WO2007119566A1

WO2007119566A1 - 低屈折率層を備えてなる光学積層体

Info

Publication number: WO2007119566A1
Application number: PCT/JP2007/056686
Authority: WO
Inventors: Tomoyuki Horio; Hiroaki Omori
Original assignee: Dai Nippon Printing Co., Ltd.
Priority date: 2006-03-28
Filing date: 2007-03-28
Publication date: 2007-10-25
Also published as: JPWO2007119566A1; US7990617B2; CN101454692A; KR20080104357A; TWI390240B; US20100020398A1; KR101282073B1; TW200807013A

Abstract

　本発明は、光透過型基材の上に形成された低屈折率層における防汚染性と滑り性とを兼ね備えた光学積層体を開示する。本発明は、光透過性基材の上に、ハードコート層と低屈折率層とをこれらの順で備えてなる光学積層体であって、前記低屈折率層が、防汚染剤及び／又は滑り性付与剤を含んでなり、防汚染剤及び／又は滑り性付与剤が、前記ハードコート層から前記低屈折率層の表面までに濃度勾配もって添加されてなるものである。

Description

明細書

低屈折率層を備えてなる光学積層体

関連出願

[0001] 本願は特願 2006— 88742 (日本国）を基礎としたパリ条約の優先権主張を伴うものであり、本願はこの特許出願の内容を全て包含するものである。

技術分野

[0002] 本発明は、低屈折率層を少なくとも備えてなる光学積層体に関する。

背景技術

[0003] 液晶ディスプレイ (LCD)又は陰極線管表示装置 (CRT)等の画像表示装置における画像表示面は、外部光源カゝら照射された光線による反射を少なくし、その視認性を高めることが要求される。これに対して、光透過性基材に、反射防止層を形成させた光学積層体 (例えば、反射防止積層体)を利用することにより、画像表示装置の画像表示面の反射を低減させ視認性を向上させることが一般になされている。

[0004] また、陰極線管表示装置 (CRT)、プラズマディスプレイ (PDP)、有機又は無機のエレクト口ルミネッセンスディスプレイ（ELD)、フィールドェミッションディスプレイ（FE D)または液晶ディスプレイ (LCD)のような画像表示装置にぉ、て、外光の反射または像の写り込みによるコントラストの低下、視認性の低下を防止することが要求される。このため、光の散乱原理または光学干渉の原理を用いて像の写り込みまたは反射率を低減する目的で画像表示装置の最表面に、反射防止積層体が設けられることが一般的である。

[0005] 従来、光学積層体の最表面は、様々な使用環境に晒され、傷が付きやすぐまた汚れが付着し易いことが指摘されている。これに対して、特開平 10— 104403号では、画像表示面の耐擦傷性と汚染防止とを向上させるために、ハードコート層に防汚染剤を添加した光学積層体が提案されてヽる。

[0006] しカゝしながら、本発明者らが確認したところ、光透過型基材の上に形成された低屈折率層における防汚染性と滑り性とを兼ね備えた光学積層体は未だ提案されて!ヽない。 [0007] 本発明者等は、本発明時において、低屈折率層に、防汚染剤及び Z又は滑り性付与剤を包含させてなり、防汚染剤及び Z又は滑り性付与剤が、前記ハードコート層から前記低屈折率層の表面までに濃度勾配もって添加されてなることにより、防汚染性と滑り性とを兼ね備えた低屈折率層を形成することができるとの知見を得た。よつて、本発明は低屈折率層に対して防汚染性と滑り性とを付与した光学積層体の提供を目的とするものである。

[0008] 従って、本発明は、光透過性基材の上に、ハードコート層と低屈折率層とをこれらの順で備えてなる光学積層体であって、

前記低屈折率層の屈折率が 1. 45以下であり、

前記低屈折率層が、防汚染剤及び Z又は滑り性付与剤を含んでなり、前記防汚染剤及び Z又は滑り性付与剤が、前記ハードコート層の表面から前記低屈折率層の表面に向けて増加するように添加されてなるものである。

発明を実施するための最良の形態

[0009] I. 学穑体

本発明による光学積層体は、低屈折率層が、防汚染剤及び z又は滑り性付与剤を含んでなり、かつ、防汚染剤及び z又は滑り性付与剤の添加量が、ハードコート層の表面から低屈折率層の表面に向けて増加するように添加されるものである。つまり、本発明にあっては、ハードコート層から前記低屈折率層の表面までに濃度勾配もつて添カロされてなるものである。

[0010] 本発明の好ましい態様によれば、濃度勾配は、低屈折率層の最表面を XPS解析した場合に、防汚染剤及び z又は滑り性付与剤中の構成原子 (例えば、ケィ素原子及び Z又はフッ素原子)の存在率が特定の数値とされてなることによって説明することが可能である。「XPS解析」とは、 X線光電子分光により試料表面の存在元素，組成を分析する方法である。 XPS解析は、例えば、 Thermo Electron社製（VG Theta Pro be)の XPS (X線光電子分光測定）装置を使用し、 X線源は Monochromated ΑΙ Κ α , X線出力は 100W、測定領域は 400 μ ΐη φ、レンズは Angle Resolved,測定角度 4段階（31° 、46° 、61° 、76° )の条件にて行うことができる。

[0011] 例えば、 XPS解析において、測定角度が 90° の場合が、 XPS装置が光学積層体の最表面に対して直角であることを表し、測定角度が低いものほど、最表面近傍における存在元素の割合を測定することが可能となる。従って、測定角度 X° における防汚染剤及び Z又は滑り性付与剤中のケィ素原子及び Z又はフッ素原子の存在率が A%であり、測定角度 Y° における防汚染剤及び Ζ又は滑り性付与剤中のケィ素原子及び Ζ又はフッ素原子の存在率が Β%であると測定される。この測定結果から、測定角度 <測定角度 Υ° 、存在率八％ >存在率％であるとされた場合、 Χ< Υの場合、ハードコート層から低屈折率層の表面までに防汚染剤及び Ζ又は滑り性付与剤の添加量に「濃度勾配」が存在することが理解される。

[0012] 本発明にあっては、低屈折率層の最表面を XPS解析した場合に、ケィ素原子の存在率が 10%以上、好ましくは 20%以上であり、フッ素原子の存在率が 20%以上、好ましくは 30%以上で存在してなるものである。

[0013] 防^^剤及び/ は滑り件付剤

防汚染剤及び Ζ又は滑り性付与剤は、光学積層体の最表面の汚れ防止を主目的とし、さらに光学積層体の耐擦傷性を付与することが可能となる。防汚染剤及び Ζ又は滑り性付与剤の具体例としては、フッ素系化合物、ケィ素系化合物、またはこれらの混合ィ匕合物が挙げられる。また、防汚染剤及び Ζ又は滑り性付与剤はそれ自体が反応基を有するか否かは問わない。

[0014] 本発明にあっては、ケィ素系化合物は、その化合物の末端または側鎖が、変性されたものが好ましくは挙げられる。そのようなケィ素系化合物としては、下記一般式 (I ；)〜 (III)又は (IV) :

[化 1]

R—

(上記式中、

Rは、疎水基として、メチル基、フッ素原子、アクリル基、又はメタクリル基であり、親水基として、水酸基、カルボキシル基、ポリエーテル基、又はエポキシ基であり、或いはこれらの混合基であってよぐ

Rはアルキル基、好ましくは炭素数 1〜20のアルキル基、より好ましくは炭素数 1〜 10のアルキル基であり、

Xは 0〜1200であり、

Yは 0〜1200である。；）

で表されるものが挙げられる。 [0015] フッ素系化合物の具体例としては、一般式：

(A) w- (B) x- (D) y- CF

3

(上記式中、

Aは、 CF、 CFCF、 C (CF )力なる群力選択される一種または二種以上の基

2 2 2 2

を表し、

Bは、 OCF CF、 OCF CF (CF )、 OCF C (CF ) 、

2 2 2 2 2 2 2

OCF (CF ) CF (CF )、 OCF (CF ) C (CF ) 、

2 2 2 2 2

OC (CF ) CF (CF )、 OC (CF ) C (CF )力なる群力選択される一種または二

2 2 2 2 2 2 2

種以上の基を表し、

Dは、 OCH CH、 OCH CH CH、 OC (O) (CH ) zからなる群から選択される一

2 2 2 2 2 2

種または二種以上の基を表し、

w、 x、 y、 zは 0超過 50以下の数を表す。 )

で表されるものが挙げられる。

[0016] 防汚染剤及び Z又は滑り性付与剤は市販品として入手可能であり、好ましくはそれが利用される。（電離放射線により）反応基を有しないもの具体例としては、大日本ィンキ社製のメガファックシリーズ、例えば、 MCF350— 5、 F445、 F455、 F178、 F4 70、 F475、 F479、 F477、 TF1025、 F478、 F178K等力挙げられ； GE東芝シリコーン社製の TSFシリーズ等が挙げられ;信越化学社製の X22シリーズ、 KFシリーズ等が挙げられ;チッソ社製のサイラブレーンシリーズ等が挙げられる。

[0017] 例えば、信越化学社製の X22- 3710、 X22- 162C、 X22- 3701E、 X22160AS, X22170 DX、 X224015, X22176DX, X22-176F、 KF8001、 X22- 2000等；チッソ社製の FM442 1、 FM0425, FMDA26, FS1265等；東レダウコーユング社製の BY16- 750、 BY16880、 BY16848、 SF8427, SF8421、 SH3746, SH8400、 SF3771 , SH3749, SH3748, SH8410 等； GE東芝シリコーン社製の TSF4460、 TSF4440, TSF4445, TSF4450, TSF4446, T SF4453、 TSF4452、 TSF4730, TSF4770, FGF502等が挙げられる。

[0018] (電離放射線により）反応基を有するものの具体例としては、 SUA1900L10 (重量平均分子量 4200；新中村化学社製）、 SUA1900L6 (重量平均分子量 2470；新中村化学社製）、 Ebecryll 360 (ダイセルユーシービー社製）、 UT3971 (日本合成社製）、ディフェンサ TF3001 (大日本インキ社製）、ディフェンサ TF3000 (大日本インキネ土製）、ディフェンサ TF3028 (大日本インキ社製）、 KRM7039 (ダイセルユーシ一ビー社製）、ライトプロコート AFC3000 (共栄社ィ匕学社製）、 KNS5300 (信越シリコーン社製）、 UVHC1105 (GE東芝シリコーン社製）、 UVHC8550 (GE東芝シリコーン社製）、 Ebecryl350 (ダイセルユーシービー社製）、 ACS- 1122 (日本ペイント社製)が挙げられる。

[0019] 例えば、信越化学社製の X22- 163A、 X22- 173DX、 X22- 163C、 KF101、 X22164A, X24 -8201、 X22174DX, X22164Cゝ X222426, X222445, X222457, X222459, X222 45、 X221602, X221603, X22164E, TM0701等；チッソ社製の、 FM0725、 FM0721, F M7725, FM7721, FM7726, FM7727等；東レダウコ一-ング社製の SF8411、 SF8413、 BY16- 152D、 BY16- 152、 BY16- 152C、 8388A等、その他、 UT4315 (日本合成社製 )等が挙げられる。

[0020] 防汚染剤及び Z又は滑り性付与剤が、有機化合物の場合、その数平均分子量は限定されないが、 500以上 10万以下であり、好ましくは下限が 750以上であり、より好ましくは 1000以上であり、好ましくは上限が 7万以下であり、より好ましくは 5万以下である。

[0021] 本発明の好ま、態様によれば、防汚染剤及び Z又は滑り性付与剤は、ポリオルガノシロキサン基、ポリオルガノシロキサン含有グラフトポリマー、ポリオルガノシロキサン含有ブロックポリマー、フッ素化アルキル基などを含有する 2官能以上の多官能ァタリレートを含んでなるものが好ましい。多官能アタリレートとしては、例えば、 2官能ァタリレートとして、トリプロピレングリコールジ (メタ）アタリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アタリレート、ジエチレングリコールジ (メタ）アタリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アタリレート、 1、 3 ブタンジオールジ（メタ）アタリレート、 1、 4 ブタンジオールジ (メタ）アタリレート、エトキシ化ビスフエノール Aジ (メタ）アタリレート、ェトキシ化ビスフエノール Fジ (メタ）アタリレート、 1、 6 へキサンジオールジ (メタ）アタリレート、 1、 9ーノナンジオールジ（メタ）アタリレート、 1、 10 デカンジオールジ (メタ）ァタリレート、グリセリンジ (メタ）アタリレート、ネオペンチルダリコールジ (メタ）アタリレート、プロポキシ化ネオペンチルグリコールジ (メタ）アタリレート、ペンタエリスリトールジアタリレートモノステアレート、イソシァヌル酸エトキシ変性ジ (メタ）アタリレート（イソシァヌル酸 EO変性ジ (メタ)アタリレート）、 2官能ウレタンアタリレート、 2官能ポリエステルアタリレート等が挙げられる。 3官能アタリレートとしては、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アタリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アタリレート、トリメチロールプロパン E O変性トリ (メタ)アタリレート、イソシァヌル酸 EO変性トリ（メタ）アタリレート、エトキシ化トリメチロールプロパントリ（メタ）アタリレート、プロポキシ化トリメチロールプロパントリ ( メタ）アタリレート、プロポキシィ匕グリセリルトリ（メタ）アタリレート、 3官能ポリエステルァタリレート等が挙げられる。 4官能アタリレートとしては、ペンタエリスリトールテトラ (メタ )アタリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ (メタ）アタリレート、エトキシ化ペンタエリスリトールテトラ (メタ）アタリレート等が挙げられる。 5官能以上のアタリレートとしては、ジペンタエリスリトールヒドロキシペンタ（メタ）アタリレート、ジペンタエリスリトールへキサアタリレート等が挙げられる。

[0022] 防汚染剤及び Z又は滑り性付与剤の添加量は、低屈折率層を形成する組成物の全重量に対して 0. 0001重量％以上 10重量％以下 (好ましくは 0. 5重量％以下）であり、好ましくは下限が 0. 001重量％以上であり、より好ましくは 0. 005重量％以上であり、好ましくは上限が 7重量％以下 (好ましくは 0. 25重量％以下)であり、より好ましくは 5重量％以下 (好ましくは 0. 1重量％以下)である。

[0023] 低屈析率剤

低屈折率剤は、その屈折率が 1. 5以下であり、好ましくは 1. 45以下のものが好ましい。低屈折率剤は、無機系又は有機系のいずれのものであってもよい。

[0024] 本発明における好ましい低屈折率層にあっては、外部からの光 (例えば蛍光塔、自然光等)が光学積層体の表面にて反射する際、その反射率を低くするという役割を果たす。低屈折率剤としては、好ましくは 1)シリカ又はフッ化マグネシウムを含有する材料、 2)低屈折率榭脂であるフッ素系材料、 3)シリカ又はフッ化マグネシウムを含有するフッ素系材料、 4)シリカ又はフッ化マグネシウムの薄膜等のヽずれか構成される。フッ素系材料以外の材料については、ハードコート層を構成する材料と同様の材料を用いることができる。低屈折率層は低屈折率剤と榭脂とにより形成されてよい。これらの低屈折率層は、その屈折率が 1. 45以下、特に 1. 42以下であることが好ましい。

[0025] 無機系低屈析率剤

低屈折率層は、シリカ、もしくはフッ化マグネシウムが挙げられ、好ましくは空隙を有する微粒子が挙げられる。「空隙を有する微粒子」は低屈折率層の層強度を保持しつつ、その屈折率を下げることを可能とする。本発明において、「空隙を有する微粒子」とは、微粒子の内部に気体が充填された構造及び Z又は気体を含む多孔質構造体を形成し、微粒子本来の屈折率に比べて微粒子中の気体の占有率に反比例して屈折率が低下する微粒子を意味する。また、本発明にあっては、微粒子の形態、構造、凝集状態、塗膜内部での微粒子の分散状態により、内部、及び Z又は表面の少なくとも一部にナノポーラス構造の形成が可能な微粒子も含まれる。

[0026] 空隙を有する無機系の微粒子の具体例としては、特開 2001— 233611号公報で開示されて!、る技術を用いて調製したシリカ微粒子が好ましくは挙げられる。空隙を有するシリカ微粒子は製造が容易でそれ自身の硬度が高、ため、ノインダ一と混合して低屈折率層を形成した際、その層強度が向上され、かつ、屈折率を 1. 20〜： L 45程度の範囲内に調製することを可能とする。特に、空隙を有する有機系の微粒子の具体例としては、特開 2002— 80503号公報で開示されている技術を用いて調製した中空ポリマー微粒子が好ましく挙げられる。

[0027] 塗膜の内部及び Z又は表面の少なくとも一部にナノポーラス構造の形成が可能な微粒子としては先のシリカ微粒子に加え、比表面積を大きくすることを目的として製造され、充填用のカラムおよび表面の多孔質部に各種化学物質を吸着させる除放材、触媒固定用に使用される多孔質微粒子、または断熱材や低誘電材に組み込むことを目的とする中空微粒子の分散体や凝集体を挙げることができる。そのような具体的としては、市販品として日本シリカ工業株式会社製の商品名 Nipsilや Nipgelの中から多孔質シリカ微粒子の集合体、日産化学工業 (株)製のシリカ微粒子が鎖状に繋がつた構造を有するコロイダルシリカ UPシリーズ (商品名）から、本発明の好ましい粒子径の範囲内のものを利用することが可能である。

[0028] 「空隙を有する微粒子」の平均粒子径は、 5nm以上 300nm以下であり、好ましくは下限が 8nm以上であり上限が lOOnm以下であり、より好ましくは下限が lOnm以上であり上限が 80nm以下である。微粒子の平均粒子径がこの範囲内にあることにより、低屈折率層に優れた透明性を付与することが可能となる。

[0029] 有機系低屈析率剤

低屈折率剤として、低屈折率榭脂を用いてもよぐ例えば、シリコーン含有フッ化ビユリデン共重合体が挙げられる。このシリコーン含有フッ化ビ-リデン共重合体は、具体的には、フッ化ビ-リデンと、へキサフルォロプロピレンとを含有するモノマー組成物を原料とした共重合により得られるもので、フッ素含有割合が 60〜70%であるフッ素含有共重合体 100部と、エチレン性不飽和基を有する重合性化合物 80〜 150部と力なるものである。

[0030] シリコーン含有フッ化ビ-リデン共重合体は、モノマー組成物における各成分の割合力フッ化ビ-リデンが 30〜90%、好ましくは 40〜80%、特に好ましくは 40〜70 %であり、又へキサフルォロプロピレンが 5〜50%、好ましくは 10〜50%、特に好ましくは 15〜45%である。このモノマー組成物は、更にテトラフルォロエチレンを 0〜4 0%、好ましくは 0〜35%、特に好ましくは 10〜30%含有するものであってもよい。

[0031] シリコーン含有フッ化ビ-リデン共重合体は、他の共重合体成分が、例えば、 20% 以下、好ましくは 10%以下の範囲で含有されたものであってもよぐこのような、ほかの共重合成分の具体例として、フルォロエチレン、トリフルォロエチレン、クロロトリフノレォロエチレン、 1, 2 ジクロロー 1, 2 ジフノレオ口エチレン、 2 ブロモー 3, 3, 3 トリフノレオ口エチレン、 3—ブロモー 3, 3—ジフノレオ口プロピレン、 3, 3, 3—トリフノレオロフ。ロピレン、 1 , 1, 2 トリクロ口一 3, 3, 3 トリフルォロプロピレン、 α—トリフルォロメタクリル酸等のフッ素原子を有する重合性モノマーを例示することができる。

[0032] 以上のようなモノマー組成物力得られるフッ素含有共重合体は、そのフッ素含有割合が 60〜70%であることが必要であり、好ましいフッ素含有割合は 62〜70%、特に好ましくは 64〜68%である。フッ素含有割合力このような特定の範囲であることにより、フッ素含有重合体は、溶剤に対して良好な溶解性を有し、かつ、このようなフッ素含有重合体を成分として含有することにより、種々の基材に対して優れた密着性を有し、高、透明性と低!、屈折率を有すると共に十分に優れた機械的強度を有する薄膜を形成するので、薄膜の形成された表面の耐傷性等の機械的特性を十分に高いものとすることができ、極めて好適である。

[0033] このフッ素含有共重合体は、その分子量がポリスチレン換算数平均分子量で 5, 00 0〜200, 000、特に 10, 000〜100, 000であること力好まし!/、。このような大きさの分子量を有するフッ素含有共重合体を用いることにより、得られるフッ素系榭脂組成物の粘度が好適な大きさとなり、従って、確実に好適な塗布性を有するフッ素系榭脂組成物とすることができる。フッ素含有共重合体は、それ自体の屈折率が 1. 45以下、特に 1. 42以下、更に 1. 40以下であるものが好ましい。

[0034] その他の低屈折率剤

本発明において、低屈折率剤の好ましいものとしては、シリカ、フッ化マグネシウムなどの低屈折率無機超微粒子 (多孔質、中空など全ての種類の微粒子)、及び低屈折率榭脂であるフッ素系榭脂が挙げられる。フッ素系榭脂としては、少なくとも分子中にフッ素原子を含む重合性ィ匕合物又はその重合体を用いることができる。重合性ィ匕合物は、特に限定されないが、例えば、電離放射線で硬化する官能基、熱硬化する極性基等の硬化反応性の基を有するものが好ましい。また、これらの反応性の基を同時に併せ持つ化合物でもよい。この重合性ィ匕合物に対し、重合体とは、上記のような反応性基などを一切もたな、ものである。

[0035] 電離放射線硬化性基を有する重合性化合物としては、エチレン性不飽和結合を有するフッ素含有モノマーを広く用いることができる。より具体的には、フルォロォレフィン類（例えばフルォロエチレン、ビ-リデンフルオライド、テトラフルォロエチレン、へキサフノレオ口プロピレン、パーフノレオ口ブタジエン、パーフノレオ口- 2, 2-ジメチル - 1, 3- ジォキソールなど）を例示することができる。（メタ)アタリロイルォキシ基を有するものとして、 2, 2, 2 トリフルォロェチル (メタ）アタリレート、 2, 2, 3, 3, 3 ペンタフルォ口プロピル (メタ）アタリレート、 2— (パーフルォロブチル）ェチル (メタ）アタリレート、 2 （パーフルォ口へキシル）ェチル (メタ）アタリレート、 2- (パーフルォロォクチル）ェチル (メタ）アタリレート、 2— (パーフルォロデシル）ェチル (メタ）アタリレート、 α—トリフルォロメタクリル酸メチル、 _α トリフルォロメタクリル酸ェチルのような、分子中にフッ素原子を有する (メタ)アタリレートイ匕合物;分子中に、フッ素原子を少なくとも 3個持つ炭素数 1〜14のフルォロアルキル基、フルォロシクロアルキル基又はフルォロアルキレン基と、少なくとも 2個の (メタ)アタリロイルォキシ基とを有する含フッ素多官能 (メタ）アクリル酸エステル化合物などもある。

[0036] 熱硬化性極性基として好ま、のは、例えば水酸基、カルボキシル基、アミノ基、ェポキシ基等の水素結合形成基である。これらは、塗膜との密着性だけでなぐシリカなどの無機超微粒子との親和性にも優れて!/ヽる。熱硬化性極性基を持つ重合成化合物としては、例えば、 4 フルォロエチレンパーフルォロアルキルビュルエーテル共重合体；フルォロエチレン炭化水素系ビュルエーテル共重合体；エポキシ、ポリウレタン、セルロース、フエノール、ポリイミド等の各樹脂のフッ素変性品などを挙げることがでさる。

[0037] 電離放射線硬化性基と熱硬化性極性基とを併せ持つ重合性化合物としては、ァクリル又はメタクリル酸の部分及び完全フッ素化アルキル、ァルケ-ル、ァリールエステル類、完全又は部分フッ素化ビニルエーテル類、完全又は部分フッ素化ビュルエステル類、完全または部分フッ素化ビ-ルケトン類等を例示することができる。

[0038] また、含フッ素重合体の具体例としては、上記電離放射線硬化性基を有する重合性ィ匕合物の含フッ素 (メタ)アタリレートイ匕合物を少なくとも 1種類含むモノマー又はモノマー混合物の重合体；上記含フッ素 (メタ)アタリレートイ匕合物の少なくとも 1種類と、メチル (メタ）アタリレート、ェチル (メタ）アタリレート、プロピル (メタ）アタリレート、ブチル (メタ）アタリレート、 2—ェチルへキシル (メタ）アタリレートの如き分子中にフッ素原子を含まな、 (メタ）アタリレート化合物との共重合体；フルォロエチレン、フッ化ビ-リデン、トリフルォロエチレン、クロ口トリフルォロエチレン、 3, 3, 3—トリフルォロプロピレン、 1, 1, 2 トリクロ口一 3, 3, 3 トリフノレオ口プロピレン、へキサフノレオ口プロピレンのような含フッ素モノマーの単独重合体又は共重合体等が挙げられる。

[0039] これらの共重合体にシリコーン成分を含有させたシリコーン含有フッ化ビ-リデン共重合体も使うことができる。この場合のシリコーン成分としては、（ポリ）ジメチルシロキサン、（ポリ）ジェチルシロキサン、（ポリ）ジフエ-ルシロキサン、（ポリ）メチルフエ-ルシロキサン、アルキル変性 (ポリ）ジメチルシロキサン、ァゾ基含有 (ポリ）ジメチルシロキサン、ジメチルシリコーン、フエ-ルメチルシリコーン、アルキル'ァラルキル変性シリコーン、フルォロシリコーン、ポリエーテル変性シリコーン、脂肪酸エステル変性シリコーン、メチル水素シリコーン、シラノール基含有シリコーン、アルコキシ基含有シリコーン、フエノール基含有シリコーン、メタクリル変性シリコーン、アクリル変性シリコーン、ァミノ変性シリコーン、カルボン酸変性シリコーン、カルビノール変性シリコーン、ェポキシ変性シリコーン、メルカプト変性シリコーン、フッ素変性シリコーン、ポリエーテル変性シリコーン等が例示される。中でもジメチルシロキサン構造を有するものが好ましい。

[0040] さらには、以下のような化合物からなる非重合体又は重合体も、フッ素系榭脂として用いることができる。すなわち、分子中に少なくとも 1個のイソシアナト基を有する含フッ素化合物と、アミノ基、ヒドロキシル基、カルボキシル基のようなイソシアナト基と反応する官能基を分子中に少なくとも 1個有する化合物とを反応させて得られる化合物；フッ素含有ポリエーテルポリオール、フッ素含有アルキルポリオール、フッ素含有ポリエステルポリオール、フッ素含有 ε 一力プロラタトン変性ポリオールのようなフッ素含有ポリオールと、イソシアナト基を有する化合物とを反応させて得られる化合物等を用いることがでさる。

[0041] さらにまた、上記したフッ素原子を持つ重合成化合物や重合体とともに、防眩層に記載したような各榭脂成分を混合して使用することもできる。更に、反応性基等を硬化させるための硬化剤、塗工性を向上させたり、防汚性を付与させたりするために、各種添加剤、溶剤を適宜使用することができる。

[0042] 纖

榭脂としては、透明性のものが好ましぐその具体例としては、紫外線または電子線により硬化する榭脂である電離放射線硬化型榭脂、電離放射線硬化型榭脂と溶剤乾燥型榭脂との混合物、または熱硬化型榭脂の三種類が挙げられ、好ましくは電離放射線硬化型榭脂が挙げられる。

[0043] 電離放射線硬化型榭脂の具体例としては、アタリレート系の官能基を有するもの、例えば比較的低分子量のポリエステル榭脂、ポリエーテル榭脂、アクリル榭脂、ェポキシ榭脂、ウレタン榭脂、アルキッド榭脂、スピロァセタール榭脂、ポリブタジエン榭脂、ポリチオールポリェン榭脂、多価アルコール等の多官能化合物の（メタ）アルリレート等のオリゴマー又はプレボリマー、反応性希釈剤が挙げられ、これらの具体例としては、ェチル (メタ）アタリレート、ェチルへキシル (メタ）アタリレート、スチレン、メチルスチレン、 N ビュルピロリドン等の単官能モノマー並びに多官能モノマー、例えば、ポリメチロールプロパントリ（メタ）アタリレート、へキサンジオール (メタ）アタリレート、トリプロピレングリコールジ (メタ）アタリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アタリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アタリレート、ジペンタエリスリトールへキサ（メタ）アタリレート、 1、 6 へキサンジオールジ (メタ）アタリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アタリレート等が挙げられる。

[0044] 光重合開始剤

本発明における電離放射線硬化性榭脂組成物に添加する光重合開始剤の好ましいものとしては、例えば、ァセトフエノン類、ベンゾフエノン類、ミヒラーベンゾィルベンゾエート、 a一アミ口キシムエステル、テトラメチルメウラムモノサルファイド、チォキサントン類などが適用できる。また、必要に応じて、光増感剤、光重合促進剤を添加する。該光増感剤、光重合促進剤としては、公知の光増感剤でよぐ例えば、ベンゾィン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインェチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、 α メチルベンゾイン、 α—フエ-ルペンゾイン等のベンゾイン系化合物；アントラキノン、メチルアントラキノン等のアントラキノン系化合物；ベンジル；ジァセチル；ァセトフエノン、ベンゾフエノン等のフエ-ルケトン化合物；ジフエ-ルジスルフイド、テトラメチルチウラムスルフイド等のスルフイド化合物； a クロルメチルナフタリン；アントラセンおよびへキサクロ口ブタジエン、ペンタクロロブタジエン等のハロゲン化炭化水素、チォキサントン、 n—ブチルァミン、トリエチルァミン、トリー n—ブチルホスフィンなどがある。具体的には、ァセトフエノン系光重合開始剤に対し、ベンゾフエノンまたはチォキサントン光増感剤を用いることが好ま、。

[0045] 電離放射線硬化型榭脂を紫外線硬化型榭脂として使用する場合には、光重合開始剤を用いることが好ましい。光重合開始剤の具体例としては、ァセトフエノン類、ベンゾフエノン類、ミヒラーベンゾィルベンゾエート、 a—アミ口キシムエステノレ、チォキサントン類が挙げられる。また、光増感剤を混合して用いることが好ましぐその具体例としては、 n—ブチルァミン、トリェチルァミン、ポリ— n—ブチルホスフィン等が挙げられる。また、電離放射線硬化型榭脂を紫外線硬化型榭脂として使用する場合には、光重合開始剤または光重合促進剤を添加することができる。光重合開始剤としては、ラジカル重合性不飽和基を有する榭脂系の場合は、ァセトフエノン類、ベンゾフエノン類、チォキサントン類、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル等を単独又は混合して用いる。また、カチオン重合性官能基を有する榭脂系の場合は、光重合開始剤として、芳香族ジァゾ -ゥム塩、芳香族スルホ -ゥム塩、芳香族ョードニゥム塩、メタセロンィ匕合物、ベンゾインスルホン酸エステル等を単独又は混合物として用いる。光重合開始剤の添加量は、電離放射線硬化性組成物 100重量部に対し、 0. 1〜 10重量部である。

[0046] 電離放射線硬化型榭脂に混合して使用される溶剤乾燥型榭脂としては、主として熱可塑性榭脂が挙げられる。熱可塑性榭脂は一般的に例示されるものが利用される。溶剤乾燥型榭脂の添カ卩により、塗布面の塗膜欠陥を有効に防止することができる。本発明の好ま、態様によれば、光透過性基材の材料が TAC等のセルロース系榭脂の場合、熱可塑性榭脂の好ましい具体例として、セルロース系榭脂、例えば-トロセノレロース、ァセチノレセノレロース、セノレロースアセテートプロピオネート、ェチノレヒドロキシェチルセルロース等が挙げられる。

[0047] 熱硬化性榭脂の具体例としては、フエノール榭脂、尿素樹脂、ジァリルフタレート榭脂、メラニン榭脂、グアナミン榭脂、不飽和ポリエステル榭脂、ポリウレタン榭脂、ェポキシ榭脂、アミノアルキッド榭脂、メラニン尿素共縮合榭脂、ケィ素榭脂、ポリシロキサン榭脂等が挙げられる。熱硬化性榭脂を用いる場合、必要に応じて、架橋剤、重合開始剤等の硬化剤、重合促進剤、溶剤、粘度調整剤等をさらに添加して使用することができる。

[0048] ¾合開始剤

低屈折率層を形成する際に、光重合開始剤を用いることができ、その化合物は巿場入手可能であり、例えば商品名ィルガキュア 184、ィルガキュア 907、ィルガキュア 369、イノレガキュア 819、イノレガキュア 127、 DAROCUR TPO (チバスぺシャリティーケミカルズ社製）が挙げられる。また、本発明にあっては、重合促進剤としては、例えば SpeedcureMBB、 SpeedcurePBZ (LAMBSON Fine Chemicals製）などが挙げられる。

[0049] 腿

低屈折率層を形成するには、上記成分に溶剤を混合した組成物を利用することができる。溶剤の具体例としては、イソプロピルアルコール、メタノール、エタノール、ブタノール、プロパノール、 PGME等のアルコール類；メチルェチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロへキサノン等のケトン類；酢酸ェチル、酢酸ブチル、 PGMEA等のエステル類；ハロゲンィ匕炭化水素；トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素；またはこれらの混合物が挙げられ、好ましくは、アルコール類、ケトン類、エステル類が挙げられる。

[0050] ハードコート層

本発明にあっては、光透過性基材と低屈折率層との間にハードコート層を形成してものが好ましい。「ハードコート層」とは、 JIS5600— 5— 4 (1999年）で規定される鉛筆硬度試験で「H」以上の硬度を示すものをいう。ハードコート層の膜厚 (硬化時）は 0. 1〜： LOO /z m、好ましくは 0. 8〜20 /ζ πιの範囲にあることが好ましい。ハードコート層は榭脂と任意成分とにより形成されてなる。

[0051] 纖

榭脂としては、透明性のものが好ましぐその具体例としては、紫外線または電子線により硬化する榭脂である電離放射線硬化型榭脂、電離放射線硬化型榭脂と溶剤乾燥型榭脂との混合物、または熱硬化型榭脂の三種類が挙げられ、好ましくは電離放射線硬化型榭脂が挙げられる。本発明にあっては、硬度を調節するために、 lnm 〜500nmくら、の無機超微粒子（表面有機処理したアルミナなどの金属酸化物粒子ゃコロイダルシリカなど）、有機超微粒子を添加してもよい。

[0052] 電離放射線硬化型榭脂の具体例としては、アタリレート系の官能基を有するもの、例えば比較的低分子量のポリエステル榭脂、ポリエーテル榭脂、アクリル榭脂、ェポキシ榭脂、ウレタン榭脂、アルキッド榭脂、スピロァセタール榭脂、ポリブタジエン榭脂、ポリチオールポリェン榭脂、多価アルコール等の多官能化合物の（メタ）アルリレート等のオリゴマー又はプレボリマー、反応性希釈剤が挙げられる。

[0053] 本発明の別の態様によれば、電離放射線硬化型榭脂の具体例としては、（メタ)ァタリレート系の官能基を有するもの、またはウレタン (メタ)アタリレート系の官能基を有するもの、あるいは (メタ）アタリレート系の官能基を有するものとウレタン (メタ)アタリレート系の官能基を有するものとの混合物があげられる。

[0054] (メタ）アタリレート系の官能基を有するものとしては、例えば、トリプロピレングリコールジ（メタ）アタリレート、ポリプロピレングリコールジ (メタ）アタリレート、ジエチレングリコールジ (メタ）アタリレート、ポリエチレングリコールジ (メタ）アタリレート、 1、 3—ブタンジオールジ (メタ）アタリレート、 1、 4—ブタンジオールジ (メタ）アタリレート、エトキシ化ビスフエノール Aジ (メタ）アタリレート、エトキシ化ビスフエノール Fジ (メタ）アタリレート、 1、 6—へキサンジオールジ (メタ）アタリレート、 1、 9—ノナンジオールジ (メタ）ァクリレート、 1、 10—デカンジオールジ (メタ）アタリレート、グリセリンジ (メタ）アタリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アタリレート、プロポキシ化ネオペンチルグリコールジ（メタ）アタリレート、ペンタエリスリトールジァクリレートモノステアレート、イソシァヌル酸エトキシ変性ジ (メタ）アタリレート (イソシァヌル酸 EO変性ジ (メタ)アタリレート）、ぺンタエリスリトールトリ（メタ）アタリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アタリレート、トリメチロールプロパン EO変性トリ（メタ）アタリレート、イソシァヌル酸 EO変性トリ（メタ）アタリレート、エトキシィ匕トリメチロールプロパントリ（メタ）アタリレート、プロポキシ化トリメチロールプロパントリ（メタ）アタリレート、プロポキシィ匕グリセリルトリ（メタ）アタリレート

、 3官能ポリエステルアタリレート、ペンタエリスリトールテトラ (メタ）アタリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ (メタ）アタリレート、エトキシ化ペンタエリスリトールテトラ (メタ）アタリレート、ジペンタエリスリトールヒドロキシペンタ（メタ）アタリレート、ジペンタエリスリトールへキサアタリレート等が挙げられる。

[0055] ウレタン (メタ）アタリレート系の官能基を有するものとしては、市販品でよぐ例えば、曰本合成社製の紫光シリーズ、例えば、 UV1700B, UV6300B, UV765B, UV 7640B、 UV7600B等が挙げられ;根上工業社製のアートレジンシリーズ、例えば、アートレジン HDP、アートレジン UN9000H、アートレジン UN3320HA、アートレジン UN3320HB、アートレジン UN3320HC、アートレジン U 、 N3320HS、アートレジン UN901M、アートレジン UN902MS、アートレジン UN903等が挙げられ；新中村化学社製の UA100Hゝ U4Hゝ U4HAゝ U6Hゝ U6HAゝ U15HAゝ UA32Pゝ U6 LPA、 U324A、 U9HAMI等が挙げられ;ダイセル'ユーシービー社製の Ebecrylシリーズ、例えば、 1290, 5129, 254, 264, 265, 1259, 1264, 4866, 9260, 82 10、 204、 205、 6602、 220、 4450等力 S挙げられ；荒川ィ匕学ネ土製のビームセットシリーズ、例えば、 371、 577等が挙げられ;三菱レーヨン社製の RQシリーズ。大日本ィンキ社製のュ-ディックシリーズ等が挙げられ; DPHA40H (日本ィ匕薬社製）、 CN9 006 (サーマー社製）、 CN968等が挙げられる。この中でも、好ましくは、 UV1700B (日本合成社製)、 DPHA40H (日本化薬社製)、アートレジン HDP (根上工業社製 )、ビームセット 371 (荒川化学社製)、ビームセット 577 (荒川化学社製) U15HA (新中村化学社製)等が挙げられる。

[0056] 電離放射線硬化型榭脂を紫外線硬化型榭脂として使用する場合には、光重合開始剤を用いることが好ましい。光重合開始剤の具体例としては、ァセトフエノン類、ベンゾフエノン類、ミヒラーベンゾィルベンゾエート、 a—アミ口キシムエステノレ、テトラメチルチュウラムモノサルファイド、チォキサントン類が挙げられる。また、光増感剤を混合して用いることが好ましぐその具体例としては、 n—ブチルァミン、トリェチルァミン、ポリ n—プチルホソフィン等が挙げられる。開始剤としては、低屈折率層で記載したものと同様のものが使用できる。

[0057] 電離放射線硬化型榭脂に混合して使用される溶剤乾燥型榭脂としては、主として熱可塑性榭脂が挙げられる。熱可塑性榭脂は一般的に例示されるものが利用される。溶剤乾燥型榭脂の添加により、ハードコート層の割れ、カール防止のための適度な柔軟性を付与し、又は、塗布面の塗膜欠陥を有効に防止することができる。本発明の好ま、態様によれば、透明基材の材料が TAC等のセルロース系榭脂の場合、熱可塑性榭脂の好ましい具体例として、セルロース系榭脂、例えば-トロセルロース、ァセチノレセノレロース、セノレロースアセテートプロピオネート、ェチノレヒドロキシェチノレセルロース等が挙げられる。

[0058] 熱硬化性榭脂の具体例としては、フエノール榭脂、尿素樹脂、ジァリルフタレート榭脂、メラニン榭脂、グアナミン榭脂、不飽和ポリエステル榭脂、ポリウレタン榭脂、ェポキシ榭脂、アミノアルキッド榭脂、メラミン尿素共縮合榭脂、ケィ素榭脂、ポリシロキサン榭脂等が挙げられる。熱硬化性榭脂を用いる場合、必要に応じて、架橋剤、重合開始剤等の硬化剤、重合促進剤、溶剤、粘度調整剤等をさらに添加して使用することができる。

[0059] 好ましい榭脂

本発明にあっては、ハードコート層は、少なくとも 1以上の官能基を有する 9, 9ービスフエノキシフルオレン骨格を有するモノマー及び Z又は少なくとも 2以上の硫黄原子を含んでなるモノマーを含んでなる力、これらにより形成されてなるものが好ましい

[0060] 本発明の好ましい態様にあっては、ハードコート層は、屈折率の高い榭脂を含んでもよい。屈折率の高い榭脂としては、少なくとも 1以上の官能基を有する 9, 9ービスフエノキシフルオレン骨格を有する、少なくとも 2以上の硫黄原子を含んでなるモノマー、他にも、力ルバゾール骨格を含むモノマーまたはオリゴマーまたはポリマー、少なくとも 1以上の臭素原子を含んでなるモノマー、少なくとも 1以上のフエニル基、ビフエ- ル基、ナフチル基を含んでなるモノマーが好ましい。また、ハードコート層を高屈折率化するために、高屈折率超微粒子を含んでいても良い。高屈折率超微粒子の例としては、 TiO、 ZrO、 Al O、 In O、 ZnO、 SnO、 Sb O、 ITOなどが挙げられる。こ

2 2 3 2 3 2 2 2

れらの微粒子には、何らかの有機表面処理が施されてヽてもよヽ。

[0061] フルオレン骨格を有するモノマー

少なくとも 1以上の官能基を有する 9, 9 ビスフエノキシフルオレン骨格を有するモノマ一は、下記一般式 (V)において基本骨格として表される 9, 9ービスフエノキシフルオレン骨格を有するものである。少なくとも 1以上の官能基を有する 9, 9 ビスフノキシフルオレン骨格を有するモノマーの具体例としては、下記化学式 (V)：

[化 2]

： ν:'

(上¾式中、

が、 -CCA)=CH₂ , -CO-C(A)=CH₂ , -0-CO-C(A)=CH₂ ,

(B)-0-CO-C{A)=CH₂ , -0-(B}-0"CO-C(A)=CH₂ , (B)-C(A)=CH₂ , -0-{B)-C{A)=CH_a , -(8)-CO-C(A)=CH₂ , -0"(B)-CO-C(A)=CH₂ , -OH , - H， -COOH , -SH , -NH₂，

-CH₂-CH-CH₂ , およびヽ O

からなる群から選択されるものでぁリ、

Aが Hまたは CH_aであ

Bが (CH₂)_n , (OCH₂CH₂)_{n ;} (OCH₂CH₂CH₂)_ri , および

(OCOCH₂CH₂CH2CH₂CH2)_n からなる群から遝択されるものであし八

R₂が、水素子水酸基、メチル基、フエニル基、トリル墓、アミ/ カルポキシ基および- (CH n CHij又は、 R から S択されるものでぁリ、

Πが 1 2 0を表すものである„ ) で表されるものが挙げられる。

少なくとも 1以上の官能基を有する 9, 9 ビスフエノキシフルオレン骨格を有するモノマ一は市販品を使用することができ、具体的には、 NKエステル A— BPEF、 NKェステル A— BPEF— 4E (新中村化学社製）、オンコート EXシリーズ (EX1010、 EX1 Oi l, EX1012、 EX1020、 EX1030、 EX1040、 EX1050、 EX1051、 EX1020 M80、 EX1040M70)、オンコート AC2020、ビスクレゾールフルオレン BCF、 BPE FA、 BPEFジアタリレート、 BPEFジメタタリレート、 BPEFジグリシジルエーエル、 BP EFエポキシアタリレート、 BPPF、 BPEFビュルエーテル、 BCF、 BCFジグリシジルェ一エル、 BCFエポキシアタリレート (長瀬産業社製、大阪ガスケミカル社製、 JFEケミカルネ土製）、ビスァ-リン、ビスフエノール骨格 (JFEケミカル社製)等が挙げられる。

少なくとも 2以.卜.の硫昔原子を含んでなるモノマー

少なくとも 2以上の硫黄原子を含んでなるモノマーは、いずれのものを使用することができるが、好ましくは、下記一般式：

[化 3]

— S— R— X+C~R— S -) -R,

I I n

C - C- S-R-S-R-Ri )₄

び

CH₂CH₂CH₂0 )―からなる群から選択されるものであリ、が、 -C(A)=CH₂ , -CO-C(A)=CH₂ , -O-CO- C(A)=CH₂ , -(B)-0-CO-C(A)=CH₂，

-0-(B)-0-CO-C(A)=CH₂ , -(B)-C(A)=CH₂ , -0-(B)-C(A)=CH₂ ,

-(B)- CO-C(A)=CH₂ , -0-(B)-CO-C(A)=CH₂ , -OH， -H , -COOH， -SH ,

_{M M} -CH₂-CH-CH₂ -CH₂-CH-CH₂ -0-(B)-CH₂-CH-CH₂ ，および - NH₂， ² ヽ， \ / ' ² \ / '

O S O

-(B)-CH₂-CH-CH₂からなる群から選択されるものであり、

\ ノ

0

Aが Hまたは CH₃であリ、

Bが (CH₂)_n , (OCH₂CH₂)_n ' (OCH₂CH₂CH₂)_n , および

(OCOCH₂CH₂CH₂CH₂CH₂ からなる群から選択され fcものであリ、 nが 1〜2 0を表し、

Xが、 0又は Sを表し、

Yが、 0又は Sを表し、

Zが、 0又は Sを表すものである。）

で表されるものが挙げられる。

[0064] 本発明にあっては、少なくとも 2以上の硫黄原子を含んでなるモノマーは市販品を使用することができ、具体的には、 S2EG、 MPSMA, MPS, MPT、 BDS、 MPV、 MPG、 PTD (住友精化社製）等が挙げられ; IUL2000、 IUL3000、 IUMS1010 ( 三菱ガス化学社製）等が挙げられ； EGMP- 4, TMMP, TEMPIC, PEMP, DPM P (境ィ匕学社製)等が挙げられ;特にこの中でも、 S2EG、 MPV、 MPSMAが好ましくは使用することができる。

[0065] 本発明にあっては、ハードコート層は、ウレタンアタリレート榭脂及び Z又はアタリレ一ト榭脂を含んでなるか、これらのもので形成されてなるものが好ま、。

ウレタンァクリレート榭脂

ウレタンアタリレートは、いずれのものであっても良いが、 3官能以上のウレタンアタリレート榭脂が好ましい。 3官能以上のウレタンアタリレート榭脂は、いずれのものを使用することができるが、具体的には、ポリオ一ルイ匕合物とポリイソシァネートイ匕合物と力なるものであってよ、。

ポリオール化合物の具体例としては、エチレングリコール、プロピレングリコール、ネォペンチルグリコール、トリシクロデカンジメチロール、シクロへキサンジメチロール、トリメチロールプロパン、グリセリン、 1、 3 プロパンジオール、 1、 4 ブタンジオール、 1、 3 ブタンジオール、 2、 3 ブタンジオール、 1、 5 ペンタンジオール、 2、 4ーぺンタンジオール、 1、 2 へキサンジオール、 1、 6 へキサンジオール、ジエチレングリコーノレ、トリプロピレングリコール、 1、 9ーノナンジオール、トリエチレングリコール、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリテトラメチレングリコール、ビスフエノール Aポリエトキシグリコール、ポリカーボネートポリオール、ペンタエリスルトール、ソルビトール、スクロース、クオドロールなポリブタジエンポリオール、水添ポリブタジエンポリォーノレ、水添ダイマージォーノレペンタエリトリトーノレ等；トリメチローノレプロノン、グリセリン、ペンタエリスルトール、ソルビトール、スクロース、クオドローノレ等の 3 価以上の水酸基を含有する化合物を、エチレンォキシド (EO)、プロピレンォキシド（ PO)、ブチレンォキシド、テトラヒドロフランなどの環状エーテル化合物で変性することにより得られるポリエーテルポリオール;力プロラタトンで変性することにより得られるポリカプロラタトンポリオール； 2塩基酸とジオール力なるポリエステルで変性することにより得られるポリエステルポリオール;及びこれらの二種以上の混合物を挙げることができる。

[0066] より具体的には、 EO変性トリメチロールプロパン、 PO変性トリメチロールプロパン、テトラヒドロフラン変性トリメチロールプロパン、力プロラタトン変性トリメチロールプロパン、 EO変性グリセリン、 PO変性グリセリン、テトラヒドロフラン変性グリセリン、力プロラタトン変性グリセリン、 EO変性ペンタエリスリトール、 PO変性ペンタエリスリトール、テトラヒドロフラン変性ペンタエリスリトール、力プロラタトン変性ペンタエリスリトール、 EO 変性ソルビトール、 PO変性ソルビトール、力プロラタトン変性ソルビトール、 EO変性スクロース、 PO変性スクロース、 EO変性スクロース、 EO変性クオドール等及びこれらの二種以上の混合物を挙げることができる。

[0067] ポリイソシァネートイ匕合物の具体例としては、 2、 4 トリレンジイソシァネート、 2、 6 —トリレンジイソシァネート、 4、 4—ジフエ-ノレメタンジイソシァネート、 m—キシリレンジイソシァネート、 p キシリレンジイソシァネート、テトラメチルキシリレンジイソシァネート、ビフエ二レンジイソシァネート、 1、 5 ナフチレンジイソシァネート、 o トリジンジイソシァネート、へキサメチレンジイソシァネート、 4、 4'ーメチレンビスシクロへキシルイソシァネート、イソホロンジイソシァネート、トリメチルへキサメチレンジイソシァネート、 1、 3— (イソシアナ一トメチル）シクロへキサン、およびこれらのビュレツトイ匕物、ヌレートイ匕物等の重縮合物、及びこれらの二種以上の混合物を挙げることができる。特に好ましくは、トリレンジイソシァネート、キシリレンジイソシァネートおよびへキサメチレンジイソシァネートのヌレート化物、イソホロンジイソシァネートのヌレート化物等が挙げられ、より好ましくは、へキサメチレンジイソシァネート、イソホロンジイソシァネートが挙げられる。

[0068] ウレタンアタリレート榭脂は市販品を使用することができ、具体的には、日本合成社製の紫光シリーズ、例えば、 UV1700B, UV6300B, UV765B, UV7640B, UV 7600B等が挙げられ;根上工業社製のアートレジンシリーズ、例えば、アートレジン HDP、アートレジン UN9000H、アートレジン UN3320HA、アートレジン UN3320 HB、アートレジン UN3320HC、アートレジン UN3320HS、アートレジン UN901M 、アートレジン UN902MS、アートレジン UN903等が挙げられ;新中村化学社製の UA100H、 U4H、 U6H、 U15HA、 UA32P、 U6LPA, U324A、 U9HAMI等が挙げられ;ダイセル'ユーシービー社製の Ebecrylシリーズ、例えば、 1290、 5129、 254、 264、 265、 1259、 1264、 4866、 9260、 8210、 204、 205、 6602、 220、 4 450等が挙げられ;荒川化学社製のビームセットシリーズ、例えば、 371、 371S、 57 7、 577BV、 577AK等が挙げられ；三菱レーヨン社製の RQシリーズが挙げられ；大日本インキ社製のュ-ディックシリーズ等が挙げられ; DPHA40H (日本化薬社製）、 CN9006 (サーマー社製）、 CN968等が挙げられる。この中でも、好ましくは、 UV 1700B (日本合成社製）、 DPHA40H (日本化薬社製）、アートレジン HDP (根上ェ業社製)、ビームセット 371 (荒川化学社製)、 U15HA (新中村ィ匕学社製)等が挙げられる。

[0069] ァクリレート榭脂

アタリレート樹脂は先に述べたものを使用することができる力 3官能以上のアタリレート榭脂が好ましくは利用できる。 3官能以上のアタリレート榭脂の具体例としては、トリメチロールプロパントリアタリレート、ペンタエリスリトールトリアタリレート、ペンタエリスリトールテトラアタリレート、ジペンタエリスリトールへキサアタリレート、ジペンタエリスリトールテトラアタリレート、イソシァヌル酸変性トリアタリレート等が挙げられる。また、これらアタリレートは、分子骨格の一部を変性しているものでもよぐエチレンオキサイド、プロピレンオキサイド、力プロラタトン、イソシァヌル酸、アルキル、環状アルキル、芳香族、ビスフノール等による変性がなされたものも使用することができる。

[0070] 3官能以上のアタリレート榭脂は市販品を使用することができ、具体的には、日本ィ匕薬社製の KAYARAD、 KAYAMERシリーズ、例えば、 DPHA、 PET30、 GPO30 3、 TMPTA、 THE330、 TPA330、 D310、 D330、 PM2、 PM21、 DPCA20、 D PCA30、 DPCA60、 DPCA120等が挙げられ;東亞合成社製のァロニックスシリーズ、例えば、 M305, M309, M310、 M315, M320, M327, M350, M360, M 402、 M408、 M450、 M7100、 M7300K、 M8030、 M8060、 M8100、 M8530 、 M8560、 M9050等が挙げられ;新中村化学社製の NKエステルシリーズ、例えばゝ TMPTゝ A— TMPTゝ A— TMM— 3、 A— TMM3Lゝ A— TMMTゝ A— TMPT 6EO、 A— TMPT— 3CLゝ A— GLY— 3Eゝ A— GLY— 6Eゝ A— GLY— 9Eゝ A GLY— 11Eゝ A— GLY— 18Eゝ A— GLY— 20Eゝ A— 9300、 AD— TMP— 4C L、 AD— TMP等が挙げられ;新中村ィ匕学社製の NKェコノマーシリーズ、例えば、 A DP51、 ADP33、 ADP42、 ADP26、 ADP15等が挙げられ；第一工業製薬社製のニューフロンティアシリース、例えば、 TMPT, TMP3、 TMP15、 TMP2P、 TMP3 P、 PET3、 TEICA等が挙げられ;ダイセルユーシービー社製の Ebecrylシリーズ、例えば TMPTA、 TMPTAN、 160、 TMPEOTA、 OTA480、 53、 PETIA、 2047 、 40、 140、 1140、 PETAK：、 DPHA等が挙げられ；サーマー社製の CD501、 CD 9021、 CD9052, SR351、 SR351HP, SR351LV, SR368、 SR368D、 SR415 、 SR444、 SR454、 SR454HP, SR492、 SR499、 SR502、 SR9008、 SR9012 、 SR9020、 SR9020HP, SR9035, CD9051、 SR350、 SR9009、 SE9011、 S R295、 SR355, SR399、 SR399LV, SR494、 SR9041等力挙げられる。

[0071] 腿

低屈折率層を形成するには、上記成分に溶剤を混合した組成物を利用することができる。溶剤の具体例としては、イソプロピルアルコール、メタノール、エタノール等のアルコール類；メチルェチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロへキサノン等のケトン類；酢酸ェチル、酢酸ブチル等のエステル類；ハロゲン化炭化水素；トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素;またはこれらの混合物が挙げられ、好ましくは、ケトン類、エステル類が挙げられる。

件溶剤

本発明にあっては、浸透性溶剤をも使用することができる。浸透性溶剤とは、光透過性基材に対して浸透性のある溶剤を利用する。本発明にあっては、浸透性溶剤の「浸透性」とは、光透過性基材に対して浸透性、膨潤性、湿潤性等のすべての概念を包含する意である。浸透性溶剤の具体例としては、イソプロピルアルコール、メタノール、エタノール等のアルコール類；メチルェチルケトン、メチルイソブチルケトン、シク口へキサノン等のケトン類；酢酸メチル、酢酸ェチル、酢酸ブチル等のエステル類；クロロホルム、塩化メチレン、テトラクロルェタン等のハロゲンィ匕炭化水素；またはこれらの混合物が挙げられ、好ましくは、エステル類、ケトン類が挙げられる。

[0072] 浸透性溶剤のより具体的な例としては、アセトン、酢酸メチル、酢酸ェチル、酢酸ブチル、クロ口ホルム、塩化メチレン、トリクロロェタン、テトラヒドロフラン、メチルェチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロへキサノン、ニトロメタン、 1、 4 ジォキサン、ジォキソラン、 N メチルピロリドン、 N、 N ジメチルホルムアミド、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、ブタノール、イソブチルアルコール、ジイソプロピルエーテル、メチルセ口ソルブ、ェチルセ口ソルブ、ブチルセ口ソルブが挙げられ、好ましくは酢酸メチル、酢酸ェチル、酢酸ブチル、メチルェチルケトン、シクロへキサノン等が挙げられる。

[0073] 浸透性溶剤の添加量は、適宜定めることができるが、例えば、ハードコート層用組成物全量に対して、 0. 01重量部以上 50重量部以下であり、好ましくは下限が 0. 1 重量部（より好ましくは 1重量部）以上であり、上限が 25重量部（より好ましくは 15重量部）以下である。

[0074] 仵意成分

本発明によるハードコート層は上記した成分によって形成されてなる力ハードコート層の光学特性機能を高めるために、任意成分を添加してもよい。開始剤

本発明にあっては、重合開始剤としては、ァセトフエノン類、ベンゾフエノン類、チォキサントン類、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、芳香族ジァゾ -ゥム塩、芳香族スルホ -ゥム塩、芳香族ョードニゥム塩、メタセロン化合物、ベンゾインスルホン酸エステル等を挙げることができる。これらは、単独で使用するか又は 2種以上を併用してもよい。

[0075] 任意のものを使用できる力好ましくは、 365nm以上の長波長での吸光係数 100 ( ml/gcm)以下の重合開始剤と、 365nm以上の長波長での吸光係数 100 (ml/g cm )より大きい重合開始剤との両方力もなるものを使用するのが好ましい。 365nm以上の長波長での吸光係数 100 (ml/g-cm)以下の重合開始剤の具体例としては、巿販品として、 Irgacurel27、 Irgacurel84、 Irgacure250、 Irgacure651、 IRGACU RE754、 Irgacure907、 Irgacure2959、 Darocure丄 173、 DarocureEDB、 Daro cureEHA (チバケミカル社製）、 LAMBERTI社製の ESACURE ONE, ESACU RE KIP 150, ESACURE1001M等が挙げられる。 365nm以上の長波長での吸光係数 100 (ml/g cm)より大きい重合開始剤の具体例としては、市販品として、 Irga cureOXE01、 IRGACURE369、 Irgacure784、 Irgacure819、 Irgacure907、 Ir gacurel300、 IRGACURE1800、 Darocurel l73、 DarocureTPO、 Darocure 4265、 CGI242 (チバケミカル社製）等が挙げられる。

光重合開始剤の含有量は、ハードコート層形成用組成物の榭脂固形分 100質量部に対して、 0. 1重量部以上 10質量部以下であることが好ましい。また、低屈折率層と同様な重合促進剤を 0. 1重量部以上 5重量部以下程度、併用することもできる。

[0076] 剤

本発明の好ましい態様によれば、ハードコート用組成物に安定剤を添加することが好ましい。安定剤は、ハードコート層を構成する成分が、天候又は経時変化により生じる変性を抑制することが可能となる。特に、安定剤を添加することにより、ハードコート層が、光又は熱による変色、特に、黄色化を抑制することができるものと思われる。安定剤が主として変色防止に用いられる場合には、安定剤は変色防止剤とされてよい。 [0077] 安定剤の具体例としては、ヒンダードアミン系（HALS)、ベンゾトリアゾール系、ヒンダードフエノール系、トリアジン系、リン系酸化防止剤、チォエーテル系酸化防止剤等が挙げられ、好ましくは、ヒンダードアミン系（HALS)、ベンゾトリアゾール系が挙げられる。

[0078] 安定剤は、それ自体が反応基を有するか否かを問わず、また、安定剤が高分子物質である場合、その分子量は限定されるものではない。安定剤はそれ自体が反応基を有しない場合には、その安定剤は分子量が 1000以上のものが好ましくは利用される。分子量が 1000以上の安定剤は、ハードコート層内において安定剤としての特性を十分に発揮することが可能となる。

[0079] 安定剤の添加量は、使用目的に応じて適宜定めてよいが、好ましくは、ハードコート層用組成物全量に対して、 20重量部以下、好ましくは 5重量部以下である。添加量力 Sこの範囲にされてなることにより、安定剤による安定ィ匕効果が十分に発揮することができ、かつ、ハードコート層中の樹脂の硬化が十分に行うことができ、ハードコート層のハードコート性能を達成することが可能となる。

[0080] 安定剤は市販品を使用することができ、その具体例としては、 RUVA93 (大塚化学 ^M)； Vanaresin UVA-1025S , VanaresinUVA-1050G, Vanaresin HAL- 11 025S (新中村ィ匕学ネ土製）； FA711MN, FA712HM (曰立ィ匕成ネ土製）； RSA0113 M (山南合成社製）；旭電ィ匕社製のアデカスタブシリーズ、例えば、 A022、 AO30、 AO40、 AO50、 AO60、 AO70、 AO80、 AO330、 A611、 A612、 A613、 A051 、 A015、 A018、 328、 A037、 PEP4C、 PEP8、 PEP8W、 PEP24G、 PEP36、 PEP36Z、 HP10、 2112、 260、 522、 1178、 1500、 135A、 3010、 TPP、 A023 、 A0412S、 AO503、 LA32、 LA36、 1413、 LA51、 LA52、 LA57、 LA62、 LA 63、 LA67、 LA77、 LA82、 LA87、 LA501、 LA502、 LA503、 LA601、 LA602 等が挙げられ；チノく.スペシャルティ ·ケミカルズ社製の TINUVINシリーズ、例えば、 TINUVIN— PS、 TINUVIN99— 2、 TINUVIN109、 TINUVIN328、 TINUVI N384— 2、 TINUVIN400, TINUVIN411L, TINUVIN900, TINUVIN928, TINUVIN 1130, TINUVIN111FDL、 TINUVIN123, TINUVIN 144, TINU VIN292, TINUVIN405等が挙げられ; IRGANOXシリーズ (長瀬産業）、例えば、 IRGANOX245、 IRGANOX259、 IRGANOX565、 IRGANOX1010、 IRGA NOX1076、 IRGANOX1098、 IRGANOX1222, IRGANOX1330、 IRGANO X1425、 IRGANOX3114、 IRGANOX5057、 IRGANOX1520、 IRGANOX11 35、 IRGANOX1035等が挙げられ;住友化学社のスミライザ一シリーズ、例えば、 GA80、 GS等が挙げられ;及びこれらの二種以上の混合物が挙げられる。これらの中でも、特に好ましいものとして、 RUVA93 (大塚化学社製）、 VanaresinUVA—l 025S、 VanaresinUVA— 1050G (以上新中村化学社製）、 FA711MN、 FA712 HM (以上日立化成社製）、 TINUVIN292, TINUVIN123 (チノく'スペシャルティ · ケミカルズ社製)等及びこれらの二種以上の混合物が挙げられる。

[0081] その他,の ¾1

ハードコート層は、所望の光学特性を発揮させる目的で、その他の剤、例えば、帯電防止剤、防汚染剤または防眩剤を添加してもよい。この場合、ハードコート層用組成物に、その他の剤を添加してハードコート層を形成することができる。

[0082] 雷剤諭 I)

導電剤（帯電防止剤）の添カ卩により、光学積層体の表面における塵埃付着を有効に防止することができる。導電剤 (帯電防止剤)の具体例としては、第 4級アンモ-ゥム塩、ピリジ-ゥム塩、第 1〜第 3アミノ基等のカチオン性基を有する各種のカチオン性化合物、スルホン酸塩基、硫酸エステル塩基、リン酸エステル塩基、ホスホン酸塩基等のァ-オン性基を有するァ-オン性化合物、アミノ酸系、ァミノ硫酸エステル系等の両性化合物、ァミノアルコール系、グリセリン系、ポリエチレングリコール系等のノユオン性ィ匕合物、スズおよびチタンのアルコキシドのような有機金属化合物およびそれらのァセチルァセトナート塩のような金属キレートイ匕合物等が挙げられ、さらに上記に列記したィ匕合物を高分子量ィ匕したィ匕合物が挙げられる。また、第 3級ァミノ基、第 4 級アンモ-ゥム基、または金属キレート部を有し、かつ、電離放射線により重合可能なモノマーまたはオリゴマー、或いは官能基を有するカップリング剤のような有機金属化合物等の重合性ィ匕合物もまた帯電防止剤として使用できる。

[0083] また、帯電防止剤として、導電性微粒子が挙げられる。導電性微粒子の具体例としては、金属酸ィ匕物力もなるものを挙げることができる。そのような金属酸ィ匕物としては、 ZnO (屈折率 1. 90、以下、カツコ内の数値は屈折率を表す。）、 CeO (1. 95) , S

2

b O (1. 71)、 SnO (1. 997)、ITOと略して呼ばれることの多い酸化インジウム錫（

2 2 2

1. 95)、 In O (2. 00)、 Al O (1. 63)、アンチモンドープ酸化錫（略称; ATO、 2.

2 3 2 3

0)、アルミニウムドープ酸ィ匕亜鉛 (略称; AZO、 2. 0)等を挙げることができる。微粒子とは、 1ミクロン以下の、いわゆるサブミクロンの大きさのものを指し、好ましくは、平均粒径が 0. lnm〜0. 1 μ mのものである。

[0084] また、帯電防止剤として、導電性ポリマーが挙げられ、その具体例としては、脂肪族共役系のポリアセチレン、芳香族共役系のポリ（バラフヱ-レン）、複素環式共役系のポリピロール、ポリチォフェン、含へテロ原子共役系のポリア-リン、混合型共役系のポリ（フエ-レンビ-レン）が挙げられ、これら以外に、分子中に複数の共役鎖を持つ共役系である複鎖型共役系、前述の共役高分子鎖を飽和高分子にグラフトまたはブロック共重した高分子である導電性複合体等を挙げられる。

[0085] 帯電防止剤の添加量は、適宜定めることができる力例えば、ハードコート層用組成物全量に対して、 0. 01重量部以上 50重量部以下であり、好ましくは下限が 0. 1 重量部以上であり、上限が 25重量部以下である。

[0086] その他,の方 I卜 1 (導雷剤)

本発明の防眩層は、上記以外に、他の帯電防止剤 (導電剤）を含んでいてもよい。導電剤 (帯電防止剤)の具体例としては、第 4級アンモニゥム塩、ピリジニゥム塩、第 1 〜第 3アミノ基等のカチオン性基を有する各種のカチオン性ィ匕合物、スルホン酸塩基、硫酸エステル塩基、リン酸エステル塩基、ホスホン酸塩基等のァ-オン性基を有するァ-オン性ィ匕合物、アミノ酸系、ァミノ硫酸エステル系等の両性ィ匕合物、アミノアルコール系、グリセリン系、ポリエチレングリコール系等のノ-オン性化合物、スズおよびチタンのアルコキシドのような有機金属化合物およびそれらのァセチルァセトナート塩のような金属キレートイヒ合物等が挙げられ、さらに上記に列記したィヒ合物を高分子量ィ匕した化合物が挙げられる。また、第 3級ァミノ基、第 4級アンモ-ゥム基、または金属キレート部を有し、かつ、電離放射線により重合可能なモノマーまたはオリゴマー、或いは官能基を有するカップリング剤のような有機金属化合物等の重合性ィ匕合物もまた帯電防止剤として使用できる。 [0087] また、導電性微粒子が挙げられる。導電性微粒子の具体例としては、金属酸化物力らなるものを挙げることができる。そのような金属酸ィ匕物としては、 ZnO (屈折率 1. 90、以下、カツコ内の数値は屈折率を表す。）、 CeO (1. 95)、 Sb O (1. 71)、 Sn

2 2 2

O (1. 997)、ITOと略して呼ばれることの多い酸化インジウム錫（1. 95) , In O (2

2 2 3

. 00)、 Al O (1. 63)、アンチモンドープ酸化錫（略称; ATO、 2. 0)、アルミニウムド

2 3

一プ酸ィ匕亜鉛 (略称; AZO、 2. 0)等を挙げることができる。微粒子とは、 1ミクロン以下の、いわゆるサブミクロンの大きさのものを指し、好ましくは、平均粒径が 0. lnm〜 0. l /z mのものである。

[0088] さらに、帯電防止剤として、導電性ポリマーが挙げられる。その材料としては特に限定されず、例えば、脂肪族共役系のポリアセチレン、ポリアセン、ポリアズレン、芳香族共役系のポリフエ-レン、複素環式共役系のポリピロール、ポリチォフェン、ポリイソチアナフテン、含へテロ原子共役系のポリア-リン、ポリチェ-レンビ-レン、混合型共役系のポリ（フエ二レンビニレン)、分子中に複数の共役鎖を持つ共役系である複鎖型共役系、これらの導電性ポリマーの誘導体、及び、これらの共役高分子鎖を飽和高分子にグラフトまたはブロック共重した高分子である導電性複合体力なる群より選択される少なくとも一種を挙げることができる。なかでも、ポリチォフェン、ポリア- リン、ポリピロール等の有機系帯電防止剤を使用することがより好ましい。上記有機系帯電防止剤を使用することによって、優れた帯電防止性能を発揮すると同時に、光学積層体の全光線透過率を高めるとともにヘイズ値を下げることも可能になる。また、導電性向上や、帯電防止性能向上を目的として、有機スルホン酸や塩化鉄等の陰ィオンを、ドーパント (電子供与剤）として添加することもできる。ドーパント添加効果も踏まえ、特にポリチォフェンは透明性、帯電防止性が高ぐ好ましい。上記ポリチォフエンとしては、オリゴチォフェンも好適に使用することができる。上記誘導体としては特に限定されず、例えば、ポリフエ-ルアセチレン、ポリジアセチレンのアルキル基置換体等を挙げることができる。

[0089] 防眩剤

防眩剤としては微粒子が挙げられ、その形状は、真球状、楕円状などのものであつてよぐ好ましくは真球状のものが挙げられる。また、微粒子は無機系、有機系のものが挙げられる。微粒子は、防眩性を発揮するものであり、好ましくは透明性のものがよい。微粒子の具体例としては、無機系であればシリカビーズ、有機系であればプラスチックビーズが挙げられ、より好ましくは、透明性を有するものが挙げられる。プラスチックビーズの具体例としては、スチレンビーズ (屈折率 1. 59)、メラミンビーズ (屈折率 1. 57)、アクリルビーズ（屈折率 1. 49)、アクリルスチレンビーズ（屈折率 1. 54)、ポリカーボネートビーズ、ポリエチレンビーズ等が挙げられる。

[0090] 防眩剤を添加する際に、沈降防止剤を添加することが好ましい。沈降防止剤を添加することにより、榭脂ビーズの沈殿を抑制し、溶媒内に均一に分散させることができる力らである。沈降防止剤の具体例としては、粒径が 0. 5 m以下、好ましくは 0. 1 〜0. 25 μ m程度のシリカビーズ、ポリエチレンビーズ等が挙げられる。

[0091] その他のプラスチックビーズ防眩剤

その他のプラスチックポリマービーズの具体例としては、ポリスチレンビーズ (屈折率 1. 60)、メラミンビーズ（屈折率 1. 57)、アクリルビーズ（屈折率 1. 49〜： L 535)、ァタリルースチレンビーズ（屈折率 1. 54〜： L 58)、ベンゾグアナミンホルムアルデヒド縮合物ビーズ (屈折率 1. 66)、ベンゾグアナミン 'メラミン'ホルムアルデヒド縮合物ビーズ (屈折率 1. 52-1. 66)、メラミン'ホルムアルデヒド縮合物ビーズ（屈折率 1. 66)ポリカーボネートビーズ、ポリエチレンビーズ等が挙げられる。上記プラスチックビーズは、その表面に疎水性基を有することが好ましぐ例えば、スチレンビーズを挙げることができる。無機系微粒子としては、球状シリカ、不定形シリカ等を挙げることができる。その他、有機 ·無機複合のシリカ'アクリル複合ィ匕合物ビーズ (屈折率 1. 52)なども用いられる。

[0092] 防眩剤の添加量は、適宜定めることができるが、例えば、ハードコート層用糸且成物全量に対して、 0. 001重量部以上 75重量部以下であり、好ましくは下限が 0. 01重量部以上であり、上限が 50重量部以下である。

[0093] 光诱渦性某材

光透過性基材は、光を透過するものであれば、透明、半透明、無色または有色を問わないが、好ましくは無色透明のものがよい。光透過性基材の具体例としては、ガラス板；トリアセテートセルロース（TAC)、ポリエチレンテレフタレート（PET)、ジァセチノレセルロース、アセテートブチレートセルロース、ポリエーテノレサノレホン、アタリノレ系榭脂；ポリウレタン系榭脂；ポリエステル；ポリカーボネート；ポリスルホン；ポリエーテル；トリメチルペンテン;ポリエーテルケトン；（メタ）アクリロニトリル、ノルボルネン榭脂等により形成した薄膜等が挙げられる。本発明の好ましい態様によれば、トリアセテートセルロース (TAC)が好ましくは挙げられる。光透過性基材の厚さは、 30 /ζ πι〜200 μ m程度であり、好ましくは 40 μ m〜200 μ mである。

[0094] 好ましい光诱渦性某材

本発明の好ましい態様によれば、光透過性基材は、平滑性、耐熱性を備え、機械的強度に優れたものが好まヽ。光透過性基材を形成する材料の具体例としては、ポリエステル（ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリブチレンナフタレート）、セノレローストリアセテート、セノレロースジァセテート、セルロースアセテートブチレート、ポリアミド、ポリイミド、ポリエーテルスルフォン、ポリスルフォン、ポリプロピレン、ポリメチルペンテン、ポリ塩化ビュル、ポリビュルァセタール、ポリエーテルケトン、ポリメタクリル酸メチル、ポリカーボネート、又は、ポリウレタン等の熱可塑性榭脂が挙げられ、好ましくはポリエステル (ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート）、セルローストリアセテートが挙げられる。

[0095] 光透過性基材は、熱可塑性榭脂を柔軟性に富んだフィルム状体として使用することが好ましいが、硬化性が要求される使用態様に応じて、これら熱可塑性榭脂の板を使用することも可能であり、又は、ガラス板の板状体のものを使用してもよい。

[0096] その他、光透過性基材としては、脂環構造を有した非晶質ォレフィンポリマー（Cyc lo— Olefin— Polymer: COP)フィルムを挙げることができる。これは、ノルボルネン系重合体、単環の環状ォレフィン系重合体、環状共役ジェン系重合体、ビニル脂環式炭化水素系重合体等が用いられる基材で、例えば、日本ゼオン (株)製のゼォネッタスゃゼォノア（ノルボルネン系榭脂）、住友ベークライト (株)製のスミライト FS - 170 0、 JSR (株)製のアートン (変性ノルボルネン系榭脂）、三井化学 (株)製のアベル (環状ォレフイン共重合体）、 Ticona社製の Topas (環状ォレフィン共重合体）、日立化成 (株)製のォプトレッツ OZ— 1000シリーズ (脂環式アクリル榭脂)等が挙げられる。また、トリァセチルセルロースの代替基材として旭化成ケミカルズ (株)製の FVシリーズ (低複屈折率、低光弾性率フィルム)も好ましい。

[0097] 光透過性基材が板状体の場合には、これらの厚さを超える厚さ 300 μ m以上 5000 m以下であってもよい。基材は、その上にハードコート層、帯電防止層等を形成するのに際して、接着性向上のために、コロナ放電処理、酸化処理等の物理的な処理のほか、アンカー剤もしくはプライマーと呼ばれる塗料の塗布を予め行ってもよい。

[0098] その他の層

本発明による光学積層体は、所望の光学特性を発揮させる目的で、光学積層体を構成する層の間または光学積層体の最表面に、帯電防止層、防眩層、または防汚染層をさらに備えてなるものが好ましい。本発明の好ましい態様によれば、低屈折率層とハードコート層の間に帯電防止層を備えてなるものが好まし、。

諭卜

帯電防止層は、帯電防止剤と樹脂とにより形成されてよい。帯電防止剤は、先のハードコート層で説明したのと同様であってよぐ榭脂は、先の低屈折率層で説明したのと同様であってよい。帯電防止層は、帯電防止剤と樹脂と溶剤とを含んでなるものである。帯電防止層の厚さは、 30ηπι〜1 /ζ πι程度であることが好ましい。帯電防止層の形成にあっては、帯電防止層の表面抵抗値が、 5 Χ 10⁷ΩΖ口以下となるよう行うことが好ましい。

[0099] ^ m

防眩層は、防眩剤と榭脂とにより形成されてよい。防眩剤は、先のハードコート層で説明したのと同様であってよぐ榭脂及び溶剤も先の低屈折率層で説明したのと同様であってよい。

[0100] II.光学穑層体の製诰方法

) ¾糸且の

各層用組成物は、一般的な調製法に従って、先に説明した成分を混合し分散処理することにより調整されてよい。混合分散には、ペイントシェーカー又はビーズミル等で適切に分散処理することが可能となる。分散処理した各層用組成物はその後、濾過してちょい。

[0101] 賺城法各層を形成する方法の具体例としては、スピンコート法、ディップ法、スプレー法、スライドコート法、バーコート法、ロールコーター法、メニスカスコーター法、フレキソ印刷法、スクリーン印刷法、ピードコーター法等の各種方法を用いることができる。硬化型榭脂組成物の硬化方法としては、電子線または紫外線の照射によって硬化する。電子線硬化の場合には、 1 OOKe V〜 300Ke Vのエネルギーを有する電子線等を使用する。紫外線硬化の場合には、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、低圧水銀灯、カーボンアーク、キセノンアーク、メタルノヽライドランプ等の光線カゝら発する紫外線等を使用する。

[0102] III.光学穑層体の禾 II用

本発明による製造方法によって製造される光学積層体は反射防止積層体として利用されるが、さらに、下記の用途を有する。本発明の別の態様によれば、偏光素子と、本発明による光学積層体とを備えてなる偏光板を提供することができる。具体的には、偏光素子の表面に、本発明による光学積層体を該光学積層体における低屈折率層が存在する面と反対の面に備えてなる、偏光板を提供することができる。

[0103] 偏光素子は、例えば、よう素又は染料により染色し、延伸してなるポリビニルアルコールフィルム、ポリビニルホルマールフィルム、ポリビニルァセタールフィルム、ェチレン—酢酸ビュル共重合体系ケンィ匕フィルム等を用いることができる。ラミネート処理にあたって、接着性の増加のため、または電防止のために、光透過性基材 (好ましくは、トリァセチルセルロースフィルム）にケン化処理を行うことが好ましい。

[0104] 画像表示装置

本発明のさらに別の態様によれば、画像表示装置を提供することができ、この画像表示装置は、透過性表示体と、前記透過性表示体を背面から照射する光源装置とを備えてなり、この透過性表示体の表面に、本発明による光学積層体または本発明による偏光板が形成されてなるものである。本発明による画像表示装置は、基本的には光源装置 (バックライト）と表示素子と本発明による光学積層体とにより構成されてよい。画像表示装置は、透過型表示装置に利用され、特に、テレビジョン、コンピュータ、ワードプロセッサ等のディスプレイ表示に使用される。とりわけ、 CRT,液晶パネル等の高精細画像用ディスプレイの表面に用いられる。

[0105] 本発明による画像表示装置が液晶表示装置の場合、光源装置の光源は本発明による光学積層体の下側から照射される。なお、 STN型の液晶表示装置には、液晶表示素子と偏光板との間に、位相差板が挿入されてよい。この液晶表示装置の各層間には必要に応じて接着剤層が設けられてよい。

実施の態様

[0106] 本発明の内容を下記の実施例により詳細に説明するが、本発明の範囲はこれら実施例に限定して解釈されるものではな、。

[0107] 低屈.ネ斤 ffl Hfe の

下記組成表の成分を混合機にお!ヽて十分混合した後、濾過して低屈折率層用組成物を調製した。処理した空隙シリカゾル微粒子 *) 14. 3重量部ペンタエジスジ卜一ノレ卜ジァクジレー卜（ΡΕΤΓΑ) 1. 95¾S¾

ィルガキュア 369 (チバスべシャリティケミカルズ社製） 0. 07重量部変性シリコーンオイル X22— 176F (信越ィ匕学工業社製） 0. 15重量部メチノレイソブチノレケトン 73重量部

N—ブタノール 21重量部

* )空隙シリカゾルを 20%メチルイソプチルケトン溶液使用して処理した (以下、同様である)。

[0108] 低屈斤糸且 2

処理した空隙シリカゾル微粒子 *) 14. 3重量部ペンタエジスジ卜一ノレ卜ジァクジレー卜（ΡΕΤΓΑ) 1. 95¾S¾

ィルガキュア 369 (チバスべシャリティケミカルズ社製） 0. 07重量部変性シリコーンオイル X22— 176F (信越ィ匕学工業社製） 0. 20重量部メチノレイソブチノレケトン 73重量部

N—ブタノール 21重量部 [0109] 屈斤糸且 3

処理した空隙シリカゾル微粒子 *) 14. 3重量部ペンタエジスジ卜一ノレ卜ジァクジレー卜（ΡΕΤΓΑ) 1. 95¾S¾ ィルガキュア 369 (チバスべシャリティケミカルズ社製） 0. 07重量部変性シリコーンオイル X22— 164E (信越ィ匕学工業社製） 0. 20重量部メチノレイソブチノレケトン 73重量部 N—ブタノ一ノレ 21重量部

[0110]

処理した空隙シリカゾル微粒子 * ) 14. 3重量部ペンタエリスリトールトリアタリレート（PETA) -. 95重量部ィルガキュア 369 (チバスべシャリティケミカルズ社製） 0. 07重量部変性シリコーンオイルサイラプレーン FM725 (チッソ社製） 0. 20重メチノレイソブチノレケトン 73重量部

N—ブタノ一ノレ 21重量部

[0111]

処理した空隙シリカゾル微粒子 * ) 14. 3重量部ペンタエリスリトールトリアタリレート（PETA) -. 95重量部ィルガキュア 369 (チバスべシャリティケミカルズ社製） 0. 07重量部変性シリコーンオイル TSF4421 (GE東芝シリコーン社製） 0. 20重量部メチノレイソブチノレケトン 73重量部

N—ブタノール 21重量部

[0112]

処理した空隙シリカゾル微粒子 *) 14. 3重量部ペンタエジスジ卜一ノレ卜ジァクジレー卜（PETA) 1. 95¾S¾ ィルガキュア 369 (チバスべシャリティケミカルズ社製） 0. 07重量部メチノレイソブチノレケトン 73重量部

N—ブタノール 21重量部

[0113] 処理した空隙シリカゾル微粒子 * ) 14. 3重量部ペンタエリスリトールトリアタリレート（PETA) -. 95重量部

ィルガキュア 127 (チバスペシャルティケミカルズ社製) 0. 07重量部変性シリコーンオイル X22- 164E (信越化学工業社製） 0. 20重メチノレイソブチノレケトン 73重量部

PGME 21重量部

[0114]

処理した空隙シリカゾル微粒子 * ) 14. 3重量部ペンタエリスリトールトリアタリレート（PETA) 0. 45重量部

LINC3A (共栄社ィ匕学） 1. 5重量部

ィルガキュア 127 (チバスペシャルティケミカルズ社製） 0. 06重量部 LunaOMB (Lambson Group LTD社製） 0. 01重量部変性シリコーンオイル FM7726 (チッソ社製） 0. 20重量部

73重量部

PGMEA 21重量部

[0115] ハード'コ一卜層用細成物の調整下記組成表の成分を混合機にぉヽて十分混合した後、濾過してハードコート層用組成物を調製した。

ハードコート組成 1 ウレタンアタリレート榭脂（日本合成製、 UV1700B) ί部ポリエステルアタリレート榭脂 (東亞合成製、 M9050) 量部重合開始剤 (IRGACURE184) 0. 4重量部メチノレエチノレケトン（以下、「MEK」という） 10重量部

[0116] ハードコート組成 ₂ ビス [ (2—メタクリロイルチオ）ェチル]スルフイド

(住友精化社製; S2EG)

ジペンタエリスリトールへキサアタリレート（日本化薬、 DPHA) R ポリエステルアタリレー卜（東亞合成、 M9050) 重合開始剤 (IRGACURE184) 0. 3重量部重合開始剤（DAROCUR TPO) 0. 3重量部 MEK 10重量部

[0117] ハードコート組成 3

ウレタンアタリレート榭脂（日本合成製、 UV1700B) fc部ポリエステルアタリレート榭脂 (東亞合成製、 M9050) 量部ウレタンアタリレート榭脂 (荒川化学製、 BS371) t部ジペンタエリスリトールへキサアタリレート（DPHA) fc部重合開始剤 (IRGACURE184) 0. 4重量部

MEK 10重量部

[0118] ハードコート組成 4

ウレタンアタリレート榭脂（日本合成製、 UV1700B) 〔部ジペンタエリスリトールへキサアタリレート（日本 DPHA) 量部ウレタンアタリレート榭脂 (荒川化学製、 BS371) 部表面処理したコロイダルシリカ（平均粒径約 90ナノメートル）

重合開始剤（IRGACURE184) 0. 4重量部

MEK 10重量部

[0119] 学穑の製

例 1

ハードコート層の形成セルローストリアセテートフィルム（厚み 80 μ m)の片面に、ハードコート層用組成物 1を湿潤重量 20gZm² (乾燥重量 lOgZm²)で塗布した。 50°Cにて 30秒乾燥し、紫外線 50miZcm²を照射してハードコート層を形成した。

屈ネ斤の开

前記ハードコート層の表面に、低屈折層用組成物 (低屈折率組成 1)を紫外線照射装置（フュージョン UVシステムジャパン (株）、光源 Hバルブ）を用いて、照射線量 19 2mjZm²で紫外線照射を行って硬化させて、乾燥後 (40°C X 1分)の膜厚が 0. 1 μ となり、膜厚は反射率の極小値が波長 550nm付近になるように形成し、低屈折率層を形成し、光学積層体を得た。

実施例 2

低屈折層用組成物を低屈折率組成 2としたこと以外は、実施例 1と同様の手法にて光学積層体を得た。

実施例 3

ハードコート層用組成物をノヽードコート組成 2としたこと以外は、実施例 1と同様の手法にて光学積層体を得た。

実施例 4

低屈折層用組成物を低屈折率組成 3としたこと以外は、実施例 1と同様の手法にて光学積層体を得た。

例 5

低屈折層用組成物を低屈折率組成 4としたこと以外は、実施例 1と同様の手法にて光学積層体を得た。

例 6

低屈折層用組成物を低屈折率組成 7とし、ハードコート層用組成物をハードコート組成 3とした以外は、実施例 1と同様の手法にて光学積層体を得た。

例 7

低屈折層用組成物を低屈折率組成 8とし、ハードコート層用組成物をハードコート組成 4とした以外は、実施例 1と同様の手法にて光学積層体を得た。

列 1

低屈折層用組成物を低屈折率組成 5としたこと以外は、実施例 1と同様の手法にて光学積層体を得た。

2

低屈折層用組成物を低屈折率組成 6としたこと以外は、実施例 1と同様の手法にて光学積層体を得た。

評価試験

実施例及び比較例の光学積層体について、下記評価基準に基づいて評価し、その結果を下記表 1に記載した。 [0121] 評価 1 :防汚件の評価

光学積層体のハードコート層の面に対して、水を滴下したときの接触角を測定した評価◎:水の接触角度が 90° 以上であった。

評価 X：水の接触角度が 90° 未満であった。

[0122] 評 2： XPSによる有機ケィ素原早の存在率測定

Thermo Electron社製 (VG Theta Probe)の XPS (X線光電子分光測定）装置を使用し、 X線源は Monochromated Al Κ α、 X線出力は 100W、測定領域は 400 μ ΐη φ 、レンズは Angle Resolved、測定角度 3段階（31° 、46° 、61° )の条件にて、有機ケィ素原子の存在率 (％)を測定した。無機ケィ素原子 (0-Sト 0)の存在率は除外した。

測定角度 3段階 (31° 、46° 、61° )の条件にて、有機ケィ素原子の存在率を測定した。無機ケィ素原子 (O-Si-O)の存在率は除外した。測定角度が 31° の場合、再表面から 50 Aの範囲であった。測定角度が 46° の場合、再表面から 70 Aの範囲であった。測定角度 31° の場合、再表面力も 87 Aの範囲であった。

[0123] 例/評価 MM1 評価 2

31° 46° 61°

実施例 1 ◎ 18 14 11

実施例 2 ◎ 18 16 13

実施例 3 ◎ 25 20 18

実施例 4 ◎ 16 14 12

実施例 5 ◎ 16 14 12

実施例 6 ◎ 20 15 11

実施例 7 ◎ 17 13 10

比較例 1 X 8 6 5

Claims

請求の範囲

[1] 光透過性基材の上に、ハードコート層と低屈折率層とをこれらの順で備えてなる光学積層体 Rであって、

前記低屈折率層の屈折率が 1. 5以下であり、

前記低屈折率層C C SIIが卜 H H、防汚染剤及び Z又は滑り性付与剤を含んでなり、

3 3

前記防汚染剤及び一 Z又は滑り性付与剤の添加料が、前記ハードコート層の表面から前記低屈折率層の表面に向けて増加するように添加されてなる、光学積層体。

[2] 前記防汚染剤及び Z又は滑り性付与剤が、ケィ素系化合物、フッ素系化合物またはこれらの混合物である、請求項 1に記載の光学積層体。

[3] 前記ケィ素系化合物が、下記一般式 (I)〜 (ΠΙ)又は (IV)：

[化 1]

(上記式中、

Rは、メチル基、フッ素原子、アクリル基、メタクリル基、水酸基、カルボキシル基、ポリエーテル基、又はエポキシ基であり、

Rはアルキル基であり、

Xは 0〜1200であり、

Yは 0〜1200である。；）

で表されるものである、請求項 1に記載の光学積層体。

[4] 前記フッ素系化合物が、下記一般式：

(A)w- (B) x- (D)y-CF

3

(上記式中、

Aは、 CF、 CFCF、 C (CF ) 力なる群力選択される一種または二種以上の基

2 2 2 2

を表し、

Bは、 OCF CF、 OCF CF (CF )、 OCF C (CF ) 、

2 2 2 2 2 2 2

OCF (CF ) CF (CF )、 OCF (CF ) C (CF ) 、

2 2 2 2 2

OC (CF ) CF (CF )、 OC (CF ) C (CF ) 力なる群力選択される一種または二

2 2 2 2 2 2 2

種以上の基を表し、

Dは、 OCH CH、 OCH CH CH、 OC (O) (CH ) zからなる群から選択される

2 2 2 2 2 2 一種または二種以上の基を表し、

w、 x、 y、 zは 0超過 50以下の数を表す。 )

で表されるものである、請求項 2に記載の光学積層体。

[5] 前記低屈折率層の最表面を XPS解析した場合に、ケィ素原子の存在率が 10%以上であり、及び Z又は、フッ素原子の存在率が 20%以上である、請求項 2に記載の光学積層体。

[6] 前記低屈折率層及び Z又は前記ハードコート層に、帯電防止剤または防眩剤が含まれてなる、請求項 1に記載の光学積層体。

[7] 前記ハードコート層の下に、または低屈折率層とハードコート層との間に、帯電防止層をさらに備えてなる、請求項 1に記載の光学積層体。

[8] 前記ハードコート層力少なくとも 1以上の官能基を有する 9, 9ービスフエノキシフルオレン骨格を有するモノマー及び Z又は少なくとも 2以上の硫黄原子を含んでなるモノマーを含んでなる、請求項 1に記載の光学積層体。

[9] 反射防止積層体として利用される、請求項 1〜8のいずれか一項に記載の光学積層体。

[10] 偏光素子を備えてなる偏光板であって、

前記偏光素子の表面に、請求項 1〜8のいずれか一項に記載の光学積層体を該光学積層体における低屈折率層が存在する面とは反対の面に備えてなる、偏光板。

[11] 透過性表示体と、前記透過性表示体を背面から照射する光源装置とを備えてなる画像表示装置であって、

前記画像表示体の表面に、請求項 1〜8のいずれか一項に記載の光学積層体、または請求項 10に記載の偏光板を備えてなる、画像表示装置。