KR20130028623A - 터치 적층 구조 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 우수한 외관 및 신뢰성을 가지는 패널을 만들기 위하여 터치 패널에 적용할 수 있는 터치 적층 구조를 제공한다. 본 발명의 실시예는 투명 기판상에 연속적으로 패턴된 투명 도전층, 낮은 굴절률을 갖는 제 1 투명 절연층, 높은 굴절률을 갖는 제 2 투명 절연층, 및 광투명 접착체를 포함하는 터치 적층 구조를 제공한다.

Description

터치 적층 구조 {TOUCH STACK-UP STRUCTURE}
본 발명은 터치 기술에 관련된 것이다. 더 상세하게는, 본 발명은 터치 패널에서 터치 적층 구조와 그것의 응용에 관련된 것이다.
최근 몇 년 동안, 터치 기술과 디스플레이 기술이 통합된 터치 패널은 대중화되었고, 입력 및 디스플레이 장치로서 전자 장치에 적용된다. 터치 패널은 일반적으로 2가지 타입으로 분류된다 : 온셀 터치 패널 및 인셀 터치 패널. 온셀 터치 패널은 터치 장치와 디스플레이 장치로 구성되며, 여기에서, 터치 장치는 사용자를 향해 마주보는 투명 표면 터치 스크린이 보통 제공된다. 사용자는 터치 스크린에서 보여진 아이콘 또는 지시를 통하여 전자 소자를 제어하기 위한 명령을 준다. 다른 한편, 터치 스크린의 바닥부는 투명 기판을 구비하고 있으며, 여기에서, 터치 스크린과 마주보는 투명 기판의 표면은 주석 인듐 산화물 (ITO) 와이어와 같은 투명 도전성 물질로 만들어진 다수의 와이어를 가지고, 이러한 와이어는 사용자의 접촉 위치를 검출하기 위해 사용된다. 또 다른 한편, 인셀 터치 패널(An in cell touch panel)에서는 터치 센서가 물리적으로 LCD 셀 같은 셀의 내부에 있다. 인셀 터치 패널에서 사용된 터치 센서는 광감지 포토 트랜지스터 (광학적), 마이크로 스위치 (스위치-감지) 및 용량 감지 전극 (전기 용량)이 포함할 수 있다.
그러나, 터치 장치가 디스플레이 장치와 일체로 되어있는 반면에, 사용자는 터치 스크린을 통하여 와이어를 가진 터치 영역과 와이어가 없는 터치 영역을 보고 그 영역들 사이를 구별할 수 있으므로, 터치 패널의 외관을 악화시킨다.
이러한 것을 고려하여, 본 발명의 목적은 터치 적층 구조를 제공하는 것이다. 상기 터치 적층 구조는, 터치 패널의 외관을 개선하기 위하여, 도전층을 가지는 영역과 도전층을 가지지 않는 영역 사이의 반사율 차이를 상당히 줄여주기 위해 여러가지 다른 굴절률들을 가지는 다층의 필름들을 채택한다.
본 발명의 실시예는, 도전층, 도전층상에 위치한 제 1 굴절률층 및 제 1 굴절률층상에 위치한 제 2 굴절률층을 포함하고, 제 1 굴절률층의 굴절률은 도전층의 굴절률보다 낮고, 제 2 굴절률층의 굴절률은 제 1 굴절률층의 굴절률보다 높은, 터치 적층 구조를 제공한다.
본 발명은, 광간섭 원리에 따라 터치 적층 구조에 제 1 굴절률층과 제 2 굴절률층을 설치함으로써, 도전층을 가지는 영역과 도전층을 가지지 않는 영역 사이의 반사율 차이를 상당히 줄여주었다. 또한, 적절한 소재들을 선택하고 적당한 두께의 굴절률층들을 설계함으로써 반사율 차이는 한층 더 감소되며, 이것은 터치 패널의 외관을 개선시키는 것으로 이어진다. 제 1 굴절율층과 제 2 굴절률층은 또한 동시에 절연층으로서 사용된다.
도 1은 본 발명의 실시예에 따른 터치 적층 구조의 단면 개략도이다.
도 2는 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 터치 적층 구조의 단면 개략도이다.
도 3은 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 터치 적층 구조의 단면 개략도이다.
도 4는 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 터치 패널을 보여준다.
도 5는 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 터치 적층 구조의 형성 방법을 보여준다.
도 6은 본 발명 및 비교의 실시예에 따라 터치 패널로 만들어진 후, 에칭 영역과 반사 영역에 위치한 터치 적층 구조의 두 굴절률 곡선을 보여준다.
다음의 설명은 도면을 예로 본 발명의 각각의 실시예를 설명한다. 여기에 기술된 실시예와는 별개로, 본 발명은 또한 다른 실시예들에도 넓게 적용될 수 있으며, 실시예의 어떠한 쉬운 대체, 개량 및 동등한 변경은 본 발명의 범위에 모두 포함되고, 또한 아래의 첨부된 청구항들에 속한다. 본 명세서에서, 구체적인 세부 사항들은 본 발명의 완전한 이해를 돕기 위해 제공된다. 그러나, 본 발명은 여전히 부분 또는 모든 세부 사항을 생략하는 전제조건하에서 구현될 수 있다. 또한, 잘 알려져 있는 단계 및 성분은 본 발명에 불필요한 제한을 가지는 것을 피하기 위해 세부적으로 기술되지 않는다. 도면에서 동일하거나 유사한 요소는 동일하거나 유사한 심볼로서 의미될 것이다. 특히 주목할 것은, 달리 특정하지 않는 이상 도면에는 요소의 실제 크기 또는 양이 표시되지 않으면, 도면은 단지 나타낼 뿐이다.
도 1은 본 발명의 실시예에 따른 터치 적층 구조 (1)의 단면 개략도이다. 터치 적층 구조 (1)는, 도전층 (12), 도전층 (12)상에 위치한 및 도전층 (12)상에 위치한 제 1 굴절률층 (14), 및 제 1 굴절률층 (14)상에 위치한 및 제 1 굴절률층 (14)상에 위치한 제 2 굴절률층 (16)을 포함하고, 여기에서, 상기 제 1 굴절률층 (14)의 굴절률은 상기 도전층 (12)의 굴절률보다 낮고, 상기 제 2 굴절률층 (16)의 굴절률은 상기 제 1 굴절률층 (14)의 굴절률보다 높다.
또한, 터치 적층 구조 (1)는 제 2 굴절률층 (16)상에 위치한 제 3 굴절률층 (18)을 포함할 수 있으며, 여기에서, 제 3 굴절률층 (18)의 굴절률은 제 2 굴절률층 (16)의 굴절률보다 낮다.
실시예에서, 제 1 굴절율층 (14)과 제 2 굴절률층 (16)은 동시에 절연층으로서 사용되고, 제 3 굴절률층 (18)은 광투명 접착체 (Optically Clear Adhesive, OCA) 또는 수성 접착제 (water based adhesive)로 이루어진 결합층으로서 이용되며, 여기에서, 모든 굴절률층 (14, 16, 18)은 투명하다.
계속해서, 본 발명의 실시예에서, 도전층 (12)은 패터닝을 수행하고, 도전층 (12)의 소재는 주석 인듐 산화물 (ITO), 안티몬 틴 옥사이드 (ATO), 산화 아연 (ZnO), 아연 이산화물 (ZnO2), 주석 이산화물 (SnO2), 삼산화 인듐 (In2O3) 또는 이들의 조합과 같은 투명 도전성 물질이다.
터치 적층 구조 (1)는 기판 (10)상에 형성되고, 여기에서, 기판 (10)은 투명 물질로 이루어지고, 특히, 폴리에틸렌테레프탈레이트 (PET), 유리, 폴리카보네이트 (PC), 폴리메틸메타크릴레이트 (PMMA) 등으로 이루어질 수 있지만 여기에 제한되지 않는다.
또한, 본 발명의 실시예에서, 제 1 굴절률층 (14)은 낮은 굴절률을 가지는 반면, 제 2 굴절률층 (16)은 높은 굴절률을 가진다. 바람직하게는, 제 1 굴절률층 (14)은 1.38 과 1.52 사이에 있는 굴절률을 가지는 이산화 실리콘 (SiO2)과 같은 산화물이고, 제 2 굴절률층 (16)은 1.70 과 2.30 사이에 있는 굴절률을 가지는 오산화나이오븀 (Nb2O5) 또는 실리콘 질화물 (SiNx)과 같은 산화물 또는 질화물이다. 바람직하게는, 제 1 굴절율층 (14)의 두께는 20nm 와 80nm 사이이고, 제 2 굴절률층 (16)의 두께는 5nm 와 20nm 사이이다.
또한, 제 3 굴절률층 (18)은, 제 2 굴절률층 (16)의 굴절률과 비교할 때, 작은 굴절률을 가진다. 바람직하게는, 제 3 굴절률층 (18)의 굴절률은 1.38 과 1.52 사이이다.
또한, 제 3 굴절률층 (18)이 광투명 접착체이면, 제 3 굴절률층 (18)은 모든 타입의 기판 또는 필름에 적층 형성(laminations)을 제공할 수 있다. 게다가, 제 3 굴절률층 (18)이 고온 및 다습 환경에 노출되어 있을지라도, 여전히 제 3 굴절률층 (18)은 라미네이팅 층이 오염물질이 없고 버블 내성 (bubble resistance)의 특징을 가지도록 만들 수 있다.
상술한 바와 같이 터치 적층 구조 (1)는 터치 패널에 적용될 수 있다. 도 1에 보이는 바와 같이, 터치 적층 구조 (1)가 터치 패널에 적용될 때, 디스플레이 장치(도면에 보이지 않음)는 기판 (10) 아래에 놓여진다. C 및 E는 각각 사용자의 관찰방향하에서 전도성 영역과 식각(etching) 영역을 나타내며, 여기에서, 전도성 영역 C는 도전층 (12)에 의해 형성되고 식각 영역 E는 도전층 (12)가 식각을 통하여 제거된 영역을 나타낸다. 본 발명은, 광간섭 원리(optical interference principles)에 따라 제 1 굴절율층 (14)과 제 2 굴절률층 (16)을 적절하게 설계함으로써, 전도성 영역 C와 식각 영역 E의 굴절률의 차이가 상당히 감소하게 된다. 그러므로, 터치 패널의 외관이 향상되어 전도성 영역 C와 식각 영역 E를 구별하는 것은 사용자에게 어려울 것이다. 다른 한편, 제 1 굴절율층 (14) 및 제 2 굴절률층 (16)은 광투명 접착체 (제 3 굴절률층)에 의해 도전층 (12)의 부식에 저항할 수 있으며, 그로 인해 터치 패널의 신뢰성을 증가시킨다. 한편, 광투명 접착체는 제 2 굴절률층 (16)상에 배열되고, 그로 인해 제 1 굴절율층 (14)을 가지는 삼중층 구조를 형성하고, 여기에서, 광투명 접착체는 전도성 영역 C와 식각 영역 E의 굴절률의 차이를 추가적으로 감소시킬 수 있다.
도 2는 본 발명의 다른 실시예에 따른 터치 적층 구조 (2)의 단면 개략도이고, 도 1의 실시예와의 차이점은 도 2의 실시예의 터치 적층 구조 (2)는, 제 2 굴절률층 (16)과 제 3 굴절률층 (18) 사이에 위치하고 있는 적어도 하나의 추가적인 유기 보호층 (20)을 가지고 있다는 것입니다. 유기 보호층 (20)의 소재는 폴리에틸렌테레프탈레이트 (PET), 폴리페닐렌 설파이드 (PPS) 및 폴리프로필렌으로 이루어지지만 여기에 제한되지 않는다.
도 3은 본 발명의 또 다른 실시예에 다른 터치 적층 구조 (3)의 단면 개략도이고, 도 1의 실시예와의 차이점은 도 3의 실시예의 터치 적층 구조 (3)는, 광투명 접착체상에 하나의 추가적인 커버층 (22)을 가진다는 것입니다. 게다가, 광투명 접착체는 제 1 부분 (18a) 및 제 2 부분 (18b)을 가지고 있으며, 여기에서, 제 1 부분 (18a) 및 제 2 부분 (18b)은 개별적으로 커버층 (22) 및 제 2 굴절률층 (16)과 적층된다. 광투명 접착체와 커버층 (22) 사이에서, 적어도 하나의 다른 굴절률층 또는 유기 보호층이 또한 놓여질 수 있다.
본 발명의 실시예에서, 커버층 (22)의 소재는 유리 또는 플라스틱 (고분자)일 수 있는 반면, 광투명 접착체는 복합 재료(압력-민감 접착제)로 만들어질 수 있는데, 즉, 예를들어 압착 롤러를 이용하여 적절한 압력을 가함으로써, 광투명 접착체는 접착에 의해 생성될 수 있고 라미네이팅층과 적층될 수 있다. 게다가, 라미네이팅층의 굴절률과 근접한 굴절률을 갖는 광투명 접착체를 이용하는 것이 가능하다. 예를 들면, 커버층 (22)의 소재가 보통의 유리라면, 커버층 (22)의 굴절률은 대략 1.5와 동일하고, 광투명 접착체는 1.5에 근접하는 굴절률이 이용될 수 있다.
본 발명의 실시예에서, 커버층 (22) 및 제 2 굴절률층 (16)의 소재는 다른 상 (different phase) 및 불균질성 (heterogeneity)을 가지며, 즉, 커버층 (22) 및 제 2 굴절률층 (16)은 다양한 물리적이고 화학적 특성을 가지고 있을 수 있다. 광투명 접착체의 제 1 부분 (18a)은 커버층 (22)과의 적층 형성(lamination)을 위해 적용할 수 있는 반면, 제 2 부분 (18b)은 제 2 굴절률층 (16)과의 적층 형성 (lamination)을 위해 적용할 수 있다. 바람직하게는, 제 1 부분 (18a)과 제 2 부분 (18b)은, 동일하거나 다양한 모노머에 의해 개별적으로 일체화될 수 있고, 이들의 특성은 상기 두 부분이 물체의 일체와를 형성하기 위해 다양한 교차결합 밀도 (cross-linking density)를 가지고 있다는 것이다.
도 4는 본 발명의 다른 실시예에 따른 터치 패널을 보여준다, 여기에서, 도 4는, 도 3에서 보여주는 터치 적층 구조 (3)가 구현된 터치 장치 및 터치 장치 (3)의 하부에 위치하는 디스플레이 장치 (4)로 구성되어 있고, 여기에서, 디스플레이 장치 (4)는 액정 디스플레이, 유기 발광 다이오드 (OLED) 디스플레이, 및 전자발광식 (electroluminescent , EL) 디스플레이 등을 포함한다. 이로써, 터치 장치 (3) 및 디스플레이 장치 (4)는 온셀 터치패널이 된다.
도 5는 본 발명의 다른 실시예에 따른 터치 적층 구조의 형성 방법을 보여준다. 52 단계에서, 폴리에틸렌테레프탈레이트 (PET) 기판과 같은 투명 기판이 제공된다. 54 단계에서, 패턴화된 투명 도전층이 상기 투명 기판상에 형성되고, 여기에서, 롤 투 롤 스퍼터링 (roll to roll sputtering) 장치를 사용하여, ITO 투명 도전층은 압연 (rolled) PET상에 적층된다. 그런 다음, 노광기의 사양에 따라, ITO 투명 도전층을 가지는 압연 PET는 요구되는 사이즈로 절단되는데, 예를 들어, 압연 PET가 355mm x 406mm의 판으로 절단된다. 그리고 나서, ITO 투명 도전층은 마이크로-리소그래피 공정을 통하여 패턴화된다. 56 단계에서, 낮은 굴절률을 가지는 투명 굴절률층이 패턴화된 투명 도전층 및 투명 기판을 덮기 위하여 적층되는데, 예를 들어, 패턴된 ITO 투명 도전층의 영역상을 덮기 위하여 스크린 프린팅 공정을 이용하여 박리성 접착제 (strippable adhesive)에 의한 접착이 요구된다. 그런 다음, 상기 스퍼터링 장치(sputtering device)가 패턴화된 ITO 투명 도전층상에 낮은 굴절률을 가지는 투명 굴절률층을 적층하는데 이용될 수 있고, 여기에서 투명 굴절률층은 1.38 내지 1.52의 굴절률을 가지는 SiO2같은 산화물일 수 있다. 58 단계에서, 높은 굴절률을 가지는 투명 굴절률층은 낮은 굴절률을 가지는 투명 굴절률층을 덮기 위하여 적층된다. 예를 들어, 상기 스퍼터링 장치가 낮은 굴절률을 가지는 투명 도전층상에 높은 굴절률을 가지는 투명 굴절률층을 덮는데 이용될 수 있고, 바람직하게는, 높은 굴절률을 가지는 투명 굴절률층은 1.70 내지 2.30의 굴절률을 가지는 Nb2O5 또는 SiNx 같은, 산화물 또는 질화물일 수 있다. 그리고 나서, 박리성 접착제는 벗겨질 수 있다. 60 단계에서, 상술한 광투명 접착체는 높은 굴절률을 가지는 투명 굴절률층상에 적층될 수 있으며, 이로 인해 터치 적층 구조를 완성한다.
계속해서, 본 발명의 또 다른 실시예에서는 광투명 접착체를 통하여 광투명 접착체상에 상술한 투명 커버층을 적층하는 것을 포함하는 터치 적층 구조를 공개한다.
우선, 대략 40nm의 두께를 가지는 ITO 투명 도전층이 PET 압연 (roll) 소재상에 적층되고, 355mm x 406mm의 조각으로 절단했다. ITO 투명 도전층은 그리고 나서 마이크로-리소그래피 공정으로 패턴화되고, 그 뒤에 박리성 접착제는 예비 접착 영역 (preparative bonding area)을 스크린 프린팅 공정으로 차폐하기 위해 이용되고, 그리고 나서, 반응성 스퍼터링 적층이 패턴된 ITO 투명 도전층상에 SiO2 필름을 36nm의 층 두께로 적층하기 위해서 이용되고, 9nm의 두께를 갖는 Nb2O5의 층을 추가적으로 적층하기 위하여 이용된다. 박리성 접착제는 이후 벗겨질 수 있다. 광투명 접착체는 Nb2O5 층상에 적층될 수 있고, 투명 커버층은 터치 적층 구조를 완성하기 위하여 광투명 접착체상에 적층될 수 있다. 마지막으로, 터치 적층 구조는 터치 패널을 제조하기 위해 이용된다.
도 6은 본 발명의 실시예에 따라 터치 패널로 만들어진 후, 식각 영역과 반사 영역에 개별적으로 위치한 터치 적층 구조의 두 굴절률 곡선을 보여준다. 실시예는 추가적으로 비교예를 기술한다. 두 투명한 굴절률층을 제외한 상기 비교예의 구조는 상술한 실시예와 동일하다. 게다가, 곡선 E0 및 C0은 비교예에 따른 식각 영역 및 전도성 영역의 거동을 개별적으로 반영한 터치 패널의 굴절률 곡선이다. 도면에 나타난 바와 같이, 비교예와 관련하여, E0과 C0의 굴절률 사이의 차이는 크고, 그러므로 전도성 영역 C0과 식각 영역 E0은 쉽게 사람의 눈에 관측되어 구별될 수 있다. 본 실시예와 관련하여, E0와 C0의 굴절률 사이의 차이는 작고, 그러므로 전도성 영역 C과 식각 영역 E은 사람의 눈에 관측되어 구별하기 어렵다.
앞서 기재한 설명은 단지 본 발명의 바람직한 실시예이고, 그러므로 발명의 범위가 제한하도록 의도되지 않는다. 당업계의 숙련된 사람들에게는 첨부된 청구항에 의해 규정되도록 의도된 본 발명의 범위에서 벗어나지 않고 다양한 변경과 수정이 가능하다는 것은 명백하다.
여기에 기술된 터치 적층 구조의 각각의 대표적 실시예들은, 도전층, 굴절률층 및 접착제에 대하여 다양한 물질을 적용함으로써 쉽게 수정될 수 있다는 것에 주목하여야 한다.

Claims (21)

  1. 도전층;
    상기 도전층상에 위치한 제 1 굴절률층; 및
    상기 제 1 굴절률층상에 위치한 제 2 굴절률층을 포함하고,
    상기 제 1 굴절률층의 굴절률은 상기 도전층의 굴절률보다 낮고, 상기 제 2 굴절률층의 굴절률은 상기 제 1 굴절률층의 굴절률보다 높은 것을 특징으로 하는 터치 적층 구조.
  2. 제 1 항에 있어서, 상기 제 2 굴절률층상에 위치한 제 3 굴절률층을 추가적으로 포함하고, 상기 제 3 굴절률층의 굴절률은 상기 제 2 굴절률층의 굴절률보다 낮은 것을 특징으로 하는 터치 적층 구조.
  3. 제 1 또는 제 2 항에 있어서, 상기 제 1 굴절률층의 굴절률은 1.38 과 1.52 사이인 것을 특징으로 하는 터치 적층 구조.
  4. 제 1 또는 제 2 항에 있어서, 상기 제 2 굴절률층의 굴절률은 1.70 과 2.30 사이인 것을 특징으로 하는 터치 적층 구조.
  5. 제 1 또는 제 2 항에 있어서, 상기 제 1 굴절률층은 절연층인 것을 특징으로 하는 터치 적층 구조.
  6. 제 1 또는 제 2 항에 있어서, 상기 제 2 굴절률층은 절연층인 것을 특징으로 하는 터치 적층 구조.
  7. 제 1 또는 제 2 항에 있어서, 상기 제 1 굴절률층의 소재는 이산화 실리콘 (SiO2) 인 것을 특징으로 하는 터치 적층 구조.
  8. 제 1 또는 제 2 항에 있어서, 상기 제 1 굴절률층의 두께는 20 nm 과 80 nm 사이인 것을 특징으로 하는 터치 적층 구조.
  9. 제 1 또는 제 2 항에 있어서, 상기 제 2 굴절률층의 소재는 오산화나이오븀 (Nb2O5) 또는 실리콘 질화물 (SiNx)인 것을 특징으로 하는 터치 적층 구조.
  10. 제 1 또는 제 2 항에 있어서, 상기 제 2 굴절률층의 두께는 5 nm 과 20 nm 사이인 것을 특징으로 하는 터치 적층 구조.
  11. 제 2 항에 있어서, 상기 제 3 굴절률층의 굴절률은 1.38 과 1.52 사이인 것을 특징으로 하는 터치 적층 구조.
  12. 제 2 항에 있어서, 상기 제 3 굴절률층은 광투명 접착체 또는 수성 접착제로 이루어진 결합층인 것을 특징으로 하는 터치 적층 구조.
  13. 제 2 항에 있어서, 상기 제 2 굴절률층과 제 3 굴절률층 사이에 존재하는 적어도 하나의 유기 보호층을 추가적으로 포함하는 것을 특징으로 하는 터치 적층 구조.
  14. 제 1 또는 제 2 항에 있어서, 상기 구조는 기판상에 형성되는 것을 특징으로 하는 터치 적층 구조.
  15. 제 14 항에 있어서, 상기 기판의 소재는 하나 이상의 폴리에틸렌테레프탈레이트, 유리, 폴리카보네이트 및 폴리메틸메타크릴레이트로 이루어진 그룹에서 선택된 적어도 하나 이상으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 터치 적층 구조.
  16. 제 1 또는 제 2 항에 있어서, 상기 도전층의 소재는 주석 인듐 산화물 (ITO), 안티몬 틴 옥사이드 (ATO), 산화 아연 (ZnO), 아연 이산화물 (ZnO2), 주석 이산화물 (SnO2) 및 삼산화 인듐 (In2O3)으로 이루어진 그룹에서 선택된 적어도 하나 이상으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 터치 적층 구조.
  17. 제 2 항에 있어서, 상기 구조는 상기 제 3 굴절률층상에 커버층을 추가적으로 포함하는 것을 특징으로 하는 터치 적층 구조.
  18. 제 17 항에 있어서, 상기 커버층의 굴절률은 상기 제 3 굴절률층의 굴절률과 같은 것을 특징으로 하는 터치 적층 구조.
  19. 제 17 항에 있어서, 상기 커버층의 소재는 유리 또는 플라스틱으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 터치 적층 구조.
  20. 제 1 또는 제 2 항에 있어서, 상기 터치 적층 구조는 디스플레이 장치에 터치 패널을 형성한 터치 장치에 적용되는 것을 특징으로 하는 터치 적층 구조.
  21. 상기 기판상에 도전층을 형성하는 단계;
    상기 도전층을 덮는 제 1 굴절률층을 적층하는 단계;
    상기 제 1 굴절률층을 덮는 제 2 굴절률층을 적층하는 단계; 및
    상기 제 2 굴절률층상에 광투명 접착체를 적층하는 단계를 포함하고,
    여기에서, 상기 제 1 굴절률층의 굴절률은 상기 도전층의 굴절률보다 낮고, 상기 제 2 굴절률층의 굴절률은 상기 제 1 굴절률의 굴절률보다 높은 것을 특징으로 하는 터치 적층 구조를 형성하는 방법
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