JP2004291499A - 高透過率導電性フィルム、その製造方法、タッチパネルおよびタッチパネル付き表示装置 - Google Patents

Abstract

【課題】タッチパネルの下部基板にも使用可能な高透過率透明導電性フィルムを提供し、薄型、軽量、低コスト、高視認性のタッチパネルまたは、タッチパネル付き表示装置を提供すること。
【解決手段】好ましくは２０ｎｍ以下のレターデーション値を有するポリマーフィルムの少なくとも一方の面に、該ポリマーフィルムより屈折率の高い高屈折率層、高屈折率層よりも屈折率の低い中間層を積層し、更にその表面に透明導電膜を形成し、高屈折率層を無機微粒子と重合性モノマーの硬化物で形成した高透過率導電性フィルムと、それを用いたタッチパネルおよびタッチパネル付き表示装置を作製する。
【選択図】 なし

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、光の透過率が高い透明導電性フィルム、その製造方法、並びに該フィルムを用いたタッチパネルおよびタッチパネル付き表示装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
現代社会は、高度情報社会と言われており、情報の流通量が増大し、各個人における情報の収集や選択に対する要求が増大している。このような社会的背景においては、情報携帯端末やカーナビゲーションなど移動しながら情報を処理することのできる移動型の情報端末に対するニーズが大きくなり、積極的に開発が進められている。
移動型の情報端末では、操作者とのインターフェイスとしてはキーボードを用いるより、携帯性を重視して、表示装置の表示部に重ねて使用する透明のタッチパネルを搭載することが主流となってきている。
【０００３】
近年は情報量増加に伴い表示装置のカラー化の要求も高まっている。しかし、カラー表示ではカラーフィルタにより透過率が低下し、明度が白黒表示時に比べて極端に低下し、視認性が低下する。そのため、カラー液晶表示装置においては、高明度化および高コントラスト化の要求が高くなる。さらに、表示装置にタッチパネルを搭載した場合は、表面の反射に加え、タッチパネルの内部に存在する高屈折率の透明導電膜と空気との界面での反射率が大きく、明るい環境下でのコントラストの低下が大きく、高コントラスト化の要求がより高まることとなる。
【０００４】
移動型の情報端末に関しては、より薄く、より軽くというニーズが強く、搭載されるタッチパネルに関しても、上下両方の基板のフィルム化が検討されている。しかしながら、透明導電膜付きフィルム基板は、特に下部基板に従来用いられている、浸漬法で形成されたＳｉＯ_２膜（Ｄｉｐ−ＳｉＯ_２）を両面に有する透明導電膜付きガラス基板と比較して、光の透過率の面で劣るという大きな問題があった。
【０００５】
ところで、タッチパネルが装備される表示装置としては、液晶表示装置、ＣＲＴ、ＥＬ、ＰＤＰなどがある。液晶表示装置ではそのほとんどが画面の表示のために偏光板を１枚以上用いている。また、ＥＬではセル内部での反射防止のため、外面側に偏光板と位相差板を組み合わせた円偏光板を設けている。
このような表示装置にタッチパネルを搭載する場合は、前述のように、タッチパネル部の反射率が大きく、反射光が増大し、コントラストが低下することと、さらに装置自体が厚くなるという問題点があった。これに対して液晶表示装置の偏光板と液晶セルの間に抵抗膜式タッチパネルの機能を挿入したインナー型タッチパネルの提案がされている。この方式によれば、界面が減少し、さらにλ／４板と組み合わせることで、界面反射による表示側に再放出される反射光が著しく低減され、視認性が著しく向上する。
【０００６】
このようなインナータイプタッチパネルにおいても、薄型・軽量化のため下部基板をフィルム化は望まれるが、下部基板は複屈折の無い（レターデーションの小さな）フィルムを用いる必要があるとともに、光の透過率の面でも両面Ｄｉｐ−ＳｉＯ_２付きガラス基板と同等以上の性能が求められるが、このような基板は存在していなかった。
【０００７】
また、従来、基板と透明導電膜の間に屈折率の異なる多層の干渉層を設けることにより、透過率を向上させる技術が開発されてきた。多層干渉層の形成に関する従来の技術としては、ゾルゲル法で形成する方法（例えば、特許文献１および特許文献２参照）や蒸着法で形成する方法（例えば、特許文献３参照）などがある。しかし、いずれも生産性やプロセス温度に問題があり、フィルム上に安価に成膜するという目的は十分に満たされていない。
さらに、スパッタリング法や蒸着法で多層の干渉層を設けようとしても、用いることが可能な材料が限定され、干渉層のそれぞれの層の屈折率を希望の値に自由に調整することは困難である。
また、ゾルゲル法で多層の干渉層を設ける場合に関しても、スパッタリング法などと同様に屈折率の制御が難しいことと、基板との密着性や膜の脆性の問題で、フィルム基板の上に成膜することに関しては課題が多い。
【０００８】
【特許文献１】
特開平１１−５３１１４号公報
【特許文献２】
特開２０００−３０１６４８号公報
【特許文献３】
国際公開ＷＯ００／６３９２４号パンフレット
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の目的は、タッチパネルの下部基板にも使用可能な高透過率透明導電性フィルムを提供し、薄型、軽量、低コスト、高視認性のタッチパネルまたは、タッチパネル付き表示装置を提供することにある。
【００１０】
【課題を解決するための手段】
本発明によれば、下記構成のタッチパネル、その製造方法及びタッチパネル付き表示装置が提供され、本発明の上記目的が達成される。
（１）ポリマーフィルムの少なくとも一方の面に、ポリマーフィルム側に隣接する層よりも屈折率の低い中間層が積層され、該中間層が積層された側の最表面に透明導電膜を有することを特徴とする高透過率導電性フィルム。
（２）中間層が、熱もしくは電離放射線硬化性の含フッ素硬化性樹脂および／または熱もしくは電離放射線硬化性の３官能以上の重合性基を有する硬化性樹脂を主体とする層であることを特徴とする上記（１）に記載の高透過率導電性フィルム。
（３）中間層の屈折率ｎ２が１．３５〜１．６であることを特徴とする上記（１）または（２）に記載の高透過率導電性フィルム。
（４）ポリマーフィルムと中間層の間にポリマーフィルムより高い屈折率を持つ高屈折率層を有することを特徴とする上記（１）〜（３）のいずれかに記載の高透過率導電性フィルム。
（５）透明導電膜を形成した反対側の面に屈折率の異なる複数の層を有する反射防止構造を設けた上記（１）〜（４）のいずれかに記載の高透過率導電性フィルム。
（６）波長５５０ｎｍにおける光の透過率が９０％以上であることを特徴とする上記（１）〜（５）のいずれかに記載の高透過率導電性フィルム。
（７）透明導電膜の膜厚が５〜２００ｎｍで、抵抗値が２０００Ω／□以下であることを特徴とする上記（１）〜（６）のいずれかに記載の高透過率導電性フィルム。
【００１１】
（８）高透過率導電性フィルムを構成する層のうち少なくとも中間層を含む２層以上の層は塗布法で形成され、かつ、２層以上の塗布層は、ポリマーフィルムを一回送り出してから巻き取るまでの間の一工程中に連続で形成されることを特徴とする上記（１）〜（７）のいずれかに記載の高透過率導電性フィルムの製造方法。
（９）中間層に対して易接着処理を行うことを特徴とする上記（８）に記載の高透過率導電性フィルムの製造方法。
【００１２】
（１０）透明導電膜を有する上部基板および下部基板が、透明導電膜同士を向かい合わせて配置されてなるタッチパネルにおいて、少なくとも一方の基板が上記（１）〜（７）のいずれかに記載の高透過率導電性フィルムであることを特徴とするタッチパネル。
（１１）上記（１０）に記載のタッチパネルを搭載したタッチパネル付き表示装置。
【００１３】
【発明の実施の形態】
本発明の高透過率導電性フィルムを用いたタッチパネルおよびタッチパネル付き表示装置の代表的な例を図１、図２に概略断面図として模式的に示す。
図１の例は、タッチパネルの視認側（操作者面側）の基板である上部基板を円偏光板としたいわゆるインナータイプタッチパネルであり、円偏光板によって内部反射光を遮ることにより、コントラストを向上させることができる。図１において、下部基板として用いた高透過率導電性フィルム（２０）と、上部基板として用いた透明導電膜付円偏光板（２１）とは、空隙を設けた状態で、互いに透明導電膜を向かい合わせて配置され、タッチパネル（２２）を形成している。上部基板に用いる透明導電膜付円偏光板（２１）の透明導電膜（７）と反対側の面には、ハードコート層（１２）と反射防止膜（１３）がこの順序で配置されるのが望ましいが、ハードコート層と反射防止膜はどちらか片方または両方がなくてもよい。
図２の例は、上部基板に円偏光機能を有さない通常のタッチパネル（以下、本明細書ではアウタータイプタッチパネルと呼ぶ）であり、本発明の高透過率導電性フィルムを上部、下部基板に用いることで、光の透過率を向上することができる。もちろん一方の基板のみに高透過率導電性フィルムを用いるだけでもよい。図２の例において、下部基板として用いた高透過率導電性フィルム（７０）と、上部基板として用いた高透過率導電性フィルム（７１）とは、空隙を設けた状態で、互いに透明導電膜を向かい合わせて配置され、タッチパネル（７２）を形成している。上部基板に用いる高透過率導電性フィルム（７１）の透明導電膜（５７）と反対側の面にはハードコート層（６２）と反射防止膜（６３）がこの順序で配置されるのが望ましいが、ハードコート層と反射防止膜はどちらか片方または両方がなくてもよい。
図１、図２ともに基板であるポリマーフィルムと透明導電膜の間に、ポリマーフィルムより屈折率の高い高屈折率層（４、５４、５９）と高屈折率層より屈折率の低い中間層（５、５５、５８）が、この順番で設けてある。このような層構成にすることで、各界面での反射による干渉作用で、高透過率化を達成することができる。
図１、２に関しては、タッチパネルを表示装置上に搭載しているが、表示装置に関しては、特に限定されるものではなく、さまざまな表示装置に適用することができる。
なお、本発明のタッチパネル付き表示装置はこの例に限定されず、各種のバリエーションがあることは言うまでもない。
【００１４】
（ポリマーフィルム）
本発明の高透過率導電性フィルムでは、ポリマーフィルムを支持体として用いる。ポリマーフィルムの材料の例には、セルロースエステル（例、トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロース、プロピオニルセルロース、ブチリルセルロース、アセチルプロピオニルセルロース、ニトロセルロース）、ポリアミド、ポリカーボネート、ポリエステル（例、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリ−１，４−シクロヘキサンジメチレンテレフタレート、ポリエチレン−１，２−ジフェノキシエタン−４，４’−ジカルボキシレート、ポリブチレンテレフタレート）、ポリスチレン（例、シンジオタクチックポリスチレン）、ポリオレフィン（例、ポリプロピレン、ポリエチレン、ポリメチルペンテン）、環状ポリオレフィン、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリアリレート、ポリエーテルイミド、ポリメチルメタクリレートおよびポリエーテルケトンが含まれる。本発明の高透過率導電性フィルムをインナータイプタッチパネルの下側基板として用いる場合は、ポリマーフィルムとして、複屈折の無い（レターデーション値が好ましくは２０ｎｍ以下）フィルムを用いることが望ましい。そのようなものとしては、トリアセチルセルロース、ポリカーボネート、ポリスルホン、ポリアリレート、ポリエーテルスルホンなどが望ましい。なかでも、インナータイプタッチパネルに用いる場合などには上部基板は偏光板を有するが、この偏光板に用いられるトリアセチルセルロースと熱や湿度に対する線膨張係数を合わせる観点、またコスト面から、トリアセチルセルロースを用いるのが特に好ましい。トリアセチルセルロースフィルムの作製法は、公開技報番号２００１−１７４５にて公開されたものが好ましく用いられる。
ポリマーフィルムの光透過率は、８０％以上であることが好ましく、８６％以上であることがさらに好ましい。ヘイズは、２．０％以下であることが好ましく、１．０％以下であることがさらに好ましい。屈折率は、１．４〜１．７であることが好ましい。
【００１５】
（ハードコート層）
ポリマーフィルムと高屈折率層の間にはハードコート層を設けることが、硬度付与、フィルムからのガス放出の抑止、さらにはハードコート層付与後の工程、特に透明導電膜作製工程でのフィルムへのダメージの低減のため、望ましい。ハードコート層に用いる材料としては、フッ素系樹脂、アクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、ウレタン系樹脂、シリコン系樹脂、プロピレン系樹脂、ビニル系樹脂などの高分子を単独、または、混合で用いることができる。また、高分子中に無機酸化物微粒子を分散してコートすることも好ましい。無機酸化物微粒子としては、ＳｉＯ_２、Ａｌ_２Ｏ_３、ＴｉＯ_２、ＺｒＯ_２、ＳｎＯ_２などがあるが、特にＳｉＯ_２、Ａｌ_２Ｏ_３が望ましい。また、無機物のみをスパッタ法などの方法でコートしてもよい。コートする膜厚としては０．３μｍ以上５０μｍ以下が好ましく、さらに好ましくは０．５ｎｍ以上１０μｍ以下であり、特に好ましくは１μｍ以上４μｍ以下である。
また、ハードコート層の屈折率は、高屈折率層の屈折率以下であることが好ましく、１．６以下であることがより好ましく、１．５５以下であることがさらに好ましい。
なお、ポリマーフィルムと高屈折率層に設ける以外に、タッチパネル上部基板に設けるハードコート層（例えば、図１のハードコート層（１２））についても、用いることのできる材料等は上記と同様である。
【００１６】
（高屈折率層）
本発明に用いる高屈折率層は、ベースとなるポリマーフィルムより屈折率が高い必要がある。しかし、屈折率が低すぎると光の透過率向上の効果が少なくなる傾向があり、一方、屈折率が高すぎると、特定の波長の光の透過率は高くなるが、可視光全域で高い透過率が得られなくなる可能性がある。したがって、屈折率は１．６〜２．６が好ましく、１．６〜２．０がさらに好ましい。特に好ましくは１．６〜１．９である。
【００１７】
高屈折率層は、無機微粒子と重合性モノマーの硬化物で形成される。例えば、屈折率の高い無機微粒子、アニオン性分散剤、３官能以上の重合性基を有するモノマー、および重合開始剤を含有する硬化性組成物を塗布、乾燥し、熱および／または電離放射線によりモノマーを重合させ硬化させることによって形成することができる。このようにして形成された高屈折率層は、高屈折率を有するポリマー溶液を塗布、乾燥したものと比較して、耐傷性や密着性に優れる。
高屈折率層の屈折率は、主に、上記モノマーが重合、硬化してなる硬化性樹脂と、無機微粒子の屈折率により決まるので、モノマーや無機微粒子の選択により調整することができる。
【００１８】
屈折率の高い無機微粒子としては、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｉｎ、Ｚｎ、Ｓｎ、Ｓｂの酸化物が挙げられ、この中から選ばれる少なくとも１種の金属酸化物を含む無機微粒子が好ましい。無機微粒子の平均粒径は、コールターカウンター法で測定したときの平均粒径で１から１００ｎｍであることが好ましい。１ｎｍ以下では、比表面積が大きすぎるために、塗布液中に分散させた際の安定性に乏しく、好ましくない。１００ｎｍ以上では、上記モノマーが重合、硬化してなる硬化性樹脂との屈折率差に起因する可視光の散乱が発生し、好ましくない。
３官能以上の重合性基を含有するモノマーとしては、多官能（メタ）アクリレートモノマーが挙げられる。また、アニオン性分散剤としては、アニオン性基を含有するモノマー（（メタ）アクリレートモノマーなど）が挙げられる。分散液安定性や、硬化後の膜強度等を確保するために、特開平１１−１５３７０３号公報や特許番号ＵＳ６２１０８５８ Ｂ１等に記載されているような、多官能（メタ）アクリレートモノマーとアニオン性基含有（メタ）アクリレート分散剤とが塗布組成物中に含まれることが好ましい。
重合開始剤は、例えば、紫外線によりラジカルを発生させる、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、ミヒラーのケトン、ベンゾイルベンゾエート、ベンゾイン類、α−アシロキシムエステル、テトラメチルチウラムモノサルファイドおよびチオキサントン等の公知のラジカル発生剤が使用できる。また通常、光酸発生剤として用いられるスルホニウム塩やヨードニウム塩なども紫外線照射によりラジカル発生剤として作用するため、これらを単独で用いてもよい。また、感度を高める目的で重合開始剤に加えて、増感剤を用いてもよい。増感剤の例には、ｎ−ブチルアミン、トリエチルアミン、トリ−ｎ−ブチルホスフィン、およびチオキサントン誘導体等が含まれる。重合開始剤は、単独でも複数開始剤を組み合わせて用いてもよい。重合開始剤の添加量としては、高屈折率層を形成するための硬化性組成物中に含まれる硬化性樹脂の総質量に対し、０．１乃至１５質量％の範囲で使用することが好ましく、１乃至１０質量％の範囲で使用することがさらに好ましい。
硬化させる際に照射する電離放射線としては、ガンマー線、アルファー線、電子線、紫外線などが挙げられるが、なかでも紫外線が好ましい。
【００１９】
高屈折率層のヘイズは、３％以下であることが好ましく、１％以下であることがより好ましい。
【００２０】
（中間層）
本発明に用いる中間層は、高屈折率層より屈折率が低い必要があるが、屈折率が高すぎると透過率の向上効果が少ない。また、屈折率が低すぎると膜の強度が低くなり、タッチパネル化した時の、入力の際に受ける入力ペンからの荷重で破壊される可能性がある。したがって、屈折率は１．３０〜１．６５が望ましく、１．３５〜１．６０が更に望ましい。より望ましくは１．４〜１．５７である。
【００２１】
中間層は、熱もしくは電離放射線の照射により硬化する、含フッ素硬化性樹脂および／または３官能以上の重合性基を有する硬化性樹脂を主体とする層であることが好ましく、さらに、無機微粒子やその他の添加剤を含んでもよい。
熱もしくは電離放射線の照射により硬化する硬化性樹脂としては、同一分子内に２個以上のアクリル基を有する硬化性樹脂が好ましい。具体例としては、エチレングリコールジアクリレート、１，６−へキサンジオールジアクリレート、ビスフェノール−Ａジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート等のポリオールポリアクリレート類、ポリイソシアネート硬化性樹脂とヒドロキシエチルアクリレート等の水酸基含有アクリレートの反応によって得られる多官能のウレタンアクリレートやポリエポキシ硬化性樹脂とヒドロキシエチルアクリレート等の水酸基含有アクリレート（メタアクリレート）の反応によって得られる多官能のエポキシアクリレート等を挙げることができる。さらに、以下のＡ−１からＡ−４４等のエチレン性不飽和基を側鎖に有するポリマーを用いることもできる。
【００２２】
【化１】

【００２３】
【化２】

【００２４】
【化３】

【００２５】
【化４】

【００２６】
【化５】

【００２７】
中間層の低屈折率化のために、含フッ素硬化性樹脂を用いるのが好ましい。該含フッ素硬化性樹脂としては、パーフルオロアルキル基含有シラン化合物（例えば（ヘプタデカフルオロ−１，１，２，２−テトラデシル）トリエトキシシラン）等の他、含フッ素モノマーと架橋性基付与のためのモノマーを構成単位とする含フッ素共重合体が挙げられる。
含フッ素モノマー単位の具体例としては、例えばフルオロオレフィン類（例えばフルオロエチレン、ビニリデンフルオライド、テトラフルオロエチレン、ヘキサフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、パーフルオロ−２，２−ジメチル−１，３−ジオキソール等）、（メタ）アクリル酸の部分または完全フッ素化アルキルエステル誘導体類（例えばビスコート６ＦＭ（大阪有機化学製）やＭ−２０２０（ダイキン製）等）、完全または部分フッ素化ビニルエーテル類等であり、これらのなかでも低屈折率、モノマーの扱いやすさの観点で特にヘキサフルオロプロピレンが好ましい。
架橋性基付与のためのモノマーとしてはグリシジルメタクリレートのように分子内にあらかじめ架橋性官能基を有する（メタ）アクリレートモノマーの他、カルボキシル基やヒドロキシル基、アミノ基、スルホン酸基等を有する（メタ）アクリレートモノマー（例えば（メタ）アクリル酸、メチロール（メタ）アクリレート、ヒドロキシアルキル（メタ）アクリレート、アリルアクリレート等）が挙げられる。後者は共重合の後、架橋構造を導入できることが特開平１０−２５３８８号公報および特開平１０−１４７７３９号公報により開示されており、特に好ましい。
また上記含フッ素モノマーを構成単位とするポリマーだけでなく、フッ素原子を含有しないモノマーとの共重合体を用いてもよい。併用可能なモノマー単位には特に限定はなく、例えばオレフィン類（エチレン、プロピレン、イソプレン、塩化ビニル、塩化ビニリデン等）、アクリル酸エステル類（アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸２−エチルヘキシル）、メタクリル酸エステル類（メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸ブチル、エチレングリコールジメタクリレート等）、スチレン誘導体（スチレン、ジビニルベンゼン、ビニルトルエン、α−メチルスチレン等）、ビニルエーテル類（メチルビニルエーテル等）、ビニルエステル類（酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、桂皮酸ビニル等）、アクリルアミド類（Ｎ−ｔｅｒｔブチルアクリルアミド、Ｎ−シクロヘキシルアクリルアミド等）、メタクリルアミド類、アクリロ二トリル誘導体等を挙げることができ、特開平１０−２５３８８号公報および特開平１０−１４７７３９号公報により開示されている。
【００２８】
中間層と透明導電膜の間の密着性を向上するためには、後述の易接着処理を施すが、密着性を効果的に向上するためには、中間層に使用する含フッ素硬化性樹脂や３官能以上の重合性基を有する電離放射線硬化性樹脂が、易接着処理で、分子鎖を切断された時に、表面に−ＣＯＯＨ基および／または−ＯＨ基を発生することが好ましく、特に−ＣＯＯＨ基を発生するのが好ましい。また、そのような官能基を発生する添加成分を加えてもよい。このような官能基を発生するためには、硬化後の分子鎖中に−ＣＯＯ−結合を有する樹脂を選択するのがよい。
【００２９】
中間層の屈折率の調整や硬度付与のために、無機微粒子を含有させることが好ましく、Ｓｉの酸化物からなる微粒子が望ましい。Ｓｉの酸化物からなる微粒子としては、市販の有機溶剤に分散されたシリカゾルをそのまま塗布液に添加しても、市販の各種シリカ紛体を有機溶剤に分散して使用してもよい。
【００３０】
高屈折率層、中間層およびハードコート層の各層は、ディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法、マイクログラビア法やエクストルージョンコート法（米国特許２６８１２９４号明細書）により、塗布により形成することができる。ウエット塗布量を最小化することで乾燥ムラをなくす観点でマイクログラビア法およびグラビア法が好ましく、幅方向の膜厚均一性の観点で特にグラビア法が好ましい。
本発明においては、少なくとも中間層を含む２層以上の層（好ましくは高屈折率層および中間層を含む２層以上の層）を上記いずれかの塗布法で形成し、かつ、２層以上の塗布層は、該支持体を一回送り出してから巻き取るまでの間の一工程中に連続で形成されることが望ましく、該支持体を一回送り出してから巻き取るまでの間の一工程中に全塗布層が連続で形成されることが特に望ましい。
【００３１】
（易接着処理）
中間層の上に透明導電性膜を処理する前には易接着処理するのが望ましく、用途によっては、易接着処理をしないと透明導電性膜の密着性が不十分で、使用中に膜剥離や膜破壊が発生する可能性がある。易接着処理としては、ＵＶ照射処理、エキシマＵＶ処理、真空プラズマ処理、減圧プラズマ処理、常圧プラズマ処理、コロナ放電処理、イオンビーム照射処理、ケン化処理などがある。密着性改善効果と処理速度の面からは、特に真空プラズマ処理、常圧プラズマ処理、減圧プラズマ処理、コロナ放電処理、イオンビーム照射処理、ケン化処理が好ましい。生産性上の観点からは、易接着処理プロセスは、高屈折率層および中間層の塗布工程後に、ロールで巻き取る前に減圧プラズマ処理、常圧プラズマ処理、コロナ放電処理、イオンビーム処理、ケン化処理連続で処理するか、または、透明導電性膜の形成前に、真空中で真空プラズマ処理で処理し、連続で透明導電膜を形成するのが望ましい。
【００３２】
（透明導電膜）
本発明の高透過率導電性フィルムおよびタッチパネルに用いる透明導電膜は、表面抵抗率が２０００Ω／□以下であることが好ましく、１０００Ω／□以下であることがさらに好ましい。特に好ましくは１００Ω／□以上９００Ω／□以下である。
【００３３】
フィルム上に透明導電膜を形成するには、ロール式の連続スパッタ装置を用いることが好ましい。本発明の高透過率導電性フィルムをアウタータイプの上部基板に用いる場合は透明導電膜と反対側の面にハードコート層と反射防止膜を設けるのが望ましいが、その場合は、透明電極膜を成膜する前に、ハードコート層と反射防止膜を設けるのが望ましい
【００３４】
表面抵抗率が上記のような値の透明導電膜は、導電性微粒子分散物、金属アルコキシドなどを塗布によって設けても構わないし、スパッタリング、真空蒸着法、イオンプレーティング法、ＣＶＤ法などの真空成膜法、あるいは大気圧での気相成長法によって透明導電膜を形成しても構わない。好ましい形成法はスパッタリング、真空蒸着、イオンプレーティングであり、特に好ましくはスパッタリング法である。
【００３５】
真空成膜法としては「透明導電膜の新展開」シーエムシー、澤田豊監修「月刊ディスプレイ」１９９９年９月号に記載の方法を用いることができる。
成膜する透明導電性金属酸化物としてはＩｎ_２Ｏ_３系（Ｓｎなどのドープ品、ＩＴＯを含む）、ＳｎＯ_２系（Ｆ、Ｓｂなどのドープ品を含む）、ＺｎＯ系（Ａｌ、Ｇａなどのドープ品を含む）およびこれらの複合酸化物、例えばＩｎ_２Ｏ_３−ＺｎＯ系、などが挙げられる。金属窒化物としてはＴｉＮなどが挙げられる。また、銀などと共に成膜してもよい。
【００３６】
スパッタ法により酸化インジウムを主成分とする膜を成膜する方法としては、インジウムを主成分とする金属ターゲット、または酸化インジウムを主成分とする焼結体ターゲットを用いた反応性スパッタリングが適する。反応を制御する上では、後者が好ましい。特に好ましくは酸化スズを含有する酸化インジウムターゲットを用いた反応性スパッタリングであり、酸化スズを１質量％から２０質量％含むのが望ましく、３質量％から１２質量％含むのが特に望ましい。反応性スパッタリング法においてはスパッタリングガスに、アルゴンなどの不活性ガスを用い、反応性ガスとしては酸素を用いる。また、酸素流量の制御はプラズマエミッションモニター法で行うことが好ましい。放電形式は特に規定しないが、ＤＣマグネトロンスパッタ、ＲＦマグネトロンスパッタ、１対のターゲット間にＡＣ電圧を印加する方法、１対のターゲット間にパルスＤＣ電圧を印加する方法などが好ましい。成膜時の基板の温度は特に規定はないが、基板のガラス転移点以下で可能な範囲で加熱した方が膜強度が向上する傾向がある。
【００３７】
透明導電膜が形成された状態で、本発明の高透過率導電性フィルムの波長５５０ｎｍにおける光の透過率は、９０％以上であることが好ましく、９２％以上であることがより好ましく、９３％以上であることがさらに好ましく、９４％以上であることが特に好ましい。
さらに、４５０ｎｍ、５５０ｎｍ、６５０ｎｍの全ての波長で、透過率が９０％以上、更に好ましくは９２％以上であると、ディスプレイに搭載した際に、透過光の色変化が少なく、特に好ましい。
【００３８】
透明導電膜の厚みは、ＩＴＯを用いた場合を例にとると、５〜２００ｎｍが好ましく、より好ましくは５〜１５０ｎｍ、更に好ましくは５ｎｍ〜３０ｎｍ、最も好ましくは７〜２０ｎｍである。
透明導電膜は、タッチパネルに用いる際には、全面を電極として用いる場合と、全面に電極を形成した後にレジスト形成およびエッチングを行ってパターン加工して用いる場合がある。
【００３９】
（円偏光板）
インナータイプタッチパネルの場合は、タッチパネルの上部基板として円偏光板を用いる。以下、円偏光板について、さらに説明する。
円偏光板は、偏光能を持つ偏光膜を有し、通常該偏光膜の両面又は片面に保護膜が接着剤層を介して設けられ、さらに片面側には、１／４波長板（λ／４板）が設けられる。
通常、長尺の偏光板（通常ロール形態）を製造し、それを用途に合わせて打ち抜くことにより、実用上の偏光板が得られる。
【００４０】
円偏光板を構成するλ／４板としては、特開平５−２７１１８号および同５−２７１１９号の各公報に記載されたレターデーションが大きい複屈折性フィルムと、レターデーションが小さい複屈折率フィルムとを、それらの光軸が直交するように積層させた位相差板、特開平１０−６８８１６号公報に記載された、特定波長においてλ／４となっているポリマーフィルムと、それと同一材料からなり同じ波長においてλ／２となっているポリマーフィルムとを積層させて、広い波長領域でλ／４が得られる位相差板、特開平１０−９０５２１号公報に記載された二枚のポリマーフィルムを積層することにより広い波長領域でλ／４を達成できる位相差板、ＷＯ００／２６７０５号に記載された変性ポリカーボネートフィルムを用いた広い波長領域でλ／４を達成できる位相差板、ＷＯ００／６５３８４号に記載されたセルロースエステルフィルムを用いた広い波長領域でλ／４を達成できる位相差板等を挙げることができる。また、特開２００１−４８３７号公報に記載された液晶性化合物で形成されたλ／２層とλ／４層の２つの光学異方性層が支持体上に形成されることにより、広い波長領域でλ／４を達成できる位相差板を用いることもできる。
【００４１】
液晶材料や配向方向、視野角特性などの観点から、λ／４板の遅相軸と偏光膜の透過軸とのなす角度は４５°とするのが好ましい。
また、λ／４板の光の波長に対する位相遅れの公差を補償するために、偏光膜とλ／４板との間にλ／２板を配置することもある。
【００４２】
また、ポリマーフィルム上に２層の光学異方性層が塗布されて形成されたλ／４板の場合は、第１の光学異方性層であるλ／２層の遅相軸と、第２の光学異方性層であるλ／４層の遅相軸とが、実質的に６０゜で交差しているのが望ましい。さらに、偏光膜との貼り合わせた際に、偏光膜の偏光軸と、一方の光学異方性層の遅相軸とが、実質的に７５゜で交差しており、そして、偏光膜の偏光軸と、もう一方の光学異方性層の遅相軸とが、実質的に１５゜で交差していることが望ましい。
【００４３】
一般に、λ／４板、λ／２板などの位相差板は疎水性であり、透湿性が低くなるので、通常１０％以上と比較的含水率の高い偏光膜と直に貼り合わせると、偏光膜中の水が偏光板外に揮発するまでの時間が長くなり、偏光度が低下したり、色ムラを生じたりするため、好ましくない。したがって、通常は、λ／４板が偏光膜の保護膜を兼ねることができず、偏光板としては、保護膜／偏光膜／保護膜／（λ／４板）の構成となる。
しかし、最終的に偏光膜の含水率を５％以下の少ない状態に乾燥すると、λ／４板のように透湿性の低いフィルムを偏光膜の保護膜として、偏光膜に直接貼り合わせることができ、結果として、保護膜の使用枚数を減らすこととなり、偏光板全体の厚みを薄くすることができるので、この構成が好ましい。
また、セルロースエステルフィルムを用いたλ／４板を用いると、偏光膜の保護膜として作用し、偏光膜の含水量を特に少ない状態にすることなく、偏光膜に直接貼り合せることができ、非常に好適である。セルロースエステルフィルムを用いたλ／４板としては、セルロースエステルフィルム中に位相差を生じる化合物を混合した後に延伸などの手法で配向させて、λ／４板を作成してもよいし、セルロースエステルフィルムの上に、λ／４の位相差を有する層を塗布などの手段で形成してもよい。また、λ／４の位相差を有する層は１層で形成されていても良いし、λ／２の位相差を有する層とλ／４の位相差を有する層を積層して、広帯域のλ／４板を作製してもよい。
【００４４】
偏光膜の吸収軸は長尺の偏光膜においては一般に長手方向に位置しており、当然このような偏光板も、本発明に使用可能であるが、偏光膜の吸収軸が長手方向に平行でも垂直でもないことがさらに好ましい。偏光膜の長手方向と吸収軸方向とがなす角度は、好ましくは１０°以上９０°未満、より好ましくは２０°以上７０゜未満、更に好ましくは４０°以上５０゜未満、特に好ましくは４４°以上４６゜未満である。これにより、貼合せ前に偏光板とλ／４板を打ち抜き、枚葉で貼り合せるということをせず、ロール・ツー・ロールの貼合せで連続的に長尺の円偏光版を作製することができ、非常に好適である。
【００４５】
また、本発明に用いられる円偏光板の単板透過率は、５５０ｎｍで３５％以上、かつ偏光度が５５０ｎｍで８０％以上であることが好ましい。単板透過率は４０％以上であることがより好ましく、偏光度は好ましくは９５．０％以上、より好ましくは９９％以上、特に好ましくは９９．９％以上である。
【００４６】
（タッチパネル）
本発明のタッチパネルは、例えば、表示装置が液晶表示装置の場合には液晶セルに近い側の下部基板と、対向する上部基板とからなる。下部基板と上部基板の対向面には、それぞれ透明導電膜が備えられている。
基板が円偏光機能を備えないタッチパネルの場合、下部基板及び上部基板は、表示品質を高めるため、透明な光学材料で形成されていることが好ましく、下部基板または上部基板のどちらか一方に本発明の高透過率導電性フィルムを用いるとことにより、透過性の良好なタッチパネルが作成可能である。本発明の高透過率導電性フィルムを用いない場合は、フィルム、プラスチック、ガラスのどれでもよいが、入力感の観点から、上部基板側は可撓性を有する透明フィルムが特に望ましい。透明フィルムの例としては非晶性フィルム、ポリエーテルサルフォン、ポリカーボネート、ポリアリレート、ポリエチレンテレフタレート、セルロースエステル、環状ポリオレフィンなどのポリマーフィルムが挙げられるが、これに限るものではない。
また、インナータイプタッチパネルの場合は、上部基板としては、円偏光板を用いてもよいし、または上記で挙げた透明フィルム上に円偏光板を貼り合わせたものを用いてもよい。また、上部基板表面に反射防止膜やハードコート層を設けた透明フィルムを貼り付けてもよいし、反射防止膜やハードコート層を設けた透明フィルムをλ／４板とは逆側に位置する保護膜として直接偏光膜に貼り付けて、円偏光板として一体化してもよい。
下部基板としては、例えば、ガラスおよび非晶性フィルム、ポリエーテルサルフォン、ポリカーボネート、ポリアリレート、ポリエチレンテレフタレート、セルロースエステル、環状ポリオレフィンなどのポリマーフィルムなどを用いる。また、一般の透過型液晶装置のように、液晶セルの両側に直接偏光板が配置されている表示機器に、本発明のタッチパネルを搭載する場合は、タッチパネルの固定基板としてλ／４機能を有するフィルムを用いる、または、λ／４機能を有するフィルムを透明基板に貼り付けて使うことも可能である。
【００４７】
上部基板および下部基板の表面には透明導電膜が形成されるが、本発明の高透過率導電性フィルムを用いない場合でも、透明導電膜の形成方法は前記の（透明導電膜）の箇所に記載した内容と同様である。
【００４８】
２つの透明導電膜間には、ギャップが形成される。ギャップ間には通常空気層が存在するが、オプティカル・マッチングを取るために透明導電膜と屈折率の近い液体を充填させることもできる。また、透明導電膜の基板側にアンダーコート層、または、基板と反対側にオーバーコート層を付与し、光反射を低減させることもできる。スティッキング性をなくし、耐久性を改善するために、透明導電膜表面は粗面化されていてもよい。ギャップ間にはスペーサを設けることができる。スペーサとしては、ドット状スペーサを固定基板または可動基板のどちらかに設ける。ドットスペーサーのサイズは径２０〜１５０μｍ、高さ５〜２０μｍが望ましく、ピッチ１〜８ｍｍで基板全面に作製されていることが望ましいが、作製密度は基板内で均一でない場合もある。
【００４９】
タッチパネルによるデータ入力位置検出の方式は、デジタル式（マトリクス式）、アナログ式のどちらでも用いることができる。
デジタル式（マトリクス式）では、固定基板の透明導電膜（例えばＸ列）と可動基板の透明導電膜（例えばＹ列）とによりマトリクスを形成し、押圧による透明導電膜同士の接触位置に対応して、データ位置を検出することができる。
アナログ式では、例えば、固定基板のＸ軸方向の両端部、および、可動基板のＹ軸方向の両端部に電極を形成し、押圧により透明電極同士が接触し、接触位置により生じるＸ方向、Ｙ方向の抵抗値を検出することによって、データ入力位置を検出することができる。
本発明においては、タッチパネルは画像表示装置に組み込んで用いることが好ましいが、タッチパネルが表示部とは別々になっていても構わないし、両者が一体となっていても構わない。
【００５０】
本発明のタッチパネルは、様々な表示装置と組み合わせて用いることができる。例えば、カソードレイチューブ（ＣＲＴ）、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、フィールド・エミッション・ディスプレイ（ＦＥＤ）、無機ＥＬディスプレイ、有機ＥＬディスプレイ、液晶表示装置などである。本発明のタッチパネルを用いることで、これらタッチパネル付き表示装置の外光の反射を低減することができる。これらの表示装置の中では、液晶表示装置または有機ＥＬディスプレイ、無機ＥＬディスプレイと組み合わせて用いるのが好ましい。
【００５１】
液晶表示装置と組み合わせて用いる場合は、用いられる液晶モードは特に限定されないが、ＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）型、ＳＴＮ（Ｓｕｐｅｒ Ｔｗｉｓｔｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）型、ＨＡＮ（Ｈｙｂｒｉｄ Ａｌｉｇｎｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）型、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｅｄ Ｂｅｎｄ）型、ＥＣＢ（Ｅｌｅｃｔｒｉｃａｌｌｙ Ｃｏｎｔｒｏｌｌｅｄ Ｂｉｒｅｆｒｉｎｇｅｎｃｅ）型、ＶＡ（Ｖｅｒｔｉｃａｌｌｙ Ａｌｉｇｎｅｄ）型または、ＧＨ（Ｇｕｅｓｔ Ｈｏｓｔ）型であることが好ましい。また、反射型、半透過型、透過型いずれに対しても用いることができる。
【００５２】
【実施例】
以下、実施例に基づき、本発明を具体的に説明するが、本発明は実施例に限定して解釈されるものではない。
【００５３】
＜導電性フィルムの作製＞
（塗布液Ａの調整）
ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物（ＤＰＨＡ、日本化薬（株）製）３０６質量部を、１６質量部のメチルエチルケトンと２２０質量部のシクロヘキサノンの混合溶媒に溶解した。得られた溶液に、光重合開始剤（イルガキュア９０７、チバガイギー社製）７．５質量部を加え、溶解するまで攪拌した後に、４５０質量部のＭＥＫ．ｒＴ（平均粒径１０〜２０ｎｍ、固形分濃度３０質量％のＳｉＯ_２ゾルのメチルエチルケトン分散物、日産化学（株）製）を添加し、撹拌して混合物を得、孔径３μｍのポリプロピレン製フィルター（ＰＰＥ．Ｏ３）で濾過して塗布液Ａを調製した。
【００５４】
（二酸化チタン分散物の調製）
二酸化チタン超微粒子（ＴＴＯ．Ｔ５Ｂ、石原テクノ（株）製）３０質量部、ジメチルアミノエチルアクリレート（ＤＭＡＥＡ、興人（株）製）１質量部、リン酸基含有アニオン性分散剤（ＫＡＹＡＲＡＤ ＰＭ．Ｑ１、日本化薬（株）製）６質量部およびシクロヘキサノン６３質量部を、サンドグラインダーによって、コールター法で測定した平均粒径が４２ｎｍになるまで分散し、二酸化チタン分散物を調製した。
【００５５】
（塗布液Ｂの調製）
シクロヘキサノン５４質量部およびメチルエチルケトン１８質量部に、光重合開始剤（イルガキュア９０７、チバガイギー社製）０．１３質量部および光増感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製）０．０４質量部を溶解した。さらに、上記二酸化チタン分散物２６．４質量部およびジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物（ＤＰＨＡ、日本化薬（株）製）１．６質量部を加え、室温で３０分間撹拌した後、孔径３μｍのポリプロピレン製フィルター（ＰＰＥ．Ｏ３）で濾過して、塗布液Ｂを調製した。
【００５６】
（塗布液Ｃの調整）
ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物（ＤＰＨＡ、日本化薬（株）製）３０６質量部を、１６質量部のメチルエチルケトンと２２０質量部のシクロヘキサノンの混合溶媒に溶解した。得られた溶液に、光重合開始剤（イルガキュア９０７、チバガイギー社製）７．５質量部を加え、溶解するまで攪拌した後、孔径３μｍのポリプロピレン製フィルター（ＰＰＥ．Ｏ３）で濾過して塗布液Ｃを調製した。
【００５７】
（塗布液Ｄの調製）
シクロヘキサノン７５質量部およびメチルエチルケトン１９質量部に、光重合開始剤（イルガキュア９０７、チバガイギー社製）０．１１質量部および光増感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製）０．０４質量部を溶解した。さらに、上記二酸化チタン分散物３．１質量部およびジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物（ＤＰＨＡ、日本化薬（株）製）２．１質量部を加え、室温で３０分間撹拌した後、孔径３μｍのポリプロピレン製フィルター（ＰＰＥ．Ｏ３）で濾過して、塗布液Ｄを調製した。
【００５８】
［実施例１］
（高屈折率層、中間層の作製）
８０μｍの厚さのトリアセチルセルロースフィルム（ＴＡＣ−ＴＤ８０Ｕ、富士写真フィルム（株）製、屈折率１．４８、レターデーション値４ｎｍ）に、上記の塗布液Ａを、グラビアコーターを用いて塗布し、１００℃で２分間乾燥した。次に紫外線を照射して、塗布層を硬化させ、ハードコート層（屈折率：１．５１、膜厚：３μｍ）を形成した。
続いて、ハードコート層上に上記の塗布液Ｂをグラビアコーターを用いて塗布し、１００℃で乾燥した後、紫外線を照射して塗布層を硬化させ、高屈折率層（屈折率：１．９０、膜厚：４０ｎｍ）を設けた。
高屈折率層の上に、上記の塗布液Ｃをグラビアコーターを用いて塗布し、１００℃で乾燥した後、紫外線を照射して塗布層を硬化させ、中間層（屈折率：１．５２５、膜厚：８０ｎｍ）を設けた。このようにしてトリアセチルセルロース上に高屈折率層、中間層を作製した。
以上のハードコート層および高屈折率層、中間層は、支持体を一回送り出してから巻き取るまでの間の一工程中に連続で形成した。
【００５９】
（易接着処理および透明導電膜の作製）
高屈折率層および中間層を形成した上記トリアセチルセルロースフィルムをロール式連続スパッタリング装置にセットして、易接着処理および透明導電性膜形成を連続で行った。スパッタ装置は上記２処理を連続で行えるように、異なる真空度に制御可能な２チャンバーを有しているものを用いた。易接着処理は真空槽を１．２ｍＰａの圧力まで排気した後、Ａｒガスを導入して、ガス圧を２．０Ｐａに調整した後、プラズマ処理用のマグネトロン電極にＤＣ電圧を３．８８ｋＷ／ｍ^２印加し、その電極の前をフィルムを通過させた。処理時間は３分間とった。その後、スパッタチャンバーに搬送し、スパッタ処理を行った。スパッタチャンバーはＡｒ＋Ｏ_２混合ガス（Ｏ_２＝１．０％）を導入し、圧力を０．３Ｐａに調整した。基板温度を５０℃、投入電力密度１Ｗ／ｃｍ^２で、ＤＣスパッタリングを行ない、厚み１５ｎｍの酸化スズを約１０質量％含有する酸化インジウム・酸化スズ膜（ＩＴＯ）を中間層上に形成した。
【００６０】
このようにして得られた導電性フィルムＡの透明導電膜側の表面抵抗率を、４端子法にて測定した結果、４８５Ω／□であった。
得られた導電性フィルムＡの光の透過率は、４５０ｎｍ：９０．２％、５５０ｎｍ：９５．１％ ６５０ｎｍ：９３．１％であり、波長５５０ｎｍにおける透過率が非常に大きい高透過率導電性フィルムが得られた。
【００６１】
［実施例２］
高屈折率層、中間層を下記の通りに形成した以外は、実施例１と同じ方法で、導電性フィルムを作製した。
（高屈折率層、中間層の作製）
８０μｍの厚さのトリアセチルセルロースフィルム（ＴＡＣ−ＴＤ８０Ｕ、富士写真フィルム（株）製、屈折率１．４８、レターデーション値４ｎｍ）に、上記の塗布液Ａを、グラビアコーターを用いて塗布し、１００℃で２分間乾燥した。次に紫外線を照射して、塗布層を硬化させ、ハードコート層（屈折率：１．５１、膜厚：３μｍ）を形成した。
続いて、ハードコート層上に上記の塗布液Ｄをグラビアコーターを用いて塗布し、１００℃で乾燥した後、紫外線を照射して塗布層を硬化させ、高屈折率層（屈折率：１．６３、膜厚：４０ｎｍ）を設けた。
高屈折率層の上に、上記の塗布液Ａをグラビアコーターを用いて塗布し、１００℃で乾燥した後、紫外線を照射して塗布層を硬化させ、中間層（屈折率：１．５１、膜厚：８０ｎｍ）を設けた。このようにしてトリアセチルセルロース上に高屈折率層、中間層を作製した。
以上のハードコート層および高屈折率層、中間層は、支持体を一回送り出してから巻き取るまでの間の一工程中に連続で形成した。
【００６２】
このようにして得られた導電性フィルムＢの光の透過率は、４５０ｎｍ：９０．７％、５５０ｎｍ：９２．０％ ６５０ｎｍ：９１．５％であり、可視光の全領域で透過率の高いニュートラルな色味の高透過率導電性フィルムが得られた。
【００６３】
［実施例３］
透明導電膜の膜厚を１２ｎｍにした以外は実施例２と同じ方法で、導電性フィルムを作製した。
このようにして得られた導電性フィルムＣの透明導電膜側の表面抵抗率を、４端子法にて測定した結果、６９０Ω／□であった。
光の透過率は、４５０ｎｍ：９２．０％、５５０ｎｍ：９２．５％ ６５０ｎｍ：９２．０％であり、可視光の全領域で透過率の高いニュートラルな色味の高透過率導電性フィルムが得られた。
【００６４】
［比較例１］
高屈折率層、中間層を設けない以外は実施例１と同じ方法で、導電性フィルムを作製した。
このようにして得られた導電性フィルムＤの光の透過率は、４５０ｎｍ：８８．９％、５５０ｎｍ：８９．８％ ６５０ｎｍ：９０．８％であり、実施例１〜３と比較して、低い透過率となった。
【００６５】
［比較例２］
高屈折率層、中間層を設けない以外は実施例３と同じ方法で、導電性フィルムを作製した。
このようにして得られた導電性フィルムＥの透過率は４５０ｎｍ：８９．９％、５５０ｎｍ：９０．５％ ６５０ｎｍ：９１．３％であり、実施例１〜３と比較して、低い透過率となった。
【００６６】
＜アウタータイプタッチパネルの作製＞
［実施例４］
実施例１で作製した導電性フィルムＡのＩＴＯ上に、表面に２ｍｍピッチのドットスペーサーと両端部に銀電極を印刷し、下部基板を作製した。
また、トリアセチルセルロースの片面にハードコート層と反射防止層をこの順で設け、その反対面に実施例１と同じ方法でハードコート層、高屈折率層、中間層および透明導電膜（ＩＴＯ膜）を形成し、導電性フィルムＡ’を作製した。この導電性フィルムＡ’のＩＴＯ上に両端に銀電極を印刷し、上部基板を作製した。
それぞれの基板には銀電極印刷前に、透明導電膜と銀電極が接触してはいけないところに絶縁コート膜を印刷した。銀電極および絶縁コートはスクリーン印刷機にて印刷し、硬化を行った。
上記下部基板と上部基板を透明導電膜同士が対向するように接着し、その後、フレキシブル電極を取り付け、熱圧着にて固定した。この際、両基板の周囲に１００μｍ厚の絶縁性貼り合せ剤を挟んだ。
このようにしてタッチパネルＡ１を作製した。
【００６７】
［実施例５］
実施例２の導電性フィルムＢを用いた以外は実施例４と同じ方法で、タッチパネルＢ１を作製した。
【００６８】
［実施例６］
実施例３の導電性フィルムＣを用いた以外は実施例４と同じ方法で、タッチパネルＣ１を作製した。
【００６９】
［比較例３］
比較例１の導電性フィルムＤを用いた以外は実施例４と同じ方法で、タッチパネルＤ１を作製した。
【００７０】
［比較例４］
比較例２の導電性フィルムＥを用いた以外は実施例４と同じ方法で、タッチパネルＥ１を作製した。
【００７１】
＜インナータイプタッチパネルの作製＞
［実施例７］
（λ／４板の作製）
（第１配向膜の形成）
厚さ１００μｍ、幅５００ｍｍ、長さ５００ｍの光学的等方性ロール状トリアセチルセルロースフィルムを透明支持体として用いた。下記のコポリマー（１）の希釈液を透明支持体の片面に連続塗布して、厚さ０．５μｍの第１（直交型）配向膜を形成した。次いで、透明支持体の長手方向に対し右手１６°の方向に連続的にラビング処理を実施した。
【００７２】
【化６】

【００７３】
（第１光学異方性層の形成）
第１配向膜の上に、下記の組成の塗布液をバーコーターを用いて連続的に塗布し、乾燥および加熱（配向熟成）し、さらに紫外線照射して厚さ１．６μｍの第１光学的異方性層を形成した。第１光学的異方性層は、透明支持体の長手方向に対して７４°の方向に遅相軸を有していた。波長５５０ｎｍにおけるレターデーション値は２２５ｎｍであった。
【００７４】
（第１光学異方性層塗布液組成）
下記の棒状液晶性化合物（１） １４．５質量％
下記の増感剤 １．０質量％
下記の光重合開始剤 ３．０質量％
下記の水平配向促進剤 １．０質量％
メチルエチルケトン ８０．５質量％
【００７５】
【化７】

【００７６】
【化８】

【００７７】
【化９】

【００７８】
（第２配向膜の形成）
第１光学異方性層の上に、下記のコポリマー（２）の希釈液を連続塗布して、厚さ０．５μｍの第２（平行型）配向膜を形成した。次いで、透明支持体の長手方向に対し左手１６°の方向（第１光学異方性層の遅相軸に対して右手５８゜の方向）に連続的にラビング処理を実施した。
【００７９】
【化１０】

【００８０】
（第２光学異方性層の形成）
第２配向膜の上に、下記の組成の塗布液をバーコーターを用いて連続的に塗布、乾燥、および加熱（配向熟成）し、さらに紫外線照射して厚さ０．８μｍの第２光学的異方性層を形成し、λ／４板を作製した。第２光学的異方性層は、透明支持体の長手方向に対して左手１６°の方向に遅相軸を有していた。波長５５０ｎｍにおけるレターデーション値は１１３ｎｍであった。
【００８１】
（第２光学異方性層塗布液組成）
第１光学異方性層で用いた棒状液晶性化合物（１） １３．０質量％
第１光学異方性層で用いた増感剤 １．０質量％
第１光学異方性層で用いた光重合開始剤 ３．０質量％
第１光学異方性層で用いた水平配向促進剤 １．０質量％
メチルエチルケトン ８２．０質量％
【００８２】
（λ／４板としての評価）
作製したλ／４板に、光（測定波長は４５０ｎｍ、５５０ｎｍ、５９０ｎｍ）を照射し、通過した光の位相差（レターデーション値：Ｒｅ）を測定した。なお、レターデーション値の測定は、王子計測機器（株）製ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨを用いて行った。
測定した結果は次の通りである。
【００８３】

【００８４】
（透明導電膜付きλ／４板の作製）
上記λ／４板上の光学異方性層を塗布した側に３μｍ厚のアクリル系のハードコート層を形成し、ハードコート層上に実施例１と同じ方法で透明導電膜（ＩＴＯ）を形成した。
【００８５】
（上部基板の作製）
片面にハードコート層と反射防止膜を設けたトリアセチルセルロースフィルムの裏面（ハードコート層および反射防止膜を設けなかった面）と上記透明導電膜付λ／４板の透明導電膜を設けた面の反対側の面がそれぞれ偏光膜と接するように、透明導電膜付きλ／４板と反射防止層付きハードコートフィルムを同時に偏光膜に貼り付けた。貼り付ける方向は、偏光膜の透過軸と、第１光学異方性層の遅相軸とが、１５゜となるようにした。
このようにして、タッチパネル上部基板を作製した。
【００８６】
（タッチパネルの作製）
実施例１で作製した導電性フィルムＡのＩＴＯ上に、表面に２ｍｍピッチのドットスペーサーと両端部に銀電極を印刷し、下部基板を作製した。また、上記タッチパネル上部基板のＩＴＯ上に両端に銀電極を印刷した。それぞれの基板には銀電極印刷前に、透明導電膜と銀電極が接触してはいけないところに絶縁コート膜を印刷した。銀電極および絶縁コートはスクリーン印刷機にて印刷し、硬化を行った。上記下部基板と上部基板を透明導電膜同士が対向するように接着し、その後、フレキシブル電極を取り付け、熱圧着にて固定した。この際、両基板の周囲に１００μｍ厚の絶縁性貼り合せ剤を挟んだ。このようにしてタッチパネルＡ２を作製した。
【００８７】
［実施例８］
下部基板に実施例２で作製した導電性フィルムＢを用いた以外は、実施例７と同じ方法でタッチパネルＢ２を作製した。
【００８８】
［実施例９］
下部基板に実施例３で作製した導電性フィルムＣを用いた以外は、実施例７と同じ方法でタッチパネルＣ２を作製した。
【００８９】
［比較例５］
下部基板に比較例１で作製した導電性フィルムＤを用いた以外は、実施例７と同じ方法でタッチパネルＤ２を作製した。
【００９０】
［比較例６］
下部基板に比較例２で作製した導電性フィルムＥを用いた以外は、実施例７と同じ方法でタッチパネルＥ２を作製した。
【００９１】
＜アウタータイプタッチパネル付き反射型液晶表示装置の作製＞
［実施例１０］
ＴＮ型液晶セルを使用した、タッチパネル付き反射型液晶表示装置（パワーザウルスＭＩ−Ｃ１、シャープ（株）製）に設けられているタッチパネル部を取り外し、実施例４で作製したタッチパネルＡ１を取り付け、タッチパネル付き反射型液晶表示装置Ａ１を作製した。
【００９２】
［実施例１１］
実施例５で作製したタッチパネルＢ１を使用した以外は、実施例１０と同じ方法でタッチパネル付き反射型液晶表示装置Ｂ１を作製した。
【００９３】
［実施例１２］
実施例６で作製したタッチパネルＣ１を使用した以外は、実施例１０と同じ方法でタッチパネル付き反射型液晶表示装置Ｃ１を作製した。
【００９４】
［比較例７］
比較例３で作製したタッチパネルＤ１を使用した以外は、実施例１０と同じ方法でタッチパネル付き反射型液晶表示装置Ｄ１を作製した。
【００９５】
［比較例８］
比較例４で作製したタッチパネルＥ１を使用した以外は、実施例１０と同じ方法でタッチパネル付き反射型液晶表示装置Ｅ１を作製した。
【００９６】
アウタータイプタッチパネル付き反射型液晶表示装置Ａ１〜Ｅ１を比較したところ、本発明のＡ１〜Ｃ１はいずれもＤ１、Ｅ１と比較して明るい画像が得られ、視認性が向上した。また、導電性フィルムの透過率が高いほど、明るい画像が得られた。
【００９７】
＜インナータイプタッチパネル付き反射型液晶表示装置の作製＞
［実施例１３］
ＴＮ型液晶セルを使用した、タッチパネル付き反射型液晶表示装置（パワーザウルスＭＩ−Ｃ１、シャープ（株）製）に設けられているタッチパネル部を取り外し、偏光板と位相差板を剥がし、実施例７で作製したタッチパネルＡ２を取り付け、タッチパネル付き反射型液晶表示装置Ａ２を作製した。
【００９８】
［実施例１４］
実施例８で作製したタッチパネルＢ２を使用した以外は、実施例１３と同じ方法でタッチパネル付き反射型液晶表示装置Ｂ２を作製した。
【００９９】
［実施例１５］
実施例９で作製したタッチパネルＣ２を使用した以外は、実施例１３と同じ方法でタッチパネル付き反射型液晶表示装置Ｃ２を作製した。
【０１００】
［比較例９］
比較例５で作製したタッチパネルＤ２を使用した以外は、実施例１３と同じ方法でタッチパネル付き反射型液晶表示装置Ｄ２を作製した。
【０１０１】
［比較例１０］
比較例６で作製したタッチパネルＥ２を使用した以外は、実施例１０と同じ方法でタッチパネル付き反射型液晶表示装置Ｅ２を作製した。
【０１０２】
インナータイプタッチパネル付き反射型液晶表示装置Ａ２〜Ｅ２を比較した。インナータイプタッチパネルはいずれもアウタータイプタッチパネルと比較して、反射が低減し、コントラストが高く、視認性の良好な画像が得られた。また、本発明のＡ２〜Ｃ２はいずれもＤ２、Ｅ２と比較して明るい画像が得られ、視認性が向上した。また、導電性フィルムの透過率が高いほど、明るい画像が得られた。
【０１０３】
【発明の効果】
本発明の導電性フィルムは、可視光領域の透過率が高く、タッチパネルに用いると、画像透過性が高く、視認性が良化する。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明に係わる、インナータイプタッチパネル搭載表示装置の一例を示す概略断面図である。
【図２】本発明に係わる、アウタータイプタッチパネル搭載表示装置の一例を示す概略断面図である。
【符号の説明】
１ 液晶セル
２ ポリマーフィルム
３ ハードコート
４ 高屈折率層
５ 中間層
６ 透明導電膜
７ 透明導電膜
８ ハードコート層
９ λ／４板
１０ 偏光膜
１１ 保護膜
１２ ハードコート
１３ 反射防止膜
２０ 高透過率導電性フィルム（上部基板）
２１ 透明導電膜付円偏光板（下部基板）
２２ インナータイプタッチパネル
２３ インナータイプタッチパネル搭載液晶表示装置
５１ 液晶表示装置
５２ ポリマーフィルム
５３ ハードコート層
５４ 高屈折率層
５５ 中間層
５６ 透明導電膜
５７ 透明導電膜
５８ 中間層
５９ 高屈折率層
６０ ハードコート層
６１ ポリマーフィルム
６２ ハードコート層
６３ 反射防止膜
７０ 高透過率導電性フィルム（上部基板）
７１ 高透過率導電性フィルム（下部基板）
７２ アウタータイプタッチパネル
７３ アウタータイプタッチパネル搭載液晶表示装置

Claims (11)

1. ポリマーフィルムの少なくとも一方の面に、ポリマーフィルム側に隣接する層よりも屈折率の低い中間層が積層され、該中間層が積層された側の最表面に透明導電膜を有することを特徴とする高透過率導電性フィルム。
2. 中間層が、熱もしくは電離放射線硬化性の含フッ素硬化性樹脂および／または熱もしくは電離放射線硬化性の３官能以上の重合性基を有する硬化性樹脂を主体とする層であることを特徴とする請求項１に記載の高透過率導電性フィルム。
3. 中間層の屈折率ｎ２が１．３５〜１．６であることを特徴とする請求項１または２に記載の高透過率導電性フィルム。
4. ポリマーフィルムと中間層の間にポリマーフィルムより高い屈折率を持つ高屈折率層を有することを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の高透過率導電性フィルム。
5. 透明導電膜を形成した反対側の面に屈折率の異なる複数の層を有する反射防止構造を設けた請求項１〜４のいずれかに記載の高透過率導電性フィルム。
6. 波長５５０ｎｍにおける光の透過率が９０％以上であることを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載の高透過率導電性フィルム。
7. 透明導電膜の膜厚が５〜２００ｎｍで、抵抗値が２０００Ω／□以下であることを特徴とする請求項１〜６のいずれかに記載の高透過率導電性フィルム。
8. 高透過率導電性フィルムを構成する層のうち少なくとも中間層を含む２層以上の層は塗布法で形成され、かつ、２層以上の塗布層は、ポリマーフィルムを一回送り出してから巻き取るまでの間の一工程中に連続で形成されることを特徴とする請求項１〜７のいずれかに記載の高透過率導電性フィルムの製造方法。
9. 中間層に対して易接着処理を行うことを特徴とする請求項８に記載の高透過率導電性フィルムの製造方法。
10. 透明導電膜を有する上部基板および下部基板が、透明導電膜同士を向かい合わせて配置されてなるタッチパネルにおいて、少なくとも一方の基板が請求項１〜７のいずれかに記載の高透過率導電性フィルムであることを特徴とするタッチパネル。
11. 請求項１０に記載のタッチパネルを搭載したタッチパネル付き表示装置。

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