JP2001183528A - 光学フィルム及びその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 樹脂フィルム基材上に１層以上の樹脂層を形
成する際に、光学特性、面品質、あるいは帯電防止性
能、更に耐擦傷性、密着性を改善した光学フィルム及び
その製造方法を提供することにある。 【解決手段】 少なくとも樹脂と溶媒を有する含水率５
質量％以下の塗布組成物をフィルム基材上に塗布し樹脂
層を設けたことを特徴とする光学フィルム。含水率が少
なくとも５質量％以下の塗布組成物をフィルム基材上に
塗設し樹脂層を設けることを特徴とする光学フィルムの
製造方法。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、光学用途に利用さ
れる光学フィルム及びその製造方法に関するものであ
り、特に液晶表示装置あるいは有機ＥＬディスプレイ、
プラズマディスプレイ等の表示装置等に用いられる偏光
板用保護フィルム、位相差フィルム、視野角拡大フィル
ム、反射防止フィルム、防眩フィルム、輝度向上フィル
ムなどの各種機能フィルム等に利用することができる光
学フィルム及びその製造方法に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】液晶ディスプレイ用偏光板保護フィル
ム、有機ＥＬディスプレイ等に用いられる円偏光板の保
護フィルム、楕円偏光板などの光学用途に使用される光
学フィルムでは、様々な機能をもたせるために樹脂フィ
ルム基材上に樹脂層が塗設されたものである。例えば、
帯電防止機能を持たせるための帯電防止層や、表面硬度
を向上させるためのハードコート層、膜付き性を向上さ
せるための下引き層、カールを防止するためのアンチカ
ール層などである。樹脂フィルム基材上にこのような樹
脂層を１層以上塗設する場合、製造時に光学特性や面品
質或いは必要な特性において問題となることがあった。
特に帯電防止機能を持たせるための帯電防止層の場合
は、帯電防止性に問題が起こることが明らかとなった。
さらに、樹脂フィルム基材上にこのような樹脂層を２層
以上塗設する場合は、さらに複雑となり、耐擦傷性の低
下、紫外線照射後の密着性の低下などが問題となり、そ
の改善が求められていた。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】従って本発明の目的
は、樹脂フィルム基材上に１層以上の樹脂層を形成する
際に、光学特性、面品質、あるいは帯電防止性能、更に
耐擦傷性、密着性を改善した光学フィルム及びその製造
方法を提供することにある。

【０００４】

【課題を解決するための手段】本発明の上記目的は、下
記構成により達成される。 １．少なくとも樹脂と溶媒を有する含水率５質量％以下
の塗布組成物をフィルム基材上に塗布し樹脂層を設けた
ことを特徴とする光学フィルム。 ２．塗布組成物が微粒子を含有することを特徴とする前
記１に記載の光学フィルム。 ３．平均粒径５ｎｍ〜１０μｍの導電性微粒子を含有す
る樹脂層をフィルム基材上に設けた光学フィルムであっ
て、ヘイズ値が３．０％以下で、かつ透過率が９０％以
上であり、該樹脂層を設けた側の表面比抵抗値が１０¹¹
Ω／ｃｍ²以下である光学フィルム。 ４．平均粒径５ｎｍ〜１０μｍの導電性微粒子を含有す
る樹脂層をフィルム基材上に設けた後、更にその上に樹
脂層を設けた光学フィルムであって、ヘイズ値が０．５
％以下で、かつ透過率が９０％以上であり、該樹脂層を
設けた側の表面比抵抗値が１０¹¹Ω／ｃｍ²以下である
光学フィルム。 ５．視覚的直径が１５０μｍ以上の大きさを有する異物
が１個／ｍ²以下である前記３又は４に記載の光学フィ
ルム。 ６．微粒子を含む樹脂層が、微粒子１質量部あたり０．
５〜４質量部の樹脂を含有することを特徴とする前記２
〜５のいずれか１項に記載の光学フィルム。 ７．微粒子を含有する樹脂層の樹脂が熱可塑性樹脂であ
ることを特徴とする前記２〜６のいずれか１項に記載の
光学フィルム。 ８．微粒子を含有する樹脂層が、微粒子及び樹脂を溶媒
中に含有してなる含水率２％以下の塗布組成物をフィル
ム基材上に塗設したものであることを特徴とする前記３
〜７のいずれか１項に記載の光学フィルム。 ９．塗布組成物の含水率が２％以下であることを特徴と
する前記１又は２に記載の光学フィルム。 １０．重量平均分子量が４０万を越え、かつガラス転移
点（Ｔｇ）が８０〜１１０℃の樹脂を含有する少なくと
も１層以上の樹脂層を設けたことを特徴とする光学フィ
ルム。 １１．重量平均分子量が４０万を越え、かつガラス転移
点（Ｔｇ）が８０〜１１０℃の樹脂を含有する少なくと
も１層以上の樹脂層の上に、更に活性線硬化樹脂もしく
は熱硬化樹脂からなる層を設けたことを特徴とする光学
フィルム。 １２．重量平均分子量が４０万を超え、かつガラス転移
点（Ｔｇ）が８０〜１１０℃である樹脂がアクリル樹脂
もしくはその共重合体であることを特徴とする前記１０
又は１１に記載の光学フィルム。 １３．含水率が少なくとも５質量％以下の塗布組成物を
フィルム基材上に塗設し樹脂層を設けることを特徴とす
る光学フィルムの製造方法。 １４．微粒子を含む樹脂層を設けるための塗布組成物
を、含水率が少なくとも５質量％以下となるように、含
水率を減らす手段を用いつつ、１０〜１００ｍ／ｍｉｎ
の搬送速度で連続的にフィルム基材上に塗布することに
より樹脂層を設けることを特徴とする光学フィルムの製
造方法。 １５．含水率が少なくとも２質量％以下の塗布組成物を
フィルム基材上に塗設し樹脂層を設けることを特徴とす
る光学フィルムの製造方法。 １６．フィルム基材上に少なくとも１層の樹脂層を設
け、さらにその上に活性線硬化樹脂層を設けた光学フィ
ルムにおいて、ヘイズ０．５％以下でかつ透過率が９２
％以上であり、かつ活性線硬化樹脂層の鉛筆硬度が２Ｈ
以上であり、該活性線硬化樹脂層が、スチールウール＃
０００にて４．９Ｎ／ｃｍ²の応力をかけて１０往復擦
った場合に入る傷が５本以下である耐擦傷性を有し、紫
外線強度１００ｍＷ／ｃｍ²で１００時間照射後のＪＩ
Ｓ Ｋ５４００記載の碁盤目試験の評価が１０である密
着性を有することを特徴とする光学フィルム。 １７．視覚的直径が１５０μｍ以上の大きさを有する異
物が１個／ｍ²以下であることを特徴とする前記１６に
記載の光学フィルム。 １８．少なくとも一方の面が表面比抵抗値が１０¹¹Ω／
ｃｍ²以下である前記１６又は１７に記載の光学フィル
ム。 １９．フィルム基材上に固形分濃度が１〜５０質量％で
ある塗布組成物を１５μｍ以下のウェット膜厚となるよ
うに塗布、乾燥させた樹脂層を少なくとも１層設け、更
にその上に活性線硬化樹脂層を設けることを特徴とする
光学フィルムの製造方法。 ２０．ウェット膜厚が５〜１０μｍであることを特徴と
する前記１９に記載の光学フィルムの製造方法。 ２１．塗布組成物が、フィルム基材を溶解もしくは膨潤
させる溶媒を含むことを特徴とする前記１９又は２０に
記載の光学フィルムの製造方法。 ２２．フィルム基材が可塑剤又は紫外線吸収剤を含有す
ることを特徴とする前記１９〜２１のいずれか１項に記
載の光学フィルムの製造方法。 ２３．可塑剤及び／又は紫外線吸収剤を含むフィルム基
材上に少なくとも２層以上の樹脂層が設けられた光学フ
ィルムにおいて、下層が熱可塑性樹脂層であり、上層が
２．５〜６質量％の光反応開始剤を含む活性線硬化樹脂
層であることを特徴とする光学フィルム。 ２４．可塑剤及び／又は紫外線吸収剤を含むフィルム基
材上に、該フィルム基材を膨潤もしくは溶解することが
できる溶媒と熱可塑性樹脂からなる塗布組成物を塗布、
乾燥させて下層を塗設した後、固形分あたり２．５〜６
質量％の光反応開始剤を含む活性線硬化樹脂を含む塗布
組成物を塗布、乾燥させて上層を塗設することを特徴と
する光学フィルムの製造方法。 ２５．フィルム基材を膨潤もしくは溶解することができ
る溶媒と熱可塑性樹脂からなる塗布組成物を５〜１５μ
ｍのウェット膜厚で塗布、乾燥させて下層を塗設したこ
とを特徴とする前記２４に記載の光学フィルムの製造方
法。 ２６．フィルム基材がセルロースエステルフィルムであ
ることを特徴とする前記１〜１２、１６〜１８及び２３
のいずれか１項に記載の光学フィルム。 ２７．フィルム基材がセルロースエステルフィルムであ
ることを特徴とする前記１３〜１５、１９〜２２、２４
及び２５のいずれか１項に記載の光学フィルムの製造方
法。

【０００５】液晶ディスプレイあるいは有機ＥＬディス
プレイに用いる偏光板用保護フィルムなどの光学用途に
使用される光学フィルムでは、様々な機能を持たせるた
めにフィルム基材上に様々な樹脂層を塗設することがあ
る。例えば、帯電防止機能を持たせるための帯電防止層
や、表面硬度を向上させるためのハードコート層、膜付
き性を向上させるための下引き層、カールを防止するた
めのアンチカール層などである。

【０００６】樹脂フィルム基材上にこのような樹脂層を
塗設する際に、時にヘイズが高くなるという問題が発生
することがあった。さらに帯電防止機能を持たせるため
の帯電防止層を有する光学フィルムでは表面比抵抗値が
著しく高くなるという問題も併発することがあった。そ
こでこの問題を解決するため鋭意検討を重ねた結果、比
較的塗布環境の湿度が高い時、即ち、連続塗布中に塗布
組成物中の含水率がそれにより高くなるとこのような問
題が発生することが明らかとなった。すなわち、樹脂あ
るいは溶媒等の原材料に含まれる水分あるいは調液中も
しくは塗布中の環境下で空気中の湿気に起因して、塗布
組成物中の水分があるレベル以上になると急激に問題が
発生することが明らかとなった。従って、塗布組成物中
の含水率を５質量％以下、特に好ましくは２質量％以下
に維持することによって、ヘイズが低く、帯電防止性に
も優れた光学フィルムを得ることができ、さらにそれを
安定に製造する方法を提供することができたのである。

【０００７】空気中より結露等により吸湿して増加する
含水率を５質量％以下に維持する方法としては、塗布組
成物に使用されている固形分比率を変えることなく蒸発
する分の溶媒を添加することによって、相対的に含水率
を低く抑えることができ、これによって含水率を規定範
囲内に維持することができる。ここで添加する溶媒も含
水率が１％以下好ましくは０．５％以下であることが望
まれる。この方法は固形分量が大きく変化しない程度に
添加していく必要があるため、制約が多い。そのため、
より好ましくは塗布中、塗布組成物を塗布部の貯留槽に
連続的に供給する方法が用いられる。このとき新たに供
給される塗布組成物は好ましくは含水率１％以下特に好
ましくは含水率０．５％以下の塗布組成物であることが
望まれる。

【０００８】さらに好ましくは、塗布組成物に含まれる
水分を除去手段（例えばシリカゲル、モレキュラーシー
ブ、塩化カルシウム等）を用いて積極的に取り除くこと
ができる。除去手段は特にこれらに限定されるものでは
ない。又、これらの手段を塗布時に用い（即ち塗布機へ
の塗布組成物の供給時にインラインで、含水率を減らし
ながら塗布を行う）、含水率が５質量％以下好ましくは
２％以下に抑えつつ、塗布することも好ましい。含水率
は更に好ましくは１％以下であることが望ましく、実質
的に０であることが最も望ましい。実質的に０とは、
０．０１〜０．５％の含水率を意味する。塗布の際には
コーターヘッドに塗布組成物が供給された後に再度、吸
水してしまわないように、連続的に、１０〜１００ｍ／
ｍｉｎの搬送速度でフィルム基材上に塗布し、次いで乾
燥させて樹脂層を設けることが好ましい。

【０００９】又、安定生産のためには塗布組成物に含ま
れる含水率を管理項目としてチェックすることも極めて
有効である。

【００１０】本発明の光学フィルム上の樹脂層とは、熱
可塑性樹脂、活性線硬化性樹脂、熱硬化性樹脂、その他
の樹脂を主たる成分とする層であり、これらの樹脂を有
する層をフィルム基材上に塗設するにはこの様に、塗布
組成物中の含水率を５質量％以下、特に好ましくは２％
以下、更に好ましくは１％以下に維持し、塗布を行うこ
とが有用であることが判った。

【００１１】本発明の１つの態様では、良好な面品質を
もたせるために、樹脂フィルム基材上に少なくとも１層
以上の樹脂層を設けた光学フィルムにおいて、該樹脂層
の少なくとも１層の樹脂が重量平均分子量４０万を超
え、好ましくは１００万以下、かつガラス転移点（Ｔ
ｇ）が８０〜１１０℃の樹脂を用いるのが好ましい。

【００１２】樹脂層に使用される樹脂は熱可塑性樹脂で
あることが好ましく、適当な溶剤に溶解した状態でフィ
ルム基材上に塗設される。ここで使用される樹脂は、例
えばセルロースジアセテート、セルローストリアセテー
ト、セルロースアセテートブチレート、セルロースアセ
テートフタレート、セルロースアセテートプロピオネー
ト、又はセルロースナイトレート等のセルロースエステ
ル類、ポリ酢酸ビニル、ポリスチレン、ポリカーボネー
ト、ポリブチレンテレフタレート、又はコポリブチレン
／テレ／イソフタレート等のポリエステル、ポリビニル
アルコール、ポリビニルホルマール、ポリビニルアセタ
ール、ポリビニルブチラール又はポリビニルベンザール
等のポリビニルアルコール誘導体、ノルボルネン化合物
を含有するノルボルネン系ポリマー、ポリメチルメタク
リレート、（メタ）アクリル酸メチルを含む共重合体等
のアクリル樹脂を用いることが出来るが特にこれらに限
定されるものではない。この中でセルロース誘導体ある
いはアクリル樹脂が好ましい。更にアクリル樹脂が最も
好ましく用いられる。更にガラス転移点が１１０℃以
下、更に好ましくは９０℃以下の熱可塑性アクリル樹脂
が好ましく用いられる。

【００１３】ここで使用する樹脂は下層で使用している
樹脂全体の６０質量％以上、更に好ましくは８０質量％
以上であることが好ましく、必要に応じて活性線硬化樹
脂あるいは熱硬化樹脂をブレンドすることもできる。こ
れらの活性線硬化樹脂あるいは熱硬化樹脂については後
述するが、好ましい強度をもたせるために上記樹脂層の
上に塗布される場合もある。

【００１４】又、本発明の１つの態様としてこれらの層
を下層に用いる場合、微粒子を添加し密着性を改善する
方法も提供する。すなわち、該微粒子と樹脂の比率が微
粒子１質量部に対し、０．５〜４質量部である下層とす
ることによって、微粒子を添加しても密着性が低下しな
いことが明らかとなった。特に樹脂として分子量４０万
を越える、好ましくは１００万以下の熱可塑性樹脂を使
用することが好ましく。更に、ガラス転移点が１１０℃
以下の樹脂が好ましく用いられ、９０℃以下の樹脂が更
に好ましく用いられる。

【００１５】これらの微粒子としては、無機あるいは有
機の微粒子であり、例えば、無機微粒子としては酸化ケ
イ素、酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化錫、酸化亜
鉛、炭酸カルシウム、硫酸バリウム、タルク、カオリ
ン、硫酸カルシウム等を挙げることができ、また有機微
粒子としては、ポリメタアクリル酸メチルアクリレート
樹脂粉末、アクリルスチレン系樹脂粉末、ポリメチルメ
タクリレート樹脂粉末、シリコン系樹脂粉末、ポリスチ
レン系樹脂粉末、ポリカーボネート樹脂粉末、ベンゾグ
アナミン系樹脂粉末、メラミン系樹脂粉末、ポリオレフ
ィン系樹脂粉末、ポリエステル系樹脂粉末、ポリアミド
系樹脂粉末、ポリイミド系樹脂粉末、あるいはポリ弗化
エチレン系樹脂粉末等を挙げることができる。

【００１６】又、本発明の別の態様においては、本発明
の樹脂層とは活性線硬化性樹脂、熱硬化性樹脂、その他
の樹脂を主たる成分とする層も含有する。これについて
は後述するが、前記のように塗布組成物の水分含有量を
コントロールすることで良好な光学特性と強度を有する
塗布層を得ることが出来る。

【００１７】本発明の樹脂層を塗設するための塗布組成
物は、少なくとも溶剤と前記樹脂からなる。溶剤として
は、炭化水素、アルコール類、ケトン類、エステル類、
グリコールエーテル類、その他の溶媒（メチレンクロラ
イド）を適宜混合して使用することができるが特にこれ
らに限定されるものではない。

【００１８】具体的には、上記炭化水素類としては、ベ
ンゼン、トルエン、キシレン、ヘキサン、シクロヘキサ
ン等が挙げられ、アルコール類としては、メタノール、
エタノール、ｎ−プロピルアルコール、ｉｓｏ−プロピ
ルアルコール、ｎ−ブタノール、２−ブタノール、ｔ−
ブタノール、ペンタノール、２−メチル−２−ブタノー
ル、シクロヘキサノール等が挙げられ、ケトン類として
は、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチル
ケトン、シクロヘキサノン等が挙げられ、エステル類と
しては、蟻酸メチル、蟻酸エチル、酢酸メチル、酢酸エ
チル、酢酸イソプロピル、酢酸アミル、乳酸エチル、乳
酸メチル等が挙げられ、グリコールエーテル（Ｃ１〜Ｃ
４）類としては、メチルセルソルブ、エチルセルソル
ブ、プロピレングリコールモノメチルエーテル（ＰＧＭ
Ｅ）、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロ
ピレングリコールモノ−ｎ−プロピルエーテル、プロピ
レングリコールモノイソプロピルエーテル、プロピレン
グリコールモノブチルエーテル、又はプロピレングリコ
ールモノ（Ｃ１〜Ｃ４）アルキルエーテルエステル類と
しては、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセ
テート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセ
テート、その他の溶媒としてメチレンクロライド、ｎ−
メチルピロリドンなどがあげられる。特にこれらに限定
されるものではないが、これらを適宜混合した溶媒も好
ましく用いられる。

【００１９】これらの溶媒のうち、沸点が低い溶媒は蒸
発によって空気中の水分を結露させやすく、調液工程、
塗布工程にて塗布組成物中に水分を取り込みやすい。特
に、梅雨時、降雨時には外部の湿度上昇の影響を受けや
すく、湿度６５％ＲＨ以上の環境ではその影響が顕著と
なってくる。特に調液工程で樹脂の溶解時間が長時間と
なったり、塗布工程で塗布組成物が空気に暴露されてい
る時間が長くなったり、塗布組成物と空気との接触面積
が広い場合はその影響は大きくなる。

【００２０】特にウェット膜厚が１５μｍ以上であった
り、あるいは塗布乾燥時の作業環境の湿度が６５％ＲＨ
以上になる高湿度環境下では、塗布むらあるいは筋状、
ひび割れ状、窪み状の故障が発生することがあったが、
本発明の樹脂層の場合は、このような高湿度環境下でも
良好な面品質を有する樹脂層を提供することができたの
である。

【００２１】特にフィルム基材上に塗布された樹脂層の
上に活性線硬化樹脂層を塗設した場合に、下層の樹脂層
の面品質の悪さが増幅されてしまうことが判明し、光学
フィルムの製品品質を著しく低下させることがあった
が、このような層構成の光学フィルムでは、本発明の方
法による面品質の改善効果は極めて顕著であった。

【００２２】例えば、従来、可塑剤又は紫外線吸収剤を
含む樹脂フィルム基材上に下引き層あるいは帯電防止層
等の機能を有する塗布層を少なくとも１層設け、さらに
その上に活性線硬化樹脂層を設ける場合、密着性が良好
で耐擦傷性（スチールウール耐性）あるいは鉛筆硬度に
も優れるフィルムを得ることは困難であった。これは塗
布に用いられる溶媒によって基材から可塑剤等が溶出す
るため、これが活性線硬化樹脂層の硬化を阻害している
と考えられる。一方では、活性線硬化樹脂層の硬化を阻
害しにくい可塑剤を用いた場合、今度は密着性が悪くな
るという問題が生じることがわかった。

【００２３】具体的には、可塑剤としてトリフェニルフ
ォスフェートを用いたフィルム基材では、塗布層の密着
性が良好な反面、活性線硬化樹脂層の硬化が阻害され、
可塑剤としてエチルフタリルエチルグリコレートを用い
た場合は硬化阻害は少ない反面、密着性に劣るという事
がわかった。

【００２４】塗布溶媒は塗布性あるいは異物故障低減の
ため、あるいはブラッシングによるヘイズの増加など光
学性能を維持するために好ましい組成が選択されるが、
一方でこのような溶媒には樹脂フィルム基材を膨潤もし
くは溶解する成分も含まれるため、可塑剤又は紫外線吸
収剤の影響を、得られた光学フィルムが受け易いという
問題があった。そこで、これらの問題を解決するために
鋭意検討を重ねた結果、樹脂フィルム基材上に少なくと
も１層の樹脂層を設け更にその上に活性線硬化樹脂層を
設けた光学フィルムにおいて、該樹脂層を、固形分濃度
が０．５〜５０質量％である塗布組成物をウェット膜厚
で１５μｍ以下で、特に好ましくは５〜１０μｍとなる
ように塗布、乾燥させ、その上に活性線硬化樹脂層を設
けることによって、この問題を解決できることを見いだ
したのである。これによって、前記樹脂層を塗設する際
の塗布組成物に前記樹脂フィルム基材を膨潤もしくは溶
解する溶媒を含む場合であっても耐擦傷性（スチールウ
ール耐性）及び鉛筆硬度にも優れ、密着性も良好であ
り、しかも異物故障の少ないフィルムが得られたのであ
る。特に活性線硬化樹脂層の硬化阻害を起こしやすい可
塑剤であるリン酸エステル系可塑剤（例えばトリフェニ
ルホスフェート等）を使用しても十分な効果があり、耐
候性試験による紫外線照射後であっても密着性にも優れ
た光学フィルムが得られる。

【００２５】更に、この問題を解決するための別の実施
態様では、可塑剤又は紫外線吸収剤を含有する樹脂フィ
ルム基材上に少なくとも２層以上の樹脂層を設ける光学
フィルムの製造方法において、樹脂フィルムを膨潤もし
くは溶解することができる溶媒と熱可塑性樹脂からなる
塗布組成物を塗布、乾燥させて下層を塗設した後、固形
分あたり２．５〜６質量％の重合開始剤を含む活性線硬
化樹脂を含む塗布組成物を塗布、乾燥させて上層を塗設
することによっても耐擦傷性（スチールウール耐性）あ
るいは鉛筆硬度にも優れ、しかも異物故障の少ない（視
覚的直径が１５０μｍ以上の大きさを有する異物が１個
／ｍ²以下である）フィルムが得られたのである。さら
に、これらを組み合わせることによってさらに耐擦傷性
（スチールウール耐性）あるいは鉛筆硬度に優れた光学
フィルムを提供することができたのである。

【００２６】本発明でいう異物の視覚的直径とは、例え
ば、直径１００μｍの異物とは、塗膜の基準面（フィル
ム基材面）に対して塗膜表面の厚み変化率が２μｍ（塗
膜の厚み変化）／１００μｍ（基準面上の距離）以上で
塗膜の厚みが０．５μｍ以上変化した突起状故障及び／
又は窪み状部分の範囲を略円形として見たときの直径
が、１００μｍの異物であり、これを目視で１００μｍ
の大きさの異物故障としている。同様に前記の直径が１
５０μｍの故障を１５０μｍの大きさの異物故障として
いる。実際には、前記の１００μｍの大きさの異物故障
と１５０μｍの大きさの異物故障の見本を用意し、１０
０μｍの大きさの異物故障の見本と１５０μｍの大きさ
の異物故障の見本の中間の大きさを有する異物故障を直
径１００〜１５０μｍの異物数としてカウントする。同
様に１５０μｍの大きさの異物故障の見本に対し、これ
同等もしくはこれ以上の大きさの異物故障を１５０μｍ
以上の異物としてカウントした。

【００２７】以上により、フィルム基材上に少なくとも
１層の樹脂層を設け、さらにその上に活性線硬化樹脂層
を設ける事により、ヘイズ０．５％以下でかつ透過率が
９２％以上であり、かつ活性線硬化樹脂層の鉛筆硬度が
２Ｈ以上であり、該活性線硬化樹脂層が、スチールウー
ル＃０００にて４．９Ｎ／ｃｍ²の応力をかけて１０往
復擦った場合に入る傷が５本以下である耐擦傷性を有
し、紫外線強度１００ｍＷ／ｃｍ²で１００時間照射後
のＪＩＳ Ｋ５４００記載の碁盤目試験の評価が１０で
ある密着性を有する充分に強度の高い光学特性にも優れ
た光学フィルムを得ることができる。

【００２８】更に、視覚的直径が１５０μｍ以上の大き
さを有する異物が１個／ｍ²以下、更に好ましくは同直
径が１００μｍ以上の異物が１個／ｍ²以下である光学
フィルムを得ることが出来、更に表面比抵抗値が１０¹¹
Ω／ｃｍ²以下の優れた帯電防止特性を付与することも
できたのである。本発明で光学フィルムの基材として用
いられる樹脂フィルムは特に限定はされないが、例え
ば、ポリエステルフィルム、ポリエチレンフィルム、ポ
リプロピレンフィルム、セロファン、セルロースジアセ
テートフィルム、セルロースアセテートブチレートフィ
ルム、セルロースアセテートフタレートフィルム、セル
ロースアセテートプロピオネートフィルム（ＣＡＰフィ
ルム）、セルローストリアセテート、セルロースナイト
レート等のセルロースエステル類又はそれらの誘導体か
らなるフィルム、ポリ塩化ビニリデンフィルム、ポリビ
ニルアルコールフィルム、エチレンビニルアルコールフ
ィルム、シンジオタクティックポリスチレン系フィル
ム、ポリカーボネートフィルム、ノルボルネン樹脂系フ
ィルム、ポリメチルペンテンフィルム、ポリエーテルケ
トンフィルム、ポリエーテルスルホンフィルム、ポリス
ルホン系フィルム、ポリエーテルケトンイミドフィル
ム、ポリアミドフィルム、フッ素樹脂フィルム、ナイロ
ンフィルム、ポリメチルメタクリレートフィルム、アク
リルフィルムあるいはポリアリレート系フィルム等を挙
げることができるが、本発明には、セルローストリアセ
テートフィルム（ＴＡＣフィルム）等のセルロースエス
テルフィルム、ポリカーボネート（以下ＰＣと略すこと
がある）フィルム、シンジオタクティックポリスチレン
系フィルム、ポリアリレート系フィルム、ノルボルネン
樹脂系フィルム及びポリスルホン系フィルムが透明性、
機械的性質、光学的異方性がない点など好ましく、特に
セルロースエステルフィルム（ＣＡＰフィルム、ＴＡＣ
フィルム）及びＰＣフィルムが、それらの中でも、製膜
性が容易で加工性に優れているため好ましく用いられ、
特にＴＡＣフィルムを使用する場合、著しい効果が認め
られた。

【００２９】セルロースエステルフィルムを用いる場
合、本発明の各塗布層塗設前にセルロースエステルフィ
ルムがアルカリ鹸化処理されていても、塗布後にアルカ
リ鹸化処理してもよい。例えば、製膜後アルカリ鹸化処
理した後、帯電防止層及び／又は紫外線硬化樹脂層ある
いは更に反射防止層を塗設することもできるし、バック
コート層、帯電防止層、紫外線硬化樹脂層を塗設した
後、アルカリ鹸化処理し、さらに反射防止層を塗設する
こともできる。

【００３０】次に、ＴＡＣフィルムの製膜法について述
べるが、ＣＡＰも同様に製膜することができる。ＴＡＣ
フィルムは一般的に、ＴＡＣフレーク原料及び可塑剤を
メチレンクロライドに溶解して粘稠液とし、これに可塑
剤を溶解してドープとなし、エクストルーダーダイスか
ら、エンドレスに回転するステンレス等の金属ベルト
（バンドともいう）上に流延して、乾燥させ、生乾きの
状態でベルトから剥離し、ロール等の搬送装置により、
両面から乾燥させて巻き取り、製造される。ＰＣフィル
ムについてもＴＡＣフィルムと同様に製膜することが出
来る。

【００３１】なお、巻き取られたＴＡＣ又はＰＣフィル
ムは次ぎの塗布工程で、例えば、帯電防止塗布液組成物
等が塗布されるが、一般的には一つの塗布が終わる毎に
巻き取り、また次の塗布を行うというように断続的に塗
布を行っている。この方法であると、収率が落ちたり、
輸送コストがかかったり、フィルムを痛めやすいという
欠点があった。本発明者らは一つの工程内で連続して色
々な塗布組成物を次々とＴＡＣ又はＰＣフィルム上に塗
布を行うことにより、収率が上がり、コストが安くな
り、フィルムの損傷もなく、フィルムとの接着性あるい
は塗布層間の接着性がより優れたフィルムが得られるこ
とを発見し、連続塗布方式の方が好ましいことを見いだ
した。更に、ＴＡＣ又はＰＣフィルムの製膜のラインと
塗布ラインとを結合させるいわゆるインライン塗布（製
膜と塗布が同一ライン内にある）は収率、コスト、接着
性などが、より優れていることを見いだした。したがっ
て、本発明のように、多種類の塗布を行うには、断続的
な塗布よりも連続塗布方式が好ましく、特に連続方式よ
りもインライン方式の方が好ましい。

【００３２】上記可塑剤としては、リン酸エステルまた
はカルボン酸エステルが好ましく用いられる。リン酸エ
ステルとしては、トリフェニルフォスフェート（ＴＰ
Ｐ）およびトリクレジルホスフェート（ＴＣＰ）、ビフ
ェニル−ジフェニルホスフェート、ジメチルエチルホス
フェートが含まれる。カルボン酸エステルとしては、フ
タル酸エステルおよびクエン酸エステルが代表的なもの
である。フタル酸エステルの例には、ジメチルフタレー
ト（ＤＭＰ）、ジエチルフタレート（ＤＥＰ）、ジブチ
ルフタレート（ＤＢＰ）、ジオクチルフタレート（ＤＯ
Ｐ）およびジエチルヘキシルフタレート（ＤＥＨＰ）、
エチルフタリルエチルグリコレート等が用いられる。ク
エン酸エステルとしては、クエン酸アセチルトリエチル
（ＯＡＣＴＥ）およびクエン酸アセチルトリブチル（Ｏ
ＡＣＴＢ）が用いられる。その他のカルボン酸エステル
の例には、オレイン酸ブチル、リシノール酸メチルアセ
チル、セバシン酸ジブチル、種々のトリメリット酸エス
テルが含まれる。リン酸エステル系可塑剤（ＴＰＰ、Ｔ
ＣＰ、ビフェニル−ジフェニルホスフェート、ジメチル
エチルホスフェート）、フタル酸エステル系可塑剤（Ｄ
ＭＰ、ＤＥＰ、ＤＢＰ、ＤＯＰ、ＤＥＨＰ）が好ましく
用いられる。このほか、ポリ酢酸ビニル共重合体、脂肪
族直鎖状ポリエステル、メチルメタクリレート系共重合
物などの重合平均分子量１０００〜１０００００の高分
子化合物を高分子可塑剤として添加することができる。

【００３３】又、この中でもトリフェニルフォスフェー
ト（ＴＰＰ）、エチルフタリルエチルグリコレートが特
に好ましく用いられる。

【００３４】可塑剤はＴＡＣフィルムへの耐水性付与、
あるいはその透湿性改善のため、重要な素材であるが、
添加量が多すぎると塗布層への悪影響あるいは、製造ラ
インが可塑剤で汚れやすくなるという問題がある。

【００３５】可塑剤の添加量はフィルム中に通常２〜１
５質量％で添加され、好ましくは４〜８質量％で添加す
ることが望ましい。

【００３６】ＰＣフィルムにも上記可塑剤を添加するこ
とができる。

【００３７】また、本発明に有用な基材であるＴＡＣ又
はＰＣフィルム中に、紫外線吸収剤を含有させることに
よって、耐光性に優れた偏光板用保護フィルムを得るこ
とが出来る。本発明に有用な紫外線吸収剤としては、サ
リチル酸誘導体（ＵＶ−１）、ベンゾフェノン誘導体
（ＵＶ−２）、ベンゾトリアゾール誘導体（ＵＶ−
３）、アクリロニトリル誘導体（ＵＶ−４）、安息香酸
誘導体（ＵＶ−５）又は有機金属錯塩（ＵＶ−６）等が
あり、それぞれ（ＵＶ−１）としては、サリチル酸フェ
ニル、４−ｔ−ブチルフェニルサリチル酸等を、（ＵＶ
−２）としては、２−ジヒドロキシベンゾフェノン、２
−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン等を、（Ｕ
Ｖ−３）としては、２−（２′−ヒドロキシ−５′−メ
チルフェニル）−ベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒ
ドロキシ−３′−５′−ジ−ブチルフェニル）−５−ク
ロロベンゾトリアゾール等を、（ＵＶ−４）としては、
２−エチルヘキシル−２−シアノ−３，３′−ジフェニ
ルアクリレート、メチル−α−シアノ−β−（ｐ−メト
キシフェニル）アクリレート等を、（ＵＶ−５）として
は、レゾルシノール−モノベンゾエート、２′，４′−
ジ−ｔ−ブチルフェニル−３，５−ｔ−ブチル−４−ヒ
ドロキシベンゾエート等を、（ＵＶ−６）としては、ニ
ッケルビス−オクチルフェニルサルファミド、エチル−
３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジルリン
酸のニッケル塩等を挙げることができる。

【００３８】又、すべり性を改善するために、これら基
材透明フィルムを製造する際のドープ中に、シリカ等の
微粒子（平均粒径０．００５〜０．２μｍ）を０．０１
〜０．５質量％添加することもできる。例えば日本アエ
ロジル社製アエロジル２００Ｖ、アエロジルＲ９７２Ｖ
などを添加することができる。すべり性は鋼球での測定
で、動摩擦係数０．４以下好ましくは０．２以下である
ことが望まれる。すべり性の付与は後述のブロッキング
防止層によっても行うことができる。

【００３９】本発明の光学フィルムでフィルム基材上に
塗設される樹脂層は光学フィルムに様々な機能を付与す
る表面加工のための樹脂層である。この表面加工として
は例えばブロッキング防止加工、防眩加工、反射防止加
工、クリアハード加工、帯電防止加工、カール防止加
工、易接着加工、赤外線吸収加工、等が挙げられる。こ
こでクリアハード加工とは樹脂フィルムの表面に耐摩擦
性・耐擦傷性、耐薬品性等の耐久性を付与するものであ
り、具体的には後述する活性線硬化樹脂層を設けること
による方法が好ましいものとして挙げられる。

【００４０】本発明の光学フィルム上の樹脂層とは、熱
可塑性樹脂の他、活性線硬化性樹脂、熱硬化性樹脂、そ
の他の樹脂を主たる成分とする層である。

【００４１】本発明の樹脂フィルム基材上に１層以上の
樹脂層を形成する光学フィルムとしては、下記の例があ
げられるが、特にこれらに限定されるものではない。

【００４２】樹脂フィルム／ブロッキング防止層 樹脂フィルム／帯電防止層 樹脂フィルム／光拡散層 樹脂フィルム／紫外線吸収層 クリアハード層（上層）／帯電防止層（下層）／樹脂フ
ィルム／アンチカール層兼ブロッキング防止層 クリアハード層（上層）／下引き層（下層）／樹脂フィ
ルム／アンチカール層兼ブロッキング防止層 クリアハード層／樹脂フィルム／帯電防止層（下層）／
易接着層兼ブロッキング防止層（上層） 本発明について、樹脂フィルム基材上に帯電防止層を設
ける場合とさらにその上にクリアハードコート層を設け
る場合とで説明する。

【００４３】帯電防止加工とは、樹脂フィルムの取扱の
際に、この樹脂フィルムが帯電するのを防ぐ機能を付与
するものであり、具体的には、イオン導電性物質や導電
性微粒子を含有する層を設けることによって行う。ここ
でイオン導電性物質とは電気伝導性を示し、電気を運ぶ
担体であるイオンを含有する物質のことであるが、例と
してはイオン性高分子化合物を挙げることができる。

【００４４】イオン性高分子化合物としては、特公昭４
９−２３８２８号、同４９−２３８２７号、同４７−２
８９３７号にみられるようなアニオン性高分子化合物；
特公昭５５−７３４号、特開昭５０−５４６７２号、特
公昭５９−１４７３５号、同５７−１８１７５号、同５
７−１８１７６号、同５７−５６０５９号などにみられ
るような、主鎖中に解離基をもつアイオネン型ポリマ
ー；特公昭５３−１３２２３号、同５７−１５３７６
号、特公昭５３−４５２３１号、同５５−１４５７８３
号、同５５−６５９５０号、同５５−７７４６号、同５
７−１１３４２号、同５７−１９７３５号、特公昭５８
−５６８５８号、特開昭６１−２７８５３号、同６２−
９３４６号にみられるような、側鎖中にカチオン性解離
基をもつカチオン性ペンダント型ポリマー；等を挙げる
ことができる。

【００４５】これらのうち、好ましいのは、導電性物質
が微粒子状をしており、上記樹脂中にこれらを微分散し
添加したものであって、これらに用いられる好ましい導
電性物質として、金属酸化物やこれらの複合酸化物から
なる導電性微粒子及び特開平９−２０３８１０号に記載
されているようなアイオネン導電性ポリマーあるいは分
子間架橋を有する第４級アンモニウムカチオン導電性ポ
リマー粒子などを含有することが望ましい。好ましい粒
径としては５ｎｍ〜１０μｍの範囲であり、更に好まし
い範囲は用いられる微粒子の種類に依存する。

【００４６】導電性微粒子である金属酸化物の例として
は、ＺｎＯ、ＴｉＯ₂、ＳｎＯ₂、Ａｌ₂Ｏ₃、Ｉｎ₂Ｏ₃、
ＳｉＯ₂、ＭｇＯ、ＢａＯ、ＭｏＯ₂、Ｖ₂Ｏ₅等、或いは
これらの複合酸化物が好ましく、特にＺｎＯ、ＴｉＯ₂
及びＳｎＯ₂が好ましい。異種原子を含む例としては、
例えばＺｎＯに対してはＡｌ、Ｉｎ等の添加、ＴｉＯ₂
に対してはＮｂ、Ｔａ等の添加、又ＳｎＯ₂に対して
は、Ｓｂ、Ｎｂ、ハロゲン元素等の添加が効果的であ
る。これら異種原子の添加量は０．０１ｍｏｌ％〜２５
ｍｏｌ％の範囲が好ましいが、０．１ｍｏｌ％〜１５ｍ
ｏｌ％の範囲が特に好ましい。

【００４７】また、これらの導電性を有するこれら金属
酸化物粉体の体積抵抗率は１０⁷Ωｃｍ以下特に１０⁵Ω
ｃｍ以下であって、１次粒子径が１００Å以上０．２μ
ｍ以下で、高次構造の長径が３０ｎｍ以上６μｍ以下で
ある特定の構造を有する粉体を導電層に体積分率で０．
０１％以上２０％以下含んでいることが好ましい。

【００４８】又、分散性粒状ポリマーとしての架橋型カ
チオン性導電性ポリマーの特徴は、粒子内のカチオン成
分を高濃度、高密度に持たせることができるため、優れ
た導電性を有しているばかりでなく、低相対湿度下にお
いても導電性の劣化は見られず、粒子同志も分散状態で
はよく分散されているにもかかわらず、塗布後造膜過程
において粒子同志の接着性もよいため膜強度も強く、ま
た他の物質例えば支持体にも優れた接着性を有し、耐薬
品性に優れている。

【００４９】帯電防止層に用いられるこれら架橋型のカ
チオン性導電性ポリマーである分散性粒状ポリマーは一
般に約１０ｎｍ〜０．３μｍの粒子サイズ範囲にあり、
好ましくは５０ｎｍ〜０．１５μｍの範囲の粒子サイズ
が用いられる。ここで用いている“分散性粒状性ポリマ
ー”の語は、視覚的観察によって透明またはわずかに濁
った溶液に見えるが、電子顕微鏡の下では粒状分散物と
して見えるポリマーである。下層塗布組成物に上層の膜
厚に相当する粒子径よりも大きなゴミ（異物）が実質的
に含まれない塗布組成物を用いることによって、上層の
異物故障を防止することができる。

【００５０】該微粒子と樹脂の比率は微粒子１質量部に
対して、樹脂が０．５〜４質量部が密着性の点で好まし
く、特に紫外線照射後の密着性では微粒子１質量部に対
して、樹脂が１〜２質量部であることが好ましい。

【００５１】帯電防止層等の樹脂層として用いられる樹
脂としては、重量平均分子量が４０万を超え、ガラス転
移点が８０〜１１０℃である前述の熱可塑性樹脂が、光
学特性及び塗布層の面品質の点で好ましい。ガラス転移
点はＪＩＳ Ｋ７１２１に記載の方法にて求めることが
できる。ここで使用される樹脂は、例えばセルロースジ
アセテート、セルローストリアセテート、セルロースア
セテートブチレート、セルロースアセテートフタレー
ト、セルロースアセテートプロピオネート、又はセルロ
ースナイトレート等のセルロース誘導体、ポリ酢酸ビニ
ル、ポリスチレン、ポリカーボネート、ポリブチレンテ
レフタレート、又はコポリブチレン／テレ／イソフタレ
ート等のポリエステル、ポリビニルアルコール、ポリビ
ニルホルマール、ポリビニルアセタール、ポリビニルブ
チラール、又はポリビニルベンザール等のポリビニルア
ルコール誘導体、ノルボルネン化合物を含有するノルボ
ルネン系ポリマー、ポリメチルメタクリレート、ポリエ
チルメタクリレート、ポリプロピルメタクリレート、ポ
リブチルメタクリレート、ポリメチルアクリレート、メ
タクリル酸メチルとアクリル酸メチルの共重合体等のア
クリル樹脂もしくはアクリル樹脂とその他樹脂との共重
合体を用いることが出来るが特にこれらに限定されるも
のではない。この中でセルロース誘導体あるいはアクリ
ル樹脂が好ましく。更にアクリル樹脂が最も好ましく用
いられる。例えば、アクリペットＭＤ、ＶＨ、ＭＦ、Ｖ
（三菱レーヨン（株）製）、ハイパールＭ−４００３、
Ｍ−４００５、Ｍ−４００６、Ｍ−４２０２、Ｍ−５０
００、Ｍ−５００１、Ｍ−４５０１（根上工業株式会社
製）、 ダイヤナールＢＲ−５０、ＢＲ−５２、ＢＲ−
５３、ＢＲ−６０、ＢＲ−６４、ＢＲ−７３、ＢＲ−７
５、ＢＲ−７７、ＢＲ−７９、ＢＲ−８０、ＢＲ−８
２、ＢＲ−８３、ＢＲ−８５、ＢＲ−８７、ＢＲ−８
８、ＢＲ−９０、ＢＲ−９３、ＢＲ−９５、ＢＲ−１０
０、ＢＲ−１０１、ＢＲ−１０２、ＢＲ−１０５、ＢＲ
−１０６、ＢＲ−１０７、ＢＲ−１０８、ＢＲ−１１
２、ＢＲ−１１３、ＢＲ−１１５、ＢＲ−１１６、ＢＲ
−１１７、ＢＲ−１１８等（三菱レーヨン（株）製）の
アクリル及びメタクリル系モノマーを原料として製造し
た各種ホモポリマー並びにコポリマーなどが好ましく用
いられる。

【００５２】ここで使用する樹脂は下層で使用している
樹脂全体の６０質量％以上、更に好ましくは８０質量％
以上であることが好ましく、必要に応じて活性線硬化樹
脂あるいは熱硬化樹脂を添加することもできる。これら
の樹脂はバインダーとして前述の適当な溶剤に溶解した
状態で塗設される。

【００５３】帯電防止層の塗布組成物として用いられる
有機溶媒としては、前述の樹脂層を塗設する溶媒として
挙げられたものが好ましく用いられる。

【００５４】本発明の塗布組成物を塗布する方法は、ド
クターコート、エクストルージョンコート、スライドコ
ート、ロールコート、グラビアコート、ワイヤバーコー
ト、リバースコート、カーテンコート、押し出しコート
あるいは米国特許第２，６８１，２９４号明細書に記載
のホッパーを使用するエクストルージョンコート方法等
により０．１〜１０μｍの乾燥膜厚となるように塗布す
ることが出来る。好ましくは通常０．１〜１μｍの乾燥
膜厚となるように塗布される。

【００５５】本発明の樹脂層を設けた光学フィルムは樹
脂層が帯電防止層に限定されるものではない。使用する
樹脂としては特に熱可塑性樹脂からなる樹脂層で効果が
認められており、さらにポリメチルメタクリレート等の
アクリル樹脂で特に効果がある。

【００５６】更に、前記帯電防止層である下層の上にク
リアハードコート層である上層を設ける場合で説明す
る。本発明では、上層に用いられるバインダーは特に限
定はされないが、特に活性線硬化樹脂あるいは熱硬化樹
脂が用いることが好ましい。

【００５７】前述したように、本発明の光学フィルム上
の樹脂層には活性線硬化樹脂あるいは熱硬化樹脂が含ま
れるが、ここで、これらの活性線硬化性樹脂及び特に、
クリアハードコート加工のために活性線硬化性樹脂層が
用いられる例について説明する。

【００５８】活性線硬化樹脂層とは紫外線や電子線のよ
うな活性線照射により架橋反応などを経て硬化する樹脂
を主たる成分とする層をいう。活性線硬化樹脂としては
紫外線硬化性樹脂や電子線硬化性樹脂などが代表的なも
のとして挙げられるが、紫外線や電子線以外の活性線照
射によって硬化する樹脂でもよい。紫外線硬化性樹脂と
しては、例えば、紫外線硬化型アクリルウレタン系樹
脂、紫外線硬化型ポリエステルアクリレート系樹脂、紫
外線硬化型エポキシアクリレート系樹脂、紫外線硬化型
ポリオールアクリレート系樹脂、又は紫外線硬化型エポ
キシ樹脂等を挙げることが出来る。

【００５９】紫外線硬化型アクリルウレタン系樹脂は、
一般にポリエステルポリオールにイソシアネートモノマ
ー、もしくはプレポリマーを反応させて得られた生成物
に更に２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロ
キシエチルメタクリレート（以下アクリレートにはメタ
クリレートを包含するものとしてアクリレートのみを表
示する）、２−ヒドロキシプロピルアクリレート等の水
酸基を有するアクリレート系のモノマーを反応させるこ
とによって容易に得ることが出来る（例えば特開昭５９
−１５１１１０号）。

【００６０】紫外線硬化型ポリエステルアクリレート系
樹脂は、一般にポリエステルポリオールに２−ヒドロキ
シエチルアクリレート、２−ヒドロキシアクリレート系
のモノマーを反応させることによって容易に得ることが
出来る（例えば、特開昭５９−１５１１１２号）。

【００６１】紫外線硬化型エポキシアクリレート系樹脂
の具体例としては、エポキシアクリレートをオリゴマー
とし、これに反応性希釈剤、光反応開始剤を添加し、反
応させたものを挙げることが出来る（例えば、特開平１
−１０５７３８号）。この光反応開始剤としては、ベン
ゾイン誘導体、オキシムケトン誘導体、ベンゾフェノン
誘導体、チオキサントン誘導体等のうちから、１種もし
くは２種以上を選択して使用することが出来る。

【００６２】また、紫外線硬化型ポリオールアクリレー
ト系樹脂の具体例としては、トリメチロールプロパント
リアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアク
リレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペ
ンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリ
スリトールヘキサアクリレート、アルキル変性ジペンタ
エリスリトールペンタアクリレート等を挙げることが出
来る。これらの樹脂は通常公知の光増感剤と共に使用さ
れる。また上記光反応開始剤も光増感剤としても使用出
来る。具体的には、アセトフェノン、ベンゾフェノン、
ヒドロキシベンゾフェノン、ミヒラーズケトン、α−ア
ミロキシムエステル、チオキサントン等及びこれらの誘
導体を挙げることが出来る。また、エポキシアクリレー
ト系の光反応剤の使用の際、ｎ−ブチルアミン、トリエ
チルアミン、トリ−ｎ−ブチルホスフィン等の増感剤を
用いることが出来る。塗布乾燥後に揮発する溶媒成分を
除いた紫外線硬化性樹脂組成物に含まれる光反応開始剤
又光増感剤は該組成物の２．５〜６質量％であることが
特に好ましい。２．５％未満では樹脂フィルムから溶出
する可塑剤及び／又は紫外線吸収剤によって硬化阻害を
受け、耐擦傷性が低下し、逆に６質量％を超えると相対
的に紫外線硬化性樹脂成分が減るため逆に耐擦傷性が低
下したり、塗布性が悪化するなどのため塗膜の面品質を
悪くすることがある。

【００６３】樹脂モノマーとしては、例えば、不飽和二
重結合が一つのモノマーとして、メチルアクリレート、
エチルアクリレート、ブチルアクリレート、酢酸ビニ
ル、ベンジルアクリレート、シクロヘキシルアクリレー
ト、スチレン等の一般的なモノマーを挙げることが出来
る。また不飽和二重結合を二つ以上持つモノマーとし
て、エチレングリコールジアクリレート、プロピレング
リコールジアクリレート、ジビニルベンゼン、１，４−
シクロヘキサンジアクリレート、１，４−シクロヘキシ
ルジメチルアジアクリレート、前出のトリメチロールプ
ロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラ
アクリルエステル等を挙げることができる。

【００６４】紫外線硬化樹脂としては、例えば、アデカ
オプトマーＫＲ・ＢＹシリーズ ＫＲ−４００、ＫＲ−
４１０、ＫＲ−５５０、ＫＲ−５６６、ＫＲ−５６７、
ＢＹ−３２０Ｂ、（以上 旭電化工業株式会社製）ある
いはコーエイハードＡ−１０１−ＫＫ、Ａ−１０１−Ｗ
Ｓ、Ｃ−３０２、Ｃ−４０１−Ｎ、Ｃ−５０１、Ｍ−１
０１、Ｍ−１０２、Ｔ−１０２、Ｄ−１０２、ＮＳ−１
０１、ＦＴ−１０２Ｑ８、ＭＡＧ−１−Ｐ２０、ＡＧ−
１０６、Ｍ−１０１−Ｃ（以上 広栄化学工業株式会社
製）、あるいはセイカビーム ＰＨＣ２２１０（Ｓ）、
ＰＨＣ Ｘ−９（Ｋ−３）、ＰＨＣ２２１３、ＤＰ−１
０、ＤＰ−２０、ＤＰ−３０、Ｐ１０００、Ｐ１１０
０、Ｐ１２００、Ｐ１３００、Ｐ１４００、Ｐ１５０
０、Ｐ１６００、ＳＣＲ９００（以上 大日精化工業株
式会社製）、あるいはＫＲＭ７０３３、ＫＲＭ７０３
９、ＫＲＭ７１３０、ＫＲＭ７１３１、ＵＶＥＣＲＹＬ
２９２０１、ＵＶＥＣＲＹＬ２９２０２（以上 ダイセ
ル・ユーシービー株式会社）、あるいはＲＣ−５０１
５、ＲＣ−５０１６、、ＲＣ−５０２０、ＲＣ−５０３
１、ＲＣ−５１００、ＲＣ−５１０２、ＲＣ−５１２
０、ＲＣ−５１２２、ＲＣ−５１５２、ＲＣ−５１７
１、ＲＣ−５１８０、ＲＣ−５１８１（以上大日本イン
キ化学工業株式会社製）、あるいはオーレックスＮｏ．
３４０クリヤ（中国塗料株式会社製）、あるいはサンラ
ッド Ｈ−６０１（三洋化成工業株式会社製）、あるい
はＳＰ−１５０９、ＳＰ−１５０７（昭和高分子株式会
社製）、あるいはＲＣＣ−１５Ｃ（グレース・ジャパン
株式会社製）、アロニックスＭ−６１００、Ｍ−８０３
０、Ｍ−８０６０（以上、東亞合成株式会社製）あるい
はこの他の市販のものから適宜選択して利用することも
できる。

【００６５】活性線硬化樹脂層の塗布組成物は固形分濃
度は１０〜９５質量％であることが好ましく、塗布方法
により適当な濃度が選ばれる。

【００６６】活性線硬化性樹脂を光硬化反応により硬化
皮膜層を形成するための光源としては、紫外線を発生す
る光源であればいずれでも使用出来る。例えば、低圧水
銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、カーボ
ンアーク灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ等
を用いることが出来る。照射条件はそれぞれのランプに
よって異なるが、照射光量は２０〜１００００ｍＪ／ｃ
ｍ²程度あればよく、好ましくは、５０〜２０００ｍＪ
／ｃｍ²である。近紫外線領域から可視光線領域にかけ
てはその領域に吸収極大のある増感剤を用いることによ
って使用出来る。

【００６７】活性線硬化樹脂層を塗設する際の溶媒とし
て前述の樹脂層を塗設する溶媒、例えば、炭化水素類、
アルコール類、ケトン類、エステル類、グリコールエー
テル類、その他の溶媒の中から適宜選択し、あるいは混
合されて利用できる。好ましくは、プロピレングリコー
ルモノ（Ｃ１〜Ｃ４）アルキルエーテル又はプロピレン
グリコールモノ（Ｃ１〜Ｃ４）アルキルエーテルエステ
ルを５質量％以上、さらに好ましくは５〜８０質量％以
上含有する溶媒が用いられる。

【００６８】紫外線硬化性樹脂組成物塗布液の塗布方法
としては、グラビアコーター、スピナーコーター、ワイ
ヤーバーコーター、ロールコーター、リバースコータ
ー、押出コーター、エアードクターコーター等公知の方
法を用いることが出来る。塗布量はウェット膜厚で０．
１〜３０μｍが適当で、好ましくは、０．５〜１５μｍ
である。塗布速度は好ましくは１０〜６０ｍ／ｍｉｎで
行われる。

【００６９】紫外線硬化性樹脂組成物は塗布後、速やか
に乾燥された後、紫外線を光源より照射するが、照射時
間は０．５秒〜５分がよく、紫外線硬化性樹脂の硬化効
率、作業効率とから３秒〜２分がより好ましい。こうし
て得た硬化皮膜層に、液晶表示装置パネルの表面に防眩
性を与えるために、また他の物質との対密着性を防ぎ、
対擦り傷性等を高めるために無機あるいは有機の微粒子
を加えることもできる。例えば、無機微粒子としては酸
化ケイ素、酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化錫、酸
化亜鉛、炭酸カルシウム、硫酸バリウム、タルク、カオ
リン、硫酸カルシウム等を挙げることができ、また有機
微粒子としては、ポリメタアクリル酸メチルアクリレー
ト樹脂粉末、アクリルスチレン系樹脂粉末、ポリメチル
メタクリレート樹脂粉末、シリコン系樹脂粉末、ポリス
チレン系樹脂粉末、ポリカーボネート樹脂粉末、ベンゾ
グアナミン系樹脂粉末、メラミン系樹脂粉末、ポリオレ
フィン系樹脂粉末、ポリエステル系樹脂粉末、ポリアミ
ド系樹脂粉末、ポリイミド系樹脂粉末、あるいはポリ弗
化エチレン系樹脂粉末等を挙げることができ、紫外線硬
化性樹脂組成物に加えることが出来る。これらの微粒子
粉末の平均粒径としては、０．０１μｍ〜１０μｍであ
り、紫外線硬化樹脂組成物と微粒子粉末との割合は、樹
脂組成物１００質量部に対して、０．１〜２０質量部と
なるように配合することが望ましい。防眩効果を付与す
るには、平均粒径０．１〜１μｍ、樹脂組成物１００質
量部に対して１〜１５質量部が好適である。

【００７０】このような微粒子を紫外線硬化樹脂に添加
することによって、中心線表面粗さＲａが０．１〜０．
５μｍの好ましい凹凸を有する防眩層を形成することが
できる。又、このよう微粒子を紫外線硬化性樹脂組成物
に添加しない場合、中心線表面粗さＲａ ０．０５μｍ
未満、より好ましくは０．０４μｍ未満の良好な平滑面
を有するクリアハードコート層を形成することができ
る。これらクリアハードコート層等の上にはさらに高屈
折率層（好ましくは屈折率１．６５〜１．７）、低屈折
率層（好ましくは屈折率１．４〜１．４５）等から構成
される反射防止層を形成することもできる。これらの反
射防止層は４４５〜６５５ｎｍの平均反射率で０．７％
以下、この波長範囲内の最低反射率が０．２％以下の優
れた反射防止層を形成することが出来る。この他、ブロ
ッキング防止機能を果たすものとして、上述したのと同
じ成分で、体積平均粒径０．００５〜０．１μｍの極微
粒子を樹脂組成物１００質量部に対して０．１〜５質量
部を用いることもできる。

【００７１】本発明の活性線硬化樹脂を有するクリアハ
ード層等の上には更に下記の反射防止加工を施した構成
の、一例を示すと、 低屈折率層（屈折率１．６５〜１．７）／高屈折率層
（屈折率１．４〜１．４５）／クリアハード層／樹脂フ
ィルム／帯電防止層 低屈折率層（屈折率１．６５〜１．７）／高屈折率層
（屈折率１．４〜１．４５）／クリアハード層／樹脂フ
ィルム／帯電防止層／アンチカール層兼ブロッキング防
止層 等である。

【００７２】前述したように、帯電防止層等の樹脂層の
上にこれら活性線硬化樹脂層を設ける場合、耐擦傷性が
低下するという問題があった。耐擦傷性あるいは鉛筆硬
度の低下は活性線硬化樹脂層の硬化阻害によること、こ
れは樹脂フィルムからの可塑剤の溶出が原因の１つであ
ると考えられる。そこで、本発明の別の実施態様では、
可塑剤を有する樹脂フィルム基材上に少なくとも１層以
上の樹脂層を設け、更にその上に活性線硬化樹脂層を設
けた光学フィルムにおいて、密着性に優れ、かつ耐擦傷
性、鉛筆硬度にも優れた光学フィルムを得ることを目的
として、この問題を解決するために鋭意検討を重ねた結
果、前述したように、下層の樹脂層を塗設する際の塗布
組成物をウェット膜厚で１５μｍ以下、より好ましくは
５〜１０μｍで塗布することによって耐擦傷性、鉛筆硬
度の低下がない活性線硬化樹脂層を設けることができた
のである。これは下層の樹脂層を塗設する際に樹脂フィ
ルムから溶出してくる可塑剤あるいは紫外線吸収剤等の
硬化を阻害する添加物の影響が実質的に問題ないレベル
まで低減されたためと推測される。

【００７３】更に耐擦傷性、鉛筆硬度を向上させるた
め、活性線硬化樹脂層に用いられる光開始剤の添加量を
２．５〜６質量％とすることが好ましく、これによりさ
らに耐擦傷性、鉛筆硬度に優れた光学フィルムを提供す
ることができた。即ち、フィルム基材上に少なくとも１
層の樹脂層を設け、さらにその上に活性線硬化樹脂層を
設ける事により、ヘイズ０．５％以下でかつ透過率が９
２％以上であり、かつ活性線硬化樹脂層の鉛筆硬度が２
Ｈ以上であり、該活性線硬化樹脂層が、スチールウール
＃０００にて４．９Ｎ／ｃｍ²の応力をかけて１０往復
擦った場合に入る傷が５本以下である耐擦傷性を有し、
紫外線強度１００ｍＷ／ｃｍ²で１００時間照射後のＪ
ＩＳ Ｋ５４００記載の碁盤目試験の評価が１０である
密着性を有する充分に強度の高い光学特性にも優れた光
学フィルムを得ることができた。

【００７４】更に異物故障についても１５０μｍ以上の
目視で確認できる異物が１個／ｍ²以下であり、帯電防
止性も付与された表面比抵抗値が１０¹¹Ω／ｃｍ²以下
の優れた光学フィルムを得ることが出来る。

【００７５】本発明に係る偏光板用保護フィルムを用い
た偏光板を装着した液晶パネルはパソコンやワープロの
ように室内で使用されるものばかりではなく、カーナビ
ゲーションのように真夏の車内に放置される場合もあ
り、偏光板用保護フィルムに耐光性や耐熱性が要求され
ることがある。そこで、紫外線硬化性樹脂組成物を含有
する層に紫外線を照射し硬化させた硬化皮膜層の耐光性
を高めるために、紫外線硬化性樹脂組成物の光硬化を妨
げない程度に紫外線吸収剤を紫外線硬化性樹脂組成物に
含ませてもよい。紫外線吸収剤としては、前記透明なフ
ィルム基材に含有させてもよい紫外線吸収剤と同様なも
のを用いることが出来る。

【００７６】また硬化された層の耐熱性を高めるため
に、酸化防止剤を光硬化反応を抑制しないようなものを
選んで用いることが出来る。例えば、ヒンダードフェノ
ール誘導体、チオプロピオン酸誘導体、ホスファイト誘
導体等を挙げることが出来る。具体的には、例えば、
４，４′−チオビス（６−ｔ−３−メチルフェノー
ル）、４，４′−ブチリデンビス（６−ｔ−ブチル−３
−メチルフェノール）、１，３，５−トリス（３，５−
ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）イソシアヌ
レート、２，４，６−トリス（３，５−ジ−ｔ−ブチル
−４−ヒドロキシベンジル）メシチレン、ジ−オクタデ
シル−４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔ−ブチルベンジ
ルホスフェート等を挙げることが出来る。

【００７７】ところで、フィルムの片面だけに表面加工
を施した場合や、両面に異なる種類あるいは異なる程度
の付加価値を付与するために表面加工を施した場合など
には、フィルムが丸まってしまうというカール現象が起
こり易い。カールしてしまうとこれを用いて偏光板を作
製する際に取扱いにくく不都合である。本発明の樹脂は
下層に重量平均分子量４０万以上好ましくは１００万以
下の熱可塑性樹脂を用いることで比較的カールが起こり
にくい点でも優れている。

【００７８】カールによる不都合を解消し、かつ偏光板
用保護フィルムとしての機能を損なわないようにするた
め、帯電防止層又はハードコート層を塗設した反対側に
アンチカール層を設けることも出来る。すなわち、アン
チカール層を設けた面を内側にして丸まろうとする性質
を持たせることにより、カールの度合いをバランスさせ
るものである。なお、アンチカール層は好ましくはブロ
ッキング層を兼ねて塗設され、その場合、塗布組成物に
はブロッキング防止機能を持たせるための前述の無機微
粒子及び／又は有機微粒子を含有させることができる。

【００７９】アンチカール機能の付与は、具体的には偏
光板用保護フィルムとして用いる樹脂フィルム基材を溶
解させる溶媒又は膨潤させる溶媒を含む組成物を塗布す
ることによって行われる。用いる溶媒としては、溶解さ
せる溶媒又は膨潤させる溶媒の混合物の他、さらに溶解
させない溶媒を含む場合もあり、これらを樹脂フィルム
のカール度合や樹脂の種類によって適宜の割合で混合し
た組成物及び塗布量を用いて行う。

【００８０】カール防止機能を強めたい場合は、用いる
溶媒組成を溶解させる溶媒又は膨潤させる溶媒の混合比
率を大きくし、溶解させない溶媒の比率を小さくするの
が効果的である。この混合比率は好ましくは（溶解させ
る溶媒又は膨潤させる溶媒）：（溶解させない溶媒）＝
１０：０〜１：９で用いられる。このような混合組成物
に含まれる、樹脂フィルム基材を溶解又は膨潤させる溶
媒としては、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン、
ジオキサン、アセトン、メチルエチルケトン、Ｎ，Ｎ−
ジメチルホルムアミド、酢酸メチル、酢酸エチル、トリ
クロロエチレン、メチレンクロライド、エチレンクロラ
イド、テトラクロロエタン、トリクロロエタン、クロロ
ホルムなどがある。溶解させない溶媒としては、例え
ば、メタノール、エタノール、ｎ−プロピルアルコー
ル、ｉ−プロピルアルコール、ｎ−ブタノールなどがあ
る。

【００８１】これらの塗布組成物をグラビアコーター、
ディップコーター、リバースコーター、押し出しコータ
ー等を用いて樹脂フィルムの表面にウェット膜厚１〜１
００μｍ塗布するのが好ましいが、特に５〜３０μｍで
あると良い。ここで用いられる樹脂としては、例えば塩
化ビニル／酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル樹脂、酢酸
ビニル樹脂、酢酸ビニルとビニルアルコールの共重合
体、部分加水分解した塩化ビニル／酢酸ビニル共重合
体、塩化ビニル／塩化ビニリデン共重合体、塩化ビニル
／アクリロニトリル共重合体、エチレン／ビニルアルコ
ール共重合体、塩素化ポリ塩化ビニル、エチレン／塩化
ビニル共重合体、エチレン／酢酸ビニル共重合体等のビ
ニル系重合体あるいは共重合体、ニトロセルロース、セ
ルロースアセテートプロピオネート、ジアセチルセルロ
ース、セルロースアセテートブチレート、セルロースア
セテートプロピオネート樹脂等のセルロースエステル系
樹脂、マレイン酸および／またはアクリル酸の共重合
体、アクリル酸エステル共重合体、アクリロニトリル／
スチレン共重合体、塩素化ポリエチレン、アクリロニト
リル／塩素化ポリエチレン／スチレン共重合体、メチル
メタクリレート／ブタジエン／スチレン共重合体、アク
リル樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、ポリビニルブチ
ラール樹脂、ポリエステルポリウレタン樹脂、ポリエー
テルポリウレタン樹脂、ポリカーボネートポリウレタン
樹脂、ポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、ポリアミ
ド樹脂、アミノ樹脂、スチレン／ブタジエン樹脂、ブタ
ジエン／アクリロニトリル樹脂等のゴム系樹脂、シリコ
ーン系樹脂、フッ素系樹脂等を挙げることができるが、
これらに限定されるものではない。アクリル樹脂として
は、アクリペットＭＤ、ＶＨ、ＭＦ、Ｖ（三菱レーヨン
（株）製）、ハイパールＭ−４００３、Ｍ−４００５、
Ｍ−４００６、Ｍ−４２０２、Ｍ−５０００、Ｍ−５０
０１、Ｍ−４５０１（根上工業株式会社製）、ダイヤナ
ールＢＲ−５０、ＢＲ−５２、ＢＲ−５３、ＢＲ−６
０、ＢＲ−６４、ＢＲ−７３、ＢＲ−７５、ＢＲ−７
７、ＢＲ−７９、ＢＲ−８０、ＢＲ−８２、ＢＲ−８
３、ＢＲ−８５、ＢＲ−８７、ＢＲ−８８、ＢＲ−９
０、ＢＲ−９３、ＢＲ−９５、ＢＲ−１００、ＢＲ−１
０１、ＢＲ−１０２、ＢＲ−１０５、ＢＲ−１０６、Ｂ
Ｒ−１０７、ＢＲ−１０８、ＢＲ−１１２、ＢＲ−１１
３、ＢＲ−１１５、ＢＲ−１１６、ＢＲ−１１７、ＢＲ
−１１８等（三菱レーヨン（株）製）のアクリル及びメ
タクリル系モノマーを原料として製造した各種ホモポリ
マー並びにコポリマーなどが好ましく用いられる。特に
好ましくはジアセチルセルロース、セルロースアセテー
トプロピオネートのようなセルロース系樹脂層が用いら
れる。

【００８２】アンチカール層を塗設する順番は樹脂フィ
ルム基材の反対側に光学的機能性層（例えば帯電防止層
あるいはクリアハードコート層等）を塗設する前でも後
でも構わないが、アンチカール層がブロッキング防止層
を兼ねる場合は先に塗設することが望ましい。

【００８３】

【実施例】以下、本発明を実施例にて具体的に説明する
が、本発明はこれのみに限定されるものではない。

【００８４】まず、実施例で用いる各組成物等を説明す
る。 〈樹脂フィルム１の作製〉 （ドープ組成物（イ）） セルローストリアセテート（平均酸化度６１．０％） １００質量部 トリフェニルフォスフェート ８質量部 ２−〔５−クロロ（２Ｈ）−ベンゾトリアゾール−２−イル〕−４−メチル− ６−（ｔ−ブチル）フェノール １質量部 ２−〔（２Ｈ）−ベンゾトリアゾール−２−イル〕−４，６−ジ−ｔ−ペンチ ルフェノール １質量部 メチレンクロライド ４３０質量部 メタノール ９０質量部 上記組成物を密閉容器に投入し、加圧下で８０℃に保温
し撹伴しながら完全に溶解してドープ組成物（イ）を得
た。

【００８５】次にこのドープ組成物（イ）を濾過し、冷
却して３３℃に保ちステンレスバンド上に均一に流延
し、剥離が可能になるまで溶媒を蒸発させたところで、
ステンレスバンド上から剥離し、多数のロールで搬送さ
せながら乾燥を終了させ膜厚８０μｍのフィルムを得
た。

【００８６】ステンレスバンドに接している面をｂ面と
し、もう一方の面をａ面とする。 〈樹脂フィルム２の作製〉 （ドープ組成物（ロ）） セルローストリアセテート（平均酸化度６１．０％） １００質量部 エチルフタリルエチルグリコレート ２質量部 トリフェニルフォスフェート ８．５質量部 ２−〔５−クロロ（２Ｈ）−ベンゾトリアゾール−２−イル〕−４−メチル− ６−（ｔ−ブチル）フェノール １質量部 ２−〔（２Ｈ）−ベンゾトリアゾール−２−イル〕−４，６−ジ−ｔ−ペンチ ルフェノール １質量部 メチレンクロライド ４３０質量部 メタノール ９０質量部 超微粒子シリカ（アエロジル２００） （日本アエロジル（株）製） ０．０１質量部 上記組成物を密閉容器に投入し、加圧下で８０℃に保温
し撹伴しながら完全に溶解してドープ組成物（ロ）を得
た。

【００８７】次にドープ組成物（ロ）を濾過し、冷却し
て３３℃に保ちステンレスバンド上に均一に流延し、剥
離が可能になるまで溶媒を蒸発させたところで、ステン
レスバンド上から剥離し、多数のロールで搬送させなが
ら乾燥を終了させ膜厚８０μｍのフィルムを得た。

【００８８】ステンレスバンドに接している面をｂ面と
し、もう一方の面をａ面とする。 〈樹脂フィルム３の作製〉 （ドープ組成物（ハ）） ポリカーボネート樹脂 （粘度平均分子量４万、ビスフェノールＡ型） １００質量部 ２−（２′−ヒドロキシ−３′，５′−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリ アゾール １．０質量部 メチレンクロライド ４３０質量部 メタノール ９０質量部 上記組成物を密閉容器に投入し、加圧下で８０℃に保温
し撹拌しながら完全に溶解して、ドープ組成物（ハ）を
得た。

【００８９】次にこのドープ組成物（ハ）を濾過し、冷
却して３３℃に保ち、ステンレスバンド上に均一に流延
し、３３℃で５分間乾燥した。次に６５℃でレタデーシ
ョン５ｎｍになるように乾燥時間を調整し、ステンレス
バンド上から剥離後、多数のロールで搬送させながら乾
燥を終了させ膜厚８０μｍのポリカーボネートフィルム
を得た。このとき、ステンレスバンドに接していた側を
ｂ面とし、その反対面をａ面とする。

【００９０】下記の組成物を調整した。 塗布組成物（１） ポリメチルメタアクリレート （重量平均分子量５５万、Ｔｇ ９０℃） ０．５質量部 プロピレングリコールモノメチルエーテル ６０質量部 メチルエチルケトン １６質量部 乳酸エチル ５質量部 メタノール ８質量部 導電性ポリマー樹脂Ｐ−１（０．１〜０．３μｍ粒子） ０．５質量部

【００９１】

【化１】

【００９２】 塗布組成物（２） ポリメチルメタアクリレート （重量平均分子量４８万、Ｔｇ １０５℃） ０．５質量部 プロピレングリコールモノメチルエーテル ６０質量部 メチルエチルケトン １６質量部 乳酸エチル ５質量部 メタノール ８質量部 導電性ポリマー樹脂Ｐ−１（０．１〜０．３μｍ粒子） ０．５質量部 塗布組成物（３）比較例 ポリメチルメタアクリレート （重量平均分子量３６万、Ｔｇ ２０℃） ０．５質量部 プロピレングリコールモノメチルエーテル ６０質量部 メチルエチルケトン １６質量部 乳酸エチル ５質量部 メタノール ８質量部 導電性ポリマー樹脂Ｐ−１（０．１〜０．３μｍ粒子） ０．５質量部 塗布組成物（４） ポリメチルメタアクリレート （重量平均分子量５５万、Ｔｇ ９０℃） １質量部 プロピレングリコールモノメチルエーテル ５１質量部 メチルエチルケトン １６質量部 乳酸エチル ５質量部 メタノール １５質量部 導電性ポリマー樹脂Ｐ−１（０．１〜０．３μｍ粒子） １質量部 塗布組成物（５） ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート単量体 ６０質量部 ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート２量体 ２０質量部 ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート３量体以上の成分 ２０質量部 ジエトキシベンゾフェノン光反応開始剤 ４質量部 シリコーン系界面活性剤 １質量部 プロピレングリコールモノメチルエーテル ７５質量部 メチルエチルケトン ７５質量部 塗布組成物（６） ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート単量体 ６０質量部 ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート２量体 ２０質量部 ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート３量体以上の成分 ２０質量部 ジエトキシベンゾフェノン光反応開始剤 ２質量部 シリコーン系界面活性剤 １質量部 プロピレングリコールモノメチルエーテル ７５質量部 メチルエチルケトン ７５質量部 塗布組成物（７）（比較例） ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート単量体 ６０質量部 ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート２量体 ２０質量部 ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート３量体以上の成分 ２０質量部 ジエトキシベンゾフェノン光反応開始剤 １０質量部 シリコーン系界面活性剤 １質量部 プロピレングリコールモノメチルエーテル ７５質量部 メチルエチルケトン ７５質量部 塗布組成物（８） メチルエチルケトン ３６質量部 メタノール ４０質量部 乳酸エチル ５質量部 ジアセチルセルロース ０．５質量部 超微粒子シリカ２％アセトン分散液（アエロジル ２００） （日本アエロジル（株）製） ０．３質量部 塗布組成物（９） アセトン ３２質量部 酢酸エチル ５０質量部 イソプロピルアルコール ４質量部 ジアセチルセルロース ０．５質量部 超微粒子シリカ２％アセトン分散液（アエロジル ２００） （日本アエロジル（株）製） ０．１質量部 塗布組成物（１０） ポリメチルメタアクリレート （重量平均分子量５５万、Ｔｇ ９０℃） ０．３３質量部 プロピレングリコールモノメチルエーテル ６０質量部 メチルエチルケトン １６質量部 乳酸エチル ５質量部 メタノール ８質量部 導電性ポリマー樹脂Ｐ−１（０．１〜０．３μｍ粒子） ０．３３質量部 評価方法 〈偏光板用保護フィルム単体としての特性評価〉 １．硬化塗膜層の耐擦傷性 （１）鉛筆硬度：ＪＩＳＫ５４００を準用し、荷重１０
０ｇにて測定した。 （２）耐擦傷性：スチールウール（＃００００）で４．
９Ｎ／ｃｍ²の応力をかけて１０ｃｍの距離を１０往復
摩擦する（一往復／ｓｅｃ） （判定基準） ◎：面上に傷なし ○：１〜５本の傷あり △：６〜１０本の傷あり ×：１１本以上の傷あり ２．ヘイズ、透過率 ＪＩＳＫ７１０５を準用し、測定器東京電色工業（株）
社製Ｔ−２６００ＤＡ型を使用した。 ３．硬化塗膜層と支持体との接着性 （１）紫外線照射後の密着性（碁盤目試験） 試料に紫外線強度１００ｍＷ／ｃｍ２で１００時間照射
した後、２３℃、５５％ＲＨの室内に２４時間放置し、
ＪＩＳ Ｋ５４００の碁盤目試験に準じて、塗膜の密着
性を測定した。

【００９３】（紫外線照射条件） 岩崎電気（株）製 アイスーパーＵＶテスター ＳＵＶ
−Ｆ１ 光源 メタルハライドランプ 紫外線強度 １００ｍＷ／ｃｍ² 照射時間 １００時間 試料温度 ２０℃ （碁盤目試験の評価点数）ＪＩＳ Ｋ５４００より 評価点数 １０：切り傷の１本ごとが、細くて両端が滑らかで、切
り傷の交点を正方形の１目１目にはがれがない。

【００９４】８ ：切り傷の交点にわずかなはがれがあ
って正方形の一目一目にはがれがなく、欠損部の面積は
全正方形面積の５％以内 ６ ：切り傷の両側と交点とにはがれがあって、欠損部
の面積は全正方形面積の５〜１５％ ４ ：切り傷によるはがれの幅が広く、欠損部の面積は
全正方形面積の１５〜３５％ ２ ：切り傷によるはがれの幅は４点よりも広く、欠損
部の面積は全正方形面積の３５〜６５％ ０ ：はがれの面積し全正方形面積の６５％以上。 （２）剥離試験 硬化皮膜層の表面に片刃のカミソリの刃を面に対して９
０°の角度で切り込みを幅３０ｍｍ、深さは透明なプラ
スチックフィルムの表面に僅か達する程度に入れ、市販
の２５ｍｍ幅のセロファンテープを切れ込み部分をまた
いでテープの一端を残して貼り、曲面の有るプラスチッ
クあるいは金属でその上を擦ってよく接着させ、貼られ
てないテープのその一端を手で持ってなるべく垂直に力
強く引張って剥がし、切り込み線からの貼られたテープ
面積に対する硬化皮膜層が剥がされた面積の割合を下記
の如く評価した。

【００９５】Ａ：全く剥離されなかった Ｂ：剥離された面積割合が１０％未満であった Ｃ：剥離された面積割合が１０〜３０％未満であった Ｄ：剥離された面積割合が３０％以上であった。 ４．表面比抵抗 偏光板用保護フィルムを２３℃、５５％ＲＨの条件のも
とで、６時間調湿した後、同条件で塗膜の表面の表面比
抵抗値を絶縁抵抗測定器（川口電気社製ＶＥ−３０型）
を用いて測定した。測定に用いた電極は、２本の電極
（試料と接触する部分が１ｃｍ×５ｃｍ）を間隔を１ｃ
ｍで平行に配置し、該電極に試料を接触させて測定し、
測定値を５倍にした値を表面比抵抗値Ω／ｃｍ²とし
た。 ５．異物故障検査 塗膜の目視検査により直径１００〜１５０μｍ未満もし
くは直径１５０μｍ以上に見える突起状故障及び／又は
窪み状故障を１ｍ²あたりの個数で示した。

【００９６】直径１００μｍの異物故障とは塗膜の基準
面に対して塗膜表面の厚み変化率が２μｍ（塗膜の厚み
変化）／１００μｍ（基準面上の距離）以上で塗膜の厚
みが０．５μｍ以上変化した突起状故障及び／又は窪み
状部分の範囲を略円形として見たときの直径が１００μ
ｍの故障であり、これは目視で１００μｍの大きさの異
物故障としている。同様に前記の直径が１５０μｍの故
障を１５０μｍの大きさの異物故障としている。実際の
異物故障検査では、前記の１００μｍの大きさの異物故
障と１５０μｍの大きさの異物故障の見本を用意し、１
００μｍの大きさの異物故障の見本と１５０μｍの大き
さの異物故障の見本の中間の大きさを有する異物故障を
直径１００〜１５０μｍの異物数としてカウントした。
同様に１５０μｍの大きさの異物故障の見本に対し、こ
れ以上の大きさの異物故障を１５０μｍ以上の異物とし
てカウントした。

【００９７】又、異物故障の突起状或いは窪み状故障の
断面の様子は光干渉式の表面粗さ計等で観察することが
出来る。 実施例１ ここでは、塗布組成物の含水量の効果を例示する。

【００９８】下記に従って、本発明の光学フィルムＡ
１、Ａ２、Ｂ１、Ｂ２と比較試料Ｃ１、Ｃ２を作製し
た。 〈本発明の光学フィルム及び比較例の作製〉樹脂フィル
ム１の作製の方法で作製したトリアセチルセルロースフ
ィルムの片面（ａ面）に塗布組成物（９）をウェット膜
厚１３μｍとなるようにグラビアコートし、乾燥温度８
０℃にて乾燥させた。

【００９９】このトリアセチルセルロースフィルムの片
面（ｂ面）に塗布組成物（４）を２３℃、７８％ＲＨの
環境下でウェット膜厚で７μｍとなるようにフィルムの
搬送速度３０ｍ／ｍｉｎで塗布幅１ｍで塗布し、次いで
８０℃に設定された乾燥部で乾燥して乾燥膜厚で約０．
２μｍの樹脂層を設けた。塗布は、樹脂フィルム１に塗
布組成物（４）を７μｍより厚くディップコートし、や
や離れたところに設置されたワイヤーバーによってウェ
ット膜厚７μｍとなるように膜厚を制御した。ワイヤー
バーでかき取られた余分の塗布組成物（４）は受け皿で
回収した後、塗布組成物貯留槽に戻し再利用した。塗布
中、大気開放されている塗布組成物貯留槽に入れられた
４０Ｌの塗布組成物（４）に３００ｍｌ／ｍｉｎの添加
速度で新しい塗布組成物４（含水率０．２％）を供給し
続け、この条件下で１時間連続的に塗布を行い、本発明
の光学フィルムＡ１を作製した。連続塗布終了後、塗布
組成物貯留槽内の塗布組成物に含まれる水分は２．５％
であった。

【０１００】上記の塗布中の新液供給の代わりに、塗布
組成物の水分除去手段を設けた。すなわち、塩化カルシ
ウムを内蔵したカートリッジ及びその下流に２μｍのア
ブソリュートフィルタを設置し、塗布中に塗布組成物貯
留槽中の塗布組成物を循環処理した。新液供給の代わり
に上記水分除去手段を設けた以外は同様の方法で１時間
連続的に塗布を行い、本発明の光学フィルムＢ１を作製
した。１時間の連続塗布終了後の塗布組成物中に含まれ
る水分は１．５％であった。

【０１０１】新しい塗布組成物（含水率０．２％）の供
給を行わなかった以外は、本発明の光学フィルムＡ１を
作製した方法と同様の方法で、樹脂フィルム１に塗布組
成物（４）を塗布乾燥し、比較の光学フィルムＣ１を作
製した。このとき、塗布組成物に含まれる水分は未使用
の液（塗布開始直後）が０．２％の含水率であったのに
対し、連続塗布１時間後に５．１％になっていた。

【０１０２】上記含水率の測定はカールフィッシャー法
によって行った。測定装置としては、三菱化学（株）製
の水分測定装置ＣＡ−０３、同試料乾燥装置ＶＡ−０５
を用いた。カールフィッシャー試薬としては、同社製の
ＡＫＳ、ＣＫＳを用いた。

【０１０３】更に以下の方法で、本発明の光学フィルム
Ａ１、Ｂ１及び比較の光学フィルムＣ１の上にクリアハ
ードコート層を設けた本発明の光学フィルムＡ２、Ｂ２
及び比較の光学フィルムＣ２を作製した。すなわち、本
発明の光学フィルムＡ１の樹脂層を塗設した面（ｂ面
側）にグラビアコートにより塗布組成物（５）をウェッ
ト膜厚で１３μｍとなるように塗設し、乾燥温度９０℃
にて乾燥させた後、紫外線を１５０ｍＪ／ｃｍ²となる
ように照射して、乾燥膜厚で５μｍのクリアハードコー
ト層を設けた。これを本発明の光学フィルムＡ２とす
る。同様の方法で本発明の光学フィルムＢ１上にクリア
ハードコート層を設けた本発明の光学フィルムＢ２及び
比較の光学フィルムＣ１上にクリアハードコート層を設
けた比較の光学フィルムＣ２を作製した。

【０１０４】表１には本発明の光学フィルムＡ１、Ｂ１
及び比較の光学フィルムＣ１の評価結果、表２には本発
明の光学フィルムＡ２、Ｂ２及び比較の光学フィルムＣ
２の評価結果を示す。

【０１０５】

【表１】

【０１０６】

【表２】

【０１０７】このようにして作製した本発明の光学フィ
ルムＡ１、Ａ２、Ｂ１、Ｂ２はヘイズも低く、表面比抵
抗も帯電防止性として十分なレベルである１０¹¹Ω／ｃ
ｍ²以下を維持していることが確認された。更に、目視
検査により異物故障も少なく、高い品質の光学フィルム
が得られた。これに対して、比較例Ｃ１、Ｃ２について
は、連続塗布の間に性能が悪化していくことが確認され
た。すなわち、本発明の製造方法によれば安定した性能
の光学フィルムを製造できることがわかる。 実施例２ ここでは、樹脂層の重量平均分子量の効果を例示する。 〈本発明の光学フィルム及び比較例の作製〉樹脂フィル
ム３の作製の方法で作製したポリカーボネートフィルム
の片面（ｂ面）に、２３℃８０％ＲＨの環境下で塗布組
成物（１）をウェット膜厚１３μｍとなるようにワイヤ
ーバーで塗布し、次いで８０℃にて乾燥して樹脂層（乾
燥膜厚０．２μｍ）を設け、本発明の光学フィルムＤ１
を作製した。

【０１０８】塗布組成物（２）を用いた以外は同様の方
法で、本発明の光学フィルムＥ１を作製した。

【０１０９】又、塗布組成物（３）を用いた以外は同様
の方法で、本実施例における比較の光学フィルムＦ１を
作製した。

【０１１０】それぞれの樹脂層の面品質を確認したとこ
ろ、比較の光学フィルムＦ１では塗布層に微細なひび割
れ状の模様が認められた。さらに、直径５ｍｍ程度のわ
ずかなはじき状の故障が認められた。それに対して、本
発明の光学フィルムＤ１、Ｅ１ではこのような塗布故障
は認められず極めて良好な面品質の塗布層であった。

【０１１１】更に以下の方法で、本発明の光学フィルム
Ｄ１、Ｅ１及び比較の光学フィルムＦ１の上にクリアハ
ードコート層を設けた本発明の光学フィルムＤ２、Ｅ２
及び比較の光学フィルムＦ２を作製した。すなわち、本
発明の光学フィルムＤ１の樹脂層を塗設した面（ｂ面
側）にグラビアコートにより塗布組成物（５）をウェッ
ト膜厚で１３μｍとなるように塗設し、乾燥温度９０℃
にて乾燥させた後、紫外線を１５０ｍＪ／ｃｍ²となる
ように照射して、乾燥膜厚で５μｍのクリアハードコー
ト層を設けた。これを本発明の光学フィルムＤ２とす
る。同様の方法で本発明の光学フィルムＥ１上にクリア
ハードコート層を設けた本発明の光学フィルムＥ２及び
比較の光学フィルムＦ１上にクリアハードコート層を設
けた比較の光学フィルムＦ２を作製した。

【０１１２】それぞれのフィルムの面品質を確認したと
ころ、比較の光学フィルムＦ２ではＦ１で認められた微
細なひび割れ状の模様あるいは直径５ｍｍ程度のはじき
状の故障がよりはっきりと目立つようになっていた。そ
れに対して、本発明の光学フィルムＤ２、Ｅ２ではこの
ような塗布故障は認められず極めて良好な面品質のフィ
ルムが得られた。

【０１１３】樹脂フィルム３の作製の方法で作製したポ
リカーボネートフィルムに代えて、樹脂フィルム２の作
製の方法で作製したトリアセチルセルロースフィルムを
用いて、同様のフィルムを作製した。その結果、樹脂フ
ィルム３を用いた場合と同様に樹脂層に重量平均分子量
が４０万を超えて、ガラス転移点が８０〜１１０℃の樹
脂を用いた本発明の光学フィルムが面品質に優れること
が確認された。 実施例３ ここでは、下層のウエット膜厚の活性線硬化樹脂層に対
する効果を例示する。

【０１１４】樹脂フィルム１の作製の方法で作製したト
リアセチルセルロースフィルムの片面（ａ面）に塗布組
成物（８）をウェット膜厚１３μｍとなるようにリバー
スロールコートし、乾燥温度８０℃にて乾燥させた。

【０１１５】このトリアセチルセルロースフィルムの片
面（ｂ面）に塗布組成物（１）を２３℃、６０％ＲＨの
環境下でウェット膜厚で１３μｍとなるようにリバース
ロールコートにて搬送速度２０ｍ／ｍｉｎで塗布し、次
いで８０℃に設定された乾燥部で乾燥して乾燥膜厚で約
０．２μｍの樹脂層を設けた。次いで、塗布組成物
（６）をウェット膜厚で１３μｍとなるようにグラビア
コートにて塗設し、８０℃に設定された乾燥部で乾燥し
た後、紫外線を１２０ｍＪ／ｃｍ²照射して硬化させ、
乾燥膜厚で５μｍの樹脂層を設け、本発明の光学フィル
ムＧ２を作製した。

【０１１６】各塗布組成物及び塗布膜厚を変更した以外
は、同様にして表３に示した本発明の光学フィルムＨ２
−Ｊ２、比較の光学フィルムＫ２を作製した。

【０１１７】

【表３】

【０１１８】本発明の光学フィルムＨ２−Ｊ２、本実施
例での比較の光学フィルムＫ２について、評価を実施
し、表４の結果を得た。

【０１１９】

【表４】

【０１２０】この結果から下層のウェット膜厚を１５μ
以下好ましくは１０μｍ以下とすることによって耐擦傷
性に優れ、及び鉛筆硬度も優れ、優れた帯電防止特性を
有し、他の光学特性や品質にも優れた光学フィルムを得
ることができた。これに対して、本実施例で比較とな
る、下層のウエット膜厚が厚く、上層の塗布組成物中の
光反応開始剤の量が少ないものを用いた比較の光学フィ
ルムＫ２では耐擦傷性、及び鉛筆硬度が悪くなっている
ことがわかる。 実施例４ ここでは、活性線硬化樹脂層の重合開始剤量の効果につ
いて例示する。

【０１２１】樹脂フィルム２の作製の方法で作製したト
リアセチルセルロースフィルムの片面（ｂ面）に塗布組
成物（１０）を２３℃、５５％ＲＨの環境下でウェット
膜厚で２０μｍとなるようにワイヤーバーコートにて搬
送速度２０ｍ／ｍｉｎで塗布し、次いで８０℃に設定さ
れた乾燥部で乾燥して乾燥膜厚で約０．２μｍの樹脂層
を設けた。次いで、塗布組成物（５）をウェット膜厚で
１５μｍとなるようにグラビアコートにて塗設し、８０
℃に設定された乾燥部で乾燥した後、紫外線を１６０ｍ
Ｊ／ｃｍ²照射して硬化させ、乾燥膜厚で５μｍの樹脂
層を設け、本発明の光学フィルムＬ２を作製した。

【０１２２】塗布組成物（５）を塗布組成物（６）に変
更した以外は、同様にして表５に示した本実施例で比較
の光学フィルムＭ２を作製した。更に塗布組成物（６）
を塗布組成物（７）に変更した以外は、同様にして表５
に示した比較の光学フィルムＮ２を作製した。

【０１２３】

【表５】

【０１２４】表６にこれらの光学フィルムの評価結果を
示す。

【０１２５】

【表６】

【０１２６】本発明の光学フィルムＬ２は耐擦傷性に優
れ、及び鉛筆硬度も優れ、他の光学特性や品質に優れた
光学フィルムを得ることができた。これに対して、比較
の光学フィルムＭ２では耐擦傷性、及び鉛筆硬度が悪く
なっていることがわかる。又、本実施例での比較である
光学フィルムＮ２では逆に耐擦傷性が低下する傾向が認
められ、さらに紫外線硬化樹脂層の異物が多くなり、光
学フィルムとしての品質が低下することも明らかとなっ
た。 実施例５ 〈偏光板としての評価〉先の実施例で作製した本発明の
光学フィルムＪ２、及び比較の光学フィルムＫ２を偏光
板用保護フィルムとして下記の方法に従って偏光板を作
製した。

【０１２７】厚さ１２０μｍのポリビニルアルコールフ
ィルムをヨウ素１部、ヨウ化カリウム２部、ホウ酸４部
を含む水溶液に浸漬し５０℃で４倍に延伸し偏光膜を得
た。

【０１２８】下記１．〜５．の工程で、偏光膜と偏光板
用保護フィルムとをはり合わせて偏光板を作製した。 〈偏光板の作製方法〉 １．長手方向３０ｃｍ、巾手方向１８ｃｍに切り取った
本発明の光学フィルムＪ２を１枚と樹脂フィルム２（ト
リアセチルセルロースフィルム）１枚を保護フィルムと
し、これらを２ｍｏｌ／ｌの水酸化ナトリウム溶液に６
０℃で２分間浸漬し、さらに水洗、乾燥した。 ３．偏光板用保護フィルム試料と同サイズの上記偏光膜
を固形分濃度２％のポリビニルアルコール接着剤槽中に
１〜２秒間浸漬する。 ４．上記３．の偏光膜に付着した過剰の接着剤を軽く取
り除き、上記１．で処理された本発明の光学フィルムＪ
２のａ面上にのせ、更にその上に上記１．で処理された
された樹脂フィルム２のａ面が偏光膜に接する様に積層
し配置する。 ５．ハンドローラで上記４．で積層された偏光膜と保護
フィルムとの積層物に圧力をかけ密着させた後、積層物
の端部から過剰の接着剤及び気泡を取り除きはり合わせ
る。ハンドローラで２０〜３０Ｎ／ｃｍ²の応力をかけ
て、ローラスピードは約２ｍ／ｍｉｎとした。 ６．８０℃の乾燥器中に５．で得た試料を２分間放置す
る。

【０１２９】本発明の光学フィルムＪ２を比較の光学フ
ィルムＫ２に変更した以外は同様にして比較の偏光板を
作成した。

【０１３０】このようにして作製した偏光板について、
目視による故障を確認したところ、本発明の偏光板用保
護フィルムＪ２を使用した偏光板は故障は認められず、
液晶ディスプレイなどの画像表示装置用の偏光板として
優れていることが確認された。

【０１３１】

【発明の効果】樹脂フィルム基材上に１層以上の樹脂層
を形成し、有機ＥＬディスプレイ等に用いられる円偏光
板の保護フィルム、液晶表示装置等に用いられる偏光板
用保護フィルム、位相差フィルム、視野角拡大フィルム
反射防止フィルムなどの種々の用途の光学フィルムを製
造する際に、光学特性、面品質、あるいは帯電防止性
能、更に耐擦傷性、密着性等を改善した高品質の光学フ
ィルムを製造することが出来る。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｂ０５Ｄ 7/24 ３０２ Ｂ０５Ｄ 7/24 ３０２Ｐ Ｂ３２Ｂ 7/02 １０３ Ｂ３２Ｂ 7/02 １０３ 27/18 27/18 Ａ Ｊ Ｃ０８Ｋ 3/00 Ｃ０８Ｋ 3/00 5/00 5/00 5/10 5/10 5/521 5/521 Ｃ０８Ｌ 1/10 Ｃ０８Ｌ 1/10 101/00 101/00 Ｇ０２Ｂ 1/10 Ｇ０２Ｂ 1/10 Ｚ (72)発明者 滝山 信行 東京都日野市さくら町１番地コニカ株式会 社内 (72)発明者 清水 邦夫 東京都日野市さくら町１番地コニカ株式会 社内 Ｆターム(参考） 2H049 BA02 BA06 BA27 BB33 BB43 BB51 2K009 AA15 BB28 CC02 CC03 CC09 DD02 EE03 4D075 AE03 CA02 DA04 DB33 DC24 EA19 EA21 EB22 EB53 EC07 4F100 AJ06A AK01B AK01C AK24B AK24J AL05B AT00A BA02 BA03 BA07 BA10A BA10C CA04A CA07A CA21B CA30C CC01B DE01B EH46 GB41 JA05B JA07B JB10A JB14C JB16B JG01B JG03 JK12C JL11C JN01 YY00B YY00C 4J002 AA011 AB021 BB002 BB031 BB121 BC031 BC033 BC072 BD101 BD121 BD132 BE021 BE051 BE061 BF021 BG032 BG041 BG051 BG061 BG062 BK001 CC182 CC192 CF002 CF041 CF071 CF161 CG001 CG002 CL001 CL002 CM041 CM042 CN031 CP032 DE096 DE106 DE136 DE146 DE236 DG046 DG056 DJ016 DJ036 DJ046 EH076 EH096 EH146 EH147 EJ067 ET007 EU177 EW046 EW047 EZ007 FD012 FD016 FD026 FD057 GF00 GP00

Claims (27)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 少なくとも樹脂と溶媒を有する含水率５
   質量％以下の塗布組成物をフィルム基材上に塗布し樹脂
   層を設けたことを特徴とする光学フィルム。
2. 【請求項２】 塗布組成物が微粒子を含有することを特
   徴とする請求項１に記載の光学フィルム。
3. 【請求項３】 平均粒径５ｎｍ〜１０μｍの導電性微粒
   子を含有する樹脂層をフィルム基材上に設けた光学フィ
   ルムであって、ヘイズ値が３．０％以下で、かつ透過率
   が９０％以上であり、該樹脂層を設けた側の表面比抵抗
   値が１０¹¹Ω／ｃｍ²以下である光学フィルム。
4. 【請求項４】 平均粒径５ｎｍ〜１０μｍの導電性微粒
   子を含有する樹脂層をフィルム基材上に設けた後、更に
   その上に樹脂層を設けた光学フィルムであって、ヘイズ
   値が０．５％以下で、かつ透過率が９０％以上であり、
   該樹脂層を設けた側の表面比抵抗値が１０¹¹Ω／ｃｍ²
   以下である光学フィルム。
5. 【請求項５】 視覚的直径が１５０μｍ以上の大きさを
   有する異物が１個／ｍ²以下である請求項３又は４に記
   載の光学フィルム。
6. 【請求項６】 微粒子を含む樹脂層が、微粒子１質量部
   あたり０．５〜４質量部の樹脂を含有することを特徴と
   する請求項２〜５のいずれか１項に記載の光学フィル
   ム。
7. 【請求項７】 微粒子を含有する樹脂層の樹脂が熱可塑
   性樹脂であることを特徴とする請求項２〜６のいずれか
   １項に記載の光学フィルム。
8. 【請求項８】 微粒子を含有する樹脂層が、微粒子及び
   樹脂を溶媒中に含有してなる含水率２％以下の塗布組成
   物をフィルム基材上に塗設したものであることを特徴と
   する請求項３〜７のいずれか１項に記載の光学フィル
   ム。
9. 【請求項９】 塗布組成物の含水率が２％以下であるこ
   とを特徴とする請求項１又は２に記載の光学フィルム。
10. 【請求項１０】 重量平均分子量が４０万を越え、かつ
    ガラス転移点（Ｔｇ）が８０〜１１０℃の樹脂を含有す
    る少なくとも１層以上の樹脂層を設けたことを特徴とす
    る光学フィルム。
11. 【請求項１１】 重量平均分子量が４０万を越え、かつ
    ガラス転移点（Ｔｇ）が８０〜１１０℃の樹脂を含有す
    る少なくとも１層以上の樹脂層の上に、更に活性線硬化
    樹脂もしくは熱硬化樹脂からなる層を設けたことを特徴
    とする光学フィルム。
12. 【請求項１２】 重量平均分子量が４０万を超え、かつ
    ガラス転移点（Ｔｇ）が８０〜１１０℃である樹脂がア
    クリル樹脂もしくはその共重合体であることを特徴とす
    る請求項１０又は１１に記載の光学フィルム。
13. 【請求項１３】 含水率が少なくとも５質量％以下の塗
    布組成物をフィルム基材上に塗設し樹脂層を設けること
    を特徴とする光学フィルムの製造方法。
14. 【請求項１４】 微粒子を含む樹脂層を設けるための塗
    布組成物を、含水率が少なくとも５質量％以下となるよ
    うに、含水率を減らす手段を用いつつ、１０〜１００ｍ
    ／ｍｉｎの搬送速度で連続的にフィルム基材上に塗布す
    ることにより樹脂層を設けることを特徴とする光学フィ
    ルムの製造方法。
15. 【請求項１５】 含水率が少なくとも２質量％以下の塗
    布組成物をフィルム基材上に塗設し樹脂層を設けること
    を特徴とする光学フィルムの製造方法。
16. 【請求項１６】 フィルム基材上に少なくとも１層の樹
    脂層を設け、さらにその上に活性線硬化樹脂層を設けた
    光学フィルムにおいて、ヘイズ０．５％以下でかつ透過
    率が９２％以上であり、かつ活性線硬化樹脂層の鉛筆硬
    度が２Ｈ以上であり、該活性線硬化樹脂層が、スチール
    ウール＃０００にて４．９Ｎ／ｃｍ²の応力をかけて１
    ０往復擦った場合に入る傷が５本以下である耐擦傷性を
    有し、紫外線強度１００ｍＷ／ｃｍ²で１００時間照射
    後のＪＩＳ Ｋ５４００記載の碁盤目試験の評価が１０
    である密着性を有することを特徴とする光学フィルム。
17. 【請求項１７】 視覚的直径が１５０μｍ以上の大きさ
    を有する異物が１個／ｍ²以下であることを特徴とする
    請求項１６に記載の光学フィルム。
18. 【請求項１８】 少なくとも一方の面が表面比抵抗値が
    １０¹¹Ω／ｃｍ²以下である請求項１６又は１７に記載
    の光学フィルム。
19. 【請求項１９】 フィルム基材上に固形分濃度が１〜５
    ０質量％である塗布組成物を１５μｍ以下のウェット膜
    厚となるように塗布、乾燥させた樹脂層を少なくとも１
    層設け、更にその上に活性線硬化樹脂層を設けることを
    特徴とする光学フィルムの製造方法。
20. 【請求項２０】 ウェット膜厚が５〜１０μｍであるこ
    とを特徴とする請求項１９に記載の光学フィルムの製造
    方法。
21. 【請求項２１】 塗布組成物が、フィルム基材を溶解も
    しくは膨潤させる溶媒を含むことを特徴とする請求項１
    ９又は２０に記載の光学フィルムの製造方法。
22. 【請求項２２】 フィルム基材が可塑剤又は紫外線吸収
    剤を含有することを特徴とする請求項１９〜２１のいず
    れか１項に記載の光学フィルムの製造方法。
23. 【請求項２３】 可塑剤及び／又は紫外線吸収剤を含む
    フィルム基材上に少なくとも２層以上の樹脂層が設けら
    れた光学フィルムにおいて、下層が熱可塑性樹脂層であ
    り、上層が２．５〜６質量％の光反応開始剤を含む活性
    線硬化樹脂層であることを特徴とする光学フィルム。
24. 【請求項２４】 可塑剤及び／又は紫外線吸収剤を含む
    フィルム基材上に、該フィルム基材を膨潤もしくは溶解
    することができる溶媒と熱可塑性樹脂からなる塗布組成
    物を塗布、乾燥させて下層を塗設した後、固形分あたり
    ２．５〜６質量％の光反応開始剤を含む活性線硬化樹脂
    を含む塗布組成物を塗布、乾燥させて上層を塗設するこ
    とを特徴とする光学フィルムの製造方法。
25. 【請求項２５】 フィルム基材を膨潤もしくは溶解する
    ことができる溶媒と熱可塑性樹脂からなる塗布組成物を
    ５〜１５μｍのウェット膜厚で塗布、乾燥させて下層を
    塗設したことを特徴とする請求項２４に記載の光学フィ
    ルムの製造方法。
26. 【請求項２６】 フィルム基材がセルロースエステルフ
    ィルムであることを特徴とする請求項１〜１２、１６〜
    １８及び２３のいずれか１項に記載の光学フィルム。
27. 【請求項２７】 フィルム基材がセルロースエステルフ
    ィルムであることを特徴とする請求項１３〜１５、１９
    〜２２、２４及び２５のいずれか１項に記載の光学フィ
    ルムの製造方法。