JP2013507682A - タッチパネル用板状部材及びその製造方法 - Google Patents

Abstract

【解決手段】本発明の実施例によるタッチパネル用板状部材は、ベース基板と、該ベース基板の第１面上に形成されて第１屈折率を有する第１中間層と、該第１中間層上に形成されて、前記第１屈折率より低い第２屈折率を有する第２中間層と、及び前記第２中間層上に形成されて、前記第２屈折率より低い第３屈折率を有する透明伝導層を含む。
【選択図】図１

Description

本発明は、タッチパネル用板状部材及びその製造方法に関するものである。

最近、多様な電子製品でディスプレイ装置に表示された画像に指またはスタイラス（stylus）などの入力装置を接触する方式で入力をするタッチパネルが適用されている。

タッチパネルは、大きく抵抗膜方式のタッチパネルと静電容量方式のタッチパネルで区分されることができる。抵抗膜方式のタッチパネルは、入力装置の圧力によって電極が短絡されて位置が検出される。静電容量方式のタッチパネルは、指が接触した時に電極間の静電容量が変化することを感知して位置が検出される。

このようなタッチパネルに使用される板状部材は、ベース基板と、該ベース基板上に形成された透明伝導層を含むことができる。この時、ベース基板上に透明伝導層を直接形成する場合には、透明伝導層に亀裂が発生することがあるので、ベース基板と透明伝導層との間に別途の中間層を形成することができる。

このような板状部材では、透過率を向上するとともに、透明伝導層をパターニングしてパターンを形成する場合、このパターンが外部で視覚的に認識されないようにすることが重要な課題である。

本発明の目的は、 透過率を向上することができ、透明伝導層のパターンが外部で視覚的に認識されることを防止することができるタッチパネル用板状部材及びその製造方法を提供することにある。

本発明に従うタッチパネル用板状部材は、ベース基板と、該ベース基板の第１面上に形成されて第１屈折率を有する第１中間層と、該第１中間層上に形成されて、前記第１屈折率より低い第２屈折率を有する第２中間層と、及び前記第２中間層上に形成される透明伝導層を含む。

本発明に従う前記透明伝導層は、前記第２屈折率より低い第３屈折率を有することができる。

本発明に従う前記ベース基板の第２面上に形成される一つ以上の外面層をさらに含むことができる。

本発明に従う前記外面層は、前記ベース基板の第２面上に形成される第１外面層と、及び前記第１外面層上に形成されて、前記第１外面層より小さな屈折率を有する第２外面層を含むことができる。

前記第１及び第２外面層は、それぞれＭｇ、Ｆ、Ｓｉ、Ａｌ、Ｃｅ、Ｉｎ、Ｈｆ、Ｚｒ、Ｐｂ、Ｔｉ、Ｔａ、Ｎｂ及びＯでなされた群から選択された物質を少なくとも一つ含むことができる。

前記第１外面層がＺｒＯ_２、Ｐｂ_５Ｏ_１１、ＴｉＯ_２、Ｔａ_２Ｏ_５及びＮｂ_２Ｏ_５でなされた群から選択された物質を少なくとも一つ含んで、前記第２外面層がＡｌ_２Ｏ_３、ＣｅＦ_３、ＳｉＯ、Ｉｎ_２Ｏ_３、ＨｆＯ_２、ＭｇＦ_２及びＳｉＯ_２でなされた群から選択された物質を少なくとも一つ含むことができる。

前記第１外面層がＡｌ_２Ｏ_３、ＣｅＦ_３、ＳｉＯ、Ｉｎ_２Ｏ_３、ＨｆＯ_２でなされた群から選択された物質を少なくとも一つ含んで、前記第２外面層がＭｇＦ_２及びＳｉＯ_２でなされた群から選択された物質を少なくとも一つ含むことができる。

前記第１中間層、前記第２中間層及び前記透明伝導層のそれぞれの厚さが１ｎｍ乃至１００ｎｍであることができる。

前記外面層の厚さが１ｎｍ乃至１００ｎｍであることがある。

前記第１及び第２中間層は、それぞれＭｇ、Ｆ、Ｓｉ、Ａｌ、Ｃｅ、Ｉｎ、Ｈｆ、Ｚｒ、Ｐｂ、Ｔｉ、Ｔａ、Ｎｂ及びＯでなされた群から選択された物質を少なくとも一つ含むことができる。

前記第１中間層がＺｒＯ_２、Ｐｂ_５Ｏ_１１、ＴｉＯ_２、Ｔａ_２Ｏ_５及びＮｂ_２Ｏ_５でなされた群から選択された物質を少なくとも一つ含んで、前記第２中間層がＡｌ_２Ｏ_３、ＣｅＦ_３、ＳｉＯ、Ｉｎ_２Ｏ_３、ＨｆＯ_２、ＭｇＦ_２及びＳｉＯ_２でなされた群から選択された物質を少なくとも一つ含むことができる。

前記第１中間層がＡｌ_２Ｏ_３、ＣｅＦ_３、ＳｉＯ、Ｉｎ_２Ｏ_３、ＨｆＯ_２でなされた群から選択された物質を少なくとも一つ含んで、前記第２中間層がＭｇＦ_２及びＳｉＯ_２でなされた群から選択された物質を少なくとも一つ含むことができる。

前記透明伝導層がお互いに離隔されたパターンを含んで、前記パターンが形成された部分で反射する光の反射率をＲ０、前記パターンが形成されない部分で反射する光の反射率をＲ１とする時、Ｒ０−Ｒ１＜０．７％の条件を満足することができる。

本発明の実施例によるタッチパネル用板状部材の製造方法は、ベース基板の第１面上に第１屈折率を有する第１中間層を形成する段階と、前記第１中間層上に前記第１屈折率より低い第２屈折率を有する第２中間層を形成する段階と、及び前記第２中間層上に透明伝導層を形成する段階と、を含む。

前記透明伝導層は、前記第２屈折率より低い第３屈折率を有することができる。

前記ベース基板の第２面上に形成される一つ以上の外面層を形成する段階をさらに含むことができる。

前記外面層は、前記ベース基板の第２面上に形成される第１外面層と、及び前記第１外面層上に形成されて、前記第１外面層より小さな屈折率を有する第２外面層を含むことができる。

前記透明伝導層は、酸化インジウムスズ（indium tin oxide：ＩＴＯ）を含むことができる。

前記第１及び第２中間層は、それぞれＭｇ、Ｆ、Ｓｉ、Ａｌ、Ｃｅ、Ｉｎ、Ｈｆ、Ｚｒ、Ｐｂ、Ｔｉ、Ｔａ、Ｎｂ及びＯでなされた群から選択された物質を少なくとも一つ含むことができる。

前記第１中間層がＺｒＯ_２、Ｐｂ_５Ｏ_１１、ＴｉＯ_２、Ｔａ_２Ｏ_５及びＮｂ_２Ｏ_５でなされた群から選択された物質を少なくとも一つ含んで、前記第２中間層がＡｌ_２Ｏ_３、ＣｅＦ_３、ＳｉＯ、Ｉｎ_２Ｏ_３、ＨｆＯ_２、ＭｇＦ_２及びＳｉＯ_２でなされた群から選択された物質を少なくとも一つ含むことができる。

前記第１中間層がＡｌ_２Ｏ_３、ＣｅＦ_３、ＳｉＯ、Ｉｎ_２Ｏ_３、ＨｆＯ_２でなされた群から選択された物質を少なくとも一つ含んで、前記第２中間層がＭｇＦ_２及びＳｉＯ_２でなされた群から選択された物質を少なくとも一つ含むことができる。

本発明の実施例によれば、タッチパネル用板状部材の透過性を向上させて、透明伝導層のパターン形成時にパターンが視覚的に認識されないようにすることができる。

本発明の第１実施例によるタッチパネル用板状部材の一実施例の断面図である。 本発明の変形例によるタッチパネル用板状部材の一実施例の断面図である。 本発明の第２実施例によるタッチパネル用板状部材の一実施例の断面図である。 実施例による板状部材の製造方法の流れ図である。

実施例らの説明において、各層（膜）、領域、パターンまたは構造物らが基板、各層（膜）、領域、パッドまたはパターンらの“上／うえ（on）”にまたは“下 ／した（under）”に形成されるという記載は、直接（directly）または他の層を介して形成されることをすべて含む。各層の上／うえ、または下／したに対する基準は、図面を基準で説明する。

図面で各層（膜）、領域、パターンまたは構造物らの厚さや大きさは、説明の明確性及び便宜のために変形されることができるので、実際の大きさを全面的に反映するものではない。

以下、添付した図面を参照して本発明の実施例を詳細に説明すれば次のようである。

図１は、本発明の第１実施例によるタッチパネル用板状部材の一実施例の断面図である。

図１を参照すれば、本実施例によるタッチパネル用板状部材（以下、“板状部材”）は、ベース基板１１０と、該ベース基板１１０の第１面（以下、“上面”）に順に形成される第１中間層２１０、第２中間層２２０及び透明伝導層１３０を含む。

ここで、ベース基板１１０は、プラスチックシートまたはプラスチックフィルムとして、プラスチックの材料は４００ｎｍ以上７００ｎｍ以下の可視光線透過率が高いものを使用することができる。

例えば、アクリル系樹脂、ポリカーボネート（Polycarbonate）樹脂、ポリエチレンナフタレート（Polyethylene naphthalate）樹脂、ポリエチレンテレフタレート（Polyethylene terephthalate：ＰＥＴ）樹脂、ポリプロピレン（Poly Propylene）樹脂、ポリアリール（Poly aryl）樹脂、ポリエーテルサルホン（ＰＥＳ：Polyether sulfone）樹脂、ポリメチルペンテン（Poly Methyl Pentene）樹脂、ポリエーテルエーテルケトン（Poly Ether Ether Ketone）樹脂、ポリスルホン（ＰＳＦ：Polysulfone）樹脂、酢酸セルロース樹脂、非晶質ポリオレフィン（amorphous polyolefin）樹脂、ポリエチレン（Polyethylene）樹脂、ポリエステル（Polyester）樹脂、エポキシ（Epoxy）樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリアミドイミド（ＰＡＩ）樹脂、ポリフェニレンスルフィド（ＰＰＳ）樹脂、ポリエチレンイミン（ＰＥＩ）樹脂、オレフィン（Olefin）樹脂、ビニル系樹脂、及びフッ素系樹脂を利用することができる。

一例で、このような樹脂を２種またはその以上空圧プレス方式で加工して、プラスチックシートまたはプラスチックフィルムを形成することができる。また、この樹脂で構成されたプラスチックシートまたはプラスチックフィルムを２枚またはその以上で積層するか、または圧着することもできる。また、プラスチックシートまたはプラスチックフィルムの表面上に他の樹脂で５μｍ以上１００μｍの保護膜（図示せず）を形成することもできる。

このベース基板１１０の第１面（以下、“上面”）に順に形成される第１中間層２１０、第２中間層２２０及び透明伝導層１３０に対して説明すれば次のようである。

この時、第１中間層２１０は、第１屈折率を有して、第２中間層２２０は第１屈折率より小さい第２屈折率を有することができる。すなわち、ベース基板１１０から遠くなるほど屈折率が小さくなるようになる。これによって本実施例では板状部材の透過率を向上することができる。この時、透明伝導層２３０も第２屈折率より低い第３屈折率を有して、透過率をもうすこし向上することができる。しかし、本発明がこれに限定されるものではなくて、透明伝導層２３０の屈折率が第２屈折率より大きいことも可能である。

これをもうすこし詳細に説明すれば次のようである。

一般に、屈折率が異なる異種の物質層が積層される場合、その境界面では光の反射、屈折が起こるが、この時、反射損失によって光透過率が減少することがある。これによって本実施例では相対的に高屈折率である第１中間層２１０と相対的に低屈折率である第２中間層２２０を積層して、光学的干渉現象を利用して反射率を低下させようとしたものである。また、ベース基板１１０にこれより低い屈折率を有する物質をコーティングすることによって透過率を改善することもできる。

透明伝導層１３０は、多様な透光性の伝導性物質を含むことができるし、一例で、酸化インジウムスズ（indium tin oxide：ＩＴＯ）を含むことができる。第１及び第２中間層２１０、２２０はそれぞれＭｇ、Ｆ、Ｓｉ、Ａｌ、Ｃｅ、Ｉｎ、Ｈｆ、Ｚｒ、Ｐｂ、Ｔｉ、Ｔａ、Ｎｂ及びＯでなされた群から選択された物質を少なくとも一つ含むことができる。

一例で、中間層２１０、２２０は、ＺｒＯ_２、Ｐｂ_５Ｏ_１１、ＴｉＯ_２、Ｔａ_２Ｏ_５、Ｎｂ_２Ｏ_５、Ａｌ_２Ｏ_３、ＣｅＦ_３、ＳｉＯ、Ｉｎ_２Ｏ_３、ＨｆＯ_２、ＭｇＦ_２、ＳｉＯ_２などでなされることができるし、屈折率を考慮して適切に選択することができる。この時、これらを低屈折率材料、中屈折率材料及び高屈折率材料で分類して下の表１に示す。

第１中間層２１０が第１屈折率を有して第２中間層２２０が第１屈折率より小さな第２屈折率を有するようにするために、第１中間層２１０が高屈折率材料で形成されて、第２中間層２２０が中屈折率材料または低屈折率材料で形成されることができる。すなわち、第１中間層２１０がＺｒＯ_２、Ｐｂ_５Ｏ_１１、ＴｉＯ_２、Ｔａ_２Ｏ_５、Ｎｂ_２Ｏ_５などを含んで、第２中間層２２０がＡｌ_２Ｏ_３、ＣｅＦ_３、ＳｉＯ、Ｉｎ_２Ｏ_３、ＨｆＯ_２、ＭｇＦ_２、ＳｉＯ_２などを含むことができる。

または、第１中間層２１０が中屈折率材料で形成されて、第２中間層２３０が低屈折率材料で形成されることができる。すなわち、第１中間層２２０がＡｌ_２Ｏ_３、ＣｅＦ_３、ＳｉＯ、Ｉｎ_２Ｏ_３、ＨｆＯ_２などを含んで、第２中間層２２０がＭｇＦ_２、ＳｉＯ_２などを含むことができる。

ただし、本発明がこれに限定されるものではなくて、同一な高屈折率材料（または、中屈折率材料、低屈折率材料）としても、第１中間層２１０の屈折率が相対的に第２中間層２２０の屈折率より大きければ本発明の範囲に属する。

これによって本実施例では、板状部材の透過率を向上することができる。一例で、ベース基板１１０上にＮｂ_２Ｏ_５を含む第１中間層２１０、ＳｉＯ_２を含む第２中間層２２０、及びＩＴＯを含む透明導電層１３０を順次に形成した場合、透過率が９５％になる。

すなわち、ベース基板上にＳｉＯ_２層、ＩＴＯ層が順に形成されて、光透過率が９１％である従来の板状部材に比べて本実施例による板状部材は、著しく向上した光透過率を有することを分かる。

ここで、第１中間層２１０、第２中間層２２０、透明伝導層１３０の厚さは、光学的特性及び／または電気的特性などを考慮して、それぞれ１ｎｍ乃至１００ｎｍであることがある。

そして、図２に示したところのように、透明伝導層１３０ａがパターニングされた場合、このパターンが外部に認識されないことが望ましい。この場合、本実施例では第１中間層２１０、第２中間層２２０及び透明伝導層１３０ａの屈折率を調節して、透明伝導層１３０ａのパターンが外部で認識されないように調節することができる。

もうすこし詳細には、透明伝導層１３０ａのパターンが形成された部分での反射率をＲ０、パターンが形成されない部分での反射率をＲ１とする時、次の数学式を満足すれば、透明伝導層１３０ａのパターンが外部で認識されないこともある。

この時、反射率は、１から透過率を引いた値であるので、屈折率を調節して透明伝導層１３０ａのパターンが認識されないようにすることができるものである。

以下、図３を参照して本発明の他の実施例による板状部材を詳細に説明すれば次のようである。第１実施例は同一または極めて類似な構成に対しては詳細な説明を略して、お互いに異なる部分を詳細に説明する。

図３は、本発明の第２実施例によるタッチパネル用板状部材の一実施例の断面図である。

図３を参照すれば、本実施例による板状部材は、ベース基板１１０の第２面（以下、“下面”）に外面層２４０、２５０がさらに形成される。この外面層２４０、２５０はベース基板１１０の下面上に形成される第１外面層２４０と、この第１外面層２４０上に形成される第２外面層２５０を含む。

この時、第２外面層２５０の屈折率が第１外面層２４０の屈折率より小さいことがある。このように相対的に高屈折率である第１外面層２５０と相対的に低屈折率である第２外面層２４０を積層して光学的干渉現象を利用して反射率を低下させようとしたものである。

前述した説明及び図面では外面層２４０、２５０が二つの層で形成されたことを説明及び示したが、本発明がこれに限定されるものではない。よって、複数の外面層２４０、２５０がベース基板１１０から遠くなる方向を向けながら屈折率が小さくなる場合、本発明の範囲に属する。

第１及び第２外面層２４０、２５０は、それぞれＭｇ、Ｆ、Ｓｉ、Ａｌ、Ｃｅ、Ｉｎ、Ｈｆ、Ｚｒ、Ｐｂ、Ｔｉ、Ｔａ、Ｎｂ及びＯでなされた群から選択された物質を少なくとも一つ含むことができる。一例で、外面層２４０、２５０は、ＺｒＯ_２、Ｐｂ_５Ｏ_１１、ＴｉＯ_２、Ｔａ_２Ｏ_５、Ｎｂ_２Ｏ_５、Ａｌ_２Ｏ_３、ＣｅＦ_３、ＳｉＯ、Ｉｎ_２Ｏ_３、ＨｆＯ_２、ＭｇＦ_２、ＳｉＯ_２などでなされることができるし、屈折率を考慮して適切に選択することができる。

第１外面層２４０が第２外面層２５０より大きい屈折率を有するようにするために、第１外面層２４０が高屈折率材料で形成されて、第２外面層２５０が中屈折率材料または低屈折率材料で形成されることができる。すなわち、第１外面層２４０がＺｒＯ_２、Ｐｂ_５Ｏ_１１、ＴｉＯ_２、Ｔａ_２Ｏ_５、Ｎｂ_２Ｏ_５などを含んで、第２外面層２５０がＡｌ_２Ｏ_３、ＣｅＦ_３、ＳｉＯ、Ｉｎ_２Ｏ_３、ＨｆＯ_２、ＭｇＦ_２、ＳｉＯ_２などを含むことができる。

または、第１外面層２４０が中屈折率材料で形成されて、第２外面層２５０が低屈折率材料で形成されることができる。すなわち、第１外面層２４０がＡｌ_２Ｏ_３、ＣｅＦ_３、ＳｉＯ、Ｉｎ_２Ｏ_３、ＨｆＯ_２などを含んで、第２外面層２５０がＭｇＦ_２、ＳｉＯ_２などを含むことができる。

ただし、本発明がこれに限定されるものではなくて、同一な高屈折率材料（または、中屈折率材料、低屈折率材料）としても第１外面層２４０の屈折率が相対的に第２外面層２５０の屈折率より大きければ本発明の範囲に属する。

ここで、第１外面層２４０及び第２外面層２５０の厚さは、光学的特性などを考慮して１ｎｍ乃至１００ｎｍであることがある。

本実施例では第１及び第２外面層２４０、２５０によって板状部材の透過率をもうすこし向上することができる。

一例で、ベース基板１１０の上面にＮｂ_２Ｏ_５を含む第１中間層２１０、ＳｉＯ_２を含む第２中間層２２０、及びＩＴＯを含む透明導電層１３０を順次に形成して、ベース基板１１０の下面にＮｂ_２Ｏ_５を含む第１外面層２４０、ＳｉＯ_２を含む第２外面層２５０を順次に形成した場合、透過率が９８％になる。

すなわち、ベース基板上にＳｉＯ_２層、ＩＴＯ層が順に形成されて、光透過率が９１％である従来の板状部材に比べて本実施例による板状部材は、著しく向上した光透過率を有することを分かる。また、本実施例による板状部材は第１実施例による板状部材よりも優秀な透過率を有することができる。

一方、前述した実施例による板状部材は、抵抗膜方式のタッチパネルまたは静電容量方式のタッチパネルに適用されることができる。これによってタッチパネルの光学的特性を向上することができる。

前述した本実施例による板状部材を製造する方法を、図４を参照して説明する。前で説明した内容に対しては、詳細な説明を略する。図４は、実施例による板状部材の製造方法の流れ図である。

まず、ベース基板上に第１中間層及び第２中間層を形成する（Ｓ１）。ここでベース基板は、前述したプラスチックシートまたはプラスチックフィルムであることができる。

引き続き、第２中間層上にこれより屈折率が小さな透明伝導層を積層する（Ｓ２）。一例で、透明伝導層は酸化インジウムスズを含むことができる。

引き続き、透明伝導層を露光及び現像してパターニングすることもできる（Ｓ３）。ここで、パターニングは、マルチ抵抗膜方式または静電容量方式で利用されることができる。

そして、ベース基板の第２面上に形成される一つ以上の外面層を形成する段階をさらに含むこともできる。

前述した実施例に説明された特徴、構造、効果などは、本発明の少なくとも一つの実施例に含まれて、必ず一つの実施例のみに限定されるものではない。ひいては、各実施例で例示された特徴、構造、効果などは実施例らが属する分野の通常の知識を有する者によって他の実施例らに対しても組合せまたは変形されて実施可能である。したがって、このような組合せと変形に係る内容らは、本発明の範囲に含まれるものとして解釈されなければならないであろう。

また、以上で実施例らを中心に説明したが、これは単に例示であるだけで、本発明を限定するものではなくて、本発明が属する分野の通常の知識を有した者なら本実施例の本質的な特性を脱しない範囲で以上に例示されない様々な変形と応用が可能であることが分かるであろう。例えば、実施例らに具体的に示された各構成要素は変形して実施することができるものである。そして、このような変形と応用に係る差異らは、添付した請求範囲で規定する本発明の範囲に含まれるものとして解釈されなければならないであろう。

本発明に従うタッチパネル用板状部材は、タッチパネル用板状部材の透過性を向上させて、透明伝導層のパターン形成時にパターンが視覚的に認識されないようにすることができる。

Claims (20)

1. ベース基板と、
   前記ベース基板の第１面上に形成されて第１屈折率を有する第１中間層と、
   前記第１中間層上に形成されて、前記第１屈折率より低い第２屈折率を有する第２中間層と、及び
   前記第２中間層上に形成される透明伝導層を含むタッチパネル用板状部材。
2. 前記透明伝導層は、前記第２屈折率より低い第３屈折率を有することを特徴とする請求項１に記載のタッチパネル用板状部材。
3. 前記ベース基板の第２面上に形成される一つ以上の外面層をさらに含むことを特徴とする請求項１に記載のタッチパネル用板状部材。
4. 前記外面層は、
   前記ベース基板の第２面上に形成される第１外面層と、及び
   前記第１外面層上に形成されて、前記第１外面層より小さな屈折率を有する第２外面層と、
   を含むことを特徴とする請求項３に記載のタッチパネル用板状部材。
5. 前記第１及び第２外面層は、それぞれＭｇ、Ｆ、Ｓｉ、Ａｌ、Ｃｅ、Ｉｎ、Ｈｆ、Ｚｒ、Ｐｂ、Ｔｉ、Ｔａ、Ｎｂ及びＯでなされた群から選択された物質を少なくとも一つ含むことを特徴とする請求項４に記載のタッチパネル用板状部材。
6. 前記第１外面層が、ＺｒＯ_２、Ｐｂ_５Ｏ_１１、ＴｉＯ_２、Ｔａ_２Ｏ_５及びＮｂ_２Ｏ_５でなされた群から選択された物質を少なくとも一つ含んで、
   前記第２外面層がＡｌ_２Ｏ_３、ＣｅＦ_３、ＳｉＯ、Ｉｎ_２Ｏ_３、ＨｆＯ_２、ＭｇＦ_２及びＳｉＯ_２でなされた群から選択された物質を少なくとも一つ含むことを特徴とする請求項５に記載のタッチパネル用板状部材。
7. 前記第１外面層がＡｌ_２Ｏ_３、ＣｅＦ_３、ＳｉＯ、Ｉｎ_２Ｏ_３、ＨｆＯ_２でなされた群から選択された物質を少なくとも一つ含んで、
   前記第２外面層がＭｇＦ_２及びＳｉＯ_２でなされた群から選択された物質を少なくとも一つ含むことを特徴とする請求項５に記載のタッチパネル用板状部材。
8. 前記第１中間層、前記第２中間層及び前記透明伝導層のそれぞれの厚さが１ｎｍ乃至１００ｎｍであることを特徴とする請求項１に記載のタッチパネル用板状部材。
9. 前記外面層の厚さは、１ｎｍ乃至１００ｎｍであることを特徴とする請求項３に記載のタッチパネル用板状部材。
10. 前記第１及び第２中間層は、それぞれＭｇ、Ｆ、Ｓｉ、Ａｌ、Ｃｅ、Ｉｎ、Ｈｆ、Ｚｒ、Ｐｂ、Ｔｉ、Ｔａ、Ｎｂ及びＯでなされた群から選択された物質を少なくとも一つ含むことを特徴とする請求項１に記載のタッチパネル用板状部材。
11. 前記第１中間層がＺｒＯ_２、Ｐｂ_５Ｏ_１１、ＴｉＯ_２、Ｔａ_２Ｏ_５及びＮｂ_２Ｏ_５でなされた群から選択された物質を少なくとも一つ含んで、
    前記第２中間層がＡｌ_２Ｏ_３、ＣｅＦ_３、ＳｉＯ、Ｉｎ_２Ｏ_３、ＨｆＯ_２、ＭｇＦ_２及びＳｉＯ_２でなされた群から選択された物質を少なくとも一つ含むことを特徴とする請求項１０に記載のタッチパネル用板状部材。
12. 前記第１中間層がＡｌ_２Ｏ_３、ＣｅＦ_３、ＳｉＯ、Ｉｎ_２Ｏ_３、ＨｆＯ_２でなされた群から選択された物質を少なくとも一つ含んで、
    前記第２中間層がＭｇＦ_２及びＳｉＯ_２でなされた群から選択された物質を少なくとも一つ含むことを特徴とする請求項１０に記載のタッチパネル用板状部材。
13. 前記透明伝導層がお互いに離隔されたパターンを含んで、
    前記パターンが形成された部分で反射する光の反射率をＲ０、前記パターンが形成されない部分で反射する光の反射率をＲ１とする時、前記Ｒ０及びＲ１が下の条件を満足することを特徴とする請求項１に記載のタッチパネル用板状部材。
    Ｒ０−Ｒ１＜０．７％
14. ベース基板の第１面上に第１屈折率を有する第１中間層を形成する段階と、
    前記第１中間層上に前記第１屈折率より低い第２屈折率を有する第２中間層を形成する段階と、及び
    前記第２中間層上に透明伝導層を形成する段階と、
    を含むタッチパネル用板状部材の製造方法。
15. 前記透明伝導層が前記第２屈折率より低い第３屈折率を有することを特徴とする請求項１４に記載のタッチパネル用板状部材の製造方法。
16. 前記ベース基板の第２面上に形成される一つ以上の外面層を形成する段階をさらに含むことを特徴とする請求項１４に記載のタッチパネル用板状部材の製造方法。
17. 前記外面層は、
    前記ベース基板の第２面上に形成される第１外面層と、及び
    前記第１外面層上に形成されて、前記第１外面層より小さな屈折率を有する第２外面層を含むことを特徴とする請求項１６に記載のタッチパネル用板状部材の製造方法。
18. 前記第１及び第２中間層は、それぞれＭｇ、Ｆ、Ｓｉ、Ａｌ、Ｃｅ、Ｉｎ、Ｈｆ、Ｚｒ、Ｐｂ、Ｔｉ、Ｔａ、Ｎｂ及びＯでなされた群から選択された物質を少なくとも一つ含むことを特徴とする請求項１４に記載のタッチパネル用板状部材の製造方法。
19. 前記第１中間層がＺｒＯ_２、Ｐｂ_５Ｏ_１１、ＴｉＯ_２、Ｔａ_２Ｏ_５及びＮｂ_２Ｏ_５でなされた群から選択された物質を少なくとも一つ含んで、
    前記第２中間層がＡｌ_２Ｏ_３、ＣｅＦ_３、ＳｉＯ、Ｉｎ_２Ｏ_３、ＨｆＯ_２、ＭｇＦ_２及びＳｉＯ_２でなされた群から選択された物質を少なくとも一つ含むことを特徴とする請求項１８に記載のタッチパネル用板状部材の製造方法。
20. 前記第１中間層がＡｌ_２Ｏ_３、ＣｅＦ_３、ＳｉＯ、Ｉｎ_２Ｏ_３、ＨｆＯ_２でなされた群から選択された物質を少なくとも一つ含んで、
    前記第２中間層がＭｇＦ_２及びＳｉＯ_２でなされた群から選択された物質を少なくとも一つ含むことを特徴とする請求項１８に記載のタッチパネル用板状部材の製造方法。

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