JP2017177808A - ガスバリア性フィルムのベースフィルムおよびガスバリア性フィルム並びに有機ｅｌデバイス - Google Patents

Abstract

【課題】フレキシブル性の高い（折り曲げても割れない）ガスバリア性フィルムを実現するためのガスバリア性フィルムのベースフィルムを提供する。【解決手段】環状オレフィン樹脂フィルム上に硬化樹脂層（Ａ）を有するガスバリア性フィルムのベースフィルムであって、円筒形マンドレル法（ＪＩＳ Ｋ５６００−５−１：１９９９）に準拠した直径２ｍｍの円筒マンドレルを用いて行う耐屈曲性試験においてクラックが発生しないことを特徴とする、ガスバリア性フィルムのベースフィルムである。【選択図】図１

Description

本発明は、ガスバリア性が必要とされる、食品、医薬品の包装用途、太陽電池、電子ペーパー、有機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）デバイスなどの電子部材に使用されるガスバリア性フィルムのベースフィルム、およびこのベースフィルムを用いたガスバリア性フィルム、並びにこのガスバリア性フィルムを用いた有機ＥＬデバイスに関する。

ガスバリア性フィルムは、通常、基材フィルム上にガスバリア層が積層された構成となっている。ガスバリア層としては、無機酸化物、例えば、酸化アルミニウム、酸化ケイ素、酸化マグネシウム等の蒸着膜が一般的に知られている。

基材フィルムとしては、各種プラスチックフィルム、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル、ポリアミド、ポリカーボネート、ポリスチレン、ポリビニルアルコール、エチレン酢酸ビニル共重合体のケン化物、ポリアクリロニトリル、ポリアセタール等の樹脂からなるプラスチックフィルムが知られており、これらの中でもポリエチレンテレフタレートフィルムが広く用いられている。

一方、有機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）や液晶等の電子デバイスのガスバリア性フィルムとして、低リタゼーション（複屈折率が小さい）で透明性が高い環状オレフィン樹脂フィルムを基材フィルムとして使用したガスバリア性フィルムが知られている（特許文献１〜３）。

また一方では、基材フィルムとガスバリア層との密着性向上などのために、基材フィルムとガスバリア層との間に、ハードコート層を配置することが提案されている（特許文献３、４）。

特開２００７−８３６４４号公報 特開２０１３−１０２２７７号公報 特開２０１５−２４５３６号公報 特開２００６−２２４５７７号公報

今後、有機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）や液晶等の電子デバイスは、湾曲や屈曲に耐え得る高度なフレキシブル性の付与が検討され、これに使用されるガスバリア性フィルムも湾曲や屈曲に耐え得る高度なフレキシブル性が求められることが予想される。

しかし、基材フィルムとして環状オレフィン樹脂フィルムを使用し、基材フィルムとガスバリア層との間にハードコート層を配置させたガスバリア性フィルムは、折り曲げたときに基材フィルムが割れて破断するという問題があることが判明した。

従って、本発明の目的は、上述の課題に鑑み、フレキシブル性の高い（折り曲げても割れない）ガスバリア性フィルムを実現するためのガスバリア性フィルムのベースフィルム提供することにある。本発明の他の目的は、本発明のガスバリア性フィルムのベースフィルムを用いたガスバリア性フィルム、およびこのガスバリア性フィルムを用いた有機ＥＬデバイスを提供することにある。

本発明の上記目的は、以下の本発明によって達成される。
［１］環状オレフィン樹脂フィルム上に硬化樹脂層（Ａ）を有するガスバリア性フィルムのベースフィルムであって、円筒形マンドレル法（ＪＩＳ Ｋ５６００−５−１：１９９９）に準拠した直径２ｍｍの円筒マンドレルを用いて行う耐屈曲性試験においてクラックが発生しないことを特徴とする、ガスバリア性フィルムのベースフィルム。
［２］前記硬化樹脂層（Ａ）が熱硬化樹脂層もしくは活性エネルギー線硬化樹脂層である、［１］に記載のガスバリア性フィルムのベースフィルム。
［３］前記硬化樹脂層（Ａ）の厚みが０．３μｍ以上４μｍ未満である、［１］または［２］に記載のガスバリア性フィルムのベースフィルム。
［４］前記硬化樹脂層（Ａ）のナノインデンテーション法により測定される押し込み硬さが、２００〜６００Ｎ／ｍｍ^２の範囲である、［１］〜［３］のいずれかに記載のガスバリア性フィルムのベースフィルム。
［５］前記硬化樹脂層（Ａ）の原子間力顕微鏡で測定される表面粗さ（Ｒａ）が２．０ｎｍ未満である、［１］〜［４］のいずれかに記載のガスバリア性フィルムのベースフィルム。
［６］前記環状オレフィン樹脂フィルムの硬化樹脂層（Ａ）を有する面とは反対面に硬化樹脂層（Ｂ）を有し、円筒形マンドレル法（ＪＩＳ Ｋ５６００−５−１：１９９９）に準拠した直径２ｍｍの円筒マンドレルを用いて行う耐屈曲性試験においてクラックが発生しないことを特徴とする、［１］〜［５］のいずれかに記載のガスバリア性フィルムのベースフィルム。
［７］前記硬化樹脂層（Ｂ）が粒子を含有し、該粒子の平均粒子径（ｒ：μｍ）と硬化樹脂層（Ｂ）の厚み（ｄ：μｍ）との比率（ｒ／ｄ）が０．７以下である、［６］に記載のガスバリア性フィルムのベースフィルム。
［８］前記硬化樹脂層（Ｂ）の原子間力顕微鏡で測定される表面粗さ（Ｒａ）が２．０ｎｍ以上１０．０ｎｍ以下である、［６］または［７］に記載のガスバリア性フィルムのベースフィルム。
［９］［１］〜［８］のいずれかに記載のガスバリア性フィルムのベースフィルムの少なくとも一方の面にガスバリア層を備えた、ガスバリア性フィルム。
［１０］前記ガスバリア層が少なくとも亜鉛酸化物あるいは亜鉛硫化物を含有する、［９］に記載のガスバリア性フィルム。
［１１］前記ガスバリア層が、酸化亜鉛−二酸化ケイ素−酸化アルミニウムの共存相からなる層である、［９］または［１０］に記載のガスバリア性フィルム。
［１２］前記酸化亜鉛−二酸化ケイ素−酸化アルミニウムの共存相における、Ｚｎ原子濃度が２０〜４０ａｔｏｍ％、Ｓｉ原子濃度が５〜２０ａｔｏｍ％、Ａｌ原子濃度が０．５〜５ａｔｏｍ％、Ｏ原子濃度が３５〜７０ａｔｏｍ％である、［１１］に記載のガスバリア性フィルム。
［１３］前記ガスバリア層の面に封止粘着剤層を有する、［９］〜［１２］に記載のガスバリア性フィルム。
［１４］［９］〜［１３］のいずれかに記載のガスバリア性フィルムを備えた、有機ＥＬデバイス。

本発明によれば、フレキシブル性が高い（折り曲げても割れない）ガスバリア性フィルムを実現するためのガスバリア性フィルムのベースフィルムを提供することができる。

本発明の好ましい態様によれば、環状オレフィン樹脂フィルムの硬化樹脂層（Ａ）とは反対面に硬化樹脂層（Ｂ）を設けることにより、カール抑制性、フィルムの耐傷性、および滑り性が向上する。

本発明のガスバリア性フィルムのベースフィルムを用いることにより、フレキシブル性の高い（折り曲げても割れない）ガスバリア性フィルムを得ることができる。また、本発明の好ましい態様のベースフィルムを用いることにより、ガスバリア性が良好なガスバリア性フィルムを得ることができる。またさらに、本発明の好ましい態様のベースフィルムを用いることにより、カール抑制性、フィルムの耐傷性、および滑り性が向上したガスバリア性フィルムを得ることができる。

また、本発明のガスバリア性フィルムは、有機ＥＬデバイスに好適である。

本発明のガスバリア性フィルムを製造するための巻き取り式スパッタリング装置を模式的に示す概略図である。

本発明のガスバリア性フィルムのベースフィルム（以下、単に「ベースフィルム」と略記することがある）は、環状オレフィン樹脂フィルム上に硬化樹脂層（Ａ）を有する。

本発明のベースフィルムは、円筒形マンドレル法（ＪＩＳ Ｋ５６００−５−１：１９９９）に準拠した直径２ｍｍの円筒マンドレルを用いて行う耐屈曲性試験においてクラックが発生しないことを特徴とする。つまり、ベースフィルムを、硬化樹脂層（Ａ）が外側になるように直径２ｍｍの円筒形マンドレルに巻き付けたときに、その巻き付け部分の硬化樹脂層（Ａ）にクラックが発生しないことを意味する。

以下の説明において、直径２ｍｍの円筒マンドレルを用いて行う耐屈曲性試験においてクラックが発生しないことを、「マンドレル値が２ｍｍ以下」ということがある。

ベースフィルムのマンドレル値が２ｍｍ以下であると、ベースフィルムを折り重ねても、折目部分が割れて破断することはない。しかし一方、ベースフィルムのマンドレル値が２ｍｍより大きくなると（直径２ｍｍの円筒形マンドレルに巻き付けたときに硬化樹脂層（Ａ）にクラックが発生すると）、折目部分からベースフィルムが破断することがある。

これは、環状オレフィン樹脂フィルム自体は、折り重ねても折目部分から破断することはないが、環状オレフィン樹脂フィルム上に従来の一般的なハードコート層を積層したベースフィルムの場合は、折り重ねるとハードコート層にクラックが発生し、そのクラックが原因でベースフィルムが割れて破断することがある。

上記現象は、環状オレフィン樹脂フィルムを用いたときの特有の現象である。従来から広く用いられているポリエチレンテレフタレートフィルムでは、ハードコート層にクラックが発生してもポリエチレンテレフタレートフィルムが破断することはない。

フレキシブルなデバイスに対応するには、それに用いられるガスバリア性フィルムおよびそのベースフィルムは、数千から数万回程度の折り曲げ動作に耐え得るだけの屈曲耐久性が必要であり、上記したようにベースフィルムは、折り重ねても破断しないことが重要である。

［環状オレフィン樹脂フィルム］
本発明にかかる環状オレフィン樹脂フィルムは、環状オレフィン樹脂（ＣＯＰ）あるいは環状オレフィン共重合樹脂（ＣＯＣ）を主成分とする樹脂フィルムである。ここで、主成分とするとは、樹脂フィルムを構成する樹脂成分のうち、ＣＯＰあるいはＣＯＣの構成比率が５０質量％以上であることを意味するものであり、好ましくは６０質量％以上であり、より好ましくは８０質量％以上であり、さらに好ましくは９０質量％以上であり、特に好ましくは９５質量％以上である。

環状オレフィン樹脂フィルムは、従来から広く用いられているポリエチレンテレフタレートフィルムに比べて、相対的に透湿性が小さく、高い透明性を有しており、有機ＥＬデバイスに使用した際に、発光効率が向上するという特長がある。さらに、低リタゼーション（複屈折率が小さい）で、有機ＥＬデバイスに使用した際、色の視野角依存性が小さいという利点を備えている。

環状オレフィン樹脂（ＣＯＰ）とは、「主鎖に環状オレフィンを含有した繰り返し単位」のみを重合させた樹脂を意味する。環状オレフィン共重合樹脂（ＣＯＣ）とは、少なくとも「主鎖に環状オレフィンを含有した繰り返し単位」と「主鎖に環状オレフィンを含有しないオレフィンからなる繰り返し単位」を共重合させた樹脂を意味する。

ＣＯＰ、ＣＯＣを構成する環状オレフィンとしては、例えば、
シクロブテン、シクロペンテン、シクロヘプテン、シクロヘキセン、シクロオクテン、シクロペンタジエン、１，３−シクロヘキサジエン、３，４−ジメチルシクロペンテン、３−メチルシクロヘキセン、２−（２−メチルブチル）−１−シクロヘキセン、３ａ，５，６，７ａ−テトラヒドロ−４，７−メタノ−１Ｈ−インデンなどの単環式オレフィン、
ノルボルネン、ジシクロペンタジエン、テトラシクロドデセン、エチルテトラシクロドデセン、エチリデンテトラシクロドデセン、テトラシクロ〔７．４．０．１１０，１３．０２，７〕トリデカ−２，４，６，１１−テトラエンなどの多環式オレフィン、
などが挙げられる。これらの環状オレフィンは、それぞれ単独であるいは２種以上組合せて用いることができる。

環状オレフィン共重合樹脂（ＣＯＣ）を構成する環状オレフィン以外の他のモノマーとしては、例えば、エチレン、プロピレン、１−ブテン、１−ペンテン、１−ヘキセン、３−メチル−１−ブテン、３−メチル−１−ペンテン、３−エチル−１−ペンテン、４−メチル−１−ペンテン、４−メチル−１−ヘキセン、４，４−ジメチル−１−ヘキセン、４，４−ジメチル−１−ペンテン、４−エチル−１−ヘキセン、３−エチル−１−ヘキセン、１−オクテン、１−デセン、１−ドデセン、１−テトラデセン、１−ヘキサデセン、１−オクタデセン、１−エイコセン等が挙げられる。

本発明にかかる環状オレフィン樹脂フィルムは、市販品として入手することもできる。市販品としては、例えば、日本ゼオン（株）製の「ゼオネックス」、「ゼオノア」（登録商標）、積水化学工業（株）の「エッシーナ」、ＪＳＲ（株）の「アートン」、日立化成（株）の「オプトレッツ」、三井化学（株）の「アペル」などがある。

環状オレフィン樹脂フィルムの厚みは特に限定されないが、高い柔軟性（折り曲げ性）を確保するという観点から厚みは小さい方が好ましく、具体的には、３００μｍ以下が好ましく、２００μｍ以下がより好ましく、１００μｍ以下が特に好ましい。下限の厚みは、引張りや衝撃に対する強度を確保するという観点から１０μｍ以上が好ましく、２０μｍ以上がより好ましく、３０μｍ以上が特に好ましい。

本発明における環状オレフィン樹脂フィルムは、低リターデーションであることが好ましい。具体的には、波長５５０ｎｍの光に対する面内方向のリターデーション（Ｒｅ５５０）が５００ｎｍ以下であることが好ましく、４００ｎｍ以下が好ましく、３００ｎｍ以下が特に好ましい。下限は０ｎｍである。

有機ＥＬデバイスの有機ＥＬ素子を水蒸気から保護するために用いられるガスバリア性フィルムの場合、ベースフィルムを構成する環状オレフィン樹脂フィルムのリターデーションＲｅ５５０は、１００ｎｍ以下が好ましく、５０ｎｍ以下がより好ましく、１０ｎｍ以下が特に好ましい。

また、本発明のベースフィルムは、有機ＥＬ表示装置の円偏光板を構成する位相差フィルム（１／４波長板）を兼ねることができる。この場合、環状オレフィン樹脂フィルムは位相差フィルム（１／４波長板）として機能することが好ましい。この場合の環状オレフィン樹脂フィルムのリターデーションＲｅ５５０は、１１０〜１７０ｎｍの範囲が好ましく、１２０〜１５０ｎｍの範囲がより好ましく、１３０〜１４５ｎｍの範囲が特に好ましい。

環状オレフィン樹脂フィルムの波長５５０ｎｍの光に対する面内方向のリターデーション（Ｒｅ５５０）は、下記式で表される値である。

｜ｎｘ−ｎｙ｜×ｄ
（式中、ｎｘは環状オレフィン樹脂フィルムの面内の遅相軸方向の屈折率を表し、ｎｙは環状オレフィン樹脂フィルムの面内の進相軸方向の屈折率を表し、ｄは膜厚を表す。）
ここで、面内とは、環状オレフィン樹脂フィルム面内を指し、該フィルムの厚み方向に垂直な面内を指す。リターデーションは、実施例で使用したような複屈折計を用いて平行ニコル回転法により測定できる。

［硬化樹脂層（Ａ）］
本発明にかかる硬化樹脂層（Ａ）は、マンドレル値が２ｍｍ以下であることが重要である。即ち、環状オレフィン樹脂フィルム上に硬化樹脂層（Ａ）が積層されたベースフィルムを、硬化樹脂層（Ａ）を外側にして直径２ｍｍの円筒形マンドレルに巻き付けたときに、硬化樹脂層（Ａ）にクラックが発生しないことが重要である。

このような硬化樹脂層（Ａ）は、架橋密度を制御することによって調整することができる。例えば、硬化樹脂層（Ａ）が活性エネルギー線硬化樹脂層である場合、構成する樹脂の重合前のモノマーやオリゴマーの官能基数や分子量を制御することによって調整することができる。

本発明にかかる硬化樹脂層（Ａ）は、熱硬化樹脂層あるいは活性エネルギー線硬化樹脂層であることが好ましく、耐屈曲性の観点から、特に活性エネルギー線硬化樹脂層であることがより好ましい。

熱硬化樹脂層は、少なくとも熱硬化樹脂を含有する組成物を硬化せしめた層である。かかる熱硬化樹脂としては、例えばアクリル系樹脂、ポリビニル樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリエーテル樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、フッ素系樹脂、ポリイミド系樹脂等があげられる。これらの樹脂の中でも、ポリウレタン樹脂が好ましく用いられる。

また、熱硬化樹脂層は、上記樹脂を架橋する架橋剤（例えば、メラミン系架橋剤、オキサゾリン系架橋剤、カルボジイミド系架橋剤、イソシアネート系架橋剤、アジリジン系架橋剤、エポキシ系架橋剤）を含有することができる。

上述したように、本発明における硬化樹脂層（Ａ）は活性エネルギー線硬化樹脂層であることが好ましい。以下、硬化樹脂層（Ａ）が活性エネルギー線硬化樹脂層である態様について詳細に説明する。

活性エネルギー線硬化樹脂層は、少なくとも活性エネルギー線硬化樹脂を含有する組成物を硬化せしめた層である。活性エネルギー線硬化樹脂は、活性エネルギー線によって重合されて硬化する樹脂を意味する。かかる活性エネルギー線硬化樹脂としては、分子中に少なくとも１個のエチレン性不飽和基を有する化合物（モノマーやオリゴマー）が挙げられる。ここで、エチレン性不飽和基としては、ビニル基、アリル基、アクリロイル基、メタクリロイル基、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、アリル基、ビニル基等が挙げられる。かかる化合物としては、例えば、ウレタン系化合物、アクリル系化合物、エポキシ系化合物、ポリエーテル系化合物、シリコーン系化合物などが挙げられる。これらの中でも、ウレタン系化合物が好ましい。ここで、ウレタン系化合物とは、分子内にウレタン結合「−ＮＨＣ（Ｏ）Ｏ−」を有する化合物である。

さらに、ウレタン系化合物として、分子内に少なくとも1個のエチレン性不飽和基を有するウレタン系化合物が好ましい。かかるウレタン系化合物としては、例えば、ウレタン（メタ）アクリレートあるいはウレタン（メタ）アクリレートオリゴマーが挙げられる。

尚、本発明において、「・・・（メタ）アクリレート」なる表現は、「・・・アクリレート」と「・・・メタクリレート」との２つの化合物を含む。

分子内に少なくとも1個のエチレン性不飽和基を有するウレタン系化合物（ウレタン（メタ）アクリレートあるいはウレタン（メタ）アクリレートオリゴマー）としては、例えば、以下の化合物が挙げられる。

ａ）１分子中に２個以上のイソシアネート基を有するポリイソシアネートと、１〜５官能のポリカプロラクトン変性アルキル（メタ）アクリレートとを反応させて得られる化合物、
ｂ）１分子中に２個以上のイソシアネート基を有するポリイソシアネートと、１〜５官能のポリアルキレングリコール（メタ）アクリレートとを反応させて得られる化合物、
ｃ）１分子中に２個以上のイソシアネート基を有するポリイソシアネートと、ポリカーボネートジオールおよび１〜５官能のヒドロキシ変性（メタ）アクリレートとを反応させて得られる化合物、
ｄ）１分子中に２個以上のイソシアネート基を有するポリイソシアネートと、１〜５官能のヒドロキシ変性エポキシ（メタ）アクリレートとを反応させて得られる化合物。

ｅ）ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレートヘキサメチレンジイソシアネートウレタンオリゴマー、
ｆ）ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレートトルエンジイソシアネートウレタンオリゴマー、
ｇ）ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレートイソホロンジイソシアネートウレタンオリゴマー、
などが挙げられる。

上記ポリイソシアネートとしては、トリレンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、メチレンジフェニルジイソシアネート、フェニレンジイソシアネート、ナフタレンジイソシアネート、トリジンジイソシアネート等の芳香族ジイソシアネート、α，α，α’，α’−テトラメチルキシリレンジイソシアネート等の芳香環を有する脂肪族ジイソシアネート、メチレンジイソシアネート、プロピレンジイソシアネート、リジンジイソシアネート、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート等の脂肪族ジイソシアネート、シクロヘキサンジイソシアネート、メチルシクロヘキサンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート、イソプロピリデンジシクロヘキシルジイソシアネート等の脂環族ジイソシアネート等が挙げられる。

また、ウレタン系化合物（ウレタン（メタ）アクリレートあるいはウレタン（メタ）アクリレートオリゴマー）またはウレタン系化合物を含む組成物は、市販されており用いることができる。例えば、共栄社化学社製のＡＴ−６００、ＵＡ−１０１ｌ、ＵＡ−３０６Ｈ、ＵＡ−３０６Ｔ、ＵＡ−３０６ｌ、ＵＦ−８００１、ＵＦ−８００３等、日本合成化学社製のＵＶ７５５０Ｂ、ＵＶ−７６５０Ｂ、ＵＶ−６３００Ｂ等、新中村化学社製のＵ−４ＨＡ、Ｕ−６ＨＡ、ＵＡ−１００Ｈ、Ｕ−６ＬＰＡ、Ｕ−１５ＨＡ、ＵＡ−３２Ｐ、Ｕ−３２４Ａ、Ｕ−２ＰＰＡ、ＵＡ−ＮＤＰ等、ダイセルユーシービー社製のＥｂｅｃｒｙｌ−２７０、Ｅｂｅｃｒｙｌ−２８４、Ｅｂｅｃｒｙｌ−２６４、Ｅｂｅｃｒｙｌ−９２６０、Ｅｂｅｃｒｙｌ−１２９０、Ｅｂｅｃｒｙｌ−１２９０Ｋ、Ｅｂｅｃｒｙｌ−５１２９等、根上工業社製のＵＮ−３２２０ＨＡ、ＵＮ−３２２０ＨＢ、ＵＮ−３２２０ＨＣ、ＵＮ−３２２０ＨＳ等、三菱レイヨン製のＲＱシリーズ、荒川化学工業製のビームセットシリーズ、大日精化工業（株）製のセイカビームシリーズ、アイカ工業（株）製のアイカアイトロンシリーズ、ＤＩＣ（株）製のユニディックシリーズ、大成ファインケミカル（株）の８ＫＸシリーズ等が挙げられる。

上記した分子内に少なくとも1個のエチレン性不飽和基を有するウレタン系化合物の中でも、硬化樹脂層（Ａ）の耐屈曲性を向上させるという観点から、分子内におけるエチレン性不飽和基の数は、５個以下が好ましく、４個以下がより好ましく、３個以下が特に好ましい。下限のエチレン性不飽和基の数は１個以上が好ましく、２個以上がより好ましい。

分子内に少なくとも1個のエチレン性不飽和基を有するウレタン系化合物におけるエチレン性不飽和基の数が５個を超えると耐屈曲性が低下することがある。

分子内に少なくとも1個のエチレン性不飽和基を有するウレタン系化合物の含有量は、硬化樹脂層（Ａ）の固形分総量１００質量%に対して２０〜９０質量％の範囲が好ましく、３０〜８５質量％の範囲がより好ましく、４０〜８０質量％の範囲が特に好ましい。

硬化樹脂層（Ａ）は、上記したウレタン系化合物に加えて、さらにウレタン系化合物以外の重合性化合物（モノマー）、すなわち、分子中にエチレン性不飽和基を２〜８個有する重合性化合物（モノマー）を含有することができる。ウレタン系化合物以外の重合性化合物（モノマー）の含有量は、ウレタン系化合物１００質量部に対して１〜８０質量部の範囲が好ましく、３〜７０質量部の範囲が好ましく、５〜６０質量部の範囲が特に好ましい。

ウレタン系化合物以外の化合物（モノマー）としては、例えば、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、グリセリンプロポキシトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレートなどが挙げられる。

活性エネルギー線硬化樹脂層は、さらに光重合開始剤を含むことが好ましい。かかる光重合開始剤の具体例としては、例えばアセトフェノン、２，２−ジエトキシアセトフェノン、ｐ−ジメチルアセトフェノン、ｐ−ジメチルアミノプロピオフェノン、ベンゾフェノン、２−クロロベンゾフェノン、４，４’−ジクロロベンゾフェノン、４，４’−ビスジエチルアミノベンゾフェノン、ミヒラーケトン、ベンジル、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、メチルベンゾイルフォルメート、ｐ−イソプロピル−α−ヒドロキシイソブチルフェノン、α−ヒドロキシイソブチルフェノン、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトンなどのカルボニル化合物、テトラメチルチウラムモノスルフィド、テトラメチルチウラムジスルフィド、チオキサントン、２−クロロチオキサントン、２−メチルチオキサントンなどの硫黄化合物などを用いることができる。これらの光重合開始剤は単独で使用してもよいし、２種以上組み合せて用いてもよい。

また、光重合開始剤は一般に市販されており、それらを使用することができる。例えば、チバ・スペシャリティ・ケミカルズ（株）製のイルガキュア１８４、イルガキュア９０７、イルガキュア３７９、イルガキュア８１９、イルガキュア１２７、イルガキュア５００、イルガキュア７５４、イルガキュア２５０、イルガキュア１８００、イルガキュア１８７０、イルガキュアＯＸＥ０１、ＤＡＲＯＣＵＲ ＴＰＯ、ＤＡＲＯＣＵＲ１１７３等、日本シイベルヘグナー（株）製のＳｐｅｅｄｃｕｒｅＭＢＢ、ＳｐｅｅｄｃｕｒｅＰＢＺ、ＳｐｅｅｄｃｕｒｅＩＴＸ、ＳｐｅｅｄｃｕｒｅＣＴＸ、ＳｐｅｅｄｃｕｒｅＥＤＢ、Ｅｓａｃｕｒｅ ＯＮＥ、Ｅｓａｃｕｒｅ ＫＩＰ１５０、Ｅｓａｃｕｒｅ ＫＴＯ４６等、日本化薬（株）製のＫＡＹＡＣＵＲＥ ＤＥＴＸ−Ｓ、ＫＡＹＡＣＵＲＥ ＣＴＸ、ＫＡＹＡＣＵＲＥ ＢＭＳ、ＫＡＹＡＣＵＲＥ ＤＭＢＩ等が挙げられる。

上記光重合開始剤の含有量は、硬化樹脂層（Ａ）（活性エネルギー線硬化樹脂層）の固形分総量１００質量％に対して０．１〜１０質量％の範囲が好ましく、０．５〜８質量％の範囲がより好ましい。

活性エネルギー線硬化樹脂層を得るための活性エネルギー線としては、紫外線、可視光線、赤外線、電子線、α線、β線、γ線などが挙げられる。これらの活性エネルギー線の中でも、紫外線および電子線が好ましく、特に紫外線が好ましく用いられる。

紫外線を照射するための光源としては、特に限定されないが、例えば、紫外線蛍光灯、低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、カーボンアーク灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ等を用いることができる。また、ＡｒＦエキシマレーザ、ＫｒＦエキシマレーザ、エキシマランプ又はシンクロトロン放射光等も用いることができる。このうち、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、低圧水銀灯、カーボンアーク、キセノンアーク、メタルハライドランプを好ましく用いられる。また、紫外線を照射するときに、低酸素濃度下の雰囲気下、例えば、酸素濃度が５００ｐｐｍ以下の雰囲気下で照射を行なうと、効率よく硬化させることができるので好ましい。

紫外線の照射光量は、５０ｍＪ／ｃｍ^２以上が好ましく、１００ｍＪ／ｃｍ^２以上がより好ましく、特に１５０ｍＪ／ｃｍ^２以上が好ましい。上限は２０００ｍＪ／ｃｍ^２以下が好ましく、１０００ｍＪ／ｃｍ^２以下がより好ましい。

上述したように、硬化樹脂層（Ａ）は、分子内に１〜５個のエチレン性不飽和基を有するウレタン系化合物を含有する組成物を硬化せしめた層（活性エネルギー線硬化樹脂層）であることが好ましく、さらに、上記ウレタン系化合物と、上記ウレタン系化合物以外の重合性化合物（分子中にエチレン性不飽和基を２〜８個有する重合性化合物（モノマー））とを含有する組成物を硬化せしめた層（活性エネルギー線硬化性樹脂層）であることが好ましい。

硬化樹脂層（Ａ）は、環状オレフィン樹脂フィルム上に、ウェットコーティング法により塗布されることが好ましく、例えばリバースコート法、スプレーコート法、バーコート法、グラビアコート法、ロッドコート法、ダイコート法、スピンコート法、エクストルージョンコート法等の塗布方法を用いることができる。

硬化樹脂層（Ａ）の塗布に先立ち、環状ポリオレフィン樹脂フィルムの硬化樹脂層（Ａ）を塗布する面に、コロナ処理、プラズマ処理、真空紫外線処理等の親水化処理を施すことが好ましい。

硬化樹脂層（Ａ）の厚みは、良好な耐屈曲性を得るという観点から、４μｍ未満が好ましく、３μｍ未満がより好ましく、２μｍ未満が特に好ましい。硬化樹脂層（Ａ）の厚みが４μｍ以上となると、ベースフィルムおよびガスバリア性フィルムの耐屈曲性が低下することがある。下限の厚みは、良好な密着性やガスバリア性を得るという観点から、０．３μｍ以上が好ましく、０．５μｍ以上がより好ましく、０．７μｍ以上が特に好ましい。

硬化樹脂層（Ａ）の表面は平滑であることが好ましい。硬化樹脂層（Ａ）上にガスバリア層を積層するとき、硬化樹脂層（Ａ）の表面平滑性が低いと、ガスバリア層にピンホールやクラックが発生し、ガスバリア性を損なうことがある。

硬化樹脂層（Ａ）の表面平滑性は、例えば、原子間力顕微鏡で測定される表面粗さ（Ｒａ）で表すことができる。硬化樹脂層（Ａ）表面の原子間力顕微鏡で測定される表面粗さ（Ｒａ）は、２．０ｎｍ未満が好ましく、１．５ｎｍ以下がより好ましく、１．０ｎｍ以下が特に好ましい。下限は特に限定されないが、０．１ｎｍ程度である。硬化樹脂層（Ａ）の表面粗さ（Ｒａ）を上記範囲とするには、例えば、硬化樹脂層（Ａ）は、硬化樹脂層（Ａ）の厚みより平均粒子径が大きい粒子を含まないことが好ましい。もし、上記粒子を含む場合は、硬化樹脂層（Ａ）の固形分総量１００質量％に対して２．０質量％以下が好ましく、１．０質量％以下がより好ましく、さらに０．５質量％以下が好ましい。

また、硬化樹脂層（Ａ）は、硬度が高すぎるとマンドレル値２ｍｍ以下を実現することが難しく、一方、硬化樹脂層（Ａ）の硬度が低すぎると、硬化樹脂層（Ａ）上に積層されるガスバリア層のガスバリア性が低下することがある。従って、これらの観点から、硬化樹脂層（Ａ）は適度な硬度を有することが好ましく、かかる硬度は、ナノインデンテーション法により測定される押し込み硬さ（以下、「押し込み硬さ」と略記することがある）で表すことが適当である。

硬化樹脂層（Ａ）の押し込み硬さは、上記観点、つまり、硬化樹脂層（Ａ）のマンドレル値２ｍｍ以下を達成しながら、ガスバリア層のガスバリア性を向上させるという観点から、２００〜６００Ｎ／ｍｍ^２の範囲が好ましく、２５０〜５５０Ｎ／ｍｍ^２の範囲がより好ましく、特に３００〜５００Ｎ／ｍｍ^２の範囲が好ましい。硬化樹脂層（Ａ）に上述した活性エネルギー線硬化樹脂層を適用することにより、硬化樹脂層（Ａ）の押し込み硬さを上記範囲とすることができる。

また、硬化樹脂層（Ａ）に良好な耐屈曲性を付与するという観点から、鉛筆硬度はＨ以下が好ましく、Ｆ以下がより好ましい。鉛筆硬度の下限は、６Ｂ程度である。鉛筆硬度は、ＪＩＳ Ｋ５６００−５−４（１９９９年）に準拠し７５０ｇの荷重で測定されたものである。

［ベースフィルムの構成］
本発明のベースフィルムは、環状オレフィン樹脂フィルム上に硬化樹脂層（Ａ）を有する。

本発明のベースフィルムは、環状オレフィン樹脂フィルムの一方の面に硬化樹脂層（Ａ）を有し、他方の面（環状オレフィン樹脂フィルムの硬化樹脂層（Ａ）を有する面とは反対面）に硬化樹脂層（Ｂ）を有していることが好ましい。ここで、硬化樹脂層（Ｂ）は、組成、厚み、その他添加物の種類または含有量等において、硬化樹脂層（Ａ）と実質的に同一であってもよいし、異なっていてもよい。

環状オレフィン樹脂フィルムの一方の面に硬化樹脂層（Ａ）を有し、他方の面（以下「反対面」ということがある）に硬化樹脂層（Ｂ）を有することにより、ベースフィルムのカールが抑制され、環状オレフィン樹脂フィルムの耐傷性が向上する。また、後述するように、硬化樹脂層（Ｂ）に粒子を含有させることにより、ベースフィルムおよびこのベースフィルムを用いたガスバリア性フィルムの滑り性が向上し、製造工程における搬送性や巻き取り性が良好となる。

［硬化樹脂層（Ｂ）］
硬化樹脂層（Ｂ）が積層されたベースフィルムは、ベースフィルムのフレキシブル性を確保するという観点から、前述した耐屈曲性を有することが好ましい。つまり、円筒形マンドレル法（ＪＩＳ Ｋ５６００−５−１：１９９９）に準拠し、ベースフィルムを、硬化樹脂層（Ｂ）が外側となるように直径２ｍｍの円筒マンドレルに巻き付けたとき、その巻き付け部分の硬化樹脂層（Ｂ）にクラックが発生しないことが好ましい。つまり、本発明のベースフィルムが硬化樹脂層（Ｂ）を有する場合、どちらの面を外側にして折り曲げてもクラックが発生しないことが好ましい。

硬化樹脂層（Ｂ）に良好な耐屈曲性を付与するという観点から、硬化樹脂層（Ｂ）のナノインデンテーション法により測定される押し込み硬さは、２００〜６００Ｎ／ｍｍ^２の範囲が好ましく、２５０〜５５０Ｎ／ｍｍ^２の範囲がより好ましく、特に３００〜５００Ｎ／ｍｍ^２の範囲が好ましい。

また、硬化樹脂層（Ｂ）に良好な耐屈曲性を付与するという観点から、鉛筆硬度はＨ以下が好ましく、Ｆ以下がより好ましい。鉛筆硬度の下限は、６Ｂ程度である。鉛筆硬度は、ＪＩＳ Ｋ５６００−５−４（１９９９年）に準拠し７５０ｇの荷重で測定されたものである。

硬化樹脂層（Ｂ）は、熱硬化樹脂層あるいは活性エネルギー線硬化樹脂層であることが好ましく、耐屈曲性の観点から、特に活性エネルギー線硬化樹脂層であることがより好ましい。硬化樹脂層（Ｂ）を構成する熱硬化樹脂層および活性エネルギー線硬化樹脂層は、前述の硬化樹脂層（Ａ）を構成する熱硬化樹脂層および活性エネルギー線硬化樹脂層と同様の組成を採用することができる。

硬化樹脂層（Ｂ）の厚みは、良好な耐屈曲性を確保するという観点およびベースフィルムのカールを抑制するという観点から、４μｍ未満が好ましく、３μｍ未満がより好ましく、２μｍ未満が特に好ましい。下限の厚みは、ベースフィルムに良好な耐擦傷性を付与するという観点から、０．３μｍ以上が好ましく、０．５μｍ以上がより好ましく、０．７μｍ以上が特に好ましい。

ベースフィルムおよびこのベースフィルムを用いたガスバリア性フィルムに良好な滑り性を付与するという観点から、硬化樹脂層（Ｂ）は、粒子を含有することが好ましい。以下、硬化樹脂層（Ｂ）が粒子を含有する態様について詳細に説明する。

［硬化樹脂層（Ｂ）が粒子を含有する態様］
ベースフィルムの高い透明性を確保しながら滑り性を付与するという観点から、硬化樹脂層（Ｂ）は、硬化樹脂層（Ｂ）の厚みより平均粒子径が十分に小さい粒子を含有することが好ましい。例えば、硬化樹脂層（Ｂ）に含有される粒子の平均粒子径（ｒ：μｍ）と硬化樹脂層（Ｂ）の厚み（ｄ：μｍ）との比率（ｒ／ｄ）は、０．７以下が好ましく、０．５以下がより好ましく、０．３以下が特に好ましい。下限の比率は、小さくなり過ぎると良好な滑り性が得られないことから、０．０１以上が好ましく、０．０２以上がより好ましく、０．０３以上が特に好ましい。

硬化樹脂層（Ｂ）は、平均粒子径が硬化樹脂層（Ｂ）の厚みより十分に小さい粒子を含有し、硬化樹脂層（Ｂ）の表面に該粒子による突起が形成されていることが好ましい。これによって、さらに、ベースフィルムの高い透明性を確保しながら滑り性を付与することができる。硬化樹脂層（Ｂ）の表面に粒子による突起が形成されているかどうかは、硬化樹脂層（Ｂ）の表面を走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）で観察することによって、容易に確認することができる。

硬化樹脂層（Ｂ）に含有させる粒子の平均粒子径（ｒ）は０．０２〜０．５μｍの範囲が好ましく、０．０３〜０．４μｍの範囲がより好ましく、０．０４〜０．２μｍの範囲が特に好ましい。

硬化樹脂層（Ｂ）に含有させる粒子の平均粒子径（ｒ）が０．０２μｍ未満であると良好な滑り性が得られなくなることがあり、一方、平均粒子径（ｒ）が０．５μｍより大きくなるとヘイズ値が大きくなり透明性が低下することがある。

硬化樹脂層（Ｂ）に含有させる粒子の含有量は、高い透明性を確保しながら滑り性を向上させるという観点から、硬化樹脂層（Ｂ）の固形分総量１００質量％に対して２〜４０質量％の範囲が好ましく、３〜３０質量％の範囲がより好ましく、５〜２０質量％の範囲が特に好ましい。

硬化樹脂層（Ｂ）に含有させる粒子としては、有機粒子や無機粒子が挙げられる。

有機粒子を構成する樹脂としては、アクリル系樹脂、スチレン系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリアミド系樹脂、シリコーン系樹脂、フッ素系樹脂、あるいは上記樹脂の合成に用いられる２種以上のモノマーの共重合樹脂が挙げられる。これらの中でもアクリル系樹脂粒子が好ましく用いられる。

アクリル系樹脂粒子としては、アクリル樹脂粒子、メタクリル樹脂粒子、アクリルモノマーあるいはメタクリルモノマーと他のモノマー、例えば、スチレン、ウレタンアクリレート、ウレタンメタクリレート、ポリエステルアクリレート、ポリエステルメタクリレート、シリコーンアクリレート、シリコーンメタクリレート等との共重合樹脂粒子が挙げられる。

これらの有機粒子は乳化重合法により合成されることが好ましく、乳化重合法で合成されることによって平均粒子径が０．５μｍ以下の有機粒子を得ることができる。

無機粒子としては、シリカ、酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、炭酸カルシウム、ゼオライトなどの無機粒子が挙げられる。これらの中でもシリカ粒子が好ましく、特にコロイダルシリカや気相法シリカ（乾式シリカやヒュームドシリカとも言う）が好ましい。

無機粒子、例えば、シリカ粒子は、有機化合物で変性（表面処理）することが好ましい。無機粒子を有機化合物で表面処理することにより、硬化樹脂層（Ｂ）の表面側（ベースフィルムの環状オレフィン樹脂フィルムとは反対側）に粒子を多く局在（浮上）させることができる。これによって、硬化樹脂層（Ｂ）表面に粒子による突起が形成されやすくなり、比較的少ない粒子含有量で高い滑り性を付与することができる。

無機粒子の変性（表面処理）に使用する有機化合物としては、下記の一般式（１）〜（３）が挙げられ、これらの有機化合物を単独もしくは組み合わせて用いることができる。
Ｃ_ｎＦ_２ｎ＋１−（ＣＨ_２）_ｍ−Ｓｉ（Ｑ）_３ ・・・・一般式（１）
（一般式（１）において、ｎは１〜１０の整数、ｍは１〜５の整数を表す。Ｑは炭素数１〜５のアルコキシ基またはハロゲン原子を表す。）
Ｂ−Ｒ^４−ＳｉＲ^５ _ｎ（ＯＲ^６）_３−ｎ ・・・・一般式（２）
Ｄ−Ｒ^７−Ｒｆ^２ ・・・・一般式（３）
（一般式（２）および（３）において、ＢおよびＤはそれぞれ独立に反応性部位を表し、Ｒ^４およびＲ^７はそれぞれ独立に炭素数１から３のアルキル基、あるいは前記アルキル基から導出されるエステル構造を表し、Ｒ^５およびＲ^６はそれぞれ独立に水素あるいは炭素数が１から４のアルキル基を表し、Ｒｆ^２はフルオロアルキル基を表し、ｎは０から２の整数を表す。）。

一般式（１）の化合物として、具体的には下記の化合物を例示することができる。
Ｃ_４Ｆ_９ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３
Ｃ_６Ｆ_１３ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３
Ｃ_８Ｆ_１７ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３
Ｃ_６Ｆ_１３ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３
Ｃ_６Ｆ_１３ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３
Ｃ_６Ｆ_１３ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＯＣ_２Ｈ_５）_３
Ｃ_８Ｆ_１７ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＯＣ_２Ｈ_５）_３
Ｃ_６Ｆ_１３ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＯＣ_２Ｈ_５）_３
Ｃ_６Ｆ_１３ＣＨ_２ＣＨ_２ＳｉＣｌ_３
Ｃ_６Ｆ_１３ＣＨ_２ＣＨ_２ＳｉＢｒ_３
Ｃ_６Ｆ_１３ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＳｉＣｌ_３
Ｃ_６Ｆ_１３ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＯＣＨ_３）Ｃｌ_２。

一般式（２）の具体例としては、アクリロキシエチルトリメトキシシラン、アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、アクリロキシブチルトリメトキシシラン、アクリロキシペンチルトリメトキシシラン、アクリロキシヘキシルトリメトキシシラン、アクリロキシヘプチルトリメトキシシラン、メタクリロキシエチルトリメトキシシラン、メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、メタクリロキシブチルトリメトキシシラン、メタクリロキシヘキシルトリメトキシシラン、メタクリロキシヘプチルトリメトキシシラン、メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン及びこれら化合物中のメトキシ基が他のアルコキシル基及び水酸基に置換された化合物を含むものなどが挙げられる。

一般式（３）の具体例としては、２，２，２−トリフルオロエチルアクリレート、２，２，３，３，３−ペンタフロオロプロピルアクリレート、２−パーフルオロブチルエチルアクリレート、３−パーフルオロブチル−２−ヒドロキシプロピルアクリレート、２−パーフルオロヘキシルエチルアクリレート、３−パーフルオロヘキシル−２−ヒドロキシプロピルアクリレート、２−パーフルオロオクチルエチルアクリレート、３−パーフルオロオクチル−２−ヒドロキシプロピルアクリレート、２−パーフルオロデシルエチルアクリレート、２−パーフルオロ−３−メチルブチルエチルアクリレート、３−パーフルオロ−３−メトキシブチル−２−ヒドロキシプロピルアクリレート、２−パーフルオロ−５−メチルヘキシルエチルアクリレート、３−パーフルオロ−５−メチルヘキシル−２−ヒドロキシプロピルアクリレート、２−パーフルオロ−７−メチルオクチル−２−ヒドロキシプロピルアクリレート、テトラフルオロプロピルアクリレート、オクタフルオロペンチルアクリレート、ドデカフルオロヘプチルアクリレート、ヘキサデカフルオロノニルアクリレート、ヘキサフルオロブチルアクリレート、２，２，２−トリフルオロエチルメタクリレート、２，２，３，３，３−ペンタフルオロプロピルメタクリレート、２−パーフルオロブチルエチルメタクリレート、３−パーフルオロブチル−２−ヒドロキシプロピルメタクリレート、２−パーフルオロオクチルエチルメタクリレート、３−パーフルオロオクチル−２−ヒドロキシプロピルメタクリレート、２−パーフルオロデシルエチルメタクリレート、２−パーフルオロ−３−メチルブチルエチルメタクリレート、３−パーフルオロ−３−メチルブチル−２−ヒドロキシプロピルメタクリレート、２−パーフルオロ−５−メチルヘキシルエチルメタクリレート、３−パーフルオロ−５−メチルヘキシル−２−ヒドロキシプロピルメタクリレート、２−パーフルオロ−７−メチルオクチルエチルメタクリレート、３−パーフルオロ−７−メチルオクチルエチルメタクリレート、テトラフルオロプロピルメタクリレート、オクタフルオロペンチルメタクリレート、オクタフルオロペンチルメタクリレート、ドデカフルオロヘプチルメタクリレート、ヘキサデカフルオロノニルメタクリレート、１−トリフルオロメチルトリフルオロエチルメタクリレート、ヘキサフルオロブチルメタクリレートなどが挙げられる。

硬化樹脂層（Ｂ）が上述したような粒子を含有する場合は、高い透明性を確保しながら滑り性を向上させるという観点から、硬化樹脂層（Ｂ）表面の原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）で測定される表面粗さ（Ｒａ）は、２．０ｎｍ以上１０．０ｎｍ以下の範囲であることが好ましい。硬化樹脂層（Ｂ）（Ｂ）の表面粗さ（Ｒａ）が２．０ｎｍ未満となると、滑り性が低下することがある。また、表面粗さ（Ｒａ）が１０．０ｎｍを超えると、透明性が低下することがある。上記観点から、さらに、硬化樹脂層（Ｂ）が上述したような粒子を含有する場合の硬化樹脂層（Ｂ）表面の原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）で測定される表面粗さ（Ｒａ）は、２．５ｎｍ以上７．０ｎｍ以下の範囲であることが好ましく、３．０ｎｍ以上６．０ｎｍ以下の範囲であることが特に好ましい。

環状オレフィン樹脂フィルムは、平滑性が高いために滑り性が十分ではなく、搬送性や巻き取り性を向上させるために、環状オレフィン樹脂フィルムの片面に保護フィルムを積層することが行われているが、上述したような粒子を含有する硬化樹脂層（Ｂ）を設けることにより、滑り性が向上するので保護フィルムの積層を省略することができる。

本発明における硬化樹脂層（Ｂ）は、粒子を含有しない態様、および硬化樹脂層（Ｂ）表面に粒子による突起を有しない態様を含む。硬化樹脂層（Ｂ）が粒子を含有しない場合、あるいは硬化樹脂層（Ｂ）表面に粒子による突起が形成されていない場合、ベースフィルムの滑り性を向上させるために、硬化樹脂層（Ｂ）の面に保護フィルムを積層することができる。

上記の硬化樹脂層（Ｂ）が粒子を含有しない態様および粒子による突起を有しない態様における硬化樹脂層（Ｂ）表面の原子間力顕微鏡で測定される表面粗さ（Ｒａ）は、２．０ｎｍ未満が好ましく、１．５ｎｍ以下がより好ましく、１．０ｎｍ以下が特に好ましい。下限は特に限定されないが、０．１ｎｍ程度である。このように硬化樹脂層（Ｂ）の表面が平滑であると、硬化樹脂層（Ｂ）上にガスバリア層を積層したときのガスバリア性が向上する。

［ガスバリア性フィルム］
本発明のガスバリア性フィルムは、本発明のベースフィルムの少なくとも一方の面にガスバリア層が積層されたものであり、高いフレキシブル性を有する。

本発明のベースフィルムが、環状オレフィン樹脂フィルムの一方の面のみに硬化樹脂層（Ａ）を有し、反対面に硬化樹脂層（Ｂ）を有しない場合、硬化樹脂層（Ａ）上にガスバリア層を積層することが好ましい。

本発明のベースフィルムが、環状オレフィン樹脂フィルムの一方の面に硬化樹脂層（Ａ）を有し、反対面に硬化樹脂層（Ｂ）を有する場合、どちらか一方の面にのみガスバリア層を積層してもよいし、硬化樹脂層（Ａ）および硬化樹脂層（Ｂ）のそれぞれの面にガスバリア層を積層してもよい。硬化樹脂層（Ｂ）上にガスバリア層を積層する場合の硬化樹脂層（Ｂ）表面の原子間力顕微鏡で測定される表面粗さ（Ｒａ）は、２．０ｎｍ未満が好ましく、１．５ｎｍ以下がより好ましく、１．０ｎｍ以下が特に好ましい。

本発明のガスバリア性フィルムは、前述した耐屈曲性を有することが好ましい。つまり、円筒形マンドレル法（ＪＩＳ Ｋ５６００−５−１：１９９９）に準拠し、ガスバリア性フィルムを、ガスバリア層が外側となるように直径２ｍｍの円筒マンドレルに巻き付けたとき、その巻き付け部分のガスバリア層、硬化樹脂層（Ａ）、あるいは硬化樹脂層（Ｂ）にクラックが発生しないことが好ましい。ベースフィルムの両面にガスバリア層が積層されたガスバリア性フィルムにおいては、上記耐屈曲性試験を両面でそれぞれ行い、いずれの面もクラックが発生していないことが好ましい。

また、ガスバリア層が片面のみに積層されたガスバリア性フィルムにおいては、ガスバリア層とは反対側が外側となるように直径２ｍｍの円筒マンドレルに巻き付けたとき、その巻き付け部分にクラックが発生しないことが好ましい。

つまり、本発明のガスバリア性フィルムは、どちらの面を外側にして折り曲げてもクラックが発生しないことが好ましい。

本発明のガスバリア性フィルムの水蒸気透過率は、１×１０^−１ｇ／ｍ^２／ｄａｙ以下であることが好ましく、１×１０^−２ｇ／ｍ^２／ｄａｙ以下であることがより好ましく、１×１０^−３ｇ／ｍ^２／ｄａｙ以下であることが特に好ましい。

［ガスバリア層］
ガスバリア層は、公知の材料を用いて積層することができる。ガスバリア層は単一膜であってもよいし、複数膜の積層構成であってもよい。ガスバリア層の厚みは、１０〜１０００ｎｍの範囲が好ましく、２０〜５００ｎｍ範囲がより好ましく、３０〜３００ｎｍの範囲が特に好ましい。上記ガスバリア層の厚みは、ガスバリア層が複数膜の積層構成の場合は合計の厚みを意味する。

ガスバリア層を形成する材料としては、例えば、
ｉ）Ｓｉ，Ｚｎ、Ａｌ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｓｎ、Ｉｎ、Ｎｂ、Ｍｏ、Ｔａ等の元素の酸化物、窒化物、硫化物またはこれらの混合物、
ｉｉ）有機ケイ素化合物、
ｉｉｉ）ガスバリア性樹脂、
ｉｖ）高分子化合物にイオンを注入したもの、
などが挙げられる。

以下、これらの材料について詳細に説明する。

［ｉ）の材料について］
上記したｉ）の材料の中でも酸化物あるいは硫化物が好ましく、さらにＳｉ，Ｚｎ、Ａｌの酸化物あるいは硫化物が好ましく、特に、少なくとも亜鉛（Ｚｎ）酸化物あるいは亜鉛（Ｚｎ）硫化物を含有することが好ましい。

ガスバリア層は、亜鉛酸化物あるいは亜鉛硫化物と、他の元素、例えばＳｉ、Ａｌ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｓｎ、Ｉｎ、Ｎｂ、Ｍｏ、Ｔａ等の酸化物、窒化物、硫化物またはこれらの混合物を含有することが好ましい。

高いガスバリア性を付与するという観点および耐屈曲性が良好であるという観点から、例えば、（ａ）酸化亜鉛−二酸化ケイ素−酸化アルミニウムの共存相からなる層、（ｂ）硫化亜鉛と二酸化ケイ素の共存相からなる層、が好ましく用いられる。

＜（ａ）酸化亜鉛−二酸化ケイ素−酸化アルミニウムの共存相からなる層＞
この共存相の組成としては、ＩＣＰ発光分光分析法により測定されるＺｎ原子濃度は２０〜４０ａｔｏｍ％、Ｓｉ原子濃度は５〜２０ａｔｏｍ％、Ａｌ原子濃度は０．５〜５ａｔｏｍ％、Ｏ原子濃度は３５〜７０ａｔｏｍ％であることが好ましい。

Ｚｎ原子濃度が４０ａｔｏｍ％より大きくなる、もしくはＳｉ原子濃度が５ａｔｏｍ％より小さくなると、酸化亜鉛の結晶成長を抑制する酸化物が不足するため、空隙部分や欠陥部分が増加し、十分なガスバリア性が得られない場合がある。Ｚｎ原子濃度が２０ａｔｏｍ％より小さくなる、またはＳｉ原子濃度が２０ａｔｏｍ％より大きくなると、ガスバリア層内部の二酸化ケイ素の非晶質成分が増加して層の柔軟性が低下する場合がある。

Ａｌ原子濃度が５ａｔｏｍ％より大きくなると、酸化亜鉛と二酸化ケイ素の親和性が過剰に高くなるため膜の硬度が上昇し、熱や外部からの応力に対してクラックが生じやすくなる場合がある。Ａｌ原子濃度が０．５ａｔｏｍ％より小さくなると、酸化亜鉛と二酸化ケイ素の親和性が不十分となり、層を形成する粒子間の結合力が向上できないため、柔軟性が低下する場合がある。

Ｏ原子濃度が７０ａｔｏｍ％より大きくなると、ガスバリア層内の欠陥量が増加するため、高いガスバリア性が得られない場合がある。Ｏ原子濃度が３５ａｔｏｍ％より小さくなると、亜鉛、ケイ素、アルミニウムの酸化状態が不十分となり、結晶成長が抑制できず粒子径が大きくなるため、ガスバリア性が悪化する場合がある。

上記観点から、さらに、Ｚｎ原子濃度が２５〜３５ａｔｏｍ％、Ｓｉ原子濃度が１０〜１５ａｔｏｍ％、Ａｌ原子濃度が１〜３ａｔｏｍ％、Ｏ原子濃度が５０〜６４ａｔｏｍ％であることが好ましい。

上記組成は、ガスバリア層の形成時に使用した混合焼結材料と同等の組成で形成されるため、目的とするガスバリア層の組成に合わせた組成の混合焼結材料を使用することで調整することができる。

上記共存相からなるガスバリア層の組成分析は、ＩＣＰ発光分光分析法を使用して、亜鉛、ケイ素、アルミニウムの各元素を定量分析し、酸化亜鉛と二酸化ケイ素、酸化アルミニウムおよび含有する無機酸化物の組成比を知ることができる。なお、酸素原子は亜鉛原子、ケイ素原子、アルミニウム原子が、それぞれ酸化亜鉛（ＺｎＯ）、二酸化ケイ素（ＳｉＯ_２）、酸化アルミニウム（Ａｌ_２Ｏ_３）として存在すると仮定して算出する。ＩＣＰ発光分光分析は、試料をアルゴンガスとともにプラズマ光源部に導入した際に発生する発光スペクトルから、多元素の同時計測が可能な分析手法であり、組成分析に適用することができる。

上記のガスバリア層を形成する方法は特に限定されず、酸化亜鉛と二酸化ケイ素と酸化アルミニウムの混合焼結材料を使用して、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法等によって形成することができる。酸化亜鉛と二酸化ケイ素と酸化アルミニウムの単体材料を使用する場合は、酸化亜鉛と二酸化ケイ素と酸化アルミニウムをそれぞれ別の蒸着源またはスパッタ電極から同時に成膜し、所望の組成となるように混合させて形成することができる。これらの方法の中でも、ガスバリア層の組成再現性の観点から、混合焼結材料を使用したスパッタリング法がより好ましい。

＜（ｂ）硫化亜鉛と二酸化ケイ素の共存相からなる層＞
硫化亜鉛−二酸化ケイ素共存相においては、硫化亜鉛に含まれる結晶質成分と二酸化ケイ素の非晶質成分とを共存させることによって、微結晶を生成しやすい硫化亜鉛の結晶成長が抑制され粒子径が小さくなるためにガスバリア層が緻密化し、酸素および水蒸気の透過が抑制されることによりガスバリア性が高められると推測される。

また、結晶成長が抑制された硫化亜鉛を含む硫化亜鉛−二酸化ケイ素共存相は、無機酸化物または金属酸化物だけで形成された層よりも柔軟性が優れるため、熱や外部からの応力に対してクラックが生じにくいという利点がある。

この共存相の組成は、硫化亜鉛と二酸化ケイ素の合計に対する硫化亜鉛のモル分率が０．７〜０．９であることが好ましい。硫化亜鉛と二酸化ケイ素の合計に対する硫化亜鉛のモル分率が０．９より大きくなると、硫化亜鉛の結晶成長を抑制する酸化物が不足するため、空隙部分や欠陥部分が増加し、高いガスバリア性が得られない場合がある。また、硫化亜鉛と二酸化ケイ素の合計に対する硫化亜鉛のモル分率が０．７より小さくなると、ガスバリア層内部の二酸化ケイ素の非晶質成分が増加して層の柔軟性が低下するため、機械的な曲げに対するガスバリア性フィルムの柔軟性が低下する場合がある。硫化亜鉛のモル分率は、さらに０．７５〜０．８５の範囲が好ましい。

この共存相からなるガスバリア層は、硫化亜鉛および二酸化ケイ素が上記組成の範囲でかつ主成分であれば特に限定されず、他の金属酸化物、例えば、Ａｌ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｓｎ、Ｉｎ、Ｎｂ、Ｍｏ、Ｔａ、Ｐｄ等の金属酸化物を含有することができる。ここで主成分とは、ガスバリア層の全組成に対して６０質量％以上であることを意味し、８０質量％以上であることが好ましい。

上述のガスバリア層を形成する方法は、特に限定されず、公知の気相製膜方法、例えば、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法等によって形成することができる。

［ｉｉ）有機ケイ素化合物］
ケイ素含有有機化合物としては、例えば、シラン、メチルシラン、ジメチルシラン、トリメチルシラン、テトラメチルシラン、エチルシラン、ジエチルシラン、トリエチルシラン、テトラエチルシラン、プロポキシシラン、ジプロポキシシラン、トリプロポキシシラン、テトラプロポキシシラン、ジメチルジシロキサン、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラプロポキシシラン、テトラメチルジシロキサン、ヘキサメチルジシロキサン、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラプロポキシシラン、ヘキサメチルシクロトリシロキサン、オクタメチルシクロテトラシロキサン、デカメチルシクロペンタシロキサン、ウンデカメチルシクロヘキサシロキサン、ジメチルジシラザン、トリメチルジシラザン、テトラメチルジシラザン、ヘキサメチルジシラザン、ヘキサメチルシクロトリシラザン、オクタメチルシクロテトラシラザン、デカメチルシクロペンタシラザン、ウンデカメチルシクロヘキサシラザンなどが挙げられる。中でも取り扱い上の観点からヘキサメチルジシロキサン、テトラエトキシシランが好ましい。

上記有機ケイ素化合物を原料としてプラズマＣＶＤ法などで製膜することにより、酸化ケイ素膜、酸窒化ケイ素膜、窒化ケイ素膜などの無機膜を形成することができる。

また、上記有機ケイ素化合物を公知の湿式塗布方式（スリットダイコーターやグラビアコーターなどを用いた塗布方式）により塗布後、真空紫外線（エキシマ光）を照射することにより、酸化ケイ素膜、酸窒化ケイ素膜、窒化ケイ素膜などの無機膜を形成することができる。

［ｉｉｉ）ガスバリア性樹脂］
ガスバリア性樹脂としては、例えば、ポリビニルアルコール、又はその部分ケン化物、エチレン−ビニルアルコール共重合体、ポリアクリロニトリル、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリクロロトリフルオロエチレン等が挙げられる。これらの樹脂を公知の湿式塗布方式（スリットダイコーターやグラビアコーターなどを用いた塗布方式）で塗布することによりガスバリア層を形成することができる。

［ｉｖ）高分子化合物にイオンを注入したもの］
ガスバリア層は、高分子化合物を含む層にイオン注入して形成することができる。かかる高分子化合物としては、ケイ素含有高分子化合物、ポリイミド、ポリアミド、ポリアミドイミド、ポリフェニレンエーテル、ポリエーテルケトン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリオレフィン、ポリエステル、ポリカーボネート、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリフェニレンスルフィド、ポリアリレート、アクリル系樹脂、シクロオレフィン系ポリマー、芳香族系重合体等が挙げられる。これらの高分子化合物は１種単独で、あるいは２種以上を組合せて用いることができる。

これらの高分子化合物の中でもケイ素含有高分子化合物が好ましく、さらにケイ素含有高分子化合物の中でもポリシラザン系化合物が好ましい。

高分子化合物を含有する層は、公知の湿式塗布方法（スリットダイコーターやグラビアコーターなどを用いた塗布方式）を用いて形成することができる。

高分子化合物を含む層に注入されるイオンとしては、例えば、水素、酸素、窒素、アルゴン、ヘリウム、ネオン、クリプトン、キセノン等のガスが好ましく用いられる。

上述したガスバリア層を構成する材料の中でも、水蒸気透過率を小さくするという観点から、少なくとも酸化亜鉛を含むことが好ましい。さらに、ガスバリア層は、前述した（ａ）酸化亜鉛−二酸化ケイ素−酸化アルミニウムの共存相からなる層であることが特に好ましい。

［封止粘着剤層］
本発明のガスバリア性フィルムは、有機ＥＬデバイス等に貼合するための封止粘着剤層が積層されていることが好ましい。封止粘着剤層は、ガスバリア性フィルムのガスバリア層側の面に積層されていることが好ましい。

封止粘着剤層は、封止樹脂と粘着付与樹脂を含有することが好ましい。封止樹脂としては、ゴム系ポリマー、ポリオレフィン系ポリマー、スチレン系熱可塑性エラストマー、（メタ）アクリル系ポリマー、ポリエステル系ポリマーおよびシリコーン系ポリマーからなる群から選ばれる少なくとも１種の樹脂を含有することが好ましい。

上記封止樹脂の中でも、水蒸気透過率を小さくするという観点から、ゴム系ポリマー、ポリオレフィン系ポリマーおよびスチレン系熱可塑性エラストマーからなる群から選ばれる少なくとも１種の樹脂を含有することが好ましい。

ゴム系ポリマーは、天然ゴム又は合成ゴム等のゴム弾性を有するものである。例えば、天然ゴム、ブタジエン単独重合体（ブタジエンゴム）、クロロプレン単独重合体（クロロプレンゴム）、イソプレン単独重合体、アクリロニトリル−ブタジエン共重合体（ニトリルゴム）、エチレン−プロピレン−非共役ジエン三元共重合体、イソブチレン系重合体、またはこれらを変性したものが挙げられる。ゴム系ポリマーの中でも、イソブチレン系重合体が好ましい。

イソブチレン系重合体は、主鎖および／または側鎖に、イソブチレン由来の繰り返し単位を有する重合体をいう。イソブチレン由来の繰り返し単位の含有比率は、５０質量％以上が好ましく、６０質量％以上がより好ましく、７０質量％以上が特に好ましい。上限の含有比率は９９質量％程度である。

イソブチレン系重合体としては、イソブチレン単独重合体（ポリイソブチレン）、イソブチレン−イソプレン共重合体（ブチルゴム）、イソブチレン−ｎブテン共重合体、イソブチレン−ブタジエン共重合体、およびこれらの重合体を臭素化または塩素化して得られるハロゲン化重合体などが挙げられる。これらの中でも、イソブチレン−イソプレン共重合体（ブチルゴム）が好ましい。

ゴム系ポリマーの数平均分子量（Ｍｎ）は、５万〜３００万の範囲が好ましく、１０万〜２００万の範囲がより好ましく、１５万〜１５０万の範囲が特に好ましい。ゴム系ポリマーの数平均分子量（Ｍｎ）が上記範囲内であることで、水蒸気透過率の小さい封止フィルムが得られる。

ゴム系ポリマーの数平均分子量（Ｍｎ）は、テトラヒドロフランを溶媒として用いてゲルパーミエーションクロマトグラフィーを行い、標準ポリスチレン換算値として求めることができる。

ポリオレフィン系ポリマーは、主鎖および／または側鎖に、オレフィン系モノマー由来の繰り返し単位を有する重合体であり、オレフィン系モノマー単独重合体や共重合体、あるいはこれらを変性したものが挙げられる。

かかるオレフィン系モノマーとしては、プロピレン、１−ブテン、４−メチル−１−ペンテン、３−メチル−１−ブテン、１−ヘキセン、１−オクテン等の炭素数３〜２０のα−オレフィン、あるいはシクロブテン、テトラシクロドデセン、ノルボルネン等の炭素数４〜２０の環状オレフィンが挙げられる。

スチレン系熱可塑性エラストマーは、スチレン由来の繰り返し単位を有する重合体もしくは該重合体を変性したものである。例えば、スチレン−ブタジエン−スチレンブロック共重合体および該共重合体の水素添加物であるスチレン−エチレン−ブテン−スチレンブロック共重合体、スチレン−イソプレン−スチレンブロック共重合体および該共重合体の水素添加物であるスチレン−エチレン−プロピレン−スチレンブロック共重合体、スチレン−ブタジエン共重合体（スチレンブタジエンゴム）、スチレン−イソプレン共重合体、スチレン−イソブチレンジブロック共重合体、スチレン−イソブチレン−スチレントリブロック共重合体等が挙げられる。

（メタ）アクリル系ポリマーは、主鎖および／または側鎖に、（メタ）アクリル系モノマー由来の繰り返し単位を有する重合体である。例えば、（メタ）アクリル系モノマーの単独重合体もしくは共重合体、またはこれらを変性したものが挙げられる。ここで、「（メタ）アクリル」は、アクリルまたはメタクリルを意味する。

（メタ）アクリル系ポリマーにおける（メタ）アクリル系モノマー由来の繰り返し単位の含有比率は、５０質量％以上が好ましく、６０質量％以上がより好ましく、７０以上が特に好ましい。上限の含有比率は９９質量％程度である。

（メタ）アクリル系モノマーとしては、例えば、（メタ）アクリル酸メチル、（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸プロピル、（メタ）アクリル酸ブチル、（メタ）アクリル酸２−エチルヘキシル等のアルキル基の炭素数が１〜２０の（メタ）アクリル酸エステル、あるいは（メタ）アクリル酸、（メタ）アクリル酸ヒドロキシメチル等の反応性官能基を有する（メタ）アクリル系モノマーが挙げられる。

ポリエステル系ポリマーは、多価カルボン酸とポリオールとの重縮合により得られる重合体またはこれを変性したものである。かかる多価カルボン酸としては、例えば、フタル酸、イソフタル酸、オルソフタル酸、コハク酸、アジピン酸、セバシン酸、シクロヘキサンジカルボン酸、トリメリット酸等が挙げられる。ポリオールとしては、エチレングリコール、プロピレングリコール等の脂肪族アルコールや、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール等のポリエーテルポリオールが挙げられる。

シリコーン系ポリマーは、主鎖および／または側鎖に、（ポリ）シロキサン構造を有する重合体またはこれを変性したものである。かかるシリコーン系ポリマーとしては、例えば、ジメチルポリシロキサン、メチルフェニルポリシロキサン、メチルハイドロジェンポリシロキサン等が挙げられる。

上述した封止樹脂を単独もしくは複数種組み合わせて用いることができる。封止粘着剤層における封止樹脂の含有量は、封止粘着剤層の固形分総量１００質量％に対して、２５〜９０質量％の範囲が好ましく、３０〜８０質量％の範囲がより好ましく、４０〜７０質量％の範囲が特に好ましい。

封止粘着剤層は、さらに粘着付与樹脂を含有することが好ましい。かかる粘着付与樹脂としては、例えば、脂環族系石油樹脂、脂環族系水添石油樹脂、芳香族系石油樹脂、およびロジン系樹脂が挙げられる。これらの粘着付与樹脂の中でも脂環族系石油樹脂が好ましく、さらに脂環族系水添石油樹脂の中でも、水素添加テルペン系樹脂、水素添加エステル系樹脂、Ｃ５系石油樹脂の水素添加樹脂、Ｃ９系石油樹脂の水素添加樹脂が好ましい。

封止粘着剤層における粘着付与樹脂の含有量は、封止粘着剤層の固形分総量１００質量％に対して、５〜６０質量％の範囲が好ましく、１０〜５０質量％の範囲がより好ましく、１５〜４０質量％の範囲が特に好ましい。

封止樹脂と粘着付与樹脂との質量比（封止樹脂／粘着付与樹脂）は、２０／８０〜９５／５であることが好ましく、３０／７０〜９０／１０であることがより好ましい。

封止粘着剤層は、架橋構造が形成されていてもよい。架橋構造が形成されることで、封止粘着剤層は、十分な凝集力を有するものとなり、接着性により優れ、かつ、水蒸気透過率がより低いものとなる。

封止粘着剤層中に架橋構造を形成する際は、接着剤等における公知の架橋構造形成方法を利用することができる。例えば、水酸基やカルボキシル基を有する封止樹脂を用いる場合、イソシアネート系架橋剤、エポキシ系架橋剤、アジリジン系架橋剤、金属キレート系架橋剤等の架橋剤を用いることで、架橋構造を形成することができる。

封止粘着剤層の厚みは、５〜１５０μｍの範囲が好ましく、１０〜１００μｍの範囲がより好ましく、２０〜８０μｍの範囲が特に好ましい。また、封止粘着剤層は、水蒸気透過率が、４０ｇ／ｍ^２／ｄａｙ以下であることが好ましく、３０ｇ／ｍ^２／ｄａｙ以下であることがより好ましく、２０ｇ／ｍ^２／ｄａｙ以下であることが特に好ましい。

［ガスバリア性フィルムの適用例］
本発明のガスバリア性フィルムは、医薬品などの包装材、有機ＥＬ照明、有機ＥＬディスプレイなどの有機ＥＬデバイス、太陽電池などの電子デバイスに用いることができる。

特に、本発明のガスバリア性フィルムは、フレキシブル性が高く、優れた耐屈曲性を有することから、フレキシブル（折り曲げ可能）な有機ＥＬデバイスに好適である。

本発明の有機ＥＬデバイスは、本発明のガスバリア性フィルムを備えた有機ＥＬデバイスである。本発明のガスバリア性フィルムを備えた有機ＥＬデバイスは、公知の方法、例えば、特開２０１０−８０２８９号公報、特開２０１２−５７０６５号公報、特開２０１４−１６６７５３号公報、特開２０１５−１９１８００号公報等に記載の方法により作製することができる。

以下、本発明を実施例に基づき、具体的に説明する。ただし、本発明は下記実施例に限定されるものではない。
［評価方法］
まず、各実施例および比較例における評価方法を説明する。評価ｎ数は、特に断らない限り、ｎ＝５とし平均値を求めた。

（１）ベースフィルムの硬化樹脂層（Ａ）の耐屈曲性（Ａ）の評価
円筒形マンドレル法（ＪＩＳ Ｋ５６００−５−１：１９９９）に準拠して、直径２ｍｍの円筒形マンドレルに、ベースフィルムの硬化樹脂層（Ａ）側が外側になるように巻き付け、その巻き付け部分の硬化樹脂層（Ａ）にクラックが生じるか否かを目視で観察し、以下の基準で評価した。

○：クラックが確認できない。

×：クラックが確認される。

（２）ベースフィルムの硬化樹脂層（Ｂ）の耐屈曲性（Ｂ）の評価
上記（１）と同様にして耐屈曲性を評価した。但し、直径２ｍｍの円筒形マンドレルに、ベースフィルムの硬化樹脂層（Ｂ）側が外側になるように巻き付け、硬化樹脂層（Ｂ）にクラックが発生しているかどうかを評価した。

（３）ガスバリア性フィルムの耐屈曲性（Ｃ−１、Ｃ−２）の評価
上記（１）と同様にして耐屈曲性を評価した。但し、耐屈曲性（Ｃ−１）の評価は、直径２ｍｍの円筒形マンドレルに、ガスバリア性フィルムのガスバリア層側が外側になるように巻き付けた。耐屈曲性（Ｃ−２）の評価は、直径２ｍｍの円筒形マンドレルに、ガスバリア性フィルムのガスバリア層側が内側となるように（ガスバリア層側が円筒形マンドレルに接するように）巻き付けた。

（４）ナノインデンテーション法による押し込み硬さの測定
（株）エリオニクス製のナノインデンター「ＥＮＴ−２１００」を用いて測定した。ベースフィルムの測定面（硬化樹脂層（Ａ）面もしくは硬化樹脂層（Ｂ）面）とは反対面を、接着剤（東亞合成（株）製「“アロンアルファ”（登録商標）」を介して専用のサンプル固定台に固定し、硬化樹脂層（Ａ）あるいは硬化樹脂層（Ｂ）の押し込み硬さ（Ｈ_ＩＴ（Ｎ／ｍｍ^２））を、稜間角１１５°の三角錐ダイヤモンド圧子（Ｂｅｒｋｏｖｉｃｈ圧子）を用いて下記条件にて測定した。測定データは「ＥＮＴ−２１００」の専用解析ソフト（ｖｅｒｓｉｏｎ ６．１８）により処理した。

＜測定条件＞
・測定モード：負荷−除荷試験
・最大荷重：１００ｍＮ
・最大荷重に達した時の保持時間：１秒
・荷重速度、除荷速度：１０ｍＮ／ｓｅｃ
・押し込み深さ：膜厚の１／１０
（５）各層の厚み
ベースフィルムおよびガスバリア性フィルムの断面観察用サンプルをマイクロサンプリングシステム（日立製ＦＢ−２０００Ａ）を使用してＦＩＢ法により（具体的には「高分子表面加工学」（岩森暁著）ｐ．１１８〜１１９に記載の方法に基づいて）作製した。透過型電子顕微鏡（日立製Ｈ−９０００ＵＨＲII）により、加速電圧３００ｋＶとして、断面観察用サンプルの断面を観察し、硬化樹脂層（Ａ）、硬化樹脂層（Ｂ）およびガスバリア層の厚みを測定した。環状オレフィン樹脂フィルムと硬化樹脂層（Ａ）あるいは硬化樹脂層（Ｂ）との界面、および硬化樹脂層（Ａ）とガスバリア層との界面は、透過型電子顕微鏡による断面観察写真によって判断した。

（６）硬化樹脂層（Ｂ）に含有される粒子の平均粒子径の測定
硬化樹脂層（Ｂ）の断面をＴＥＭ（透過型電子顕微鏡）で観察（約１万〜３０万倍）し、その断面写真の幅（硬化樹脂層（Ｂ）の厚み方向に直交する長さ）１μｍに存在する全ての粒子の最大長さを計測し、それらを算術平均した値を粒子の平均粒子径とした。

（７）原子間力顕微鏡で測定される表面粗さ（Ｒａ）の測定
硬化樹脂層（Ａ）および硬化樹脂層（Ｂ）の表面粗さ（Ｒａ）を、日立ハイテクサイエンス製の原子間力顕微鏡「ＡＦＭ５１００Ｎ」を用い、下記条件による測定した。
・走査モード：ＤＦＭ
・走査範囲：５μｍ×５μｍ
・データ数：２５６×２５６
・測定環境：２５℃、大気中
（８）ガスバリア性フィルムの水蒸気透過率の測定
温度４０℃、湿度９０％ＲＨ、測定面積５０ｃｍ^２の条件で、英国、テクノロックス（Ｔｅｃｈｎｏｌｏｘ）社製の水蒸気透過率測定装置（機種名：ＤＥＬＴＡＰＥＲＭ（登録商標） ）を使用して測定した。サンプル数は１水準当たり２検体とし、測定回数は各検体について５回とし、得られた１０点の平均値を水蒸気透過率（ｇ／ｍ^２／ｄａｙ）とした。

（９）ガスバリア層の組成分析
ガスバリア層の組成分析はＩＣＰ発光分光分析（エスアイアイ・ナノテクノロジー社製、ＳＰＳ４０００）により行った。試料を、硝酸および硫酸で加熱分解し、希硝酸で加温溶解して濾別した。不溶解分は加熱灰化したのち、炭酸ナトリウムで融解し、希硝酸で溶解して、先の濾液とあわせて定容とした。この溶液について、亜鉛原子、ケイ素原子、アルミニウム原子の含有量を測定し、原子数比に換算した。なお、酸素原子は亜鉛原子、ケイ素原子、アルミニウム原子が、それぞれ酸化亜鉛（ＺｎＯ）、二酸化ケイ素（ＳｉＯ_２）、酸化アルミニウム（Ａｌ_２Ｏ_３）として存在すると仮定して求めた計算値とした。

（１０）ベースフィルムおよびガスバリア性フィルムの滑り性の評価
ベースフィルムおよびガスバリア性フィルムをカットして２枚のシート片（２０ｃｍ×１５ｃｍ）を作製した。２枚のシート片の硬化樹脂層（Ａ）面（またはガスバリア層面）と反対面とが向き合うように２枚のシート片を僅かにずらして重ね合わせて平滑な台上の置き、下方のシート片を指で台上に固定し、上方のシート片を手で滑らせる方法で滑り性の良否判定を行った。測定環境は２３℃、５５％ＲＨである。
○：上方のシート片の滑り性が良好である。
×：上方のシート片がスムーズに滑らない。

（１１）ベースフィルムのフレキシブル性（Ａ）の評価
短辺３ｃｍ×長辺１０ｃｍのベースフィルムを用意し、硬化樹脂層（Ａ）側が外側となるように、長辺の中央部のところで折り重ねたとき、折目からベースフィルムが割れて破断するかどうかを評価した。
○：破断しない。
×：破断する。

（１２）ベースフィルムのフレキシブル性（Ｂ）の評価
上記（１１）と同様にして、硬化樹脂層（Ｂ）側が外側となるように、長辺の中央部のところで折り重ねたとき、折目からベースフィルムが割れて破断するかどうかを評価した。

（１３）ガスバリア性フィルムのフレキシブル性（Ｃ−１、Ｃ−２）の評価
上記（１１）と同様にして評価した。但し、フレキシブル性（Ｃ−１）の評価は、ガスバリア性フィルムのガスバリア層側が外側となるように、長辺の中央部のところで折り重ねたとき、折目からガスバリア性フィルムが割れて破断するかどうかを評価した。フレキシブル性（Ｃ−２）の評価は、ガスバリア性フィルムのガスバリア層側が内側となるように、長辺の中央部のところで折り重ねたとき、折目からガスバリア性フィルムが割れて破断するかどうかを評価した。

（１４）硬化樹脂層（Ｂ）表面における粒子による突起の有無の判断
硬化樹脂層（Ｂ）表面を走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）にて約１万〜１０万倍の倍率で観察し、粒子による突起の有無を確認する。

（１５）環状オレフィン樹脂フィルムのリターデーション（Ｒｅ５５０）の測定
環状オレフィン樹脂フィルムの波長５５０ｎｍに光に対する面内方向のリターデーション（Ｒｅ５５０）について、王子計測器社製複屈折計ＫＯＢＲＡ−ＷＲを用いて、平行ニコル回転法により測定した。

［実施例１］
下記の要領でベースフィルムを作製した。

＜硬化樹脂層（Ａ）の積層＞
厚みが５０μｍの環状オレフィン樹脂フィルム（日本ゼオン（株）の「ＺｅｏｎｏｒＦｉｌｍ」（登録商標）ＺＦ１４−０５０：リターデーションＲｅ５５０＝３ｎｍ）の一方の面に、コロナ処理を施し、下記の硬化樹脂層（Ａ）用塗布液ａ１をグラビアコーターで塗布し、９０℃で乾燥後、紫外線を４００ｍＪ／ｃｍ^２照射し硬化させて硬化樹脂層（Ａ）を形成した。この硬化樹脂層（Ａ）の厚みは１．５μｍであった。

＜硬化樹脂層（Ａ）用塗布液ａ１＞
３官能のウレタンアクリレートオリゴマーを含有する紫外線硬化性樹脂塗布液（日本合成化学（株）の「ＵＶ−７５５０Ｂ」）を、有機溶剤（ＭＥＫ）で固形分濃度が２０質量％となるように希釈した。

［実施例２］
硬化樹脂層（Ａ）用塗布液を下記の塗布液ａ２に変更する以外は、実施例１と同様にしてベースフィルムを作製した。この硬化樹脂層（Ａ）の厚みは１．５μｍであった。

＜硬化樹脂層（Ａ）用塗布液ａ２＞
荒川化学工業（株）製の紫外線硬化性ハードコーティング剤「ビームセット１２００」を、有機溶剤（ＭＥＫ）で固形分濃度が２０質量％となるように希釈した。

［実施例３］
硬化樹脂層（Ａ）用塗布液を下記の塗布液ａ３に変更する以外は、実施例１と同様にしてベースフィルムを作製した。この硬化樹脂層（Ａ）の厚みは１．５μｍであった。

＜硬化樹脂層（Ａ）用塗布液ａ３＞
大日精化工業（株）製の紫外線硬化性樹脂「セイカビーム ＩＬ−ＰＣ２」を、有機溶剤（ＭＥＫ）で固形分濃度が２０質量％となるように希釈した。

［実施例４］
硬化樹脂層（Ａ）用塗布液を下記の塗布液ａ４に変更する以外は、実施例１と同様にしてベースフィルムを作製した。この硬化樹脂層（Ａ）の厚みは１．５μｍであった。

＜硬化樹脂層（Ａ）用塗布液ａ４＞
下記のウレタン（メタ）アクリレートオリゴマー（ＵＡ）１４０質量部、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート２０質量部、光重合開始剤（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ（株）製「イルガキュア（登録商標）９０７」）５質量部、有機溶剤（ＭＥＫ）で希釈して、固形分濃度が２０質量％に調製した。

＜ウレタン（メタ）アクリレートオリゴマー（ＵＡ）の合成＞
４つ口フラスコに、ビスフェノールＦ型ジエポキシ樹脂（東都化成（株）製、商品名：エポトートＹＤＦ−８１７０Ｃ、エポキシ当量：１５９）を３１８０質量部、アクリル酸（三菱化学（株）製、商品名：アクリル酸）１４４０質量部、重合禁止剤としてヒドロキノンモノメチルエーテル４．６質量部、合成触媒としてジメチルアミノエチルメタアクリレート（三菱レイヨン（株）製、商品名：アクリエステルＤＭ）２３質量部を入れ、攪拌しながら９５℃まで昇温させ、９５℃に保持した状態で１４時間反応を続けた。酸価が１ｍｇＫＯＨ／ｇ以下になったところで内温が６０℃になるまで冷却してエポキシ（メタ）アクリレートを得た。

次に、４つ口フラスコに、上記エポキシ（メタ）アクリレート２９８質量部、酢酸エチル７１１．３質量部を入れ、内温６０℃になるように加温した。合成触媒としてジラウリン酸ジ−ｎ−ブチル錫０．２１質量部を添加し、攪拌しながら、メチルシクロヘキシレンジイソシアネート（三井化学ポリウレタン（株）製、商品名：タケネート６００）１９９質量部を１時間かけて滴下した。滴下終了後２時間反応を続行し、続いてジエチレングリコール（和光純薬工業（株）製試薬、商品名：ジエチレングリコール、分子量１０６）２７．３質量部、ペンタエリスリトールテトラアクリレート（東亜合成（株）製、商品名：アロニックスＭ−３０６）１８７質量部の混合物を１時間かけて滴下した。滴下後５時間反応を続行し、質量平均分子量１９８００のウレタン（メタ）アクリレートオリゴマー（ＵＡ）を得た。

［実施例５］
環状オレフィン樹脂フィルムを、リターデーションＲｅ５５０が１４０ｎｍである環状オレフィン樹脂フィルム（日本ゼオン（株）の「ＺｅｏｎｏｒＦｉｌｍ」（登録商標）ＺＭ１４−１４０；厚みが２８μｍ）に変更し、かつ硬化樹脂層（Ａ）用塗布液を下記の塗布液ａ５に変更する以外は、実施例１と同様にしてベースフィルムを作製した。この硬化樹脂層（Ａ）の厚みは１．５μｍであった。

＜硬化樹脂層（Ａ）用塗布液ａ５＞
アイカ工業（株）製の紫外線硬化性コート剤「アイカアイトロン（登録商標）Ｚ−８５０−３」を、有機溶剤（ＭＥＫ）で固形分濃度が２０質量％となるように希釈した。

［比較例１］
硬化樹脂層（Ａ）用塗布液を下記の塗布液ａ６に変更する以外は、実施例１と同様にしてベースフィルムを作製した。

＜硬化樹脂層（Ａ）用塗布液ａ６＞
１０官能のウレタンアクリレートオリゴマーを含有する紫外線硬化性樹脂塗布液（日本合成化学（株）の「ＵＶ−１７００Ｂ」）を、有機溶剤（ＭＥＫ）で固形分濃度が２０質量％となるように希釈した。

［比較例２］
硬化樹脂層（Ａ）用塗布液を下記の塗布液ａ７に変更する以外は、実施例１と同様にしてベースフィルムを作製した。

＜硬化樹脂層（Ａ）用塗布液ａ７＞
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート３０質量部、Ｎ−ビニルピロリドン８質量部、メチルメタクリレート２質量部、光重合開始剤（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ（株）製「イルガキュア（登録商標）１８４」）３質量部、有機溶剤（ＭＥＫ）６０質量部を混合して調製した。

［比較例３］
硬化樹脂層（Ａ）用塗布液を下記の熱可塑性樹脂を含む塗布液ａ８に変更する以外は、実施例１と同様にしてベースフィルムを作製した。

＜熱可塑性樹脂塗布液ａ８＞
熱可塑性樹脂であるポリウレタン樹脂の水分散体（第一工業製薬株式会社製「スーパーフレックス１５０」固形分濃度：３０質量％）を固形分濃度が２０質量％となるように純水で希釈して調製した。

［実施例１１〜１５および比較例１１〜１３］
実施例１〜５および比較例１〜３で作製したベースフィルムの硬化樹脂層（Ａ）の上に、下記のガスバリア層を厚みが１５０ｎｍとなるように積層してガスバリア性フィルムを作製した。

＜ガスバリア層の積層＞
図１に示す構造の巻き取り式のスパッタリング装置を使用し、酸化亜鉛と二酸化ケイ素と酸化アルミニウムで形成された混合焼結材であるスパッタターゲットをスパッタ電極１２に設置してアルゴンガスおよび酸素ガスによるスパッタリングを実施し、ベースフィルム４の硬化樹脂層（Ａ）（不図示）の面上にガスバリア層を積層した。

具体的な操作は以下の通りである。まず、スパッタ電極１２に酸化亜鉛／二酸化ケイ素／酸化アルミニウムの組成質量比が７７／２０／３で焼結されたスパッタターゲットを設置した巻き取り式スパッタ装置１の巻き取り室６の中で、巻き出し軸７にベースフィルムのガスバリア層を設ける側の面がスパッタ電極１２に対向するようにセットし、巻き出し、ガイドロール８，９，１０を介して、クーリングドラム１１に通した。減圧度２×１０^−１Ｐａとなるように酸素ガス分圧１０％としてアルゴンガスおよび酸素ガスを導入し、直流電源により投入電力４０００Ｗを印加することにより、アルゴン・酸素ガスプラズマを発生させ、ガスバリア層を形成した。厚みは、フィルム搬送速度により調整した。その後、ガイドロール１３，１４，１５を介して巻き取り軸１６に巻き取った。

このガスバリア層の組成は、Ｚｎ原子濃度が２７．５ａｔｏｍ％、Ｓｉ原子濃度が１３．１ａｔｏｍ％、Ａｌ原子濃度が２．３ａｔｏｍ％、Ｏ原子濃度が５７．１ａｔｏｍ％であった。

［評価］
上記の実施例および比較例で得られたベースフィルムおよびガスバリア性フィルムについて、前述の測定および評価を行った。その結果を表１に示す。

実施例１〜５のベースフィルム、およびこれらのベースフィルムを用いた実施例１１〜１５のガスバリア性フィルムは、耐屈曲性およびフレキシブル性が良好である。また、実施例１１〜１５のガスバリア性フィルムは高いガスバリア性（水蒸気透過率が小さい）を有する。

一方、比較例１、２のベースフィルム、およびこれらのベースフィルムを用いた比較例１、２のガスバリア性フィルムは、硬化樹脂層（Ａ）として従来の一般的な高硬度なハードコート剤を用いており、耐屈曲性およびフレキシブル性が低下している。

比較例３のベースフィルムは、硬化樹脂層（Ａ）に替えて熱可塑性樹脂層を用いており、耐屈曲性およびフレキシブル性が良好であるが、このベースフィルムを用いた比較例１３のガスバリア性フィルムは、ガスバリア性（水蒸気透過率）が悪化している。

［実施例６］
実施例１のベースフィルムの硬化樹脂層（Ａ）が積層された面とは反対面に、下記の硬化樹脂層（Ｂ）用塗布液ｂ１をグラビアコーターで塗布し、９０℃で乾燥後、紫外線を４００ｍＪ／ｃｍ^２照射し硬化させて硬化樹脂層（Ｂ）を形成した。この硬化樹脂層（Ｂ）の厚みは１．５μｍ、粒子の平均粒子径は０．１３μｍ、粒子の平均粒子径（ｒ：μｍ）と硬化樹脂層（Ｂ）の厚み（ｄ：μｍ）との比率（ｒ／ｄ）は、０．０９であった。この硬化樹脂層（Ｂ）の表面には、粒子による突起が確認された。

＜硬化樹脂層（Ｂ）用塗布液ｂ１＞
３官能のウレタンアクリレートオリゴマーを含有する紫外線硬化性樹脂塗布液（日本合成化学（株）の「ＵＶ−７５５０Ｂ」）に、下記のシリカ粒子分散液ｃ１を固形分換算で塗布液の全固形分に対して８質量％となるように添加し、有機溶剤（ＭＥＫ）で希釈して固形分濃度が２０質量％の塗布液を調製した。

＜シリカ粒子分散液ｃ１＞
コロイダルシリカ（日産化学工業株式会社製の「オルガノシリカゾル ＭＥＫ−ＳＴ−ＺＬ」）１５０質量部に、メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン１３．７質量部と１０質量％蟻酸水溶液１．７質量部を混合し、７０℃にて１時間撹拌した。次いで、フッ素化合物（Ｈ_２Ｃ＝ＣＨ−ＣＯＯ−ＣＨ_２−（ＣＦ_２）_８Ｆ）１３．８質量部および２,２−アゾビスイソブチロニトリル０．５７質量部を加えた後、６０分間９０℃にて加熱撹拌して表面処理されたシリカ粒子の分散液を得た。

［実施例７］
実施例３のベースフィルムの硬化樹脂層（Ａ）が積層された面とは反対面に、下記の硬化樹脂層（Ｂ）用塗布液ｂ２をグラビアコーターで塗布し、９０℃で乾燥後、紫外線を４００ｍＪ／ｃｍ^２照射し硬化させて硬化樹脂層（Ｂ）を形成した。この硬化樹脂層（Ｂ）の厚みは１．５μｍ、粒子の平均粒子径は０．１３μｍ、粒子の平均粒子径（ｒ：μｍ）と硬化樹脂層（Ｂ）の厚み（ｄ：μｍ）との比率（ｒ／ｄ）は、０．０９であった。この硬化樹脂層（Ｂ）の表面には、粒子による突起が確認された。

＜硬化樹脂層（Ｂ）用塗布液ｂ２＞
大日精化工業（株）製の紫外線硬化性樹脂「セイカビーム ＩＬ−ＰＣ２」に、上記シリカ粒子分散液ｃ１を固形分換算で塗布液の全固形分に対して８質量％となるように添加し、有機溶剤（ＭＥＫ）で希釈して固形分濃度が２０質量％の塗布液を調製した。

［実施例８］
実施例４のベースフィルムの硬化樹脂層（Ａ）が積層された面とは反対面に、下記の硬化樹脂層（Ｂ）用塗布液ｂ３をグラビアコーターで塗布し、９０℃で乾燥後、紫外線を４００ｍＪ／ｃｍ^２照射し硬化させて硬化樹脂層（Ｂ）を形成した。この硬化樹脂層（Ｂ）の厚みは１．５μｍ、粒子の平均粒子径は０．０８μｍ、粒子の平均粒子径（ｒ：μｍ）と硬化樹脂層（Ｂ）の厚み（ｄ：μｍ）との比率（ｒ／ｄ）は、０．０５であった。この硬化樹脂層（Ｂ）の表面には、粒子による突起が確認された。

＜硬化樹脂層（Ｂ）用塗布液ｂ３＞
アイカ工業（株）製の紫外線硬化性コート剤「アイカアイトロン（登録商標）Ｚ−８５０−３」に、下記シリカ粒子分散液ｃ２を固形分換算で塗布液の全固形分に対して１０質量％となるように添加し、有機溶剤（ＭＥＫ）で希釈して固形分濃度が２０質量％の塗布液を調製した。

（シリカ粒子分散液ｃ２）
気相法シリカ（日本アエロジル（株）の「アエロジルＯＸ５０」）を有機溶剤（ＭＥＫ）中で分散してシリカ濃度が１５質量％の分散液を得た。分散装置としてビーズミルを用いた。

次に、この分散液３００質量部に、フルオロアルキルアルコキシシラン（信越化学（株）製の「ＫＢＭ７１０３」）を８質量部混合し、５０℃で１時間加熱撹拌して、表面処理されたシリカ粒子の分散液を得た。

［実施例９］
下記の硬化樹脂層（Ｂ）用塗布液ｂ４に変更した以外は、実施例６と同様にしてベースフィルムを作製した。この硬化樹脂層（Ｂ）の表面には粒子による突起は確認されなかった。

＜硬化樹脂層（Ｂ）用塗布液ｂ４＞
３官能のウレタンアクリレートオリゴマーを含有する紫外線硬化性樹脂塗布液（日本合成化学（株）の「ＵＶ−７５５０Ｂ」）を、有機溶剤（ＭＥＫ）で固形分濃度が２０質量％となるように希釈した。

［実施例１０］
実施例５のベースフィルムの硬化樹脂層（Ａ）が積層された面とは反対面に、上記の硬化樹脂層（Ｂ）用塗布液ｂ３をグラビアコーターで塗布し、９０℃で乾燥後、紫外線を４００ｍＪ／ｃｍ^２照射し硬化させて硬化樹脂層（Ｂ）を形成した。この硬化樹脂層（Ｂ）の厚みは１．５μｍ、粒子の平均粒子径は０．０８μｍ、粒子の平均粒子径（ｒ：μｍ）と硬化樹脂層（Ｂ）の厚み（ｄ：μｍ）との比率（ｒ／ｄ）は、０．０５であった。この硬化樹脂層（Ｂ）の表面には、粒子による突起が確認された。

［比較例４］
比較例１のベースフィルムの硬化樹脂層（Ａ）が積層された面とは反対面に、下記の硬化樹脂層（Ｂ）用塗布液ｂ５をグラビアコーターで塗布し、９０℃で乾燥後、紫外線を４００ｍＪ／ｃｍ^２照射し硬化させて硬化樹脂層（Ｂ）を形成した。この硬化樹脂層（Ｂ）の厚みは１．５μｍ、粒子の平均粒子径は０．１３μｍ、粒子の平均粒子径（ｒ：μｍ）と硬化樹脂層（Ｂ）の厚み（ｄ：μｍ）との比率（ｒ／ｄ）は、０．０９であった。この硬化樹脂層（Ｂ）の表面には、粒子による突起が確認された。

＜硬化樹脂層（Ｂ）用塗布液ｂ５＞
１０官能のウレタンアクリレートオリゴマーを含有する紫外線硬化性樹脂塗布液（日本合成化学（株）の「ＵＶ−１７００Ｂ」）に、上記シリカ粒子分散液ｃ１を固形分換算で塗布液の全固形分に対して８質量％となるように添加し、有機溶剤（ＭＥＫ）で希釈して固形分濃度が２０質量％の塗布液を調製した。

［比較例５］
下記の硬化樹脂層（Ｂ）用塗布液ｂ６に変更した以外は、比較例１と同様にしてベースフィルムを作製した。この硬化樹脂層（Ｂ）の厚みは１．５μｍ、粒子の平均粒子径は０．１３μｍ、粒子の平均粒子径（ｒ：μｍ）と硬化樹脂層（Ｂ）の厚み（ｄ：μｍ）との比率（ｒ／ｄ）は、０．０９であった。この硬化樹脂層（Ｂ）の表面には、粒子による突起が確認された。

＜硬化樹脂層（Ｂ）用塗布液ｂ６＞
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート８７質量部、上記シリカ粒子分散液ｃ１を固形分換算で８質量部、光重合開始剤（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製「イルガキュア１８４」）５質量部を有機溶剤（ＭＥＫ）に混合して調製した。

［比較例６］
下記の硬化樹脂層（Ｂ）用塗布液ｂ７に変更し、かつ硬化樹脂層（Ｂ）の厚みを５μｍに変更した以外は、比較例１と同様にしてベースフィルムを作製した。この硬化樹脂層（Ｂ）の表面には粒子による突起は確認されなかった。

＜硬化樹脂層（Ｂ）用塗布液ｂ７＞
紫外線硬化性のハードコート剤（ＪＳＲ（株）の「デソライトＺ７５２４」登録商標）を用いた。

［実施例１６〜実施例２０及び比較例１４〜１６］
実施例６〜１０および比較例４〜６のベースフィルムの硬化樹脂層（Ａ）上に、前述の実施例１１〜１５と同様にしてガスバリア層を積層し、ガスバリア性フィルムを作製した。
［評価］
上記実施例で得られたベースフィルムおよびガスバリア性フィルムについて、前述の測定および評価を行った。その結果を表２に示す。

実施例６〜１０のベースフィルムは、実施例１、３〜５のベースフィルムの反対面に硬化樹脂層（Ｂ）を積層したものであるが、硬化樹脂層（Ｂ）側の耐屈曲性（Ｂ）およびフレキシブル性（Ｂ）が良好である。

また、実施例６〜８および１０は、硬化樹脂層（Ｂ）が、硬化樹脂層（Ｂ）の厚みより十分に平均粒子径が小さい粒子を含有し、硬化樹脂層（Ｂ）表面に該粒子による突起が形成されているため、滑り性が良好である。

尚、実施例６〜１０のベースフィルムにおいて、硬化樹脂層（Ａ）側の耐屈曲性（Ａ）、フレキシブル性（Ａ）、表面粗さ（Ｒａ）、押し込み硬さは、実施例１、３〜５と同等の結果であった。

同様に、実施例６〜１０のベースフィルムの硬化樹脂層（Ａ）上にガスバリア層を積層した実施例１６〜２０のガスバリア性フィルムも、耐屈曲性（Ｃ）およびフレキシブル性（Ｃ）が良好である。また、実施例１６〜１８および２０は、実施例６〜８および１０のベースフィルムを用いているので、滑り性が良好であった。

一方、比較例４〜６のベースフィルムは、比較例１のベースフィルムの反対面に硬化樹脂層（Ｂ）を積層したものであるが、この硬化樹脂層（Ｂ）の押し込み硬さが高いため、耐屈曲性およびフレキシブル性が低下している。

同様に、比較例４〜６のベースフィルムの硬化樹脂層（Ａ）上にガスバリア層を積層した比較例１４〜１６のガスバリア性フィルムも、耐屈曲性（Ｃ−１）（Ｃ−２）およびフレキシブル性（Ｃ−１）（Ｃ−２）がいずれも低下している。

１ 巻き取り式スパッタリング装置
４ ベースフィルム
６ 巻き取り室
７ 巻き出し軸
８、９、１０ 巻き出し側ガイドロール
１１ クーリングドラム
１２ スパッタ電極
１３、１４、１５ 巻き取り側ガイドロール
１６ 巻き取り軸

Claims (14)

1. 環状オレフィン樹脂フィルム上に硬化樹脂層（Ａ）を有するガスバリア性フィルムのベースフィルムであって、円筒形マンドレル法（ＪＩＳ Ｋ５６００−５−１：１９９９）に準拠した直径２ｍｍの円筒マンドレルを用いて行う耐屈曲性試験においてクラックが発生しないことを特徴とする、ガスバリア性フィルムのベースフィルム。
2. 前記硬化樹脂層（Ａ）が熱硬化樹脂層もしくは活性エネルギー線硬化樹脂層である、請求項１に記載のガスバリア性フィルムのベースフィルム。
3. 前記硬化樹脂層（Ａ）の厚みが０．３μｍ以上４μｍ未満である、請求項１または２に記載のガスバリア性フィルムのベースフィルム。
4. 前記硬化樹脂層（Ａ）のナノインデンテーション法により測定される押し込み硬さが、２００〜６００Ｎ／ｍｍ^２の範囲である、請求項１〜３のいずれかに記載のガスバリア性フィルムのベースフィルム。
5. 前記硬化樹脂層（Ａ）の原子間力顕微鏡で測定される表面粗さ（Ｒａ）が２．０ｎｍ未満である、請求項１〜４のいずれかに記載のガスバリア性フィルムのベースフィルム。
6. 前記環状オレフィン樹脂フィルムの硬化樹脂層（Ａ）を有する面とは反対面に硬化樹脂層（Ｂ）を有し、円筒形マンドレル法（ＪＩＳ Ｋ５６００−５−１：１９９９）に準拠した直径２ｍｍの円筒マンドレルを用いて行う耐屈曲性試験においてクラックが発生しないことを特徴とする、請求項１〜５のいずれかに記載のガスバリア性フィルムのベースフィルム。
7. 前記硬化樹脂層（Ｂ）が粒子を含有し、該粒子の平均粒子径（ｒ：μｍ）と硬化樹脂層（Ｂ）の厚み（ｄ：μｍ）との比率（ｒ／ｄ）が０．７以下である、請求項６に記載のガスバリア性フィルムのベースフィルム。
8. 前記硬化樹脂層（Ｂ）の原子間力顕微鏡で測定される表面粗さ（Ｒａ）が２．０ｎｍ以上１０．０ｎｍ以下である、請求項６または７に記載のガスバリア性フィルムのベースフィルム。
9. 請求項１〜８のいずれかに記載のガスバリア性フィルムのベースフィルムの少なくとも一方の面にガスバリア層を備えた、ガスバリア性フィルム。
10. 前記ガスバリア層が少なくとも亜鉛酸化物あるいは亜鉛硫化物を含有する、請求項９に記載のガスバリア性フィルム。
11. 前記ガスバリア層が、酸化亜鉛−二酸化ケイ素−酸化アルミニウムの共存相からなる層である、請求項９または１０に記載のガスバリア性フィルム。
12. 前記酸化亜鉛−二酸化ケイ素−酸化アルミニウムの共存相における、Ｚｎ原子濃度が２０〜４０ａｔｏｍ％、Ｓｉ原子濃度が５〜２０ａｔｏｍ％、Ａｌ原子濃度が０．５〜５ａｔｏｍ％、Ｏ原子濃度が３５〜７０ａｔｏｍ％である、請求項１１に記載のガスバリア性フィルム。
13. 前記ガスバリア層の面に封止粘着剤層を有する、請求項９〜１２に記載のガスバリア性フィルム。
14. 請求項９〜１３のいずれかに記載のガスバリア性フィルムを備えた、有機ＥＬデバイス。

Images