TWM436191U - Stacked structure for touch panel - Google Patents

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TWM436191U
TWM436191U TW100224070U TW100224070U TWM436191U TW M436191 U TWM436191 U TW M436191U TW 100224070 U TW100224070 U TW 100224070U TW 100224070 U TW100224070 U TW 100224070U TW M436191 U TWM436191 U TW M436191U
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Li-Chun Yang
ming-yuan Hong
chun-yong Zhang
cong-ming Chen
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Description

M436191
101年.06月0·7日按正替¥頁 五、新型說明： 【新型所屬之技術領域】 [0001] 本創作係關於一種觸控堆疊結構及其在觸控面板中 的應用》 【先前技術】 [0002] 觸控面板（touch panel)結合了觸控技術與顯示技 術，而普遍應用於電子裝置中同時作為輸入與顯示之用 [0003] 觸控面板可分為外掛式觸控面板（on cell touch panel)與内嵌式觸控面板（in cell touch panel)兩 種。外掛式觸控面板包含一觸控裝置與一顯示裝置，而 觸控裝置通常具有一外觀呈透明狀的觸控螢幕面向使用 者；透過觸碰螢幕上顯示的圖示（icon)或指示，使用者 可下達控制電子裝置的指令。另外，觸控螢幕的下方具 有一透明的基板，且其面向觸控螢幕的表面上，具有由 透明導電材質所製成的許多導線，例如氧化銦錫（IT0)導 線，而這些導線是用於偵測使用者的觸碰位置。 [0004] 然而，當觸控裝置安裝於顯示裝置後，使用者可透 過觸控螢幕，明顯地看到並區分出具有導線與不具有導 線的區域，使得觸控面板的外觀不佳。 【新型内容】 [0005] 有鑑於此，本創作的目的之一在於提供一種觸控堆 疊結構，其採用不同折射率的多層膜而使得具有導電層 與未具有導電層的區域的反射率差異大幅減小，從而改 1013215686-0 10022407(^^^^ A0101 M436191 101年06用07日修正替換頁 善觸控面板的外觀。 [0006] [0007] [0008] 根據上述目的，本創作一實施例提供一種觸控堆疊 結構，包含：一導電層，一第一折射率層，覆蓋該導電 層；一第二折射率層，位於該第一折射率層上，該第一 折射率層的折射率低於導電層，該第二折射率層的折射 率高於該第一折射率層β 本創作根據光的干涉原理，通過在觸控堆疊結構中 設置第一折射率層、第二折射率層，使得具有導電層與 未具有導電層的區域的反射率差異大幅減小。通過選擇 合適的材料和設計合理的射率層厚度，還可進一步降低 反射率的差異，從而改善阀控面板的外觀。第一折射率 層與第二折射率可同時作為絕緣層，具有雙重的功效。 【實施方式】 以下將詳述本案的各實施例，並配合圖式作為例示 。除了這些詳細描述之外，本創作還可以廣泛地施行在 其他的實施例中，任何所述實施例的輕易替代、修改、 等效變化都包含在本案的範圍内，並以之後的專利範圍 為准。在說明書的描述中，為了使讀者對本創作有較完 整的瞭解，提供了許多特定細節；然而，本創作可能在 省略部分或全部這些特定細節的前提下，仍可實施。此 外，眾所周知的步驟或元件並未描述於細節中，以避免 造成本創作不必要之限制。圖式中相同或類似之組件將 以相同或類似符號來表示。特別注意的是，圖式僅為示 意之用，並非代表元件實際的尺寸或數量，除非有特別 說明。
2240#單编號 Α0101 第4頁/共18頁 1013215686-0 M436191 [0009] [0010] [0011] [0012] [0013] [0014] hm “ L101年^月〇>日修正 據本創作-較佳實施例的觸控堆疊結構Μ 剖面圖。觸控堆疊結扪包含：_導電層12 ; 一第—折射 率層14位於導電層12上’並覆蓋導電層12，第-折射率 層U的折射率低於導電層12,； 一第二折射率㈣位於 第一折射率層14上，並覆蓋第-折射率層14,第二折射 率層16的折射率高於第一折射率層14。 所述觸控堆疊結構！還可包括第三折射率層18，位於 該第二折射率層16之上’且第三折射率層18的折射率低 於第一折射率層16。 第一折射率層14和第二折射率層可以同時作為絕緣 層使用，第三折射率層18可以是光學透明膝 (optically ciear adhesive;〇CA)或水膠等所形成 的黏結層，且折射率層均呈透明狀。 承上，於本實施例，導電層12可進行圖案化，其材 質可為透明的導電材料，具體如氧化銦錫（indium tin oxide，ITO);也可以是其他材料，例如氧化録錫（AT〇) 、氧化鋅（ZnO)、二氧化鋅（Zn〇2)、二氧化錫（sn〇2)、 二氧化二銦（In2〇3)或前述材質的各種組合等。 觸控堆疊結構1形成於基板10上，該基板10可用透 明材質製備，具體可為聚乙烯對笨二甲酸酯 (polyethyleneterephthalate ; PET)、玻璃、聚碳酸 醋（polycarbonate ; PC)、聚甲基丙烯酸甲酯 (polymethylmethacrylate ; PMMA)等等。 另外，於本實施例，第一折射率層14具有較低的折射 100224G?(f^編號 A0101 第5頁/共18頁 1013215686-0 M436191 [0015] 101年.06月0>日接正替^頁 率’第二折射率層折射率層16具有較高的折射率。較佳 地’第一折射率層丨4為折射率介於大約〗38至大約丨52 的氧化物，例如二氧化矽（Si〇2);第二折射率層折射率 層16為折射率介於大約1. 70至大約2. 30的氧化物或氮化 物，例如五氡化二銳（Nb2〇5)或氮化石夕（SiNx)等。較佳地 ’第一透明折射率層折射率層14的厚度介於大約2〇⑽至 大約80 nm之間，第二透明折射率層折射率層16的厚度介 於大約5 nm至大約2〇 nm之間。 另外’於第三折射率層18與第二折射率層16之間， | 可再包含至少一層折射率與第二折射率層16相異的折射 率層。第三折射率層18的折射率介於大約138至大約 1. 52之間。 [0016] 另外，若第三折射率層18為光學透明膠，則可提供 各種基板或薄膜之間的黏著（laminati〇ns)。並且，即 使是暴露于咼溫高濕環境下，仍可使黏著層具有無污染 (contaminant-free)以及高抗氣泡（bubble resistance)的特性 〇
[0017] 以上所述的觸控堆疊結構1可應用於觸控面板中。如 圖1所示，當觸控堆疊結構1應用於觸控面板，則一顯示 裝置（未圖示）應設置於基板10下方，且C與E分別代表使 用者的觀測方向下方具有導電區或蝕刻區，其中導電區C 表示其下方具有導電層12所形成的導電區、蝕刻區e表示 其下方的導電層12已經被钱刻移除。本創作根據光的干 涉原理’通過對第一折射率層14、第二折射率層16的合 理設計’使得導電區C與蝕刻區Ε的反射率差異大幅減小 第6頁/共18頁 1013215686-0 M436191 [0020] 1101年.06月〇>日俊正替換q ，因此使用者將難以辨別導電區C與蝕刻區E的差異，從 而改善觸控面板的外觀；另一方面，第一折射率層14與 第二折射率層16可阻擋光學透明膠（第三折射率層）對 導電層12的侵蝕，從而提高觸控面板的可靠度β同時， 光學透明膠覆蓋於第二折射率層丨6之上，與第_折射率 層14形成三層的結構，可進一步降低導電區c與蝕刻區£ 的反射率差異。 圖2為根據本創作另一較佳實施例的觸控堆疊結構2 的剖面圖，其與圖1實施例的差別在於，本實施例的觸控 堆疊結構2多了至少一有機保護層2〇(passivati〇n)， 位於第二折射率層16與第三折射率層18之間。有機保護 層20，其材質例如聚乙烯對笨二甲酸酯 (polyethyleneterephthalate ; PET)、聚笨硫醚 (Polyphenylene Sulfide ; PPS)、聚丙稀 (Polypropylene)，但不限於此。 圖3為根據本創作另一較佳實施例的觸控堆疊結構3 的剖面圖，其與圖1實施例的差別在於，本實施例的觸控 堆疊結構3多了一覆蓋層22，位於光學透明膠上方。另外 ，光學透明膠可具有一第一部分18a與一第二部分18b， 以分別與覆蓋層22以及第二折射率層折射率層〖β進行黏 著（lamination)。光學透明膠與覆蓋層22之間，也可以 設置有至少一層的其他折射率層或有機保護層。. 於本實施例，覆蓋層22的材質可以是玻璃或塑膠（高 分子），而光學透明膠可以是一種複合感壓膠 亦即 1013215686-0 (composite pressure-sensitive adhesive) 1002240#單減删1 第7 共18頁 M436191 101年06月07日修正替換頁 ，可藉由施加適當的壓力’例如使用滚輪（r〇ller)施壓 ，使其產生黏著力而與所欲貼合層黏著。另外，可選用 其折射率接近於所欲貼合層的折射率的光學透明膠。例 如，如果覆蓋層22的材質是一般玻璃，其折射係數大約 等於1.5’可選用折射率接近1.5的光學透明膠β [0021] 在本實施例，覆蓋層22和第二折射率層16的材質可 具有不同相（phase)與異質性（heterogeneity)，亦即 ，覆蓋層22和第二折射率層16可具有互異的物理或化學 特性。而光學透明膠的第—部分是適用於與覆蓋層22 進行黏者、第一部分18b是適用於與第二折射率層16進行 黏著。較佳地，第一部分18a和第二部分18b可分別由相 同或相異的單體（monomer)合成，其特徵在於兩者具有 相異的交聯密度（crosslinking density)，並形成一 複合體。
[0022] [0023] A0101 圖4顯示根據本創作一實施例的觸控面板，其包含如 圖3所示的觸控堆疊結構3以作為一觸控裝置3，以及，一 位於觸控裝置3下方的一顯示裝置4，例如，但不限定為 ，液晶顯示器、有機發光二極體（0LED)、顯示器或電致 (electroluminescent ; EL)顯示器等。藉此，觸控裝 置3與顯示裝置4構成一種外掛式的觸控面板。 圖5顯示根據本創作-實施例的觸控堆疊結構的具體 形成方法。步驟52，提供一透明基板，例如聚乙烯對笨 二甲酸醋（polyethyleneterephthalate ; PET)基板。 步驟54 ’在1¾透明基板上形案化的透明導電層。例 如，使用捲轴式（roll t0 roll)濺射設備在成卷的ρΕτ 第8頁/共18頁 1013215686-0 M436191 101年06月07日梭正替換百 上沉積一 ΙΤ0透明導電層。接著，根據曝光機規格，將具 有ΙΤ0选明導電層的卷狀PET裁剪成所需尺寸，例如，裁 剪成355 rainx406 mm的片狀。接著，經微影制程將該 IT0透明導電層圖案化。步驟56,沉積一低折射率的透明 折射率層以覆蓋該圖案化的透明導電層與該透明基板。 例如，使用網印（screen printing)制程，以可剝離膠 覆蓋該圖案化ΙΤ0透明導電層上需要進行結合（bonding)
的區域；接著，使用濺射設備，在圖案化的ΙΤ0透明導電 層上沉積一低折射率透明折射率層，且較佳地，該低折 射率透明折射率層折射率層可以是折射率為1. 38至1. 52 的氧化物，例如Si 〇2等。步驟58，沉積一高折射率的透 明折射率層以覆蓋該低折射率的透明折射率層折射率層 。例如，使用激射設備，在該低折射率透明折射率層上 沉積一高折射率透明折射率層，且較佳地，該高折射率 透明折射率層可以是折射率為1. 70至2. 30的氧化物或氮 化物，例如Ν\0Ε或SiNx等。接著，剝離該可剝離膠。步 驟60，貼合一如前所述的光學透明膠于該高折射率透明 折射率層上方，藉此，完成一觸控堆疊結構。 [0024] 承上，在本創作另一實施例，尚包含以該光學透明 膠貼合一如前所述的透明覆蓋層於該光學透明膠上方。 [0025] 實例 首先，在一PET卷材上沉積一厚度約40nm的IT0透 明導電層，並裁剪成355minx406mni的片狀；接著，以微 影制程圖案化該I TO透明導電層；接著，以網印製程利用 可剝離膠遮擋預備結合（bonding)區域；接著，利用反 10022407(^單編號 A〇101 第9頁/共18頁 1013215686-0 M436191 101年.06月0>日梭正替換頁 應濺射沉積法，在圖案化的ΙΤ0透明導電層上沉積一層厚 度約36nm的Si〇2薄膜，再沉積一層厚度約9nra的Nb2〇5。 接著，將可剝離膠剝離、貼合一光學透明膠於Ν1),0ε上方 L 5 、貼合一透明覆蓋層於該光學透明膠上方，完成一觸控 堆疊結構。最後，利用該觸控堆疊結構製成一觸控面板
[0026] 圖6顯示以上述實例以及一對照例的觸控堆疊結構製 成觸控面板後，兩者于蝕刻區與反射區的反射率曲線。 其中，除了未具有兩層透明折射率層，該對照例的結構 如同上述實例。此外，曲線Ε0、C0分別為對照例所製成 觸控面板于蝕刻區與導電區的反射率曲線；曲線E、C分 別為上述實例所製成觸控面板于蝕刻區與導電區的反射 率曲線。如圖，於對照例，E0與C0的反射率差異大，因 此經人眼觀察可輕易區分導電區C0與蝕刻區E0 ;於實例 ，丑與(：的反射率差異小，經人眼觀察未能區分導電區C與 姓刻區E。 [0027] 以上所述僅為本創作之較佳實施例而已，並非用以 限定本創作之申請專利範圍；凡其他未脫離創作所揭示 之精神下所完成之等效改變或修飾，均應包含在下述之 申請專利範圍内。 【圖式簡單說明】 [0028] 圖1為根據本創作一較佳實施例的觸控堆疊結構1的剖面 圖； 圖2為根據本創作另一較佳實施例的觸控堆疊結構2的剖 面圖； 10022407(^單编號 A〇101 第10頁/共18頁 1013215686-0 M436191 •101年.06月07日按正替換頁 圖3為根據本創作另一較佳實施例的觸控堆疊結構3的剖 面圖； 圖4顯示根據本創作另一實施例的觸控面板； 圖5顯示根據本創作另一實施例的觸控堆疊結構的形成方 法；以及 圖6顯示以本創作一實例以及一對照例的觸控堆疊結構製 成觸控面板後，兩者于姓刻區與反射區的反射率曲線。 【主要元件符號說明】
[0029] 1觸控堆疊結構 2觸控堆疊結構 3觸控堆疊結構/觸控裝置 4顯示裝置 10基板 12導電層 14第一折射率層 16第二折射率層
18第三折射率層 20有機保護層 22·覆蓋層 52提供一基板 54形成一導電層在該基板上 56沉積第一折射率層以覆蓋該導電層與該基板 58沉積第二折射率層以覆蓋該第一折射率層 60貼合一光學膠於該第二折射率層上 C0導電區 C導電區 10022407(P編號 A〇101 第11頁/共18頁 1013215686-0 M436191 E 0钱刻區 101年.06月07日修正替換頁 Ε 刻區 1〇_7产單编號A〇101 第12頁/共18頁 1013215686-0

Claims (1)

101年.06月07日後正#^頁 、申請專利範圍： 種觸控堆疊結構，包含： 一導電層； 灯射㈣，覆蓋該導電層；以及 -第二折射率層，位於該第—折射率層上； 、中所述第-折射率層的折射率低於所述導電層， ?所述第二折射率層的折射率高於所述第-折射率層。 …^請專利範圍第！項的觸控堆疊結構，尚包含第三折射 至層’位於該第二折射率層上，且該第三折射率層的折射 率低於該第二折射率層。 .如申請專利範圍第i項的觸控堆叠結構，其中該第一折射 率層的折射率介於1. 38至1. 52。 .如申請專利範圍第i項的觸控堆疊結構，其中該第二折射 .率層的折射率介於1.70至2.30。 .如申請專利範圍第1項的觸控堆叠結構，其中該第 率層為绝缘层。 •如申請專利範圍第i項的觸控堆φ結構，其中該第二折射 率層為绝缘层。 .如申請專利範圍第i項的觸控堆疊結構，其中該第—折射 率層的材料為二氧化矽（Si〇2)。 8.如巾請專利制第1或7項的觸控堆疊結構，其中該第一折 射率層的厚度介於20 nm至80 nm之間。 9 .如申請專利範圍第丨項的觸控堆疊結構，其中該第-折射 率層的材料為五氧化二鈮（Nb2〇5)或氮化矽（SiNx)。射 10.如申請專利範圍第1或9項的觸控堆疊結構，其中該第二 率層的厚度介於5 nm至20 nm之間》 10022407(^單編號A0I01 第13頁/共18頁 1013215686-0 11财36191 1〇1年.06月〇>日俊正替換頁| 其中該第三折射 如申請專利範圍第2項的觸控堆疊結構 率層的折射率介於1. 38至1. 52。 12 13 . 14 . 如申請專利範圍第2項的觸控堆疊結構，其中該第三折射 率層為由光學膠或水膝所形成的黏結層。 如申請專職@第2項的觸控堆疊結構，尚包含至少一有 機保護層介於該第二折射率層與第三折射率層之間。 如申請專職圍第丨項_控堆疊結構，其巾該觸控堆叠 結構是形成於一基板之上。 如申請專職圍第14項_控堆疊結構，其巾該基板的材
質包含聚乙稀對苯二甲_、朗、聚碳_或聚甲基丙 烯酸甲酯。 16 17 18 19 20 申請專利第1項的觸控堆疊結構，其中該導電層的材 質係選自下列群組的其中之—或其組合：氧仙锡（ιτ〇) 知' 氧化録錫ατο)、氧化鋅（Ζη0)、二氧化辞（Ζη〇 )、二 氧化錫（Sn〇2)及三氧化二銦（丨、、）。 2 如申請專利範圍第2項的觸控堆疊^構， 位於該第二折射率層上方。 如申請專利範圍第17項的觸控堆疊結構 折射率與該第三折射率層的折射率相近 如申請專利範圍第17項的觸控堆疊結構 材質包含玻璃或塑膠》2專利範圍第1項的觸控堆疊結構，其中該觸控堆疊結 一觸控裝置，該觸控裝置與-顯示裝置構成 —觸控面板。 尚包含一覆蓋層 其中該覆蓋層的 其中該覆蓋層的 100224G?# 單编號麵1 ^ 14 I / ^ 18 I 1013215686-0
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