KR20080104357A - 저굴절률층을 구비하여 이루어지는 광학 적층체 - Google Patents

저굴절률층을 구비하여 이루어지는 광학 적층체 Download PDF

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Abstract

본 발명은 광투과형 기재상에 형성된 저굴절률층의 방오염성과 윤활성을 겸비한 광학 적층체를 개시한다. 본 발명은 광투과성 기재상에 하드 코트층과 저굴절률층을 이 순서로 구비하여 이루어지는 광학 적층체로서, 상기 저굴절률층이 방오염제 및／또는 윤활성 부여제를 포함하여 이루어지며, 방오염제 및／또는 윤활성 부여제가 상기 하드 코트층에서 상기 저굴절률층의 표면까지 농도 구배로서 첨가되어 이루어지는 것이다.
광학 적층체, 화상 표시 장치, 방오염제, 윤활성 부여제, 하드 코트, 저굴절률층

Description

저굴절률층을 구비하여 이루어지는 광학 적층체{OPTICAL LAMINATE COMPRISING LOW-REFRACTIVE INDEX LAYER}
관련 출원
본원은 특원 2006―88742(일본국)를 기초로 한 파리 조약의 우선권 주장을 수반하는 것이며, 본원은 이 특허 출원의 내용을 모두 포함하는 것이다.
본 발명은 저굴절률층을 적어도 구비하여 이루어지는 광학 적층체에 관한 것이다.
액정 디스플레이(LCD) 또는 음극선관 표시 장치(CRT) 등의 화상 표시 장치에서 화상 표시면은 외부 광원으로부터 조사된 광선에 의한 반사를 적게 하여 그 시인성을 높이는 것이 요구된다. 이에 대해, 광투과성 기재에 반사 방지층을 형성시킨 광학 적층체(예를 들면 반사 방지 적층체)를 이용함으로써 화상 표시 장치의 화상 표시면의 반사를 저감시켜 시인성을 향상시키는 것이 일반적으로 이루어지고 있다.
또한 음극선관 표시 장치(CRT), 플라즈마 디스플레이(PDP), 유기 또는 무기 전기 발광 디스플레이(ELD), 전계 방출 디스플레이(FED) 또는 액정 디스플레이(LCD)와 같은 화상 표시 장치에서 외광 반사 또는 상비침에 의한 콘트라스트의 저하, 시인성의 저하를 방지하는 것이 요구된다. 따라서 빛의 산란 원리 또는 광학 간섭의 원리를 이용하여 상비침 또는 반사율을 저감할 목적으로 화상 표시 장치의 최표면에 반사 방지 적층체가 마련되는 것이 일반적이다.
종래 광학 적층체의 최표면은 다양한 사용 환경에 노출되어 손상되기 쉽고, 또한 오염 물질이 부착되기 쉬운 것이 지적되고 있다. 이에 대해, 일본 특허공개 평10―104403호에서는 화상 표시면의 내찰상성과 오염 방지를 향상시키기 위해 하드 코트층에 방오염제를 첨가한 광학 적층체가 제안되어 있다.
그런데 본 발명자들이 확인한 바, 광투과형 기재상에 형성된 저굴절률층의 방오염성과 윤활성을 겸비한 광학 적층체는 아직 제안되지 않았다.
본 발명자들은 본 발명시에 있어서 저굴절률층에 방오염제 및／또는 윤활성 부여제를 포함하여 이루어지며, 방오염제 및／또는 윤활성 부여제가 상기 하드 코트층에서 상기 저굴절률층의 표면까지 농도 구배로서 첨가되어 이루어짐으로써 방오염성과 윤활성을 겸비한 저굴절률층을 형성할 수 있다는 지견을 얻었다. 따라서 본 발명은 저굴절률층에 대해 방오염성과 윤활성을 부여한 광학 적층체의 제공을 목적으로 하는 것이다.
따라서 본 발명은 광투과성 기재상에 하드 코트층과 저굴절률층을 이 순서로 구비하여 이루어지는 광학 적층체로서,
상기 저굴절률층의 굴절률이 1.45 이하이고,
상기 저굴절률층이 방오염제 및／또는 윤활성 부여제를 포함하여 이루어지며,
상기 방오염제 및／또는 윤활성 부여제가 상기 하드 코트층의 표면에서 상기 저굴절률층의 표면을 향하여 증가하도록 첨가되어 이루어지는 것이다.
Ⅰ. 광학 적층체
저굴절률층
농도 구배
본 발명에 따른 광학 적층체는 저굴절률층이 방오염제 및／또는 윤활성 부여제를 포함하여 이루어지며, 또한 방오염제 및／또는 윤활성 부여제의 첨가량이 하드 코트층의 표면에서 저굴절률층의 표면을 향하여 증가하도록 첨가되는 것이다. 즉, 본 발명에서는 하드 코트층에서 상기 저굴절률층의 표면까지 농도 구배로서 첨가되어 이루어지는 것이다.
본 발명의 바람직한 태양에 따르면, 농도 구배는 저굴절률층의 최표면을 XPS 해석한 경우에, 방오염제 및／또는 윤활성 부여제 중의 구성 원자(예를 들면 규소 원자 및／또는 불소 원자)의 존재율이 특정한 수치로 되어 이루어짐으로써 설명하는 것이 가능하다. ‘XPS 해석’이란 X선 광전자 분광에 의해 시료 표면의 존재 원소·조성을 분석하는 방법이다. XPS 해석은 예를 들면 Thermo Electron사제(VG Theta Probe)의 XPS(X선 광전자 분광 측정) 장치를 사용하고, X선원은 Monochromated Al Kα, X선 출력은 100W, 측정 영역은 400㎛Φ, 렌즈는 Angle Resolved, 측정 각도 4단계(31°, 46°, 61°, 76°)의 조건으로 실시할 수 있다.
예를 들면 XPS 해석에 있어서 측정 각도가 90°인 경우는, XPS 장치가 광학 적층체의 최표면에 대해 직각인 것을 나타내고, 측정 각도가 낮은 것일수록 최표면 근방에서의 존재 원소의 비율을 측정하는 것이 가능해진다. 따라서 측정 각도 X°에서의 방오염제 및／또는 윤활성 부여제 중의 규소 원자 및／또는 불소 원자의 존재율이 A％이고, 측정 각도 Y°에서의 방오염제 및／또는 윤활성 부여제 중의 규소 원자 및／또는 불소 원자의 존재율이 B％로 측정된다. 이 측정 결과로부터, 측정 각도 X°＜측정 각도 Y°, 존재율 A％＞존재율 B％가 된 경우, X＜Y인 경우, 하드 코트층에서 저굴절률층의 표면까지 방오염제 및／또는 윤활성 부여제의 첨가량에 ‘농도 구배’가 존재하는 것이 이해된다.
본 발명에서는 저굴절률층의 최표면을 XPS 해석한 경우에, 규소 원자의 존재율이 10％ 이상, 바람직하게는 20％ 이상이고, 불소 원자의 존재율이 20％ 이상, 바람직하게는 30％ 이상으로 존재하여 이루어지는 것이다.
방오염제 및／또는 윤활성 부여제
방오염제 및／또는 윤활성 부여제는 광학 적층체의 최표면의 오염 방지를 주요 목적으로 하고, 또한 광학 적층체의 내찰상성을 부여하는 것이 가능해진다. 방오염제 및／또는 윤활성 부여제의 구체적인 예로서는 불소계 화합물, 규소계 화합물 또는 이들의 혼합 화합물을 들 수 있다. 또한 방오염제 및／또는 윤활성 부여제는 그 자체가 반응기를 가지는지 여부는 불문한다.
본 발명에서, 규소계 화합물은 그 화합물의 말단 또는 측쇄가 변성된 것을 바람직하게 들 수 있다. 그와 같은 규소계 화합물로서는 하기 일반식(Ⅰ)∼(Ⅲ) 또는 (Ⅳ):
[일반식 Ⅰ]
Figure 112008069116139-PCT00001
[일반식 Ⅱ]
Figure 112008069116139-PCT00002
[일반식 Ⅲ]
Figure 112008069116139-PCT00003
[일반식 Ⅳ]
Figure 112008069116139-PCT00004
(상기 식에서
R은 소수기로서 메틸기, 불소 원자, 아크릴기 또는 메타크릴기이고, 친수기로서 수산기, 카르복실기, 폴리에테르기 또는 에폭시기이거나 또는 이들의 혼합기여도 좋고,
R1은 알킬기, 바람직하게는 탄소수 1∼20의 알킬기, 더 바람직하게는 탄소수 1∼10의 알킬기이고,
X는 0∼1200이고,
Y는 0∼1200이다.)
로 나타나는 것을 들 수 있다.
불소계 화합물의 구체적인 예로서는 일반식:
(A)w-(B)x-(D)y-CF3
(상기 식에서
A는 CF2, CFCF2, C(CF2)2로 이루어지는 군에서 선택되는 1종 또는 2종 이상의 기를 나타내고,
B는 OCF2CF2, OCF2CF(CF2), OCF2C(CF2)2, OCF(CF2)CF(CF2), OCF(CF2)C(CF2)2, OC(CF2)2CF(CF2), OC(CF2)2C(CF2)2로 이루어지는 군에서 선택되는 1종 또는 2종 이상의 기를 나타내고,
D는 OCH2CH2, OCH2CH2CH2, OC(O)(CH2)z로 이루어지는 군에서 선택되는 1종 또는 2종 이상의 기를 나타내고,
w, x, y, z는 0 초과 50 이하의 수를 나타낸다.)
으로 나타나는 것을 들 수 있다.
방오염제 및／또는 윤활성 부여제는 시판품으로서 입수 가능하고, 바람직하게는 그것이 이용된다. (전리 방사선에 의해) 반응기를 가지지 않는 것의 구체적인 예로서는 다이니폰(大日本) 잉크사제의 메가팩(Megafac) 시리즈, 예를 들면 MCF 350―5, F445, F455, F178, F470, F475, F479, F477, TF1025, F478, F178K 등을 들 수 있고; GE 도시바(東芝) 실리콘사제의 TSF 시리즈 등을 들 수 있으며; 신에츠(信越) 화학사제의 X22 시리즈, KF 시리즈 등을 들 수 있고; 치소(CHISSO)사제의 사일라플레인(Silaplane) 시리즈 등을 들 수 있다.
예를 들면 신에츠 화학사제의 X22―3710, X22―162C, X22―3701E, X22160AS, X22170DX, X224015, X22176DX, X22―176F, KF8001, X22―2000 등; 치소사제의 FM4421, FM0425, FMDA26, FS1265 등; 도레 다우코닝사제의 BY16―750, BY16880, BY16848, SF8427, SF8421, SH3746, SH8400, SF3771, SH3749, SH3748, SH8410 등; GE 도시바 실리콘사제의 TSF4460, TSF4440, TSF4445, TSF4450, TSF4446, TSF4453, TSF4452, TSF4730, TSF4770, FGF502 등을 들 수 있다.
(전리 방사선에 의해) 반응기를 가지는 것의 구체적인 예로서는 SUA1900L10(중량 평균 분자량 4200; 신나카무라(新中村) 화학사제), SUA1900L6(중량 평균 분자량 2470; 신나카무라 화학사제), Ebecryl 1360(다이셀 유시비사제), UT3971(니폰(日本) 합성사제), 데이펜사 TF3001(다이니폰 잉크사제), 데이펜사 TF3000(다이니폰 잉크사제), 데이펜사 TF3028(다이니폰 잉크사제), KRM7039(다이셀 유시비사제), 라이트 프로코트 AFC3000(교에이샤(共榮社) 화학사제), KNS5300(신에츠 실리콘사제), UVHC1105(GE 도시바 실리콘사제), UVHC8550(GE 도시바 실리콘사제), Ebecryl 350(다이셀 유시비사제), ACS―1122(니폰 페인트사제)를 들 수 있다.
예를 들면 신에츠 화학사제의 X22―163A, X22―173DX, X22―163C, KF101, X22164A, X24―8201, X22174DX, X22164C, X222426, X222445, X222457, X222459, X22245, X221602, X221603, X22164E, TM0701 등; 치소사제의 FM0725, FM0721, FM7725, FM7721, FM7726, FM7727 등; 도레 다우코닝사제의 SF8411, SF8413, BY16―152D, BY16―152, BY16―152C, 8388A 등과, 그 밖에 UT4315(니폰 합성사제) 등을 들 수 있다.
방오염제 및／또는 윤활성 부여제가 유기 화합물인 경우, 그 수평균 분자량은 한정되지 않지만, 500 이상 10만 이하이고, 바람직하게는 하한이 750 이상이고, 더 바람직하게는 1000 이상이고, 바람직하게는 상한이 7만 이하이고, 더 바람직하게는 5만 이하이다.
본 발명의 바람직한 태양에 따르면, 방오염제 및／또는 윤활성 부여제는 폴리오가노실록산기, 폴리오가노실록산 함유 그래프트 폴리머, 폴리오가노실록산 함유 블록 폴리머, 불소화알킬기 등을 함유하는 2관능 이상의 다관능 아크릴레이트를 포함하여 이루어지는 것이 바람직하다. 다관능 아크릴레이트로서는, 예를 들면 2관능 아크릴레이트로서 트리프로필렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 폴리프로필렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 디에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 폴리에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 1,3―부탄디올디(메타)아크릴레이트, 1,4―부탄디올디(메타)아크릴레이트, 에톡시화비스페놀 A 디(메타)아크릴레이트, 에톡시화비스페놀 F 디(메타)아크릴레이트, 1,6―헥산디올디(메타)아크릴레이트, 1,9―노난디올디(메타)아크릴레이트, 1,10―데칸디올디(메타)아크릴레이트, 글리세린디(메타)아크릴레이트, 네오펜틸글리콜디(메타)아크릴레이트, 프로폭시화네오펜틸글리콜디(메타)아크릴레이트, 펜타에리스리톨디아크릴레이트모노스테아레이트, 이소시아눌산 에톡시 변성 디(메타)아크릴레이트(이소시아눌산 EO 변성 디(메타)아크릴레이트), 2관능 우레탄아크릴레이트, 2관능 폴리에스테르아크릴레이트 등을 들 수 있다. 3관능 아크릴레이트로서는 펜타에리스리톨트리(메타)아크릴레이트, 트리메틸올프로판트리(메타)아크릴레이트, 트리메틸올프로판 EO 변성 트리(메타)아크릴레이트, 이소시아눌산 EO 변성 트리(메타)아크릴레이트, 에톡시화트리메틸올프로판트리(메타)아크릴레이트, 프로폭시화트리메틸올프로판트리(메타)아크릴레이트, 프로폭시화글리세릴트리(메타)아크릴레이트, 3관능 폴리에스테르아크릴레이트 등을 들 수 있다. 4관능 아크릴레이트로서는 펜타에리스리톨테트라(메타)아크릴레이트, 디트리메틸올프로판테트라(메타)아크릴레이트, 에톡시화펜타에리스리톨테트라(메타)아크릴레이트 등을 들 수 있다. 5관능 이상의 아크릴레이트로서는 디펜타에리스리톨히드록시펜타(메타)아크릴레이트, 디펜타에리스리톨헥사아크릴레이트 등을 들 수 있다.
방오염제 및／또는 윤활성 부여제의 첨가량은 저굴절률층을 형성하는 조성물의 전체 중량에 대해 0.0001 중량％ 이상 10 중량％ 이하(바람직하게는 0.5 중량％ 이하)이고, 바람직하게는 하한이 0.001 중량％ 이상이며, 더 바람직하게는 0.005 중량％ 이상이고, 바람직하게는 상한이 7 중량％ 이하(바람직하게는 0.25 중량％ 이하)이며, 더 바람직하게는 5 중량％ 이하(바람직하게는 0.1 중량％ 이하)이다.
저굴절률제
저굴절률제는 그 굴절률이 1.5 이하이고, 바람직하게는 1.45 이하인 것이 바람직하다. 저굴절률제는 무기계 또는 유기계 중 어느 것이어도 좋다.
본 발명의 바람직한 저굴절률층에서는 외부로부터의 빛(예를 들면 형광탑, 자연광 등)이 광학 적층체의 표면에서 반사될 때, 그 반사율을 낮추는 역할을 수행한다. 저굴절률제로서는 바람직하게는 1) 실리카 또는 불화마그네슘을 함유하는 재료, 2) 저굴절률 수지인 불소계 재료, 3) 실리카 또는 불화마그네슘을 함유하는 불소계 재료, 4) 실리카 또는 불화마그네슘 박막 등 중 어느 것으로 구성된다. 불소계 재료 이외의 재료에 대해서는 하드 코트층을 구성하는 재료와 동일한 재료를 이용할 수 있다. 저굴절률층은 저굴절률제와 수지에 의해 형성되어도 좋다. 이러한 저굴절률층은 그 굴절률이 1.45 이하, 특히 1.42 이하인 것이 바람직하다.
무기계 저굴절률제
저굴절률층은 실리카 또는 불화마그네슘을 들 수 있고, 바람직하게는 공극을 가지는 미립자를 들 수 있다. ‘공극을 가지는 미립자’는 저굴절률층의 층 강도를 유지하면서 그 굴절률을 낮추는 것을 가능하게 한다. 본 발명에서 ‘공극을 가지는 미립자’란 미립자의 내부에 기체가 충전된 구조 및／또는 기체를 포함하는 다공질 구조체를 형성하고, 미립자 본래의 굴절률에 비해 미립자 중의 기체의 점유율에 반비례해서 굴절률이 저하되는 미립자를 의미한다. 또한 본 발명에서는 미립자의 형태, 구조, 응집 상태, 도막 내부에서의 미립자의 분산 상태에 따라 내부 및／또는 표면의 적어도 일부에 나노포러스 구조의 형성이 가능한 미립자도 포함된다.
공극을 가지는 무기계 미립자의 구체적인 예로서는 일본 특허공개 2001―233611호 공보에서 개시되어 있는 기술을 이용하여 조제한 실리카 미립자를 바람직하게 들 수 있다. 공극을 가지는 실리카 미립자는 제조가 용이하고 그 자신의 경도가 높으므로, 바인더와 혼합해서 저굴절률층을 형성했을 때 그 층 강도가 향상되고 동시에 굴절률을 1.20∼1.45 정도의 범위 내로 조제하는 것을 가능하게 한다. 특히 공극을 가지는 유기계 미립자의 구체적인 예로서는 일본 특허공개 2002―80503호 공보에서 개시되어 있는 기술을 이용하여 조제한 중공 폴리머 미립자를 바람직하게 들 수 있다.
도막의 내부 및／또는 표면의 적어도 일부에 나노포러스 구조의 형성이 가능한 미립자로서는 앞의 실리카 미립자에 더해 비표면적을 크게 하는 것을 목적으로 제조되며, 충전용 컬럼 및 표면의 다공질부에 각종 화학 물질을 흡착시키는 제방재, 촉매 고정용으로 사용되는 다공질 미립자 또는 단열재나 저유전재에 혼합시키는 것을 목적으로 하는 중공 미립자의 분산체나 응집체를 들 수 있다. 그와 같은 구체적인 예로서는 시판품으로서 니폰 실리카 공업 주식회사제의 상품명 Nipsil이나 Nipgel 중에서 다공질 실리카 미립자의 집합체, 닛산(日産) 화학 공업(주)제의 실리카 미립자가 사슬 형상으로 연결된 구조를 가지는 콜로이달 실리카 UP 시리즈(상품명)로부터 본 발명의 바람직한 입자 직경의 범위 내인 것을 이용하는 것이 가능하다.
‘공극을 가지는 미립자’의 평균 입자 직경은 5㎚ 이상 300㎚ 이하이고, 바람직하게는 하한이 8㎚ 이상이고 상한이 100㎚ 이하이며, 더 바람직하게는 하한이 10㎚ 이상이고 상한이 80㎚ 이하이다. 미립자의 평균 입자 직경이 이 범위 내에 있음에 따라 저굴절률층에 뛰어난 투명성을 부여하는 것이 가능해진다.
유기계 저굴절률제
저굴절률제로서 저굴절률 수지를 이용해도 좋고, 예를 들면 실리콘 함유 불화비닐리덴 공중합체를 들 수 있다. 이 실리콘 함유 불화비닐리덴 공중합체는 구체적으로 불화비닐리덴과 헥사플루오로프로필렌을 함유하는 모노머 조성물을 원료로 한 공중합에 의해 얻어지는 것으로, 불소 함유 비율이 60∼70％인 불소 함유 공중합체 100 중량부와, 에틸렌성 불포화기를 가지는 중합성 화합물 80∼150 부로 이루어지는 것이다.
실리콘 함유 불화비닐리덴 공중합체는 모노머 조성물에서의 각 성분의 비율이, 불화비닐리덴이 30∼90％, 바람직하게는 40∼80％, 특히 바람직하게는 40∼70％이거나, 헥사플루오로프로필렌이 5∼50％, 바람직하게는 10∼50％, 특히 바람직하게는 15∼45％이다. 이 모노머 조성물은 추가로 테트라플루오로에틸렌을 0∼40％, 바람직하게는 0∼35％, 특히 바람직하게는 10∼30％ 함유하는 것이어도 좋다.
실리콘 함유 불화비닐리덴 공중합체는 다른 공중합체 성분이 예를 들면 20％ 이하, 바람직하게는 10％ 이하의 범위로 함유된 것이어도 좋고, 이와 같은 다른 공중합 성분의 구체적인 예로서 플루오로에틸렌, 트리플루오로에틸렌, 클로로트리플루오로에틸렌, 1,2―디클로로―1,2―디플루오로에틸렌, 2―브로모―3,3,3―트리플루오로에틸렌, 3―브로모―3,3―디플루오로프로필렌, 3,3,3―트리플루오로프로필렌, 1,1,2―트리클로로―3,3,3―트리플루오로프로필렌, α―트리플루오로메타크릴산 등의 불소 원자를 가지는 중합성 모노머를 예시할 수 있다.
이상과 같은 모노머 조성물에서 얻어지는 불소 함유 공중합체는 그 불소 함유 비율이 60∼70％인 것이 필요하고, 바람직한 불소 함유 비율은 62∼70％, 특히 바람직하게는 64∼68％이다. 불소 함유 비율이 이와 같은 특정한 범위임에 따라, 불소 함유 중합체는 용제에 대해 양호한 용해성을 가지고 또한 이와 같은 불소 함유 중합체를 성분으로 함유함으로써 여러 기재에 대해 뛰어난 밀착성을 가지고, 높은 투명성과 낮은 굴절률을 가짐과 함께 충분히 뛰어난 기계적 강도를 가지는 박막을 형성하므로, 박막이 형성된 표면의 내상성 등의 기계적 특성을 충분히 높게 할 수 있어 매우 적합하다.
이 불소 함유 공중합체는 그 분자량이 폴리스티렌 환산 수평균 분자량으로 5,000∼200,000, 특히 10,000∼100,000인 것이 바람직하다. 이와 같은 크기의 분자량을 가지는 불소 함유 공중합체를 이용함으로써 얻어지는 불소계 수지 조성물의 점도가 적합한 크기가 되고, 따라서 확실히 적합한 도포성을 가지는 불소계 수지 조성물로 할 수 있다. 불소 함유 공중합체는 그 자체의 굴절률이 1.45 이하, 특히 1.42 이하, 더 나아가 1.40 이하인 것이 바람직하다.
그 밖의 저굴절률제
본 발명에서 저굴절률제의 바람직한 것으로서는 실리카, 불화마그네슘 등의 저굴절률 무기 초미립자(다공질, 중공 등 모든 종류의 미립자) 및 저굴절률 수지인 불소계 수지를 들 수 있다. 불소계 수지로서는 적어도 분자 중에 불소 원자를 포함하는 중합성 화합물 또는 그 중합체를 이용할 수 있다. 중합성 화합물은 특별히 한정되지 않지만, 예를 들면 전리 방사선으로 경화하는 관능기, 열경화하는 극성기 등의 경화 반응성의 기를 가지는 것이 바람직하다. 또한 이러한 반응성의 기를 동시에 함께 지니는 화합물이어도 좋다. 이러한 중합성 화합물에 대해, 중합체란 상기와 같은 반응성기 등을 전혀 갖지 않는 것이다.
전리 방사선 경화성기를 가지는 중합성 화합물로서는 에틸렌성 불포화 결합을 가지는 불소 함유 모노머를 널리 이용할 수 있다. 더 구체적으로는 플루오로올레핀류(예를 들면 플루오로에틸렌, 비닐리덴플루오라이드, 테트라플루오로에틸렌, 헥사플루오로프로필렌, 퍼플루오로부타디엔, 퍼플루오로―2,2―디메틸―1,3―디옥솔 등)를 예시할 수 있다. (메타)아크릴로일옥시기를 가지는 것으로서 2,2,2―트리플루오로에틸(메타)아크릴레이트, 2,2,3,3,3―펜타플루오로프로필(메타)아크릴레이트, 2―(퍼플루오로부틸)에틸(메타)아크릴레이트, 2―(퍼플루오로헥실)에틸(메타)아크릴레이트, 2―(퍼플루오로옥틸)에틸(메타)아크릴레이트, 2―(퍼플루오로데실)에틸(메타)아크릴레이트, α―트리플루오로메타크릴산 메틸, α―트리플루오로메타크릴산 에틸과 같은, 분자 중에 불소 원자를 가지는 (메타)아크릴레이트 화합물; 분자 중에 불소 원자를 적어도 3개 가지는 탄소수 1∼14의 플루오로알킬기, 플루오로시클로알킬기 또는 플루오로알킬렌기와, 적어도 2개의 (메타)아크릴로일옥시기를 가지는 불소 함유 다관능 (메타)아크릴산 에스테르 화합물 등도 있다.
열경화성 극성기로서 바람직한 것은 예를 들면 수산기, 카르복실기, 아미노기, 에폭시기 등의 수소 결합 형성기이다. 이것들은 도막과의 밀착성뿐 아니라 실리카 등의 무기 초미립자와의 친화성도 뛰어나다. 열경화성 극성기를 가지는 중합성 화합물로서는, 예를 들면 4―플루오로에틸렌―퍼플루오로알킬비닐에테르 공중합체; 플루오로에틸렌―탄화수소계 비닐에테르 공중합체; 에폭시, 폴리우레탄, 셀룰로오스, 페놀, 폴리이미드 등의 각 수지의 불소 변성품 등을 들 수 있다.
전리 방사선 경화성기와 열경화성 극성기를 함께 지니는 중합성 화합물로서는 아크릴 또는 메타크릴산의 부분 및 완전 불소화알킬, 알케닐, 아릴에스테르류, 완전 또는 부분 불소화비닐에테르류, 완전 또는 부분 불소화비닐에스테르류, 완전 또는 부분 불소화비닐케톤류 등을 예시할 수 있다.
또한 불소 함유 중합체의 구체적인 예로서는 상기 전리 방사선 경화성기를 가지는 중합성 화합물의 불소 함유 (메타)아크릴레이트 화합물을 적어도 1종류 포함하는 모노머 또는 모노머 혼합물의 중합체; 상기 불소 함유 (메타)아크릴레이트 화합물의 적어도 1종류와, 메틸(메타)아크릴레이트, 에틸(메타)아크릴레이트, 프로필(메타)아크릴레이트, 부틸(메타)아크릴레이트, 2―에틸헥실(메타)아크릴레이트와 같은, 분자 중에 불소 원자를 포함하지 않는 (메타)아크릴레이트 화합물의 공중합체; 플루오로에틸렌, 불화비닐리덴, 트리플루오로에틸렌, 클로로트리플루오로에틸렌, 3,3,3―트리플루오로프로필렌, 1,1,2―트리클로로―3,3,3―트리플루오로프로필렌, 헥사플루오로프로필렌과 같은 불소 함유 모노머의 단독 중합체 또는 공중합체 등을 들 수 있다.
이러한 공중합체에 실리콘 성분을 함유시킨 실리콘 함유 불화비닐리덴 공중합체도 사용할 수 있다. 이러한 경우의 실리콘 성분으로서는 (폴리)디메틸실록산, (폴리)디에틸실록산, (폴리)디페닐실록산, (폴리)메틸페닐실록산, 알킬 변성 (폴리)디메틸실록산, 아조기 함유 (폴리)디메틸실록산, 디메틸실리콘, 페닐메틸실리콘, 알킬·아랄킬 변성 실리콘, 플루오로실리콘, 폴리에테르 변성 실리콘, 지방산 에스테르 변성 실리콘, 메틸 수소 실리콘, 실라놀기 함유 실리콘, 알콕시기 함유 실리콘, 페놀기 함유 실리콘, 메타크릴 변성 실리콘, 아크릴 변성 실리콘, 아미노 변성 실리콘, 카르복실산 변성 실리콘, 카르비놀 변성 실리콘, 에폭시 변성 실리콘, 메르캅토 변성 실리콘, 불소 변성 실리콘, 폴리에테르 변성 실리콘 등이 예시된다. 그 중에서도 디메틸실록산 구조를 가지는 것이 바람직하다.
더 나아가서는 이하와 같은 화합물로 이루어지는 비중합체 또는 중합체도 불소계 수지로서 이용할 수 있다. 즉, 분자 중에 적어도 1개의 이소시아나토기를 가지는 불소 함유 화합물과, 아미노기, 히드록실기, 카르복실기와 같은 이소시아나토기와 반응하는 관능기를 분자 중에 적어도 1개 가지는 화합물을 반응시켜 얻어지는 화합물; 불소 함유 폴리에테르폴리올, 불소 함유 알킬폴리올, 불소 함유 폴리에스테르폴리올, 불소 함유 ε―카프로락톤 변성 폴리올과 같은 불소 함유 폴리올과, 이소시아나토기를 가지는 화합물을 반응시켜 얻어지는 화합물 등을 이용할 수 있다.
게다가 또한 상기한 불소 원자를 가지는 중합성 화합물이나 중합체와 함께 방현층에 기재한 바와 같은 각 수지 성분을 혼합해서 사용할 수도 있다. 또한 반응성기 등을 경화시키기 위한 경화제, 도공성을 향상시키거나 방오염성을 부여시키기 위해 각종 첨가제, 용제를 적절히 사용할 수 있다.
수지
수지로서는 투명성의 것이 바람직하고, 그 구체적인 예로서는 자외선 또는 전자선으로 경화하는 수지인 전리 방사선 경화형 수지, 전리 방사선 경화형 수지와 용제 건조형 수지의 혼합물 또는 열경화형 수지의 3종류를 들 수 있고, 바람직하게는 전리 방사선 경화형 수지를 들 수 있다.
전리 방사선 경화형 수지의 구체적인 예로서는 아크릴레이트계의 관능기를 가지는 것, 예를 들면 비교적 저분자량의 폴리에스테르 수지, 폴리에테르 수지, 아크릴 수지, 에폭시 수지, 우레탄 수지, 알키드 수지, 스피로아세탈 수지, 폴리부타디엔 수지, 폴리티올폴리엔 수지, 다가 알코올 등의 다관능 화합물의 (메타)아루릴레이트 등의 올리고머 또는 프레폴리머, 반응성 희석제를 들 수 있고, 이들의 구체적인 예로서는 에틸(메타)아크릴레이트, 에틸헥실(메타)아크릴레이트, 스티렌, 메틸스티렌, N―비닐피롤리돈 등의 단관능 모노머 및 다관능 모노머, 예를 들면 폴리메틸올프로판트리(메타)아크릴레이트, 헥산디올(메타)아크릴레이트, 트리프로필렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 디에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 펜타에리스리톨트리(메타)아크릴레이트, 디펜타에리스리톨헥사(메타)아크릴레이트, 1,6―헥산디올디(메타)아크릴레이트, 네오펜틸글리콜디(메타)아크릴레이트 등을 들 수 있다.
광중합 개시제
본 발명의 전리 방사선 경화성 수지 조성물에 첨가하는 광중합 개시제의 바람직한 것으로서는, 예를 들면 아세토페논류, 벤조페논류, 미힐러벤조일벤조에이트(Michler's benzoyl benzoate), α―아밀옥심에스테르, 테트라메틸메우람모노술파이드, 티옥산톤류 등을 적용할 수 있다. 또한 필요에 따라 광증감제, 광중합 촉진제를 첨가한다. 상기 광증감제, 광중합 촉진제로서는 공지된 광증감제이면 좋고, 예를 들면 벤조인, 벤조인메틸에테르, 벤조인에틸에테르, 벤조인이소프로필에테르, α―메틸벤조인, α―페닐벤조인 등의 벤조인계 화합물; 안트라퀴논, 메틸안트라퀴논 등의 안트라퀴논계 화합물; 벤질; 디아세틸; 아세토페논, 벤조페논 등의 페닐케톤 화합물; 디페닐디술피드, 테트라메틸티우람술피드 등의 술피드 화합물; α―클로르메틸나프탈린; 안트라센 및 헥사클로로부타디엔, 펜타클로로부타디엔 등의 할로겐화 탄화수소, 티옥산톤, n―부틸아민, 트리에틸아민, 트리―n―부틸포스핀 등이 있다. 구체적으로는 아세토페논계 광중합 개시제에 대해 벤조페논 또는 티옥산톤 광증감제를 이용하는 것이 바람직하다.
전리 방사선 경화형 수지를 자외선 경화형 수지로서 사용하는 경우에는 광중합 개시제를 이용하는 것이 바람직하다. 광중합 개시제의 구체적인 예로서는 아세토페논류, 벤조페논류, 미힐러벤조일벤조에이트, α―아밀옥심에스테르, 티옥산톤류를 들 수 있다. 또한 광증감제를 혼합해서 사용하는 것이 바람직하고, 그 구체적인 예로서는 n―부틸아민, 트리에틸아민, 폴리―n―부틸포스핀 등을 들 수 있다.
또한 전리 방사선 경화형 수지를 자외선 경화형 수지로서 사용하는 경우에는 광중합 개시제 또는 광중합 촉진제를 첨가할 수 있다. 광중합 개시제로서는, 라디칼 중합성 불포화기를 가지는 수지계의 경우에는 아세토페논류, 벤조페논류, 티옥산톤류, 벤조인, 벤조인메틸에테르 등을 단독 또는 혼합해서 사용한다. 또한 양이온 중합성 관능기를 가지는 수지계의 경우에는, 광중합 개시제로서 방향족 디아조늄염, 방향족 술포늄염, 방향족 요오드늄(iodonium)염, 메타셀론 화합물, 벤조인술폰산 에스테르 등을 단독 또는 혼합물로서 이용한다. 광중합 개시제의 첨가량은 전리 방사선 경화성 조성물 100 중량부에 대해 0.1∼10 중량부이다.
전리 방사선 경화형 수지에 혼합해서 사용되는 용제 건조형 수지로서는 주로 열가소성 수지를 들 수 있다. 열가소성 수지는 일반적으로 예시되는 것이 이용된다. 용제 건조형 수지의 첨가에 의해 도포면의 도막 결함을 유효하게 방지할 수 있다. 본 발명의 바람직한 태양에 따르면, 광투과성 기재의 재료가 TAC 등의 셀룰로오스계 수지인 경우, 열가소성 수지의 바람직한 구체적인 예로서 셀룰로오스계 수지, 예를 들면 니트로셀룰로오스, 아세틸셀룰로오스, 셀룰로오스아세테이트프로피오네이트, 에틸히드록시에틸셀룰로오스 등을 들 수 있다.
열경화성 수지의 구체적인 예로서는 페놀 수지, 요소 수지, 디알릴프탈레이트 수지, 멜라닌 수지, 구아나민 수지, 불포화 폴리에스테르 수지, 폴리우레탄 수지, 에폭시 수지, 아미노알키드 수지, 멜라닌―요소 공축합 수지, 규소 수지, 폴리실록산 수지 등을 들 수 있다. 열경화성 수지를 이용하는 경우, 필요에 따라 가교제, 중합 개시제 등의 경화제, 중합 촉진제, 용제, 점도 조정제 등을 더 첨가해서 사용할 수 있다.
중합 개시제
저굴절률층을 형성할 때에 광중합 개시제를 이용할 수 있고, 그 화합물은 시장에서 입수 가능하며, 예를 들면 상품명 이가큐어 184, 이가큐어 907, 이가큐어 369, 이가큐어 819, 이가큐어 127, DAROCUR TPO(치바 스페셜티 케미컬즈사제)를 들 수 있다. 또한 본 발명에서는, 중합 촉진제로서 예를 들면 Speedcure MBB, Speedcure PBZ(LAMBSON Fine Chemicals제) 등을 들 수 있다.
용제
저굴절률층을 형성하려면 상기 성분에 용제를 혼합한 조성물을 이용할 수 있다. 용제의 구체적인 예로서는 이소프로필알코올, 메탄올, 에탄올, 부탄올, 프로판올, PGME 등의 알코올류; 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸케톤, 시클로헥사논 등의 케톤류; 아세트산 에틸, 아세트산 부틸, PGMEA 등의 에스테르류; 할로겐화 탄화수소; 톨루엔, 크실렌 등의 방향족 탄화수소; 또는 이들의 혼합물을 들 수 있고, 바람직하게는 알코올류, 케톤류, 에스테르류를 들 수 있다.
하드 코트층
본 발명에서는 광투과성 기재와 저굴절률층 사이에 하드 코트층을 형성하는 것이 바람직하다. ‘하드 코트층’이란 JIS 5600―5―4(1999년)에서 규정되는 연필 경도 시험에서 ‘H’이상의 경도를 나타내는 것을 말한다. 하드 코트층의 막두께(경화시)는 0.1∼100㎛, 바람직하게는 0.8∼20㎛의 범위에 있는 것이 바람직하다. 하드 코트층은 수지와 임의 성분에 의해 형성되어 이루어진다.
수지
수지로서는 투명성인 것이 바람직하고, 그 구체적인 예로서는 자외선 또는 전자선으로 경화하는 수지인 전리 방사선 경화형 수지, 전리 방사선 경화형 수지와 용제 건조형 수지의 혼합물 또는 열경화형 수지의 3종류를 들 수 있고, 바람직하게는 전리 방사선 경화형 수지를 들 수 있다. 본 발명에서는 경도를 조절하기 위해 1㎚∼500㎚ 정도의 무기 초미립자(표면 유기 처리한 알루미나 등의 금속 산화물 입자나 콜로이달 실리카 등), 유기 초미립자를 첨가해도 좋다.
전리 방사선 경화형 수지의 구체적인 예로서는 아크릴레이트계의 관능기를 가지는 것, 예를 들면 비교적 저분자량의 폴리에스테르 수지, 폴리에테르 수지, 아크릴 수지, 에폭시 수지, 우레탄 수지, 알키드 수지, 스피로아세탈 수지, 폴리부타디엔 수지, 폴리티올폴리엔 수지, 다가 알코올 등의 다관능 화합물의 (메타)아루릴레이트 등의 올리고머 또는 프레폴리머, 반응성 희석제를 들 수 있다.
본 발명의 다른 태양에 따르면, 전리 방사선 경화형 수지의 구체적인 예로서는 (메타)아크릴레이트계의 관능기를 가지는 것 또는 우레탄(메타)아크릴레이트계의 관능기를 가지는 것 또는 (메타)아크릴레이트계의 관능기를 가지는 것과 우레탄(메타)아크릴레이트계의 관능기를 가지는 것의 혼합물을 들 수 있다.
(메타)아크릴레이트계의 관능기를 가지는 것으로서는, 예를 들면 트리프로필렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 폴리프로필렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 디에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 폴리에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 1,3―부탄디올디(메타)아크릴레이트, 1,4―부탄디올디(메타)아크릴레이트, 에톡시화비스페놀 A 디(메타)아크릴레이트, 에톡시화비스페놀 F 디(메타)아크릴레이트, 1,6―헥산디올디(메타)아크릴레이트, 1,9―노난디올디(메타)아크릴레이트, 1,10―데칸디올디(메타)아크릴레이트, 글리세린디(메타)아크릴레이트, 네오펜틸글리콜디(메타)아크릴레이트, 프로폭시화네오펜틸글리콜디(메타)아크릴레이트, 펜타에리스리톨디아크릴레이트모노스테아레이트, 이소시아눌산 에톡시 변성 디(메타)아크릴레이트(이소시아눌산 EO 변성 디(메타)아크릴레이트), 펜타에리스리톨트리(메타)아크릴레이트, 트리메틸올프로판트리(메타)아크릴레이트, 트리메틸올프로판 EO 변성 트리(메타)아크릴레이트, 이소시아눌산 EO 변성 트리(메타)아크릴레이트, 에톡시화트리메틸올프로판트리(메타)아크릴레이트, 프로폭시화트리메틸올프로판트리(메타)아크릴레이트, 프로폭시화글리세릴트리(메타)아크릴레이트, 3관능 폴리에스테르아크릴레이트, 펜타에리스리톨테트라(메타)아크릴레이트, 디트리메틸올프로판테트라(메타)아크릴레이트, 에톡시화펜타에리스리톨테트라(메타)아크릴레이트, 디펜타에리스리톨히드록시펜타(메타)아크릴레이트, 디펜타에리스리톨헥사아크릴레이트 등을 들 수 있다.
우레탄(메타)아크릴레이트계의 관능기를 가지는 것으로서는 시판품이면 좋고, 예를 들면 니폰 합성사제의 자색광 시리즈, 예를 들면 UV1700B, UV6300B, UV765B, UV7640B, UV7600B 등을 들 수 있고; 네카미(根上) 공업사제의 아트레진 시리즈, 예를 들면 아트레진 HDP, 아트레진 UN9000H, 아트레진 UN3320HA, 아트레진 UN3320HB, 아트레진 UN3320HC, 아트레진 U, N3320HS, 아트레진 UN901M, 아트레진 UN902MS, 아트레진 UN903 등을 들 수 있으며; 신나카무라 화학사제의 UA100H, U4H, U4HA, U6H, U6HA, U15HA, UA32P, U6LPA, U324A, U9HAMI 등을 들 수 있고; 다이셀·유시비사제의 Ebecryl 시리즈, 예를 들면 1290, 5129, 254, 264, 265, 1259, 1264, 4866, 9260, 8210, 204, 205, 6602, 220, 4450 등을 들 수 있으며; 아라카와(荒川) 화학사제의 빔 세트 시리즈, 예를 들면 371, 577 등을 들 수 있고; 미츠비시(三菱) 레이욘사제의 RQ 시리즈, 다이니폰 잉크사제의 유니딕 시리즈 등을 들 수 있으며; DPHA40H(니폰 가야쿠사제), CN9006(서머사제), CN968 등을 들 수 있다. 이 중에서도 바람직하게는 UV1700B(니폰 합성사제), DPHA40H(니폰 가야쿠사제), 아트레진 HDP(네카미 공업사제), 빔 세트 371(아라카와 화학사제), 빔 세트 577(아라카와 화학사제), U15HA(신나카무라 화학사제) 등을 들 수 있다.
전리 방사선 경화형 수지를 자외선 경화형 수지로서 사용하는 경우에는 광중합 개시제를 이용하는 것이 바람직하다. 광중합 개시제의 구체적인 예로서는 아세토페논류, 벤조페논류, 미힐러벤조일벤조에이트, α－아밀옥심에스테르, 테트라메틸티우람모노술파이드, 티옥산톤류를 들 수 있다. 또한 광증감제를 혼합해서 사용하는 것이 바람직하고, 그 구체적인 예로서는 n－부틸아민, 트리에틸아민, 폴리－n－부틸포소핀 등을 들 수 있다. 개시제로서는 저굴절률층에서 기재한 것과 동일한 것을 사용할 수 있다.
전리 방사선 경화형 수지에 혼합해서 사용되는 용제 건조형 수지로서는 주로 열가소성 수지를 들 수 있다. 열가소성 수지는 일반적으로 예시되는 것이 이용된다. 용제 건조형 수지의 첨가에 의해 하드 코트층의 균열, 컬 방지를 위한 적절한 유연성을 부여하거나 또는 도포면의 도막 결함을 유효하게 방지할 수 있다. 본 발명의 바람직한 태양에 따르면, 투명 기재의 재료가 TAC 등의 셀룰로오스계 수지인 경우, 열가소성 수지의 바람직한 구체적인 예로서 셀룰로오스계 수지, 예를 들면 니트로셀룰로오스, 아세틸셀룰로오스, 셀룰로오스아세테이트프로피오네이트, 에틸히드록시에틸셀룰로오스 등을 들 수 있다.
열경화성 수지의 구체적인 예로서는 페놀 수지, 요소 수지, 디알릴프탈레이트 수지, 멜라닌 수지, 구아나민 수지, 불포화 폴리에스테르 수지, 폴리우레탄 수지, 에폭시 수지, 아미노알키드 수지, 멜라민－요소 공축합 수지, 규소 수지, 폴리실록산 수지 등을 들 수 있다. 열경화성 수지를 이용하는 경우, 필요에 따라 가교제, 중합 개시제 등의 경화제, 중합 촉진제, 용제, 점도 조정제 등을 더 첨가해서 사용할 수 있다.
바람직한 수지
본 발명에서는, 하드 코트층은 적어도 1 이상의 관능기를 가지는 9,9－비스페녹시플루오렌 골격을 가지는 모노머 및／또는 적어도 2 이상의 유황 원자를 포함하여 이루어지는 모노머를 포함하여 이루어지거나 이것들에 의해 형성되어 이루어지는 것이 바람직하다.
본 발명의 바람직한 태양에서는, 하드 코트층은 굴절률이 높은 수지를 포함해도 좋다. 굴절률이 높은 수지로서는 적어도 1 이상의 관능기를 가지는 9,9－비스페녹시플루오렌 골격을 가지는 적어도 2 이상의 황 원자를 포함하여 이루어지는 모노머, 그 밖에도 카르바졸 골격을 포함하는 모노머 또는 올리고머 또는 폴리머, 적어도 1 이상의 브롬 원자를 포함하여 이루어지는 모노머, 적어도 1 이상의 페닐기, 비페닐기, 나프틸기를 포함하여 이루어지는 모노머가 바람직하다. 또한 하드 코트층을 고굴절률화하기 위해 고굴절률 초미립자를 포함하고 있어도 좋다. 고굴절률 초미립자의 예로서는 TiO2, ZrO, Al2O3, In2O3, ZnO, SnO2, Sb2O2, ITO 등을 들 수 있다. 이들 미립자에는 어떠한 유기 표면 처리가 가해져 있어도 좋다.
플루오렌 골격을 가지는 모노머
적어도 1 이상의 관능기를 가지는 9,9－비스페녹시플루오렌 골격을 가지는 모노머는 하기 일반식(V)에서 기본 골격으로서 나타나는 9,9－비스페녹시플루오렌 골격을 가지는 것이다. 적어도 1 이상의 관능기를 가지는 9,9－비스페녹시플루오렌 골격을 가지는 모노머의 구체적인 예로서는 하기 화학식(Ⅴ):
[일반식 Ⅴ]
Figure 112008069116139-PCT00005
(Ⅴ)
(상기 식에서
R1이 -C(A)=CH2, -CO-C(A)=CH2, -O-CO-C(A)=CH2, -(B)-O-CO-C(A)=CH2, -O-(B)-O-CO-C(A)=CH2, -(B)-C(A)=CH2, -O-(B)-C(A)=CH2, -(B)-CO-C(A)=CH2, -O-(B)-CO-C(A)=CH2, -OH, -H, -COOH, -SH, -NH2,
Figure 112008069116139-PCT00006
및
Figure 112008069116139-PCT00007
로 이루어지는 군에서 선택되는 것이고,
A가 H 또는 CH3이며,
B가 (CH2)n, (OCH2CH2)n, (OCH2CH2CH2)n 및 (OCOCH2CH2CH2CH2CH2)n으로 이루어지는 군에서 선택되는 것이고,
R2가 수소 원자, 수산기, 메틸기, 페닐기, 트릴기, 아미노기, 카르복실기 및 -(CH2)nCH3 또는 R-에서 선택되는 것이며,
n이 1∼20을 나타내는 것이다.)
로 나타나는 것을 들 수 있다.
적어도 1 이상의 관능기를 가지는 9,9―비스페녹시플루오렌 골격을 가지는 모노머는 시판품을 사용할 수 있고, 구체적으로는 NK 에스테르 A―BPEF, NK 에스테르 A―BPEF―4E(신나카무라 화학사제), 온코트 EX 시리즈(EX1010, EX1011, EX1012, EX1020, EX1030, EX1040, EX1050, EX1051, EX1020M80, EX1040M70), 온코트 AC2020, 비스크레졸플루오렌 BCF, BPEFA, BPEF 디아크릴레이트, BPEF 디메타크릴레이트, BPEF 디글리시딜 에이엘, BPEF 에폭시아크릴레이트, BPPF, BPEF 비닐에테르, BCF, BCF 디글리시딜 에이엘, BCF 에폭시아크릴레이트(나가세(長瀨) 산업사제, 오사카(大阪) 가스 케미컬사제, JFE 케미컬사제), 비스아닐린, 비스페놀 골격(JFE 케미컬사제) 등을 들 수 있다.
적어도 2 이상의 유황 원자를 포함하여 이루어지는 모노머
적어도 2 이상의 유황 원자를 포함하여 이루어지는 모노머는 어느 것도 사용할 수 있지만, 바람직하게는 하기 일반식:
Figure 112008069116139-PCT00008
또는
Figure 112008069116139-PCT00009
이다.
(상기 식에서
R이
Figure 112008069116139-PCT00010
Figure 112008069116139-PCT00011
Figure 112008069116139-PCT00012
및
Figure 112008069116139-PCT00013
으로 이루어지는 군에서 선택되는 것이고,
R1이 -C(A)=CH2, -CO-C(A)=CH2, -O-CO-C(A)=CH2, -(B)-O-CO-C(A)=CH2, -O-(B)-O-CO-C(A)=CH2, -(B)-C(A)=CH2, -O-(B)-C(A)=CH2, -(B)-CO-C(A)=CH2, -O-(B)-CO-C(A)=CH2, -OH, -H, -COOH, -SH, -NH2,
Figure 112008069116139-PCT00014
및
Figure 112008069116139-PCT00015
로 이루어지는 군에서 선택되는 것이며,
A가 H 또는 CH3이고,
B가 (CH2)n, (OCH2CH2)n, (OCH2CH2CH2)n 및 (OCOCH2CH2CH2CH2CH2)n으로 이루어지는 군에서 선택되는 것이며,
n이 1∼20을 나타내고,
X가 O 또는 S를 나타내며,
Y가 O 또는 S를 나타내고,
Z가 O 또는 S를 나타내는 것이다.)
으로 나타나는 것을 들 수 있다.
본 발명에서는 적어도 2 이상의 유황 원자를 포함하여 이루어지는 모노머는 시판품을 사용할 수 있고, 구체적으로는 S2EG, MPSMA, MPS, MPT, BDS, MPV, MPG, PTD(스미토모 세이카(住友精化)사제) 등을 들 수 있으며; IUL2000, IUL3000, IUMS1010(미츠비시 가스 화학사제) 등을 들 수 있고; EGMP―4, TMMP, TEMPIC, PEMP, DPMP(사카이(境) 화학사제) 등을 들 수 있으며; 특히 이 중에서도 S2EG, MPV, MPSMA를 바람직하게 사용할 수 있다.
본 발명에서는, 하드 코트층은 우레탄아크릴레이트 수지 및／또는 아크릴레이트 수지를 포함하여 이루어지거나 이러한 것으로 형성되어 이루어지는 것이 바람직하다.
우레탄아크릴레이트 수지
우레탄아크릴레이트는 어느 것이어도 좋지만, 3관능 이상의 우레탄아크릴레이트 수지가 바람직하다. 3관능 이상의 우레탄아크릴레이트 수지는 어느 것도 사용할 수 있지만, 구체적으로는 폴리올 화합물과 폴리이소시아네이트 화합물로 이루어지는 것이면 좋다.
폴리올 화합물의 구체적인 예로서는 에틸렌글리콜, 프로필렌글리콜, 네오펜틸글리콜, 트리시클로데칸디메틸올, 시클로헥산디메틸올, 트리메틸올프로판, 글리세린, 1,3―프로판디올, 1,4―부탄디올, 1,3―부탄디올, 2,3―부탄디올, 1,5―펜탄디올, 2,4―펜탄디올, 1,2―헥산디올, 1,6―헥산디올, 디에틸렌글리콜, 트리프로필렌글리콜, 1,9―노난디올, 트리에틸렌글리콜, 폴리에틸렌글리콜, 폴리프로필렌글리콜, 폴리테트라메틸렌글리콜, 비스페놀 A 폴리에톡시글리콜, 폴리카보네이트폴리올, 펜타에리스리톨, 소르비톨, 수크로오스, 쿼드롤인 폴리부타디엔폴리올, 수첨 폴리부타디엔폴리올, 수첨 다이머 디올펜타에리스리톨 등; 트리메틸올프로판, 글리세린, 펜타에리스루톨, 소르비톨, 수크로오스, 쿼드롤 등의 3가 이상의 수산기를 함유하는 화합물을, 에틸렌옥시드(EO), 프로필렌옥시드(PO), 부틸렌옥시드, 테트라히드로푸란 등의 환상 에테르 화합물로 변성시킴으로써 얻어지는 폴리에테르폴리올; 카프로락톤으로 변성시킴으로써 얻어지는 폴리카프로락톤폴리올; 2 염기산과 디올로 이루어지는 폴리에스테르로 변성시킴으로써 얻어지는 폴리에스테르폴리올; 및 이들의 2종 이상의 혼합물을 들 수 있다.
더 구체적으로는 EO 변성 트리메틸올프로판, PO 변성 트리메틸올프로판, 테트라히드로푸란 변성 트리메틸올프로판, 카프로락톤 변성 트리메틸올프로판, EO 변성 글리세린, PO 변성 글리세린, 테트라히드로푸란 변성 글리세린, 카프로락톤 변성 글리세린, EO 변성 펜타에리스리톨, PO 변성 펜타에리스리톨, 테프라히드로푸란 변성 펜타에리스리톨, 카프로락톤 변성 펜타에리스리톨, EO 변성 소르비톨, PO 변성 소르비톨, 카프로락톤 변성 소르비톨, EO 변성 수크로오스, PO 변성 수크로오스, EO 변성 수크로오스, EO 변성 쿼드르 등 및 이들의 2종 이상의 혼합물을 들 수 있다.
폴리이소시아네이트 화합물의 구체적인 예로서는 2,4―톨릴렌디이소시아네이트, 2,6―톨릴렌디이소시아네이트, 4,4―디페닐메탄디이소시아네이트, m―크실릴렌디이소시아네이트, p―크실릴렌디이소시아네이트, 테트라메틸크실릴렌디이소시아네이트, 비페닐렌디이소시아네이트, 1,5―나프틸렌디이소시아네이트, o―트리진디이소시아네이트, 헥사메틸렌디이소시아네이트, 4,4'―메틸렌비스시클로헥실이소시아네이트, 이소포론디이소시아네이트, 트리메틸헥사메틸렌디이소시아네이트, 1,3―(이소시아네이트메틸)시클로헥산 및 이들의 뷰렛화물, 누레이트화물 등의 중축합물 및 이들의 2종 이상의 혼합물을 들 수 있다. 특히 바람직하게는 톨릴렌디이소시아네이트, 크실릴렌디이소시아네이트 및 헥사메틸렌디이소시아네이트의 누레이트화물, 이소포론디이소시아네이트의 누레이트화물 등을 들 수 있고, 더 바람직하게는 헥사메틸렌디이소시아네이트, 이소포론디이소시아네이트를 들 수 있다.
우레탄아크릴레이트 수지는 시판품을 사용할 수 있고, 구체적으로는 니폰 합성사제의 자광 시리즈, 예를 들면 UV1700B, UV6300B, UV765B, UV7640B, UV7600B 등을 들 수 있으며; 네카미 공업사제의 아트레진 시리즈, 예를 들면 아트레진 HDP, 아트레진 UN9000H, 아트레진 UN3320HA, 아트레진 UN3320HB, 아트레진 UN3320HC, 아트레진 UN3320HS, 아트레진 UN901M, 아트레진 UN902MS, 아트레진 UN903 등을 들 수 있고; 신나카무라 화학사제의 UA100H, U4H, U6H, U15HA, UA32P, U6LPA, U324A, U9HAMI 등을 들 수 있으며; 다이셀 유시비사제의 Ebecryl 시리즈, 예를 들면 1290, 5129, 254, 264, 265, 1259, 1264, 4866, 9260, 8210, 204, 205, 6602, 220, 4450 등을 들 수 있고; 아라카와 화학사제의 빔 세트 시리즈, 예를 들면 371, 371S, 577, 577BV, 577AK 등을 들 수 있으며; 미츠비시 레이욘사제의 RQ 시리즈를 들 수 있고; 다이니폰 잉크사제의 유니딕 시리즈 등을 들 수 있으며; DPHA40H(니폰 가야쿠사제), CN9006(서머사제), CN968 등을 들 수 있다. 이 중에서도 바람직하게는 UV1700B(니폰 합성사제), DPHA40H(니폰 가야쿠사제), 아트레진 HDP(네카미 공업사제), 빔 세트 371(아라카와 화학사제), U15HA(신나카무라 화학사제) 등을 들 수 있다.
아크릴레이트 수지
아크릴레이트 수지는 앞에서 기술한 것을 사용할 수 있지만, 3관능 이상의 아크릴레이트 수지를 바람직하게 이용할 수 있다. 3관능 이상의 아크릴레이트 수지의 구체적인 예로서는 트리메틸올프로판트리아크릴레이트, 펜타에리스리톨트리아크릴레이트, 펜타에리스리톨테트라아크릴레이트, 디펜타에리스리톨헥사아크릴레이트, 디펜타에리스리톨테트라아크릴레이트, 이소시아눌산 변성 트리아크릴레이트 등을 들 수 있다. 또한 이들 아크릴레이트는 분자 골격의 일부를 변성시킨 것이어도 좋고, 에틸렌옥사이드, 프로필렌옥사이드, 카프로락톤, 이소시아눌산, 알킬, 환상 알킬, 방향족, 비스페놀 등에 의한 변성이 이루어진 것도 사용할 수 있다.
3관능 이상의 아크릴레이트 수지는 시판품을 사용할 수 있고, 구체적으로는 니폰 가야쿠사제의 KAYARAD, KAYAMER 시리즈, 예를 들면 DPHA, PET30, GPO303, TMPTA, THE330, TPA330, D310, D330, PM2, PM21, DPCA20, DPCA30, DPCA60, DPCA120 등을 들 수 있으며; 도아(東亞) 합성사제의 아로닉스 시리즈, 예를 들면 M305, M309, M310, M315, M320, M327, M350, M360, M402, M408, M450, M7100, M7300K, M8030, M8060, M8100, M8530, M8560, M9050 등을 들 수 있고; 신나카무라 화학사제의 NK 에스테르 시리즈, 예를 들면 TMPT, A―TMPT, A―TMM―3, A―TMM3L, A―TMMT, A―TMPT―6EO, A―TMPT―3CL, A―GLY―3E, A―GLY―6E, A―GLY―9E, A―GLY―11E, A―GLY―18E, A―GLY―20E, A―9300, AD―TMP―4CL, AD―TMP 등을 들 수 있으며; 신나카무라 화학사제의 NK 이코노머 시리즈, 예를 들면 ADP51, ADP33, ADP42, ADP26, ADP15 등을 들 수 있고; 다이이치(第一) 공업제약사제의 뉴프론티어 시리즈, 예를 들면 TMPT, TMP3, TMP15, TMP2P, TMP3P, PET3, TEICA 등을 들 수 있으며; 다이셀 유시비사제의 Ebecryl 시리즈, 예를 들면 TMPTA, TMPTAN, 160, TMPEOTA, OTA480, 53, PETIA, 2047, 40, 140, 1140, PETAK, DPHA 등을 들 수 있고; 서머사제의 CD501, CD9021, CD9052, SR351, SR351HP, SR351LV, SR368, SR368D, SR415, SR444, SR454, SR454HP, SR492, SR499, SR502, SR9008, SR9012, SR9020, SR9020HP, SR9035, CD9051, SR350, SR9009, SE9011, SR295, SR355, SR399, SR399LV, SR494, SR9041 등을 들 수 있다.
용제
저굴절률층을 형성하려면 상기 성분에 용제를 혼합한 조성물을 이용할 수 있다. 용제의 구체적인 예로서는 이소프로필알코올, 메탄올, 에탄올 등의 알코올류; 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸케톤, 시클로헥사논 등의 케톤류; 아세트산 에틸, 아세트산 부틸 등의 에스테르류; 할로겐화 탄화수소; 톨루엔, 크실렌 등의 방향족 탄화수소; 또는 이들의 혼합물을 들 수 있고, 바람직하게는 케톤류, 에스테르류를 들 수 있다.
침투성 용제
본 발명에서는 침투성 용제도 사용할 수 있다. 침투성 용제란 광투과성 기재에 대해 침투성이 있는 용제를 이용한다. 본 발명에서는 침투성 용제의 ‘침투성’이란 광투과성 기재에 대해 침투성, 팽윤성, 습윤성 등의 모든 개념을 포함하는 의미이다. 침투성 용제의 구체적인 예로서는 이소프로필알코올, 메탄올, 에탄올 등의 알코올류; 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸케톤, 시클로헥사논 등의 케톤류; 아세트산 메틸, 아세트산 에틸, 아세트산 부틸 등의 에스테르류; 클로로포름, 염화메틸렌, 테트라클로르에탄 등의 할로겐화 탄화수소; 또는 이들의 혼합물을 들 수 있고, 바람직하게는 에스테르류, 케톤류를 들 수 있다.
침투성 용제의 더 구체적인 예로서는 아세톤, 아세트산 메틸, 아세트산 에틸, 아세트산 부틸, 클로로포름, 염화메틸렌, 트리클로로에탄, 테트라히드로푸란, 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸케톤, 시클로헥사논, 니트로메탄, 1,4―디옥산, 디옥솔란, N―메틸피롤리돈, N,N―디메틸포름아미드, 메탄올, 에탄올, 이소프로필알코올, 부탄올, 이소부틸알코올, 디이소프로필에테르, 메틸셀로솔브, 에틸셀로솔브, 부틸셀로솔브를 들 수 있고, 바람직하게는 아세트산 메틸, 아세트산 에틸, 아세트산 부틸, 메틸에틸케톤, 시클로헥사논 등을 들 수 있다.
침투성 용제의 첨가량은 적절히 정할 수 있지만, 예를 들면 하드 코트층용 조성물 전량에 대해 0.01 중량부 이상 50 중량부 이하이고, 바람직하게는 하한이 0.1 중량부(더 바람직하게는 1 중량부) 이상이고 상한이 25 중량부(더 바람직하게는 15 중량부) 이하이다.
임의 성분
본 발명에 따른 하드 코트층은 상기한 성분에 의해 형성되어 이루어지지만, 하드 코트층의 광학 특성 기능을 높이기 위해 임의 성분을 첨가해도 좋다.
개시제
본 발명에서, 중합 개시제로서는 아세토페논류, 벤조페논류, 티옥산톤류, 벤조인, 벤조인메틸에테르, 방향족 디아조늄염, 방향족 술포늄염, 방향족 요오드늄염, 메타셀론 화합물, 벤조인술폰산 에스테르 등을 들 수 있다. 이것들은 단독으로 사용하거나 또는 2종 이상을 병용해도 좋다.
임의의 것을 사용할 수 있지만, 바람직하게는 365㎚ 이상의 장파장에서의 흡광 계수 100(㎖／ｇ㎝) 이하인 중합 개시제와, 365㎚ 이상의 장파장에서의 흡광 계수 100(㎖／ｇ㎝)보다 큰 중합 개시제의 양자로 이루어지는 것을 사용하는 것이 바람직하다. 365㎚ 이상의 장파장에서의 흡광 계수 100(㎖／ｇ·㎝) 이하인 중합 개시제의 구체적인 예로서는 시판품으로서 Irgacure 127, Irgacure 184, Irgacure 250, Irgacure 651, IRGACURE 754, Irgacure 907, Irgacure 2959, Darocure 1173, Darocure EDB, Darocure EHA(치바 케미컬사제), LAMBERTI사제의 ESACURE ONE, ESACURE KIP150, ESACURE 1001M 등을 들 수 있다. 365㎚ 이상의 장파장에서의 흡광 계수 100(㎖／ｇ㎝)보다 큰 중합 개시제의 구체적인 예로서는 시판품으로서 Irgacure OXE01, IRGACURE 369, Irgacure 784, Irgacure 819, Irgacure 907, Irgacure 1300, IRGACURE 1800, Darocure 1173, Darocure TPO, Darocure 4265, CGI 242(치바 케미컬사제) 등을 들 수 있다.
광중합 개시제의 함유량은 하드 코트층 형성용 조성물의 수지 고형분 100 질량부에 대해 0.1 중량부 이상 10 질량부 이하인 것이 바람직하다. 또한 저굴절률층과 동일한 중합 촉진제를 0.1 중량부 이상 5 중량부 이하 정도로 병용할 수도 있다.
안정제
본 발명의 바람직한 태양에 따르면, 하드 코트용 조성물에 안정제를 첨가하는 것이 바람직하다. 안정제는 하드 코트층을 구성하는 성분이, 날씨 또는 경시 변화에 따라 발생하는 변성을 억제하는 것이 가능해진다. 특히 안정제를 첨가함으로써 하드 코트층이 빛 또는 열에 의한 변색, 특히 황색화를 억제할 수 있을 것으로 생각된다. 안정제가 주로 변색 방지에 이용되는 경우, 안정제는 변색 방지제로 되어도 좋다.
안정제의 구체적인 예로서는 힌더드아민계(HALS), 벤조트리아졸계, 힌더드페놀계, 트리아진계, 인계 산화 방지제, 티오에테르계 산화 방지제 등을 들 수 있고, 바람직하게는 힌더드아민계(HALS), 벤조트리아졸계를 들 수 있다.
안정제는 그 자체가 반응기를 가지는지 여부를 불문하며, 또한 안정제가 고분자 물질인 경우, 그 분자량이 한정되는 것은 아니다. 안정제는 그 자체가 반응기를 가지지 않는 경우에는, 그 안정제는 분자량이 1000 이상인 것이 바람직하게 이용된다. 분자량이 1000 이상인 안정제는 하드 코트층 내에서 안정제로서의 특성을 충분히 발휘하는 것이 가능해진다.
안정제의 첨가량은 사용 목적에 따라 적절히 정해도 좋지만, 바람직하게는 하드 코트층용 조성물 전량에 대해 20 중량부 이하, 바람직하게는 5 중량부 이하이다. 첨가량이 이 범위로 되어 이루어짐에 따라 안정제에 의한 안정화 효과를 충분히 발휘할 수 있고, 또한 하드 코트층 중의 수지의 경화를 충분히 실시할 수 있어 하드 코트층의 하드 코트 성능을 달성하는 것이 가능해진다.
안정제는 시판품을 사용할 수 있고, 그 구체적인 예로서는 RUVA93(오츠카(大塚) 화학사제); Vanaresin UVA―1025S, Vanaresin UVA―1050G, Vanaresin HAL―11025S(신나카무라 화학사제); FA711MN, FA712HM(히다치 가세이(日立化成)사제); RSA0113M(산난(山南) 합성사제); 아사히 덴카(旭電化)사제의 아데카스타브 시리즈, 예를 들면 AO22, AO30, AO40, AO50, AO60, AO70, AO80, AO330, A611, A612, A613, AO51, AO15, AO18, 328, AO37, PEP4C, PEP8, PEP8W, PEP24G, PEP36, PEP36Z, HP10, 2112, 260, 522, 1178, 1500, 135A, 3010, TPP, AO23, AO412S, AO503, LA32, LA36, 1413, LA51, LA52, LA57, LA62, LA63, LA67, LA77, LA82, LA87, LA501, LA502, LA503, LA601, LA602 등을 들 수 있고; 치바·스페셜티·케미컬즈사제의 TINUVIN 시리즈, 예를 들면 TINUVIN―PS, TINUVIN 99―2, TINUVIN 109, TINUVIN 328, TINUVIN 384―2, TINUVIN 400, TINUVIN 411L, TINUVIN 900, TINUVIN 928, TINUVIN 1130, TINUVIN 111FDL, TINUVIN 123, TINUVIN 144, TINUVIN 292, TINUVIN 405 등을 들 수 있으며; IRGANOX 시리즈(나가세 산업), 예를 들면 IRGANOX 245, IRGANOX 259, IRGANOX 565, IRGANOX 1010, IRGANOX 1076, IRGANOX 1098, IRGANOX 1222, IRGANOX 1330, IRGANOX 1425, IRGANOX 3114, IRGANOX 5057, IRGANOX 1520, IRGANOX 1135, IRGANOX 1035 등을 들 수 있고; 스미토모 화학사의 스미라이저 시리즈, 예를 들면 GA80, GS 등을 들 수 있으며; 및 이들의 2종 이상의 혼합물을 들 수 있다. 이들 중에서도 특히 바람직한 것으로서 RUVA93(오츠카 화학사제), Vanaresin UVA―1025S, Vanaresin UVA―1050G(이상 신나카무라 화학사제), FA711MN, FA712HM(이상 히다치 가세이사제), TINUVIN 292, TINUVIN 123(치바·스페셜티·케미컬즈사제) 등 및 이들의 2종 이상의 혼합물을 들 수 있다.
그 밖의 제(劑)
하드 코트층은 원하는 광학 특성을 발휘시킬 목적으로 그 밖의 제, 예를 들면 대전 방지제, 방오염제 또는 방현제를 첨가해도 좋다. 이러한 경우, 하드 코트층용 조성물에 그 밖의 제를 첨가하여 하드 코트층을 형성할 수 있다.
도전제(대전 방지제)
도전제(대전 방지제)의 첨가에 의해 광학 적층체의 표면에서의 분진 부착을 유효하게 방지할 수 있다. 도전제(대전 방지제)의 구체적인 예로서는 제4급 암모늄염, 피리디늄염, 제1∼제3 아미노기 등의 양이온성기를 가지는 각종 양이온성 화합물, 술폰산 염기, 황산 에스테르염기, 인산 에스테르염기, 포스폰산 염기 등의 음이온성기를 가지는 음이온성 화합물, 아미노산계, 아미노황산 에스테르계 등의 양성 화합물, 아미노알코올계, 글리세린계, 폴리에틸렌글리콜계 등의 비이온성 화합물, 주석 및 티탄의 알콕시드와 같은 유기 금속 화합물 및 그것들의 아세틸아세토네이트염과 같은 금속 킬레이트 화합물 등을 들 수 있고, 추가로 상기에 나열한 화합물을 고분자량화한 화합물을 들 수 있다. 또한 제3급 아미노기, 제4급 암모늄기 또는 금속 킬레이트부를 가지고 또한 전리 방사선에 의해 중합 가능한 모노머 또는 올리고머 또는 관능기를 가지는 커플링제와 같은 유기 금속 화합물 등의 중합성 화합물도 역시 대전 방지제로서 사용할 수 있다.
또한 대전 방지제로서 도전성 미립자를 들 수 있다. 도전성 미립자의 구체적인 예로서는 금속 산화물로 이루어지는 것을 들 수 있다. 그와 같은 금속 산화물로서는 ZnO(굴절률 1.90, 이하 괄호 안의 수치는 굴절률을 나타낸다.), CeO2(1.95), Sb2O2(1.71), SnO2(1.997), ITO라고 약칭하는 경우가 많은 산화인듐주석(1.95), In2O3(2.00), Al2O3(1.63), 안티몬 도프 산화주석(약칭; ATO, 2.0), 알루미늄 도프 산화아연(약칭; AZO, 2.0) 등을 들 수 있다. 미립자란 1 미크론 이하의, 이른바 서브미크론의 크기의 것을 가리키며, 바람직하게는 평균 입경이 0.1㎚∼0.1㎛인 것이다.
또한 대전 방지제로서 도전성 폴리머를 들 수 있고, 그 구체적인 예로서는 지방족 공역계의 폴리아세틸렌, 방향족 공역계의 폴리(파라페닐렌), 복소환식 공역계의 폴리피롤, 폴리티오펜, 헤테로 원자 함유 공역계의 폴리아닐린, 혼합형 공역계의 폴리(페닐렌비닐렌)을 들 수 있으며, 이들 외에도 분자 중에 복수의 공역 사슬을 가지는 공역계인 복쇄형 공역계, 전술한 공역 고분자 사슬을 포화 고분자로 그래프트 또는 블록 공중한 고분자인 도전성 복합체 등을 들 수 있다.
대전 방지제의 첨가량은 적절히 정할 수 있지만, 예를 들면 하드 코트층용 조성물 전량에 대해 0.01 중량부 이상 50 중량부 이하이고, 바람직하게는 하한이 0.1 중량부 이상이고 상한이 25 중량부 이하이다.
그 밖의 대전 방지제(도전제)
본 발명의 방현층은 상기 이외에 다른 대전 방지제(도전제)를 포함하고 있어도 좋다. 도전제(대전 방지제)의 구체적인 예로서는 제4급 암모늄염, 피리디늄염, 제1∼제3 아미노기 등의 양이온성기를 가지는 각종 양이온성 화합물, 술폰산 염기, 황산 에스테르염기, 인산 에스테르염기, 포스폰산 염기 등의 음이온성기를 가지는 음이온성 화합물, 아미노산계, 아미노황산 에스테르계 등의 양성 화합물, 아미노알코올계, 글리세린계, 폴리에틸렌글리콜계 등의 비이온성 화합물, 주석 및 티탄의 알콕시드와 같은 유기 금속 화합물 및 그것들의 아세틸아세토네이트염과 같은 금속 킬레이트 화합물 등을 들 수 있고, 추가로 상기에 나열한 화합물을 고분자량화한 화합물을 들 수 있다. 또한 제3급 아미노기, 제4급 암모늄기 또는 금속 킬레이트부를 가지고 또한 전리 방사선에 의해 중합 가능한 모노머 또는 올리고머 또는 관능기를 가지는 커플링제와 같은 유기 금속 화합물 등의 중합성 화합물도 역시 대전 방지제로서 사용할 수 있다.
또한 도전성 미립자를 들 수 있다. 도전성 미립자의 구체적인 예로서는 금속 산화물로 이루어지는 것을 들 수 있다. 그와 같은 금속 산화물로서는 ZnO(굴절률 1.90, 이하 괄호 안의 수치는 굴절률을 나타낸다.), CeO2(1.95), Sb2O2(1.71), SnO2(1.997), ITO라 약칭하는 경우가 많은 산화인듐주석(1.95), In2O3(2.00), Al2O3(1.63), 안티몬 도프 산화주석(약칭; ATO, 2.0), 알루미늄 도프 산화아연(약칭; AZO, 2.0) 등을 들 수 있다. 미립자란 1 미크론 이하의, 이른바 서브미크론의 크기의 것을 가리키며, 바람직하게는 평균 입경이 0.1㎚∼0.1㎛인 것이다.
또한 대전 방지제로서 도전성 폴리머를 들 수 있다. 그 재료로서는 특별한 한정은 없고, 예를 들면 지방족 공역계의 폴리아세틸렌, 폴리아센, 폴리아줄렌, 방향족 공역계의 폴리페닐렌, 복소환식 공역계의 폴리피롤, 폴리티오펜, 폴리이소티아나프텐, 헤테로 원자 함유 공역계의 폴리아닐린, 폴리티에닐렌비닐렌, 혼합형 공역계의 폴리(페닐렌비닐렌), 분자 중에 복수의 공역 사슬을 가지는 공역계인 복쇄형 공역계, 이들의 도전성 폴리머의 유도체 및 이들의 공역 고분자 사슬을 포화 고분자로 그래프트 또는 블록 공중한 고분자인 도전성 복합체로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1종을 들 수 있다. 그 중에서도 폴리티오펜, 폴리아닐린, 폴리피롤 등의 유기계 대전 방지제를 사용하는 것이 더 바람직하다. 상기 유기계 대전 방지제를 사용함으로써 뛰어난 대전 방지 성능을 발휘함과 동시에, 광학 적층체의 전체 광선 투과율을 높임과 함께 헤이즈값을 낮추는 것도 가능해진다. 또한 도전성 향상이나 대전 방지 성능 향상을 목적으로 유기 술폰산이나 염화철 등의 음이온을 도펀트(전자 공여제)로서 첨가할 수도 있다. 도펀트 첨가 효과도 감안할 때, 특히 폴리티오펜은 투명성, 대전 방지성이 높아 바람직하다. 상기 폴리티오펜으로서는 올리고티오펜도 적합하게 사용할 수 있다. 상기 유도체로서는 특별한 한정은 없고, 예를 들면 폴리페닐아세틸렌, 폴리디아세틸렌의 알킬기 치환체 등을 들 수 있다.
방현제
방현제로서는 미립자를 들 수 있고, 그 형상은 진구형, 타원형 등의 것이면 좋고, 바람직하게는 진구형의 것을 들 수 있다. 또한 미립자는 무기계, 유기계인 것을 들 수 있다. 미립자는 방현성을 발휘하는 것이며, 바람직하게는 투명성의 것이 좋다. 미립자의 구체적인 예로서는 무기계이면 실리카 비드, 유기계이면 플라스틱 비드를 들 수 있고, 더 바람직하게는 투명성을 가지는 것을 들 수 있다. 플라스틱 비드의 구체적인 예로서는 스티렌 비드(굴절률 1.59), 멜라민 비드(굴절률 1.57), 아크릴 비드(굴절률 1.49), 아크릴―스티렌 비드(굴절률 1.54), 폴리카보네이트 비드, 폴리에틸렌 비드 등을 들 수 있다.
방현제를 첨가할 때에 침강 방지제를 첨가하는 것이 바람직하다. 침강 방지제를 첨가함으로써 수지 비드의 침전을 억제하여 용매 내에 균일하게 분산시킬 수 있기 때문이다. 침강 방지제의 구체적인 예로서는 입경이 0.5㎛ 이하, 바람직하게는 0.1∼0.25㎛ 정도의 실리카 비드, 폴리에틸렌 비드 등을 들 수 있다.
그 밖의 플라스틱 비드 방현제
그 밖의 플라스틱 폴리머 비드의 구체적인 예로서는 폴리스티렌 비드(굴절률 1.60), 멜라민 비드(굴절률 1.57), 아크릴 비드(굴절률 1.49∼1.535), 아크릴―스티렌 비드(굴절률 1.54∼1.58), 벤조구아나민―포름알데히드 축합물 비드(굴절률 1.66), 벤조구아나민·멜라민·포름알데히드 축합물 비드(굴절률 1.52∼1.66), 멜라민·포름알데히드 축합물 비드(굴절률 1.66) 폴리카보네이트 비드, 폴리에틸렌 비드 등을 들 수 있다. 상기 플라스틱 비드는 그 표면에 소수성기를 가지는 것이 바람직하고, 예를 들면 스티렌 비드를 들 수 있다. 무기계 미립자로서는 구형 실리카, 부정형 실리카 등을 들 수 있다. 그 밖에 유기·무기 복합의 실리카·아크릴 복합 화합물 비드(굴절률 1.52) 등도 이용된다.
방현제의 첨가량은 적절히 정할 수 있지만, 예를 들면 하드 코트층용 조성물 전량에 대해 0.001 중량부 이상 75 중량부 이하이고, 바람직하게는 하한이 0.01 중량부 이상이고 상한이 50 중량부 이하이다.
광투과성 기재
광투과성 기재는 빛을 투과하는 것이면 투명, 반투명, 무색 또는 유색을 불문하지만, 바람직하게는 무색 투명의 것이 좋다. 광투과성 기재의 구체적인 예로서는 유리판; 트리아세테이트셀룰로오스(TAC), 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET), 디아세틸셀룰로오스, 아세테이트부티레이트셀룰로오스, 폴리에테르술폰, 아크릴계 수지; 폴리우레탄계 수지; 폴리에스테르; 폴리카보네이트; 폴리술폰; 폴리에테르; 트리메틸펜텐; 폴리에테르케톤; (메타)아크릴로니트릴, 노보넨 수지 등에 의해 형성한 박막 등을 들 수 있다. 본 발명의 바람직한 태양에 따르면, 트리아세테이트셀룰로오스(TAC)를 바람직하게 들 수 있다. 광투과성 기재의 두께는 30㎛∼200㎛ 정도이고, 바람직하게는 40㎛∼200㎛이다.
바람직한 광투과성 기재
본 발명의 바람직한 태양에 따르면, 광투과성 기재는 평활성, 내열성을 구비하며 기계적 강도가 뛰어난 것이 바람직하다. 광투과성 기재를 형성하는 재료의 구체적인 예로서는 폴리에스테르(폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌나프탈레이트, 폴리부틸렌테레프탈레이트, 폴리부틸렌나프탈레이트), 셀룰로오스트리아세테이트, 셀룰로오스디아세테이트, 셀룰로오스아세테이트부티레이트, 폴리아미드, 폴리이미드, 폴리에테르술폰, 폴리술폰, 폴리프로필렌, 폴리메틸펜텐, 폴리염화비닐, 폴리비닐아세탈, 폴리에테르케톤, 폴리메타크릴산 메틸, 폴리카보네이트 또는 폴리우레탄 등의 열가소성 수지를 들 수 있고, 바람직하게는 폴리에스테르(폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌나프탈레이트), 셀룰로오스트리아세테이트를 들 수 있다.
광투과성 기재는 열가소성 수지를 유연성이 풍부한 필름 형상체로서 사용하는 것이 바람직하지만, 경화성이 요구되는 사용 태양에 따라 이들 열가소성 수지의 판을 사용하는 것도 가능하며 또는 유리판의 판상체인 것을 사용해도 좋다.
그 밖에 광투과성 기재로서는 지환 구조를 가진 비정질 올레핀 폴리머(Cyclo―Olefin―Polymer:COP) 필름을 들 수 있다. 이것은 노보넨계 중합체, 단환의 환상 올레핀계 중합체, 환상 공역 디엔계 중합체, 비닐 지환식 탄화수소계 중합체 등이 이용되는 기재로, 예를 들면 니폰 제온(주)제의 제오넥스나 제오노아(노보넨계 수지), 스미토모 베이크라이트(주)제의 스미라이트 FS―1700, JSR(주)제의 아톤(변성 노보넨계 수지), 미츠이(三井) 화학(주)제의 아펠(환상 올레핀 공중합체), Ticona사제의 Topas(환상 올레핀 공중합체), 히다치 가세이(주)제의 옵트레츠 OZ―1000 시리즈(지환식 아크릴 수지) 등을 들 수 있다. 또한 트리아세틸셀룰로오스의 대체 기재로서 아사히 가세이 케미컬즈(주)제의 FV 시리즈(저복굴절률, 저광탄성률 필름)도 바람직하다.
광투과성 기재가 판상체인 경우에는 이러한 두께를 넘는 두께 300㎛ 이상 5000㎛ 이하이어도 좋다. 기재는 그 위에 하드 코트층, 대전 방지층 등을 형성할 때에 접착성 향상을 위해 코로나 방전 처리, 산화 처리 등의 물리적인 처리 외에 앵커제(anchoring agent) 또는 프라이머라 불리는 도료의 도포를 미리 실시해도 좋다.
그 밖의 층
본 발명에 따른 광학 적층체는 원하는 광학 특성을 발휘시킬 목적으로 광학 적층체를 구성하는 층간 또는 광학 적층체의 최표면에 대전 방지층, 방현층 또는 방오염층을 더 구비하여 이루어지는 것이 바람직하다. 본 발명의 바람직한 태양에 따르면, 저굴절률층과 하드 코트층 사이에 대전 방지층을 구비하여 이루어지는 것이 바람직하다.
대전 방지층
대전 방지층은 대전 방지제와 수지에 의해 형성되어도 좋다. 대전 방지제는 앞의 하드 코트층에서 설명한 것과 동일해도 좋고, 수지는 앞의 저굴절률층에서 설명한 것과 동일해도 좋다. 대전 방지층은 대전 방지제와 수지와 용제를 포함하여 이루어지는 것이다. 대전 방지층의 두께는 30㎚∼1㎛ 정도인 것이 바람직하다. 대전 방지층의 형성에 있어서는 대전 방지층의 표면 저항값이 5×107Ω／□ 이하가 되도록 실시하는 것이 바람직하다.
방현층
방현층은 방현제와 수지에 의해 형성되어도 좋다. 방현제는 앞의 하드 코트층에서 설명한 것과 동일해도 좋고, 수지 및 용제도 앞의 저굴절률층에서 설명한 것과 동일해도 좋다.
Ⅱ. 광학 적층체의 제조 방법
각 층용 조성물의 조정
각 층용 조성물은 일반적인 조제법에 따라 앞에서 설명한 성분을 혼합해서 분산 처리함으로써 조정되어도 좋다. 혼합 분산에는 페인트 쉐이커 또는 비드 밀 등으로 적절히 분산 처리하는 것이 가능해진다. 분산 처리한 각 층용 조성물은 그 후에 여과해도 좋다.
층 형성법
각 층을 형성하는 방법의 구체적인 예로서는 스핀 코트법, 침지법, 스프레이법, 슬라이드 코트법, 바 코트법, 롤 코터법, 메니스커스 코터법, 플렉소 인쇄법, 스크린 인쇄법, 피드 코터법 등의 각종 방법을 이용할 수 있다. 경화형 수지 조성물의 경화 방법으로서는 전자선 또는 자외선 조사에 의해 경화한다. 전자선 경화의 경우에는 100KeV∼300KeV의 에너지를 가지는 전자선 등을 사용한다. 자외선 경화의 경우에는 초고압 수은등, 고압 수은등, 저압 수은등, 카본 아크, 크세논 아크, 메탈 할라이드 램프 등의 광선에서 나오는 자외선 등을 사용한다.
Ⅲ. 광학 적층체의 이용
본 발명에 따른 제조 방법에 의해 제조되는 광학 적층체는 반사 방지 적층체로서 이용되지만, 하기의 용도를 더 가진다.
편광판
본 발명의 다른 태양에 따르면, 편광 소자와 본 발명에 따른 광학 적층체를 구비하여 이루어지는 편광판을 제공할 수 있다. 구체적으로는 편광 소자의 표면에, 본 발명에 따른 광학 적층체를 상기 광학 적층체에서 저굴절률층이 존재하는 면과 반대인 면에 구비하여 이루어지는 편광판을 제공할 수 있다.
편광 소자는 예를 들면 요오드 또는 염료로 염색하고 연신하여 이루어지는 폴리비닐알코올 필름, 폴리비닐포르말 필름, 폴리비닐아세탈 필름, 에틸렌―아세트산 비닐 공중합체계 비누화 필름 등을 이용할 수 있다. 라미네이트 처리시에 접착성 증가를 위해 또는 전 방지를 위해 광투과성 기재(바람직하게는 트리아세틸셀룰로오스 필름)에 비누화 처리를 실시하는 것이 바람직하다.
화상 표시 장치
본 발명의 또 다른 태양에 따르면, 화상 표시 장치를 제공할 수 있고, 이러한 화상 표시 장치는 투과성 표시체와 상기 투과성 표시체를 배면으로부터 조사하는 광원 장치를 구비하여 이루어지며, 이 투과성 표시체의 표면에, 본 발명에 따른 광학 적층체 또는 본 발명에 따른 편광판이 형성되어 이루어지는 것이다. 본 발명에 따른 화상 표시 장치는 기본적으로는 광원 장치(백라이트)와 표시 소자와 본 발명에 따른 광학 적층체에 의해 구성되어도 좋다. 화상 표시 장치는 투과형 표시 장치에 이용되고, 특히 텔레비전, 컴퓨터, 워드프로세서 등의 디스플레이 표시에 사용된다. 특히 CRT, 액정 패널 등의 고정밀 화상용 디스플레이의 표면에 이용된다.
본 발명에 따른 화상 표시 장치가 액정 표시 장치인 경우, 광원 장치의 광원은 본 발명에 따른 광학 적층체의 하측에서 조사된다. 또, STN형 액정 표시 장치에는 액정 표시 소자와 편광판 사이에 위상차판이 삽입되어도 좋다. 이 액정 표시 장치의 각 층간에는 필요에 따라 접착제층이 마련되어도 좋다.
본 발명의 내용을 하기 실시예에 따라 상세히 설명하는데, 본 발명의 범위는 이들 실시예에 한정하여 해석되는 것은 아니다.
저굴절률층용 조성물의 조정
하기 조성표의 성분을 혼합기에서 충분히 혼합한 후 여과해서 저굴절률층용 조성물을 조제하였다.
저굴절률 조성 1
처리한 공극 실리카졸 미립자＊) 14.3 중량부
펜타에리스리톨트리아크릴레이트(PETA) 1.95 중량부
이가큐어 369(치바 스페셜티 케미컬즈사제) 0.07 중량부
변성 실리콘 오일 X22―176F(신에츠 화학 공업사제) 0.15 중량부
메틸이소부틸케톤 73 중량부
N―부탄올 21 중량부
＊) 공극 실리카졸을 20％ 메틸이소부틸케톤 용액을 사용하여 처리하였다(이하 동일하다).
저굴절률 조성 2
처리한 공극 실리카졸 미립자＊) 14.3 중량부
펜타에리스리톨트리아크릴레이트(PETA) 1.95 중량부
이가큐어 369(치바 스페셜티 케미컬즈사제) 0.07 중량부
변성 실리콘 오일 X22―176F(신에츠 화학 공업사제) 0.20 중량부
메틸이소부틸케톤 73 중량부
N―부탄올 21 중량부
저굴절률 조성 3
처리한 공극 실리카졸 미립자＊) 14.3 중량부
펜타에리스리톨트리아크릴레이트(PETA) 1.95 중량부
이가큐어 369(치바 스페셜티 케미컬즈사제) 0.07 중량부
변성 실리콘 오일 X22―164E(신에츠 화학 공업사제) 0.20 중량부
메틸이소부틸케톤 73 중량부
N―부탄올 21 중량부
저굴절률 조성 4
처리한 공극 실리카졸 미립자＊) 14.3 중량부
펜타에리스리톨트리아크릴레이트(PETA) 1.95 중량부
이가큐어 369(치바 스페셜티 케미컬즈사제) 0.07 중량부
변성 실리콘 오일 사일러플레인 FM725(치소사제) 0.20 중량부
메틸이소부틸케톤 73 중량부
N―부탄올 21 중량부
저굴절률 조성 5
처리한 공극 실리카졸 미립자＊) 14.3 중량부
펜타에리스리톨트리아크릴레이트(PETA) 1.95 중량부
이가큐어 369(치바 스페셜티 케미컬즈사제) 0.07 중량부
변성 실리콘 오일 TSF4421(GE 도시바 실리콘사제) 0.20 중량부
메틸이소부틸케톤 73 중량부
N―부탄올 21 중량부
저굴절률 조성 6
처리한 공극 실리카졸 미립자＊) 14.3 중량부
펜타에리스리톨트리아크릴레이트(PETA) 1.95 중량부
이가큐어 369(치바 스페셜티 케미컬즈사제) 0.07 중량부
메틸이소부틸케톤 73 중량부
N―부탄올 21 중량부
저굴절률 조성 7
처리한 공극 실리카졸 미립자＊) 14.3 중량부
펜타에리스리톨트리아크릴레이트(PETA) 1.95 중량부
이가큐어 127(치바 스페셜티 케미컬즈사제) 0.07 중량부
변성 실리콘 오일 X22―164E(신에츠 화학 공업사제) 0.20 중량부
메틸이소부틸케톤 73 중량부
PGME 21 중량부
저굴절률 조성 8
처리한 공극 실리카졸 미립자＊) 14.3 중량부
펜타에리스리톨트리아크릴레이트(PETA) 0.45 중량부
LINC3A(교에이샤 화학) 1.5 중량부
이가큐어 127(치바 스페셜티 케미컬즈사제) 0.06 중량부
Luna OMB(Lambson Group LTD사제) 0.01 중량부
변성 실리콘 오일 FM7726(치소사제) 0.20 중량부
메틸이소부틸케톤 73 중량부
PGMEA 21 중량부
하드 코트층용 조성물의 조정
하기 조성표의 성분을 혼합기에서 충분히 혼합한 후 여과해서 하드 코트층용 조성물을 조제하였다.
하드 코트 조성 1
우레탄아크릴레이트 수지(니폰 합성제, UV1700B) 5 중량부
폴리에스테르아크릴레이트 수지(도아 합성제, M9050) 5 중량부
중합 개시제(IRGACURE 184) 0.4 중량부
메틸에틸케톤(이하 ‘MEK’라 한다) 10 중량부
하드 코트 조성 2
비스[(2―메타크릴로일티오)에틸]술피드 5 중량부
(스미토모 세이카사제; S2EG)
디펜타에리스리톨헥사아크릴레이트(니폰 가야쿠, DPHA) 3 중량부
폴리에스테르아크릴레이트(도아 합성, M9050) 2 중량부
중합 개시제(IRGACURE 184) 0.3 중량부
중합 개시제(DAROCUR TPO) 0.3 중량부
MEK 10 중량부
하드 코트 조성 3
우레탄아크릴레이트 수지(니폰 합성제, UV1700B) 2 중량부
폴리에스테르아크릴레이트 수지(도아 합성제, M9050) 2 중량부
우레탄아크릴레이트 수지(아라카와 화학제, BS371) 4 중량부
디펜타에리스리톨헥사아크릴레이트(DPHA) 2 중량부
중합 개시제(IRGACURE 184) 0.4 중량부
MEK 10 중량부
하드 코트 조성 4
우레탄아크릴레이트 수지(니폰 합성제, UV1700B) 3 중량부
디펜타에리스리톨헥사아크릴레이트(니폰 DPHA) 2 중량부
우레탄아크릴레이트 수지(아라카와 화학제, BS371) 2 중량부
표면 처리한 콜로이달 실리카(평균 입경 약 90나노미터) 3 중량부
중합 개시제(IRGACURE 184) 0.4 중량부
MEK 10 중량부
광학 적층체의 조제
실시예 1
하드 코트층의 형성
셀룰로오스트리아세테이트 필름(두께 80㎛)의 편면에, 하드 코트층용 조성물 1을 습윤 중량 20g／㎡(건조 중량 10g／㎡)로 도포하였다. 50℃에서 30초 건조시켜 자외선 50mJ／㎠를 조사해서 하드 코트층을 형성하였다.
저굴절률층의 형성
상기 하드 코트층의 표면에, 저굴절층용 조성물(저굴절률 조성 1)을 자외선 조사 장치(퓨전 UV 시스템 저팬(주), 광원 H 밸브)를 이용하여 조사선량 192mJ／㎡로 자외선 조사를 실시하여 경화시키고, 건조후(40℃×1분)의 막두께가 0.1μ가 되고, 막두께는 반사율의 극소값이 파장 550㎚ 부근이 되도록 형성하고, 저굴절률층을 형성하여 광학 적층체를 얻었다.
실시예 2
저굴절층용 조성물을 저굴절률 조성 2로 한 것 이외에는 실시예 1과 동일한 방법으로 광학 적층체를 얻었다.
실시예 3
하드 코트층용 조성물을 하드 코트 조성 2로 한 것 이외에는 실시예 1과 동일한 방법으로 광학 적층체를 얻었다.
실시예 4
저굴절층용 조성물을 저굴절률 조성 3으로 한 것 이외에는 실시예 1과 동일한 방법으로 광학 적층체를 얻었다.
실시예 5
저굴절층용 조성물을 저굴절률 조성 4로 한 것 이외에는 실시예 1과 동일한 방법으로 광학 적층체를 얻었다.
실시예 6
저굴절층용 조성물을 저굴절률 조성 7로 하고 하드 코트층용 조성물을 하드 코트 조성 3으로 한 것 이외에는 실시예 1과 동일한 방법으로 광학 적층체를 얻었다.
실시예 7
저굴절층용 조성물을 저굴절률 조성 8로 하고 하드 코트층용 조성물을 하드 코트 조성 4로 한 것 이외에는 실시예 1과 동일한 방법으로 광학 적층체를 얻었다.
비교예 1
저굴절층용 조성물을 저굴절률 조성 5로 한 것 이외에는 실시예 1과 동일한 방법으로 광학 적층체를 얻었다.
비교예 2
저굴절층용 조성물을 저굴절률 조성 6으로 한 것 이외에는 실시예 1과 동일한 방법으로 광학 적층체를 얻었다.
평가 시험
실시예 및 비교예의 광학 적층체에 대해 하기 평가 기준에 기초하여 평가하고 그 결과를 하기 표 1에 기재하였다.
평가 1: 방오성 평가
광학 적층체의 하드 코트층의 면에 대해 물을 적하했을 때의 접촉 각도를 측정하였다.
평가 ◎: 물의 접촉 각도가 90° 이상이었다.
평가 ×: 물의 접촉 각도가 90° 미만이었다.
평가 2: XPS에 의한 유기 규소 원자의 존재율 측정
Thermo Electron사제(VG Theta Probe)의 XPS(X선 광전자 분광 측정) 장치를 사용하고, X선원은 Monochromated Al Kα, X선 출력은 100W, 측정 영역은 400㎛Φ, 렌즈는 Angle Resolved, 측정 각도 3단계(31°, 46°, 61°)의 조건으로 유기 규소 원자의 존재율(％)을 측정하였다. 무기 규소 원자(O―Si―O)의 존재율은 제외하였다.
측정 각도 3단계(31°, 46°, 61°)의 조건으로 유기 규소 원자의 존재율을 측정하였다. 무기 규소 원자(O―Si―O)의 존재율은 제외하였다. 측정 각도가 31°인 경우, 재표면으로부터 50Å의 범위였다. 측정 각도가 46°인 경우, 재표면으로부터 70Å의 범위였다. 측정 각도 31°의 경우, 재표면으로부터 87Å의 범위였다.
예／평가 평가 1 평가 2
31° 46° 61°
실시예 1 ◎ 18 14 11
실시예 2 ◎ 18 16 13
실시예 3 ◎ 25 20 18
실시예 4 ◎ 16 14 12
실시예 5 ◎ 16 14 12
실시예 6 ◎ 20 15 11
실시예 7 ◎ 17 13 10
비교예 1 × 8 6 5
비교예 2 ◎ 0 0 0

Claims (11)

  1. 광투과성 기재상에 하드 코트층과 저굴절률층을 이 순서로 구비하여 이루어지는 광학 적층체로서,
    상기 저굴절률층의 굴절률이 1.5 이하이고,
    상기 저굴절률층이 방오염제 및／또는 윤활성 부여제를 포함하여 이루어지며,
    상기 방오염제 및／또는 윤활성 부여제의 첨가료가 상기 하드 코트층의 표면에서 상기 저굴절률층의 표면을 향하여 증가하도록 첨가되어 이루어지는
    광학 적층체.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 방오염제 및／또는 윤활성 부여제가 규소계 화합물, 불소계 화합물 또는 이들의 혼합물인
    광학 적층체.
  3. 제1항에 있어서,
    상기 규소계 화합물이 하기 일반식(Ⅰ)∼(Ⅲ) 또는 (Ⅳ):
    [일반식 Ⅰ]
    Figure 112008069116139-PCT00016
    [일반식 Ⅱ]
    Figure 112008069116139-PCT00017
    [일반식 Ⅲ]
    Figure 112008069116139-PCT00018
    [일반식 Ⅳ]
    Figure 112008069116139-PCT00019
    (상기 식에서
    R은 메틸기, 불소 원자, 아크릴기, 메타크릴기, 수산기, 카르복실기, 폴리에테르기 또는 에폭시기이고,
    R1은 알킬기이고,
    X는 0∼1200이고,
    Y는 0∼1200이다.)
    로 나타나는 것인
    광학 적층체.
  4. 제2항에 있어서,
    상기 불소계 화합물이 하기 일반식:
    (A)w-(B)x-(D)y-CF3
    (상기 식에서
    A는 CF2, CFCF2, C(CF2)2로 이루어지는 군에서 선택되는 1종 또는 2종 이상의 기를 나타내고,
    B는 OCF2CF2, OCF2CF(CF2), OCF2C(CF2)2, OCF(CF2)CF(CF2), OCF(CF2)C(CF2)2, OC(CF2)2CF(CF2), OC(CF2)2C(CF2)2로 이루어지는 군에서 선택되는 1종 또는 2종 이상의 기를 나타내고,
    D는 OCH2CH2, OCH2CH2CH2, OC(O)(CH2)z로 이루어지는 군에서 선택되는 1종 또는 2종 이상의 기를 나타내고,
    w, x, y, z는 0 초과 50 이하의 수를 나타낸다.)
    으로 나타나는 것인
    광학 적층체.
  5. 제2항에 있어서,
    상기 저굴절률층의 최표면을 XPS 해석한 경우에, 규소 원자의 존재율이 10％ 이상이고 및／또는 불소 원자의 존재율이 20％ 이상인
    광학 적층체.
  6. 제1항에 있어서,
    상기 저굴절률층 및／또는 상기 하드 코트층에 대전 방지제 또는 방현제가 포함되어 이루어지는
    광학 적층체.
  7. 제1항에 있어서,
    상기 하드 코트층 아래에 또는 저굴절률층과 하드 코트층 사이에 대전 방지층을 더 구비하여 이루어지는
    광학 적층체.
  8. 제1항에 있어서,
    상기 하드 코트층이 적어도 1 이상의 관능기를 가지는 9,9―비스페녹시플루오렌 골격을 가지는 모노머 및／또는 적어도 2 이상의 유황 원자를 포함하여 이루어지는 모노머를 포함하여 이루어지는
    광학 적층체.
  9. 제1항 내지 제8항 중 어느 한 항에 있어서,
    반사 방지 적층체로서 이용되는
    광학 적층체.
  10. 편광 소자를 구비하여 이루어지는 편광판으로서,
    상기 편광 소자의 표면에, 제1항 내지 제8항 중 어느 한 항에 기재된 광학 적층체를 상기 광학 적층체에서 저굴절률층이 존재하는 면과는 반대인 면에 구비하여 이루어지는
    편광판.
  11. 투과성 표시체와 상기 투과성 표시체를 배면으로부터 조사하는 광원 장치를 구비하여 이루어지는 화상 표시 장치로서,
    상기 화상 표시체의 표면에, 제1항 내지 제8항 중 어느 한 항에 기재된 광학 적층체 또는 제10항에 기재된 편광판을 구비하여 이루어지는
    화상 표시 장치.
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