JP2006297831A - ポリマーフィルム並びにそれを用いた光学フィルム、偏光板及び画像表示装置 - Google Patents

Abstract

【課題】 反射防止層、防眩層、ハードコート層、光学異方層等の光学機能層を形成した光学機能性層をポリマー層上に塗布により形成されたポリマーフィルムにおいて、光学機能性層とポリマーフィルムとの密着性を改善すること。また、ポリマーフィルムの厚みムラを小さくしてポリマーフィルムの厚みムラを改善する。さらに、厚みムラの改善されたポリマーフィルムをディスプレイに適用し、優れた表示性能を実現すること。
【解決手段】
表面エネルギーが４５ｍN／ｍ以上のポリマー層A上に、表面エネルギーが２０ｍN／ｍ以上４５ｍN／ｍ未満の層Bが形成されていることを特徴とするポリマーフィルム。該ポリマーフィルムを用いた光学フィルム、さらに該光学フィルムを用いた偏光板。該光学フィルムを装着した画像表示装置。
【選択図】 なし

Description

本発明は、ディスプレイの表示品位の改善に使用される光学フィルム、該光学フィルムを使用した偏光板、さらには該偏光板を使用した液晶表示装置に関する。

基材上への溶液塗布による膜形成においては、基材への塗布溶液の濡れ性、言い換えれば基材の表面エネルギーと溶液の表面張力を調節することが、膜の厚みムラ防止、膜のハジキ防止、基材と膜の密着確保の観点で重要である。
従来は、基材の表面エネルギーを調節することは難しく、溶液の表面張力を調節することが行われてきた。例えば、溶液に使用される溶媒として基材との濡れ性がよいものを選択する、あるいは基材上に塗布された溶液膜に乾燥中に生じた厚みムラをレベリングさせるためにレベリング剤を溶液に添加することが行われてきた（特許文献１および２）。
また、溶剤を選択する際には基材との濡れ性だけでなく、塗布溶液中に含まれる無機微粒子の分散性も考慮する必要があり、濡れ性を向上させるために無機微粒子に表面処理を施す必要が生じる等、材料設計が複雑になる（特許文献３）。

基材の表面エネルギーの増大（親水化）はアルカリ処理、酸処理、コロナ処理、火炎処理、紫外線照射、表面エネルギーの高い層塗設、等の処理により表面エネルギーを大きくし、基材と水、アルコール等の極性溶媒との濡れ性を改善することが行われてきた（特許文献４）。また他の親水化手段としては、プラズマ処理（特許文献５）も挙げられる。

特開２００４−１２２１１９号公報 特開平８−３０９２５１号公報 特開２００４−３７１２３４号公報 特開２００２−１９２６５６号公報 特開２０００−３５６７１４号公報

本発明は、ディスプレイに使用される反射防止層、防眩層、ハードコート層、光学異方層等の光学機能層を形成した光学フィルムにおいて、ポリマーフィルム上に塗布により形成される前記光学機能性層とポリマーフィルムとの密着性を改善することを目的とする。
また、ポリマーフィルムの厚みムラを小さくすることにより光学フィルムの厚みムラ起因のムラを改善することを目的とする。
さらに、本発明は前記の厚みムラの改善された光学フィルムをディスプレイに適用し、優れた表示性能を実現することを目的とする。

本発明者は、最近の市場の高まりつつあるニーズに対処するには、上記特許文献４及び５で開示された光学機能層とポリマーフィルム（ポリマー層Ａ）との密着性改良手段では密着性が確保できない場合が発生、鋭意検討した結果、表面エネルギーを特定の疎水的な範囲に設定すると、その層を積層構成にしたときの層間の界面エネルギーが有機溶媒に対する濡れ性向上に好適な範囲になり、層間、例えば光学機能層と層Ｂの界面、の密着性が改善されることを見出した。
この発見に基いて、ポリマーフィルム上に表面エネルギーを小さくする層を設け、さらに前記層の表面エネルギーと光学機能層を形成するための塗布液の溶剤の表面張力を適切な関係に調整する密着性改良方法、前記層の表面エネルギーと塗膜の表面エネルギーを適切な関係に調整する密着性改良方法、及びこれらを利用して前記光学機能性層とポリマーフィルム（ポリマー層Ａ）との密着性を改善できる方法を見出し、本発明を完成するに至った。また、ポリマーフィルム上に表面エネルギーの小さな材料と表面張力の小さな溶媒からなる層を設けることによりポリマーフィルム表面のレベリングが生じポリマーフィルムの厚みムラが小さくなることを見出し、平面性向上の面からも本発明の密着性向上の目的が達せられることを見出すに至った。さらに、ポリマーフィルムを溶液流延する際の支持体からの剥離時の残留溶剤量を適切な範囲とすること、および延伸処理を行うことによりポリマーフィルムの厚みムラを改善し、結果として光学フィルムにおけるムラを改善できることを見出した。
すなわち、本発明は、これらの関連するあらたなに見出された現象に基いてなされたものであって、下記（１）〜（２０）のポリマーフィルム、（２１）の偏光板、（２２）の液晶表示板から構成される。

（１）表面エネルギーが４５ｍN／ｍ以上のポリマー層A上に、表面エネルギーが２０ｍN／ｍ以上４５ｍN／ｍ未満の層Bが形成されていることを特徴とするポリマーフィルム。
（２）表面エネルギーが２０ｍN／ｍ以上４５ｍN／ｍ未満の層Bの厚みが５μｍ以下であることを特徴とする上記（１）に記載のポリマーフィルム。
（３）表面エネルギーが４５ｍN／ｍ以上のポリマー層A上に、表面エネルギーが２０ｍN／ｍ以上４５ｍN／ｍ未満の層Bが形成されているポリマーフィルムであって、表面エネルギーが４５ｍN／ｍ以上のポリマー層Aの表面エネルギーの分散力成分γ_A ^d、極性力成分γ_A ^p、表面エネルギーが２０ｍN／ｍ以上４５ｍN／ｍ未満の層Bの表面エネルギーの分散力成分γ_B ^d、極性力成分γ_B ^pがそれぞれ下記式（１）〜（４）を満たすことを特徴とする上記（１）又は（２）に記載のポリマーフィルム。
式（１） γ_A ^d≧３０ｍN／ｍ
式（２） γ_A ^p≧１０ｍN／ｍ
式（３） γ_B ^d＜３５ｍN／ｍ
式（４） γ_B ^p＜１５ｍN／ｍ
（４）上記ポリマー層Aの表面エネルギーが５０ｍN／ｍ以上７５ｍN／ｍ以下であることを特徴とする上記（１）〜（３）のいずれかに記載のポリマーフィルム。

（５）上記層Bが形成されている面と反対の面にさらに表面エネルギーが５０ｍN／ｍ以上７５ｍN／ｍ以下の層Cが形成されていることを特徴とする上記（１）〜（３）のいずれかに記載のポリマーフィルム。
（６）表面エネルギーが５０ｍN／ｍ以上７５ｍN／ｍ以下の層Cの表面エネルギーの分散力成分γ_C ^d、極性力成分γ_C ^pがそれぞれ下記式（５）、（６）を満たすことを特徴とする上記（４）に記載のポリマーフィルム。
式（５） γ_C ^d≧３０ｍN／ｍ
式（６） γ_C ^p≧２０ｍN／ｍ
（７）上記層B 上に光学機能層を塗布により形成したポリマーフィルムであって、層Bが有する表面エネルギーγ_Bと該光学機能層の塗布液の溶剤の表面張力γ_Lが下記式（７）を満足することを特徴とする上記（１）〜（６）のいずれかに記載のポリマーフィルム。
式（７） γ_L≦γ_B≦γ_L＋10
（８）上記層B上に光学機能層を塗布により形成したポリマーフィルムであって、層Ｂが有する表面エネルギーγ_Bと該光学機能層を形成するポリマー成分の表面エネルギーγ_Pが下記式（８）を満足することを特徴とする上記（１）〜（７）のいずれかに記載のポリマーフィルム。
式（８） γ_P−10≦γ_B≦γ_P＋10

（９）上記層B上および層Cが共流延で形成されたことを特徴とする上記（１）〜（８）のいずれかに記載のポリマーフィルム。
（１０）ポリマーフィルムAポリマー層Aが、セルロースの水酸基がアセチル基及び炭素原子数３以上のアシル基で置換された、セルロースの混合脂肪酸エステルであるセルロースアシレートを主たるポリマー成分とするセルロースアシレートフィルムであって、該セルロースアシレートのアセチル基の置換度Ａと、炭素原子数が３以上のアシル基の置換度Ｂとが下記数式（９）、（１０）を満たすことを特徴とする上記（１）〜（９）いずれかに記載のポリマーフィルム。
数式（９）：２．５≦Ａ＋Ｂ＜２．９５
数式（１０）：０≦Ｂ
（ただし、本明細書においては、式（１０）が等号の場合のアシル置換エステルも混合脂肪酸エステルに含まれるものとする。）
（１１）上記層Bが、セルロースの水酸基がアセチル基及び炭素原子数３以上のアシル基で置換された、セルロースの混合脂肪酸エステルであるセルロースアシレートを主たるポリマー成分とするセルロースアシレートフィルムであって、該セルロースアシレートのアセチル基の置換度Ａと、炭素原子数が３以上のアシル基の置換度Ｂとが下記数式（１１）、（１２）を満たすことを特徴とする上記（１）〜（１０）のいずれかに記載のポリマーフィルム。
数式（１１）：２．９５≦Ａ＋Ｂ＜３．０
数式（１２）：０≦Ｂ≦０．５
（ただし、本明細書においては、式（１２）が等号の場合のアシル置換エステルも混合脂肪酸エステルに含まれるものとする。）
（１２）上記層Bが、セルロースの水酸基がアセチル基及び炭素原子数３以上のアシル基で置換された、セルロースの混合脂肪酸エステルであるセルロースアシレートを主たるポリマー成分とするセルロースアシレートフィルムであって、該セルロースアシレートのアセチル基の置換度Ａと、炭素原子数が３以上のアシル基の置換度Ｂとが下記数式（１３）、（１４）を満たすことを特徴とする上記（１）〜（１１）のいずれかに記載のポリマーフィルム。
数式（１３）：２．５≦Ａ＋Ｂ＜３．０
数式（１４）：０．５＜Ｂ

（１３）上記層Bが、（メタ）アクリル酸エステルポリマーまたはビニルエステルポリマーの炭素原子数が２以上の置換基を有するポリマーからなることを特徴とする上記（１）〜（１２）のいずれかに記載のポリマーフィルム。
（１４）上記層Cが、セルロースの水酸基がアセチル基及び炭素原子数３以上のアシル基で置換された、セルロースの混合脂肪酸エステルであるセルロースアシレートを主たるポリマー成分とするセルロースアシレートフィルムであって、該セルロースアシレートのアセチル基の置換度Ａと、炭素原子数が３以上のアシル基の置換度Ｂとが下記数式（１５）、（１６）を満たすことを特徴とする上記（１）〜（１３）のいずれかに記載のポリマーフィルム。
数式（１５）：０．５≦Ａ＋Ｂ＜２．２
数式（１６）：０≦Ｂ
（ただし、本明細書においては、式（１６）が等号の場合のアシル置換エステルも混合脂肪酸エステルに含まれるものとする。）
（１５）ポリマーフィルムの厚みムラがピッチ５ｍｍ以上、高さ３μｍ以下であることを特徴とする上記（１）〜（１４）のいずれかに記載のポリマーフィルム。
（１６）ポリマーフィルムの厚みムラの傾斜が０．３μｍ／ｍｍ以下であることを特徴とする上記（１）〜（１５）のいずれかに記載のポリマーフィルム。
（１７）ポリマーフィルムが延伸フィルムであることを特徴とする上記（１）〜（１６）のいずれかに記載のポリマーフィルム。
（１８）ポリマーフィルムが溶液流延により製膜されたものであり、支持体から剥離されるときの残留溶剤量が１００質量％以下であることを特徴とする上記（１）〜（１７）のいずれかに記載のポリマーフィルム。
（１９）光学機能層とポリマーフィルムの密着がJIS K５６００−５−６に定められたクロスカットセロテープ剥離試験で２点以下であることを特徴とする上記（１）〜（１８）のいずれかに記載のポリマーフィルム。
（２０）光学機能層が反射防止層、防眩層、ハードコート層、光学異方層のうちのいずれか、またはこれらの複数層が積層された層であることを特徴とする上記（１）〜（１９）のいずれかに記載のポリマーフィルム。

（２１）偏光子を保護フィルムで狭持してなる偏光板であって、保護フィルムの少なくとも一方が上記（２０）に記載の光学フィルムであることを特徴とする偏光板。
（２２）液晶セルの少なくとも一方に偏光板を配置してなる液晶表示装置であって、偏光板のうち少なくとも一枚が上記（２１）記載の偏光板であることを特徴とする液晶表示装置。

光学フィルムの構成層の表面エネルギー（即ち積層したときの積層された層間の界面エネルギー）を調整することを特徴とする本発明によって、ポリマーフィルム上に形成される前記光学機能性層とポリマーフィルムとの密着性が向上する。また、ポリマーフィルムの厚みムラが小さくなり、その結果光学フィルムの厚みムラ起因のムラが低減される。
さらに、本発明は前記の厚みムラの改善された光学フィルムをディスプレイに適用し、優れた表示性能を実現することができる。

以下、本は詰めのポリマーフィルム、それを用いた光学フィルム、さらにそれを用いた変更版や液晶表示装置について詳細に説明する。

（表面エネルギーが４５ｍＮ／ｍ以上のポリマーフィルム）
表面エネルギーが４５ｍＮ／ｍ以上のポリマーフィルムとしては、セルロースの水酸基がアセチル基及び炭素原子数３以上のアシル基によって置換された、セルロースの混合脂肪酸エステルであるセルロースアシレートを主たるポリマー成分とするセルロースアシレートフィルムであって、該セルロースアシレートのアセチル基の置換度Ａと、炭素原子数が３以上のアシル基の置換度Ｂとが下記数式（９）、（１０）を満たすものを用いることが、透明性、偏光板作製プロセスにおける適度な透湿性及びコストの点で好ましい。置換度Ｂが０、すなわちセルロースアセテートは耐久性や寸度安定性に優れる。
数式（９）：２．５≦Ａ＋Ｂ＜２．９５
数式（１０）：０≦Ｂ
反射防止フィルム等のように表示装置の表面に用いる光学フィルムの用途では光学異方性の値は特に限定しないが、液晶表示装置に用いる偏光板の場合、液晶セル側に用いる光学フィルムの用途ではRe値およびRth値が下記式を満たすことが好ましい。
数式（２）：０ｎｍ≦Ｒｅ₅₉₀≦２００ｎｍ
数式（３）：０ｎｍ≦Ｒｔｈ₅₉₀≦４００ｎｍ
［式中、Ｒｅ₅₉₀、Ｒｔｈ₅₉₀は、波長λ＝５９０ｎｍにおける正面レターデーションＲｅ及び厚み方向レターデーションＲｔｈの値（単位：ｎｍ）である。］
上記式の範囲にRe値、Rth値を調節するために、ポリマーフィルムが、棒状化合物又は円盤状化合物のレターデーション発現剤を１種以上含有していてもよい。また、幅方向、長手方向に延伸を行ってもよい。

（表面エネルギーが２０ｍＮ／ｍ以上４５ｍＮ／ｍ未満の層を形成する材料）
表面エネルギーが２０ｍＮ／ｍ以上４５ｍＮ／ｍ未満の層を形成する材料としては、低分子材料、高分子材料のいずれも用いることが出来る。また無機材料、有機材料のいずれも用いることができる。溶剤を塗布することや、膜の強度、膜の形成のしやすさの点で有機高分子材料を用いることも好ましい。

表面エネルギーが２０ｍN／ｍ以上４５ｍN／ｍ未満の層Bとして好ましい層は、セルロースの水酸基がアセチル基及び好ましくは更に炭素原子数３以上のアシル基で置換された、セルロースエステルの混合脂肪酸エステルであるセルロースアシレートを主たるポリマー成分とするセルロースアシレートフィルムであって、該セルロースアシレートのアセチル基の置換度Ａと、炭素原子数が３以上のアシル基の置換度Ｂとが下記数式（１１）、（１２）を満たすものが挙げられる。
数式（１１）：２．９５≦Ａ＋Ｂ＜３．０
数式（１２）：０≦Ｂ≦０．５

表面エネルギーが２０ｍＮ／ｍ以上４５ｍN／ｍ未満の層Bの別の例としては、セルロースの水酸基がアセチル基及び好ましくは更に炭素原子数３以上のアシル基で置換された、セルロースの混合脂肪酸エステルであるセルロースアシレートを主たるポリマー成分とするセルロースアシレートフィルムであって、該セルロースアシレートのアセチル基の置換度Ａと、炭素原子数が３以上のアシル基の置換度Ｂとが下記数式（１３）、（１４）を満たすものが挙げられる。炭素原子数が３以上のアシル基の置換度Ｂを０．５よりも大きくすることにより、総置換度Ａ＋Ｂを小さくしても表面エネルギーのうち極性力成分を小さくすることができ、表面エネルギーを小さくすることができる。
数式（１３）：２．５≦Ａ＋Ｂ＜３．０
数式（１４）：０．５＜Ｂ

上記のセルロースセルロースアシレート以外の例としてはポリビニルアセテート、ポリビニルプロピオネート、ポリビニルブチレート等のポリビニルエステルポリマー、ポリエチルアクリレート、ポリ（ｎ−ブチルアクリレート）等のアクリルポリマー、ポリエチルメタクリレート、ポリ（ｎ−プロピルメタクリレート）、ポリ（ｎ−ブチルメタクリレート）、ポリ（ｎ−ヘキシルメタクリレート）等のメタクリレートポリマー、が挙げられる。

上記のポリマーの水素原子をフッ素等のハロゲン原子で置換することで更に表面エネルギーを小さくすることができるが、ポリマーフィルムの表面エネルギーを２０ｍＮ／ｍ未満とすると、この表面上で十分な濡れ性を示す表面張力の小さな溶剤がほとんどなく、ポリマーフィルム上での良好な塗工性が確保できないため好ましくない。

（表面エネルギーが５０ｍＮ／ｍ以上７５ｍＮ／ｍ以下の層を形成する材料）
表面エネルギーが５０ｍＮ／ｍ以上７５ｍＮ／ｍ以下の層を形成する材料としては、セルロースの水酸基がアセチル基及び好ましくは更に炭素原子数３以上のアシル基で置換された、セルロースの混合脂肪酸エステルであるセルロースアシレートを主たるポリマー成分とするセルロースアシレートフィルムであって、該セルロースアシレートのアセチル基の置換度Ａと、炭素原子数が３以上のアシル基の置換度Ｂとが下記数式（１５）、（１６）を満たすものを使うことができる。
数式（１５）：０．５≦Ａ＋Ｂ＜２．２
数式（１６）：０≦Ｂ
その他にも、表面エネルギーが５０ｍＮ／ｍ以上７５ｍＮ／ｍ以下の層は表面エネルギーが５０ｍＮ／ｍ未満の材料に、アルカリ処理、酸処理、コロナ処理、火炎処理、紫外線照射等の表面処理を施すことによっても得られる。表面エネルギーが５０ｍＮ／ｍ以上７５ｍＮ／ｍ以下の層を設けることにより、表面エネルギーの大きな（親水性の高い）材料との密着性が向上する。
ポリマーフィルム作製後あるいはポリマーフィルム上に光学機能層を形成した後に上記の表面処理を行うことによりポリマーフィルムおよび光学機能層の性能が劣化する場合があるが、このような場合には上記数式（１５）および（１６）を満足する層を形成することにより表面処理を行わなくても表面エネルギーの大きな（親水性の高い）材料との密着性を確保することができる。

ポリマーフィルムの厚みムラはピッチが５ｍｍ以上、高さ３μｍ以下であることが好ましい。高さは２μｍ以下であることが更に好ましく、１μｍ以下であることが最も好ましい。また、厚みムラは高さが同一であってもピッチが広い、つまり傾斜が小さいと視認しにくくなるため傾斜は０．３μｍ／ｍｍ以下であることが好ましく、０．２μｍ／ｍｍであることが更に好ましく、０．１μｍ／ｍｍ以下であることが最も好ましい。
上記のような厚みムラ、特に長手方向に発生するスジ状の厚みムラは、塗布液の流延のさいに支持体上で十分に乾燥しないうちにウェブを支持体から剥離すると、幅方向にウェブが収縮するために生じる。したがって、上記のようなポリマーフィルムの厚みムラは、幅方向に延伸することにより小さくすることができる。また、支持体上で十分に乾燥させる、つまり残留溶剤量を１００質量％以下とすることによっても上記のようなポリマーフィルムの厚みムラを小さくすることができる。

ポリマー層A上に形成する表面エネルギーが２０ｍＮ／ｍ以上４５ｍＮ／ｍ未満の層Ｂおよび表面エネルギーが５０ｍＮ／ｍ以上７５ｍＮ／ｍ以下の層Ｃの厚みは５μｍ以下であることが好ましい。光学機能層と前記層Ｂおよび層Ｃとの密着を良くする為には５μｍ以下の厚みがあれば十分であり、前記層Ｂおよび層Ｃの厚みが５μｍを超えると、層Ｂおよび層Ｃ内の破壊が生じやすくなり、密着性が悪くなる。

〔セルロースアシレートの合成方法〕
セルロースアシレートの合成方法の基本的な原理は、右田他、木材化学１８０〜１９０頁（共立出版、１９６８年）に記載されている。代表的な合成方法は、カルボン酸無水物−酢酸−硫酸触媒による液相酢化法である。

前記セルロースアシレートを得るには、具体的には、綿花リンタや木材パルプ等のセルロース原料を適当量の酢酸で前処理した後、予め冷却したカルボン酸化混液に投入してエステル化し、完全セルロースアシレート（２位、３位及び６位のアシル置換度の合計が、ほぼ３．００）を合成する。

上記カルボン酸化混液は、一般に溶媒としての酢酸、エステル化剤としての無水カルボン酸及び触媒としての硫酸を含む。無水カルボン酸は、これと反応するセルロース及び系内に存在する水分の合計よりも、化学量論的に過剰量で使用することが普通である。エステル化反応終了後に、系内に残存している過剰の無水カルボン酸の加水分解及びエステル化触媒の一部の中和のために、中和剤（例えば、カルシウム、マグネシウム、鉄、アルミニウム又は亜鉛の炭酸塩、酢酸塩又は酸化物）の水溶液を添加する。

次に、得られた完全セルロースアシレートを少量の酢化反応触媒（一般には、残存する硫酸）の存在下で、５０〜９０℃に保つことによりケン化熟成し、所望のアシル置換度及び重合度を有するセルロースアシレートまで変化させる。所望のセルロースアシレートが得られた時点で、系内に残存している触媒を前記のような中和剤を用いて完全に中和するか、あるいは中和することなく水もしくは希硫酸中にセルロースアシレート溶液を投入（又は、セルロースアシレート溶液中に、水もしくは希硫酸を投入）してセルロースアシレートを分離し、洗浄及び安定化処理を行う等して、前記の特定のセルロースアシレートを得ることができる。

前記セルロースアシレートフィルムは、フィルムを構成するポリマー成分が、実質的に上記の特定のセルロースアシレートからなることが好ましい。
ここで『実質的に』とは、ポリマー成分の５５質量％以上（好ましくは７０質量％以上、さらに好ましくは８０質量％以上）を意味する。

前記セルロースアシレートは、粒子状で使用することが好ましい。使用する粒子の９０質量％以上が０．５〜５ｍｍの粒子径を有することが好ましい。また使用する粒子の５０質量％以上が１〜４ｍｍの粒子径を有することが好ましい。セルロースアシレート粒子は、なるべく球形に近い形状を有することが好ましい。

本発明で好ましく用いられるセルロースアシレートの重合度は、粘度平均重合度で、好ましくは２００〜７００、より好ましくは２５０〜５５０、更に好ましくは２５０〜４００であり、特に好ましくは２５０〜３５０である。平均重合度は、宇田らの極限粘度法（宇田和夫、斉藤秀夫、繊維学会誌、第１８巻第１号、１０５〜１２０頁、１９６２年）により測定できる。更に特開平９−９５５３８号公報に詳細に記載されている。

低分子成分が除去されると、平均分子量（重合度）が高くなるが、粘度は通常のセルロースアシレートよりも低くなるため、前記セルロースアシレートとしては低分子成分を除去したものが有用である。

低分子成分の少ないセルロースアシレートは、通常の方法で合成したセルロースアシレートから低分子成分を除去することにより得ることができる。低分子成分の除去は、セルロースアシレートを適当な有機溶媒で洗浄することにより実施できる。なお、低分子成分の少ないセルロースアシレートを製造する場合、酢化反応における硫酸触媒量を、セルロースアシレート１００質量部に対して０．５〜２５質量部に調整することが好ましい。硫酸触媒の量を上記範囲にすると、分子量分布の点でも好ましい（分子量分布の均一な）セルロースアシレートを合成することができる。

セルロースアシレートをフィルムの製造に使用する際には、その含水率は２質量％以下であることが好ましく、さらに好ましくは１質量％以下であり、特には０．７質量％以下である。一般に、セルロースアシレートは、水を含有しており含水率２．５〜５質量％が知られている。本発明では、セルロースアシレートの含水率を上記好適範囲とするためには、乾燥することが必要であり、その方法は目的とする含水率になる方法であれば特に限定されない。

前記セルロースアシレートの原料綿や合成方法は、発明協会公開技報公技番号２００１−１７４５号（２００１年３月１５日発行、発明協会）ｐ．７−１２に詳細に記載されている原料綿や合成方法を採用できる。

本発明に好ましく用いられるセルロースアシレートフィルムは、前記の特定のセルロースアシレートと必要に応じて添加剤とを有機溶媒に溶解させた溶液を用いてフィルム化することにより得ることができる。

〔添加剤〕
本発明において前記セルロースアシレート溶液に用いることができる添加剤としては、例えば、可塑剤、紫外線吸収剤、劣化防止剤、レターデーション（光学異方性）発現剤、レターデーション（光学異方性）低下剤、波長分散調整剤、染料、微粒子、剥離促進剤、赤外吸収剤などを挙げることができる。本発明においては、レターデーション発現剤を用いるのが好ましい。また、可塑剤、紫外線吸収剤及び剥離促進剤の少なくとも１種以上を用いるのが好ましい。

それらは固体でもよく油状物でもよい。すなわち、その融点や沸点において特に限定されるものではない。例えば２０℃以下と２０℃以上の紫外線吸収剤を混合して用いたり、同様に可塑剤を混合して用いたりすることができ、例えば特開２００１−１５１９０１号公報などに記載されている。

［紫外線吸収剤］
紫外線吸収剤としては、目的に応じ任意の種類のものを選択することができ、サリチル酸エステル系、ベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾール系、ベンゾエート系、シアノアクリレート系、ニッケル錯塩系等の吸収剤を用いることができ、好ましくはベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾール系、サリチル酸エステル系である。

ベンゾフェノン系紫外線吸収剤の例として、２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−アセトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２，２’−ジ−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２，２’−ジ−ヒドロキシ−４，４’−メトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−ｎ−オクトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−ドデシルオキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシ−３−メタクリロキシ）プロポキシベンゾフェノン等を挙げることができる。

ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤としては、２（２’−ヒドロキシ−３’−ｔｅｒｔ−ブチル−５’−メチルフェニル）−５−クロルベンゾトリアゾール、２（２’−ヒドロキシ−５’−ｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−ｔ−アミルフェニル）ベンゾトリアゾール、２（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−ｔ−ブチルフェニル）−５−クロルベンゾトリアゾール、２（２’−ヒドロキシ−５’−ｔ−オクチルフェニル）ベンゾトリアゾール等を挙げることができる。

サリチル酸エステル系としては、フェニルサリシレート、ｐ−オクチルフェニルサリシレート、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニルサリシレート等を挙げることができる。

これら例示した紫外線吸収剤の中でも、特に２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２，２’−ジ−ヒドロキシ−４，４’−メトキシベンゾフェノン、２（２’−ヒドロキシ−３’−ｔ−ブチル−５’−メチルフェニル）−５−クロルベンゾトリアゾール、２（２’−ヒドロキシ−５’−ｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−ｔ−アミルフェニル）ベンゾトリアゾール、２（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−ｔ−ブチルフェニル）−５−クロルベンゾトリアゾールが特に好ましい。

紫外線吸収剤は、吸収波長の異なる複数の吸収剤を複合して用いることが、広い波長範囲で高い遮断効果を得ることができるので好ましい。液晶用紫外線吸収剤は、液晶の劣化防止の観点から、波長３７０ｎｍ以下の紫外線の吸収能に優れ、且つ、液晶表示性の観点から、波長４００ｎｍ以上の可視光の吸収が少ないものが好ましい。特に好ましい紫外線吸収剤は、先に上げたベンゾトリアゾール系化合物やベンゾフェノン系化合物、サリチル酸エステル系化合物である。中でも、ベンゾトリアゾール系化合物は、セルロースエステルに対する不用な着色が少ないことから、好ましい。

また、紫外線吸収剤については、特開昭６０−２３５８５２号、特開平３−１９９２０１号、同５−１９０７０７３号、同５−１９４７８９号、同５−２７１４７１号、同６−１０７８５４号、同６−１１８２３３号、同６−１４８４３０号、同７−１１０５６号、同７−１１０５５号、同７−１１０５６号、同８−２９６１９号、同８−２３９５０９号、特開２０００−２０４１７３号の各公報に記載の化合物も用いることができる。

紫外線吸収剤の添加量は、セルロースアシレートに対し０．００１〜５質量％が好ましく、０．０１〜１質量％がより好ましい。添加量が０．００１質量％以上であれば添加効果が十分に発揮されうるので好ましく、添加量が５質量％以下であればフィルム表面への紫外線吸収剤のブリードアウトを抑制できるので好ましい。

また紫外線吸収剤は、セルロースアシレート溶解時に同時に添加してもよいし、溶解後のドープに添加してもよい。特にスタティックミキサ等を用い、流延直前にドープに紫外線吸収剤溶液を添加する形態が、分光吸収特性を容易に調整することができるので好ましい。

［劣化防止剤］
前記劣化防止剤は、セルローストリアセテート等が劣化、分解するのを防止することができる。劣化防止剤としては、ブチルアミン、ヒンダードアミン化合物（特開平８−３２５５３７号公報）、グアニジン化合物（特開平５−２７１４７１号公報）、ベンゾトリアゾール系ＵＶ吸収剤（特開平６−２３５８１９号公報）、ベンゾフェノン系ＵＶ吸収剤（特開平６−１１８２３３号公報）などの化合物がある。

［可塑剤］
可塑剤としては、リン酸エステル、カルボン酸エステルであることが好ましい。リン酸エステル系可塑剤としては、例えばトリフェニルホスフェート（ＴＰＰ）、トリクレジルホスフェート（ＴＣＰ）、クレジルジフェニルホスフェート、オクチルジフェニルホスフェート、ビフェニルジフェニルホスフェート（ＢＤＰ）、トリオクチルホスフェート、トリブチルホスフェート等；カルボン酸エステル系可塑剤としては、例えばジメチルフタレート（ＤＭＰ）、ジエチルフタレート（ＤＥＰ）、ジブチルフタレート（ＤＢＰ）、ジオクチルフタレート（ＤＯＰ）、ジフェニルフタレート（ＤＰＰ）、ジエチルヘキシルフタレート（ＤＥＨＰ）、ｏ−アセチルクエン酸トリエチル（ＯＡＣＴＥ）、ｏ−アセチルクエン酸トリブチル（ＯＡＣＴＢ）、クエン酸アセチルトリエチル、クエン酸アセチルトリブチル、オレイン酸ブチル、リシノール酸メチルアセチル、セバシン酸ジブチル、トリアセチン、トリブチリン、ブチルフタリルブチルグリコレート、エチルフタリルエチルグリコレート、メチルフタリルエチルグリコレート、ブチルフタリルブチルグリコレート等を挙げることができ、本発明に用いられる可塑剤はこれら例示の可塑剤から選ばれたものであることがより好ましい。さらに、前記可塑剤が、（ジ）ペンタエリスリトールエステル類、グリセロールエステル類、ジグリセロールエステル類であることが好ましい。

［剥離促進剤］
剥離促進剤としては、クエン酸のエチルエステル類が例として挙げられる。
［赤外吸収剤］
さらに赤外吸収剤としては例えば特開２００１−１９４５２２号公報に記載されている。

［添加時期等］
これらの添加剤を添加する時期は、ドープ作製工程において何れで添加してもよいが、ドープ調製工程の最後の調製工程に、添加剤を添加し調製する工程を加えて行ってもよい。更にまた、各素材の添加量は機能が発現する限りにおいて特に限定されない。

また、セルロースアシレートフィルムが多層である場合、各層の添加物の種類や添加量が異なってもよい。例えば、特開２００１−１５１９０２号公報などに記載されているが、これらは従来から知られている技術である。

これら添加剤の種類や添加量の選択によって、セルロースアシレートフィルムの動的粘弾性測定機「バイブロン：ＤＶＡ−２２５」｛アイティー計測制御（株）製）｝で測定するガラス転移点Ｔｇを７０〜１５０℃に、引張試験機「ストログラフ−Ｒ２」｛（株）東洋精機製作所製｝で測定する弾性率を１５００〜４０００ＭＰａすることが好ましい。より好ましくは、ガラス転移点Ｔｇが８０〜１３５℃、弾性率が１５００〜３０００ＭＰａである。すなわち、本発明に好ましく用いられるセルロースアシレートフィルムは、偏光板加工や液晶表示装置組立ての工程適性の点で、ガラス転移点Ｔｇ、弾性率を上記の範囲とすることが好ましい。

さらに添加剤については、前記公技番号２００１−１７４５号ｐ．１６以降に詳細に記載されているものを適宜用いることができる。

［レターデーション発現剤］
本発明では、光学補償フィルムとして使用するために、光学異方性を大きく発現させる場合には、好ましいレターデーション値を実現するために、レターデーション発現剤を用いるのが好ましい。本発明において用いることができるレターデーション発現剤としては、棒状又は円盤状化合物からなるものを挙げることができる。棒状又は円盤状化合物としては、少なくとも２つの芳香族環を有する化合物を用いることができる。

棒状化合物からなるレターデーション発現剤の添加量は、セルロースアシレートを含むポリマー成分１００質量部に対して０．１〜３０質量部であることが好ましく、０．５〜２０質量部であることがさらに好ましい。

円盤状のレターデーション発現剤は、前記セルロースアシレートを含むポリマー成分１００質量部に対して、０．０５〜２０質量部の範囲で使用することが好ましく、０．１〜１０質量部の範囲で使用することがより好ましく、０．２〜５質量部の範囲で使用することがさらに好ましく、０．５〜２質量部の範囲で使用することが最も好ましい。

円盤状化合物は、Ｒｔｈレターデーション発現性において棒状化合物よりも優れているため、特に大きなＲｔｈレターデーションを必要とする場合には好ましく使用される。
２種類以上のレターデーション発現剤を併用してもよい。

棒状又は円盤状化合物からなる前記レターデーション発現剤は、２５０〜４００ｎｍの波長領域に最大吸収を有することが好ましく、可視領域に実質的に吸収を有していないことが好ましい。

（円盤状化合物）
以下、円盤状化合物について説明する。
円盤状化合物としては少なくとも二つの芳香族環を有する化合物を用いることができる。
本明細書において、「芳香族環」は、芳香族炭化水素環に加えて、芳香族性ヘテロ環を含む。

芳香族炭化水素環は、６員環（すなわち、ベンゼン環）であることが特に好ましい。芳香族性ヘテロ環は一般に、不飽和ヘテロ環である。芳香族性ヘテロ環は、５員環、６員環又は７員環であることが好ましく、５員環又は６員環であることがさらに好ましい。

芳香族性ヘテロ環は、一般に最多の二重結合を有する。
ヘテロ原子としては、窒素原子、酸素原子及び硫黄原子が好ましく、窒素原子が特に好ましい。芳香族性ヘテロ環の例には、フラン環、チオフェン環、ピロール環、オキサゾール環、イソオキサゾール環、チアゾール環、イソチアゾール環、イミダゾール環、ピラゾール環、フラザン環、トリアゾール環、ピラン環、ピリジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、ピラジン環及び１，３，５−トリアジン環が含まれる。芳香族環としては、ベンゼン環、フラン環、チオフェン環、ピロール環、オキサゾール環、チアゾール環、イミダゾール環、トリアゾール環、ピリジン環、ピリミジン環、ピラジン環及び１，３，５−トリアジン環が好ましく、特に１，３，５−トリアジン環が好ましく用いられる。具体的には例えば特開２００１−１６６１４４号公報に開示の化合物が円盤状化合物として好ましく用いられる。

前記円盤状化合物が有する芳香族環の数は、２〜２０であることが好ましく、２〜１２であることがより好ましく、２〜８であることがさらに好ましく、２〜６であることが最も好ましい。

２つの芳香族環の結合関係は、（ａ）縮合環を形成する場合、（ｂ）単結合で直結する場合及び（ｃ）連結基を介して結合する場合に分類できる（芳香族環のため、スピロ結合は形成できない）。結合関係は、（ａ）〜（ｃ）のいずれでもよい。

（ａ）の縮合環（二つ以上の芳香族環の縮合環）の例には、インデン環、ナフタレン環、アズレン環、フルオレン環、フェナントレン環、アントラセン環、アセナフチレン環、ビフェニレン環、ナフタセン環、ピレン環、インドール環、イソインドール環、ベンゾフラン環、ベンゾチオフェン環、インドリジン環、ベンゾオキサゾール環、ベンゾチアゾール環、ベンゾイミダゾール環、ベンゾトリアゾール環、プリン環、インダゾール環、クロメン環、キノリン環、イソキノリン環、キノリジン環、キナゾリン環、シンノリン環、キノキサリン環、フタラジン環、プテリジン環、カルバゾール環、アクリジン環、フェナントリジン環、キサンテン環、フェナジン環、フェノチアジン環、フェノキサチイン環、フェノキサジン環及びチアントレン環が含まれる。ナフタレン環、アズレン環、インドール環、ベンゾオキサゾール環、ベンゾチアゾール環、ベンゾイミダゾール環、ベンゾトリアゾール環及びキノリン環が好ましい。

（ｂ）の単結合は、二つの芳香族環の炭素原子間の結合であることが好ましい。二以上の単結合で二つの芳香族環を結合して、二つの芳香族環の間に脂肪族環又は非芳香族性複素環を形成してもよい。

（ｃ）の連結基も、二つの芳香族環の炭素原子と結合することが好ましい。連結基は、アルキレン基、アルケニレン基、アルキニレン基、−ＣＯ−、−Ｏ−、−ＮＨ−、−Ｓ−又はそれらの組み合わせであることが好ましい。

組み合わせからなる連結基の例を以下に示す。なお、以下の連結基の例の左右の関係は、逆になってもよい。
ｃ₁：−ＣＯ−Ｏ−
ｃ₂：−ＣＯ−ＮＨ−
ｃ₃：−アルキレン−Ｏ−
ｃ₄：−ＮＨ−ＣＯ−ＮＨ−
ｃ₅：−ＮＨ−ＣＯ−Ｏ−
ｃ₆：−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−
ｃ₇：−Ｏ−アルキレン−Ｏ−
ｃ₈：−ＣＯ−アルケニレン−
ｃ₉：−ＣＯ−アルケニレン−ＮＨ−
ｃ₁₀：−ＣＯ−アルケニレン−Ｏ−
ｃ₁₁：−アルキレン−ＣＯ−Ｏ−アルキレン−Ｏ−ＣＯ−アルキレン−
ｃ₁₂：−Ｏ−アルキレン−ＣＯ−Ｏ−アルキレン−Ｏ−ＣＯ−アルキレン−Ｏ−
ｃ₁₃：−Ｏ−ＣＯ−アルキレン−ＣＯ−Ｏ−
ｃ₁₄：−ＮＨ−ＣＯ−アルケニレン−
ｃ₁₅：−Ｏ−ＣＯ−アルケニレン−

芳香族環及び連結基は、置換基を有していてもよい。
置換基の例には、ハロゲン原子（Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ）、ヒドロキシル基、カルボキシル基、シアノ基、アミノ基、ニトロ基、スルホ基、カルバモイル基、スルファモイル基、ウレイド基、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、脂肪族アシル基、脂肪族アシルオキシ基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、アルコキシカルボニルアミノ基、アルキルチオ基、アルキルスルホニル基、脂肪族アミド基、脂肪族スルホンアミド基、脂肪族置換アミノ基、脂肪族置換カルバモイル基、脂肪族置換スルファモイル基、脂肪族置換ウレイド基及び非芳香族性複素環基が含まれる。

アルキル基の炭素原子数は１〜８であることが好ましい。環状アルキル基よりも鎖状アルキル基の方が好ましく、直鎖状アルキル基が特に好ましい。アルキル基は、さらに置換基（例えば、ヒドロキシ基、カルボキシ基、アルコキシ基、アルキル置換アミノ基）を有していてもよい。アルキル基の（置換アルキル基を含む）例には、メチル基、エチル基、ｎ−ブチル基、ｎ−ヘキシル基、２−ヒドロキシエチル基、４−カルボキシブチル基、２−メトキシエチル基及び２−ジエチルアミノエチル基が含まれる。

アルケニル基の炭素原子数は２〜８であることが好ましい。環状アルケニル基よりも鎖状アルケニル基の方が好ましく、直鎖状アルケニル基が特に好ましい。アルケニル基は、さらに置換基を有していてもよい。アルケニル基の例には、ビニル基、アリル基及び１−ヘキセニル基が含まれる。
アルキニル基の炭素原子数は２〜８であることが好ましい。環状アルキケニル基よりも鎖状アルキニル基の方が好ましく、直鎖状アルキニル基が特に好ましい。アルキニル基は、さらに置換基を有していてもよい。アルキニル基の例には、エチニル基、１−ブチニル基及び１−ヘキシニル基が含まれる。

脂肪族アシル基の炭素原子数は１〜１０であることが好ましい。脂肪族アシル基の例には、アセチル基、プロパノイル基及びブタノイル基が含まれる。
脂肪族アシルオキシ基の炭素原子数は１〜１０であることが好ましい。脂肪族アシルオキシ基の例には、アセトキシ基が含まれる。
アルコキシ基の炭素原子数は１〜８であることが好ましい。アルコキシ基は、さらに置換基（例えば、アルコキシ基）を有していてもよい。アルコキシ基の（置換アルコキシ基を含む）例には、メトキシ基、エトキシ基、ブトキシ基及びメトキシエトキシ基が含まれる。

アルコキシカルボニル基の炭素原子数は２〜１０であることが好ましい。アルコキシカルボニル基の例には、メトキシカルボニル基及びエトキシカルボニル基が含まれる。
アルコキシカルボニルアミノ基の炭素原子数は２〜１０であることが好ましい。アルコキシカルボニルアミノ基の例には、メトキシカルボニルアミノ基及びエトキシカルボニルアミノ基が含まれる。

アルキルチオ基の炭素原子数は１〜１２であることが好ましい。アルキルチオ基の例には、メチルチオ基、エチルチオ基及びオクチルチオ基が含まれる。
アルキルスルホニル基の炭素原子数は１〜８であることが好ましい。アルキルスルホニル基の例には、メタンスルホニル基及びエタンスルホニル基が含まれる。

脂肪族アミド基の炭素原子数は１〜１０であることが好ましい。脂肪族アミド基の例には、アセトアミド基が含まれる。
脂肪族スルホンアミド基の炭素原子数は１〜８であることが好ましい。脂肪族スルホンアミド基の例には、メタンスルホンアミド基、ブタンスルホンアミド基及びｎ−オクタンスルホンアミド基が含まれる。

脂肪族置換アミノ基の炭素原子数は１〜１０であることが好ましい。脂肪族置換アミノ基の例には、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基及び２−カルボキシエチルアミノ基が含まれる。
脂肪族置換カルバモイル基の炭素原子数は２〜１０であることが好ましい。脂肪族置換カルバモイル基の例には、メチルカルバモイル基及びジエチルカルバモイル基が含まれる。

脂肪族置換スルファモイル基の炭素原子数は１〜８であることが好ましい。脂肪族置換スルファモイル基の例には、メチルスルファモイル基及びジエチルスルファモイル基が含まれる。
脂肪族置換ウレイド基の炭素原子数は２〜１０であることが好ましい。脂肪族置換ウレイド基の例には、メチルウレイド基が含まれる。
非芳香族性複素環基の例には、ピペリジノ基及びモルホリノ基が含まれる。

円盤状化合物からなるレターデーション発現剤の分子量は、３００乃至８００であることが好ましい

（棒状化合物）
本発明では前述の円盤状化合物の他に、直線的な分子構造を有する棒状化合物も好ましく用いることができる。

直線的な分子構造とは、熱力学的に最も安定な構造において棒状化合物の分子構造が直線的であることを意味する。熱力学的に最も安定な構造は、結晶構造解析又は分子軌道計算によって求めることができる。例えば、分子軌道計算ソフト｛例えば、“ＷｉｎＭＯＰＡＣ２０００”富士通（株）製｝を用いて分子軌道計算を行い、化合物の生成熱が最も小さくなるような分子の構造を求めることができる。分子構造が直線的であるとは、上記のように計算して求められる熱力学的に最も安定な構造において、分子構造で主鎖の構成する角度が１４０゜以上であることを意味する。

棒状化合物としては、少なくとも２つの芳香族環を有するものが好ましく、少なくとも２つの芳香族環を有する棒状化合物としては、下記一般式（１）で表される化合物が好ましい。
一般式（１）：Ａｒ¹−Ｌ¹−Ａｒ²
上記一般式（１）において、Ａｒ¹及びＡｒ²は、それぞれ独立に、芳香族基である。

本明細書において、芳香族基は、アリール基（芳香族性炭化水素基）、置換アリール基、芳香族性ヘテロ環基及び置換芳香族性ヘテロ環基を含む。アリール基及び置換アリール基の方が、芳香族性ヘテロ環基及び置換芳香族性ヘテロ環基よりも好ましい。

芳香族性へテロ環基のヘテロ環は、一般には不飽和である。芳香族性ヘテロ環は、５員環、６員環又は７員環であることが好ましく、５員環又は６員環であることがさらに好ましい。芳香族性へテロ環は、一般に最多の二重結合を有する。ヘテロ原子としては、窒素原子、酸素原子又は硫黄原子が好ましく、窒素原子又は硫黄原子がさらに好ましい。

芳香族基の芳香族環としては、ベンゼン環、フラン環、チオフェン環、ピロール環、オキサゾール環、チアゾール環、イミダゾール環、トリアゾール環、ピリジン環、ピリミジン環及びピラジン環が好ましく、ベンゼン環が特に好ましい。

置換アリール基及び置換芳香族性ヘテロ環基の置換基の例には、ハロゲン原子（Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ）、ヒドロキシル基、カルボキシル基、シアノ基、アミノ基、アルキルアミノ基（例えば、メチルアミノ基、エチルアミノ基、ブチルアミノ基、ジメチルアミノ基）、ニトロ基、スルホ基、カルバモイル基、アルキルカルバモイル基（例えば、Ｎ−メチルカルバモイル基、Ｎ−エチルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル基）、スルファモイル基、アルキルスルファモイル基（例えば、Ｎ−メチルスルファモイル基、Ｎ−エチルスルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルスルファモイル基）、ウレイド基、アルキルウレイド基（例えば、Ｎ−メチルウレイド基、Ｎ，Ｎ−ジメチルウレイド基、Ｎ，Ｎ，Ｎ'−トリメチルウレイド基）、アルキル基（例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘプチル基、オクチル基、イソプロピル基、ｓ−ブチル基、ｔ−アミル基、シクロヘキシル基、シクロペンチル基）、アルケニル基（例えば、ビニル基、アリル基、ヘキセニル基）、アルキニル基（例えば、エチニル基、ブチニル基）、アシル基（例えば、ホルミル基、アセチル基、ブチリル基、ヘキサノイル基、ラウリル基）、アシルオキシ基（例えば、アセトキシ基、ブチリルオキシ基、ヘキサノイルオキシ基、ラウリルオキシ基）、アルコキシ基（例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、ペンチルオキシ基、ヘプチルオキシ基、オクチルオキシ基）、アリールオキシ基（例えば、フェノキシ基）、アルコキシカルボニル基（例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、プロポキシカルボニル基、ブトキシカルボニル基、ペンチルオキシカルボニル基、ヘプチルオキシカルボニル基）、アリールオキシカルボニル基（例えば、フェノキシカルボニル基）、アルコキシカルボニルアミノ基（例えば、ブトキシカルボニルアミノ基、ヘキシルオキシカルボニルアミノ基）、アルキルチオ基（例えば、メチルチオ基、エチルチオ基、プロピルチオ基、ブチルチオ基、ペンチルチオ基、ヘプチルチオ基、オクチルチオ基）、アリールチオ基（例えば、フェニルチオ基）、アルキルスルホニル基（例えば、メチルスルホニル基、エチルスルホニル基、プロピルスルホニル基、ブチルスルホニル基、ペンチルスルホニル基、ヘプチルスルホニル基、オクチルスルホニル基）、アミド基（例えば、アセトアミド基、ブチルアミド基、ヘキシルアミド基、ラウリルアミド基）及び非芳香族性複素環基（例えば、モルホリル基、ピラジニル基）が含まれる。

置換アリール基及び置換芳香族性ヘテロ環基の置換基としては、ハロゲン原子、シアノ基、カルボキシル基、ヒドロキシル基、アミノ基、アルキル置換アミノ基、アシル基、アシルオキシ基、アミド基、アルコキシカルボニル基、アルコキシ基、アルキルチオ基及びアルキル基が好ましい。

アルキルアミノ基、アルコキシカルボニル基、アルコキシ基及びアルキルチオ基のアルキル部分とアルキル基とは、さらに置換基を有していてもよい。アルキル部分及びアルキル基の置換基の例には、ハロゲン原子、ヒドロキシル、カルボキシル、シアノ、アミノ、アルキルアミノ基、ニトロ、スルホ、カルバモイル、アルキルカルバモイル基、スルファモイル、アルキルスルファモイル基、ウレイド、アルキルウレイド基、アルケニル基、アルキニル基、アシル基、アシルオキシ基、アシルアミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アルコキシカルボニルアミノ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルキルスルホニル基、アミド基及び非芳香族性複素環基が含まれる。アルキル部分及びアルキル基の置換基としては、ハロゲン原子、ヒドロキシル、アミノ、アルキルアミノ基、アシル基、アシルオキシ基、アシルアミノ基、アルコキシカルボニル基及びアルコキシ基が好ましい。

前記一般式（１）において、Ｌ¹は、アルキレン基、アルケニレン基、アルキニレン基、−Ｏ−、−ＣＯ−及びそれらの組み合わせからなる基から選ばれる２価の連結基である。

アルキレン基は、環状構造を有していてもよい。環状アルキレン基としては、シクロヘキシレンが好ましく、１，４−シクロへキシレンが特に好ましい。鎖状アルキレン基としては、直鎖状アルキレン基の方が分岐を有するアルキレン基よりも好ましい。アルキレン基の炭素原子数は、１〜２０であることが好ましく、より好ましくは１〜１５であり、さらに好ましくは１〜１０であり、さらに好ましくは１〜８であり、最も好ましくは１〜６である。

アルケニレン基及びアルキニレン基は、環状構造よりも鎖状構造を有することが好ましく、分岐を有する鎖状構造よりも直鎖状構造を有することがさらに好ましい。アルケニレン基及びアルキニレン基の炭素原子数は、好ましくは２〜１０であり、より好ましくは２〜８であり、さらに好ましくは２〜６であり、さらに好ましくは２〜４であり、最も好ましくは２（ビニレン又はエチニレン）である。

アリーレン基は、炭素原子数は６〜２０であることが好ましく、より好ましくは６〜１６であり、さらに好ましくは６〜１２である。

一般式（１）の分子構造において、Ｌ¹を挟んで、Ａｒ¹とＡｒ²とが形成する角度は、１４０゜以上であることが好ましい。

棒状化合物としては、下記一般式（２）で表される化合物がさらに好ましい。
一般式（２）：Ａｒ¹−Ｌ²−Ｘ−Ｌ³−Ａｒ²
上記一般式（２）において、Ａｒ¹及びＡｒ²は、それぞれ独立に、芳香族基である。

芳香族基の定義及び例は、一般式（１）のＡｒ¹及びＡｒ²と同様である。また、Ｌ²及びＬ³は、それぞれ独立に、アルキレン基、−Ｏ−、−ＣＯ−及びそれらの組み合わせからなる基より選ばれる２価の連結基である。
アルキレン基は、環状構造よりも鎖状構造を有することが好ましく、分岐を有する鎖状構造よりも直鎖状構造を有することがさらに好ましい。アルキレン基の炭素原子数は１〜１０であることが好ましく、より好ましくは１〜８であり、さらに好ましくは１〜６であり、さらに好ましくは１〜４であり、１又は２（メチレン又はエチレン）であることが最も好ましい。
Ｌ²及びＬ³は、−Ｏ−ＣＯ−又は−ＣＯ−Ｏ−であることが特に好ましい。

一般式（２）において、Ｘは、１，４−シクロへキシレン、ビニレン又はエチニレンである。

一般式（１）又は（２）で表される化合物の具体例としては、特開２００４−１０９６５７号公報の［化１］〜［化１１］に記載の化合物が挙げられる。

その他、下記一般式（３）で表される化合物もまた好ましい。
一般式（３）：

（式中、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶、Ｒ⁷、Ｒ⁹及びＲ¹⁰は、それぞれ独立に水素原子又は置換基を表し、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴及びＲ⁵のうち少なくとも１つは電子供与性基を表す。Ｒ⁸は水素原子、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数２〜６のアルケニル基、炭素数２〜６のアルキニル基、炭素数６〜１２のアリール基、炭素数1〜１２のアルコキシ基、炭素数６〜１２のアリールオキシ基、炭素数２〜１２のアルコキシカルボニル基、炭素数２〜１２のアシルアミノ基、シアノ基又はハロゲン原子を表す。）

レターデーション発現剤のうち、一般式（３）で表される棒状化合物の具体例を以下に示す。

溶液の紫外線吸収スペクトルにおいて、最大吸収波長（λ_max）が２５０ｎｍより短波長である棒状化合物を、２種類以上併用してもよい。

棒状化合物は、文献記載の方法により合成できる。
文献としては、“Ｍｏｌ．Ｃｒｙｓｔ．Ｌｉｑ．Ｃｒｙｓｔ．”，５３巻、ｐ２２９（１９７９年）、同８９巻、ｐ９３（１９８２年）、同１４５巻、ｐ１１１（１９８７年）、同１７０巻、ｐ４３（１９８９年）、“Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．”，１１３巻、ｐ１３４９（１９９１年）、同１１８巻、ｐ５３４６（１９９６年）、同９２巻、ｐ１５８２ページ（１９７０年）、“Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．”，４０巻、ｐ４２０（１９７５年）、“Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ”，４８巻１６号、ｐ３４３７（１９９２年）を挙げることができる。

［レターデーション低下剤］
セルロースアシレートフィルムの光学的異方性を低下させる場合に使用するレターデーション低下剤について説明する。
フィルム中のセルロースアシレートが、面内及び膜厚方向に配向するのを抑制する化合物を用いて、光学的異方性を十分に低下させ、Ｒｅ及びＲｔｈをゼロ又はゼロに近くにすることができる。このためには、光学的異方性を低下させる化合物はセルロースアシレートに十分に相溶し、化合物自身が棒状の構造や平面性の構造を持たないことが有利である。具体的には芳香族基のような平面性の官能基を複数持っている場合、それらの官能基を同一平面ではなく、非平面に持つような構造が有利である。

（ＬｏｇＰ値）
光学的異方性の低いセルロースアシレートフィルムを作製するにあたっては、上述のように、フィルム中のセルロースアシレートが面内及び膜厚方向に配向するのを抑制して光学異方性を低下させる化合物のうち、オクタノール−水分配係数（ｌｏｇＰ値）が０〜７である化合物が好ましい。化合物のｌｏｇＰ値が７以下であれば、セルロースアシレートとの相溶性が良好で、フィルムの白濁や粉吹きなどの不具合を生じにくいので好ましい。
また化合物のｌｏｇＰ値が０以上であれば、親水性が高くなりすぎることがなく、セルロースアシレートフィルムの耐水性を悪化させることがないので好ましい。ｌｏｇＰ値としてさらに好ましい範囲は１〜６であり、特に好ましい範囲は１．５〜５である。

オクタノール−水分配係数（ｌｏｇＰ値）の測定は、ＪＩＳ Ｚ−７２６０−１０７（２０００）に記載のフラスコ浸とう法により実施することができる。また、オクタノール−水分配係数（ｌｏｇＰ値）は実測に代わって、計算化学的手法又は経験的方法により見積もることも可能である。

計算方法としては、Ｃｒｉｐｐｅｎ’ｓ ｆｒａｇｍｅｎｔａｔｉｏｎ法｛“Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｉｎｆ．Ｃｏｍｐｕｔ．Ｓｃｉ．”，２７巻、ｐ２１（１９８７年）｝、Ｖｉｓｗａｎａｄｈａｎ’ｓ ｆｒａｇｍｅｎｔａｔｉｏｎ法｛“Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｉｎｆ．Ｃｏｍｐｕｔ．Ｓｃｉ．”，２９巻、ｐ１６３（１９８９年）｝、Ｂｒｏｔｏ’ｓ ｆｒａｇｍｅｎｔａｔｉｏｎ法｛“Ｅｕｒ．Ｊ．Ｍｅｄ．Ｃｈｅｍ．−Ｃｈｉｍ．Ｔｈｅｏｒ．”，１９巻、ｐ７１（１９８４年）｝などが好ましく用いられるが、Ｃｒｉｐｐｅｎ’ｓ ｆｒａｇｍｅｎｔａｔｉｏｎ法｛“Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｉｎｆ．Ｃｏｍｐｕｔ．Ｓｃｉ．”，２７巻、ｐ２１（１９８７年）｝がより好ましい。

ある化合物のｌｏｇＰの値が測定方法又は計算方法により異なる場合に、該化合物が上記の範囲内であるかどうかは、Ｃｒｉｐｐｅｎ’ｓ ｆｒａｇｍｅｎｔａｔｉｏｎ法により判断することが好ましい。

（光学的異方性を低下する化合物の物性）
光学異方性を低下させる化合物は、芳香族基を含有してもよいし、含有しなくてもよい。また光学異方性を低下させる化合物は、分子量が１５０以上３０００以下であることが好ましく、１７０以上２０００以下であることが好ましく、２００以上１０００以下であることが特に好ましい。これらの分子量の範囲であれば、特定のモノマー構造であってもよいし、そのモノマーユニットが複数結合したオリゴマー構造、ポリマー構造でもよい。

光学異方性を低下させる化合物は、好ましくは、２５℃で液体であるか、融点が２５〜２５０℃の固体であり、さらに好ましくは、２５℃で液体であるか、融点が２５〜２００℃の固体である。また光学異方性を低下させる化合物は、セルロースアシレートフィルム作製のドープ流延、乾燥の過程で揮散しないことが好ましい。

光学異方性を低下させる化合物の添加量は、セルロースアシレートの０．０１〜３０質量％であることが好ましく、１〜２５質量％であることがより好ましく、５〜２０質量％であることが特に好ましい。

光学異方性を低下させる化合物は、単独で用いても、２種以上の化合物を任意の比で混合して用いてもよい。

光学異方性を低下させる化合物を添加する時期は、ドープ作製工程中の何れであってもよく、ドープ調製工程の最後に行ってもよい。

光学異方性を低下させる化合物は、少なくとも一方の側の表面から全膜厚の１０％までの部分における該化合物の平均含有率が、該セルロースアシレートフィルムの中央部における該化合物の平均含有率の８０〜９９％であることが好ましい。光学異方性を低下させる化合物の存在量は、例えば、特開平８−５７８７９号公報に記載の赤外吸収スペクトルを用いる方法などにより、表面及び中心部の化合物量を測定して求めることができる。

（光学異方性を低下させる化合物の具体例）
以下に本発明で好ましく用いられる、セルロースアシレートフィルムの光学異方性を低下させる化合物の具体例を示すが、本発明はこれら化合物に限定されない。

［波長分散調整剤］
次ぎに、セルロースアシレートフィルムの波長分散を低下させる化合物について説明する。２００〜４００ｎｍの紫外領域に吸収を持ち、フィルムの｜Ｒｅ₄₀₀−Ｒｅ₇₀₀｜及び｜Ｒｔｈ₄₀₀−Ｒｔｈ₇₀₀｜を低下させる化合物を少なくとも１種、セルロースアシレート固形分に対して０．０１〜３０質量％含むことが好ましい。波長分散調整剤の含有により、セルロースアシレートフィルムのＲｅ、Ｒｔｈの波長分散を調整することができる。ここで、Ｒｅ₄₀₀、Ｒｔｈ₄₀₀は、波長λ＝４００ｎｍにおける値、Ｒｅ₇₀₀、Ｒｔｈ₇₀₀は、波長λ＝７００ｎｍにおける値（いずれも単位：ｎｍ）を表す。このような化合物の添加量としては、０．１〜３０質量％含むことによってセルロースアシレートフィルムのＲｅ、Ｒｔｈの波長分散を調整できる。

セルロースアシレートフィルムのＲｅ、Ｒｔｈの値は、一般に短波長側よりも長波長側が大きい波長分散特性となる。従って、相対的に小さい短波長側のＲｅ、Ｒｔｈを大きくすることによって、波長分散を平滑にすることが要求される。一方、２００〜４００ｎｍの紫外領域に吸収を持つ化合物は、短波長側よりも長波長側の吸光度が大きい波長分散特性をもつ。この化合物自身がセルロースアシレートフィルム内部で等方的に存在していれば、化合物自身の複屈折性、ひいてはＲｅ、Ｒｔｈの波長分散は、吸光度の波長分散と同様に短波長側が大きいと想定される。

従って、上述したような、２００〜４００ｎｍの紫外領域に吸収を持ち、化合物自身のＲｅ、Ｒｔｈの波長分散が短波長側で大きいと想定されるものを用いることによって、セルロースアシレートフィルムのＲｅ、Ｒｔｈの波長分散を調製することができる。このためには、波長分散を調整する化合物は、セルロースアシレートに十分均一に相溶することが要求される。このような化合物の紫外領域の吸収帯範囲は２００〜４００ｎｍが好ましいが、２２０〜３９５ｎｍがより好ましく、２４０〜３９０ｎｍがさらに好ましい。

また、近年テレビやノートパソコン、モバイル型携帯端末などの液晶表示装置では、より少ない電力で輝度を高めるために、液晶表示装置に用いられる光学部材の透過率が優れたものが要求されている。その点においては、２００〜４００ｎｍの紫外領域に吸収を持ち、フィルムの｜Ｒｅ₄₀₀−Ｒｅ₇₀₀｜及び｜Ｒｔｈ₄₀₀−Ｒｔｈ₇₀₀｜を低下させる化合物を、セルロースアシレートフィルムに添加する場合、分光透過率が優れていることが要求される。本発明に好ましく用いられるセルロースアシレートフィルムにおいては、波長３８０ｎｍにおける分光透過率が４５％以上９５％以下であり、且つ波長３５０ｎｍにおける分光透過率が１０％以下であることがのぞましい。

上述のような、本発明で好ましく用いられる波長分散調整剤は、揮散性の観点から分子量が２５０〜１０００であることが好ましい。より好ましくは２６０〜８００であり、更に好ましくは２７０〜８００であり、特に好ましくは３００〜８００である。これらの分子量の範囲であれば、特定のモノマー構造であってもよいし、そのモノマーユニットが複数結合したオリゴマー構造、ポリマー構造でもよい。

波長分散調整剤は、セルロースアシレートフィルム作製のドープ流延、乾燥の過程で揮散しないことが好ましい。

（波長分散調整剤の添加量）
上記の本発明で好ましく用いられる波長分散調整剤の添加量は、セルロースアシレートの固形分に対して０．０１〜３０質量％であることが好ましく、０．１〜２０質量％であることがより好ましく、０．２〜１０質量％であることが特に好ましい。

（波長分散調整剤の添加の方法）
またこれら波長分散調整剤は、単独で用いても、２種以上の化合物を任意の比で混合して用いてもよい。
またこれら波長分散調整剤を添加する時期は、ドープ作製工程中の何れであってもよく、ドープ調製工程の最後に行ってもよい。

本発明に好ましく用いられる波長分散調整剤の具体例としては、例えばベンゾトリアゾール系化合物、ベンゾフェノン系化合物、シアノ基を含む化合物、オキシベンゾフェノン系化合物、サリチル酸エステル系化合物、ニッケル錯塩系化合物などが挙げられるが、本発明はこれらの化合物だけに限定されるものではない。

［染料］
また本発明では、色相調整のための染料を添加してもよい。染料の含有量は、セルロースアシレートに対する質量割合で１０〜１０００ｐｐｍが好ましく、５０〜５００ｐｐｍが更に好ましい。この様に染料を含有させることにより、セルロースアシレートフィルムのライトパイピングが減少でき、黄色味を改良することができる。これらの化合物は、セルロースアシレート溶液の調製の際に、セルロースアシレートや溶媒と共に添加してもよいし、溶液調製中や調製後に添加してもよい。またインライン添加する紫外線吸収剤液に添加してもよい。特開平５−３４８５８号公報に記載の染料を用いることができる。

［マット剤微粒子］
本発明に好ましく用いられるセルロースアシレートフィルムには、マット剤として微粒子を加えることが好ましい。本発明に使用される微粒子としては、二酸化珪素、二酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、炭酸カルシウム、炭酸カルシウム、タルク、クレイ、焼成カオリン、焼成珪酸カルシウム、水和珪酸カルシウム、珪酸アルミニウム、珪酸マグネシウム及びリン酸カルシウムを挙げることができる。微粒子は、珪素を含むものが濁度が低くなる点で好ましく、特に二酸化珪素が好ましい。

二酸化珪素の微粒子は、１次平均粒子径が２０ｎｍ以下であり、且つ見掛け比重が７０ｇ／Ｌ以上であるものが好ましい。１次粒子の平均径が５〜１６ｎｍと小さいものがフィルムのヘイズを下げることができより好ましい。見掛け比重は９０〜２００ｇ／Ｌ以上が好ましく、１００〜２００ｇ／Ｌ以上がさらに好ましい。見掛け比重が大きい程、高濃度の分散液を作ることが可能になり、ヘイズ、凝集物が良化するため好ましい。

マット剤として二酸化珪素微粒子を用いる場合の、その使用量は、セルロースアシレートを含むポリマー成分１００質量部に対して０．０１〜０．３質量部とするのが好ましい。

これらの微粒子は、通常平均粒子径が０．１〜３．０μｍの２次粒子を形成するが、フィルム中では１次粒子の凝集体として存在し、フィルム表面に０．１〜３．０μｍの凹凸を形成させる。２次粒子の平均粒子径は０．２μｍ以上１．５μｍ以下が好ましく、０．４μｍ以上１．２μｍ以下がさらに好ましく、０．６μｍ以上１．１μｍ以下が最も好ましい。該平均粒子径が１．５μｍ以下であればヘイズが強くなりすぎることがなく、また０．２μｍ以上であればきしみ防止効果が十分に発揮されるので好ましい。

微粒子の１次、２次粒子径は、フィルム中の粒子を走査型電子顕微鏡で観察し、粒子に外接する円の直径をもって粒径とする。また、場所を変えて粒子２００個を観察し、その平均値をもって平均粒子径とする。

二酸化珪素の微粒子は、例えば、「アエロジル」Ｒ９７２、Ｒ９７２Ｖ、Ｒ９７４、Ｒ８１２、２００、２００Ｖ、３００、Ｒ２０２、ＯＸ５０、ＴＴ６００｛以上、日本アエロジル（株）製｝などの市販品を使用することができる。酸化ジルコニウムの微粒子は、例えば、「アエロジル」Ｒ９７６及びＲ８１１｛以上、日本アエロジル（株）製｝の商品名で市販されており、使用することができる。

これらの中で「アエロジル２００Ｖ」、「アエロジルＲ９７２Ｖ」が、１次平均粒子径が２０ｎｍ以下であり、且つ見掛け比重が７０ｇ／Ｌ以上である二酸化珪素の微粒子であり、光学フィルムの濁度を低く保ちながら、摩擦係数をさげる効果が大きいため特に好ましい。

本発明において、２次平均粒子径の小さな粒子を含有するセルロースアシレートフィルムを得るためには、微粒子の分散液を調製する際いくつかの手法が考えられる。例えば、溶媒と微粒子を撹拌混合した微粒子分散液を予め作製し、この微粒子分散液を、別途用意した少量のセルロースアシレート溶液に加えて撹拌溶解し、さらにメインのセルロースアシレートドープ液と混合する方法がある。この方法は二酸化珪素微粒子の分散性がよく、二酸化珪素微粒子が更に再凝集しにくい点で好ましい調製方法である。ほかにも、溶媒に少量のセルロースエステルを加え、撹拌溶解した後、これに微粒子を加えて分散機で分散を行いこれを微粒子添加液とし、この微粒子添加液をインラインミキサーでドープ液と十分混合する方法もある。本発明においては、これらの方法に限定されるものではないが、二酸化珪素微粒子を溶媒などと混合して分散するときの、二酸化珪素の濃度は５〜３０質量％が好ましく、１０〜２５質量％が更に好ましく、１５〜２０質量％が最も好ましい。
分散濃度が高い方が添加量に対する液濁度は低くなり、ヘイズ、凝集物が良化するため好ましい。最終的なセルロースアシレートのドープ溶液中でのマット剤の添加量は１ｍ²当たり０．０１〜１．０ｇが好ましく、０．０３〜０．３ｇが更に好ましく、０．０８〜０．１６ｇが最も好ましい。

使用される溶媒は、低級アルコール類としては、好ましくはメチルアルコール、エチルアルコール、プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、ブチルアルコール等が挙げられる。低級アルコール以外の溶媒としては、特に限定されないが、セルロースエステルの製膜時に用いられる溶媒を用いることが好ましい。

次に、本発明に好ましく用いられるセルロースアシレートが溶解される前記有機溶媒について記述する。

本発明においては、有機溶媒として、塩素系有機溶媒を主溶媒とする塩素系溶媒と、塩素系有機溶媒を含まない非塩素系溶媒とのいずれをも用いることができる。

〔塩素系溶媒〕
本発明において好ましく用いられるセルロースアシレートの溶液を作製するに際しては、主溶媒として塩素系有機溶媒が好ましく用いられる。本発明においては、セルロースアシレートが溶解し、流延・製膜できる範囲において、その目的が達成できる限りは、その塩素系有機溶媒の種類は特に限定されない。これらの塩素系有機溶媒は、好ましくはジクロロメタン、クロロホルムである。特にジクロロメタンが好ましい。また、塩素系有機溶媒以外の有機溶媒を混合することも特に問題ない。その場合ジクロロメタンは、有機溶媒全体量中少なくとも５０質量％使用することが好ましい。

本発明で塩素系有機溶媒と併用される他の有機溶媒について以下に記す。
すなわち、好ましい他の有機溶媒としては、炭素原子数が３〜１２のエステル、ケトン、エーテル、アルコール、炭化水素などから選ばれる溶媒が好ましい。エステル、ケトン、エーテル及びアルコールは、環状構造を有していてもよい。エステル、ケトン及びエーテルの官能基（すなわち、−Ｏ−、−ＣＯ−及び−ＣＯＯ−）のいずれかを２つ以上有する化合物も、溶媒として用いることができ、例えばアルコール性水酸基のような他の官能基を同時に有していてもよい。２種類以上の官能基を有する溶媒の場合、その炭素原子数はいずれかの官能基を有する化合物の規定範囲内であればよい。炭素原子数が３〜１２のエステル類の例には、エチルホルメート、プロピルホルメート、ペンチルホルメート、メチルアセテート、エチルアセテート及びペンチルアセテート等が挙げられる。炭素原子数が３〜１２のケトン類の例には、アセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、ジイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン及びメチルシクロヘキサノン等が挙げられる。炭素原子数が３〜１２のエーテル類の例には、ジイソプロピルエーテル、ジメトキシメタン、ジメトキシエタン、１，４−ジオキサン、１，３−ジオキソラン、テトラヒドロフラン、アニソール及びフェネトール等が挙げられる。２種類以上の官能基を有する有機溶媒の例には、２−エトキシエチルアセテート、２−メトキシエタノール及び２−ブトキシエタノール等が挙げられる。

また塩素系有機溶媒と併用されるアルコールとしては、好ましくは、直鎖であっても分枝を有していても環状であってもよく、その中でも飽和脂肪族炭化水素であることが好ましい。アルコールの水酸基は、第一級〜第三級のいずれであってもよい。アルコールの例には、メタノール、エタノール、１−プロパノール、２−プロパノール、１−ブタノール、２−ブタノール、ｔ−ブタノール、１−ペンタノール、２−メチル−２−ブタノール及びシクロヘキサノールが含まれる。なおアルコールとしては、フッ素系アルコールも用いられる。例えば、２−フルオロエタノール、２，２，２−トリフルオロエタノール、２，２，３，３−テトラフルオロ−１−プロパノールなども挙げられる。さらに炭化水素は、直鎖であっても分岐を有していても環状であってもよい。芳香族炭化水素と脂肪族炭化水素のいずれも用いることができる。脂肪族炭化水素は、飽和であっても不飽和であってもよい。炭化水素の例には、シクロヘキサン、ヘキサン、ベンゼン、トルエン及びキシレンが含まれる。

塩素系有機溶媒と他の有機溶媒との組合せ例としては、以下の組成を挙げることができるが、これらに限定されるものではない。
ジクロロメタン／メタノール／エタノール／ブタノール＝８０／１０／５／５（質量部）、
ジクロロメタン／アセトン／メタノール／プロパノール＝８０／１０／５／５（質量部）、
ジクロロメタン／メタノール／ブタノール／シクロヘキサン＝８０／１０／５／５（質量部）、
ジクロロメタン／メチルエチルケトン／メタノール／ブタノール＝８０／１０／５／５（質量部）、
ジクロロメタン／アセトン／メチルエチルケトン／エタノール／イソプロパノール＝７５／８／５／５／７（質量部）
ジクロロメタン／シクロペンタノン／メタノール／イソプロパノール＝８０／７／５／８（質量部）
ジクロロメタン／酢酸メチル／ブタノール＝８０／１０／１０（質量部）、
ジクロロメタン／シクロヘキサノン／メタノール／ヘキサン＝７０／２０／５／５（質量部）、
ジクロロメタン／メチルエチルケトン／アセトン／メタノール／エタノール＝５０／２０／２０／５／５（質量部）、
ジクロロメタン／１、３ジオキソラン／メタノール／エタノール＝７０／２０／５／５（質量部）、
ジクロロメタン／ジオキサン／アセトン／メタノール／エタノール＝６０／２０／１０／５／５（質量部）、
ジクロロメタン／アセトン／シクロペンタノン／エタノール／イソブタノール／シクロヘキサン＝６５／１０／１０／５／５／５（質量部）、
ジクロロメタン／メチルエチルケトン／アセトン／メタノール／エタノール＝７０／１０／１０／５／５（質量部）、
ジクロロメタン／アセトン／酢酸エチル／エタノール／ブタノール／ヘキサン＝６５／１０／１０／５／５／５（質量部）、
ジクロロメタン／アセト酢酸メチル／メタノール／エタノール＝６５／２０／１０／５（質量部）、
ジクロロメタン／シクロペンタノン／エタノール／ブタノール＝６５／２０／１０／５（質量部）。

〔非塩素系溶媒〕
次に、本発明において好ましく用いられるセルロースアシレートの溶液を作製するに際して、好ましく用いられる非塩素系有機溶媒について記載する。本発明においては、セルロースアシレートが溶解し、流延・製膜できる範囲において、その目的が達成できる限りは、非塩素系有機溶媒は特に限定されない。本発明で用いられる非塩素系有機溶媒は、炭素原子数が３〜１２のエステル、ケトン、エーテルから選ばれる溶媒が好ましい。エステル、ケトン及び、エーテルは、環状構造を有していてもよい。エステル、ケトン及びエーテルの官能基（すなわち、−Ｏ−、−ＣＯ−及び−ＣＯＯ−）のいずれかを２つ以上有する化合物も、主溶媒として用いることができ、例えばアルコール性水酸基のような他の官能基を有していてもよい。２種類以上の官能基を有する主溶媒の場合、その炭素原子数は、いずれかの官能基を有する化合物の規定範囲内であればよい。炭素原子数が３〜１２のエステル類の例には、蟻酸エチル、蟻酸プロピル、蟻酸ペンチル、酢酸メチル、酢酸エチル及び酢酸ペンチルが挙げられる。炭素原子数が３〜１２のケトン類の例には、アセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、ジイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン及びアセチル酢酸メチルが挙げられる。炭素原子数が３〜１２のエーテル類の例には、ジイソプロピルエーテル、ジメトキシメタン、ジメトキシエタン、１，４−ジオキサン、１，３−ジオキソラン、テトラヒドロフラン、アニソール及びフェネトールが挙げられる。二種類以上の官能基を有する有機溶媒の例には、２−エトキシエチルアセテート、２−メトキシエタノール及び２−ブトキシエタノールが挙げられる。

以上の、セルロースアシレートに用いられる非塩素系有機溶媒については、前述のいろいろな観点から選定されるが、好ましくは以下のとおりである。
すなわち、非塩素系溶媒としては、上記非塩素系有機溶媒を主溶媒とする混合溶媒が好ましく、互いに異なる３種類以上の溶媒の混合溶媒であって、第１の溶媒が酢酸メチル、酢酸エチル、蟻酸メチル、蟻酸エチル、アセトン、ジオキソラン、ジオキサンから選ばれる少なくとも１種又はそれらの混合液であり、第２の溶媒が炭素原子数４〜７のケトン類又はアセト酢酸エステルから選ばれ、第３の溶媒が炭素数１〜１０のアルコール又は炭化水素、より好ましくは炭素数１〜８のアルコールから選ばれる混合溶媒である。なお第１の溶媒が、２種以上の溶媒の混合液である場合は、第２の溶媒がなくてもよい。第１の溶媒は、さらに好ましくは、酢酸メチル、アセトン、蟻酸メチル、蟻酸エチル又はこれらの混合物であり、第２の溶媒は、メチルエチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、アセチル酢酸メチルが好ましく、これらの混合溶媒であってもよい。

第３の溶媒であるアルコールは、その炭化水素鎖が直鎖であっても分枝を有していても環状であってもよく、その中でも飽和脂肪族炭化水素鎖であることが好ましい。アルコールの水酸基は、第一級〜第三級のいずれであってもよい。アルコールの例には、メタノール、エタノール、１−プロパノール、２−プロパノール、１−ブタノール、２−ブタノール、ｔ−ブタノール、１−ペンタノール、２−メチル−２−ブタノール及びシクロヘキサノールが含まれる。なおアルコールとしては、その炭化水素鎖の水素の一部又は全部がフッ素で置換されたフッ素系アルコールも用いられる。例えば、２−フルオロエタノール、２，２，２−トリフルオロエタノール、２，２，３，３−テトラフルオロ−１−プロパノールなども挙げられる。

さらに炭化水素は、直鎖であっても分岐を有していても環状であってもよい。芳香族炭化水素と脂肪族炭化水素のいずれも用いることができる。脂肪族炭化水素は、飽和であっても不飽和であってもよい。炭化水素の例には、シクロヘキサン、ヘキサン、ベンゼン、トルエン及びキシレンが含まれる。

これらの第３の溶媒であるアルコール及び炭化水素は、単独で用いてもよいし、２種類以上の混合物で用いてもよく特に限定されない。第３の溶媒としては、好ましい具体的化合物は、アルコールとして、メタノール、エタノール、１−プロパノール、２−プロパノール、１−ブタノール、２−ブタノール、及びシクロヘキサノール、炭化水素として、シクロヘキサン、ヘキサンなどを挙げることができ、特に好ましくはメタノール、エタノール、１−プロパノール、２−プロパノール、１−ブタノールである。

以上の３種類の混合溶媒の混合割合は、混合溶媒全体量中、第１の溶媒が２０〜９５質量％、第２の溶媒が２〜６０質量％、そして第３の溶媒が２〜３０質量％の比率で含まれることが好ましく、さらに第１の溶媒が３０〜９０質量％であり、第２の溶媒が３〜５０質量％、そして第３のアルコールが３〜２５質量％含まれることが好ましい。また特に第１の溶媒が３０〜９０質量％であり、第２の溶媒が３〜３０質量％、第３の溶媒がアルコールであって３〜１５質量％含まれることが好ましい。

以上の本発明で用いられる非塩素系有機溶媒は、さらに詳細には前記公技番号２００１−１７４５号ｐ．１２−１６に詳細に記載されている。

本発明の好ましい非塩素系有機溶媒の組合せは以下挙げることができるが、これらに限定されるものではない。
酢酸メチル／アセトン／メタノール／エタノール／ブタノール＝７５／１０／５／５／５（質量部）、
酢酸メチル／アセトン／メタノール／エタノール／プロパノール＝７５／１０／５／５／５（質量部）、
酢酸メチル／アセトン／メタノール／ブタノール／シクロヘキサン＝７５／１０／５／５／５（質量部）、
酢酸メチル／アセトン／エタノール／ブタノール＝８１／８／７／４（質量部）、
酢酸メチル／アセトン／エタノール／ブタノール＝８２／１０／４／４（質量部）、
酢酸メチル／アセトン／エタノール／ブタノール＝８０／１０／４／６（質量部）、
酢酸メチル／メチルエチルケトン／メタノール／ブタノール＝８０／１０／５／５（質量部）、
酢酸メチル／アセトン／メチルエチルケトン／エタノール／イソプロパノール＝７５／８／５／５／７（質量部）、
酢酸メチル／シクロペンタノン／メタノール／イソプロパノール＝８０／７／５／８（質量部）、
酢酸メチル／アセトン／ブタノール＝８５／１０／５（質量部）、
酢酸メチル／シクロペンタノン／アセトン／メタノール／ブタノール＝６０／１５／１４／５／６（質量部）、
酢酸メチル／シクロヘキサノン／メタノール／ヘキサン＝７０／２０／５／５（質量部）、
酢酸メチル／メチルエチルケトン／アセトン／メタノール／エタノール＝５０／２０／２０／５／５（質量部）、
酢酸メチル／１、３−ジオキソラン／メタノール／エタノール＝７０／２０／５／５（質量部）、
酢酸メチル／ジオキサン／アセトン／メタノール／エタノール＝６０／２０／１０／５／５（質量部）、
酢酸メチル／アセトン／シクロペンタノン／エタノール／イソブタノール／シクロヘキサン＝６５／１０／１０／５／５／５（質量部）、

ギ酸メチル／メチルエチルケトン／アセトン／メタノール／エタノール＝５０／２０／２０／５／５（質量部）、
ギ酸メチル／アセトン／酢酸エチル／エタノール／ブタノール／ヘキサン＝６５／１０／１０／５／５／５（質量部）、
アセトン／アセト酢酸メチル／メタノール／エタノール＝６５／２０／１０／５（質量部）、
アセトン／シクロペンタノン／エタノール／ブタノール＝６５／２０／１０／５（質量部）、
アセトン／１，３−ジオキソラン／エタノール／ブタノール＝６５／２０／１０／５（質量部）、
１、３−ジオキソラン／シクロヘキサノン／メチルエチルケトン／メタノール／ブタノール＝５５／２０／１０／５／５／５（質量部）
などをあげることができる。

更に、下記の方法で調整したセルロースアシレート溶液を用いることもできる。
酢酸メチル／アセトン／エタノール／ブタノール＝８１／８／７／４（質量部）でセルロースアシレート溶液を作製し、濾過・濃縮後に２質量部のブタノールを追加添加する方法、
酢酸メチル／アセトン／エタノール／ブタノール＝８４／１０／４／２（質量部）でセルロースアシレート溶液を作製し、濾過・濃縮後に４質量部のブタノールを追加添加する方法、
酢酸メチル／アセトン／エタノール＝８４／１０／６（質量部）でセルロースアシレート溶液を作製し、濾過・濃縮後に５質量部のブタノールを追加添加する方法、

本発明に用いるドープには、上記本発明の非塩素系有機溶媒以外に、ジクロロメタンを本発明の全有機溶媒量の１０質量％以下含有させてもよい。

〔セルロースアシレート溶液特性〕
セルロースアシレートの溶液は、前記有機溶媒にセルロースアシレートを溶解させた溶液であり、その濃度は１０〜３０質量％の範囲であることが、製膜流延適性の点で好ましく、より好ましくは１３〜２７質量％であり、特に好ましくは１５〜２５質量％である。
セルロースアシレート溶液をこのような濃度範囲にする方法は、溶解する段階で所定の濃度になるようにしてもよく、また予め低濃度溶液（例えば９〜１４質量％）として作製した後に、後述する濃縮工程で所定の高濃度溶液に調整してもよい。さらに、予め高濃度のセルロースアシレート溶液とした後に、種々の添加物を添加することで所定の低濃度のセルロースアシレート溶液としてもよく、いずれの方法でも本発明において好ましく用いられるセルロースアシレート溶液濃度になるように実施されれば特に問題ない。

次に、本発明では、セルロースアシレート溶液を同一組成の有機溶媒で０．１〜５質量％にしたときの、希釈溶液中のセルロースアシレートの会合体分子量が１５万〜１５００万であることが、溶媒への溶解性の点で好ましい。会合分子量は１８万〜９００万であることがさらに好ましい。この会合分子量は、静的光散乱法で求めることができる。その際に、同時に求められる慣性半径は１０〜２００ｎｍになるように溶解することが好ましい。さらに好ましい慣性半径は２０〜２００ｎｍである。更にまた、第２ビリアル係数が−２×１０^-4〜＋４×１０^-4となるように溶解することが好ましく、より好ましくは第２ビリアル係数が−２×１０^-4〜＋２×１０^-4である。

ここで、本発明での会合分子量、さらに慣性半径及び第２ビリアル係数の定義について述べる。これらは下記方法に従って、静的光散乱法を用いて測定する。測定は装置の都合上希薄領域で測定するが、これらの測定値は本発明の高濃度域でのドープの挙動を反映するものである。

まず、セルロースアシレートをドープに使用する溶媒に溶かし、０．１質量％、０．２質量％、０．３質量％、０．４質量％の溶液を調製する。なお秤量は、吸湿を防ぐため、セルロースアシレートは、１２０℃で２時間乾燥したものを用い、２５℃、１０％ＲＨで行う。溶解方法は、ドープ溶解時に採用した方法（常温溶解法、冷却溶解法、高温溶解法）に従って実施する。続いてこれらの溶液、及び溶媒を０．２μｍのテフロン製フィルターで濾過する。そして、濾過した溶液の静的光散乱を、光散乱測定装置“ＤＬＳ−７００”｛大塚電子（株）製｝を用い、２５℃において３０゜から１４０゜まで１０゜間隔で測定する。得られたデータをＢＥＲＲＹプロット法にて解析する。なお、この解析に必要な屈折率は、アッベ屈折系で求めた溶媒の値を用い、屈折率の濃度勾配（ｄｎ／ｄｃ）は、示差屈折計“ＤＲＭ−１０２１”｛大塚電子（株）製｝を用い、光散乱測定に用いた溶媒及び溶液を用いて測定する。

〔ドープの調製〕
次に、セルロースアシレートの流延・製膜用の溶液（ドープ）の調製について述べる。
セルロースアシレートの溶解方法は、特に限定されず、室温溶解法でもよく、また冷却溶解法又は高温溶解法、さらにはこれらの組み合わせで実施されてもよい。これらに関しては、例えば特開平５−１６３３０１号、特開昭６１−１０６６２８号、特開昭５８−１２７７３７号、特開平９−９５５４４号、特開平１０−９５８５４号、特開平１０−４５９５０号、特開２０００−５３７８４号、特開平１１−３２２９４６号、さらに特開平１１−３２２９４７号、特開平２−２７６８３０号、特開２０００−２７３２３９号、特開平１１−７１４６３号、特開平０４−２５９５１１号、特開２０００−２７３１８４号、特開平１１−３２３０１７号、特開平１１−３０２３８８号などの各公報にセルロースアシレート溶液の調製法として記載されている。

以上記載した、これらのセルロースアシレートの有機溶媒への溶解方法は、適宜本発明の範囲であれば、本発明においてもこれらの技術を適用できるものである。これらの詳細、特に非塩素系溶媒系については、前記公技番号２００１−１７４５号ｐ．２２−２５に詳細に記載されており、その方法に従って実施することができる。さらに本発明において好ましく用いられるセルロースアシレートのドープ溶液については、通常、溶液濃縮、濾過が実施されるが、これらについては同様に前記公技番号２００１−１７４５号ｐ．２５に詳細に記載されている。なお、高温度で溶解する場合には、使用する有機溶媒の沸点以上の場合がほとんどであり、その場合は加圧状態で行われる。

セルロースアシレート溶液は、その溶液の粘度と動的貯蔵弾性率が以下に述べる範囲であることが、流延しやすく好ましい。これらの値は、試料溶液１ｍＬをレオメーター“ＣＬＳ ５００”に、直径４ｃｍ／２°の“Ｓｔｅｅｌ Ｃｏｎｅ”（共にＴＡ Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ社製）を用いて測定する。測定条件はＯｓｃｉｌｌａｔｉｏｎ Ｓｔｅｐ／Ｔｅｍｐｅｒａｔｕｒｅ Ｒａｍｐで４０℃〜−１０℃の範囲を２℃／分で可変して測定し、４０℃の静的非ニュートン粘度ｎ^*（Ｐａ・ｓ）及び−５℃の貯蔵弾性率Ｇ'（Ｐａ）を求める。なお試料溶液は、予め測定開始温度にて液温一定となるまで保温した後に測定を開始する。

本発明では、４０℃での粘度が１〜４００Ｐａ・ｓであり、１５℃での動的貯蔵弾性率が５００Ｐａ以上であることが好ましく、より好ましくは４０℃での粘度が１０〜２００Ｐａ・ｓで、１５℃での動的貯蔵弾性率が１００〜１００万であるのがよい。さらには、低温での動的貯蔵弾性率は大きいほど好ましく、例えば流延支持体が−５℃の場合は、動的貯蔵弾性率が−５℃で１万〜１００万Ｐａであることが好ましく、支持体が−５０℃の場合は、−５０℃での動的貯蔵弾性率が１万〜５００万Ｐａであることが好ましい。

本発明においては、前述の特定のセルロースアシレートを用いているので、高濃度のドープが得られるのが特徴であり、濃縮という手段に頼らずとも高濃度で、しかも安定性の優れたセルロースアシレート溶液が得られる。更に溶解し易くするために、低い濃度で溶解してから濃縮手段を用いて濃縮してもよい。濃縮の方法としては、特に限定するものはないが、例えば、低濃度溶液を筒体とその内部の周方向に回転する回転羽根外周の回転軌跡との間に導くとともに、溶液との間に温度差を与えて、溶媒を蒸発させながら高濃度溶液を得る方法（例えば、特開平４−２５９５１１号公報等）、加熱した低濃度溶液をノズルから容器内に吹き込み、溶液をノズルから容器内壁に当たるまでの間で溶媒をフラッシュ蒸発させるとともに、溶媒蒸気を容器から抜き出し、高濃度溶液を容器底から抜き出す方法（例えば、米国特許第２，５４１，０１２号、米国特許第２，８５８，２２９号、米国特許第４，４１４，３４１号、米国特許第４，５０４，３５５号各明細書等などに記載の方法）等で実施できる。

ドープ溶液は、流延に先だって金網やネルなどの適当な濾材を用いて、未溶解物やゴミ、不純物などの異物を濾過除去しておくのが好ましい。セルロースアシレート溶液の濾過には、絶対濾過精度が０．１〜１００μｍのフィルターを用いることが好ましく、さらには絶対濾過精度が０．５〜２５μｍであるフィルターを用いることが好ましい。フィルターの厚さは、０．１〜１０ｍｍが好ましく、更には０．２〜２ｍｍが好ましい。その場合、濾過圧力は１．６ＭＰａ以下が好ましく、より好ましくは１．２ＭＰａ以下、更には１．０ＭＰａ以下、特に０．２ＭＰａ以下で濾過することが好ましい。濾材としては、ガラス繊維、セルロース繊維、濾紙、四フッ化エチレン樹脂などのフッ素樹脂等の従来公知である材料を好ましく用いることができ、特にセラミックス、金属等が好ましく用いられる。セルロースアシレート溶液の製膜直前の粘度は、製膜の際に流延可能な範囲であればよく、通常１０Ｐａ・ｓ〜２０００Ｐａ・ｓの範囲に調製されることが好ましく、３０Ｐａ・ｓ〜１０００Ｐａ・ｓがより好ましく、４０Ｐａ・ｓ〜５００Ｐａ・ｓが更に好ましい。なお、この時の温度はその流延時の温度であれば特に限定されないが、好ましくは−５〜＋７０℃であり、より好ましくは−５〜＋５５℃である。

〔製膜〕
本発明に好ましく用いられるセルロースアシレートフィルムは、前記セルロースアシレート溶液（ドープ）を用いて製膜を行うことにより得ることができる。製膜方法及び設備は、従来セルローストリアセテートフィルム製造に供する溶液流延製膜方法及び溶液流延製膜装置が用いられる。溶解機（釜）から調製されたドープ（セルロースアシレート溶液）を貯蔵釜で一旦貯蔵し、ドープに含まれている泡を脱泡して最終調製をする。ドープをドープ排出口から、例えば回転数によって高精度に定量送液できる加圧型定量ギヤポンプを通して加圧型ダイに送り、ドープを加圧型ダイの口金（スリット）から、エンドレスに走行している流延部の金属支持体の上に均一に流延し、金属支持体がほぼ一周した剥離点で、生乾きのドープ膜（ウェブとも呼ぶ）を金属支持体から剥離する。得られるウェブの両端をクリップで挟み、幅保持しながらテンターで搬送して乾燥し、続いて乾燥装置のロール群で搬送し乾燥を終了して、巻き取り機で所定の長さに巻き取る。テンターとロール群の乾燥装置との組み合わせはその目的により変わる。電子ディスプレイ用機能性保護膜に用いる溶液流延製膜方法においては、溶液流延製膜装置の他に、下引層、帯電防止層、ハレーション防止層、保護層等のフィルムへの表面加工のために、塗布装置が付加されることが多い。以下に各製造工程について簡単に述べるが、これらに限定されるものではない。

ソルベントキャスト法によりセルロースアシレートフィルムを作製するに際しては、まず、調製したセルロースアシレート溶液（ドープ）を、ドラム又はバンド上に流延し、溶媒を蒸発させてフィルムを形成する。流延前のドープは、固形分量が５〜４０質量％となるように濃度を調整しておくことが好ましい。ドラム又はバンドの表面は、鏡面状態に仕上げておくことが好ましい。ドープは、表面温度が３０℃以下のドラム又はバンド上に流延する方法が好ましく採用され、特には金属支持体温度が−１０〜２０℃の範囲であることが好ましい。さらに本発明では、特開２０００−３０１５５５号、特開２０００−３０１５５８号、特開平０７−０３２３９１号、特開平０３−１９３３１６号、特開平０５−０８６２１２号、特開昭６２−０３７１１３号、特開平０２−２７６６０７号、特開昭５５−０１４２０１号、特開平０２−１１１５１１号、及び特開平０２−２０８６５０号の各公報に記載の方法を用いることができる。

［重層流延］
セルロースアシレート溶液は、金属支持体としての平滑なバンド上又はドラム上に単層液として流延してもよいし、２層以上の複数のセルロースアシレート液を流延してもよい。複数のセルロースアシレート溶液を流延する場合、金属支持体の進行方向に間隔を置いて設けた複数の流延口から、セルロースアシレートを含む溶液をそれぞれ流延させて、積層させながらフィルムを作製してもよく、例えば特開昭６１−１５８４１４号、特開平１−１２２４１９号、及び特開平１１−１９８２８５号の各公報などに記載の方法が適応できる。また、２つの流延口からセルロースアシレート溶液を流延することによってフィルム化することもでき、例えば特公昭６０−２７５６２号、特開昭６１−９４７２４号、特開昭６１−９４７２４５号、特開昭６１−１０４８１３号、特開昭６１−１５８４１３号、及び特開平６−１３４９３３号の各公報に記載の方法で実施できる。さらに、特開昭５６−１６２６１７号公報に記載の、高粘度セルロースアシレート溶液の流れを低粘度のセルロースアシレート溶液で包み込み、その高粘度及び低粘度のセルロースアシレート溶液を同時に押出す、セルロースアシレートフィルム流延方法でもよい。更にまた、特開昭６１−９４７２４号及び特開昭６１−９４７２５号の各公報に記載の、外側の溶液が内側の溶液よりも貧溶媒であるアルコール成分を多く含有させることも好ましい態様である。あるいはまた２個の流延口を用い、第一の流延口により金属支持体上に形成したフィルムを剥離した後、そのフィルムの金属支持体面に接していた側に第二の流延を行うことでより、複数の層のフィルムを作製することもでき、例えば特公昭４４−２０２３５号公報に記載されている方法を挙げることができる。流延するセルロースアシレート溶液は、同一の溶液でもよいし、異なるセルロースアシレート溶液でもよく、特に限定されない。複数のセルロースアシレート層に機能を持たせるためには、その機能に応じたセルロースアシレート溶液を、それぞれの流延口から押出せばよい。さらにセルロースアシレート溶液は、他の機能層（例えば、粘着層、染料層、帯電防止層、アンチハレーション層、ＵＶ吸収層、偏光層など）を同時に流延することも実施しうる。

従来の単層液では、必要なフィルム厚さにするためには、高濃度で高粘度のセルロースアシレート溶液を押出すことが必要であり、その場合セルロースアシレート溶液の安定性が悪くなりがちで固形物が発生し、ブツ故障となったり、平面性が不良であったりして問題となることが多かった。この解決法として、複数のセルロースアシレート溶液を、複数の流延口から相対的に少量ずつ流延することにより、高粘度の溶液を同時に金属支持体上に押出すことが可能になり、平面性も改善されて優れた面状のフィルムが作製できるばかりでなく、濃厚なセルロースアシレート溶液を用いることで乾燥負荷の低減化が達成でき、フィルムの生産スピードを高めることができる。

共流延の場合、内側と外側の厚さは特に限定されないが、好ましくは外側が全膜厚の１〜５０％であることが好ましく、より好ましくは２〜３０％の厚さである。ここで、３層以上の共流延の場合には、金属支持体に接した層と空気側に接した層のトータル膜厚を外側の厚さとして定義する。共流延の場合、前記の可塑剤、紫外線吸収剤、マット剤等の添加物濃度が異なるセルロースアシレート溶液を共流延して、積層構造のセルロースアシレートフィルムを作製することもできる。例えば、スキン層／コア層／スキン層といった構成のセルロースアシレートフィルムを作ることができる。例えば、マット剤は、スキン層に多く、又はスキン層のみに入れることができる。可塑剤、紫外線吸収剤はスキン層よりもコア層に多くいれることができ、コア層のみにいれてもよい。またコア層とスキン層で可塑剤、紫外線吸収剤の種類を変更することもでき、例えばスキン層に低揮発性の可塑剤及び紫外線吸収剤の少なくともいずれかを含ませ、コア層に可塑性に優れた可塑剤、あるいは紫外線吸収性に優れた紫外線吸収剤を添加することもできる。さらに剥離促進剤を金属支持体側のスキン層のみ含有させることも好ましい態様である。さらにまた、冷却ドラム法で金属支持体を冷却して溶液をゲル化させるために、スキン層に貧溶媒であるアルコールをコア層より多く添加することも好ましい。スキン層とコア層のＴｇが異なっていてもよく、スキン層のＴｇよりコア層のＴｇが低いことが好ましい。またさらに流延時のセルロースアシレートを含む溶液の粘度も、スキン層とコア層で異なっていてもよく、スキン層の粘度がコア層の粘度よりも小さいことが好ましいが、コア層の粘度がスキン層の粘度より小さくてもよい。

［流延方法］
溶液の流延方法としては、調製されたドープを加圧ダイから金属支持体上に均一に押し出す方法、一旦金属支持体上に流延されたドープをブレードで膜厚を調節するドクターブレードによる方法、逆回転するロールで調節するリバースロールコーターによる方法等があるが、加圧ダイによる方法が好ましい。加圧ダイにはコートハンガータイプやＴダイタイプ等があるが、いずれも好ましく用いることができる。またここで挙げた方法以外にも、従来知られているセルローストリアセテート溶液を流延製膜する種々の方法で実施することができ、用いる溶媒の沸点等の違いを考慮して各条件を設定することにより、それぞれの公報に記載の内容と同様の効果が得られる。

本発明に好ましく用いられるセルロースアシレートフィルムを製造するのに使用される、エンドレスに走行する金属支持体としては、表面がクロムメッキによって鏡面仕上げされたドラムや表面研磨によって鏡面仕上げされたステンレスベルト（バンドといってもよい）が用いられる。使用される加圧ダイは、金属支持体の上方に１基又は２基以上の設置でもよい。好ましくは１基又は２基である。２基以上設置する場合には、流延するドープ量をそれぞれのダイに種々な割合にわけてもよく、複数の精密定量ギヤアポンプからそれぞれの割合でダイにドープを送液してもよい。流延に用いられるセルロースアシレート溶液の温度は−１０〜５５℃が好ましく、より好ましくは２５〜５０℃である。その場合、工程のすべての溶液温度が同一でもよく、又は工程の各所で異なっていてもよい。異なる場合は、流延直前で所望の温度であればよい。

［乾燥］
セルロースアシレートフィルムの製造に係わる、金属支持体上におけるドープの乾燥は、一般的には、金属支持体（ドラム又はベルト）の表面側、つまり金属支持体上にあるウェブの表面から熱風を当てる方法、ドラム又はベルトの裏面から熱風を当てる方法、温度コントロールした液体をベルトやドラムのドープ流延面の反対側である裏面から接触させて、伝熱によりドラム又はベルトを加熱し表面温度をコントロールする裏面液体伝熱方法などがあるが、裏面液体伝熱方式が好ましい。流延される前の金属支持体の表面温度は、ドープに用いられている溶媒の沸点以下であれば何度でもよい。しかし乾燥を促進するためには、また金属支持体上での流動性を失わせるためには、使用される溶媒の内の最も沸点の低い溶媒の沸点より１〜１０℃低い温度に設定することが好ましい。なお流延ドープを冷却して乾燥することなく剥ぎ取る場合はこの限りではない。

［延伸処理］
本発明に好ましく用いられるセルロースアシレートフィルムは、延伸処理によりレターデーションを調整することが好ましい。特に、セルロースアシレートフィルムの面内レターデーション値を高い値とする場合には、積極的に幅方向に延伸する方法、例えば、特開昭６２−１１５０３５号、特開平４−１５２１２５号、特開平４−２８４２１１号、特開平４−２９８３１０号、及び特開平１１−４８２７１号の各公報などに記載されている、製造したフィルムを延伸する方法を用いることができる。

フィルムの延伸は、常温又は加熱条件下で実施する。加熱温度は、フィルムのガラス転移温度以下であることが好ましい。フィルムの延伸は、縦又は横だけの一軸延伸でもよく、同時又は逐次２軸延伸でもよい。通常は１〜２００％の延伸を行うが、好ましくは１〜１００％、特に好ましくは１〜５０％の延伸を行うのがよい。

液晶セルの光学異方性の補償及び偏光板を斜めから見た場合の光漏れの抑制のためには、面内レターデーション値が３０ｎｍ以上の保護膜を用いることが好ましく、そのためには延伸処理を行ったセルロースアシレートフィルムが用いられる。具体的には、延伸倍率１０％以上のものが好ましく、さらに好ましくは１５％以上のものである。

上記の偏光板を斜めから見たときの光漏れの抑制のためには、偏光子の透過軸とセルロースアシレートフィルムの面内の遅相軸を平行に配置する必要がある。連続的に製造されるロールフィルム状の偏光子の透過軸は、一般的に、ロールフィルムの幅方向に平行であるので、前記ロールフィルム状の偏光子とロールフィルム状のセルロースアシレートフィルムからなる保護膜を連続的に貼り合せるためには、ロールフィルム状の保護膜の面内遅相軸は、フィルムの幅方向に平行であることが必要となる。従って幅方向により多く延伸することが好ましい。また延伸処理は、製膜工程の途中で行ってもよいし、製膜して巻き取った原反を延伸処理してもよい。前者の場合には残留溶媒を含んだ状態で延伸を行ってもよく、残留溶媒量が２〜３０質量％で好ましく延伸することができる。

乾燥後得られる、本発明に好ましく用いられるセルロースアシレートフィルムの膜厚は、使用目的によって異なり、通常、５〜５００μｍの範囲であることが好ましく、更に２０〜３００μｍの範囲が好ましく、特に３０〜１５０μｍの範囲が好ましい。また、光学用、特にＶＡ液晶表示装置用としては、４０〜１１０μｍであることが好ましい。フィルム厚さの調整は、所望の厚さになるように、ドープ中に含まれる固形分濃度、ダイの口金のスリット間隙、ダイからの押し出し圧力、金属支持体速度等を調節すればよい。

以上のようにして得られた、セルロースアシレートフィルムの幅は０．５〜３ｍが好ましく、より好ましくは０．６〜２．５ｍ、さらに好ましくは０．８〜２．２ｍである。長さは、１ロール当たり１００〜１００００ｍで巻き取るのが好ましく、より好ましくは５００〜７０００ｍであり、さらに好ましくは１０００〜６０００ｍである。巻き取る際、少なくとも片端にナーリングを付与するのが好ましく、ナーリングの幅は３ｍｍ〜５０ｍｍが好ましく、より好ましくは５ｍｍ〜３０ｍｍ、高さは０．５〜５００μｍが好ましく、より好ましくは１〜２００μｍである。これは片押しであっても両押しであってもよい。

フィルムの幅方向のＲｅ₅₉₀値のばらつきは、±５ｎｍであることが好ましく、±３ｎｍであることが更に好ましい。また幅方向のＲｔｈ₅₉₀値のバラツキは±１０ｎｍが好ましく、±５ｎｍであることが更に好ましい。また、長さ方向のＲｅ値、及びＲｔｈ値のバラツキも、幅方向のバラツキの範囲内であることが好ましい。

〔セルロースアシレートフィルムの光学特性〕
本明細書において、Ｒｅ_λ、Ｒｔｈ_λは、それぞれ波長λにおける面内のリターデーション及び厚さ方向のリターデーションを表す。これらの値はポリマーフィルムを光学補償フィルムとして用いる場合に重量な値となる。Ｒｅ_λは“ＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨ”｛王子計測機器（株）製｝において、波長λｎｍの光をフィルムの法線方向に入射させて測定される。Ｒｔｈ_λは、前記Ｒｅ_λ、面内の遅相軸（“ＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨ”により判断される）を傾斜軸（回転軸）として、フィルム法線方向に対して＋５０°から−５０°まで１０°おきにリターデーション値を測定し、測定したレターデーション値を基に“ＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨ”が算出する。

ここで平均屈折率の仮定値は、ポリマーハンドブック（Ｊｏｈｎ Ｗｉｌｅｙ ＆ Ｓｏｎｓ，Ｉｎｃ．）、各種光学フィルムのカタログの値を使用することができる。平均屈折率の値が既知でないものについては、アッベ屈折計で測定することができる。主な光学フィルムの平均屈折率の値を以下に例示する：
セルロースアシレート（１．４８）、シクロオレフィンポリマー（１．５２）、ポリカーボネート（１．５９）、ポリメチルメタクリレート（１．４９）、ポリスチレン（１．５９）。
また、これら平均屈折率の仮定値と膜厚を入力することで、ＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨによりｎ_x（遅相軸方向の屈折率）、ｎ_y（進相軸方向の屈折率）、ｎ_z（厚み方向の屈折率）を算出する。また“ＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨ”は、面内の遅相軸を傾斜軸とした場合の、フィルム内部を伝播する光に対してレターデーション値が最小となるフィルム法線方向に対する角度βも算出する。

Ｒｅ_λレターデーション値、Ｒｔｈ_λレターデーション値が、それぞれ、以下の数式（２）、（３）を満たすことが、液晶表示装置、特にＶＡモード液晶表示装置の視野角を広くするために好ましい。また特にセルロースアシレートフィルムが、偏光板の液晶セル側の保護膜に用いられる場合に好ましい。
数式（２）：０ｎｍ≦Ｒｅ₅₉₀≦２００ｎｍ
数式（３）：０ｎｍ≦Ｒｔｈ₅₉₀≦４００ｎｍ
［式中、Ｒｅ₅₉₀、Ｒｔｈ₅₉₀は、波長λ＝５９０ｎｍにおける値（単位：ｎｍ）である。］

また、セルロースアシレートフィルムの光学異方性の影響を小さくしたい場合は、液晶セル側に配置される保護膜（セルロースアシレートフィルム）のＲｅ_λ及びＲｔｈ_λが、数式（８）〜（１１）を満たすことが好ましい。
数式（８）：０≦Ｒｅ₅₉₀≦１０
数式（９）：｜Ｒｔｈ₅₉₀｜≦２５
数式（１０）：｜Ｒｅ₄₀₀−Ｒｅ₇₀₀｜≦１０
数式（１１）：｜Ｒｔｈ₄₀₀−Ｒｔｈ₇₀₀｜≦３５
［式中、Ｒｅ₅₉₀、Ｒｔｈ₅₉₀は、波長λ＝５９０ｎｍにおける値、Ｒｅ₄₀₀、Ｒｔｈ₄₀₀は、波長λ＝４００ｎｍにおける値、Ｒｅ₇₀₀、Ｒｔｈ₇₀₀は、波長λ＝７００ｎｍにおける値（いずれも単位：ｎｍ）である。］

本発明に好ましく用いられるセルロースアシレートフィルムをＶＡモードに使用する場合、セルの両側に１枚ずつ合計２枚使用する形態（２枚型）と、セルの上下のいずれか一方の側にのみ使用する形態（１枚型）の２通りがある。
２枚型の場合、Ｒｅ₅₉₀は２０〜１００ｎｍが好ましく、３０〜７０ｎｍがさらに好ましい。Ｒｔｈ₅₉₀については７０〜３００ｎｍが好ましく、１００〜２００ｎｍがさらに好ましい。
１枚型の場合、Ｒｅ₅₉₀は３０〜１５０ｎｍが好ましく、４０〜１００ｎｍがさらに好ましい。Ｒｔｈ₅₉₀については１００〜３００ｎｍが好ましく、１５０〜２５０ｎｍがさらに好ましい。

本発明に好ましく用いられるセルロースアシレートフィルムの、フィルム面内の遅相軸角度のバラつきは、ロールフィルムの基準方向に対して−２゜〜＋２゜の範囲にあることが好ましく、−１゜〜＋１゜の範囲にあることがさらに好ましく、−０．５゜〜＋０．５゜の範囲にあることが最も好ましい。ここで、基準方向とは、セルロースアシレートフィルムを縦延伸する場合にはロールフィルムの長手方向であり、横延伸する場合にはロールフィルムの幅方向である。

また、本発明に好ましく用いられるセルロースアシレートフィルムは、２５℃、１０％ＲＨにおけるＲｅ値と、２５℃、８０％ＲＨにおけるＲｅ値との差ΔＲｅ（＝Ｒｅ_10%−Ｒｅ_80%）が０〜１０ｎｍであり、２５℃、１０％ＲＨにおけるＲｔｈ値と、２５℃、８０％ＲＨにおけるＲｔｈ値との差ΔＲｔｈ（＝Ｒｔｈ_10%−Ｒｔｈ_80%）が０〜３０ｎｍであるのが、液晶表示装置の経時による色味変化を少なくする上で好ましい。

さらに本発明に好ましく用いられるセルロースアシレートフィルムは、２５℃、８０％ＲＨにおける平衡含水率が３．２％以下であるのが、液晶表示装置の経時による色味変化を少なくする上で好ましい。
含水率の測定法は、セルロースアシレートフィルム試料７ｍｍ×３５ｍｍを、水分測定器、試料乾燥装置｛“ＣＡ−０３”、“ＶＡ−０５”、共に三菱化学（株）｝を用いてカールフィッシャー法で測定する。水分量（ｇ）を試料質量（ｇ）で除して算出する。

さらにまた、本発明に好ましく用いられるセルロースアシレートフィルムは、６０℃、９５％ＲＨ、２４時間の透湿度（膜厚８０μｍ換算）が、４００ｇ／ｍ²・２４ｈｒ以上１８００ｇ／ｍ²・２４ｈｒ以下であるのが、液晶表示装置の経時による色味変化を少なくする上で好ましい。

透湿度は、セルロースアシレートフィルムの膜厚が厚ければ小さくなり、膜厚が薄ければ大きくなる。そこで、どのような膜厚のサンプルでも基準となる膜厚を設け換算する必要がある。本発明においては、基準となる膜厚を８０μｍとして、次の数式（１３）に従って膜厚を換算した。
数式（１３）：８０μｍ換算の透湿度＝実測の透湿度×実測の膜厚μｍ／８０μｍ。

透湿度の測定法は、「高分子の物性ＩＩ」（高分子実験講座４ 共立出版）の２８５頁〜２９４頁：蒸気透過量の測定（質量法、温度計法、蒸気圧法、吸着量法）に記載の方法を適用することができる。

ガラス転移温度の測定は、セルロースアシレートフィルム試料（未延伸）５ｍｍ×３０ｍｍを、２５℃、６０％ＲＨで２時間以上調湿した後に、動的粘弾性測定装置「バイブロン：ＤＶＡ−２２５」｛アイティー計測制御（株）製）｝を用いて、つかみ間距離２０ｍｍ、昇温速度２℃／分、測定温度範囲３０℃〜２００℃、周波数１Ｈｚで測定し、縦軸に対数軸で貯蔵弾性率、横軸に線形軸で温度（℃）をとった時に、貯蔵弾性率が固体領域からガラス転移領域へ移行する際に見受けられる、貯蔵弾性率の急激な減少を示す温度をガラス転移温度Ｔｇとした。具体的には、得られたチャート上において、固体領域で直線１を引き、ガラス転移領域で直線２を引いたときの直線１と直線２の交点が、昇温時に貯蔵弾性率が急激に減少しフィルムが軟化し始める温度であり、ガラス転移領域に移行し始める温度であることから、ガラス転移温度Ｔｇ（動的粘弾性）とした。

弾性率の測定は、セルロースアシレートフィルム試料１０ｍｍ×１５０ｍｍを、２５℃、６０％ＲＨで２時間以上調湿した後、引張り試験機「ストログラフ−Ｒ２」｛（株）東洋精機製作所製）｝で、チャック間距離１００ｍｍ、温度２５℃、延伸速度１０ｍｍ／分で行った。

吸湿膨張係数の測定は、２５℃、８０％ＲＨ下に２時間以上放置したフィルムの寸法をピンゲージで測定した値Ｌ_80%と、２５℃、１０％ＲＨ下に２時間以上放置したフィルム
の寸法をピンゲージで測定した値Ｌ_10%とから、次の数式（１４）により求めた。
数式（１４）：（Ｌ_80%−Ｌ_10%）／（８０％ＲＨ−１０％ＲＨ）×１０⁶

また、本発明に好ましく用いられるセルロースアシレートフィルムは、そのヘイズが０．０１〜２％の範囲であるのが好ましい。ここでヘイズは、以下のようにして測定できる。
ヘイズの測定は、セルロースアシレートフィルム試料４０ｍｍ×８０ｍｍを、２５℃、６０％ＲＨでヘイズメーター“ＨＧＭ−２ＤＰ”｛スガ試験機（株）製｝でＪＩＳ Ｋ−６７１４に従って測定する。

さらに本発明に好ましく用いられるセルロースアシレートフィルムは、８０℃、９０％ＲＨの条件下に４８時間静置した場合の質量変化が、０〜５質量％の範囲であるのが、好ましい。

またさらに、本発明に好ましく用いられるセルロースアシレートフィルムは、６０℃、９５％ＲＨの条件下に２４時間静置した場合の寸度変化、及び９０℃、５％ＲＨの条件下に２４時間静置した場合の寸度変化が、いずれも０〜５％の範囲であるのが好ましい。

光弾性係数は、５０×１０^-13ｃｍ²／ｄｙｎ以下であるのが、液晶表示装置の経時による色味変化を少なくする上で好ましい。
具体的な測定方法としては、セルロースアシレートフィルム試料１０ｍｍ×１００ｍｍの、長軸方向に対して引っ張り応力をかけ、その際のレターデーションをエリプソメーター“Ｍ１５０”｛日本分光（株）｝で測定し、応力に対するレターデーションの変化量から光弾性係数を算出した。

本発明の偏光板やそれを用いる液晶表示装置の構成とポリマーフィルムのセルロースアシレート層の貼り合わせ方を模式図によって示す。
図１は、偏光板と光学補償機能（位相差）を有するポリマーフィルムＴＡＣ１のセルロースアシレート層の貼り合わせを模式的に示した図であって偏光子１は、配向層を有しており直線偏光が発生するように作成作製されている。偏光子１の透過軸２の方向にあわせて光学補償機能を有するポリマーフィルムＴＡＣ１のセルロースアシレート層の遅相軸が合わせられ、その形で重ねあわされる。光学補償機能を有するポリマーフィルムは保護膜３を兼ねていることが好ましい。
図２は、本発明に関する偏光板の断面構造を模式的に示す図である。偏光板は、光学補償機能（位相差）を有するポリマーフィルムＴＡＣ１から構成されていて液晶セル側の保護膜をかねており、偏光子１１が積層されている。偏光子１１の上に液晶セルとは反対側の保護膜１３としてポリマーフィルムＴＡＣ２を設けてあり、その上に光学機能性膜層１４（例えば、ハードコート層、防眩層、反射防止層など）が設けられとた構成となっている。
図３は、本発明の液晶表示装置の断面構造を模式的に示す図である。矢印５０は視認側を、矢印６０はバックライト側を示しており、ＶＡモード液晶セル４０の視認側には偏光子２１、光学補償機能を有する液晶セル側保護膜２２、液晶セルとは反対側の保護膜２３からなる視認側偏光板が設けられ、ＶＡモード液晶セル４０のバックライト側には、偏光子３１、光学補償機能を有する液晶セル側保護膜３２、液晶セルとは反対側の保護膜３３からなるバックライト側偏光板が設けられている。上記の光学補償機能を有する液晶セル側保護膜２２と２３は同じものでもよいし、異なるものでもよい。

本発明の特徴は前記したように、層間の界面エネルギー（各層がそれぞれ表面にあるときの表面エネルギーと相関）の値が近似していると層間の密着性が向上することに基いており、したがって、表面エネルギーが４５ｍN／ｍ以上のポリマー層A上に、表面エネルギーが２０ｍN／ｍ以上４５ｍN／ｍ未満の層Bが形成されているポリマーフィルムである場合には、表面エネルギーが４５ｍN／ｍ以上のポリマー層Aの表面エネルギーの分散力成分γ_A ^d、極性力成分γ_A ^p、表面エネルギーが２０ｍN／ｍ以上４５ｍN／ｍ未満の層Bの表面エネルギーの分散力成分γ_B ^d、極性力成分γ_B ^pがそれぞれ下記式（１）〜（４）を満たすことを特徴としているポリマーフィルムである。
式（１） γ_A ^d≧３０ｍN／ｍ
式（２） γ_A ^p≧１０ｍN／ｍ
式（３） γ_B ^d＜３５ｍN／ｍ
式（４） γ_B ^p＜１５ｍN／ｍ

表面エネルギーは、その発現性の起源により分散力成分と極性力成分に分けて考えることができ、表面エネルギーγ、分散力成分γ^d、極性力成分γ^pは下記式の関係で表される。
γ＝γ^d＋γ^p
分散力成分は分子の無極性部分に起因する分子同士の長距離レンジに及ぶ引力であり、極性力成分は分子の極性部分に起因する比較的ショートレンジの引力である。有機物質の多くは総体としては電気的に中性であるが、微視的には原子の電気陰性度の違いに起因して、分子中に電荷の偏りを生じる極性部分（永久双極子）を有するものがある。永久双極子同士は相互作用（Keesom相互作用）を持ち、これが前記極性力成分を引き起こす。また、無極性分子の集団中に永久双極子が存在する場合には、これが無極性分子を誘起して誘起双極子を生じさせる。これらの間には、永久双極子−誘起双極子（Debye）相互作用が働く。したがって、極性力成分はカルボニル基やヒドロキシル基などの極性の強い基を有する分子で大きく、ポリイミド、ポリアミド、エポキシ樹脂などが大きな値を示す。さらに、無極性分子でも分子内電子の移動が瞬間的な双極子を発生させ、他の分子を分極させて分散力（London）相互作用を起こす。したがって、分散力は電子移動性に富む共役結合を多く含む分子ほど大きくなり、ポリアセチレンやポリブタジエンなどが大きな値を示す。分散力成分、極性力成分共にフッ素原子を含む分子では小さく、アクリル樹脂やメタクリル樹脂で水素原子をフッ素原子に置換したものが例として挙げられる。２つの層の表面同士を接触させ接着させるためには、２つの表面の表面エネルギーを等しくすることによって接触面の界面の過剰エネルギーを実質的に消去させてしまうことが好ましい。接着力を高めるためには２つの表面の分散力成分、極性力成分がそれぞれ等しいことがさらに好ましい。
表面エネルギーの分散力成分と極性力成分の見積もりは、分散力成分と極性力成分が既知の複数の液体の測定対象固体上における接触角の測定によって行うことができる。その一例は、水（Ｈ_２Ｏ）と塩化メチレン（ＣＨ_２Ｃｌ_２）の接触角から下記２式の連立方程式を解くことにより求めるＯｗｅｎｓらの方法（Ｄ．Ｋ．Ｏｗｅｎｓ ａｎｄ Ｒ．Ｃ．Ｗｅｎｄｔ：Ｊ．Ａｐｐｌ．Ｐｏｌｙｍ．Ｓｃｉ，１３，１９４１（１９６９））が提案されている。
１＋cosθ_H2O＝2×（γ_s ^d）^0.5×（γ_H2O ^d）^0.5／γ_H2O＋2×（γ_s ^p）^0.5×（γ_H2O ^p）^0.5／γ_H2O
１＋cosθ_CH2Cl2＝2×（γ_s ^d）^0.5×（γ_CH2Cl2 ^d）^0.5／γ_CH2Cl2＋2×（γ_s ^p）^0.5×（γ_CH2Cl2 ^p）^0.5／γ_CH2Cl2
ここで、θ_H2Oおよびθ_CH2Cl2はそれぞれ固体S上の水と塩化メチレンの接触角、γ_s ^d、γ_H2O ^d、γ_CH2Cl2 ^dはそれぞれ固体S、水、塩化メチレンの分散力成分、γ_s ^p、γ_H2O ^p、γ_CH2Cl2 ^pはそれぞれ固体S、水、塩化メチレンの極性力成分である。γ_H2O ^d、γ_CH2Cl2 ^d、γ_H2O ^p、γ_CH2Cl2 ^pは既知の値であり、それぞれ２１．８ｍN／ｍ、４９．５ｍN／ｍ、５１．０ｍN／ｍ、１．３ｍN／ｍである。

さらに本発明のポリマーフィルム上には、ポリマーフィルムの少なくとも一方の表面に、ハードコート層、防眩層又は反射防止層の少なくとも一層を設けられたものであるのが好ましい。すなわち、図２に示すように、偏光板の液晶表示装置への使用時において、液晶セルと反対側に配置される保護膜（ＴＡＣ２）には、反射防止層などの機能性膜を設けることが好ましく、かかる機能性膜としては、ハードコート層、防眩層又は反射防止層の少なくとも一層を設けるのが好ましい。なお、各層はそれぞれ別個の層として設ける必要はなく、例えば、反射防止層やハードコート層に防眩性の機能を持たせることにより、反射防止層及び防眩層の二層を設ける代わりに、防眩性反射防止層として機能させてもよい。

〔反射防止層〕
本発明では、ポリマーフィルム上に、少なくとも光散乱層と低屈折率層がこの順で積層されてなる反射防止層、又は保護膜上に中屈折率層、高屈折率層、低屈折率層がこの順で積層した反射防止層が好適に設けられる。以下にそれらの好ましい例を記載する。なお前者の構成では、一般的に鏡面反射率は１％以上となり、Ｌｏｗ Ｒｅｆｌｅｃｔｉｏｎ（ＬＲ）フィルムと呼ばれる。後者の構成では、鏡面反射率０．５％以下を実現するものが可能となり、Ａｎｔｉ―Ｒｅｆｌｅｃｔｉｏｎ（ＡＲ）フィルムと呼ばれる。

［ＬＲフィルム］
ポリマ−フィルム上に、光散乱層と低屈折率層を設けた反射防止層（ＬＲフィルム）の好ましい例について述べる。
光散乱層には、マット粒子が分散されているのが好ましく、光散乱層のマット粒子以外の部分の素材の屈折率は１．５０〜２．００の範囲にあることが好ましく、低屈折率層の屈折率は１．２０〜１．４９の範囲にあることが好ましい。本発明において光散乱層は、防眩性とハードコート性を兼ね備えており、一層でもよいし、複数層、例えば二層〜四層で構成されていてもよい。

反射防止層は、その表面凹凸形状として、中心線平均粗さＲａが０．０８〜０．４０μｍ、１０点平均粗さＲｚがＲａの１０倍以下、平均凹凸間距離Ｓｍが１〜１００μｍ、凹凸最深部からの凸部高さの標準偏差が０．５μｍ以下、中心線を基準とした平均凹凸間距離Ｓｍの標準偏差が２０μｍ以下、傾斜角０〜５゜の面が１０％以上となるように設計することで、十分な防眩性と目視での均一なマット感が達成されるので好ましい。

また、Ｃ光源下での反射光の色味がａ^*値−２〜２、ｂ^*値−３〜３、３８０ｎｍ〜７８０ｎｍの範囲内での反射率の、最小値と最大値の比０．５〜０．９９であることで、反射光の色味がニュートラルとなるので好ましい。さらにＣ光源下での透過光のｂ^*値が０〜３とすることで、表示装置に適用した際の白表示の黄色味が低減されるので好ましい。さらにまた、面光源上と反射防止層の間に１２０μｍ×４０μｍの格子を挿入して、フィルム上で輝度分布を測定した際の輝度分布の標準偏差が２０以下であると、高精細パネルに本発明の偏光板を適用したときのギラツキが低減されるので好ましい。

本発明で用いることができる反射防止層は、その光学特性として、鏡面反射率２．５％以下、透過率９０％以上、６０゜光沢度７０％以下とすることで、外光の反射を抑制でき、視認性が向上するため好ましい。特に鏡面反射率は１％以下がより好ましく、０.５％以下であることが最も好ましい。ヘイズ２０％〜５０％、内部ヘイズ／全ヘイズ値の比が０．３〜１、光散乱層までのヘイズ値から低屈折率層を形成後のヘイズ値の低下が１５％以内、くし幅０．５ｍｍにおける透過像鮮明度２０％〜５０％、垂直透過光／垂直から２゜傾斜方向の透過率比が１．５〜５．０とすることで、高精細ＬＣＤパネル上でのギラツキ防止、文字等のボケの低減が達成されるので好ましい。

（低屈折率層）
本発明で用いることができる低屈折率層の屈折率は、好ましくは１．２０〜１．４９であり、更に好ましくは１．３０〜１．４４の範囲にある。さらに、低屈折率層は下記数式（１９）を満たすことが低反射率化の点で好ましい。
数式（１９）：（ｍ／４）λ×０．７＜ｎ_Lｄ_L＜（ｍ／４）λ×１．３
式中、ｍは正の奇数であり、ｎ_Lは低屈折率層の屈折率であり、そして、ｄ_Lは低屈折率層の膜厚（ｎｍ）である。また、λは波長であり、５００〜５５０ｎｍの範囲の値である。

低屈折率層を形成する素材について以下に説明する。
低屈折率層は、低屈折率バインダーとして、含フッ素ポリマーを含むことが好ましい。
フッ素ポリマーとしては、動摩擦係数０．０３〜０．２０、水に対する接触角９０〜１２０゜、純水の滑落角が７０゜以下の、熱又は電離放射線により架橋する含フッ素ポリマーが好ましい。本発明に関する偏光板を画像表示装置に装着した時、市販の接着テープとの剥離力が低いほどシールやメモを貼り付けた後に剥がれ易くなり好ましく、引張試験機で測定した場合、該剥離力が５００ｇｆ以下であることが好ましく、３００ｇｆ以下であることがより好ましく、１００ｇｆ以下であることが最も好ましい。また、微小硬度計で測定した表面硬度が高いほど傷がつき難く、該表面硬度は０．３ＧＰａ以上が好ましく、０．５ＧＰａ以上がより好ましい。

低屈折率層に用いられる含フッ素ポリマーとしては、ペルフルオロアルキル基含有シラン化合物｛例えば（ヘプタデカフルオロ−１，１，２，２−テトラヒドロデシル）トリエトキシシラン｝の加水分解物、脱水縮合物の他、含フッ素モノマー単位と架橋反応性付与のための構成単位を構成成分とする含フッ素共重合体が挙げられる。

含フッ素モノマーの具体例としては、例えばフルオロオレフィン類（例えばフルオロエチレン、ビニリデンフルオライド、テトラフルオロエチレン、ペルフルオロオクチルエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、ペルフルオロ−２，２−ジメチル−１，３−ジオキソール等）、（メタ）アクリル酸の部分又は完全フッ素化アルキルエステル誘導体類［例えば「ビスコート６ＦＭ」｛大阪有機化学工業（株）製｝や“Ｍ−２０２０”｛ダイキン工業（株）製｝等］、完全又は部分フッ素化ビニルエーテル類等が挙げられるが、好ましくはペルフルオロオレフィン類であり、屈折率、溶解性、透明性、入手性等の観点から特に好ましくはヘキサフルオロプロピレンである。

架橋反応性付与のための構成単位としては、グリシジル（メタ）アクリレート、グリシジルビニルエーテルのように、分子内に予め自己架橋性官能基を有するモノマーの重合によって得られる構成単位、カルボキシル基やヒドロキシ基、アミノ基、スルホ基等を有するモノマー｛例えば（メタ）アクリル酸、メチロール（メタ）アクリレート、ヒドロキシアルキル（メタ）アクリレート、アリルアクリレート、ヒドロキシエチルビニルエーテル、ヒドロキシブチルビニルエーテル、マレイン酸、クロトン酸等｝の重合によって得られる構成単位、これらの構成単位に高分子反応によって（メタ）アクリロイル基等の架橋反応性基を導入した構成単位（例えばヒドロキシ基に対してアクリル酸クロリドを作用させる等の手法で導入できる）が挙げられる。

また上記含フッ素モノマー単位、架橋反応性付与のための構成単位以外に溶媒への溶解性、皮膜の透明性等の観点から適宜フッ素原子を含有しないモノマーを共重合することもできる。併用可能なモノマー単位には特に限定はなく、例えばオレフィン類（エチレン、プロピレン、イソプレン、塩化ビニル、塩化ビニリデン等）、アクリル酸エステル類（アクリル酸メチル、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸２−エチルヘキシル）、メタクリル酸エステル類（メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸ブチル、エチレングリコールジメタクリレート等）、スチレン誘導体（スチレン、ジビニルベンゼン、ビニルトルエン、α−メチルスチレン等）、ビニルエーテル類（メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、シクロヘキシルビニルエーテル等）、ビニルエステル類（酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、桂皮酸ビニル等）、アクリルアミド類（Ｎ−ｔ−ブチルアクリルアミド、Ｎ−シクロヘキシルアクリルアミド等）、メタクリルアミド類、アクリロ二トリル誘導体等を挙げることができる。

上記のポリマーに対しては、特開平１０−２５３８８号及び特開平１０−１４７７３９号各公報に記載のごとく、適宜硬化剤を併用してもよい。

（光散乱層）
光散乱層は、表面散乱及び内部散乱の少なくともいずれかによる光拡散性と、フィルムの耐擦傷性を向上するためのハードコート性をフィルムに付与する目的で形成される。従って、ハードコート性を付与するためのバインダー、光拡散性を付与するためのマット粒子、及び必要に応じて高屈折率化、架橋収縮防止、高強度化のための無機フィラーを含んで形成される。また、このような光散乱層を設けることにより、該光散乱層が防眩層としても機能し、偏光板が防眩層を有することになる。

光散乱層の膜厚は、ハードコート性を付与する目的で、１〜１０μｍが好ましく、１．２〜６μｍがより好ましい。光散乱層の膜厚が該下限値以上であれば、ハード性が不足するなどの問題が生じにくく、該上限値以下であれば、カールや脆性が悪化して加工適性が不足するなどの不都合が生じにくいので好ましい。

光散乱層のバインダーとしては、飽和炭化水素鎖又はポリエーテル鎖を主鎖として有するポリマーであることが好ましく、飽和炭化水素鎖を主鎖として有するポリマーであることがさらに好ましい。またバインダーポリマーは架橋構造を有することが好ましい。飽和炭化水素鎖を主鎖として有するバインダーポリマーとしては、エチレン性不飽和モノマーの重合体が好ましい。飽和炭化水素鎖を主鎖として有し、且つ架橋構造を有するバインダーポリマーとしては、２個以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーの（共）重合体が好ましい。バインダーポリマーを高屈折率にするには、このモノマーの構造中に芳香族環や、フッ素以外のハロゲン原子、硫黄原子、リン原子、及び窒素原子から選ばれた少なくとも１種の原子を含むものを選択することもできる。

２個以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーとしては、多価アルコールと（メタ）アクリル酸とのエステル｛例えば、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、１，４−シクロヘキサンジアクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，２，３−シクロヘキサンテトラメタクリレート、ポリウレタンポリアクリレート、ポリエステルポリアクリレート｝、上記のエチレンオキシド変性体、ビニルベンゼン及びその誘導体（例えば、１，４−ジビニルベンゼン、４−ビニル安息香酸−２−アクリロイルエチルエステル、１，４−ジビニルシクロヘキサノン）、ビニルスルホン（例えば、ジビニルスルホン）、アクリルアミド（例えば、メチレンビスアクリルアミド）及びメタクリルアミドが挙げられる。これらのモノマーは２種以上併用してもよい。

高屈折率モノマーの具体例としては、ビス（４−メタクリロイルチオフェニル）スルフィド、ビニルナフタレン、ビニルフェニルスルフィド、４−メタクリロキシフェニル−４'−メトキシフェニルチオエーテル等が挙げられる。これらのモノマーも２種以上併用してもよい。

これらのエチレン性不飽和基を有するモノマーの重合は、光ラジカル開始剤又は熱ラジカル開始剤の存在下、電離放射線の照射又は加熱により行うことができる。従って、エチレン性不飽和基を有するモノマー、光ラジカル開始剤又は熱ラジカル開始剤、マット粒子及び無機フィラーを含有する塗布液を調製し、該塗布液を保護膜上に塗布後、電離放射線又は熱による重合反応により硬化して反射防止層を形成することができる。これらの光ラジカル開始剤等は公知のものを使用することができる。

ポリエーテルを主鎖として有するポリマーは、多官能エポシキシ化合物の開環重合体が好ましい。多官能エポシキ化合物の開環重合は、光酸発生剤又は熱酸発生剤の存在下、電離放射線の照射又は加熱により行うことができる。従って、多官能エポシキシ化合物、光酸発生剤又は熱酸発生剤、マット粒子及び無機フィラーを含有する塗布液を調製し、該塗布液を保護膜上に塗布後電離放射線又は熱による重合反応により硬化して反射防止層を形成することができる。

２個以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーの代わりに、又はそれに加えて、架橋性官能基を有するモノマーを用いてポリマー中に架橋性官能基を導入し、この架橋性官能基の反応により、架橋構造をバインダーポリマーに導入してもよい。

架橋性官能基の例には、イソシアナート基、エポキシ基、アジリジン基、オキサゾリン基、アルデヒド基、カルボニル基、ヒドラジン基、カルボキシル基、メチロール基及び活性メチレン基が含まれる。ビニルスルホン酸、酸無水物、シアノアクリレート誘導体、メラミン、エーテル化メチロール、エステル及びウレタン、テトラメトキシシランのような金属アルコキシドも、架橋構造を導入するためのモノマーとして利用できる。ブロックイソシアナート基のように、分解反応の結果として架橋性を示す官能基を用いてもよい。すなわち、本発明において架橋性官能基は、すぐには反応を示すものではなくとも、分解した結果反応性を示すものであってもよい。
これら架橋性官能基を有するバインダーポリマーは塗布後、加熱することによって架橋構造を形成することができる。

光散乱層には、防眩性付与の目的で、フィラー粒子より大きく、平均粒径が１〜１０μｍ、好ましくは１．５〜７．０μｍのマット粒子、例えば無機化合物の粒子又は樹脂粒子が含有される。マット粒子の具体例としては、例えばシリカ粒子、ＴｉＯ₂粒子等の無機化合物の粒子；アクリル粒子、架橋アクリル粒子、ポリスチレン粒子、架橋スチレン粒子、メラミン樹脂粒子、ベンゾグアナミン樹脂粒子等の樹脂粒子が好ましく挙げられる。なかでも架橋スチレン粒子、架橋アクリル粒子、架橋アクリルスチレン粒子、シリカ粒子が好ましい。マット粒子の形状は、球状あるいは不定形のいずれも使用できる。

また、粒子径の異なる２種以上のマット粒子を併用して用いてもよい。より大きな粒子径のマット粒子で防眩性を付与し、より小さな粒子径のマット粒子で別の光学特性を付与することが可能である。

さらに、上記マット粒子の粒子径分布としては、単分散であることが最も好ましく、各粒子の粒子径は、それぞれ同一に近ければ近いほどよい。例えば、平均粒子径よりも２０％以上粒子径が大きな粒子を粗大粒子と規定した場合には、この粗大粒子の割合は全粒子数の１％以下であることが好ましく、より好ましくは０．１％以下であり、さらに好ましくは０．０１％以下である。このような粒子径分布を持つマット粒子は通常の合成反応後に、分級によって得られ、分級の回数を上げることやその程度を強くすることにより、より好ましい分布のマット剤を得ることができる。

上記マット粒子は、形成された光散乱層のマット粒子量が好ましくは１０〜１０００ｍｇ／ｍ²、より好ましくは１００〜７００ｍｇ／ｍ²となるように光散乱層に含有される。
マット粒子の粒度分布はコールターカウンター法により測定し、測定された分布を粒子数分布に換算する。

光散乱層には、層の屈折率を高めるために、上記のマット粒子に加えて、チタン、ジルコニウム、アルミニウム、インジウム、亜鉛、錫、アンチモンのうちより選ばれる少なくとも１種の金属の酸化物からなり、平均粒径が０．２μｍ以下、好ましくは０．１μｍ以下、より好ましくは０．０６μｍ以下である無機フィラーが含有されることが好ましい。
また逆に、マット粒子との屈折率差を大きくするために、高屈折率マット粒子を用いた光散乱層では層の屈折率を低目に保つためにケイ素の酸化物を用いることも好ましい。好ましい粒径は前述の無機フィラーと同じである。

光散乱層に用いられる無機フィラーの具体例としては、ＴｉＯ₂、ＺｒＯ₂、Ａｌ₂Ｏ₃、Ｉｎ₂Ｏ₃、ＺｎＯ、ＳｎＯ₂、Ｓｂ₂Ｏ₃、ＩＴＯとＳｉＯ₂等が挙げられる。ＴｉＯ₂及びＺｒＯ₂が高屈折率化の点で特に好ましい。該無機フィラーは表面をシランカップリング処理又はチタンカップリング処理されることも好ましく、フィラー表面にバインダー種と反応できる官能基を有する表面処理剤が好ましく用いられる。

これらの無機フィラーの添加量は、光散乱層の全質量の１０〜９０％であることが好ましく、より好ましくは２０〜８０％であり、特に好ましくは３０〜７５％である。

なお、このようなフィラーは、粒径が光の波長よりも十分小さいために散乱が生じず、バインダーポリマーに該フィラーが分散した分散体は光学的に均一な物質として振舞う。

光散乱層のバインダー及び無機フィラーの混合物のバルクの屈折率は、１．５０〜２．００であることが好ましく、より好ましくは１．５１〜１．８０である。屈折率を上記範囲とするには、バインダー及び無機フィラーの種類及び量割合を適宜選択すればよい。どのように選択するかは、予め実験的に容易に知ることができる。

光散乱層は、特に塗布ムラ、乾燥ムラ、点欠陥等の面状均一性を確保するために、フッ素系、シリコーン系の何れかの界面活性剤、又はその両者を光散乱層形成用の塗布組成物中に含有する。特にフッ素系の界面活性剤は、より少ない添加量において、本発明において好ましく用いられる反射防止層の塗布ムラ、乾燥ムラ、点欠陥等の面状故障を改良する効果が現れるため、好ましく用いられる。面状均一性を高めつつ、高速塗布適性を持たせることにより生産性を高めることが目的である。

［ＡＲフィルム］
次にポリマーフィルム上に中屈折率層、高屈折率層、低屈折率層がこの順で積層された反射防止層（ＡＲフィルム）について述べる。

ポリマーフィルム上に少なくとも中屈折率層、高屈折率層、低屈折率層（最外層）の順序の層構成からなる反射防止層は、以下の関係を満足する屈折率を有する様に設計される。
高屈折率層の屈折率＞中屈折率層の屈折率＞保護膜の屈折率＞低屈折率層の屈折率

また、ポリマーフィルムと中屈折率層の間に、ハードコート層を設けてもよい。更には、中屈折率ハードコート層、高屈折率層及び低屈折率層からなってもよく、例えば、特開平８−１２２５０４号公報、同８−１１０４０１号公報、同１０−３００９０２号公報、特開２００２−２４３９０６号公報、特開２０００−１１１７０６号公報等に記載の反射防止層が挙げられる。
さらに各層に他の機能を付与させてもよく、例えば、防汚性の低屈折率層、帯電防止性の高屈折率層としたもの（例えば、特開平１０−２０６６０３号公報、特開２００２−２４３９０６号公報等）等が挙げられる。

反射防止層のヘイズは、５％以下あることが好ましく、３％以下がさらに好ましい。また、膜の表面強度は、ＪＩＳ Ｋ−５４００に従う鉛筆硬度試験でＨ以上であることが好ましく、２Ｈ以上であることがさらに好ましく、３Ｈ以上であることが最も好ましい。

（高屈折率層及び中屈折率層）
反射防止層の高い屈折率を有する層は、平均粒径１００ｎｍ以下の高屈折率の無機化合物微粒子及びマトリックスバインダーを少なくとも含有する硬化膜からなる。

高屈折率の無機化合物微粒子としては、屈折率１．６５以上の無機化合物が挙げられ、好ましくは屈折率１．９以上のものが挙げられる。例えば、Ｔｉ、Ｚｎ、Ｓｂ、Ｓｎ、Ｚｒ、Ｃｅ、Ｔａ、Ｌａ、Ｉｎ等の酸化物、これらの金属原子を含む複合酸化物等が挙げられる。

このような微粒子とするには、粒子表面が表面処理剤で処理されること（例えば、シランカップリング剤等：特開平１1−２９５５０３号公報、同１1−１５３７０３号公報、特開２０００−９９０８、アニオン性化合物或は有機金属カップリング剤：特開２００１−３１０４３２号公報等）、高屈折率粒子をコアとしたコアシェル構造とすること（特開２００１−１６６１０４号公報等）、特定の分散剤併用（例えば、特開平１１−１５３７０３号公報、米国特許第６２１０８５８号明細書、特開２００２−２７７６０９号公報等）等挙げられる。

マトリックスを形成する材料としては、従来公知の熱可塑性樹脂、硬化性樹脂皮膜等が挙げられる。
更に好ましい材料としては、ラジカル重合性及びカチオン重合性の少なくともいずれかの重合性基を２個以上有する多官能性化合物含有組成物、加水分解性基を含有する有機金属化合物を含有する組成物、及びその部分縮合体を含有する組成物から選ばれる少なくとも１種の組成物が挙げられ、例えば、特開２０００−４７００４号公報、同２００１−３１５２４２号公報、同２００１−３１８７１号公報、同２００１−２９６４０１号公報等に記載の化合物が挙げられる。

また、金属アルコキドの加水分解縮合物から得られるコロイド状金属酸化物と金属アルコキシド組成物から得られる硬化性膜も好ましい。例えば、特開２００１−２９３８１８号公報等に記載されている。

高屈折率層の屈折率は、１．７０〜２．２０であることが好ましい。高屈折率層の厚さは、５ｎｍ〜１０μｍであることが好ましく、１０ｎｍ〜１μｍであることがさらに好ましい。

中屈折率層の屈折率は、低屈折率層の屈折率と高屈折率層の屈折率との間の値となるように調整する。中屈折率層の屈折率は、１．５０〜１．７０であることが好ましい。また、厚さは５ｎｍ〜１０μｍであることが好ましく、１０ｎｍ〜１μｍであることがさらに好ましい。

（低屈折率層）
低屈折率層は、高屈折率層の上に順次積層してなる。低屈折率層の屈折率は１．２０〜１．５５であることが好ましい。より好ましくは１．３０〜１．５０である。

低屈折率層は、耐擦傷性、防汚性を有する最外層として構築することが好ましい。耐擦傷性を大きく向上させる手段として表面への滑り性付与が有効で、従来公知のシリコーンの導入、フッ素の導入等からなる薄膜層の手段を適用できる。

含フッ素化合物は、フッ素原子を３５〜８０質量％の範囲で含む架橋性又は重合性の官能基を含む化合物が好ましく、例えば、特開平９−２２２５０３号公報段落番号［００１８］〜［００２６］、同１１−３８２０２号公報段落番号［００１９］〜［００３０］、特開２００１−４０２８４号公報段落番号［００２７］〜［００２８］、特開２０００−２８４１０２号公報等に記載の化合物が挙げられる。
含フッ素化合物の屈折率は１．３５〜１．５０であることが好ましい。より好ましくは１．３６〜１．４７である。

シリコーン化合物としては、ポリシロキサン構造を有する化合物であり、高分子鎖中に硬化性官能基あるいは重合性官能基を含有して、膜中で橋かけ構造を有するものが好ましい。例えば、反応性シリコーン［例えば、「サイラプレーン」｛チッソ（株）製等｝］、両末端にシラノール基含有のポリシロキサン（特開平１１−２５８４０３号公報等）等が挙げられる。

架橋又は重合性基を有する、含フッ素ポリマー及びシロキサンポリマーの少なくともいずれかの架橋又は重合反応は、重合開始剤、増感剤等を含有する最外層を形成するための塗布組成物を塗布と同時に、又は塗布後に光照射や加熱することにより低屈折率層を形成することが好ましい。

またシランカップリング剤等の有機金属化合物と、特定のフッ素含有炭化水素基含有のシランカップリング剤とを、触媒共存下に縮合反応で硬化するゾル／ゲル硬化膜も好ましい。
例えば、ポリフルオロアルキル基含有シラン化合物又はその部分加水分解縮合物（特開昭５８−１４２９５８号公報、同５８−１４７４８３号公報、同５８−１４７４８４号公報、特開平９−１５７５８２号公報、同１１−１０６７０４号公報記載等記載の化合物）、フッ素含有長鎖基であるポリ（ペルフルオロアルキルエーテル）基を含有するシリル化合物（特開２０００−１１７９０２号公報、同２００１−４８５９０号公報、同２００２−５３８０４号公報記載の化合物等）等が挙げられる。

低屈折率層は、上記以外の添加剤として、充填剤｛例えば、二酸化珪素（シリカ）、含フッ素粒子（フッ化マグネシウム、フッ化カルシウム、フッ化バリウム）等の一次粒子平均径が１〜１５０ｎｍの低屈折率無機化合物、特開平１１−３８２０号公報の段落番号［００２０］〜［００３８］に記載の有機微粒子等｝、シランカップリング剤、滑り剤、界面活性剤等を含有することができる。

低屈折率層が最外層の下層に位置する場合、低屈折率層は気相法（真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、プラズマＣＶＤ法等）により形成されてもよい。安価に製造できる点で、塗布法が好ましい。

低屈折率層の膜厚は、３０〜２００ｎｍであることが好ましく、５０〜１５０ｎｍであることがさらに好ましく、６０〜１２０ｎｍであることが最も好ましい。

（ハードコート層）
ハードコート層は、反射防止層を設けたポリマーフィルムに物理強度を付与するために、ポリマーフィルムの表面に設ける。特に、ポリマーフィルムと前記高屈折率層の間に設けることが好ましい。ハードコート層は、光及び／又は熱の硬化性化合物の架橋反応、又は、重合反応により形成されることが好ましい。硬化性化合物における硬化性官能基としては、光重合性官能基が好ましい。また加水分解性官能基含有の有機金属化合物や有機アルコキシシリル化合物も好ましい。

これらの化合物の具体例としては、高屈折率層で例示したと同様のものが挙げられる。
ハードコート層の具体的な構成組成物としては、例えば、特開２００２−１４４９１３号公報、同２０００−９９０８号公報、国際公開第００／４６６１７号パンフレット等記載のものが挙げられる。

高屈折率層はハードコート層を兼ねることができる。このような場合、高屈折率層で記載した手法を用いて微粒子を微細に分散してハードコート層に含有させて形成することが好ましい。

ハードコート層は、平均粒径０．２〜１０μｍの粒子を含有させて防眩機能（アンチグレア機能）を付与した防眩層を兼ねることもできる。

ハードコート層の膜厚は、用途により適切に設計することができる。ハードコート層の膜厚は、０．２〜１０μｍであることが好ましく、より好ましくは０．５〜７μｍである。

ハードコート層の表面強度は、ＪＩＳ Ｋ−５４００に従う鉛筆硬度試験で、Ｈ以上であることが好ましく、２Ｈ以上であることがさらに好ましく、３Ｈ以上であることが最も好ましい。またＪＩＳ Ｋ−５４００に従うテーバー試験で、試験前後の試験片の摩耗量が少ないほど好ましい。

（反射防止層の他の層）
さらに、前方散乱層、プライマー層、帯電防止層、下塗り層や保護層等を設けてもよい。

（帯電防止層）
帯電防止層を設ける場合には、体積抵抗率が１０^-8（Ωｃｍ^-3）以下の導電性を付与することが好ましい。吸湿性物質や水溶性無機塩、ある種の界面活性剤、カチオンポリマー、アニオンポリマー、コロイダルシリカ等の使用により１０^-8（Ωｃｍ^-3）の体積抵抗率の付与は可能であるが、温湿度依存性が大きく、低湿では十分な導電性を確保できない問題がある。そのため、導電性層素材としては金属酸化物が好ましい。金属酸化物には着色しているものがあるが、これらの金属酸化物を導電性層素材として用いるとフィルム全体が着色してしまい好ましくない。着色のない金属酸化物を形成する金属として、Ｚｎ、Ｔｉ、Ｓｎ、Ａｌ、Ｉｎ、Ｓｉ、Ｍｇ、Ｂａ、Ｍｏ、Ｗ又はＶをあげることができ、これらを主成分とした金属酸化物を用いることが好ましい。

上記金属酸化物の具体的な例としては、ＺｎＯ、ＴｉＯ₂、ＳｎＯ₂、Ａｌ₂Ｏ₃、Ｉｎ₂Ｏ₃、ＳｉＯ₂、ＭｇＯ、ＢａＯ、ＭｏＯ₃、ＷＯ₃、Ｖ₂Ｏ₅等、又はこれらの複合酸化物がよく、特にＺｎＯ、ＴｉＯ₂及びＳｎＯ₂が好ましい。異種原子を含む例としては、例えばＺｎＯに対してはＡｌ、Ｉｎ等の添加物、ＳｎＯ₂に対してはＳｂ、Ｎｂ、ハロゲン元素等の添加、またＴｉＯ₂に対してはＮｂ、Ｔａ等の添加が効果的である。

更にまた、特公昭５９−６２３５号公報に記載の如く、他の結晶性金属粒子又は繊維状物（例えば酸化チタン）に上記の金属酸化物を付着させた素材を使用してもよい。なお体積抵抗値と表面抵抗値は別の物性値であり、単純に比較することはできないが、体積抵抗値で１０^-8（Ωｃｍ^-3）以下の導電性を確保するためには、該帯電防止層が概ね１０^-10（Ω／□）以下の表面抵抗値を有していればよく、更に好ましくは１０^-8（Ω／□）である。帯電防止層の表面抵抗値は帯電防止層を最表層としたときの値として測定されることが必要であり、積層フィルムを形成する途中の段階で測定することができる。

また、本発明のポリマーフィルム上に光学異方性層を設けることが好ましい。
光学異方性層は、液晶性化合物、非液晶性化合物、無機化合物、有機／無機複合化合物等、材料は限定されない。液晶性化合物としては、重合性基を有する低分子化合物を配向させた後に光または熱による重合により配向を固定化するものや、液晶性高分子を加熱し配向させた後に冷却しガラス状態で配向固定化するものを使うことができる。液晶性化合物としては円盤状構造を有するもの、棒状構造を有するもの、光学的二軸性を示す構造を有するものを使うことができる。非液晶性化合物としては、ポリイミド、ポリエステル等の芳香族環を有する高分子を使うことができる。
光学異方性層の形成方法は、塗布、蒸着、スパッタリング等種々の手法を使用することができる。
偏光板の保護膜の上に光学異方性層を設ける場合、粘着層は偏光子側からさらに該光学異方性層の外側に設けられる。

以下、実施例によって本発明を更に説明するが、本発明は実施例に限定されるものではない。
はじめに、本実施例に用いた物性試験方法や性能評価方法について記す。
（残留溶剤量の測定）
ウェブの質量をＭ、ウェブを１４０℃で２時間乾燥させた後の質量をＮとする、下記式から残留溶剤量を算出した。
[残留溶剤量]＝（Ｍ−Ｎ）／Ｎ×１００ （質量％）

（表面張力の測定）
ポリマー材料の表面張力、表面張力の分散力成分γ^ｄ、表面張力の極性力成分γ^ｐは水と塩化メチレンの接触角からＯｗｅｎｓらの方法（Ｄ．Ｋ．Ｏｗｅｎｓ ａｎｄ Ｒ．Ｃ．Ｗｅｎｄｔ：Ｊ．Ａｐｐｌ．Ｐｏｌｙｍ．Ｓｃｉ，１３，１９４１（１９６９））により算出した。

（密着評価）
JIS K5600-5-6に従いクロスカット法によりポリマーフィルムと光学機能層の密着試験を行った。剥離しにくいもの：分類０〜剥離しやすいもの：５の６段階で評価した。

（光学フィルムのムラ評価）
黒い布を被せた台の上に光学機能層を上面にして光学フィルムを広げ、蛍光灯下で観察し、光学フィルムに映り込んだ蛍光灯の明かりの蛍光管の形の乱れ方の程度を目視観察し、評価基準見本と比較して１点（悪い）〜５点（良い）の５段階の点数を付けた。

（ポリマーフィルムの厚みムラの測定）
ポリマーフィルムの幅方向に関して厚みムラを触針式の連続厚み測定器（アンリツ（株）製）で測定した。幅方向１．３ｍ内の山部分の間隔の平均をピッチ、隣りあった山の高さと谷の深さの差の平均を高さとした。さらに、高さをピッチで除したものを厚みムラの傾斜とした。

Ｉ．バンド流延機によるポリマーフィルムの製膜（ポリマーフィルム１〜８）
（実施例１）ポリマーフィルム１の製膜
（１）表面張力が４５ｍＮ／ｍ以上のポリマー層Aのドープの調製
［１−１．セルロースアシレート溶液］
下記組成物をミキシングタンクに投入し、攪拌して各成分を溶解し、更に９０℃に約１０分間加熱した後、平均孔径３４μｍの濾紙及び平均孔径１０μｍの焼結金属フィルターで濾過した。 セルロースアシレートＣＡ１は表１に記載のものを使用した。また本発明でポリマーフィルム作製に用いる材料の表面エネルギーを表２に示した。

（セルロースアシレート溶液の組成）
セルロースアシレートＣＡ１ １００．０質量部
トリフェニルホスフェート ７．８質量部
ビフェニルジフェニルホスフェート ３．９質量部
メチレンクロリド ４０３．０質量部
メタノール ６０．２質量部

［１−２．マット剤分散液］
次に、上記方法で作製したセルロースアシレート溶液を含む下記組成物を分散機に投入し、マット剤分散液を調製した。

（マット剤分散液の組成）
シリカ粒子（平均粒径１６ｎｍ） ２．０質量部
“ａｅｒｏｓｉｌ Ｒ９７２”｛日本アエロジル（株）製｝
メチレンクロリド ７２．４質量部
メタノール １０．８質量部
上記セルロースアシレート溶液 １０．３質量部

［１−３．紫外線吸収剤溶液］
次に、上記方法で作製したセルロースアシレート溶液を含む下記組成物をミキシングタンクに投入し、加熱しながら攪拌して溶解し、紫外線吸収剤溶液を調製した。下記の紫外線吸収剤ＵＶ１は２−［２'−ヒドロキシ−３'，５'−ジ−ｔ−ブチ ルフェニル］ベンゾトリアゾール］、ＵＶ２は２−［２'−ヒドロキシ−３'，５'−ジ− アミルフェニル］−５−クロルベンゾトリアゾール］を意味する。

（紫外線吸収剤溶液の組成）
ＵＶ１ １４．０質量部
ＵＶ２ ６．０質量部
メチレンクロリド ５８．３質量部
メタノール ８．７質量部
上記セルロースアシレート溶液 １２．８質量部

上記セルロースアシレート溶液を１００質量部、マット剤分散液を１．３５質量部、更に紫外線吸収剤溶液を１質量部の割合になるように混合し、製膜用ドープＡ１を調製した。

（２）表面張力が２０ｍＮ／ｍ以上４５ｍＮ／ｍ未満の層Ｂのドープの調整
［２−１．ポリマー溶液］
下記組成物をミキシングタンクに投入し、攪拌して各成分を溶解し、更に９０℃に約１０分間加熱した後、平均孔径３４μｍの濾紙及び平均孔径１０μｍの焼結金属フィルターで濾過した。 セルロースアシレートＣＡ６は表１に記載のものを使用した。

（ポリマー溶液の組成）
セルロースアシレートＣＡ６ ９２．０質量部
メチレンクロリド ４０３．０質量部
メタノール ６０．２質量部

［２−２．マット剤分散液］
次に、上記方法で作製したポリマー溶液を含む下記組成物を分散機に投入し、マット剤分散液を調製した。

（マット剤分散液の組成）
シリカ粒子（平均粒径１６ｎｍ） ２．０質量部
“ａｅｒｏｓｉｌ Ｒ９７２”｛日本アエロジル（株）製｝
メチレンクロリド ７２．４質量部
メタノール １０．８質量部
上記ポリマー溶液 １０．３質量部

上記ポリマー溶液を１００質量部、マット剤分散液を１．３５質量部の割合になるように混合し、製膜用ドープＢ１を調製した。

（３）流延
上記のドープを、二層共流延ダイを用いてバンド流延機で流延した。巻き取り時のポリマーフィルムにおいて、表面張力が４５ｍＮ／ｍ以上のポリマー層Aの厚みは平均７７μｍ、表面張力が２０ｍＮ／ｍ以上４５ｍＮ／ｍ未満の層Ｂの厚みは平均３μｍとなるように調整した。残留溶媒量が６０質量％でバンドから剥ぎ取った共流延ポリマーフィルムを、１２０℃の雰囲気下で、テンターを用いて５％延伸倍率で幅方向に延伸して、テンター離脱後に１３０℃で２０分間乾燥させポリマーフィルム１を製膜した。巻取り部前で両端部を切り落として幅２０００ｍｍとし、長さ４０００ｍのロールフィルムとして巻き取った。ポリマーフィルム１の厚みムラのピッチ、高さ、傾斜、表面エネルギーを測定した。結果を表３に示す。

（実施例２）ポリマーフィルム２の製膜
実施例１のセルロースアシレートＣＡ１の代りにセルロースアシレートＣＡ２を用い、セルロースアシレートＣＡ６の代りにポリエチルアクリレート（数平均分子量＝３２０００）を用いた以外は実施例１と同様にしてポリマーフィルム２を作製した。セルロースアシレートＣＡ２およびポリエチルアクリレートの表面エネルギーを表２に示した。ポリマーフィルム２の厚みムラのピッチ、高さ、傾斜、表面エネルギーを測定した。結果を表３に示す。

（実施例３）ポリマーフィルム３の製膜
実施例１のセルロースアシレートＣＡ１の代りにセルロースアシレートＣＡ３を用い、セルロースアシレートＣＡ６の代りにＣＡＢ１を用いた以外は実施例１と同様にしてポリマーフィルム３を作製した。ポリマーフィルム３の厚みムラのピッチ、高さ、傾斜、表面エネルギーを測定した。結果を表３に示す。

（比較例１）ポリマーフィルム４の製膜
実施例１のセルロースアシレートＣＡ６の代りにＣＡ３を用いた以外は実施例１と同様にしてポリマーフィルム４を作製した。ポリマーフィルム４の厚みムラのピッチ、高さ、傾斜、表面エネルギーを測定した。結果を表３に示す。

（比較例２）ポリマーフィルム５の製膜
実施例１で表面張力が２０ｍＮ／ｍ以上４５ｍＮ／ｍ未満の層Ｂを設けなかった以外は実施例１と同様にしてポリマーフィルム５を作製した。ポリマーフィルム５の厚みムラのピッチ、高さ、傾斜、表面エネルギーを測定した。結果を表３に示す。

（比較例３）ポリマーフィルム６の製膜
実施例２で表面張力が２０ｍＮ／ｍ以上４５ｍＮ／ｍ未満の層Ｂを設けなかった以外は実施例２と同様にしてポリマーフィルム６を作製した。ポリマーフィルム６の厚みムラのピッチ、高さ、傾斜、表面エネルギーを測定した。結果を表３に示す。

（比較例４）ポリマーフィルム７の製膜
実施例３で表面張力が２０ｍＮ／ｍ以上４５ｍＮ／ｍ未満の層Ｂを設けなかった以外は実施例２と同様にしてポリマーフィルム７を作製した。ポリマーフィルム７の厚みムラのピッチ、高さ、傾斜、表面エネルギーを測定した。結果を表３に示す。

（実施例４）ポリマーフィルム８の製膜
（１）表面張力が４５ｍＮ／ｍ以上のポリマー層Aのドープの調製
［１−１．セルロースアシレート溶液］
下記組成物をミキシングタンクに投入し、攪拌して各成分を溶解し、更に９０℃に約１０分間加熱した後、平均孔径３４μｍの濾紙及び平均孔径１０μｍの焼結金属フィルターで濾過した。 セルロースアシレートＣＡ１は表１に記載のものを使用した。また本発明でポリマーフィルム作製に用いる材料の表面エネルギーを表２に示した。

（セルロースアシレート溶液の組成）
セルロースアシレートＣＡ１ １００．０質量部
トリフェニルホスフェート ７．８質量部
ビフェニルジフェニルホスフェート ３．９質量部
メチレンクロリド ４０３．０質量部
メタノール ６０．２質量部

［１−２．マット剤分散液］
次に、上記方法で作製したセルロースアシレート溶液を含む下記組成物を分散機に投入し、マット剤分散液を調製した。

（マット剤分散液の組成）
シリカ粒子（平均粒径１６ｎｍ） ２．０質量部
“ａｅｒｏｓｉｌ Ｒ９７２”｛日本アエロジル（株）製｝
メチレンクロリド ７２．４質量部
メタノール １０．８質量部
上記セルロースアシレート溶液 １０．３質量部

［１−３．紫外線吸収剤溶液］
次に、上記方法で作製したセルロースアシレート溶液を含む下記組成物をミキシングタンクに投入し、加熱しながら攪拌して溶解し、紫外線吸収剤溶液を調製した。下記の紫外線吸収剤ＵＶ１は２−［２'−ヒドロキシ−３'，５'−ジ−ｔ−ブチ ルフェニル］ベンゾトリアゾール］、ＵＶ２は２−［２'−ヒドロキシ−３'，５'−ジ− アミルフェニル］−５−クロルベンゾトリアゾール］を意味する。

（紫外線吸収剤溶液の組成）
ＵＶ１ １４．０質量部
ＵＶ２ ６．０質量部
メチレンクロリド ５８．３質量部
メタノール ８．７質量部
上記セルロースアシレート溶液 １２．８質量部

上記セルロースアシレート溶液を１００質量部、マット剤分散液を１．３５質量部、更に紫外線吸収剤溶液を１質量部の割合になるように混合し、製膜用ドープＡ８を調製した。

（２）表面張力が２０ｍＮ／ｍ以上４５ｍＮ／ｍ未満の層Ｂのドープの調整
［２−１．ポリマー溶液］
下記組成物をミキシングタンクに投入し、攪拌して各成分を溶解し、更に９０℃に約１０分間加熱した後、平均孔径３４μｍの濾紙及び平均孔径１０μｍの焼結金属フィルターで濾過した。 セルロースアシレートＣＡ６は表１に記載のものを使用した。

（ポリマー溶液の組成）
セルロースアシレートＣＡ６ ９２．０質量部
メチレンクロリド ４０３．０質量部
メタノール ６０．２質量部

［２−２．マット剤分散液］
次に、上記方法で作製したポリマー溶液を含む下記組成物を分散機に投入し、マット剤分散液を調製した。

（マット剤分散液の組成）
シリカ粒子（平均粒径１６ｎｍ） ２．０質量部
“ａｅｒｏｓｉｌ Ｒ９７２”｛日本アエロジル（株）製｝
メチレンクロリド ７２．４質量部
メタノール １０．８質量部
上記ポリマー溶液 １０．３質量部

上記ポリマー溶液を１００質量部、マット剤分散液を１．３５質量部の割合になるように混合し、製膜用ドープＢ８を調製した。
（３）表面張力が５０ｍＮ／ｍ以上７５ｍＮ／ｍ以下の層Ｃのドープの調整
［３−１．ポリマー溶液］
下記組成物をミキシングタンクに投入し、攪拌して各成分を溶解し、更に９０℃に約１０分間加熱した後、平均孔径３４μｍの濾紙及び平均孔径１０μｍの焼結金属フィルターで濾過した。 セルロースアシレートＣＡ３は表１に記載のものを使用した。

（ポリマー溶液の組成）
セルロースアシレートＣＡ３ ９２．０質量部
メチレンクロリド ４０３．０質量部
メタノール ６０．２質量部

［３−２．マット剤分散液］
次に、上記方法で作製したポリマー溶液を含む下記組成物を分散機に投入し、マット剤分散液を調製した。

（マット剤分散液の組成）
シリカ粒子（平均粒径１６ｎｍ） ２．０質量部
“ａｅｒｏｓｉｌ Ｒ９７２”｛日本アエロジル（株）製｝
メチレンクロリド ７２．４質量部
メタノール １０．８質量部
上記ポリマー溶液 １０．３質量部

上記ポリマー溶液を１００質量部、マット剤分散液を１．３５質量部の割合になるように混合し、製膜用ドープＣ８を調製した。

（３）流延
上記のドープを、三層共流延ダイを用いてバンド流延機で流延した。巻き取り時のポリマーフィルムにおいて、表面張力が４５ｍＮ／ｍ以上のポリマー層Aの厚みは平均７４μｍ、表面張力が２０ｍＮ／ｍ以上４５ｍＮ／ｍ未満の層Ｂの厚みは平均３μｍ、表面張力が５０ｍＮ／ｍ以上７５ｍＮ／ｍ以下の層Ｃの厚みは平均３μｍとなるように調整した。残留溶媒量が６０質量％でバンドから剥ぎ取ったフィルムを、１２０℃の雰囲気下で、テンターを用いて２０％延伸倍率で幅方向に延伸して、テンター離脱後に１３０℃で２０分間乾燥させポリマーフィルム８を製膜した。巻取り部前で両端部を切り落とし幅２０００ｍｍとし、長さ４０００ｍのロールフィルムとして巻き取った。ポリマーフィルム８の厚みムラのピッチ、高さ、傾斜、表面エネルギーを測定した。結果を表３に示す。

II．ドラム流延機によるポリマーフィルムの製膜（ポリマーフィルム９〜１３）
（実施例５）ポリマーフィルム９の製膜
（１）ポリマー層Aのドープの調製
［１−１．セルロースアシレート溶液］
下記組成物をミキシングタンクに投入し、攪拌して各成分を溶解し、更に９０℃に約１０分間加熱した後、平均孔径３４μｍの濾紙及び平均孔径１０μｍの焼結金属フィルターで濾過した。 セルロースアシレートＣＡ４は表１に記載のものを使用した。

（セルロースアシレート溶液の組成）
セルロースアシレートＣＡ４ １００．０質量部
トリフェニルホスフェート ７．８質量部
ビフェニルジフェニルホスフェート ３．９質量部
メチレンクロリド ３０３．４質量部
メタノール ５８．５質量部
１−ブタノール ２．２質量部

［１−２．紫外線吸収剤溶液］
次に、上記方法で作製したセルロースアシレート溶液を含む下記組成物をミキシングタンクに投入し、加熱しながら攪拌して溶解し、紫外線吸収剤溶液を調製した。下記の紫外線吸収剤ＵＶ１は２−［２'−ヒドロキシ−３'，５'−ジ−ｔ−ブチ ルフェニル］ベンゾトリアゾール］、ＵＶ２は２−［２'−ヒドロキシ−３'，５'−ジ− アミルフェニル］−５−クロルベンゾトリアゾール］を意味する。

（紫外線吸収剤溶液の組成）
ＵＶ１ １４．０質量部
ＵＶ２ ６．０質量部
メチレンクロリド ５５．６質量部
メタノール １０．７質量部
１−ブタノール ０．４質量部
上記セルロースアシレート溶液 １２．８質量部

上記セルロースアシレート溶液を１００質量部、マット剤分散液を１．３５質量部、更に紫外線吸収剤溶液を１質量部の割合になるように混合し、製膜用ドープＡ９を調製した。

（２）表面張力が２０ｍＮ／ｍ以上４５ｍＮ／ｍ未満の層Ｂのドープの調整
［２−１．ポリマー溶液］
下記組成物をミキシングタンクに投入し、攪拌して各成分を溶解し、更に９０℃に約１０分間加熱した後、平均孔径３４μｍの濾紙及び平均孔径１０μｍの焼結金属フィルターで濾過した。

（ポリマー溶液の組成）
エチルセルロース ９２．０質量部
メチレンクロリド ３０３．４質量部
メタノール ５８．５質量部
１−ブタノール ２．２質量部

［２−２．マット剤分散液］
次に、上記方法で作製したポリマー溶液を含む下記組成物を分散機に投入し、マット剤分散液を調製した。

（マット剤分散液の組成）
シリカ粒子（平均粒径１６ｎｍ） ２．０質量部
“ａｅｒｏｓｉｌ Ｒ９７２”｛日本アエロジル（株）製｝
メチレンクロリド ６９．１質量部
メタノール １３．３質量部
１−ブタノール ０．５質量部
上記ポリマー溶液 １０．３質量部

上記ポリマー溶液を１００質量部、マット剤分散液を１．３５質量部の割合になるように混合し、製膜用ドープＢ９を調製した。

（３）表面張力が５０ｍＮ／ｍ以上７５ｍＮ／ｍ以下の層Ｃのドープの調整
［３−１．ポリマー溶液］
下記組成物をミキシングタンクに投入し、攪拌して各成分を溶解し、更に９０℃に約１０分間加熱した後、平均孔径３４μｍの濾紙及び平均孔径１０μｍの焼結金属フィルターで濾過した。

（ポリマー溶液の組成）
セルロースアシレートＣＡ３ ９２．０質量部
メチレンクロリド ３０３．４質量部
メタノール ５８．５質量部
１−ブタノール ２．２質量部

［３−２．マット剤分散液］
次に、上記方法で作製したポリマー溶液を含む下記組成物を分散機に投入し、マット剤分散液を調製した。

（マット剤分散液の組成）
シリカ粒子（平均粒径１６ｎｍ） ２．０質量部
“ａｅｒｏｓｉｌ Ｒ９７２”｛日本アエロジル（株）製｝
メチレンクロリド ６９．１質量部
メタノール １３．３質量部
１−ブタノール ０．５質量部
上記ポリマー溶液 １０．３質量部

上記ポリマー溶液を１００質量部、マット剤分散液を１．３５質量部の割合になるように混合し、製膜用ドープＣ９を調製した。

（３）流延
上記のドープを、三層共流延ダイを用いてドラム流延機で流延した。巻き取り時のポリマーフィルムにおいて、表面張力が４５ｍＮ／ｍ以上のポリマー層Aの厚みは平均７４μｍ、表面張力が４５ｍＮ／ｍ未満の層Ｂの厚みは平均３μｍ、表面張力が５５ｍＮ／ｍ以上の層Cの厚みは平均３μｍとなるように調整した。残留溶媒量が１５０質量％でドラムから剥ぎ取ったフィルムを、５０℃〜１４０℃まで連続的に温度を変化させたゾーン内でウェブをテンターで保持し、テンター離脱後に１４０℃で２０分間乾燥させポリマーフィルム９を製膜した。巻取り部前で両端部を切り落とし幅２０００ｍｍとし、長さ４０００ｍのロールフィルムとして巻き取った。ポリマーフィルム９の厚みムラのピッチ、高さ、傾斜、表面エネルギーを測定した。結果を表３に示す。

（実施例６）ポリマーフィルム１０の製膜
実施例５のセルロースアシレートＣＡ４の代りにセルロースアシレートＣＡ５を用い、エチルセルロースの代りにポリ（ｎ−ヘキシルメタクリレート）を用いた以外は実施例５と同様にしてポリマーフィルム１０を作製した。ポリマーフィルム１０の厚みムラのピッチ、高さ、傾斜、表面エネルギーを測定した。結果を表３に示す。

（実施例７）ポリマーフィルム１１の製膜
実施例５のエチルセルロースの代りにポリビニルブチレートを用いた以外は実施例５と同様にしてポリマーフィルム１１を作製した。ポリマーフィルム１１の厚みムラのピッチ、高さ、傾斜、表面エネルギーを測定した。結果を表３に示す。

（比較例５）ポリマーフィルム１２の製膜
実施例５のエチルセルロースの代りにセルロースアシレートＣＡ４を用い、セルロースアシレートＣＡ３の代りにセルロースアシレートＣＡ４を用いた以外は実施例５と同様にしてポリマーフィルム１２を作製した。ポリマーフィルム１２の厚みムラのピッチ、高さ、傾斜、表面エネルギーを測定した。結果を表３に示す。

（比較例６）ポリマーフィルム１３の製膜
実施例６のポリ（ｎ−ヘキシルメタクリ-レート）の代りにセルロースアシレートＣＡ５を用い、セルロースアシレートＣＡ３の代りにセルロースアシレートＣＡ５を用いた以外は実施例６と同様にしてポリマーフィルム１３を作製した。ポリマーフィルム１３の厚みムラのピッチ、高さ、傾斜、表面エネルギーを測定した。結果を表３に示す。

III 反射防止層付き保護膜の作製
（実施例８）反射防止層を有する保護膜（保護膜１）の作製
［光散乱層用塗布液の調製］
ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレートの混合物“ＰＥＴＡ”｛日本化薬（株）製｝５０ｇをシクロヘキサノン（表面張力３４．５ｍＮ／ｍ）３８．５ｇで希釈した。更に、重合開始剤「イルガキュア１８４」｛チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製｝を２ｇ添加し、混合攪拌した。この溶液を塗布、紫外線硬化して得られた塗膜の屈折率は１．５１、表面エネルギーは３５．１ｍＮ／ｍであった。

さらにこの溶液にポリトロン分散機にて１００００ｒｐｍで２０分分散した平均粒径３．５μｍの架橋ポリスチレン粒子“ＳＸ−３５０”｛屈折率１．６０、綜研化学（株）製｝の３０質量％シクロヘキサノン分散液を１．７ｇ及び平均粒径３．５μｍの架橋アクリル−スチレン粒子｛屈折率１．５５、綜研化学（株）製｝の３０質量％シクロヘキサノン分散液を１３．３ｇ加え、最後に、フッ素系表面改質剤（ＦＰ−１）０．７５ｇ、シランカップリング剤“ＫＢＭ−５１０３”｛信越化学工業（株）製｝を１０ｇ加えて、得られた混合液を孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルターで濾過して光散乱層の塗布液を調製した。
フッ素系表面改質剤（ＦＰ−１）

［低屈折率層用塗布液の調製］
まず始めに、次のようにしてゾル液ａを調製した。
攪拌機、還流冷却器を備えた反応器、メチルエチルケトン１２０質量部、アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン“ＫＢＭ５１０３”｛信越化学工業（株）製｝１００質量部、ジイソプロポキシアルミニウムエチルアセトアセテート３質量部を加え混合したのち、イオン交換水３０質量部を加え、６０℃で４時間反応させたのち、室温まで冷却し、ゾル液ａを得た。質量平均分子量は１６００であり、オリゴマー成分以上の成分のうち、分子量が１０００〜２００００の成分は１００質量％であった。また、ガスクロマトグラフィー分析から、原料のアクリロイルオキシプロピルトリメトキシシランは全く残存していなかった。

屈折率１．４２の熱架橋性含フッ素ポリマー“ＪＮ−７２２８”｛固形分濃度６質量％、ＪＳＲ（株）製｝１３ｇ、シリカゾル｛シリカ、ＭＥＫ−ＳＴの粒子サイズ違い、平均粒径４５ｎｍ、固形分濃度３０質量％、日産化学（株）製｝１．３ｇ、上記のように調製したゾル液ａ０．６ｇ及びメチルエチルケトン５ｇ、シクロヘキサノン０．６ｇを添加、攪拌の後、孔径１μｍのポリプロピレン製フィルターで濾過して、低屈折率層用塗布液を調製した。

［反射防止層を有する保護膜の作製］
実施例１で作製したポリマーフィルム１をロール形態で巻き出して、上記の機能層（光散乱層）用塗布液を、線数１８０本／インチ、深度４０μｍのグラビアパターンを有する、直径５０ｍｍのマイクログラビアロールとドクターブレードを用いて、グラビアロール回転数３０ｒｐｍ、搬送速度３０ｍ／分の条件で塗布し、６０μで１５０秒乾燥の後、さらに窒素パージ下で１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ｛アイグラフィックス（株）製｝を用いて、照度４００ｍＷ／ｃｍ²、照射量２５０ｍＪ／ｃｍ²の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、厚さ６μｍの機能層を形成し、巻き取った。

上記の機能層（光散乱層）を塗設したトリアセチルセルロースフィルムを再び巻き出して、その光散乱層側に、前記で調製した低屈折率層用塗布液を、線数１８０本／インチ、深度４０μｍのグラビアパターンを有する、直径５０ｍｍのマイクログラビアロールとドクターブレードを用いて、グラビアロール回転数３０ｒｐｍ、搬送速度１５ｍ／分の条件で塗布し、１２０℃で１５０秒乾燥の後、更に１４０℃で８分乾燥させてから窒素パージ下で２４０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ｛アイグラフィックス（株）製｝を用いて、照度４００ｍＷ／ｃｍ²、照射量９００ｍＪ／ｃｍ²の紫外線を照射し、厚さ１００ｎｍの低屈折率層を形成し、巻き取り、反射防止層を有する保護膜１を作製した。 保護膜１のポリマーフィルムと光学機能層間の密着および光学フィルムのムラを評価した。結果を表３に示す。

（実施例９）反射防止層を有する保護膜（保護膜２）の作製
実施例８の光散乱層用塗布液に用いたシクロヘキサノンを全てトルエン（表面張力２９ｍＮ／ｍ）に変え、またポリマーフィルム１をポリマーフィルム２に変え、その他は実施例８と同様にして反射防止層を有する保護膜２を作製した。保護膜２のポリマーフィルムと光学機能層間の密着および光学フィルムのムラを評価した。結果を表３に示す。

（実施例１０）反射防止層を有する保護膜（保護膜３）の作製
実施例９のポリマーフィルム２をポリマーフィルム３に変え、その他は実施例９と同様にして反射防止層を有する保護膜３を作製した。保護膜３のポリマーフィルムと光学機能層間の密着および光学フィルムのムラを評価した。結果を表３に示す。

（比較例７）反射防止層を有する保護膜（保護膜４）の作製
実施例９のポリマーフィルム２をポリマーフィルム４に変え、その他は実施例９と同様にして反射防止層を有する保護膜４を作製した。保護膜４のポリマーフィルムと光学機能層間の密着および光学フィルムのムラを評価した。結果を表３に示す。

（比較例８）反射防止層を有する保護膜（保護膜５）の作製
実施例９のポリマーフィルム２をポリマーフィルム５に変え、その他は実施例９と同様にして反射防止層を有する保護膜５を作製した。保護膜５のポリマーフィルムと光学機能層間の密着および光学フィルムのムラを評価した。結果を表３に示す。

（比較例９）反射防止層を有する保護膜（保護膜６）の作製
実施例９のポリマーフィルム２をポリマーフィルム６に変え、その他は実施例９と同様にして反射防止層を有する保護膜６を作製した。保護膜６のポリマーフィルムと光学機能層間の密着および光学フィルムのムラを評価した。結果を表３に示す。

（比較例１０）反射防止層を有する保護膜（保護膜７）の作製
実施例９のポリマーフィルム２をポリマーフィルム７に変え、その他は実施例９と同様にして反射防止層を有する保護膜７を作製した。保護膜７のポリマーフィルムと光学機能層間の密着および光学フィルムのムラを評価した。結果を表３に示す。

（比較例１１）反射防止層を有する保護膜（保護膜８）の作製
実施例９のポリマーフィルム２をポリマーフィルム８に変え、その他は実施例９と同様にして反射防止層を有する保護膜８を作製した。保護膜８のポリマーフィルムと光学機能層間の密着および光学フィルムのムラを評価した。結果を表３に示す。

（実施例１１）反射防止層を有する保護膜（保護膜９）の作製
［ハードコート層用塗布液の調製］
トリメチロールプロパントリアクリレート（ＴＭＰＴＡ）｛日本化薬（株）製｝７５０．０質量部に、質量平均分子量３０００のポリ（グリシジルメタクリレート）（PGA）２７０．０質量部、シクロヘキサノン１２３０．０ｇ及び光重合開始剤「イルガキュア１８４」｛チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製｝５０．０ｇを添加して攪拌した。孔径０．４μｍのポリプロピレン製フィルターで濾過してハードコート層用の塗布液を調製した。

［二酸化チタン微粒子分散液の調製］
二酸化チタン微粒子としては、コバルトを含有し、且つ水酸化アルミニウムと水酸化ジルコニウムを用いて表面処理を施した二酸化チタン微粒子“ＭＰＴ−１２９”｛石原産業（株）製｝を使用した。

この粒子２５７．１ｇに、下記分散剤３８．６ｇ、及びシクロヘキサノン７０４．３ｇを添加してダイノミルにより分散し、質量平均径７０ｎｍの二酸化チタン分散液を調製した。

［中屈折率層用塗布液の調製］
上記の二酸化チタン分散液８８．９ｇに、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物“ＤＰＨＡ”５８．４ｇ、光重合開始剤「イルガキュア９０７」３．１ｇ、光増感剤「カヤキュアーＤＥＴＸ」｛日本化薬（株）製｝１．１ｇ、メチルエチルケトン４８２．４ｇ及びシクロヘキサノン１８６９．８ｇを添加して攪拌した。十分に攪拌ののち、孔径０．４μｍのポリプロピレン製フィルターで濾過して中屈折率層用塗布液を調製した。

［高屈折率層用塗布液の調製］
上記の二酸化チタン分散液５８６．８ｇに、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物“ＤＰＨＡ”｛日本化薬（株）製｝４７．９ｇ、光重合開始剤「イルガキュア９０７」｛チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製｝４．０ｇ、光増感剤「カヤキュアー−ＤＥＴＸ」｛日本化薬（株）製｝１．３ｇ、メチルエチルケトン４５５．８ｇ、及びシクロヘキサノン１４２７．８ｇを添加して攪拌した。孔径０．４μｍのポリプロピレン製フィルターで濾過して高屈折率層用の塗布液を調製した。

［低屈折率層用塗布液の調製］
下記共重合体（Ｐ−１）を、メチルイソブチルケトンに７質量％の濃度になるように溶解し、末端メタクリレート基含有シリコーン樹脂“Ｘ−２２−１６４Ｃ”｛信越化学（株）製｝を固形分に対して３質量％、光ラジカル発生剤「イルガキュア９０７」（商品名）を固形分に対して５質量％添加し、低屈折率層用塗布液を調製した。

［反射防止層を有する保護膜の作製］
実施例４で作製したポリマーフィルム９上に、ハードコート層用塗布液をグラビアコーターを用いて塗布した。１００℃で乾燥した後、酸素濃度が１．０体積％以下の雰囲気になるように窒素パージしながら、１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ｛アイグラフィックス（株）製｝を用いて、放射照度４００ｍＷ／ｃｍ²、照射量３００ｍＪ／ｃｍ²の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、厚さ８μｍのハードコート層を形成した。前記ハードコート層の表面エネルギーは３５．１ｍＮ／ｍであった。

次いでハードコート層の上に、中屈折率層用塗布液、高屈折率層用塗布液、低屈折率層用塗布液を３つの塗布ステーションを有するグラビアコーターを用いて連続して塗布した。

中屈折率層の乾燥条件は１００℃、２分間とし、紫外線硬化条件は酸素濃度が１．０体積％以下の雰囲気になるように窒素パージしながら１８０Ｗ／ｃｍ²の空冷メタルハライドランプ｛アイグラフィックス（株）製｝を用いて、放射照度４００ｍＷ／ｃｍ²、照射量４００ｍＪ／ｃｍ²の照射量とした。硬化後の中屈折率層は屈折率１．６３０、膜厚６７ｎｍであった。

高屈折率層及び低屈折率層の乾燥条件は、いずれも９０℃、１分の後、１００℃、１分とし、紫外線硬化条件は酸素濃度が１．０体積％以下の雰囲気になるように窒素パージしながら２４０Ｗ／ｃｍ²の空冷メタルハライドランプ｛アイグラフィックス（株）製｝を用いて、放射照度６００ｍＷ／ｃｍ²、照射量６００ｍＪ／ｃｍ²の照射量とした。

硬化後の高屈折率層は屈折率１．９０５、膜厚１０７ｎｍ、低屈折率層は屈折率１．４４０、膜厚８５ｎｍであった。このようにして、反射防止層を有する保護膜９を作製した。

（実施例１２）反射防止層を有する保護膜（保護膜１０）の作製
実施例１１のハードコート層用塗布液に用いたシクロヘキサノンを全てトルエン（表面張力２９ｍＮ／ｍ）に変え、またポリマーフィルム９をポリマーフィルム１０に変え、その他は実施例１１と同様にして反射防止層を有する保護膜１０を作製した。保護膜１０のポリマーフィルムと光学機能層間の密着および光学フィルムのムラを評価した。結果を表３に示す。

（実施例１３）反射防止層を有する保護膜（保護膜１１）の作製
実施例１２のポリマーフィルム１０をポリマーフィルム１１に変え、その他は実施例１２と同様にして反射防止層を有する保護膜１１を作製した。保護膜１１のポリマーフィルムと光学機能層間の密着および光学フィルムのムラを評価した。結果を表３に示す。

（比較例１２）反射防止層を有する保護膜（保護膜１２）の作製
実施例１２のポリマーフィルム１０をポリマーフィルム１２に変え、その他は実施例１２と同様にして反射防止層を有する保護膜１２を作製した。保護膜１２のポリマーフィルムと光学機能層間の密着および光学フィルムのムラを評価した。結果を表３に示す。

（比較例１３）反射防止層を有する保護膜（保護膜１３）の作製
実施例１２のポリマーフィルム１０をポリマーフィルム１３に変え、その他は実施例１２と同様にして反射防止層を有する保護膜１３を作製した。保護膜１３のポリマーフィルムと光学機能層間の密着および光学フィルムのムラを評価した。結果を表３に示す。

表３から光学機能性層と接するポリマーフィルム表面の表面エネルギーが２０ｍＮ／ｍ以上４５ｍＮ／ｍ未満である本発明の態様のポリマーフィルムは優れた密着性を有することが分かる。

IV 偏光板の作製
（実施例１４）偏光板の作製（偏光板１〜１３）
（偏光子の作製）
厚さ８０μｍのポリビニルアルコール（ＰＶＡ）フィルムを、ヨウ素濃度０．０５質量％のヨウ素水溶液中に３０℃で６０秒浸漬して染色し、次いでホウ酸濃度４質量％濃度のホウ酸水溶液中に６０秒浸漬している間に元の長さの５倍に縦延伸した後、５０℃で４分間乾燥させて、厚さ２０μｍの偏光子を得た。

（保護膜の表面処理）
上記実施例および比較例で作製した保護膜１〜１３及び市販のセルロースアシレートフィルムフジタックＴＤY８０ＵＬを、濃度１．５モル／Ｌで５５℃の水酸化ナトリウム水溶液中に浸漬した後、水で十分に水酸化ナトリウムを洗い流した。その後、濃度０．００５モル／Ｌで３５℃の希硫酸水溶液に１分間浸漬した後、水に浸漬し希硫酸水溶液を十分に洗い流した。最後に試料を１２０℃で十分に乾燥させた。

（偏光板の作製）
上記のように鹸化処理を行った保護膜と市販のセルロースアシレートフィルム一対として前記の偏光子を挟むようにポリビニルアルコール系接着剤を用いて貼り合せ偏光板を作製した。

このとき、偏光子及び偏光子両側の保護膜はロール形態で作製されているため、各ロールフィルムの長手方向が平行となっており、連続的に貼り合わされる。

（粘着剤溶液の調製）
アクリル酸ブチル１００質量部、アクリル酸５質量部、２、２’−アゾビスブチロニトリル０．５質量部をモノマー濃度６０質量％となるように酢酸エチルに溶解した後、６０℃で８時間重合してアクリル系共重合体溶液を得た。前記アクリル系共重合体の固形分１００質量部に対して、１質量部のイソシアネート系架橋剤（商品名：コロネートＬ、日本ポリウレタン工業株式会社製）を加えて十分に攪拌し粘着剤溶液を作製した。

（粘着層の塗設）
偏光板への粘着層の塗設は次のように行った。
上記粘着剤の溶液を、２５μｍ厚のＰＥＴフィルム上にダイコーターを用いて塗布した後、乾燥させた。ここで、乾燥後の粘着層の厚さが２５μｍとなるように調整した。さらに、ＰＥＴフィルム上に塗設された粘着層を上記で作製した偏光板に転写した。このようにして、保護膜１〜１３を用いた偏光板１〜１３を作製した。

（実施例１５）液晶表示装置への偏光板貼り付け
実施例１４で作製した偏光板を、３２”ワイドのサイズで偏光子の吸収軸が長辺となるように長方形に打抜いた。ＶＡモードの液晶ＴＶ“LC―32GD3”｛シャープ（株）製｝の、表の偏光板を剥し、表側に実施例１４で作製した偏光板を貼り付け、LCD１〜１３を作製した。偏光板貼り付け後、５０℃５ｋｇ／ｃｍ^２で２０分間保持し、接着させた。

プロテクトフィルムを剥した後、液晶表示装置表面に蛍光灯が写り込むようにして観察したところ、ポリマーフィルムの厚みムラ起因のムラの視認性は保護膜１〜１３のムラとよく対応していた。

（実施例１６）偏光板の作製（偏光板１４〜２６）
（偏光子の作製）
厚さ８０μｍのポリビニルアルコール（ＰＶＡ）フィルムを、ヨウ素濃度０．０５質量％のヨウ素水溶液中に３０℃で６０秒浸漬して染色し、次いでホウ酸濃度４質量％濃度のホウ酸水溶液中に６０秒浸漬している間に元の長さの５倍に縦延伸した後、５０℃で４分間乾燥させて、厚さ２０μｍの偏光子を得た。

（保護膜の表面処理）
市販のセルロースアシレートフィルムフジタックＴＤY８０ＵＬを、濃度１．５モル／Ｌで５５℃の水酸化ナトリウム水溶液中に浸漬した後、水で十分に水酸化ナトリウムを洗い流した。その後、濃度０．００５モル／Ｌで３５℃の希硫酸水溶液に１分間浸漬した後、水に浸漬し希硫酸水溶液を十分に洗い流した。最後に試料を１２０℃で十分に乾燥させた。

（偏光板の作製）
上記のように鹸化処理を行った市販のセルロースアシレートフィルムと上記実施例および比較例で作製した鹸化処理を行っていない保護膜１〜１３を一対として前記の偏光子を挟むようにポリビニルアルコール系接着剤を用いて貼り合せ偏光板を作製した。

このとき、偏光子及び偏光子両側の保護膜はロール形態で作製されているため、各ロールフィルムの長手方向が平行となっており、連続的に貼り合わされる。

（粘着剤溶液の調製）
アクリル酸ブチル１００質量部、アクリル酸５質量部、２、２’−アゾビスブチロニトリル０．５質量部をモノマー濃度６０質量％となるように酢酸エチルに溶解した後、６０℃で８時間重合してアクリル系共重合体溶液を得た。前記アクリル系共重合体の固形分１００質量部に対して、１質量部のイソシアネート系架橋剤（商品名：コロネートＬ、日本ポリウレタン工業株式会社製）を加えて十分に攪拌し粘着剤溶液を作製した。

（粘着層の塗設）
偏光板への粘着層の塗設は次のように行った。
上記粘着剤の溶液を、２５μｍ厚のＰＥＴフィルム上にダイコーターを用いて塗布した後、乾燥させた。ここで、乾燥後の粘着層の厚さが２５μｍとなるように調整した。さらに、ＰＥＴフィルム上に塗設された粘着層を上記で作製した偏光板に転写した。このようにして、保護膜１〜１３を用いた偏光板１４〜２６を作製した。

（実施例１７）偏光板の耐久性試験
実施例１４及び実施例１６で作製した偏光板１〜２６を３２”ワイドのサイズで偏光子の吸収軸が長辺となるように長方形に打抜いた。前記偏光板を無アルカリガラス板（＃１７３７、コーニング製）に貼り付け、貼り付け後、５０℃５ｋｇ／ｃｍ^２で２０分間保持し、接着させた。ガラス板に貼り付けた偏光板を６０℃９０％RHおよび８０℃で湿度成行き条件に１０００時間保管し、１０００時間後に常温常湿環境に取り出し、偏光子と保護膜との間の剥離の有無を観察した。その結果を表４に示した。

表４から偏光子と接するポリマーフィルム表面の表面エネルギーが５０ｍＮ／ｍ以上７５ｍＮ／ｍ以下である本発明の態様のポリマーフィルムは優れた密着性を有することが分かる。

本発明に関する偏光板の製造時におけるセルロースアシレートフィルムの貼り合わせ方法を示す模式図である。 本発明に関する偏光板の断面構造を模式的に示す図である。 本発明の液晶表示装置の断面構造を模式的に示す図である。

符号の説明

１：偏光子
２：透過軸
３：ＴＡＣ１：光学補償機能を有するポリマーフィルム
４：遅相軸
１１：偏光子
１２：光学補償機能を有するポリマーフィルム（液晶セル側保護膜）
１３：液晶セルとは反対側の保護膜
１４：機能性膜（ハードコート層、防眩層、反射防止層）
（２２−２１−２３：視認側偏光板）
２１：偏光子
２２：ＴＡＣ１：液晶セル側保護膜
２３：ＴＡＣ２：液晶セルとは反対側の保護膜
（３２−３１−３３：バックライト側偏光板）
３１：偏光子
３２：ＴＡＣ３：液晶セル側保護膜
３３：ＴＡＣ２：液晶セルとは反対側の保護膜
４０：ＶＡモード液晶セル
５０：視認側
６０：バックライト側

Claims (22)

1. 表面エネルギーが４５ｍN／ｍ以上のポリマー層A上に、表面エネルギーが２０ｍN／ｍ以上４５ｍN／ｍ未満の層Bが形成されていることを特徴とするポリマーフィルム。
2. 表面エネルギーが２０ｍN／ｍ以上４５ｍN／ｍ未満の層Bの厚みが５μｍ以下であることを特徴とする請求項１記載のポリマーフィルム。
3. 表面エネルギーが４５ｍN／ｍ以上のポリマー層A上に、表面エネルギーが２０ｍN／ｍ以上４５ｍN／ｍ未満の層Bが形成されているポリマーフィルムであって、表面エネルギーが４５ｍN／ｍ以上のポリマー層Aの表面エネルギーの分散力成分γ_A ^d、極性力成分γ_A ^p、表面エネルギーが２０ｍN／ｍ以上４５ｍN／ｍ未満の層Bの表面エネルギーの分散力成分γ_B ^d、極性力成分γ_B ^pがそれぞれ下記式（１）〜（４）を満たすことを特徴とする請求項１又は２に記載のポリマーフィルム。
   式（１） γ_A ^d≧３０ｍN／ｍ
   式（２） γ_A ^p≧１０ｍN／ｍ
   式（３） γ_B ^d＜３５ｍN／ｍ
   式（４） γ_B ^p＜１５ｍN／ｍ
4. 上記ポリマー層Aの表面エネルギーが５０ｍN／ｍ以上７５ｍN／ｍ以下であることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載のポリマーフィルム。
5. 表面エネルギーが２０ｍN／ｍ以上４５ｍN／ｍ未満の層Bが形成されている面と反対の面にさらに表面エネルギーが５０ｍN／ｍ以上７５ｍN／ｍ以下の層Cが形成されていることを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載のポリマーフィルム。
6. 表面エネルギーが５０ｍN／ｍ以上７５ｍN／ｍ以下の層Cの表面エネルギーの分散力成分γ_C ^d、極性力成分γ_C ^pがそれぞれ下記式（５）、（６）を満たすことを特徴とする請求項４に記載のポリマーフィルム。
   式（５） γ_C ^d≧３０ｍN／ｍ
   式（６） γ_C ^p≧２０ｍN／ｍ
7. 上記層B 上に光学機能層を塗布により形成したポリマーフィルムであって、層Bが有する表面エネルギーγ_Bと該光学機能層の塗布液の溶剤の表面張力γ_Lが下記式（７）を満足することを特徴とする請求項１〜６のいずれかに記載のポリマーフィルム。
   式（７） γ_L≦γ_B≦γ_L＋10
8. 上記層B上に光学機能層を塗布により形成したポリマーフィルムであって、層Ｂが有する表面エネルギーγ_Bと該光学機能層を形成するポリマー成分の表面エネルギーγ_Pが下記式（８）を満足することを特徴とする請求項１〜７のいずれかに記載のポリマーフィルム。
   式（８） γ_P−10≦γ_B≦γ_P＋10
9. 上記層B上および層Cが共流延で形成されたことを特徴とする請求項１〜８のいずれかに記載のポリマーフィルム。
10. ポリマーフィルムAポリマー層Aが、セルロースの水酸基がアセチル基及び炭素原子数３以上のアシル基で置換された、セルロースの混合脂肪酸エステルであるセルロースアシレートを主たるポリマー成分とするセルロースアシレートフィルムであって、該セルロースアシレートのアセチル基の置換度Ａと、炭素原子数が３以上のアシル基の置換度Ｂとが下記数式（９）、（１０）を満たすことを特徴とする請求項１〜９項のいずれかに記載のポリマーフィルム。
    数式（９）：２．５≦Ａ＋Ｂ＜２．９５
    数式（１０）：０≦Ｂ
    （ただし、本明細書においては、式（１０）が等号の場合のアシル置換エステルも混合脂肪酸エステルに含まれるものとする。）
11. 上記層Bが、セルロースの水酸基がアセチル基及び炭素原子数３以上のアシル基で置換された、セルロースの混合脂肪酸エステルであるセルロースアシレートを主たるポリマー成分とするセルロースアシレートフィルムであって、該セルロースアシレートのアセチル基の置換度Ａと、炭素原子数が３以上のアシル基の置換度Ｂとが下記数式（１１）、（１２）を満たすことを特徴とする請求項１〜１０のいずれかに記載のポリマーフィルム。
    数式（１１）：２．９５≦Ａ＋Ｂ＜３．０
    数式（１２）：０≦Ｂ≦０．５
    （ただし、本明細書においては、式（１２）が等号の場合のアシル置換エステルも混合脂肪酸エステルに含まれるものとする。）
12. 上記層Bが、セルロースの水酸基がアセチル基及び炭素原子数３以上のアシル基で置換された、セルロースの混合脂肪酸エステルであるセルロースアシレートを主たるポリマー成分とするセルロースアシレートフィルムであって、該セルロースアシレートのアセチル基の置換度Ａと、炭素原子数が３以上のアシル基の置換度Ｂとが下記数式（１３）、（１４）を満たすことを特徴とする請求項１〜１１のいずれかに記載のポリマーフィルム。
    数式（１３）：２．５≦Ａ＋Ｂ＜３．０
    数式（１４）：０．５＜Ｂ
13. 上記層Bが、（メタ）アクリル酸エステルポリマーまたはビニルエステルポリマーの炭素原子数が２以上の置換基を有するポリマーからなることを特徴とする請求項１〜１２のいずれかに記載のポリマーフィルム。
14. 上記層Cが、セルロースの水酸基がアセチル基及び炭素原子数３以上のアシル基で置換された、セルロースの混合脂肪酸エステルであるセルロースアシレートを主たるポリマー成分とするセルロースアシレートフィルムであって、該セルロースアシレートのアセチル基の置換度Ａと、炭素原子数が３以上のアシル基の置換度Ｂとが下記数式（１５）、（１６）を満たすことを特徴とする請求項１〜１３のいずれかに記載のポリマーフィルム。
    数式（１５）：０．５≦Ａ＋Ｂ＜２．２
    数式（１６）：０≦Ｂ
    （ただし、本明細書においては、式（１６）が等号の場合のアシル置換エステルも混合脂肪酸エステルに含まれるものとする。）
15. ポリマーフィルムの厚みムラがピッチ５ｍｍ以上、高さ３μｍ以下であることを特徴とする請求項１〜１４のいずれかに記載のポリマーフィルム。
16. ポリマーフィルムの厚みムラの傾斜が０．３μｍ／ｍｍ以下であることを特徴とする請求項１〜１５のいずれかに記載のポリマーフィルム。
17. ポリマーフィルムが延伸フィルムであることを特徴とする請求項１〜１６のいずれかに記載のポリマーフィルム。
18. ポリマーフィルムが溶液流延により製膜されたものであり、支持体から剥離されるときの残留溶剤量が１００質量％以下であることを特徴とする請求項１〜１７のいずれかに記載の光学フィルム。
19. 光学機能層とポリマーフィルムの密着がJIS K５６００−５−６に定められたクロスカットセロテープ剥離試験で２点以下であることを特徴とする請求項１〜１８のいずれかに記載のポリマーフィルム。
20. 光学機能層が反射防止層、防眩層、ハードコート層、光学異方層のうちのいずれか、または前記のこれらの複数層が積層された層であることを特徴とする請求項１〜１９のいずれかに記載のポリマーフィルム。
21. 偏光子を保護フィルムで狭持してなる偏光板であって、保護フィルムの少なくとも一方が請求項２０に記載のポリマーフィルムであることを特徴とする偏光板。
22. 液晶セルの少なくとも一方に偏光板を配置してなる液晶表示装置であって、偏光板のうち少なくとも一枚が請求項２１記載の偏光板であることを特徴とする液晶表示装置。

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