JP6586721B2 - 積層フィルム、積層フィルムの製造方法及び偏光板の製造方法 - Google Patents

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Description

本発明は、積層フィルム及び偏光板の製造方法に関する。
従来、液晶表示装置等の光学的な装置においては、位相差フィルム、偏光フィルム、輝度向上フィルム、あるいは単に他の機能性を有する層の基材として用いられる基材フィルム等の光学フィルムを設けることが知られている。このような光学フィルムを製造した後、装置に組み込み前には、光学フィルムの保護やハンドリング性の向上のため、光学フィルムに保護フィルムを貼合する技術が知られている(例えば特許文献1及び2参照)。光学フィルムに保護フィルムを貼合して積層フィルムとすることにより、光学フィルムの保存及び運搬の際の取り扱い性を向上させたり、光学フィルム同士の貼り付き等による破損を防止したり、粉塵等から光学フィルムを保護したりすることができる。かかる保護フィルムの機能が十分に発現することにより、光学フィルムを備える光学材料又は光学装置を高品質なものとすることができ、且つこれらの光学材料又は光学装置を容易に製造することができる。例えば、偏光子及び光学フィルムを備えた偏光板を容易に製造することができる。
特開2011−112945号公報 特開2007−240570号公報
光学フィルムの使用に際して、保護フィルムは光学フィルムから剥離される。かかる剥離は、光学フィルムの性状に不所望な変化を発生させないという観点から、光学フィルムの一端から他端へ一定の速度で剥離が進むよう行なうことが求められる。
しかしながら、保護フィルムの剥離に際し、保護フィルムがジッピングと呼ばれる現象を起こすことがある。ジッピングとは、光学フィルムの一端から他端への剥離の進行が一定に進まず、進行及び停止を繰り返す現象をいう。保護フィルムの剥離にジッピングが発生すると、剥離後の光学フィルムの表面に、スジ状の不具合が発生し、光学フィルムの品質を損ねうる。
また、保護フィルムの機能の向上等の目的で、保護フィルムの表面には凹凸形状(表面の凹み、突起、又はこれらの両方)が設けられることがある。しかしながら、かかる凹凸構造を有する保護フィルムを光学フィルムと貼合すると、保護フィルム表面の凹凸形状の転写等の現象に起因し、光学フィルムの表面に、不所望な凹凸形状を付与してしまうことがある。そのような凹凸形状は、光学的な欠陥をもたらす可能性がある。
したがって、本発明の目的は、保護フィルムの剥離に際してのジッピングが少なく、且つ光学フィルム表面における不所望な凹凸形状の発生が抑制される、積層フィルムを提供することにある。
本発明のさらなる目的は、高品質な偏光板を容易に製造することができる、偏光板の製造方法を提供することにある。
本発明者は前記の課題を解決するべく検討した結果、光学フィルムと、保護フィルムとを備える積層フィルムにおいて、保護フィルムの光学フィルム側の表面の算術平均粗さ及び光学フィルムと保護フィルムとの剥離強度Fを所定の範囲とすることにより、上記課題を解決しうることを見出した。
本発明によれば、以下の<1>〜<8>が提供される。
<1> 光学フィルムと、保護フィルムとを備える積層フィルムであって、
前記保護フィルムの前記光学フィルム側の表面の算術平均粗さRa(μm)、及び前記光学フィルムと前記保護フィルムとの剥離強度F(N/50mm)が、式(1)及び式(2)を満たす、積層フィルム。
0<Ra≦0.18 式(1)
0.01≦F≦0.07 式(2)
<2> 前記光学フィルムが、脂環式構造含有重合体樹脂の層を有するフィルムである、<1>に記載の積層フィルム。
<3> 前記光学フィルムが、ポリウレタン樹脂の層をさらに有するフィルムである、<2>に記載の積層フィルム。
<4> 前記光学フィルムが、前記ポリウレタン樹脂の層として、材料Yを用いて構成される層を有し、
前記材料Yは、ガラス転移温度が−55〜40℃のポリウレタンを含む<3>に記載の積層フィルム。
<5> 前記保護フィルムは、ポリオレフィン樹脂又はポリエステル樹脂の層を有するフィルムである、<1>〜<3>のいずれか1項に記載の積層フィルム。
<6> 前記ポリウレタン樹脂が、カーボネート構造を骨格に有する<3>〜<5>のいずれか1項に記載の積層フィルム。
<7> 前記光学フィルムの厚さが30μm以下である<1>〜<6>のいずれか1項に記載の積層フィルム。
<8> <1>〜<7>のいずれか1項に記載の積層フィルムの光学フィルム側の表面に偏光子を貼合し、偏光子付き積層体を得る工程と、
前記偏光子付き積層体から保護フィルムを除去する工程とを含む、偏光板の製造方法。
本発明の積層フィルムは、保護フィルムの剥離に際してのジッピングが少なく、且つ光学フィルム表面における不所望な凹凸形状の発生が抑制され、光学フィルムの保存及び運搬等のために、光学フィルムを良好に保護された状態で保持することができる。
本発明の偏光板の製造方法によれば、高品質な偏光板を容易に製造することができる。
図1は、本発明の積層フィルムの一例を模式的に示す断面図である。 図2は、本発明の偏光板の製造方法における偏光子付き積層体を得る工程の例を模式的に示す断面図である。 図3は、本発明の偏光板の製造方法における保護フィルムを除去する工程の例を模式的に示す断面図である。
以下、本発明について実施形態および例示物等を示して詳細に説明するが、本発明は以下に示す実施形態および例示物等に限定されるものではなく、本発明の特許請求の範囲およびその均等の範囲を逸脱しない範囲において任意に変更して実施しうる。
以下の説明において、「偏光板」とは、剛直な板状の部材だけでなく、例えば樹脂製のフィルム(シートも含む)のように可撓性を有する部材も含む。
以下の説明において、「(メタ)アクリル」といった表現は、アクリル、メタクリル又はこれらの組み合わせを意味する。例えば、(メタ)アクリル酸エステルとは、アクリル酸エステル、メタクリル酸エステル、又はこれらの組み合わせを意味する。
フィルム又は層の面内レターデーションは、別に断らない限り、(nx−ny)×dで表される値である。また、フィルム又は層の厚み方向のレターデーションは、別に断らない限り、{(nx+ny)/2−nz}×dで表される値である。ここで、nxは、フィルム又は層の厚み方向に垂直な方向(面内方向)であって最大の屈折率を与える方向の屈折率を表す。nyは、フィルム又は層の前記面内方向であってnxの方向に垂直な方向の屈折率を表す。nzは、フィルム又は層の厚み方向の屈折率を表す。dは、フィルム又は層の膜厚を表す。前記のレターデーションは、市販の位相差測定装置(例えば、王子計測機器社製、「KOBRA−21ADH」、フォトニックラティス社製、「WPA−micro」)あるいはセナルモン法を用いて測定できる。
また、構成要素の方向が「平行」、「垂直」又は「直交」とは、特に断らない限り、本発明の効果を損ねない範囲内、例えば±5°の範囲内での誤差を含んでいてもよい。
<1.積層フィルム>
本発明の積層フィルムは、光学フィルムと、保護フィルムとを備える。本発明の積層フィルムにおいては、光学フィルムと保護フィルムとは、直接接して貼合された状態で存在し、光学フィルム及び保護フィルムが、積層フィルム中において層をなす。
本発明の積層フィルムは、典型的には1層の光学フィルム及びその一方の表面上に設けられた1層の保護フィルムを備える。但し本発明の積層フィルムはこれに限られず、例えば1層の光学フィルム及びその両面のそれぞれに1層ずつの保護フィルムを備えてもよい。
図1は、本発明の積層フィルムの一例を模式的に示す断面図である。図1に示す通り、積層フィルム100は、光学フィルム111と、光学フィルム111の一方の表面11U上に設けられた保護フィルム121とを備える。保護フィルム121は、その光学フィルム側の表面12Dにおいて、光学フィルム111の表面11Uに接し、貼合されている。光学フィルム111の表面11Uとは反対側の表面11Dは、光学フィルムの使用に際し、他の部材の表面と貼合されうる。
以下においては、光学フィルムの保護フィルム側の表面(図1の例では表面11U)を光学フィルムの正面、保護フィルムの光学フィルム側の表面(図1の例では表面12D)を保護フィルムの正面ということがある。また、図1に示す積層フィルム100の例のように1層の光学フィルム及びその一方の表面上に設けられた1層の保護フィルムを有する積層フィルムにおいて、光学フィルムの保護フィルム側の表面とは反対側の表面(図1の例では表面11D)を光学フィルムの背面、保護フィルムの光学フィルム側の表面とは反対側の表面(図1の例では表面12U)を保護フィルムの背面ということがある。
<1.1.光学フィルム>
光学フィルムは、共に用いる保護フィルムとの剥離強度が所定の範囲となるものであれば特に限定されず、位相差フィルム、偏光フィルム、輝度向上フィルム、あるいは単に他の機能性を有する層の基材として用いられる基材フィルム等の、各種の光学的な用途に用いるフィルムとしうる。
<1.1.1.多層光学フィルム>
本発明の好ましい態様において、光学フィルムは、熱可塑性樹脂により構成されるA層を有するフィルムである。光学フィルムは、A層のみからなる単層のフィルムであってもよいが、より好ましくは、光学フィルムは、光学的機能を発現する層としてのA層と、光学フィルムが他の部材の表面に接する際の親和性を調整するB層とを備える多層光学フィルムである。
<1.1.2.A層>
A層を構成する熱可塑性樹脂の例としては、ポリエチレン、ポリプロピレンなどのオレフィン樹脂;ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレートなどのポリエステル樹脂;ポリフェニレンサルファイドなどのポリアリーレンサルファイド樹脂;ポリビニルアルコール樹脂;ポリカーボネート樹脂;ポリアリレート樹脂;セルロースエステル樹脂;ポリエーテルスルホン樹脂;ポリスルホン樹脂;ポリアリルサルホン樹脂;ポリ塩化ビニル樹脂;脂環式構造含有重合体を含む樹脂;棒状液晶ポリマー;スチレン又はスチレン誘導体の単独重合体、又はスチレン又はスチレン誘導体、及びこれらと共重合しうるコモノマーとの共重合体を含むポリスチレン系樹脂;ポリアクリロニトリル樹脂、ポリメチルメタクリレート樹脂、あるいはこれらの多元共重合ポリマーなどが挙げられる。
ポリスチレン樹脂に含まれうるコモノマーの好ましい例としては、アクリロニトリル、無水マレイン酸、メチルメタクリレート、およびブタジエンが挙げられる。
熱可塑性樹脂は、1種類を単独で用いてもよく、2種類以上を任意の割合で混合して用いてもよい。
熱可塑性樹脂としては、透明性、寸法安定性、位相差発現性、低温での延伸性等の観点から、脂環式構造含有重合体を含む樹脂が好ましい。
脂環式構造含有重合体とは、その重合体の構造単位が脂環式構造を有する重合体である。脂環式構造含有重合体は、主鎖に脂環式構造を有する重合体、側鎖に脂環式構造を有する重合体、主鎖及び側鎖に脂環式構造を有する重合体、又はこれらの2以上の任意の比率の混合物としうる。中でも、機械的強度、耐熱性などの観点から、主鎖に脂環式構造を有する重合体が好ましい。
脂環式構造の例としては、飽和脂環式炭化水素(シクロアルカン)構造、及び不飽和脂環式炭化水素(シクロアルケン、シクロアルキン)構造が挙げられる。中でも、例えば機械強度、耐熱性などの観点から、シクロアルカン構造及びシクロアルケン構造が好ましく、中でもシクロアルカン構造が特に好ましい。
脂環式構造を構成する炭素原子数は、一つの脂環式構造あたり、好ましくは4個以上、より好ましくは5個以上であり、好ましくは30個以下、より好ましくは20個以下、特に好ましくは15個以下の範囲である。脂環式構造を構成する炭素原子数がこの範囲であると、当該脂環式構造を有する重合体を含む樹脂の機械強度、耐熱性、及び成形性が高度にバランスされ、好適である。
脂環式構造含有重合体において、脂環式構造を有する構造単位の割合は、使用目的に応じて適宜選択しうる。脂環式構造含有重合体における脂環式構造を有する構造単位の割合は、好ましくは55重量%以上、さらに好ましくは70重量%以上、特に好ましくは90重量%以上である。脂環式構造含有重合体における脂環式構造を有する構造単位の割合がこの範囲にあると、当該脂環式構造含有重合体を含む樹脂の透明性及び耐熱性が良好となる。
脂環式構造含有重合体の中でも、シクロオレフィン系重合体が好ましい。シクロオレフィン系重合体とは、シクロオレフィン系単量体を重合して得られる構造を有する重合体である。また、シクロオレフィン系単量体は、炭素原子で形成される環構造を有し、かつ該環構造中に重合性の炭素−炭素二重結合を有する化合物である。重合性の炭素−炭素二重結合の例としては、開環重合等の重合可能な炭素−炭素二重結合が挙げられる。また、シクロオレフィン系単量体の環構造の例としては、単環、多環、縮合多環、橋かけ環及びこれらを組み合わせた多環等が挙げられる。中でも、得られる重合体の誘電特性及び耐熱性等の特性を高度にバランスさせる観点から、多環のシクロオレフィン系単量体が好ましい。
上記のシクロオレフィン系重合体の中でも好ましいものとしては、ノルボルネン系重合体、単環の環状オレフィン系重合体、環状共役ジエン系重合体、及び、これらの水素化物等が挙げられる。これらの中でも、ノルボルネン系重合体は、成形性が良好なため、特に好適である。
ノルボルネン系重合体の例としては、ノルボルネン構造を有する単量体の開環重合体、ノルボルネン構造を有する単量体及びこれと共重合しうる他の単量体の開環共重合体、及びそれらの水素化物;並びにノルボルネン構造を有する単量体の付加重合体、ノルボルネン構造を有する単量体及びこれと共重合しうる他の単量体との付加共重合体、及びそれらの水素化物が挙げられる。これらの中で、ノルボルネン構造を有する単量体の開環(共)重合体水素化物は、成形性、耐熱性、低吸湿性、寸法安定性、軽量性などの観点から、特に好適である。ここで「(共)重合体」とは、重合体及び共重合体のことをいう。
ノルボルネン構造を有する単量体の例としては、ビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン(慣用名:ノルボルネン)、トリシクロ[4.3.0.12,5]デカ−3,7−ジエン(慣用名:ジシクロペンタジエン)、7,8−ベンゾトリシクロ[4.3.0.12,5]デカ−3−エン(慣用名:メタノテトラヒドロフルオレン)、テトラシクロ[4.4.0.12,5.17,10]ドデカ−3−エン(慣用名:テトラシクロドデセン)、およびこれらの化合物の誘導体(例えば、環に置換基を有するもの)を挙げることができる。ここで、置換基の例としては、アルキル基、アルキレン基、及び極性基を挙げることができる。また、これらの置換基は、同一または相異なって、複数個が環に結合していてもよい。ノルボルネン構造を有する単量体は、1種類を単独で用いてもよく、2種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。
極性基の例としては、ヘテロ原子、及びヘテロ原子を有する原子団が挙げられる。ヘテロ原子の例としては、酸素原子、窒素原子、硫黄原子、ケイ素原子、及びハロゲン原子が挙げられる。極性基の具体例としては、カルボキシル基、カルボニルオキシカルボニル基、エポキシ基、ヒドロキシル基、オキシ基、エステル基、シラノール基、シリル基、アミノ基、ニトリル基、及びスルホン酸基が挙げられる。
ノルボルネン構造を有する単量体と開環共重合可能な単量体の例としては、シクロヘキセン、シクロヘプテン、シクロオクテンなどのモノ環状オレフィン類およびその誘導体;並びに、シクロヘキサジエン、シクロヘプタジエンなどの環状共役ジエンおよびその誘導体が挙げられる。ノルボルネン構造を有する単量体と開環共重合可能な単量体は、1種類を単独で用いてもよく、2種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。
ノルボルネン構造を有する単量体の開環重合体、およびノルボルネン構造を有する単量体と共重合可能な単量体との開環共重合体は、例えば、単量体を公知の開環重合触媒の存在下に重合又は共重合することにより製造しうる。
ノルボルネン構造を有する単量体と付加共重合可能な単量体の例としては、エチレン、プロピレン、1−ブテンなどの炭素原子数2〜20のα−オレフィンおよびこれらの誘導体;シクロブテン、シクロペンテン、シクロヘキセンなどのシクロオレフィンおよびこれらの誘導体;並びに1,4−ヘキサジエン、4−メチル−1,4−ヘキサジエン、5−メチル−1,4−ヘキサジエンなどの非共役ジエンが挙げられる。これらの中でも、α−オレフィンが好ましく、エチレンがより好ましい。また、ノルボルネン構造を有する単量体と付加共重合可能な単量体は、1種類を単独で用いてもよく、2種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。
ノルボルネン構造を有する単量体の付加重合体、およびノルボルネン構造を有する単量体と共重合可能な単量体との付加共重合体は、例えば、単量体を公知の付加重合触媒の存在下に重合又は共重合することにより製造しうる。
ノルボルネン構造を有する単量体の開環重合体の水素添加物、ノルボルネン構造を有する単量体とこれと開環共重合可能な単量体との開環共重合体の水素添加物、ノルボルネン構造を有する単量体の付加重合体の水素添加物、及び、ノルボルネン構造を有する単量体とこれと共重合可能な単量体との付加共重合体の水素添加物は、例えば、これらの重合体の溶液において、ニッケル、パラジウム等の遷移金属を含む公知の水素添加触媒の存在下で、炭素−炭素不飽和結合を好ましくは90%以上水素添加することによって製造しうる。
ノルボルネン系重合体の中でも、構造単位として、X:ビシクロ[3.3.0]オクタン−2,4−ジイル−エチレン構造と、Y:トリシクロ[4.3.0.12,5]デカン−7,9−ジイル−エチレン構造とを有し、これらの構造単位の量が、ノルボルネン系重合体の構造単位全体に対して90重量%以上であり、かつ、Xの含有割合とYの含有割合との比が、X:Yの重量比で100:0〜40:60であるものが好ましい。このような重合体を用いることにより、当該ノルボルネン系重合体を含む樹脂の層を、長期的に寸法変化がなく、光学特性の安定性に優れるものにすることができる。
単環の環状オレフィン系重合体の例としては、シクロヘキセン、シクロヘプテン、シクロオクテン等の単環を有する環状オレフィン系モノマーの付加重合体を挙げることができる。
環状共役ジエン系重合体の例としては、1,3−ブタジエン、イソプレン、クロロプレン等の共役ジエン系モノマーの付加重合体を環化反応して得られる重合体;シクロペンタジエン、シクロヘキサジエン等の環状共役ジエン系モノマーの1,2−または1,4−付加重合体;およびこれらの水素化物を挙げることができる。
脂環式構造含有重合体の重量平均分子量(Mw)は、光学フィルムの使用目的に応じて適宜選定でき、好ましくは10,000以上、より好ましくは15,000以上、特に好ましくは20,000以上であり、好ましくは100,000以下、より好ましくは80,000以下、特に好ましくは50,000以下である。重量平均分子量がこのような範囲にあるときに、光学フィルムの機械的強度および成型加工性が高度にバランスされ好適である。ここで、前記の重量平均分子量は、溶媒としてシクロヘキサンを用いて(但し、試料がシクロヘキサンに溶解しない場合にはトルエンを用いてもよい)ゲル・パーミエーション・クロマトグラフィーで測定したポリイソプレンまたはポリスチレン換算の重量平均分子量である。
脂環式構造含有重合体の分子量分布(重量平均分子量(Mw)/数平均分子量(Mn))は、好ましくは1.2以上、より好ましくは1.5以上、特に好ましくは1.8以上であり、好ましくは3.5以下、より好ましくは3.0以下、特に好ましくは2.7以下である。分子量分布を前記下限値以上にすることにより、重合体の生産性を高め、製造コストを抑制できる。また、上限値以下にすることにより、低分子成分の量が小さくなるので、高温曝露時の緩和を抑制して、光学フィルムの安定性を高めることができる。
脂環式構造含有重合体の飽和吸水率は、好ましくは0.03重量%以下、さらに好ましくは0.02重量%以下、特に好ましくは0.01重量%以下である。飽和吸水率が前記範囲内であると、A層の面内位相差Re及び厚み方向の位相差Rthの経時変化を小さくすることができる。また、光学フィルムを備える部材及び装置(偏光板及び液晶表示装置等)の劣化を抑制でき、例えば表示装置の場合、長期間にわたりに表示品質を安定して良好に保つことができる。
飽和吸水率は、JIS K7209:2000に準拠して測定しうる。脂環式構造含有重合体における飽和吸水率は、例えば、脂環式構造含有重合体中の極性基の量を減少させることにより、前記の範囲に調節することができる。飽和吸水率をより低くする観点から、脂環式構造含有重合体は、極性基を有さないことが好ましい。
A層を構成する熱可塑性樹脂は、本発明の効果を著しく損なわない限り、任意の成分を含みうる。任意の成分の例としては、顔料、染料等の着色剤;可塑剤;蛍光増白剤;分散剤;熱安定剤;光安定剤;紫外線吸収剤;耐電防止剤;酸化防止剤;微粒子;界面活性剤等の添加剤が挙げられる。これらの成分は、1種類を単独で用いてもよく、2種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。ただし、前記熱可塑性樹脂においては、熱可塑性樹脂に主成分として含まれる重合体の量は、通常、50重量%〜100重量%、好ましくは70重量%〜100重量%である。
A層を構成する熱可塑性樹脂のガラス転移温度Tgは、好ましくは100℃以上、より好ましくは110℃以上、特に好ましくは120℃以上であり、好ましくは190℃以下、より好ましくは180℃以下、特に好ましくは170℃以下である。ガラス転移温度Tgが前記範囲内であることにより、耐久性に優れる光学フィルムを容易に製造することができる。例えば、光学フィルムが位相差フィルムである場合、ガラス転移温度Tgを前記下限値以上にすることにより、高温環境下における位相差フィルムの耐久性を高めることができる。また、ガラス転移温度Tgを前記上限値以下にすることにより、延伸処理を容易に行えるようにできる。
A層を構成する熱可塑性樹脂は、その光弾性係数の絶対値が、好ましくは10×10−12Pa−1以下、より好ましくは7×10−12Pa−1以下、特に好ましくは4×10−12Pa−1以下である。光弾性係数の絶対値が前記範囲内であることにより、高性能な光学フィルムを容易に製造することができる。例えば、光学フィルムが位相差フィルムである場合、その面内レターデーションのバラツキを小さくすることができる。ここで、光弾性係数Cは、複屈折をΔn、応力をσとしたとき、C=Δn/σで表される値である。
熱可塑性樹脂をフィルム状に成形することにより、熱可塑性樹脂により構成されるA層を得うる。本願において、A層が熱可塑性樹脂「により構成される」とは、A層が、熱可塑性樹脂を成形することにより得られるものであることを意味する。そのような成形により、熱可塑性樹脂はそのまま、又は必要に応じて樹脂中の重合体の反応、溶媒の揮発等を経て、A層を構成する。
熱可塑性樹脂の成形の方法は特に制限されず、成形の方法の例としては、溶融成形法、及び溶液流延法が挙げられる。溶融成形法の例としては、溶融押し出しにより成形する押出成形法、並びに、プレス成形法、インフレーション成形法、射出成形法、ブロー成形法、及び延伸成形法が挙げられる。これらの方法の中でも、機械強度及び表面精度に優れたA層を得る観点から、押出成形法、インフレーション成形法及びプレス成形法が好ましい。その中でも特に、残留溶媒の量を減らせること、並びに、効率よく簡単な製造が可能なことから、押出成形法が特に好ましい。
熱可塑性樹脂を上に述べた方法等の方法により成形し、熱可塑性樹脂のフィルムを得うる。このフィルムは、そのままA層として用いることもでき、必要に応じて延伸等の追加の処理を行ってからA層として用いることもできる。A層の延伸を行う場合、A層の表面にB層を設けて多層光学フィルムとしてから延伸を行うこともでき、B層を設ける前に延伸を行うこともできる。
A層は、1mm厚換算での全光線透過率が80%以上であることが好ましく、90%以上であることがより好ましい。A層は、1mm厚でのヘイズが0.3%以下であることが好ましく、0.2%以下がより好ましい。ヘイズが上記数値範囲内であることにより、光学フィルムとしての使用に適した透明性を得ることができる。
A層の残留揮発性成分の含有量は、好ましくは0.1重量%以下、より好ましくは0.05重量%以下、さらに好ましくは0.02重量%以下である。揮発性成分の含有量を前記範囲内にすることにより、寸法安定性が向上し、A層の面内位相差Re及び厚み方向の位相差Rthの経時変化を小さくすることができ、さらには、光学フィルムを備える部材及び装置(偏光板及び液晶表示装置等)の劣化を抑制でき、例えば表示装置の場合、長期間にわたり表示品質を安定して良好に保つことができる。揮発性成分は分子量200以下の物質であり、残留単量体及び溶媒などの成分が含まれる。揮発性成分の含有量は、分子量200以下の物質の合計として、ガスクロマトグラフィーによる分析により定量することができる。
A層の厚みは、好ましくは8μm以上、より好ましくは9μm以上、特に好ましくは10μm以上であり、好ましくは100μm以下、より好ましくは90μm以下、特に好ましくは80μm以下である。A層の厚みを前記下限値以上にすることにより、多層光学フィルムの機械的強度を高めることができ、上限値以下にすることにより、多層光学フィルムの厚みを薄くできる。
<1.1.3.B層>
多層光学フィルムを構成するB層は、重合体Ypを主成分とする材料Yを用いて構成される層である。
本願において、B層が材料Yを「用いて構成される」層であるとは、B層が、材料Yを材料として用いた層形成工程により形成された層であることを意味する。そのような成形により、材料Yはそのまま、又は必要に応じてその中の成分の反応、溶媒の揮発等を経て、B層となる。例えば、材料Yは、重合体Yp、架橋剤及び水等の揮発性の媒体を含む溶液又は分散液であり、媒体の揮発及び重合体Ypと架橋剤との架橋反応により、B層が形成される。
B層は、通常、A層に直接に接する。即ち、多層光学フィルムは、通常はA層とB層との間に他の層を備えない。しかし、本発明の効果を著しく損なわない限り、必要であれば、多層光学フィルムは、A層とB層との間に任意の層を備えうる。
<1.1.4.材料Y:重合体Yp>
材料Yに含まれる重合体Ypは、通常、A層を構成する熱可塑性樹脂を構成する重合体とは異なる重合体である。
重合体Ypの好適な例としては、アクリル重合体、ビニル重合体、ポリウレタン、ポリエステル等の種々の重合体に官能基を導入したものが挙げられる。前記官能基の例としては、カルボキシル基、カルボニルオキシカルボニル基、エポキシ基、ヒドロキシル基、オキシ基、エステル基、シラノール基、シリル基、アミノ基、ニトリル基、スルホ基などの極性基を挙げることができ、その中でも、メチロール基、水酸基、カルボキシル基、およびアミノ基のいずれかの基であることが好ましく、水酸基またはカルボキシル基がより好ましく、水酸基が特に好ましい。前記樹脂Yp中の極性基の含有量は、0.0001〜1当量/1kgが好ましく、特に0.001〜1当量/1kgが好ましい。
アクリル重合体の例としては、アクリル酸、アクリル酸アルキル等のアクリル酸エステル類、アクリルアミド、アクリロニトリル、メタクリル酸、メタクリル酸アルキル等のメタクリル酸エステル類、メタクリルアミド及びメタクリロニトリルのいずれかのモノマーの単独重合体、これらのモノマー2種以上の重合により得られる共重合体、前記モノマー1種以上と、前記モノマー以外のコモノマーとの重合により得られる共重合体等を挙げることができる。これらの中では、アクリル酸アルキル等のアクリル酸エステル類、及びメタクリル酸アルキル等のメタクリル酸エステル類のいずれかのモノマーの単独重合体又はこれらのモノマー2種以上の重合により得られる共重合体が好ましい。例えば、炭素原子数1〜6のアルキル基を有するアクリル酸エステル類及びメタクリル酸エステル類のいずれかのモノマーの単独重合体又はこれらのモノマー2種以上の重合により得られる共重合体を挙げることができる。前記アクリル重合体は、前記組成を主成分とし、架橋剤における官能基との反応(架橋反応)が可能なように、前述した官能基を有するモノマーを一部使用して得られるポリマーである。
ビニル重合体の例としては、ポリビニルアルコール、酸変性ポリビニルアルコール、ポリビニルホルマール、ポリビニルブチラール、ポリビニルメチルエーテル、ポリオレフィン、エチレン/ブタジエン共重合体、ポリ酢酸ビニル、塩化ビニル/酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル/(メタ)アクリル酸エステル共重合体及びエチレン/酢酸ビニル系共重合体(好ましくはエチレン/酢酸ビニル/(メタ)アクリル酸エステル共重合体)を挙げることができる。これらの中で、ポリビニルアルコール、酸変性ポリビニルアルコール、ポリビニルホリマール、ポリオレフィン、エチレン/ブタジエン共重合体及びエチレン/酢酸ビニル系共重合体(好ましくは、エチレン/酢酸ビニル/アクリル酸エステル共重合体)が好ましい。前記ビニル重合体は、架橋剤(例えばカルボジイミド化合物)との架橋反応が可能なように、ポリビニルアルコール、酸変性ポリビニルアルコール、ポリビニルホルマール、ポリビニルブチラール、ポリビニルメチルエーテル及びポリ酢酸ビニルでは、例えば、ビニルアルコール単位をポリマー中に残すことにより水酸基を有するポリマーとし、他のポリマーについては、例えば、メチロール基、水酸基、カルボキシル基及び/またはアミノ基を有するモノマーを一部使用することにより架橋可能なポリマーとする。
ポリウレタンの例としては、ポリオール化合物(エチレングリコール、プロピレングリコール、1,4−ブタンジオール、ネオペンチルグリコール、グリセリン、トリメチロールプロパン等)と、多塩基酸(多価カルボン酸(例、アジピン酸、コハク酸、セバシン酸、グルタル酸、マレイン酸、フマル酸、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸等のジカルボン酸、およびトリメリット酸等のトリカルボン酸を含む多価カルボン酸またはその無水物等))との反応により得られる脂肪族ポリエステル系ポリオール、ポリエーテルポリオール(例、ポリ(オキシプロピレンエーテル)ポリオール、ポリ(オキシエチレン−プロピレンエーテル)ポリオール)、ポリカーボネート系ポリオール、及びポリエチレンテレフタレートポリオールのいずれか一種、あるいはこれらの混合物とポリイソシアネートから誘導されるポリウレタンを挙げることができる。ポリウレタンは、ポリオールとポリイソシアネートとの反応後に反応せず残った水酸基を含むものであってもよい。当該水酸基は、架橋剤における官能基との架橋反応が可能な極性基として利用することができる。ポリウレタンとしては、特に、耐加水分解性に優れるカーボネート構造を骨格に有するポリカーボネート系のポリウレタンが好ましい。
ポリウレタンとしては、水系ウレタン樹脂として市販されている水系エマルションに含まれるものを用いることができる。水系ウレタン樹脂とは、ポリウレタンと水とを含む組成物であり、通常、ポリウレタンおよび必要に応じて含まれる他の成分が水の中に分散しているものである。水系ウレタン樹脂の例としては、ADEKA社製の「アデカボンタイター」シリーズ、三井化学社製の「オレスター」シリーズ、DIC社製の「ボンディック」シリーズ、「ハイドラン(WLS201,WLS202など)」シリーズ、バイエル社製の「インプラニール」シリーズ、花王社製の「ポイズ」シリーズ、三洋化成工業社製の「サンプレン」シリーズ、第一工業製薬社製の「スーパーフレックス」シリーズ、楠本化成社製の「NEOREZ(ネオレッズ)」シリーズ、ルーブリゾール社製の「Sancure」シリーズなどが挙げられる。ポリウレタンは、1種類を単独で用いてもよく、2種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。
ポリエステルの例としては、前記ポリオール化合物と前記多塩基酸との反応により得られる重合体が挙げられる。例えば、ポリオールと多塩基酸との反応により得られた重合体であって、未反応の水酸基、カルボキシル基等の基を含むものが挙げられる。このような未反応の基は、架橋剤との架橋反応が可能な官能基(極性基)として利用することができる。または、水酸基やカルボキシル基等の極性基を有する第三成分をコポリマーとして加えた単量体組成物を重合したものであってもよい。
ポリエステルは、接着力向上のため、他の重合体と混合して用いうる。例えば、アクリル酸、アクリル酸アルキル等のアクリル酸エステル類、アクリルアミド、アクリロニトリル、メタクリル酸、メタクリル酸アルキル等のメタクリル酸エステル類、メタクリルアミド及びメタクリロニトリルのいずれかのモノマーの単独重合体、これらのモノマー2種以上の重合により得られる共重合体、前記モノマー1種以上と前記モノマー以外のコモノマーとの重合により得られる共重合体等を、ポリエステルと混合し、ポリエステル樹脂アクリル樹脂複合物としたものを、重合体Ypとして用いうる。
材料Yの調製に際しては、ポリエステルの水溶液または水分散液を用いうる。このようなポリエステルの水溶液又は水分散液としては、適宜調製したものを使用してもよいし、市販品を使用してもよい。市販品の例としては、「ニチゴポリエスター(ニチゴポリエスターW−0030、ニチゴポリエスターW−0005S30WO、ニチゴポリエスターWR−961等)」シリーズ(日本合成化学社製)、「ペスレジンA(ペスレジンA−210、ペスレジンA−520、ペスレジンA−684G、ペスレジンA−695GE等)」シリーズ(高松油脂社製)などが挙げられる。
材料Yは、B層を容易に形成する観点から水溶液又は水分散液であることが好ましいので、重合体Ypは、水溶性または水分散性を有することが好ましい。重合体Ypはさらに、架橋剤により架橋され得る重合体であることが、強度の高い層を形成することが容易となるため好ましい。
<1.1.5.材料Y:架橋剤>
材料Yは、重合体Ypの他に架橋剤を含むことが好ましい。架橋剤としては、重合体Ypにおける官能基(極性基)と反応して結合を形成できる官能基を分子内に2個以上有する化合物を用いうる。架橋剤の例としては、エポキシ化合物、カルボジイミド化合物、オキサゾリン化合物、及びイソシアネート化合物を挙げることができる。架橋剤は、1種類を単独で用いてもよく、2種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。
<1.1.6.架橋剤:エポキシ化合物>
エポキシ化合物としては、分子内に2個以上のエポキシ基を有する多官能のエポキシ化合物を用いうる。このようなエポキシ化合物を用いることにより、架橋反応を進行させてB層の機械的強度を効果的に向上させることができる。
エポキシ化合物としては、水に溶解性があるか、または水に分散してエマルション化しうるものが好ましい。このようなエポキシ化合物を用いることにより、塗布が容易な材料Yを、水系の樹脂組成物として調製することができ、B層の形成を容易に行うことができる。
エポキシ化合物の例としては、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ポリエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、1,4−ブタンジオール、1,6−ヘキサングリコール、ネオペンチルグリコール等のグリコール類1モルと、エピクロルヒドリン2モルとのエーテル化によって得られるジエポキシ化合物;グリセリン、ポリグリセリン、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、ソルビトール等の多価アルコール類1モルと、エピクロルヒドリン2モル以上とのエーテル化によって得られるポリエポキシ化合物;フタル酸、テレフタル酸、シュウ酸、アジピン酸等のジカルボン酸1モルと、エピクロルヒドリン2モルとのエステル化によって得られるジエポキシ化合物;などが挙げられる。
より具体的はエポキシ化合物の例としては、1,4−ビス(2’,3’−エポキシプロピルオキシ)ブタン、1,3,5−トリグリシジルイソシアヌレート、1,3−ジクリシジル−5−(γ−アセトキシ−β−オキシプロピル)イソシヌレート、ソルビトールポリグリシジルエーテル類、ポリグリセロールポリグリシジルエーテル類、ペンタエリスリトールポリグリシジルエーテル類、ジグリセロ−ルポリグルシジルエーテル、1,3,5−トリグリシジル(2−ヒドロキシエチル)イソシアヌレート、グリセロールポリグリセロールエーテル類およびトリメチロ−ルプロパンポリグリシジルエーテル類が挙げられる。
また、市販品として入手可能なエポキシ化合物の例としては、ナガセケムテックス社製の「デナコール(デナコールEX−521,EX−614Bなど)」シリーズ等が挙げられる。
エポキシ化合物は、1種類を単独で用いてもよく、2種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。
エポキシ化合物の量は、重合体Yp100重量部に対し、通常0.1重量部以上、好ましくは0.5重量部以上、より好ましくは1重量部以上であり、通常35重量部以下、好ましくは30重量部以下、より好ましくは25重量部以下である。エポキシ化合物の量を前記下限値以上とすることにより、エポキシ化合物と重合体Ypとの反応が十分に進行するので、B層の機械的強度を適切に向上させることができ、上限値以下とすることにより未反応のエポキシ化合物の残留を少なくでき、B層の機械的強度を適切に向上できる。
また、重合体Ypとして官能基を有する重合体を用いた場合、エポキシ化合物の量は、当該官能基と当量になるエポキシ化合物の量に対し、重量基準で、好ましくは0.2倍以上、より好ましくは0.4倍以上、特に好ましくは0.6倍以上であり、好ましくは5倍以下、より好ましくは4.5倍以下、特に好ましくは4倍以下である。ここで、前記官能基と当量になるエポキシ化合物の量とは、重合体Ypにおける官能基の全量と過不足無く反応できるエポキシ化合物の理論量をいう。重合体Ypの官能基は、エポキシ化合物のエポキシ基と反応しうる。エポキシ化合物の量を前記範囲に収めることにより、官能基とエポキシ化合物との反応を適切な程度に進行させて、B層の機械的強度を効果的に向上させることができる。
<1.1.7.架橋剤:カルボジイミド化合物>
カルボジイミド化合物としては、1分子内にカルボジイミド基を2以上有する化合物を用いうる。このカルボジイミド化合物は、原料として有機モノイソシアネート、有機ジイソシアネート、有機トリイソシアネート等の有機イソシアネートを用いて製造される。これらの有機イソシアネートの例としては、芳香族イソシアネート、脂肪族イソシアネート、及び、それらの混合物が挙げられる。したがって、有機イソシアネートが有する有機基としては、芳香族及び脂肪族のいずれを用いてもよく、また、芳香族の有機基及び脂肪族の有機基を組み合わせて用いてもよい。中でも、反応性の観点から、脂肪族の有機基を有する有機イソシアネートが特に好ましい。通常、カルボジイミド化合物は、有機ジイソシアネートの縮合反応により合成される。
有機イソシアネートの具体例としては、4,4’−ジフェニルメタンジイソシアネート、4,4−ジフェニルジメチルメタンジイソシアネート、1,4−フェニレンジイソシアネート、2,4−トリレンジイソシアネート、2,6−トリレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、シクロヘキサンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、2,2,4−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、4,4’−ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート、1,3−フェニレンジイソシアネート等の有機ジイソシアネート;イソホロンイソシアネート、フェニルイソシアネート、シクロヘキシルイソシアネート、ブチルイソシアネート、ナフチルイソシアネート等の有機モノイソシアネートが挙げられる。
市販品として入手可能なカルボジイミド化合物の例としては、日清紡ケミカル社製の「カルボジライト(カルボジライトV−02、V−02−L2、SV−02、V−04、E−02など)」シリーズが挙げられる。
カルボジイミド化合物の量は、重合体Yp100重量部に対して、通常1重量部以上、好ましくは3重量部以上であり、通常40重量部以下、好ましくは30重量部以下である。カルボジイミド化合物の量を前記範囲の下限値以上にすることにより、カルボジイミド化合物と重合体Ypとの反応が十分に進行するので、B層の機械的強度を適切に向上させることができ、上限値以下とすることにより未反応のカルボジイミド化合物の残留を少なくでき、B層の機械的強度を適切に向上できる。
<1.1.8.架橋剤:オキサゾリン化合物>
オキサゾリン化合物としては、下記式(I)で示されるオキサゾリン基を有する重合体を用いうる。下記式(I)において、R、R、R及びRは、同一若しくは異なって、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アラルキル基、フェニル基及び置換フェニル基からなる群より選ばれるいずれかを表す。
Figure 0006586721
このオキサゾリン化合物は、例えば、付加重合性オキサゾリンを必須とし、必要に応じて他の任意の不飽和単量体を含む単量体成分を、公知の重合法により水性媒体中で溶液重合することにより製造しうる。付加重合性オキサゾリンの例としては、下記式(II)で示される化合物が挙げられる。下記式(II)において、R、R、R及びRは、式(I)における定義と同様である。また、Rは、付加重合性の不飽和結合を有する、非環状の有機基を表す。
Figure 0006586721
付加重合性オキサゾリンの具体例を挙げると、2−ビニル−2−オキサゾリン、2−ビニル−4−メチル−2−オキサゾリン、2−ビニル−5−メチル−2−オキサゾリン、2−イソプロペニル−2−オキサゾリン、2−イソプロペニル−4−メチル−2−オキサゾリン、2−イソプロペニル−5−エチル−2−オキサゾリン等が挙げられる。また、これらは1種類を単独で用いてもよく、2種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。これらの中でも、2−イソプロペニル−2−オキサゾリンが、工業的にも入手し易く好適である。
オキサゾリン化合物の製造において用いる付加重合性オキサゾリンの量は、オキサゾリン化合物の製造に用いる全単量体成分100重量部に対して、好ましくは5重量部以上である。これにより、オキサゾリン化合物を含む材料Yを硬化させた場合に硬化を十分に進めることができ、耐久性及び耐水性に優れたB層を得ることができる。
オキサゾリン化合物の製造に用いうる任意の不飽和単量体としては、付加重合性オキサゾリンと共重合可能であり、かつ、オキサゾリン基と反応しない任意の単量体を用いうる。このような任意の不飽和単量体は、上述した単量体から任意に選択して用いうる。
市販品として入手可能なオキサゾリン化合物のうち、水溶性タイプのものの例としては、日本触媒社製のエポクロスWS−500及びWS−700が挙げられる。また、例えばエマルションタイプのものの例としては、日本触媒社製のエポクロスK−2010、K−2020及びK−2030が挙げられる。これらの中でも、重合体Ypとの反応性の高い水溶性タイプが好ましい。
オキサゾリン化合物は、1種類を単独で用いてもよく、2種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。
オキサゾリン化合物の量は、重合体Ypが有するカルボキシル基等の官能基とオキサゾリン化合物が有するオキサゾリン基とのモル比(官能基のモル数/オキサゾリン基のモル数)が、所定の範囲に収まるように設定しうる。具体的には、前記のモル比が、100/20〜100/100となるように設定しうる。前記のモル比を前記下限値以上にすることにより、未反応の官能基が残ることを防止できる。また、上限値以下にすることにより、余剰のオキサゾリン基の発生を防止して、親水基が過剰となることを防止できる。なお、架橋剤として他の架橋剤を併用する場合においても、前記のモル比とすることが好ましい。
さらに、重合体Ypがカルボキシル基を有し、且つ、そのカルボキシル基が中和されている場合には、重合体Ypとオキサゾリン化合物との反応において、オキサゾリン基とカルボン酸塩とが反応しにくい。そこで、中和に用いるアミン等の塩基の種類及び不揮発性の程度を調整することで、その反応性をコントロールすることができる。
<1.1.9.架橋剤:イソシアネート化合物>
イソシアネート化合物としては、1分子中に2個以上のイソシアネート基を含有する化合物即ちジイソシアネート化合物を用いうる。これらのジイソシアネート化合物は、脂肪族化合物でもよく、脂環式化合物でもよく、芳香族化合物でもよい。
脂肪族ジイソシアネート化合物としては、炭素原子数1〜12の脂肪族ジイソシアネートが好ましい。そのより具体的な例としては、ヘキサメチレンジイソシアネート、2,2,4−トリメチルヘキサンジイソシアネート、ヘキサンジイソシアネート(HDI)などが挙げられる。脂環式ジイソシアネート化合物としては、炭素原子数4〜18の脂環式ジイソシアネートが好ましい。そのより具体的な例としては、1,4−シクロヘキサンジイソシアネート、メチルシクロヘキシレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート(IPDI)、ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート(HMDI)などが挙げられる。芳香族ジイソシアネートの例としては、トリレンジイソシアネート(TDI)、4,4’−ジフェニルメタンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート等が挙げられる。
<1.1.10.材料Y:硬化促進剤及び硬化助剤>
材料Yは、架橋剤に加えて、硬化促進剤、硬化助剤等の成分を含みうる。
硬化促進剤の例としては、架橋剤として例えばエポキシ化合物を用いる場合には、第3級アミン系化合物(4−位に3級アミンを有する2,2,6,6−テトラメチルピペリジル基を有する化合物を除く)、及び三弗化ホウ素錯化合物が挙げられる。硬化促進剤は、1種を単独で、あるいは2種以上を組み合わせて用いることができる。硬化促進剤の配合量は、使用目的に応じて適宜選択すればよいが、官能基を有する重合体Ypの100重量部に対して、通常、0.001〜30重量部、好ましくは0.01〜20重量部、より好ましくは0.03〜10重量部である。
硬化助剤の例としては、キノンジオキシム、ベンゾキノンジオキシム、p−ニトロソフェノール等のオキシム・ニトロソ系硬化助剤;N,N−m−フェニレンビスマレイミド等のマレイミド系硬化助剤;ジアリルフタレート、トリアリルシアヌレート、トリアリルイソシアヌレート等のアリル系硬化助剤;エチレングリコールジメタクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート等のメタクリレート系硬化助剤;ビニルトルエン、エチルビニルベンゼン、ジビニルベンゼン等のビニル系硬化助剤;等が挙げられる。これらの硬化助剤は、1種を単独で、あるいは2種以上を組み合わせて用いることができる。硬化助剤の配合量は、架橋剤100重量部に対して、通常、1〜100重量部、好ましくは10〜50重量部である。
<1.1.11.材料Y:その他の任意成分及び性状>
材料Yは、本発明の効果を著しく損わない限り、前記した以外の任意成分を含みうる。
材料Yは、通常、水または水溶性の溶媒を含む。水溶性の溶媒の例としては、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、アセトン、テトラヒドロフラン、N−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、メチルエチルケトン、トリエチルアミンなどが挙げられる。溶媒としては、水を用いることが好ましい。なお、溶媒は、1種類を単独で用いてもよく、2種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。配合する溶媒の量は、材料Yの粘度が、塗布に適した範囲になるように設定することが好ましい。具体的には、材料Yの固形分(材料Yを用いたB層の形成において、B層に残留する成分)の割合が1重量%以上、50重量%以下としうる。
また、材料Yは、微粒子を含みうる。材料Yに粒子を加えることにより、B層の表面に凹凸を形成し、B層の表面の粗さを調整することができる。ひいては、B層が光学フィルム正面側の層となる場合は、粒子の種類及び含有割合を調節することにより、保護フィルムの正面側の表面の算術平均粗さRaを調整することができる。また、B層が光学フィルム背面側の層となる場合は、本発明の積層フィルムのすべり性を調整することができ、本発明の積層フィルムを巻回して巻回体として保存する場合に特に、シワの抑制等の点において有利である。
微粒子の平均粒子径は、通常1nm以上、好ましくは5nm以上、より好ましくは10nm以上であり、通常500nm以下、好ましくは300nm以下、より好ましくは200nm以下である。平均粒子径を前記下限値以上にすることにより、B層の滑り性を効果的に高めることができ、前記上限値以下にすることによりヘイズを低く抑えることができる。なお、微粒子の平均粒子径としては、レーザー回折法によって粒径分布を測定し、測定された粒径分布において小径側から計算した累積体積が50%となる粒子径(50%体積累積径D50)を採用する。
微粒子としては、無機微粒子、有機微粒子のいずれを用いてもよいが、水分散性の微粒子を用いることが好ましい。無機微粒子の材料の例としては、シリカ、チタニア、アルミナ、ジルコニア等の無機酸化物;炭酸カルシウム、タルク、クレイ、焼成カオリン、焼成珪酸カルシウム、水和珪酸カルシウム、珪酸アルミニウム、珪酸マグネシウム、燐酸カルシウム等が挙げられる。また、有機微粒子の材料の例としては、シリコーン樹脂、フッ素樹脂、アクリル樹脂等が挙げられる。これらの中でも、シリカが好ましい。シリカの微粒子は、シワの発生を抑制する能力及び透明性に優れ、ヘイズを生じ難く、着色が無いため、本発明の積層フィルムの光学特性に与える影響がより小さいからである。また、シリカはポリウレタンを含む組成物への分散性および分散安定性が良好であるため、重合体Ypがポリウレタンである場合特に有利である。また、シリカの微粒子の中でも、非晶質コロイダルシリカ粒子が特に好ましい。微粒子は、1種類を単独で用いてもよく、2種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。
材料Yに含まれる微粒子の量は、重合体Yp100重量部に対し、通常0.5重量部以上、好ましくは5重量部以上、より好ましくは8重量部以上であり、通常20重量部以下、好ましくは18重量部以下、より好ましくは15重量部以下である。微粒子の量を前記下限値以上とすることにより、本発明の積層フィルムを巻回した場合にシワの発生を抑制できる。また、微粒子の量を前記上限値以下とすることにより、多層光学フィルムの白濁の無い外観を維持できる。
さらに、材料Yは、本発明の効果を著しく損なわない限り、さらなる他の任意成分を含みうる。さらなる任意成分の例としては、耐熱安定剤、耐候安定剤、レベリング剤、界面活性剤、酸化防止剤、帯電防止剤、スリップ剤、アンチブロッキング剤、防曇剤、滑剤、染料、顔料、天然油、合成油、ワックス、及び前記以外の架橋剤が挙げられる。任意成分は、材料Yの成分として市販品を用いた場合に、当該成分の添加の際に当該成分に同伴する市販品中の任意成分を含みうる。これらは、1種類を単独で用いてもよく、2種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。
材料Yは、B層を容易に形成する観点から水溶液又は水分散液であることが好ましい。材料Yは特に、水系エマルションであることが好ましい。材料Yが水系エマルションである場合、材料Y中では、水以外の成分(例えば重合体Yp及び架橋剤)の一部又は全部が粒子となって分散している。この粒子の粒径は、良好な光学特性を有する多層光学フィルムを得る観点から、0.01μm〜0.4μmであることが好ましい。前記の粒径は、動的光散乱法により測定しうる。例えば、大塚電子社製の光散乱光度計DLS−8000シリーズにより測定しうる。
材料Yが水系エマルションである場合には、その粘度が、15mPa・s以下であることが好ましく、10mPa・s以下であることが特に好ましい。水系エマルションの粘度が前記範囲内にあると、A層の表面に水系エマルションを均一に塗布できる。前記の粘度は、音叉型振動式粘度計により25℃の条件下で測定した値である。水系エマルションの粘度は、例えば、水系エマルションに含まれる溶媒の割合や、樹脂中に含まれる粒子の粒径などによって調整しうる。
<1.1.12.B層を構成するポリウレタンのガラス転移温度>
好ましい態様において、光学フィルムは、B層として、ポリウレタン樹脂の層を有する。ポリウレタン樹脂の層とは、重合体Ypとしてポリウレタンを含む材料Yを用いて構成される層である。そして、さらに好ましい態様において、材料Y中の、重合体Ypとしてのポリウレタンは、そのガラス転移温度が−55〜40℃である。
重合体Ypとしてのポリウレタンのガラス転移温度は、ポリウレタンの単層のフィルムを形成し、当該フィルムのガラス転移温度を、動的粘弾性測定装置(ユービーエム社製「Rheogel−E4000」)を用いて、tanδのピークから測定することにより求めうる。2つピークが出る場合は、低い方のピークを採用しうる。
B層がこのような範囲のガラス転移温度を有するポリウレタンを含む材料を用いて構成される層であることにより、B層と他の層との接着性を向上させることができる。例えば、光学フィルムがその一方の表面側にB層を有する場合、光学フィルムの表面と他の部材の表面との強固な貼合を達成することができる。
<1.1.13.B層のその他の性質及び形状>
B層の厚みは、50nm以上が好ましく、100nm以上がより好ましく、150nm以上が特に好ましく、また、5μm以下が好ましく、4μm以下がより好ましく、3μm以下が特に好ましい。B層の厚みが前記下限値以上であることにより、A層とB層との間の高い接着強度を得ることができる。一方、B層の厚みを前記上限値以下とし、比較的軟らかい層となりうるB層の厚みを薄くすることにより、本発明の積層フィルムを巻回して巻回体としたときの変形を低減することができる。
ここで、A層とB層との界面屈折率差は、0.06以下であることが好ましい。界面屈折率差を前記範囲内とすることにより、界面での光の反射を低減し、多層光学フィルムを透過する光の透過率を高め、且つヘイズを低減することができ、その結果、多層光学フィルムを光が透過する際の光の損失を抑えることができる。
<1.1.14.多層光学フィルムのその他の層及び層構成>
多層光学フィルムは、A層及びB層に加えて、他の任意の層を備えていてもよい。任意の層の例としては、反射防止層、ハードコート層、帯電防止層、防眩層、防汚層、セパレーターフィルム等を挙げることができる。
多層光学フィルムは、典型的には1層のA層及びその一方の表面上に設けられた1層のB層を備える。但し多層光学フィルムはこれに限られず、例えば1層のA層及びその両面のそれぞれに1層ずつのB層を備えてもよい。
<1.1.15.多層光学フィルムの製造方法>
多層光学フィルムの製造方法は、特に限定されないが、好ましい製造方法の例として:
工程(P1):A層を構成する熱可塑性樹脂からなるフィルム(A)を形成する工程、及び
工程(P2):フィルム(A)の表面に、材料Yを用いて、B層を形成し、A層及びB層を含む多層光学フィルムを形成する工程
を含む製造方法が挙げられる。以下においては、この製造方法を、多層光学フィルムの製造方法として説明する。
多層光学フィルムの製造方法においては、必要に応じて、工程(P1)の後であって工程(P2)の前、工程(P2)の途中の段階、及び/又は工程(P2)の後に、フィルム(A)及び/又は多層光学フィルムを延伸する工程を行いうる。本願においては説明の便宜上、フィルム(A)については、文脈上明らかな場合は、延伸の工程に供する前のもの及び延伸の工程に供したものを、フィルム(A)と総称する。多層光学フィルム、及び多層光学フィルムを構成する各層についても同様である。
工程(P1)は、例えば、溶融成形法、溶液流延法などにより、熱可塑性樹脂をフィルム状に成形することにより行いうる。溶融成形法の例としては、溶融押し出しにより成形する押出成形法、並びに、プレス成形法、インフレーション成形法、射出成形法、ブロー成形法、及び延伸成形法などを挙げることができる。これらの方法の中でも、機械強度及び表面精度に優れたフィルム(A)を得る観点から、押出成形法、インフレーション成形法及びプレス成形法が好ましい。この中でも特に、残留溶媒の量を減らせること、並びに、効率よく簡単な製造が可能なことから、押出成形法が特に好ましい。
工程(P2)は、例えば:
工程(P2−1):フィルム(A)の表面に材料Yを塗布して塗膜を形成する工程、及び
工程(P2−2):塗膜中の成分を硬化させてB層を得る工程
を含みうる。
工程(P2−1)における塗布の方法としては、特に限定されないが、公知の塗布法を採用しうる。具体的な塗布の方法の例としては、ワイヤーバーコート法、ディップ法、スプレー法、スピンコート法、ロールコート法、グラビアコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、スライドコート法、エクストルージョンコート法などを挙げることができる。
工程(P2−2)は、材料Yが溶媒を含む場合は、乾燥の操作を行い、それにより溶媒を除去し、硬化を達成することが一般的である。乾燥方法は任意であり、例えば、減圧乾燥、加熱乾燥などの任意の方法で行いうる。特に、加熱乾燥は、材料Y中における架橋反応等の反応を速やかに進行させ、溶媒の除去と反応とを同時に行いうるため好ましい。工程(P2−2)を加熱乾燥により行う場合、加熱温度は、溶媒を揮発させて材料Y中の成分を硬化させることができる範囲で適切に設定しうる。
フィルム(A)及び/又は多層光学フィルムの延伸は、具体的には、
段階(i):工程(P1)の後であって工程(P2−1)の前の段階、
段階(ii):工程(P2−1)の後であって工程(P2−2)の前の段階、
段階(iii):工程(P2−2)と同時、及び/又は
段階(iv):工程(P2−2)の後の段階
に行いうる。
段階(i)及び/又は(ii)のみ、特に段階(i)のみにおいて延伸を行うことにより、B層における位相差の発現が抑制される。このような延伸は、多層光学フィルムに、A層により発現する位相差のみを付与することが求められる場合に好適である。このような延伸を行い、且つ工程(P2−2)で加熱乾燥を行う場合においては、加熱温度は、A層において配向緩和が生じない温度に設定することが好ましく、具体的には、A層を形成する熱可塑性樹脂のガラス転移温度Tgを基準として相対的に設定しうる。より具体的には、好ましくは(Tg−50℃)以上、より好ましくは(Tg−40℃)以上であり、好ましくは(Tg+60℃)以下、より好ましくは(Tg+50℃)以下である。
段階(ii)及び/又は段階(iii)において延伸を行うことにより、材料Yの塗膜からの微粒子などの脱落を防ぐことができる。さらに、均一なB層を形成する観点からは、段階(iii)において延伸を行うことがより好ましい。
段階(iv)において多層光学フィルムを延伸することにより、延伸されたA層及び延伸されたB層を備える多層光学フィルムを得ることができる。しかしながら、通常は、B層の厚みはA層の厚みに比べ十分に小さいので、延伸されたB層には大きな位相差は発現しない。
延伸処理の方法は特に限定されず、例えば、ロール間の周速の差を利用して長尺方向に一軸延伸する方法(縦一軸延伸);テンターを用いて幅方向に一軸延伸する方法(横一軸延伸);縦一軸延伸と横一軸延伸とを順に行う方法(逐次二軸延伸);縦延伸と横延伸を同時に行う方法(同時二軸延伸);延伸前のフィルムの長尺方向に対して斜め方向に延伸する方法(斜め延伸);等が挙げられる。ここで「斜め方向」とは、平行でもなく、垂直でもない方向を意味する。
延伸時のフィルム温度は、A層を形成する熱可塑性樹脂のガラス転移温度Tgを基準として、好ましくはTg以上、より好ましくはTg+5℃以上、特に好ましくはTg+8℃以上であり、好ましくはTg+35℃以下、より好ましくはTg+30℃以下、特に好ましくはTg+25℃以下である。延伸時のフィルム温度を前記下限値以上にすることにより、A層において大きなレターデーションが発現することを防止できる。また、上限値以下にすることにより、A層に所望のレターデーションを安定して発現させることができる。また、段階(iii)で延伸を行う場合は、延伸及び材料Yの硬化の両方に適した温度を適宜設定しうる。
延伸倍率は、多層光学フィルムに発現させたいレターデーションに応じて適切に設定しうる。例えば、縦延伸を行う場合、延伸倍率は、好ましくは1.1倍以上であり、好ましくは5.0倍以下である。また、横延伸を行う場合、延伸倍率は、好ましくは1.3倍以上、より好ましくは1.5倍以上であり、好ましくは6.0倍以下、より好ましくは5.0倍以下である。延伸倍率を前記下限値以上にすることにより、厚みムラを防止することができる。また、上限値以下とすることにより、延伸処理用の設備にかかる負荷を抑えることができる。また、延伸処理の回数は、1回でもよく、2回以上でもよい。
多層光学フィルムの製造方法においては、上述した工程以外の工程を更に行いうる。例えば、延伸処理の前に多層光学フィルムに対して予熱処理を施しうる。予熱処理を行う手段の例としては、オーブン型加熱装置、ラジエーション加熱装置、又は液体中に浸すことなどが挙げられる。中でもオーブン型加熱装置が好ましい。予熱処理における加熱温度は、好ましくは「延伸温度−40℃」以上、より好ましくは「延伸温度−30℃」以上であり、好ましくは「延伸温度+20℃」以下、より好ましくは「延伸温度+15℃」以下である。ここで、延伸温度とは、延伸工程における加熱装置の設定温度を意味する。
また、例えば、延伸処理後の多層光学フィルムに対して固定化処理を施してもよい。固定化処理における温度は、好ましくは室温以上、より好ましくは「延伸温度−40℃」以上であり、好ましくは「延伸温度+30℃」以下、より好ましくは「延伸温度+20℃」以下である。
また、フィルム(A)の表面に材料Yの塗膜を形成する前に、フィルム(A)の表面に改質処理を施し、A層とB層との密着性を向上させてもよい。フィルム(A)に対する表面改質処理の例としては、エネルギー線照射処理及び薬品処理等が挙げられる。エネルギー線照射処理の例としては、コロナ放電処理、プラズマ処理、電子線照射処理、紫外線照射処理等が挙げられ、処理効率の点等から、コロナ放電処理、プラズマ処理が好ましく、コロナ放電処理が特に好ましい。また、薬品処理の例としては、ケン化処理、重クロム酸カリウム溶液、濃硫酸等の酸化剤水溶液中に浸漬し、その後、水で洗浄する処理が挙げられる。
フィルム(A)のコロナ放電処理の密度は、コロナ放電処理を施された面の平均水接触角が、通常20°〜70°、より好ましくは20°〜50°であり、また、水接触角の標準偏差を0.01°〜5°の範囲内にすることができるように調整することが好適である。具体的には、コロナ放電処理の密度は、好ましくは1W・min/m以上、より好ましくは5W・min/m以上、特に好ましくは10W・min/m以上であり、好ましくは1000W・min/m以下、より好ましくは500W・min/m以下、特に好ましくは300W・min/m以下である。処理密度が低過ぎる場合は、材料Yの塗布性が低下しやすい。また、処理密度が高過ぎる場合は、処理された表面が破壊され、密着性が低下しやすい。コロナ処理のその他の条件及び使用する装置は、B層に対する親水化表面処理のためのコロナ処理の場合と同様に調節又は選択しうる。
また、B層の表面には、親水化表面処理を施すことが好ましい。B層の表面は、通常、多層光学フィルムを他の部材と貼り合わせる際の貼り合せ面となるので、この面の親水性を更に向上させることにより、多層光学フィルムと他の部材との接着性を顕著に向上させることができる。
B層に対する親水化表面処理の例としては、コロナ放電処理、プラズマ処理、ケン化処理、紫外線照射処理などが挙げられる。中でも、処理効率の点などからコロナ放電処理及びプラズマ処理が好ましく、コロナ放電処理がより好ましい。また、プラズマ処理としては、大気圧プラズマ処理が好ましい。
親水化表面処理では、B層の表面の平均水接触角を、好ましくは70°以下、より好ましくは60°以下、特に好ましくは50°以下であり、通常20°以上にすることが望ましい。また、水接触角の標準偏差は、好ましくは0.01°〜5°である。B層の表面をこのような水接触角となるように表面改質処理することにより、多層光学フィルムを偏光子等の他の部材と強固に接着できる。
前記の水接触角は、接触角計を用いてθ/2法により求める。
平均水接触角は、例えば、親水化表面処理を施したB層の表面において、100cmの範囲内で無作為に選んだ20点の水接触角を測定し、この測定値の加算平均により算出される。水接触角の標準偏差は、この測定値から算出される。親水化処理を行うことにより、B層の表面に、例えばヒドロキシ基、カルボキシル基、カルボニル基、アミノ基、スルホン酸基などの官能基を導入することができる。
コロナ放電処理に用いる装置としては、ワイヤー電極、平面電極、又はロール電極を有する装置が好適である。放電を均一にするために、処理対象のフィルムと電極との間に誘電体を挟んで処理を実施することが好ましい。電極の材質の例としては、鉄、銅、アルミ、ステンレスなどの金属が挙げられる。電極形状の例としては、薄板状、ナイフエッジ状、ブラシ状などが挙げられる。
誘電体としては比誘電率が10以上のものを使用し、且つ誘電体の配置は両極の電極をそれぞれ誘電体で挟んだ配置とすることが好ましい。誘電体の材質の例としては、セラミック;シリコンゴム、ポリテトラフルオロエチレン、ポリエチレンテレフタレート等のプラスチック;ガラス;石英;二酸化珪素;酸化アルミニウム、二酸化ジルコニウム、二酸化チタンなどの金属酸化物;チタン酸バリウム等の化合物;などが挙げられる。特に、比誘電率10以上(25℃環境下)の固体誘電体を介在させておくことが、低電圧で高速にコロナ放電処理を行えるという点で有利である。前記比誘電率10以上の固体誘電体の例としては、二酸化ジルコニウム、二酸化チタンなどの金属酸化物;チタン酸バリウムなどの酸化物;シリコンゴムなどが挙げられる。誘電体の厚みは0.3mm〜1.5mmの範囲が好ましい。誘電体の厚みが薄すぎると絶縁破壊を起こし易く、厚すぎると印加電圧を高くすることになるため、効率が悪くなる可能性がある。
処理対象のフィルムと電極との間隔は、0.5mm〜10mmであることが好ましい。0.5mm未満では厚みの薄いフィルムしか電極間を通せなくなる。このため、例えば継ぎ目等の厚みが厚い部分がある場合などには、フィルムの厚みが厚い部分が電極間を通過する際に電極に当たり、フィルムが傷つく場合がある。また、10mmを超えると印加電圧が高くなるので、電源が大きくなり放電がストリーマ状になる可能性がある。
コロナ放電処理の出力は、処理対象面のダメージをできるだけ少なく処理する条件が好ましく、具体的には、好ましくは0.02kW以上、より好ましくは0.04kW以上であり、好ましくは5kW以下、より好ましくは2kW以下である。また、この範囲内で、可能な限り低出力で、数回コロナ放電処理を施すことが、好ましいコロナ放電処理方法である。
コロナ放電処理の周波数は、好ましくは5kHz以上、より好ましくは10kHz以上であり、好ましくは100kHz以下、より好ましくは50kHz以下である。周波数が低下し過ぎるとコロナ放電処理の均一性が劣化し、コロナ放電処理のムラが生じるおそれがある。また、周波数が大きくなり過ぎると、高出力のコロナ放電処理を行う場合には特に問題ないが、低出力のコロナ放電処理を実施する場合に安定した処理を行うことが難しくなり、その結果、処理ムラが発生するおそれがある。
コロナ放電処理は電極周辺をケーシングで囲い、ケーシングの内部に不活性ガスを入れ、電極部にガスをかけるようにすると、放電をより細かい状態で発生させることができる。不活性ガスの例としては、ヘリウム、アルゴン、窒素等が挙げられる。なお、不活性ガスは、1種類を単独で用いてもよく、2種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。
親水化表面処理としてプラズマ処理を行う場合、プラズマ放電処理の例としては、グロー放電処理、フレームプラズマ処理などが挙げられる。グロー放電としては、真空下で行う真空グロー放電処理、大気圧下で行う大気圧グロー放電処理のいずれも用いることができる。中でも、生産性の観点から、大気圧下で行う大気圧グロー放電処理が好ましい。なお、大気圧とは、700〜780Torrの範囲である。
グロー放電処理は、相対する電極の間に処理対象のフィルムを置き、装置中にプラズマ励起性気体を導入し、電極間に高周波電圧を印加することにより、該気体をプラズマ励起させ、電極間においてグロー放電を行うものである。これにより、処理された面の親水性がより高められる。
プラズマ励起性気体とは、前記のような条件においてプラズマ励起される気体をいう。プラズマ励起性気体の例としては、アルゴン、ヘリウム、ネオン、クリプトン、キセノン等の希ガス;窒素;二酸化炭素;テトラフルオロメタンの様なフロン類及びそれらの混合物;アルゴン、ネオンなどの不活性ガスに、カルボキシル基、水酸基、カルボニル基などの極性官能基を付与し得る反応性ガスを加えたもの;などが挙げられる。なお、プラズマ励起性気体は、1種類を単独で用いてもよく、2種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。
プラズマ処理における高周波電圧の周波数は、1kHz〜100kHzの範囲が好ましく、電圧の大きさは、電極に印加した時の電界強度が1kV/cm〜100kV/cmとなる範囲になるようにすることが好ましい。
親水化表面処理としてケン化処理を行う場合、ケン化処理としては、アルカリケン化処理が好適である。処理方法としては、例えば浸漬法、アルカリ液塗布法等が挙げられるが、生産性の観点から、浸漬法が好ましい。
ケン化処理における浸漬法は、アルカリ液の中に処理対象のフィルムを適切な条件で浸漬し、そのフィルムの全表面のアルカリと反応性を有する全ての面をケン化処理する手法であり、特別な設備を必要としないため、コストの観点で好ましい。アルカリ液は、水酸化ナトリウム水溶液であることが好ましい。アルカリ液の濃度は、好ましくは0.5mol/l以上、より好ましくは1mol/l以上であり、好ましくは3mol/l以下、より好ましくは2mol/l以下である。アルカリ液の液温は、好ましくは25℃以上、より好ましくは30℃以上であり、好ましくは70℃以下、より好ましくは60℃以下である。処理された面の平均水接触角及び水接触角の標準偏差を所望の範囲に設定するためには、例えば、浸漬時間などを適宜調整する。
アルカリ液に浸漬した後は、処理されたフィルムにアルカリ成分が残留しないように、水で十分に水洗したり、希薄な酸に浸漬してアルカリ成分を中和することが好ましい。
親水化表面処理として紫外線照射処理を行う場合、照射する紫外線の波長は、通常100nm〜400nmである。また、紫外線の光源であるランプの出力値は、通常120W以上、好ましくは160W以上であり、通常240W以下、好ましくは200W以下である。紫外線の照射量は、紫外線照射対象物に対して、紫外線の積算光量の総量で表記すると、好ましくは100mJ/cm以上、更に好ましくは、200mJ/cm以上、特に好ましくは300mJ/cm以上であり、好ましくは2,000mJ/cm以下、更に好ましくは1,500mJ/cm以下、特に好ましくは1,000mJ/cm以下である。積算光量の総量は、紫外線照射ランプの照度とライン速度(フィルムの移動速度)によって決まる値であり、例えば、紫外線積算照度計(アイグラフィック社製:EYEUV METER UVPF−A1)で測定する。
<1.1.16.光学フィルムのその他の性質及び形状>
光学フィルムとして、上に述べた多層光学フィルムを用い、光学フィルムを、B層側の面が他のフィルム(例えば偏光膜等)と貼合した態様で使用する場合、通常、B層の高い親和性及び高い変形能等により、高い接着性を得ることができる。
光学フィルムは、光学部材としての機能を安定して発揮させる観点から、全光線透過率が、85%以上であることが好ましく、90%以上であることがより好ましい。光線透過率は、JIS K0115に準拠して、分光光度計(日本分光社製、紫外可視近赤外分光光度計「V−570」)を用いて測定しうる。
光学フィルムのヘイズは、好ましくは1%以下、より好ましくは0.8%以下、特に好ましくは0.5%以下である。ヘイズを低い値とすることにより、光学フィルムを組み込んだ表示装置の表示画像の鮮明性を高めることができる。ここで、ヘイズは、JIS K7361−1997に準拠して、日本電色工業社製「濁度計 NDH−300A」を用いて、5箇所測定し、それから求めた平均値である。
光学フィルムの面内レターデーションRe及び厚み方向のレターデーションRthは、光学フィルムの用途に応じて任意に設定しうる。例えば、光学フィルムを位相差フィルムとして用いる場合、具体的な面内レターデーションReの範囲は、好ましくは50nm以上、好ましくは200nm以下である。また、具体的な厚み方向のレターデーションRthは、好ましくは50nm以上であり、好ましくは300nm以下である。
さらに、光学フィルムの面内レターデーションReのバラツキは、好ましくは10nm以内、より好ましくは5nm以内、特に好ましくは2nm以内である。面内レターデーションReのバラツキを前記範囲にすることにより、液晶表示装置用の位相差フィルムとして用いた場合に表示品質を良好なものにすることが可能になる。ここで、面内レターデーションReのバラツキは、光入射角0°(即ち、光線の方向と光学フィルムの主面とが垂直となる状態)の時の面内レターデーションReを、光学フィルムの幅方向において測定したときの最大値と最小値との差である。
光学フィルムの残留揮発性成分の量は、好ましくは0.1重量%以下、より好ましくは0.05重量%以下、さらに好ましくは0.02重量%以下である。残留揮発性成分の量を前記範囲に収めることにより、経時的な光学フィルムの光学特性の変化を安定して防止できる。また、寸法安定性を向上させることができる。さらに、光学フィルムを備える部材及び装置(偏光板及び液晶表示装置等)の劣化を抑制でき、例えば表示装置の場合、長期間にわたりに表示品質を安定して良好に保つことができる。
ここで、揮発性成分は、層中に微量含まれる分子量200以下の物質であり、例えば、残留単量体及び溶媒などが挙げられる。揮発性成分の含有量は、層中に含まれる分子量200以下の物質の合計として、測定対象となる層をガスクロマトグラフィーにより分析することにより定量することができる。
光学フィルムの総厚みは、好ましくは8μm以上、より好ましくは9μm以上、特に好ましくは10μm以上であり、好ましくは250μm以下、より好ましくは200μm以下、特に好ましくは150μm以下である。光学フィルムの総厚みを前記下限値以上にすることにより、光学フィルムの機械的強度を高くできる。また、上限値以下にすることにより、光学フィルム全体の厚みを薄くできる。特に本願発明においては、光学フィルムが、厚さが30μm以下といった薄いものであっても、ジッピングによる劣化を起こさずに、保護フィルムの円滑な剥離を行うことができる。また、保護フィルムの凹凸転写による光学フィルムの正面の凹凸を小さくする事ができる。
光学フィルムの厚みムラは、本発明の積層フィルム巻回体とした際の巻回体の品質を向上させるため、少ないことが好ましい。光学フィルムの厚みムラは、好ましくは3μm以下、より好ましくは2μm以下である。ここで厚みムラとは、厚みの最大値と最小値との差のことをいう。
光学フィルムは、長尺状であることが好ましい。長尺状とは、フィルムの幅方向に対し少なくとも5倍程度以上の長さを有するものをいい、好ましくは10倍もしくはそれ以上の長さを有し、具体的には巻回されて巻回体の形状とされ、保管または運搬される程度の長さを有するものを言う。光学フィルムとしての多層光学フィルムを長尺状に形成する場合には、長尺状のフィルム(A)を準備し、フィルム(A)を順次繰り出しながら、その表面に材料Yを塗布等により連続的にB層を設ける構成とすることが好ましい。
光学フィルムの幅寸法は、好ましくは700mm以上、より好ましくは1000mm以上、特に好ましくは1200mm以上であり、好ましくは2500mm以下、より好ましくは2200mm以下、特に好ましくは2000mm以下である。
<1.2.保護フィルム>
保護フィルムは、積層フィルムにおいて、光学フィルムの表面を保護するために設けられるフィルムである。保護フィルムは、1の層のみから構成されていてもよく、2以上の層から構成されていてもよい。保護フィルムの具体的な例としては、樹脂の基材層のみからなる単層の保護フィルム、及び当該基材層とその片面又は両面に設けられた易接着層等の表面層とを有する多層フィルム(以下において、多層保護フィルムということがある)が挙げられる。
本発明の積層フィルムにおいて、保護フィルムの正面側の表面(図1の例では表面12D)の算術平均粗さRa(μm)は、下記式(1)を満たす。
0<Ra≦0.18 式(1)
保護フィルムの正面側の表面の算術平均粗さRaは、好ましくは0.18μm以下、より好ましくは0.16μm以下である。保護フィルムの表面の算術平均粗さは、非接触表面形状測定機(例えばZYGO社製NewViewシリーズ)を用いて測定しうる。
保護フィルム背面側の表面(図1の例では表面12U)の算術平均粗さRaは、特に限定されず、製造の容易さ、取扱いの便宜等の観点から、適宜定めうる。本発明の積層フィルムを、使用に先立ち巻回して巻回体の形状で保存する際のブロッキング防止及び背面凹凸形状の転写の低減の観点からは、保護フィルム背面側の表面の算術平均粗さRaは、所定の範囲であることが好ましい。具体的には、背面側の算術平均粗さRaは好ましくは0.1μm以上、より好ましくは0.2μm以上であり、一方好ましくは2μm以下、より好ましくは1.5μm以下である。
基材層のみからなる単層の保護フィルム、及び多層保護フィルムの構成要素である基材層を構成する樹脂の例としては、ポリエステル系重合体、ポリオレフィン系重合体等の重合体を含む樹脂が挙げられる。
ポリエステル系重合体及びポリオレフィン系重合体の例としては、以下のものが挙げられる。ポリエステル系重合体の例としては、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートが挙げられる。ポリオレフィン系重合体の例としては、ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン−プロピレン共重合体、プロピレン−αオレフィン共重合体、エチレン−α−オレフィン共重合体、エチレン−エチル(メタ)アクリレート共重合体、エチレン−メチル(メタ)アクリレート共重合体、エチレン−n−ブチル(メタ)アクリレート共重合体、及びエチレン−酢酸ビニル共重合体が挙げられる。ここで、ポリエチレンの例としては、低密度ポリエチレン、中密度ポリエチレン、高密度ポリエチレン、及び直鎖状低密度ポリエチレンが挙げられる。また、エチレン−プロピレン共重合体の例としては、ランダム共重合体、ブロック共重合体などが挙げられる。さらに、α−オレフィンとしては、例えば、ブテン−1、ヘキセン−1、4−メチルペンテン−1、オクテン−1、ペンテン−1、及びヘプテン−1が挙げられる。
上述したポリエステル系重合体及びポリオレフィン系重合体の中でも、ポリエチレンテレフタレート及びポリエチレンが、低コストで所望の物性を得やすい。特に、A層との密着性の観点からはポリエチレンが特に好ましく、B層との密着性との観点からはポリエチレンテレフタレートが特に好ましい。
基材層を構成する樹脂は、粒子を含みうる。粒子は、重合体からなるものであってもよく、重合体以外の成分からなるものであってもよい。基材層用の粒子の例としては、炭酸カルシウム粒子、シリカ粒子等の無機粒子が挙げられる。背面層を形成する樹脂全量中の粒子の割合は、好ましくは0.05重量%以上、より好ましくは0.1重量%以上であり、一方好ましくは1.0重量%以下、より好ましくは0.8重量%以下である。また粒子の粒径は、数平均粒径として、0.01〜10μmであることが好ましい。この範囲内で粒子の割合及び粒径を調整することにより、保護フィルムの正面に所望の算術平均粗さを付与することができる。
基材層を構成する樹脂には、本発明の効果を著しく損なわない限り、上に述べた成分以外の任意成分を含んでいてもよい。任意成分の例としては、タルク、ステアリン酸アミド、ステアリン酸カルシウム等の充填剤、滑剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、顔料、帯電防止剤、核剤などの添加剤が挙げられる。任意成分としては、1種類を単独で用いてもよく、2種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。
基材層の厚さは、好ましくは10μm以上、より好ましくは20μm以上であり、一方好ましくは40μm以下、より好ましくは35μm以下である。基材層の厚さが前記範囲内であることにより、効果的な保護を効率的に達成しうる。
多層保護フィルムの構成要素である易接着層の例としては、多層光学フィルムのB層の例として上に述べたものと同様のものが挙げられる。
保護フィルムとしては、市販品として入手しうるものを用いうる。ポリエチレンテレフタレートの基材層を有する市販品の例としては、東洋紡社製「コスモシャインA4100」が挙げられる。ポリエチレンの基材層を有する市販品の例としては、Tredegar Film Products Corporation製「Force Field 1035」、東レフィルム加工製「トレテック」が挙げられる。
保護フィルムとして市販品を用いた場合、その表面の算術平均粗さRaは、ロットにより異なる場合がある。その場合は適宜本発明の実施に適したものを選択して用いうる。さらに、一方の面と他方の面とで算術平均粗さRaが異なる場合は、本発明の実施に適した面を正面として適宜選択し用いうる。
<1.3.剥離強度>
本発明の積層フィルムにおいては、光学フィルムと保護フィルムとの剥離強度F(N/50mm)は、式(2)を満たす。
0.01≦F≦0.07 式(2)
光学フィルムと保護フィルムとの剥離強度Fは、好ましくは0.01N/50mm以上、より好ましくは0.012N/50mm以上であり、一方好ましくは0.07N/50mm以下、より好ましくは0.06N/50mm以下である。
剥離強度の測定は、幅方向50mm、長手方向200mmの矩形の試験片であって、長手方向を、積層フィルムの使用に際して剥離を行う方向(長尺のフィルムであればその長手方向)に揃えた試験片を、積層フィルムから複数切り出し、保護フィルムを光学フィルムから剥離して剥離強度を測定し、平均を求めることにより行いうる。剥離方向は180°方向とし、剥離の速度は300mm/minとし、剥離強度を検出する機器としては、高性能型デジタルフォースゲージZP−5N(イマダ社製)を使用しうる。
保護フィルムの正面側の面の算術平均粗さRaが前記範囲内である場合において、Fも前記範囲内であることにより、保護フィルム表面の凹凸形状の転写等の不所望な現象を低減しながら、且つ、保護フィルムを光学フィルムから剥離する際のジッピングを低減することができる。ジッピングの低減は、保護フィルムに制御された状態の張力をかけて、保護フィルムを剥離する際に、保護フィルム剥離の張力が安定するか否かによって評価しうる。
光学フィルムと保護フィルムとの剥離強度Fは、光学フィルムの正面及び保護フィルムの正面の材料を適宜選択することにより、所望の値に調整し得る。具体的には、光学フィルム正面の材料としては、通常は、最終的に光学フィルムとして用いるのに適した材料が適宜選択される一方、保護フィルム正面の材料としては、かかる光学フィルム正面の材料との剥離強度が所望の範囲内の値となるものを選択し、これにより、所望の剥離強度Fを得ることができる。より具体的には、保護フィルム表面における親水性、極性官能基の量、表面改質処理の有無及びその程度といった観点から様々に異なる表面特性を有する保護フィルムの中から、光学フィルム正面の材料との剥離強度が所望の範囲内の値となるものを適宜選択しうる。また例えば、保護フィルムが、片側の表面のみに易接着処理された(易接着層が形成された、及び/又は表面の改質処理が行われた)フィルムである場合、易接着面(易接着処理が施された面)と反易接着面(易接着面とは反対の、易接着処理が施されていない面)のうち、より好ましい剥離強度Fを発現するほうの面を正面として適宜選択して、保護フィルムを使用しうる。より具体的には、光学フィルムの正面側の表面が、ポリウレタンのB層である場合において、保護フィルムの易接着面を正面とすると、剥離強度Fが所望の値より高い値となりうる。そのような場合、反易接着面を正面として、保護フィルムを使用しうる。
<1.4.積層フィルムの製造方法及び使用方法>
積層フィルムの製造方法は、特に限定されず、光学フィルムと保護フィルムとを別々に調製し、これらを貼合することにより製造しうる。貼合は、通常、長尺の光学フィルムと長尺の保護フィルムとを、ロールトゥロールの製造ラインにおいて、長尺方法を揃えて圧着することにより行い、それにより長尺の積層フィルムを得うる。得られた長尺の積層フィルムは、巻回し、巻回体として保存及び運搬しうる。得られた長尺の積層フィルムの巻回体から、積層フィルムを引き出し、必要に応じて他のフィルムと貼合した後、保護フィルムを剥離し、光学フィルムを所望の用途に用いうる。
<2.偏光板の製造方法>
本発明の積層フィルムの用途の好ましい例として、以下に説明する、本発明の偏光板の製造方法への利用が挙げられる。
本発明の偏光板の製造方法は、
工程(1):積層フィルムの光学フィルム側の表面に偏光子を貼合し、偏光子付き積層体を得る工程と、
工程(2):偏光子付き積層体から保護フィルムを除去する工程と
を含む。
本発明の積層フィルムは、典型的には図1に示す積層フィルム100のように、1層の光学フィルム及びその一方の表面上に設けられた1層の保護フィルムを備えるので、その一方の表面は、光学フィルムが露出した面即ち光学フィルム側の表面(図1の例では表面11D)である。工程(1)では、この光学フィルム側の表面に、偏光子を貼合する。
但し本発明の積層フィルムはこれに限られず、例えば1層の光学フィルム及びその両面のそれぞれに1層ずつの保護フィルムを備える場合もあり得るので、その場合はどちらか一方の保護フィルムを剥離し、1層の光学フィルム及び1層の保護フィルムからなる積層フィルムとした後に工程(1)に供しうる。
積層フィルムとしては、その構成要素の光学フィルムとして、等方なフィルムを備えるものを用いてもよく、異方性を有するフィルムを備えるものを用いてもよい。光学フィルムとして、位相差層として用いうる、異方性を有するフィルムを用い、さらに光学フィルム及び偏光子の光学軸を所望の関係に配置することにより、例えば液晶表示装置の視認性の向上を図りうる偏光板を製造できる。
工程(1)に用いる偏光子としては、直角に交わる二つの直線偏光の一方を透過し、他方を吸収又は反射するものを用いうる。偏光子の具体例としては、ポリビニルアルコール、部分ホルマール化ポリビニルアルコール等のビニルアルコール系重合体のフィルムに、ヨウ素、二色性染料等の二色性物質による染色処理、延伸処理、架橋処理等の適切な処理を適切な順序及び方式で施したものが挙げられる。特に、このようにポリビニルアルコールを含む偏光子は、光学フィルムとの接着性に優れるので、好ましい。また、偏光子の厚さは、通常、5μm〜80μmである。
工程(1)において光学フィルムは、偏光子の片面のみに貼合してもよく、両面に貼合してもよい。工程(1)は、偏光子と積層フィルムとを直接、又は他の層を介して貼合することにより行いうる。例えば、偏光子と積層フィルムとを、接着剤を介して貼合してもよい。偏光子を貼合する、積層フィルムの光学フィルム側の表面は、好ましくは、多層光学フィルムのB層側の表面である。B層側の表面に偏光子を貼合することにより、高い接着強度を発現しうる。
工程(1)に供する偏光子の片面又は両面には、偏光子の保護を目的として、適切な接着層を介して保護フィルムが接着されていてもよい。保護フィルムとしては、透明性、機械的強度、熱安定性、水分遮蔽性等に優れる樹脂フィルムが好ましい。この樹脂フィルムを形成する樹脂の例としては、トリアセチルセルロース等のアセテート重合体、脂環構造を有する重合体、ポリオレフィン重合体、ポリカーボネート重合体、ポリエチレンテレフタレート等のポリエステル重合体、ポリ塩化ビニル重合体、ポリスチレン重合体、ポリアクリロニトリル重合体、ポリスルホン重合体、ポリエーテルスルホン重合体、ポリアミド重合体、ポリイミド重合体、アクリル重合体等を含む樹脂が挙げられる。
工程(1)の具体的な例を、図2を参照して説明する。図2は、本発明の偏光板の製造方法における工程(1)の例を模式的に示す断面図である。この例において、光学フィルム111及び保護フィルム121を備える積層フィルム100の光学フィルム111側の面11Dには、偏光子211が貼合され、これにより、偏光子付き積層体200が得られる。
工程(2)の保護フィルムの除去は、光学フィルムの一端から他端へ剥離が進行するよう、保護フィルムを牽引することにより行いうる。
工程(2)の具体的な例を、図3を参照して説明する。図3は、本発明の偏光板の製造方法における工程(2)の例を模式的に示す断面図である。この例において、保護フィルム121は、光学フィルム111から剥離されることにより、偏光子付き積層体から除去され、これにより、光学フィルム111及び偏光子211を備える偏光板300が得られる。この例において、保護フィルム121の剥離は、剥離位置Pが、矢印A1方向に進行するよう行われている。本発明の偏光板の製造方法においては、積層フィルムとして上に述べた特定の本発明の積層フィルムを用いることにより、光学フィルムの一端から他端への剥離の進行が一定に進み、ジッピングが抑制され、その結果、剥離後の光学フィルムの表面におけるスジ状の不具合の発生が低減され、高品質な偏光板を容易に製造することができる。
本発明の偏光板の製造方法では、工程(1)及び(2)に加えて、任意の工程を行いうる。例えば、工程(2)の後、光学フィルムの上にさらに、積層フィルムを用いてさらにもう1層以上の光学フィルムを重ねて貼合してもよい。また、偏光子の一方の面に工程(1)及び(2)により光学フィルムを貼合する一方、偏光子の他方の面に別の位相差層を貼合してもよい。
<3.1.光学フィルム及び偏光板の用途:液晶表示装置>
本発明の積層フィルムから剥離して得た光学フィルム、及び本発明の偏光板の製造方法により製造した偏光板は、液晶表示装置の構成要素として用いうる。
液晶表示装置は、通常、光源側偏光板、液晶セル及び視認側偏光板がこの順に配置された液晶パネルと、液晶パネルに光を照射する光源とを備える。位相差を有する光学フィルムを、例えば液晶セルと光源側偏光板との間、液晶セルと視認側偏光板との間などに配置することで、液晶表示装置の視認性を大幅に向上できる。
液晶セルの駆動方式の例としては、インプレーンスイッチング(IPS)モード、バーチカルアラインメント(VA)モード、マルチドメインバーチカルアラインメント(MVA)モード、コンティニュアスピンホイールアラインメント(CPA)モード、ハイブリッドアラインメントネマチック(HAN)モード、ツイステッドネマチック(TN)モード、スーパーツイステッドネマチック(STN)モード、オプチカルコンペンセイテッドベンド(OCB)モードなどが挙げることができる。
<3.2.その他の用途>
本発明の積層フィルムから剥離して得た光学フィルムは、容易に製造し高品質な状態で利用することができ、且つ、位相差を有する場合は複屈折の高度な補償が可能なので、それ単独あるいは他の部材と組み合わせて用いうる。例えば、光学フィルムを単独で位相差板又は視野角補償フィルムとして用いてもよい。また、例えば、位相差を有する光学フィルムを円偏光フィルムと組み合わせて輝度向上フィルムとして用いてもよい。また、これらは、例えば、液晶表示装置、有機エレクトロルミネッセンス表示装置、プラズマ表示装置、FED(電界放出)表示装置、SED(表面電界)表示装置などに適用してもよい。
以下、実施例を示して本発明について具体的に説明する。ただし、本発明は以下に示す実施例に限定されるものではなく、本発明の特許請求の範囲及びその均等の範囲を逸脱しない範囲において任意に変更して実施しうる。
以下の説明において、量を表す「%」及び「部」は、別に断らない限り重量基準である。また、以下に説明する操作は、別に断らない限り、常温及び常圧の条件において行った。
[評価方法]
(樹脂Ypのガラス転移温度の測定方法)
実施例及び比較例で用いたポリウレタンの水分散体(商品名「アデカボンタイター」又は商品名「スーパーフレックス」)をテフロン(登録商標)加工した容器に流し入れ、常温24時間で乾燥、その後、120℃のオーブンで1時間乾燥し、150μmの単膜を用意した。この単膜のガラス転移温度を、動的粘弾性測定装置(ユービーエム社製「Rheogel−E4000」)を用いて、tanδのピークから測定した。2つピークが出る場合は、低い方のピークを用いた。
(算術平均粗さの測定方法)
ZYGO社製NewViewシリーズを用いて算術平均粗さRaを測定した。試験片は、100mm×100mmとし、測定倍率は、測定視野(面積)が1.82mm×1.36になるよう調整した。測定サンプルの中央付近の任意の位置を5点測定し、その平均値をRaとした。但し、測定結果の3次元画像において四隅が平坦でない場合(中央部よりも凹凸が大きい)は、その結果を排除して平均値を求めた。また、表面の大きなうねりを補正する為、解析はCylinderモードで実施した。
(光学フィルムと保護フィルム間の剥離強度測定方法)
製造した積層フィルムの巻回体の巻末から長尺の積層フィルムを引き出して、3箇所から試験片を切り出した。それぞれの試験片の形状は幅方向50mm、長手方向200mmの矩形とし、試験片の長手方向が、長尺の積層フィルムの長手方向と一致するよう切り出した。3つの試験片を切り出す3つの位置は、長尺の積層フィルムの幅方向の3箇所(幅方向に間隔をあけて離れた3箇所)とした。
それぞれの試験片において、保護フィルムを光学フィルムから剥離し、剥離強度を測定した。保護フィルムの剥離方向は180°方向とし、剥離の速度は300mm/minとし、試験片の長手方向の一端から他端に剥離が進むよう剥離した。剥離強度を検出する機器としては、高性能型デジタルフォースゲージZP−5N(イマダ社製)を使用した。3つの試験片についての測定結果の平均値を剥離強度として得た。
(保護フィルム剥離時の安定性)
製造した積層フィルム巻回体から、積層フィルムを引き出し、保護フィルムを、張力を制御した状態で連続的に剥離し、剥離の状態を観察した。保護フィルム剥離の張力が安定であった場合は安定と評価し、不安定になった場合は、ジッピング有と評価した。
(偏光板の製造方法)
[偏光子の製造]
厚み80μmのポリビニルアルコールフィルムを、0.3%のヨウ素水溶液中で染色した。その後、染色したポリビニルアルコールフィルムを4%のホウ酸水溶液及び2%のヨウ化カリウム水溶液中で5倍まで延伸した後、50℃で4分間乾燥させて、偏光子を製造した。
[接着液の製造]
アセトアセチル基を含むポリビニルアルコール(日本合成化学工業製「ゴーセファイマーZ410」)に水を加えて固形分3%に希釈し、接着液を製造した。
[実施例1]
(1−1.フィルム(A)の製造)
シクロオレフィン系重合体を含む樹脂(ガラス転移温度137℃;日本ゼオン社製「ZEONOR1420R」)のペレットを100℃で5時間乾燥した。その後、乾燥した樹脂のペレットを、単軸の押出し機に供給した。樹脂は押出し機内で溶融された後、ポリマーパイプ及びポリマーフィルターを経て、Tダイからキャスティングドラム上にシート状に押出されて、冷却された。これにより、厚み115μm、幅500mmのフィルム(A)を得た。
(1−2.材料Yの調製)
ポリウレタンの水分散体(商品名「アデカボンタイター」、アデカ社製、重合体Ypとして極性基を有するカーボネート系ポリウレタンを含む、ガラス転移温度−16℃)を100部(水分散体中のポリウレタンの重量としての量)取り、ここにエポキシ化合物(商品名「デナコールEX−521」、ナガセケムテックス社製)9部と、アジピン酸ジヒドラジド5部と、水とを配合して、材料Yを、固形分20%の液状の水系樹脂組成物として得た。
(1−3.光学フィルムの製造)
コロナ処理装置(春日電機社製)を用いて、出力500W、電極長1.35m、搬送速度15m/minの条件で、(1−1)で得たフィルム(A)の一方の表面に放電処理を施した。フィルム(A)の放電処理を施した側の表面に、(1−2)で得た材料Yを、乾燥膜厚が2.3μmになるようにロールコーターを用いて塗布した。その後、テンター式横延伸機を用いて、フィルム(A)の両端部をクリップで把持して、延伸温度155℃、延伸倍率4.6倍で連続的に横一軸延伸し、さらに左右両端の部分を裁断して除去した。これにより、塗布された材料Yを乾燥させ硬化させる工程と、フィルム(A)を延伸する工程とが同時に実施され、フィルム(A)の表面にB層が形成された。これにより、(A層)/(B層)の層構成を有し、A層厚み25μm、B層厚み0.5μm、幅1330mmの光学フィルム1を得た。
(1−4.積層フィルムの製造)
保護フィルムとして、ポリエチレンテレフタレートのフィルム(東洋紡社製「コスモシャインA4100」)を用意した。この保護フィルムは、片面のみに易接着処理が施されたフィルムであり、易接着面の算術平均粗さRaは0.003μm、反易接着面の算術平均粗さRaは0.003μmであった。本実施例では、反易接着面を保護フィルム正面として用いた。
また、本実施例では、光学フィルム1を、そのB層側の面を正面として用いた。
(1−3)で得た光学フィルム1と、保護フィルムとを、光学フィルム1の正面(B層側の面)と、保護フィルムの正面(反易接着面)とが向き合った状態で重ねて、1対のロールの狭隙間を通し、これらを圧着した。これにより、光学フィルム1と保護フィルムとを貼合し、(A層)/(B層)/(保護フィルム)の層構成を有する積層フィルムを得た。得られた積層フィルムは巻回して巻回体とした。
(1−5.積層フィルムの評価)
(1−4)で得られた積層フィルムについて、剥離強度を測定したところ、0.054N/50mmであった。保護フィルム剥離時の安定性は、安定と評価された。保護フィルムを剥離した後、光学フィルムの正面の算術平均粗さRaを測定したところ、0.002μmであり、良好な平滑性を有していた。
(1−6.偏光板の製造及び評価)
(1−4)で得られた積層フィルムと偏光子とを、接着液を介して、積層フィルムの光学フィルム側の表面と偏光子の一方の表面とが向き合った状態で重ねて、ロールラミネーターで貼合し、(偏光子)/(接着層)/(光学フィルム)/(保護フィルム)の層構成を有する多層フィルムを得た。
さらに、この多層フィルムと、トリアセチルセルロースフィルム(富士フィルム社製、商品名「フジタック」、厚さ60μm)を、接着液を介して、多層フィルムの偏光子側の表面とトリアセチルセルロースフィルムの一方の表面とが向き合った状態で重ねて、ロールラミネーターで貼合し、(トリアセチルセルロースフィルム)/(接着層)/(偏光子)/(接着層)/(光学フィルム)/(保護フィルム)の層構成を有する、偏光子付き積層体を得た。
さらに、この偏光子付き積層体から、保護フィルムを除去し、(トリアセチルセルロースフィルム)/(接着層)/(偏光子)/(接着層)/(光学フィルム)の層構成を有する偏光板を得た。
得られた偏光板を肉眼で観察したところ、光学フィルム表面の凹凸は確認されず、視認性は良好であった。
[実施例2]
実施例1の(1−4)において、保護フィルムを、ポリエチレンのフィルム(Tredegar Film Products Corporation製「Force Field 1035」)に変更した。この保護フィルムは、一方の面の算術平均粗さRaが0.16μm、他方の面の算術平均粗さRaが0.72μmであり、本実施例では、算術平均粗さRaが0.16μmの面を正面として用いた。
上記の事項以外は実施例1と同様にして、積層フィルム及び偏光板を得て評価した。剥離強度は0.015N/50mmであった。保護フィルム剥離時の安定性は、安定と評価された。保護フィルムを剥離した後、光学フィルムの正面の算術平均粗さRaを測定したところ、0.049μmであり、良好な平滑性を有していた。また、得られた偏光板を肉眼で観察したところ、光学フィルム表面の凹凸は確認されず、視認性は良好であった。
[実施例3]
(3−1.積層フィルムの製造)
保護フィルムとして、ポリエチレンのフィルム(東レフィルム加工製「トレテック」)を用意した。この保護フィルムは、一方の面の算術平均粗さRaが0.084μm、他方の面の算術平均粗さRaが0.32μmであり、本実施例では、算術平均粗さRaが0.084μmの面を正面として用いた。
また、本実施例では、実施例1の(1−3)で得た光学フィルム1を、そのA層側の面を正面として用いた。
実施例1の(1−3)で得た光学フィルム1と、保護フィルムとを、光学フィルム1の正面(A層側の面)と、保護フィルムの正面とが向き合った状態で重ねて、1対のロールの狭隙間を通し、これらを圧着した。これにより、光学フィルム1と保護フィルムとを貼合し、(保護フィルム)/(A層)/(B層)の層構成を有する積層フィルムを得た。得られた積層フィルムは巻回して巻回体とした。
(3−2.積層フィルムの評価)
(3−1)で得られた積層フィルムについて、剥離強度を測定したところ、0.036N/50mmであった。保護フィルム剥離時の安定性は、安定と評価された。保護フィルムを剥離した後、光学フィルムの正面の算術平均粗さRaを測定したところ、0.025μmであり、良好な平滑性を有していた。
(3−3.偏光板の製造及び評価)
積層フィルムとして、(1−4)で得られた積層フィルムに代えて、(3−1)で得られた積層フィルムを用いた他は、実施例1の(1−6)と同様にして、偏光板を製造して評価した。得られた偏光板を肉眼で観察したところ、光学フィルム表面の凹凸は確認されず、視認性は良好であった。
[実施例4]
(4−1.光学フィルムの製造)
実施例1の(1−3)において得られた光学フィルム1のA層側の表面に、コロナ処理装置(春日電機社製)を用いて、出力500W、電極長1.35m、搬送速度10m/minの条件で放電処理を施した。この放電処理を施した表面に、実施例1の(1−2)において得られた材料Yを、乾燥膜厚が0.5μmになるようにロールコーターを用いて塗布し、その後、90℃の乾燥オーブンに通した。これにより、もう1層のB層(以下において、先に形成せいたB層と区別してB2層という)を形成し、(B層)/(A層)/(B2層)の層構成を有する光学フィルム2を得た。
(4−2.積層フィルムの製造)
保護フィルムとして、ポリエチレンのフィルムポリエチレンのフィルム(Tredegar Film Products Corporation製「Force Field 1035」)を用意した。この保護フィルムは、一方の面の算術平均粗さRaが0.16μm、他方の面の算術平均粗さRaが0.72μmであり、本実施例では、算術平均粗さRaが0.16μmの面を正面として用いた。
また、本実施例では、(4−1)で得た光学フィルム2を、そのB層側の面を正面として用いた。
(4−1)で得た光学フィルム2と、保護フィルムとを、光学フィルム2の正面(B層側の面)と、保護フィルムの正面とが向き合った状態で重ねて、1対のロールの狭隙間を通し、これらを圧着した。これにより、光学フィルム2と保護フィルムとを貼合し、(保護フィルム)/(B層)/(A層)/(B2層)の層構成を有する積層フィルムを得た。得られた積層フィルムは巻回して巻回体とした。
(4−3.積層フィルムの評価)
(4−2)で得られた積層フィルムについて、剥離強度を測定したところ、0.016N/50mmであった。保護フィルム剥離時の安定性は、安定と評価された。保護フィルムを剥離した後、光学フィルムの正面の算術平均粗さRaを測定したところ、0.049μmであり、良好な平滑性を有していた。
(4−4.偏光板の製造及び評価)
積層フィルムとして、(1−4)で得られた積層フィルムに代えて、(4−2)で得られた積層フィルムを用いた他は、実施例1の(1−6)と同様にして、偏光板を製造して評価した。得られた偏光板を肉眼で観察したところ、光学フィルム表面の凹凸は確認されず、視認性は良好であった。
[実施例5]
(5−1.光学フィルムの製造)
実施例1の(1−2)において、ポリウレタンの水分散体を、商品名「スーパーフレックス」(第一工業製薬社製、重合体Ypとして、極性基を有するエステル系ポリウレタンを含む、ガラス転移温度41℃)に変更した。上記の事項以外は実施例1の(1−1)〜(1−3)と同様にして、光学フィルム3を得た。
(5−2.積層フィルムの製造)
保護フィルムとして、ポリエチレンのフィルム(Tredegar Film Products Corporation製「Force Field 1035」)を用意した。この保護フィルムは、一方の面の算術平均粗さRaが0.15μm、他方の面の算術平均粗さRaが0.82μmであり、本実施例では、算術平均粗さRaが0.15μmの面を正面として用いた。
また、本実施例では、(5−1)で得た光学フィルム3を、そのB層側の面を正面として用いた。
(5−1)で得た光学フィルム3と、保護フィルムとを、光学フィルム3の正面と、保護フィルムの正面とが向き合った状態で重ねて、1対のロールの狭隙間を通し、これらを圧着した。これにより、光学フィルム3と保護フィルムとを貼合し、(A層)/(B層)/(保護フィルム)の層構成を有する積層フィルムを得た。得られた積層フィルムは巻回して巻回体とした。
(5−3.積層フィルムの評価)
(5−2)で得られた積層フィルムについて、剥離強度を測定したところ、0.017N/50mmであった。保護フィルム剥離時の安定性は、安定と評価された。保護フィルムを剥離した後、光学フィルムの正面の算術平均粗さRaを測定したところ、0.045μmであり、良好な平滑性を有していた。
(5−4.偏光板の製造及び評価)
積層フィルムとして、(1−4)で得られた積層フィルムに代えて、(5−2)で得られた積層フィルムを用いた他は、実施例1の(1−6)と同様にして、偏光板を製造して評価した。得られた偏光板を肉眼で観察したところ、光学フィルム表面の凹凸は確認されず、視認性は良好であった。
[実施例6]
(6−1.光学フィルムの製造)
コロナ処理及び材料Yの塗布を実施しなかった他は、実施例1の(1−1)及び(1−3)と同様にして、延伸されたA層のみからなる光学フィルム4を得た。
(6−2.積層フィルムの製造)
保護フィルムとして、ポリエチレンのフィルム(東レフィルム加工製「トレテック」)を用意した。この保護フィルムは、一方の面の算術平均粗さRaが0.084μm、他方の面の算術平均粗さRaが0.32μmであり、本実施例では、算術平均粗さRaが0.084μmの面を正面として用いた。
また、本実施例では、(6−1)で得た光学フィルム4を用いた。
(6−1)で得た光学フィルム4と、保護フィルムとを、光学フィルム4の一方の面と、保護フィルムの正面とが向き合った状態で重ねて、1対のロールの狭隙間を通し、これらを圧着した。これにより、光学フィルム4と保護フィルムとを貼合し、(A層)/(保護フィルム)の層構成を有する積層フィルムを得た。得られた積層フィルムは巻回して巻回体とした。
(6−3.積層フィルムの評価)
(6−2)で得られた積層フィルムについて、剥離強度を測定したところ、0.036N/50mmであった。保護フィルム剥離時の安定性は、安定と評価された。保護フィルムを剥離した後、光学フィルムの正面の算術平均粗さRaを測定したところ、0.025μmであり、良好な平滑性を有していた。
(6−4.偏光板の製造及び評価)
積層フィルムとして、(1−4)で得られた積層フィルムに代えて、(6−2)で得られた積層フィルムを用いた他は、実施例1の(1−6)と同様にして、偏光板を製造して評価した。得られた偏光板を肉眼で観察したところ、光学フィルム表面の凹凸は確認されず、視認性は良好であった。
[比較例1]
(C1−1.積層フィルムの製造)
保護フィルムとして、ポリエチレンのフィルム(Tredegar Film Products Corporation製「Force Field 1035」)を用意した。この保護フィルムは、一方の面の算術平均粗さRaが0.21μm、他方の面の算術平均粗さRaが0.96μmであり、本比較例では、算術平均粗さRaが0.21μmの面を正面として用いた。
また、本比較例では、実施例1の(1−3)で得た光学フィルム1を、そのA層側の面を正面として用いた。
実施例1の(1−3)で得た光学フィルム1と、保護フィルムとを、光学フィルム1の正面(A層側の面)と、保護フィルムの正面とが向き合った状態で重ねて、1対のロールの狭隙間を通し、これらを圧着した。これにより、光学フィルム1と保護フィルムとを貼合し、(保護フィルム)/(A層)/(B層)の層構成を有する積層フィルムを得た。得られた積層フィルムは巻回して巻回体とした。
(C1−2.積層フィルムの評価)
(C1−1)で得られた積層フィルムについて、剥離強度を測定したところ、0.020N/50mmであった。保護フィルム剥離時の安定性は、安定と評価された。保護フィルムを剥離した後、光学フィルムの正面の算術平均粗さRaを測定したところ、0.056μmであり、凹凸形状が大きく平滑性が乏しかった。
(C1−3.偏光板の製造及び評価)
積層フィルムとして、(1−4)で得られた積層フィルムに代えて、(C1−2)で得られた積層フィルムを用いた他は、実施例1の(1−6)と同様にして、偏光板を製造して評価した。得られた偏光板を肉眼で観察したところ、光学フィルム表面の凹凸がムラとして見えてしまい、視認性は不良であった。
[比較例2]
実施例1の(1−4)において、保護フィルムを、ポリエチレンのフィルム(東レフィルム加工製「トレテック」)に変更した。この保護フィルムは、一方の面の算術平均粗さRaが0.09μm、他方の面の算術平均粗さRaが0.56μmであり、本比較例では、算術平均粗さRaが0.56μmの面を正面として用いた。
上記の事項以外は実施例1と同様にして、積層フィルムの製造を試みたが、光学フィルムと保護フィルムとの密着力が不足し、貼合を行うことができなかった。
[比較例3]
(C3−1.積層フィルムの製造)
保護フィルムとして、ポリエチレンのフィルム(東レフィルム加工製「トレテック」)を用意した。この保護フィルムは、一方の面の算術平均粗さRaが0.06μm、他方の面の算術平均粗さRaが0.4μmであり、本比較例では、算術平均粗さRaが0.4μmの面を正面として用いた。
また、本比較例では、実施例1の(1−3)で得た光学フィルム1を、そのA層側の面を正面として用いた。
実施例1の(1−3)で得た光学フィルム1と、保護フィルムとを、光学フィルム1の正面(A層側の面)と、保護フィルムの正面とが向き合った状態で重ねて、1対のロールの狭隙間を通し、これらを圧着し、積層フィルムの製造を試みたが、光学フィルムと保護フィルムとの密着力が不足し、貼合を行うことができなかった。
[比較例4]
実施例1の(1−4)において、保護フィルムを、ポリエチレンテレフタレートのフィルム(東洋紡社製「コスモシャインA4300」)に変更した。この保護フィルムは、両面に易接着処理が施されたフィルムであり、どちらの面も算術平均粗さRaは0.003μmであった。本比較例では、それらのうち一方の面を正面として用いた。
上記の事項以外は実施例1と同様にして、積層フィルム及び偏光板を得て評価した。剥離強度は0.210N/50mmであった。保護フィルム剥離時の安定性は、張力が安定せず、ジッピング有と評価された。保護フィルムを剥離した後、光学フィルムの正面の算術平均粗さRaを測定したところ、0.002μmであり、良好な平滑性を有していた。また、得られた偏光板を肉眼で観察したところ、表面の凹凸は確認されず、視認性は良好であった。
[比較例5]
(C5−1.光学フィルムの製造)
コロナ処理及び材料Yの塗布を実施しなかった他は、実施例1の(1−1)及び(1−3)と同様にして、延伸されたA層のみからなる光学フィルム4を得た。
(C5−2.積層フィルムの製造)
保護フィルムとして、ポリエチレンのフィルム(Tredegar Film Products Corporation製「Force Field 1035」)を用意した。この保護フィルムは、一方の面の算術平均粗さRaが0.23μm、他方の面の算術平均粗さRaが0.93μmであり、本実施例では、算術平均粗さRaが0.23μmの面を正面として用いた。
また、本実施例では、(C5−1)で得た光学フィルム4を用いた。
(C5−1)で得た光学フィルム4と、保護フィルムとを、光学フィルム4の一方の面と、保護フィルムの正面とが向き合った状態で重ねて、1対のロールの狭隙間を通し、これらを圧着した。これにより、光学フィルム4と保護フィルムとを貼合し、(A層)/(保護フィルム)の層構成を有する積層フィルムを得た。得られた積層フィルムは巻回して巻回体とした。
(C5−3.積層フィルムの評価)
(C5−2)で得られた積層フィルムについて、剥離強度を測定したところ、0.021N/50mmであった。保護フィルム剥離時の安定性は、安定と評価された。保護フィルムを剥離した後、光学フィルムの正面の算術平均粗さRaを測定したところ、0.059μmであり、凹凸形状が大きく平滑性が乏しかった。
(C5−4.偏光板の製造及び評価)
積層フィルムとして、(1−4)で得られた積層フィルムに代えて、(C5−2)で得られた積層フィルムを用いた他は、実施例1の(1−6)と同様にして、偏光板を製造して評価した。得られた偏光板を肉眼で観察したところ、光学フィルム表面の凹凸がムラとして見えてしまい、視認性は不良であった。
実施例及び比較例の結果を、以下の表1及び表2に示す。
Figure 0006586721
Figure 0006586721
1) 多層光学フィルムB層を構成する重合体Ypの種類。ポリウレタン1:商品名「アデカボンタイター」、アデカ社製。ポリウレタン2:商品名「スーパーフレックス」、第一工業製薬社製。
2) 保護フィルムの材質。PET1:ポリエチレンテレフタレート(片面のみ易接着面。反易接着面を正面として使用)。PET2:ポリエチレンテレフタレート(両面易接着面)。PE:ポリエチレン。
3) A層、B層、保護フィルムをそれぞれA、B、Pとして、積層フィルムの層構成を模式的に表示。
4) 積層フィルムから保護フィルムを除去した後の、光学フィルム正面のRa。
表1及び表2の結果から明らかな通り、保護フィルム正面の算術平均粗さRa及び剥離強度Fが本発明に規定する範囲内である実施例においては、積層フィルムから保護フィルムを除去した後の光学フィルム正面のRaが良好な低い値であり、且つ保護フィルム剥離時の安定性が高かった。
100:積層フィルム
111:光学フィルム
121:保護フィルム
211:偏光子
200:偏光子付き積層体
300:偏光板

Claims (8)

  1. 脂環式構造含有重合体樹脂の層及びポリウレタン樹脂の第1の層を有する光学フィルムと、保護フィルムとを、前記脂環式構造含有重合体樹脂の層、前記第1の層、及び前記保護フィルムの順で備え、巻回体である積層フィルムであって、
    前記保護フィルムの前記光学フィルム側の表面の算術平均粗さRa(μm)、及び前記光学フィルムと前記保護フィルムとの剥離強度F(N/50mm)が、式(1)及び式(2)を満たす、積層フィルム。
    0<Ra≦0.18 式(1)
    0.01≦F≦0.07 式(2)
  2. 前記光学フィルムが、更にポリウレタン樹脂の第2の層を有し、前記積層フィルムが、前記第2の層、前記脂環式構造含有重合体樹脂の層、前記第1の層、及び前記保護フィルムをこの順で備える、請求項1に記載の積層フィルム。
  3. 前記光学フィルムが、前記ポリウレタン樹脂の第1の及び/又はポリウレタン樹脂の第2の層として、材料Yを用いて構成される層を有し、
    前記材料Yは、ガラス転移温度が−55〜40℃のポリウレタンを含む請求項1又は2に記載の積層フィルム。
  4. 前記保護フィルムは、ポリオレフィン樹脂又はポリエステル樹脂の層を有するフィルムである、請求項1〜3のいずれか1項に記載の積層フィルム。
  5. 前記ポリウレタン樹脂が、カーボネート構造を骨格に有する請求項1〜のいずれか1項に記載の積層フィルム。
  6. 前記光学フィルムの厚さが30μm以下である請求項1〜のいずれか1項に記載の積層フィルム。
  7. 請求項1〜のいずれか1項に記載の積層フィルムの光学フィルム側の表面に偏光子を貼合し、偏光子付き積層体を得る工程と、
    前記偏光子付き積層体から保護フィルムを除去する工程とを含む、偏光板の製造方法。
  8. 脂環式構造含有重合体樹脂の層の表面に、ポリウレタン樹脂の第1の層を形成して光学フィルムを形成する工程、
    前記光学フィルムと保護フィルムとを貼合し、前記脂環式構造含有重合体樹脂の層、前記ポリウレタン樹脂の第1の層、前記保護フィルムをこの順で備える積層フィルムを得る工程、
    前記積層フィルムを巻回す工程、
    を含む、請求項1〜6のいずれか1項に記載の積層フィルムの製造方法。
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