CN110637504A - 有机电致发光层叠体 - Google Patents
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- 239000010410 layer Substances 0.000 claims abstract description 422
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 claims abstract description 272
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims abstract description 102
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims abstract description 102
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 68
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 claims abstract description 54
- 238000005401 electroluminescence Methods 0.000 claims description 139
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 54
- 238000007789 sealing Methods 0.000 claims description 26
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 claims description 21
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 claims description 14
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 claims description 9
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 abstract description 20
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 abstract 2
- 238000006731 degradation reaction Methods 0.000 abstract 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 234
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 44
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 27
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 26
- -1 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 26
- 125000003647 acryloyl group Chemical group O=C([*])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 25
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 23
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 23
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 21
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 21
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 description 20
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 20
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 18
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 17
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 16
- 230000006870 function Effects 0.000 description 16
- 238000000034 method Methods 0.000 description 16
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 16
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 16
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 14
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 14
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 11
- 229910052681 coesite Inorganic materials 0.000 description 11
- 229910052906 cristobalite Inorganic materials 0.000 description 11
- 239000005871 repellent Substances 0.000 description 11
- 239000011342 resin composition Substances 0.000 description 11
- 229910052682 stishovite Inorganic materials 0.000 description 11
- 229910052905 tridymite Inorganic materials 0.000 description 11
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 10
- 230000002940 repellent Effects 0.000 description 10
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 10
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 10
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 description 9
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N Propane Chemical compound CCC ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 238000002161 passivation Methods 0.000 description 8
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 7
- 125000005370 alkoxysilyl group Chemical group 0.000 description 7
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 7
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 description 7
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 7
- VXUYXOFXAQZZMF-UHFFFAOYSA-N titanium(IV) isopropoxide Chemical compound CC(C)O[Ti](OC(C)C)(OC(C)C)OC(C)C VXUYXOFXAQZZMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane Chemical compound CCC(CO)(CO)CO ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 6
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 6
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 description 6
- 230000003405 preventing effect Effects 0.000 description 6
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 6
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 6
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 6
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 5
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 5
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- GTDPSWPPOUPBNX-UHFFFAOYSA-N ac1mqpva Chemical compound CC12C(=O)OC(=O)C1(C)C1(C)C2(C)C(=O)OC1=O GTDPSWPPOUPBNX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 5
- 238000005336 cracking Methods 0.000 description 5
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 5
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 5
- 150000002484 inorganic compounds Chemical class 0.000 description 5
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 5
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 5
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 5
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 5
- 238000004078 waterproofing Methods 0.000 description 5
- ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 1-methoxypropan-2-ol Chemical compound COCC(C)O ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical compound [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 206010027146 Melanoderma Diseases 0.000 description 4
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 4
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 4
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 4
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N benzoin Chemical class C=1C=CC=CC=1C(O)C(=O)C1=CC=CC=C1 ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- NIHNNTQXNPWCJQ-UHFFFAOYSA-N fluorene Chemical compound C1=CC=C2CC3=CC=CC=C3C2=C1 NIHNNTQXNPWCJQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 4
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000011630 iodine Substances 0.000 description 4
- 238000007733 ion plating Methods 0.000 description 4
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 4
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000005268 plasma chemical vapour deposition Methods 0.000 description 4
- 230000010287 polarization Effects 0.000 description 4
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 4
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 4
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 4
- 239000001294 propane Substances 0.000 description 4
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N Formaldehyde Chemical compound O=C WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000005057 Hexamethylene diisocyanate Substances 0.000 description 3
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 3
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000007983 Tris buffer Substances 0.000 description 3
- MPIAGWXWVAHQBB-UHFFFAOYSA-N [3-prop-2-enoyloxy-2-[[3-prop-2-enoyloxy-2,2-bis(prop-2-enoyloxymethyl)propoxy]methyl]-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C MPIAGWXWVAHQBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 3
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 3
- 230000000740 bleeding effect Effects 0.000 description 3
- 230000008859 change Effects 0.000 description 3
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 3
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 3
- 239000007822 coupling agent Substances 0.000 description 3
- RRAMGCGOFNQTLD-UHFFFAOYSA-N hexamethylene diisocyanate Chemical compound O=C=NCCCCCCN=C=O RRAMGCGOFNQTLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 3
- IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N isocyanate group Chemical group [N-]=C=O IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZFSLODLOARCGLH-UHFFFAOYSA-N isocyanuric acid Chemical compound OC1=NC(O)=NC(O)=N1 ZFSLODLOARCGLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000003475 lamination Methods 0.000 description 3
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 3
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 3
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 3
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 description 3
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 3
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 3
- 239000011112 polyethylene naphthalate Substances 0.000 description 3
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 3
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 3
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 3
- LENZDBCJOHFCAS-UHFFFAOYSA-N tris Chemical compound OCC(N)(CO)CO LENZDBCJOHFCAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000001993 wax Substances 0.000 description 3
- VLDPXPPHXDGHEW-UHFFFAOYSA-N 1-chloro-2-dichlorophosphoryloxybenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1OP(Cl)(Cl)=O VLDPXPPHXDGHEW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RBGUKBSLNOTVCD-UHFFFAOYSA-N 1-methylanthracene-9,10-dione Chemical compound O=C1C2=CC=CC=C2C(=O)C2=C1C=CC=C2C RBGUKBSLNOTVCD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001637 1-naphthyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C2C(*)=C([H])C([H])=C([H])C2=C1[H] 0.000 description 2
- RKYJPYDJNQXILT-UHFFFAOYSA-N 2-(2-prop-2-enoyloxyethoxycarbonyl)benzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCCOC(=O)C=C RKYJPYDJNQXILT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HLBLWEWZXPIGSM-UHFFFAOYSA-N 4-Aminophenyl ether Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1OC1=CC=C(N)C=C1 HLBLWEWZXPIGSM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BCJIMAHNJOIWKQ-UHFFFAOYSA-N 4-[(1,3-dioxo-2-benzofuran-4-yl)oxy]-2-benzofuran-1,3-dione Chemical compound O=C1OC(=O)C2=C1C=CC=C2OC1=CC=CC2=C1C(=O)OC2=O BCJIMAHNJOIWKQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VFUDMQLBKNMONU-UHFFFAOYSA-N 9-[4-(4-carbazol-9-ylphenyl)phenyl]carbazole Chemical compound C12=CC=CC=C2C2=CC=CC=C2N1C1=CC=C(C=2C=CC(=CC=2)N2C3=CC=CC=C3C3=CC=CC=C32)C=C1 VFUDMQLBKNMONU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KWOLFJPFCHCOCG-UHFFFAOYSA-N Acetophenone Chemical compound CC(=O)C1=CC=CC=C1 KWOLFJPFCHCOCG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical class N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920002799 BoPET Polymers 0.000 description 2
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920000089 Cyclic olefin copolymer Polymers 0.000 description 2
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000005058 Isophorone diisocyanate Substances 0.000 description 2
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M Methacrylate Chemical compound CC(=C)C([O-])=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- NQSMEZJWJJVYOI-UHFFFAOYSA-N Methyl 2-benzoylbenzoate Chemical compound COC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 NQSMEZJWJJVYOI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 2
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 2
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 description 2
- 244000028419 Styrax benzoin Species 0.000 description 2
- 235000000126 Styrax benzoin Nutrition 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000008411 Sumatra benzointree Nutrition 0.000 description 2
- KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-N Terephthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(C(O)=O)C=C1 KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000004913 activation Effects 0.000 description 2
- ORILYTVJVMAKLC-UHFFFAOYSA-N adamantane Chemical group C1C(C2)CC3CC1CC2C3 ORILYTVJVMAKLC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000002723 alicyclic group Chemical group 0.000 description 2
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 2
- 150000004984 aromatic diamines Chemical class 0.000 description 2
- FDQSRULYDNDXQB-UHFFFAOYSA-N benzene-1,3-dicarbonyl chloride Chemical compound ClC(=O)C1=CC=CC(C(Cl)=O)=C1 FDQSRULYDNDXQB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HFACYLZERDEVSX-UHFFFAOYSA-N benzidine Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1C1=CC=C(N)C=C1 HFACYLZERDEVSX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229960002130 benzoin Drugs 0.000 description 2
- RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N benzophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MQDJYUACMFCOFT-UHFFFAOYSA-N bis[2-(1-hydroxycyclohexyl)phenyl]methanone Chemical compound C=1C=CC=C(C(=O)C=2C(=CC=CC=2)C2(O)CCCCC2)C=1C1(O)CCCCC1 MQDJYUACMFCOFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N butyl acetate Chemical compound CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 2
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 2
- 239000008199 coating composition Substances 0.000 description 2
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 2
- 239000003431 cross linking reagent Substances 0.000 description 2
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 2
- SWXVUIWOUIDPGS-UHFFFAOYSA-N diacetone alcohol Chemical compound CC(=O)CC(C)(C)O SWXVUIWOUIDPGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000007607 die coating method Methods 0.000 description 2
- 235000014113 dietary fatty acids Nutrition 0.000 description 2
- KZTYYGOKRVBIMI-UHFFFAOYSA-N diphenyl sulfone Chemical compound C=1C=CC=CC=1S(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 KZTYYGOKRVBIMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 2
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 239000000194 fatty acid Substances 0.000 description 2
- 229930195729 fatty acid Natural products 0.000 description 2
- 150000004665 fatty acids Chemical class 0.000 description 2
- 125000003983 fluorenyl group Chemical group C1(=CC=CC=2C3=CC=CC=C3CC12)* 0.000 description 2
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 2
- 235000019382 gum benzoic Nutrition 0.000 description 2
- XXMIOPMDWAUFGU-UHFFFAOYSA-N hexane-1,6-diol Chemical compound OCCCCCCO XXMIOPMDWAUFGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920001903 high density polyethylene Polymers 0.000 description 2
- 239000004700 high-density polyethylene Substances 0.000 description 2
- AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N indium;oxotin Chemical compound [In].[Sn]=O AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NIMLQBUJDJZYEJ-UHFFFAOYSA-N isophorone diisocyanate Chemical compound CC1(C)CC(N=C=O)CC(C)(CN=C=O)C1 NIMLQBUJDJZYEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920001684 low density polyethylene Polymers 0.000 description 2
- 239000004702 low-density polyethylene Substances 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 2
- 125000005395 methacrylic acid group Chemical group 0.000 description 2
- SLCVBVWXLSEKPL-UHFFFAOYSA-N neopentyl glycol Chemical compound OCC(C)(C)CO SLCVBVWXLSEKPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N nitrogen Substances N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 2
- RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);zirconium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[Zr+4] RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N pentaerythritol Chemical compound OCC(CO)(CO)CO WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920003207 poly(ethylene-2,6-naphthalate) Polymers 0.000 description 2
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 2
- 229920003223 poly(pyromellitimide-1,4-diphenyl ether) Polymers 0.000 description 2
- 229920002239 polyacrylonitrile Polymers 0.000 description 2
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 2
- 239000009719 polyimide resin Substances 0.000 description 2
- 239000005056 polyisocyanate Substances 0.000 description 2
- 229920001228 polyisocyanate Polymers 0.000 description 2
- 229920000193 polymethacrylate Polymers 0.000 description 2
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 2
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 2
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 2
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 2
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 2
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 2
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 2
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PUZPDOWCWNUUKD-UHFFFAOYSA-M sodium fluoride Chemical compound [F-].[Na+] PUZPDOWCWNUUKD-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 2
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 2
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 2
- 241000894007 species Species 0.000 description 2
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 2
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 2
- YRHRIQCWCFGUEQ-UHFFFAOYSA-N thioxanthen-9-one Chemical class C1=CC=C2C(=O)C3=CC=CC=C3SC2=C1 YRHRIQCWCFGUEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DVKJHBMWWAPEIU-UHFFFAOYSA-N toluene 2,4-diisocyanate Chemical compound CC1=CC=C(N=C=O)C=C1N=C=O DVKJHBMWWAPEIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QXJQHYBHAIHNGG-UHFFFAOYSA-N trimethylolethane Chemical compound OCC(C)(CO)CO QXJQHYBHAIHNGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000007738 vacuum evaporation Methods 0.000 description 2
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 2
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 2
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 2
- 229910001928 zirconium oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- DTGKSKDOIYIVQL-WEDXCCLWSA-N (+)-borneol Chemical group C1C[C@@]2(C)[C@@H](O)C[C@@H]1C2(C)C DTGKSKDOIYIVQL-WEDXCCLWSA-N 0.000 description 1
- JHPBZFOKBAGZBL-UHFFFAOYSA-N (3-hydroxy-2,2,4-trimethylpentyl) 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(C)C(O)C(C)(C)COC(=O)C(C)=C JHPBZFOKBAGZBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WXPWZZHELZEVPO-UHFFFAOYSA-N (4-methylphenyl)-phenylmethanone Chemical compound C1=CC(C)=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 WXPWZZHELZEVPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MJYFYGVCLHNRKB-UHFFFAOYSA-N 1,1,2-trifluoroethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC(F)(F)CF MJYFYGVCLHNRKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XKSUVRWJZCEYQQ-UHFFFAOYSA-N 1,1-dimethoxyethylbenzene Chemical compound COC(C)(OC)C1=CC=CC=C1 XKSUVRWJZCEYQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MSAHTMIQULFMRG-UHFFFAOYSA-N 1,2-diphenyl-2-propan-2-yloxyethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OC(C)C)C(=O)C1=CC=CC=C1 MSAHTMIQULFMRG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MUFXCNFTPAACQX-UHFFFAOYSA-N 1-(trifluoromethyl)-9h-xanthene-2,3,6,7-tetracarboxylic acid Chemical compound C1C(C(=C(C(O)=O)C(C(O)=O)=C2)C(F)(F)F)=C2OC2=C1C=C(C(=O)O)C(C(O)=O)=C2 MUFXCNFTPAACQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012956 1-hydroxycyclohexylphenyl-ketone Substances 0.000 description 1
- QZAQJDMAOKERBY-UHFFFAOYSA-N 12,12-bis(trifluoromethyl)-2,7,17-trioxapentacyclo[11.7.0.03,11.05,9.015,19]icosa-1(13),3(11),4,9,14,19-hexaene-6,8,16,18-tetrone Chemical compound C1=C2OC3=CC=4C(=O)OC(=O)C=4C=C3C(C(F)(F)F)(C(F)(F)F)C2=CC2=C1C(=O)OC2=O QZAQJDMAOKERBY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BRKORVYTKKLNKX-UHFFFAOYSA-N 2,4-di(propan-2-yl)thioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(C(C)C)=CC(C(C)C)=C3SC2=C1 BRKORVYTKKLNKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BTJPUDCSZVCXFQ-UHFFFAOYSA-N 2,4-diethylthioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(CC)=CC(CC)=C3SC2=C1 BTJPUDCSZVCXFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 2-[[3-hydroxy-2,2-bis(hydroxymethyl)propoxy]methyl]-2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diol Chemical compound OCC(CO)(CO)COCC(CO)(CO)CO TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XHHXXUFDXRYMQI-UHFFFAOYSA-N 2-[bis(2-hydroxyethyl)amino]ethanol;titanium Chemical compound [Ti].OCCN(CCO)CCO XHHXXUFDXRYMQI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KMNCBSZOIQAUFX-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxy-1,2-diphenylethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OCC)C(=O)C1=CC=CC=C1 KMNCBSZOIQAUFX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UKQBWWAPJNHIQR-UHFFFAOYSA-N 2-ethyl-2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diol;prop-2-enoic acid Chemical class OC(=O)C=C.CCC(CO)(CO)CO UKQBWWAPJNHIQR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SJEBAWHUJDUKQK-UHFFFAOYSA-N 2-ethylanthraquinone Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(CC)=CC=C3C(=O)C2=C1 SJEBAWHUJDUKQK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KTXWGMUMDPYXNN-UHFFFAOYSA-N 2-ethylhexan-1-olate;titanium(4+) Chemical compound [Ti+4].CCCCC(CC)C[O-].CCCCC(CC)C[O-].CCCCC(CC)C[O-].CCCCC(CC)C[O-] KTXWGMUMDPYXNN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BQZJOQXSCSZQPS-UHFFFAOYSA-N 2-methoxy-1,2-diphenylethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OC)C(=O)C1=CC=CC=C1 BQZJOQXSCSZQPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004200 2-methoxyethyl group Chemical group [H]C([H])([H])OC([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- UMWZLYTVXQBTTE-UHFFFAOYSA-N 2-pentylanthracene-9,10-dione Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(CCCCC)=CC=C3C(=O)C2=C1 UMWZLYTVXQBTTE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QCDWFXQBSFUVSP-UHFFFAOYSA-N 2-phenoxyethanol Chemical compound OCCOC1=CC=CC=C1 QCDWFXQBSFUVSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WUGOQZFPNUYUOO-UHFFFAOYSA-N 2-trimethylsilyloxyethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCO[Si](C)(C)C WUGOQZFPNUYUOO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DUTLDPJDAOIISX-UHFFFAOYSA-N 3-(1,1,1,3,3,3-hexafluoropropan-2-yl)aniline Chemical compound NC1=CC=CC(C(C(F)(F)F)C(F)(F)F)=C1 DUTLDPJDAOIISX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LJGHYPLBDBRCRZ-UHFFFAOYSA-N 3-(3-aminophenyl)sulfonylaniline Chemical compound NC1=CC=CC(S(=O)(=O)C=2C=C(N)C=CC=2)=C1 LJGHYPLBDBRCRZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VNAOAABUWOXVLO-UHFFFAOYSA-N 3-[3-(1,1,1,3,3,3-hexafluoropropan-2-yl)phenoxy]aniline Chemical compound NC1=CC=CC(OC=2C=C(C=CC=2)C(C(F)(F)F)C(F)(F)F)=C1 VNAOAABUWOXVLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DKKYOQYISDAQER-UHFFFAOYSA-N 3-[3-(3-aminophenoxy)phenoxy]aniline Chemical compound NC1=CC=CC(OC=2C=C(OC=3C=C(N)C=CC=3)C=CC=2)=C1 DKKYOQYISDAQER-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XTEBLARUAVEBRF-UHFFFAOYSA-N 4-(1,1,1,3,3,3-hexafluoropropan-2-yl)aniline Chemical compound NC1=CC=C(C(C(F)(F)F)C(F)(F)F)C=C1 XTEBLARUAVEBRF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- APXJLYIVOFARRM-UHFFFAOYSA-N 4-[2-(3,4-dicarboxyphenyl)-1,1,1,3,3,3-hexafluoropropan-2-yl]phthalic acid Chemical compound C1=C(C(O)=O)C(C(=O)O)=CC=C1C(C(F)(F)F)(C(F)(F)F)C1=CC=C(C(O)=O)C(C(O)=O)=C1 APXJLYIVOFARRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SSDBTLHMCVFQMS-UHFFFAOYSA-N 4-[4-(1,1,1,3,3,3-hexafluoropropan-2-yl)phenoxy]aniline Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1OC1=CC=C(C(C(F)(F)F)C(F)(F)F)C=C1 SSDBTLHMCVFQMS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JCRRFJIVUPSNTA-UHFFFAOYSA-N 4-[4-(4-aminophenoxy)phenoxy]aniline Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1OC(C=C1)=CC=C1OC1=CC=C(N)C=C1 JCRRFJIVUPSNTA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HHLMWQDRYZAENA-UHFFFAOYSA-N 4-[4-[2-[4-(4-aminophenoxy)phenyl]-1,1,1,3,3,3-hexafluoropropan-2-yl]phenoxy]aniline Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1OC1=CC=C(C(C=2C=CC(OC=3C=CC(N)=CC=3)=CC=2)(C(F)(F)F)C(F)(F)F)C=C1 HHLMWQDRYZAENA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KMKWGXGSGPYISJ-UHFFFAOYSA-N 4-[4-[2-[4-(4-aminophenoxy)phenyl]propan-2-yl]phenoxy]aniline Chemical compound C=1C=C(OC=2C=CC(N)=CC=2)C=CC=1C(C)(C)C(C=C1)=CC=C1OC1=CC=C(N)C=C1 KMKWGXGSGPYISJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JYCTWJFSRDBYJX-UHFFFAOYSA-N 5-(2,5-dioxooxolan-3-yl)-3a,4,5,9b-tetrahydrobenzo[e][2]benzofuran-1,3-dione Chemical compound O=C1OC(=O)CC1C1C2=CC=CC=C2C(C(=O)OC2=O)C2C1 JYCTWJFSRDBYJX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MQAHXEQUBNDFGI-UHFFFAOYSA-N 5-[4-[2-[4-[(1,3-dioxo-2-benzofuran-5-yl)oxy]phenyl]propan-2-yl]phenoxy]-2-benzofuran-1,3-dione Chemical compound C1=C2C(=O)OC(=O)C2=CC(OC2=CC=C(C=C2)C(C)(C=2C=CC(OC=3C=C4C(=O)OC(=O)C4=CC=3)=CC=2)C)=C1 MQAHXEQUBNDFGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JIDDFPFGMDDOLO-UHFFFAOYSA-N 5-fluoro-1-(1-oxothiolan-2-yl)pyrimidine-2,4-dione Chemical compound O=C1NC(=O)C(F)=CN1C1S(=O)CCC1 JIDDFPFGMDDOLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JVERADGGGBYHNP-UHFFFAOYSA-N 5-phenylbenzene-1,2,3,4-tetracarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1=C(C(O)=O)C(C(=O)O)=CC(C=2C=CC=CC=2)=C1C(O)=O JVERADGGGBYHNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NGCTWGVLMZPWJG-UHFFFAOYSA-N C(CCCCCCCO)O.CC([O-])C.[Ti+4].CC([O-])C.CC([O-])C.CC([O-])C Chemical compound C(CCCCCCCO)O.CC([O-])C.[Ti+4].CC([O-])C.CC([O-])C.CC([O-])C NGCTWGVLMZPWJG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KPWIZLJDXFLIAL-UHFFFAOYSA-L CC(C)O[Ti++]OC(C)C.CC(C)CCCCCCCCCCCCCCC([O-])=O.CC(C)CCCCCCCCCCCCCCC([O-])=O Chemical compound CC(C)O[Ti++]OC(C)C.CC(C)CCCCCCCCCCCCCCC([O-])=O.CC(C)CCCCCCCCCCCCCCC([O-])=O KPWIZLJDXFLIAL-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- DIICDKVONBLTBM-UHFFFAOYSA-L CC(C)O[Ti++]OC(C)C.CCCCCCCCCCCCCCCCCC([O-])=O.CCCCCCCCCCCCCCCCCC([O-])=O Chemical compound CC(C)O[Ti++]OC(C)C.CCCCCCCCCCCCCCCCCC([O-])=O.CCCCCCCCCCCCCCCCCC([O-])=O DIICDKVONBLTBM-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- KLQSRTKDOLFPQJ-UHFFFAOYSA-M CCCCO[Ti+](OCCCC)OCCCC.CCCCCCCCCCCCCCCCCC([O-])=O Chemical compound CCCCO[Ti+](OCCCC)OCCCC.CCCCCCCCCCCCCCCCCC([O-])=O KLQSRTKDOLFPQJ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- GAWIXWVDTYZWAW-UHFFFAOYSA-N C[CH]O Chemical group C[CH]O GAWIXWVDTYZWAW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N Calcium Chemical compound [Ca] OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002284 Cellulose triacetate Polymers 0.000 description 1
- MQJKPEGWNLWLTK-UHFFFAOYSA-N Dapsone Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1S(=O)(=O)C1=CC=C(N)C=C1 MQJKPEGWNLWLTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 1
- 239000004262 Ethyl gallate Substances 0.000 description 1
- JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N Ethyl urethane Chemical compound CCOC(N)=O JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Chemical compound CC(C)CC(C)=O NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Natural products CCC(C)C(C)=O UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WHNWPMSKXPGLAX-UHFFFAOYSA-N N-Vinyl-2-pyrrolidone Chemical compound C=CN1CCCC1=O WHNWPMSKXPGLAX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004696 Poly ether ether ketone Substances 0.000 description 1
- 239000004962 Polyamide-imide Substances 0.000 description 1
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 1
- 239000004721 Polyphenylene oxide Substances 0.000 description 1
- 239000004820 Pressure-sensitive adhesive Substances 0.000 description 1
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NNLVGZFZQQXQNW-ADJNRHBOSA-N [(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5-diacetyloxy-3-[(2s,3r,4s,5r,6r)-3,4,5-triacetyloxy-6-(acetyloxymethyl)oxan-2-yl]oxy-6-[(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5,6-triacetyloxy-2-(acetyloxymethyl)oxan-3-yl]oxyoxan-2-yl]methyl acetate Chemical compound O([C@@H]1O[C@@H]([C@H]([C@H](OC(C)=O)[C@H]1OC(C)=O)O[C@H]1[C@@H]([C@@H](OC(C)=O)[C@H](OC(C)=O)[C@@H](COC(C)=O)O1)OC(C)=O)COC(=O)C)[C@@H]1[C@@H](COC(C)=O)O[C@@H](OC(C)=O)[C@H](OC(C)=O)[C@H]1OC(C)=O NNLVGZFZQQXQNW-ADJNRHBOSA-N 0.000 description 1
- DBHQYYNDKZDVTN-UHFFFAOYSA-N [4-(4-methylphenyl)sulfanylphenyl]-phenylmethanone Chemical compound C1=CC(C)=CC=C1SC1=CC=C(C(=O)C=2C=CC=CC=2)C=C1 DBHQYYNDKZDVTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UKLDJPRMSDWDSL-UHFFFAOYSA-L [dibutyl(dodecanoyloxy)stannyl] dodecanoate Chemical compound CCCCCCCCCCCC(=O)O[Sn](CCCC)(CCCC)OC(=O)CCCCCCCCCCC UKLDJPRMSDWDSL-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 150000008062 acetophenones Chemical class 0.000 description 1
- 125000005595 acetylacetonate group Chemical group 0.000 description 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000009471 action Effects 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 238000007754 air knife coating Methods 0.000 description 1
- CAVCGVPGBKGDTG-UHFFFAOYSA-N alumanylidynemethyl(alumanylidynemethylalumanylidenemethylidene)alumane Chemical compound [Al]#C[Al]=C=[Al]C#[Al] CAVCGVPGBKGDTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004645 aluminates Chemical class 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000005415 aminobenzoic acids Chemical class 0.000 description 1
- PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N anthraquinone Natural products CCC(=O)c1c(O)c2C(=O)C3C(C=CC=C3O)C(=O)c2cc1CC(=O)OC PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002519 antifouling agent Substances 0.000 description 1
- 229910000410 antimony oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 1
- 230000003078 antioxidant effect Effects 0.000 description 1
- 239000002216 antistatic agent Substances 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- 239000012965 benzophenone Substances 0.000 description 1
- 150000008366 benzophenones Chemical class 0.000 description 1
- UFVXQDWNSAGPHN-UHFFFAOYSA-K bis[(2-methylquinolin-8-yl)oxy]-(4-phenylphenoxy)alumane Chemical compound [Al+3].C1=CC=C([O-])C2=NC(C)=CC=C21.C1=CC=C([O-])C2=NC(C)=CC=C21.C1=CC([O-])=CC=C1C1=CC=CC=C1 UFVXQDWNSAGPHN-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- VYHBFRJRBHMIQZ-UHFFFAOYSA-N bis[4-(diethylamino)phenyl]methanone Chemical compound C1=CC(N(CC)CC)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(N(CC)CC)C=C1 VYHBFRJRBHMIQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OHJMTUPIZMNBFR-UHFFFAOYSA-N biuret Chemical compound NC(=O)NC(N)=O OHJMTUPIZMNBFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N boric acid Chemical compound OB(O)O KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004327 boric acid Substances 0.000 description 1
- 230000001680 brushing effect Effects 0.000 description 1
- 239000000872 buffer Substances 0.000 description 1
- FPCJKVGGYOAWIZ-UHFFFAOYSA-N butan-1-ol;titanium Chemical compound [Ti].CCCCO.CCCCO.CCCCO.CCCCO FPCJKVGGYOAWIZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TVEKLSSKEBGNMA-UHFFFAOYSA-M butan-1-olate 2-butoxycarbonylbenzoate titanium(4+) Chemical compound CCCCOC(=O)c1ccccc1C(=O)O[Ti](OCCCC)(OCCCC)OCCCC TVEKLSSKEBGNMA-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- YHWCPXVTRSHPNY-UHFFFAOYSA-N butan-1-olate;titanium(4+) Chemical compound [Ti+4].CCCC[O-].CCCC[O-].CCCC[O-].CCCC[O-] YHWCPXVTRSHPNY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QHIWVLPBUQWDMQ-UHFFFAOYSA-N butyl prop-2-enoate;methyl 2-methylprop-2-enoate;prop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C=C.COC(=O)C(C)=C.CCCCOC(=O)C=C QHIWVLPBUQWDMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011575 calcium Substances 0.000 description 1
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 1
- 125000002091 cationic group Chemical group 0.000 description 1
- 229920002678 cellulose Polymers 0.000 description 1
- 239000001913 cellulose Substances 0.000 description 1
- 229910000420 cerium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 1
- 238000004040 coloring Methods 0.000 description 1
- 229910000365 copper sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- PMHQVHHXPFUNSP-UHFFFAOYSA-M copper(1+);methylsulfanylmethane;bromide Chemical compound Br[Cu].CSC PMHQVHHXPFUNSP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- ARUVKPQLZAKDPS-UHFFFAOYSA-L copper(II) sulfate Chemical compound [Cu+2].[O-][S+2]([O-])([O-])[O-] ARUVKPQLZAKDPS-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 238000003851 corona treatment Methods 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 1
- 230000001186 cumulative effect Effects 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- PESYEWKSBIWTAK-UHFFFAOYSA-N cyclopenta-1,3-diene;titanium(2+) Chemical class [Ti+2].C=1C=C[CH-]C=1.C=1C=C[CH-]C=1 PESYEWKSBIWTAK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 230000000593 degrading effect Effects 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 239000012975 dibutyltin dilaurate Substances 0.000 description 1
- JFHKCZFPXJVELF-UHFFFAOYSA-L dibutyltin(2+);2,2-diethylhexanoate Chemical compound CCCC[Sn+2]CCCC.CCCCC(CC)(CC)C([O-])=O.CCCCC(CC)(CC)C([O-])=O JFHKCZFPXJVELF-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- KORSJDCBLAPZEQ-UHFFFAOYSA-N dicyclohexylmethane-4,4'-diisocyanate Chemical compound C1CC(N=C=O)CCC1CC1CCC(N=C=O)CC1 KORSJDCBLAPZEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010790 dilution Methods 0.000 description 1
- 239000012895 dilution Substances 0.000 description 1
- 239000000539 dimer Substances 0.000 description 1
- 239000004205 dimethyl polysiloxane Substances 0.000 description 1
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- SZXQTJUDPRGNJN-UHFFFAOYSA-N dipropylene glycol Chemical compound OCCCOCCCO SZXQTJUDPRGNJN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 208000028659 discharge Diseases 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 125000003438 dodecyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 description 1
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 1
- QHZOMAXECYYXGP-UHFFFAOYSA-N ethene;prop-2-enoic acid Chemical group C=C.OC(=O)C=C QHZOMAXECYYXGP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001033 ether group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001301 ethoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 1
- 229920001038 ethylene copolymer Polymers 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 230000005284 excitation Effects 0.000 description 1
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- 238000009472 formulation Methods 0.000 description 1
- YBMRDBCBODYGJE-UHFFFAOYSA-N germanium oxide Inorganic materials O=[Ge]=O YBMRDBCBODYGJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- 238000007756 gravure coating Methods 0.000 description 1
- 239000012760 heat stabilizer Substances 0.000 description 1
- 125000004051 hexyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 230000005525 hole transport Effects 0.000 description 1
- 150000004678 hydrides Chemical class 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 229910003437 indium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N indium(iii) oxide Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[In+3].[In+3] PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009616 inductively coupled plasma Methods 0.000 description 1
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 1
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 1
- 150000002497 iodine compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229910052741 iridium Inorganic materials 0.000 description 1
- JEIPFZHSYJVQDO-UHFFFAOYSA-N iron(III) oxide Inorganic materials O=[Fe]O[Fe]=O JEIPFZHSYJVQDO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012948 isocyanate Substances 0.000 description 1
- 150000002513 isocyanates Chemical class 0.000 description 1
- NLYAJNPCOHFWQQ-UHFFFAOYSA-N kaolin Chemical compound O.O.O=[Al]O[Si](=O)O[Si](=O)O[Al]=O NLYAJNPCOHFWQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 1
- 239000002346 layers by function Substances 0.000 description 1
- ORUIBWPALBXDOA-UHFFFAOYSA-L magnesium fluoride Chemical compound [F-].[F-].[Mg+2] ORUIBWPALBXDOA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910001635 magnesium fluoride Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000395 magnesium oxide Substances 0.000 description 1
- CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N magnesium oxide Inorganic materials [Mg]=O CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N magnesium;oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[Mg+2] AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000873 masking effect Effects 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 1
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001247 metal acetylides Chemical class 0.000 description 1
- 229910001512 metal fluoride Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052976 metal sulfide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000113 methacrylic resin Substances 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- JKQOBWVOAYFWKG-UHFFFAOYSA-N molybdenum trioxide Inorganic materials O=[Mo](=O)=O JKQOBWVOAYFWKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IBHBKWKFFTZAHE-UHFFFAOYSA-N n-[4-[4-(n-naphthalen-1-ylanilino)phenyl]phenyl]-n-phenylnaphthalen-1-amine Chemical compound C1=CC=CC=C1N(C=1C2=CC=CC=C2C=CC=1)C1=CC=C(C=2C=CC(=CC=2)N(C=2C=CC=CC=2)C=2C3=CC=CC=C3C=CC=2)C=C1 IBHBKWKFFTZAHE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N nitrogen group Chemical group [N] QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JFNLZVQOOSMTJK-KNVOCYPGSA-N norbornene Chemical compound C1[C@@H]2CC[C@H]1C=C2 JFNLZVQOOSMTJK-KNVOCYPGSA-N 0.000 description 1
- MCCIMQKMMBVWHO-UHFFFAOYSA-N octadecanoic acid;titanium Chemical compound [Ti].CCCCCCCCCCCCCCCCCC(O)=O.CCCCCCCCCCCCCCCCCC(O)=O.CCCCCCCCCCCCCCCCCC(O)=O.CCCCCCCCCCCCCCCCCC(O)=O MCCIMQKMMBVWHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- BMMGVYCKOGBVEV-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoceriooxy)cerium Chemical compound [Ce]=O.O=[Ce]=O BMMGVYCKOGBVEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VTRUBDSFZJNXHI-UHFFFAOYSA-N oxoantimony Chemical compound [Sb]=O VTRUBDSFZJNXHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PVADDRMAFCOOPC-UHFFFAOYSA-N oxogermanium Chemical compound [Ge]=O PVADDRMAFCOOPC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BPUBBGLMJRNUCC-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);tantalum(5+) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[Ta+5].[Ta+5] BPUBBGLMJRNUCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012188 paraffin wax Substances 0.000 description 1
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 description 1
- 230000035515 penetration Effects 0.000 description 1
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 1
- 230000035699 permeability Effects 0.000 description 1
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- HPAFOABSQZMTHE-UHFFFAOYSA-N phenyl-(2,4,6-trimethylphenyl)methanone Chemical compound CC1=CC(C)=CC(C)=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 HPAFOABSQZMTHE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LYXOWKPVTCPORE-UHFFFAOYSA-N phenyl-(4-phenylphenyl)methanone Chemical compound C=1C=C(C=2C=CC=CC=2)C=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 LYXOWKPVTCPORE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000435 poly(dimethylsiloxane) Polymers 0.000 description 1
- 229920002492 poly(sulfone) Polymers 0.000 description 1
- 229920000058 polyacrylate Polymers 0.000 description 1
- 229920001515 polyalkylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 229920002312 polyamide-imide Polymers 0.000 description 1
- 229920001230 polyarylate Polymers 0.000 description 1
- 229920005668 polycarbonate resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004431 polycarbonate resin Substances 0.000 description 1
- 150000004291 polyenes Chemical class 0.000 description 1
- 229920000570 polyether Polymers 0.000 description 1
- 229920006393 polyether sulfone Polymers 0.000 description 1
- 229920002530 polyetherether ketone Polymers 0.000 description 1
- 229920001601 polyetherimide Polymers 0.000 description 1
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 239000003505 polymerization initiator Substances 0.000 description 1
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 229920000098 polyolefin Polymers 0.000 description 1
- 229920001709 polysilazane Polymers 0.000 description 1
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 1
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 1
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 description 1
- 230000002265 prevention Effects 0.000 description 1
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 1
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 1
- 238000011160 research Methods 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- FZHAPNGMFPVSLP-UHFFFAOYSA-N silanamine Chemical compound [SiH3]N FZHAPNGMFPVSLP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003377 silicon compounds Chemical class 0.000 description 1
- LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N silicon monoxide Chemical class [Si-]#[O+] LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002545 silicone oil Polymers 0.000 description 1
- 229920002050 silicone resin Polymers 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- 239000011775 sodium fluoride Substances 0.000 description 1
- 235000013024 sodium fluoride Nutrition 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 1
- 229910001936 tantalum oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- LXEJRKJRKIFVNY-UHFFFAOYSA-N terephthaloyl chloride Chemical compound ClC(=O)C1=CC=C(C(Cl)=O)C=C1 LXEJRKJRKIFVNY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MVQLEZWPIWKLBY-UHFFFAOYSA-N tert-butyl 2-benzoylbenzenecarboperoxoate Chemical compound CC(C)(C)OOC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 MVQLEZWPIWKLBY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920005992 thermoplastic resin Polymers 0.000 description 1
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011135 tin Substances 0.000 description 1
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 1
- ILJSQTXMGCGYMG-UHFFFAOYSA-N triacetic acid Chemical compound CC(=O)CC(=O)CC(O)=O ILJSQTXMGCGYMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000013638 trimer Substances 0.000 description 1
- 239000006097 ultraviolet radiation absorber Substances 0.000 description 1
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 1
- UKRDPEFKFJNXQM-UHFFFAOYSA-N vinylsilane Chemical compound [SiH3]C=C UKRDPEFKFJNXQM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B27/00—Layered products comprising a layer of synthetic resin
- B32B27/34—Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising polyamides
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B7/00—Layered products characterised by the relation between layers; Layered products characterised by the relative orientation of features between layers, or by the relative values of a measurable parameter between layers, i.e. products comprising layers having different physical, chemical or physicochemical properties; Layered products characterised by the interconnection of layers
- B32B7/02—Physical, chemical or physicochemical properties
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B9/00—Layered products comprising a layer of a particular substance not covered by groups B32B11/00 - B32B29/00
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05B—ELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHT SOURCES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; CIRCUIT ARRANGEMENTS FOR ELECTRIC LIGHT SOURCES, IN GENERAL
- H05B33/00—Electroluminescent light sources
- H05B33/02—Details
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- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05B—ELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHT SOURCES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; CIRCUIT ARRANGEMENTS FOR ELECTRIC LIGHT SOURCES, IN GENERAL
- H05B33/00—Electroluminescent light sources
- H05B33/02—Details
- H05B33/04—Sealing arrangements, e.g. against humidity
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- Electroluminescent Light Sources (AREA)
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Abstract
本发明提供一种有机EL层叠体,其具有挠性,能够抑制有机EL元件的劣化且还能够抑制可组合使用的功能膜的劣化。有机EL层叠体具有:第1阻气膜及第2阻气膜,具有树脂基材及层叠在树脂基材的一个主面的阻气层;偏振片层及相位差层、以及触摸面板层中的至少一个,配置于第1阻气膜及第2阻气膜之间;以及有机EL元件,层叠在第2阻气膜的阻气层上,第1阻气膜与第2阻气膜配置成彼此的阻气层相面对,第1阻气膜的树脂基材是透明树脂基材,阻气层具有无机层,第1及第2阻气膜中的至少一个阻气层具有1组以上的无机层与成为无机层的形成面的有机层的组合。
Description
技术领域
本发明涉及一种有机电致发光层叠体。
背景技术
使用有机EL(Electro Luminescence(电致发光))材料的有机EL器件(OELD器件)用于显示器或照明装置等。
用于该有机EL器件的有机EL材料非常不耐水。因此,在有机EL装置中,通过采用将两面用玻璃板等密封的结构,防止由水分引起的有机EL材料的劣化。
然而,在使用玻璃板的结构的情况下,难以对应近年来对有机EL装置要求的挠性化。
因此,提出有一种替代玻璃板而使用在树脂基材上形成有阻气层的阻气膜来密封有机EL元件的技术。
例如,专利文献1中记载有一种有机EL层叠体,其中将具有覆盖使用有机EL材料的发光元件及发光元件的钝化膜的有机EL器件用具有支撑体和1组以上的在支撑体上的无机膜及成为无机膜的基底的有机膜的组合的阻气膜密封。
并且,专利文献2中记载有一种有机EL装置,其具有将形成有有机EL元件的有机EL面板夹住并保持的至少一侧是透明的一对挠性膜片,且记载有一对膜片将有机EL面板气密密封到内部的内容。
以往技术文献
专利文献
专利文献1:日本特开2014-197537号公报
专利文献2:日本特开2013-021357号公报
发明内容
发明要解决的技术课题
其中,将有机EL层叠体用于显示器等时,进一步将组合有偏振片层和相位差层的反射防止层及触摸面板层等各种功能膜组合而使用。
根据本发明人的研究,可知在偏振片层、相位差层或触摸面板层等中有时也会产生由水分引起的劣化。然而,在通过有机EL元件的密封中使用阻气膜为赋予挠性的结构中,并未考虑到保护偏振片层、相位差层或触摸面板层等。
本发明的目的在于解决这种问题,并在于提供一种具有挠性,能够抑制有机电致发光元件的劣化且还能够抑制可组合使用的功能膜的劣化的有机电致发光层叠体。
用于解决技术课题的手段
本发明人为了实现上述课题而深入研究的结果,发现通过如下有机电致发光层叠体能够解决上述课题,以至完成了本发明,所述有机电致发光层叠体具有:第1阻气膜及第2阻气膜,具有树脂基材及层叠在树脂基材的一个主面的阻气层;偏振片层及相位差层、以及触摸面板层中的至少一个,配置于第1阻气膜及第2阻气膜之间;有机电致发光元件,层叠在第2阻气膜的阻气层上,第1阻气膜与第2阻气膜配置成面对彼此的阻气层侧,第1阻气膜的树脂基材是透明树脂基材,第1阻气膜及第2阻气膜的阻气层分别至少具有无机层,第1阻气膜及第2阻气膜中的至少一个阻气层具有1组以上的无机层与成为无机层的形成面的有机层的组合。
即,发现了通过以下结构能够实现上述目的。
(1)一种有机电致发光层叠体,其具有:第1阻气膜及第2阻气膜,具有树脂基材及层叠在树脂基材的一个主面的阻气层;偏振片层及相位差层、以及触摸面板层中的至少一个,配置于第1阻气膜及第2阻气膜之间;以及有机电致发光元件,层叠在第2阻气膜的阻气层上,第1阻气膜与第2阻气膜配置成彼此的阻气层侧相面对,第1阻气膜的树脂基材是透明树脂基材,第1阻气膜及第2阻气膜的阻气层分别具有无机层,第1阻气膜及第2阻气膜中的至少一个阻气层具有1组以上的无机层与成为无机层的形成面的有机层的组合。
(2)如(1)所述的有机电致发光层叠体,其中,第1阻气膜的阻气层具有1组以上的无机层与有机层的组合。
(3)如(1)或(2)所述的有机电致发光层叠体,其中,第1阻气膜及第2阻气膜中的无机层包含氮化硅。
(4)如(1)~(3)中任一项所述的有机电致发光层叠体,其中,第1阻气膜与第2阻气膜之间的距离为500μm以下。
(5)如(1)~(4)中任一项所述的有机电致发光层叠体,第1阻气膜的透明树脂基材是黄色度5以下的聚酰亚胺类树脂膜。
(6)如(1)~(5)中任一项所述的有机电致发光层叠体,其中,第1阻气膜的透明树脂基材的与阻气层侧的面相反的一侧的面具有硬涂层。
(7)如(1)~(6)中任一项所述的有机电致发光层叠体,其具有:端面密封层,至少覆盖有机电致发光层叠体的端面的第1阻气膜的无机层与第2阻气膜的无机层之间。
发明效果
根据本发明,能够提供一种具有挠性,能顾抑制有机电致发光元件的劣化且还能够抑制可组合使用的功能膜的劣化的有机电致发光层叠体。
附图说明
图1是示意性表示本发明的有机EL层叠体的一例的剖视图。
图2是示意性表示本发明的有机EL层叠体的另一例的剖视图。
图3是示意性表示本发明的有机EL层叠体的另一例的剖视图。
图4是示意性表示本发明的有机EL层叠体的另一例的剖视图。
图5是示意性表示本发明的有机EL层叠体的另一例的剖视图。
图6是示意性表示阻气膜的另一例的剖视图。
具体实施方式
以下,以附图所示的优选实施方式为基础,对本发明的有机电致发光(ElectroLuminescence、EL)层叠体进行详细说明。
在本说明书的附图中,为了容易辨认,将各部的比例尺适当变更而示出。另外,在本说明书中,用“~”表示的数值范围表示将在“~”的前后记载的数值作为下限值及上限值来包含的范围。
并且,在本说明书中,“正交”及“平行”包含本发明所属的技术领域中容许的误差的范围。例如,“正交”及“平行”表示相对于严格的正交或平行小于±10°的范围内等,相对于严格的正交或平行的误差优选为5°以下,更优选为3°以下。
并且,表示为“正交”及“平行”以外的角度,例如关于15°或45°等具体角度,也设为包含本发明所属的技术领域中容许的误差的范围。例如,在本发明中,角度表示相对于具体所示的严格的角度小于±5°等,相对于所示的严格的角度的误差优选为±3°以下,优选为±1°以下。
在本说明书中,“(甲基)丙烯酸酯”以“丙烯酸酯及甲基丙烯酸酯中的任一个或两者”的含义而使用。
在本说明书中,“相同”包括在技术领域中通常容许的误差范围。并且,在本说明书中,说起“所有”、“均”或“整面”等时,除了100%的情况以外,还包括技术领域中通常容许的误差范围,例如包括99%以上,95%以上或90%以上的情况。
在本说明书中,“具有透明性”表示实质上在可见光区域不具有吸收,优选380~780nm的波长区域的平均透过率为80%以上,更优选为90%以上。
<有机EL层叠体>
本发明的有机EL层叠体具有:第1阻气膜及第2阻气膜,具有树脂基材及层叠在树脂基材的一个主面的阻气层;偏振片层及相位差层、以及触摸面板层中的至少一个,配置于第1阻气膜及第2阻气膜之间;有机EL元件,层叠在第2阻气膜的阻气层上,第1阻气膜与第2阻气膜配置成彼此的阻气层侧相面对,第1阻气膜的树脂基材是透明树脂基材,第1阻气膜及第2阻气膜的阻气层分别至少具有无机层,第1阻气膜及第2阻气膜中的至少一个阻气层具有1组以上的无机层与成为无机层的形成面的有机层的组合。
即,本发明的有机EL层叠体具有:第1阻气膜,具有树脂基材和包含层叠在所述树脂基材的一个主面的无机层的阻气层;
第2阻气膜,具有透明树脂基材和包含层叠在所述透明树脂基材的一个主面的无机层的阻气层;
偏振片层及相位差层、以及触摸面板层中的至少一个;以及
有机电致发光元件,
所述第1阻气膜与所述第2阻气膜配置成形成有彼此的所述阻气层的一侧相面对,
所述偏振片层及相位差层、以及触摸面板层中的至少一个配置于所述第1阻气膜及所述第2阻气膜之间,
图1示出本发明的有机EL层叠体的一例的示意性剖视图。
图1所示的有机EL层叠体10a具有依次层叠有第1阻气膜12、粘合层22、偏振片层20、粘合层22、相位差层18、粘合层22、有机EL元件16及第2阻气膜14的结构。
第1阻气膜12具有在透明树脂基材30的一个主面上层叠有具有有机层42和无机层40的阻气层32的结构。并且,图1中第2阻气膜14具有在树脂基材36的一个主面上层叠有具有2组有机层42和无机层40的组合的阻气层38的结构。
第1阻气膜12和第2阻气膜14配置成彼此的阻气层侧相面对。
并且,在第2阻气膜14的阻气层38上形成有有机EL元件16。
并且,在第1阻气膜12与第2阻气膜14之间,从第1阻气膜12侧配置有相位差层18及偏振片层20。
即,有机EL层叠体10a构成为具有第1阻气膜12和第2阻气膜14,并在第1阻气膜12与第2阻气膜14之间具有相位差层18及偏振片层20、以及层叠在第2阻气膜14上的有机EL元件16。
在这种结构的有机EL层叠体10a中,若有机EL元件16发光,则由有机EL元件16射出的光透过偏振片层20、相位差层18及第1阻气膜12而从第1阻气膜12侧的面射出。从而,作为第1阻气膜12的树脂基材,使用具有透明性的透明树脂基材30。
并且,相位差层18及偏振片层20的组合作为反射防止层而发挥功能。
关于各层的详细,以下进行详细说明。
如此,通过设为将有机EL元件16、以及相位差层18及偏振片层20以2片阻气膜夹住并密封的结构,能够赋予挠性,并且能够抑制有机EL元件16、相位差层18及偏振片层20的由水分引起的劣化。其中,通过设为阻气膜的阻气层具有无机层和成为无机层的形成面的有机层的组合的结构,能够提高阻气膜的阻气性,并且能够抑制由弯曲等引起的阻气性的降低。因此,通过利用这种阻气膜对有机EL元件16、以及相位差层18及偏振片层20进行密封,能够赋予挠性,并且能够抑制这些由水分引起的劣化。并且,通过将2片阻气膜配置成阻气层侧相面对,能够利用阻气层遮蔽从透明树脂基材30及树脂基材36释放的释气(包含水分)及透过透明树脂基材30及树脂基材36的气体(包含水分),并能够抑制到达有机EL元件16、以及相位差层18及偏振片层20。
其中,在图1所示的例子中,设为第1阻气膜12的阻气层32及第2阻气膜14的阻气层38分别具有1组以上的无机层40与有机层42的组合的结构,但并不限定于此,只要设为两个阻气层至少具有无机层且至少一个阻气层具有1组以上的无机层与有机层的组合的结构即可。从阻气性及挠性等观点考虑,优选设为两个阻气膜的阻气层分别具有1组以上的无机层与有机层的组合的结构。并且,赋予挠性时,为了设为不对有机EL元件16施加负荷的设计,与接近有机EL元件16的第2阻气膜14相比,远离有机EL元件16的第1阻气膜12更需要挠性。因此,优选设为第1阻气膜12的阻气层32具有1组以上的无机层与有机层的组合的结构。另一方面,第2阻气膜14的阻气层38可以仅为无机层。
并且,第1阻气膜12与第2阻气膜14之间的距离优选为500μm以下,更优选为400μm以下,进一步优选为300μm以下。从挠性的观点和防止渗入来自有机EL层叠体的端面的水分的观点考虑,优选第1阻气膜12与第2阻气膜14之间的距离为500μm以下。
并且,如图2所示的有机EL层叠体10b,优选在第1阻气膜12侧的表面具有硬涂层46。另外,图2所示的有机EL层叠体10b具有硬涂层46,除此以外具有与图1所示的有机EL层叠体10a相同的结构,因此对于相同部位标注相同符号,并以不同部位为主进行以下的说明。这一点对其他例子也相同。
如图2所示,有机EL层叠体10b具有依次层叠有硬涂层46、第1阻气膜12、粘合层22、偏振片层20、粘合层22、相位差层18、粘合层22、有机EL元件16及第2阻气膜14的结构。
硬涂层46层叠在第1阻气膜12的透明树脂基材30的与阻气层32侧的面相反的一侧的面。即,硬涂层46形成于有机EL层叠体10b的光射出的一侧的最表面。
通过设为具有硬涂层46的结构,能够提高耐擦伤性,并且能够使表面滑动性良好。
在图1所示的例子中,设为2片阻气膜之间具有相位差层18及偏振片层20的结构,但并不限定于此。
例如,如图3所示的有机EL层叠体10c,还可以设为在2片阻气膜之间具有触摸面板层48的结构。
图3所示的有机EL层叠体10c具有依次层叠有第1阻气膜12、粘合层22、触摸面板层48、粘合层22、有机EL元件16及第2阻气膜14的结构。
或者,如图4所示的有机EL层叠体10d,还可以设为在2片阻气膜之间具有相位差层18、偏振片层20及触摸面板层48的结构。
图4所示的有机EL层叠体10d具有依次层叠有第1阻气膜12、粘合层22、偏振片层20、粘合层22、相位差层18、粘合层、触摸面板层48、粘合层22、有机EL元件16及第2阻气膜14的结构。
如此,通过将触摸面板层48设为配置于2片阻气膜之间的结构,能够抑制触摸面板层48因水分而劣化。
关于触摸面板层,以下进行详细说明。
另外,在图4所示的例子中,设为在第1阻气膜12侧层叠偏振片层20及相位差层18,在第2阻气膜14侧层叠触摸面板层48的结构,但并不限定于此,也可以设为在第1阻气膜12侧层叠触摸面板层48,在第2阻气膜14侧层叠偏振片层20及相位差层18的结构。
并且,如图5所示的有机EL层叠体10e,也可以设为具有形成于有机EL层叠体的端面(与各层的层叠方向大致平行的面)的端面密封层50的结构。
端面密封层50显现阻气性,是用于抑制渗入来自有机EL层叠体的端面的水分等的部位。因此,通过设为具有端面密封层50的结构,能够适当地抑制有机EL元件16、以及相位差层18、偏振片层20及触摸面板层48的由水分引起的劣化。
关于端面密封层50的材料等,以下进行详细说明。
另外,在图5所示的例子中,将端面密封层50设为覆盖有机EL层叠体的端面正面的结构,但并不限定于此,端面密封层50形成为至少配置于从第1阻气膜12的阻气层32的无机层40至第2阻气膜14的阻气层38的无机层40之间的区域的端部即可。通过覆盖2片阻气膜的无机层间的区域,能够适当地抑制层叠在2片阻气膜之间的有机EL元件16、以及相位差层18、偏振片层20及触摸面板层48的由水分引起的劣化。
接着,对本发明的有机EL层叠体的各构成要件的材料及结构等进行说明。
〔阻气膜〕
第1阻气膜12及第2阻气膜14在树脂基材的一个主面具有阻气层,且显现阻气性。另外,第1阻气膜12及第2阻气膜14的树脂基材的形成材料及配置位置不同,除此以外具有相同的结构,因此在以下说明中,在无需区分第1阻气膜12和第2阻气膜14时,将两者统称为“阻气膜”。
阻气膜的水蒸气透过率优选为1×10-1[g/(m2·天)]以下,更优选为1×10-3[g/(m2·天)]以下,进一步优选为1×10-5[g/(m2·天)]以下。
另外,水蒸气透过率是在温度40℃、相对湿度90%RH的条件下,通过MOCON法测定的值。并且,水蒸气透过率超过MOCON法的测定极限时,通过钙腐蚀法(日本特开2005-283561号公报中记载的方法)测定。
(树脂基材)
在第1阻气膜12及第2阻气膜14中,透明树脂基材30及树脂基材36能够利用在各种层叠型的阻气膜中用作基材(支撑体)的各种公知的片状物。
另外,透明树脂基材30和树脂基材36基本具有相同的结构,只是在是否必须具有透明性上不同,因此在无需区分透明树脂基材30与树脂基材36时,统称为“(透明)树脂基材”。
树脂基材36例如可举出由低密度聚乙烯(LDPE)、高密度聚乙烯(HDPE)、聚萘二甲酸乙二醇酯(PEN)、聚酰胺(PA)、聚对苯二甲酸乙二酯(PET)、聚氯乙烯(PVC)、聚乙烯醇(PVA)、聚丙烯腈(PAN)、聚酰亚胺(PI)、透明聚酰亚胺、聚甲基丙烯酸甲酯树脂(PMMA)、聚碳酸酯(PC)、聚丙烯酸酯、聚甲基丙烯酸酯、聚丙烯(PP)、聚苯乙烯(PS)、ABS、环烯烃共聚物(COC)、环烯烃聚合物(COP)及三乙酸纤维素(TAC)等各种树脂材料构成的膜(树脂膜)。
并且,作为透明树脂基材30的材料,在上述树脂材料中,能够使用PET、PEN、聚酰亚胺等具有透明性的材料。其中,从耐擦伤性及挠性等观点考虑,优选聚酰亚胺,从透明性的观点考虑,优选黄色度5以下的聚酰亚胺。
另外,透明树脂基材30的黄色度根据JIS K 7373进行测定即可。例如,能够利用UV光谱仪(Varian Inc.制,Cary100),以ASTM E313规格测定黄色度。
黄色度5以下的聚酰亚胺例如可举出包括如下聚酰亚胺类树脂,即包含来源于选自2,2-双(3,4-二羧基苯基)六氟丙烷二酐(FDA)、4-(2,5-二氧代四氢呋喃-3-基)-1,2,3,4-四氢萘-1,2-二羧酸酐(TDA)、9,9-双(三氟甲基)-2,3,6,7-氧杂蒽四羧酸二酐(6FCDA)及4,4’-(4,4’-异亚丙基二苯氧基)双(邻苯二甲酸酐)(HBDA)中的至少1种、以及选自均苯四甲酸二酐(PMDA)、联苯四羧酸二酐(BPDA)及氧双邻苯二甲酸酐(ODPA)中的至少1种芳香族二酐的单元结构和来源于选自2,2-双[4-(4-氨基苯氧基)-苯基]丙烷(6HMDA)、2,2’-双(三氟甲基)-4,4’-二氨基联苯(2,2-TFDB)、3,3’-双(三氟甲基)-4,4’-二氨基联苯(3,3’-TFDB)、4,4’-双(3-氨基苯氧基)二苯砜(DBSDA)、双(3-氨基苯基)砜(3DDS)、双(4-氨基苯基)砜(4DDS)、1,3-双(3-氨基苯氧基)苯(APB-133)、1,4-双(4-氨基苯氧基)苯(APB-134)、2,2’-双[3(3-氨基苯氧基)苯基]六氟丙烷(3-BDAF)、2,2’-双[4(4-氨基苯氧基)苯基]六氟丙烷(4-BDAF)、2,2’-双(3-氨基苯基)六氟丙烷(3,3’-6F)、2,2’-双(4-氨基苯基)六氟丙烷(4,4’-6F)及氧二苯胺(ODA)中的至少1种芳香族二胺的单元结构的聚酰亚胺类树脂或包含来源于上述芳香族二酐的单元结构;来源于选自对苯二甲酰氯(p-Terephthaloylchloride、TPC)、对苯二甲酸(Terephthalic acid)、间苯二甲酰氯(Iso-phthaloyl dichloride)及4,4’-苯甲酰氯(4,4’-benzoyl chloride)中的至少1种芳香族二羰基化合物的单元结构;及来源于上述芳香族二胺的单元结构的聚酰亚胺类树脂。
可以将在这种膜的表面形成有保护层、粘结层、光反射层、防反射层、遮光层、平坦化层、缓冲层、应力缓和层、脱模层等显现必要功能的层(膜)的片状物用作(透明)树脂基材。
(透明)树脂基材的厚度根据有机EL层叠体的用途或形成材料等而适当设定即可。
根据本发明人等的研究,(透明)树脂基材的厚度分别优选5~125μm,更优选5~100μm,尤其优选10~50μm。
从通过将(透明)树脂基材的厚度分别设为上述范围,能够充分确保阻气膜的机械强度,并能够赋予充分的挠性等观点考虑优选。
(阻气层)
阻气层是至少具有无机层的层,优选为具有1组以上的无机层和成为无机层的基底的有机层的组合的层。
另外,在图1所示的例子中,第1阻气膜12的阻气层32设为具有1组有机层42及无机层40的结构,但并不限定于此,阻气层32可以设为具有2组以上的有机层42及无机层40的结构。
并且,在图1所示的例子中,第2阻气膜14的阻气层38设为具有2组有机层42及无机层40的结构,但并不限定于此,阻气层38可以是具有1组有机层42及无机层40的结构,或也可以是具有3组以上的有机层42及无机层40的结构。
并且,在图1所示的例子中,将阻气层设为在与(透明)树脂基材接触的位置具有有机层42的结构,但并不限定于此,如图6所示,也可以设为在与(透明)树脂基材接触的位置具有无机层40a,并在该无机层40a上具有1组以上的有机层42及无机层40的结构。
((有机层))
有机层42是由有机化合物构成的层,基本上是聚合(交联)成为有机层42的单体或低聚物等的层。
有机层42主要作为用于合理地形成显现阻气性的无机层40的基底层而发挥功能。
通过具有这样的有机层42,包埋(透明)树脂基材的表面的凹凸及附着于表面的异物等,并使无机层40的成膜面平滑。由此,能够消除如(透明)树脂基材的表面的凹凸或因异物的附着而产生的凹凸等成为无机层40的无机化合物不易附膜的区域,而在(透明)树脂基材的整个表面,无间隙地形成合适的无机层40,并能够形成具有高阻气性的无机层40。
有机层42的玻璃化转变温度Tg优选高于(透明)树脂基材的玻璃化转变温度Tg,优选为200℃以上。
通过将玻璃化转变温度Tg设为200℃以上,能够具有高耐热性,并能够正确地形成无机层40。
并且,为了防止无机层40的破裂等,优选有机层42具有适当的柔软性。
另外,本发明中,玻璃化转变温度Tg根据JIS K 7121(2012)进行测定即可。
有机层42的材料并不受限定,能够使用公知的有机化合物。
具体而言,可举出聚酯、(甲基)丙烯酸树脂、甲基丙烯酸-马来酸共聚物、聚苯乙烯、透明氟树脂、聚酰亚胺、氟化聚酰亚胺、聚酰胺、聚酰胺酰亚胺、聚醚酰亚胺、纤维素酰化物、聚氨酯、聚醚醚酮、聚碳酸酯、脂环式聚烯烃、聚芳酯、聚醚砜、聚砜、茀环改性聚碳酸酯、脂环改性聚碳酸酯、茀环改性聚酯、丙烯氧化合物等热塑性树脂、聚硅氧烷或其他有机硅化合物的膜。这些可以并用多种。
其中,从玻璃化转变温度和强度优异等观点考虑,更优选使用自由基固化性化合物和/或在官能团中具有醚基的阳离子固化性化合物。
其中,从折射率低,透明性高且光学特性优异等观点考虑,更优选使用将丙烯酸酯和/或甲基丙烯酸酯的单体或低聚物的聚合物作为主成分的丙烯酸树脂或甲基丙烯酸树脂。主成分是指在所含有成分中,含有质量比最大的成分。
其中,尤其可优选例示出将二丙二醇二(甲基)丙烯酸酯(DPGDA)、三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯(TMPTA)、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯(DPHA)等2官能以上,尤其3官能以上的丙烯酸酯和/或甲基丙烯酸酯的单体或低聚物等聚合物作为主成分的丙烯酸树脂或甲基丙烯酸树脂。并且,更优选使用多种这些丙烯酸树脂或甲基丙烯酸树脂。
有机层42的形成材料优选包含5%以上且小于50%的具有金刚烷骨架的1官能以上的丙烯酸酯的树脂材料,或包含5%以上且小于50%的具有茀骨架的2官能以上的丙烯酸酯的树脂材料。
通过使用包含具有金刚烷骨架的1官能以上的丙烯酸酯,或包含具有茀骨架的2官能以上的丙烯酸酯的树脂材料来作为有机层42的形成材料,能够以维持高的玻璃化转变温度Tg的状态降低固化收缩时的收缩率,并能够防止形成在有机层42上的无机层40破裂。
关于这种有机层42的形成,与所形成的有机层42相应地以形成由有机化合物构成的层的公知的方法形成(成膜)即可。作为一例,可例示涂布法及闪蒸等。
例如,涂布法的情况下,能够如下形成有机层42,即制备包含有机溶剂、成为有机层42的有机化合物(单体、二聚体、三聚体、低聚物、聚合物等)、交联剂等的涂布组合物,将该涂布组合物涂布于(透明)树脂基材上来形成涂膜,并将涂膜干燥、固化。
通过利用涂布法形成有机层42而能够形成得较薄。
另外,如前述,具有多个有机层42时,各有机层42的厚度可以相同,也可以不同。并且,各有机层42的材料可以相同也可以不同。
为了提高与无机层40的密合性,有机层42优选含有硅烷偶联剂。
((无机层))
无机层40是由无机化合物构成的层。
阻气膜中,目标阻气性通过无机层40而显现。
无机层40的材料并不受限定,能够利用由显现阻气性的无机化合物构成的各种层。
具体而言,可举出由氧化铝、氧化镁、氧化钽、氧化锆、氧化钛、氧化铟锡(ITO)等金属氧化物;氮化铝等金属氮化物;碳化铝等金属碳化物;氧化硅、氧氮化硅、氧碳化硅、氧氮化碳化硅等硅氧化合物;氮化硅、氮碳化硅等硅氮化物;碳化硅等硅碳化物;它们的氢化物;它们的2种以上的混合物;及它们的含氢物等无机化合物构成的膜。并且,也能够利用它们的2种以上的混合物。
尤其,金属氧化物及氮化物,具体而言,氮化硅、氧化硅、氧氮化硅、氧化铝、它们的2种以上的混合物从透明性高且显现优异的阻气性的观点考虑可优选利用。其中,尤其氮化硅及含氮化硅的混合物由于优异的阻气性,透明性也高,并且柔软性也高,因此能够优选利用。
关于此种无机层40的形成,根据无机层40的形成材料等,利用CCP-CVD(电容耦合型等离子体化学气相沉积法)、ICP-CVD(电感耦合型等离子体化学气相沉积法)、溅射、真空沉积等公知的气相成膜法进行即可。
关于无机层40的膜厚,可根据材料适当确定能够显现目标阻气性的厚度即可。根据本发明人等的研究,无机层40的厚度优选10~200nm,更优选12~100nm,尤其优选15~75nm。
通过将无机层40的厚度设为10nm以上,能够形成稳定地显现充分的阻气性能的无机层40。并且,无机层40通常较脆,若过厚,则有可能发生破裂或裂纹、剥离等,而通过将无机层40的厚度设为200nm以下,能够防止发生破裂。
另外,如前述,具有多个无机层40的情况下,各无机层40的厚度可以相同也可以不同。并且,各无机层40的材料可以相同也可以不同。
〔有机EL元件〕
有机EL元件16是例如具有有机电致发光层、作为夹持有机电致发光层的电极对的透明电极及反射电极的公知的有机EL元件。
如图1所示,有机EL元件16将第2阻气膜14作为元件基板而形成于第2阻气膜14的阻气层38上。
另外,有机EL元件16的其表面可以通过钝化膜被密封。
即,可以是如下结构:将形成于第2阻气膜14上的有机EL元件16利用钝化膜密封,并在该钝化膜上经由粘合层22层叠其他层(相位差层18等)。
通过具有钝化膜,能够适当地防止水分或氧等到达有机EL元件16而使有机EL元件16劣化。
作为此类钝化膜,能够利用用于公知的有机EL装置的由显现阻气性的材料构成的各种膜(层)。具体而言,可例示出与无机层40同样地具有阻气性的由氮化硅、氧化硅等无机化合物构成的膜。
关于钝化膜,利用与膜的形成材料相应的公知的方法成膜即可。
〔相位差层〕
相位差层是对偏振成分给与相位差(光路差)而改变入射光的偏振状态的层。作为相位差层,例如能够利用λ/4板、λ/2板等。
λ/4板(具有λ/4功能的板)是具有将特定波长的线偏振光转换成圆偏振光或将圆偏振光转换成线偏振光的功能的板。更具体而言,是规定波长λnm中面内延迟值表示Re(λ)=λ/4(或其奇数倍)的板。该式在可见光区域的任意波长(例如,550nm)中实现即可。
另外,λ/4板可以是仅由具有λ/4功能的光学各向异性层构成的结构,也可以是在支撑体上形成具有λ/4功能的光学各向异性层的结构,但λ/4板具有支撑体时,表示支撑体与光学各向异性层的组合为λ/4板。
λ/4板能够利用公知的λ/4板。
〔偏振片层〕
偏振片层具有一方向的偏振轴,并具有使特定的线偏振光透过的功能。
作为偏振片层,能够利用包含碘化合物的吸收型偏振板或线栅等反射型偏振板等一般的线偏振板。另外,偏振轴与透过轴的含义相同。
作为吸收型偏振板,例如能够使用碘类偏振板、利用二色性染料的染料类偏振板及多烯类偏振板中的任一种。碘类偏振板及染料类偏振板通常通过使聚乙烯醇吸附碘或二色性染料并拉伸而制作。
〔触摸面板层〕
关于触摸面板层48,以通过有机EL元件16的发光而能够视觉辨认显示于有机EL层叠体的表面的图像的状态设置,并且是检测用使用者的手指或触控笔进行操作的1个或多个坐标的功能层。若通过使用者的手指或触控笔操作器件,则触摸面板层48将因操作产生的检测信号输出至控制部(未图示)。控制部根据接收到的检测信号来进行操作位置(坐标)的检测及装置的控制。
作为触摸面板层48,能够适当利用电阻膜型的触摸面板及静电电容型触摸面板等以往公知的触摸面板。
静电电容型触摸面板具有只在一片基板上形成透光性导电膜即可的优点。在这种静电电容型触摸面板(静电电容型输入装置)中,例如存在以下类型,即使电极图案沿相互交叉的方向延伸而在手指等接触时,检测出电极间的静电容量发生变化,由此检测输入位置。在本发明中,触摸面板层优选为静电电容型触摸面板。
〔粘合层〕
在本发明的有机EL层叠体中,各层经由粘合层贴合即可。
粘合层只要是可贴合成为对象的层(片状物)的层,则能够利用由公知的各种材料构成的层。粘合层可以是在贴合时具有流动性,之后成为固体的由粘结剂构成的层,也可以是贴合时为胶状(橡胶状)的软固体,之后胶状的状态也不会改变的由粘合剂构成的层,还可以是由具有粘结剂和粘合剂这两者特征的材料构成的层。因此,粘合层使用光学透明粘结剂(OCA(Optical Clear Adhesive))、光学透明双面胶带、紫外线固化型树脂等可用于贴合片状物的公知的材料即可。
〔硬涂层〕
硬涂层46设置于有机EL层叠体的发光面侧的最表面,是用于提高耐擦伤性的层。作为硬涂层46,并无特别限定,能够适当利用以往公知的硬涂层。
硬涂层46的铅笔硬度优选为5H以上。通过设为具有铅笔硬度为5H以上的硬涂层46的结构,能够提高耐擦伤性。若有机EL层叠体的表面被划伤,则透明性下降,有机EL元件所发出的光会散射,由此可能会导致视觉辨认性降低。因此,通过在有机EL层叠体的发光面侧的表面形成硬涂层46,提高耐擦伤性,能够抑制视觉辨认性的降低。
并且,通过形成硬涂层46,能够使表面滑动性良好,并且在有机EL层叠体具有触摸面板层时,能够良好地进行触摸面板的操作。
作为用于形成这种硬涂层的涂料,只要是能够形成透明性及无着色性优异的硬涂层的涂料,则并无限制,能够使用任意涂料。作为优选的硬涂层形成用涂料,能够举出活性能量射线固化性树脂组合物。
活性能量射线固化性树脂组合物是通过紫外线或电子束等活性能量射线进行聚合/固化而能够形成硬涂的组合物,能够举出一同包含活性能量射线固化性树脂和1分子中具有2个以上的异氰酸酯基(-N=C=O)的化合物和/或光聚合引起剂的组合物。
关于活性能量射线固化性树脂,例如可举出选自聚氨酯(甲基)丙烯酸酯、聚酯(甲基)丙烯酸酯、聚丙烯酸(甲基)丙烯酸酯、环氧(甲基)丙烯酸酯、聚亚烷基二醇聚(甲基)丙烯酸酯及聚醚(甲基)丙烯酸酯等含有(甲基)丙烯酰基的预聚物或低聚物;(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸正丁酯、(甲基)丙烯酸己酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯、(甲基)丙烯酸月桂酯、(甲基)丙烯酸异冰片酯、(甲基)丙烯酸二环戊烯酯、二环戊烯基氧基乙基(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸苯酯、(甲基)丙烯酸苯基溶纤酯、(甲基)丙烯酸2-甲氧基乙酯、(甲基)丙烯酸羟乙酯、(甲基)丙烯酸羟丙酯、2-丙烯酰氧基乙基氢邻苯二甲酸酯(2-acryloyloxy ethyl hydrogen phthalate)、(甲基)丙烯酸二甲基氨乙酯、(甲基)丙烯酸三氟乙酯及三甲基硅氧基乙基甲基丙烯酸酯等含有(甲基)丙烯酰基的单官能反应性单体;N-乙烯基吡咯烷酮、苯乙烯等单官能反应性单体;二乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、聚乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、2,2‘-双(4-(甲基)丙烯酰氧基聚乙烯氧基苯基)丙烷、及、2,2’-双(4-(甲基)丙烯酰氧基聚丙烯氧基苯基)丙烷等含有(甲基)丙烯酰基的2官能反应性单体;三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、三羟甲基乙烷三(甲基)丙烯酸酯等含有(甲基)丙烯酰基的3官能反应性单体;季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯等含有(甲基)丙烯酰基的4官能反应性单体;以及二季戊四醇六丙烯酸酯等含有(甲基)丙烯酰基的6官能反应性单体等的1种以上,或将上述1种作为构成单体的树脂。作为上述活性能量射线固化性树脂,能够使用它们的1种或2种以上的混合物。
1分子中具有2个以上的异氰酸酯基的化合物例如可举出亚甲基双-4-环己基异氰酸酯;甲苯二异氰酸酯的三羟甲基丙烷加合物、六亚甲基二异氰酸酯的三羟甲基丙烷加合物、异佛尔酮二异氰酸酯的三羟甲基丙烷加合物、甲苯二异氰酸酯的异氰脲酸酯体、六亚甲基二异氰酸酯的异氰脲酸酯体、异佛尔酮二异氰酸酯的异氰脲酸酯体、六亚甲基二异氰酸酯的缩二脲体等聚异氰酸酯;及上述聚异氰酸酯的嵌段型异氰酸酯等聚氨酯交联剂等。这些能够分别单独使用,或组合2种以上来使用。并且,交联时,可根据需要添加二月桂酸二丁基锡、二乙基己酸二丁基锡等催化剂。
作为光聚合引起剂,例如可举出二苯甲酮、甲基-邻苯甲酰苯甲酸酯、4-甲基二苯甲酮、4,4’-双(二乙基氨基)二苯甲酮、邻苯甲酰苯甲酸甲酯、4-苯基二苯甲酮、4-苯甲酰基-4’-甲基二苯基硫醚、3,3’,4,4’-四(叔丁基过氧基羰基)二苯甲酮、2,4,6-三甲基二苯甲酮等的二苯甲酮类化合物;苯偶姻、苯偶姻甲基醚、苯偶姻乙基醚、苯偶姻异丙基醚、苯偶酰甲基缩酮等苯偶姻类化合物;苯乙酮、2,2-二甲氧基-2-苯基苯乙酮、1-羟基环己基苯基酮等苯乙酮类化合物;甲基蒽醌、2-乙基蒽醌、2-戊基蒽醌等蒽醌类化合物;噻吨酮、2,4-二乙基噻吨酮、2,4-二异丙基噻吨酮等噻吨酮类化合物;苯乙酮二甲基缩酮等烷基苯类化合物;三嗪类化合物;二咪唑化合物;酰基氧化膦类化合物;二茂钛类化合物;肟酯类化合物;肟苯基乙酸酯类化合物;羟基酮类化合物;及氨基苯甲酸类化合物等。这些能够分别单独使用,或组合2种以上来使用。
硬涂层优选由包含(A)多官能(甲基)丙烯酸酯100质量份;(B)具有烷氧基甲硅烷基和(甲基)丙烯酰基的化合物0.2~4质量份;(C)有机钛0.05~3质量份;及(D)平均粒径1~300nm的微粒5~100质量份;的活性能量射线固化性树脂组合物构成。更优选由包含(A)多官能(甲基)丙烯酸酯100质量份;(B)含有烷氧基甲硅烷基和(甲基)丙烯酰基的化合物0.2~4质量份;(C)有机钛0.05~3质量份;(D)平均粒径1~300nm的微粒5~100质量份;及(E)防水剂0.1~7质量份;的活性能量射线固化性树脂组合物构成。通过设为上述优选的硬涂层,透明性、色调、耐擦伤性、表面硬度、耐弯曲性及表面外观优异,并且即使用手绢等反复擦拭也能够维持手指滑动性等表面特性。
(A)多官能(甲基)丙烯酸酯:
成分A是1分子中具有2个以上的(甲基)丙烯酰基的(甲基)丙烯酸酯,由于1分子中具有2个以上的(甲基)丙烯酰基,因此发挥通过紫外线或电子束等活性能量射线进行聚合及固化来形成硬涂的作用。
多官能(甲基)丙烯酸酯例如可举出二乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、聚乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、2,2‘-双(4-(甲基)丙烯酰氧基聚乙烯氧基苯基)丙烷、及、2,2’-双(4-(甲基)丙烯酰氧基聚丙烯氧基苯基)丙烷等含有(甲基)丙烯酰基的2官能反应性单体;三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、三羟甲基乙烷三(甲基)丙烯酸酯等含有(甲基)丙烯酰基的3官能反应性单体;季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯等含有(甲基)丙烯酰基的4官能反应性单体;二季戊四醇六丙烯酸酯等含有(甲基)丙烯酰基的6官能反应性单体;及将它们中的1种以上作为构成单体的聚合物(低聚物或预聚物)。作为成分A,能够使用它们的1种或2种以上的混合物。
(B)含有烷氧基甲硅烷基和(甲基)丙烯酰基的化合物
成分B通过在分子内具有(甲基)丙烯酰基而能够与成分A,通过具有烷氧基甲硅烷基而能够与成分D进行化学键合乃至强烈地相互作用,并起到大幅提高硬涂的耐擦伤性的作用。并且,成分B通过在分子内具有(甲基)丙烯酰基或通过具有烷氧基甲硅烷基而也能够与成分E进行化学键合乃至强烈地相互作用,还起到防止成分E渗出等问题的作用。其中,(甲基)丙烯酰基表示丙烯酰基或甲基丙烯酰基。另外,成分B在具有烷氧基甲硅烷基这一点上有别于成分A,具有烷氧基甲硅烷基和1分子中2个以上的(甲基)丙烯酰基的化合物是成分B。
关于成分B,例如可举出具有由通式“(-SiO2RR’-)n·(-SiO2RR”-)m”表示的化学结构的化合物。其中,n为自然数(正整数),m为0或自然数。优选的是,n为2~10的自然数、m为0或1~10的自然数。R为甲氧基(CH3O-)、乙氧基(C2H5O-)等烷氧基。R’为丙烯酰基(CH2=CHCO-)、甲基丙烯酰基(CH2=C(CH3)CO-)。R”为甲基(CH3)、乙基(CH2CH3)等烷基。
关于成分B,例如可举出具有由通式“(-SiO2(OCH3)(OCHC=CH2)-)n”、“(-SiO2(OCH3)(OC(CH3)C=CH2)-)n”、“(-SiO2(OCH3)(OCHC=CH2)-)n·(-SiO2(OCH3)(CH3)-)m”、“(-SiO2(OCH3)(OC(CH3)C=CH2)-)n·(-SiO2(OCH3)(CH3)-)m”、“(-SiO2(OC2H5)(OCHC=CH2)-)n”、“(-SiO2(OC2H5)(OC(CH3)C=CH2)-)n”、“(-SiO2(OC2H5)(OCHC=CH2)-)n·(-SiO2(OCH3)(CH3)-)m”及“(-SiO2(OC2H5)(OC(CH3)C=CH2)-)n·(-SiO2(OCH3)(CH3)-)m”表示的化学结构的化合物。其中,n为自然数(正整数),m为0或自然数。优选的是,n为2~10的自然数、m为0或1~10的自然数。
作为成分B,能够使用它们的1种或2种以上的混合物。
从耐擦伤性的观点考虑,成分B的配合量相对于100质量份的成分A为0.2质量份以上,优选0.5质量份以上,更优选1质量份以上。另一方面,从容易显现防水性的观点考虑,并从将成分B与成分C的配合比设为优选范围时成分C不会过剩的观点考虑,为4质量份以下,优选3质量份以下,更优选2质量份以下。
并且,从与成分D化学键合乃至强烈地相互作用的观点考虑,成分B与成分D的配合比优选为成分B相对于100质量份的成分D为0.5~15质量份。更优选为2~7质量份。
(C)有机钛:
成分C是辅助成分B的作用的成分,从大幅提高硬涂的耐擦伤性的观点考虑,成分B与成分C之间显示特异的相容性。并且,成分C自身也与成分D等进行化学键合乃至强烈地相互作用。并起到提高硬涂的耐擦伤性的作用。
关于有机钛,例如可举出四-异丙氧基钛、四-正丁氧基钛、四(2-乙基己基氧基)钛、异丙氧基辛二醇合钛、二-异丙氧基·双(乙酰丙酮)钛、丙烷二氧基钛双、三-正丁氧基钛单硬脂酸酯、二-异丙氧基钛二硬脂酸酯、钛硬脂酸酯、二-异丙氧基钛二异硬脂酸酯、(2-正丁氧基羰基苯甲酰基氧基)三丁氧基钛、二-正丁氧基-双(三乙醇胺)钛;及由这些的1种以上构成的聚合物;等。作为成分C,能够使用它们的1种或2种以上的混合物。
这些中,从耐擦伤性和色调的观点考虑,优选烷氧钛的四-异丙氧基钛、四-正丁氧基钛、四(2-乙基己基氧基)钛、及异丙氧基辛二醇合钛。
从耐擦伤性的观点考虑,成分C的配合量相对于100质量份的成分A为0.05质量份以上,优选0.1质量份以上,更优选0.2质量份以上。另一方面,从色调的观点考虑为3质量份以下,优选2质量份以下,更优选1.5质量份以下。
并且,从有效辅助成分B的作用的观点考虑,成分B与成分C的配合比优选为成分C相对于100质量份的成分B为5~150质量份。更优选相对于100质量份的成分B为20~80质量份。
(D)平均粒径1~300nm的微粒:
成分D起到提高硬涂的表面硬度的作用。
作为成分D,能够使用无机微粒、有机微粒中的任一种。无机微粒例如可举出二氧化硅(silica);氧化铝、氧化锆、二氧化钛、氧化锌、氧化锗、氧化铟、氧化锡、氧化铟锡、氧化锑、氧化铈等金属氧化物微粒;氟化镁、氟化钠等金属氟化物微粒;金属硫化物微粒;金属氮化物微粒;金属微粒;等。作为有机微粒,例如可举出苯乙烯类树脂、丙烯酸类树脂、聚碳酸酯类树脂、乙烯类树脂、氨类化合物与甲醛的固化树脂等的树脂粒。这些能够单独使用1种,或能够组合2种以上来使用。
并且,以提高微粒在涂料中的分散性或提高所获得的硬涂的表面硬度为目的,可以使用将该微粒的表面通过乙烯基硅烷、氨基硅烷等硅烷类偶联剂;钛酸酯类偶联剂;铝酸酯类偶联剂;具有(甲基)丙烯酰基、乙烯基、芳基等烯属不饱和键基或环氧基等反应性官能团的有机化合物;脂肪酸、脂肪酸金属盐等表面处理剂等进行处理的微粒。
其中,为了获得表面硬度更高的硬涂,优选二氧化硅或氧化铝的微粒,更优选二氧化硅的微粒。作为二氧化硅微粒的市售品,可举出Nissan Chemical Corporation的SNOWTEX(商品名)、FUSO CHEMICAL CO.,LTD.的Quartron(商品名)等。
从保持硬涂的透明性,可靠地获得硬涂的表面硬度改良效果的观点考虑,成分D的平均粒径为300nm以下。优选为200nm以下,更优选为120nm以下。另一方面,粒径的下限并无特别限制,通常能够获得的微粒即便很细也最多为1nm左右。
微粒的平均粒径是在使用Nikkiso Co.,Ltd.的激光衍射/散射式粒度分析仪“MT3200II(商品名)”来测定的粒径分布曲线中,从小粒子开始累积成为50质量%的粒径。
从表面硬度的观点考虑,成分D的配合量相对于100质量份的成分A为5质量份以上,优选20质量份以上。另一方面,从耐擦伤性和透明性的观点考虑为100质量份以下,优选70质量份以下,更优选50质量份以下。
(E)防水剂:
从提高手指滑动性、脏污的附着防止性及脏污的擦拭性的观点考虑,优选活性能量射线固化性树脂组合物中进一步含有(E)防水剂0.1~7质量份。
作为防水剂,例如可举出石蜡、聚乙烯蜡、丙烯酸·乙烯共聚物蜡等蜡类防水剂;硅油、硅酮树脂、聚二甲基硅氧烷、烷基烷氧基硅烷等硅类防水剂;氟聚醚类防水剂、氟聚烷类防水剂等含氟类防水剂;等。作为成分E,能够使用它们的1种或2种以上的混合物。
其中,作为成分E,从防水性能的观点考虑,优选氟聚醚类防水剂。从成分A、成分B及成分E进行化学键合乃至强烈地相互作用,并防止成分E渗出等问题的观点考虑,作为成分E,更优选包含分子内含有(甲基)丙烯酰基和氟聚醚基的化合物的防水剂(以下,简称为含有(甲基)丙烯酰基的氟聚醚类防水剂。)。从适当调节成分A、成分B及成分E的化学键合乃至相互作用,透明性保持较高且显现良好的防水性的观点考虑,作为成分E,更优选为含有丙烯酰基的氟聚醚类防水剂与含有甲基丙烯酰基的氟聚醚类防水剂的混和物。
从防止成分E渗出等问题的观点考虑,使用成分E时的配合量相对于100质量份的成分A,通常为7质量份以下,优选为4质量份以下。由于是任意成分,因此配合量的下限并无特别限制,但从获得成分E的使用效果的观点考虑,通常为0.1质量份以上,优选为0.5质量份以上。
从使基于活性能量射线的固化性良好的观点考虑,包含成分A~D,优选包含成分A~E的活性能量射线固化性树脂组合物中,优选进一步包含1分子中具有2个以上的异氰酸酯基(-N=C=O)的化合物和/或光聚合引起剂。相关说明均已在上面叙述。
活性能量射线固化性树脂组合物中可根据需求包含1种或2种以上的防静电剂、表面活性剂、流平剂、触变性赋予剂、防污染剂、印刷性改良剂、抗氧化剂、耐候性稳定剂、耐光性稳定剂、紫外线吸收剂、热稳定剂、着色剂、及填充剂等添加剂。
为了稀释成容易涂布的浓度,活性能量射线固化性树脂组合物中可以根据需要包含溶剂。溶剂只要是不与组合物的成分进行反应或不对这些成分的自反应(包括劣化反应)进行催化(促进)的溶剂,则并无特别限制。例如可举出1-甲氧基-2-丙醇、乙酸乙酯、乙酸正丁酯、甲苯、甲基乙基酮、甲基异丁酮、双丙酮醇及丙酮等。
通过将这些成分混合并搅拌来获得活性能量射线固化性树脂组合物。
使用包含活性能量射线固化性树脂组合物的硬涂形成用涂料来形成上述硬涂层的方法并无特别限制,能够使用公知的web涂布方法。
具体而言,可举出辊涂、凹版涂布、反向涂布、辊刷、喷涂、气刀涂布及模涂等方法。
上述硬涂层的厚度并无特别限制,从硬涂层的耐久性等的观点考虑,通常为1μm以上,优选5μm以上,更优选10μm以上,进一步优选20μm以上。并且,从切削加工适性或web操作性的观点考虑,可以优选为100μm以下,更优选为50μm以下。
〔端面密封层〕
端面密封层50形成于有机EL层叠体的端面并显现阻气性,是用于抑制渗入来自端面的水分。
作为端面密封层50的材料,只要能够减少渗入来自端面的水分,则并无特别限定。具体而言,例如能够使用NAGASE&CO.,LTD.制的NXR5516、ThreeBond Holdings Co.,Ltd.制的TB3124等密封用固化型粘结剂。并且,还优选通过无机层涂布形成的聚硅氮烷等无机层或通过真空蒸镀形成的无机阻挡层等。或者还优选以镀覆等形成的金属膜。
其中,端面密封层50的水蒸气透过率优选为1×10-1[g/(m2·天)]以下,更优选为1×10-3[g/(m2·天)]以下,进一步优选为1×10-5[g/(m2·天)]以下。
通过在有机EL层叠体的端面形成氧透过率低,即阻气性高的端面密封层50,能够更适当地防止水分或氧的渗入而更适当地防止有机EL元件16、以及相位差层18、偏振片层20及触摸面板层48的劣化。
并且,端面密封层50的与有机EL层叠体的端面垂直的方向的厚度优选在0.1μm~100μm的范围,更优选为0.5μm~50μm,尤其优选为1μm~10μm。
通过将端面密封层50的厚度设为0.1μm以上,能够稳定地显现充分的阻气性能。并且,通过将端面密封层50的厚度设为100μm以下,能够适当地防止发生破裂。
并且,端面密封层50不限定于由1层构成的结构,也可以设为具有2层以上的结构。另外,端面密封层50层叠在有机EL层叠体的端面,因此将端面密封层50构成为2层以上时的层叠方向是与有机EL层叠体的端面垂直的方向,是与阻气膜、有机EL元件及偏振片层等层叠方向正交的方向。
通过将端面密封层50设为由2层以上构成的结构,与有机EL层叠体的端面接触的第1层能够利用与有机EL层叠体的密合性高的材料,以能够提高密合性的形成方法形成,而第2层之后能够形成显现高阻气性的层,因此能够防止端面密封层从有机EL层叠体剥离而获得高耐久性。
作为由2层以上构成的端面密封层50的一例,可举出设置成与有机EL层叠体的端面接触的第1层是通过溅射法、真空蒸镀法、离子镀法及等离子体CVD法中的任一种方法形成的金属层,形成于第1层上的第2层是金属镀层的结构。
将设置成与有机EL层叠体的端面接触的第1层利用除了镀覆处理以外的方法形成,并将该第1层作为电极而进行镀覆处理,由此能够正确地形成金属镀层。
并且,从通过将至少1层设为金属镀层,能够将该层形成得较厚,并能够显现充分的阻气性。
并且,金属镀层的厚度优选比第1层的厚度厚。
具体而言,从与有机EL层叠体的密合性、生产性等观点考虑,第1层的厚度优选设为0.001μm~0.5μm,更优选设为0.01μm~0.3μm。
并且,确保阻气性的生产性等观点考虑,金属镀层的厚度优选设为0.01μm~100μm,更优选设为1μm~10μm。
作为第1层的形成材料,只要是金属,则并无特别限定,但优选能够以上述溅射法、真空蒸镀法、离子镀法及等离子体CVD法中的任一种方法形成,从而优选为选自包括铝、钛、铬、铜及镍的组中的至少1种或包含这些中的至少1种的合金。
作为第1层的材料,通过使用这些金属或合金,能够以溅射法、真空蒸镀法、离子镀法及等离子体CVD法中的任一种方法形成,并能够提高第1层与有机EL的侧面之间的密合性。
另外,作为第1层的形成方法,优选为密合性良好,且能够进行低温成膜的溅射法。
并且,作为金属镀层的材料,只要是金属,则并无特别限定,但优选为选自包括铝、钛、铬、镍、锡、铜、银及金的组中的至少1种或包含这些中的至少1种的合金。
作为金属镀层的形成材料,通过使用这些金属或合金,能够通过镀覆处理来形成,并能够显现高阻气性。
另外,端面密封层由3层以上构成时,只要至少1层通过镀覆处理形成即可,也可以具有通过溅射法、真空蒸镀法、离子镀法或等离子体CVD法中的任一种方法形成的层。此时,优选至少最表层通过镀覆处理形成。
并且,构成端面密封层50的各层的材料可以相同,也可以互不相同。即,例如,可以将第1层设为通过溅射法形成的镍层,将最表层设为通过镀覆处理形成的镍层。
以上,对本发明的有机EL层叠体进行了详细说明,但本发明并不限定于上述实施方式,在不脱离本发明的宗旨的范围内能够进行各种改良或变更。
实施例
以下,举出本发明的具体实施例,对本发明进行进一步详细说明。
[实施例1]
作为实施例1,制作了如图1所示的有机EL层叠体。
<第1阻气膜的制作>
作为透明树脂基材30,参考日本特表2015-508345(制作方法:段落<0057>~<0058>,黄色度数据:表1)而制作并使用了厚度25μm的透明聚酰亚胺膜。黄色度为4.5。
〔阻气层的形成〕
在透明树脂基材30的一面,按照以下顺序形成了具有有机层42及无机层40的阻气层32。
(有机层的形成)
首先,按照以下顺序形成了有机层42。
制备了将TMPTA(Daicel Celltech公司制)、硅烷偶联剂(KBM-5103,Shin-EtsuChemical Co.,Ltd.制)及聚合性酸性化合物(KARAMER PM-21,Nippon Kayaku Co.,Ltd.制)以14.1:3.5:1的质量比混合而成的组合物。
将该组合物18.6g、紫外线聚合引起剂(Lamberti S.p.A制,ESACURE KTO46)1.4g及2-丁酮180g混合而制备了用于形成有机层42的涂料。
将所制备的涂料涂布于透明树脂基材30的表面。使用线棒,将涂料涂布至涂膜厚成为10μm。
将涂料涂布之后,通过放置于室温下而干燥了涂料。
接着,在利用氮置换法将氧浓度设为0.1%的腔室内照射(累积照射量约1J/cm2)高压水银灯的紫外线,由此使涂料的组合物固化。由此,在透明树脂基材30的表面形成了厚度1μm的有机层42。
(无机层的形成)
在该有机层42上,形成了厚度35nm的氮化硅膜作为无机层40。
利用通常的CCP(电容耦合等离子体方式)-CVD装置来进行了无机层40(氮化硅膜)的形成。原料气体使用了硅烷气体(流量160sccm)、氨气(流量370sccm)、氢气(流量590sccm)及氮气(流量240sccm)。将成膜压力设为40Pa。电源使用频率13.56MHz的高频电源,并将等离子体激发电力设为2.5kW。
由此制作了在透明树脂基材30上具有有机层42,并在其上具有无机层40的第1阻气膜12。
另外,以单位sccm表示的流量是换算成1013hPa、0℃下的流量(cc/分钟)的值。
<第2阻气膜的制作>
作为树脂基材36,使用厚度25μm的聚酰亚胺膜(DU PONT-TORAY CO.,LTD.制,Kapton)形成了具有2组有机层42与无机层40的组合的阻气层38,除此以外,以与第1阻气膜相同的方法制作了第2阻气膜14。
即,在树脂基材36的一面以与上述相同的方法形成有机层42及无机层40,以与先前相同的方法进一步在无机层40上形成第2层有机层42,并与先前相同的方法在第2层有机层42上形成了第2层无机层40。
<有机EL元件的形成>
接着,在第2阻气膜的阻气层上,按照以下顺序形成了有机EL元件。
如下形成了有机EL元件16。
首先,在第2阻气膜的表面,通过真空蒸镀将Al成膜至60nm的膜厚,由此形成了阳极。在所形成的阳极表面,通过真空蒸镀装置,将MoO3层作为空穴注入层而以2nm的膜厚形成,进一步在MoO3层的表面依次以如下膜厚分别进行蒸镀而形成了有机电界发光层,即空穴传输层(α-NPD:Bis[N-(1-naphthyl)-N-phenyl]benzidine:双[N-(1-萘基)-N-苯基]联苯胺)为29nm,将CBP(4,4'-Bis(carbazol-9-yl)biphenyl:4,4'-双(咔唑-9-基)联苯)作为主材料掺杂5%的Ir(ppy)3(Tris(2-phenylpyridinato)iridium:三(2-苯基吡啶)铱)的发光层为20nm,作为空穴阻挡层的BAlq(Bis-(2-methyl-8-quinolinolato)-4-(phenyl-phenolate)-aluminium(III))(双-(2-甲基-8-羟基喹啉)-4-(苯基-苯酚)-铝(III))层为10nm,作为电子传输层的Alq3(Tris(8-hydroxy-quinolinato)aluminium:三(8-羟基喹啉)铝)层为20nm。
接着,在所获得的有机发光层的表面,以LiF为0.5nm、Al为1.5nm、Ag为10nm的膜厚依次进行蒸镀而成膜阴极,由此在元件基板的表面形成了有机EL元件16。
接着,在有机EL元件16上,作为钝化膜制作了300nm的Al2O3膜。
<有机EL层叠体的制作>
在手套箱内,在形成有有机EL元件16的第2阻气膜14上,隔着粘合片(8146-1(厚度25μm),3M Company制),贴合λ/4板作为相位差层18。接着,在λ/4板上,隔着粘合片(8146-1(厚度25μm),3M Company制)贴合偏振片作为偏振片层20。而且,在偏振片层20上,隔着粘合片(8146-1(厚度25μm),3M社制),贴合了第1阻气膜12。第1阻气膜12将阻气层32侧朝向偏振片层20进行了贴合。另外,如下制作了λ/4板及偏振片。
(λ/4板)
通过将厚度50μm的市售的长条状降冰片烯类树脂膜(ZEONOR,Zeon Corporation制)拉伸至1.52倍而获得了厚度35μm的λ/4板。
(偏振片)
将市售的聚乙烯醇膜(VF-PS,KURARAY CO.,LTD制)在含碘水溶液中进行染色之后,在含硼酸水溶液中,在圆周速度比不同的辊间,单轴拉伸至约6倍,由此获得了厚度30μm的长条状的偏振片。
通过以上,制作了依次层叠有第1阻气膜12、偏振片层20、相位差层18、有机EL元件16及第2阻气膜14的有机EL层叠体。
另外,第1阻气膜12与第2阻气膜14之间的距离为195μm。
[实施例2]
在有机EL元件16与相位差层18之间,隔着粘合片(8146-1(厚度25μm)、3M社制)层叠触摸面板层48,并进一步在第1阻气膜12的透明树脂基材30上设置硬涂层46,除此以外,以与实施例1相同的方法制作了有机EL层叠体。
另外,第1阻气膜12与第2阻气膜14之间的距离为260μm。
作为触摸面板层48,分解市售的智能手机(GalaxyS7Edge)而取出使用。
并且,按照以下顺序形成了硬涂层46。
在形成阻气层32之前,对透明树脂基材30的一侧的面进行电晕放电处理之后,使用模涂方式的涂布装置,将作为硬涂形成用涂料而示于以下的配合组成(质量份)的涂料涂布至固化后厚度成为25μm,由此形成了硬涂层。
硬涂形成用涂料的组成
·二季戊四醇六丙烯酸酯、6官能:65质量份
·乙氧化三羟甲基丙烷丙烯酸酯、3官能:35质量份
·Shin-Etsu Chemical Co.,Ltd.的KR-513(商品名):1.4质量份
·Nippon Soda Co.,Ltd.的异丙氧基辛二醇合钛“TOG(商品名)”:0.7质量份
·平均粒径20nm的二氧化硅微粒:35质量份
·Shin-Etsu Chemical Co.,Ltd.的含有丙烯酰基的氟聚醚类防水剂“KY-1203(商品名)”:1.6质量份
·Solvay S.A.的含有甲基丙烯酰基的氟聚醚类防水剂“FOMBLIN MT70(商品名)”:0.2质量份
·Shuang Bang Industrial Corp.的苯基酮类光聚合引起剂(1-羟基环己基苯基酮)“SB-PI714(商品名)”:5.3质量份
·1-甲氧基-2-丙醇:95质量份
[实施例3]
而且,除了形成端面密封层50以外,以与实施例1相同的方法制作了有机EL层叠体。
按照以下顺序形成了端面密封层50。
(第1层的形成)
遮蔽除了以与实施例1相同的方法制作的有机EL层叠体的侧面以外的部分而形成了端面密封层的第1层。作为靶而使用了钛,作为放电气体使用了氩气。成膜压力为0.5Pa,成膜输出为400W,形成膜厚为10nm。
(第2层的形成)
接着,将靶从钛变更为铜,除此以外,以与第1层的形成相同的方法在第1层上形成了膜厚75nm的第2层。
(第3层的形成)
而且,如下所述,在第2层上形成了第3层。
首先,将形成有第1层及第2层的层叠物用纯水进行水洗,并在填满市售的表面活性剂的浴槽中浸渍20秒来脱脂。接着,水洗之后,在5%硫酸水溶液中浸渍5秒来进行酸活性处理,再次进行了水洗。
将经水洗的层叠物固定在挂具上,利用测试仪确认导通之后,在5%硝酸水溶液中浸渍10秒来进行酸活性处理,在硫酸铜浴中,以电流密度3.0A/dm2、5分钟的条件进行电镀处理,由此在第2层上形成了作为金属镀层的第3层。之后,经过水洗、防锈处理,用空气去除多余的水分,由此获得了在端面形成有由3层金属层构成的端面密封层50的有机EL层叠体。
[实施例4]
作为透明树脂基材30使用PEN膜(TEIJIN FILM SOLUTIONS LIMITED制Teonex,100μm),除此以外,以与实施例1相同的方法制作了有机EL层叠体。
第1阻气膜12与第2阻气膜14之间的距离为350μm。
[实施例5]
作为透明树脂基材30使用PET膜(TOYOBO CO.,LTD.制,COSMOSHINE A4300,38μm),除此以外,以与实施例1相同的方法制作了有机EL层叠体。
第1阻气膜12与第2阻气膜14之间的距离为210μm。
[实施例6]
作为贴合各层的粘合片使用8146-4(厚度100μm,3M Company制),作为透明树脂基材30使用了PET膜(TOYOBO CO.,LTD.制,COSMOSHINE A4300,100μm),作为第2阻气膜的树脂基材36使用厚度50μm的聚酰亚胺膜(DU PONT-TORAY CO.,LTD.制,Kapton),除此以外,以与实施例5相同的方法制作了有机EL层叠体。
第1阻气膜12与第2阻气膜14之间的距离为520μm。
[实施例7]
代替相位差层18及偏振片层20,设为具有触摸面板层48的结构,除此以外,以与实施例6相同的方法制作了有机EL层叠体。
第1阻气膜12与第2阻气膜14之间的距离为400μm。
[比较例1]
代替第1阻气膜12,使用玻璃基板(Corning Incorporated Co.,Ltd.制,厚度700μm),除此以外,以与实施例1相同的方法制作了有机EL层叠体。
[比较例2]
代替第1阻气膜12,使用与透明树脂基材30相同的基材,除此以外,以与实施例1相同的方法制作了有机EL层叠体。
[比较例3]
在第1阻气膜及第2阻气膜中,将阻气层仅设为无机层,除此以外,以与实施例1相同的方法制作了有机EL层叠体。
将实施例1~7的结构示于表1,将比较例1~3的结构示于表2。另外,在透明树脂基材一项中,将透明聚酰亚胺膜表示为“透明PI基材”,在树脂基材的一项中,将聚酰亚胺膜表示为“PI”。
[表1]
[表2]
[评价]
对所制作的实施例及比较例的有机EL层叠体进行了有机EL元件的耐久性、挠性及滑动性的评价。
<有机EL元件的耐久性>
在温度60℃、湿度90%RH的环境下,将所制作的有机EL层叠体放置了100小时。放置后,利用Keithlel公司制SMU2400型源测量单元,对各有机EL层叠体施加7V的电压来使其发光。通过显微镜,从阻气膜侧进行观察,并求出黑斑的占有率,并根据以下基准进行了评价。
AA:黑斑的占有率小于2%
A:黑斑的占有率为2%以上且小于5%
B:黑斑的占有率为5%以上且小于20%
C:黑斑的占有率为20%以上
<挠性>
利用根据JIS K 5600-5-1的芯轴法,按照以下的基准评价了有机EL层叠体的挠性。
A:芯轴半径小于8mm,弯曲100次也未发生剥离、折弯及破损
B:芯轴半径在8mm以上且小于14mm的范围,弯曲100次也未发生剥离、折弯及破损
C:芯轴半径为14mm以上,但弯曲100次时发生了剥离、折弯及破损中的任一个
<滑动性>
用手指触碰有机EL层叠体的透明树脂基材侧(硬涂层侧),以是否有与在玻璃表面的手指滑动性的差异来评价了滑动性。
A:5人中3人以上评价为无差异
B:5人中少于3人评价为无差异
将结果示于下述表中。
[表3]
如上述表3所示,可知本发明的实施例1~7相较于比较例1~3,有机EL元件的耐久性及挠性均良好。
并且,从实施例1与实施例2的对比可知,通过设置硬涂层,虽挠性稍许下降,但滑动性变好。
并且,从实施例1与实施例3的对比可知,通过设置端面密封层,有机EL元件的耐久性更加得到提高。
并且,从实施例5与实施例6的对比可知,第1阻气膜12与第2阻气膜14之间的距离越短,有机EL元件的耐久性及挠性越得到提高,因此优选。
根据以上结果,本发明的效果是显而易见的。
符号说明
10a~10e-有机EL层叠体,12-第1阻气膜,14-第2阻气膜,16-有机EL元件,18-相位差层,20-偏振片层,22-粘合层,30-透明树脂基材,32、38-阻气层,36-树脂基材,40、40a-无机层,42-有机层,46-硬涂层,48-触摸面板层,50-端面密封层。
Claims (7)
1.一种有机电致发光层叠体,其具有:
第1阻气膜及第2阻气膜,分别具有树脂基材及层叠在所述树脂基材的一个主面的阻气层;
偏振片层及相位差层、以及触摸面板层中的至少一个,配置于所述第1阻气膜及所述第2阻气膜之间;以及
有机电致发光元件,层叠在所述第2阻气膜的所述阻气层上,
所述第1阻气膜与所述第2阻气膜配置成彼此的所述阻气层侧相面对,
所述第1阻气膜的所述树脂基材是透明树脂基材,
所述第1阻气膜及所述第2阻气膜的所述阻气层各自具有无机层,
所述第1阻气膜及所述第2阻气膜中的至少一个所述阻气层具有1组以上的所述无机层与成为所述无机层的形成面的有机层的组合。
2.根据权利要求1所述的有机电致发光层叠体,其中,
所述第1阻气膜的所述阻气层具有1组以上的所述无机层与所述有机层的组合。
3.根据权利要求1或2所述的有机电致发光层叠体,其中,
所述第1阻气膜及所述第2阻气膜中的所述无机层包含氮化硅。
4.根据权利要求1至3中任一项所述的有机电致发光层叠体,其中,
所述第1阻气膜与所述第2阻气膜之间的距离为500μm以下。
5.根据权利要求1至4中任一项所述的有机电致发光层叠体,其中,
所述第1阻气膜的所述透明树脂基材是黄色度5以下的聚酰亚胺类树脂膜。
6.根据权利要求1至5中任一项所述的有机电致发光层叠体,其在所述第1阻气膜的所述透明树脂基材的与所述阻气层侧的面相反的一侧的面具有硬涂层。
7.根据权利要求1至6中任一项所述的有机电致发光层叠体,其具有:
端面密封层,至少覆盖有机电致发光层叠体的端面的所述第1阻气膜的所述无机层与所述第2阻气膜的所述无机层之间。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2017-106553 | 2017-05-30 | ||
JP2017106553A JP2020129430A (ja) | 2017-05-30 | 2017-05-30 | 有機エレクトロルミネッセンス積層体 |
PCT/JP2018/014980 WO2018221018A1 (ja) | 2017-05-30 | 2018-04-10 | 有機エレクトロルミネッセンス積層体 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN110637504A true CN110637504A (zh) | 2019-12-31 |
Family
ID=64454635
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN201880032583.2A Withdrawn CN110637504A (zh) | 2017-05-30 | 2018-04-10 | 有机电致发光层叠体 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2020129430A (zh) |
KR (1) | KR20190128231A (zh) |
CN (1) | CN110637504A (zh) |
WO (1) | WO2018221018A1 (zh) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN112951096B (zh) * | 2021-04-07 | 2022-11-11 | 京东方科技集团股份有限公司 | 显示面板及其制备方法 |
CN113471389A (zh) * | 2021-06-30 | 2021-10-01 | 上海天马有机发光显示技术有限公司 | 显示装置及其制作方法及电子设备 |
Family Cites Families (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4202702B2 (ja) * | 2002-09-13 | 2008-12-24 | 大日本印刷株式会社 | 表示体 |
KR100656192B1 (ko) * | 2004-11-24 | 2006-12-12 | 이병철 | 전면발광형 유기이엘 디스플레이 소자 |
EP2352361B1 (en) * | 2008-09-01 | 2014-09-24 | Sharp Kabushiki Kaisha | Organic electroluminescence panel, organic electroluminescence display, organic electroluminescence illumination and method for manufacturing such panel, display and illumination |
JP2011204384A (ja) * | 2010-03-24 | 2011-10-13 | Canon Inc | 表示装置 |
JP5609941B2 (ja) | 2012-09-26 | 2014-10-22 | セイコーエプソン株式会社 | 表示装置および電子機器 |
WO2014097997A1 (ja) * | 2012-12-19 | 2014-06-26 | コニカミノルタ株式会社 | 電子デバイス |
KR101777488B1 (ko) | 2013-03-08 | 2017-09-11 | 후지필름 가부시키가이샤 | 유기 el 적층체 |
JP2016112831A (ja) * | 2014-12-17 | 2016-06-23 | 凸版印刷株式会社 | バリア性積層体、バリアフィルム、デバイス、封止用袋及びその製造方法 |
US9766763B2 (en) * | 2014-12-26 | 2017-09-19 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Functional panel, light-emitting panel, display panel, and sensor panel |
JP2017014380A (ja) * | 2015-06-30 | 2017-01-19 | Jxエネルギー株式会社 | ポリイミドフィルム、有機エレクトロルミネッセンス素子、透明導電性積層体、タッチパネル、太陽電池、及び、表示装置 |
JP6457371B2 (ja) * | 2015-10-09 | 2019-01-23 | 富士フイルム株式会社 | ガスバリアフィルム、有機電子装置、有機電界発光装置用基板、有機電界発光装置 |
JP6261682B2 (ja) * | 2016-08-09 | 2018-01-17 | 住友化学株式会社 | 電子デバイスの製造方法 |
-
2017
- 2017-05-30 JP JP2017106553A patent/JP2020129430A/ja active Pending
-
2018
- 2018-04-10 CN CN201880032583.2A patent/CN110637504A/zh not_active Withdrawn
- 2018-04-10 WO PCT/JP2018/014980 patent/WO2018221018A1/ja active Application Filing
- 2018-04-10 KR KR1020197031194A patent/KR20190128231A/ko not_active Application Discontinuation
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR20190128231A (ko) | 2019-11-15 |
WO2018221018A1 (ja) | 2018-12-06 |
JP2020129430A (ja) | 2020-08-27 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
PB01 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
WW01 | Invention patent application withdrawn after publication | ||
WW01 | Invention patent application withdrawn after publication |
Application publication date: 20191231 |