TWI657929B - 積層體、透明導電性積層體及觸控面板 - Google Patents

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Abstract

本發明提供一種積層體，其係平滑性、透明性優異，且在正面方向及傾斜方向之任一方向上也具有優異的導電層圖案識別性抑制效果，因此本發明具有以下的構成。
一種積層體，其係具有於支撐基材之至少單側上自支撐基材側依第2層、第1層之順序積層的積層膜之積層體，該第1層與該第2層的折射率不同，且滿足以下之(A)~(D)全部；(A)n2>n1．．．(式1)
(B)Ra1≦5nm．．．(式2)
(C)Hz≦0.6%．．．(式3)
(D)θr1-θi1>1.0°．．．(式4)
n1：第1層的折射率、n2：第2層的折射率
Ra1：第1層-空氣層界面的算術平均粗度
Hz：積層體的霧度
θi1：第1層-空氣層界面的理論布魯斯特角(Brewster angle)
θr1：第1層-空氣層界面的實測布魯斯特角

Description

積層體、透明導電性積層體及觸控面板
本發明係關於一種在各種電子設備上所使用之觸控面板、在觸控面板的透明電極上所使用之透明導電性積層體、在透明導電性積層體的折射率調整上所使用之積層體。
近年來，靜電電容式的觸控面板搭載於行動電話、行動音樂終端等之各種行動設備的情形增加。如前述的靜電電容式之觸控面板中，具有在已圖案化的導體上積層有介電體層的構成，藉由以手指等的接觸，則可介由人體之靜電電容而接地。此時，在圖案化電極與接地點之間的電阻值產生變化，而可確認到位輸入(position input)。然而，使用以往的透明導電性薄膜時，在具有導電層的部分與除去的部分之光學特性的差異大，因此圖案化部分會被強調，且在液晶顯示器等之顯示體的前面進行配置時，有識別性下降的問題。
為了不強調透明導電性薄膜之透射率、色調(color tone)、甚至是導電層之圖案，於是有提案：使抗反射膜等所使用之折射率不同的層進行積層，而利用光之干涉的方法。亦即，有提案：在透明導電性薄膜層與基材薄膜之間設置折射率不同的層(也稱為折射率匹配 層、折射率調整層、光學機能層、光學調整層、抗反射層)，而利用光學干涉的方法。
專利文獻1中有記載「一種透明導電性積層薄膜，其特徵為：在包含透明塑膠薄膜的基材上，具有依該順序積層高折射率層、低折射率層及透明導電性薄膜層的構成，且高折射率層之折射率為1.70~2.50、膜厚為4~20nm的範圍，低折射率層之折射率為1.30~1.60、膜厚為20~50nm的範圍」。
專利文獻2中，作為將前述折射率調整層中之折射率不同的2個層以1次濕式塗布形成的例，記載有著重於基材或樹脂、粒子材料之表面能量的「一種塗布組成物，其係含有具備30mN/m以下的表面自由能量之可形成硬化層的第一樹脂成分、可與該第一樹脂成分硬化的第二樹脂成分、平均粒徑2nm以上100nm以下之第一無機微粒子、及至少一種有機溶劑的塗布組成物，第一樹脂成分及/或第二樹脂成分具有電離放射線硬化性官能基，該塗布組成物為經硬化而可形成硬化層者，該塗布組成物係在該硬化層中，該第一無機微粒子集中於該硬化層之下部，形成折射率不同的上層與下層」。
專利文獻3中，各別記載有著重於溶媒之相對乾燥速度，且分離粒子與樹脂成分的「一種積層體之製造方法，其係為具有基材與在其上具有多層構造的積層體之製造方法，在基材上或基材上形成的層上，塗布含有(A)鍵結具有聚合性不飽和基之有機化合物(Ab)而成的金屬氧化物粒子、(B)含有乙烯性不飽和基之含氟聚 合物、(C)快揮發溶劑及(D)慢揮發溶劑的紫外線硬化性樹脂組成物，形成塗膜，藉由自該1個塗膜使溶媒蒸發，而形成2個以上的層」。
又，專利文獻4中，作為著重於前述折射率不同之2個層的界面形狀之例，各別記載有「一種積層體，其係為於支撐基材之至少單面上，依以下順序具有折射率不同之第2層及第1層，且第1層含有粒子X(粒子X為至少包含無機粒子作為構成材料的粒子)，第2層含有粒子Y(粒子Y為至少包含無機粒子作為構成材料的粒子)之積層體，前述粒子X的無機粒子之數量平均粒徑(以下記載為DX)為5nm以上25nm以下，且滿足式1及式2」。
另一方面，利用前述光學干涉的透明導電性薄膜之透射率、色調、及導電層的圖案之強調抑制(亦即，使其難以看到導電層之圖案，抑制導電層圖案之識別性)方法，已知一般是使用透明導電性薄膜的法線方向之光路設計，且從傾斜方向窺視時，有得不到足夠的導電層圖案識別性抑制效果之情況。
專利文獻5中，作為傾斜方向之光學設計值著重於布魯斯特角度的P波與S波之透射光量的前述折射率調整層的相關例，記載有「一種偏光板保護薄膜，其係具有波長590nm的面內遲滯(Re)為500nm以上之聚合物薄膜與在該聚合物薄膜之至少其一表面上具有抗反射層之偏光板保護薄膜，其特徵為，前述抗反射層之在相對於進行透射前述聚合物薄膜內部之可見光全域之光 的布魯斯特角之反射率為5%以下；及具有該保護薄膜的偏光板」。
先前技術文獻 專利文獻
專利文獻1 日本特開2010-15861號公報
專利文獻2 日本特開2007-293313號公報
專利文獻3 日本特開2007-038199號公報
專利文獻4 國際公開第2013/183487號公報
專利文獻5 日本特開2009-014886號公報
以上的以往技術中有下述的課題。
就專利文獻1而言，在基材上積層有高折射率層、低折射率層及透明導電層，而當根據說明書時，低折射率層之積層方法為濺鍍，實施例所記載的折射率為1.46左右，經本案發明人確認後，以該折射率來說，透射光之著色減低效果或難以看到透明導電層之圖案的效果不足，以同構成而單純使折射率下降時，著色減低效果或難以看到透明導電層圖案之效果的面內均一性受損，亦即，有面內不均變大的問題。
專利文獻2、3為利用1次塗布而得到2個層的技術，為著重於構成2個平滑層之技術，在光自傾斜方向入射之際，光路長會偏離設計，故經本案發明人確認後可知，相對於自傾斜方向的識別之難以看到透明導電層之圖案的效果(亦即，傾斜方向之光學設計)不足。
專利文獻4為著重於利用同時形成2個層之技術的界面構造的技術，經本案發明人確認後可知，專利文獻4無法充分得到表面之粗度減低效果，因此無法得到足夠的霧度值，且無法獲得本發明視為課題之透明性。
又，專利文獻5中，作為對應於傾斜方向之光學設計的參數，有記載布魯斯特角，但將布魯斯特角作為材質之折射率決定的參數來記載，無法推及至以層厚度或界面形狀調整布魯斯特角的思考方向上。
先前技術文獻中，因為有如以上幾個問題，故本發明所欲解決的課題在於提供一種積層體，其平滑性、透明性優異，染色少，且在正面方向及傾斜方向之任一方向上也具有優異的導電層圖案識別性抑制效果，亦即，具有難以看到透明導電層之圖案的效果，且已減少光學特性之面內不均。
為了解決上述課題，本案發明人重複仔細研究的結果，進而完成以下的發明。亦即，本發明如下述。
(1)一種積層體，其係具有於支撐基材之至少單側上自支撐基材側依第2層、第1層之順序積層的積層膜之積層體，該第1層與該第2層的折射率不同，且滿足以下之(A)~(D)全部；(A)n2>n1．．．(式1)
(B)Ra1≦5nm．．．(式2)
(C)Hz≦0.6%．．．(式3)
(D)θr1-θi1>1.0°．．．(式4)
n1：第1層的折射率、n2：第2層的折射率
Ra1：第1層-空氣層界面的算術平均粗度
Hz：積層體的霧度
θi1：由第1層的折射率n1與空氣的折射率n0，根據以下式所算出之第1層-空氣層界面的理論布魯斯特角
tanθi1=n1/n0
θr1：在第1層-空氣層界面，p波反射率成為極小之實測布魯斯特角。
(2)如上述(1)記載之積層體，其中該積層膜係滿足以下之(E)~(G)；(E)0.2≦n2-n1．．．(式5)
(F)Tt≦150nm．．．(式6)
(G)55°≦θr1≦60°．．．(式7)
Tt：積層膜的膜厚。
(3)一種透明導電性積層體，其係於上述(1)或(2)記載之積層體上積層透明導電層而成。
(4)一種觸控面板，其係使用上述(3)記載之透明導電性積層體。
本發明的積層體，其平滑性、透明性優異，染色少，且在本發明的積層體之積層膜側的最外側表面形成透明導電層時，或是進一步將透明導電層蝕刻進行圖案化之際，相對於自正面方向及傾斜方向的識別，可賦予優異的導電層圖案識別性抑制效果、及光學特性之面內不均減低效果。
1、8、15‧‧‧積層體
2、9、16‧‧‧支撐基材
3、10、17‧‧‧積層膜
4、11、18‧‧‧第1層
5、12、19‧‧‧第2層
6、13、20‧‧‧構成粒子成分a的無機粒子
7、14、21‧‧‧構成粒子成分b的無機粒子
22‧‧‧底層基材-第2層的界面
23‧‧‧算出面內構成比率之任意的直線
24‧‧‧第1層與第2層的邊界線
25‧‧‧屬於第1層的線段
26‧‧‧屬於第2層的線段
圖1為本發明之積層體的1個較佳態樣之概略剖面圖。
圖2為習知技術之積層體的1個態樣之概略剖面圖。
圖3為習知技術之積層體的1個態樣之概略剖面圖。
圖4為自剖面圖算出的面內構成比率之概略圖。
[實施發明的形態]
本發明的積層體，其係具有於支撐基材之至少單側上自支撐基材側依第2層、第1層之順序積層的積層膜之積層體，且前述第1層與前述第2層的折射率不同。再者，在本說明書中，「積層體」係指在支撐基材之至少單側具有包含至少2層以上之積層膜的構件。
支撐基材為塑膠薄膜時，係稱為折射率調整薄膜、折射率匹配薄膜、抗反射薄膜。又，在支撐基材上形成的積層膜，根據其機能也稱為折射率匹配層、反射率調整層、光學機能層、光學調整層、或抗反射層。
在圖1表示本發明的積層體之1個較佳態樣。本態樣的積層體(1)，在支撐基材(2)之至少單側上積層積層膜(3)。積層膜(3)包含折射率不同的第1層(4)與第2層(5)。在此，積層膜(3)，其第1層與第2層之折射率不同，且第1層(4)之折射率低於第2層(5)。再者，將具有相對低的折射率之第1層稱為低折射率層，將具有相對高的折射率之第2層稱為高折射率層。
然後，本態樣的積層體，在支撐基材(2)之至少單側上自支撐基材側依以下順序具有第2層(5)、第1層(4)，第1層(4)含有粒子成分a(6)，第2層(5)含有粒子成分b(7)。在此，粒子成分a為至少包含無機粒子作為構成材料的粒子，而且為滿足後述之特定條件之粒子。又，粒子成分b為至少包含無機粒子作為構成材料的粒子。關於在本態樣中使用的支撐基材、粒子成分a、及粒子成分b，敘述於後。
又，作為本發明的積層體之較佳製造方法，可舉出藉由在支撐基材之至少單側上塗布1次包含下述成分的塗料組成物而同時形成前述第1層及第2層的方法。
A)一種粒子A，係為構成前述第1層的成分，將其表面藉由氟化合物A修飾
B)一種粒子B，係為構成前述第2層的成分，折射率較粒子A高
C)黏合劑原料C
再者，關於粒子A、氟化合物A、粒子B及黏合劑原料C，敘述於後。
其次，詳細說明本發明的積層體所具有之較佳物理特性。
本發明的積層體係為滿足以下之(A)~(D)全部的積層體。
(A)n2>n1．．．(式1)
(B)Ra1≦5nm．．．(式2)
(C)Hz≦0.6%．．．(式3)
(D)θr1-θi1>1.0°．．．(式4)
n1：第1層的折射率、n2：第2層的折射率
Ra1：第1層-空氣層界面的算術平均粗度
Hz：積層體的霧度
θi1：由第1層的折射率n1與空氣的折射率n0，根據以下式所算出之第1層-空氣層界面的理論布魯斯特角
tanθi1=n1/n0
θr1：在第1層-空氣層界面，p波反射率成為極小之實測布魯斯特角。
又，本發明的積層體，滿足以下之(E)~(G)全部較為理想。
(E)0.2≦n2-n1．．．(式5)
(F)Tt≦150nm．．．(式6)
(G)55°≦θr1≦60°．．．(式7)
Tt：積層膜的膜厚
作為控制前述(A)~(D)及前述(E)~(G)所示之特定物理特性之因子，可舉出「第1層與第2層之膜厚」、「第1層之折射率n1」及「第2層之折射率n2」、及起因於厚度方向之折射率變化的「第1層與第2層之界面形態」，藉由調整該等可進一步提升其效果。
本發明的積層體係滿足前述(A)。亦即，將本發明之積層體的第1層之折射率作為n1，將第2層之折射率作為n2時，n2>n1。
又，本發明的積層體滿足前述(E)之要件較為理想。亦即，第1層及第2層的折射率之差存在較佳的範圍，具體而言，(n2-n1)為0.2以上較佳，0.25以上更佳。(n2-n1)小於0.2時，在積層體之各層的反射光量減少，變得難以得到足夠的光學干涉效果，結果有時不易充分得到相對於自前述正面方向的識別之難以看到透明導電層之圖案的效果。關於各層的折射率之測定方法，敘述於後。另一方面，關於(n2-n1)之上限，並沒有特別限定，但在本發明的積層體之光學設計中，推定為大約為0.7以下。
[表面粗度]
本發明的積層體係滿足前述要件(B)。亦即，將第1層-空氣層界面之算術平均粗度當作為Ra1時，Ra1≦5nm。本發明的積層體如後述，透明性高較佳，且作為與透明性相關的因子，可舉出第1層-空氣層的界面及後述之第1層-第2層界面的形狀。關於第1層-空氣層的界面之形狀，平坦較佳，具體而言，基於JIS R 1683(2007)，算術平均粗度Ra1為5nm以下。前述算術平均粗度Ra1為2nm以下更佳。Ra1的值超過5nm時，透明性受損，甚至是超過30nm時，在本發明的積層體之積層膜側的最外側表面形成透明導電層之際，有引起其密合性之下降或電阻值之增加的情況。又，Ra1的值之下限並沒有特別限定，但難以得到完全平滑的面，0.1nm左右成為實際的下限。關於算術平均粗度Ra1之測定方法，敘述於後。
[透明性]
本發明的積層體係滿足前述(C)。亦即，將積層體的霧度當作為Hz時，Hz≦0.6%。作為積層體，欲顯示良好的性質，透明性高較為理想。透明性低的話，作為圖像顯示裝置使用時，有圖像彩度之下降等導致的畫質下降產生之情況。本發明的積層體之透明性的評價中，可使用霧度、及全光線透射率。再者，作為對霧度、及全光線透射率造成影響的因子，可舉出「第1層與空氣層的界面之形態」及「第1層與第2層的界面之形態」。
霧度為JIS-K 7136(2000)所規定的透明性材料之混濁度指標。霧度越小表示透明性越高。另一方面，霧度大係暗示積層體之表面、或界面之形狀粗糙，且形成容易使光散射的形狀。本發明的積層體之霧度(Hz)為0.6%以下，較佳為0.5%以下，更佳為0.4%以下。從透明性之觀點，霧度之值越小越好，但難以成為0%，故實際下限值為0.01%左右。霧度較0.6%更大的話，除了圖像識別性之下降產生的可能性變高以外，無法得到如本發明的積層體賦予理想的折射率變化之界面形狀，且相對於自傾斜方向之識別，無法得到優異的透射光之著色減低效果或難以看到透明導電層之圖案的效果。
全光線透射率為JIS-K 7361-1(1997)所規定之透明性材料的光透射性之指標，越高表示透明性越高。作為積層體之全光線透射率，較佳為85%以上，更佳為89%以上，特佳為91%以上。實際上限值被認為是94%左右。全光線透射率較85%小的話，有圖像變暗的情況。
[布魯斯特角]
本發明的積層體係滿足前述(D)。亦即，將理論布魯斯特角作為θi1，將實測布魯斯特角作為θr1時，θr1-θi1>1.0°。
布魯斯特角相當於JIS Z 8120(2001)所記載之偏光角的值，係指在折射率有差異之兩個物質的界面所產生之反射光中，在入射面於平行方向(亦即，與作為反射面之本發明的積層體之表面為垂直之方向)具有電場成分之電磁波、P偏光之反射率成為0的入射角。在該角度中，非偏光入射時，P偏光成分沒有在界面反射而全部透射，另一方面，反射光中產生僅包含S偏光的完全偏光。如前述的反射率之依存性係如菲涅耳之式所載，布魯斯特角係使用形成界面之兩個物質的折射率差，記載如下式。
tanθi=nk/nl
nk：透射光通過的物質之折射率
nl：入射光及反射光通過的物質之折射率
特別是入射光自空氣中入射至積層體之最外側表面，亦即，入射至第1層時之布魯斯特角係滿足以下的式。
tanθi1=n1/n0
θi1：由第1層的折射率n1與空氣的折射率n0，根據以下式所算出之第1層-空氣層界面的理論布魯斯特角
在本發明中，將基於該等菲涅耳的式算出之理論的布魯斯特角記載為理論布魯斯特角θi，特別是將第1層-空氣層之界面的理論布魯斯特角記載為θi1。
另一方面，本案發明人對於作為本發明的課題之相對於自傾斜方向的識別之透明導電層的蝕刻圖案之強調實施分析時，發現在前述透明導電層部分與利用蝕刻使前述折射率調整層成為露出的部分之前述理論布魯斯特角相近的角度中，圖案的強調之效果顯著地表現出。亦即，在布魯斯特角中，藉由使一方的部分之p偏光的反射強度變弱，可相對地強調另一方的部分之反射，此被認為與自傾斜方向相對於識別的圖案之強調有關連。
再者，本案發明人發現：如本發明的積層體，構成有折射率差之界面的物質之垂直面方向之厚度(亦即，本發明的積層體之層厚度)相較於電磁波之波長而非常小時，在前述的理論布魯斯特角之值與實際的測定結果之間會產生偏差。在本發明中，將具備與如前述的理論布魯斯特角之偏差的現實之布魯斯特角的值記載為實測布魯斯特角θr，特別是將空氣-第1層之界面的實測布魯斯特角記載為θr1。再者，關於實測布魯斯特角θr1之測定方法，敘述於後。
本發明的積層體之特徵在於調整實測布魯斯特角。又，在理論布魯斯特角與實測布魯斯特角之間存在較佳的關係，具體而言，實測布魯斯特角成為較理論布魯斯特角更高的角度。亦即，θr1>θi1。又，(θr1-θi1)的值較1.0°更大。前述(θr1-θi1)的值成為1.5°以上更佳，成為3.0°以上特佳。實測布魯斯特角的值與理論布魯斯特角的值之差成為1.0°以下的情況中，在本發明的積層 體之積層膜側的最外側表面形成透明導電層時，或是在進一步將透明導電層蝕刻進行圖案化之際，無法充分得到相對於自傾斜方向的識別之難以看到透明導電層之圖案的效果。另一方面，關於實測布魯斯特角與理論布魯斯特角之差的值之上限並沒有特別限定，但在本發明的積層體之光學設計中大約為10°以下。
再者，本發明的積層體滿足前述(G)之要件較為理想。亦即，在實測布魯斯特角之值上也存在較佳的範圍，具體而言，55°以上60°以下較佳。不滿50°時、或是超過60°時，自目標的光學設計之偏離產生，結果為在本發明的積層體之積層膜側的最外側表面形成透明導電層時，或是在進一步將透明導電層蝕刻進行圖案化之際，有時不易充分得到相對於自正面方向及傾斜方向的識別之難以看到透明導電層之圖案的效果。
另一方面，本發明的積層體滿足前述(F)較為理想。亦即，在積層膜的膜厚(Tt、第1層與第2層的膜厚之和)上存在較佳的範圍，具體而言，150nm以下較佳，100nm以下更佳。第1層與第2層的膜厚之和超過150nm時，作為決定上述實測布魯斯特角的值之因子，由於重點為第1層，故在本發明的積層體之積層膜側的最外側表面形成透明導電層時，或是在進一步將透明導電層蝕刻進行圖案化之際，有時不易充分得到將相對於自傾斜方向的識別之難以看到透明導電層之圖案的效果抑制之效果。另一方面，從實測布魯斯特角的調整之觀點，關於積層膜的膜厚(亦即，第1層與第2層的膜厚之 和)之下限並沒有特別限定，但在本發明的積層體之光學設計中推測大約為30nm以上。
[界面粗度]
關於本發明的積層體之第1層-第2層界面的形狀，相較於平滑，彼此的成分相互入侵之粗製狀態者，更可增大前述實測布魯斯特角與理論布魯斯特角的值之差。此係起因於由於第1層及第2層之成分相互入侵，而在積層體之界面附近形成折射率梯度，具體而言，由於在第1層中存在第2層成分入侵的部分而引起局部的折射率增加，在實測布魯斯特角之值上產生變化。
具有如前述之折射率梯度的積層體之形成方法，並沒有特別限定，但從生產性之觀點，利用藉由塗布1次塗料組成物而同時形成前述第1層及第2層的方法形成較為理想。上述方法所作成之積層體的折射率梯度估計係作為由平行於底層基材的表面之面所切出的積層體界面之意指相互入侵的第1層與第2層佔有的區域之比率的「面內構成比率」之變化。關於「面內構成比率」的算出方法之詳細，敘述於後。
又，此時，在第1層或第2層之面內構成比率均不滿90%之「第1層與第2層相互入侵的區域」中存在較佳的厚度範圍。具體而言，第1層與第2層相互入侵的區域之厚度(Tm)為10nm以上較佳，30nm以上更佳，40nm以上特佳。前述第1層與第2層相互入侵的區域之厚度小於10nm時，不會在前述實測布魯斯特角與理論布魯斯特角之值產生足夠的差，有時不易充分得到 相對於自傾斜方向的識別之難以看到透明導電層之圖案的效果。又，關於第1層與第2層相互入侵的區域之厚度的上限，與積層膜之膜厚(亦即，第1層與第2層的膜厚之和)有關，具體而言，超出以下的式9之值時，亦即變得較積層膜的膜厚之90%更大時，根據光學設計之偏差，有相對於自正面方向之識別，透射光之著色減低效果或難以看到透明導電層之圖案的效果減低的情況。
10nm≦Tm．．．(式8)第1層與第2層相互入侵的區域之厚度下限
Tm≦0.9×Tt．．．(式9)第1層與第2層相互入侵的區域之厚度上限。
又，關於界面之粗度，如前述，作為規定其形狀的參數，在霧度存在較佳的範圍。霧度之上升，在有折射率差之表面及界面中起因於光散射而產生。具體而言，其凹凸形狀在光之波長，亦即，數100nm級的間隔起伏係為原因。在本發明中，第1層與第2層之界面，如前述，彼此的成分相互入侵之粗製狀態者較佳，但該相互入侵的構造在不引起光散射，亦即，不引起霧度之增加的程度，形成細微的混合狀態較佳。
再者，關於第1層-空氣層之界面及第1層-第2層界面之形狀，係為同時滿足前述表面之算術平均粗度Ra或實測布魯斯特角與理論布魯斯特角的值之構造。通常界面形狀變得過粗糙時，前述表面的算術平均粗度Ra變得過大，有無法得到足夠透明性之情況。此時，藉由在支撐基材上塗布1次塗料組成物而同時形成 前述第1層及第2層，則相對於界面形狀之粗度之下，可將表面形狀之粗度抑制為較低值。亦即，如圖2所示，再將第2層(12)與第1層(11)依該順序塗布並作成積層膜時，以反映第2層(12)之表面形狀的形態，在第1層(11)之表面上也產生同程度的粗糙，但圖1之本發明的積層體之較佳構成中，第1層(4)的表面形狀之粗度係相對於第2層(5)之界面形狀的粗度變低。
另一方面，如圖3所示，當第1層(18)與第2層(19)之間的界面形狀為平滑時，不會在前述實測布魯斯特角與理論布魯斯特角之值產生足夠的差，有時不易充分得到相對於自傾斜方向的識別之難以看到透明導電層之圖案的效果。再者，關於第1層-第2層界面的形狀之測定方法，敘述於後。
其次，對於本發明的積層體之較佳構成材料進行說明。
[粒子]
前述無機粒子的「種類」係根據構成無機粒子的元素之種類決定。例如，在氧化鈦(TiO2)與將氧化鈦之氧的一部分以作為陰離子之氮取代的氮摻雜氧化鈦(TiO2-xNx)中，因為構成無機粒子之元素不同，所以為不同種類的無機粒子。又，只要為相同元素，例如為僅包含Zn、O的無機粒子(ZnO)，即使其粒徑為不同的粒子存在有多個，而且Zn與O之組成比為不同，該等也為相同種類的無機粒子。又，即使氧化數不同的Zn粒子存在有多個，只要構成粒子的元素相同(該例中，只要Zn以外的元素全部相同)，該等也為相同種類的粒子。
[粒子A、粒子成分a]
在本發明的積層體之較佳的製造方法中，第1層所含有的粒子成分a為來自於塗料組成物中之粒子A的成分。亦即，塗料組成物中的粒子A，在塗布/乾燥過程中，於黏合劑原料、或氟聚合物a、及粒子A之間進行反應而改變形態等，成為粒子成分a。另一方面，作為粒子A，在使用不具有與黏合劑原料或氟聚合物a反應的部分之粒子時、或粒子A在塗布/乾燥過程中未與黏合劑原料或氟聚合物a反應時，粒子A與粒子成分a係完全相同。再者，粒子A具有來自於氟聚合物a的部分，因此在支撐基材上進行乾燥之際，通常與黏合劑原料進行反應。
粒子A為具有無機粒子與來自於氟聚合物a的部分之粒子。然後，作為粒子A的無機粒子，選自於Si、Na、K、Ca、Mg及Al的半金屬元素或金屬元素之氧化物、氮化物、硼化物、氟化物、碳酸鹽、硫酸鹽較佳，二氧化矽粒子(SiO2)、鹼金屬氟化物類(NaF、KF、NaAlF6等)、及鹼土類金屬氟化物(CaF2、MgF2等)更佳，從耐久性、折射率、成本等之觀點，二氧化矽粒子特佳。
該二氧化矽粒子係指包含含有矽化合物、或無機、有機矽化合物之聚合(縮合)物中之任一者的組成物之粒子，為作為一般例由SiO2等之矽氧化物導出的粒子之總稱。該二氧化矽粒子之表面，從對水或有機溶媒之分散安定性的觀點，亦可與來自於前述氟聚合物a的部分分開，另外實施局部表面處理。關於該部分的表面處理，並沒有特別限定，但就二氧化矽粒子的表面狀態 來說，在水或醇之極性溶媒中，包含可安定地分散的程度之親水部位更佳。又，適於構成粒子A的無機粒子之形狀，並沒有特別限定，但在第1層之充填狀態會對積層體之表面形狀造成影響，因此形成本發明的積層體之表面形狀為接近球的形狀更佳。
接著，對於在本發明的積層體之較佳的製造方法中使用之塗料組成物中的粒子A與氟聚合物a進行說明。粒子A不僅具有無機粒子，且具有來自於氟聚合物a的部分較佳。因此，粒子A，藉由使前述無機粒子，特別是使二氧化矽等之無機粒子與氟聚合物a反應等，導入來自於氟聚合物a的成分而可得到。
在此，導入係指來自於氟聚合物a的部分化學鍵結(包含共價鍵結、氫鍵結、離子鍵結、凡得瓦力鍵結、疏水鍵結等)或吸附(包含物理吸附、化學吸附)於無機粒子的狀態，特別是共價鍵結較為理想。
再者，氟聚合物a，如先前敘述，係為至少包含後述的來自於氟化合物A之部分與來自於化合物D之部分的聚合物。亦即，氟聚合物a為藉由使氟化合物A與化合物D反應而得到的聚合物。
其次，對於氟化合物A進行說明。氟化合物A為以下通式(1)所示的化合物。
氟化合物A：R1-R2-Rf1．．．通式(1)
在通式(1)中，Rf1表示氟烷基、氟氧烷基、氟烯基、氟烷二基、氟氧烷二基。氟烷基、氟氧烷基、氟烯基、氟烷二基、氟氧烷二基係為烷基、氧烷基、烯基、烷二 基、氧烷二基具備之氫的一部分、或是全部被取代為氟的取代基，且均為主要由氟原子與碳原子構成的取代基，在構造中可為分支，亦可形成該等之部分多個連結的二聚物、三聚物、寡聚物、聚合物構造。
在通式(1)中，R1表示反應性部分。反應性部分係指利用熱或光等之外部能量而與其他成分反應的部分。作為反應性部分，從反應性之觀點，可舉出烷氧矽烷基、及烷氧矽烷基經水解的矽烷醇基、或羧基、羥基、環氧基、乙烯基、烯丙基、丙烯醯基、甲基丙烯醯基、丙烯醯氧基、甲基丙烯醯氧基等，從反應性、處理性之觀點，烷氧矽烷基、矽烷醚基或矽烷醇基、或環氧基、丙烯醯基、甲基丙烯醯基、丙烯醯氧基、甲基丙烯醯氧基較佳。
在通式(1)中，R2表示單鍵、或1個以上的羥基或1個以上的RC(=O)O-基(R為碳數1~6的烴基)可被取代，也可分支之前述RC(=O)O-基以外的碳數為1~8之2價或3價的烴基。但是，Rf1為氟烷基、氟氧烷基、氟烯基時，R2為2價，Rf1為氟烷二基、氟氧烷二基時，R2為3價。
作為氟化合物A之具體例，可舉出3,3,3-三氟丙基三甲氧矽烷、3,3,3-三氟丙基三乙氧矽烷、3,3,3-三氟丙基三異丙氧基矽烷、3,3,3-三氟丙基三氯矽烷、3,3,3-三氟丙基三異氰酸酯矽烷、2-全氟辛基乙基三甲氧矽烷、2-全氟辛基乙基三乙氧矽烷、2-全氟辛基乙基三異丙氧基矽烷、2-全氟辛基乙基三氯矽烷、2-全氟辛基 異氰酸酯矽烷、2,2,2-三氟乙基丙烯酸酯、2,2,3,3,3-五氟丙基丙烯酸酯、2-全氟丁基乙基丙烯酸酯、3-全氟丁基-2-羥丙基丙烯酸酯、2-全氟己基乙基丙烯酸酯、3-全氟己基-2-羥丙基丙烯酸酯、2-全氟辛基乙基丙烯酸酯、3-全氟辛基-2-羥丙基丙烯酸酯、2-全氟癸基乙基丙烯酸酯、2-全氟-3-甲基丁基乙基丙烯酸酯、3-全氟-3-甲氧丁基-2-羥丙基丙烯酸酯、2-全氟-5-甲基己基乙基丙烯酸酯、3-全氟-5-甲基己基-2-羥丙基丙烯酸酯、2-全氟-7-甲基辛基-2-羥丙基丙烯酸酯、四氟丙基丙烯酸酯、八氟戊基丙烯酸酯、十二氟庚基丙烯酸酯、十六氟壬基丙烯酸酯、六氟丁基丙烯酸酯、2,2,2-三氟乙基甲基丙烯酸酯、2,2,3,3,3-五氟丙基甲基丙烯酸酯、2-全氟丁基乙基甲基丙烯酸酯、3-全氟丁基-2-羥丙基甲基丙烯酸酯、2-全氟辛基乙基甲基丙烯酸酯、3-全氟辛基-2-羥丙基甲基丙烯酸酯、2-全氟癸基乙基甲基丙烯酸酯、2-全氟-3-甲基丁基乙基甲基丙烯酸酯、3-全氟-3-甲基丁基-2-羥丙基甲基丙烯酸酯、2-全氟-5-甲基己基乙基甲基丙烯酸酯、3-全氟-5-甲基己基-2-羥丙基甲基丙烯酸酯、2-全氟-7-甲基辛基乙基甲基丙烯酸酯、3-全氟-7-甲基辛基乙基甲基丙烯酸酯、四氟丙基甲基丙烯酸酯、八氟戊基甲基丙烯酸酯、十二氟庚基甲基丙烯酸酯、十六氟壬基甲基丙烯酸酯、1-三氟甲基三氟乙基甲基丙烯酸酯、六氟丁基甲基丙烯酸酯、三丙烯醯基-十七氟壬烯基-季戊四醇等。
再者，從沒有可藉由在環境中之分解、或代謝而產生後述PFOA之可能性等環境影響之方面來說，氟化合物A較佳為通式(1)所示的化合物，且為通式(2)所示的化合物更佳。
Rf2-X-OCOCH=CH2．．．通式(2)
在此，Rf2意指碳數4~6中之任一者的直鏈狀之全氟烷基。X意指碳數4~8中之任一者的伸烷基。通式(2)所示的氟化合物A，更佳的是Rf2為碳數6之直鏈狀全氟烷基，X為碳數6之直鏈狀伸烷基較為理想。
該PFOA為PerFluoroOctanoic Acid之縮寫，該物質，根據最近之研究結果(EPA報告“PRELIMINARY RISK ASSESSMENT OF THE DEVELOPMENTAL TOXICITY ASSOCIATED WITH EXPOSURE TO PERFLUOROOCTANOIC ACID AND ITS SALTS”(http：//www.epa.gov/opptintr/pfoa/pfoara.pdf))等，已可清楚得知對於環境之負荷的疑慮，且2003年4月14日EPA(美國環境保護廳)發表強化科學調查。
另一方面，根據Federal Register(FRVol.68,No.73/April 16,2003[FRL-2303-8])(http：//www.epa.gov/opptintr/pfoa/pfoafr.pdf)或EPA Environmental News FOR RELEASE：MONDAY APRIL 14,2003 EPA INTENSIFIES SCIENTIFIC INVESTIGATION OF A CHEMICAL PROCESSING AID(http：//www.epa.gov/opptintr/pfoa/pfoaprs.pdf)或EPA OPPT FACT SHEET April 14,2003(http： //www.epa.gov/opptintr/pfoa/pfoafacts.pdf)係公布藉由具有PerFluoroOctanoic部分之「短鏈聚合物(telomer)」進行分解或代謝，則有形成PFOA的可能性，因而在氟化合物之使用上要求不包含具有PerFluoroOctanoic部分的「短鏈聚合物」。
滿足通式(1)與通式(2)雙方的氟化合物A之具體例，有4-全氟丁基-丁基丙烯酸酯、4-全氟己基-丁基丙烯酸酯、6-全氟丁基-己基丙烯酸酯、6-全氟己基-己基丙烯酸酯、8-全氟丁基-辛基丙烯酸酯、8-全氟己基-辛基丙烯酸酯等。
其次，對於化合物D進行說明。化合物D為前述通式(3)所示的化合物。
R3-R4-SiR5 n1(OR6)3-n1．．．通式(3)
在此R3意指反應性部分，其定義與R1為相同。R4意指碳數1至6中之任一者的伸烷基、或是碳數1至6中之任一者的伸烷醚基。R5、R6表示氫、或碳數1至4中之任一者的烷基。n1意指0至2的整數。
該化合物D的具體例，可舉出包含丙烯醯氧乙基三甲氧矽烷、丙烯醯氧丙基三甲氧矽烷、丙烯醯氧丁基三甲氧矽烷、丙烯醯氧戊基三甲氧矽烷、丙烯醯氧己基三甲氧矽烷、丙烯醯氧庚基三甲氧矽烷、甲基丙烯醯氧乙基三甲氧矽烷、甲基丙烯醯氧丙基三甲氧矽烷、甲基丙烯醯氧丁基三甲氧矽烷、甲基丙烯醯氧己基三甲氧矽烷、甲基丙烯醯氧庚基三甲氧矽烷、甲基丙烯醯氧丙基甲基二甲氧矽烷、甲基丙烯醯氧丙基甲基二甲氧矽烷及 該等化合物中之甲氧基取代為其他的烷氧基及羥基之化合物者等。
接著，對於氟聚合物a之製造方法、及利用使氟聚合物a與無機粒子反應的粒子A之製造方法進行說明。
氟聚合物a之製造方法、及粒子A之製造方法並沒有特別限定，亦可為任何以下1)或2)之方法、或是兩者之組合。
1)將氟化合物A與化合物D聚合，製作氟聚合物a，進行使該氟聚合物a與無機粒子反應的操作，得到粒子A。
2)藉由在無機粒子之存在下，將氟化合物A與化合物D聚合，得到氟聚合物a，可一邊聚合氟聚合物a，一邊同時藉由使氟聚合物a之一部分與無機粒子反應，也得到粒子A。
1)的情況中，將氟化合物A之反應性部分與化合物D之反應性部分，利用配合反應性部分之構造的方法進行聚合。例如，氟化合物A之反應性部分與化合物D之反應性部分同時為(甲基)丙烯酸酯時，使用自由基聚合起始劑進行自由基加成聚合，氟化合物A之反應性部分與化合物D之反應性部分同時為烷氧矽烷基時，使用酸或鹼觸媒進行矽烷醇縮合反應。
其次，將氟聚合物a導入至無機粒子。具體而言，使用來自於氟聚合物a中之化合物D的部分所具有之可與粒子反應的部分(亦即，意指通式(3)中的 「Si-OR6」)，適當視需要添加觸媒，或視需要使用機械性分散等之程序，導入至粒子之表面。
2)的情況中，在無機粒子之存在下，需要將氟化合物A與化合物D聚合，但關於各別的添加順序，並沒有特別限定。亦即，可在使無機粒子與化合物D反應之後，添加氟化合物A進行反應，也可一邊使氟化合物A與化合物D反應，一邊同時與無機粒子反應。
[粒子B、粒子成分b]
本發明的積層體中之第2層所含有的粒子成分b為來自於塗料組成物中之粒子B的成分。亦即，塗料組成物中之粒子B，在塗布/乾燥過程中，以黏合劑原料或粒子B彼此進行反應而改變形態等，成為粒子成分b。又，作為粒子B，於使用在其表面未具有反應性部分的粒子時、或粒子B未與黏合劑原料反應時，粒子B與粒子成分b係完全相同。
構成粒子B的無機粒子係為與構成粒子A的無機粒子為不同種類的無機粒子較佳。又，構成粒子B的無機粒子相較於構成粒子A的無機粒子，為折射率更高的無機粒子較佳。構成粒子B的無機粒子並沒有特別限定，但金屬元素、半金屬元素的氧化物、氮化物、硼化物、碳酸鹽、硫酸鹽較佳，選自於包含Ga、Zr、Ti、Al、In、Zn、Sb、Sn、及Ce的群組中之至少一種元素之氧化物粒子更佳。
構成粒子B的無機粒子，具體而言，為選自於氧化鋯(ZrO2)、氧化鈦(TiO2)、氧化鋁(Al2O3)、氧化銦 (In2O3)、氧化鋅(ZnO)、氧化錫(SnO2)、氧化銻(Sb2O3)、及銦錫氧化物中之至少一種、或該等之間的固溶體、及取代一部分元素、或是一部分元素入侵至格子間，一部分元素有缺損的固溶體、或者是種類不同的無機粒子所接合的無機粒子。粒子B，特佳為含有磷之氧化錫(PTO)、含有銻之氧化錫(ATO)、含有鎵之氧化鋅(GZO)或氧化鈦(TiO2)、氧化鋯(ZrO2)。
構成粒子B之無機粒子的折射率，較佳為1.55~2.80，更佳為1.58~2.50。當構成粒子B的無機粒子之折射率變得較1.55小時，包含得到的積層體之粒子成分b的第2層之折射率下降，與包含粒子成分a的第1層之折射率差變小，因此有透射光之著色抑制效果、或難以看到透明導電層之圖案的效果變不足夠的情況，當構成粒子B的無機粒子之折射率變得較2.80大時，與在第1層上形成的透明導電層之折射率差、及第2層與支撐基材之折射率差上升，因此同樣地有透射光之著色抑制效果、或難以看到透明導電層之圖案的效果變不足夠的情況。
再者，在本發明的積層體之較佳製造方法中，於構成粒子A的無機粒子為二氧化矽粒子時，構成粒子B的無機粒子為折射率高於該二氧化矽粒子的無機粒子特佳，作為如前述之折射率高的無機粒子，宜使用數量平均粒子徑為50nm以下，且折射率為1.55~2.80之無機化合物。作為如前述之無機化合物的具體例，可舉出銻氧化物、含有銻之氧化鋅、含有銻之氧化錫(ATO)、 含有磷之氧化錫(PTO)、含有鎵之氧化鋅(GZO)、氧化鋯(ZrO2)、及/或氧化鈦(TiO2)，特別是折射率高的氧化鈦、氧化鋯更佳。
[黏合劑原料C、黏合劑成分c]
本發明的積層體之較佳製造方法之積層膜係包含黏合劑成分c較為理想。又，本發明的積層體之較佳製造方法所使用之塗料組成物係包含黏合劑原料C較為理想。在此，於本發明的積層體之較佳的製造方法中，將塗料組成物中所含的黏合劑表示為「黏合劑原料C」，將積層體之積層膜中所含的黏合劑表示為「黏合劑成分c」，但也有黏合劑原料C直接作為黏合劑成分c存在的情況(亦即，也包含塗料組成物之黏合劑原料C維持其形態而作為積層膜中之黏合劑成分c存在的態樣)。
作為黏合劑原料C，並沒有特別限定，但從製造性之觀點，利用熱及/或活性能量線等而可硬化的黏合劑原料C較佳，黏合劑原料C可為一種，亦可混合二種以上而使用。又，從將粒子保持於膜中的觀點，具有前述反應性部位的黏合劑原料C較佳，亦即，在分子中具有烷氧矽烷基及烷氧矽烷基經水解的矽烷醇基、或羧基、羥基、環氧基、乙烯基、烯丙基、丙烯醯基、甲基丙烯醯基、丙烯醯氧基、甲基丙烯醯氧基的黏合劑原料C較佳。再者，在黏合劑原料C之前述反應性部位上存在較佳的範圍。具體而言，每一單元構成具有平均2以上15以下的反應性部位較佳，具有平均6以上15以下的反應性部位更佳。又，混合多種黏合劑原料C時，其 反應性部位數量之質量換算平均值在前述範圍較佳，作為特佳的形態，可舉出每一單元構成具有平均2以上8以下之反應性部位的黏合劑原料C1與每一單元構成具有平均9以上15以下之反應性部位的黏合劑原料C2之混合。黏合劑原料C之每一單元構成的反應性部位數量之平均值小於2或超過15時，無法得到理想的表面、界面之構造，且有時得不到足夠的透明性或相對於自傾斜方向的識別之難以看到透明導電層之圖案的效果。該要因雖不明確，但推測是反應性部位具有已極化過的部位，所以在塗劑中進行調整各粒子成分之相溶性的作用。
作為如前述的黏合劑原料C，在成分中使用多官能(甲基)丙烯酸酯較佳，以下例示代表例。作為在1分子中具有2個以上之(甲基)丙烯醯氧基的多官能丙烯酸酯及其改性聚合物、寡聚物、具體的例，可使用季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三丙烯酸酯六亞甲基二異氰酸酯胺基甲酸酯聚合物等。該等之單體，可使用1種或混合2種以上而使用。作為市售的多官能丙烯酸系組成物，可舉出三菱麗陽股份有限公司；(商品名“DIABEAM”系列等)、長瀨產業股份有限公司；(商品名“DENACOL”系列等)、新中村股份有限公司；(商品名“NK酯”系列等)、DIC股份有限公司；(商品名“UNIDIC”等)、東亞合成化學工業股份有限公司； (“ARONIX”系列等)、日油股份有限公司；(“BLEMMER”系列等)、日本化薬股份有限公司；(商品名“KAYARAD”系列等)、共榮社化學股份有限公司；(商品名“LIGHT ESTER”系列等)等，可利用該等之製品。
[有機溶媒]
本發明的積層體之較佳製造方法所使用之塗料組成物，除了前述氟聚合物a、粒子A、粒子B、黏合劑原料C以外，包含有機溶媒較為理想。藉由包含有機溶媒，可在塗布時賦予適當的流動性而使塗膜之膜厚均勻，而且可確保粒子之運動性，因此表面移行性變好，可展現良好的特性，因而較為理想。
有機溶媒，只要氟聚合物a、粒子A、粒子B、黏合劑原料C均勻地溶解、或是分散的話，則沒有特別限定，但通常在常壓下之沸點為250℃以下之有機溶媒較佳。具體而言，可使用醇類、酮類、醚類、酯類、烴類、醯胺類、含氟化合物類等。該等可使用1種或組合2種以上而使用。
作為醇類，例如，可舉出甲醇、乙醇、異丙醇、異丁醇、正丁醇、第三丁醇、乙氧基乙醇、丁氧基乙醇、二乙二醇單乙醚、苯甲醇、苯乙醇等。作為酮類，例如，可舉出丙酮、甲基乙基酮、甲基異丁基酮、環己酮等。作為醚類，例如，可舉出乙二醇單乙醚、乙二醇單丁醚、丙二醇單乙醚乙酸酯等。作為酯類，例如，可舉出乙酸乙酯、乙酸丁酯、乳酸乙酯、乙醯乙酸甲酯、乙醯乙酸乙酯等。作為芳香族類，例如，可舉出甲苯、 二甲苯等。作為醯胺類，例如，可舉出N,N-二甲基甲醯胺、N,N-二甲基乙醯胺、N-甲基吡咯啶酮等。
[塗料組成物中之其他成分]
本發明的積層體之較佳製造方法所使用之塗料組成物，進一步包含聚合起始劑或硬化劑較為理想。聚合起始劑及硬化劑係用以促進粒子與黏合劑原料之反應，或是促進黏合劑原料間之反應。
該聚合起始劑及硬化劑，可因應塗料組成物所含之黏合劑原料的反應性部位而使用各種物質。又，可同時使用多個聚合起始劑，亦可單獨使用。再者，亦可並用酸性觸媒、熱聚合起始劑或光聚合起始劑。作為酸性觸媒之例，可舉出鹽酸水溶液、甲酸、乙酸等。作為熱聚合起始劑之例，可舉出過氧化物、偶氮化合物。又，作為光聚合起始劑之例，可舉出烷酮系化合物、含硫系化合物、醯基膦氧化物系化合物、胺系化合物等，但並沒有特別限定，從硬化性之觀點，烷酮系化合物較佳，作為具體例，可舉出2,2-二甲氧基-1,2-二苯基乙-1-酮、2-甲基-1-(4-甲基硫苯基)-2-N-啉基丙-1-酮、2-苯甲基-2-二甲基胺基-1-(4-苯基)-1-丁烷、2-(二甲基胺基)-2-[(4-甲基苯基)甲基]-1-(4-苯基)-1-丁烷、2-苯甲基-2-二甲基胺基-1-(4-N-啉基苯基)-1-丁烷、2-(二甲基胺基)-2-[(4-甲基苯基)甲基]-1-[4-(4-啉基)苯基]-1-丁烷、1-環己基-苯酮、2-甲基-1-苯基丙-1-酮、1-[4-(2-乙氧基)-苯基]-2-羥基-2-甲基-1-丙-1-酮等。
再者，該聚合起始劑、硬化劑、觸媒之含有比例，相對於塗料組成物中之黏合劑原料100質量份，較佳為0.001~30質量份，更佳為0.05~20質量份，且特佳為0.1~10質量份。
作為其他成分，在本發明的積層體之較佳製造方法所使用之塗料組成物中，亦可視需要而進一步適當含有界面活性劑、增黏劑、整平劑、紫外線吸收劑、抗氧化劑、聚合抑制劑、pH調整劑、安定化劑等之添加劑。
[塗料組成物中之各成分的含量]
於本發明的積層體之較佳製造方法所使用之塗料組成物係使用在[積層體之製造方法]的項目敘述於後之「將塗料組成物塗布1次，接著，利用乾燥、硬化，形成包含折射率不同的2層之積層膜的方法」時，粒子A/粒子B(質量比率)為1/20~5/1較佳。藉由成為粒子A/粒子B=1/20~5/1，可使得到的積層體之第1層的厚度與第2層的厚度之比成為一定。因此，以1次的塗布可使第1層與第2層的厚度輕易地同時成為需要的厚度，因而較為理想。
作為粒子A/粒子B(質量比率)，更佳為1/18~3/1，特佳為1/15~2/1。
又，較佳為在塗料組成物100質量%中，包含粒子A之含量為0.03~26.3質量%、粒子B之含量為0.06~57.5質量%、氟聚合物a之含量為0.003~27.2質量%、黏合劑原料之含量為0.02~43.2質量%、有機溶媒之 含量為40~98質量%、起始劑、硬化劑、及觸媒等之其他成分之含量為0.1~20質量%的態樣。
[支撐基材]
本發明的積層體、及本發明的透明導電性積層體係具有支撐基材。作為支撐基材，相較於玻璃板，塑膠薄膜較佳。在塑膠薄膜的材料之例中，係包含纖維素酯(例如，三乙醯基纖維素、二乙醯基纖維素、丙醯基纖維素、丁醯基纖維素、乙醯基丙醯基纖維素、硝基纖維素)、聚醯胺、聚碳酸酯、聚酯(例如，聚對苯二甲酸乙二酯、聚萘二甲酸乙二酯、聚對苯二甲酸-1,4-環己烷二甲酯、聚乙烯-1,2-二苯氧基乙烷-4,4’-二羧酸酯、聚對苯二甲酸丁二酯)、聚苯乙烯(例如，對位性聚苯乙烯)、聚烯烴(例如，聚丙烯、聚乙烯、聚甲基戊烯)、聚碸、聚醚碸、聚芳酯、聚醚醯亞胺、聚甲基丙烯酸甲酯及聚醚酮等，該等之中，尤以三乙醯基纖維素、聚碳酸酯、聚對苯二甲酸乙二酯及聚萘二甲酸乙二酯較佳。
支撐基材之光透射率為80~100%較佳，86~100%更佳。在此，光透射率為在照射光之際穿透過試料的光之比例，為可依據JIS K 7361-1(1997)測定之透明材料的透明性之指標。作為透明導電性積層體，數值越大越為良好，數值小的話，霧度值會上升，且有圖像劣化產生的情況。霧度為JIS K 7136(2000)所規定之透明材料的混濁度指標。霧度越小表示透明性越高。
支撐基材的霧度為0.01~2.0%較佳，0.01~1.0%更佳。
支撐基材的折射率為1.4~1.7較佳。又，支撐基材的折射率與前述第2層的折射率相近更佳。在支撐基材的折射率與前述第2層的折射率相近時，可抑制反射率光譜的起伏(ripple)之產生。再者，在此之所謂的折射率，係為光從空氣中前進至某物質中時，在其界面改變進行方向之角度的比例，可利用JIS K 7142(1996)所規定的方法進行測定。
支撐基材，亦可含有紅外線吸收劑或紫外線吸收劑。紅外線吸收劑之含量，在支撐基材之全成分100質量%中為0.01~20質量%較佳，0.05~10質量%更佳。亦可在透明支持體含有惰性無機化合物之粒子作為滑劑。惰性無機化合物之例中，係包含SiO2、TiO2、BaSO4、CaCO3、滑石及高嶺土。再者，亦可對支撐基材實施表面處理。
在支撐基材之表面上也可施以各種表面處理。表面處理之例中，係包含藥品處理、機械處理、電暈放電處理、火焰處理、紫外線照射處理、高頻處理、輝光放電處理、活性電漿處理、雷射處理、混酸處理及臭氧化處理。該等之中，尤以輝光放電處理、紫外線照射處理、電暈放電處理及火焰處理較佳，輝光放電處理、電暈放電處理與紫外線處理更佳。
支撐基材，亦可具有易接著層、硬塗覆層、抗黏結層、抗靜電層、紫外線吸收層、寡聚物嵌段層等之層(將該等稱為機能性層)。
再者，本發明的積層體之較佳製造方法中，支撐基材的塗布塗料組成物之側的面之基於JIS R 1683(2007)的算術平均粗度Ra為40nm以下較佳。算術平均粗度為35nm以下更佳，30nm以下再更佳。算術平均粗度Ra變得較40nm更大時，粒子a之表面移行性變不足夠，有時在膜中凝聚、或者第2層入侵至第1層變得過量等，變得得不到相對於自正面方向的識別之透射光的著色減低效果或難以看到透明導電層之圖案的效果。又，變得無法在積層膜上將透明導電層形成為面內均一，有表面電阻值上升、或塗膜透明性下降的情況。
[積層體之製造方法]
本發明的積層體之製造方法，在前述支撐基材之至少單側上塗布前述塗料組成物，接著，利用乾燥、硬化，形成積層膜之各層的方法較佳，將前述塗料組成物塗布1次，接著，利用乾燥、硬化，形成包含折射率不同的2層之積層膜的方法特佳。
首先，本發明的積層體之較佳製造方法中，將塗料組成物利用浸漬塗布法、氣刀塗布法、淋幕式塗布法、滾筒塗布法、線棒塗布法、凹版塗布法或模具塗布法(參照美國專利2681294號說明書)等塗布於支撐基材上。
其次，將在支撐基材上塗布的液膜乾燥。除了自得到的積層體之積層膜中完全地除去有機溶媒以外，從促進在液膜中之粒子的運動而提升表面移行性之觀點，乾燥步驟中伴隨液膜之加熱也較為理想。在乾燥 初期中，只要可得到0.1g/(m2‧s)以上1.4g/(m2‧s)以下之範圍的乾燥速度，則沒有特別限定於特定的風速、溫度。
再者，亦可針對在乾燥步驟後形成的支撐基材上之積層膜，進行利用照射熱或能量線之進一步的硬化操作(硬化步驟)。該硬化步驟，係指促進前述塗料組成物中的黏合劑原料等所具有的反應性部位間之反應的步驟。在硬化步驟中，以熱硬化時，雖是因支撐基材種類而定，但在支撐基材為塑膠薄膜時，室溫至200℃較佳，從硬化反應的活性化能量之觀點，更佳為100~200℃，再更佳為130~200℃。
又，利用能量線進行硬化時，從通用性之觀點，電子線(EB線)及/或紫外線(UV線)較佳。又，利用紫外線硬化時，就可防止氧的阻礙來說，氧分壓係盡可能低者較佳，在氮環境下(氮氣吹洗)進行硬化者更佳。又，利用熱進行硬化時，亦可同時進行乾燥步驟與硬化步驟。
[透明導電性積層體]
藉由在積層體之第1層上形成透明導電層，可得到本發明的透明導電性積層體。該透明導電性積層體，係為至少自支撐基材側依以下順序積層第2層、第1層、及透明導電層的構成，亦即，為在前述積層體之第1層上積層透明導電層的構成。
該透明導電層，可作成包含透明導電性氧化物的層。本發明的透明導電性氧化物係以氧化銦或氧化鋅為主成分，以氧化銦為主成分者，也可單獨使用氧化 銦，但以賦予導電性為目的而言，亦可進行摻雜。摻雜係例如有錫、鋅、鈮、鎢、鈦、鋯、鉬等，但其中係廣泛使用摻雜錫者(ITO)。以氧化鋅作為主成分者，也可單獨使用氧化鋅，但以賦予導電性為目的而言，亦可進行摻雜。摻雜係例如有銦、錫、鋁、硼、鎵、矽等。該等之透明導電性氧化物層，可舉出公知的手法來成膜，例如，濺鍍法、有機金屬化學氣相堆積法(MOCVD)、熱CVD法、電漿CVD法、分子束磊晶法(MBE)、或脈衝雷射堆積法(PLD)等，但從可均勻地製膜為大面積之觀點，濺鍍法較為理想。
形成有透明導電層的透明導電性積層體，為了提高導電性與光線透射率，進行退火處理較為理想。退火環境，在真空或惰性氣體環境下進行較佳，在氧環境進行退火時，透明導電性氧化物被熱氧化，且導電率會下降(表面電阻值之上升)。退火溫度為結晶性提升的溫度以上較佳，另一方面，只要從支撐基材之觀點的話，低溫度者較佳，從熱收縮、皺紋、捲曲、寡聚物之析出、密合性之下降、著色等之觀點，越低越好，因此在可得到導電性、光線透射率的範圍內，盡可能地於低溫度下進行較佳。
透明導電性積層體的表面電阻值，根據使用的用途而不同，尤其只要是有必要進行圖案化的靜電電容型觸控面板用的話，較佳為可藉由成為50~500Ω/□而使用，更佳為100~300Ω/□。表面電阻值小於50Ω/□、或超過500Ω/□時，有觸控面板之識別精度下降的情況。
透明導電性積層體之透明導電層的膜厚為4~50nm之範圍較佳，更佳為10~40nm。透明導電層之膜厚小於4nm時，難以成為連續的薄膜，有時變得難以得到良好的導電性。另一方面，透明導電層的膜厚較50nm更厚時，在將透明導電性薄膜層圖案化之際，有使具有透明導電層之部分與未具有之部分的光學特性接近變得困難的情況。
[透明導電性積層體之製造方法]
本發明的透明導電性積層體，可在本發明的積層體之第1層上，因應所需膜厚，適當使用真空蒸鍍法、濺鍍法、CVD法、離子鍍覆法、噴灑法等而得到。例如，濺鍍法的情況中，係利用使用氧化物靶材之通常的濺鍍法、或是使用金屬靶材之反應性濺鍍法等。此時，作為反應性氣體，可導入氧、氮等，亦可並用臭氧添加、電漿照射、離子輔助等之手段。又，在不損及本發明的目的之範圍，亦可對基板施加直流、交流、高頻等之偏壓。再者，為了提升導電性、光透射性，進行退火處理較為理想。
[用途]
本發明的積層體或透明導電性積層體，可減低光散射、抑制看到圖案，因此可作為各種電子設備所使用之觸控面板、及觸控面板的透明電極所使用之透明導電性積層體、透明導電性積層體的折射率調整所使用之積層體而適當使用。在本發明的積層體上積層透明導電層而成的透明導電性積層體，藉由在透明導電層形成圖案，尤能作為觸控面板之透明電極而適當使用。
[實施例]
其次，基於實施例說明本發明，但本發明未必限定於該等。
[含有粒子A及氟聚合物a的混合液之製備]
[含有粒子A及氟聚合物a的混合液(A-1)之製備]
在異丙醇分散膠狀二氧化矽(日產化學工業股份有限公司製膠狀二氧化矽凝膠：將固體成分稀釋為20質量%、數量平均粒子徑12nm)10g中混合甲基丙烯醯氧丙基三甲氧矽烷2.8g與10質量%甲酸水溶液0.26g、水0.46g，在70℃下攪拌1小時。接著，加入C6F13-(CH2)6-OCO-CH=CH2 2.5g及2,2-偶氮雙(2,4-二甲基戊腈)0.17g後，在80℃下加熱攪拌60分鐘。之後，添加甲基乙基酮進行稀釋，作成固體成分3.5質量%之「含有粒子A及氟聚合物a的混合液(A-1)」。
[含有粒子A及氟聚合物a的混合液(A-2)~(A-7)之製備]
依表1所記載的配方設定無機粒子材料及添加量，除此以外，採用與含有粒子A及氟聚合物a的混合液(A-1)同樣的方法進行製備。
[粒子B之選定]
將下述材料各別當作粒子B。
[粒子B(1)]
氧化鋯粒子分散物(日產化學工業股份有限公司製：固體成分30質量%、數量平均粒子徑10nm)。
[粒子B(2)]
二氧化鈦粒子分散物(ELCOM日揮觸媒化成股份有限公司製：固體成分30質量%、數量平均粒子徑8nm)。
[塗料組成物之製備]
[塗料組成物1之製備]
混合下述材料，得到塗料組成物1。
含有粒子A及氟聚合物a的混合液(A-1)53.0質量份
粒子B(1) 7.8質量份
黏合劑原料C1(季戊四醇三丙烯酸酯：PETA)0.46質量份
黏合劑原料C2(DAICEL-ALLNEX股份有限公司製胺基甲酸酯丙烯酸酯：KRM8452) 1.09質量份
光聚合起始劑(IRGACURE 127：Irg127 Ciba Specialty Chemicals公司製) 0.26質量份
有機溶媒
甲基異丁基酮(MIBK) 26.4質量份
乙二醇單丁醚乙酸酯(EGMBA) 11.0質量份。
[塗料組成物9之製備]
混合下述材料，得到塗料組成物9。
含有粒子A及氟聚合物a的混合液(A-4) 53.8質量份
黏合劑原料(季戊四醇三丙烯酸酯：PETA) 0.31質量份
光聚合起始劑(IRGACURE 127：Irg127 Ciba Specialty Chemicals公司製) 0.05質量份
有機溶媒
甲基異丁基酮(MEK) 34.84質量份
乙二醇單丁醚乙酸酯(EGMBA) 11.0質量份。
[塗料組成物10之製備]
混合下述材料，得到塗料組成物10。
粒子B(2) 7.7質量份
黏合劑原料(季戊四醇三丙烯酸酯：PETA) 1.23質量份
光聚合起始劑(IRGACURE 127：Irg127 Ciba Specialty Chemicals公司製) 0.20質量份
有機溶媒
甲基異丁基酮(MEK) 79.87質量份
乙二醇單丁醚乙酸酯(EGMBA) 11.0質量份。
[塗料組成物12、13及18之製備]
依據表2所記載，各別使用作為含有粒子A及氟聚合物a的混合液之(A-5)、(A-6)、(A-7)，作為黏合劑原 料C2之DAICEL-ALLNEX股份有限公司製胺基甲酸酯丙烯酸酯：KRM7804，除此以外，採用與塗料組成物3之製備同樣的方法進行製備。
[塗料組成物14~17及19、20之製備]
依據表2所記載，各別使用作為黏合劑原料C1之DAICEL-ALLNEX股份有限公司製胺基甲酸酯丙烯酸酯：KRM4858、季戊四醇三丙烯酸酯：PETA、大阪有機化學工業三季戊四醇丙烯酸酯：Viscoat#802、大阪有機化學工業酚改性丙烯酸酯：HQMA，作為黏合劑原料C2之DAICEL-ALLNEX股份有限公司製胺基甲酸酯丙烯酸酯：KRM8655、大阪有機化學工業多分支樹枝狀聚合物型丙烯酸酯：STAR-501、DAICEL-ALLNEX股份有限公司製胺基甲酸酯丙烯酸酯：KRM7804，除此以外，採用與塗料組成物1之製備同樣的方法進行製備。
[硬塗覆層之作成]
混合下述材料，得到硬塗覆塗料組成物。
季戊四醇三丙烯酸酯(PETA) 30.0質量份
IRGACURE 907(Ciba Specialty Chemicals公司製) 1.5質量份
甲基異丁基酮(MIBK) 73.5質量份。
接著，將前述硬塗覆塗料組成物，使用棒塗機，以固體成分塗布膜厚成為2μm之方式，調整棒塗機之紗數(count)而塗布。使用在PET樹脂薄膜上塗布易接著性塗料的“LUMIRROR”(登録商標)U48(東麗(股)製)作為支撐基材。
[積層體之製造方法]
以下表示積層體之作成方法。將各積層體之構成示於表3。
在硬塗覆層上，將前述塗料組成物以棒塗機(#3)塗布後，進行如下所示的第一階段之乾燥，接著，進行第二階段之乾燥。
第一階段
熱風溫度50℃
熱風風速1.5m/s
風向相對於塗布面平行
乾燥時間0.5分鐘
第二階段
熱風溫度100℃
熱風風速5m/s
風向相對於塗布面垂直
乾燥時間1分鐘
再者，熱風之風速為由噴出部之動態壓力測定值換算為風速的數值。
乾燥後，使用160W/cm2的高壓水銀燈(EYE GRAPHICS(股)製)，在氧濃度0.1體積%下，照射照度600W/cm2、累計光量800mJ/cm2之紫外線，使進行硬化。
以表4所示的組合，作成實施例1~6、比較例1~6之積層體。再者，對於實施例6使用棒塗機(#5)，對於比較例6使用棒塗機(#7)，除此以外，與上述的方法同樣地藉由將塗料組成物(1)塗布、乾燥而作成。又， 對於比較例4，將前述塗料組成物11、及10依該順序以上述條件塗布，作成積層體。
[第1層及第2層之折射率]
第1層、第2層之各別的折射率，相對於積層體之積層膜，利用反射分光膜厚計(大塚電子製、商品名[FE-3000])，測定在300~800nm的範圍之反射率，使用該裝置附屬的軟體[FE-Analysis]，依據大塚電子股份有限公司製[膜厚測定裝置總合目錄P6(非線形最小平方法)]所記載的方法，求出各層之550nm的折射率。
使用Cauchy之分散式(數式1)作為折射率的波長分散之近似式，並利用最小平方法(曲線擬合法)，計算光學定數(C1、C2、C3)，算出550nm的折射率，並將第1層之折射率作為n1，將第2層之折射率作為n2。
[算術平均粗度Ra]
以下述的裝置與條件，進行表面構造之測定，求出JIS B0601(2001)所規定的中心線平均粗度Ra。
裝置：Nanoscope IIIa(Degital Instruments公司製)
測定模式：輕敲模式
掃描範圍：5μm×5μm
分解能：512×512 pixel。
[積層體之透明性]
積層體之透明性係藉由測定霧度而判定。霧度之測定係基於JIS-K7136(2000)，使用日本電色工業(股)製霧度計，使光從與積層體樣本之支撐基材為相反側(積層膜側)透射而置於裝置，並進行測定。再者，在相同樣本之不同3處測定，並將其平均值作為積層體之霧度(Hz)。
[實測布魯斯特角]
積層體之第1層-空氣層的界面之實測布魯斯特角係使用U-4100形分光光度計(Hitachi High-Technologies(股)製)用、微小角度可變絶對反射附屬裝置進行測定。首先，下述測定條件下，測定入射角50°至60°之每0.5°的反射率光譜，對於各別的反射率光譜，由在380nm~780nm的範圍之每0.5°的反射率值之平均值算出平均反射率。接著，將前述平均反射率相對於入射角進行製圖，並讀取平均反射率成為最小的角度。在從積層體之第1層的表面隨機地選定之5處，實施同樣的測定，並將其平均值當作為實測布魯斯特角θr1。
<測定條件>
測定範圍：340nm~800nm
狹縫寬：2nm
掃描速度：600nm/min
偏光元件：P偏光
測定入射角度：50°~60°。
[第1層及第2層的剖面形狀及膜厚]
藉由使用透射型電子顯微鏡(TEM)觀察剖面，測定支撐基材上之第1層及第2層的剖面形狀與層厚度。各 層的厚度係依據以下的方法進行測定。從將積層膜的剖面之超薄切片利用TEM以20萬倍的倍率拍攝之圖像，以軟體(圖像處理軟體ImageJ/開發商：美國國立衛生研究所(NIH))，讀取各層的厚度。測定合計30點之層厚度，將求得的平均值當作為膜厚。
[面內構成比率]
首先，將面內構成比率的算出方法之概要，使用圖4進行說明。面內構成比率，係為在剖面觀察影像中，從對底層基材-第2層之界面(22)平行的任意之直線(23)、藉由圖像處理而得到之第1層與第2層的邊界線(24)所估算的數值。任意之直線(23)係藉由邊界線(24)分割為屬於第1層之線段(25)與屬於第2層之線段(26)。該線段之長度係將線段之全長所佔之比例當作為在面內中代表各成分佔有面積比率的數值來使用。
具體而言，藉由使用透射型電子顯微鏡(TEM)觀察剖面，可將在任意的面內中相互入侵之第1層與第2層佔有的區域之比率，以下述的方法算出。將積層膜的剖面之超薄切片，利用TEM以20萬倍的倍率拍攝圖像。其次，以圖像處理軟體EasyAccess Ver6.7.1.23，以底層基材-第2層之界面(22)成為水平之方式，施以旋轉/整修加工之後，將圖像變換為灰階標度，使最亮部與最暗部收斂於8bit之色調曲線而調整白平衡(white balance)，再來，以使第1層與第2層之邊界線(24)可明確地辨認之方式調節對比度。其次，使用軟體(圖像處理軟體ImageJ/開發商：美國國立衛生研究所(NIH))，將前 述第1層與第2層之邊界在邊界處進行畫素之2值化，並利用Analize Particles(粒子解析)機能來取得前述第1層與第2層的邊界線(24)之座標情報。接著，對照檢查算出面內構成比率的任意之直線(23)與前述第1層及第2層的邊界線(24)之座標情報，利用交點的座標將「算出面內構成比率的線段」分割為「屬於第1層的線段(25)」與「屬於第2層的線段(26)」。此時，將「屬於第1層的線段(25)」的長度之合計當作為L1，將「屬於第2層的線段(26)」的長度之合計當作為L2，將相對於其合計所算出之「算出面內構成比率的線段」的長度L之比例定義為「面內構成比率」，並算出。
[第1層與第2層相互入侵的區域之厚度]
將上述方法所算出的面內構成比率在第1層、第2層均小於90%的區域定義為「第1層與第2層相互入侵的區域」。將該區域之厚度以下述的順序算出。依據上述面內構成比率之算出方法，算出對底層基材-第2層之界面平行的各線段上之第2層的面內構成比率，製作以縱軸為面內構成比率、以橫軸為離底層基材-第2層之界面的距離之圖表。從該圖表讀取第2層之面內構成比率較10%更大且較90%更小的部分之距離，當作為第1層與第2層相互入侵的區域之厚度。
再者，利用一連串的圖像處理所算出之長度的測定下限，係由「剖面觀察時之倍率」與「圖像所含的畫素數量」決定。上述解析時之剖面影像的畫素數量為1,280×1,024，根據得到的剖面影像之短邊的長度大約 為500nm，在此，大概0.5nm左右為測定下限。亦即，以大約0.5nm左右之間隔朝厚度方向拉出直線(23)，作成上述圖表。
[透明導電層之形成]
在前述積層體之第1層上，將包含銦-錫複合氧化物的透明導電層予以成膜。此時，將濺鍍前之壓力設定在1×10-5Pa，作為靶材，使用含有氧化錫36質量%的氧化銦(住友金屬礦山股份有限公司製、密度6.9g/cm3)，施加2W/cm2的DC電力。又，使Ar氣體以130sccm、使O2氣體以表面電阻值成為最小的流速流動，在0.67Pa的環境下，使用DC磁控管濺鍍法成膜。
其中，因為不是一般的DC，故為了防止電弧放電，係使用日本EMI製RPG-100，以50kHz周期施加5μs幅的脈衝。又，中央輥溫度定為10℃，進行濺鍍。
此時，將環境中的氧分壓以濺鍍程序監視器(LEYBOLD INFICON公司製、XPR2)隨時觀測，同時以包含銦-錫複合氧化物的透明導電層中之氧化度成為一定的方式，回授至氧氣的流量計及DC電源。
濺鍍後，在真空度0.01Pa以下、溫度160℃之條件下，進行10分鐘退火，使厚度30nm、折射率1.96之包含銦-錫複合氧化物的透明導電層堆積，作成透明導電性積層體。
[透明導電性積層體的透明導電層之圖案化]
在利用前述透明導電層之形成所作成的透明導電性積層體上，印刷蝕刻光阻後，浸漬於1N鹽酸中，接著， 利用鹼浸漬，形成1cm×3cm的透明導電層之圖案(以下，將此當作為已完成圖案形成的透明導電性積層體)。
[透明導電層之密合性]
相對於在透明導電層之形成中所形成的透明導電性積層體，在常態下(23℃、相對濕度65%)，放入100個將具有透明導電層的面之1cm×1cm的區域均等地分割為10格×10格之1mm2的十字型切割器(crosscut)，將Nichiban股份有限公司製賽璐玢膠帶(型號：CT405AP-12)貼附於其上，使用橡膠滾筒，以荷重19.6N來回3次，抵壓住後，握持膠帶端部，朝90度方向瞬間剝離，根據透明導電層殘留的個數，進行5階段評價(5：91個~100個、4：81個~90個、3：71個~80個、2：61個~70個、1：0個~60個)。
[透明導電層之圖案識別性(正面方向)]
在與已完成圖案形成的透明導電性積層體之透明導電層為相反側上，貼附黑色的膠帶，將針對樣本自正面觀察時之透明導電層圖案的視覺表現，以5階段評價。
5：完全看不到圖案。
4：依稀看到圖案。
3：雖稍微看到圖案，但不會注意。
2：稍微看到圖案，令人注意。
1：明確的看到圖案。
[透明導電層之圖案識別性(傾斜方向)]
在與已完成圖案形成的透明導電性積層體之透明導電層為相反側上，貼附黑色的膠帶，將針對樣本自40~60° 方向入射螢光燈光，使用偏光元件選擇性地僅觀察積層體表面的反射光中之P偏光時的透明導電層之圖案的視覺表現，以5階段評價。
5：完全看不到圖案。
4：依稀看到圖案。
3：雖稍微看到圖案，但不會注意。
2：稍微看到圖案，令人注意。
1：明確的看到圖案。
[面內不均]
將已完成圖案形成的透明導電性積層體切成為20cm×30cm大小的薄片狀，在與透明導電層為相反側上，貼附黑色的膠帶，將針對樣本薄片中央自正面觀察時之在薄片內的積層體之色調的均一性及透明導電層的圖案之視覺表現，以5階段評價。
5：色調沒有偏差，透明導電層的圖案，在薄片全區正面方向看起來為同等。
4：色調依稀有不均勻，但對透明導電層之圖案的視覺表現沒有影響。
3：色調稍有不均勻，但對透明導電層之圖案的視覺表現沒有影響。
2：色調有不均勻，在薄片內有部分的透明導電層之圖案稍微顯著。
1：色調有明確的不均勻，在薄片內有部分的透明導電層之圖案顯著。
在表1歸納含有粒子A及氟聚合物a的混合液之配方，在表2歸納塗料組成物之組成，在表3歸納積層體之構成與評價結果，在表4歸納積層體之布魯斯特角與透明導電性積層體之評價結果。

Claims (4)

  1. 一種積層體，其係具有於支撐基材之至少單側上自支撐基材側依第2層、第1層之順序積層的積層膜之積層體，該第1層與該第2層的折射率不同，該積層體含有具有由每一單元構成具有平均2以上8以下之反應性部位的黏合劑原料C1與每一單元構成具有平均9以上15以下之反應性部位的黏合劑原料C2所得之結構的黏合劑成分c，且滿足以下之(A)~(D)及(H)全部；(A)n2>n1．．．(式1) (B)Ra1≦5nm．．．(式2) (C)Hz≦0.6%．．．(式3) (D)θr1-θi1>1.0°．．．(式4)(H)Tm≧30nm．．．(式10)n1：第1層的折射率、n2：第2層的折射率Ra1：第1層-空氣層界面的算術平均粗度Hz：積層體的霧度θi1：由第1層的折射率n1與空氣的折射率n0，根據下式所算出之第1層-空氣層界面的理論布魯斯特角(Brewster angle)tanθi1=n1/n0 θr1：在第1層-空氣層界面，p波反射率成為極小之實測布魯斯特角，Tm：第1層與第2層相互入侵的區域之厚度。
  2. 如請求項1之積層體，其中該積層膜係滿足以下之(E)~(G)全部；(E)0.2≦n2-n1．．．(式5) (F)Tt≦150nm．．．(式6) (G)55°≦θr1≦60°．．．(式7)Tt：積層膜的膜厚。
  3. 一種透明導電性積層體，其係於如請求項1或2之積層體上積層透明導電層而成。
  4. 一種觸控面板，其係使用如請求項3之透明導電性積層體。
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