CN106132686B - 叠层体、透明导电性叠层体及触摸面板 - Google Patents

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Abstract

本发明提供一种叠层体，所述叠层体平滑性、透明性优异，且在正向及斜向的任意方向均具有优异的导电层图案识别性抑制效果。本发明涉及一种叠层体，其在支撑基材的至少一侧具有从支撑基材侧依次叠层第2层、第1层而成的叠层膜，该第1层与该第2层的折射率不同，并且该叠层体满足以下(A)～(D)的全部条件。(A)n2＞n1(式1)(B)Ra1≤5nm(式2)(C)Hz≤0.6％(式3)(D)θr1－θi1＞1.0°(式4)n1：第1层的折射率、n2：第2层的折射率、Ra1：第1层与空气层的界面的算术平均粗糙度、Hz：叠层体的雾度、θi1：第1层与空气层的界面的理论布鲁斯特角、θr1：第1层与空气层的界面的实测布鲁斯特角。

Description

叠层体、透明导电性叠层体及触摸面板
技术领域
本发明涉及用于各种电子设备的触摸面板、用于触摸面板的透明电极的透明导电性叠层体、用于调节透明导电性叠层体折射率的叠层体。
背景技术
近年来，静电容量式的触摸面板搭载于便携电话、便携音乐终端等各种移动设备的情况增加。对于这样的静电容量式的触摸面板而言，具有在图案化了的导体上叠层有电介质层的构成，通过用手指等进行触摸，经由人体的静电容量接地。此时，图案化电极与接地点之间的电阻值发生变化，识别位置输入。但是，使用现有的透明导电性膜时，具有导电层的部分和除去了导电层的部分的光学特性的差异大，因此图案化被凸显，配置于液晶显示器等显示体的前面时存在识别性降低这样的问题。
为了透明导电性膜的透射率、色调、进而导电层的图案不凸显，提出了层叠在防反射膜等中使用的折射率不同的层并利用光的干涉的方法。即，提出了在透明导电性薄膜层与基材膜之间设置折射率不同的层(也称为折射率匹配层、折射率调节层、光学功能层、光学调节层、防反射层)从而利用光学干涉的方法。
专利文献1中记载了“一种透明导电性叠层膜，其特征在于，具有在包含透明塑料膜的基材上依次叠层有高折射率层、低折射率层和透明导电性薄膜层的构成，高折射率层的折射率为1.70～2.50，膜厚为4～20nm的范围，低折射率层的折射率为1.30～1.60，膜厚为20～50nm的范围”。
作为通过1次的湿式涂布而形成上述折射率调节层中折射率不同的2个层的例子，专利文献2中着眼于基材、树脂、粒子材料的表面能，记载了“一种涂布组合物，其含有可形成具有30mN/m以下的表面自由能的固化层的第一树脂成分、可与该第一树脂成分固化的第二树脂成分、平均粒径为2nm以上100nm以下的第一无机微粒、及至少一种的有机溶剂，第一树脂成分及/或第二树脂成分具有电离放射线固化性官能团，该涂布组合物可通过使其固化而形成固化层，该涂布组合物为在该固化层中该第一无机微粒偏向存在于该固化层的下部、形成折射率不同的上层和下层的涂布组合物。”。
专利文献3中着眼于溶剂的相对干燥速度而将粒子和树脂成分分离，并分别记载了“一种叠层体的制造方法，所述层叠体具有基材和位于其上的多层结构，所述制造方法的特征在于，在基材上或在形成于基材上的层上涂布含有(A)键合具有聚合性不饱和基团的有机化合物(Ab)而成的金属氧化物粒子、(B)具有烯属不饱和基团的含氟聚合物、(C)快速挥发溶剂及(D)慢速挥发溶剂的紫外线固化性树脂组合物而形成涂膜，通过从该1个涂膜蒸发溶剂而形成2个以上的层。”。
另外，作为着眼于上述折射率不同的2个层的界面形状的例子，专利文献4中分别记载了“一种叠层体，其特征在于，在支撑基材的至少一面依次具有折射率不同的第2层及第1层，第1层含有粒子X(粒子X为至少含有无机粒子作为构成材料的粒子)，第2层含有粒子Y(粒子Y为至少含有无机粒子作为构成材料的粒子)，上述粒子X的无机粒子的数均粒径(以下，记为DX)为5nm以上25nm以下，所述叠层体满足式1及式2。”。
另一方面，上述利用了光学干涉的透明导电性膜的透射率、色调、及导电层的图案的凸显抑制(即，使导电层的图案不易被看到，抑制导电层图案的识别性)的方法，已知一般是使用透明导电性膜的法线方向的光路设计，但从斜向窥视时有时不能得到足够的导电层图案识别性抑制效果。
作为涉及着眼于布鲁斯特角度中的P波和S波的透射光量作为斜向的光学设计值的上述折射率调节层的例子，专利文献5中记载了“一种偏光板保护膜、及具有该保护膜的偏光板，所述偏光板保护膜具有在波长590nm处的面内延迟(Re)为500nm以上的聚合物膜、和位于该聚合物膜的至少一个表面上的防反射层，所述偏光板保护膜的特征在于，上述防反射层的在对于透射过上述聚合物膜内部的可见光整个区域的光的布鲁斯特角的反射率为5％以下。”。
现有技术文献
专利文献
专利文献1:日本特开2010－15861号公报
专利文献2:日本特开2007－293313号公报
专利文献3:日本特开2007－038199号公报
专利文献4:国际公开第2013/183487号小册子
专利文献5:日本特开2009－014886号公报
发明内容
发明所要解决的课题
以上的现有技术中存在下述问题。
专利文献1中，在基材上叠层有高折射率层、低折射率层及透明导电层，但根据说明书可知，低折射率层的叠层方法为溅射，实施例中记载的折射率为1.46左右，本申请的发明人们进行了确认的结果是，为该折射率时，透射光的着色降低效果、透明导电层的图案不易被看到的效果不充分，如果利用相同构成而单纯地降低折射率，则着色降低效果、不易看到透明导电层的图案的效果的面内均匀性受损，即，存在面内不均变大的问题。
专利文献2、3是通过1次的涂布而得到2个层的技术，但为着眼于构成2个平滑的层的技术，光从斜向入射时，光路长度偏离设计，因此本申请的发明人们进行了确认的结果是，自斜向的观察时使透明导电层的图案不易被看到的效果(即，斜向的光学设计)不充分。
专利文献4是着眼于利用同时形成2个层的技术而得的界面的结构的技术，但本申请的发明人们进行了确认的结果是，专利文献4中，不能充分地得到表面的粗糙度降低效果，因此不能得到充分的雾度值，不能得到本发明视为课题的透明性。
另外，专利文献5中，作为对应于斜向的光学设计的参数，有布鲁斯特角的记载，但将布鲁斯特角作为材质的折射率所决定的参数来记载，完全不能推想到可通过层厚、界面形状来调整布鲁斯特角。
由于现有技术文献中存在以上所述的若干问题，因此本发明所要解决的课题在于，提供一种平滑性、透明性优异，着色少，且在正向及斜向的任意方向均具有优异的导电层图案识别性抑制效果、即使透明导电层的图案不易被看到的效果，并且光学特性的面内不均被降低的叠层体。
用于解决课题的手段
为了解决上述课题，本申请的发明人们进行了深入研究，结果完成了以下的发明。即，本发明如下所示。
(1)一种叠层体，其在支撑基材的至少一侧具有从支撑基材侧依次叠层第2层、第1层而成的叠层膜，该第1层与该第2层的折射率不同，并且所述叠层体满足以下的(A)～(D)。
(A)n2＞n1 (式1)
(B)Ra1≤5nm (式2)
(C)Hz≤0.6％ (式3)
(D)θr1－θi1＞1.0° (式4)
n1：第1层的折射率，n2：第2层的折射率
Ra1：第1层与空气层的界面的算术平均粗糙度
Hz：叠层体的雾度
θi1：由第1层的折射率n1和空气的折射率n0通过下式算出的第1层与空气层的界面的理论布鲁斯特角
tanθi1＝n1/n0
θr1：在第1层与空气层的界面p波反射率成为极小的实测布鲁斯特角
(2)根据上述(1)所述的叠层体，上述叠层膜满足以下的(E)～(G)。
(E)0.2≤n2－n1 (式5)
(F)Tt≤150nm (式6)
(G)55°≤θr1≤60° (式7)
Tt：叠层膜的膜厚
(3)一种透明导电性叠层体，其是在上述(1)或(2)记载的叠层体上叠层透明导电层而成的。
(4)一种触摸面板，其使用了上述(3)所述的透明导电性叠层体。
发明的效果
本发明的叠层体的平滑性、透明性优异，着色少，并且在本发明的叠层体的叠层膜侧的最表面形成透明导电层时，或进一步蚀刻透明导电层而进行图案化时，对于自正向及斜向的观察，可提供优异的导电层图案识别性抑制效果、及降低光学特性的面内不均的效果。
附图说明
图1是本发明的叠层体的优选的一个方案的截面简图。
图2为现有技术的叠层体的1个方案的截面简图。
图3为现有技术的叠层体的1个方案的截面简图。
图4为由截面图算出的面内构成比率的简图。
具体实施方式
本发明的叠层体是在支撑基材的至少一侧具有从支撑基材侧依次叠层第2层、第1层而成的叠层膜的叠层体，上述第1层与上述第2层的折射率不同。需要说明的是，本说明书中，所谓“叠层体”，是指在支撑基材的至少一侧具有由至少2层以上的层形成的叠层膜的部件。
支撑基材为塑料膜的情况下，称为折射率调节膜、折射率匹配膜、防反射膜。另外，形成于支撑基材上的叠层膜，根据其功能，也称为折射率匹配层、反射率调节层、光学功能层、光学调节层、或防反射层。
图1示出了本发明的叠层体的优选的1个方案。就本方案的叠层体(1)而言，在支撑基材(2)的至少一侧叠层有叠层膜(3)。叠层膜(3)包含折射率不同的第1层(4)和第2层(5)。此处，叠层膜(3)的第1层与第2层的折射率不同，第1层(4)的折射率低于第2层(5)。需要说明的是，将具有相对较低的折射率的第1层称为低折射率层，将具有相对较高的折射率的第2层称为高折射率层。
并且，就本方案的叠层体而言，在支撑基材(2)的至少一侧从支撑基材侧依次具有第2层(5)、第1层(4)，第1层(4)含有粒子成分a(6)，第2层(5)含有粒子成分b(7)。此处，粒子成分a是至少含有无机粒子作为构成材料的粒子，并且为满足后述的特定条件的粒子。另外，粒子成分b是至少含有无机粒子作为构成材料的粒子。本方案中使用的支撑基材、粒子成分a及粒子成分b在后面叙述。
另外，作为本发明的叠层体的优选的制造方法，可以举出通过在支撑基材的至少一侧涂布1次含有下述成分的涂料组合物，来同时形成上述第1层及第2层的方法。
A)粒子A：构成上述第1层的成分，且其表面被含氟化合物A修饰
B)粒子B：构成上述第2层的成分，且其折射率高于粒子A
C)粘合剂原料C
需要说明的是，粒子A、含氟化合物A、粒子B及粘合剂原料C在后面叙述。
接下来，对本发明的叠层体所具有的优选物理特性的详细情况进行说明。
本发明的叠层体满足以下(A)～(D)的全部条件。
(A)n2＞n1 (式1)
(B)Ra1≤5nm (式2)
(C)Hz≤0.6％ (式3)
(D)θr1－θi1＞1.0° (式4)
n1：第1层的折射率，n2：第2层的折射率
Ra1：第1层与空气层的界面的算术平均粗糙度
Hz：叠层体的雾度
θi1：由第1层的折射率n1和空气的折射率n0通过下式算出的第1层与空气层的界面的理论布鲁斯特角
tanθi1＝n1/n0
θr1：在第1层与空气层的界面p波反射率成为极小的实测布鲁斯特角
另外，本发明的叠层体优选满足以下(E)～(G)的全部条件。
(E)0.2≤n2－n1 (式5)
(F)Tt≤150nm (式6)
(G)55°≤θr1≤60° (式7)
Tt：叠层膜的膜厚
作为控制上述(A)～(D)及上述(E)～(G)所表示的特定的物理特性的因素，可举出“第1层与第2层的膜厚”、“第1层的折射率n1”及“第2层的折射率n2”、以及起因于厚度方向的折射率变化的“第1层与第2层的界面的形态”，通过调节这些因素能够进一步提高其效果。
本发明的叠层体满足上述(A)。即，将本发明的叠层体的第1层的折射率记为n1、第2层的折射率记为n2时，n2＞n1。
另外，本发明的叠层体优选满足上述(E)的条件。即，第1层与第2层的折射率之差存在优选范围，具体而言(n2－n1)优选为0.2以上，更优选为0.25以上。(n2－n1)小于0.2的情况下，在叠层体的各层的反射光量减少，不易得到充分的光学干涉效果，结果，有时难以充分得到前述的自正向的观察时使透明导电层的图案不易被看到的效果。各层的折射率的测定方法在后面叙述。另一方面，(n2－n1)的上限虽然没有特别限定，但在本发明的叠层体的光学设计中，推定大概为0.7以下。
[表面粗糙度]
本发明的叠层体满足上述条件(B)。即，将第1层与空气层的界面的算术平均粗糙度记为Ra1时，Ra1≤5nm。如下所述，本发明的叠层体期望透明性高，作为与透明性有关的因素，可举出第1层与空气层的界面的形状及后述的第1层与第2层的界面的形状。第1层与空气层的界面的形状优选平坦，具体而言，基于JIS R 1683(2007)的算术平均粗糙度Ra1为5nm以下。上述算术平均粗糙度Ra1更优选为2nm以下。Ra1的值大于5nm时，透明性受损，进而大于30nm时，在本发明的叠层体的叠层膜侧的最表面形成透明导电层时，有时发生其密合性的降低、电阻值的增加。另外，虽然Ra1的下限值没有特别限定，但难以得到完全平滑的面，0.1nm左右为现实中的下限。算术平均粗糙度Ra1的测定方法在后面叙述。
[透明性]
本发明的叠层体满足上述(C)。即，将叠层体的雾度记为Hz时，Hz≤0.6％。作为叠层体，为了显示良好的性质，期望透明性高。如果透明性低，则作为图像显示装置使用时，有时发生由图像彩度下降等而导致的画质下降。本发明的叠层体的透明性的评价可以使用雾度及全光线透射率。需要说明的是，作为影响雾度及全光线透射率的因素，可以举出“第1层与空气层的界面的形态”及“第1层与第2层的界面的形态”。
雾度是JIS－K7136(2000)中规定的透明性材料的浊度的指标。雾度越小表示透明性越高。另一方面，雾度大是说明叠层体的表面或界面的形状粗糙，形成易于散射光的形状。本发明的叠层体的雾度(Hz)为0.6％以下，优选为0.5％以下，更优选为0.4％以下。雾度的值越小，在透明性方面越良好，但难以使雾度为0％，现实中的下限值为0.01％左右。雾度大于0.6％时，发生图像识别性降低的可能性变高，此外，也不能得到本发明的叠层体那样提供理想的折射率变化的界面形状，对于自斜向的观察，不能得到优异的透射光的着色降低效果、以及使透明导电层的图案不易被看到的效果。
全光线透射率是JIS－K7361－1(1997)中规定的透明性材料的光透射性的指标，全光线透射率越高表示透明性越高。作为叠层体的全光线透射率，优选为85％以上，较优选为89％以上，更优选为91％以上。认为现实中的上限值为94％左右。全光线透射率小于85％时，有时图像变暗。
[布鲁斯特角]
本发明的叠层体满足上述(D)。即，将理论布鲁斯特角记为θi1、实测布鲁斯特角记为θr1时，θr1－θi1＞1.0°。
布鲁斯特角是JIS Z 8120(2001)中记载的相当于偏振角的值，是指折射率存在差异的二个物质的界面处产生的反射光中、在与入射面平行方向(即，与作为反射面的本发明的叠层体的表面为垂直方向)具有电场分量的电磁波、P偏振光的反射率成为0的入射角。在该角度下，在非偏振光入射的情况下，P偏振光分量不在界面反射而是完全透射，另一方面，反射光中产生仅包含S偏振光的完全偏振光。这样的反射率的依赖性可通过菲涅耳式描述，关于布鲁斯特角，可使用形成界面的二个物质的折射率、利用下式描述。
tanθi＝nk/nl
nk：透射光通过的物质的折射率
nl：入射光及反射光通过的物质的折射率
特别是入射光从空气中入射至叠层体的最表面、即第1层情况下的布鲁斯特角满足下式。
tanθi1＝n1/n0
θi1：由第1层的折射率n1和空气的折射率n0通过上述式算出的第1层与空气层的界面的理论布鲁斯特角
本发明中将这些基于菲涅耳式算出的理论上的布鲁斯特角记为理论布鲁斯特角θi，特别是将第1层与空气层的界面的理论布鲁斯特角记为θi1。
另一方面，本申请的发明人们对本发明的课题即自斜向的观察时的透明导电层的蚀刻图案的凸显进行了分析，结果发现，在前述的透明导电层部分与通过蚀刻使前述的折射率调节层成为露出的部分的上述理论布鲁斯特角相近的角度下，图案的凸显的效果显著地表现。即，在布鲁斯特角下，由于一者的部分的p偏振光的反射强度弱，所以另一者的部分的反射相对地凸显，认为这与自斜向的观察时的图案的凸显有关。
进而，本申请的发明人们发现，如本发明的叠层体那样，构成具有折射率差的界面的物质的垂直于面的方向的厚度(即，本发明的叠层体的层厚度)与电磁波的波长相比充分小的情况下，前述的理论布鲁斯特角的值与实际的测定结果之间产生偏差。本发明中，将这样的与理论布鲁斯特角具有偏差的实际的布鲁斯特角的值记为实测布鲁斯特角θr，特别是将空气与第1层的界面的实测布鲁斯特角记为θr1。需要说明的是，实测布鲁斯特角θr1的测定方法在后面叙述。
本发明的叠层体的特征在于对实测布鲁斯特角进行调节。另外，理论布鲁斯特角与实测布鲁斯特角之间存在优选关系，具体而言，实测布鲁斯特角为高于理论布鲁斯特角的角度。即，θr1＞θi1。另外，(θr1－θi1)的值大于1.0°。上述(θr1－θi1)的值较优选为1.5°以上，特别优选为3.0°以上。实测布鲁斯特角的值与理论布鲁斯特角的值的差为1.0°以下的情况下，在本发明的叠层体的叠层膜侧的最表面形成透明导电层时，或者进一步蚀刻透明导电层而进行图案化时，不能充分得到在自斜向的观察时的、使透明导电层的图案不易被看到的效果。另一方面，实测布鲁斯特角与理论布鲁斯特角的差值的上限没有特别限定，但在本发明的叠层体的光学设计中，大概为10°以下。
进而，本发明的叠层体优选满足上述(G)的条件。即，实测布鲁斯特角的值也存在优选范围，具体而言优选为55°以上60°以下。实测布鲁斯特角小于50°的情况下或大于60°的情况下，产生与目标的光学设计的偏离，结果是，在本发明的叠层体的叠层膜侧的最表面形成透明导电层时，或进一步蚀刻透明导电层而进行图案化时，有时不能充分得到自正向或斜向观察时使透明导电层的图案不易被看到的效果。
另一方面，本发明的叠层体优选满足上述(F)。即，叠层膜的膜厚(Tt，第1层与第2层的膜厚之和)存在优选范围，具体而言，优选为150nm以下，较优选为100nm以下。第1层与第2层的膜厚之和大于150nm的情况下，作为决定上述实测布鲁斯特角的值的因素，第1层成为支配性的，所以在本发明的叠层体的叠层膜侧的最表面形成透明导电层时，或者进而蚀刻透明导电层而进行图案化时，有时不能充分得到自斜向的观察时使使透明导电层的图案不易被看到的效果。另一方面，关于叠层膜的膜厚(即，第1层与第2层的膜厚之和)的下限，从调节实测布鲁斯特角的观点考虑并没有特别限定，但在本发明的叠层体的光学设计中推定大概为30nm以上。
[界面粗糙度]
关于本发明的叠层体的第1层与第2层的界面形状，与平滑相比，彼此的成分相互浸入的粗糙状态更能够使前述的实测布鲁斯特角与理论布鲁斯特角的值的差增大。认为这是因为，通过使第1层与第2层的成分相互浸入，由此在叠层体的界面附近形成折射率梯度，具体而言，通过使第1层中存在第2层成分侵入的部分，引起局部的折射率增加，实测布鲁斯特角的值发生变化。
具有前述那样的折射率梯度的叠层体的形成方法没有特别限定，从生产率的观点考虑，优选通过下述方法形成：通过涂布1次涂料组合物来同时形成上述第1层及第2层的方法。利用上述方法制成的叠层体中的折射率梯度以“面内构成比率”的变化的形式进行估计，“面内构成比率”是指由与基底基材的表面平行的面切出的叠层体界面中相互浸入的第1层和第2层所占的区域的比率。“面内构成比率”的计算方法的详细内容在后面叙述。
另外，此时，第1层或第2层的面内构成比率均小于90％的“第1层与第2层相互侵入的区域”存在优选的厚度范围。具体而言，第1层与第2层相互侵入的区域的厚度(Tm)优选为10nm以上，较优选为30nm以上，特别优选为40nm以上。前述的第1层与第2层相互侵入的区域的厚度小于10nm时，前述的实测布鲁斯特角与理论布鲁斯特角的值不产生足够的差，有时不能充分得到自斜向的观察时使透明导电层的图案不易被看到的效果。另外，第1层与第2层相互侵入的区域的厚度的上限与叠层膜的膜厚(即，第1层与第2层的膜厚之和)相关，具体而言，在下式9的值的范围之外的情况下，即大于叠层膜膜厚的90％的情况下，偏离光学设计，所以有时自正向的观察时的、透射光的着色降低效果、使透明导电层的图案不易被看到的效果降低。
10nm≤Tm (式8)
第1层与第2层相互侵入的区域的厚度下限
Tm≤0.9×Tt (式9)
第1层与第2层相互侵入的区域的厚度上限。
另外，关于界面的粗糙度，如上所述，作为规定其形状的参数，雾度存在优选的范围。雾度的上升起因于光在存在折射率差的表面及界面散射。具体而言，其凹凸形状在光的波长、即数百nm级的间隔起伏成为原因。本发明中，如上所述，第1层与第2层的界面优选彼此的成分相互浸入的粗糙的状态，但优选以该相互侵入结构不发生光散射、即不引起雾度的增加的程度形成微细的混合状态。
进而，关于第1层与空气层的界面及第1层与第2层的界面的形状，为同时满足前述的表面的算术平均粗糙度Ra、实测布鲁斯特角与理论布鲁斯特角的值的结构。通常，如果界面形状过于粗糙，则前述的表面的算术平均粗糙度Ra变大，有时不能得到充分的透明性。此时，通过在支撑基材上涂布1次涂料组合物来同时形成上述第1层及第2层，由此能够相对于界面形状的粗糙度，将表面形状的粗糙度抑制为较低值。即，如图2所示，在依次涂布第2层(12)和第1层(11)而制成叠层膜的情况下，以反映第2层(12)的表面形状的形态，第1层(11)的表面也产生同程度的粗糙，但在图1的本发明的叠层体的优选构成的情况下，第1层(4)的表面形状的粗糙度相对于第2层(5)的界面形状的粗糙度变低。
另一方面，如图3所示，如果第1层(18)与第2层(19)间的界面形状平滑，则前述的实测布鲁斯特角与理论布鲁斯特角的值不产生足够的差，有时不能充分得到自斜向的观察时使透明导电层的图案不易被看到的效果。需要说明的是，第1层与第2层的界面的形状的测定方法在后面叙述。
接下来，对本发明的叠层体的优选的构成材料进行说明。
[粒子]
上述无机粒子的“种类”取决于构成无机粒子的元素的种类。例如，对于氧化钛(TiO2)和使氧化钛的氧的一部分被作为阴离子的氮置换了的氮掺杂氧化钛(TiO2－xNx)而言，由于构成无机粒子的元素不同，所以为不同种类的无机粒子。另外，如果为由相同元素、例如仅由Zn、O形成的无机粒子(ZnO)，则即使存在多种其粒径不同的粒子，另外即使Zn和O的组成比不同，它们也是同一种类的无机粒子。另外，即使存在多种氧化数不同的Zn粒子，只要构成粒子的元素相同(该例子中，只要Zn以外的元素完全相同)，则它们也为相同种类的粒子。
[粒子A、粒子成分a]
本发明的叠层体的优选制造方法中，第1层中含有的粒子成分a为来自于涂料组合物中的粒子A的成分。即，涂料组合物中的粒子A，在涂布、干燥过程中，由于与粘合剂原料、含氟聚合物a发生反应、以及粒子A彼此发生反应因而形态发生变化等，从而成为粒子成分a。另一方面，作为粒子A，在使用不具有与粘合剂原料、含氟聚合物a反应的部分的粒子的情况下，或粒子A在涂布、干燥过程中不与粘合剂原料、含氟聚合物a反应的情况下，粒子A与粒子成分a完全相同。需要说明的是，粒子A由于具有来自含氟聚合物a的部分，因此，在支撑基材上进行干燥时，通常与粘合剂原料反应。
粒子A为具有无机粒子和来自于含氟聚合物a的部分的粒子。并且，作为粒子A的无机粒子，优选为选自Si、Na、K、Ca、Mg及Al中的半金属元素或金属元素的氧化物、氮化物、硼化物、氟化物、碳酸盐、硫酸盐，较优选为二氧化硅粒子(SiO2)、碱金属氟化物类(NaF、KF、NaAlF6等)、及碱土金属氟化物(CaF2、MgF2等)，从耐久性、折射率、成本等方面考虑，特别优选二氧化硅粒子。
该二氧化硅粒子，是指包含含有硅化合物、或无机、有机硅化合物的聚合(缩合)物中的任一者的组合物的粒子，作为一般例，是由SiO2等硅氧化物导出的粒子的总称。对于该二氧化硅粒子的表面而言，从在水、有机溶剂中的分散稳定性的观点考虑，可以与前述的来自于含氟聚合物a的部分分开，部分地进行表面处理。所述部分的表面处理没有特别限定，但作为二氧化硅粒子的表面的状态，较优选含有能够稳定地分散于水或醇这样的极性溶剂中的程度的亲水部位。另外，适于构成粒子A的无机粒子的形状没有特别限定，但由于第1层中的填充状态影响叠层体的表面形状，所以接近于球的形状对于形成本发明的叠层体的表面形状而言更优选。
接下来，对本发明的叠层体的优选的制造方法中使用的涂料组合物中的粒子A和含氟聚合物a进行说明。粒子A优选不仅具有无机粒子，还具有来自于含氟聚合物a的部分。因此，粒子A可通过使前述的无机粒子、特别是二氧化硅等的无机粒子与含氟聚合物a反应等而导入来自于含氟聚合物a的成分，由此得到。
此处，所谓导入，是指来自于含氟聚合物a的部分化学键合(包括共价键、氢键、离子键、范德华键、疏水键等)、吸附(包括物理吸附、化学吸附)于无机粒子的状态，特别优选共价键合。
需要说明的是，关于含氟聚合物a，如之前所述的那样，是至少包含来自于后述的含氟化合物A的部分和来自于化合物D的部分的聚合物。即，含氟聚合物a是通过使含氟化合物A与化合物D反应而得到的聚合物。
接下来，对含氟化合物A进行说明。含氟化合物A是以下的通式(1)表示的化合物。
含氟化合物A：R1－R2－Rf1 通式(1)
通式(1)中，Rf1表示氟代烷基、氟代氧基烷基、氟代烯基、氟代烷烃二基、氟代氧基烷烃二基。氟代烷基、氟代氧基烷基、氟代烯基、氟代烷烃二基、氟代氧基烷烃二基，是指烷基、氧基烷基、烯基、烷烃二基、氧基烷烃二基所具有的一部分或全部的氢被氟取代了的取代基，均是主要由氟原子和碳原子构成的取代基，结构中可以存在支链，也可形成它们的一部分连结多个而成的二聚体、三聚体、低聚物、聚合物结构。
通式(1)中，R1表示反应性部分。所谓反应性部分，是指能够利用热或光等外部能量而与其他成分反应的部分。作为反应性部分，从反应性的观点考虑，可以举出烷氧基甲硅烷基、烷氧基甲硅烷基水解而得的硅烷醇基、羧基、羟基、环氧基、乙烯基、烯丙基、丙烯酰基、甲基丙烯酰基、丙烯酰氧基、甲基丙烯酰氧基等，从反应性、操作性的观点考虑，优选烷氧基甲硅烷基、甲硅烷基醚基或硅烷醇基、环氧基、丙烯酰基、甲基丙烯酰基、丙烯酰氧基、甲基丙烯酰氧基。
通式(1)中，R2表示单键、或碳原子数为1～8的2价或3价的烃基，所述烃基可被1个以上的羟基或1个以上的RC(＝O)O－基(R为碳原子数1～6的烃基)取代，且所述烃基可具有支链，并且所述烃基为除上述RC(＝O)O－基以外的烃基。其中，在Rf1为氟代烷基、氟代氧基烷基、氟代烯基的情况下，R2为2价，在Rf1为氟代烷烃二基、氟代氧基烷烃二基的情况下，R2为3价。
作为含氟化合物A的具体例，可举出3,3,3－三氟丙基三甲氧基硅烷、3,3,3－三氟丙基三乙氧基硅烷、3,3,3－三氟丙基三异丙氧基硅烷、3,3,3－三氟丙基三氯硅烷、3,3,3－三氟丙基三异氰酸酯硅烷、2－全氟辛基乙基三甲氧基硅烷、2－全氟辛基乙基三乙氧基硅烷、2－全氟辛基乙基三异丙氧基硅烷、2－全氟辛基乙基三氯硅烷、2－全氟辛基异氰酸酯硅烷、2,2,2－三氟乙基丙烯酸酯、2,2,3,3,3－五氟丙基丙烯酸酯、2－全氟丁基乙基丙烯酸酯、3－全氟丁基－2－羟基丙基丙烯酸酯、2－全氟己基乙基丙烯酸酯、3－全氟己基－2－羟基丙基丙烯酸酯、2－全氟辛基乙基丙烯酸酯、3－全氟辛基－2－羟基丙基丙烯酸酯、2－全氟癸基乙基丙烯酸酯、2－全氟－3－甲基丁基乙基丙烯酸酯、3－全氟－3－甲氧基丁基－2－羟基丙基丙烯酸酯、2－全氟－5－甲基己基乙基丙烯酸酯、3－全氟－5－甲基己基－2－羟基丙基丙烯酸酯、2－全氟－7－甲基辛基－2－羟基丙基丙烯酸酯、四氟丙基丙烯酸酯、八氟戊基丙烯酸酯、十二氟庚基丙烯酸酯、十六氟壬基丙烯酸酯、六氟丁基丙烯酸酯、2,2,2－三氟乙基(甲基丙烯酸酯)、2,2,3,3,3－五氟丙基(甲基丙烯酸酯)、2－全氟丁基乙基(甲基丙烯酸酯)、3－全氟丁基－2－羟基丙基(甲基丙烯酸酯)、2－全氟辛基乙基(甲基丙烯酸酯)、3－全氟辛基－2－羟基丙基(甲基丙烯酸酯)、2－全氟癸基乙基(甲基丙烯酸酯)、2－全氟－3－甲基丁基乙基(甲基丙烯酸酯)、3－全氟－3－甲基丁基－2－羟基丙基(甲基丙烯酸酯)、2－全氟－5－甲基己基乙基(甲基丙烯酸酯)、3－全氟－5－甲基己基－2－羟基丙基(甲基丙烯酸酯)、2－全氟－7－甲基辛基乙基(甲基丙烯酸酯)、3－全氟－7－甲基辛基乙基(甲基丙烯酸酯)、四氟丙基(甲基丙烯酸酯)、八氟戊基(甲基丙烯酸酯)、八氟戊基(甲基丙烯酸酯)、十二氟庚基(甲基丙烯酸酯)、十六氟壬基(甲基丙烯酸酯)、1－三氟甲基三氟乙基(甲基丙烯酸酯)、六氟丁基(甲基丙烯酸酯)、三丙烯酰基－十七氟壬烯基－季戊四醇等。
进而，从不存在可通过环境中的分解、或代谢而生成后述的PFOA的可能性等的环境影响的方面考虑，含氟化合物A优选为通式(1)表示的化合物，且为通式(2)表示的化合物。
Rf2－X－OCOCH＝CH2 通式(2)
此处，Rf2是指碳原子数为4～6中的任一者的直链状的全氟烷基。X是指碳原子数为4～8中的任一者的亚烷基。对于通式(2)表示的含氟化合物A而言，更优选Rf2为碳原子数6的直链状的全氟烷基，X为碳原子数6的直链状的亚烷基。
该PFOA，是PerFluoroOctanoic Acid(全氟辛酸)的缩写，就该物质而言，根据最近的研究结果(EPA研究报告“PRELIMINARY RISK ASSESSMENT OF THE DEVELOPMENTALTOXICITY ASSOCIATED WITH EXPOSURE TO PERFLUOROOCTANOIC ACID AND ITS SALTS”(http：//www.epa.gov/opptintr/pfoa/pfoara.pdf))等，对环境造成负荷的担心已明确，2003年4月14日EPA(美国环境保护厅)发表了强化科学调查。
另一方面，Federal Register(FR Vol.68，No.73/April 16，2003[FRL－2303－8])(http：//www.epa.gov/opptintr/pfoa/pfoafr.pdf)、EPA Environmental News FORRELEASE：MONDAY APRIL 14，2003EPA INTENSIFIES SCIENTIFIC INVESTIGATION OF ACHEMICAL PROCESSING AID(http：//www.epa.gov/opptintr/pfoa/pfoaprs.pdf)、EPAOPPT FACT SHEET April 14，2003(http：//www.epa.gov/opptintr/pfoa/pfoafacts.pdf)公开发表了通过具有PerFluoroOctanoic部分的“调聚物”进行分解或代谢，存在形成PFOA的可能性，因此在含氟化合物的使用上要求不含具有PerFluoroOctanoic部分的“调聚物”。
作为满足通式(1)和通式(2)这两者的含氟化合物A的具体例，有4－全氟丁基－丁基丙烯酸酯、4－全氟己基－丁基丙烯酸酯、6－全氟丁基－己基丙烯酸酯、6－全氟己基－己基丙烯酸酯、8－全氟丁基－辛基丙烯酸酯、8－全氟己基－辛基丙烯酸酯等。
接下来，对化合物D进行说明。化合物D为前述的通式(3)表示的化合物。
R3－R4－SiR5 n1(OR6)3－n1 通式(3)
此处，R3表示反应性部分，其定义与R1相同。R4表示碳原子数为1～6中的任一者的亚烷基、或碳原子数为1～6中的任一者的亚烷基醚基。R5、R6表示氢、或碳原子数为1～4中的任一者的烷基。n1表示0～2的整数。
作为该化合物D的具体例，可举出包含丙烯酰氧基乙基三甲氧基硅烷、丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷、丙烯酰氧基丁基三甲氧基硅烷、丙烯酰氧基戊基三甲氧基硅烷、丙烯酰氧基己基三甲氧基硅烷、丙烯酰氧基庚基三甲氧基硅烷、甲基丙烯酰氧基乙基三甲氧基硅烷、甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷、甲基丙烯酰氧基丁基三甲氧基硅烷、甲基丙烯酰氧基己基三甲氧基硅烷、甲基丙烯酰氧基庚基三甲氧基硅烷、甲基丙烯酰氧基丙基甲基二甲氧基硅烷、甲基丙烯酰氧基丙基甲基二甲氧基硅烷及这些化合物中的甲氧基被置换为其他的烷氧基及羟基的化合物在内的物质等。
接下来，对含氟聚合物a的制造方法、及通过使含氟聚合物a与无机粒子反应而得的粒子A的制造方法进行说明。
含氟聚合物a的制造方法、及粒子A的制造方法没有特别限定，可以为下述的1)的方法、2)的方法、或两者组合中的任一方法。
1)使含氟化合物A与化合物D聚合而制作含氟聚合物a，并进行使该含氟聚合物a与无机粒子反应的操作，从而得到粒子A。
2)通过在无机粒子的存在下使含氟化合物A与化合物D聚合而得到含氟聚合物a，从而一边聚合含氟聚合物a，一边同时使含氟聚合物a的一部分与无机粒子反应，由此也得到粒子A。
在1)的情况下，利用与反应性部分的结构相适的方法使含氟化合物A的反应性部分和化合物D的反应性部分进行聚合。例如，在含氟化合物A的反应性部分和化合物D的反应性部分均为(甲基)丙烯酸酯的情况下，使用自由基聚合引发剂进行自由基加成聚合，在含氟化合物A的反应性部分和化合物D的反应性部分均为烷氧基甲硅烷基的情况下，使用酸或碱催化剂进行硅醇缩合反应。
接着，在无机粒子上导入含氟聚合物a。具体而言，使用含氟聚合物a中的来自于化合物D的部分所具有的可与粒子反应的部分(即，是指通式(3)中的“Si－OR6”。)，根据需要适当添加催化剂、或根据需要使用机械性的分散等工艺，将其导入粒子的表面。
在2)的情况下，需要在无机粒子的存在下使含氟化合物A与化合物D聚合，但各自的添加顺序没有特别限定。即，可以使无机粒子与化合物D反应后，添加含氟化合物A进行反应，也可以一边使含氟化合物A与化合物D反应，一边同时与无机粒子反应。
[粒子B、粒子成分b]
本发明的叠层体中的第2层中含有的粒子成分b是来自于涂料组合物中的粒子B的成分。即，涂料组合物中的粒子B在涂布、干燥过程中，由于与粘合剂原料发生反应、粒子B彼此发生反应而形态发生变化等，从而成为粒子成分b。另外，作为粒子B，在使用其表面不具有反应性部分的粒子的情况下、或粒子B不与粘合剂原料反应的情况下，粒子B与粒子成分b完全相同。
构成粒子B的无机粒子优选为与构成粒子A的无机粒子为不同种类的无机粒子。另外，构成粒子B的无机粒子优选为与构成粒子A的无机粒子相比折射率更高的无机粒子。构成粒子B的无机粒子没有特别限定，优选为金属元素、半金属元素的氧化物、氮化物、硼化物、碳酸盐、硫酸盐，更优选为选自Ga、Zr、Ti、Al、In、Zn、Sb、Sn、及Ce中的至少一种元素的氧化物粒子。
作为构成粒子B的无机粒子，具体而言，为选自氧化锆(ZrO2)、氧化钛(TiO2)、氧化铝(Al2O3)、氧化铟(In2O3)、氧化锌(ZnO)、氧化锡(SnO2)、氧化锑(Sb2O3)及铟锡氧化物中的至少一种、或它们间的固溶体、及置换一部分元素、或一部分元素侵入晶格间、一部分元素缺损的固溶体、或种类不同的无机粒子接合在一起的无机粒子。粒子B特别优选为含磷氧化锡(PTO)、含锑氧化锡(ATO)、含镓氧化锌(GZO)、氧化钛(TiO2)、氧化锆(ZrO2)。
构成粒子B的无机粒子的折射率优选为1.55～2.80，更优选为1.58～2.50。构成粒子B的无机粒子的折射率小于1.55时，得到的叠层体的含有粒子成分b的第2层的折射率降低，与含有粒子成分a的第1层的折射率差变小，因此有时透射光的着色抑制效果、使透明导电层的图案不易被看到的效果变得不充分，构成粒子B的无机粒子的折射率大于2.80时，与形成于第1层上的透明导电层的折射率差、及第2层与支撑基材的折射率差增大，因此同样地，有时透射光的着色抑制效果、使透明导电层的图案不易被看到的效果变得不充分。
进而，在本发明的叠层体的优选的制造方法中，构成粒子A的无机粒子为二氧化硅粒子的情况下，构成粒子B的无机粒子特别优选为折射率高于该二氧化硅粒子的无机粒子，作为这样的折射率高的无机粒子，优选使用数均粒径为50nm以下、且折射率为1.55～2.80的无机化合物。作为这样的无机化合物的具体例，可举出锑氧化物、含锑氧化锌、含锑氧化锡(ATO)、含磷氧化锡(PTO)、含镓氧化锌(GZO)、氧化锆(ZrO2)、及/或氧化钛(TiO2)，特别是较优选折射率高的氧化钛、氧化锆。
[粘合剂原料C、粘合剂成分c]
本发明的叠层体的优选的制造方法中的叠层膜优选含有粘合剂成分c。另外，本发明的叠层体的优选的制造方法中使用的涂料组合物优选含有粘合剂原料C。此处，本发明的叠层体的优选的制造方法中，将涂料组合物中含有的粘合剂表示为“粘合剂原料C”，将叠层体的叠层膜中含有的粘合剂表示为“粘合剂成分c”，也存在粘合剂原料C直接作为粘合剂成分c存在的情况(即，也包含涂料组合物的粘合剂原料C以保持原样的形态作为叠层膜中的粘合剂成分c存在的方案)。
作为粘合剂原料C没有特别限定，但从制造性的观点考虑，优选为可利用热及/或活性能量线等固化的粘合剂原料C，粘合剂原料C可以为一种，也可以混合二种以上而使用。另外，从将粒子保持于膜中的观点考虑，优选为具有前述的反应性部位的粘合剂原料C，即，分子中具有烷氧基甲硅烷基、烷氧基甲硅烷基水解而得的硅烷醇基、羧基、羟基、环氧基、乙烯基、烯丙基、丙烯酰基、甲基丙烯酰基、丙烯酰氧基、甲基丙烯酰氧基的粘合剂原料C。进而，粘合剂原料C的前述的反应性部位存在优选的范围。具体而言，优选每个构成单元平均具有2个以上15个以下的反应性部位，更优选平均具有6个以上15个以下的反应性部位。另外，混合多种粘合剂原料C的情况下，该反应性部位数的质量换算平均值优选在上述范围，作为特别优选的形态，可举出每个构成单元平均具有2个以上8个以下的反应性部位的粘合剂原料C1与每个构成单元平均具有9个以上15个以下的反应性部位的粘合剂原料C2的混合物。粘合剂原料C的每个构成单元的反应性部位数的平均值小于2或大于15的情况下，不能得到理想的表面、界面的结构，不能得到充分的透明性、有时不能得到自斜向的观察时使透明导电层的图案不易被看到的效果。其要因虽不明确，但推测是由于反应性部位具有极化了的部位，所以在涂剂中起到调节各粒子成分的相容性的作用。
作为这样的粘合剂原料C，优选成分中使用多官能(甲基)丙烯酸酯，以下例示代表性的例子。作为1分子中具有2个以上的(甲基)丙烯酰氧基的多官能丙烯酸酯及其改性聚合物、低聚物的具体的例子，可以使用季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三丙烯酸酯六亚甲基二异氰酸酯氨基甲酸酯聚合物等。这些单体可以使用1种或混合2种以上使用。作为市售的多官能丙烯酸系组合物，可举出三菱レイヨン株式会社、(商品名“ダイヤビーム”系列等)；长濑产业株式会社、(商品名“デナコール”系列等)；新中村株式会社、(商品名“NKエステル”系列等)；DIC株式会社、(商品名“UNIDIC”等)；东亚合成化学工业株式会社、(“アロニックス”系列等)；日油株式会社、(“ブレンマー”系列等)；日本化药株式会社、(商品名“KAYARAD”系列等)；共荣社化学株式会社、(商品名“ライトエステル”系列等)等，可以利用这些产品。
[有机溶剂]
本发明的叠层体的优选的制造方法中使用的涂料组合物优选除了含有前述的含氟聚合物a、粒子A、粒子B、粘合剂原料C之外，还含有有机溶剂。通过含有有机溶剂，在涂布时提供适度的流动性，由此能够使涂膜的膜厚均匀，另外由于能够确保粒子的运动性因而表面迁移性变好，能够显示良好的特性，故优选。
有机溶剂只要使含氟聚合物a、粒子A、粒子B、粘合剂原料C均匀地溶解、或分散则没有特别限定，但通常优选常压下的沸点为250℃以下的有机溶剂。具体而言，可以使用醇类、酮类、醚类、酯类、烃类、酰胺类、含氟化合物类等。可以使用它们中的1种或组合使用2种以上。
作为醇类，可举出例如甲醇、乙醇、异丙醇、异丁醇、正丁醇、叔丁醇、乙氧基乙醇、丁氧基乙醇、二乙二醇单乙基醚、苄醇、苯乙醇等。作为酮类，可举出例如丙酮、甲基乙基酮、甲基异丁基酮、环己酮等。作为醚类，可举出例如乙二醇单乙基醚、乙二醇单丁基醚、丙二醇单乙基醚乙酸酯等。作为酯类，可举出例如乙酸乙酯、乙酸丁酯、乳酸乙酯、乙酰乙酸甲酯、乙酰乙酸乙酯等。作为芳香族类，可举出例如甲苯、二甲苯等。作为酰胺类，可举出例如N,N－二甲基甲酰胺、N,N－二甲基乙酰胺、N－甲基吡咯烷酮等。
[涂料组合物中的其他成分]
本发明的叠层体的优选的制造方法中使用的涂料组合物优选进一步包含聚合引发剂、固化剂。聚合引发剂及固化剂用于促进粒子与粘合剂原料的反应、或促进粘合剂原料间的反应。
该聚合引发剂及固化剂可以根据涂料组合物中含有的粘合剂原料的反应性部位而使用各种的聚合引发剂及固化剂。另外，可以将多种聚合引发剂同时使用，也可以单独使用。进而，也可以并用酸性催化剂、热聚合引发剂、光聚合引发剂。作为酸性催化剂的例子，可以举出盐酸水溶液、甲酸、乙酸等。作为热聚合引发剂的例子，可举出过氧化物、偶氮化合物。另外，作为光聚合引发剂的例子，可举出烷基苯酮系化合物、含硫系化合物、酰基氧化膦系化合物、胺系化合物等，但并不限定于此，从固化性的方面考虑，优选烷基苯酮系化合物，作为具体例，可举出2,2－二甲氧基－1,2－二苯基乙烷－1－酮、2－甲基－1－(4－甲基噻吩基)－2－吗啉代丙烷－1－酮、2－苄基－2－二甲基氨基－1－(4－苯基)－1－丁烷、2－(二甲基氨基)－2－[(4－甲基苯基)甲基]－1－(4－苯基)－1－丁烷、2－苄基－2－二甲基氨基－1－(4－吗啉代苯基)－1－丁烷、2－(二甲基氨基)－2－[(4－甲基苯基)甲基]－1－[4－(4－吗啉基)苯基]－1－丁烷、1－环己基－苯基酮、2－甲基－1－苯基丙烷－1－酮、1－[4－(2－乙氧基)－苯基]－2－羟基－2－甲基－1－丙烷－1－酮等。
需要说明的是，就该聚合引发剂、固化剂、催化剂的含有比例而言，相对于涂料组合物中的粘合剂原料100质量份优选为0.001～30质量份，较优选为0.05～20质量份，更优选为0.1～10质量份。
作为其他成分，本发明的叠层体的优选的制造方法中使用的涂料组合物中可以根据需要进一步适当含有表面活性剂、增稠剂、均化剂、紫外线吸收剂、抗氧化剂、阻聚剂、pH调节剂、稳定剂等添加剂。
[涂料组合物中的各成分的含量]
对于本发明的叠层体的优选的制造方法中使用的涂料组合物而言，在[叠层体的制造方法]的项中使用后述的“涂布一次涂料组合物，接着进行干燥、固化，由此形成包含折射率不同的2层的叠层膜的方法”的情况下，粒子A/粒子B(质量比率)优选为1/20～5/1。通过使粒子A/粒子B＝1/20～5/1，能够使所得的叠层体的第1层的厚度与第2层的厚度之比成为一定。因此，通过1次的涂布使第1层和第2层的厚度同时成为必要的厚度是容易的，故优选。
作为粒子A/粒子B(质量比率)，更优选为1/18～3/1，特别优选为1/15～2/1。
另外，优选为下述方案：涂料组合物100质量％中，粒子A的含量为0.03～26.3质量％，粒子B的含量为0.06～57.5质量％，含氟聚合物a的含量为0.003～27.2质量％，粘合剂原料的含量为0.02～43.2质量％，有机溶剂的含量为40～98质量％，引发剂、固化剂及催化剂等其他成分的含量为0.1～20质量％。
[支撑基材]
本发明的叠层体、及本发明的透明导电性叠层体具有支撑基材。作为支撑基材，相较于玻璃板更优选塑料膜。塑料膜的材料的例子包括纤维素酯(例如，三乙酸纤维素、二乙酸纤维素、丙酸纤维素、丁酸纤维素、乙酸丙酸纤维素、硝酸纤维素)、聚酰胺、聚碳酸酯、聚酯(例如，聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯、聚对苯二甲酸1,4-环己烷二甲醇酯、聚1,2－二苯氧基乙烷－4,4’－二甲酸乙二醇酯(Polyethylene-1,2-diphenoxyethane-4,4’-dicarboxylate)、聚对苯二甲酸丁二醇酯)、聚苯乙烯(例如，间同立构聚苯乙烯)、聚烯烃(例如，聚丙烯、聚乙烯、聚甲基戊烯)、聚砜、聚醚砜、聚芳酯、聚醚酰亚胺、聚甲基丙烯酸甲酯及聚醚酮等，其中特别优选三乙酸纤维素、聚碳酸酯、聚对苯二甲酸乙二醇酯及聚萘二甲酸乙二醇酯。
支撑基材的透光率优选为80～100％，更优选为86～100％。此处，所谓透光率，是照射光时透过试料的光的比例，为可根据JIS K 7361－1(1997)进行测定的透明材料的透明性的指标。作为透明导电性叠层体，该值越大越好，该值小时，雾度值上升，有时发生图像劣化。雾度是JIS K7136(2000)中规定的透明材料的浊度的指标。雾度越小表示透明性越高。
支撑基材的雾度优选为0.01～2.0％，较优选为0.01～1.0％。
支撑基材的折射率优选为1.4～1.7。另外，较优选支撑基材的折射率接近上述第2层的折射率。支撑基材的折射率与上述第2层的折射率接近的情况下，能够抑制反射率谱的波动(ripple)的发生。需要说明的是，此处所谓折射率，是光从空气中进入某物质中时，在其界面改变行进方向的角度的比例，可利用JIS K 7142(1996)中规定的方法测定。
支撑基材可以含有红外线吸收剂或紫外线吸收剂。红外线吸收剂的含量在支撑基材的全部成分100质量％中优选为0.01～20质量％，较优选为0.05～10质量％。可以在透明支持体中含有非活性无机化合物的粒子作为滑动剂。非活性无机化合物的例子包括SiO2、TiO2、BaSO4、CaCO3、滑石及高岭土。进而，可以对支撑基材实施表面处理。
也可以对支撑基材的表面实施各种表面处理。表面处理的例子包括化学品处理、机械处理、电晕放电处理、火焰处理、紫外线照射处理、高频处理、辉光放电处理、活性等离子体处理、激光处理、混酸处理及臭氧氧化处理。其中，优选辉光放电处理、紫外线照射处理、电晕放电处理及火焰处理，更优选辉光放电处理、电晕放电处理和紫外线处理。
支撑基材可以具有易粘结层、硬涂层、防粘连层、防静电层、紫外线吸收层、低聚物阻挡层(oligomer block layer)等层(将它们称为功能性层)。
进而，本发明的叠层体的优选的制造方法中，支撑基材的涂布涂料组合物的一侧的面的基于JIS R 1683(2007)的算术平均粗糙度Ra优选为40nm以下。算术平均粗糙度较优选为35nm以下，更优选为30nm以下。算术平均粗糙度Ra大于40nm时，粒子a的表面迁移性变得不充分，在膜中凝集，或第2层过度地浸入第1层等，有时自正向观察时，不能得到透射光的着色降低效果、使透明导电层的图案不易被看到的效果。另外，不能在叠层膜上面内均匀地形成透明导电层，有时表面电阻值上升、或涂膜的透明性下降。
[叠层体的制造方法]
本发明的叠层体的制造方法优选为下述方法：在前述的支撑基材的至少一侧涂布前述的涂料组合物，接着进行干燥、固化，由此形成叠层膜的各层，特别优选为下述方法：涂布1次前述的涂料组合物，接着进行干燥、固化，由此形成包含折射率不同的2层的叠层膜。
首先，在本发明的叠层体的优选的制造方法中，利用浸渍涂布法、气刀涂布法、幕帘涂布法、辊涂法、线棒涂布法、凹版涂布法或模具涂布法(参照美国专利2681294号说明书)等将涂料组合物涂布到支撑基材上。
接着，将涂布于支撑基材上的液膜干燥。从将有机溶剂从所得的叠层体的叠层膜中完全除去的观点出发，以及从促进液膜中的粒子的运动从而提高表面迁移性的观点出发，也优选在干燥工序中伴随着液膜的加热。在干燥初期中只要可得到0.1g/(m2.s)以上1.4g/(m2.s)以下的范围的干燥速度，则并不特别限定于特定的风速、温度。
进而，可以对干燥工序后形成的支撑基材上的叠层膜进行利用热或照射能量线而进行的进一步的固化操作(固化工序)。该固化工序是指促进前述的涂料组合物中的粘合剂原料等所具有的反应性部位间的反应的工序。固化工序中，利用热进行固化的情况下，虽然也取决于支撑基材的种类，但支撑基材为塑料膜的情况下，优选为室温～200℃，从固化反应的活化能的观点考虑，较优选为100～200℃，更优选为130～200℃。
另外，利用能量线进行固化的情况下，从通用性的方面考虑，优选为电子束(EB线)及/或紫外线(UV线)。另外，在利用紫外线进行固化的情况下，从能够防止氧阻碍的方面考虑，优选氧分压尽可能低，较优选在氮气氛下(氮吹扫)进行固化。另外，利用热进行固化的情况下，可以同时进行干燥工序和固化工序。
[透明导电性叠层体]
通过在叠层体的第1层上形成透明导电层，能够得到本发明的透明导电性叠层体。所谓该透明导电性叠层体，是至少从支撑基材侧依次叠层有第2层、第1层及透明导电层的构成，即，为在上述叠层体的第1层上叠层有透明导电层的构成。
该透明导电层可以为含有透明导电性氧化物的层。本发明中的透明导电性氧化物是以氧化铟或氧化锌作为主成分的物质，就以氧化铟作为主成分的透明导电性氧化物而言，可以单独使用氧化铟，但出于提供导电性的目的，也可以进行掺杂。对于掺杂而言，包括例如锡、锌、铌、钨、钛、锆、钼等，其中广泛使用掺杂有锡的氧化铟(ITO)。就以氧化锌作为主成分的透明导电性氧化物而言，也可以单独使用氧化锌，但出于提供导电性的目的，也可以进行掺杂。对于掺杂而言，包括例如铟、锡、铝、硼、镓、硅等。这些透明导电性氧化物层可利用已知的方法来成膜，可以举出例如溅射法、有机金属化学气相沉积法(MOCVD)、热CVD法、等离子体CVD法、分子束外延法(MBE)或脉冲激光沉积法(PLD)，从能够对大面积均匀地成膜的观点考虑，优选溅射法。
对于形成有透明导电层的透明导电性叠层体而言，为了提高导电性和光线透射率，优选进行退火处理。对于退火气氛，优选在真空或非活性气体气氛下进行，如果在氧气氛下进行退火，则透明导电性氧化物被热氧化，有时导电率下降(表面电阻值的上升)。退火温度优选结晶性提高的温度以上，但另一方面，如果从支撑基材的观点考虑，优选为低温，从热收缩、起皱、卷曲、低聚物析出、密合性降低、着色等观点考虑，温度越低越好，所以优选在能够得到导电性、光线透射率的范围内以尽可能低的温度进行。
透明导电性叠层体的表面电阻值根据所使用的用途的不同而不同，特别是用于必须进行图案化的静电电容型触摸面板时，可以通过使其优选为50～500Ω/□、较优选为100～300Ω/□而使用。表面电阻值小于50Ω/□、或大于500Ω/□时，有时触摸面板的识别精度降低。
透明导电性叠层体的透明导电层的膜厚优选为4～50nm的范围，较优选为10～40nm。透明导电层的膜厚小于4nm的情况下，不易变成连续的薄膜，有时不易得到良好的导电性。另一方面，透明导电层的膜厚大于50nm的情况下，对透明导电性薄膜层进行图案化时，有时难以使具有透明导电层的部分和不具有透明导电层的部分的光学特性接近。
[透明导电性叠层体的制造方法]
对于本发明的透明导电性叠层体而言，可在本发明的叠层体的第1层上，根据所需要的膜厚，适当使用真空蒸镀法、溅射法、CVD法、离子镀法、喷射法等而得到。例如，为溅射法的情况下，可以利用使用了氧化物靶材的通常的溅射法、或使用了金属靶材的反应性溅射法等。此时，作为反应性气体，可以导入氧、氮等，也可以并用添加臭氧、照射等离子体、离子辅助等手段。另外，可以在不破坏本发明目的的范围内对基板施加直流、交流、高频等偏压。进而，为了提高导电性、光透射性，优选进行退火处理。
[用途]
本发明的叠层体、透明导电性叠层体能够降低光散射、抑制图案显现，所以可适合用作在各种电子设备中所使用的触摸面板、触摸面板的透明电极中所使用的透明导电性叠层体、及用于调节透明导电性叠层体的折射率的叠层体。在本发明的叠层体叠层透明导电层而成的透明导电性叠层体通过在透明导电层形成图案，由此能够特别适合用作触摸面板的透明电极。
实施例
接下来，基于实施例说明本发明，但本发明并不限定于这些实施例。
[含有粒子A及含氟聚合物a的混合液的制备]
[含有粒子A及含氟聚合物a的混合液(A－1)的制备]
在异丙醇分散胶体二氧化硅(日产化学工业株式会社制胶体二氧化硅溶胶：将固态成分稀释为20质量％，数均粒径12nm)10g中混合甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷2.8g、10质量％甲酸水溶液0.26g和水0.46g，于70℃搅拌1小时。接着，加入C6F13－(CH2)6－OCO－CH＝CH2 2.5g及2,2－偶氮二(2,4－二甲基戊腈)0.17g后，于80℃加热搅拌60分钟。然后，加入甲基乙基酮进行稀释，制成固态成分为3.5质量％的“含有粒子A及含氟聚合物a的混合液(A－1)”。
[含有粒子A及含氟聚合物a的混合液(A－2)～(A－7)的制备]
依照表1中记载的配方设定无机粒子材料及添加量，除此之外，利用与含有粒子A及含氟聚合物a的混合液(A－1)同样的方法进行制备。
[粒子B的选定]
将下述材料分别设定为粒子B。
[粒子B(1)]
氧化锆粒子分散物(日产化学工业株式会社制：固态成分30质量％、数均粒径10nm)。
[粒子B(2)]
二氧化钛粒子分散物(ELCOM日挥催化剂化成株式会社制：固态成分30质量％、数均粒径8nm)。
[涂料组合物的制备]
[涂料组合物1的制备]
混合下述材料，得到涂料组合物1。
含有粒子A及含氟聚合物a的混合液(A－1) 53.0质量份
粒子B(1) 7.8质量份
粘合剂原料C1(季戊四醇三丙烯酸酯：PETA) 0.46质量份
粘合剂原料C2(ダイセル·オルネクス株式会社制聚氨酯丙烯酸酯：KRM8452)1.09质量份
光聚合引发剂(イルガキュア127：Irg127チバスペシャリティケミカルズ社制)0.26质量份
有机溶剂
甲基异丁基酮(MIBK) 26.4质量份
乙二醇单丁基醚乙酸酯(EGMBA) 11.0质量份。
[涂料组合物2的制备]
使用(二季戊四醇六丙烯酸酯：DPHA)作为粘合剂原料C1，除此之外，利用与涂料组合物1的制备同样的方法进行制备。
[涂料组合物3的制备]
混合下述材料，得到涂料组合物3。
含有粒子A及含氟聚合物a的混合液(A－2) 53.0质量份
粒子B(1) 7.8质量份
粘合剂原料C1(大阪有机化学工业三季戊四醇丙烯酸酯：ビスコート#802) 1.55质量份
光聚合引发剂(イルガキュア127：Irg127チバスペシャリティケミカルズ社制)0.25质量份
有机溶剂
甲基异丁基酮(MIBK) 26.4质量份
乙二醇单丁基醚乙酸酯(EGMBA) 11.0质量份。
[涂料组合物4～7及11的制备]
将表2中记载的含有粒子A及含氟聚合物a的混合液、粒子B、粘合剂原料C1及有机溶剂组合使用，除此之外，利用与涂料组合物3的制备同样的方法进行制备。
[涂料组合物8的制备]
混合下述材料，得到涂料组合物8。
含有粒子A及含氟聚合物a的混合液(A－2) 53.0质量份
粒子B(1) 6.5质量份
粘合剂原料C1(大阪有机化学工业三季戊四醇丙烯酸酯：ビスコート#802) 1.95质量份
光聚合引发剂(イルガキュア127：Irg127チバスペシャリティケミカルズ社制)0.25质量份
有机溶剂
甲基异丁基酮(MIBK) 27.3质量份
乙二醇单丁基醚乙酸酯(EGMBA) 11.0质量份。
[涂料组合物9的制备]
混合下述材料，得到涂料组合物9。
含有粒子A及含氟聚合物a的混合液(A－4) 53.8质量份
粘合剂原料(季戊四醇三丙烯酸酯：PETA) 0.31质量份
光聚合引发剂(イルガキュア127：Irg127チバスペシャリティケミカルズ社制)0.05质量份
有机溶剂
甲基异丁基酮(MEK) 34.84质量份
乙二醇单丁基醚乙酸酯(EGMBA) 11.0质量份。
[涂料组合物10的制备]
混合下述材料，得到涂料组合物10。
粒子B(2) 7.7质量份
粘合剂原料(季戊四醇三丙烯酸酯：PETA) 1.23质量份
光聚合引发剂(イルガキュア127：Irg127チバスペシャリティケミカルズ社制)0.20质量份
有机溶剂
甲基异丁基酮(MEK) 79.87质量份
乙二醇单丁基醚乙酸酯(EGMBA) 11.0质量份。
[涂料组合物12、13及18的制备]
按照表2中的记载，作为含有粒子A及含氟聚合物a的混合液，使用(A－5)、(A－6)、(A－7)，作为粘合剂原料C2，使用ダイセル·オルネクス株式会社制聚氨酯丙烯酸酯：KRM7804，除此之外，利用与涂料组合物3的制备同样的方法进行制备。
[涂料组合物14～17及19、20的制备]
按照表2中的记载，作为粘合剂原料C1，使用ダイセル·オルネクス株式会社制聚氨酯丙烯酸酯：KRM4858、季戊四醇三丙烯酸酯：PETA、大阪有机化学工业三季戊四醇丙烯酸酯：ビスコート#802、大阪有机化学工业制酚醛改性丙烯酸酯：HQMA，作为粘合剂原料C2，使用ダイセル·オルネクス株式会社制聚氨酯丙烯酸酯：KRM8655、大阪有机化学工业制多分支树枝状高分子型丙烯酸酯：STAR－501、ダイセル·オルネクス株式会社制聚氨酯丙烯酸酯：KRM7804，除此之外，利用与涂料组合物1的制备同样的方法进行制备。
[硬涂层的制成]
混合下述材料，得到硬涂层涂料组合物。
季戊四醇三丙烯酸酯(PETA) 30.0质量份
イルガキュア907(チバスペシャリティケミカルズ社制) 1.5质量份
甲基异丁基酮(MIBK) 73.5质量份。
接着，使用棒涂机，以固态成分涂布膜厚成为2μm的方式调节棒涂机的号数，涂布前述的硬涂层涂料组合物。作为支撑基材，使用在PET树脂膜上涂布有易粘结性涂料的“ルミラー”(注册商标)U48(東レ(株)制)。
[叠层体的制造方法]
以下示出叠层体的制成方法。将各叠层体的构成示于表3。
利用棒涂机(#3)在硬涂层上涂布前述的涂料组合物后，进行下述所示的第一阶段的干燥，接着进行第二阶段的干燥。
第一阶段
热风温度 50℃
热风风速 1.5m/s
风向相对于涂布面平行
干燥时间 0.5分钟
第二阶段
热风温度 100℃
热风风速 5m/s
风向相对于涂布面垂直
干燥时间 1分钟
需要说明的是，热风的风速为由吹出部的动压测定值换算为风速的值。
干燥后，使用160W/cm2的高压汞灯(アイグラフィックス(株)制)在氧浓度为0.1体积％下照射照度为600W/cm2、累积光量为800mJ/cm2的紫外线，使其固化。
按照表4所示的组合，制成实施例1～6、比较例1～6的叠层体。需要说明的是，实施例6使用棒涂机(#5)，比较例6使用棒涂机(#7)，除此之外，与上述方法同样地通过涂布涂料组合物(1)并使其干燥而制成。另外，关于比较例4，依次按照上述条件涂布前述的涂料组合物11及10，制成叠层体。
[第1层及第2层的折射率]
关于第1层、第2层的各自的折射率，利用反射分光膜厚仪(大冢电子制、商品名[FE－3000])针对叠层体的叠层膜测定300～800nm范围内的反射率，使用该装置附属的软件[FE－Analysis]，按照大冢电子株式会社制[膜厚测定装置综合目录P6(非线性最小二乘法)]中记载的方法求出各层的550nm处的折射率。
使用Cauchy的分散式(数学式1)作为折射率的波长分散的近似式并利用最小二乘法(曲线拟合法)计算光学常数(C1、C2、C3)，算出550nm处的折射率，将第1层的折射率记为n1，第2层的折射率记为n2。
[算术平均粗糙度Ra]
利用下述的装置和条件进行表面结构的测定，求出JIS B0601(2001)所规定的中心线平均粗糙度Ra。
装置：Nanoscope IIIa(Degital Instruments社制)
测定模式：轻敲模式
扫描范围：5μm×5μm
分辨率：512×512像素。
[叠层体的透明性]
叠层体的透明性通过测定雾度进行判定。关于雾度的测定，基于JIS－K7136(2000)，使用日本电色工业(株)制雾度计，以光从叠层体样品的支撑基材的相反侧(叠层膜侧)透过的方式置于装置上并进行测定。需要说明的是，在同一样品的不同3处进行测定，将其平均值作为叠层体的雾度(Hz)。
[实测布鲁斯特角]
使用用于U－4100形分光光度计((株)日立ハイテクノロジーズ制)的微小角度可变绝对反射附属装置对叠层体的第1层与空气层的界面的实测布鲁斯特角进行测定。首先，在下述的测定条件下测定入射角50°～60°的每0.5°的反射率谱，对于各个反射率谱，以380nm～780nm的范围的每0.5°的反射率值的平均值的形式算出平均反射率。接着，将前述的平均反射率相对于入射角进行作图，读取平均反射率成为最小的角度。在从叠层体的第1层的表面任意地选定的5处实施同样的测定，将它们的平均值作为实测布鲁斯特角θr1。
＜测定条件＞
测定范围：340nm～800nm
狭缝宽度：2nm
扫描速度：600nm/min
偏振元件：P偏振光
测定入射角度：50°～60°。
[第1层及第2层的截面形状及膜厚]
使用透射型电子显微镜(TEM)观察截面，由此测定支撑基材上的第1层和第2层的截面形状及层厚度。各层的厚度按照以下方法进行测定。利用软件(图像处理软件ImageJ/开发商：アメリカ国立卫生研究所(NIH))从利用TEM以20万倍的倍率拍摄叠层膜的截面的超薄切片所得的图像读取各层的厚度。将测定共计30个点的层厚度而求出的平均值作为膜厚。
[面内构成比率]
首先，使用图4说明面内构成比率的算出方法的概要。对于面内构成比率而言，是在截面观察图像中，由平行于基底基材与第2层的界面(22)的任意的直线(23)、和通过图像处理所得的第1层与第2层的边界线(24)估算的值。任意的直线(23)被边界线(24)分割为属于第1层的线段(25)和属于第2层的线段(26)。使用该线段的长度在线段的总长度中所占的比例作为代表面内中各成分所占的面积比率的值。
具体而言，使用透射型电子显微镜(TEM)观察截面，由此利用下述方法算出任意的面内相互浸入的第1层和第2层所占的区域的比率。利用TEM以20万倍的倍率对叠层膜的截面的超薄切片拍摄图像。接着，利用图像处理软件EasyAccess Ver6.7.1.23，以基底基材与第2层的界面(22)成为水平的方式实施旋转、整修加工，然后，将图像变换为灰阶图像，以最亮部和最暗部收敛于8bit的阶调曲线的方式调节白平衡，进而，以第1层与第2层的边界线(24)可被明确区别的方式调节对比度。接着，使用软件(图像处理软件ImageJ/开发商：アメリカ国立卫生研究所(NIH))，以前述的第1层与第2层的边界为境进行像素的二值化，利用Analize Particles(粒子解析)功能来取得前述的第1层与第2层的边界线(24)的坐标信息。接着，将算出面内构成比率的任意的直线(23)与前述的第1层和第2层的边界线(24)的坐标信息进行比照，利用交点的坐标将“算出面内构成比率的线段”分割为“属于第1层的线段(25)”和“属于第2层的线段(26)”。此时，将“属于第1层的线段(25)”的长度的合计记为L1，将“属于第2层的线段(26)”的长度的合计记为L2，将相对于由其合计算出的“算出面内构成比率的线段”的长度L的比例定义为“面内构成比率”，进行计算。
[第1层与第2层相互侵入的区域的厚度]
将利用上述方法算出的面内构成比率在第1层、第2层均小于90％的区域定义为“第1层和第2层相互侵入的区域”。利用下述步骤算出该区域的厚度。按照上述的面内构成比率的算出方法，算出与基底基材和第2层的界面平行的各线段上的第2层的面内构成比率，以纵轴为面内构成比率、横轴为距基底基材与第2层的界面的距离制图。由该图表读取第2层的面内构成比率大于10％且小于90％的部分的距离，作为第1层与第2层相互侵入的区域的厚度。
需要说明的是，利用一系列的图像处理算出的长度的测定下限由“观察截面时的倍率”和“图像中含有的像素数”决定。上述解析时的截面图像的像素数为1,280×1,024，所得的截面图像的短边的长度大约为500nm，因此此处，大约0.5nm左右为测定下限。即，以大约0.5nm左右的间隔在厚度方向上画出直线(23)，制成上述的图表。
[透明导电层的形成]
在上述叠层体的第1层上，将包含铟－锡复合氧化物的透明导电层成膜。此时，将溅射前的压力设为1×10－5Pa，将含有36质量％氧化锡的氧化铟(住友金属矿山株式会社制、密度6.9g/cm3)作为靶材，施加2W/cm2的DC电力。另外，使Ar气体以130sccm的流速流动，使O2气体以表面电阻值成为最小的流速流动，在0.67Pa的气氛下使用DC磁控管溅射法进行成膜。
其中，不使用通常的DC，为了防止电弧放电，使用日本イーエヌアイ制RPG－100以50kHz周期施加5μs宽度的脉冲。另外，将中心辊温度设为10℃，进行溅射。
此时，利用溅射工艺监视器(LEYBOLDINFICON社制、XPR2)对气氛的氧分压进行随时观测，同时以包含铟－锡复合氧化物的透明导电层中的氧化度成为恒定的方式反馈到氧气的流量计及DC电源。
溅射后，在真空度0.01Pa以下、温度160℃的条件下进行10分钟退火，沉积厚度为30nm、折射率为1.96的包含铟－锡复合氧化物的透明导电层，制成透明导电性叠层体。
[透明导电性叠层体的透明导电层的图案化]
在利用上述透明导电层的形成而制成的透明导电性叠层体上印刷蚀刻抗蚀剂后，浸渍于1N盐酸中，接着，利用碱浸渍，形成1cm×3cm的透明导电层的图案(以下，将其作为已完成了图案形成的透明导电性叠层体)。
[透明导电层的密合性]
对于利用透明导电层的形成而形成的透明导电性叠层体，在常态下(23℃、相对湿度65％)，将具有透明导电层的面的1cm×1cm的区域均等地分割为10格×10格，划出100个1mm2的十字划格(crosscut)，在其上粘附ニチバン株式会社制セロハン胶带(型号：CT405AP－12)，使用橡胶辊以荷重19.6N往复3次，进行按压后，握持胶带端部，以90度方向瞬时剥离，利用透明导电层的残存的个数进行5阶段评价(5：91个～100个、4：81个～90个、3：71个～80个、2：61个～70个、1：0个～60个)。
[透明导电层的图案识别性(正向)]
在已完成了图案形成的透明导电性叠层体的透明导电层的相反侧粘附黑色的胶带，针对样品从正面观察时的透明导电层图案的显示情况，按照5阶段进行评价。
5：完全看不到图案
4：图案依稀可见。
3：图案虽略微可见，但不会注意。
2：图案略微可见，令人注意。
1：图案明确可见。
[透明导电层的图案识别性(斜向)]
在已完成了图案形成的透明导电性叠层体的透明导电层的相反侧粘附黑色的胶带，针对样品从40～60°方向入射荧光灯光，使用偏振元件选择性地仅对叠层体表面的反射光中的P偏振光进行观察，将此时的透明导电层的图案的显示情况按照5阶段进行评价。
5：完全看不到图案
4：图案依稀可见。
3：图案虽略微可见，但不会注意。
2：图案略微可见，令人注意。
1：图案明确可见。
[面内不均]
将已完成了图案形成的透明导电性叠层体切出20cm×30cm尺寸的片状，在透明导电层的相反侧粘附黑色的胶带，将对于样品片材的中央从正面观察时的、片材内的叠层体的色调的均匀性及透明导电层的图案的显示情况，按照5阶段进行评价。
5：色调无偏差，透明导电层的图案在片材整个区域在正向看起来同等。
4：色调依稀不均，但不影响透明导电层的图案的显示情况。
3：色调略有不均，但不影响透明导电层的图案的显示情况。
2：色调不均，在片材内，部分的透明导电层的图案略微显著
1：色调明显不均，在片材内，部分的透明导电层的图案显著。
将含有粒子A及含氟聚合物a的混合液的配方汇总于表1，将涂料组合物的组成汇总于表2，将叠层体的构成和评价结果汇总于表3，将叠层体的布鲁斯特角和透明导电性叠层体的评价结果汇总于表4。
[表1]
[表2]
[表3]
[表4]
附图标记说明
1、8、15 叠层体
2、9、16 支撑基材
3、10、17 叠层膜
4、11、18 第1层
5、12、19 第2层
6、13、20 构成粒子成分a的无机粒子
7、14、21 构成粒子成分b的无机粒子
22 基底基材与第2层的界面
23 算出面内构成比率的任意的直线
24 第1层与第2层的边界线
25 属于第1层的线段
26 属于第2层的线段

Claims (4)

1.一种叠层体，其在支撑基材的至少一侧具有从支撑基材侧依次叠层第2层、第1层而成的叠层膜，所述第1层与所述第2层的折射率不同，所述叠层膜含有粘合剂成分c，该粘合剂成分c具有由每个构成单元平均具有2个以上8个以下的反应性部位的粘合剂原料C1与每个构成单元平均具有9个以上15个以下的反应性部位的粘合剂原料C2得到的结构，并且所述叠层体满足以下(A)～(D)的全部条件：
(A)n2＞n1 (式1)
(B)Ra1≤5nm (式2)
(C)Hz≤0.6％ (式3)
(D)θr1－θi1＞1.0° (式4)
n1：第1层的折射率，n2：第2层的折射率；
Ra1：第1层与空气层的界面的算术平均粗糙度；
Hz：叠层体的雾度；
θi1：由第1层的折射率n1和空气的折射率n0通过下式算出的第1层与空气层的界面的理论布鲁斯特角；
tanθi1＝n1/n0
θr1：在第1层与空气层的界面p波反射率成为极小的实测布鲁斯特角。
2.如权利要求1所述的叠层体，所述叠层膜满足以下(E)～(G)的全部条件：
(E)0.2≤n2－n1 (式5)
(F)Tt≤150nm (式6)
(G)55°≤θr1≤60° (式7)
Tt：叠层膜的膜厚。
3.一种透明导电性叠层体，其是在权利要求1或2所述的叠层体上叠层透明导电层而成的。
4.一种触摸面板，其使用了权利要求3所述的透明导电性叠层体。
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