JP2001264508A - 防眩性反射防止フィルム、偏光板および液晶表示装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 防眩性ハードコート層と低屈折率層を形成す
るだけで、簡便かつ安価に製造可能であり、しかも十分
な反射防止性能と耐傷性、さらには防汚性を有する防眩
性反射防止フィルムを提供する。 【解決手段】〔１〕透明支持体上に、（Ａ）平均粒径１
〜１０μｍの粒子を含有している防眩性ハードコート層
と、（Ｂ）平均粒径０．００１〜０．２μｍの無機微粒
子、光硬化性のオルガノシランの加水分解物および／ま
たはその部分縮合物、ならびに含フッ素ポリマーを含有
する組成物から形成された屈折率が１．３５〜１．４９
の範囲にある低屈折率層とがこの順序で設けられてお
り、〔２〕ヘイズ値が３〜２０％の範囲にあり、そして
〔３〕４５０ｎｍから６５０ｎｍの平均反射率が１．８
％以下である防眩性反射防止フィルムが提供される。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、防眩性を有する反
射防止フィルム、それを用いた偏光板、及び液晶表示装
置に関する。

【０００２】

【従来の技術】反射防止フィルムは、一般に、陰極管表
示装置（ＣＲＴ）、プラズマディスプレイパネル（ＰＤ
Ｐ）や液晶表示装置（ＬＣＤ）のような画像表示装置に
おいて、外光の反射によるコントラスト低下や像の映り
込みを防止するために、光学干渉の原理を用いて反射率
を低減するディスプレイの最表面に配置されている。

【０００３】しかしながら、透明支持体上にハードコー
ト層と低屈折率層のみを有する反射防止フィルムでは、
反射率を低減するために低屈折率層を十分に低屈折率化
しなければならない。例えばトリアセチルセルロースを
支持体とし、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレー
トのＵＶ硬化被膜をハードコート層とする反射防止フィ
ルムで４５０ｎｍから６５０ｎｍの範囲での平均反射率
を１．６％以下にするためには、屈折率を１．４０以下
にしなければならない。屈折率が１．４０以下の素材と
しては、無機物ではフッ化マグネシウムやフッ化カルシ
ウム等の含フッ素化合物、有機物ではフッ素含率の大き
い含フッ素化合物が挙げられるが、これらの含フッ素化
合物は凝集力がないためディスプレイの最表面に配置す
るフィルムとしては耐傷性が不足していた。従って、十
分な耐傷性を有するためには１．４３以上の屈折率を有
する化合物が必要であった。

【０００４】特開平７−２８７１０２号公報には、ハー
ドコート層の屈折率を大きくすることにより、反射率を
低減させることが記載されている。しかしながら、この
ような高屈折率ハードコート層は支持体との屈折率差が
大きいためにフィルムの色むらが発生し、反射率の波長
依存性も大きく振幅してしまう。

【０００５】また特開平７−３３３４０４号公報には、
ガスバリア性、防眩性、反射防止性に優れる防眩性反射
防止膜が記載されているが、ＣＶＤ法による酸化珪素膜
が必須であるため、塗液を塗布して膜を形成するウェッ
ト塗布法と比較して生産性に劣る。

【０００６】特公平６−９８７０３号公報、特開昭６３
−２１６０１号公報には、アルコキシシラン化合物の加
水分解部分縮合物からなる組成物をプラスチック基材表
面に塗布して反射光を低減化させる技術が開示されてい
る。これら公報に記載の技術ではゾルゲル法により無機
膜がウェット塗布法により得られる。無機膜であるため
非常に高い膜強度が期待されるが、上記無機膜は一般に
多くの基材との密着性に乏しく、剥離故障が生じやすい
欠点があった。さらに、硬化に長時間の加熱が必須であ
り、生産性に乏しい欠点もあった。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、支持
体上に防眩性ハードコート層と低屈折率層を形成するだ
けで、簡便かつ安価に製造可能であり、しかも十分な反
射防止性能と耐傷性、さらには防汚性を有する防眩性反
射防止フィルムを提供することにある。本発明の他の目
的は、外光の映り込みが十分に防止され、しかも防汚
性、耐傷性に優れた偏光板及び液晶表示装置を提供する
ことにある。

【０００８】

【課題を解決するための手段】本発明によれば、下記構
成の防眩性反射防止フィルム、偏光板及び液晶表示装置
が提供され、上記目的が達成される。 １．〔１〕透明支持体上に、（Ａ）平均粒径１〜１０μ
ｍの粒子を含有している防眩性ハードコート層と、
（Ｂ）平均粒径０．００１〜０．２μｍの無機微粒子、
光硬化性のオルガノシランの加水分解物および／または
その部分縮合物、ならびに含フッ素ポリマーを含有する
組成物から形成された屈折率が１．３５〜１．４９の範
囲にある低屈折率層とがこの順序で設けられており、
〔２〕ヘイズ値が３〜２０％の範囲にあり、そして
〔３〕４５０ｎｍから６５０ｎｍの平均反射率が１．８
％以下であることを特徴とする防眩性反射防止フィル
ム。 ２．（Ａ）防眩性ハードコート層を形成するための組成
物から平均粒径１〜１０μｍの粒子を除いて形成された
膜の屈折率が１．５７〜２．００の範囲にあることを特
徴とする上記１に記載の防眩性反射防止フィルム。 ３．（Ｂ）低屈折率層を形成するための組成物が、光酸
発生剤を含有することを特徴とする上記１又は２に記載
の防眩性反射防止フィルム。 ４．（Ｂ）低屈折率層を形成するための組成物に含有さ
れる無機微粒子がシリカ粒子であることを特徴とする上
記１〜３のいずれかに記載の防眩性反射防止フィルム。 ５．シリカ粒子がシランカップリング剤で処理されてい
ることを特徴とする上記４に記載の防眩性反射防止フィ
ルム。 ６．上記１〜５のいずれかに記載の防眩性反射防止フィ
ルムが偏光層の２枚の保護フィルムのうちの少なくとも
一方に用いられていることを特徴とする偏光板。 ７．上記１〜５のいずれかに記載の防眩性反射防止フィ
ルムまたは上記６に記載の偏光板の反射防止層がディス
プレイの最表層に用いられていることを特徴とする液晶
表示装置。

【０００９】

【発明の実施の形態】本発明の実施の一形態として好適
な防眩性反射防止フィルムの基本的な構成を図面を参照
しながら説明する。図１に模式的に示される態様は本発
明の防眩性反射防止フィルムの一例であり、この場合、
防眩性反射防止フィルム１は、透明支持体２、ハードコ
ート層３、防眩性ハードコート層４、そして低屈折率層
５の順序の層構成を有する。防眩性ハードコート層４に
は、微粒子６が分散しており、防眩性ハードコート層４
の微粒子６以外の部分の素材の屈折率が１．５７〜２．
００の範囲にあることが好ましく、低屈折率層５の屈折
率は１．３５〜１．４９の範囲にある。ハードコート層
３は必須ではないがフィルム強度付与のために塗設され
ることが好ましい。

【００１０】本発明の防眩性反射防止フィルムの透明支
持体としては、プラスチックフィルムを用いることが好
ましい。プラスチックフィルムを形成するポリマーとし
ては、セルロースエステル（例、トリアセチルセルロー
ス、ジアセチルセルロース）、ポリアミド、ポリカーボ
ネート、ポリエステル（例、ポリエチレンテレフタレー
ト、ポリエチレンナフタレート）、ポリスチレン、ポリ
オレフィン、アートン（商品名、ＪＳＲ社製、物質名：
ノルボルネン系樹脂）、ゼオネックス（商品名、日本ゼ
オン社製、物質名：非晶質ポリオレフィン）等が挙げら
れる。このうちトリアセチルセルロース、ポリエチレン
テレフタレート、ポリエチレンナフタレート、アート
ン、ゼオネックスが好ましく、特にトリアセチルセルロ
ースが好ましい。液晶表示装置の偏光板の偏光層を保護
する保護フィルムとして、通常トリアセチルセルロース
が用いられているので、防眩性反射防止フィルムの透明
支持体がトリアセチルセルロースフィルムであると、防
眩性反射防止フィルムをそのまま保護フィルムに用いる
ことができ、好ましい。この場合、防眩性反射防止フィ
ルムの片面に粘着層を設ける等の手段により液晶表示装
置のディスプレイの最表面に防眩性反射防止フィルムを
保護フィルムとして配置することができる。

【００１１】本発明の防眩性反射防止フィルムは透明支
持体上に（Ａ）防眩性ハードコート層を有し、さらにそ
の上の（Ｂ）低屈折率層を有するが、必要に応じ、防眩
性ハードコート層の下層に平滑なハードコート層を設け
ることができる。

【００１２】（Ａ）防眩性ハードコート層は、バインダ
ーポリマー中に平均粒径１〜１０μｍの粒子が分散して
いる屈折率不均一層である。防眩性ハードコート層を形
成する上記粒子を除く成分、即ちバインダーポリマーあ
るいはこれに後述する粒径１００ｎｍ以下の金属酸化物
の微粒子成分が分散した分散体の屈折率は、１．５７〜
２．００であることが好ましく、より好ましくは１．６
０〜１．８０と高屈折率である。この値が小さすぎると
反射防止性能が小さくなり、大きすぎると色味が大きく
なりすぎてしまうことがある。

【００１３】この（Ａ）防眩性ハードコート層は、高屈
折率成分中に分散する粒径１〜１０μｍの粒子によっ
て、光の内部散乱が生じるために、防眩性ハードコート
層での光学干渉の影響を生じない。上記粒径の粒子を有
しない高屈折率防眩性ハードコート層では、防眩性ハー
ドコート層と支持体との屈折率差による光学干渉のため
に、反射率の波長依存性において反射率の大きな振幅が
見られ、結果として反射防止効果が悪化し、同時に色む
らが発生する。

【００１４】バインダーポリマーとしては、飽和炭化水
素鎖またはポリエーテル鎖を主鎖として有するポリマー
であることが好ましく、飽和炭化水素鎖を主鎖として有
するポリマーであることがさらに好ましい。また、バイ
ンダーポリマーは架橋構造を有することが好ましい。飽
和炭化水素鎖を主鎖として有するバインダーポリマーと
しては、エチレン性不飽和モノマーの重合体が好まし
い。飽和炭化水素鎖を主鎖として有し、かつ架橋構造を
有するバインダーポリマーとしては、二個以上のエチレ
ン性不飽和基を有するモノマーの（共）重合体が好まし
い。高屈折率にするには、このモノマーの構造中に芳香
族環や、フッ素以外のハロゲン原子、硫黄原子、リン原
子、及び窒素原子から選ばれた少なくとも１種の原子を
含むことが好ましい。

【００１５】二個以上のエチレン性不飽和基を有するモ
ノマーとしては、多価アルコールと（メタ）アクリル酸
とのエステル（例、エチレングリコールジ（メタ）アク
リレート、１，４−ジクロヘキサンジアクリレート、ペ
ンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート）、ペ
ンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリメ
チロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチ
ロールエタントリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリ
スリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリ
スリトールペンタ（メタ）アクリレート、ペンタエリス
リトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，２，３−シ
クロヘキサンテトラメタクリレート、ポリウレタンポリ
アクリレート、ポリエステルポリアクリレート）、ビニ
ルベンゼンおよびその誘導体（例、１，４−ジビニルベ
ンゼン、４−ビニル安息香酸−２−アクリロイルエチル
エステル、１，４−ジビニルシクロヘキサノン）、ビニ
ルスルホン（例、ジビニルスルホン）、アクリルアミド
（例、メチレンビスアクリルアミド）およびメタクリル
アミドが挙げられる。

【００１６】高屈折率モノマーの具体例としては、ビス
（４−メタクリロイルチオフェニル）スルフィド、ビニ
ルナフタレン、ビニルフェニルスルフィド、４−メタク
リロキシフェニル−４'−メトキシフェニルチオエーテ
ル等が挙げられる。

【００１７】これらのエチレン性不飽和基を有するモノ
マーの重合は、光ラジカル開始剤あるいは熱ラジカル開
始剤の存在下、電離放射線の照射または加熱により行う
ことができる。従って、エチレン性不飽和基を有するモ
ノマー、微粒子、及び光ラジカル開始剤あるいは熱ラジ
カル開始剤を含有する塗液を調製し、該塗液を透明支持
体上に塗布後電離放射線または熱による重合反応により
硬化して防眩性反射防止フィルムを形成することができ
る。

【００１８】ポリエーテルを主鎖として有するポリマー
は、多官能エポシキシ化合物の開環重合体が好ましい。
多官能エポシキ化合物の開環重合は、光酸発生剤あるい
は熱酸発生剤の存在下、電離放射線の照射または加熱に
より行うことができる。従って、多官能エポシキシ化合
物、微粒子、及び光酸発生剤あるいは熱酸発生剤を含有
する塗液を調製し、該塗液を透明支持体上に塗布後電離
放射線または熱による重合反応により硬化して防眩性反
射防止フィルムを形成することができる。

【００１９】二個以上のエチレン性不飽和基を有するモ
ノマーの代わりにまたはそれに加えて、架橋性官能基を
有するモノマーを用いてポリマー中に架橋性官能基を導
入し、この架橋性官能基の反応により、架橋構造をバイ
ンダーポリマーに導入してもよい。架橋性官能基の例に
は、イソシアナート基、エポキシ基、アジリジン基、オ
キサゾリン基、アルデヒド基、カルボニル基、ヒドラジ
ン基、カルボキシル基、メチロール基および活性メチレ
ン基が含まれる。ビニルスルホン酸、酸無水物、シアノ
アクリレート誘導体、メラミン、エーテル化メチロー
ル、エステルおよびウレタン、テトラメトキシシランの
ような金属アルコキシドも、架橋構造を導入するための
モノマーとして利用できる。ブロックイソシアナート基
のように、分解反応の結果として架橋性を示す官能基を
用いてもよい。すなわち、本発明において架橋性官能基
は、すぐには反応を示すものではなくとも、分解した結
果反応性を示すものであってもよい。これら架橋性官能
基を有するバインダーポリマーは塗布後、加熱すること
によって架橋構造を形成することができる。

【００２０】防眩性ハードコート層には、防眩性付与と
防眩性ハードコート層の干渉による反射率悪化防止、色
むら防止の目的で、平均粒径が１〜１０μｍ、好ましく
は１．５〜７．０μｍの粒子、例えば無機化合物の粒子
または樹脂粒子が含有される。上記粒子の具体例として
は、例えばシリカ粒子、ＴｉＯ₂粒子等の無機化合物の
粒子；架橋アクリル粒子、架橋スチレン粒子、メラミン
樹脂粒子、ベンゾグアナミン樹脂粒子等の樹脂粒子が好
ましく挙げられる。なかでも、シリカ粒子が好ましい。
粒子の形状は、真球あるいは不定形のいずれも使用でき
る。また、異なる２種以上の粒子を併用して用いてもよ
い。上記粒子は、形成された防眩性ハードコート層中の
粒子量が好ましくは１０〜１０００ｍｇ／ｍ²、より好
ましくは３０〜１００ｍｇ／ｍ²となるように防眩性ハ
ードコート層に含有される。また、特に好ましい態様
は、粒子としてシリカ粒子を用い、防眩性ハードコート
層の膜厚の２分の１よりも大きい粒径のシリカ粒子が、
該シリカ粒子全体の４０〜１００％を占める態様であ
る。ここで、粒子の粒度分布はコールターカウンター法
により測定し、測定された分布を粒子数分布に換算す
る。

【００２１】防眩性ハードコート層には、層の屈折率を
高めるために、上記の粒子に加えて、チタン、ジルコニ
ウム、アルミニウム、インジウム、亜鉛、錫、アンチモ
ンのうちより選ばれる少なくとも１種の金属の酸化物か
らなり、粒径が１００ｎｍ以下、好ましくは５０ｎｍ以
下である無機微粒子が含有されることが好ましい。無機
微粒子の具体例としては、ＴｉＯ₂、ＺｒＯ₂、Ａｌ
₂Ｏ₃、Ｉｎ₂Ｏ₃、ＺｎＯ、ＳｎＯ₂、Ｓｂ₂Ｏ₃、ＩＴＯ
等の微粒子が挙げられる。これらの無機微粒子の添加量
は、防眩性ハードコート層の全質量の１０〜９０％であ
ることが好ましく、より好ましく２０〜８０％であり、
特に好ましくは３０〜６０％である。なお、このような
微粒子は、粒径が光の波長よりも十分小さいために散乱
が生じず、バインダーポリマーに該微粒子が分散した分
散体は光学的に均一な物質として振舞う。

【００２２】前記したように、（Ａ）防眩性ハードコー
ト層を形成する平均粒径１．０〜１０μｍの粒子を除い
た成分、即ちバインダーポリマーあるいはこれに上記し
た粒径１００ｎｍ以下の金属酸化物の微粒子成分が分散
した分散体の屈折率は、１．５７〜２．００であること
が好ましく、より好ましくは１．６０〜１．８０であ
る。屈折率を上記範囲とするには、バインダーポリマー
及び金属酸化物の微粒子の種類及び量割合を適宜選択す
ればよい。どのように選択するかは、予め実験的に容易
に知ることができる。

【００２３】（Ａ）防眩性ハードコート層の膜厚は１〜
１０μｍが好ましく、１．２〜６μｍがより好ましい。

【００２４】本発明の防眩性反射防止フィルムでは、平
滑なハードコート層はフィルム強度向上の目的で必要に
応じて、透明支持体と（Ａ）防眩性ハードコート層の間
に塗設される。平滑なハードコート層の膜厚は１〜１０
μｍが好ましく、１．２〜６μｍがより好ましい。平滑
なハードコート層に用いる樹脂は防眩性付与微粒子を用
いないこと以外は（Ａ）防眩性ハードコート層において
挙げたものと同様である。

【００２５】本発明の防眩性反射防止フィルムの（Ｂ）
低屈折率層の屈折率は、１．３５〜１．４９、好ましく
は１．３５〜１．４４の範囲にある。さらに、（Ｂ）低
屈折率層は下記数式（Ｉ）を満たすことが低反射率化の
点で好ましい。

【００２６】 ｍλ／４×０．７＜ｎ₁ｄ₁＜ｍλ／４×１．３ ……数式（Ｉ）

【００２７】式中、ｍは正の奇数であり、ｎ₁は低屈折
率層の屈折率であり、そして、ｄ₁は低屈折率層の膜厚
（ｎｍ）である。また、λは波長であり、５００〜５５
０ｎｍの範囲の値である。なお、上記数式（Ｉ）を満た
すとは、上記波長の範囲において数式（Ｉ）を満たすｍ
（正の奇数、通常１である）が存在することを意味して
いる。

【００２８】防眩性反射防止フィルムの（Ｂ）低屈折率
層を形成するための組成物には、光硬化性のオルガノシ
ランの加水分解物および／またはその部分縮合物、いわ
ゆる光硬化性ゾルゲル成分（以後このように称する）が
用いられ、生産性向上、フィルム強度向上および耐擦傷
性向上に寄与している。光硬化性ゾルゲル成分単独では
硬化時の体積収縮が大きいために、密着性が低下し耐擦
傷性が十分でない。本発明では該組成物に無機微粒子を
添加することにより硬化時の体積収縮を低減し、密着性
を改善することにより耐擦傷性の低下を防ぐ。さらに該
無機微粒子の硬さが、フィルム強度および耐擦傷性を向
上させる。さらに、含フッ素ポリマーも組成物に配合さ
れ、防眩性反射防止フィルムの防汚性および滑り性も向
上にに寄与している。含フッ素ポリマーとしては含フッ
素ビニルモノマーを重合して得られるポリマーが好まし
く、さらにゾルゲル成分と共有結合可能な官能基を有す
ることが、ゾルゲル成分との相溶性およびフィルム強度
の観点で好ましい。

【００２９】防眩性反射防止フィルムの（Ｂ）低屈折率
層に用いられる光硬化性ゾルゲル成分は光照射により硬
化する性質を有するゾルゲル成分であれば特に限定され
ず、市販または合成のもの、いずれも好ましく用いるこ
とができる。市販品としては、含フッ素ポリマーを含む
光硬化ゾルゲル成分であるオプスターＴＭ５０５、ＴＭ
５０１Ａ（ＪＳＲ（株）製）等が好ましく挙げられる。

【００３０】光硬化性ゾルゲル成分は、例えば下記一般
式（１）で表されオルガノシランを加水分解を行い、そ
れに引き続く縮合反応により得ることができる。

【００３１】 ＲｘＳｉ（ＯＲ'）４−ｘ …… 一般式（１）

【００３２】（式中、Ｒ、Ｒ'は、同一または異なっ
て、水素原子、アルキル基、アリール基、アリル基、フ
ルオロアルキル基を表す。なお、アルキル基は、官能基
として、エポキシ基、アミノ基、アクリル基、イソシア
ネート基、及び／又はメルカプト基を有していてもよ
い。ｘは０〜３の整数、好ましくは０〜２の整数であ
る。）

【００３３】一般式（１）で表されるオルガノシランの
具体例として下記のものを挙げることができるが、本発
明はこれらの例示に限定されるものではない。 ｘ＝０の場合：テトラメトキシシラン、テトラエトキシ
シラン、テトライソプロポキシシラン、テトラ−ｎ−ブ
トキシシラン等 ｘ＝１の場合：メチルトリメトキシシラン、メチルトリ
エトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、ビニルト
リメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、フェニ
ルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、
ＣＦ₃ＣＨ₂ＣＨ₂Ｓｉ（ＯＣＨ₃）₃、ＣＦ₃（ＣＦ₂）₅Ｃ
Ｈ₂ＣＨ₂Ｓｉ（ＯＣＨ₃）₃、γ−グリシドキシプロピル
トリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリエ
トキシシラン、γ−アミノプロピルトリメトキシシラ
ン、γ−トリメトキシシリルプロピルイソシアネート、
γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−メタ
クリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ−アクリロ
キシプロピルトリメトキシシラン等 ｘ＝２の場合：ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジ
エトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジメ
トキシシラン、γ−アミノプロピルメチルトリエトキシ
シラン、γ−メルカプトプロピルメチルジメトキシシラ
ン、γ−メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラ
ン等 また硬化膜の硬さ及び脆性の調節や官能基導入の目的
で、異なる２種以上のオルガノシランを組み合わせて用
いることができる。

【００３４】オルガノシランの加水分解・縮合反応は、
無溶媒であるいは有機溶媒の存在下に行うことができ
る。好ましい有機溶媒としては、アセトン、メチルエチ
ルケトン、メチルイソブチルケトン、酢酸エチル、酢酸
ブチル、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコ
ール、ブタノール、トルエン、キシレン、テトラヒドロ
フラン、１，４−ジオキサン等を挙げることができる。
ここで用いられる有機溶媒は、塗布液としてそのまま用
いることが好ましいため、含フッ素ポリマーを溶解する
ものが好ましい。加水分解・縮合反応は、触媒の存在下
で行われることが好ましい。触媒としては、塩酸、硫
酸、硝酸等の無機酸類；シュウ酸、酢酸、ギ酸、メタン
スルホン酸、トルエンスルホン酸等の有機酸類；水酸化
ナトリウム、水酸化カリウム、アンモニア等の無機塩基
類；トリエチルアミン、ピリジン等の有機塩基類；トリ
イソプロポキシアルミニウム、テトラブトキシジルコニ
ウム等の金属アルコキシド類；該金属アルコキシド類
と、アセト酢酸エチル、アセチルアセトン等との金属キ
レート化合物類等が挙げられる。

【００３５】加水分解・縮合反応は、オルガノシランの
アルコキシ基１モルに対して０．３〜２モル、好ましく
は０．５〜１モルの水を添加し、上記溶媒の存在下ある
いは非存在下に、そして好ましくは触媒の存在下に、２
５〜１００℃で、撹拌することにより行われる。触媒の
使用量は、アルコキシ基に対して０．０１〜１０モル
％、好ましくは０．１〜５モル％である。反応条件はオ
ルガノシランの反応性により適宜調節されることが好ま
しい。

【００３６】この加水分解・縮合反応は、まずオルガノ
シランのアルコキシ基と水が反応してアルコキシ基が加
水分解しシラノール基が生成する。引き続き２個のシラ
ノール基が脱水縮合して、シロキサン結合を形成する。
従って、この反応の生成物には、水の添加量及びその他
の反応条件によって量割合が変化するが、未反応のアル
コキシ基、シラノール基、シロキサン結合が混在してい
る。本発明でオルガノシランの部分縮合物とは、オルガ
ノシランのすべてのアルコキシ基がシラノール基を経て
シラノール結合を形成しておらず、アルコキシ基の一部
がシラノール結合を形成し、残りは未反応あるいはシラ
ノール基の状態にあるものをいう。

【００３７】このようにして得られたゾルゲル成分は、
光により若干の結合開裂が生じるため、光硬化性を有す
る。

【００３８】本発明の（Ｂ）低屈折率層に用いられる含
フッ素ポリマーとしては、含フッ素ビニルポリマー、含
フッ素ポリエーテル、含フッ素ポリシロキサン等が挙げ
られるが、なかでも含フッ素ビニルポリマーが好まし
い。上記含フッ素ビニルポリマーは、含フッ素ビニルモ
ノマーをラジカル重合することにより得られる。含フッ
素モノマーの具体例としては、例えばフルオロオレフィ
ン類（例えばフルオロエチレン、ビニリデンフルオライ
ド、テトラフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレ
ン、パーフルオロ−２，２−ジメチル−１，３−ジオキ
ソール等）、（メタ）アクリル酸の部分または完全フッ
素化アルキルエステル誘導体類（例えばビスコート６Ｆ
Ｍ（大阪有機化学製）やＭ−２０２０（ダイキン製）
等）、完全または部分フッ素化ビニルエーテル類等であ
る。このうちヘキサフロオロプロピレン、フッ素化ビニ
ルエーテル類が好ましい。

【００３９】さらに、含フッ素ビニルポリマーが反応性
基を有し、この反応性基が光硬化性ゾルゲル成分と反応
して共有結合を形成し得るものであればより好ましい。
このことにより、（Ｂ）低屈折率層において光硬化性ゾ
ルゲル成分の硬化膜と含フッ素ポリマー成分が共有結合
し、フィルム強度および透明性が向上する等の好ましい
結果が得られる。このような反応性基を有する含フッ素
ビニルポリマーは、含フッ素ビニルモノマーと反応性基
を有するビニルモノマーを共重合することにより得られ
る。

【００４０】光硬化性ゾルゲル成分と共有結合可能な反
応性基を有するビニルモノマーについて以下に説明す
る。オルガノシランの加水分解により生成するシラノー
ル基と反応し得る好ましい反応性基として、アルコキシ
シリル基が挙げられる。含アルコキシシリル基ビニルモ
ノマーとしてはγ−メタクリロキシプロピルトリメトキ
シシラン、ビニルトリメトキシシラン等が挙げられる。
また、官能基を有するオルガノシランを加水分解・縮合
反応することにより、エポキシ基、アミノ基、イソシア
ネート基、あるいはメルカプト基等を光硬化性ゾルゲル
成分に導入することができる。これらの官能基と共有結
合可能な反応性基としては、ヒドロキシ基、エポキシ
基、カルボキシル基等が挙げられる。これらの反応性基
を有するビニルモノマーとして下記のモノマーを挙げる
ことができるが、これらに限定されない。 （１）ヒドロキシ基を有するモノマー：２−ヒドロキシ
エチルメタクリレート、２−ヒドロキシエチルアクリレ
ート、２−ヒドロキシエチルビニルエーテル、３−ヒド
ロキシプロピルビニルエーテル、４−ヒドロキシブチル
ビニルエーテル等 （２）エポキシ基を有するモノマー：グリシジルメタク
リレート、グルシジルアクリレート、ビニルグリシジル
エーテル等 （３）カルボキシル基を有するモノマー：アクリル酸、
メタクリル酸、β−カルボキシエチルアクリレート、ク
ロトン酸、イタコン酸、α−ビニル酢酸、フマル酸ビニ
ル、マレイン酸ビニル等

【００４１】共重合に当たって、上記以外のビニルモノ
マーも共重合モノマーとして用いることができる。この
ようなモノマーとしては、例えばオレフィン類（エチレ
ン、プロピレン、イソプレン、塩化ビニル、塩化ビニリ
デン等）、アクリル酸エステル類（メチルアクリレー
ト、、エチルアクリレート、２−エチルヘキシルアクリ
レート）、メタクリル酸エステル類（メチルメタクリレ
ート、エチルメタクリレート、ブチルメタクリレート、
エチレングリコールジメタクリレート等）、スチレン誘
導体（スチレン、ジビニルベンゼン、ビニルトルエン、
α−メチルスチレン等）、ビニルエーテル類（メチルビ
ニルエーテル、エチルビニルエーテル、ｎ−プロピルビ
ニルエーテル、ｎ−ブチルビニルエーテル等）、ビニル
エステル類（酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、桂皮酸
ビニル等）、アクリルアミド類（Ｎ−ｔｅｒｔブチルア
クリルアミド、Ｎ−シクロヘキシルアクリルアミド
等）、メタクリルアミド類、アクリロ二トリル誘導体等
を挙げることができる。このうちビニルエーテル類が好
ましい。

【００４２】共重合における各モノマーの使用割合とし
ては、含フッ素ビニルモノマーが２０〜８０質量％、反
応性基含有モノマーが１〜３０質量％、それ以外のモノ
マーが１〜７０質量％が好ましい。モノマーの共重合
は、それ自体公知のラジカル重合法により行うことがで
きる。

【００４３】上記した共重合による方法で含フッ素ビニ
ルポリマーに反応性基を導入する方法に加えて、含フッ
素ビニルポリマーが有する反応性基と反応して共有結合
を形成可能な官能基を有するオルガノシランを反応させ
ることにより、含フッ素ビニルポリマーにアルコキシシ
リル基を導入することができる。この方法でのアルコキ
シシリル基の導入は、（Ｂ）低屈折率層を形成するため
の組成物の塗布液中で行うことができるので、簡便であ
り好ましい。

【００４４】防眩性反射防止フィルムの（Ｂ）低屈折率
層に用いられる光硬化性ゾルゲル成分の硬化を促進する
ために、層を形成するための組成物が光の照射によって
硬化反応促進剤を発生する化合物を含有していることが
好ましい。具体的には光酸発生剤あるいは光塩基発生剤
が好ましく、いずれも光硬化性ゾルゲル成分の縮合反応
を促進し、硬化を速めることができる。光酸発生剤の具
体例としては、ベンゾイントシレート、トリ（ニトロベ
ンジル）ホスフェート、ジアリールヨードニウム塩、ト
リアリールスルホニウム塩等を挙げることができる。光
塩基発生剤の具体例としては、ニトロベンジルシクロヘ
キシルカルバメート、ジ（メトキシベンジル）ヘキサメ
チレンジカルバメート等を挙げることができる。このう
ち光酸発生剤がより好ましく、特に好ましくはトリアリ
ールスルホニウム塩、ジアリールヨードニウム塩であ
る。これらの化合物と併用して増感色素も好ましく用い
ることができる。

【００４５】光の照射によって硬化反応促進剤を発生す
る上記化合物の配合量は、（Ｂ）低屈折率層を形成する
ための組成物（全固形分）の、好ましくは０．１〜１５
質量％、より好ましくは０．５〜５質量％を占めるよう
な量である。

【００４６】防眩性反射防止フィルムの（Ｂ）低屈折率
層に用いられる無機微粒子としては、非晶質のものが好
ましく用いられ、金属の酸化物、窒化物、硫化物または
ハロゲン化物からなることが好ましく、なかでも金属酸
化物が特に好ましい。金属原子としては、Ｎａ、Ｋ、Ｍ
ｇ、Ｃａ、Ｂａ、Ａｌ、Ｚｎ、Ｆｅ、Ｃｕ、Ｔｉ、Ｓ
ｎ、Ｉｎ、Ｗ、Ｙ、Ｓｂ、Ｍｎ、Ｇａ、Ｖ、Ｎｂ、Ｔ
ａ、Ａｇ、Ｓｉ、Ｂ、Ｂｉ、Ｍｏ、Ｃｅ、Ｃｄ、Ｂｅ、
ＰｂおよびＮｉが好ましく、Ｍｇ、Ｃａ、ＢおよびＳｉ
がさらに好ましい。２種以上の金属を含む無機微粒子を
用いてもよい。特に好ましい無機微粒子は、二酸化ケイ
素微粒子、すなわちシリカ微粒子である。無機微粒子の
平均粒径は０．００１〜０．２μｍであることが好まし
く、０．００５〜０．０５μｍであることがより好まし
い。微粒子の粒径はなるべく均一（単分散）であること
が好ましい。該無機微粒子の粒径は大きすぎるとフィル
ムが不透明になり、小さすぎるものは凝集しやすく合成
および取り扱いが困難である。

【００４７】無機微粒子の配合量は、（Ｂ）低屈折率層
の全質量の３〜９０質量％であることが好ましく、さら
に好ましくは５〜７０質量％であり、特に好ましくは７
〜５０質量％である。無機微粒子の添加量は多すぎると
バインダーである光硬化性ゾルゲル成分の連続層が形成
できずに脆くなり、また少なすぎると微粒子の添加効果
が得られない。

【００４８】無機微粒子は、表面処理を施して用いるこ
とも好ましい。表面処理法としてはプラズマ放電処理や
コロナ放電処理のような物理的表面処理とカップリング
剤を使用する化学的表面処理があるが、カップリング剤
の使用が好ましい。カップリング剤としては、オルガノ
アルコキシ金属化合物（例、チタンカップリング剤、シ
ランカップリング剤等）が好ましく用いられる。無機微
粒子がシリカの場合はシランカップリング剤による処理
が特に有効である。シランカップリング剤としては前述
の一般式（１）で表されるオルガノシラン化合物が使用
可能である。

【００４９】防眩性反射防止フィルムの（Ｂ）低屈折率
層の膜厚は、好ましくは０．０５〜０．２μｍ、より好
ましくは０．０８〜０．１２μｍである。

【００５０】（Ｂ）低屈折率層の屈折率を前記した通り
とし、しかも前記数式（Ｉ）を満たすようにするには、
（Ｂ）低屈折率層を形成するための各成分の種類及び量
割合を適宜選択すればよい。各成分の種類及び量割合の
選択は、予め実験的に知ることができる。

【００５１】防眩性反射防止フィルムは以下の方法で形
成することができるが、この方法に制限されない。即
ち、まず、各層を形成するための成分を含有した塗液が
調製される。次に、（Ａ）防眩性ハードコート層を形成
するための塗液を、ディップコート法、エアーナイフコ
ート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤ
ーバーコート法、グラビアコート法やエクストルージョ
ンコート法（米国特許２６８１２９４号明細書参照）に
より透明支持体上に塗布し、加熱・乾燥する。その後、
光照射あるいは加熱し、（Ａ）防眩性ハードコート層を
形成するためのモノマーを重合して硬化する。これによ
り（Ａ）防眩性ハードコート層が形成される。次に、同
様にして（Ｂ）低屈折率層を形成するための塗液を
（Ａ）防眩性ハードコート層上に塗布し、加熱・乾燥し
た後、光照射して光硬化性ゾルゲル成分を硬化すること
により（Ｂ）低屈折率層が形成される。光照射後、必要
に応じて加熱してもよい。このようにして、本発明の防
眩性反射防止フィルムが得られる。

【００５２】こにようにして形成された本発明の防眩性
反射防止フィルムは、本発明の防眩性反射防止フィルム
は、本発明の防眩性反射防止フィルムは、ヘイズ値が３
〜２０％、好ましくは４〜１５％の範囲にあり、そして
４５０ｎｍから６５０ｎｍの平均反射率が１．８％以
下、好ましくは１．５％以下である。本発明の防眩性反
射防止フィルムが上記範囲のヘイズ値及び平均反射率で
あることにより、透過画像の劣化を伴なわずに良好な防
眩性および反射防止性が得られる。

【００５３】本発明の偏光板は、偏光層の２枚の保護フ
ィルムのうち少なくとも１枚に上記防眩性反射防止フィ
ルムを用いてなる。本発明の防眩性反射防止フィルムを
最表層に使用することにより、外光の映り込み等が防止
され、耐傷性、防汚性等も優れた偏光板とすることがで
きる。また、本発明の偏光板において防眩性反射防止フ
ィルムが保護フィルムを兼ねることで、製造コストを低
減できる。

【００５４】本発明の防眩性反射防止フィルムは、液晶
表示装置（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイパネル（Ｐ
ＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬ
Ｄ）や陰極管表示装置（ＣＲＴ）のような画像表示装置
に適用することができる。本発明の防眩性反射防止フィ
ルムは透明支持体を有しているので、透明支持体側を画
像表示装置の画像表示面に接着して用いられる。

【００５５】

【実施例】以下に実施例に基づき本発明についてさらに
詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるもので
はない。

【００５６】（防眩性ハードコート層用塗布液Ａの調
製）ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペ
ンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物（ＤＰ
ＨＡ、日本化薬（株）製）２５０ｇをメチルエチルケト
ン／シクロヘキサノン＝５０／５０％の混合溶媒４３９
ｇに溶解し、得られた溶液に、光重合開始剤（イルガキ
ュア９０７、チバガイギー社製）７．５ｇおよび光増感
剤（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製）５．０
ｇを４９ｇのメチルエチルケトンに溶解した溶液を加え
た。この溶液を塗布、紫外線硬化して得られた塗膜の屈
折率は１．５３であった。さらに、この溶液に平均粒径
３μｍの不定形シリカ粒子（商品名：ミズカシルＰ−５
２６、水澤化学工業（株）製）１０ｇを添加して、高速
ディスパにて５０００ｒｐｍで１時間攪拌、分散した
後、孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過
して防眩性ハードコート層の塗布液を調製した。

【００５７】（防眩性ハードコート層用塗布液Ｂの調
製）ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペ
ンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物（ＤＰ
ＨＡ、日本化薬（株）製）１２５ｇ、ビス（４−メタク
リロイルチオフェニル）スルフィド（ＭＰＳＭＡ、住友
精化（株）製）１２５ｇを、４３９ｇのメチルエチルケ
トン／シクロヘキサノン＝５０／５０％の混合溶媒に溶
解した。得られた溶液に、光重合開始剤（イルガキュア
９０７、チバガイギー社製）５．０ｇおよび光増感剤
（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製）３．０ｇ
を４９ｇのメチルエチルケトンに溶解した溶液を加え
た。この溶液を塗布、紫外線硬化して得られた塗膜の屈
折率は１．６０であった。さらにこの溶液に平均粒径２
μｍの架橋ポリスチレン粒子（商品名：ＳＸ−２００
Ｈ、綜研化学（株）製）１０ｇを添加して、高速ディス
パにて５０００ｒｐｍで１時間攪拌、分散した後、孔径
３０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して防眩
性ハードコート層の塗布液を調製した。

【００５８】（防眩性ハードコート層用塗布液Ｃの調
製）シクロヘキサノン１０４．１ｇ、メチルエチルケト
ン６１．３ｇの混合溶媒に、エアディスパで攪拌しなが
ら酸化ジルコニウム分散物含有ハードコート塗布液（Ｋ
Ｚ−７９９１、ＪＳＲ（株）製）２１７．０ｇ、を添加
した。この溶液を塗布、紫外線硬化して得られた塗膜の
屈折率は１．７０であった。さらにこの溶液に平均粒径
２μｍの架橋ポリスチレン粒子（商品名：ＳＸ−２００
Ｈ、綜研化学（株）製）５ｇを添加して、高速ディスパ
にて５０００ｒｐｍで１時間攪拌、分散した後、孔径３
０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して防眩性
ハードコート層の塗布液を調製した。

【００５９】（防眩性ハードコート層用塗布液Ｄの調
製）シクロヘキサノン３２．２ｇに、エアディスパで攪
拌しながら酸化ジルコニウム分散物含有ハードコート塗
布液（ＫＺ−７１１８、ＪＳＲ（株）製）３０３．３
ｇ、およびジペンタエリスリトールペンタアクリレート
とジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物
（ＤＰＨＡ、日本化薬（株）製）１２３．４ｇ、を添加
した。この溶液を塗布、紫外線硬化して得られた塗膜の
屈折率は１．６１であった。さらにこの溶液に平均粒径
２μｍの架橋ポリスチレン粒子（商品名：ＳＸ−２００
Ｈ、綜研化学（株）製）８．２ｇを添加して、高速ディ
スパにて５０００ｒｐｍで１時間攪拌、分散した後、孔
径３０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して防
眩性ハードコート層の塗布液を調製した。

【００６０】（ハードコート層用塗布液Ｅの調製）ジペ
ンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリ
スリトールヘキサアクリレートの混合物（ＤＰＨＡ、日
本化薬（株）製）２５０ｇを、４３９ｇのメチルエチル
ケトン／シクロヘキサノン＝５０／５０％の混合溶媒に
溶解した。得られた溶液に、光重合開始剤（イルガキュ
ア９０７、チバガイギー社製）７．５ｇおよび光増感剤
（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製）５．０ｇ
を４９ｇのメチルエチルケトンに溶解した溶液を加え
た。この溶液を塗布、紫外線硬化して得られた塗膜の屈
折率は１．５３であった。さらにこの溶液を孔径３０μ
ｍのポリプロピレン製フィルターでろ過してハードコー
ト層の塗布液を調製した。

【００６１】（低屈折率層用塗布液Ａの調製）屈折率
１．４１の含フッ素ポリマー含有光硬化性ゾルゲル化合
物（オプスターＴＭ５０１Ａ、固形分濃度１５％、ＪＳ
Ｒ（株）製）５０ｇにシリカ粒子メチルイソブチルケト
ン分散物（ＭＩＢＫ−ＳＴ、固形分濃度３０％、日産化
学製）２．８ｇおよびメチルイソブチルケトン１４７ｇ
を添加、攪拌の後、孔径１μｍのポリプロピレン製フィ
ルターでろ過して、低屈折率層用塗布液を調製した。

【００６２】（低屈折率層用塗布液Ｂの調製）屈折率
１．４３の含フッ素ポリマー含有光硬化性ゾルゲル化合
物（オプスターＴＭ５０５、固形分濃度１５％、ＪＳＲ
（株）製）５０ｇにシリカ粒子メチルイソブチルケトン
分散物（ＭＩＢＫ−ＳＴ、固形分濃度３０％、日産化学
製）２．８ｇおよびメチルイソブチルケトン１４７ｇを
添加、攪拌の後、孔径１μｍのポリプロピレン製フィル
ターでろ過して、低屈折率層用塗布液を調製した。

【００６３】（低屈折率層用塗布液Ｃの調製）シリカ粒
子メチルイソブチルケトン分散物（ＭＩＢＫ−ＳＴ、固
形分濃度３０％、日産化学製）２．８ｇにγ−グリシド
キシプロピルトリメトキシシラン０．００８４ｇを添加
し、室温で２時間撹拌し、続いて２４時間放置し、表面
処理シリカを調製した。この表面処理シリカ分散物に屈
折率１．４３の含フッ素ポリマー含有光硬化性ゾルゲル
化合物（オプスターＴＭ５０５、固形分濃度１５％、Ｊ
ＳＲ（株）製）５０ｇおよびメチルイソブチルケトン１
４７ｇを添加、攪拌の後、孔径１μｍのポリプロピレン
製フィルターでろ過して、低屈折率層用塗布液を調製し
た。

【００６４】（低屈折率層用塗布液Ｄの調製）屈折率
１．４１の含フッ素ポリマー含有光硬化性ゾルゲル化合
物（オプスターＴＭ５０１Ａ、固形分濃度１５％、ＪＳ
Ｒ（株）製）２８ｇにメチルイソブチルケトン７２ｇを
添加、攪拌の後、孔径１μｍのポリプロピレン製フィル
ターでろ過して、低屈折率層用塗布液を調製した。

【００６５】（低屈折率層用塗布液Ｅの調製）屈折率
１．４３の含フッ素ポリマー含有光硬化性ゾルゲル化合
物（オプスターＴＭ５０５、固形分濃度１５％、ＪＳＲ
（株）製）５０ｇにメチルイソブチルケトン７２ｇを添
加、攪拌の後、孔径１μｍのポリプロピレン製フィルタ
ーでろ過して、低屈折率層用塗布液を調製した。

【００６６】実施例１ ８０μｍの厚さのトリアセチルセルロースフイルム（Ｔ
ＡＣ−ＴＤ８０Ｕ、富士写真フイルム（株）製）に、上
記の防眩性ハードコート層用塗布液Ａをバーコーターを
用いて塗布し、１２０℃で乾燥の後、１６０Ｗ／ｃｍの
空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）
製）を用いて、照度４００ｍＷ／ｃｍ²、照射量３００
ｍＪ／ｃｍ²の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、厚
さ６μｍの防眩性ハードコート層を形成した。ハードコ
ート層膜厚の２分の１である３μｍより大きい粒径のシ
リカ粒子は約５０％である。その上に、上記低屈折率層
用塗布液Ａをバーコーターを用いて塗布し、６０℃で乾
燥の後、照度４００ｍＷ／ｃｍ²、照射量３００ｍＪ／
ｃｍ²の紫外線を照射して塗布層を硬化させた後、さら
に１２０℃で８分間加熱し、厚さ０．０９６μｍの低屈
折率層を形成した。

【００６７】実施例２ 低屈折率層塗布液Ａの替わりに低屈折率塗布液Ｂを用い
た以外は実施例１と同様にしてサンプルを作成した。

【００６８】実施例３ 低屈折率層塗布液Ａの替わりに低屈折率塗布液Ｃを用い
た以外は実施例１と同様にしてサンプルを作成した。

【００６９】比較例１ 低屈折率層塗布液Ａの替わりに低屈折率塗布液Ｄを用い
た以外は実施例１と同様にして比較用サンプルを作成し
た。

【００７０】比較例２ 低屈折率層塗布液Ａの替わりに低屈折率塗布液Ｅを用い
た以外は実施例１と同様にして比較用サンプルを作成し
た

【００７１】実施例４ ８０μｍの厚さのトリアセチルセルロースフイルム（Ｔ
ＡＣ−ＴＤ８０Ｕ、富士写真フイルム（株）製）に、ハ
ードコート層用塗布液Ｅをバーコーターを用いて塗布
し、１２０℃で乾燥の後、１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタル
ハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用い
て、照度４００ｍＷ／ｃｍ²、照射量３００ｍＪ／ｃｍ²
の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、厚さ４μｍのハ
ードコート層を形成した。その上に、防眩性ハードコー
ト層用塗布液Ｂをバーコーターを用いて塗布し、上記ハ
ードコート層と同条件にて乾燥、紫外線硬化して、厚さ
約１．５μｍのハードコート層を形成した。その上に、
上記低屈折率層用塗布液Ａをバーコーターを用いて塗布
し、６０℃で乾燥の後、照度４００ｍＷ／ｃｍ²、照射
量３００ｍＪ／ｃｍ²の紫外線を照射して塗布層を硬化
させた後、さらに１２０℃で８分間加熱し、厚さ０．０
９６μｍの低屈折率層を形成した。

【００７２】実施例５ 防眩性ハードコート層塗布液Ｂの替わりに防眩性ハード
コート層塗布液Ｃを用いた以外は実施例４と同様にして
サンプルを作成した。

【００７３】実施例６ 防眩性ハードコート層塗布液Ｂの替わりに防眩性ハード
コート層塗布液Ｄを用いグラビアコーターを用いて塗布
した以外は実施例４と同様にしてサンプルを作成した。

【００７４】実施例７ 低屈折率層塗布液Ａの替わりに低屈折率塗布液Ｂを用い
た以外は実施例５と同様にしてサンプルを作成した。

【００７５】実施例８ 低屈折率層塗布液Ａの替わりに低屈折率塗布液Ｃを用い
た以外は実施例５と同様にしてサンプルを作成した。

【００７６】比較例３ 低屈折率層塗布液Ａの替わりに低屈折率塗布液Ｄを用い
た以外は実施例５と同様にして比較サンプルを作成し
た。

【００７７】比較例４ 低屈折率層塗布液Ａの替わりに低屈折率塗布液Ｅを用い
た以外は実施例５と同様にして比較用サンプルを作成し
た。

【００７８】（防眩性反射防止フィルムの評価）得られ
たフィルムについて、以下の項目の評価を行った。 （１）平均反射率 分光光度計（日本分光（株）製）を用いて、３８０〜７
８０ｎｍの波長領域において、入射角５°における分光
反射率を測定した。結果には４５０〜６５０ｎｍの平均
反射率を用いた。 （２）ヘイズ 得られたフィルムのヘイズをヘイズメーターＭＯＤＥＬ
１００１ＤＰ（日本電色工業（株）製）を用いて測定
した。 （３）鉛筆硬度評価 耐傷性の指標としてＪＩＳ Ｋ ５４００に記載の鉛筆
硬度評価を行った。反射防止フィルムを温度２５℃、湿
度６０％ＲＨで２時間調湿した後、ＪＩＳ Ｓ６００６
に規定する３Ｈの試験用鉛筆を用いて、１ｋｇの荷重に
て試験を行い、以下の基準で評価した。 ｎ＝１０の評価において傷が全く認められない ：○ ｎ＝１０の評価において傷が認められる ：× （４）接触角、指紋付着性評価 表面の耐汚染性の指標として、光学材料を温度２５℃、
湿度６０％ＲＨで２時間調湿した後、水に対する接触角
を測定した。またこのサンプル表面に指紋を付着させて
から、それをクリーニングクロスで拭き取ったときの状
態を観察して、以下のように指紋付着性を評価した。 指紋が完全に拭き取れる ：○ 指紋がやや見える ：△ 指紋がほとんど拭き取れない ：×

【００７９】（５）動摩擦係数測定 表面滑り性の指標として動摩擦係数にて評価した。動摩
擦係数は試料を２５℃、相対湿度６０％で２時間調湿し
た後、ＨＥＩＤＯＮ−１４動摩擦測定機により５ｍｍφ
ステンレス鋼球、荷重１００ｇ、速度６０ｃｍ／ｍｉｎ
にて測定した値を用いた。 （６）防眩性評価 作成した防眩性フィルムにルーバーなしのむき出し蛍光
灯（８０００ｃｄ／ｍ ²）を映し、その反射像のボケの
程度を以下の基準で評価した。 蛍光灯の輪郭が全くわからない ：◎ 蛍光灯の輪郭がわずかにわかる ：○ 蛍光灯はぼけているが、輪郭は識別できる ：△ 蛍光灯がほとんどぼけない ：× （７）ギラツキ評価 作成した防眩性フィルムにルーバーありの蛍光灯拡散光
を映し、表面のギラツキを以下の基準で評価した。 ほとんどギラツキが見られない ：○ わずかにギラツキがある ：△ 目で識別できるサイズのギラツキがある ：×

【００８０】表１に実施例および比較例の結果を示す。
実施例１〜８はいずれも反射防止性能に優れ、鉛筆硬
度、指紋付着性、防眩性、ギラツキのような防眩性反射
防止フィルムに必要とする全ての性能は良好であった。
比較例１〜４はいずれも低屈折率層に無機粒子が存在し
ないため、鉛筆硬度が悪く、耐傷性が不足していた。

【００８１】

【表１】

【００８２】次に、実施例１から９のフィルムを用いて
防眩性反射防止偏光板を作成した。この偏光板を用いて
反射防止層を最表層に配置した液晶表示装置を作成した
ところ、外光の映り込みがないために優れたコントラス
トが得られ、防眩性により反射像が目立たず優れた視認
性を有していた。

【００８３】

【発明の効果】本発明の防眩性反射防止フィルムは、反
射防止性能が高く、防汚性、耐傷性にも優れ、防眩性ハ
ードコート層及び低屈折率層の形成により低コストで製
造することができる。この防眩性反射防止フィルムを用
いた偏光板及び液晶表示装置は、外光の映り込みが十分
に防止されているうえ、防汚性、耐傷性も高いという優
れた性質を有する。

【図面の簡単な説明】

【図１】 防眩性反射防止フィルムの層構成を示す断面
模式図である。

【符号の説明】

１ 防眩性反射防止フィルム ２ 透明支持体 ３ ハードコート層 ４ 防眩性ハードコート層 ５ 低屈折率層 ６ 粒子

フロントページの続き Ｆターム(参考） 2H042 AA07 AA26 AA27 BA02 BA12 BA20 2H049 BA02 BB33 BB65 BC14 BC22 BC24 2H091 FA08X FA37X FB02 FB13 FC12 FC23 KA01 LA02 LA03 LA20 LA30 2K009 AA06 BB13 BB24 BB28 CC03 CC09 CC26 DD02 DD05 DD06 EE00 5C058 AA01 AA06 AA11 BA35 DA01 DA02

Claims (7)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 〔１〕透明支持体上に、（Ａ）平均粒径
   １〜１０μｍの粒子を含有している防眩性ハードコート
   層と、（Ｂ）平均粒径０．００１〜０．２μｍの無機微
   粒子、光硬化性のオルガノシランの加水分解物および／
   またはその部分縮合物、ならびに含フッ素ポリマーを含
   有する組成物から形成された屈折率が１．３５〜１．４
   ９の範囲にある低屈折率層とがこの順序で設けられてお
   り、〔２〕ヘイズ値が３〜２０％の範囲にあり、そして
   〔３〕４５０ｎｍから６５０ｎｍの平均反射率が１．８
   ％以下であることを特徴とする防眩性反射防止フィル
   ム。
2. 【請求項２】 （Ａ）防眩性ハードコート層を形成する
   ための組成物から平均粒径１〜１０μｍの粒子を除いて
   形成された膜の屈折率が１．５７〜２．００の範囲にあ
   ることを特徴とする請求項１に記載の防眩性反射防止フ
   ィルム。
3. 【請求項３】 （Ｂ）低屈折率層を形成するための組成
   物が、光酸発生剤を含有することを特徴とする請求項１
   又は２に記載の防眩性反射防止フィルム。
4. 【請求項４】 （Ｂ）低屈折率層を形成するための組成
   物に含有される無機微粒子がシリカ粒子であることを特
   徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の防眩性反射防
   止フィルム。
5. 【請求項５】 シリカ粒子がシランカップリング剤で処
   理されていることを特徴とする請求項４に記載の防眩性
   反射防止フィルム。
6. 【請求項６】 請求項１〜５のいずれかに記載の防眩性
   反射防止フィルムが偏光層の２枚の保護フィルムのうち
   の少なくとも一方に用いられていることを特徴とする偏
   光板。
7. 【請求項７】 請求項１〜５のいずれかに記載の防眩性
   反射防止フィルムまたは請求項６に記載の偏光板の反射
   防止層がディスプレイの最表層に用いられていることを
   特徴とする液晶表示装置。