JP3370578B2 - 反射防止材料及びその製造方法並びに偏光フィルム - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は液晶ディスプレイ（ＬＣ
Ｄ）、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、ＣＲＴ、ＥＬ
等の画像表示体等に好適に用いられ、特に、画像部の防
汚性、反射防止、耐薬品性、耐磨耗性に優れた反射防止
材料及びそれを使用した偏光フィルムに関するものであ
る。

【０００２】

【従来技術】ＬＣＤ、ＰＤＰ、ＣＲＴ、ＥＬに代表され
る画像表示装置（以下、これを「ディスプレイ」とい
う。）は、テレビやコンピューターを始めとして、様々
な分野で繁用されており、目覚ましい発展を遂げてい
る。このディスプレイの開発は、当初においてはカラー
化が開発のキーワードであったが、最近はハイビジョン
がキーワードのひとつになり、画像の高精細化、高画質
化、さらには低消費電力化等へ努力が傾注されている。
マン−マシンインターフェイスの重要な役割を担うこれ
らディスプレイは今後、マルチメディア時代の到来と共
に一層の普及が予想され、特に、携帯電話、ＰＨＳ、そ
の他各種携帯端末用としての普及が著しく拡大するもの
と予測される。

【０００３】携帯端末用ディスプレイとしては、軽量、
コンパクト、汎用性等の特徴を有するＬＣＤが市場を独
占するものと考えられているが、これらの携帯端末には
タッチパネルを搭載し、プラスチックのペンや指で直接
触れて操作するものが主流になってきている。そのた
め、ディスプレイ表面への耐磨耗性、耐薬品性、汚れ防
止に対する要求が高まっている。また、これらの機器を
屋外での使用も含めた比較的明るいところで使用する場
合の太陽光や蛍光等の外部光のディスプレイへの映り込
みを防止すること、すなわち反射防止に対する要求も強
くなっている。これらの要求は、現在、携帯端末機器に
限らず、小型から大型に至る様々なディスプレイに波及
している。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】反射防止に関しては、
従来、磨りガラスのように、光を散乱もしくは拡散させ
て像をボカス手法が一般的に行われている。光を散乱も
しくは拡散させるためには、光の入射面を粗面化するこ
とが基本となっており、この粗面化処理には、サンドブ
ラスト法やエンボス法等により基材表面を直接粗面化す
る方法、基材表面にフィラーを含有させた塗工層を設け
る方法及び基材表面に海島構造による多孔質膜を形成す
る方法等が採用されている。

【０００５】基材表面にフィラーを含有させた粗面化層
を設ける方法は、フィラーの粒径により粗面化面の凹凸
の大きさを比較的容易にコントロールでき、かつ製造が
容易である等の利点から現在、好んで用いられている。
塗工剤に使用する樹脂としては、透過性、耐熱性、耐磨
耗性、耐薬品性等に優れたものが望ましいが、基材が耐
熱性に乏しい高透明なプラスチックフィルムである場合
が多いことから、ＵＶ硬化型樹脂が好んで使用されてい
る。その例として、ＵＶ硬化型樹脂とシリカ顔料を構成
要素とする特開平１−１０５７３８や特開平５−１６２
２６１などが報告されている。

【０００６】ところで、基材の材料としては、従来、安
価で光学的特性等に優れていることからトリアセチルセ
ルロース（以下、ＴＡＣと称する）が多用されている
が、ＴＡＣは例えば偏光基体と積層されて使用される際
に水系の接着剤との接着性が極めて悪いという問題があ
る。かかる問題を改善すべく従来の反射防止材料では、
ＴＡＣに粗面化層を設けた後にＴＡＣをけん化すること
によって偏光基体との密着強度を高めていた。しかしな
がら、この場合には、粗面化層のＨＡＺＥ値が上昇する
等その光学特性が変化してしまってコントラストの低下
やムラが発生して鮮明な画像が得られないとともに、硬
化性および耐摩耗性が低下し、さらには、粗面化層の表
面に設ける反射防止層の表面硬度の低下も生じて耐摩耗
性が損なわれるという問題がある。また、粗面化層の表
面に反射防止層を設けた後にＴＡＣのけん化処理を行う
場合にも、反射防止層は容易にアルカリによって消失し
てしまうため結局粗面化層の上記の如き問題を生じてし
まう。したがって、そのような問題を生じることのない
粗面化層の改良が課題となっている。

【０００７】一方、ＴＡＣをあらかじめけん化処理して
から粗面化層を形成すると、ＴＡＣと粗面化層との密着
性は非常に悪く実用に供しないものであり、いずれにし
ても粗面化層の改良が課題となっている。したがって、
上記の如き光学特性等の問題を生じることのない優れた
光学特性を有し、かつ、良好な耐久性を有するような積
層構造、すなわち、偏光基体、透明基体および粗面化層
の積層体が要望されている。本発明は、上記のような問
題を解決することを課題として、優れた光学特性を有す
るとともに、偏光基体への密着性も良好な耐久性にも優
れた反射防止材料を提供することを目的とするものであ
る。

【０００８】また、ディスプレイの解像度が向上するに
伴い、上記粗面化層の凹凸の高さや間隔にも緻密化が要
求されるようになってきた。画像の高精細化は、主に画
像ドットの高密度化によるが、凹凸の間隔がこの画像ド
ットのピッチより小さい場合は良いが、大きい場合は干
渉によるギラツキが発生する。反射防止性が良好で、ギ
ラツキがない鮮明な画像を得るためには、まず、この凹
凸の高さおよび間隔を、小さくかつバラツキがないよう
コントロールしなければならない。

【０００９】しかしながら、ＵＶ硬化型樹脂とシリカ顔
料からなる粗面化層の分散性は必ずしも十分とはいえな
い上に、ＵＶ硬化を行うまでの粗面化層は、低粘度の液
状態を呈しているため、塗料を基材に塗布してからＵＶ
を照射するまでの間に、粗面化層中のフィラーどうしが
互いに付着し、凝集（オレンジピール）するという問題
を有していた。特に、粗面化層表面の凹凸を緻密化する
目的でフィラーの含有量を増加させたり、粗面化層の厚
さをコントロールするために粗面化層の塗料を溶剤等で
希釈する場合には特に顕著であった。

【００１０】本発明は、従来技術における上記した実情
に鑑みてなされたもので、ディスプレイへの太陽光及び
蛍光灯等の外部光の映り込みを防止することにより、優
れた反射防止性を発揮し、かつ、画像コントラストを低
下させることなく、ギラツキ等のない鮮明な画像を得る
ことができ、光学的に安定で優れた耐薬品性を示すのは
勿論のこと、基材と粗面化層との密着強度が高く耐摩耗
性に優れた反射防止材料およびその製造方法を提供する
ことを目的としている。また、本発明は、上記反射防止
材料を使用した偏光フィルムを提供することにより、特
に、フルカラー液晶ディスプレイ等の性能を大幅に向上
させることを目的としている。

【００１１】

【課題を解決するための手段】

（１）反射防止材料の内容 本発明者は、けん化ＴＡＣからなる透明基体と粗面化層
との密着強度を高めるために、粗面化層の主たる成分と
なる樹脂について検討を重ねた結果、樹脂にエポキシ化
合物と光カチオン重合開始剤を含有する紫外線硬化型樹
脂を含めると極めて効果的であることを見出した。よっ
て、本発明の反射防止材料は、上記知見に基づいてなさ
れたもので、透明基体の片面もしくは両面に、少なくと
も粗面化層を設けた反射防止材料において、透明基体
は、けん化されたトリアセチルセルロースからなり、粗
面化層は、エポキシ化合物と光カチオン重合開始剤を含
有する紫外線硬化型樹脂と、球状有機フィラーとを含む
ことを特徴としている。

【００１２】また、本発明の反射防止材料の製造方法
は、あらかじめけん化処理されたＴＡＣを透明基体とし
て用いて、該基体の片面又は両面に上記特定の組成を有
する粗面化層を設けることを特徴としている。以下、本
発明のより好適な実施の形態について詳細に説明する。

【００１３】

【発明の実施の形態】Ａ．透明基体 本発明の反射防止材料に使用する透明基体は、けん化Ｔ
ＡＣをシート状にしたものである。透明基体の透明性は
高いもの程良好であるが、光線透過率（ＪＩＳＣ−６７
１４）としては８０％以上、より好ましくは９０％以上
が良い。透明基体の厚さは、軽量化の観点から薄いほう
が望ましいが、その生産性を考慮すると、１μ〜５μｍ
の範囲のものを使用することが好適である。また、透明
基体に、コロナ処理、プラズマ処理、フッ素処理、スパ
ッタ処理等の表面処理や、界面活性剤、シランカップリ
ング剤等の塗布を行うと好適である。このような処理を
行うことにより、透明基体の表面エネルギーが上昇し、
粗面化層との密着強度を確実に高めることができる。具
体的には、透明基体の表面エネルギーは、５０ｄｙｎｅ
／ｃｍ以上であることが望ましい。

【００１４】また、透明基体の表面には、ディスプレイ
表面に静電的に付着するホコリ等の汚れを防止するため
に帯電防止層を設けても良い。帯電防止層は、アルミ、
錫等の金属、ＩＴＯ等の金属酸化膜を蒸着、スパッタ等
で極めて薄く設ける方法、アルミ、錫等の金属微粒子や
ウィスカー、酸化錫等の金属酸化物にアンチモン等をド
ープした微粒子やウィスカー、７，７，８，８−テトラ
シアノキノジメタンと金属イオンや有機カチオンなどの
電子供与体（ドナー）との間でできた電荷移動錯体をフ
ィラー化したもの等をポリエステル樹脂、アクリル樹
脂、エポキシ樹脂等に分散し、ソルベントコーティング
等により設ける方法、ポリピロール、ポリアニリン等に
カンファースルホン酸等をドープしたものをソルベント
コーティング等により設ける方法等により設けることが
できる。帯電防止層の透過率は光学用途の場合、８０％
以上が好ましい。

【００１５】Ｂ．粗面化層 次に本発明における粗面化層について説明する。本発明
における粗面化層は紫外線硬化型樹脂を含み、紫外線硬
化型樹脂は、主剤として、エポキシ系化合物、重合開始
剤として、光カチオン重合開始剤を必須構成要素とす
る。紫外線硬化型樹脂の粘度、架橋密度、耐熱性、耐薬
品性など塗料および塗工膜の特性をコントロールするた
めには、アクリル系化合物を混合することが好ましい。
本発明の紫外線硬化型樹脂を粗面化層に使用した場合の
利点を、従来のラジカル反応型紫外線硬化型樹脂と比較
すると以下のようになる。

【００１６】 けん化ＴＡＣで構成した透明基体への
密着性に優れているので、前もってけん化処理したＴＡ
Ｃに粗面化層を形成することができるため、光学特性に
優れた粗面化層を設けることができ、生産性も良好であ
る。 酸素阻害が少ない。 硬化収縮が非常に少ない。 顔料の分散性に優れている。

【００１７】前記エポキシ系化合物としては、テトラメ
チレングリコールジグリシジルエーテル、プロピレング
リコールジグリシジルエーテル、ネオペンチルグリコー
ルジグリシジルエーテル、ビスフェノールＡジグリシジ
ルエーテル等のグリシジルエーテル、２−ヒドロキシ−
３−フェノキシプロピルアクリレート、ビスフェノール
Ａ−ジエポキシ−アクリル酸付加物等のエポキシエステ
ルや、以下の化学式からなる脂環式エポキシ等のモノマ
ーおよびオリゴマーをあげることができる。

【００１８】

【化１】

【００１９】光カチオン重合開始剤としては、以下の化
学式からなる化合物をあげることができる。なお、これ
ら化合物は各単体で用いても良く、複数混合で使用して
も良い。

【００２０】

【化２】

【００２１】光カチオン重合開始剤の配合量は、主剤に
対し、０．１〜５．０重量％の範囲が望ましい。この配
合量は０．１より少なくても、５．０より多くても紫外
線硬化は不十分である。

【００２２】紫外線硬化型樹脂に混合するアクリル系化
合物としては、ラウリルアクリレート、エトキシジエチ
レングリコールアクリレート、メトキシトリエチレング
リコールアクリレート、フェノキシエチルアクリレー
ト、テトラヒドロフルフリルアクリレート、イソボルニ
ルアクリレート、２−ヒドロキシエチルアクリレート、
２−ヒドロキシプロピルアクリレート、２−ヒドロキシ
−３−フェノキシアクリレート等の単官能アクリレー
ト、ネオペンチルグリコールジアクリレート、１，６−
ヘキサンジオールジアクリレート、トリメチロールプロ
パントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアク
リレート、ペンタエリスリトールアクリレート、ジペン
タエリスリトールヘキサアクリレート、トリメチロール
プロパンアクリル酸安息香酸エステル、トリメチロール
プロパン安息香酸エステル等の多官能アクリレート等の
アクリル酸誘導体、２−エチルヘキシルメタクリレー
ト、ｎ−ステアリルメタクリレート、シクロヘキシルメ
タクリレート、テトラヒドロフルフリルメタクリレー
ト、２−ヒドロキシエチルメタクリレート、２−ヒドロ
キシブチルメタクリレート等の単官能メタクリレート、
１，６−ヘキサンジオールジメタクリレート、トリメチ
ロールプロパントリメタクリレート、グリセリンジメタ
クリレート等の多官能メタクリレート等のメタクリル酸
誘導体、グリセリンジメタクリレートヘキサメチレンジ
イソシアネート、ペンタエリスリトールトリアクリレー
トヘキサメチレンジイソシアネート等のウレタンアクリ
レート等のモノマーおよびオリゴマーをあげることがで
きる。

【００２３】前記紫外線硬化型樹脂を使用した粗面化層
の硬化に伴う体積収縮率（下記方法より算出）は、２０
％以下が望ましい。体積収縮率が２０％より大きくなる
と、透明基体が薄手のフィルムの場合はカールが著しく
なり、また厚手で剛度の高いフィルムやガラスのような
リジットな板状の基材の場合は粗面化層の密着性が低下
する。

【００２４】

【数１】体積収縮率：Ｄ＝（Ｓ−Ｓ'）／Ｓ×１００ Ｓ：硬化前の比重 Ｓ'：硬化後の比重 （比重はＪＩＳ Ｋ−７１１２のＢ法ピクノメーター法
により測定）

【００２５】また、紫外線硬化型樹脂の透明性は高いほ
ど良く、光線透過率（ＪＩＳ Ｃ−６７１４）として
は、透明基体同様、８０％以上、好ましくは９０％以上
が好ましい。反射防止材料の透明性は該紫外線硬化型樹
脂の屈折率によって影響を受けるが、屈折率は、１．４
５〜１．７０の範囲が好ましく、この範囲を超えると反
射防止効果が損なわれる。

【００２６】粗面化層にはフィラーを含有させ、粗面化
層表面を粗面化することで、反射防止効果を向上させる
ことができる。フィラーとしてはシリカ、炭酸カルシウ
ム、水酸化アルミニウム、水酸化マグネシウム、クレ
ー、タルク、二酸化チタン等の無機系白色顔料、アクリ
ル樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリエチレン樹脂、エポキ
シ樹脂、シリコン樹脂、ビーズ等有機系の透明または白
色顔料等をあげることができる。特に、球状で給油性を
示さない有機フィラーが好ましく、球状のフィラーを用
いることによって、粗面化層の表面から突出する部分が
なだらかになり、油分等の汚れが付着し難くなるととも
に付着した汚れを拭い易くなる。

【００２７】このようなフィラーの粒子径Ｄ（ＪＩＳ
Ｂ９９２１）は、０．５μｍ≦Ｄ≦６．０μｍの範囲の
ものが６０重量％以上、６．０μｍ＜Ｄ≦１０．０μｍ
の範囲のものが２０重量％未満、１０μｍ＜Ｄ≦１５．
０μｍの範囲のものが５重量％以下、１５．０μｍ＜Ｄ
であるものが１重量％以下であることが望ましい。さら
に、１５．０μｍ＜Ｄである粒子は、できれば含有され
ない（０％）ことが好ましく、特に、０．５μｍ≦Ｄ≦
６．０μｍの範囲のものが８０重量％以上、６．０μｍ
＜Ｄ≦１０．０μｍの範囲のものが１０重量％未満、１
０μｍ＜Ｄ≦１５．０μｍの範囲のものは全く含まない
ことが好ましい。０．５μｍ≦Ｄ≦６．０μｍの範囲に
あるフィラーの重量％と、６．０μｍ＜Ｄ≦１０．０μ
ｍの範囲にあるフィラーの重量％、さらに、１０μｍ＜
Ｄ≦１５．０μｍの範囲にあるフィラーの重量％が、そ
れぞれ６０％未満、２０％未満、５％未満の場合は、デ
ィスプレイの反射防止効果が悪くなり、６．０μｍ＜Ｄ
≦１０．０μｍの範囲にあるフィラーが２０重量％以上
もしくは、１０μｍ＜Ｄ≦１５．０μｍの範囲にあるフ
ィラーが５重量％以上の場合は、ディスプレイの画像に
ギラツキが発生する。フィラーの配合量については、粗
面化層の全固形分比で、０．５〜３０％の範囲が良い。
特に、１〜１５％の範囲が好ましい。配合量が０．５％
以下では、反射防止効果が不充分となり、３０％以上で
は、透明性、画像のコントラストが劣るばかりでなく、
耐摩耗性や耐環境性等の耐久性が悪くなる。また、フィ
ラーの屈折率（ＪＩＳ Ｋ−７１４２によるＢ法）は、
硬化型樹脂と同等であることが好ましい。フィラーの屈
折率が硬化型樹脂の屈折率と異なる場合は、フィラーと
樹脂界面で光が拡散し、透明性が損なわれる。硬化型樹
脂と同等の屈折率を有するフィラーの例としては、有機
系のフィラー、特に、架橋アクリルビーズが好適であ
る。

【００２８】架橋アクリルビーズとしては、アクリル酸
及びそのエステル、メタクリル酸及びそのエステル、ア
クリルアミド、アクリルニトリル等のアクリル系モノマ
ーと過硫酸等の重合開始剤、エチレングリコールジメタ
クリレート等の架橋剤を用い、懸濁重合法等により重合
して得られる重合体及び共重合体からなる架橋アクリル
系ビーズが好適に使用できる。特にアクリル系のモノマ
ーとして、メチルメタクリレートを使用した構成が好ま
しい。この様にして得られた架橋アクリルビーズは球状
で吸油性を示さないことから、粗面化層に使用した場
合、優れた耐汚染性を発現できる。また、架橋アクリル
ビーズには、塗料の分散性を向上させるために油脂類、
シランカップリング剤、金属酸化物等の有機・無機材料
による表面改質を行っても良い。

【００２９】本発明において、透明基体の片面または両
面に、粗面化層を設ける方法としては、上記で述べた紫
外線硬化型樹脂中に、必要に応じて架橋アクリルビーズ
等のフィラーや水或は有機溶剤を混合し、これをペイン
トシェーカー、サンドミル、パールミル、ボールミル、
アトライター、ロールミル、高速インペラー分散機、ジ
ェットミル、高速衝撃ミル、超音波分散機等によって分
散して塗料またはインキとし、これをエアドクターコー
ティング、ブレードコーティング、ナイフコーティン
グ、リバースコーティング、トランスファロールコーテ
ィング、グラビアロールコーティング、キスコーティン
グ、キャストコーティング、スプレーコーティング、ス
ロットオリフィスコーティング、カレンダーコーティン
グ、電着コーティング、ディップコーティング、ダイコ
ーティング等のコーティングやフレキソ印刷等の凸版印
刷、ダイレクトグラビア印刷、オフセットグラビア印刷
等の凹版印刷、オフセット印刷等の平版印刷、スクリー
ン印刷等の孔版印刷等の印刷手法により透明基体の片面
もしくは両面上に単層もしくは多層に分けて設け、溶媒
を含んでいる場合は、熱乾燥工程を経て、紫外線照射に
より塗工層もしくは印刷層を硬化させることによって得
る方法等挙げられる。なお、照射する紫外線としては、
超高圧水銀灯、高圧水銀灯、低圧水銀灯、カーボンアー
ク、キセノンアーク、メタルハライドランプ等の光線か
ら発する紫外線等が利用できる。

【００３０】塗料、インクの塗工適性または印刷適性を
向上させるために、必要に応じ、シリコーンオイル等の
レベリング剤、ポリエチレンワックス、カルナバワック
ス、高級アルコール、ビスアマイド、高級脂肪酸等の油
脂、イソシアネート等の硬化剤、炭酸カルシウムやシリ
カゾル、合成雲母等０．１μｍ以下の超微粒子等の添加
剤を適宜使用することができる。また、ディスプレイ表
面に静電的に付着するホコリ等の汚れを防止するために
帯電防止剤を添加しても良い。帯電防止剤は、上述の帯
電防止層で説明した材料がそのまま適用できる。

【００３１】粗面化層の厚さは０．５〜１０μｍの範囲
が、好ましくは１〜５μｍの範囲が良い。粗面化層が
０．５μｍより薄い場合は、粗面化層の耐磨耗性が悪く
なったり、紫外線硬化型樹脂を使用した場合など、酸素
阻害により硬化不良を起こす。１０μｍより厚い場合
は、樹脂の硬化収縮によりカールが発生したり、粗面化
層にマイクロクラックが発生したり、さらに、透明基体
との密着性が低下したりする。

【００３２】Ｃ．表面層 本発明においては、より優れた反射防止機能を得るため
に、必要に応じて粗面化層上に表面層を設けることがで
きる。該表面層の組成は特に限定されるものではない
が、その臨界表面張力が２０ｄｙｎｅ／ｃｍ以下となる
ように調整されていることが良好な反射防止機能を維持
する上で好ましい。臨界表面張力が２０ｄｙｎｅ／ｃｍ
より大きい場合は、表面層に付着した汚れが取れにくく
なる。また、反射防止効果を向上させるためには、表面
層の屈折率が粗面化層の屈折率より低く、かつ、１．４
５以下であることが好ましい。これらの特徴を有する材
料としては、例えばＬｉＦ（屈折率ｎ＝１．４）、Ｍｇ
Ｆ₂（ｎ＝１．４）、３ＮａＦ・ＡｌＦ₃（ｎ＝１．
４）、ＡｌＦ₃（ｎ＝１．４）Ｎａ₃ＡｌＦ₆（ｎ＝１．
３３）等の無機材料を微粒子化し、アクリル系樹脂やエ
ポキシ系樹脂等に含有させた無機系低反射材料、フッ素
系、シリコーン系の有機化合物、熱可塑性樹脂、熱硬化
型樹脂、放射線硬化型樹脂等の有機低反射材料を挙げる
ことができる。その中で、特に、フッ素系の含フッ素材
料が汚れ防止の点において好ましい。

【００３３】前記含フッ素材料としては、有機溶剤に溶
解し、その取り扱いが容易であるフッ化ビニリデン系共
重合体や、フルオロオレフィン／炭化水素オレフィン共
重合体、含フッ素エポキシ樹脂、含フッ素エポキシアク
リレート、含フッ素シリコーン、含フッ素アルコキシシ
ラン、さらに、ＴＥＦＲＯＮ ＡＦ１６００（デュポン
社製、ｎ＝１．３０）、ＣＹＴＯＰ（旭硝子（株）社
製、ｎ＝１．３４）、１７ＦＭ（三菱レーヨン（株）社
製、屈折率ｎ＝１．３５）、オプスターＪＮ−７２１２
（日本合成ゴム（株）社製、ｎ＝１．４０）、ＬＲ２０
１（日産化学工業（株）社製、ｎ＝１．３８）等を挙げ
ることができる。これらは単独でも複数組み合わせて使
用することも可能である。

【００３４】また、２−（パーフルオロデシル）エチル
メタクリレート、２−（パーフルオロ−７−メチルオク
チル）エチルメタクリレート、３−（パーフルオロ−７
−メチルオクチル）−２−ヒドロキシプロピルメタクリ
レート、２−（パーフルオロ−９−メチルデシル）エチ
ルメタクリレート、３−（パーフルオロ−８−メチルデ
シル）−２−ヒドロキシプロピルメタクリレート等の含
フッ素メタクリレート、３−パーフルオロオクチル−２
−ヒドロキシプロピルアクリレート、２−（パーフルオ
ロデシル）エチルアクリレート、２−（パーフルオロ−
９−メチルデシル）エチルアクリレート等の含フッ素ア
クリレート、３−パーフルオロデシル１，２−エポキシ
プロパン、３−（パーフルオロ−９−メチルデシル）−
１，２−エポキシプロパン等のエポキサイド、エポキシ
アクリレート等の放射線硬化型の含フッ素モノマー、オ
リゴマー、プレポリマー等を挙げることができる。これ
らは単独もしくは複数種類混合して使用することも可能
である。

【００３５】さらに、５〜３０ｎｍのシリカ超微粒子を
水もしくは有機溶剤に分散したゾルとフッ素系の皮膜形
成剤を混合した低反射材料を使用することもできる。該
５〜３０ｎｍのシリカ超微粒子を水もしくは有機溶剤に
分散したゾルは、ケイ酸アルカリ塩中のアルカリ金属イ
オンをイオン交換等で脱アルカリする方法や、ケイ酸ア
ルカリ塩を鉱酸で中和する方法等で知られた活性ケイ酸
を縮合して得られる公知のシリカゾル、アルコキシシラ
ンを有機溶媒中で塩基性触媒の存在下に加水分解と縮合
することにより得られる公知のシリカゾル、さらには上
記の水性シリカゾル中の水を蒸留法等により有機溶剤に
置換することにより得られる有機溶剤系のシリカゾル
（オルガノシリカゾル）が用いられる。これらのシリカ
ゾルは水系及び有機溶剤系のどちらでも使用することが
できる。有機溶剤系シリカゾルの製造に際し、完全に水
を有機溶剤に置換する必要はない。前記シリカゾルはＳ
ｉＯ₂として０．５〜５０重量％濃度の固形分を含有す
る。シリカゾル中のシリカ超微粒子の構造は球状、針
状、板状等様々なものが使用可能である。

【００３６】また、被膜形成剤としては、アルコキシシ
ラン、金属アルコキシドや金属塩の加水分解物や、ポリ
シロキサンをフッ素変性したものなどを用いることがで
きる。上記のような被膜形成剤を用いることにより、表
面層の臨界表面張力が低下して油分の付着を抑制するこ
とができる。本発明において表面層は、上記で述べた材
料を例えば溶剤に希釈し、スピンコーター、ロールコー
ター、印刷等の方法で粗面化層上に設けて乾燥後、熱や
放射線（紫外線の場合は上述の光重合開始剤を使用す
る）等により硬化させることによって得ることができ
る。放射線硬化型の含フッ素モノマー、オリゴマー、プ
レポリマーは耐汚染性には優れているが、ヌレ性が悪い
ため、組成によっては粗面化層上で表面層をはじくとい
う問題や、表面層が粗面化層から剥がれるという問題が
生じるおそれがあるため、粗面化層に使用する前述の放
射線硬化型樹脂として説明した、アクリロイル基、メタ
クリロイル基、アクリロイルオキシ基、メタクリロイル
オキシ基等重合性不飽和結合を有するモノマー、オリゴ
マー、プレポリマーを適宜混合し、使用することが望ま
しい。なお、透明基体であるＴＡＣは熱によるダメージ
を受けやすいことから、これら表面層の材料としては、
放射線硬化型樹脂を選択することが好ましい。

【００３７】表面層の塗料、インクの塗工適性または印
刷適性を向上させるために、必要に応じ、粗面化層同
様、シリコーンオイル等のレベリング剤、ポリエチレン
ワックス、カルナバワックス、高級アルコール、ビスア
マイド、高級脂肪酸等の油脂、イソシアネート等の硬化
剤、炭酸カルシウムやシリカゾル、合成雲母等０．０５
μｍ以下の超微粒子等の添加剤を適宜使用することがで
きる。また、ディスプレイ表面に静電的に付着するホコ
リ等の汚れを防止するために帯電防止剤を表面層に添加
したり、もしくは表面層上に帯電防止層を設けても良
い。帯電防止剤は、前述の帯電防止層で説明した材料が
そのまま適用できる。

【００３８】表面層が良好な反射防止機能を発揮するた
めの厚さについては、公知の計算式で算出することがで
きる。公知の文献（サイエンスライブラリ、物理学９
「光学」７０〜７２頁）によれば、入射光が表面層に垂
直に入射する場合に、表面層が光を反射せず、かつ１０
０％透過するための条件は次の関係式を満たせば良いと
されている。なお、式中Ｎ₀は表面層の屈折率、Ｎ_sは粗
面化層の屈折率、ｈは表面層の厚さ、λ₀は光の波長を
示す。

【００３９】

【数２】Ｎ₀＝Ｎ_s ^1/2 式（１） Ｎ₀ｈ＝λ₀／４ 式（２）

【００４０】前記（１）式によれば、光の反射を１００
％防止するためには、表面層の屈折率が下層（粗面化
層）の屈折率の平方根になるような材料を選択すればよ
いことが分かる。但し、実際は、この数式を完全に満た
す材料は見出し難く、限りなく近い材料を選択すること
になる。前記（２）式では（１）式で選択した表面層の
屈折率と、光の波長から表面層の反射防止膜としての最
適な厚さが計算される。たとえば、粗面化層、表面層の
屈折率をそれぞれ１．５０、１．３８、光の波長を５５
０ｎｍ（視感度の基準）とし、これらの値を前記（２）
式に代入すると、表面層の厚さは０．１μｍ前後の光学
膜厚、好ましくは０．１０±０．０１μｍの範囲が最適
であると計算される。

【００４１】このようにして作製した本発明の反射防止
材料のＪＩＳ Ｋ７１０５によるＨＡＺＥ値は、３〜３
０の範囲、特に好ましくは５〜１５の範囲であることが
好ましい。この場合、この値が３未満では、光拡散の効
果が少なくそれ程大きな反射防止効果を得ることができ
ない。一方、ＨＡＺＥ値が３０を超えると、画像コント
ラストが悪く視認性不良となり、ディスプレイとしての
機能低下を招くことから好ましくない。なお、ＨＡＺＥ
値とは、曇価を意味するものであり、積分球式光線透過
率測定装置を用いて、拡散透過率（Ｈｄ％）と全光線透
過率（Ｈｔ％）を測定し、下記式にて算出する。

【００４２】

【数３】ＨＡＺＥ値＝Ｈｄ／Ｈｔ×１００

【００４３】（２）偏光フィルムの内容 上記構成の反射防止材料をフィルム状の偏光基体の片面
に設けることにより、偏光フィルムを構成することがで
きる。すなわち、本発明の偏光フィルムは透明基体の片
面に、少なくとも粗面化層を設け、透明基体の反対側の
面に、偏光基体を介して保護材を積層した偏光フィルム
において、透明基体は、けん化されたトリアセチルセル
ロースからなり、粗面化層は、エポキシ化合物と光カチ
オン重合開始剤とを含有する紫外線硬化型樹脂を含むこ
とを特徴としている。以下、本発明の偏光フィルムの詳
細について説明する。

【００４４】Ａ．偏光基体 偏光基体は、透明フィルムを形成できる材料で構成さ
れ、具体的には、ポリビニルアルコール、ポリビニレン
等が使用できる。そして、このような材料を延伸させて
フィルム化することにより偏光基体を得ることができ
る。例えば、２色性素子として沃素または染料を吸着さ
せたポリビニルアルコールを一軸延伸して得られたポリ
ビニルアルコール（ＰＶＡ)フィルムを用いることが好
ましい。偏光基体は１０〜８０μｍの厚みを有するもの
が使用される。具体的には、ＰＶＡフィルムを一軸方向
に３〜４倍程度延伸し、高次の沃素イオン中に延伸した
ＰＶＡフィルムを含浸させることにより偏光基体を得る
ことができる。

【００４５】Ｂ．透明基体及び保護材 上記で得られるＰＶＡフィルムは、強度等が不足してい
ることから、裂け易く、湿度変化に対して収縮率が大き
いという欠点を有していることから、偏光基体の両面に
透明基体及び保護材がそれぞれ積層される。これらは偏
光基体の両面に、ポリエステル系接着剤、ポリアクリル
系接着剤、ポリウレタン系接着剤、ポリ酢酸ビニル系接
着剤等により接着される。

【００４６】透明基体には、前述したけん化ＴＡＣが用
いられ、保護材としては、透明な高分子化合物のフィル
ム、例えば、ＴＡＣ等のセルロース系フィルム、ポリエ
ステルフィルム、ポリカーボネートフィルム等が使用さ
れる。その中でも特にＴＡＣが好ましい。これらのフィ
ルムの厚さは１０〜２０００μｍが好ましい。また、こ
れらのフィルムには特にほう酸等のゲル化剤を使用した
り、熱処理やホルマール化を行うことによって、フィル
ムの耐水性を向上させることが好ましい。また、偏光基
体との密着性を向上させるために、偏光基体との接着面
の表面エネルギーが５０ｄｙｎｅ／ｃｍ以上になるよう
に、けん化処理やコロナ処理等の表面処理を行うことが
好ましい。

【００４７】以下図面を用いて、本発明の反射防止材料
と偏光フィルムをさらに詳細に説明する。図１は、本発
明の反射防止材料の構成を示す概略断面図であり、反射
防止材料１０は、透明基体１１の片面上に粗面化層１２
を有する構成である。なお、粗面化層１２の表面には表
面層が形成されているが、表面層は極めて薄いために図
示を省略している（以下においても同じ）。図２は、本
発明の偏光フィルム２０の構成を示す概略断面図であ
り、偏光基体２４の片面に、透明基体２１と粗面化層２
２とを有する反射防止材料２３が設けられ、偏光基体２
４の他の面に保護材２５が設けられていることを示して
いる。

【００４８】図３は本発明の反射防止材料により防眩性
を改善した液晶表示体３０の構成を示している。この液
晶表示体３０は、上面の液晶パネル３１と下面の導光板
装置（ＥＬ）やランプ等の背面光源３２とを積層して形
成されている。液晶パネル３１には、例えば、ツイステ
ッドネマチック（ＴＮ）液晶セルなどが使用可能であ
る。

【００４９】ＴＮ液晶セルは、所望のパターンからなる
透明電極付きの２枚のガラス基板３３，３４の透明電極
面３３'、及び３４'上に、ポリイミドの溶液を塗布して
配向膜を形成し、これをラビング操作により配向させ、
その後、このガラス基板３３，３４間にネマチック液晶
３５を注入し、ガラス基板３３，３４周辺部をエポキシ
樹脂等で封着することにより形成される。このネマチッ
ク液晶は、配向膜の作用により９０゜捻れ配向する。こ
のＴＮ液晶セルの２枚のガラス基板の背面光源とは反対
側には、図２に示される粗面化層２２を有する反射防止
材料２３と保護材２５とで偏光基体２４の両面を保護さ
れた偏光フィルム３６を、また、その背面光源側には、
粗面化層のない偏光フィルム３７を、偏光角度が互いに
９０゜捻れるように貼ることで液晶パネル３１が形成さ
れる。

【００５０】上記ＴＮ液晶パネル３１の透明電極に駆動
信号を印加すると信号が印加された電極間には電界が発
生する。その際、液晶分子の持つ電子的異方性により、
液晶分子の長軸が電界方向と平行になるため、液晶分子
による光の旋光性が失われることとなり、その結果、液
晶パネルには光が透過しない状態となる。画像の表示は
この時の光透過の差に基づくコントラストにより視覚情
報として認識される。上記液晶表示体３０においては、
液晶パネル３１に透過させ、液晶パネル３１の光の透過
する部分と透過しない部分にコントラストを持たせるこ
とにより画像表示を可能とするものである。

【００５１】図４は、本発明の反射防止材料１０を使用
した他の液晶表示体の構成を示す断面図である。図４に
おいて、液晶パネル４１は、２枚のガラス基板４３、４
４及びその間に介在するネマチック液晶４５と、ガラス
基板４３，４４の外側に位置する粗面化層を有しない上
部の偏光フィルム４６、粗面化層を有しない下部の偏光
フィルム４７及び該上部の偏光フィルム４６の上に積層
された反射防止材料１０より構成されている。また、液
晶表示体４０は、液晶パネル４１とその下面に位置する
背面光源３２を積層して形成されている。

【００５２】

【実施例】本発明を実施例によってさらに詳細に説明す
る。なお、以下の説明において「部」は「重量部」を意
味するものとする。 ＜実施例１＞まず、架橋アクリルビーズとトルエンの混
合物をサンドミルにて３０分間分散することによって得
られた下記分散液と、下記ベース塗料をディスパーにて
１５分間撹拌、混合した塗料を、膜厚８０μｍ、透過率
９２％からなる透明基体であるけん化ＴＡＣの片面上
に、リバースコーティング方式にて塗布し、１００℃で
２分間乾燥後、ＵＶランプ出力１２０ｗ／ｃｍの集光型
高圧水銀灯１灯を用いて、照射距離（ランプ中心から塗
工面までの距離）１０ｃｍ、処理速度（塗工基体側のＵ
Ｖランプに対する速度）５ｍ／分でＵＶ照射を行い、塗
工膜を硬化させた。このようにして、厚さ２．５μｍ、
ＨＡＺＥ値１６．５のアンカー層を形成した。その後、
下記配合からなる表面層塗料を前記アンカー層上にリバ
ースグラビアコーティングにより塗布し、１２０℃で６
時間乾燥キュアーして、厚さが０．１μｍの表面層を形
成して本発明の反射防止材料を得た。

【００５３】 [分散液の配合] ・架橋アクリルビーズ ９部 (商品名：ＭＸ１５０、粒径１．５μｍ±０．５、綜研化学社製) ・トルエン ２１０部

【００５４】 [ベース塗料の配合] ・アクリル系化合物 ジペンタエリスリトールトリアクリレート ４５部 ・エポキシ系化合物 ４５部 （商品名：セロキサイト２０２１、ダイセル化学工業） ・下記化学式の光カチオン重合開始剤 ２部

【００５５】

【化３】

【００５６】 ・イソプロピルアルコール ５部 [表面層塗料の配合] ・シリカゾル １０部 （粒子径１５ｎｍでＳｉＯ₂として３０重量％のシリカ粒子を含有するエタノ ール分散液） ・被膜形成剤 １５部 （テトラエトキシシランの加水分解物：ＳｉＯ₂として計算して固形分濃度６ ％） ・溶剤：エタノール ５３部

【００５７】＜実施例２＞粗面化層の組成を下記に変更
した以外は実施例１と同様にして、厚さ３．６μｍ、Ｈ
ＡＺＥ値２２．０の粗面化層を有する反射防止材料を得
た。

【００５８】 [分散液の配合] ・架橋アクリルビーズ １４部 (商品名：ＭＸ３００、粒径３．０μｍ±０．５、綜研化学社製) ・トルエン ２０５部

【００５９】 [ベース塗料の配合] ・アクリル系化合物 ４５部 （トリペンタエリスリトールポリアクリレート） ・エポキシ系化合物 ４５部 （商品名：サイラキュアＵＶＲ−６１１０、ユニオンカーバイド（株）社製） ・光カチオン重合開始剤 ２部 （商品名：サイラキュアＵＶＩ−６９９０、ユニオンカーバイド（株）社製） ・イソプロピルアルコール ５部

【００６０】＜実施例３＞粗面化層の組成を下記に変更
した以外は実施例１と同様にして、厚さ３．８μｍ、Ｈ
ＡＺＥ値１３．０の粗面化層を有する反射防止材料を得
た。

【００６１】 [分散液の配合] ・架橋アクリルビーズ (商品名：ＭＸ３００、粒径１．５μｍ±０．５、綜研化学社製) ５部 (商品名：ＭＸ３００、粒径３．０μｍ±０．５、綜研化学社製) ５部 ・トルエン ２１０部

【００６２】 [ベース塗料の配合] ・アクリル系化合物 テトラジペンタエリスリトールポリアクリレート １５部 ネオペンチルグリコールジアクリレート ３０部 ・エポキシ系化合物 ４５部 （商品名：エピコート８２８、油化シェルエポキシ社製） ・光カチオン重合開始剤 ２部 （商品名：サイラキュアＵＶＩ−６９９０、ユニオンカーバイド社製） ・イソプロピルアルコール ５部

【００６３】＜実施例４＞粗面化層の組成を下記に変更
した以外は実施例１と同様にして、厚さ３．８μｍ、Ｈ
ＡＺＥ値９．０の粗面化層を有する反射防止材料を得
た。

【００６４】 [分散液の配合] ・架橋アクリルビーズ （商品名：ＭＸ１５０、粒径１．５μｍ±０．５、綜研化学社製） ３部 （商品名：ＭＸ３００、粒径３．０μｍ±０．５、綜研化学社製） ３部 ・トルエン ２１０部

【００６５】 [ベース塗料の配合] ・アクリル系化合物 ジペンタエリスリトールポリアクリレート １５部 トリペンタエリスリトールポリアクリレート ３０部 ・エポキシ系化合物 ４５部 （商品名：ラピキュアＤＶＥ−３、ＩＳＰ社製） ・光カチオン重合開始剤 ２部 （商品名：ＢＢＩ−１０２、みどり化学社製） ・イソプロピルアルコール ５部

【００６６】＜実施例５＞粗面化層の組成を下記に変更
した以外は実施例１と同様にして、厚さ２．５μｍ、Ｈ
ＡＺＥ値６．７の粗面化層を有する反射防止材料を得
た。

【００６７】 [分散液の配合] ・架橋アクリルビーズ ３部 （商品名：ＭＸ３００、粒径１．５μｍ±０．５、綜研化学社製） ・トルエン ２１０部

【００６８】 [ベース塗料の配合] ・アクリル系化合物 １，６ヘキサンジオールジメタクリレート ２０部 ペンタエリスリトールトリアクリレートヘキサメチレンジイソシアネート ３０部 ・エポキシ化合物 ４５部 （商品名：エポライト４０Ｅ 共栄社化学社製） ・光カチオン重合開始剤 ２部 （商品名：ＭＰＩ０３、みどり化学社製） ・イソプロピルアルコール ５部

【００６９】（比較例１）粗面化層の成分を下記に変更
した以外は実施例１と同様にして、厚さ３．６μｍ、Ｈ
ＡＺＥ値１１．０、の粗面化層を有する反射防止材料を
得た。

【００７０】 [分散液の配合] ・架橋アクリルビーズ ３部 (商品名：ＭＸ３００ 粒径１．５μｍ±０．５、綜研化学社製) ・トルエン ２００部

【００７１】 [ベース塗料の配合] ・アクリレート系化合物 ジペンタエリスリトールポリアクリレート ５０部 ペンタエリスリトールテトラアクリレート ２０部 ヒドロキシエチルアクリレート ２２部 ・ラジカル系光重合開始剤 ５部 （商品名：イルガキュア １８４、チバガイギー社製） ・イソプロピルアルコール ５０部

【００７２】（比較例２）厚さ８０μｍ、透過率９２％
のＴＡＣをそのまま比較用の反射防止材料とした。

【００７３】（比較例３）粗面化層の組成を以下に変更
した以外は実施例１と同様にして、厚さ４．２μｍ、Ｈ
ＡＺＥ値１７．５の粗面化層を有する反射防止材料を得
た。 [分散液の配合] ・架橋アクリルビーズ ６部 （商品名：ＭＲ−７Ｇ、綜研化学社製 粒径：０．５〜６．０μｍの範囲のもの ６０重量％ 粒径：６．０μｍを越えるもの ２５重量％） ・トルエン ２１０部

【００７４】 [ベース塗料の配合] ・アクリル系化合物 ４２部 ジペンタエリストリールトリアクリレート ・トリメチロールプロパントリアクリレート ４２部 ・下記化学式の光カチオン重合開始剤 １０部

【００７５】

【化４】

【００７６】 ・イソプロピルアルコール ５部

【００７７】（比較例４）粗面化層の組成を下記に変更
した以外は実施例５と同様にして、厚さ３．０μｍ、Ｈ
ＡＺＥ値１３．０の粗面化層を有する反射防止剤を得
た。 [分散液の配合] ・架橋アクリルビーズ ２部 （商品名：ＭＸ３００、粒径３．０μｍ±０．５、綜研化学社製） ・トルエン １００部

【００７８】 [ベース塗料の配合] ・ポリエステル系熱可塑性樹脂 ４０部 （商品名：バイロン２００、東洋紡社製） ・トルエン ７０部 ・ＭＥＫ １００部

【００７９】実施例１〜３及び５、比較例１，３及び４
で得られた反射防止材料１０を用いて図２に示される構
成の偏光フィルム２０を作製した。次いで、前記偏光フ
ィルム２０（図３では符号３６で示す）を図３に示され
るようにガラス基板３３に貼り付け、液晶表示体３０を
得た。また、実施例４、比較例２で得られた反射防止材
料１０に関しても、粗面化処理をしていない偏光フィル
ムにけん化ＴＡＣ面側が貼り合わせ面になるように粘着
剤を介して貼り合わせた積層体を作製し、この積層体を
図４に示されるように偏光フィルム４６に貼り付け、液
晶表示体４０を得た。

【００８０】さらに、ＰＶＡ製の偏光基体にけん化処理
していないＴＡＣを塗工し、その上に実施例１と同じ成
分の粗面化層を塗工した後、アルカリ処理を施してＴＡ
Ｃをけん化した以外は実施例１と同様にして偏光基体と
反射防止材料の積層体を作製した。次いで、この積層体
を用いて上記と同様にして液晶表示体４０を作製し、こ
れを実施例６とした。

【００８１】なお、これらの各液晶表示体の画像サイズ
は例えば１０．４インチとし、解像度は例えば８００ド
ット×６００ドットとして、下記方法によって、画像コ
ントラスト、画像ギラツキ、防眩性、各項目について、
評価を行った。また、耐摩耗性（透明基体と粗面化層と
の密着性）、耐薬品性の評価も下記方法に基づき行っ
た。

【００８２】画像コントラストはＪＩＳ Ｃ７０７２
１９８８に於ける液晶表示パネルのコントラスト比（Ｃ
Ｒ）測定方法に準拠し、評価した。画像コントラストの
評価における光源６０−液晶パネル６１−測光器６２の
位置関係を図５に示す。この場合、光源６０と液晶パネ
ル６１との間は例えば１ｃｍ、液晶パネル６１と測光器
６２との間は例えば５０ｃｍ、測光器６２の開口角は例
えば５゜に設定した。なお、光源６０には５ＷのＥＬを
使用し、測光器６２にはミノルタカメラ社製のＬＳ−１
００を使用した。ＣＲが４以上の場合を◎、３以上、４
未満の場合を○、２以上〜３未満を△、２未満を×とし
た。

【００８３】画像ギラツキについては、液晶表示体をウ
ィンドウズ、バージョン３．１のペイントブラシのオー
プニング画面が表示できるようにパーソナルコンピュー
タとの接続を行い、この白黒表示における画像ギラツキ
の有無を任意の１０人の目視判定により評価した。ギラ
ツキを感じた人が３人未満の場合を○、３人以上、７人
未満の人がギラツキを感じた場合を△、７人以上がギラ
ツキを感じた場合を×とした。

【００８４】防眩性については、スガ試験機社製の写像
性測定器ＩＣＭ−１ＤＰ（ＪＩＳＫ７１０５）を使用
し、透過モードで、光学クシ幅２ｍｍにおける写像性を
測定した。なお、この測定試験では、測定データの数値
が小さいほど防眩性が高い。ここでは、５０％未満を
○、５０％以上、７０％未満を△、７０％以上を×とし
て評価した。

【００８５】透明基体と粗面化層とが密着しているかど
うかを観察し、両者が密着している場合を○、密着して
いない場合を×として評価した。また、両者が密着して
いるものについて耐摩耗性を試験した。耐摩耗性の試験
は、日本スチールウール性のスチールウール＃００００
を板紙耐摩耗試験機（熊谷理機工業社製）に取り付け、
反射防止材料の粗面化層面を荷重２００ｇにて５０回往
復させた。その後、その部分のＨＡＺＥ値の変化δＨ
（下記計算に基づく）を東洋精機社製ＨＡＺＥメーター
で測定した。この測定試験では、測定値が大きいほど耐
摩耗性が悪い。なお、ＨＡＺＥ値の測定は反射防止材料
単体で行った。また、ＨＡＺＥ値変化δＨは、試験後の
ＨＡＺＥ値から試験前のＨＡＺＥちを除算して算出し
た。 ＨＡＺＥ値変化δＨ＝試験後のＨＡＺＥ値−試験前のＨ
ＡＺＥ値

【００８６】また、耐薬品性については、粗面化層面を
イソプロピルアルコールを含ませた綿棒（ジョンソン社
製）で、５０往復擦った後に、粗面化層に剥がれ等著し
い変化があった場合を×、変化がない場合を○、その中
間を△として評価した。

【００８７】

【表１】

【００８８】表１から明らかなように、透明基体をけん
化ＴＡＣで構成し、粗面化層にエポキシ化合物と光カチ
オン重合開始剤を含有する実施例１〜６では、透明基体
と粗面化層が密着性に優れ、光学特性、耐久性が良好で
あった。これに対して、比較例１〜４では、粗面化層に
実施例のような紫外線硬化型樹脂を含まないために、全
て透明基体と粗面化層との密着性が悪くて剥離してしま
い、耐摩耗性が得られないばかりか、フィラーの分散が
悪く、ギラツキの問題を生じたり（比較例１及び３）、
耐薬品性の問題を有する（比較例３及び４）ものであっ
た。また、比較例２は粗面化層がないため、防眩性に劣
るものであった。なお、実施例６ではギラツキ、防眩性
および耐薬品性が不充分となったが、これは、ＴＡＣに
粗面化層を設けた後にけん化処理を行ったために、表面
層との密着性や耐摩耗性等がやや損なわれたためと考え
られる。

【００８９】

【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、デ
ィスプレイへの太陽光及び蛍光灯等の外部光の映り込み
を防止することにより優れた反射防止性を発揮し、画像
コントラストを低下させることなく、ギラツキ等のない
鮮明な画像を得ることができるとともに、光学的に安定
で優れた耐磨耗性、耐薬品性を示し、かつ、粗面化層の
密着に優れた反射防止材料と偏光フィルムを得ることが
できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】 本発明の反射防止材料の構成を示す概略断面
図である。

【図２】 本発明の反射防止材料を使用した偏光フィル
ムの構成を示す概略断面図である。

【図３】 反射防止材料を使用した偏光フィルムを具備
する液晶表示体の構成を示す概略断面図である。

【図４】 反射防止材料を使用した偏光フィルムを具備
する他の液晶表示体の構成を示す概略断面図である。

【図５】 画像コントラストの測定装置の配置図を示す
概略図である。

【符号の説明】

１０…反射防止材料、１１…透明基体、１２…粗面化
層、２０…粗面化層付偏光フィルム、２１…透明基体、
２２…粗面化層、２３…反射防止材料、２４…偏光基
体、２５…保護材、３０…液晶表示体、３１…液晶パネ
ル、３２…背面光源、３３，３４…ガラス基板、３３
´，３４´…透明電極面、３５…ネマチック液晶、３６
…偏光フィルム、４０…液晶表示体、４１…液晶パネ
ル、４２…背面光源、４３，４４…ガラス基板、４５…
ネマチック液晶、４６，４７…偏光フィルム、６０…光
源、６１…液晶パネル、６２…測光器。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 山崎 和弘 静岡県静岡市用宗巴町３番１号 株式会 社 巴川製紙所 情報メディア事業部内 (72)発明者 作本 征則 静岡県静岡市用宗巴町３番１号 株式会 社 巴川製紙所 情報メディア事業部内 (56)参考文献 特開 平８−75904（ＪＰ，Ａ) 特開 平６−155652（ＪＰ，Ａ) 特開 平６−157788（ＪＰ，Ａ) 特開 平７−151914（ＪＰ，Ａ) 特開 平８−278403（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.⁷，ＤＢ名) G02B 1/11 G02B 5/30

Claims (5)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 透明基体の片面もしくは両面に、少なく
   とも粗面化層を設けた反射防止材料において、前記透明
   基体はけん化されたトリアセチルセルロースからなり、
   前記粗面化層はエポキシ化合物と光カチオン重合開始剤
   を含有する紫外線硬化型樹脂と、球状有機フィラーとを
   含むことを特徴とする反射防止材料。
2. 【請求項２】 前記球状有機フィラーの粒子径Ｄは、
   ０．５μｍ≦Ｄ≦６．０μｍの範囲の粒子が６０重量％
   以上、６．０μｍ＜Ｄ≦１０．０μｍの範囲の粒子が２
   ０重量％未満、１０．０μｍ＜Ｄ≦１５．０μｍの範囲
   の粒子が５重量％以下、さらに、１５μｍ＜Ｄである粒
   子が１．０重量％以下である粒度分布を有すことを特徴
   とする請求項１記載の反射防止材料。
3. 【請求項３】 けん化されたトリアセチルセルロースを
   用いてシート状の透明基体を形成し、この透明基体の片
   面または両面に、エポキシ化合物と光カチオン重合開始
   剤を含有する紫外線硬化型樹脂と、球状有機フィラーと
   を含む粗面化層を設けることを特徴とする反射防止材料
   の製造方法。
4. 【請求項４】 透明基体の片面に、少なくとも粗面化層
   を設け、上記透明基体の反対側の面に、偏光基体を介し
   て保護材を積層した偏光フィルムにおいて、前記透明基
   体は、けん化されたトリアセチルセルロースからなり、
   前記粗面化層は、エポキシ化合物と光カチオン重合開始
   剤を含有する紫外線硬化型樹脂と、球状有機フィラーと
   を含むことを特徴とする偏光フィルム。
5. 【請求項５】 前記球状有機フィラーの粒子径Ｄは、
   ０．５μｍ≦Ｄ≦６．０μｍの範囲の粒子が６０重量％
   以上、６．０μｍ＜Ｄ≦１０．０μｍの範囲の粒子が２
   ０重量％未満、１０．０μｍ＜Ｄ≦１５．０μｍの範囲
   の粒子が５重量％以下、さらに、１５μｍ＜Ｄである粒
   子が１．０重量％以下である粒度分布を有すことを特徴
   とする請求項４記載の偏光フィルム。