CN114578979A - 一种触控基板的制备方法及触控基板、触控显示装置 - Google Patents

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Abstract

本申请提供了一种触控基板的制备方法及触控基板、触控显示装置，触控基板包括衬底基板和触控电极，其中，衬底基板的一侧依次层叠设置有第一膜层、第二膜层和第三膜层，第二膜层的折射率小于第一膜层和第三膜层的折射率。本申请技术方案通过在触控基板中交替层叠设置高折射率膜层和低折射率膜层，使得触控基板具备镜面反射功能。

Description

一种触控基板的制备方法及触控基板、触控显示装置
技术领域
本发明涉及显示技术领域，特别是涉及一种触控基板的制备方法及触控基板、触控显示装置。
背景技术
随着触控技术的发展，触控面板作为人机交互系统的核心部件，已经被广泛运用到各种数字信息显示系统中，以满足人们对于信息交互、用户体验的需求。另外，目前市场上的镜面显示产品，无法满足人们在智慧物联时代对触控、人机交互的需求。
发明内容
本发明提供一种触控基板的制备方法及触控基板、触控显示装置，以使触控基板具备镜面反射功能。
为了解决上述问题，本发明公开了一种触控基板，所述触控基板包括衬底基板和触控电极，
其中，所述衬底基板的一侧层叠设置有第一膜层、第二膜层和第三膜层，所述第一膜层靠近所述衬底基板设置，所述第二膜层设置在所述第一膜层与所述第三膜层之间，所述第二膜层的折射率小于所述第一膜层和所述第三膜层的折射率。
在一种可选的实现方式中，所述第一膜层、所述第二膜层和所述第三膜层均为绝缘材料，所述触控电极包括：设置在所述第一膜层与所述第二膜层之间的第一触控电极，以及设置在所述第二膜层与所述第三膜层之间的第二触控电极。
在一种可选的实现方式中，所述触控电极包括设置在所述衬底基板背离所述第一膜层一侧的第一触控电极和第二触控电极，所述第二触控电极设置在所述第一触控电极背离所述衬底基板的一侧，所述触控基板还包括：
设置在所述衬底基板与所述第一触控电极之间的第一绝缘层；
设置在所述第一触控电极与所述第二触控电极之间的第二绝缘层；
设置在所述第二触控电极背离所述衬底基板一侧的第三绝缘层。
在一种可选的实现方式中，所述触控基板还包括：层叠设置在所述衬底基板背离所述第一膜层一侧的第四膜层、第五膜层和第六膜层，所述第四膜层靠近所述衬底基板设置，所述第五膜层设置在所述第四膜层与所述第六膜层之间，所述第五膜层的折射率小于所述第四膜层和所述第六膜层的折射率。
在一种可选的实现方式中，所述第四膜层、所述第五膜层和所述第六膜层均为绝缘材料，所述触控电极包括：设置在所述第四膜层与所述第五膜层之间的第一触控电极，以及设置在所述第五膜层与所述第六膜层之间的第二触控电极。
在一种可选的实现方式中，所述第一膜层和所述第三膜层的材料包括以下至少之一：二氧化钛和五氧化二铌，所述第二膜层的材料包括以下至少之一：二氧化硅和氟化镁。
为了解决上述问题，本发明还公开了一种触控显示装置，包括显示面板以及任一实施例所述的触控基板，所述触控基板位于所述显示面板的出光侧。
在一种可选的实现方式中，所述显示面板位于所述衬底基板背离所述第一膜层的一侧。
在一种可选的实现方式中，所述触控基板与所述显示面板通过光学胶贴合。
为了解决上述问题，本发明还公开了一种触控基板的制备方法，所述触控基板包括衬底基板和触控电极，所述制备方法包括：
提供所述衬底基板；
在所述衬底基板的一侧依次形成第一膜层、第二膜层和第三膜层，其中，所述第二膜层的折射率小于所述第一膜层和所述第三膜层的折射率。
在一种可选的实现方式中，所述第一膜层、所述第二膜层和所述第三膜层均为绝缘材料，所述触控电极包括第一触控电极和第二触控电极，所述在所述衬底基板的一侧依次形成第一膜层、第二膜层和第三膜层的步骤，包括：
在所述衬底基板的一侧依次形成所述第一膜层、所述第一触控电极、所述第二膜层、所述第二触控电极和所述第三膜层。
在一种可选的实现方式中，所述触控电极包括第一触控电极和第二触控电极，所述制备方法还包括：
在所述衬底基板背离所述第一膜层的一侧依次形成第一绝缘层、所述第一触控电极、第二绝缘层、所述第二触控电极和第三绝缘层。
在一种可选的实现方式中，所述制备方法还包括：
在所述衬底基板背离所述第一膜层的一侧依次形成第四膜层、第五膜层和第六膜层，其中，所述第五膜层的折射率小于所述第四膜层和所述第六膜层的折射率。
在一种可选的实现方式中，所述第四膜层、所述第五膜层和所述第六膜层均为绝缘材料，所述触控电极包括第一触控电极和第二触控电极，所述在所述衬底基板背离所述第一膜层的一侧依次形成第四膜层、第五膜层和第六膜层的步骤，包括：
在所述衬底基板背离所述第一膜层的一侧依次形成所述第四膜层、所述第一触控电极、所述第五膜层、所述第二触控电极和所述第六膜层。
在一种可选的实现方式中，所述在所述衬底基板的一侧依次形成第一膜层、第二膜层和第三膜层的步骤，包括：
采用直流磁控溅射工艺，在所述衬底基板的一侧形成所述第一膜层；
采用射频磁控溅射工艺，在所述第一膜层背离所述衬底基板的一侧形成所述第二膜层；
采用直流磁控溅射工艺，在所述第二膜层背离所述衬底基板的一侧形成所述第三膜层。
现有技术相比，本发明包括以下优点：
本申请技术方案提供了一种触控基板的制备方法及触控基板、触控显示装置，触控基板包括衬底基板和触控电极，其中，衬底基板的一侧依次层叠设置有第一膜层、第二膜层和第三膜层，第二膜层的折射率小于第一膜层和第三膜层的折射率。本申请技术方案通过在触控基板中交替层叠设置高折射率膜层和低折射率膜层，使得触控基板具备镜面反射功能。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例的技术方案，下面将对本发明实施例的描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1示出了本实施例提供的第一种触控基板的剖面结构示意图；
图2示出了本实施例提供的第二种触控基板的剖面结构示意图；
图3示出了本实施例提供的第三种触控基板的剖面结构示意图；
图4示出了本实施例提供的第一种触控显示装置的剖面结构示意图；
图5示出了本实施例提供的第二种触控显示装置的剖面结构示意图；
图6示出了本实施例提供的第三种触控显示装置的剖面结构示意图；
图7示出了本实施例提供的一种触控基板的制备方法的步骤流程图。
具体实施方式
为使本发明的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂，下面结合附图和具体实施方式对本发明作进一步详细的说明。
本申请一实施例提供了一种触控基板，参照图1至图3，触控基板包括衬底基板11和触控电极12，其中，衬底基板11的一侧层叠设置有第一膜层13、第二膜层14和第三膜层15，第一膜层13靠近衬底基板11设置，第二膜层14设置在第一膜层13与第三膜层15之间，第二膜层14的折射率小于第一膜层13和第三膜层15的折射率。
其中，衬底基板11可以为玻璃等材料，作为第一膜层13、第二膜层14和第三膜层15的衬底以及保护层。
第一膜层13、第二膜层14和第三膜层15构成的高低高折射率的三层膜系为镜面功能实现层，该三层膜系的材料具备不同的折射率和厚度。其中，第一膜层13和第三膜层15为高折射率材料，可以采用二氧化钛和五氧化二铌等材料中的至少一种。第二膜层14为低折射率材料，可以采用二氧化硅和氟化镁等材料中的至少一种。需要说明的是，第一膜层13和第三膜层15的材料可以相同或不同。
第一膜层13、第二膜层14和第三膜层15构成的高低高折射率的三层膜系实现镜面反射的原理如下：基于薄膜干涉理论，当光从一个介质入射到另一个介质时，就会产生光的折射和反射，多个反射光束之间的光程差满足一定条件时就会发生光的干涉现象，当反射光束之间的光程差为2π的整数倍时，干涉增强，反射光增加。
在具体实现中，通过调整第一膜层13、第二膜层14和第三膜层15的厚度可以调节触控基板的镜面反射率。在实际应用中，触控基板可以包括多个上述三层膜系，以提高触控基板的镜面反射率。通过调整三层膜系中膜层的材料、厚度以及三层膜系的数量等，本实施例提供的触控基板结构可以实现30～70％的反射率。
以第一膜层13和第三膜层15的材料为二氧化钛，第二膜层14的材料为二氧化硅为例，二氧化钛的折射率约为2.3，二氧化硅的折射率约为1.47，第一膜层13、第二膜层14和第三膜层15的厚度分别为113nm、97nm和113nm时，可以获得较好的镜面反射效果。
当第一膜层13和第三膜层15的材料为五氧化二铌，第二膜层14的材料为二氧化硅时，通过调整第一膜层13、第二膜层14和第三膜层15的厚度可以获得满足需求的镜面反射率。
本实施例提供的触控基板，通过交替层叠设置高折射率膜层和低折射率膜层，可以使触控基板具备镜面反射功能。通过将本实施例提供的触控基板与显示面板贴合，可以实现触控、镜面反射和显示功能的一体化，解决了现有显示产品功能单一，交互能力弱的问题，能够满足人们对于信息交互、用户体验的需求。另外，本实施例提供的触控基板制备工艺简单且成本低，在商场、智能家居等市场极具竞争力。
在实际应用中，触控电极12的结构设置有多种实现方式。
在第一种实现方式中，参照图1，第一膜层13、第二膜层14和第三膜层15均为绝缘材料，触控电极12可以包括：设置在第一膜层13与第二膜层14之间的第一触控电极121，以及设置在第二膜层14与第三膜层15之间的第二触控电极122。
其中，第一触控电极121与第二触控电极122交叉形成金属网格。第一触控电极121为驱动电极，第二触控电极122为感应电极；或者，第一触控电极121为感应电极，第二触控电极122为驱动电极。
本实现方式中，第二膜层14相当于第一触控电极121和第二触控电极122之间的绝缘层，第一膜层13和第三膜层15相当于第一触控电极121和第二触控电极122的保护层。
本实现方式中，由于第一触控电极121和第二触控电极122设置在第一膜层13、第二膜层14和第三膜层15之间，因此制备工艺较为简单。为了避免膜层对触控功能有干扰，第一膜层13、第二膜层14和第三膜层15的材料均为绝缘材料。
在第二种实现方式中，参照图2，触控电极12包括设置在衬底基板11背离第一膜层13一侧的第一触控电极121和第二触控电极122，第二触控电极122设置在第一触控电极121背离衬底基板11的一侧，触控基板还可以包括：设置在衬底基板11与第一触控电极121之间的第一绝缘层21；设置在第一触控电极121与第二触控电极122之间的第二绝缘层22；以及设置在第二触控电极122背离衬底基板11一侧的第三绝缘层23。
其中，第一触控电极121与第二触控电极122在衬底基板11背离第一膜层13的一侧交叉形成金属网格。第一触控电极121为驱动电极，第二触控电极122为感应电极；或者，第一触控电极121为感应电极，第二触控电极122为驱动电极。
本实现方式中，第一绝缘层21和第三绝缘层23相当于第一触控电极121和第二触控电极122的保护层。
本实现方式中，由于反射功能实现层(第一膜层13、第二膜层14和第三膜层15)与触控电极12分别设置在衬底基板11的两侧，因此可以避免触控电极12对镜面反射功能的干扰，提升触控基板的镜面反射效果。
在第三种实现方式中，参照图3，触控基板还可以包括：层叠设置在衬底基板11背离第一膜层13一侧的第四膜层31、第五膜层32和第六膜层33，第四膜层31靠近衬底基板11设置，第五膜层32设置在第四膜层31与第六膜层33之间，第五膜层32的折射率小于第四膜层31和第六膜层33的折射率。
在具体实现中，第四膜层31、第五膜层32和第六膜层33均为绝缘材料，触控电极12可以包括：设置在第四膜层31与第五膜层32之间的第一触控电极121，以及设置在第五膜层32与第六膜层33之间的第二触控电极122。
其中，第一触控电极121与第二触控电极122在衬底基板11背离第一膜层13的一侧交叉形成金属网格。第一触控电极121为驱动电极，第二触控电极122为感应电极；或者，第一触控电极121为感应电极，第二触控电极122为驱动电极。
本实现方式中，第五膜层32相当于第一触控电极121和第二触控电极122的绝缘层，第四膜层31和第六膜层33相当于第一触控电极121和第二触控电极122的保护层。为了避免膜层对触控功能有干扰，第四膜层31、第五膜层32和第六膜层33的材料均为绝缘材料。
本实现方式中，在衬底基板11的两侧均设置了反射功能实现层，分别为第一膜层13、第二膜层14和第三膜层15构成的反射功能实现层，以及第四膜层31、第五膜层32和第六膜层33构成的反射功能实现层，从而可以提高触控基板的镜面反射率，并且可以减小不同波长之间的反射率差异，防止反射色偏。
在具体实现中，第四膜层31和第六膜层33的材料可以包括以下至少之一：二氧化钛和五氧化二铌，第五膜层32的材料可以包括以下至少之一：二氧化硅和氟化镁。
需要说明的是，设置在衬底基板11两侧的反射功能实现层的材料可以相同或不同，例如第一膜层13、第三膜层15、第四膜层31以及第六膜层33的材料均为二氧化钛，第二膜层14以及第五膜层32的材料均为二氧化硅；或者第一膜层13和第三膜层15的材料为五氧化二铌，第二膜层14的材料为二氧化硅，第四膜层31和第六膜层33的材料为二氧化钛，第五膜层32的材料为氟化镁；等等。
本申请另一实施例还提供了一种触控显示装置，参照图4至图6，包括显示面板41以及任一实施例所述的触控基板42，触控基板42位于显示面板41的出光侧。其中，触控基板42与显示面板41可以通过光学胶43贴合。
需要说明的是，本实施例中的触控显示装置可以为：显示面板、电子纸、手机、平板电脑、电视机、笔记本电脑、数码相框、导航仪等任何具有2D或3D显示功能的产品或部件。
其中，光学胶43为用于胶结透明光学元件的特种胶粘剂，具有无色透明、光透过率在90％以上、胶结强度良好等特点。光学胶43可以包括有机硅胶、丙烯酸型树脂及不饱和聚酯、聚氨酯、环氧树脂等胶粘剂，还可以包括一些处理剂，以改进其光学性能或降低固化收缩率。
在具体实现中，显示面板41可以位于第三膜层15背离衬底基板11的一侧，还可以位于衬底基板11背离第一膜层13的一侧。如图4至图6所示，当触控基板42与显示面板41通过光学胶43贴合时，将显示面板41设置在衬底基板11背离第一膜层13的一侧，可以避免光学胶43对第一膜层13、第二膜层14以及第三膜层15的镜面反射效果造成干扰。
具体地，如图4所示，当触控基板42的第一触控电极121设置在第一膜层13与第二膜层14之间，第二触控电极122设置在第二膜层14与第三膜层15之间时，显示面板41通过光学胶43贴附在衬底基板11背离第一膜层13的一侧。
如图5所示，当触控基板42的第一触控电极121设置在第一绝缘层21与第二绝缘层22之间，第二触控电极122设置在第二绝缘层22与第三绝缘层23之间时，显示面板41通过光学胶43贴附在第三绝缘层23背离衬底基板11的一侧。
如图6所示，当触控基板42的第一触控电极121设置在第四膜层31与第五膜层32之间，第二触控电极122设置在第五膜层32与第六膜层33之间时，显示面板41通过光学胶43贴附在第六膜层33背离衬底基板11的一侧。
本实施例通过光学胶(OCA，Optically Clear Adhesive)将触控基板与显示面板贴合，获得的触控显示装置可以同时实现镜面、触控和显示功能，解决了现有显示产品功能单一，交互能力弱的问题，以满足人们对于信息交互、用户体验的需求。
本申请另一实施例还提供了一种显示基板的制备方法，触控基板包括衬底基板和触控电极，参照图7，制备方法包括：
步骤701：提供衬底基板。
步骤702：在衬底基板的一侧依次形成第一膜层、第二膜层和第三膜层，其中，第二膜层的折射率小于第一膜层和第三膜层的折射率。
在具体实现中，可以采用直流磁控溅射工艺，在衬底基板的一侧形成第一膜层；采用射频磁控溅射工艺，在第一膜层背离衬底基板的一侧形成第二膜层；采用直流磁控溅射工艺，在第二膜层背离衬底基板的一侧形成第三膜层。
例如，当第一膜层13和第三膜层15的材料均为二氧化钛时，可以采用直流磁控溅射工艺形成第一膜层13和第三膜层15；当第二膜层14的材料为二氧化硅时，可以采用射频磁控溅射工艺形成第二膜层。
需要说明的是，第一膜层、第二膜层和第三膜层的制备并不仅限于上述工艺，例如还可以采用气相沉积等工艺制备，具体膜层的制备工艺可以根据膜层材料等实际情况确定，本实施例对此不作限定。
在具体实现中，制作触控电极的实现方式有多种。
在第一种实现方式中，第一膜层、第二膜层和第三膜层均为绝缘材料，触控电极包括第一触控电极和第二触控电极，步骤702具体可以包括以下步骤：在衬底基板的一侧依次形成第一膜层、第一触控电极、第二膜层、第二触控电极和第三膜层。
该步骤具体可以包括：在衬底基板的一侧形成第一膜层；在第一膜层背离衬底基板的一侧形成第一触控电极；在第一触控电极背离衬底基板的一侧形成第二膜层；在第二膜层背离衬底基板的一侧形成第二触控电极；在第二触控电极背离衬底基板的一侧形成第三膜层。
在第二种实现方式中，触控电极包括第一触控电极和第二触控电极，本实施例提供的制备方法还可以包括以下步骤：在衬底基板背离第一膜层的一侧依次形成第一绝缘层、第一触控电极、第二绝缘层、第二触控电极和第三绝缘层。需要说明的是，该步骤可以在步骤702之前或之后进行，具体执行顺序可以根据实际需要进行调整，本实施例不作具体限定。
该步骤具体可以包括：在衬底基板背离第一膜层的一侧形成第一绝缘层；在第一绝缘层背离衬底基板的一侧形成第一触控电极；在第一触控电极背离衬底基板的一侧形成第二绝缘层；在第二绝缘层背离衬底基板的一侧形成第二触控电极；在第二触控电极背离衬底基板的一侧形成第三绝缘层。
在第三种实现方式中，本实施例提供的制备方法还可以包括以下步骤：在衬底基板背离第一膜层的一侧依次形成第四膜层、第五膜层和第六膜层，其中，第五膜层的折射率小于第四膜层和第六膜层的折射率。需要说明的是，该步骤可以在步骤702之前或之后进行，具体执行顺序可以根据实际需要进行调整，本实施例不作具体限定。
在具体实现中，第四膜层、第五膜层和第六膜层均为绝缘材料，触控电极包括第一触控电极和第二触控电极，该步骤可以包括：在衬底基板背离第一膜层的一侧依次形成第四膜层、第一触控电极、第五膜层、第二触控电极和第六膜层。
该步骤具体可以包括：在衬底基板背离第一膜层的一侧形成第四膜层；在第四膜层背离衬底基板的一侧形成第一触控电极；在第一触控电极背离衬底基板的一侧形成第五膜层；在第五膜层背离衬底基板的一侧形成第二触控电极；在第二触控电极背离衬底基板的一侧形成第六膜层。
采用本申请实施例提供的制备方法可以制备得到上述任一实施例所述的触控基板，制备得到的触控基板的具体结构可以参照前述实施例的描述。
本申请实施例提供了一种触控基板的制备方法及触控基板、触控显示装置，触控基板包括衬底基板和触控电极，其中，衬底基板的一侧依次层叠设置有第一膜层、第二膜层和第三膜层，第二膜层的折射率小于第一膜层和第三膜层的折射率。本申请技术方案通过在触控基板中交替层叠设置高折射率膜层和低折射率膜层，使得触控基板具备镜面反射功能。
本说明书中的各个实施例均采用递进的方式描述，每个实施例重点说明的都是与其他实施例的不同之处，各个实施例之间相同相似的部分互相参见即可。
最后，还需要说明的是，在本文中，诸如第一和第二等之类的关系术语仅仅用来将一个实体或者操作与另一个实体或操作区分开来，而不一定要求或者暗示这些实体或操作之间存在任何这种实际的关系或者顺序。而且，术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含，从而使得包括一系列要素的过程、方法、商品或者设备不仅包括那些要素，而且还包括没有明确列出的其他要素，或者是还包括为这种过程、方法、商品或者设备所固有的要素。在没有更多限制的情况下，由语句“包括一个……”限定的要素，并不排除在包括所述要素的过程、方法、商品或者设备中还存在另外的相同要素。
以上对本发明所提供的一种触控基板的制备方法及触控基板、触控显示装置进行了详细介绍，本文中应用了具体个例对本发明的原理及实施方式进行了阐述，以上实施例的说明只是用于帮助理解本发明的方法及其核心思想；同时，对于本领域的一般技术人员，依据本发明的思想，在具体实施方式及应用范围上均会有改变之处，综上所述，本说明书内容不应理解为对本发明的限制。

Claims (15)

1.一种触控基板，其特征在于，所述触控基板包括衬底基板和触控电极，
其中，所述衬底基板的一侧层叠设置有第一膜层、第二膜层和第三膜层，所述第一膜层靠近所述衬底基板设置，所述第二膜层设置在所述第一膜层与所述第三膜层之间，所述第二膜层的折射率小于所述第一膜层和所述第三膜层的折射率。
2.根据权利要求1所述的触控基板，其特征在于，所述第一膜层、所述第二膜层和所述第三膜层均为绝缘材料，所述触控电极包括：设置在所述第一膜层与所述第二膜层之间的第一触控电极，以及设置在所述第二膜层与所述第三膜层之间的第二触控电极。
3.根据权利要求1所述的触控基板，其特征在于，所述触控电极包括设置在所述衬底基板背离所述第一膜层一侧的第一触控电极和第二触控电极，所述第二触控电极设置在所述第一触控电极背离所述衬底基板的一侧，所述触控基板还包括：
设置在所述衬底基板与所述第一触控电极之间的第一绝缘层；
设置在所述第一触控电极与所述第二触控电极之间的第二绝缘层；
设置在所述第二触控电极背离所述衬底基板一侧的第三绝缘层。
4.根据权利要求1所述的触控基板，其特征在于，所述触控基板还包括：层叠设置在所述衬底基板背离所述第一膜层一侧的第四膜层、第五膜层和第六膜层，所述第四膜层靠近所述衬底基板设置，所述第五膜层设置在所述第四膜层与所述第六膜层之间，所述第五膜层的折射率小于所述第四膜层和所述第六膜层的折射率。
5.根据权利要求4所述的触控基板，其特征在于，所述第四膜层、所述第五膜层和所述第六膜层均为绝缘材料，所述触控电极包括：设置在所述第四膜层与所述第五膜层之间的第一触控电极，以及设置在所述第五膜层与所述第六膜层之间的第二触控电极。
6.根据权利要求1至5任一项所述的触控基板，其特征在于，所述第一膜层和所述第三膜层的材料包括以下至少之一：二氧化钛和五氧化二铌，所述第二膜层的材料包括以下至少之一：二氧化硅和氟化镁。
7.一种触控显示装置，其特征在于，包括显示面板以及如权利要求1至6任一项所述的触控基板，所述触控基板位于所述显示面板的出光侧。
8.根据权利要求7所述的触控显示装置，其特征在于，所述显示面板位于所述衬底基板背离所述第一膜层的一侧。
9.根据权利要求7所述的触控显示装置，其特征在于，所述触控基板与所述显示面板通过光学胶贴合。
10.一种触控基板的制备方法，其特征在于，所述触控基板包括衬底基板和触控电极，所述制备方法包括：
提供所述衬底基板；
在所述衬底基板的一侧依次形成第一膜层、第二膜层和第三膜层，其中，所述第二膜层的折射率小于所述第一膜层和所述第三膜层的折射率。
11.根据权利要求10所述的制备方法，其特征在于，所述第一膜层、所述第二膜层和所述第三膜层均为绝缘材料，所述触控电极包括第一触控电极和第二触控电极，所述在所述衬底基板的一侧依次形成第一膜层、第二膜层和第三膜层的步骤，包括：
在所述衬底基板的一侧依次形成所述第一膜层、所述第一触控电极、所述第二膜层、所述第二触控电极和所述第三膜层。
12.根据权利要求10所述的制备方法，其特征在于，所述触控电极包括第一触控电极和第二触控电极，所述制备方法还包括：
在所述衬底基板背离所述第一膜层的一侧依次形成第一绝缘层、所述第一触控电极、第二绝缘层、所述第二触控电极和第三绝缘层。
13.根据权利要求10所述的制备方法，其特征在于，所述制备方法还包括：
在所述衬底基板背离所述第一膜层的一侧依次形成第四膜层、第五膜层和第六膜层，其中，所述第五膜层的折射率小于所述第四膜层和所述第六膜层的折射率。
14.根据权利要求13所述的制备方法，其特征在于，所述第四膜层、所述第五膜层和所述第六膜层均为绝缘材料，所述触控电极包括第一触控电极和第二触控电极，所述在所述衬底基板背离所述第一膜层的一侧依次形成第四膜层、第五膜层和第六膜层的步骤，包括：
在所述衬底基板背离所述第一膜层的一侧依次形成所述第四膜层、所述第一触控电极、所述第五膜层、所述第二触控电极和所述第六膜层。
15.根据权利要求10至14任一项所述的制备方法，其特征在于，所述在所述衬底基板的一侧依次形成第一膜层、第二膜层和第三膜层的步骤，包括：
采用直流磁控溅射工艺，在所述衬底基板的一侧形成所述第一膜层；
采用射频磁控溅射工艺，在所述第一膜层背离所述衬底基板的一侧形成所述第二膜层；
采用直流磁控溅射工艺，在所述第二膜层背离所述衬底基板的一侧形成所述第三膜层。
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