JP3515447B2 - 反射防止材料及びそれを用いた偏光フィルム - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、液晶ディスプレイ
（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、ＣＲ
Ｔ、ＥＬ等の画像表示体等に好適に用いられ、特に、画
像部の防汚性、反射防止、耐薬品性、耐摩耗性に優れた
反射防止材料およびそれを使用した偏光フィルムに関す
る。

【０００２】

【従来の技術】ＬＣＤ、ＰＤＰ、ＣＲＴ、ＥＬに代表さ
れる画像表示装置（以下、これを「ディスプレイ」とい
う。）は、テレビやコンピューターを始めとして、様々
な分野で繁用されており、目覚ましい発展を遂げてい
る。最近は、携帯電話、ＰＨＳ、その他各種携帯端末分
野への普及に期待が集まっている。

【０００３】携帯端末用のディスプレイとしては、軽
量、コンパクト、汎用性等の特徴を有するＬＣＤが市場
を独占するものと考えられているが、これらの携帯端末
にはタッチパネルを搭載し、プラスチックのペンや指で
直接触れて操作するものが主流になってきている。その
ため、ディスプレイ表面への耐摩耗性、耐薬品性、汚れ
防止に対する要求が高まっている。また、これらの機器
を屋外での使用も含めた比較的明るいところで使用する
場合の太陽光や蛍光灯等の外部光のディスプレイへの映
り込みを防止すること、すなわち反射防止に対する要求
も強くなっている。これらの要求は、現在、携帯端末機
器に限らず、小型から大型に至る様々なディスプレイに
波及している。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】この問題を解決するた
め、ディスプレイの表面に屈折率の高い層を積層し、こ
の上に屈折率の低い層を積層した多層構成を形成するこ
とにより、ディスプレイの最表面の反射率を抑える方法
が開発された。屈折率の低い層の材料としてはＭｇＦや
ＳｉＯ_２など、屈折率が高い層の材料としてはＴｉ
Ｏ_２、ＺｒＯ_２などが挙げられ、通常これらの材料は蒸
着やスパッタリングなどの気相法や、ゾルゲル法等によ
り積層される。しかしながら、気相法は、加工装置が高
価で、大面積の加工に向かず、ゾルゲル法は塗布、焼成
を繰り返すため経済性に問題があった。また、成膜方法
としては、ウェットコーティング法で膜形成する提案も
なされているが、特性上必要な１０ｎｍオーダーでの膜
厚コントロールが現状不充分で、色ムラ（干渉ムラ）等
の問題があった。

【０００５】ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）の
ような透明基体上に、ペンや指で直接触れて操作するタ
ッチパネルなどを設け、この表面に上記で述べたような
反射防止層を設けた反射防止フィルムを貼り合わせて使
用するような場合は、高度の耐摩耗性、耐薬品性、汚れ
防止が要求される。通常、これらの特性を満足するため
に、前記反射防止層には、ハードコート層が設けられて
いる。反射防止フィルムの反射防止特性を良くするため
には、このハードコート層も屈折率制御する必要があ
る。

【０００６】光学的に考えれば、ハードコート層を高屈
折率化し、その上にハードコート層より低い屈折率の層
を設けることが必要となるが、ハードコート層の高屈折
率化と反射防止フィルムとしての耐摩耗性や耐薬品性等
の耐久性を満足することは非常に困難である。

【０００７】ハードコート層に用いる樹脂としては、通
常、透明な熱硬化型樹脂、熱可塑性樹脂、放射線硬化型
樹脂などが用いられている。また、必要に応じてこれら
の樹脂に、架橋剤、重合開始剤等の硬化剤、重合促進
剤、溶剤、粘度調整剤等が加えられている。ハードコー
ト層の屈折率を高くするためには、高い屈折率を有する
超微粒子をフィラーとしてバインダー樹脂に添加するこ
とによって行うか、高屈折率を持つバインダー樹脂を使
用するか、またはこれらを併用することによって行われ
ている。しかしながら、より高い屈折率をめざしフィラ
ーの含有量を多くすると、ハードコート層の硬さが低下
するため、耐久性に問題が生じる。よって、この場合、
フィラーの含有量が少なくて済み、かつ、高い屈折率を
持つバインダー樹脂を用いることが望まれる。

【０００８】高屈折率を持つバインダー樹脂としては、
Ｆ以外のハロゲン原子や芳香族環、または、Ｓ、Ｎ、Ｐ
原子等の高屈折率成分を含む樹脂が挙げられる。しかし
ながら、上記の樹脂は、屈折率が高くなる反面、塗料中
での安定性に問題があり、さらに、脆くなり易く、耐擦
傷性、耐光性、着色等においても問題がある。したがっ
て、現時点では高屈折率と耐久性を共に満足するハード
コート層形成材料として好適なものは提供されていない
のが実情である。

【０００９】本発明は、従来技術における上記した実情
に鑑みてなされたもので、高屈折率を有し、かつ、耐久
性に優れたハードコート層を備えた多層構成により、デ
ィスプレイへの太陽光および蛍光灯等の外部光の映り込
みを防止し、優れた反射防止性を発揮し、かつ、画像コ
ントラストを低下させることなく、ギラツキ等のない鮮
明な画像を得ることができ、光学的に安定で優れた耐薬
品性を示すのは勿論のこと、反射防止材料を構成する各
層の強度が高く耐摩耗性に優れ、タッチパネル等に用い
ても耐久性のある反射防止材料を提供することを目的と
している。また、本発明は、上記反射防止材料を使用し
た偏光フィルムを提供することも目的としており、これ
により、特に、フルカラー液晶ディスプレイ等の性能を
大幅に向上させることを目的としている。

【００１０】

【課題を解決するための手段】（１）反射防止材料の内
容 本発明者は、ハードコート層の屈折率と層の強度とを共
に高めるために、ハードコート層の主たる成分となる樹
脂について検討を重ねた結果、樹脂に含有させる成分に
フルオレン骨格を有する（メタ）アクリレート化合物を
重合成分として用いると極めて効果的であることを見出
した。よって、本発明の反射防止材料は、上記知見に基
づいてなされたもので、透明基体の片面もしくは両面
に、直接または他の層を介して、ハードコート層を設
け、このハードコート層の表面にハードコート層の屈折
率よりも低い屈折率を有する表面層を設けた反射防止材
料において、ハードコート層は、少なくともフルオレン
骨格を有する（メタ）アクリレート化合物と、下記化３
または４で表されるウレタン（メタ）アクリレート化合
物とを共重合成分とした共重合体を含有することを特徴
としている。

【化３】

【化４】 式中、Ｒは多価アルコール残基、Ｒ _２は水素原子または
ＣＨ _３、Ｘはイソシアネート残基、Ｙは多価アルコール
残基を表す。ｋは２〜５の整数、ｌは２〜３の整数、ｍ
は１〜２の整数、ｎは２〜６の整数を表す。以下、本発
明のより好適な実施の形態について詳細に説明する。

【００１１】

【発明の実施の形態】Ａ．透明基体 本発明の反射防止材料に使用する透明基体としては、公
知の透明なフィルム、ガラス等を使用することができ
る。その具体例としては、ポリエチレンテレフタレート
（ＰＥＴ）、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）、ポリ
アリレート、ポリイミド、ポリエーテル、ポリカーボネ
ート、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、セロファ
ン、芳香族ポリアミド、ポリエチレン、ポリプロピレ
ン、ポリビニールアルコール等の各種樹脂フィルムおよ
び石英ガラス、ソーダガラス等のガラス基材等を好適に
使用することができる。ＰＤＰ、ＬＣＤに用いる場合
は、ＰＥＴ、ＴＡＣが好ましい。

【００１２】これら透明基体の透明性は、高いもの程良
好であるが、光線透過率（ＪＩＳＣ−６７１４）として
は８０％以上、より好ましくは９０％以上が良い。ま
た、その透明基体を小型軽量の液晶ディスプレイに用い
る場合には、透明基体はフィルムであることがより好ま
しい。透明基体の厚さは、軽量化の観点から薄いほうが
望ましいが、その生産性を考慮すると、１〜７００μｍ
の範囲のもの、好ましくは２５〜２５０μｍを使用する
ことが好適である。

【００１３】また、透明基体に、アルカリ処理、コロナ
処理、プラズマ処理、フッ素処理、スパッタ処理等の表
面処理や、界面活性剤、シランカップリング剤等の塗
布、またはＳｉ蒸着などの表面改質処理を行うことによ
り、透明基体とハードコート層、または他の層との密着
性を向上させることができる。また、透明基体の表面に
は、ディスプレイ表面に静電的に付着するホコリ等の汚
れを防止するために帯電防止層を設けても良い。帯電防
止層は、アルミニウム、錫等の金属、ＩＴＯ等の金属酸
化膜を蒸着、スパッタ等で極めて薄く設ける方法、アル
ミニウム、錫等の金属微粒子やウイスカー、酸化錫等の
金属酸化物にアンチモン等をドープした微粒子やウイス
カー、７，７，８，８−テトラシアノキノジメタンと金
属イオンや有機カチオンなどの電子供与体（ドナー）と
の間でできた電荷移動錯体をフィラー化したもの等をポ
リエステル樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂等に分散
し、ソルベントコーティング等により設ける方法、ポリ
ピロール、ポリアニリン等にカンファースルホン酸等を
ドープしたものをソルベントコーティング等により設け
る方法等により設けることができる。帯電防止層の透過
率は光学用途の場合、８０％以上が好ましい。

【００１４】Ｂ．ハードコート層 本発明でいうハードコートとは、鉛筆硬度試験（ＪＩＳ
Ｋ５４００）でＨ以上の硬度を示すものをいう。ま
た、本発明でいう高屈折率および低屈折率とは、互いに
隣接する層との相対的な屈折率の高低の関係をいう。次
に、本発明におけるハードコート層について説明する。
本発明のハードコート層の樹脂組成には、少なくとも下
記の化５で表されるフルオレン骨格を有する（メタ）ア
クリレート化合物および／または化６で表されるフルオ
レン骨格を有する（メタ）アクリレート化合物（Ａ成
分）と、化７で表されるウレタン（メタ）アクリレート
化合物および／または化８で表されるウレタン（メタ）
アクリレート化合物（Ｂ成分）とを共重合成分とし、こ
れに重合開始剤を用いて重合した共重合体が含有されて
いることが必須である。以下、これらの化合物について
説明する。

【００１５】

【化５】

【００１６】

【化６】

【００１７】

【化７】

【００１８】

【化８】

【００１９】式中、Ｒは多価アルコール残基、Ｒ_１は水
素原子、ＣＨ_３またはＣ_２Ｈ_５、Ｒ _２は水素原子または
ＣＨ_３、Ｘはイソシアネート残基、Ｙは多価アルコール
残基を表す。ａおよびｂは１〜５の整数、ｋは２〜５の
整数、ｌは２〜３の整数、ｍは１〜２の整数、ｎは２〜
６の整数を表す。

【００２０】前記Ａ成分のフルオレン骨格を有する（メ
タ）アクリレート化合物は、化５または化６で表される
化合物のいずれのものも使用することができる。特に好
ましくは、化５においてａ，ｂが１、Ｒ_１，Ｒ_２が水素
原子の最も基本的な化合物である。

【００２１】前記Ｂ成分のウレタン（メタ）アクリレー
ト化合物は、化７または化８で表される。化７のウレタ
ン（メタ）アクリレート化合物は、水酸基含有（メタ）
アクリレート化合物とポリイソシアネート化合物の反応
生成物の中で（メタ）アクリレート基を少なくとも４個
有する化合物である。また、化８のウレタン（メタ）ア
クリレート化合物は、水酸基含有（メタ）アクリレート
化合物とポリイソシアネート化合物とポリオール化合物
の反応生成物の中で（メタ）アクリレート基を少なくと
も４個有する化合物である。また、上記のウレタン（メ
タ）アクリレートを得る方法としては、いずれの公知の
方法も用いることができる。

【００２２】水酸基含有（メタ）アクリレート化合物と
しては、グリセリンジ（メタ）アクリレート、トリメチ
ロールプロパンジ（メタ）アクリレート、ペンタエリス
リトールトリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロール
プロパントリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリ
トールペンタ（メタ）アクリレート等を挙げることがで
きる。これらは単独でも複数組み合わせて使用すること
も可能である。

【００２３】ポリイソシアネート化合物としては、２，
４−トリレンジイソシアネート、２，６−トリレンジイ
ソシアネート、４，４−ジフェニルメタンジイソシアネ
ート、ｍ−キシリレンジイソシアネート、ｐ−キシリレ
ンジイソシアネート、テトラメチルキシリレンジイソシ
アネート、ビフェニレンジイソシアネート、１，５−ナ
フチレンジイソシアネート、ｏ−トリジンジイソシアネ
ート、ヘキサメチレンジイソシアネート、４，４’−メ
チレンビスシクロヘキシルイソシアネート、イソホロン
ジイソシアネート、トリメチルヘキサメチレンジイソシ
アネート、１，３−（イソシアナートメチル）シクロヘ
キサン、およびこれらのビュレット化物、ヌレート化物
等の重縮合物を挙げることができる。これらは単独でも
複数組み合わせて使用することも可能である。特に好ま
しくは、トリレンジイソシアネート、キシリレンジイソ
シアネートおよびヘキサメチレンジイソシアネートのヌ
レート化物、イソホロンジイソシアネートのヌレート化
物等が挙げられる。

【００２４】ポリオール化合物としては、エチレングリ
コール、プロピレングリコール、ネオペンチルグリコー
ル、１，６−ヘキサンジオール、グリセリン、トリメチ
ロールプロパン、カルボン酸含有ポリオール等の脂肪族
多価アルコール、各種ビスフェノールのエチレンオキサ
イドおよびプロピレンオキサイド反応物、ビスフェノー
ルフルオレンのエチレンオキサイドおよびプロピレンオ
キサイド反応物等の芳香族多価アルコール、また脂肪
族、芳香族に関わらず、化６で表されるような、分子中
に（メタ）アクリロイル基を有するポリオールが挙げら
れる。特に好ましくは、ジメチロールプロピオン酸、ジ
メチロールブタン酸、ビスフェノキシエタノールフルオ
レン等が挙げられる。

【００２５】上記で説明した化合物の他に、粘度、架橋
密度、耐熱性、耐薬品性など塗料および塗工膜の特性を
コントロールするために、アクリロイル基、メタクリロ
イル基、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ
基等重合性不飽和結合を有するモノマー、オリゴマー、
プレポリマーを適宜混合した組成物を用いることもでき
る。モノマーの例としては、スチレン、アクリル酸メチ
ル、シクロヘキシルアクリレート、ラウリルアクリレー
ト、エトキシジエチレングリコールアクリレート、メト
キシトリエチレングリコールアクリレート、フェノキシ
エチルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレ
ート、イソボルニルアクリレート、２−ヒドロキシエチ
ルアクリレート、２−ヒドロキシプロピルアクリレー
ト、２−ヒドロキシ−３−フェノキシアクリレート等の
単官能アクリレート、エチレングリコールジアクリレー
ト、ネオペンチルグリコールジアクリレート、１，６−
ヘキサンジオールジアクリレート、トリメチロールプロ
パントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアク
リレート、ペンタエリスリトールアクリレート、ジペン
タエリスリトールヘキサアクリレート、トリメチロール
プロパンアクリル酸安息香酸エステル、トリメチロール
プロパン安息香酸エステル等の多官能アクリレート等の
アクリル酸誘導体、メチルメタクリレート、２−エチル
ヘキシルメタクリレート、ｎ−ステアリルメタクリレー
ト、シクロヘキシルメタクリレート、テトラヒドロフル
フリルメタクリレート、メトキシポリエチレンメタクリ
レート、フェノキシエチルメタクリレート、２−ヒドロ
キシエチルメタクリレート、２−ヒドロキシブチルメタ
クリレート等の単官能メタクリレート、１，６−ヘキサ
ンジオールジメタクリレート、トリメチロールプロパン
トリメタクリレート、グリセリンジメタクリレート等の
多官能メタクリレート等のメタクリル酸誘導体等を挙げ
ることができる。オリゴマー、プレポリマーとしては、
ポリエステルアクリレート、エポキシアクリレート、ポ
リエーテルアクリレート、アルキットアクリレート、メ
ラミンアクリレート、シリコンアクリレート等のアクリ
レート、不飽和ポリエステル、エポキシ樹脂等を挙げる
ことができる。これらは単独、もしくは複数混合して使
用しても良い。モノマーは硬化膜の可とう性が要求され
る場合は少なめにし、さらに架橋密度を低くするために
は、１官能、２官能の（メタ）アクリレート系モノマー
を使用することが好ましく、逆に、硬化膜に耐熱性、耐
摩耗性、耐溶剤性等過酷な耐久性を要求される場合は、
モノマーの量を増やし、３官能以上の（メタ）アクリレ
ート系モノマーを使用することが好ましい。

【００２６】ハードコート層に使用することができる熱
硬化型樹脂としては、フェノール樹脂、フラン樹脂、キ
シレン・ホルムアルデヒド樹脂、ケトン・ホルムアルデ
ヒド樹脂、ユリア樹脂、メラミン樹脂、アニリン樹脂、
アルキド樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂
等を挙げることができる。これらは単独もしくは複数混
合して使用しても良い。透明基体がプラスチックである
場合は、熱硬化温度を高く設定することができない。特
に、ＰＥＴ、ＴＡＣを使用する場合には、使用する熱硬
化型樹脂は、１００℃以下で硬化できることが望まし
い。

【００２７】上記ハードコート層形成用の樹脂における
屈折率は、Ａ成分の比率を上げることにより高めること
ができるが、Ｂ成分を併用するとより優れた耐擦傷性が
得られる。しかしながら、耐擦傷性を向上するためにＢ
成分の比率を多くすると屈折率が低くなる。このため、
Ａ成分とＢ成分の混合比は両成分の合計を１００重量部
とした場合、Ａ成分２０〜９０重量部に対して、Ｂ成分
８０〜１０重量部であることが好ましい。特に好ましく
は、Ａ成分５０〜８０重量部に対して、Ｂ成分５０〜２
０重量部が良い。

【００２８】重合開始剤としては、熱、または可視光
線、紫外線等のエネルギー線等により活性ラジカルを発
生するものであれば特に制限なく使用することができ
る。具体例としては、２，２’−アゾビス（２，４−ジ
メチルバレロニトリル）等のアゾ化合物、ベンゾイルパ
ーオキサイド、ラウロイルパーオキサイド等の有機過酸
化物などが挙げられる。エネルギー線で活性ラジカルを
発生するものとしては、２，２−ジメトキシ−２−フェ
ニルアセトフェノン、ジエトキシアセトフェノン、２−
ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−
オン、ベンジルジメチルケタール、１−ヒドロキシシク
ロヘキシル−フェニルケトン、２−メチル−２−モルホ
リノ（４−チオメチルフェニル）プロパン−１−オン等
のアセトフェノン類、ベンゾインメチルエーテル、ベン
ゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテ
ル、ベンゾインイソブチルエーテル等のベンゾインエー
テル類、ベンゾフェノン、ｏ−ベンゾイル安息香酸メチ
ル、４−フェニルベンゾフェノン、４−ベンゾイル−
４’−メチル−ジフェニルサルファイド、４−ベンゾイ
ル−Ｎ，Ｎ−ジメチル−Ｎ−〔２−（１−オキソ−２−
プロペニルオキシ）エチル〕ベンゼンメタナミニウムブ
ロミド、（４−ベンゾイルベンジル）トリメチルアンモ
ニウムクロリド等のベンゾフェノン類、２，４−ジエチ
ルチオキサントン、１−クロロ−４−ジクロロチオキサ
ントン等のチオキサントン類、２，４，６−トリメチル
ベンゾイルジフェニルベンゾイルオキサイド等を挙げる
ことができる。これらは単独もしくは複数混合して使用
することができる。また、促進剤（増感剤）として、
Ｎ、Ｎ−ジメチルパラトルイジン、４，４’−ジエチル
アミノベンゾフェノン等のアミン系化合物を混合して使
用することもできる。さらに、ハイドロキノン、ｐ−ベ
ンゾキノン、ｔ−ブチルハイドロキノン等の安定化剤
（熱重合禁止剤）を添加しても良い。これらの促進剤お
よび安定化剤の添加量は、樹脂成分に対し、０．１〜
５．０重量％の範囲が好ましい。

【００２９】上記ハードコート層形成用の樹脂におい
て、重合開始剤の比率は、Ａ成分とＢ成分の合計量を１
００重量部とした場合、該合計量１００重量部に対し、
０．０１〜５重量部が好ましく、特に好ましくは１〜３
重量部である。重合開始剤が多すぎる場合、未反応の重
合開始剤の分解物が層の強度の低下や樹脂の着色の原因
となることがあり、逆に少なすぎる場合には、樹脂が固
まらなくなる。また、可視光線、紫外線等のエネルギー
線による重合開始剤においては、照射エネルギー線の波
長域に吸収を持つフィラーが使用されることがあり、こ
の場合には重合開始剤の比率を上げる必要がある。

【００３０】ハードコート層のバインダー樹脂に高屈折
率のフィラーを含有させることにより、ハードコート層
の屈折率を調整することができる。該フィラーの屈折率
は、ハードコート層の樹脂成分の屈折率よりも相対的に
高く、かつ、１．６〜２．７の範囲にあることが望まし
い。フィラーの具体例としては、ＺｎＯ（屈折率ｎ＝
１．９）、ＴｉＯ_２（ｎ＝２．３〜２．７）、ＣｅＯ_２
（ｎ＝１．９５）、Ｓｂ _２Ｏ_５（ｎ＝１．７１）、Ｓｎ
Ｏ_２（ｎ＝１．９５）、ＩＴＯ（ｎ＝１．９５）、Ｙ_２
Ｏ_３（ｎ＝１．８７）、Ｌａ_２Ｏ_３（ｎ＝１．９５）、
ＺｒＯ_２（ｎ＝２．０５）、Ａｌ_２Ｏ_３（ｎ＝１．６
３）、ＨｆＯ_２（ｎ＝２．０）、Ｔａ_２Ｏ_５等が挙げら
れる。これらのフィラーは単独または混合して使用さ
れ、有機溶媒または水に分散したコロイド状になったも
のが用いられる。特に、メタノール、エタノール、イソ
プロピルアルコール、メチルエチルケトン、メチルイソ
ブチルケトン、シクロヘキサン等の有機溶媒に分散され
たオルガノゾルが、ハードコート層に用いる樹脂に対す
る分散性の点において良好であり、その粒径としては、
１〜１００ｎｍ、塗膜の透明性から好ましくは、５〜２
０ｎｍであることが望ましい。また、バインダー樹脂に
対するフィラーの含有量は、７０％以下が好ましい。フ
ィラーの含有量増加に伴い、ハードコート層の耐摩耗
性、耐薬品性等の耐久性が低下する。よって、含有量は
可能な限り少なくすることが好ましい。

【００３１】本発明において、透明基体の片面または両
面に、直接または他の層を介してハードコート層を設け
る方法としては、上記で述べた樹脂中に、必要に応じて
フィラーや水または有機溶媒を混合し、これをペイント
シェーカー、サンドミル、パールミル、ボールミル、ア
トライター、ロールミル、高速インペラー分散機、ジェ
ットミル、高速衝撃ミル、超音波分散機等によって分散
して塗料またはインキとし、これをエアドクターコーテ
ィング、ブレードコーティング、ナイフコーティング、
リバースコーティング、トランスファロールコーティン
グ、グラビアロールコーティング、キスコーティング、
キャストコーティング、スプレーコーティング、スロッ
トオリフィスコーティング、カレンダーコーティング、
電着コーティング、ディップコーティング、ダイコーテ
ィング等のコーティングやフレキソ印刷等の凸版印刷、
ダイレクトグラビア印刷、オフセットグラビア印刷等の
凹版印刷、オフセット印刷等の平版印刷、スクリーン印
刷等の孔版印刷等の印刷手法により透明基体の片面また
は両面上に単層もしくは多層に分けて設け、溶媒を含ん
でいる場合は、熱乾燥工程を経て、熱またはエネルギー
線（紫外線の場合、光重合開始剤が必要）照射等により
塗工層もしくは印刷層を硬化させることによって得る方
法が挙げられる。なお、放射線が電子線による場合は、
コックロフトワルトン型、バンデグラフ型、共振変圧
型、絶縁コア変圧器型、直線型、ダイナミトロン型、高
周波型等の各種電子線加速器から放出される５０〜１０
００ＫｅＶのエネルギーを有する電子線等が使用され、
紫外線の場合は、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、低圧水銀
灯、カーボンアーク、キセノンアーク、メタルハライド
ランプ等の光線から発する紫外線等が利用できる。

【００３２】塗料、インクの塗工適性または印刷適性を
向上させるために、必要に応じ、シリコーンオイル等の
レベリング剤、ポリエチレンワックス、カルナウバワッ
クス、高級アルコール、ビスアマイド、高級脂肪酸等の
油脂、イソシアネート等の硬化剤、炭酸カルシウムやシ
リカゾル、合成雲母等０．１μｍ以下の超微粒子等の添
加剤を適宜使用することができる。また、ディスプレイ
表面に静電的に付着するホコリ等の汚れを防止するため
に帯電防止剤を添加しても良い。帯電防止剤は、上述の
帯電防止層で説明した材料がそのまま適用できる。

【００３３】上記のようにして形成されるハードコート
層は、その屈折率が１．５５〜１．７５の範囲となるよ
うにすることが好ましい。また、ハードコート層の厚さ
は１〜１０μｍの範囲が、好ましくは１〜５μｍの範囲
が良い。ハードコート層が１μｍより薄い場合は、ハー
ドコート層の耐摩耗性が劣化したり、紫外線硬化型樹脂
を使用した場合など、酸素阻害により硬化不良を起こ
す。１０μｍより厚い場合は、樹脂の硬化収縮によりカ
ールが発生したり、ハードコート層にマイクロクラック
が発生したり、さらに、透明基体との密着性が低下した
りする。

【００３４】Ｃ．表面層 反射防止機能を得るために、ハードコート層上に、これ
よりも屈折率の小さい表面層を設ける。以下、この表面
層について説明する。表面層の組成は特に限定されるも
のではないが、その臨界表面張力が２０ｄｙｎ／ｃｍ以
下となるように構成されることが好ましい。臨界表面張
力が２０ｄｙｎ／ｃｍより大きい場合は、表面層に付着
した汚れが取れにくくなる。また、反射防止効果を向上
させるためには、表面層の屈折率は、１．２０〜１．４
５であることが好ましい。これらの特徴を有する材料と
しては、例えば、ＬｉＦ（屈折率ｎ＝１．４）、ＭｇＦ
_２（ｎ＝１．４）、３ＮａＦ・ＡｌＦ_３（ｎ＝１．
４）、ＡｌＦ_３（ｎ＝１．４）、Ｎａ_３ＡｌＦ_６（ｎ＝
１．３３）、ＳｉＯ_２（ｎ＝１．４５）等の無機材料を
微粒子化し、アクリル系樹脂やエポキシ系樹脂等に含有
させた無機系低反射材料、フッ素系、シリコーン系の有
機化合物、熱可塑性樹脂、熱硬化型樹脂、放射線硬化型
樹脂等の有機低反射材料を挙げることができる。透明基
体が熱によるダメージを受けやすいＴＡＣ、ＰＥＴ等の
プラスチックフィルムを使用する場合は、これら表面層
の材料としては、放射線硬化型樹脂が好ましい。その中
で、特に、フッ素系の含フッ素材料が汚れ防止の点にお
いて好ましい。

【００３５】前記含フッ素材料としては、有機溶媒に溶
解し、その取り扱いが容易であるフッ化ビニリデン系共
重合体や、フルオロオレフィン／炭化水素共重合体、含
フッ素エポキシ樹脂、含フッ素エポキシアクリレート、
含フッ素シリコーン、含フッ素アルコキシシラン、さら
に、ＴＥＦＲＯＮ ＡＦ１６００（デュポン社製 屈折
率ｎ＝１．３０）、ＣＹＴＯＰ（旭硝子（株）社製 ｎ
＝１．３４）、１７ＦＭ（三菱レーヨン（株）社製 ｎ
＝１．３５）、オプスターＪＮ−７２１２（日本合成ゴ
ム（株）社製 ｎ＝１．４０）、ＬＲ２０１（日産化学
工業（株）社製ｎ＝１．３８）等を挙げることができ
る。これらは単独でも複数組み合わせて使用することも
可能である。

【００３６】また、２−（パーフルオロデシル）エチル
メタクリレート、２−（パーフルオロ−７−メチルオク
チル）エチルメタクリレート、３−（パーフルオロ−７
−メチルオクチル）−２−ヒドロキシプロピルメタクリ
レート、２−（パーフルオロ−９−メチルデシル）エチ
ルメタクリレート、３−（パーフルオロ−８−メチルデ
シル）−２−ヒドロキシプロピルメタクリレート等の含
フッ素メタクリレート、３−パーフルオロオクチル−２
−ヒドロキシプロピルアクリレート、２−（パーフルオ
ロデシル）エチルアクリレート、２−（パーフルオロ−
９−メチルデシル）エチルアクリレート等の含フッ素ア
クリレート、３−パーフルオロデシル−１，２−エポキ
シプロパン、３−（パーフルオロ−９−メチルデシル）
−１，２−エポキシプロパン等のエポキサイド、エポキ
シアクリレート等の放射線硬化型の含フッ素モノマー、
オリゴマー、プレポリマー等を挙げることができる。こ
れらは単独もしくは複数種類混合して使用することも可
能である。

【００３７】しかしながら、これらは耐汚染性には優れ
ているが、ヌレ性が悪いため、組成によってはハードコ
ート層上で表面層をはじくという問題や、表面層がハー
ドコート層から剥がれるという問題が生じるおそれがあ
るため、放射線硬化型樹脂として用いられるアクリロイ
ル基、メタクリロイル基、アクリロイルオキシ基、メタ
クリロイルオキシ基等重合性不飽和結合を有するモノマ
ー、オリゴマー、プレポリマーを適宜混合し、使用する
ことが望ましい。

【００３８】さらに、５〜３０ｎｍのシリカ超微粒子を
水もしくは有機溶媒に分散したゾルとフッ素系の皮膜形
成剤を混合した低反射材料を使用することもできる。該
５〜３０ｎｍのシリカ超微粒子を水もしくは有機溶媒に
分散したゾルは、ケイ酸アルカリ塩中のアルカリ金属イ
オンをイオン交換等で脱アルカリする方法や、ケイ酸ア
ルカリ塩を鉱酸で中和する方法等で知られた活性ケイ酸
を縮合して得られる公知のシリカゾル、アルコキシシラ
ンを有機溶媒中で塩基性触媒の存在下に加水分解と縮合
することにより得られる公知のシリカゾル、さらには上
記の水性シリカゾル中の水を蒸留法等により有機溶媒に
置換することにより得られる有機溶媒系のシリカゾル
（オルガノシリカゾル）が用いられる。これらのシリカ
ゾルは水系および有機溶媒系のどちらでも使用すること
ができる。有機溶媒系シリカゾルの製造に際し、完全に
水を有機溶媒に置換する必要はない。上記シリカゾルは
ＳｉＯ_２として０．５〜５０重量％濃度の固形分を含有
する。シリカゾル中のシリカ超微粒子の構造は球状、針
状、板状等様々なものが使用可能である。

【００３９】皮膜形成剤としては、アルコキシシラン、
金属アルコキシドや金属塩の加水分解物や、ポリシロキ
サンをフッ素変性したものなどを用いることができる。
上記のような皮膜形成剤を用いることにより、表面層の
臨界表面張力が低下して油分の付着を抑制することがで
きる。

【００４０】また、ディスプレイ表面に静電的に付着す
るホコリ等の汚れを防止するために帯電防止剤を表面層
に添加したり、もしくは表面層上に帯電防止層を設けて
も良い。前記帯電防止層の厚さは、反射防止効果に影響
しない光学膜厚が望ましい。好ましくは１０ｎｍ以下が
望ましい。なお、帯電防止剤は、前述の帯電防止層で説
明した材料がそのまま適用できる。

【００４１】本発明において表面層は、上記で述べた低
屈折率材料を用い、ロールコーティングや印刷等による
ウェットコーティング法や、真空蒸着、スパッタリン
グ、プラズマＣＶＤ、イオンプレーティング等による気
相法により、ハードコート層上に設けられる。ウェット
コーティング法で設ける場合は、塗工適性または印刷適
性を向上させるために、必要に応じ、シリコーンオイル
等のレベリング剤、ポリエチレンワックス、カルナバワ
ックス、高級アルコール、ビスアマイド、高級脂肪酸等
の油脂、イソシアネート等の硬化剤、炭酸カルシウムや
シリカゾル、合成雲母等０．０５μｍ以下の超微粒子等
の添加剤を適宜使用することができる。

【００４２】表面層が良好な反射防止機能を発揮するた
めの厚さについては、公知の計算式で算出することがで
きる。公知の文献（サイエンスライブラリ、物理学９
「光学」７０〜７２頁）によれば、入射光が表面層に垂
直に入射する場合に、表面層が光を反射せず、かつ１０
０％透過するための条件は次の関係式を満たせば良いと
されている。なお、式中Ｎ_０は表面層の屈折率、Ｎｓは
ハードコート層の屈折率、ｈは表面層の厚さ、λ_０は光
の波長を示す。

【００４３】

【数１】Ｎ_０＝Ｎｓ^１／２ 式（１） Ｎ_０ｈ＝λ_０／４ 式（２）

【００４４】上記（１）式によれば、光の反射を１００
％防止するためには、表面層の屈折率が下層（ハードコ
ート層）の屈折率の平方根になるような材料を選択すれ
ばよいことが分かる。ただし、実際は、この数式を完全
に満たす材料は見出し難く、限りなく近い材料を選択す
ることになる。上記（２）式では（１）式で選択した表
面層の屈折率と、光の波長から表面層の反射防止膜とし
ての最適な厚さが計算される。例えば、ハードコート
層、表面層の屈折率をそれぞれ１．５０、１．３８、光
の波長を５５０ｎｍ（視感度の基準）とし、これらの値
を上記（２）式に代入すると、表面層の厚さは０．１μ
ｍ前後の光学膜厚、好ましくは０．１０±０．０１μｍ
の範囲が最適であると計算される。このように、表面層
は極めて薄く、そして極めて均一に設ける必要がある
（厚さの面内バラツキはハードコート層との干渉によ
り、色ムラになる）。よって、表面層を設ける方法とし
ては、気相法が好ましい。

【００４５】本発明における表面層は、上記のような組
成を有する単層でも良いが、多層化して形成しても良
い。すなわち、多層の場合は、高屈折率層上に低屈折率
層を設けた組合せをハードコート層上もしくは上記単層
の表面層、つまり低屈折率層上に１組または複数積層し
た構成とすることができる。

【００４６】（２）偏光フィルムの内容 上記構成の反射防止材料の透明基体のハードコート層お
よび表面層が設けられていない他方の面に、偏光基体を
介して保護材を積層することにより、偏光フィルムを構
成することができる。以下、本発明の偏光フィルムの詳
細について説明する。

【００４７】Ａ．偏光基体 偏光基体は、透明フィルムを形成できる材料で構成さ
れ、具体的には、ポリビニルアルコール、ポリビニレン
等が使用できる。そして、このような材料を延伸させて
フィルム化することにより偏光基体を得ることができ
る。例えば、２色性素子として沃素または染料を吸着さ
せたポリビニルアルコールを一軸延伸して得られたポリ
ビニルアルコール（ＰＶＡ)フィルムを用いることが好
ましい。偏光基体は１０〜８０μｍの厚みを有するもの
が使用される。具体的には、ＰＶＡフィルムを一軸方向
に３〜４倍程度延伸し、高次の沃素イオン中に延伸した
ＰＶＡフィルムを含浸させることにより偏光基体を得る
ことができる。

【００４８】Ｂ．保護材 上記で得られるＰＶＡフィルムは、強度等が不足してい
るため裂け易く、湿度変化に対して収縮率が大きいとい
う欠点を有していることから、偏光基体の片面に保護材
が積層される。また、反射防止材料の透明基体も偏光基
体の他方の面に貼り合わせられて保護材と同じ機能を奏
する。保護材および透明基体は、偏光基体の両面に、ポ
リエステル系接着剤、ポリアクリル系接着剤、ポリウレ
タン系接着剤、ポリ酢酸ビニル系接着剤等により接着さ
れる。

【００４９】保護材としては、透明な高分子化合物のフ
ィルム、例えば、トリアセチルセルロース等のセルロー
ス系フィルム、ポリエステルフィルム、ポリカーボネー
トフィルム等を使用することができる。その中でも特に
トリアセチルセルロースが好ましい。該フィルムの厚さ
は１０〜２０００μｍが好ましい。また、これらのフィ
ルムには特にほう酸等のゲル化剤を使用したり、熱処理
やホルマール化を行うことによって、フィルムの耐水性
を向上させることが好ましい。また、偏光基体との密着
性を向上させるために、偏光基体との接着面の表面エネ
ルギーが５０ｄｙｎ／ｃｍ以上になるように、けん化処
理やコロナ処理等の表面処理を行うことが好ましい。

【００５０】以下図面を用いて、本発明の反射防止材料
と偏光フィルムをさらに詳細に説明する。図１は、本発
明の反射防止材料の構成を示す概略断面図であり、反射
防止材料１０は、透明基体１１の片面上にハードコート
層１２を有する構成である。なお、ハードコート層１２
の表面には表面層が形成されているが、表面層は極めて
薄いために図示を省略している（以下においても同
じ）。図２は、本発明の偏光フィルム２０の構成を示す
概略断面図であり、偏光基体２４の片面に、透明基体２
１上にハードコート層２２を有する反射防止材料２３が
設けられ、偏光基体２４の他の面に保護材２５が設けら
れていることを示している。

【００５１】図３は本発明の反射防止材料により反射防
止性を改善した液晶表示体３０の構成を示すものであ
る。この液晶表示体３０は、上面の液晶パネル３１と下
面の導光板装置（ＥＬ）やランプ等の背面光源３２とを
積層して形成されている。液晶パネル３１には、例え
ば、ツイステッドネマチック（ＴＮ）液晶セルなどが使
用可能である。

【００５２】ＴＮ液晶セルは、所望のパターンからなる
透明電極付きの２枚のガラス基板３３、３４の透明電極
面３３’、および３４’上に、ポリイミドの溶液を塗布
して配向膜を形成し、これをラビング操作により配向さ
せ、その後、このガラス基板３３、３４間にネマチック
液晶３５を注入し、ガラス基板３３、３４周辺部をエポ
キシ樹脂等で封着することにより形成される。このネマ
チック液晶は、配向膜の作用により９０゜捻れ配向す
る。このＴＮ液晶セルの２枚のガラス基板の背面光源と
は反対側には、図２に示されるハードコート層２２を有
する反射防止材料２３と保護材２５とで偏光基体２４の
両面を保護された偏光フィルム３６を、また、その背面
光源側には、ハードコート層のない偏光フィルム３７
を、偏光角度が互いに９０゜捻れるように貼ることで液
晶パネル３１が形成される。

【００５３】上記ＴＮ液晶パネル３１の透明電極に駆動
信号を印加すると信号が印加された電極間には電界が発
生する。その際、液晶分子の持つ電子的異方性により、
液晶分子の長軸が電界方向と平行になるため、液晶分子
による光の旋光性が失われることとなり、その結果、液
晶パネルには光が透過しない状態となる。画像の表示は
この時の光透過の差に基づくコントラストにより視覚情
報として認識される。上記液晶表示体３０においては、
液晶パネル３１に光を透過させ、液晶パネル３１の光の
透過する部分と透過しない部分にコントラストを持たせ
ることにより画像表示を可能とするものである。

【００５４】図４は、本発明の反射防止材料１０を使用
した他の液晶表示体の構成を示す断面図である。図４に
おいて、液晶パネル４１は、２枚のガラス基板４３、４
４およびその間に介在するネマチック液晶４５と、ガラ
ス基板４３、４４の外側に位置するハードコート層を有
しない上部の偏光フィルム４６、ハードコート層を有し
ない下部の偏光フィルム４７および該上部の偏光フィル
ム４６の上に積層された反射防止材料１０より構成され
ている。また、液晶表示体４０は、液晶パネル４１とそ
の下面に位置する背面光源３２を積層して形成されてい
る。

【００５５】

【実施例】本発明を実施例によってさらに詳細に説明す
る。なお、以下の説明において「部」は「重量部」を意
味するものとする。 ［Ａ成分の合成例］ 合成例Ａ−１ ビスフェノキシエタノールフルオレン（大阪ガスケミカ
ル（株）社製、商品名ＢＰＥＦ）６００ｇ、アクリル酸
２５８ｇ、ｐ−トルエンスルホン酸３０ｇ、トルエン１
３５０ｇ、ハイドロキノンモノメチルエーテル１ｇ、お
よびハイドロキノン０．０３ｇを混合し、１００〜１１
５℃で還流しながら理論脱水量を得るまで脱水エステル
化反応を行った。その後、反応液をアルカリ中和し、１
０％食塩水で洗浄を行った。洗浄後トルエン除去し、ジ
アクリレート（Ａ−１）を得た。

【００５６】合成例Ａ−２ ビスヒドロキシフェニルフルオレン３５０ｇ、エピクロ
ルヒドリン５００ｇ、およびトリエチルベンジルアンモ
ニウムクロライド１０ｇを混合し、還流下５０％苛性ソ
ーダ水溶液１６０ｇを滴下し、留出水を系外に除去しな
がら約３時間反応した。次に、水３００ｇを添加し、静
置後有機層を分別した後、ｐＨが５になるように酢酸で
調整し、その後、水３００ｇで２回水洗した。濃縮して
残存する水分とエピクロルヒドリンを除去した。この生
成物のエポキシ当量は２７０であった。ここにトルエン
８０ｇ、ハイドロキノンモノメチルエーテル０．５ｇ、
およびアクリル酸９５ｇを添加し、１００℃に加熱し、
約１５時間反応した。樹脂酸化５ｍｇＫＯＨ／ｇ、エポ
キシ当量７５００、固形分８５％のジアクリレート（Ａ
−２）溶液を得た。

【００５７】［Ｂ成分の合成例］ 合成例Ｂ−１ ペンタエリスリトールトリアクリレートとペンタエリス
リトールテトラアクリレートの混合物（水酸基価１２０
ｍｇＫＯＨ／ｇ、以下ＰＥＴＡと示す）９４０ｇ、ヘキ
サメチレンジイソシアネート（以下ＨＤＩと示す）１６
８ｇ、およびジブチル錫ジラウレート（以下ＤＢＴＬと
示す）数滴を混合し、８０℃に加熱して反応を約５時間
行い、ウレタンアクリレート（Ｂ−１）を得た。

【００５８】合成例Ｂ−２ ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタ
エリスリトールヘキサアクリレートの混合物（水酸基価
５３ｍｇＫＯＨ／ｇ、以下ＤＰＰＡと示す）２２００
ｇ、ＨＤＩ１６８ｇ、およびＤＢＴＬ数滴を混合し、８
０℃に加熱して反応を約７時間行い、ウレタンアクリレ
ート（Ｂ−２）を得た。

【００５９】合成例Ｂ−３ ＨＤＩ１６８ｇの代わりに２，４−トリレンジイソシア
ネート１７４ｇを用いる以外は合成例Ｂ−１と同様にし
て合成を行い、ウレタンアクリレート（Ｂ−３）を得
た。

【００６０】合成例Ｂ−４ ＨＤＩ１６８ｇの代わりに４，４’−ジフェニルメタン
ジイソシアネート（以下ＭＤＩと示す）２５０ｇを用い
る以外は合成例Ｂ−１と同様にして合成を行い、ウレタ
ンアクリレート（Ｂ−４）を得た。

【００６１】合成例Ｂ−５ ＨＤＩ１６８ｇの代わりにキシリレンジイソシアネート
１８８ｇを用いる以外は合成例Ｂ−１と同様にして合成
を行い、ウレタンアクリレート（Ｂ−５）を得た。

【００６２】合成例Ｂ−６ ＤＰＰＡ３２００ｇ、イソホロンジイソシアネートのヌ
レート化物６６６ｇ、およびＤＢＴＬ数滴を混合し、８
０℃に加熱して反応を約７時間行い、ウレタンアクリレ
ート（Ｂ−６）を得た。

【００６３】合成例Ｂ−７ ビスフェノキシエタノールフルオレン４３８ｇ、ＭＤＩ
５００ｇ、およびＤＢＴＬ数滴を混合し、８０℃に加熱
して、反応を約３時間行い、次に、ＤＰＰＡ２３５０ｇ
を添加し、８０℃で反応を約６時間行い、ウレタンアク
リレート（Ｂ−７）を得た。

【００６４】合成例Ｂ−８ ジメチロールプロピオン酸１３４ｇ、ＭＤＩ５００ｇ、
およびＤＢＴＬ数滴を混合し、８０℃に加熱して、反応
を約６時間行い、次に、ＰＥＴＡ１０５０ｇを添加し、
８０℃で反応を約６時間行い、ウレタンアクリレート
（Ｂ−８）を得た。

【００６５】＜実施例１＞ まず、下記分散液の配合よりなる混合物をサンドミルに
て３０分間分散することによって得られた分散液と、下
記配合からなるハードコート層用ベース塗料をディスパ
ーにて１５分間攪拌、混合した塗料を、膜厚８０μｍ、
透過率９２％、屈折率１．４９からなる透明基体である
トリアセチルセルロース（商品名：フジタック、富士写
真フィルム社製）の片面上に、リバースコーティング方
式にて塗布し、１００℃で２分間乾燥後、出力１２０ｗ
／ｃｍの集光型高圧水銀灯１灯を用いて、照射距離（ラ
ンプ中心から塗工面までの距離）１０ｃｍ、処理速度
（塗工基体側の水銀灯に対する速度）５ｍ／分で紫外線
照射を行い、塗工膜を硬化させた。このようにして、厚
さ５μｍ、屈折率１．６５のハードコート層を形成し
た。次に、表面層用の塗料として、含フッ素シリカゾル
ＬＲ２０１（全固形分濃度；４％、溶媒；エタノール／
ブチルセロソルブ＝５０／５０、日産化学工業（株）社
製）を用い、上記ハードコート層上にスピンコーティン
グにより塗布し、１００℃で１分間乾燥後、１２０℃で
６時間熱キュアーし、厚さ０．１μｍ、屈折率１．３
８、臨界表面張力１６ｄｙｎ／ｃｍの表面層を形成し、
反射率０．８％の本発明の反射防止材料を得た。

【００６６】 [分散液の配合] ・アンチモンティンオキサイド（ＡＴＯ）（１次粒子径１０ｎｍ） ３０部 ・分散剤（商品名：Ａ−１４７、日本ユニカー（株）社製） ３部 ・メチルエチルケトン ４０部 ・メチルイソブチルケトン ６０部

【００６７】 [ハードコート層用ベース塗料の配合] ・Ａ−１ ４９部 ・Ｂ−１ ２１部 ・光重合開始剤（商品名：イルガキュア１８４、チバガイギー社製） ５部 ・イソプロピルアルコール ８０部

【００６８】＜実施例２〜１３、比較例１＞ハードコー
ト層用ベース塗料の共重合成分組成を表１に記載の配合
に変更した以外は実施例１と同様にして、本発明の実施
例２〜１３および比較例１の反射防止材料を得た。な
お、ＡおよびＢ成分以外のＣ成分として、ＤＰＰＡまた
はＰＰＥＡを添加したものもある。ここで、ＤＰＰＡ
は、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペ
ンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物（水酸
基価５３ｍｇＫＯＨ／ｇ）、ＰＰＥＡは、フェニルフェ
ノキシエタノールアクリレートを示す。

【００６９】＜実施例１４＞下記配合の表面層用塗料を
用いた以外は、実施例１と同様にして、本発明の反射防
止材料を得た。 [表面層用塗料の配合] ・シリカゾル （粒子径１５ｎｍでＳｉＯ_２として３０重量％のシリカ超微粒子を含有するエタ ノール分散液） １０部 ・皮膜形成剤 テトラエトキシシランの加水分解物 （ＳｉＯ_２として計算して固形分６％） １５部 ・溶媒 エタノール ５３部

【００７０】＜比較例２＞表面層を設けない以外は実施
例１と同様にして、比較用の反射防止材料を得た。 ＜比較例３＞ハードコート層を設けない以外は実施例１
と同様にして、比較用の反射防止材料を得た。 ＜比較例４＞比較例１において、ハードコート層用塗料
として分散液を用いずにベース塗料のみを用いて（樹脂
のみでＡＴＯなし）、ハードコート層を形成した以外は
比較例１と同様にして、比較用の反射防止材料を得た。

【００７１】実施例１〜１４、比較例１〜４で得られた
反射防止材料１０を用い、反射率、耐摩耗性、耐薬品
性、臨界表面張力、耐汚染性を下記方法により測定、評
価した。さらに、実施例１〜１４、比較例１〜４の各反
射防止材料１０を用い、図２に示される構成のハードコ
ート層付偏光フィルム２０を作製した。次いで、上記ハ
ードコート層付偏光フィルム２０を図３に示すようにガ
ラス基板３３に貼り付け、液晶表示体３０を得た。この
ようにして作製した実施例１〜１４、比較例１〜４の各
液晶表示体３０を用いて、画像コントラストを下記方法
により評価した。なお、これらの各液晶表示体３０の画
像サイズは、例えば１０．４インチとし、解像度は、例
えば８００×６００ドットとして、画像コントラストの
評価を行った。

【００７２】反射率は分光光度計ＵＶ３１００（島津製
作所社製）を使用し、波長領域４００〜７００ｎｍの範
囲の５゜の正反射を測定し、ＪＩＳ Ｚ８７０１に従っ
て視感度補正したＹ値で表した。なお、測定は非測定面
を黒マジックで完全に黒塗りした状態で行った。反射防
止性は、１％以下が特に良好で、４％を越えるとかなり
悪くなる。

【００７３】耐摩耗性は日本スチールウール社製のスチ
ールウール＃００００を板紙耐摩耗試験機（熊谷理機工
業社製）に取り付け、反射防止材料の表面層面を荷重２
００ｇにて５０回往復させる。その後、その部分のＨＡ
ＺＥ値の変化δＨ（下記計算に基づく）を東洋精機社製
ＨＡＺＥメーターで測定した。耐摩耗性はδＨが１．５
以下で良好で、５を越えると傷が多くなり、実用上問題
となる。ＨＡＺＥ値の測定は反射防止材料単体で行っ
た。 ＨＡＺＥ値変化δＨ＝試験後のＨＡＺＥ値−試験前のＨ
ＡＺＥ値

【００７４】耐薬品性は、イソプロピルアルコールを含
ませた綿棒（ジョンソン社製）で表面層面を５０往復擦
った後に、ハードコート層に剥がれ等著しい変化があっ
た場合を×、変化がない場合を○、その中間を△として
評価した。

【００７５】臨界表面張力はウィル・ヘルミー法により
反射防止材料の表面層の水とヨウ化メチレンに対する接
触角を測定し、コーティングの基礎科学（原崎 勇次著
槇書店発行）ｐ１７０〜１７１記載の次式に代入、Ｚ
ｉｓｍａｍプロットから、ＣＯＳθ−１に外挿したγ
_ＬＶ゜の値から求めた。 ＣＯＳθ＝１＋ｂ（γ_ｃ−γ_ＬＶ゜） ただし、γ
_ＬＶ゜≧γ_ｃ θ：固／液の接触角、γ_ＬＶ゜：液体の表面張力、
γ_ｃ：臨界表面張力、ｂ：定数

【００７６】耐汚染性は、表面層面に菜種油をスポイト
で１滴、滴下した後、滴下した菜種油をリグロインを含
ませた旭化成社製のベンコットで２０往復ラビングす
る。さらにその後、拭き取った面のＳＥＭ写真を撮影
し、面の傷やベンコットの繊維の付着の有無を確認し
た。ハードコート層に傷やベンコットの繊維の付着が顕
著に認められる場合を×、全く変化がない場合を○、そ
の中間を△とした。

【００７７】画面コントラストはＪＩＳ Ｃ７０７２ １
９８８に於ける液晶表示パネルのコントラスト比（Ｃ
Ｒ）測定方法に準拠し、評価した。画像コントラストの
評価における光源６０−液晶パネル６１−測光器６２の
位置関係を図５に示す。この場合、光源６０と液晶パネ
ル６１との間は、例えば１ｃｍ、液晶パネル６１と測光
器６２との間は、例えば５０ｃｍ、測光器の開口角は、
例えば５゜に設定した。なお、光源には５ＷのＥＬを使
用し、測光器にはミノルタカメラ社製のＬＳ−１００を
使用した。ＣＲが４以上の場合を◎、同３以上４未満の
場合を○、同２以上３未満の場合を△、同２未満を×と
した。以上の評価結果を表１に示す。

【００７８】

【表１】

【００７９】表１の結果から明らかなように、本発明の
反射防止材料はいずれも良好な反射率および耐久性を有
し、優れた特性が得られているのに対し、比較例１〜４
の反射防止材料では、いずれも反射率に問題を有し、加
えて、比較例１および４は、コントラストが劣り、比較
例２は、耐汚染性およびコントラストが、比較例３は、
耐久性が実用に耐え得るものではなかった。

【００８０】

【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、デ
ィスプレイへの太陽光および蛍光灯等の外部光の映り込
みを防止することにより優れた反射防止性を発揮し、画
像コントラストを低下させることなく、ギラツキ等のな
い鮮明な画像を得ることができるとともに、光学的に安
定で優れた耐摩耗性、耐薬品性を示し、かつ、優れた耐
汚染性を示す反射防止材料と偏光フィルムを得ることが
できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】 本発明の反射防止材料の構成を示す概略断面
図である。

【図２】 本発明の反射防止材料を使用した偏光フィル
ムの構成を示す概略断面図である。

【図３】 反射防止材料を使用した偏光フィルムを具備
する液晶表示体の構成を示す概略断面図である。

【図４】 反射防止材料を使用した偏光フィルムを具備
する他の液晶表示体の構成を示す概略断面図である。

【図５】 画像コントラストの測定装置の配置図を示す
概略図である。

【符号の説明】

１０…反射防止材料、１１…透明基体、１２…ハードコ
ート層、２０…ハードコート層付偏光フィルム、２１…
透明基体、２２…ハードコート層、２３…第１の保護
材、２４…偏光基体、２５…第２の保護材、３０…液晶
表示体、３１…液晶パネル、３２…背面光源、３３，３
４…ガラス基板、３３’，３４’…透明電極面、３５…
ネマチック液晶、３６…偏光フィルム、４０…液晶表示
体、４１…液晶パネル、４３，４４…ガラス基板、４５
…ネマチック液晶、４６，４７…偏光フィルム、６０…
光源、６１…液晶パネル、６２…測光器

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平５−164903（ＪＰ，Ａ) 特開 平４−351674（ＪＰ，Ａ) 特開 平４−337307（ＪＰ，Ａ) 特開 平４−345608（ＪＰ，Ａ) 特開 平５−194338（ＪＰ，Ａ) 特開 平３−205417（ＪＰ，Ａ) 特開 平３−106918（ＪＰ，Ａ) 特開 平９−241340（ＪＰ，Ａ) 特開2000−147209（ＪＰ，Ａ) 特表2000−501118（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.⁷，ＤＢ名) G02B 1/10

Claims (4)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 透明基体の片面もしくは両面に、直接ま
   たは他の層を介して、ハードコート層を設け、このハー
   ドコート層の表面にハードコート層の屈折率よりも低い
   屈折率を有する表面層を設けた反射防止材料において、
   上記ハードコート層は、少なくともフルオレン骨格を有
   する（メタ）アクリレート化合物と、下記化１または２
   で表されるウレタン（メタ）アクリレート化合物とを共
   重合成分とした共重合体を含有することを特徴とする反
   射防止材料。【化１】 【化２】 式中、Ｒは多価アルコール残基、Ｒ _２は水素原子または
   ＣＨ _３、Ｘはイソシアネート残基、Ｙは多価アルコール
   残基を表す。ｋは２〜５の整数、ｌは２〜３の整数、ｍ
   は１〜２の整数、ｎは２〜６の整数を表す。
2. 【請求項２】 前記ハードコート層が屈折率１．６〜
   ２．７のフィラーを含有することを特徴とする請求項１
   に記載の反射防止材料。
3. 【請求項３】 前記表面層の臨界表面張力が２０ｄｙｎ
   ／ｃｍ以下であることを特徴とする請求項１または２に
   記載の反射防止材料。
4. 【請求項４】 請求項１〜３のいずれかに記載の反射防
   止材料の前記透明基体の前記ハードコート層および前記
   表面層が設けられていない他方の面に、偏光基体を介し
   て保護材を積層したことを特徴とする偏光フィルム。