JP2014209138A - 光学積層体 - Google Patents

Abstract

【課題】透明性と基材密着性に優れたハードコート層と反射防止層を備え、微細な表面凹凸を付与すると共に優れた光透過特性を有する光学積層体を提供する。
【解決手段】透明基材の少なくとも片面に、１分子中に２個以上の（メタ）アクリロイル基をに有する多官能性モノマーから形成された電離放射線硬化型樹脂と、透明基材を溶解または膨潤させる一種類以上の溶剤と、さらに平均粒子径１０ｎｍから２００ｎｍまでの範囲にある微粒子及び層状粘土鉱物により混合調液された塗布液を用いて形成されるハードコート層と、低屈折率層を順次積層されている、光学積層体。
【選択図】図１

Description

本明細書の開示内容は、優れたハードコート層と反射防止層を備え、透明性、密着性及び貼りつき抑制に優れる光学積層体に関するものである。

液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、陰極線管（ＣＲＴ）ディスプレイまたはプラズマデイスプレイパネル等の一般のディスプレイは、室内外での使用を問わず、外光などが入射する環境下で使用される。この外光等の入射光は、ディスプレイ表面等において正反射され、それによる反射像が表示画像と混合することにより、画面表示品質を低下させてしまう。そのため、ディスプレイ表面等に反射防止機能を付与することは必須であり、反射防止機能の高性能化、反射防止機能以外の機能の複合化が求められている。

一般に反射防止機能は、透明基材上に金属酸化物等の透明材料からなる高屈折率層と低屈折率層の繰り返し構造による多層構造の反射防止層を形成することで得られる。これらの多層構造からなる反射防止層は、化学蒸着（ＣＶＤ）法や、物理蒸着（ＰＶＤ）法といった乾式成膜法（ドライコーティング法）により形成することができる。乾式成膜法を用いて反射防止層を形成する場合、低屈折率層、高屈折率層の膜厚を精密に制御できるという利点がある一方、成膜を真空中でおこなうため、生産性が低く、大量生産に適していないという問題を抱えている。一方、反射防止層の形成方法として、大面積化、連続生産、低コスト化が可能である塗液を用いた湿式成膜法（ウェットコーティング法）による反射防止フィルムの生産も注目されている。

これらの反射防止層が透明基材上に設けられている場合には、その表面が比較的柔軟であることから、表面硬度を付与するために、一般にアクリル多官能化合物の重合体からなるハードコート層を設け、その上に反射防止層を形成するという手法が用いられている。このハードコート層はアクリル樹脂の特性により、高い表面硬度、光沢性、透明性、耐擦傷性を有する。

このような光学積層体は、先に述べたウェットコーティング法により透明基材上にハードコート層、反射防止層が積層されて製造される。この光学積層体はロール状に巻き取られて後続の工程の原反として使用され、他の光学特性層の形成または最終製品であるディスプレイ用製品として利用される。

このように光学積層体がロール状の原反とされた場合、光学積層体同士が密着し貼り付いた状態となり剥れ難くなることがしばしば見受けられた。このため、後続の工程における処理または最終製品として利用する際に、取り扱いが不便なことがあった。

そのような貼りつきを防ぐために、従来から多くの提案がなされている。例えば、光学積層体の巻き取りの際に、中間紙、サイドテープを挟む方法、または粉体、滑剤等を施す方法等が挙げられる。しかし、このような方法を用いる場合、その方法によって付与されたもの（中間紙、サイドテープ、粉体、滑剤など）を、後続の工程における光学積層体の利用時に排除しなければならず、また取り扱い上不便である。

また、他の方法として光学積層体の表面に微細な凹凸形状を形成することが知られている。 光学積層体の表面に微細な凹凸形状を付与する方法としては、例えば、ハードコート層に粒子を添加する方法が知られている（例えば、特許文献１参照）。このような粒子を添加することで凹凸形状を表面に付与する方法では、比較的大きな凹凸形状が形成されること、及び、内部散乱が生じること等により、光学積層体の貼り付きを防ぐことが可能である。しかし、ヘイズが付与されて透明性が低下するため、所望の光透過性等の光学特性を有する光学積層体を得ることが困難であった。

一方、例えば、特許文献２では、光透過性基材とその光透過性基材の上に形成された１種又は２種以上の光学特性層とを備える光学積層体であって、光学特性層が形成された光透過性基材の表面との反対の面に、有機溶剤により凹凸形状が形成されることによって、光学積層体同士が互いに貼り付くのを抑制した光学積層体が開示されている。

しかしながら、有機溶剤により表面に凹凸形状を形成する方法においては、基材上にハードコート層を形成した後に基材表面に凹凸形状を形成するため、製造工程が煩雑であった。

また、例えば、特許文献３では、透過性基材のハードコート層表面に凹凸形状を形成する方法も提案されている。しかしながら、この方法では透過性基材、溶剤による被膜成分中の層分離を利用して表面凹凸を形成しているため、使用可能な基材、材料が限定されてしまい、汎用性に乏しい方法である。

さらに、光学積層体の透明性を維持しつつ、貼りつきを抑制するために十分な表面凹凸形状を形成させる一手段として、塗布液の粘度を高めてハードコート層表面での微粒子凝集を促進させることで表面凹凸を大きくする方法が考えられる。

塗布液の粘度を上昇させるためにはポリマー等の増粘剤を添加することが知られているが、単に塗布液の粘度を高めることは、塗膜のレベリング性を悪化させ、塗布時にスジが発生することにつながる。そこで、層状粘土鉱物の特徴であるチキソトロピー性による高粘度化と微粒子の沈降防止により、ハードコート層表面に微粒子が凝集し微細な表面凹凸を形成することが可能となる。

特許第４６４１８２９号公報 特開第２００６−９５８７２号公報 特開第２０１０−６０６４３号公報

本明細書の開示内容は、上記現状に鑑みて、微細な表面凹凸を付与するとともに、優れた光透過性等の光学特性を有する光学積層体を提供することを目的とする。

上述の課題は、例えば、以下の手段によって解決できる。すなわち、一態様において、透明基材の少なくとも片面に、ハードコート層と、低屈折率層が順次積層されている光学積層体が提供される。このハードコート層は、２個以上の（メタ）アクリロイル基を１分子中に有する多官能性モノマーを含有する電離放射線硬化型樹脂と、透明基材を溶解または膨潤させる一種類以上の溶剤と、平均粒子径８ｎｍから１００ｎｍまでの範囲にある微粒子と、層状粘土鉱物とを混合することにより調製された塗布液を用いて形成される。

また、例示的な実施形態において、上述の光学積層体は、その表面の表面粗さＲａを１０ｎｍから１００ｎｍまでの範囲内としてもよい。

さらに、この例示的な実施形態における上述のハードコート層を形成するための塗布液は、上述の電離放射線硬化型樹脂１００重量部に対し、その層状粘土鉱物が０．１重量部から３０重量部までの範囲内となるように、当該電離放射線硬化型樹脂および層状粘土鉱物を含み、当該層状粘土鉱物が合成スメクタイトからなるようにしてもよい。

また、上述したような光学積層体のいずれも、上記ハードコート層を形成するための塗布液は、電離放射線硬化型樹脂１００重量部に対し、その微粒子が０．１重量部から１０重量部までの範囲内であるように、当該電離放射線硬化型樹脂および微粒子を含み、当該微粒子が有機微粒子または無機微粒子であるようにしてもよい。

また、上述したような光学積層体のいずれも、上記ハードコート層において、電離放射線硬化型樹脂が、ウレタン（メタ）アクリレートモノマーおよび／またはオリゴマーにより形成される。

また、上述したような光学積層体のいずれも、上記溶剤が、酢酸メチル、酢酸エチル、メチルエチルケトン、アセチルアセトン、アセトン、シクロヘキサノンのうち少なくとも１種類からなり、上記溶剤が電離放射線硬化型樹脂１００重量部に対し、５０重量部から１５０重量部の範囲内であるようにしてもよい。

また、上述したような光学積層体のいずれも、上記低屈折率層が、少なくとも２個以上の（メタ）アクリロイル基を１分子中に含有する多官能性モノマーと、低屈折率微粒子を含有している塗布液を用いて形成され、低屈折率層の屈折率が１．３以上１．５以下の範囲内であるようにしてもよい。

また、上述したような光学積層体のいずれも、上記透明基材が、セルロース系フィルムであるようにしてもよい。

別の態様において、反射防止性偏光板が、提供される。この反射防止性偏光板は、上述した光学積層体のいずれかと、当該光学積層体の低屈折率層非形成面に第１の偏光板を備える。

さらに別の態様において、透過型液晶ディスプレイが、提供される。この透過型液晶ディスプレイは、観察者側から順に、前述の反射防止性偏光板と、液晶セル、第２の偏光板、バックライトユニットをこの順に備え、当該反射防止性偏光板の低屈折率層が形成されている前記透明基材の面と反対側の面に液晶セルを保持している。

本明細書に開示される光学積層体などは、従来型よりも優れた特性を提供し得る。例えば、従来の光学積層体などでは、ハードコート剤が微粒子等の添加により表面凹凸を付与させていたが、微粒子の添加による透過率低下、濁度上昇が避けられない。これに対し、層状粘土鉱物と微粒子を組み合わせることで微細な表面凹凸の形成を進行させて、貼りつきの抑制と透明性に優れた光学積層体が、本明細書では提供される。

図１は、例示的な実施形態に係る光学積層体の断面模式図である。 図２は、例示的な実施形態に係る光学積層体を備えた反射防止性偏光板である。 図３は、例示的な実施形態に係る反射防止フィルムを備える透過型液晶ディスプレイである。

以下、本明細書で開示される光学積層体の例示的な実施形態について、添付の図面を参照しつつ説明する。

図１は、例示的な実施形態に係る光学積層体の断面模式図である。

例示的な実施形態において、透明基材（１１）の少なくとも片面に、ハードコート層（１２）、低屈折率層（１３）を順次積層した光学積層体が提供される。このハードコート層は、２個以上の（メタ）アクリロイル基を１分子中に含有する多官能性モノマー（多官能性オリゴマーを含む）を主成分とする電離放射線硬化型樹脂（１２１）、透明基材（１１）を溶解または膨潤させる一種類以上の溶剤と、平均粒子径８ｎｍから１００ｎｍまでの範囲にある微粒子と、層状粘土鉱物とを混合することにより調製された塗液を用いて形成される。

さらに、低屈折率層（１３）が２個以上の（メタ）アクリロイル基を１分子中に含有する多官能性モノマーを主成分とした低屈折率層形成用樹脂（１３１）により構成されることも可能である。これにより、優れたハードコート層（１２）と低屈折率層（１３）とを備え、微細な表面凹凸を有し、透明性及び密着性に優れる光学積層体（１）が提供される。

例示的な実施形態で使用される透明基材（１１）としては、トリアセチルセルロースフィルム等のセルロース系フィルムが挙げられる。このセルロース系フィルムは、複屈折が少なく、透明性、屈折率、分散などの光学特性、さらには耐衝撃性、耐熱性、耐久性などの諸物性の点に優れており、更に溶剤によって容易に溶解または膨潤する。そのため、セルロース系フィルムは、本明細書で開示される光学積層体に使用される場合、他のフィルムよりも好ましい。

上述のような透明基材（１１）には、各種安定剤、紫外線吸収剤、可塑剤、滑剤、着色剤、酸化防止剤、難燃剤等が添加されていても良い。また、透明基材の厚さは特に限定されるものではないが、２０μｍ以上２００μｍ以下が好ましい。さらに透明基材がトリアセチルセルロースフィルムである場合には、その厚さは、３８μｍ以上８０μｍ以下が好ましい。

例示的な実施形態で使用される電離放射線硬化型樹脂（１２１）とは、紫外線硬化型樹脂、電子線硬化型樹脂も包含するものであって、２個以上の（メタ）アクリロイル基を１分子中に含有する多官能性モノマーを主成分とする。

多官能性モノマーとしては、１，４‐ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコール（メタ）アクリレート、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、３−メチルペンタンジオールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールビスβ‐（メタ）アクリロイルオキシプロピネート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、トリ（２−ヒドロキシエチル）イソシアネートジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、２，３‐ビス（メタ）アクリロイルオキシエチルオキシメチル［２．２．１］ヘプタン、ポリ１，２−ブタジエンジ（メタ）アクリレート、１，２−ビス（メタ）アクリロイルオキシメチルヘキサン、ノナエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラデカンエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、１０−デカンジオール（メタ）アクリレート、３，８−ビス（メタ）アクリロイルオキシメチルトリシクロ［５．２．１０］デカン、水素添加ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、２，２−ビス（４−（メタ）アクリロイルオキシジエトキシフェニル）プロパン、１，４−ビス（（メタ）アクリロイルオキシメチル）シクロヘキサン、ヒドロキシピバリンサンエステルネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡジグリシジルエーテルジ（メタ）アクリレート、エポキシ変性ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート等を挙げることができる。多官能モノマーは、単独で使用しても良いし、２種類以上を併用しても良い。また、必要で有れば単官能モノマーと併用して共重合させることもできる。

また、一実施形態において、好ましい多官能性モノマーとしては、ウレタンアクリレートも挙げられ、一般にポリエステルポリオールにイソシアネートモノマー、もしくはプレポリマーを反応させて得られた生成物に水酸基を有するアクリレートモノマーを反応させ容易に形成されるものを挙げることができる。

具体的な例としては、ペンタエリスリトールトリアクリレートヘキサメチレンジイソシアネートウレタンプレポリマー、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートヘキサメチレンジイソシアネートウレタンプレポリマー、ペンタエリスリトールトリアクリレートトルエンジイソシアネートウレタンプレポリマー、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートトルエンジイソシアネートウレタンプレポリマー、ペンタエリスリトールトリアクリレートイソホロンジイソシアネートウレタンプレポリマー、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートイソホロンジイソシアネートウレタンプレポリマーなどを用いることができる。また、これらの単量体は、１種または２種以上を混合して使用することができる。また、これらは塗液においてモノマーであってもよいし、一部が重合したオリゴマーであってもかまわない。

光重合開始剤としては、例えば、２，２−エトキシアセトフェノン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、ジベンゾイル、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ｐ−クロロベンゾフェノン、ｐ−メトキシベンゾフェノン、ミヒラーケトン、アセトフェノン、２−クロロチオキサントン等が挙げられる。これらを単独、もしくは２種類以上合わせて用いても良い。

光増感剤としては、トリエチルアミン、トリエタノールアミン、２−ジメチルアミノエタノール等の３級アミン、トリフェニルホスフィン等のアルキルフォスフィン系、β−チオジグリコール等のチオエーテル系を挙げられる。これらを１種類あるいは２種類以上を混合して使用することもできる。

さらに、性能改良のため、消泡剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤、重合禁止剤等を含有することもできる。

例示的な実施形態において使用することができるハードコート層に添加する微粒子としては、各種金属酸化物、ガラス、プラスティックなどの透明性を有するものが挙げられるが、これらに限定されない。使用される微粒子としては、例えば、シリカやジルコニア、チタニア、酸化カルシウム等の金属酸化物や導電性を有するアルミナ、酸化錫、酸化インジウム、酸化アンチモン等の無機系導電性微粒子、ポリメチルメタクリレート、ポリスチレン、ポリウレタン、アクリル−スチレン共重合体、メラミン、ポリカーボネート等の各種ポリマーからなる架橋または未架橋の有機系微粒子やシリコーン系微粒子などが挙げられる。なお、これらの形状は特に制限されずビーズ状の球形であってもよく、粉末等の不定形のものであってもよいが、球状のものが好ましく、特に真球状のものであることが好ましい。これらの微粒子は１種または２種以上を適宜に選択して用いることが出来る。

微粒子の平均粒子径は８ｎｍから１００ｎｍまでの範囲にある。平均粒子径が８ｎｍ未満の場合には、十分な凹凸形状を形成することができず、貼りつきの抑制に十分でない。一方、平均粒子径が１００ｎｍ以上の場合には、ハードコート層内での光散乱が発生してしまい、透過率が低下する。微粒子の割合は、微粒子の平均粒子径、ハードコート層の厚さ等を考慮して適宜に決定されるが、樹脂１００重量部に対して、０．１重量部から１０重量部までとするのが好ましい。
本明細書中の微粒子の平均粒子径は、動的光散乱法により測定される微粒子の平均粒子径であり、粒径分布を累積分布で表したときの５０％粒径（ｄ５０ メジアン径）であり、好ましくは８ｎｍ以上から１００ｎｍ以下である。前記の動的光散乱法による平均粒子径は、例えば、市販の米国Ｍｉｃｒｏｔｒａｃ社製のＮａｎｏｔｒａｃ ＵＰＡ−ＥＸ１５０と呼ばれる装置により測定できる。

ハードコート層に添加する層状粘土鉱物としては、例えば、カオリナイト、スメクタイト、タルク、有機処理雲母、ベントナイト、モンモリロナイトが挙げられる。特に有機溶剤への溶解性、分散性が良好であるため、親油性合成スメクタイトが、使用する層状粘土鉱物として好ましい。具体的には、ルーセンタイトシリーズ（コープケミカル株式会社）などが挙げられる。層状粘土鉱物の配合量は、塗布液の粘度特性などに応じて適宜に決定し得る。一般的には、塗工性、塗膜平滑性などの点より、樹脂１００重量部に対して、０．１から３０までの重量部とするのが好ましく、１から２０までの重量部とするのが特に好ましい。

ハードコート層（１２）の形成方法としては、ウェットコーティング法などにより透明基材の少なくとも片面に塗布することにより形成することができる。このウェットコーティング法としては、以下のもの挙げられるがこれらに限定されない：ディップコーティング法、スピンコーティング法、フローコーティング法、スプレーコーティング法、ロールコーティング法、グラビアロールコーティング法、エアドクターコーティング法、プレードコーティング法、ワイヤードクターコーティング法、ナイフコーティング法、リバースコーティング法、トランスファロールコーティング法、マイクログラビアコーティング法、キスコーティング法、キャストコーティング法、スロットオリフィスコーティング法、カレンダーコーティング法、ダイコーティング法。特に薄く、均一に層を形成する必要性があることより、マイクログラビアコーティング法を用いることが好ましい。また、厚い層を構成する必要が生じた場合には、ダイコーティング法を用いることも可能である。

ハードコート層（１２）を形成する際の硬化方法としては、例えば、紫外線照射、加熱等を用いることができる。紫外線照射の場合、高圧水銀ランプ、ハロゲンランプ、キセノンランプ等を使用することができる。紫外線照射量は、通常１００ｍＪ／ｃｍ^２以上８００ｍＪ／ｃｍ^２以下である。

また、ハードコート層の膜厚は３μｍ以上あれば十分な強度となる。塗工精度、取扱いを考慮した場合、ハードコート層の膜厚は５μｍ以上１０μｍ以下の範囲であること好ましい。ハードコート層の膜厚が１０μｍ以上であると、硬化収縮による基材の反り、ゆがみ、基材折れが発生してしまうためである。さらに、ハードコート層の膜厚は、５μｍ以上７μｍ以下の範囲であると非常に好ましい。

例示的な実施形態において、溶剤としては、セルロース系フィルム表面を溶解または膨潤させる溶剤として、ジブチルエーテル、ジメトキシメタン、ジメトキシエタン、ジエトキシエタン、プロピレンオキシド、１，４−ジオキサン、１，３−ジオキソラン、１，３，５−トリオキサン、テトラヒドロフラン、アニソールおよびフェネトール等のエーテル類、また、アセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、ジプロピルケトン、ジイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン、およびメチルシクロヘキサノン等のケトン類、また、蟻酸エチル、蟻酸プロピル、蟻酸ｎ−ペンチル、酢酸メチル、酢酸エチル、プロピオン酸メチル、プロピオン醸エチル、酢酸ｎ−ペンチル、およびγ−プチロラクトン等のエステル類、さらにメチルセロソルブ、セロソルブ、ブチルセロソルブ、セロソルブアセテート等のセロソルブ類が挙げられる。これらを単独、もしくは２種類以上合わせて用いても良い。また、溶剤として、酢酸メチル、酢酸エチル、メチルエチルケトン、アセチルアセトン、アセトン、シクロヘキサノンのうち少なくとも１種類を用いることが好ましい。

これら溶剤は、樹脂組成物１００重量部に対して、溶剤は５０重量部から１５０重量部までの範囲になるように調液することが好ましい。

溶剤が５０重量部以下であると、塗布液の粘度が高くなり、ウェットコーティング法にて良好な塗布面を形成できなくなる。一方、溶剤が１５０重量部以上であると、所定膜厚のハードコート層を形成できなくなってしまう。

例示的な実施形態において、光学積層体（１）は、低屈折率層（１３）を有しており、ハードコート層（１２）の上に形成される。これによって光学積層体における反射防止機能等の光学特性を良好なものとすることができる。

低屈折率層（１３）は、ハードコート層（１２）よりも低い屈折率を有するものが好ましい。好ましい形態において、ハードコート層の屈折率が１．５以上であり、他方、低屈折率層の屈折率が１．５未満であり、より好ましくは１．４５以下、更に好ましくは１．３５以下である。屈折率が１．５以上であると低屈折率層（１３）とハードコート層（１２）の屈折率差が小さいために反射が高くなってしまうことから、屈折率は低い方が望ましい。

低屈折率層における低屈折率粒子（１３２）としては、例えば、空隙を有する微粒子が挙げられる。空隙を有する微粒子とは、微粒子の内部に気体が充填された構造及び／又は気体を含む多孔質構造体を形成し、微粒子本来の屈折率に比べて微粒子中の気体の占有率に反比例して屈折率が低下する微粒子である。

また、この空隙を有する微粒子は、微粒子の形態、構造、凝集状態、被膜内部での微粒子の分散状態により、その微粒子の内部及び／又は表面の少なくとも一部にナノポーラス構造の形成が可能な微粒子も含む。このような微粒子を使用した低屈折率層は、屈折率を１．３０以上１．４５以下の範囲に調節することが可能である。

このような空隙を有する無機系の微粒子としては、例えば、特開２００１−２３３６１１号公報に記載された方法によって調製された中空シリカ微粒子を挙げることができる。また、特開平７−１３３１０５号公報、特開２００２−７９６１６号公報、特開２００６−１０６７１４号公報に記載された製法によって得られる中空シリカ微粒子であってもよい。

空隙を有する中空シリカ微粒子は製造が容易でそれ自身の硬度が高いため、バインダーと混合して低屈折率層を形成した際、その層強度が向上され、かつ、屈折率を１．２０以上１．４５以下程度の範囲内に調整することを可能とする。

中空シリカ微粒子の平均粒子径は、その下限が８ｎｍであり上限が１００ｎｍであることが好ましく、その下限が１０ｎｍであり上限が８０ｎｍであることがより好ましい。

微粒子の平均粒子径がこの範囲内にあることにより、低屈折率層に優れた透明性を付与することが可能となる。中空シリカ微粒子は、上述の低屈折率層中にマトリックス樹脂１００重量部に対して、通常０．１重量部以上５００重量部以下、好ましくは１０重量部以上２００重量部以下とするのが好ましい。

低屈折率層の形成するために、低屈折率層形成用組成物を使用する。この低屈折率層形成用組成物は、低屈折率層形成用樹脂（１３１）としての２個以上の（メタ）アクリロイル基を１分子中に含有する多官能性モノマー、中空シリカ微粒子、及び必要に応じて添加剤（重合開始剤、帯電防止剤、防眩剤等）を溶剤に溶解又は分散して得られた溶液又は分散液である。この組成物を用いて塗膜を形成し、紫外線照射あるいは加熱等により硬化させることで、低屈折率層を得ることができる。なお、重合開始剤、帯電防止剤、防眩剤等の添加剤は、公知のものを使用することができる。

上述の低屈折率層形成用樹脂である、２個以上の（メタ）アクリロイル基を１分子中に含有する多官能性モノマーとしては、上述のハードコート層を形成するときに用いた電離放射線硬化型樹脂として記載した樹脂などを使用することができる。

低屈折率層（１３）は、通常、上述の樹脂などを揮発性溶剤に希釈して得られた低屈折率層形成用組成物を塗布することにより形成される。希釈溶剤として用いられるものは、その組成物の安定性、ハードコート層に対する濡れ性、揮発性などを考慮して決定される。このような希釈溶剤としては、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、２−メトキシエタノール等のアルコール類、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチル等のケトン類、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類、ジイソプロピルエーテル等のエーテル類、エチレングリコール、プロピレングリコール、へキシレングリコール等のグリコール類、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、エチルカルビトール、ブチルカルビトール等のグリコールエーテル類、ヘキサン、ヘプタン、オクタン等の脂肪族炭化水素類、ハロゲン化炭化水素、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素、Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルホルムアミド等が挙げられるが、これらに限定されない。これらを単独、もしくは２種類以上合わせて用いても良い。好ましい希釈溶剤の例としては、中でも、メチルイソブチルケトン、メチルエチルケトン、イソプロピルアルコール（ＩＰＡ）、ｎ−ブタノール、ｓ−ブタノール、ｔ−ブタノール、ＰＧＭＥ、ＰＧＭＥＡが挙げられるが、これらに限定されない。また、上述の組成物の調製は、その成分を均一に混合できれば十分であるため、公知の方法に従って実施することが可能であり、また、公知の装置を使用して混合分散することができる。

低屈折率層は、前述したウェットコーティング法により表面処理を行ったハードコート層上に塗工され、加熱乾燥により塗膜中の溶剤を揮発させ、その後、加熱、紫外線照射、電子線照射等を行い塗膜を硬化させる。また、低屈折率層の形成は、上述のハードコート層の形成方法と同様にマイクログラビアコーティング法を用いると好ましい。

なお、低屈折率層を形成するときの膜厚ｄＡ（ｎｍ）は、以下の式（１）を満たすものが好ましい：
ｄＡ＝ｍλ／（４ｎＡ） （１）
（式（１）中、ｎＡは低屈折率層の屈折率を表し、ｍは正の奇数を表し、好ましくは１を表し、λは好ましくは４８０〜５８０ｎｍの範囲の値である）

図２を参照しつつ、一実施形態における、光学積層体（１）を用いた反射防止性偏光板（２１０）について説明する。

図２に示されるように、反射防止性偏光板（２１０）は、光学積層体（１）と、第１の偏光層（２３）と、第２の透明基材（２２）とをこの順に備えた反射防止性偏光板である。ここで、光学積層体（１）は、第１の透明基材（１１）と、その基材の一方の面にハードコート層（１２）と、低屈折率層（１３）とをこの順に備えている。そして、反射防止性偏光板（２１０）は、第１の透明基材（１１）の低屈折率層（１３）が設けられた面とは反対側の面に、上述の第１の偏光層（２３）を備えている。

別の態様において、光学積層体（１）は、ディスプレイ部材、画像装置の一部として用いることができる。

図３を参照しつつ、光学積層体（１）を用いた透過型液晶ディスプレイの構成例について説明する。

図３（ａ）に示されるように、一実施形態において、透過型液晶ディスプレイは、光学積層体（１）と第１の偏光板（２）を有する反射防止性偏光板（２００）と、液晶セル（３）と、第２の偏光板（４）と、バックライトユニット（５）をこの順に備えている。上述の光学積層体（１）は、第１の透明基材（１１）と、その基材の一方の面にハードコート層（１２）と、低屈折率層（１３）とをこの順に備えている。そして、反射防止性偏光板（２００）は、第１の透明基材（１１）の低屈折率層（１３）等が設けられた面とは反対側の面に、上述の第１の偏光板（２）を備えている。このとき、光学積層体（１）側が観察側すなわちディスプレイ表面となる。

すなわち、図３（ａ）に示されるように、本実施形態において、光学積層体（１）の透明基材（１１）と第１の偏光板（２）の透明基材（２１、２２）を別々に備える透過型液晶ディスプレイが提供される。

バックライトユニット（５）は、光源と光拡散板を備える。液晶セル（３）は、一方の透明基材に電極が設けられ、もう一方の透明基材に電極及びカラーフィルターを備えており、両電極間に液晶が封入された構造となっている。液晶セル（３）を挟むように設けられる第１の偏光板（２）および第２の偏光板（４）の各々は、透明基材（２１、２２、４１、４２）間に偏光層（２３、４３）を挟持した構造を有している。

また、図３（ｂ）に示されるように、別の実施形態において、透過型液晶ディスプレイは、光学積層体（１）と偏光層（２３）を有する反射防止性偏光板（２１０）、液晶セル（３）、第２の偏光板（４）、バックライトユニット（５）をこの順に備える。ここで、反射防止性偏光板（２１０）は、光学積層体（１）と、偏光層（２３）と、透明基材（２２）をこの順に備えている。当該光学積層体（１）は、第１の透明基材（１１）と、その基材の一方の面にハードコート層（１２）と、低屈折率層（１３）とをこの順に備えている。そして、反射防止性偏光板（２１０）は、第１の透明基材（１１）の低屈折率層（１３）等が設けられた面とは反対側の面に、上述の第１の偏光層（２３）を備えている。このとき、光学積層体（１）の低屈折率層（１３）側が観察側すなわちディスプレイ表面となる。

すなわち、図３（ｂ）に示されるように、本実施形態において、光学積層体（１）の反射防止層が設けられた面とは反対側の面に、第１の偏光層（２３）と透明基材（２２）をこの順に備えた反射防止性偏光板（２１０）を、「第１の偏光板」として備えた透過型液晶ディスプレイが提供される。

図３（ｂ）においても、図３（ａ）と同様に、バックライトユニット（５）は、光源と光拡散板を備える。液晶セル（３）は、一方の透明基材に電極が設けられ、もう一方の透明基材に電極及びカラーフィルターを備えており、両電極間に液晶が封入された構造となっている。液晶セル（３）を挟むように設けられる上述の「第１の偏光板」および第２の偏光板（４）の各々は、透明基材（１１、２２、４１、４２）間に偏光層（２３、４３）を挟持した構造を有している。

また、別の実施形態においては、透過型液晶ディスプレイは、他の機能性部材を備えても良い。透過型液晶ディスプレイのため他の機能性部材としては、例えば、バックライトから発せられる光を有効に使うための、拡散フィルム、プリズムシート、輝度向上フィルムや、液晶セルや偏光板の位相差を補償するための位相差フィルムが挙げられるが、これらに限定されるものではない。

以上のように、本明細書で開示される光学積層体を用いて、透過型液晶ディスプレイが製造され得る。

以下、具体的な実施例について詳細に説明するが、当該実施例は例示目的をするものであり、本明細書で開示内容は、当該実施例に限定されることを意図するものではない。

（実施例１）
図１から図３までに示されるように、第１の透明基材（１１）としては、厚さ８０μｍのトリアセチルセルロースフィルムを用意した。

第１の透明基材（１１）上に、後述のハードコート層用調製物を撹拌混合して得られた塗布液を、バーコーティング法により乾燥後の膜厚が６μｍになるように塗布、乾燥させ、高圧水銀灯により６００ｍＪ／ｃｍ^２の紫外線を照射し、ハードコート層を形成した。

上述のハードコート層用調製物は、以下の組成に従い調製した。
＜ハードコート層用調製物＞
・ウレタンアクリレート（ＵＶ−１７００Ｂ 日本合成化学社製） １００重量部
・微粒子（コロイダルシリカ ＭＥＫ−ＳＴ−Ｌ
［メチルエチルケトン（ＭＥＫ）分散シリカゾル］
平均粒子径４０ｎｍ ３０％ＭＥＫ溶液 日産化学工業社製）
１０重量部
（固形分換算：３重量部）
・光重合開始剤（イルガキュアー１８４ ＢＡＳＦ社製） ５．０重量部
・溶剤（メチルエチルケトン） １００重量部
・層状粘土鉱物（ルーセンタイトＳＴＮ コープケミカル社製） ２．０重量部

上記ハードコート層の上に、低屈折率層用調製物を撹拌混合して得られた塗布液を塗布した後、温度５０℃の熱オーブン中で６０秒間乾燥し、塗膜中の溶剤を蒸発させ、紫外線を積算光量が３００ｍＪになるように照射して塗膜を硬化させることにより、０．２ｇ／ｃｍ^２（乾燥時）の低屈折率層を形成させて、光学積層体を作製した。

上述の低屈折率層用調製物は、以下の組成に従い調製した。
＜低屈折率層用調製物＞
・中空シリカ微粒子（このシリカ微粒子の固形分は２０重量％溶液；メチルイソブチルケトン、粒子径５０ナノメートル） ７０重量部
・ペンタエリスリトールトリアクリレート（ＰＥＴＡ） ３０重量部
・光重合開始剤（イルガキュアー１２７ ＢＡＳＦ社製） ３．０重量部
・メチルイソブチルケトン ５０重量部
・プロピレングリコールモノメチルエーテル（ＰＧＭＥ） ５０重量部

（実施例２）
実施例１のハードコート層用調製物の代わりに、以下の組成を有するハードコート層用調製物を用いること以外は、実施例１と同様の操作により、ハードコート層を形成した。
＜ハードコート層用調製物＞
・ウレタンアクリレート（ＵＶ−１７００Ｂ 日本合成化学社製） １００重量部
・微粒子（コロイダルシリカ ＭＩＢＫ−ＳＴ−Ｌ
［メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）分散シリカゾル］
平均粒子径１０ｎｍ ３０％ＭＩＢＫ溶液 日産化学工業社製） １０重量部
・光重合開始剤（イルガキュアー１８４ ＢＡＳＦ社製） ５．０重量部
・溶剤（メチルエチルケトン） １００重量部
・層状粘土鉱物（ルーセンタイトＳＴＮ コープケミカル社製） ２．０重量部
さらに、低屈折率層を、実施例１と同様に形成して、光学積層体を作製した。

（実施例３）
実施例１のハードコート層用調製物の代わりに、以下の組成を有するハードコート層用調製物を用いること以外は、実施例１と同様の操作により、ハードコート層を形成した。
＜ハードコート層用調製物＞
・ウレタンアクリレート（ＵＶ−１７００Ｂ 日本合成化学社製） １００重量部
・微粒子（コロイダルシリカ ＭＥＫ−ＳＴ−Ｌ
平均粒子径４０ｎｍ ３０％ＭＥＫ溶液 日産化学工業社製）
１０重量部
・光重合開始剤（イルガキュアー１８４ ＢＡＳＦ社製） ５．０重量部
・溶剤（メチルエチルケトン） １００重量部
・層状粘土鉱物（ルーセンタイトＳＰＮ コープケミカル社製） ２．０重量部
さらに、低屈折率層を、実施例１と同様に形成して、光学積層体を作製した。

（実施例４）
実施例１のハードコート層用調製物の代わりに、以下の組成を有するハードコート層用調製物を用いること以外は、実施例１と同様の操作により、ハードコート層を形成した。
＜ハードコート層用調製物＞
・ウレタンアクリレート（ＵＶ−１７００Ｂ 日本合成化学社製） １００重量部
・微粒子（架橋アクリル ＭＳ３００Ｋ
平均粒子径１００ｎｍ ３５％ＭＥＫ溶液 綜研化学社製）
１０重量部
・光重合開始剤（イルガキュアー１８４ ＢＡＳＦ社製） ５．０重量部
・溶剤（メチルエチルケトン） １００重量部
・層状粘土鉱物（ルーセンタイトＳＴＮ コープケミカル社製） ２．０重量部
さらに、低屈折率層を、実施例１と同様に形成して、光学積層体を作製した。

（実施例５）
実施例１のハードコート層用調製物の代わりに、以下の組成を有するハードコート層用調製物を用いること以外は、実施例１と同様の操作により、ハードコート層を形成した。
＜ハードコート層用調製物＞
・ウレタンアクリレート（ＵＡ−３０６Ｉ 共栄社化学社製） １００重量部
・微粒子（コロイダルシリカ、ＭＥＫ−ＳＴ−Ｌ
平均粒子径４０ｎｍ ３０％ＭＥＫ溶液 日産化学工業社製）
１０重量部
・光重合開始剤（イルガキュアー１８４ ＢＡＳＦ社製） ５．０重量部
・溶剤（メチルエチルケトン） １００重量部
・層状粘土鉱物（ルーセンタイトＳＴＮ コープケミカル社製） ２．０重量部
さらに、低屈折率層を、実施例１と同様に形成して、光学積層体を作製した。

（実施例６）
実施例１のハードコート層用調製物の代わりに、以下の組成を有するハードコート層用調製物を用いること以外は、実施例１と同様の操作により、ハードコート層を形成した。
＜ハードコート層用調製物＞
・ウレタンアクリレート（ＵＶ−１７００Ｂ 日本合成化学社製） １００重量部
・微粒子（コロイダルシリカ、ＭＥＫ−ＳＴ−Ｌ
平均粒子径４０ｎｍ ３０％ＭＥＫ溶液 日産化学工業社製）
１０重量部
・光重合開始剤（イルガキュアー１８４ ＢＡＳＦ社製） ５．０重量部
・溶剤（酢酸エチル） １００重量部
・層状粘土鉱物（ルーセンタイトＳＴＮ コープケミカル社製） ２．０重量部
さらに、低屈折率層を、実施例１と同様に形成して、光学積層体を作製した。

上述の実施例で得られた光学積層体の性能と比較するための比較例として比較例１、比較例２、比較例３および比較例４に示す光学積層体を作製した。

（比較例１）
実施例１のハードコート層用調製物の代わりに、以下の組成を有するハードコート層用調製物を用いること以外は、実施例１と同様の操作により、ハードコート層を形成した。
＜ハードコート層用調製物＞
・ウレタンアクリレート（ＵＶ−１７００Ｂ 日本合成化学社製） １００重量部
・微粒子（コロイダルシリカ ＭＥＫ−ＳＴ−Ｌ
平均粒子径４０ｎｍ ３０％ＭＥＫ溶液 日産化学工業社製）
１０重量部
・光重合開始剤（イルガキュアー１８４ ＢＡＳＦ社製） ５．０重量部
・溶剤（メチルエチルケトン） １００重量部
さらに、低屈折率層を、実施例１と同様に形成して、光学積層体を作製した。

（比較例２）
実施例１のハードコート層用調製物の代わりに、以下の組成を有するハードコート層用調製物を用いること以外は、実施例１と同様の操作により、ハードコート層を形成した。
＜ハードコート層用調製物＞
・ウレタンアクリレート（ＵＶ−１７００Ｂ 日本合成化学社製） １００重量部
・微粒子（コロイダルシリカ ＭＥＫ−ＳＴ−２０４０
平均粒子径２００ｎｍ ３０％ＭＥＫ溶液 日産化学工業社製）
１０重量部
・光重合開始剤（イルガキュアー１８４ ＢＡＳＦ社製） ５．０重量部
・溶剤（メチルエチルケトン） １００重量部
・層状粘土鉱物（ルーセンタイトＳＴＮ コープケミカル社製） ２．０重量部
さらに、低屈折率層を、実施例１と同様に形成して、光学積層体を作製した。

（比較例３）
実施例１のハードコート層用調製物の代わりに、以下の組成を有するハードコート層用調製物を用いること以外は、実施例１と同様の操作により、ハードコート層を形成した。
＜ハードコート層用調製物＞
・ウレタンアクリレート（ＵＶ−１７００Ｂ 日本合成化学社製） １００重量部
・光重合開始剤（イルガキュアー１８４ ＢＡＳＦ社製） ５．０重量部
・溶剤（メチルエチルケトン） １００重量部
・層状粘土鉱物（ルーセンタイトＳＴＮ コープケミカル社製） ２．０重量部
さらに、低屈折率層を、実施例１と同様に形成して、光学積層体を作製した。

（比較例４）
実施例１のハードコート層用調製物の代わりに、以下の組成を有するハードコート層用調製物を用いること以外は、実施例１と同様の操作により、ハードコート層を形成した。
＜ハードコート層用調製物＞
・ウレタンアクリレート（ＵＶ−１７００Ｂ 日本合成化学社製） １００重量部
・光重合開始剤（イルガキュアー１８４ ＢＡＳＦ社製） ５．０重量部
・溶剤（メチルイソブチルケトン） １００重量部
・層状粘土鉱物（ルーセンタイトＳＴＮ コープケミカル社製） ２．０重量部
さらに、低屈折率層を、実施例１と同様に形成して、光学積層体を作製した。

実施例１から実施例６まで、及び比較例１から比較例４までの、光学積層体の各々の性能は下記の方法に従って評価した。この評価結果については、表１に示す。

（ａ）光学特性
「反射率測定」
得られた光学積層体について、自動分光光度計（日立製作所社製、Ｕ−４０００）を用い、波長３６０〜８００ｎｍの光を入射角５°における分光反射率を測定した。なお、測定の際には透明基材であるトリアセチルセルロースフィルムのうち低屈折率層の形成されていない面につや消し黒色塗料を塗布し、反射防止の処置をおこなった。

「ヘイズ値測定」
得られた光学積層体について、写像性測定器（日本電色工業社製、ＮＤＨ−２０００）を使用して、ＪＩＳ−Ｋ７１０５−１９８１に準拠して、ヘイズ値を測定した。

「干渉縞観察」
得られた光学積層体について、透明基材であるトリアセチルセルロースフィルムのうち低屈折率層の形成されていない面につや消し黒色塗料を塗布したのち、蛍光灯（三波長蛍光灯）直下で低屈折率層表面の干渉縞を目視にて確認した。

目視にて確認した評価結果を表１に示す。表中の記号の意味は以下のとおりである。
○：色ムラが確認されない。
×：色ムラがはっきりと確認される。

（ｃ）機械強度
「耐擦傷性試験」
得られた光学積層体について、学振型摩擦堅牢度試験機（テスター産業株式会社製、ＡＢ−３０１）を用いて、光学積層体の低屈折率層表面に２５０ｇ／ｃｍ^２の荷重をかけたスチールウール（日本スチールウール社製、ボンスター＃００００）を用い、１０往復擦り、擦り跡やキズなどによる外観の変化を目視で評価した。

目視にて確認した評価結果を表１に示す。表中の記号の意味は以下のとおりである。
○：キズを確認することが出来ない。
△：１０本以下のキズを確認できる。
×：キズが多数確認できる。

「密着性試験」
得られた光学積層体について、塗料一般試験法ＪＩＳ−Ｋ５４００−１９９０の付着性試験方法（碁盤目テープ法）に準拠して、低屈折率層表面の塗膜の残存数にて評価した。

目視にて確認した評価結果を表１に示す。表中の記号の意味は以下のとおりである。
○：剥離が確認することが出来ない。
△：２０マス以下の剥離が確認できる。
×：２０マス以上の剥離が確認できる。

「鉛筆硬度試験」
得られた光学積層体について、クレメンス型引掻き硬度試験機（テスター産業株式会社製、ＨＡ−３０１）を用いて、ＪＩＳ−Ｋ５４００−１９９０に従い、光学積層体の低屈折率層表面に５００ｇの荷重をかけた硬度３Ｈの鉛筆（三菱ＵＮＩ）を用い、５本の引掻き試験を行い、キズの本数を目視で評価した。

目視にて確認した評価結果を表１に示す。表中の記号の意味は以下のとおりである。
○：キズの本数が１本以下。
×：キズの本数が２本以上。

「貼りつき性」
得られた光学積層体について、１０センチ角の光学積層体を５枚用意し、それぞれ表面と裏面とを重ね合わせて試験片とした。土台の上に試験片を置き、その上から１ｋｇ／ｃｍ^２の荷重をかけて、５０℃にて１２時間放置した。その後、貼りつき性を目視で評価した。

目視にて確認した評価結果を表１に示す。表中の記号の意味は以下のとおりである。
○：貼りつき無し。
×：貼りつき有り。

「表面粗さ」
得られた光学積層体について、非接触表面層断面計測システム（（株）菱化システム社製、Ｒ３３００Ｈ Ｌｉｔｅ）を用いて、光学積層体表面の表面粗さ（Ｒａ）を測定して求めた。

実施例１から６まで、比較例１から４までの光学積層体の性能評価結果を、以下の表１に示す。

表１から理解されるように、実施例１、実施例２、実施例３、実施例４で得られた光学積層体は、耐擦傷性に優れ、貼りつき性が抑制されたハードコート層と反射防止層を備えるものである。

これに対して、ハードコート層用調製物に層状粘土鉱物の添加していない比較例１で得られた光学積層体は、フィルム積層による貼りつきが認められた。このことから層状粘土鉱物の添加が、貼りつき性の抑制に寄与することが確認できる。さらに、ハードコート層用調製物に微粒子を添加せずに層状粘土鉱物を添加した比較例３で得られた光学積層体でも、フィルム積層による貼りつきが認められた。よって、この比較例１、比較例３で得られた光学積層体についての評価結果から、層状粘土鉱物と微粒子とを組み合わせることにより貼り付き性の抑制が発現することが確認される。また、比較例２で得られた光学積層体は、貼りつき性の抑制が良好なものの表面粗さが大きくなり、透過率の低下が認められた。

１ 光学積層体
１１ 透明基材
１２ ハードコート層
１２１ 電離放射線硬化型樹脂
１２２ 微粒子
１３ 低屈折率層
１３１ 低屈折率層形成用樹脂
１３２ 低屈折率粒子
２ 第１の偏光板
２１ 透明基材
２２ 透明基材
２３ 偏光層
２００ 反射防止性偏光板
２１０ 反射防止性偏光板
３ 液晶セル
４ 第２の偏光板
４１ 透明基材
４２ 透明基材
４３ 偏光層
５ バックライトユニット

Claims (10)

1. 透明基材の少なくとも片面に、ハードコート層と、低屈折率層が順次積層されている、光学積層体であって、
   前記ハードコート層は、
   ２個以上の（メタ）アクリロイル基を１分子中に有する多官能性モノマーを含有する電離放射線硬化型樹脂と、
   前記透明基材を溶解または膨潤させる一種類以上の溶剤と、
   平均粒子径が８ｎｍから１００ｎｍまでの範囲にある微粒子と、
   層状粘土鉱物を
   混合することで調製された塗布液を用いて形成された、
   光学積層体。
2. 表面の表面粗さＲａが１０ｎｍから１００ｎｍまでの範囲内である、請求項１に記載の光学積層体。
3. 前記ハードコート層を形成するための前記塗布液は、前記電離放射線硬化型樹脂１００重量部に対し、前記層状粘土鉱物が０．１重量部から３０重量部までの範囲内となるように、前記電離放射線硬化型樹脂および前記層状粘土鉱物を含み、当該層状粘土鉱物が合成スメクタイトからなる、請求項１または請求項２に記載の光学積層体。
4. 前記ハードコート層を形成するための前記塗布液は、前記電離放射線硬化型樹脂が１００重量部に対し、前記微粒子が０．１重量部から１０重量部までの範囲内となるように前記電離放射線型樹脂および前記微粒子を含み、当該微粒子が有機微粒子または無機微粒子である、請求項１から請求項３までのいずれかに記載の光学積層体。
5. 前記ハードコート層において、前記電離放射線硬化型樹脂が、ウレタン（メタ）アクリレートモノマーおよび／またはオリゴマーにより形成される、請求項１から請求項４までのいずれかに記載の光学積層体。
6. 前記溶剤が、酢酸メチル、酢酸エチル、メチルエチルケトン、アセチルアセトン、アセトン、シクロヘキサノンのうち少なくとも１種類からなり、前記電離放射線硬化型樹脂が１００重量部であるときに、前記前記溶剤が５０重量部から１５０重量部までの範囲内にある、請求項１から請求項５までのいずれかに記載の光学積層体。
7. 前記低屈折率層が、少なくとも２個以上の（メタ）アクリロイル基を１分子中に含有する多官能性モノマーと、低屈折率微粒子を含有している塗布液を用いて形成され、前記低屈折率層の屈折率が１．３以上１．５以下の範囲内である、請求項１から請求項６までのいずれかに記載の光学積層体。
8. 前記透明基材が、セルロース系フィルムである、請求項１から請求項７までのいずれかに記載の光学積層体。
9. 請求項１から請求項８までのいずれかに記載の光学積層体と、当該光学積層体の低屈折率層非形成面に第１の偏光板を備える、反射防止性偏光板。
10. 観察者側から順に、請求項９に記載の反射防止性偏光板と、液晶セル、第２の偏光板、バックライトユニットをこの順に備え、前記反射防止性偏光板の低屈折率層が形成されている前記透明基材の面と反対側の面に前記液晶セルを保持している、透過型液晶ディスプレイ。