙酸纤维素的替代基材，还优选使用旭化成化学株式会社制造的FV系列(低双折射率、低光弹性模量膜)。

透光性基材的厚度优选为20μm～300μm，更优选上限为200μm，下限为30μm。透光性基材为板状体的情况下，透光性基材的厚度也可以超过所述厚度。在基材上形成硬膜层、抗静电层等时，为了提高粘结性，除了进行电晕放电处理、氧化处理等物理处理之外，还可预先涂布被称为锚定剂或底漆的涂料。

抗静电层

作为抗静电层没有特别限定，例如可优选采用含有抗静电剂和热塑性树脂的热干燥型组合物来形成。该情况下，还可以根据需要，使用溶剂。热干燥型组合物是通过加热对溶剂进行干燥时形成覆膜并在其后变成可在该覆膜层上进行加工的状态的树脂组合物，可以使用与公知的热塑性涂料等相同的粘结剂、溶剂等制备抗静电层。

抗静电剂没有限定，可以从公知的抗静电剂中适当选择一种或2种以上抗静电剂。例如，可以举出季铵盐、吡啶鎓盐、具有由伯氨基、仲氨基、叔氨基等衍生的阳离子性基团的各种阳离子性化合物；具有磺酸根、硫酸酯根、磷酸酯根、膦酸根等阴离子性基团的阴离子性化合物；氨基酸系、具有氨基的硫酸酯(アミノ硫酸エステル)系等两性化合物；氨基醇系、甘油系、聚乙二醇系等非离子型化合物；锡和钛的醇盐这样的有机金属化合物和它们的乙酰丙酮盐等金属螯合物等。此外，还可以举出将上述列出的化合物高分子量化后的化合物。并且，具有叔氨基、季铵基或金属螯合部且可借助电离放射线聚合的单体或低聚物、或者具有可借助电离放射线聚合的官能团的如偶联剂那样的有机金属化合物等可聚合的化合物也可用作抗静电剂。

并且，例如导电性超微粒也可以用作抗静电剂。作为导电性微粒的具体例，可以举出金属氧化物微粒。作为这种金属氧化物，可以举出ZnO(折射率为1.90以下，下面括号内的数值表示折射率)、CeO₂(1.95)、Sb₂O₂(1.71)、SnO₂(1.997)、常被简称为ITO的氧化铟锡(1.95)、In₂O₃(2.00)、Al₂O₃(1.63)、锑掺杂氧化锡(简称为ATO，2.0)、铝掺杂氧化锌(简称为AZO，2.0)等。除此之外，还可以举出不是金属氧化物的无机系碳纳米管、富勒烯等。微粒是指1微米以下的、所谓亚微米大小的粒子，优选平均粒径为0.1nm～0.1μm的粒子。上述平均粒径可以采用动态光散射法等进行测定。

此外，作为有机系抗静电剂，还可以使用例如聚乙炔、聚苯胺、聚噻吩、聚吡咯、聚苯硫醚、聚(1，6-庚二烯)、聚亚联苯基(聚对亚苯基)、聚对苯硫醚、聚苯乙炔、聚呋喃、聚(3，4-亚乙基二氧噻吩)、聚异硫茚、多并苯或它们的衍生物等导电性高分子。这些导电性高分子可以使用一种或2种以上。作为上述聚噻吩，优选低聚噻吩。作为上述衍生物，没有特别限定，例如可以举出聚苯乙炔、聚二乙炔的烷基取代物等。

在本发明中，特别优选使用上述导电性高分子的至少一种。通过使用上述导电性高分子，能够在本发明的层积体中，实现更高透过率的同时，得到更低的雾值。

作为热塑性树脂，不特别限制，但从能够制备热干燥型组合物的方面出发，可以适合使用例如纤维素衍生物(例如乙酸纤维素、硝基纤维素、醋酸丁酯纤维素(acetyl butyl cellulose)、乙基纤维素、甲基纤维素等)、乙烯基系树脂(例如乙酸乙烯酯及其共聚物、氯乙烯及其共聚物、偏二氯乙烯及其共聚物等)、缩醛系树脂(例如聚乙烯醇缩甲醛、聚乙烯醇缩丁醛等)、丙烯酸系树脂(丙烯酸树脂及其共聚物、甲基丙烯酸树酯及其共聚物等)之外，还可以适合使用聚苯乙烯树脂、聚酰胺树脂、聚碳酸酯树脂等。

使用热塑性树脂的情况下，上述组合物中的抗静电剂的含量可以根据要使用的抗静电剂的种类等适当设定，通常在抗静电剂和热塑性树脂的合计100质量％中，抗静电剂量为1质量％左右～50质量％左右，优选为5质量％～20质量％。

并且，在上述组合物中，根据需要，还可以使用溶剂。可以根据要使用的抗静电剂的种类等，从公知的溶剂中适当选择溶剂。例如，使用聚噻吩作为抗静电剂的情况下，除了水之外，还可以使用甲醇、乙醇、丙醇、丁醇、正戊醇、异戊醇、仲戊醇、叔戊醇、1-乙基-1-丙醇、2-甲基-1-丁醇、乙二醇一甲醚、乙二醇一甲醚乙酸酯、甲基溶纤剂、乙基溶纤剂、丁基溶纤剂、丙二醇、丙二醇单乙醚、丙二醇单丁醚、正己醇、环己醇等一种或2种以上的溶剂。

对于上述组合物的制备方法，只要能够将各成分均匀混合即可，可采用公知的方法实施。例如，可以使用涂料摇摆器、珠磨机、捏合机、混合器等公知的装置进行混合。

在形成抗静电层时，例如只要将上述组合物用作抗静电层形成用组合物，由上述组合物形成涂膜，使所述涂膜固化即可。涂膜的形成方法可以依照公知的方法进行。例如，可以采用旋涂法、浸渍法、喷雾法、模涂(ダイドコ—ト)法、棒涂法、辊涂法、凹液面涂布(meniscus coating)法、苯胺印刷法、丝网刷法、刮槽(ピ—ド)涂布法等各种方法。

抗静电层的厚度(干燥厚度)通常为10nm左右～500nm左右，特别优选为50～200nm。对于全光线透过率、雾度等光学性能来说优选厚度小于10nm的情况，但有时不能得到目标抗静电性能(饱和充电电压小于2.0kV)。并且，在厚度超过500nm的情况下，为了使硬膜层的截面纹样经由抗静电层并存在于透光性基材中，有可能需要很长时间，并在生产加工方面效率有可能变差。根据以上理由，优选将所述抗静电层的厚度设定为上述的膜厚范围内。所述抗静电层的厚度是利用电子显微镜(SEM、TEM、STEM)对截面进行观察并测定得到的值。

硬膜层

本发明中的“硬膜层”是指在JIS K5600-5-4(1999)中规定的铅笔硬度试验中显示出“H”以上的硬度的层。在本发明的光学层积体中，上述硬膜层的铅笔硬度优选为2H以上。并且，上述硬膜层的维氏硬度优选为250N/mm以上。

上述硬膜层只要具有透明性即可，没有特别的限制，上述硬膜层优选含有树脂。

作为上述树脂，没有特别限定，例如可以举出电离放射线固化型树脂(即利用紫外线或电子射线固化的树脂)、电离放射线固化型树脂与溶剂干燥型树脂(仅通过使涂布时为了调整固体成分而添加的溶剂干燥来形成覆膜的树脂)的混合物、或热固化型树脂这三类，优选可以举出电离放射线固化型树脂。并且，在本发明的优选方式中，可以使用至少含有电离放射线固化型树脂和热固化型树脂而成的树脂。

作为上述电离放射线固化型树脂，例如可以举出具有丙烯酸酯系官能团的化合物等具有1个或2以上不饱和键的化合物。作为具有1个不饱和键的化合物，例如可以举出(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸甲基已酯、苯乙烯、甲基苯乙烯、N-乙烯基吡咯烷酮等。作为具有2个以上不饱和键的化合物，可以举出例如聚羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、己二醇(甲基)丙烯酸酯、三丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、二乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、1，6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯等多官能化合物与(甲基)丙烯酸酯等的反应生成物(例如多元醇的聚(甲基)丙烯酸酯)等。此外，在本说明书中，“(甲基)丙烯酸酯”是指甲基丙烯酸酯和丙烯酸酯。

除了上述化合物以外，具有不饱和双键的较低分子量的聚酯树脂、聚醚树脂、丙烯酸树脂、环氧树脂、氨基甲酸酯树脂、醇酸树脂、螺缩醛树脂、聚丁二烯树脂、多硫醇-多烯树脂等也可用作上述电离放射线固化型树脂。

在将电离放射线固化型树脂用作紫外线固化型树脂的情况下，优选使用光聚合引发剂。作为光聚合引发剂的具体例，可以举出乙酰苯类、二苯甲酮类、米歇尔苯甲酸酐、阿尔法阿米罗基酯(α-amyloxim ester)、噻吨酮类、苯丙酮类、苄基类、苯偶姻类、酰基膦氧化物类。并且，优选所述光聚合引发剂与光敏剂混合使用，作为光敏剂的具体例，可以举出正丁胺、三乙胺、聚-正丁基膦等。

作为添加到电离放射线固化性树脂组合物中的光聚合引发剂，适合使用例如乙酰苯类、二苯甲酮类、米歇尔苯甲酸苄酯、阿尔法阿米罗基酯(α-amyloxim ester)、一硫化四甲基秋兰姆(テトラメチルメウラムモノサルファイド)、噻吨酮类等。并且，为具有阳离子聚合性官能团的树脂系的情况下，作为光聚合引发剂，优选将芳香族重氮鎓盐、芳香族锍盐、芳香族碘鎓盐、茂金属化合物、苯偶姻磺酸酯等单独使用，或作为混合物使用。并且，根据需要，添加光敏剂、光聚合促进剂。作为该光敏剂、光聚合促进剂，只要是公知的光敏剂即可，例如，包括苯偶姻、苯偶姻甲醚、苯偶姻乙醚、苯偶姻异丙醚、α-甲基苯偶姻、α-苯基苯偶姻等苯偶姻系化合物；蒽醌、甲基蒽醌等蒽醌系化合物；联苯酰；丁二酮；乙酰苯、二苯甲酮等苯丙酮化合物；二苯基二硫化物、硫化四甲基秋兰姆等硫化物；α-氯甲基萘；蒽和六氯丁二烯、五氯丁二烯等卤代烃；噻吨酮、正丁胺、三乙胺、三正丁基膦等。

具体地说，对于乙酰苯系光聚合引发剂，优选使用二苯甲酮或噻吨酮光敏剂。

光聚合引发剂的添加量相对于100质量份的电离放射线固化性组合物为0.1～10质量份。

作为混合到电离放射线固化型树脂中使用的溶剂干燥型树脂，主要可以举出热塑性树脂。作为所述热塑性树脂，可以使用通常例示的树脂。通过添加上述溶剂干燥型树脂，能够有效防止涂布面的涂膜缺陷。作为优选的热塑性树脂的具体例，所述热塑性树脂可以使用通常例示的树脂。通过添加上述溶剂干燥型树脂，能够有效防止涂布面的涂膜缺陷。作为优选的热塑性树脂的具体例，可以举出例如苯乙烯系树脂、(甲基)丙烯酸系树脂、乙酸乙烯酯系树脂、乙烯基醚系树脂、含卤素树脂、脂环式烯烃系树脂、聚碳酸酯系树脂、聚酯系树脂、聚酰胺系树脂、纤维素衍生物、硅酮系树脂，以及橡胶或弹性体等。作为所述热塑性树脂，通常优选使用非结晶性且可溶于有机溶剂(尤其是可溶解2个以上的聚合物或固化性化合物的共同溶剂)的树脂。尤其优选成型性或制膜性、透明性、耐候性高的树脂，例如苯乙烯系树脂、(甲基)丙烯酸系树脂、脂环式烯烃系树脂、聚酯系树脂、纤维素衍生物(纤维素酯类等)等。

根据本发明的优选方式，透光性基材的材料为三乙酸纤维素“TAC”等纤维素系树脂的情况下，作为热塑性树脂的优选具体例，可以举出纤维素系树脂，例如硝基纤维素、乙酸纤维素、乙酸丙酸纤维素、羟乙基纤维素乙醚等。通过使用纤维素系树脂，可以提高透光性基材和硬膜层的密合性和透明性。

作为可以用作上述树脂的热固性树脂，可以举出酚醛树脂、脲树脂、邻苯二甲酸二烯丙酯树脂、三聚氰胺树脂、胍胺树脂、不饱和聚酯树脂、聚氨酯树脂、环氧树脂、氨基醇酸树脂、三聚氰胺-脲共缩合树脂、硅树脂、聚硅氧烷树脂等。在使用热固性树脂的情况下，根据需要，还可以一并使用交联剂、聚合引发剂等固化剂、聚合促进剂、溶剂、粘度调整剂等。

上述硬膜层可以通过如下方式获得：将树脂和根据需要添加的添加剂(例如聚合引发剂、防眩剂、防污剂、流平剂等)溶解或分散到溶剂中，形成溶液或分散液，将该溶液或分散液用作硬膜层形成用组合物，采用上述组合物形成涂膜，使所述涂膜固化，从而得到硬膜层。作为上述溶剂，可以根据树脂的种类和溶解性选择使用，只要是能够至少将固体成分(2个以上的聚合物和固化性树脂前体、反应引发剂、其他添加剂)均匀溶解的溶剂即可。作为这种溶剂，可以举出例如酮类(丙酮、甲乙酮、甲基异丁基酮、环己酮等)、醚类(二氧六环、四氢呋喃等)、脂肪族烃类(己烷等)、脂环式烃类(环己烷等)、芳香族烃类(甲苯、二甲苯等)、卤化碳类(二氯甲烷、二氯乙烷等)、酯类(乙酸甲酯、乙酸乙酯、乙酸丁酯等)、水、醇类(乙醇、异丙醇、丁醇、环己醇等)、溶纤剂类(甲基溶纤剂、乙基溶纤剂等)、乙酸溶纤剂类、亚砜类(二甲亚砜等)、酰胺类(二甲基甲酰胺、二甲基乙酰胺等)等，也可以是它们的混合溶剂。

上述硬膜层形成用组合物优选含有对所形成的抗静电层的热塑性树脂具有渗透性的渗透性溶剂。在本发明中，渗透性溶剂的“渗透性”的含义包括对热塑性树脂的渗透性、溶胀性、湿润性等全部概念。“渗透性”可理解为如下行为：这样的渗透性溶剂将热塑性树脂溶胀、湿润，从而硬膜层形成用组合物的一部分进行从抗静电层的上部渗透到下部、进一步渗透到下层。

此外，上述溶剂可以根据硬膜层中的树脂是否对基材具有密合性来确定。例如，上述树脂对基材没有密合性的情况下，优选使用对基材具有渗透性的溶剂。例如，基材为TAC的情况下，作为渗透性溶剂的具体例，可以举出酮类(丙酮、甲乙酮、环己酮、甲基异丁基酮、二丙酮醇)；酯类(甲酸甲酯、乙酸甲酯、乙酸乙酯、乙酸丁酯、乳酸乙酯)；含氮化合物(硝基甲烷、乙腈、N-甲基吡咯烷酮、N，N-二甲基甲酰胺)；二醇类(乙二醇一甲醚、乙二醇一甲醚乙酸酯)；醚类(四氢呋喃、1，4-二氧六环、二氧戊环、二异丙醚)；卤代烃(二氯甲烷、三氯甲烷、四氯乙烷)；二醇醚类(甲基溶纤剂、乙基溶纤剂、丁基溶纤剂、乙酸溶纤剂)；其他(二甲亚砜、碳酸亚丙酯)，或这些物质的混合物，优选酯类、酮类；乙酸甲酯、乙酸乙酯、乙酸丁酯、甲乙酮等。除此之外，甲醇、乙醇、异丙醇、丁醇、异丁醇等醇类；甲苯、二甲苯等芳香族烃类也可以与上述渗透性溶剂混合使用。

并且，在硬膜层形成用组合物中，上述渗透性溶剂占溶剂总量的10质量％～100质量％，特别优选占50质量％～100质量％。

上述硬膜层形成用组合物中的原料的含有比例(固体成分)没有限定，通常为5质量％～70质量％，特别优选为25质量％～60质量％。

上述硬膜层形成用组合物中，可以根据提高硬膜层的硬度、抑制固化收缩、控制折射率、赋予防眩性等目的，添加树脂、分散剂、表面活性剂、防眩剂、抗静电剂、硅烷偶联剂、增稠剂、防着色剂、着色剂(颜料、染料)、消泡剂、流平剂、阻燃剂、紫外线吸收剂、赋粘剂、阻聚剂、抗氧化剂、表面改性剂等。

作为抗静电剂，可以采用在上述抗静电层中使用的各种抗静电剂中的一种或2种以上。

作为防眩剂，可以使用在后述的防眩层中使用的防眩剂中的一种或2种以上。

作为上述硬膜层形成用组合物的制备方法，只要能够将各成分均匀混合，就没有特别限定，例如可以使用涂料摇摆器、珠磨机、捏合机、混合器等公知的装置进行混合。

形成上述硬膜层的工序如下进行：具体地说，涂布上述硬膜层形成用组合物，形成涂膜，将所得到的涂膜固化，从而形成上述硬膜层。作为所述涂布方法没有特别限定，例如可以举出旋涂法、浸渍法、喷雾法、模涂法、棒涂法、辊涂法、凹液面涂布法、苯胺印刷法、丝网刷法、刮槽涂布法等公知方法。

对于上述涂膜的固化，没有特别的限制，优选根据需要，进行干燥，并且通过加热、活性能量线照射等进行固化来形成。

优选硬膜层的膜厚(固化时)为0.1μm～100μm，优选为0.8μm～20μm，进一步优选在1.5μm～10μm的范围。所述膜厚是用电子显微镜(SEM、TEM、STEM)对截面进行观察并测定得到的值。

对于上述活性能量线照射，可以举出利用紫外线或电子射线进行的照射。作为紫外线源的具体例，可以举出超高压汞灯、高压汞灯、低压汞灯、碳弧灯、黑光荧光灯、金属卤化物灯等光源。作为紫外线的波长，可以使用190～380nm的波段。作为电子射线源的具体例，可以举出Cockcroft-Walton(コツククロフトワルト)型、Van de Graaff(バンデグラフト)型、共振变压器型、绝缘核级变压器型、或者直线型、Dynamitron(ダイナミトロン)型、高频型等各种电子射线加速器。

其他层

作为本发明的基本层构成，只要在透光性基材上至少依次形成抗静电层和硬膜层即可。因此，在不损害本发明层积体的透光性等的范围内，可以根据需要，在硬膜层上适宜地形成1层或2层以上的其他层(防眩层、低折射率层、防污层、粘结剂层、其他硬膜层等)，优选形成从防眩层、低折射率层和防污层组成的组中选择的至少1层。这些层可以采用与公知的防反射用层积体相同的材料。

防眩层

防眩层可以形成于例如透过性基材和硬膜层或低折射率层(后述)之间。防眩层可以由包含树脂和防眩剂的树脂组合物形成。

作为上述树脂，可以从硬膜层项中说明的物质中进行适当选择来使用。

作为防眩剂，可以使用各种微粒。微粒的平均粒径没有限制，通常微粒的平均粒径只要在0.01μm左右～20μm左右即可。并且，微粒形状可以是圆球状、椭圆状等的任意一种形状，可优选举出圆球状的微粒。并且，上述微粒可以举出无机系或有机系的微粒。

上述微粒以发挥防眩性并优选具有透明性的微粒为宜。作为微粒的具体例，在无机系中，可以举出二氧化硅微珠；在有机系中，可以举出塑料微珠。作为塑料微珠的具体例，可以举出聚苯乙烯微珠(折射率1.60)、三聚氰胺微珠(折射率1.57)、丙烯酸微珠(折射率1.49～1.535)、丙烯酸-苯乙烯微珠(折射率1.54、1.52～1.56)、苯胍胺-甲醛缩合物微珠(1.66)、三聚氰胺-甲醛缩合物微珠(1.66)、苯胍胺-三聚氰胺-甲醛缩合物微珠(1.52)、聚碳酸酯微珠、聚乙烯微珠等。

对于上述微粒，将平均粒径设定为R(μm)，将防眩层凹凸的十点平均粗糙度设定为Rz(μm)，将防眩层的凹凸平均间隔设定为Sm(μm)，将凹凸部的平均倾斜角设定为βθa，在这种情况下，优选满足下述的全部数学式。

30≤Sm≤600

0.05≤Rz≤1.60

0.1≤θa≤2.5

0.3≤R≤20

Sm(μm)表示该防眩层的凹凸的平均间隔，θa(度)表示凹凸部的平均倾斜角，(Rz)表示10点平均粗糙度，该定义依照JIS B 0601-1994，表面粗糙度测定器：还适用SE-3400/株式会社小坂研究所制作的操作说明书(1995.07.20修订)。

在θa为角度单位，将以纵横比例表示倾斜的斜率设定为Aa的情况下，以Aa＝tanθa＝(各凹凸的最小部和最大部之差(相当于各凸部的高度)的总和/基准长度)求出。基准长度是对利用测定机SE-3400测得的粗糙度曲线进行截弯取直得到的值λc，相当于实际的触针测量长度。

并且，在本发明的其他优选实施方式中，将上述微粒和上述树脂组合物的折射率分别设定为n1、n2的情况下，优选满足An＝|n1-n2|<0.1，且在防眩层内部的雾度值为55％以下的防眩层。

微粒的添加量根据所使用的微粒的种类、所期望的防眩性等而有所不同，相对于100质量份的上述树脂组合物，只要微粒的添加量通常为2～40质量份、优选为10质量份左右～25质量份左右即可。

在制备防眩层用组合物时，还可以添加抗沉降剂。因为通过添加抗沉降剂，能够抑制树脂微珠沉淀，使其均匀地分散到溶剂内。作为抗沉降剂的具体例，可以使用二氧化硅微珠等微珠类。微珠类的平均粒径没有限定，通常为0.5μm以下，优选为0.1～0.25μm。

防眩层的膜厚(固化时)通常为0.1μm左右～100μm左右，优选在0.8～10μm的范围内。通过使膜厚处于该范围，能够充分发挥作为防眩层的功能。

上述防眩层的膜厚可以采用以下方法测定。用激光共聚焦显微镜(LeicaTCS-NT：Leica公司制造：倍数“300～1000倍”)对光学层积体的截面进行透过观察，采用下述的评价基准判断有无界面。具体地说，为了得到没有光晕的鲜明的图像，在激光共聚焦显微镜中使用湿式物镜，且在光学层积体上放置约2ml折射率1.518的油，进行观察和判断。使用油是为了使物镜和光学层积体之间的空气层消失。

测定过程

1：通过激光显微镜观察测定平均膜厚。

2：测定条件如上所述。

3：每1个画面共测定2点，对每个点测定凹凸的最大凸部、最小凹部的从基材算起的层厚，将其分为5个画面，对共计10点进行测定，计算出平均值。

由于各层存在折射率差，所以上述激光显微镜能够进行非破坏截面观察。从而，在折射率差不明确或折射率差接近0的情况下，也可以借助能够观察到各层组成的不同的SEM和TEM截面照片观察，同样地观察5个画面，求出防眩层的膜厚。

低折射率层

低折射率层起到如下作用：当来自外部的光(例如，荧光灯、自然光等)在光学层积体的表面反射时，降低其反射率。低折射率层优选由1)含有二氧化硅或氟化镁的树酯、2)作为低折射率树脂的氟类树酯、3)含有二氧化硅或氟化镁的氟类树酯、4)二氧化硅或氟化镁的薄膜等中的任意一种材料构成。这些低折射率层优选折射率在1.45以下，特别优选在1.42以下。并且，低折射率层的厚度没有限定，通常可以从30nm左右～1μm左右的范围内适当设定。所述低折射率层的厚度可以采用与所述硬膜层和低折射率层的厚度相同的方式测定。除氟树脂以外的树脂为与用于构成硬膜层的树酯相同的树脂。

作为上述氟类树脂，可以使用分子中至少含有氟原子的聚合性化合物或其聚合物。作为所述聚合性化合物，没有特别限定，例如优选具有电离放射线固化性基团、热固性极性基团等固化反应性基团的化合物。并且，所述聚合性化合物还可以是同时具有这些反应性基团的化合物。相对于该聚合性化合物，所述聚合物是指完全不具有上述反应性基团等的物质。

作为具有电离放射线固化性基团的聚合性化合物，可以广泛使用具有烯键式不饱和键的含氟单体。更具体地说，可以举出氟代烯烃类(例如氟乙烯、偏二氟乙烯、四氟乙烯、六氟丙烯、全氟丁二烯、全氟-2，2-二甲基-1，3-间二氧杂环戊烯等)。作为具有(甲基)丙烯酰氧基的物质，还包括如(甲基)丙烯酸-2，2，2-三氟乙酯、(甲基)丙烯酸-2，2，3，3，3-五氟丙酯、(甲基)丙烯酸-2-(全氟丁基)乙酯、(甲基)丙烯酸-2-(全氟己基)乙酯、(甲基)丙烯酸-2-(全氟辛基)乙酯、(甲基)丙烯酸-2-(全氟癸基)乙酯、α-三氟甲基丙烯酸甲酯、α-三氟甲基丙烯酸乙酯这样的含氟(甲基)丙烯酸酯化合物；分子中具有氟代烷基、氟环烷基或氟代亚烷基(所述氟代烷基、氟环烷基和氟代亚烷基具有至少3个氟原子且碳原子数为1～14)和至少2个(甲基)丙烯酰氧基的含氟多官能(甲基)丙烯酸酯化合物等。

作为热固性极性基团，优选例如羟基、羧基、氨基、环氧基等可形成氢键的基团。它们不仅与涂膜的密合性优异，而且与二氧化硅等无机超微粒的亲和性也优异。作为具有热固性极性基团的聚合性化合物，可以举出例如4-氟乙烯-全氟烷基乙烯基醚共聚物；氟乙烯-烃类乙烯基醚共聚物；环氧树脂、聚氨酯树脂、纤维素、酚醛树脂、聚酰亚胺树脂等各树脂的氟改性物等。

作为同时具有电离放射线固化性基团和热固性极性基团的聚合性化合物，可以举出丙烯酸或甲基丙烯酸的部分和全氟代烷基、链烯基、芳基酯类、完全或部分氟化乙烯基醚类、完全或部分氟化乙烯基酯类、完全或部分氟化乙烯基酮类等。

并且，作为氟类树脂，例如可以举出如下物质。包括至少1种含氟(甲基)丙烯酸酯化合物(作为具有上述电离放射线固化性基团的聚合性化合物)的单体或单体混合物的聚合物；上述含氟(甲基)丙烯酸酯化合物的至少1种与分子中不含氟原子的(甲基)丙烯酸酯化合物(如(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸丙酯、(甲基)丙烯酸丁酯、(甲基)丙烯酸-2-甲基已酯等)的共聚物；氟乙烯、偏二氟乙烯、三氟乙烯、三氟氯乙烯、3，3，3-三氟丙烯、1，1，2-三氯-3，3，3-三氟丙烯、六氟丙烯等含氟单体的均聚物或共聚物等。作为氟类树脂，还可以使用在所述共聚物中含有硅酮成分的含硅酮偏二氟乙烯共聚物。

作为硅酮成分，可以举出(聚)二甲基硅氧烷、(聚)二乙基硅氧烷、(聚)二苯基硅氧烷、(聚)甲基苯基硅氧烷、烷基改性(聚)二甲基硅氧烷、含偶氮基(聚)二甲基硅氧烷、二甲基硅酮、苯基甲基硅酮、烷基和/或芳烷基改性硅酮、氟硅酮、聚醚改性硅酮、脂肪酸酯改性硅酮、甲基氢硅酮、含硅烷醇基硅酮、含烷氧基硅酮、含苯酚基硅酮、甲基丙烯酸改性硅酮、氨基改性硅酮、羧酸改性硅酮、甲醇改性硅酮、环氧改性硅酮、巯基改性硅酮、氟改性硅酮、聚醚改性硅酮等。其中，优选具有二甲基硅氧烷结构的硅酮。

作为上述二甲基硅氧烷结构，更具体地说，可以举出向末端具有硅烷醇基的聚二甲基硅氧烷、聚甲基苯基硅氧烷、聚甲基乙烯基硅氧烷等聚烷基硅氧烷、聚链烯基硅氧烷或者聚芳基硅氧烷中添加混合了各种交联剂(例如四官能硅烷(如四乙酰氧基硅烷、四烷氧基硅烷、四丁基酮肟基硅烷、四异丙烯基硅烷等)以及三官能硅烷(如烷基三乙酰氧基硅烷或链烯基三乙酰氧基硅烷、三酮肟基硅烷、三异丙烯基硅烷、三烷氧基硅烷等)等)得到的物质，还可以举出在一些情况下预先使上述混合物质发生反应而得到的物质。

除此之外，由以下化合物构成的非聚合物或聚合物也可用作氟类树脂。即，还可以使用分子中具有至少1个异氰酸酯基的含氟化合物与分子中具有至少1个氨基、羟基、羧基等可与异氰酸酯基反应的官能团的化合物反应得到的化合物；含氟聚醚多元醇、含氟烷基多元醇、含氟聚酯多元醇、含氟ε-己内酯改性多元醇等含氟多元醇与具有异氰酸酯基的化合物反应得到的化合物；等等。

并且，与上述的具有氟原子的聚合性化合物或聚合物一起，还可以混合使用硬膜层用组合物中记载的各树脂成分。此外，还可以适宜地使用固化剂以使反应性基团等固化，或者适宜地使用各种添加剂、溶剂以提高涂布性、赋予防污性。

具体地说，通过将含有30％～90％偏二氟乙烯、5％～50％六氟丙烯(下面，百分率均为质量基准)的单体组合物共聚，得到上述含硅酮的偏二氟乙烯共聚物。

对于上述含硅酮的偏二氟乙烯共聚物，单体组合物中的各成分的比例如下：偏二氟乙烯为30％～90％，优选为40％～80％，特别优选为40％～70％，并且六氟丙烯为5％～50％，优选为10％～50％，特别优选为15％～45％。该单体组合物中还可以进一步含有0％～40％、优选0％～35％、特别优选10％～30％的四氟乙烯。

对于上述的单体组合物，在不损坏上述的含硅酮的偏二氟乙烯共聚物的使用目的和效果的范围内，可以以例如20％以下、优选为10％以下的范围含有其他共聚物成分。作为这样的其他共聚成分的具体例，可以例示出氟乙烯、三氟乙烯、三氟氯乙烯、1，2-二氯-1，2-二氟乙烯、2-溴-3，3，3-三氟乙烯、3-溴-3，3-二氟丙烯、3，3，3-三氟丙烯、1，1，2-三氯-3，3，3-三氟丙烯、α-三氟甲基丙烯酸等具有氟原子的聚合性单体的一种或2种以上。

由以上的单体组合物得到的含氟共聚物中，含氟比例需要为60％～70％，优选含氟比例为62％～70％，特别优选为64％～68％。通过将含氟比例设定在上述范围内，从而使含氟聚合物对溶剂具有良好的溶解性，并且，通过含有这样的含氟聚合物作为成分，从而形成对各种基材具有优异的密合性、具有高透明性和低折射率并具有充分优异的机械强度的薄膜，所以能够使得形成有薄膜的表面的耐伤性等机械特性足够高。

按聚苯乙烯换算数均分子量计，上述含氮共聚物的分子量为5000～200000，特别优选为10000～100000。通过使用具有这样大小的分子量的含氟共聚物，所得到的氟类树脂组合物的粘度大小适宜，所以能够可靠地形成具有适合的涂布性的氟类树脂组合物。含氮共聚物优选其自身的折射率为1.45以下，特别为1.42以下，进一步优选为1.40以下。在使用了折射率超过1.45的含氟共聚物的情况下，有时候由所得到的氟类涂料形成的薄膜的防反射效果小。

并且，在本发明中，作为用于低折射率剂的固化性的含氟共聚物，除了含全氟烷基的硅烷化合物(例如(十七氟-1，1，2，2-四氢癸基)三乙氧基硅烷)等之外，还可以使用将含氟单体单元和用于赋予交联反应性的结构单元作为构成成分的含氟共聚物。

作为含氟单体单元的具体例，可以举出例如氟代烯烃类(例如氟乙烯、偏二氟乙烯、四氟乙烯、六氟乙烯、六氟丙烯、全氟-2，2-二甲基-1，3-间二氧杂环戊烯等)、(甲基)丙烯酸的部分或完全氟化烷基酯衍生物类(例如Biscoat 6FM(大阪有机化学制造)、M-2020(大金制造)等)、完全或部分氟化乙烯基醚类等，优选全氟烯烃类。特别是从折射率、溶解性、透明性、易得性等方面考虑，更优选六氟丙烯。

作为用于赋予固化反应性的结构单元，可以举出如(甲基)丙烯酸缩水甘油酯、缩水甘油基乙烯基醚等那样通过分子内预先具有自固化性官能团的单体聚合得到的结构单元；通过具有羧基、羟基、氨基、磺基等的单体(例如(甲基)丙烯酸、(甲基)丙烯酸羟甲酯、(甲基)丙烯酸羟基烷基酯、丙烯酸烯丙酯、羟乙基乙烯基醚、羟丁基乙烯基醚、马来酸、丁烯酸等)的聚合得到的结构单元；通过高分子反应在这些结构单元中引入(甲基)丙烯酰基等固化反应性基团的结构单元(例如，可以利用使羟基与丙烯酰氯作用等方法引入(甲基)丙烯酰基等固化反应性基团)。

并且，除了上述含氟单体单元、用于赋予固化反应性的结构单元以外，还可以从对溶剂的溶解性、皮膜的透明性等方面出发，适当共聚不含氟原子的单体。对可合用的单体单元没有特别限定，可以举出例如烯烃类(乙烯、丙烯、异戊二烯、氯乙烯、偏二氯乙烯等)、丙烯酸酯类(丙烯酸甲酯、丙烯酸甲酯、丙烯酸乙酯、丙烯酸-2-乙基己酯)、甲基丙烯酸酯类(甲基丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸乙酯、甲基丙烯酸丁酯、二甲基丙烯酸乙二醇酯等)、苯乙烯衍生物(苯乙烯、二乙烯基苯、乙烯基甲苯、α-甲基苯乙烯等)、乙烯基醚类(甲基乙烯基醚、乙基乙烯基醚、环己基乙烯基醚等)、乙烯基酯类(乙酸乙烯酯、丙酸乙烯酯、肉桂酸乙烯酯等)、丙烯酰胺类(N-叔丁基丙烯酰胺、N-环己基丙烯酰胺等)、甲基丙烯酰胺类、丙烯腈衍生物等。

对于上述的聚合物，如日本特开平8-92323号、日本特开平10-25388号、日本特开平10-147739号、日本特开平12-17028号公报中的记载那样，还可以适当合用固化剂。尤其，在聚合物的固化反应性基团为如羟基、羧基那样的单独不具有固化反应性的基团的情况下，必须合用固化剂。作为固化剂，可以举出例如多异氰酸酯系、氨基塑料(アミノプラスと)、多元酸或其酸酐等。另一方面，在固化反应性基团为自固化反应性基团的情况下，可以不特别添加固化剂，但也可以适当合用多官能(甲基)丙烯酸酯化合物、多官能环氧化合物等各种固化剂。

低折射率剂中特别有用的含氟共聚物是全氟烯烃与乙烯基醚类或乙烯基酯类的无规共聚物。特别优选可单独进行交联反应的基团((甲基)丙烯酰基等自由基反应性基团；环氧基、氧杂环丁烷基等开环聚合性基团等)。这些含交联反应性基团的聚合单元优选占聚合物的全部聚合单元的5摩尔％～70摩尔％，更优选为30摩尔％～60摩尔％。

并且，在本发明的低折射率剂中，为赋予防污性，优选在含氟共聚物中引入聚硅氧烷结构。聚硅氧烷结构的引入方法没有限定，优选例如，像日本特开平11-189621号、日本特开平11-228631号、日本特开2000-313709号所记载的那样，使用硅酮大分子偶氮引发剂(siliconemacro-azo initiator)来引入聚硅氧烷嵌段共聚成分的方法；像日本特开平2-251555号、日本特开平2-308806号所记载的那样，使用硅酮大分子单体来引入聚硅氧烷接枝共聚成分的方法。这些情况下，聚硅氧烷结构优选占聚合物的0.5质量％～10质量％，特别优选为1质量％～5质量％。

对于赋予防污性，除了上述之外，还可适当添加含反应性基团的聚硅氧烷。作为含反应性基团的聚硅氧烷，也可以使用市售品。作为市售品，可以举出例如信越化学工业株式会社制造的商品名KF-100T、X-22-169AS、KF-102、X-22-3701IE、X-22-164B、X-22-5002、X-22-173B、X-22-174D、X-22-167B、X-22-161AS；东亚合成株式会社制造的商品名AK-5、AK-30、AK-32；CHISSO株式会社制造的商品名Silaplane FM0275、Silaplane FM0721等。此时，这些聚硅氧烷优选以低折射率层的总固体成分的0.5质量％～10质量％的范围添加，更优选为1质量％～5质量％。

在本发明的低折射率剂中，作为市售的含氟化合物，也可以利用例如TEFRON(注册商标)AF1600(杜邦公司制造、折射率n＝1.30)、CYTOP(旭硝子株式会社制造、n＝1.34)、17FM(Mitsubishi Rayon株式会社制造、n＝1.35)、Opstar JN-7212(JSR株式会社制造、n＝1.40)、Opstar JN-7228(JSR株式会社制造、n＝1.42)、LR201(日产化学工业株式会社制造、n＝1.38)(均为商品名)等。

除此之外，低折射率层也可以采用由SiO₂形成的薄膜构成。例如，可以采用蒸镀法、溅射法、等离子体CVD法等气相法、液相法(该液相法由含有SiO₂溶胶的溶胶液形成SiO₂凝胶膜)等任意方法来形成低折射率层。此外，除了SiO₂以外，还可以采用MgF₂薄膜等材料来构成低折射率层。尤其，从对下层的密合性高的方面考虑，优选SiO₂薄膜。并且，在上述方法之中，采用等离子体CVD法时，优选将有机硅氧烷用作原料气体，并在不存在其他无机质的蒸镀源的条件下进行。并且，在这种情况下，优选尽量将被蒸镀体维持在低温下来进行。

在形成低折射率层时，可以使用例如含有原料成分的组合物(折射率层用组合物)来形成。更具体地说，将原料成分(树脂等)和根据需要添加的添加剂(例如，后述的“具有空隙的微粒”、聚合引发剂、抗静电剂、防眩剂等)溶解或分散到溶剂中形成溶液或分散液，将该溶液或分散液用作低折射率层用组合物，采用上述组合物形成涂膜，通过使上述涂膜固化，由此能够得到低折射率层。此外，聚合引发剂、抗静电剂、防眩剂等添加剂没有特别限定，可以举出公知物质。

在上述低折射率层中，作为低折射率剂，优选使用“具有空隙的微粒”。“具有空隙的微粒”能够在保持防眩层的层强度的同时，降低其折射率。在本发明中，“具有空隙的微粒”是指如下微粒：形成在微粒的内部填充有气体的结构和/或含气体的多孔质结构体，并且与微粒本身的折射率相比，折射率与气体在微粒中的占有率成反比例地下降。并且，本发明中，还包括根据微粒的形态、结构、凝聚状态、微粒在覆膜内部中的分散状态，能够在内部和/或表面的至少一部分形成纳米多孔结构的微粒。使用了该微粒的低折射率层能够将折射率调节到1.30～1.45。

作为具有空隙的无机系微粒，例如，可以举出通过日本特开2001-233611号公报所记载的方法制备的二氧化硅微粒。也可以是通过日本特开平7-133105、日本特开2002-79616号公报、日本特开2006-106714号公报等所记载的制法得到的二氧化硅微粒。具有空隙的二氧化硅微粒容易制造且自身的硬度高，因此与粘结剂混合来形成低折射率层时，能够提高低折射率层强度，并且能够将折射率调节到1.20左右～1.45左右的范围内。特别是，作为具有空隙的有机系微粒的具体例，可以优选举出使用日本特开2002-80503号公报中公开的技术制备的中空聚合物微粒。

作为能够在覆膜的内部和/或表面的至少一部分形成纳米多孔结构的微粒，除了上面的二氧化硅微粒之外，还可以举出缓释材料、多孔质微粒或中空微粒的分散体或凝聚体，所述缓释材是为增大比表面积而制造的并且用于使填充用的柱和表面的多孔质部吸附各种化学物质；所述多孔质微粒用于固定催化剂；所述中空微粒的分散体或凝聚体用于包含绝热材料、低介电材料。关于这种具体例，作为市售品，可以利用如下物质：从日本二氧化硅工业株式会社制造的商品名Nipsil、Nipgel中选择多孔质二氧化硅微粒的聚集体，从日产化学工业株式会社制造的具有二氧化硅微粒连接成链状的结构的胶态二氧化硅UP系列(商品名)中选择本发明的优选粒径范围内的微粒。

“具有空隙的微粒”的平均粒径在5nm～300nm，优选下限为8nm以上且上限为100nm以下，更优选下限为10nm以上且上限为80nm以下。由于微粒的平均粒径处于该范围内，因而可以对低折射率层赋予优异的透明性。此外，上述平均粒径是通过动态光散射法等方法测定的值。在上述低折射率层中，相对于100质量份的树脂，优选“具有空隙的微粒”通常为0.1质量份左右～500质量份左右、优选为10质量份左右～200质量份左右。

作为上述溶剂，没有特别限定，可以举出例如在硬膜层用组合物中例示的物质，优选甲基异丁基酮、环己酮、异丙醇(IPA)、正丁醇、叔丁醇、二乙基酮、PGME等。

对于上述低折射率层用组合物的制备方法，只要能够将成分均匀地混合即可，可以按照公知的方法实施。例如，可以使用在形成硬膜层时使用的上述公知的装置进行混合。

涂膜的形成方法可以采用公知的方法。例如，可以使用在形成硬膜层时使用的上述的各种方法。

在形成低折射率层时，将上述低折射率层形成用组合物的粘度设定为能够得到良好涂布性的0.5cps(25℃)～5cps(25℃)，优选设定为0.7cps(25℃)～3cps(25℃)的范围。这样能够实现可见光线优异的防反射膜，并且能够形成均匀且没有涂布不均的薄膜，而且能够形成对基材的密合性特别优异的低折射率层。

得到的涂膜的固化方法根据组合物的内容等适当选择即可。例如，紫外线固化型的情况下，通过对涂膜照射紫外线，使其固化即可。为了进行固化处理而利用加热手段的情况下，优选在氟类树脂组合物中添加热聚合引发剂，该热聚合引发剂通过加热产生例如自由基，引发聚合性化合物聚合。

低折射率层的膜厚(nm)d_A，优选满足下式(I)。

d_A＝mλ/(4n_A)(I)

(上述式中，n_A表示低折射率层的折射率；m表示正奇数，优选为1；λ为波长，优选为480～580nm范围内的值)。

并且，本发明中，从降低反射率的方面考虑，优选低折射率层满足下述数学式(II)。

120<n_Ad_A<145(II)

防污层

防污层起到如下作用：使得光学层积体的最表面上难以附着污渍(指纹、水性或油性的油墨类、铅笔等)，或者即使在附着了污渍时，也能够容易拭去。根据本发明的优选方式，为防止在低折射率层的最表面上附着污渍，可以设置防污层，特别优选在形成有低折射率层的透光性基材一方的面和相反的面这两侧设置防污层。通过形成防污层，能够对光学层积体(防反射用层积体)实现防污性和耐擦伤性的进一步改善。即使在没有低折射率层的情况下，也可以为防止最表面附着污渍，设置防污层。

防污层通常可以由含有防污层用剂和树脂的组合物形成。作为防污层用剂的具体例，可以举出与分子中具有氟原子的电离放射线固化型树脂组合物的相容性低并且难以添加到低折射率层中的氟类化合物和/或硅系化合物；与分子中具有氟原子的电离放射线固化型树脂组合物和微粒具有相容性的氟类化合物和/或硅系化合物。这些可以使用公知或市售的产品。

防污层例如可形成于硬膜层上。尤其是，优选防污层形成为最表面。也可以通过例如对硬膜层本身赋予防污性能来代替防污层。

光学层积体中的界面等

本发明的光学层积体优选实质上不存在界面。此处，“(实质上)不存在界面”包括如下情况：1)两个层面重叠，但实际上不存在界面；以及2)根据折射率判断为在两者的面上不存在界面。

本发明的光学层积体优选实质上不存在界面。此处，“(实质上)不存在界面”包括以下情况：1)两个层面重叠，但实际上不存在界面；以及2)根据折射率判断为在两者的面上不存在界面。

作为“(实质上)不存在界面”的具体基准，通过光学层积体的干涉条纹观察进行判断。即，在光学层积体的背面粘贴黑色胶带，在3波长荧光灯的照射下，从光学层积体之上进行目视观察。此时，在能够确认到干涉条纹的情况下，另外通过激光显微镜观察截面时，可以确认到界面，所以将这种情况认定为“存在界面”。另一方面，在不能确认到干涉条纹的情况下，或干涉条纹非常弱的情况下，另外通过激光显微镜观察截面时，呈现出看不到界面或只能看到非常模糊的界面的状态，所以将这种情况认定为“实质上不存在界面”。此外，激光显微镜获取来自各界面的反射光，而能够非破坏性地观察截面。这仅在各层上存在折射率差的情况下才观察到界面，所以在观察不到界面的情况下，认为折射率方面没有差异，没有界面。

并且，本发明的光学层积体优选用作防反射用层积体。

偏振片

在偏振元件表面上设置本发明的光学层积体，并使偏振元件表面与该光学层积体上存在硬膜层的面相反的面接触，由此得到偏振片，所得到的偏振片也是本发明之一。

作为上述偏振元件没有特别限定，例如可以使用通过碘等进行染色、拉伸的聚乙烯醇膜、聚乙烯醇缩甲醛膜、聚乙烯醇缩乙醛膜、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物系皂化膜等。在上述偏振元件和本发明的光学层积体的层积处理中，优选对透光性基材(优选三乙酸纤维素膜)进行皂化处理。通过皂化处理，粘结性变得良好，还能够得到抗静电效果。

其他抗静电层

在需要更加优异的抗静电性能的情况下，本发明的光学层积体中，除了上述抗静电层之外，还可以设置至少1层具有抗静电性能的层。作为具有上述抗静电性能的层，也可以是上述抗静电层以外的新的抗静电层，但从减少工序方面考虑，优选是对其他层赋予抗静电性能。即，在本发明的光学层积体中，优选选自由任意形成的防眩层、低折射率层和防污层组成的组中的至少1层和硬膜层中的至少1层具有抗静电性能。抗静电性能例如可以通过混合上述的抗静电剂来赋予。

此外，本发明的偏振片上也可以设置至少1层除构成上述光学层积体的抗静电层以外的抗静电层。偏振片有时需要解决由于制造步骤中产生静电而导致LCD面板等的电路被破坏等问题。在该情况下，为了解决这样的问题，优选将抗静电层设置在没有设置上述光学层积体的一侧的偏振元件表面上。

上述偏振片中的抗静电层只要具有抗静电性能即可，没有特别限定，可以与上述光学层积体中的抗静电层同样地形成。作为抗静电剂，优选使用聚乙炔、聚苯胺、聚噻吩、聚吡咯、聚苯硫醚、聚(1，6-庚二烯)、聚亚联苯基(聚对亚苯基)、聚对苯硫醚、聚苯乙炔、聚(2，5-噻吩)或它们的衍生物等导电性高分子。

上述偏振片中的抗静电层优选厚度(干燥厚度)为10nm左右～500nm左右，特别优选为50nm～200nm。上述抗静电层的厚度是利用电子显微镜(SEM、TEM、STEM)观察界面来测定得到的值。

作为上述偏振片中的抗静电层，如上所述，可以是抗静电层单层，也可以是具有抗静电层的光学层积体。作为上述光学层积体，只要具有抗静电层即可，没有特别的限制，但优选使用本发明的光学层积体。

作为具体例，在透光性基材上形成由导电性高分子构成的抗静电层1，在其上形成6μm的硬膜层1，从而制作出光学层积体，然后在与该透光性基材的形成了这两个层的面相反的面上形成由导电性高分子构成的抗静电层2，进一步形成比上述硬膜层1薄的2μm的硬膜层2，从而制作出光学层积体1。或者，同样地操作直到在透光性基材上形成抗静电层1和硬膜层1，在该基材的反面上层积分散有作为导电性超微粒的ATO的硬膜油墨作为抗静电层3，从而制作出光学层积体2。在光学层积体1的情况中，利用丙烯酸系粘合剂等将具有抗静电层2的面粘贴到偏振元件面上；在光学层积体2的情况中，利用丙烯酸系粘合剂等将具有抗静电层3的面粘贴到偏振元件面上。

图像显示装置

还可以制作在最表面设置上述光学层积体或上述偏振片而成的图像显示装置。所述图像显示装置可以是LCD等非自发光型图像显示装置，也可以是PDP、FED、ELD(有机EL、无机EL)、CRT等自发光型图像显示装置。

作为上述非自发发光型的代表例的LCD是设置透过性显示体和从背面照射上述透过性显示体的光源装置而形成的。上述图像显示装置为LCD的情况下，在该透过性显示体的表面形成本发明的光学层积体或上述的偏振片来构成图像显示装置。

在具有上述光学层积体的液晶显示装置的情况下，光源装置的光源从光学层积体的下侧进行照射。此外，在STN型液晶显示装置中，液晶显示元件和偏振片之间可插入有相位差板。根据需要，可以在该液晶显示装置的各层间设置粘结剂层。

作为上述自发光型图像显示装置的PDP具备表面玻璃基板(在表面形成电极)和背面玻璃基板(在表面形成电极和微小的槽，在槽内形成红、绿、蓝的荧光体层)来构成，该背面玻璃基板与该表面玻璃基板对置，其间封入放电气体。上述图像显示装置为PDP的情况下，还有在上述表面玻璃基板的表面或其前面板(玻璃基板或膜基板)上设置上述的光学层积体的装置。

上述自发光型图像显示装置可以是ELD装置或CRT等图像显示装置，ELD装置是将施加电压时发光的硫化锌、二胺类物质：将发光体蒸镀到玻璃基板上，控制施加到基板上的电压来进行显示；CRT是将电信号转换成光，产生人的眼睛能够看到的图像。该情况下，在上述的各显示装置的最表面或其前面板的表面上设置上述的光学层积体。

无论在哪一种的情况下，上述图像显示装置均能够用于电视、计算机、字符处理器等显示屏的显示。特别是上述图像显示装置能够适合用于CRT、液晶面板、PDP、ELD、FED等高清晰图像用显示屏的表面。

发明效果

本发明的光学层积体能够维持透明性，稳定地发挥抗静电性能，还能够抑制制造时在涂敷机等上产生锈。因此，本发明的光学层积体可以适合地用于阴极线管显示装置(CRT)、液晶显示屏(LCD)、等离子体显示屏(PDP)、电致发光显示屏(ELD)等。

附图说明

图1是示出用TEM观察在实施例1中制作的光学层积体的截面的结果的图。

图2是示出用TEM观察在比较例3中制作的光学层积体的截面的结果的图。

具体实施方式

下面示出实施例和比较例，进一步具体说明本发明的特征。但是，本发明的范围不限于实施例。

<制备例1>

硬膜层形成用组合物1

将下述成分均匀混合分散，制备硬膜层形成用组合物1。

·季戊四醇三丙烯酸酯(日本化药制造，商品名“PET30”)：100质量份

·甲苯：43质量份

·流平剂(大日本油墨化学工业制造，商品名“MCF-350-5”)：2质量份

·聚合引发剂(汽巴精化制造，商品名“IRGACURE 184”)：4质量份

硬膜层形成用组合物2

将下述成分均匀混合分散，制备硬膜层形成用组合物2。

·季戊四醇三丙烯酸酯(日本化药制造，商品名“PET30”)：100质量份

·甲乙酮：43质量份

·流平剂(大日本油墨化学工业制造，商品名“MCF-350-5”)：2质量份

·聚合引发剂(汽巴精化制造，商品名“IRGACURE 184”)：4质量份

硬膜层形成用组合物3

使用珠磨机，将下述成分均匀混合分散，制备硬膜层形成用组合物3。

·ATO超微粒(三菱原料株式会社制造，平均1次粒径：30nm)：7质量份

·季戊四醇三丙烯酸酯树脂(日本化药株式会社制造，PET-30)：100质量份

·分散剂(味之素化学株式会社制造，AJISPER PN-411)：1.4质量份

·异丙醇：60质量份

·甲乙酮：40质量份

·聚合引发剂(汽巴精化制造，商品名“IRGACURE 184”)：4质量份

防眩层形成用组合物1

将20.96质量份的作为紫外线固化型树脂的季戊四醇三丙烯酸酯(PETA)(日本化药株式会社制造，折射率1.51)、8.02质量份的作为紫外线固化型树脂的DPHA(日本化药株式会社制造，折射率1.51)、3.10质量份的丙烯酸系聚合物(Mitsubishi Rayon制造，分子量75,000)、1.89质量份的作为光固化引发剂的IRGACURE184(汽巴精化制造)、0.32质量份的作为光固化引发剂的IRGACURE907(汽巴精化制造)、4.81质量份的作为透光性第一微粒的苯乙烯微珠(综研化学株式会社制造，粒径5.0μm，折射率1.60)、2.89质量份的作为透光性第二微粒的三聚氰胺微珠(日本触媒株式会社制造，粒径1.8μm，折射率1.68)、0.013质量份的有机硅系流平剂10-28(大日精化株式会社制造)、46.40质量份的甲苯以及11.60质量份的环己酮充分混合，调制成组合物。用孔径为30μm的聚丙烯制过滤器对该组合物进行过滤，制备出防眩层用组合物1。

防眩层形成用组合物2

防眩层用组合物

季戊四醇三丙烯酸酯(PETA)(折射率1.51)：38质量份

乙酸丙酸纤维素(分子量50,000)：0.47质量份

光固化引发剂

IRGACURE 127(汽巴精化株式会社制造)：1.98质量份

增感剂

SpeedcureMBB(LAMBSON Fine Chemicals制造)：0.33质量份

微粒

无定形二氧化硅(平均粒径1.4μm，采用硅烷偶联剂进行了表面疏水处理)：0.20质量份

无定形二氧化硅(平均粒径1.9μm，采用硅烷偶联剂进行了表面疏水处理)：3.46质量份

有机硅系流平剂：0.072质量份

甲苯：33质量份

甲乙酮：34质量份

导电性组合物

ATO超微粒(三菱原料株式会社制造，平均1次粒径：30nm)：2质量份

分散剂(味之素化学株式会社制造，AJISPER PN-411)：0.2质量份

异丙醇：4质量份

利用珠磨机使上述材料的导电性组合物良好地分散之后，与防眩层组合物一起混合，利用孔径为30μm的聚丙烯制过滤器对该组合物进行过滤，制备出防眩层用组合物2。

抗静电层形成用组合物1

将下述成分均匀混合分散，制备抗静电层形成用组合物1。

ATO分散液(日本ペルノツクス株式会社制造，商品名“PeltronC-4456S-7”)：25质量份

粘结剂(Satomar Company制造，商品名“SR-238F”)：5.5质量份

聚合引发剂(汽巴精化制造，商品名“IRGACURE184”)：0.59质量份

甲基异丁基酮：59质量份

环己酮：26质量份

抗静电层形成用组合物2

作为抗静电层形成用组合物2，使用含有聚噻吩的热干燥型树脂组合物(Idemitsu Technofine株式会社制造，商品名“EL Coat TALP2010”)。该组合物含有作为抗静电剂的聚(3，4-亚乙基二氧噻吩)、作为热塑性树脂粘结剂的MMA(甲基丙烯酸甲酯)-BA(丙烯酸丁酯)-2-HEMA(甲基丙烯酸-2-羟乙酯)共聚物。

抗静电层形成用组合物3

作为抗静电层形成用组合物3，使用含有聚噻吩的紫外线固化型树脂组合物(Idemitsu Technofine株式会社制造，商品名“EL Coat UVH515”)。该组合物含有作为抗静电剂的聚(3，4-亚乙基二氧噻吩)、作为树脂粘结剂的丙烯酸系UV固化型树脂。

<实施例1>

准备透明基材(厚度80μm，三乙酸纤维素树脂膜(富士胶片公司制造，产品名“TF80UL”))，使用绕线型涂布棒在膜的单面上涂布抗静电层用组合物2，在温度50℃的热炉中保持30秒，使涂膜中的溶剂蒸发，使涂膜固化，形成厚度约为100nm(干燥后)的透明抗静电层。然后，在抗静电层上涂布硬膜层形成用组合物1，在温度70℃的热炉中保持30秒，使涂膜中的溶剂蒸发之后，照射紫外线，直到累积光量达到46mj以使涂膜固化，形成厚度10μm(干燥时)的硬膜层，制作抗静电光学层积体。

利用透过型电子显微镜(TEM)(日本电子制造的“JEM-200X型”)，以10万倍对得到的层积体的截面进行观察。其结果见图1。由图1也可知，硬膜层的截面(纵向条纹图案)通过聚噻吩层(抗静电层：黑色层)，还发展(渗透)到基材的一部分。

<实施例2>

使用硬膜层形成用组合物2替代硬膜层形成用组合物1，除此之外，采用与实施例1相同的方式，制作抗静电光学层积体。采用与实施例1相同的方式对所得到的层积体的截面进行观察，结果与实施例1相同，确认到在基材层的截面上存在硬膜层的截面纹样，即存在被认为是硬膜层组成分渗透在基材中的部分。(抗静电层的干燥后的厚度为100nm)。

<实施例3>

使用防眩层形成用组合物1替代硬膜层形成用组合物1，将固化膜厚设定为6μm，除此之外，采用与实施例1相同的方式，制作抗静电光学层积体。(抗静电层的干燥后的厚度为100nm)。

<比较例1>

准备透明基材(厚度80μm，三乙酸纤维素树脂膜(富士胶片公司制造，产品名“TF80UL”))，使用绕线型涂布棒，在膜的单面上涂布抗静电层形成用组合物1，在温度70℃的热炉中保持30秒，使涂膜中的溶剂蒸发，然后为了防止氧抑制而进行氮气置换之后，照射紫外线，直到累积光量达到98mj，使涂膜固化，形成厚度为100nm(干燥时)的透明抗静电层。然后，在抗静电层上涂布硬膜层形成用组合物1，在温度70℃的热炉中保持30秒，使涂膜中的溶剂蒸发之后，照射紫外线，直到累积光量达到46mj以使涂膜固化，形成厚度为10μm(干燥时)的硬膜层，制作抗静电光学层积体。采用与实施例1相同的方式，对所得到的层积体的截面进行观察，观察到的结果见图2。在图2中，确认到各层的截面纹样按照层构成的顺序存在。即，在基材的截面纹样上，没有确认到除该相以外的截面纹样。并且，由于使用超微粒分散型抗静电组合物，所以雾度高，全光线透过率也较低，此外在与聚噻吩相同的膜厚(100nm)的情况下，饱和充电电压也较差，未能得到所期望的光学层积体。

<比较例2>

使用抗静电层形成用组合物3替代抗静电层形成用组合物1，形成约100nm的固化膜，使用了硬膜层形成用组合物2，除此之外，采用与比较例1相同的方式，制作出层积体。采用与实施例1相同的方式对所得到的层积体的截面进行观察，结果得到的层积体的截面与图2相同。即，由于粘结剂为紫外线固化型，所以未能在基材的截面纹样上确认到硬膜层的截面纹样的存在，密合性不良。(抗静电层的干燥后的厚度为100nm)。

<比较例3>

使用抗静电层形成组合物3，使用硬膜层形成用组合物1，除此之外采用与比较例2相同的方式，制作出层积体。采用与实施例1相同的方式对所得到的层积体的截面进行观察，结果所得到的层积体的截面与图2相同。即，由于粘结剂为紫外线固化型，所以未能在基材的截面纹样上确认到硬膜层的截面纹样的存在，密合性不良。(抗静电层的干燥后的厚度为100nm)。

<比较例4>

使用防眩层形成用组合物1替代硬膜层形成用组合物1，将固化膜厚形成为6μm，除此之外，采用与比较例1相同的方式，制作层积体。其结果，由于除了抗静电组合物之外，使用与实施例3相同的防眩性硬膜，所以应该得到相同的性能，但由于使用超微粒分散型抗静电组合物，所以雾度高，全光线透过率也低，未能得到所期望的光学层积体。(抗静电层的干燥后的厚度为100nm)。

<实施例4>

使用硬膜层形成用组合物3替代硬膜层形成用组合物1，除此之外，采用与实施例1相同的方式，制作出抗静电光学层积体。采用与实施例1相同的方式对所得到的层积体的截面进行观察，结果与实施例1相同，确认到在基材层的截面上存在硬膜层的截面纹样，即确认到存在被认为是硬膜层组成分渗透在基材中的部分。(抗静电层的干燥后的厚度为100nm)。

<实施例5>

使用防眩层形成用组合物2替代硬膜层形成用组合物1，除此之外，采用与实施例1相同的方式，制作出抗静电光学层积体。采用与实施例1相同的方式对所得到的层积体的截面进行观察，结果与实施例1相同，确认到在基材层的截面上存在硬膜层的截面纹样，即确认到存在被认为是硬膜层组成分渗透在基材中的部分。(抗静电层的干燥后的厚度为100nm)。

<试验例1>

对实施例和比较例中得到的光学层积体分别进行下述的评价试验。

其结果示于表1。

[表1]

*实施例4 AS类型：主要的AS类型为聚(3，4-亚乙基二氧噻吩)，除此之外，在HC层中还含有ATO。

**实施例5 AS类型：主要的AS类型为聚(3，4-亚乙基二氧噻吩)，除此之外，在AG层中还含有ATO。

此外，表1中的各物性采用下述方法测定。

全光线透过率(JIS K 7361)：全光线透过率(％)使用雾度计(村上色彩技术研究所制造，产品编号：HM-150)来测定。全光线透过率对于透明硬膜(Clear Hard Coat)和具有防眩性的硬膜均优选在85％以上。本发明中，在透明硬膜的情况下，可以达到约90％以上。

雾值(JIS K 7136)：雾值(％)使用雾度计(村上色彩技术研究所制造，产品编号：HM-150)来测定。硬膜层为不含用于防眩层的微珠等的透明硬膜的情况下，0.3以下的雾值(％)为合格。

饱和充电电压：利用静电衰减检测仪(SHISHIDOELECTROSTATIC：H-0110)，在距离膜(4cm×4cm见方)20mm的位置，在施加电压+10kV、25±2℃、50±10％RH条件下进行测定，测定这种情况下的饱和充电电压。在没有抗静电层的通常硬膜的情况下，饱和充电电压为2.5kV左右。在本发明中，饱和充电电压优选小于2.0kV(尤其是1.9kV以下)。

涂布密合性(JIS K 5600)：放入1mm见方的方格中，使用ニチバン制造的工业用24mm Cellotape(注册商标)，进行1次剥离，以％表示残留的格(マス目)的数量。该试验中，100/100为合格，除此之外的数值为不合格。抗静电层(AS层)的粘结剂为紫外线固化型的情况下，全部不合格，即使膜厚超过优选范围，也不合格。

重涂时(再涂)的外观：作为抗静电层的膜强度基准，目视确认硬膜层形成用组合物或防眩层形成用组合物涂布后的膜，目视确认到重涂得到的抗静电层的膜剥离(异物)。在膜强度较弱的情况下，通过涂布产生膜剥离，所以能够容易地用肉眼确认。涂膜密合力对抗静电层的外观影响很大。外观和密合性对于显示屏显示画面的美观来说，也是很重要的性能。

参考例1(硬膜层/AS层/TAC/粘结层/偏振元件/粘结层/TAC/AS层/透明粘合材/保护膜(附有透明粘合材))

准备透明基材(厚度80μm，三乙酸纤维素树脂膜(富士胶片公司制造，产品名“TF80UL”)，使用绕线型的涂布棒在膜的单面上涂布抗静电用组合物2，在温度50℃的热炉中保持30秒，使涂膜中的溶剂蒸发，将涂膜固化，形成厚度为约100nm(干燥后)的透明抗静电层。然后，在抗静电层上涂布硬膜层形成用组合物1，在温度70℃的热炉中保持30秒，使涂膜中的溶剂蒸发，然后，照射紫外线，累积光量到46mJ/m²，使涂膜固化，形成厚度10μm(干燥时)的硬膜层，制作出抗静电光学层积体。并且，采用相同的方式，在三乙酸纤维素树脂膜的单面上涂布抗静电层组合物2，并使其干燥，此外，在形成的抗静电层上粘贴透明粘合材(例如，日立化成工业株式会社)的DA-1000等两面附有保护膜的光学膜用丙烯酸系粘合剂等)，形成抗静电层涂布体。

将上述抗静电光学层积体在40℃的氢氧化钾水溶液(浓度2mol/L)中浸渍5分钟，进行皂化处理，用纯水清洗之后，在70℃下干燥5分钟。并且，采用相同的方式，对上述抗静电涂布体进行皂化处理，进行干燥。在进行了皂化处理的上述2片三乙酸纤维素树脂膜面上涂布由7％的聚乙烯醇系水溶液构成的粘结剂之后，以夹持聚乙烯醇系偏振膜的方式贴合，制作出偏振片1。

参考例2(具有3层AS层的液晶显示装置例)

偏振片1

硬膜层/AS层/TAC/粘结层/偏振元件/粘结层/TAC/AS层/透明粘合材/保护膜(附有透明粘合材)

偏振片2

保护膜(附有透明粘合材)/透明粘合材/AS层/TAC/粘结层/偏振元件/粘结层/TAC

采用与参考例1相同的方式，制作偏振片1。接着，采用与参考例1相同的方式，形成抗静电层涂布体之后，对所得到的抗静电层涂布体和未处理的三乙酸纤维素树脂膜进行皂化处理，然后，涂布由7％的聚乙烯醇系水溶液构成的粘结剂，以夹持聚乙烯醇系偏振膜的方式贴合，制作出偏振片2。

最后，用剥离了保护膜的透明粘合材，将偏振片1和偏振片2以夹持液晶盒的方式贴合，制作出液晶显示装置1。不会打乱液晶层，能够得到良好的液晶显示装置。

参考例3(具有1层AS层的偏振片制造例)

(硬膜层/AS层/TAC/粘结层/偏振元件/粘结层/TAC/透明粘合材/保护膜(附有透明粘合材))

除了没有在抗静电层涂布体上形成抗静电层之外，采用与参考例1相同的方式，形成偏振片3。

参考例4(具有1层AS层的偏振片制造例)

(硬膜层/TAC/粘结层/偏振元件/粘结层/TAC/AS层/硬膜层/透明粘合材/保护膜(附有透明粘合材))

没有在朝向图像显示装置观察侧的TAC表面上形成抗静电层，除此之外，采用与参考例1相同的方式，制作出光学层积体。

采用与参考例1的抗静电光学层积体相同的方式，在夹持偏振元件的另一TAC上形成AS层和硬膜层，构成抗静电光学层积体。但是，与参考例1不同，将硬膜层的膜厚(干燥时)设定为1.5μm。通过这样形成较薄的硬膜层，能够提高LCD面板的抗静电性能。除此之外，与参考例1相同的方式，形成偏振片4。

参考例5(具有1层AS层的液晶显示装置例)

偏振片3

硬膜层/AS层/TAC/粘结层/偏振元件/粘结层/TAC/透明粘合材/保护膜(附有透明粘合材)

偏振片5

保护膜(附有透明粘合材的)/透明粘合材/TAC/粘结层/偏振元件/粘结层/TAC

采用与参考例3相同的方式，制作偏振片3。接着，对粘贴了透明粘合材的三乙酸纤维素树脂膜和未处理三乙酸纤维素树脂膜进行皂化处理之后，涂布由7％的聚乙烯醇系水溶液构成的粘结剂，以夹持聚乙烯醇系偏振膜的方式贴合，制作出偏振片5。

最后，用剥离了保护膜的透明粘合材，将偏振片3和偏振片5以夹持液晶盒的方式贴合，制作出液晶显示装置2。与参考例2记载的具有3层AS层的液晶显示装置1相比可知，AS层为1层的情况下，抗静电性能下降，并且可知AS层多的装置得到更优异的抗静电性能。

上述的偏振片、液晶显示装置在制作过程中均未在各构成层间发生剥离等，能够确保高密合性。

用聚酯布对偏振片1～4进行20次反复摩擦，观察使烟灰接近摩擦后的面时的表面状态。根据观察结果，按照下述基准评价防灰尘附着性(抗静电性)。

评价○：没有烟灰附着，防灰尘附着效果充分

评价×：有烟灰附着，防灰尘附着效果不足

其结果列于表2。

【表2】

 

偏振片	防灰尘附着性
		偏振片1	○
偏振片2	×
		偏振片3	×
偏振片4	×

结果，具有光学层积体所含有的抗静电层以外的抗静电层的偏振片显示出特别优异的防灰尘附着效果。

【工业实用性】

通过本发明，能够得到兼备优异的抗静电性能和密合性的光学层积体及其制造方法。本发明的光学层积体能够适合地应用于阴极线管显示装置(CRT)、液晶显示屏(LCD)、等离子体显示屏(PDP)、电致发光显示屏(ELD)、FED、ELD等。

Claims (26)

1.一种光学层积体，该光学层积体是通过在透光性基材上依次形成抗静电层和硬膜层而构成的光学层积体，其特征在于，

在所述层积体的截面外观上，所述硬膜层的截面纹样即截面图案存在于从硬膜层经由抗静电层到透光性基材中，

所述截面纹样是指，在切割光学层积体的截面时，由于硬膜层的硬度高，所以硬膜层以某种切痕的外观残留，即，是指硬膜层的截面的图案，

其中，所述抗静电层使用含有抗静电剂和热塑性树脂的热干燥型组合物来形成。

2.根据权利要求1所述的光学层积体，其中，所述抗静电剂是选自聚乙炔、聚苯胺、聚噻吩、聚吡咯、聚对苯硫醚、聚(1,6-庚二烯)、聚亚联苯基（聚对亚苯基）、聚对苯硫醚、聚苯乙炔、聚呋喃、聚(3,4-亚乙基二氧噻吩)、聚异硫茚、多并苯中的至少一种导电性高分子。

3.根据权利要求1或2所述的光学层积体，其中，所述抗静电层的厚度为10nm～500nm。

4.根据权利要求1或2所述的光学层积体，其中，所述硬膜层由含有树脂和溶剂的硬膜层形成用组合物形成，所述溶剂对抗静电层的热塑性树脂具有溶解性。

5.根据权利要求3所述的光学层积体，其中，所述硬膜层由含有树脂和溶剂的硬膜层形成用组合物形成，所述溶剂对抗静电层的热塑性树脂具有溶解性。

6.根据权利要求1、2或5所述的光学层积体，其中，在所述光学层积体中实质上不存在界面。

7.根据权利要求3所述的光学层积体，其中，在所述光学层积体中实质上不存在界面。

8.根据权利要求4所述的光学层积体，其中，在所述光学层积体中实质上不存在界面。

9.根据权利要求1、2、5、7或8所述的光学层积体，其中，在所述硬膜层上形成选自由防眩层、低折射率层和防污层组成的组中的至少1层。

10.根据权利要求3所述的光学层积体，其中，在所述硬膜层上形成选自由防眩层、低折射率层和防污层组成的组中的至少1层。

11.根据权利要求4所述的光学层积体，其中，在所述硬膜层上形成选自由防眩层、低折射率层和防污层组成的组中的至少1层。

12.根据权利要求6所述的光学层积体，其中，在所述硬膜层上形成选自由防眩层、低折射率层和防污层组成的组中的至少1层。

13.根据权利要求1、2、5、7、8、10、11或12所述的光学层积体，其中，所述选自防眩层、低折射率层和防污层组成的组中的至少1层和所述硬膜层中的至少1层具有抗静电性能。

14.根据权利要求3所述的光学层积体，其中，所述选自防眩层、低折射率层和防污层组成的组中的至少1层和所述硬膜层中的至少1层具有抗静电性能。

15.根据权利要求4所述的光学层积体，其中，所述选自防眩层、低折射率层和防污层组成的组中的至少1层和所述硬膜层中的至少1层具有抗静电性能。

16.根据权利要求6所述的光学层积体，其中，所述选自防眩层、低折射率层和防污层组成的组中的至少1层和所述硬膜层中的至少1层具有抗静电性能。

17.根据权利要求9所述的光学层积体，其中，所述选自防眩层、低折射率层和防污层组成的组中的至少1层和所述硬膜层中的至少1层具有抗静电性能。

18.根据权利要求1、2、5、7、8、10、11、12、14、15、16或17所述的光学层积体，其中，所述光学层积体用作防反射用层积体。

19.根据权利要求3所述的光学层积体，其中，所述光学层积体用作防反射用层积体。

20.根据权利要求4所述的光学层积体，其中，所述光学层积体用作防反射用层积体。

21.根据权利要求6所述的光学层积体，其中，所述光学层积体用作防反射用层积体。

22.根据权利要求9所述的光学层积体，其中，所述光学层积体用作防反射用层积体。

23.根据权利要求13所述的光学层积体，其中，所述光学层积体用作防反射用层积体。

24.一种偏振片，该偏振片是具备偏振元件的偏振片，其特征在于，所述偏振片在偏振元件表面上设有权利要求1至17中任一项所述的光学层积体。

25.根据权利要求24所述的偏振片，其中，所述偏振片具有至少1层除光学层积体所含有的抗静电层以外的抗静电层。

26.一种光学层积体的制造方法，其中，在透光性基材上依次形成抗静电层和硬膜层，从而形成所述光学层积体，所述方法的特征在于，

所述抗静电层是使用含有抗静电剂和热塑性树脂的热干燥型组合物而形成的，所述硬膜层由含有树脂和溶剂的硬膜层形成用组合物形成，所述溶剂对所述抗静电层的所述热塑性树脂具有溶解性。

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