JP2003136625A - 表示体用フィルム、タッチパネル及びこれらの製造方法 - Google Patents
表示体用フィルム、タッチパネル及びこれらの製造方法Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】光透過率の高い特性の良好な表示体用フィルム
を提供し、これをタッチパネル表面に利用することによ
って、視認性の高い特性の良好なタッチパネルを提供す
ることを目的とする。 【解決手段】光透過性のフィルム基材１の第１の面１Ａ
上に少なくとも第１の反射防止層３を形成して、このフ
ィルム基材１の第１の面１Ａとは反対側の第２の面１Ｂ
上に、少なくとも第２の反射防止層１０及び光透過性導
電層７をこの順に形成して表示体用フィルム３０を構成
する。
を提供し、これをタッチパネル表面に利用することによ
って、視認性の高い特性の良好なタッチパネルを提供す
ることを目的とする。 【解決手段】光透過性のフィルム基材１の第１の面１Ａ
上に少なくとも第１の反射防止層３を形成して、このフ
ィルム基材１の第１の面１Ａとは反対側の第２の面１Ｂ
上に、少なくとも第２の反射防止層１０及び光透過性導
電層７をこの順に形成して表示体用フィルム３０を構成
する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、表示体用フィル
ム、タッチパネル及びこれらの製造方法に係わる。
ム、タッチパネル及びこれらの製造方法に係わる。
【０００２】
【従来の技術】近年、有機ＥＬ（エレクトロルミネッセ
ンス）ディスプレイや液晶ディスプレイなどのディスプ
レイの表面に、ペン状の指示体又は指での押圧により情
報を入力するパネルを設けるいわゆるタッチパネル（又
はタッチスクリーン）が、電子手帳、携帯電話等の携帯
端末や交通機関のチケット販売用入力機など、種々多様
に使用されている。
ンス）ディスプレイや液晶ディスプレイなどのディスプ
レイの表面に、ペン状の指示体又は指での押圧により情
報を入力するパネルを設けるいわゆるタッチパネル（又
はタッチスクリーン）が、電子手帳、携帯電話等の携帯
端末や交通機関のチケット販売用入力機など、種々多様
に使用されている。
【０００３】このタッチパネルの一般的な例として例え
ば抵抗式（又は抵抗膜式）のタッチパネルの場合、図１
２にその一例の要部の模式的な断面構成を示すように、
ガラス、ポリカーボネート等より成る光透過性の基材４
０の上に、ＩＴＯ（Ｉｎ−Ｓｎ酸化物）等より成る光透
過性の導電層４１が設けられ、この上にアクリル樹脂等
の絶縁材料より成るスペーサ４２を介してフィルム部６
０が所定の間隔を保持して対向配置される。フィルム部
６０は、光透過性のフィルム基材４８とその内側すなわ
ち光透過性の基材４０に対向する側にＩＴＯ等より成る
光透過性導電層４４が設けられる構成とされる。またフ
ィルム基材４８の外側には、通常ハードコート層４５、
反射防止層４６が被着形成されて、タッチパネル２０が
構成される。図示しないが、タッチパネル２０の下部、
即ち図１２における基材４０の下側には、例えば液晶型
表示器等の表示体が設けられ、タッチパネル２０はその
表示体の表示面上に固定配置される。液晶型表示器を設
ける場合は、その下部にバックライトが設けられ、この
バックライトからの光を液晶を透過させることによって
情報内容を表示体に表示し、更にタッチパネル２０を介
して情報内容を利用者が視認することとなる。
ば抵抗式（又は抵抗膜式）のタッチパネルの場合、図１
２にその一例の要部の模式的な断面構成を示すように、
ガラス、ポリカーボネート等より成る光透過性の基材４
０の上に、ＩＴＯ（Ｉｎ−Ｓｎ酸化物）等より成る光透
過性の導電層４１が設けられ、この上にアクリル樹脂等
の絶縁材料より成るスペーサ４２を介してフィルム部６
０が所定の間隔を保持して対向配置される。フィルム部
６０は、光透過性のフィルム基材４８とその内側すなわ
ち光透過性の基材４０に対向する側にＩＴＯ等より成る
光透過性導電層４４が設けられる構成とされる。またフ
ィルム基材４８の外側には、通常ハードコート層４５、
反射防止層４６が被着形成されて、タッチパネル２０が
構成される。図示しないが、タッチパネル２０の下部、
即ち図１２における基材４０の下側には、例えば液晶型
表示器等の表示体が設けられ、タッチパネル２０はその
表示体の表示面上に固定配置される。液晶型表示器を設
ける場合は、その下部にバックライトが設けられ、この
バックライトからの光を液晶を透過させることによって
情報内容を表示体に表示し、更にタッチパネル２０を介
して情報内容を利用者が視認することとなる。
【０００４】このような抵抗式のタッチパネルにおいて
その押圧位置の情報の検出は以下の方法により行われ
る。すなわち、フィルム部６０の表面側から指示体又は
指などによって一部が押圧されることによって、その部
分の光透過性導電層４１及び４４が接触し、基材４０と
フィルム部６０とにおいてそれぞれ例えば図１２の紙面
に沿う方向及び図１２の紙面に直交する方向の２方向に
印加された電圧の変化をそれぞれ検出し、これにより押
圧された位置の情報を得ることができる。
その押圧位置の情報の検出は以下の方法により行われ
る。すなわち、フィルム部６０の表面側から指示体又は
指などによって一部が押圧されることによって、その部
分の光透過性導電層４１及び４４が接触し、基材４０と
フィルム部６０とにおいてそれぞれ例えば図１２の紙面
に沿う方向及び図１２の紙面に直交する方向の２方向に
印加された電圧の変化をそれぞれ検出し、これにより押
圧された位置の情報を得ることができる。
【０００５】タッチパネルとしては、その他静電容量方
式、赤外線方式、超音波方式など種々の方式のものが提
案されている。
式、赤外線方式、超音波方式など種々の方式のものが提
案されている。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】ところで、このような
タッチパネルを表面に有する表示体においては、タッチ
パネルの構造上、その表面が多層構造となっているた
め、各層の界面において光が反射することから、全体と
して表面の反射率が高くなり、従って透過率は低下して
しまうという問題がある。
タッチパネルを表面に有する表示体においては、タッチ
パネルの構造上、その表面が多層構造となっているた
め、各層の界面において光が反射することから、全体と
して表面の反射率が高くなり、従って透過率は低下して
しまうという問題がある。
【０００７】また表示体表面からタッチパネルを透過す
るの光の透過率も低下することから、利用者の視認性を
良好に保持することが難しいという問題がある。タッチ
パネルはその性質上表示体の表示面における文字、記号
等の細かい情報内容を利用者が正確に把握することが必
要とされるため、視認性の向上が望まれている。特に、
液晶型表示器の表面にタッチパネルを構成する場合は、
液晶型表示器の消費電力を低減するためにそのバックラ
イトの光量を低減化することが求められているが、バッ
クライトの明るさを下げると、上述したようにタッチパ
ネルを介した液晶型表示器の表示面の視認性が著しく低
下してしまうという問題がある。
るの光の透過率も低下することから、利用者の視認性を
良好に保持することが難しいという問題がある。タッチ
パネルはその性質上表示体の表示面における文字、記号
等の細かい情報内容を利用者が正確に把握することが必
要とされるため、視認性の向上が望まれている。特に、
液晶型表示器の表面にタッチパネルを構成する場合は、
液晶型表示器の消費電力を低減するためにそのバックラ
イトの光量を低減化することが求められているが、バッ
クライトの明るさを下げると、上述したようにタッチパ
ネルを介した液晶型表示器の表示面の視認性が著しく低
下してしまうという問題がある。
【０００８】このため、タッチパネル表面を構成するフ
ィルム基材近傍での光の反射率を低減化させ、光透過率
を向上させることが要求されている。
ィルム基材近傍での光の反射率を低減化させ、光透過率
を向上させることが要求されている。
【０００９】本発明は、このような事情に鑑みてなされ
たものであり、光透過率の高い特性の良好な表示体用フ
ィルムを提供し、これをタッチパネル表面に利用するこ
とによって、視認性の高い特性の良好なタッチパネルを
提供することを目的とする。
たものであり、光透過率の高い特性の良好な表示体用フ
ィルムを提供し、これをタッチパネル表面に利用するこ
とによって、視認性の高い特性の良好なタッチパネルを
提供することを目的とする。
【００１０】
【課題を解決するための手段】本発明は、光透過性のフ
ィルム基材の第１の面上に少なくとも第１の反射防止層
を形成して、このフィルム基材の第１の面とは反対側の
第２の面上に、少なくとも第２の反射防止層及び光透過
性導電層をこの順に形成して表示体用フィルムを構成す
る。また本発明は、上述の構成において、その第２の反
射防止層を、フィルム基材の第２の面から順に第１及び
第２の屈折率層が積層される構成として形成する。
ィルム基材の第１の面上に少なくとも第１の反射防止層
を形成して、このフィルム基材の第１の面とは反対側の
第２の面上に、少なくとも第２の反射防止層及び光透過
性導電層をこの順に形成して表示体用フィルムを構成す
る。また本発明は、上述の構成において、その第２の反
射防止層を、フィルム基材の第２の面から順に第１及び
第２の屈折率層が積層される構成として形成する。
【００１１】更に本発明は、上述の各構成において、第
１の屈折率層の厚さをｄ1 、屈折率をｎ1 とし、第２の
屈折率層の厚さをｄ2 、屈折率をｎ2 とし、光透過性導
電層の厚さをｄ3 、屈折率をｎ3 として、光の波長をλ
としたときに、 ０．５ｎ3 ｄ3 ≦ｎ1 ｄ1 ≦２ｎ3 ｄ3 ‥‥（１） ０．５（λ／４）≦ｎ2 ｄ2 ≦１．５（λ／４） ‥‥（２） の条件を満たすように構成する。
１の屈折率層の厚さをｄ1 、屈折率をｎ1 とし、第２の
屈折率層の厚さをｄ2 、屈折率をｎ2 とし、光透過性導
電層の厚さをｄ3 、屈折率をｎ3 として、光の波長をλ
としたときに、 ０．５ｎ3 ｄ3 ≦ｎ1 ｄ1 ≦２ｎ3 ｄ3 ‥‥（１） ０．５（λ／４）≦ｎ2 ｄ2 ≦１．５（λ／４） ‥‥（２） の条件を満たすように構成する。
【００１２】また更に本発明は、上述の各構成におい
て、第２の屈折率層と光透過性導電層との間にバリア層
を設ける構成とする。更に本発明は、このバリア層の厚
さを１ｎｍ以上１０ｎｍ以下として、バリア層の材料
を、Ｓｉ、Ｔｉ、Ｔａ又はＡｌもしくはこれらの窒化物
のうちいずれか一つとして構成する。
て、第２の屈折率層と光透過性導電層との間にバリア層
を設ける構成とする。更に本発明は、このバリア層の厚
さを１ｎｍ以上１０ｎｍ以下として、バリア層の材料
を、Ｓｉ、Ｔｉ、Ｔａ又はＡｌもしくはこれらの窒化物
のうちいずれか一つとして構成する。
【００１３】更に本発明は、上述の本発明構成による表
示体用フィルムを適用してタッチパネルを構成する。す
なわち本発明においては、基材上に光透過性導電層を形
成し、この基材とは所定の間隔をもってフィルム基材を
対向配置して、フィルム基材上の第１の面上に少なくと
も第１の反射防止層を形成する。そして基材と相対向
し、フィルム基材の第１の面とは反対側の第２の面上
に、少なくとも第２の反射防止層と光透過性導電層とを
この順に形成してタッチパネルを構成する。
示体用フィルムを適用してタッチパネルを構成する。す
なわち本発明においては、基材上に光透過性導電層を形
成し、この基材とは所定の間隔をもってフィルム基材を
対向配置して、フィルム基材上の第１の面上に少なくと
も第１の反射防止層を形成する。そして基材と相対向
し、フィルム基材の第１の面とは反対側の第２の面上
に、少なくとも第２の反射防止層と光透過性導電層とを
この順に形成してタッチパネルを構成する。
【００１４】また本発明は、上述のタッチパネルにおい
て、第２の反射防止層を、その第２の面から順に第１及
び第２の屈折率層を積層して形成する。更に本発明は、
上述の各タッチパネルにおいて、第１の屈折率層の厚さ
をｄ1、屈折率をｎ1 とし、第２の屈折率層の厚さをｄ
2 、屈折率をｎ2 とし、フィルム基材上の光透過性導電
層の厚さをｄ3 、屈折率をｎ3 として、光の波長をλと
したときに、 ０．５ｎ3 ｄ3 ≦ｎ1 ｄ1 ≦２ｎ3 ｄ3 ‥‥（１） ０．５（λ／４）≦ｎ2 ｄ2 ≦１．５（λ／４） ‥‥（２） の条件を満たすように構成する。
て、第２の反射防止層を、その第２の面から順に第１及
び第２の屈折率層を積層して形成する。更に本発明は、
上述の各タッチパネルにおいて、第１の屈折率層の厚さ
をｄ1、屈折率をｎ1 とし、第２の屈折率層の厚さをｄ
2 、屈折率をｎ2 とし、フィルム基材上の光透過性導電
層の厚さをｄ3 、屈折率をｎ3 として、光の波長をλと
したときに、 ０．５ｎ3 ｄ3 ≦ｎ1 ｄ1 ≦２ｎ3 ｄ3 ‥‥（１） ０．５（λ／４）≦ｎ2 ｄ2 ≦１．５（λ／４） ‥‥（２） の条件を満たすように構成する。
【００１５】また本発明は、上述の各タッチパネルにお
いて、第２の屈折率層と光透過性導電層との間にバリア
層を設ける構成する。更に本発明は、このバリア層の厚
さを１ｎｍ以上１０ｎｍ以下として、バリア層の材料
を、Ｓｉ、Ｔｉ、Ｔａ又はＡｌもしくはこれらの窒化物
のうちいずれか一つとより構成する。
いて、第２の屈折率層と光透過性導電層との間にバリア
層を設ける構成する。更に本発明は、このバリア層の厚
さを１ｎｍ以上１０ｎｍ以下として、バリア層の材料
を、Ｓｉ、Ｔｉ、Ｔａ又はＡｌもしくはこれらの窒化物
のうちいずれか一つとより構成する。
【００１６】上述したように本発明においては、表示体
用フィルムにおける光透過性導電層とフィルム基材との
界面における反射を防止するために、フィルム基材と光
透過性導電層との間に反射防止層を設ける構成とするも
のである。このように、光透過性導電層とフィルム基材
との間に反射防止層を設けることによって、ここにおけ
る界面の反射が低減化し、全体の光透過率の向上をはか
ることができる。特に、この反射防止層として、第１及
び第２の屈折率層を設ける構成とし、更にこれら第１及
び第２の屈折率層の屈折率、厚さ、光透過性導電層の屈
折率及び厚さを上述の式（１）及び（２）の範囲に選定
して形成することによって、反射率の低減化を確実に行
うと共に、これにより、反射光が低減化され、光透過率
の向上がはかられて視認性に優れた表示体用フィルム及
びタッチパネルを提供することができる。
用フィルムにおける光透過性導電層とフィルム基材との
界面における反射を防止するために、フィルム基材と光
透過性導電層との間に反射防止層を設ける構成とするも
のである。このように、光透過性導電層とフィルム基材
との間に反射防止層を設けることによって、ここにおけ
る界面の反射が低減化し、全体の光透過率の向上をはか
ることができる。特に、この反射防止層として、第１及
び第２の屈折率層を設ける構成とし、更にこれら第１及
び第２の屈折率層の屈折率、厚さ、光透過性導電層の屈
折率及び厚さを上述の式（１）及び（２）の範囲に選定
して形成することによって、反射率の低減化を確実に行
うと共に、これにより、反射光が低減化され、光透過率
の向上がはかられて視認性に優れた表示体用フィルム及
びタッチパネルを提供することができる。
【００１７】また更に本発明によれば、上述したように
フィルム基材の反射防止層と光透過性導電層との間に、
バリア層を設けることによって、例えばタッチパネルを
製造する工程において比較的高温のプロセスを必要とす
る場合においても、光透過性導電層の特性を損なうこと
を回避することができる。特にバリア層として、厚さ１
ｎｍ以上１０ｎｍ以上とし、その材料としてＳｉ、Ｔ
ｉ、Ｔａ、Ａｌ又はこれらの窒化物を用いることによっ
て、光透過性導電層の抵抗の増大化を確実に回避し、特
性の良好な表示体用フィルム及びタッチパネルを生産性
よく、良好な歩留りをもって提供することができる。
フィルム基材の反射防止層と光透過性導電層との間に、
バリア層を設けることによって、例えばタッチパネルを
製造する工程において比較的高温のプロセスを必要とす
る場合においても、光透過性導電層の特性を損なうこと
を回避することができる。特にバリア層として、厚さ１
ｎｍ以上１０ｎｍ以上とし、その材料としてＳｉ、Ｔ
ｉ、Ｔａ、Ａｌ又はこれらの窒化物を用いることによっ
て、光透過性導電層の抵抗の増大化を確実に回避し、特
性の良好な表示体用フィルム及びタッチパネルを生産性
よく、良好な歩留りをもって提供することができる。
【００１８】
【発明の実施の形態】以下本発明の好適な実施の形態を
図面を参照して詳細に説明するが、本発明は、以下の例
に限定されることなく各種の方式を採用するタッチパネ
ルに適用して好適な表示体用フィルムであって、また液
晶型表示器に限ることなく各種の表示器の表面に配置さ
れるタッチパネルに適用することができるものである。
図面を参照して詳細に説明するが、本発明は、以下の例
に限定されることなく各種の方式を採用するタッチパネ
ルに適用して好適な表示体用フィルムであって、また液
晶型表示器に限ることなく各種の表示器の表面に配置さ
れるタッチパネルに適用することができるものである。
【００１９】図１に本発明の実施の形態の表示体用フィ
ルム及びこれを用いたタッチパネルの一例の要部の略線
的拡大断面構成を模式的に示す。図１においては、タッ
チパネル２０に本発明を適用した場合で、ガラス等より
成る光透過性の基材４０の上に、ＩＴＯ（Ｉｎ−Ｓｎ酸
化物；Ｉｎ2 Ｏ3 ＋ＳｎＯ2 ）等より成る光透過性導電
層４１が被着され、この上に、アクリル樹脂等より成る
スペーサ４２が、例えばスクリーン印刷により基材４０
及び光透過性導電層４１の延在方向に所定間隔をおいて
一定の厚さをもって形成され、この上に所定の間隔をも
って、基材４０との対向面に可撓性を有するＰＥＴ（ポ
リエチレンテレフタレート）等より成るフィルム基材１
が対向配置される。このフィルム基材１と基材４１との
間隔は、図示しないが例えば外縁部において所定の厚さ
の絶縁層、例えば粘着テープ等を用いて支持することに
よって、例えば数μｍの間隔を保持するようになされて
いる。
ルム及びこれを用いたタッチパネルの一例の要部の略線
的拡大断面構成を模式的に示す。図１においては、タッ
チパネル２０に本発明を適用した場合で、ガラス等より
成る光透過性の基材４０の上に、ＩＴＯ（Ｉｎ−Ｓｎ酸
化物；Ｉｎ2 Ｏ3 ＋ＳｎＯ2 ）等より成る光透過性導電
層４１が被着され、この上に、アクリル樹脂等より成る
スペーサ４２が、例えばスクリーン印刷により基材４０
及び光透過性導電層４１の延在方向に所定間隔をおいて
一定の厚さをもって形成され、この上に所定の間隔をも
って、基材４０との対向面に可撓性を有するＰＥＴ（ポ
リエチレンテレフタレート）等より成るフィルム基材１
が対向配置される。このフィルム基材１と基材４１との
間隔は、図示しないが例えば外縁部において所定の厚さ
の絶縁層、例えば粘着テープ等を用いて支持することに
よって、例えば数μｍの間隔を保持するようになされて
いる。
【００２０】基材４０の下部には表示手段５０が固定配
置される。この例では、表示手段として液晶型表示器５
１を用いる場合を示す。５２はこの液晶型表示器５１の
バックライトを示す。
置される。この例では、表示手段として液晶型表示器５
１を用いる場合を示す。５２はこの液晶型表示器５１の
バックライトを示す。
【００２１】またフィルム基材１の基材４０とは対向し
ない上側の第１の面１Ａには、ハードコート層２及び第
１の反射防止層３が形成される。このハードコート層２
の材料としては、例えばアクリル系樹脂、シリコン系樹
脂などの硬化型樹脂が用いられ、機械的強度を得るため
に例えば５μｍ以上１５μｍ以下程度の厚みをもって形
成される。そしてこのハードコート層２の表面を粗面化
させることによってＡＧ機能（Anti-Glare：入射光を乱
反射させ防眩性を付与する機能）を付加することによっ
て、より視認性の向上をはかることができる。
ない上側の第１の面１Ａには、ハードコート層２及び第
１の反射防止層３が形成される。このハードコート層２
の材料としては、例えばアクリル系樹脂、シリコン系樹
脂などの硬化型樹脂が用いられ、機械的強度を得るため
に例えば５μｍ以上１５μｍ以下程度の厚みをもって形
成される。そしてこのハードコート層２の表面を粗面化
させることによってＡＧ機能（Anti-Glare：入射光を乱
反射させ防眩性を付与する機能）を付加することによっ
て、より視認性の向上をはかることができる。
【００２２】第１の反射防止層３においては、反射率を
５％以下程度とすることが望ましく、例えば３層または
４層構成とすることができる。第１の反射防止層３を３
層で構成する場合は、フィルム基材１の第１の面１Ａか
ら順に中屈折率材、高屈折率材、低屈折率材の順にスパ
ッタリング法等により成膜して積層形成することがで
き、それぞれの層の光学厚みｎｄ（屈折率・厚さ）をλ
／４、λ／２、λ／４とすることにより、効率良く反射
光を抑制することができる。ここで波長λとしては、最
も視認性の高い光の波長はほぼ５５０ｎｍであることか
ら、この波長５５０ｎｍを判断基準とすることができ
る。
５％以下程度とすることが望ましく、例えば３層または
４層構成とすることができる。第１の反射防止層３を３
層で構成する場合は、フィルム基材１の第１の面１Ａか
ら順に中屈折率材、高屈折率材、低屈折率材の順にスパ
ッタリング法等により成膜して積層形成することがで
き、それぞれの層の光学厚みｎｄ（屈折率・厚さ）をλ
／４、λ／２、λ／４とすることにより、効率良く反射
光を抑制することができる。ここで波長λとしては、最
も視認性の高い光の波長はほぼ５５０ｎｍであることか
ら、この波長５５０ｎｍを判断基準とすることができ
る。
【００２３】図２は、この第１の反射防止層３を、中屈
折率材（屈折率ｎ＝１．７、厚さｄ＝７５ｎｍ）、高屈
折率材（屈折率ｎ＝２．２、厚さｄ＝１１６ｎｍ）、低
屈折率材（屈折率ｎ＝１．３８、厚さｄ＝９２ｎｍ）で
構成した場合に実測した反射率の波長依存性を示す図で
ある。横軸は波長λ（ｎｍ）、縦軸は反射率Ｒ（％）で
ある。
折率材（屈折率ｎ＝１．７、厚さｄ＝７５ｎｍ）、高屈
折率材（屈折率ｎ＝２．２、厚さｄ＝１１６ｎｍ）、低
屈折率材（屈折率ｎ＝１．３８、厚さｄ＝９２ｎｍ）で
構成した場合に実測した反射率の波長依存性を示す図で
ある。横軸は波長λ（ｎｍ）、縦軸は反射率Ｒ（％）で
ある。
【００２４】この図２から明らかなように、第１の反射
防止層により、波長４５０ｎｍから６５０ｎｍのいわゆ
る可視光の範囲において、反射率を０．５％以下に抑制
できることがわかる。尚、上述の中屈折率材として適当
な材料が場合は、第１の反射防止層３を４層で構成する
ことができる。この場合には、フィルム基材１の上に、
ハードコート層２を介して、高屈折率材、低屈折率材、
高屈折率材、低屈折率材の順で各層を積層形成すること
によって、同様の反射率特性を有する反射防止層を構成
することができる。
防止層により、波長４５０ｎｍから６５０ｎｍのいわゆ
る可視光の範囲において、反射率を０．５％以下に抑制
できることがわかる。尚、上述の中屈折率材として適当
な材料が場合は、第１の反射防止層３を４層で構成する
ことができる。この場合には、フィルム基材１の上に、
ハードコート層２を介して、高屈折率材、低屈折率材、
高屈折率材、低屈折率材の順で各層を積層形成すること
によって、同様の反射率特性を有する反射防止層を構成
することができる。
【００２５】そして本発明においては、フィルム基材１
の内側の第２の面１Ｂ上に、第２の反射防止層１０がス
パッタリング法等により形成され、この上にＩＴＯ等よ
り成る光透過性導電層７が被着されて、タッチパネル２
０表面の表示体用フィルム３０が構成される。この第２
の反射防止層１０は、この上に形成される光透過性導電
層７とともに反射を防止する構成とする。
の内側の第２の面１Ｂ上に、第２の反射防止層１０がス
パッタリング法等により形成され、この上にＩＴＯ等よ
り成る光透過性導電層７が被着されて、タッチパネル２
０表面の表示体用フィルム３０が構成される。この第２
の反射防止層１０は、この上に形成される光透過性導電
層７とともに反射を防止する構成とする。
【００２６】第２の反射防止層１０としては、図１に示
すように第１及び第２の屈折率層４及び５を積層した構
成とすることができる。そしてこのような構成におい
て、第１の屈折率層４の厚さをｄ1 、屈折率をｎ1 、第
２の屈折率層５の厚さをｄ2 、屈折率をｎ2 、光透過性
導電層７の厚さをｄ3 、屈折率をｎ3 として、反射を防
止すべき光の波長をλとすると、 ０．５ｎ3 ｄ3 ≦ｎ1 ｄ1 ≦２ｎ3 ｄ3 ‥‥（１） ０．５（λ／４）≦ｎ2 ｄ2 ≦１．５（λ／４） ‥‥（２） とするときに、所望の反射防止効果を得ることができ
た。
すように第１及び第２の屈折率層４及び５を積層した構
成とすることができる。そしてこのような構成におい
て、第１の屈折率層４の厚さをｄ1 、屈折率をｎ1 、第
２の屈折率層５の厚さをｄ2 、屈折率をｎ2 、光透過性
導電層７の厚さをｄ3 、屈折率をｎ3 として、反射を防
止すべき光の波長をλとすると、 ０．５ｎ3 ｄ3 ≦ｎ1 ｄ1 ≦２ｎ3 ｄ3 ‥‥（１） ０．５（λ／４）≦ｎ2 ｄ2 ≦１．５（λ／４） ‥‥（２） とするときに、所望の反射防止効果を得ることができ
た。
【００２７】
【実施例】次に、このような構成による第２の反射防止
膜の分光反射特性を測定した結果を説明する。各例共
に、第１の反射防止層３としては、上述の構成により、
波長λ＝５５０ｎｍの光に対し０．５％以下の反射率特
性を有する反射防止層を形成した。
膜の分光反射特性を測定した結果を説明する。各例共
に、第１の反射防止層３としては、上述の構成により、
波長λ＝５５０ｎｍの光に対し０．５％以下の反射率特
性を有する反射防止層を形成した。
【００２８】〔実施例１〕この例においては、第１の屈
折率層４の材料をＴｉＯ2 とし、屈折率ｎ1 は２．３
５、厚さｄ1 を２０ｎｍとし、第２の屈折率層５の材料
をＳｉＯ2 とし、屈折率ｎ2 は１．４６、厚さｄ2 を８
０ｎｍとして積層形成した。光透過性導電層７はＩＴＯ
より構成し、屈折率ｎ3 は２．０であり、厚さは電気的
特性より２０ｎｍとして形成した。この構成は、λ＝５
５０ｎｍとすると、 ｎ1 ｄ1 ＝４７（ｎｍ） ｎ2 ｄ2 ＝１１６．８（ｎｍ） ｎ3 ｄ3 ＝４０（ｎｍ） となり、上記式（１）及び（２）を満たす。
折率層４の材料をＴｉＯ2 とし、屈折率ｎ1 は２．３
５、厚さｄ1 を２０ｎｍとし、第２の屈折率層５の材料
をＳｉＯ2 とし、屈折率ｎ2 は１．４６、厚さｄ2 を８
０ｎｍとして積層形成した。光透過性導電層７はＩＴＯ
より構成し、屈折率ｎ3 は２．０であり、厚さは電気的
特性より２０ｎｍとして形成した。この構成は、λ＝５
５０ｎｍとすると、 ｎ1 ｄ1 ＝４７（ｎｍ） ｎ2 ｄ2 ＝１１６．８（ｎｍ） ｎ3 ｄ3 ＝４０（ｎｍ） となり、上記式（１）及び（２）を満たす。
【００２９】この場合の分光反射特性を図３に示す。図
３からわかるように、この構成においては、波長５５０
ｎｍ付近、特に５５０±５ｎｍの範囲において０．５％
以下の反射率とすることができた。
３からわかるように、この構成においては、波長５５０
ｎｍ付近、特に５５０±５ｎｍの範囲において０．５％
以下の反射率とすることができた。
【００３０】〔実施例２〕この例においては、第１の屈
折率層４の材料をＮｂ2 Ｏ5 とし、屈折率ｎ1 は２．３
６であり、厚さｄ1 を２０ｎｍとして形成した。第２の
屈折率層５及び光透過性導電層７は、実施例１と同様の
構成とした。この場合、λ＝５５０ｎｍとすると、 ｎ1 ｄ1 ＝４７．２（ｎｍ） ｎ2 ｄ2 ＝１１６．８（ｎｍ） ｎ3 ｄ3 ＝４０（ｎｍ） となり、上記式（１）及び（２）を満たす。この構成に
おける分光反射特性を図４に示す。
折率層４の材料をＮｂ2 Ｏ5 とし、屈折率ｎ1 は２．３
６であり、厚さｄ1 を２０ｎｍとして形成した。第２の
屈折率層５及び光透過性導電層７は、実施例１と同様の
構成とした。この場合、λ＝５５０ｎｍとすると、 ｎ1 ｄ1 ＝４７．２（ｎｍ） ｎ2 ｄ2 ＝１１６．８（ｎｍ） ｎ3 ｄ3 ＝４０（ｎｍ） となり、上記式（１）及び（２）を満たす。この構成に
おける分光反射特性を図４に示す。
【００３１】図４から明らかなように、この場合におい
ても５５０ｎｍ±１５ｎｍ程度の範囲において反射率
０．５％以下を達成することができた。
ても５５０ｎｍ±１５ｎｍ程度の範囲において反射率
０．５％以下を達成することができた。
【００３２】〔実施例３〕次に、上記式（１）の下限値
０．５ｎ3 ｄ3 ＝ｎ1 ｄ1 となる場合を形成した。光透
過性導電層７の厚さは電気的特性より決まるので、Ｎｂ
2 Ｏ5 を第１の屈折率層４の材料として用いる場合は、
この式を満足するような厚さｄ1 は、ｄ1＝８．５ｎｍ
となる。第２の屈折率層５の材料構成は上述の実施例１
及び２と同様の構成として第２の反射防止層を形成し
た。この構成による分光反射特性を図５に示す。図５か
らわかるように、反射率の低い範囲は短波長側の範囲に
移動し、波長４５０ｎｍ〜６００ｎｍの範囲ではほぼ５
％以下、波長５５０ｎｍ±５ｎｍでは３％以下の反射率
となり、波長４００〜４８０ｎｍの範囲において０．５
％程度以下の低反射率を実現している。
０．５ｎ3 ｄ3 ＝ｎ1 ｄ1 となる場合を形成した。光透
過性導電層７の厚さは電気的特性より決まるので、Ｎｂ
2 Ｏ5 を第１の屈折率層４の材料として用いる場合は、
この式を満足するような厚さｄ1 は、ｄ1＝８．５ｎｍ
となる。第２の屈折率層５の材料構成は上述の実施例１
及び２と同様の構成として第２の反射防止層を形成し
た。この構成による分光反射特性を図５に示す。図５か
らわかるように、反射率の低い範囲は短波長側の範囲に
移動し、波長４５０ｎｍ〜６００ｎｍの範囲ではほぼ５
％以下、波長５５０ｎｍ±５ｎｍでは３％以下の反射率
となり、波長４００〜４８０ｎｍの範囲において０．５
％程度以下の低反射率を実現している。
【００３３】〔実施例４〕この例では、上記式（１）の
上限値ｎ1 ｄ1 ＝２ｎ3 ｄ3 となる場合を形成した。第
１の屈折率層４の材料をＮｂ2 Ｏ5 とし、その厚さｄ1
をｄ1 ＝３４ｎｍとして、その他の構成を実施例１〜３
と同様の構成として第２の反射防止層を形成した。この
構成による分光反射特性を図６に示す。図６からわかる
ように、反射率の低い範囲は長波長側に移動し、波長５
３０〜７５０ｎｍの範囲でほぼ５％以下の反射率、波長
５５０〜６５０ｎｍの範囲で２％以下の反射率を達成し
ている。
上限値ｎ1 ｄ1 ＝２ｎ3 ｄ3 となる場合を形成した。第
１の屈折率層４の材料をＮｂ2 Ｏ5 とし、その厚さｄ1
をｄ1 ＝３４ｎｍとして、その他の構成を実施例１〜３
と同様の構成として第２の反射防止層を形成した。この
構成による分光反射特性を図６に示す。図６からわかる
ように、反射率の低い範囲は長波長側に移動し、波長５
３０〜７５０ｎｍの範囲でほぼ５％以下の反射率、波長
５５０〜６５０ｎｍの範囲で２％以下の反射率を達成し
ている。
【００３４】これらの結果から、上記式（１）の範囲に
選定する場合には、反射率の０．５％以下、また２％以
下という極小値を得る波長帯域が短波長側から長波長側
に移動するが、特に視認性が高く実用上問題となる波長
５５０ｎｍ±５ｎｍ程度の波長の光に対して、３％以下
程度の反射率を達成できることがわかる。
選定する場合には、反射率の０．５％以下、また２％以
下という極小値を得る波長帯域が短波長側から長波長側
に移動するが、特に視認性が高く実用上問題となる波長
５５０ｎｍ±５ｎｍ程度の波長の光に対して、３％以下
程度の反射率を達成できることがわかる。
【００３５】〔実施例５〕次に、上記式（２）の範囲を
考察するにあたって、波長範囲としては例えば「色の科
学」（金子隆芳著、朝倉書店刊）ｐ．２８図２．１０に
記載されているように、通常の可視域４００ｎｍ〜７０
０ｎｍの範囲において十分な反射率特性が得られるもの
とした。従って、上記式（２）の下限値０．５（λ／
４）＝ｎ2 ｄ 2 となる最大の第２の屈折率層５の厚さｄ
2 は、波長λ＝７００ｎｍの場合でｄ 2 ＝６０ｎｍであ
る。第２の屈折率層５をＳｉＯ2 とし（屈折率ｎ2 ＝
１．４６）、第１の屈折率層４をＮｂ2 Ｏ5 より構成し
て厚さｄ1 を２０ｎｍとし、光透過性導電層７の材料及
び厚さを上述の各実施例１〜４と同様の構成として作成
した場合の分光反射特性を図７に示す。図７から明らか
なように、この場合は視感感度の高い波長５５０ｎｍの
光に対し、反射率３％程度以下となっている。
考察するにあたって、波長範囲としては例えば「色の科
学」（金子隆芳著、朝倉書店刊）ｐ．２８図２．１０に
記載されているように、通常の可視域４００ｎｍ〜７０
０ｎｍの範囲において十分な反射率特性が得られるもの
とした。従って、上記式（２）の下限値０．５（λ／
４）＝ｎ2 ｄ 2 となる最大の第２の屈折率層５の厚さｄ
2 は、波長λ＝７００ｎｍの場合でｄ 2 ＝６０ｎｍであ
る。第２の屈折率層５をＳｉＯ2 とし（屈折率ｎ2 ＝
１．４６）、第１の屈折率層４をＮｂ2 Ｏ5 より構成し
て厚さｄ1 を２０ｎｍとし、光透過性導電層７の材料及
び厚さを上述の各実施例１〜４と同様の構成として作成
した場合の分光反射特性を図７に示す。図７から明らか
なように、この場合は視感感度の高い波長５５０ｎｍの
光に対し、反射率３％程度以下となっている。
【００３６】〔実施例６〕更に、上記式（２）の上限値
ｎ2 ｄ2 ＝１．５λ／４となる最小の第２の屈折率層５
の厚さｄ2 は、波長λ＝４００ｎｍの場合でｄ2 ＝１０
３ｎｍである。第２の屈折率層５をＳｉＯ2 とし、第１
の屈折率層４を上記実施例５と同様にＮｂ2 Ｏ5 より構
成して厚さｄ1 を２０ｎｍとし、光透過性導電層７の材
料及び厚さを上述の各実施例１〜５と同様の構成として
作成した場合の分光反射特性を図８に示す。図８からわ
かるように、波長６００ｎｍ〜７００ｎｍの範囲で反射
率１％程度以下を達成している。波長５４０ｎｍ以下で
はやや反射率が大となっている。
ｎ2 ｄ2 ＝１．５λ／４となる最小の第２の屈折率層５
の厚さｄ2 は、波長λ＝４００ｎｍの場合でｄ2 ＝１０
３ｎｍである。第２の屈折率層５をＳｉＯ2 とし、第１
の屈折率層４を上記実施例５と同様にＮｂ2 Ｏ5 より構
成して厚さｄ1 を２０ｎｍとし、光透過性導電層７の材
料及び厚さを上述の各実施例１〜５と同様の構成として
作成した場合の分光反射特性を図８に示す。図８からわ
かるように、波長６００ｎｍ〜７００ｎｍの範囲で反射
率１％程度以下を達成している。波長５４０ｎｍ以下で
はやや反射率が大となっている。
【００３７】これらの結果から、波長５５０ｎｍ±１０
ｎｍの視感感度の高い波長帯域において、５％以下の反
射率を達成するためには、上記式（１）及び（２）を満
足させる必要があることがわかる。従って、本発明にお
いては、第１、第２の屈折率層及び光透過性導電層４、
５及び７の屈折率及び厚さを上記式（１）及び（２）の
範囲に選定するものである。
ｎｍの視感感度の高い波長帯域において、５％以下の反
射率を達成するためには、上記式（１）及び（２）を満
足させる必要があることがわかる。従って、本発明にお
いては、第１、第２の屈折率層及び光透過性導電層４、
５及び７の屈折率及び厚さを上記式（１）及び（２）の
範囲に選定するものである。
【００３８】尚、上述の第１の屈折率層４の材料として
は、上述のＴｉＯ2 、Ｎｂ2 Ｏ5 の他、Ｎｂ2 Ｏ3 、Ｔ
ａ2 Ｏ3 、Ｔａ2 Ｏ5 などの材料を用いて第２の反射防
止層１０を構成した場合に、良好な分光反射特性を得る
ことができた。
は、上述のＴｉＯ2 、Ｎｂ2 Ｏ5 の他、Ｎｂ2 Ｏ3 、Ｔ
ａ2 Ｏ3 、Ｔａ2 Ｏ5 などの材料を用いて第２の反射防
止層１０を構成した場合に、良好な分光反射特性を得る
ことができた。
【００３９】また、光透過性導電層７としては、ＩＴＯ
の他に、ＳｎＯ2 ：Ｆ（ＳｎＯ2 にＦを添加したも
の）、ＺｎＯ：Ａｌ（ＺｎＯにＡｌを添加したもの）を
使用した場合においても、同様の分光反射特性を有する
表示体フィルムを構成することができた。
の他に、ＳｎＯ2 ：Ｆ（ＳｎＯ2 にＦを添加したも
の）、ＺｎＯ：Ａｌ（ＺｎＯにＡｌを添加したもの）を
使用した場合においても、同様の分光反射特性を有する
表示体フィルムを構成することができた。
【００４０】以上の各実施例においては、第２の反射防
止層１０として、第１及び第２の屈折率層４及び５をス
パッタリング法により被着して、この上に光透過性導電
層７を低温のスパッタリング法により成膜して形成し、
この光透過性導電層７においてタッチパネルに必要な表
面抵抗を得ている。
止層１０として、第１及び第２の屈折率層４及び５をス
パッタリング法により被着して、この上に光透過性導電
層７を低温のスパッタリング法により成膜して形成し、
この光透過性導電層７においてタッチパネルに必要な表
面抵抗を得ている。
【００４１】光透過性導電層７として、このようにＩＴ
Ｏを使用する場合は、ＩＴＯの導電機構として酸素欠損
に起因する伝導帯直下に形成されるドナー準位によるも
のと、３価のＩｎ原子を４価のＳｎ原子で置換したこと
によるドナー準位に起因するものとが有り、ＩＴＯを低
温成膜時は酸素欠損が起因が支配的と言われている。
Ｏを使用する場合は、ＩＴＯの導電機構として酸素欠損
に起因する伝導帯直下に形成されるドナー準位によるも
のと、３価のＩｎ原子を４価のＳｎ原子で置換したこと
によるドナー準位に起因するものとが有り、ＩＴＯを低
温成膜時は酸素欠損が起因が支配的と言われている。
【００４２】このようなＩＴＯ膜に代表される光透過性
導電層を第２の屈折率層５の上に成膜するにあたり、こ
の第２の屈折率層５は成膜方法や膜の安定性からＳｉＯ
2 等の屈折率の小さな光透過性酸化物を採用することが
光学的には妥当である。ところが、上述したように、酸
素欠損起因による導電性を示す光透過性導電層７をＳｉ
Ｏ2 上に低温成膜し所定の表面抵抗を得たものを、タッ
チパネル製造プロセス中にかかる熱負荷や環境試験、加
速度試験等の条件に対応した加熱を行う場合、酸素欠損
が減少し抵抗が増大する傾向を示す。例えば、タッチパ
ネルを製造する工程において、Ａｇフィラー入りの電極
を被着する工程においては、１２０℃〜１５０℃の高温
処理を６０分程度行ってエポキシ樹脂を硬化させるプロ
セスが必要とされ、信頼性のよい電極を作製するために
高温に対する耐性の強い反射防止層を構成することが望
まれている。
導電層を第２の屈折率層５の上に成膜するにあたり、こ
の第２の屈折率層５は成膜方法や膜の安定性からＳｉＯ
2 等の屈折率の小さな光透過性酸化物を採用することが
光学的には妥当である。ところが、上述したように、酸
素欠損起因による導電性を示す光透過性導電層７をＳｉ
Ｏ2 上に低温成膜し所定の表面抵抗を得たものを、タッ
チパネル製造プロセス中にかかる熱負荷や環境試験、加
速度試験等の条件に対応した加熱を行う場合、酸素欠損
が減少し抵抗が増大する傾向を示す。例えば、タッチパ
ネルを製造する工程において、Ａｇフィラー入りの電極
を被着する工程においては、１２０℃〜１５０℃の高温
処理を６０分程度行ってエポキシ樹脂を硬化させるプロ
セスが必要とされ、信頼性のよい電極を作製するために
高温に対する耐性の強い反射防止層を構成することが望
まれている。
【００４３】酸素欠損による表面抵抗の変化は、寿命の
低減化を招来する原因となり、また表面抵抗の増大によ
りタッチパネルの歩留りの低下、生産性の低下を招来す
ることとなる。
低減化を招来する原因となり、また表面抵抗の増大によ
りタッチパネルの歩留りの低下、生産性の低下を招来す
ることとなる。
【００４４】本発明は、このような問題に鑑みてなされ
たものであり、図９にその一例の略線的拡大断面構成を
示すように、第２の屈折率層５と光透過性導電層７との
間に、バリア層６を設ける構成とするものである。図９
において、図１に対応する部分には同一符号を付して重
複説明を省略する。この構成による実施例を以下の実施
例７として説明する。
たものであり、図９にその一例の略線的拡大断面構成を
示すように、第２の屈折率層５と光透過性導電層７との
間に、バリア層６を設ける構成とするものである。図９
において、図１に対応する部分には同一符号を付して重
複説明を省略する。この構成による実施例を以下の実施
例７として説明する。
【００４５】〔実施例７〕この例においては、フィルム
基材１の基材４０と対向する側の面に、Ｓｉ3 Ｎ 4 より
成る第１の屈折率層４、ＳｉＯ2 より成る第２の屈折率
層５、Ｓｉより成るバリア層６、ＩＴＯより成る光透過
性導電層７を、各膜厚を第１の屈折率層４から順に、３
０ｎｍ、７５ｎｍ、３ｎｍ、２０ｎｍとして形成した。
Ｓｉより成るバリア層６の厚さは３ｎｍと極めて薄くさ
れるため、光学特性は、バリア層を設けない場合と同等
の分光特性となる。この場合の分光反射特性を図１０に
おいて実線ｂとして示す。フィルム基材１はＰＥＴであ
る。実線ａは、ＰＥＴより成るフィルム基材１上にＩＴ
Ｏを直接被着した場合の分光反射特性である。
基材１の基材４０と対向する側の面に、Ｓｉ3 Ｎ 4 より
成る第１の屈折率層４、ＳｉＯ2 より成る第２の屈折率
層５、Ｓｉより成るバリア層６、ＩＴＯより成る光透過
性導電層７を、各膜厚を第１の屈折率層４から順に、３
０ｎｍ、７５ｎｍ、３ｎｍ、２０ｎｍとして形成した。
Ｓｉより成るバリア層６の厚さは３ｎｍと極めて薄くさ
れるため、光学特性は、バリア層を設けない場合と同等
の分光特性となる。この場合の分光反射特性を図１０に
おいて実線ｂとして示す。フィルム基材１はＰＥＴであ
る。実線ａは、ＰＥＴより成るフィルム基材１上にＩＴ
Ｏを直接被着した場合の分光反射特性である。
【００４６】この例による反射防止層は、Ｓｉ3 Ｎ4 の
屈折率が２．１、ＳｉＯ2 の屈折率が１．４６、ＩＴＯ
の屈折率が２であり、波長５５０ｎｍにおいて上記式
（１）及び（２）の条件を満たす構成であり、波長５５
０ｎｍ付近において１％以下の良好な分光反射特性を得
ている。
屈折率が２．１、ＳｉＯ2 の屈折率が１．４６、ＩＴＯ
の屈折率が２であり、波長５５０ｎｍにおいて上記式
（１）及び（２）の条件を満たす構成であり、波長５５
０ｎｍ付近において１％以下の良好な分光反射特性を得
ている。
【００４７】図１１は、このバリア層６を設けた構成の
表示体用フィルムを、１２０℃の温度の恒温槽にいれた
時の光透過性導電層の表面抵抗（Ω／□：正方形の導電
層を挟む２本の電極間の抵抗値）の経時変化を示したも
のであり、●印はバリア層有り、×印はバリア層無しの
場合を示す。図１１から明らかなように、ＳｉＯ2 等よ
り成る第２の屈折率層５とＩＴＯ等より成る光透過性導
電層７との間にバリア層６を設けることにより、成膜し
た光透過性導電層７の温度処理後の表面抵抗の変化を抑
制することができて、低反射率で高透過率の表示体用フ
ィルムにおける寿命の長期化、歩留り及び生産性の向上
をはかることができる。
表示体用フィルムを、１２０℃の温度の恒温槽にいれた
時の光透過性導電層の表面抵抗（Ω／□：正方形の導電
層を挟む２本の電極間の抵抗値）の経時変化を示したも
のであり、●印はバリア層有り、×印はバリア層無しの
場合を示す。図１１から明らかなように、ＳｉＯ2 等よ
り成る第２の屈折率層５とＩＴＯ等より成る光透過性導
電層７との間にバリア層６を設けることにより、成膜し
た光透過性導電層７の温度処理後の表面抵抗の変化を抑
制することができて、低反射率で高透過率の表示体用フ
ィルムにおける寿命の長期化、歩留り及び生産性の向上
をはかることができる。
【００４８】上述したように、本発明によれば、タッチ
パネル等に適用して好適な表示体用フィルムにおいて、
反射分光特性の向上をはかることでき、更に、光透過性
導電層の表面抵抗の悪化を回避して、歩留り及び生産性
の向上をはかることができる。
パネル等に適用して好適な表示体用フィルムにおいて、
反射分光特性の向上をはかることでき、更に、光透過性
導電層の表面抵抗の悪化を回避して、歩留り及び生産性
の向上をはかることができる。
【００４９】尚、上述の各実施例においては、タッチパ
ネルに設けられる表示手段として液晶型表示器を用いる
場合を説明したが、この表示手段はその例えば有機ＥＬ
型表示器を用いるなど、種々の変形、変更が可能であ
り、その用途としては、ＰＯＳ（Point Of Sales：店舗
販売時点情報管理) 、ＰＤＡ（Personal Digital Assis
tant：個人情報端末）、ＡＴＭ（Automatic Teller Mac
hine：銀行端末）など多種の表示体に用い得ることはい
うまでもない。
ネルに設けられる表示手段として液晶型表示器を用いる
場合を説明したが、この表示手段はその例えば有機ＥＬ
型表示器を用いるなど、種々の変形、変更が可能であ
り、その用途としては、ＰＯＳ（Point Of Sales：店舗
販売時点情報管理) 、ＰＤＡ（Personal Digital Assis
tant：個人情報端末）、ＡＴＭ（Automatic Teller Mac
hine：銀行端末）など多種の表示体に用い得ることはい
うまでもない。
【００５０】更に、液晶型表示器の背部にバックライト
が設けられた例を説明したが、バックライトの有無は任
意であり、バックライトのない表示器に本発明を適用す
る場合においても同様に反射分光特性の向上をはかり、
従って視認性に優れた表示体を提供することができる。
が設けられた例を説明したが、バックライトの有無は任
意であり、バックライトのない表示器に本発明を適用す
る場合においても同様に反射分光特性の向上をはかり、
従って視認性に優れた表示体を提供することができる。
【００５１】
【発明の効果】上述したように、本発明によれば、反射
分光特性の向上をはかることができ、光透過率を高め
て、視認性に優れたタッチパネル、またこれを用いた表
示体を提供することができる。
分光特性の向上をはかることができ、光透過率を高め
て、視認性に優れたタッチパネル、またこれを用いた表
示体を提供することができる。
【００５２】更に、第２の反射防止層と光透過性導電層
との間にバリア層を設けることによって、光透過性導電
層の表面抵抗の加熱による経時変化を低減化することが
でき、タッチパネルの寿命の長期化、また歩留り及び生
産性の向上をはかることができる。
との間にバリア層を設けることによって、光透過性導電
層の表面抵抗の加熱による経時変化を低減化することが
でき、タッチパネルの寿命の長期化、また歩留り及び生
産性の向上をはかることができる。
【図１】表示体用フィルム及びタッチパネルの一例の略
線的拡大断面構成を示す図である。
線的拡大断面構成を示す図である。
【図２】第１の反射防止層の分光反射特性を示す図であ
る。
る。
【図３】第２の反射防止層の分光反射特性を示す図であ
る。
る。
【図４】第２の反射防止層の分光反射特性を示す図であ
る。
る。
【図５】第２の反射防止層の分光反射特性を示す図であ
る。
る。
【図６】第２の反射防止層の分光反射特性を示す図であ
る。
る。
【図７】第２の反射防止層の分光反射特性を示す図であ
る。
る。
【図８】第２の反射防止層の分光反射特性を示す図であ
る。
る。
【図９】表示体用フィルム及びタッチパネルの他の例の
略線的拡大断面構成を示す図である。
略線的拡大断面構成を示す図である。
【図１０】第２の反射防止層の分光反射特性を示す図で
ある。
ある。
【図１１】光透過性導電層の表面抵抗の経時変化を示す
図である。
図である。
【図１２】タッチパネルの一例の略線的拡大断面構成を
示す図である。
示す図である。
１ フィルム基材、１Ａ 第１の面、１Ｂ 第２の面、
２ハードコート層、３第１の反射防止層、４ 第１の屈
折率層、５ 第２の屈折率層、６ バリア層、７ 光透
過性導電層、１０ 第２の反射防止層、２０ タッチパ
ネル、３０表示体用フィルム、４０ 基材、４１ 光透
過性導電層、４２ スペーサ、４４光透過性導電層、４
５ ハードコート層、４６ 反射防止層、５０ 表示手
段、５１ 液晶型表示器、５２ バックライト、６０
フィルム部
２ハードコート層、３第１の反射防止層、４ 第１の屈
折率層、５ 第２の屈折率層、６ バリア層、７ 光透
過性導電層、１０ 第２の反射防止層、２０ タッチパ
ネル、３０表示体用フィルム、４０ 基材、４１ 光透
過性導電層、４２ スペーサ、４４光透過性導電層、４
５ ハードコート層、４６ 反射防止層、５０ 表示手
段、５１ 液晶型表示器、５２ バックライト、６０
フィルム部
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(72)発明者 伊藤 真
宮城県多賀城市明月２丁目１番15号 ファ
インマテリアル株式会社内
Ｆターム(参考） 4F100 AA12E AA17D AA20 AA21D
AA33A AB09E AB11E AB12E
AK42A AR00A AR00B AR00C
AR00D AR00E BA03 BA05
BA07 GB41 JD01E JD06A
JN06B JN06C JN18D JN18E
YY00D YY00E
5B068 AA22 AA33 BC07
5B087 AA09 AC09 CC14 CC37
Claims (27)
- 【請求項１】 光透過性のフィルム基材の第１の面上に
少なくとも第１の反射防止層が形成され、 上記フィルム基材の上記第１の面とは反対側の第２の面
上に、少なくとも第２の反射防止層及び光透過性導電層
がこの順に形成されて成ることを特徴とする表示体用フ
ィルム。 - 【請求項２】 上記第２の反射防止層は、上記第２の面
から順に第１の屈折率層及び第２の屈折率層が積層され
て構成されることを特徴とする請求項１に記載の表示体
用フィルム。 - 【請求項３】 上記第１の屈折率層の厚さをｄ1 、屈折
率をｎ1 とし、上記第２の屈折率層の厚さをｄ2 、屈折
率をｎ2 とし、上記光透過性導電層の厚さをｄ3、屈折
率をｎ3 として、光の波長をλとしたときに、 ０．５ｎ3 ｄ3 ≦ｎ1 ｄ1 ≦２ｎ3 ｄ3 ０．５（λ／４）≦ｎ2 ｄ2 ≦１．５（λ／４） の条件を満たすように構成されたことを特徴とする請求
項２に記載の表示体用フィルム。 - 【請求項４】 上記第１の屈折率層の材料は、Ｔｉ
Ｏ2 、Ｎｂ2 Ｏ3 、Ｔａ2 Ｏ 3 、Ｎｂ2 Ｏ5 又はＴａ2
Ｏ5 であることを特徴とする請求項２に記載の表示体用
フィルム。 - 【請求項５】 上記光透過性導電層が、ＩＴＯ（Ｉｎ−
Ｓｎ酸化物）より成ることを特徴とする請求項１に記載
の表示体用フィルム。 - 【請求項６】 上記第２の屈折率層と上記光透過性導電
層との間にバリア層が設けられて成ることを特徴とする
請求項２に記載の表示体用フィルム。 - 【請求項７】 上記バリア層の厚さが１ｎｍ以上１０ｎ
ｍ以下とされ、 上記バリア層の材料が、Ｓｉ、Ｔｉ、Ｔａ又はＡｌもし
くはこれらの窒化物のうちいずれか一つとされて成るこ
とを特徴とする請求項６に記載の表示体用フィルム。 - 【請求項８】 上記フィルム基材の第１の面と、上記第
１の反射防止層との間にハードコート層が形成されて成
ることを特徴とする請求項１に記載の表示体用フィル
ム。 - 【請求項９】 上記ハードコート層は、アクリル樹脂よ
り成ることを特徴とする請求項８に記載の表示体用フィ
ルム。 - 【請求項１０】 上記フィルム基材が、ポリエチレンテ
レフタレートより成ることを特徴とする請求項１に記載
の表示体用フィルム。 - 【請求項１１】 光透過性のフィルム基材の第１の面上
に少なくとも第１の反射防止層を形成して、 上記フィルム基材の上記第１の面とは反対側の第２の面
上に、少なくとも第２の反射防止層及び光透過性導電層
をこの順に形成することを特徴とする表示体用フィルム
の製造方法。 - 【請求項１２】 上記第２の反射防止層として、上記第
２の面から順に第１の屈折率層及び第２の屈折率層を積
層して形成することを特徴とする請求項１１に記載の表
示体用フィルムの製造方法。 - 【請求項１３】 基材上に光透過性導電層が形成され、 上記基材とは所定の間隔をもってフィルム基材が対向配
置され、 上記フィルム基材上の第１の面上に少なくとも第１の反
射防止層が形成され、 上記基材と相対向し、上記フィルム基材の上記第１の面
とは反対側の第２の面上に、少なくとも第２の反射防止
層と光透過性導電層とがこの順に形成されて成ることを
特徴とするタッチパネル。 - 【請求項１４】 上記第２の反射防止層は、上記第２の
面から順に第１の屈折率層及び第２の屈折率層が積層さ
れて形成されて成ることを特徴とする請求項１３に記載
のタッチパネル。 - 【請求項１５】 上記第１の屈折率層の厚さをｄ1 、屈
折率をｎ1 とし、上記第２の屈折率層の厚さをｄ2 、屈
折率をｎ2 とし、上記フィルム基材上の上記光透過性導
電層の厚さをｄ3 、屈折率をｎ3 として、光の波長をλ
としたときに、 ０．５ｎ3 ｄ3 ≦ｎ1 ｄ1 ≦２ｎ3 ｄ3 ０．５（λ／４）≦ｎ2 ｄ2 ≦１．５（λ／４） の条件を満たすように構成されたことを特徴とする請求
項１４に記載のタッチパネル。 - 【請求項１６】 上記第１の屈折率層の材料は、ＴｉＯ
2 、Ｎｂ2 Ｏ3 、Ｔａ2Ｏ3 、Ｎｂ2 Ｏ5 又はＴａ2 Ｏ
5 であることを特徴とする請求項１４に記載のタッチパ
ネル。 - 【請求項１７】 上記光透過性導電層が、ＩＴＯ（Ｉｎ
−Ｓｎ酸化物）より成ることを特徴とする請求項１３に
記載のタッチパネル。 - 【請求項１８】 上記第２の屈折率層と上記光透過性導
電層との間にバリア層が設けられて成ることを特徴とす
る請求項１４に記載のタッチパネル。 - 【請求項１９】 上記バリア層の厚さが１ｎｍ以上１０
ｎｍ以下とされ、上記バリア層の材料が、Ｓｉ、Ｔｉ、
Ｔａ又はＡｌもしくはこれらの窒化物のうちいずれか一
つとされて成ることを特徴とする請求項１８に記載のタ
ッチパネル。 - 【請求項２０】 上記フィルム基材の第１の面と、上記
第１の反射防止層との間にハードコート層が形成されて
成ることを特徴とする請求項１３に記載のタッチパネ
ル。 - 【請求項２１】 上記ハードコート層は、アクリル樹脂
より成ることを特徴とする請求項２０に記載のタッチパ
ネル。 - 【請求項２２】 上記フィルム基材が、ポリエチレンテ
レフタレートより成ることを特徴とする請求項１３に記
載のタッチパネル。 - 【請求項２３】 上記基材の上記光透過性の導電層が形
成される面とは反対側の面に対向して表示手段が設けら
れて成ることを特徴とする請求項１３に記載のタッチパ
ネル。 - 【請求項２４】 上記表示手段が液晶型表示器であるこ
とを特徴とする請求項２３に記載のタッチパネル。 - 【請求項２５】 上記表示手段が有機エレクトロルミネ
ッセンス型表示器であることを特徴とする請求項２３に
記載のタッチパネル。 - 【請求項２６】 少なくとも光透過性導電層が形成され
た基材と、少なくとも光透過性導電層が形成されたフィ
ルム基材とが所定の間隔をもって相対向されて成るタッ
チパネルの製造方法にあって、 上記フィルム基材上の第１の面上に少なくとも第１の反
射防止層を形成する工程と、 上記基材と相対向し、上記フィルム基材の上記第１の面
とは反対側の第２の面上に、少なくとも第２の反射防止
層と光透過性導電層とをこの順に形成する工程とを有す
ることを特徴とするタッチパネルの製造方法。 - 【請求項２７】 上記第２の反射防止層として、上記第
２の面から順に第１の屈折率層及び第２の屈折率層を積
層して形成することを特徴とする請求項２６に記載のタ
ッチパネルの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2002209924A JP2003136625A (ja) | 2001-08-24 | 2002-07-18 | 表示体用フィルム、タッチパネル及びこれらの製造方法 |
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001254265 | 2001-08-24 | ||
| JP2001-254265 | 2001-08-24 | ||
| JP2002209924A JP2003136625A (ja) | 2001-08-24 | 2002-07-18 | 表示体用フィルム、タッチパネル及びこれらの製造方法 |
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| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003136625A true JP2003136625A (ja) | 2003-05-14 |
Family
ID=26620924
Family Applications (1)
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|---|---|---|---|
| JP2002209924A Pending JP2003136625A (ja) | 2001-08-24 | 2002-07-18 | 表示体用フィルム、タッチパネル及びこれらの製造方法 |
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| Country | Link |
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| JP (1) | JP2003136625A (ja) |
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-
2002
- 2002-07-18 JP JP2002209924A patent/JP2003136625A/ja active Pending
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