JPH11305007A - 反射防止材料及びそれを用いた偏光フィルム - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 反射率を低減してディスプレイへの太陽光及
び蛍光灯等の外部光の映り込みを防止し、画像コントラ
ストを低下させることなく、ギラツキ等のない鮮明な画
像を得ることができ、光学的に安定で優れた耐磨耗性、
耐薬品性を示す反射防止材料を提供する。 【解決手段】 透明基体１１の片面もしくは両面に、直
接或は他の層を介してハードコート層１２を設け、この
ハードコート層１２の表面にハードコート層１２の屈折
率よりも低い屈折率を有する低屈折率層を設けた反射防
止材料であり、ハードコート層１２は、硫黄、芳香族化
合物またはハロゲンを含む樹脂の少なくともいずれか一
種を含有し、かつ、透明基体１１およびハードコート層
１２の屈折率の差が０．１以下である。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は液晶ディスプレイ（ＬＣ
Ｄ）、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、ＣＲＴ，ＥＬ
等の画像表示体等に好適に用いられ、特に、画像部の防
汚性、反射防止、耐薬品性、耐磨耗性に優れ、とりわけ
反射防止性に優れた反射防止材料及びそれを使用した偏
光フィルムに関するものである。

【０００２】

【従来の技術】ＬＣＤ、ＰＤＰ、ＣＲＴ、ＥＬに代表さ
れる画像表示装置（以下、これを「ディスプレイ」とい
う。）は、テレビやコンピューターを始めとして、様々
な分野で繁用されており、目覚ましい発展を遂げてい
る。このディスプレイの開発は、当初においてはカラー
化が開発のキーワードであったが、最近はハイビジョン
がキーワードのひとつになり、画像の高精細化、高画質
化、さらには低消費電力化等へ努力が傾注されている。
マン−マシンインターフェイスの重要な役割を担うこれ
らディスプレイは今後、マルチメディア時代の到来と共
に一層の普及が予想され、特に、携帯電話、ＰＨＳ、そ
の他各種携帯端末用としての普及が著しく拡大するもの
と予測される。

【０００３】携帯端末用ディスプレイとしては、軽量、
コンパクト、汎用性等の特徴を有するＬＣＤが市場を独
占するものと考えられているが、これらの携帯端末には
タッチパネルを搭載し、プラスチックのペンや指で直接
触れて操作するものが主流になってきている。そのた
め、ディスプレイ表面への耐磨耗性、耐薬品性、汚れ防
止に対する要求が高まっている。また、これらの機器を
屋外での使用も含めた比較的明るいところで使用する場
合の太陽光や蛍光等の外部光のディスプレイへの映り込
みを防止すること、すなわち反射防止に対する要求も強
くなっている。これらの要求は、現在、携帯端末機器に
限らず、小型から大型に至る様々なディスプレイに波及
している。

【０００４】反射防止に関しては、従来、磨りガラスの
ように、光を散乱もしくは拡散させて像をボカス手法が
一般的に行われている。光を散乱もしくは拡散させるた
めには、光の入射面を粗面化することが基本となってお
り、この粗面化処理には、サンドブラスト法やエンボス
法等により基材表面を直接粗面化する方法、基材表面に
フィラーを含有させたハードコート層を設ける方法及び
基材表面に海島構造による多孔質膜を形成する方法等が
採用されている。

【０００５】基材表面にフィラーを含有させたハードコ
ート層を設ける方法は、フィラーの粒径により粗面化面
の凹凸の大きさを比較的容易にコントロールでき、かつ
製造が容易である等の利点から、現在、好んで用いられ
ている。塗工剤に使用する樹脂としては、透過性、耐熱
性、耐磨耗性、耐薬品性等に優れたものが望ましいが、
基材が耐熱性に乏しい高透明なプラスチックフィルムで
ある場合が多いことから、ＵＶ硬化型樹脂が好んで使用
されている。その例として、ＵＶ硬化型樹脂とシリカ顔
料を構成要素とする特開平１−１０５７３８や特開平５
−１６２２６１などが報告されている。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】ところで、基材の材料
としては、ポリエチレンテレフタレートやポリカーボネ
ートが用いられることがあるが、これらはいずれも１．
６５程度という高い屈折率を有している。ところが、従
来の反射防止材料のハードコート層に用いられている樹
脂は、ＵＶ硬化型、ＥＢ硬化型あるいは熱硬化型の樹脂
にしろそのほとんどがアクリレート系樹脂であり、屈折
率は１．５０〜１．５５程度である。このように、基材
の屈折率の方がハードコート層の屈折率よりも高いた
め、それらの界面で入射光の一部が反射して反射率が上
昇するという問題があった。さらに、基材とハードコー
ト層の反射率が異なるために、それらの界面で入射光が
干渉し、その結果、反射率が入射光のスペクトルに応じ
て波打つように変化する。つまり、入射光のスペクトル
によっては反射率の高い部分が生じるため、反射防止効
果が実質的に損なわれていた。

【０００７】また、上記提案によるシリカ顔料は、吸油
性が高いために、ハードコート層とした場合は、指紋等
の油分を吸収し易くなるため、汚れやすいという欠点を
有していた。さらに、この汚れはアルコールなどの溶媒
を染み込ませた布で拭いても取れにくい上に、シリカが
ハードコート層表面に鋭利に突き出た構成を呈している
ため、突き出たシリカの先端部に拭き取った布の繊維が
付着し、白くなってディスプレイの画像コントラストが
低下するという問題があった。

【０００８】反射を防止する他の方法としては、屈折率
の高い材料と低い材料を交互に積層し、多層化（マルチ
コート）することで、表面の反射が抑えられ、良好な反
射防止効果を得ることが知られている。通常、ＳｉＯ_２
に代表される低屈折率材料と、ＴｉＯ_２、ＺｒＯ_２等の
高屈折率材料を交互に蒸着等により成膜する気相法や、
ゾルゲル法等により形成される。これらの層をシリカを
含有する上記ハードコート層上に設ける提案もなされて
いるが、このような技術においても汚れが拭き取りにく
いという上記と同様の問題を抱えていた。その原因は、
シリカがハードコート層の表面から鋭利に突き出ている
ため、その形状に倣ってマルチコート層の低屈折率層の
凹凸もシャープとなるために上述したと同じ問題が生じ
るとともに、シリカの粒子の一部が低屈折率層を突き抜
けて指紋等の油分を吸収し易くなるためである。

【０００９】しかも、上述のマルチコートは、蒸着等の
気相法による場合には、大面積の加工に不向きで、加工
装置が高いこと、ゾルゲル法による場合は、塗布、焼成
を繰り返すこと等の理由から製造コストがかかり経済性
に問題がある上、表面が紫や緑系統の色を呈しているた
め、マルチコートがないものより汚れが目立つことが大
きな問題となっていた。一方、このような汚れの発生を
防止するために、上記ハードコート層上にフッ素系材料
をコーティング等により設ける提案もなされているが、
ハードコート層の影響が大きく問題を解決するには至っ
ていない。

【００１０】また、ディスプレイの解像度が向上するに
伴い、上記ハードコート層の凹凸の高さや間隔にも緻密
化が要求されるようになってきた。画像の高精細化は、
主に画像ドットの高密度化によるが、凹凸の間隔がこの
画像ドットのピッチより小さい場合は良いが、大きい場
合は干渉によるギラツキが発生する。反射防止性が良好
で、ギラツキがない鮮明な画像を得るためには、まず、
この凹凸の高さ及び間隔を、小さくかつバラツキがない
ようコントロールしなければならない。

【００１１】しかしながら、ＵＶ硬化型樹脂とシリカ顔
料からなるハードコート層の分散性は必ずしも十分とは
いえない上に、ＵＶ硬化を行うまでのハードコート層
は、低粘度の液状態を呈しているため、塗料を基材に塗
布してからＵＶを照射するまでの間に、ハードコート層
中のフィラーどうしが互いに付着し、凝集（オレンジピ
ール）するという問題を有していた。特に、ハードコー
ト層表面の凹凸を緻密化する目的でフィラーの含有量を
増加させたり、ハードコート層の厚さをコントロールす
るためにハードコート層の塗料を溶剤等で希釈する場合
は特に顕著であった。

【００１２】本発明は、従来技術における上記した実情
に鑑みてなされたもので、反射率を低減してディスプレ
イへの太陽光及び蛍光灯等の外部光の映り込みを防止
し、画像コントラストを低下させることなく、ギラツキ
等のない鮮明な画像を得ることができ、光学的に安定で
優れた耐磨耗性、耐薬品性を示すことは勿論のこと、優
れた耐汚染性を示す反射防止材料を提供することを目的
としている。また、本発明は、上記反射防止材料を使用
した偏光フィルムを提供することも目的としており、こ
れにより、特に、フルカラー液晶ディスプレイ等の性能
を大幅に向上させることを目的としている。

【００１３】

【課題を解決するための手段】（１）反射防止材料の内
容 本発明者は、透明基体とハードコート層の界面での入射
光の反射と干渉を抑制して低屈折率層の良好な反射防止
機能を達成するために、ハードコート層の屈折率を高め
ることを検討した。そのために、ハードコート層に、硫
黄、芳香族化合物またはハロゲンを含む樹脂の少なくと
もいずれか一種を含有させた。また、透明基体とハード
コート層の屈折率を定量的に解析した結果、両者の差が
０．１以下であれば反射防止材料の反射率を充分なレベ
ルまで低減できることを見いだした。

【００１４】本発明は上記知見に基づいてなされたもの
で、透明基体の片面もしくは両面に、直接或は他の層を
介してハードコート層を設け、このハードコート層の表
面にハードコート層の屈折率よりも低い屈折率を有する
低屈折率層を設けた反射防止材料において、ハードコー
ト層に、硫黄、芳香族化合物またはハロゲンを含む樹脂
の少なくともいずれか一種を含有させ、かつ、透明基体
およびハードコート層の屈折率の差を０．１以下、好ま
しくは０．０５以下としたことを特徴としている。

【００１５】上記構成の反射防止材料にあっては、ハー
ドコート層の屈折率を高めることができるので、低屈折
率層との屈折率の差を容易に適切に設定することができ
ると共に、ハードコート層の屈折率を透明基体の屈折率
に近づけることができる。そして、透明基体とハードコ
ート層の屈折率の差を０．１以下としているので、両者
の界面での入射光の反射と干渉が抑制され、ディスプレ
イへの外部光の写り込みを防止することができる。本発
明者の検討によれば、屈折率の差が０．０５以下である
と極めて良好な結果が得られることが明らかにされてい
る。また、ハードコート層の屈折率を低屈折率層の屈折
率に対して高くすることができるので、反射防止効果を
さらに高めることが可能となる。

【００１６】すなわち、公知の文献（サイエンスライブ
ラリ、物理学９「光学」７０〜７２頁）によれば、入射
光が低屈折率層に垂直に入射する場合に、低屈折率層が
光を反射せず、かつ１００％透過するための条件は次の
関係式を満たせば良いとされている。なお、式中Ｎ_０は
低屈折率層の屈折率、Ｎ_ｓはハードコート層の屈折率、
ｈは低屈折率層の厚さ、λ_０は光の波長を示す。

【００１７】

【数１】Ｎ_０＝Ｎ_ｓ ^１／２ 式（１） Ｎ_０ｈ＝λ_０／４ 式（２）

【００１８】式（１）から明らかなように、ハードコー
ト層の屈折率は、低屈折率層の屈折率の２乗である必要
がある。たとえば、低屈折率層の屈折率が１．３０であ
れば、ハードコート層の屈折率は１．６９にする必要が
ある。この点、本発明によれば、ハードコート層にその
ような高い屈折率を付与することができるので、低屈折
率層での反射率を大幅に低減することができる。

【００１９】

【発明の実施の形態】以下、本発明のより好適な実施の
形態について詳細に説明する。Ａ．透明基体 本発明の反射防止材料に使用する透明基体としては、公
知の透明なフィルム、ガラス等を使用することができ
る。その具体例としては、ポリエチレンテレフタレート
（ＰＥＴ）、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）、ポリ
アリレート、ポリイミド、ポリエーテル、ポリカーボネ
ート、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、セロファ
ン、芳香族ポリアミド、ポリエチレン、ポリプロピレ
ン、ポリビニルアルコール等の各種樹脂フィルム及び石
英ガラス、ソーダガラス等のガラス基材等を好適に使用
することができる。低屈折率層での反射率を低減するた
めには、ハードコート層の屈折率が高い方が望ましく、
１．６〜１．７が好適である。よって、透明基体も屈折
率の高いＰＥＴ、ポリカーボネートあるいは１．６５程
度の屈折率を有するプラスチックが好適であり、とりわ
け、安価で光学的特性に優れたＰＥＴが良い。

【００２０】これら透明基体の透明性は高いもの程良好
であるが、光線透過率（ＪＩＳ Ｃ−６７１４）として
は８０％以上、より好ましくは９０％以上が良い。ま
た、その透明基体を小型軽量の液晶ディスプレイに用い
る場合には、透明基体はフィルムであることがより好ま
しい。透明基体の厚さは、軽量化の観点から薄いほうが
望ましいが、その生産性を考慮すると、１μ〜７００μ
ｍの範囲のもの、好ましくは２５〜２５０μｍを使用す
ることが好適である。

【００２１】また、本発明では、透明基体に、アルカリ
処理、コロナ処理、プラズマ処理、フッ素処理、スパッ
タ処理等の表面処理や、界面活性剤、シランカップリン
グ剤等の塗布、あるいはＳｉ蒸着などの表面改質処理を
行うことが望ましい。すなわち、本発明のような芳香族
化合物等を含有する樹脂は屈折率が高いが、そのような
樹脂をハードコート層に含有させると、樹脂が均一に分
散しないために反射率の高い部分が生じてしまう。そこ
で、上記のような表面改質処理を行うことにより、ハー
ドコート層と透明基体との密着性を向上させることがで
きるのは勿論のこと、ハードコート層に含有させた高屈
折率の樹脂を均一に分散させることができ、所望の均一
な屈折率を得ることができる。

【００２２】また、透明基体の表面には、ディスプレイ
表面に静電的に付着するホコリ等の汚れを防止するため
に帯電防止層を設けても良い。帯電防止層は、アルミ、
錫等の金属、ＩＴＯ等の金属酸化膜を蒸着、スパッタ等
で極めて薄く設ける方法、アルミ、錫等の金属微粒子や
ウイスカー、酸化錫等の金属酸化物にアンチモン等をド
ープした微粒子やウィスカー、７，７，８，８−テトラ
シアノキノジメタンと金属イオンや有機カチオンなどの
電子供与体（ドナー）との間でできた電荷移動錯体をフ
ィラー化したもの等をポリエステル樹脂、アクリル樹
脂、エポキシ樹脂等に分散し、ソルベントコーティング
等により設ける方法、ポリピロール、ポリアニリン等に
カンファースルホン酸等をドープしたものをソルベント
コーティング等により設ける方法等により設けることが
できる。帯電防止層の透過率は光学用途の場合、８０％
以上が好ましい。

【００２３】Ｂ．ハードコート層 次に本発明におけるハードコート層について説明する。
本発明のハードコート層を構成する樹脂としては、硫
黄、芳香族化合物またはハロゲンを含む樹脂の少なくと
もいずれか一種を含有する樹脂が用いられる。また、そ
のような樹脂は、ハードコート層の屈折率、硬度を調整
するために適宜組み合わせて用いられる。ハードコート
層の好適な屈折率の範囲は、１．６０〜１．７０であ
る。

【００２４】また、ハードコート層には、放射線、熱の
何れかもしくは組み合わせにより硬化する樹脂を含有さ
せることができる。放射線硬化型樹脂としては、アクリ
ロイル基、メタアクリロイル基、アクリロイルオキシ
基、メタアクリロイルオキシ基等重合性不飽和結合を有
するモノマー、オリゴマー、プレポリマーを適宜混合し
た組成物が用いられる。モノマーの例としては、スチレ
ン、アクリル酸メチル、メチルメタクリレート、メトキ
シポリエチレンメタクリレート、シクロヘキシルメタク
リレート、フェノキシエチルメタクリレート、エチレン
グリコールジメタクリレート、ジペンタエリスリトール
ヘキサアクリレート、トリメチロールプロパントリメタ
クリレート等を挙げることができる。オリゴマー、プレ
ポリマーとしては、ポリエステルアクリレート、ポリウ
レタンアクリレート、エポキシアクリレート、ポリエー
テルアクリレート、アルキットアクリレート、メラミン
アクリレート、シリコンアクリレート等のアクリレー
ト、不飽和ポリエステル、エポキシ系化合物等を挙げる
ことができる。これらは単独、もしくは複数混合して使
用しても良い。モノマーは硬化膜の可撓性が要求される
場合は少な目にし、さらに架橋密度を低くするために
は、１官能、２官能のアクリレート系モノマーを使用す
ることが好ましく、逆に、硬化膜に耐熱性、耐摩耗性、
耐溶剤性等過酷な耐久性を要求される場合は、モノマー
の量を増やし、３官能以上のアクリレート系モノマーを
使用することが好ましい。

【００２５】上記のような放射線硬化型樹脂を硬化する
には、例えば紫外線、電子線、Ｘ線などの放射線を照射
すれば良いが、必要に応じて適宜重合開始剤を添加する
ことができる。なお、紫外線により硬化させる場合は、
光重合開始剤を添加する必要がある。光重合開始剤とし
ては、ジエトキシアセトフェノン、２−ヒドロキシ−２
−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、ベンジル
ジメチルケタール、１−ヒドロキシシクロヘキシル−フ
ェニルケトン、２−メチル−２−モルホリノ（４−チオ
メチルフェニル）プロパン−１−オン等のアセトフェノ
ン類、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエ
ーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾイン
イソブチルエーテル等のベンゾインエーテル類、ベンゾ
フェノン、ｏ−ベンゾイル安息香酸メチル、４−フェニ
ルベンゾフェノン、４−ベンゾイル４’−メチル−ジフ
ェニルサルファイド、４−ベンゾイル−Ｎ，Ｎ−ジメチ
ル−Ｎ−［２−（１−オキソ−２−プロペニルオキシ）
エチル］ベンゼンメタナミニウムプロミド、（４−ベン
ゾイルベンジル）トリメチルアンモニウムクロリド等の
ベンゾフェノン類、２，４ジエチルチオキサントン、１
−クロロ−４−ジクロロチオキサントン等のチオキサン
トン類、２，４，６トリメチルベンゾイルジフェニルベ
ンゾイルオキサイド等を挙げることができる。これらは
単独もしくは複数、混合して使用することができる。ま
た、促進剤（増感剤）として、Ｎ，Ｎ−ジメチルパラト
ルイジン、４，４’−ジエチルアミノベンゾフェノン等
アミン系化合物を混合し、使用することもできる。光重
合開始剤の含有量としては、放射線硬化型樹脂に対し、
０．１〜１０重量％の範囲が良い。この範囲より多くて
も少なくても効果が悪くなる。

【００２６】本発明においては、放射線硬化型樹脂とし
て紫外線により硬化するエポキシ系化合物を用い、か
つ、光重合開始剤として、カチオン重合開始剤を少なく
とも含有していることが以下の理由により特に好まし
い。 酸素阻害が少ない。 硬化収縮が非常に少ない。 透明基体への密着性に優れている。

【００２７】前記エポキシ系化合物としては、テトラメ
チレングリコールジグリシジルエーテル、プロピレング
リコールジグリシジルエーテル、ネオペンチルグリコー
ルジグリシジルエーテル、ビスフェノールＡジグリシジ
ルエーテル等のグリシジルエーテル、２−ヒドロキシ−
３−フェノキシプロピルアクリレート、ビスフェノール
Ａ−ジエポキシ−アクリル酸付加物等のエポキシエステ
ルや、以下の化学式からなる脂環式エポキシ等のモノマ
ー及びオリゴマーをあげることができる。

【００２８】

【化１】

【００２９】光カチオン重合開始剤としては、以下の化
学式からなる化合物をあげることができる。なお、これ
ら化合物は各単体で用いても良く、複数混合で使用して
も良い。

【００３０】

【化２】

【００３１】光カチオン重合開始剤の配合量は、主剤に
対し、０．１〜５．０重量％の範囲が望ましい。この配
合量は０．１より少なくても、５．０より多くても紫外
線硬化は不十分である。

【００３２】本発明においては、上記のように放射線硬
化型樹脂として紫外線で硬化可能なエポキシ系化合物を
用い、重合開始剤として光カチオン重合開始剤を用いる
ことが好ましいが、この場合、粘度、架橋密度、耐熱
性、耐薬品性など塗料及び塗工膜の特性をコントロール
するためには、紫外線で硬化可能なアクリル系化合物を
混合することが好ましい。このようなアクリル系化合物
としては、ラウリルアクリレート、エトキシジエチレン
グリコールアクリレート、メトキシトリエチレングリコ
ールアクリレート、フェノキシエチルアクリレート、テ
トラヒドロフルフリルアクリレート、イソボルニルアク
リレート、２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒ
ドロキシプロピルアクリレート、２−ヒドロキシ−３−
フェノキシアクリレート等の単官能アクリレート、ネオ
ペンチルグリコールジアクリレート、１，６−ヘキサン
ジオールジアクリレート、トリメチロールプロパントリ
アクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレー
ト、ペンタエリスリトールジアクリレート、ジペンタエ
リスリトールヘキサアクリレート、トリメチロールプロ
パンアクリル酸安息香酸エステル、トリメチロールプロ
パン安息香酸エステル等の多官能アクリレート等のアク
リル酸誘導体、２−エチルヘキシルメタクリレート、ｎ
−ステアリルメタクリレート、シクロヘキシルメタクリ
レート、テトラヒドロフルフリルメタクリレート、２−
ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシブチル
メタアクリレート等の単官能メタクリレート、１，６−
ヘキサンジオールジメタクリレート、トリメチロールプ
ロパントリメタクリレート、グリセリンジメタクリレー
ト等の多官能メタクリレート等のメタクリル酸誘導体、
グリセリンジメタクリレートヘキサメチレンジイソシア
ネート、ペンタエリスリトールトリアクリレートヘキサ
メチレンジイソシアネート等のウレタンアクリレート等
のモノマー及びオリゴマーをあげることができる。

【００３３】前記放射線硬化型樹脂を使用したハードコ
ート層の硬化に伴う体積収縮率（下記方法より算出）
は、２０％以下が望ましい。体積収縮率が２０％より大
きくなると、透明基体がフィルムの場合はカールが著し
くなり、また基材がガラス等リジットな材料系の場合は
ハードコート層の密着性が低下する。

【００３４】

【数２】体積収縮率：Ｄ＝（Ｓ−Ｓ'）／Ｓ×１００ Ｓ：硬化前の比重 Ｓ'：硬化後の比重 （比重はＪＩＳ Ｋ−７１１２のＢ法ピクノメーター法
により測定）

【００３５】なお、本発明におけるハードコート層に
は、放射線硬化型樹脂に対し、ハイドロキノン、ｐ−ベ
ンゾキノン、ｔ−ブチルハイドロキノン等の安定化剤
（熱重合禁止剤）を添加しても良い。添加量は、放射線
硬化型樹脂に対し、０．１〜５．０重量％の範囲が好ま
しい。

【００３６】ハードコート層に使用することのできる熱
硬化型樹脂としては、フェノール樹脂、フラン樹脂、キ
シレン・ホルムアルデヒド樹脂、ケトン・ホルムアルデ
ヒド樹脂、ユリア樹脂、メラミン樹脂、アニリン樹脂、
アルキド樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂
等を挙げることができる。これらは単独もしくは複数混
合して使用しても良い。透明基体がプラスチックフィル
ムである場合は、熱硬化温度を高く設定することができ
ない。特に、ＰＥＴ、ＴＡＣを使用する場合には、使用
する熱硬化樹脂は、１００℃以下で硬化できることが望
ましい。

【００３７】ハードコート層に用いられる硬化型樹脂の
透明性は高いほど良く、光線透過率（ＪＩＳ Ｃ−６７
１４）としては、透明基体同様、８０％以上、好ましく
は９０％以上が好ましい。反射防止材料の透明性は該硬
化型樹脂の屈折率によって影響を受けるが、屈折率は、
１．４５〜１．７０の範囲、特に、１．６〜１．７０の
範囲が好ましく、この範囲を越えると反射防止効果が損
なわれる。

【００３８】ハードコート層にはフィラーを含有させ、
ハードコート層表面を粗面化することで、反射防止効果
を向上させることができる。ハードコート層を屈折率
１．６０以上にする場合には、無機系フィラーとして、
例えば、ＺｎＯ（屈折率ｎ＝１．９０）、ＴｉＯ_２（ｎ
＝２．３〜２．７）、ＣｅＯ_２（ｎ＝１．９５）、Ｓｂ
_２Ｏ_５（ｎ＝１．７１）、ＳｎＯ_２、ＩＴＯ（ｎ＝１．
９５）、Ｙ_２Ｏ_５（ｎ＝１．８７）、Ｌａ_２Ｏ５（ｎ＝
１．９５）、ＺｒＯ_２（ｎ＝２．０５）、Ａｌ_２Ｏ
_３（ｎ＝１．６３）、ＨｆＯ_２（ｎ＝２．００）、Ｔａ
_２Ｏ_５等が挙げられる。

【００３９】また、ハードコート層を屈折率１．４５〜
１．６０にする場合には、シリカ、炭酸カルシウム、水
酸化アルミニウム、水酸化マグネシウム、クレー、タル
ク等の無機系白色顔料、アクリル樹脂、ポリスチレン樹
脂、ポリエチレン樹脂、エポキシ樹脂、シリコン樹脂、
ビーズ等有機系の透明または白色顔料等をあげることが
できる。特に、球状で給油性を示さないフィラーが好ま
しく、球状のフィラーを用いることによって、ハードコ
ート層の表面から突出する部分がなだらかになり、油分
等の汚れが付着し難くなるとともに付着した汚れを拭い
易くなる。

【００４０】このようなフィラーの粒子径Ｄ（ＪＩＳ
Ｂ９９２１）は、０．５μｍ≦Ｄ≦６．０μｍの範囲の
ものが６０重量％以上、６．０μｍ＜Ｄ≦１０．０μｍ
の範囲のものが２０重量％未満、１０μｍ＜Ｄ≦１５．
０μｍの範囲のものが５重量％以下、１５．０μｍより
大きいものが１重量％以下であることが望ましい。さら
に、１５．０μｍより大きい粒子は、できれば含有され
ない（０％）ことが好ましく、特に、０．５μｍ≦Ｄ≦
６．０μｍの範囲のものが８０重量％以上、６．０μｍ
＜Ｄ≦１０．０μｍの範囲のものが１０重量％未満、１
０μｍ＜Ｄ≦１５．０μｍの範囲のものは全く含まない
ことが好ましい。０．５μｍ≦Ｄ≦６．０μｍの範囲に
あるフィラーの重量％と、６．０μｍ＜Ｄ≦１０．０μ
ｍの範囲にあるフィラーの重量％、さらに、１０μｍ＜
Ｄ≦１５．０μｍの範囲にあるフィラーの重量％が、そ
れぞれ６０％未満、２０％未満、５％未満の場合は、デ
ィスプレイの反射防止効果が悪くなり、６．０μｍ＜Ｄ
≦１０．０μｍの範囲にあるフィラーが２０重量％以上
もしくは、１０μｍ＜Ｄ≦１５．０μｍの範囲にあるフ
ィラーが５重量％の場合は、ディスプレイの画像にギラ
ツキが発生する。フィラーの配合量については、ハード
コート層の全固形分比で、０．５〜３０％の範囲が良
い。特に、１〜１５％の範囲が好ましい。配合量が０．
５％以下では、反射防止効果が不充分となり、３０％以
上では、透明性、画像のコントラストが劣るばかりでな
く、耐摩耗性や耐環境性等の耐久性が悪くなる。また、
フィラーの屈折率（ＪＩＳ Ｋ−７１４２によるＢ法）
は、硬化型樹脂と同等であることが好ましい。フィラー
の屈折率が硬化型樹脂の屈折率と異なる場合は、フィラ
ーと樹脂界面で光が拡散し、透明性が損なわれる。硬化
型樹脂と同等の屈折率を有するフィラーの例としては、
有機系のフィラー、特に、架橋アクリルビーズが好適で
ある。

【００４１】架橋アクリルビーズとしては、アクリル酸
及びそのエステル、メタクリル酸及びそのエステル、ア
クリルアミド、アクリルニトリル等のアクリル系モノマ
ーと過硫酸等の重合開始剤、エチレングリコールジメタ
クリレート等の架橋剤を用い、懸濁重合法等により重合
して得られる重合体及び共重合体からなる架橋アクリル
系ビーズが好適に使用できる。特にアクリル系のモノマ
ーとして、メチルメタクリレートを使用した構成が好ま
しい。この様にして得られた架橋アクリルビーズは球状
で吸油性を示さないことから、ハードコート層に使用し
た場合、優れた耐汚染性を発現できる。また、架橋アク
リルビーズには、塗料の分散性を向上させるために油脂
類、シランカップリング剤、金属酸化物等の有機・無機
材料による表面改質を行っても良い。

【００４２】本発明において、透明基体の片面または両
面に、直接或は他の層を介してハードコート層を設ける
方法としては、上記で述べた樹脂中に、必要に応じて無
機系フィラー、架橋アクリルビーズ等の有機系フィラー
や水或は有機溶剤を混合し、これをペイントシェーカ
ー、サンドミル、パールミル、ボールミル、アトライタ
ー、ロールミル、高速インペラー分散機、ジェットミ
ル、高速衝撃ミル、超音波分散機等によって分散して塗
料またはインキとし、これをエアドクターコーティン
グ、ブレードコーティング、ナイフコーティング、リバ
ースコーティング、トランスファロールコーティング、
グラビアロールコーティング、キスコーティング、キャ
ストコーティング、スプレーコーティング、スロットオ
リフィスコーティング、カレンダーコーティング、電着
コーティング、ディップコーティング、ダイコーティン
グ等のコーティングやフレキソ印刷等の凸版印刷、ダイ
レクトグラビア印刷、オフセットグラビア印刷等の凹版
印刷、オフセット印刷等の平版印刷、スクリーン印刷等
の孔版印刷等の印刷手法により透明基体の片面もしくは
両面上に単層もしくは多層に分けて設け、溶媒を含んで
いる場合は、熱乾燥工程を経て、放射線（紫外線の場
合、光重合開始剤が必要）照射等により塗工層もしくは
印刷層を硬化させることによって得る方法が挙げられ
る。なお、放射線が電子線による場合は、コックロフト
ワルトン型、バンデグラフ型、共振変圧型、絶縁コア変
圧器型、直線型、ダイナミトロン型、高周波型等の各種
電子線加速器から放出される５０〜１０００ＫｅＶのエ
ネルギーを有する電子線等が使用され、紫外線の場合
は、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、低圧水銀灯、カーボン
アーク、キセノンアーク、メタルハライドランプ等の光
線から発する紫外線等が利用できる。

【００４３】塗料、インクの塗工適性または印刷適性を
向上させるために、必要に応じ、シリコーンオイル等の
レベリング剤、ポリエチレンワックス、カルナバワック
ス、高級アルコール、ビスアマイド、高級脂肪酸等の油
脂、イソシアネート等の硬化剤、炭酸カルシウムやシリ
カゾル、合成雲母等０．１μｍ以下の超微粒子等の添加
剤を適宜使用することができる。また、ディスプレイ表
面に静電的に付着するホコリ等の汚れを防止するために
帯電防止剤を添加しても良い。帯電防止剤は、上述の帯
電防止層で説明した材料がそのまま適用できる。

【００４４】ハードコート層の厚さは１．０〜１０．０
μｍの範囲が、好ましくは１〜５μｍの範囲が良い。ハ
ードコート層が１．０μｍより薄い場合は、ハードコー
ト層の耐磨耗性が劣化したり、紫外線硬化型樹脂を使用
した場合など、酸素阻害により硬化不良を起こす。１０
μｍより厚い場合は、樹脂の硬化収縮によりカールが発
生したり、ハードコート層にマイクロクラックが発生し
たり、さらに、透明基体との密着性が低下したりする。

【００４５】Ｃ．低屈折率層 本発明の低屈折率層の屈折率は１．２０〜１．４５であ
ることが好ましい。これらの特徴を有する材料として
は、例えばＬｉＦ（屈折率ｎ＝１．４）、ＭｇＦ _２（ｎ
＝１．４）、３ＮａＦ・ＡｌＦ_３（ｎ＝１．４）、Ａｌ
Ｆ_３（ｎ＝１．４）Ｎａ_３ＡｌＦ_６（ｎ＝１．３３）等
の無機材料を微粒子化し、アクリル系樹脂やエポキシ系
樹脂等に含有させた無機系低反射材料、フッ素系、シリ
コーン系の有機化合物、熱可塑性樹脂、熱硬化型樹脂、
放射線硬化型樹脂等の有機低反射材料を挙げることがで
きる。その中で、特に、含フッ素系のフッ素材料が汚れ
防止の点において好ましい。また、低屈折率層は、臨界
表面張力が２０ｄｙｎｅ／ｃｍ以下であることが望まし
い。臨界表面張力が２０ｄｙｎｅ／ｃｍより大きい場合
は、低屈折率層に付着した汚れが取れにくくなる。

【００４６】前記含フッ素材料としては、有機溶剤に溶
解し、その取り扱いが容易であるフッ化ビニリデン系共
重合体や、フルオロオレフィン／炭化水素オレフィン共
重合体、含フッ素エポキシ樹脂、含フッ素エポキシアク
リレート、含フッ素シリコーン、含フッ素アルコキシシ
ラン、さらに、ＴＥＦＲＯＮ ＡＦ１６００（デュポン
社製、屈折率ｎ＝１．３０）、ＣＹＴＯＰ（旭硝子
（株）社製、ｎ＝１．３４）、１７ＦＭ（三菱レーヨン
（株）社製、ｎ＝１．３５）、オプスターＪＮ−７２１
２（日本合成ゴム（株）社製、ｎ＝１．４０）、ＬＲ２
０１（日産化学工業（株）社製、ｎ＝１．３８）等を挙
げることができる。これらは単独でも複数組み合わせて
使用することも可能である。

【００４７】また、２−（パーフルオロデシル）エチル
メタクリレート、２−（パーフロロ−７−メチルオクチ
ル）エチルメタクリレート、３−（パーフロロ−７−メ
チルオクチル）−２−ヒドロキシプロピルメタクリレー
ト、２−（パーフロロ−９−メチルデシル）エチルメタ
クリレート、３−（パーフロロ−８−メチルデシル）２
−ヒドロキシプロピルメタクリレート等の含フッ素メタ
クリレート、３−パーフロロオクチル−２−ヒドロキシ
プロピルアクリレート、２−（パーフルオロデシル）エ
チルアクリレート、２−（パーフルオロ−９−メチルデ
シル）エチルアクリレート等の含フッ素アクリレート、
３−パーフルオロデシル１，２−エポキシプロパン、３
−（パーフロロ−９−メチルデシル）−１，２−エポキ
シプロパン等のエポキサイド、エポキシアクリレート等
の放射線硬化型の含フッ素モノマー、オリゴマー、プレ
ポリマー等を挙げることができる。これらは単独もしく
は複数種類混合して使用することも可能である。

【００４８】さらに、５〜３０ｎｍのシリカ超微粒子を
水もしくは有機溶剤に分散したゾルとフッ素系の皮膜形
成剤を混合した低反射材料を使用することもできる。５
〜３０ｎｍのシリカ超微粒子を水もしくは有機溶剤に分
散したゾルは、ケイ酸アルカリ塩中のアルカリ金属イオ
ンをイオン交換等で脱アルカリする方法や、ケイ酸アル
カリ塩を鉱酸で中和する方法等で知られた活性ケイ酸を
縮合して得られる公知のシリカゾル、アルコキシシラン
を有機溶媒中で塩基性触媒の存在下に加水分解と縮合す
ることにより得られる公知のシリカゾル、さらには上記
の水性シリカゾル中の水を蒸留法等により有機溶剤に置
換することにより得られる有機溶剤系のシリカゾル（オ
ルガノシリカゾル）が用いられる。これらのシリカゾル
は水系及び有機溶剤系のどちらでも使用することができ
る。有機溶剤系シリカゾルの製造に際し、完全に水を有
機溶剤に置換する必要はない。前記シリカゾルはＳｉＯ
_２として０．５〜５０重量％濃度の固形分を含有する。
シリカゾル中のシリカ超微粒子の構造は球状、針状、板
状等様々なものが使用可能である。

【００４９】また、被膜形成剤としては、アルコキシシ
ラン、金属アルコキシドや金属塩の加水分解物や、ポリ
シロキサンをフッ素変性したものなどを用いることがで
きる。特に、上記のような被膜形成剤を用いると低屈折
率層の臨界表面張力を確実に２０ｄｙｎｅ／ｃｍ以下に
するためには、好適であり、特に、フッ素化合物が好適
である。本発明の低屈折率層は、上記で述べた材料を例
えば溶剤で希釈し、スピンコーター、ロールコーター、
印刷等の方法でハードコート層に設けて乾燥後、熱や放
射線（紫外線の場合は上述の光重合開始剤を使用する）
等により硬化させることによって得ることができる。放
射線硬化型の含フッ素モノマー、オリゴマー、プレポリ
マーは耐汚染性には優れているが、濡れ性が悪いため、
組成によってはハードコート層上で低屈折率層をはじく
という問題や、低屈折率層がハードコート層から剥がれ
るという問題が生じるおそれがあるため、ハードコート
層に使用する前述の放射線硬化型樹脂として説明した、
アクリロイル系、メタアクリロイル系、アクリロイルオ
キシ基、メタアクリロイルオキシ基等重合性不飽和結合
を有するモノマー、オリゴマー、プレポリマーを適宜混
合し、使用することが望ましい。なお、透明基体が熱に
よるダメージを受けやすいＰＥＴ、ＴＡＣ等のプラスチ
ックフィルムを使用する場合は、これら低屈折率層の材
料としては、放射線硬化型樹脂を選択することが好まし
い。

【００５０】低屈折率層の塗料、インクの塗工適性また
は印刷適性を向上させるために、必要に応じ、ハードコ
ート層同様、シリコーンオイル等のレベリング剤、ポリ
エチレンワックス、カルナバワックス、高級アルコー
ル、ビスアマイド、高級脂肪酸等の油脂、イソシアネー
ト等の硬化剤、炭酸カルシウムやシリカゾル、合成雲母
等０．０５μｍ以下の超微粒子等の添加剤を適宜使用す
ることができる。また、ディスプレイ表面に静電的に付
着するホコリ等の汚れを防止するために帯電防止剤を低
屈折率層に添加したり、もしくは低屈折率層上に静電防
止層を設けても良い。帯電防止剤は、前述の帯電防止層
で説明した材料がそのまま適用できる。

【００５１】低屈折率層の厚さについては、前記した数
１に示す計算式で算出することができる。式（１）によ
れば、光の反射を１００％防止するためには、ハードコ
ート層の屈折率が低屈折率層の屈折率の２乗になるよう
にハードコート層の材料を選択すればよいことが分か
る。前記式（２）では（１）式で選択した低屈折率層の
屈折率と、光の波長から低屈折率層の反射防止膜として
の最適な厚さが計算される。たとえば、ハードコート
層、低屈折率層の屈折率をそれぞれ１．５０、１．３
８、光の波長を５５０ｎｍ（視感度の基準）とし、これ
らの値を前記（２）式に代入すると、低屈折率層の厚さ
は０．１μｍ前後の光学膜厚、好ましくは０．１±０．
０１μｍの範囲が最適であると計算される。

【００５２】このようにして作製した本発明の反射防止
材料のＪＩＳ Ｋ７１０５によるＨＡＺＥ値は、３〜３
０の範囲、特に好ましくは５〜１５の範囲であることが
好ましい。この場合、この値が３未満では、光拡散の効
果が少なくそれ程大きな反射防止効果を得ることができ
ない。一方、ＨＡＺＥ値が３０を超えると、画像コント
ラストが悪く視認性不良となり、ディスプレイとしての
機能低下を招くことから好ましくない。なお、ＨＡＺＥ
値とは、曇価を意味するものであり、積分球式光線透過
率測定装置を用いて、拡散透過率（Ｈｄ％）と全光線透
過率（Ｈｔ％）を測定し、下記式にて算出する。

【００５３】

【数３】ＨＡＺＥ値＝Ｈｄ／Ｈｔ×１００

【００５４】（２）偏光フィルムの内容 上記構成の反射防止材料の透明基体のハードコート層お
よび低屈折率層が設けられていない他方の面に、偏光基
体を介して保護材を積層することにより、偏光フィルム
を構成することができる。以下、本発明の偏光フィルム
の詳細について説明する。

【００５５】Ａ．偏光基体 偏光基体は、透明フィルムを形成できる材料で構成さ
れ、具体的には、ポリビニルアルコール、ポリビニレン
等が使用できる。そして、このような材料を延伸させて
フィルム化することにより偏光基体を得ることができ
る。例えば、２色性素子として沃素または染料を吸着さ
せたポリビニルアルコールを一軸延伸して得られたポリ
ビニルアルコール（ＰＶＡ)フィルムを用いることが好
ましい。偏光基体は１０〜８０μｍの厚みを有するもの
が使用される。具体的には、ＰＶＡフィルムを一軸方向
に３〜４倍程度延伸し、高次の沃素イオン中に延伸した
ＰＶＡフィルムを含浸させることにより偏光基体を得る
ことができる。

【００５６】Ｂ．保護材 上記で得られるＰＶＡフィルムは、強度等が不足してい
るため裂け易く、湿度変化に対して収縮率が大きいとい
う欠点を有していることから、偏光基体の片面に保護材
が積層される。また、反射防止材料の透明基体も偏光基
体の他方の面に貼り合わせられて保護材と同じ機能を奏
する。保護材及び透明基体は、偏光基体の両面に、ポリ
エステル系接着剤、ポリアクリル系接着剤、ポリウレタ
ン系接着剤、ポリ酢酸ビニル系接着剤等により接着され
る。

【００５７】保護材としては、透明な高分子化合物のフ
ィルム、例えば、トリアセチルセルロース等のセルロー
ス系フィルム、ポリエステルフィルム、ポリカーボネー
トフィルム等が使用される。その中でも特にトリアセチ
ルセルロースが好ましい。該フィルムの厚さは１０〜２
０００μｍが好ましい。また、これらのフィルムには特
にほう酸等のゲル化剤を使用したり、熱処理やホルマー
ル化を行うことによって、フィルムの耐水性を向上させ
ることが好ましい。また、偏光基体との密着性を向上さ
せるために、偏光基体との接着面の表面エネルギーが５
０ｄｙｎｅ／ｃｍ以上になるように、けん化処理やコロ
ナ処理等の表面処理を行うことが好ましい。

【００５８】以下図面を用いて、本発明の反射防止材料
と偏光フィルムをさらに詳細に説明する。図１は、本発
明の反射防止材料の構成を示す概略断面図であり、反射
防止材料１０は、透明基体１１の片面上にハードコート
層１２を有する構成である。なお、ハードコート層１２
の表面には低屈折率層が形成されているが、低屈折率層
は極めて薄いために図示を省略している（以下において
も同じ）。図２は、本発明の偏光フィルム２０の構成を
示す概略断面図であり、偏光基体２４の片面に、透明基
体２１とハードコート層２２とを有する反射防止材料２
３が設けられ、偏光基体２４の他の面に保護材２５が設
けられていることを示している。

【００５９】図３は本発明の反射防止材料により反射防
止性を改善した液晶表示体３０の構成を示している。こ
の液晶表示体３０は、上面の液晶パネル３１と下面の導
光板装置（ＥＬ）やランプ等の背面光源３２とを積層し
て形成されている。液晶パネル３１には、例えば、ツイ
ステッドネマチック（ＴＮ）液晶セルなどが使用可能で
ある。

【００６０】ＴＮ液晶セルは、所望のパターンからなる
透明電極付きの２枚のガラス基板３３，３４の透明電極
面３３'、及び３４'上に、ポリイミドの溶液を塗布して
配向膜を形成し、これをラビング操作により配向させ、
その後、このガラス基板３３，３４間にネマチック液晶
３５を注入し、ガラス基板３３，３４周辺部をエポキシ
樹脂等で封着することにより形成される。このネマチッ
ク液晶は、配向膜の作用により９０゜捻れ配向する。こ
のＴＮ液晶セルの２枚のガラス基板の背面光源とは反対
側には、図２に示されるハードコート層２２を有する反
射防止材料２３と保護材２５とで偏光基体２４の両面を
保護された偏光フィルム３６を、また、その背面光源側
には、ハードコート層のない偏光フィルム３７を、偏光
角度が互いに９０゜捻れるように貼ることで液晶パネル
３１が形成される。

【００６１】上記ＴＮ液晶パネル３１の透明電極に駆動
信号を印加すると信号が印加された電極間には電界が発
生する。その際、液晶分子の持つ電子的異方性により、
液晶分子の長軸が電界方向と平行になるため、液晶分子
による光の旋光性が失われることとなり、その結果、液
晶パネルには光が透過しない状態となる。画像の表示は
この時の光透過の差に基づくコントラストにより視覚情
報として認識される。上記液晶表示体３０においては、
液晶パネル３１に透過させ、液晶パネル３１の光の透過
する部分と透過しない部分にコントラストを持たせるこ
とにより画像表示を可能とするものである。

【００６２】図４は、本発明の反射防止材料１０を使用
した他の液晶表示体の構成を示す断面図である。図４に
おいて、液晶パネル４１は、２枚のガラス基板４３、４
４及びその間に介在するネマチック液晶４５と、ガラス
基板４３，４４の外側に位置するハードコート層を有し
ない上部の偏光フィルム４６、ハードコート層を有しな
い下部の偏光フィルム４７及び該上部の偏光フィルム４
６の上に積層された反射防止材料１０より構成されてい
る。また、液晶表示体４０は、液晶パネル４１とその下
面に位置する背面光源３２を積層して形成されている。

【００６３】

【実施例】本発明を実施例によって説明する。尚、
「部」は「重量部」を意味するものとする。＜実施例１
＞まず、粒径３μｍのＡＴＯ（アンチモンティンオキサ
イド）とメチルエチルケトンの混合物をサンドミルにて
３０分間分散することによって得られた分散液と、下記
配合からなるベース塗料をディスパーにて１５分間攪
拌、混合した塗料を、膜厚８０μｍ、透過率９２％、屈
折率１．６５からなる透明基体であるポリエチレンテレ
フタレート（商品名：メリネックス７０５ デュポン社
製）の片面上に、リバースコーティング方式にて塗布
し、１００℃で２分間乾燥後、ＵＶランプ出力１２０ｗ
／ｃｍの集光型高圧水銀灯１灯を用いて、照射距離（ラ
ンプ中心から塗工面までの距離）１０ｃｍ、処理速度
（塗工基体側のＵＶランプに対する速度）５ｍ／分でＵ
Ｖ照射を行い、塗工膜を硬化させた。このようにして、
厚さ５μｍ、屈折率１．６０のハードコート層を形成し
た。その後、含フッ素シリカゾルＬＲ２０１（全固形分
濃度；４％、溶剤；エタノール／ブチルセロソルブ−５
０／５０、日産化学工業（株）社製）を前記ハードコー
ト層上にスピンコーティングにより塗布し、１００℃で
１分間乾燥後、１２０℃で６時間熱キュアーし、厚さ
０．１μｍ、屈折率１．３８の低屈折率層を形成し、Ｈ
ＡＺＥ値１２．０、反射率０．５％の本発明の反射防止
材料を得た。

【００６４】 [分散液の配合] ・ＡＴＯ ５部 ・ＭＥＫ ２００部 ・分散剤 ５部 （商品名：Ｍ１００２Ｂ 綜研化学社製）

【００６５】 [ベース塗料の配合] ・高屈折率材料 ６０部

【００６６】

【化３】

【００６７】 ・ウレタンアクリレート （商品名：ＵＡ５１０Ｈ 共栄化学社製） ３５部 ・光カチオン重合開始剤 ５部

【００６８】

【化４】 ・イソプロピルアルコール １００部

【００６９】＜実施例２＞ハードコート層の分散液とベ
ース塗料を下記に変更した以外は実施例１と同様にし
て、厚さ７μｍ、ＨＡＺＥ値６．０、反射率０．８％の
ハードコート層を有する本発明の反射防止材料を得た。

【００７０】 [分散液の配合] ・架橋アクリルビーズ ５部 （商品名：ＭＸ３００ 粒径３．０μｍ±０．５ 綜研化学社製） ・トルエン ２０５部

【００７１】 [ベース塗料の配合] ・高屈折率材料 テトラブロモビスフェノールＡジエトキシ化ジアクリレート ７０部 （商品名：ＳＫ６４０ 日本化薬社製） ・エポキシ系化合物 ３０部 （商品名：サイラキュアＵＶＲ−６１１０ ユニオンカーバイド社製） ・光カチオン重合開始剤 ３部 （商品名：サイラキュアＵＶＩ−６９９０ ユニオンカーバイド社製） ・イソプロピルアルコール ５部

【００７２】（比較例１）分散液とベース塗料を下記に
変更した以外は実施例１と同様にして、厚さ３．６μ
ｍ、ＨＡＺＥ値１１．０、反射率２．０％のハードコー
ト層を有する比較用の反射防止材料を得た。 [分散液の配合] ・架橋アクリルビーズ ５部 （商品名：ＭＸ３００ 粒径１．５μｍ ０．５ 綜研化学社製） ・トルエン ２００部 [ベース塗料の配合] ・アクリル系化合物 １，６ヘキサンジオールジメタクリレート ４５部 ペンタエリスリトールトリアクリレートヘキサメチレンジイソシアネート ４５部 ・光重合開始剤 ５部 （商品名：イルガキュア １８４ チバガイギー社製） ・イソプロピルアルコール １０部

【００７３】（比較例２）分散液におけるＡＴＯを以下
に変更した以外は実施例１と同様にして、厚さ３．０μ
ｍ、ＨＡＺＥ値２９．０、反射率１．５％のハードコー
ト層を有する比較用の反射防止材料を得た。 ・シリカ顔料 （商品名：サイリシア＃４５６ 富士シリシア化学社製 粒径：０．５〜６．０μｍの範囲のもの ５０％ 粒径：６．０μｍを越えるもの ４０％）

【００７４】（比較例３）厚さ８０μｍ、透過率９２％
のトリアセチルセルロースをそのまま比較用の反射防止
材料とした。

【００７５】（比較例４）低屈折率層を設けない以外は
実施例１と同様にして、比較用の反射防止材料とした。

【００７６】実施例１〜２、比較例１〜４で得られた反
射防止材料１０を用い、防眩性、画像ギラツキ、反射
率、耐磨耗性、耐薬品性、耐汚染性を下記方法により測
定、評価した。前記反射防止材料１０を用い、図２に示
される構成の偏光フィルム２０を作製した。次いで、前
記偏光フィルム２０を図３に示されるようにガラス基盤
３３に貼り付け、液晶表示体３０を得た。なお、これら
の各液晶表示体３０の画像サイズは例えば１０．４イン
チとし、解像度は例えば８００×６００ドットとして、
下記方法によって、画像コントラストの評価を行った。

【００７７】防眩性はスガ試験機社製の写像性測定器Ｉ
ＣＭ−１ＤＰ（ＪＩＳ Ｋ７１０５）を使用、透過モー
ドで、光学くし幅２ｍｍで測定した。測定値が小さいほ
ど防眩性が高い。ここでは、５０％未満を○、５０％以
上、７０％未満を△、７０％以上を×として評価した。
画像ギラツキは防眩性の評価と同じ測定器を使用し、透
過モードで、光学くし幅０．１２５ｍｍで測定した。測
定値が大きいほど画像ギラツキが少ない。ここでは、１
０％以上を○、５％以上、１０％未満を△、５％未満を
×とした。反射率は分光光度計ＵＶ３１００（島津製作
所社製）を使用し、波長領域４００〜７００ｎｍの範囲
の５゜の正反射を測定、ＪＩＳ Ｚ８７０１に従い、視
感度補正したＹ値で表した。なお、測定は非測定面を黒
マジックで完全に黒塗りし、行った。

【００７８】耐摩耗性は日本スチールウール社製のスチ
ールウール＃００００を板紙耐摩耗試験機（熊谷理機工
業社製）に取り付け、反射防止材料の低屈折率層面を荷
重２００ｇにて５０回往復させる。その後、その部分の
ＨＡＺＥ値の変化δＨ（下記計算に基づく）を東洋精機
社製ＨＡＺＥメーターで測定した。測定値が大きいほど
耐摩耗性が悪い。なお、ＨＡＺＥ値の測定は反射防止材
料単体で行った。ＨＡＺＥ値変化δＨ＝試験後のＨＡＺ
Ｅ値−試験前のＨＡＺＥ値耐薬品性は、低屈折率層面を
イソプロピルアルコールを含ませた綿棒（ジョンソン社
製）で、５０往復擦った後に、ハードコート層に剥がれ
等著しい変化があった場合を×、変化がない場合を○、
その中間を△として評価した。

【００７９】耐汚染性は、低屈折率層面に菜種油をスポ
イトで１滴、滴下した後、滴下した菜種油をリグロイン
を含ませた旭化成社製のベンコットで２０往復ラビング
する。さらにその後、拭き取った面のＳＥＭ写真を撮
影、面の傷やベンコットの繊維の付着の有無を確認し
た。ハードコート層に傷やベンコットの繊維の付着が顕
著に認められる場合を×、全く変化がない場合を○、そ
の中間を△とした。画面コントラストはＪＩＳ Ｃ７０
７２ １９８８に於ける液晶表示パネルのコントラスト
比（ＣＲ）測定方法に準拠し、評価した。画像コントラ
ストの評価における光源１０１−液晶パネル−測光器１
０４の位置関係を図４に示す。この場合、光源１０１と
液晶パネル２との間は例えば１ｃｍ、液晶パネル２と測
光器との間は例えば５０ｃｍ、測光器の開口角は例えば
５゜に設定した。なお、光源には５ＷのＥＬを使用し、
測光器にはミノルタカメラ社製のＬＳ−１００を使用し
た。ＣＲが４以上の場合を◎、同、３以上、４未満の場
合を○、同、２以上〜３未満の場合を△、同、２未満を
×とした。以上の評価結果を表１に示す。

【００８０】

【表１】

【００８１】表１の結果から明らかなように、本発明の
反射防止材料はいずれも反射率が小さく良好な特性が得
られているのに対し、比較例１〜２の反射防止材料で
は、ハードコート層の屈折率が低いために反射率が高
い。また、比較例４では、ハードコート層の屈折率は高
いが、低屈折率層がないために反射率が高く、また、比
較例３では透明基体に表面改質処理が行われていないた
めに反射率が高く防眩性に劣るだけでなく、耐久性にも
問題を有するものである。

【００８２】

【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、デ
ィスプレイへの太陽光及び蛍光灯等の外部光の映り込み
を防止することにより優れた反射防止性を発揮し、画像
コントラストを低下させることなく、ギラツキ等のない
鮮明な画像を得ることができるとともに、光学的に安定
で優れた耐磨耗性、耐薬品性を示し、かつ、優れた耐汚
染性を示す反射防止材料と偏光フィルムを得ることがで
きる。

【図面の簡単な説明】

【図１】 本発明の反射防止材料の構成を示す概略断面
図である。

【図２】 本発明の反射防止材料を使用した偏光フィル
ムの構成を示す概略断面図である。

【図３】 反射防止材料を使用した偏光フィルムを具備
する液晶表示体の構成を示す概略断面図である。

【図４】 反射防止材料を使用した偏光フィルムを具備
する他の液晶表示体の構成を示す概略断面図である。

【図５】 画像コントラストの測定装置の配置図を示す
概略図である。

【符号の説明】

１０…反射防止材料、１１…透明基体、１２…ハードコ
ート層、２０…ハードコート層付偏光フィルム、２１…
透明基体、２２…ハードコート層、２３…第１の保護
材、２４…偏光基体、２５…第２の保護材、３０…液晶
表示体、３１…液晶パネル、３２…背面光源、 ３３，
３４…ガラス基盤、３３´，３４´…透明電極面、３５
…ネマチック液晶、３６…偏光フィルム、４０…液晶表
示体、４１…液晶パネル、４２…背面光源、４３，４４
…ガラス基板、４５…ネマチック液晶、４６，４７…偏
光フィルム、６０…光源、６１…液晶パネル、６２…測
光器。

─────────────────────────────────────────────────────

【手続補正書】

【提出日】平成１０年６月１０日

【手続補正１】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】特許請求の範囲

【補正方法】変更

【補正内容】

【特許請求の範囲】

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号 ＦＩ Ｈ０１Ｊ 5/16 Ｈ０１Ｊ 5/16 (72)発明者 山本 智久 静岡県静岡市用宗巴町３番１号 株式会社 巴川製紙所情報メディア事業部内 (72)発明者 作本 征則 静岡県静岡市用宗巴町３番１号 株式会社 巴川製紙所情報メディア事業部内

Claims (6)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 透明基体の片面もしくは両面に、直接或
   は他の層を介してハードコート層を設け、このハードコ
   ート層の表面にハードコート層の屈折率よりも低い屈折
   率を有する低屈折率層を設けた反射防止材料において、 上記ハードコート層は、硫黄、芳香族化合物またはハロ
   ゲンを含む樹脂の少なくともいずれか一種を含有し、か
   つ、上記透明基体およびハードコート層の屈折率の差は
   ０．２以内であることを特徴とする反射防止材料。
2. 【請求項２】 前記透明基体およびハードコート層の屈
   折率は１．６〜１．７であり、かつ、上記透明基体のハ
   ードコート層側の面は、表面改質処理が施されているこ
   とを特徴とする請求項１に記載の反射防止材料。
3. 【請求項３】 前記低屈折率層の屈折率が１．２０〜
   １．４５であり、かつ、前記透明基体がポリエチレンテ
   レフタレートであることを特徴とする請求項１または２
   に記載の反射防止材料。
4. 【請求項４】 前記ハードコート層が無機系フィラーを
   含有することを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記
   載の反射防止材料。
5. 【請求項５】 前記無機系フィラーの粒径Ｄは、０．５
   μｍ≦Ｄ≦６．０μｍの範囲の粒子が６０重量％以上、
   ６．０μｍ＜Ｄ≦１０．０μｍの範囲の粒子が２０重量
   ％未満、１０．０μｍ＜Ｄ≦１５．０μｍの範囲の粒子
   が５重量％以下、さらに、１５μｍより大きい粒子が
   １．０重量％以下である粒度分布を有すことを特徴とす
   る請求項４に記載の反射防止材料。
6. 【請求項６】 請求項１〜５のいずれかに記載の反射防
   止材料の前記透明基体の前記ハードコート層および前記
   低屈折率層が設けられていない他方の面に、偏光基体を
   介して保護材を積層したことを特徴とする偏光フィル
   ム。