JP2008181100A - 光学積層体の製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】 帯電防止剤や微粒子等の機能性材料を基体に固着させるためのバインダー材料を使用することなく、得られる積層体において機能性材料が有する機能を充分に発揮することができる光学積層体及びその製造方法を提供する。
【解決手段】 基体上に、上記基体を膨潤又は溶解することが可能な溶剤と機能性材料とを含む組成物ａを塗布する工程（Ａ１）、乾燥する工程（Ａ２）、及び、上記塗布を行った基体上に、樹脂層を形成する工程（Ａ３）により光学積層体を得る。
【選択図】なし

Description

本発明は、光学積層体及びその製造方法に関する。

陰極線管表示装置（ＣＲＴ）、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）等の画像表示装置において、最表面には反射防止性、ハード性や透明性等の種々の機能を有する光学積層体が設けられている。

これまでに光学積層体は種々の構成のものが数多く提案されており、例えば、基体、帯電防止層、ハードコート層及び低屈折率層をこの順に積層したものや、基体、ハードコート層、高屈折率層及び低屈折率層を積層したもの等が示されている。

通常、基体上やハードコート層上に、帯電防止層、高屈折率層等の機能性層を形成する場合、帯電防止剤や微粒子等の機能性材料を、機能性材料に対し、バインダー材料に分散させなければ、塗布することや生産ラインで膜として固着させることが困難である。ここでバインダーとは、熱や電離放射線（ＵＶ、ＥＢなど）により架橋するようなモノマーやオリゴマー、プレポリマーなどの樹脂成分を表す。
このため、導電性や屈折率を調整するための機能性層を形成する場合、バインダー材料に機能性を発現する材料を分散し、溶剤等で濃度調整を行った塗布用の組成物を使用することが一般的である（例えば、特許文献１、２等）。

しかし、バインダー材料を使用して分散させた組成物を使用する場合、ポットライフが短い、複数の分散工程が必要である、分散安定性が低下する、ゲル化する、形成された塗膜の光学特性が経時的に変化する等、様々な問題が生じる。このため、バインダー材料の選択に労力を要し、新規材料の検討には長時間を要していた。

また、特許文献３には、基体に膨潤又は浸透する溶剤を必須要件とし、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）などで干渉縞を防止できる点が記載されている。そして、基体とハードコート層の界面近傍の屈折率が連続的に変化することが必須要件であることから、ハードコート材は、基体中に溶剤によって浸透していると推測される。
しかしながら、このように浸透してしまうと、機能性材料の機能を最大限に発揮することはできない。また、ハードコート（バインダー）が必須であるため、このバインダー中に機能性材料が存在していても、本願のようにバインダーを介さずに機能性材料が接触し、高機能を発現させることはできない。

特許文献４には、基体に膨潤又は浸透する溶剤を必須要件とし、ＴＡＣなどで、干渉縞を防止できる点が記載されている。ハードコート材をこのような溶剤で塗布することで、溶剤が基体を溶解しつつ樹脂層を形成するために、界面に微小な凹凸を不連続に形成することが可能になると記載されているが、この方法も特許文献３同様に、バインダーが必須であるため、機能性材料が高機能を発現させることができる方法とはいえない。

特許文献５記載の発明は、基体を溶解する溶剤を使用する工程を用いているが、溶剤と一緒に塗布する樹脂が、基体中に浸透することが必須である。よって、この案件の方法も、本発明とは異なり、又、透光性樹脂が必須であるため、機能性材料の機能を最大限に発揮できるような製品を得ることはできない。
特開２０００−９４５９０号公報 特開２００３−７５６０３号公報 特開２００３−１３１００７号公報 特開２００３−２０５５６３号公報 特開２００３−１２１６１８号公報

本発明は、上記に鑑み、帯電防止剤や微粒子等の機能性材料を基体へ密着、固定するためのバインダー材料を使用することなく得られる積層体において、機能性材料が有する機能を充分に発揮することができる光学積層体及びその製造方法を提供する。
すなわち、本発明の製造方法によって、機能性材料（帯電防止、屈折率制御など）の機能を最大限に発揮することができ、高機能を発現する光学積層体を得ることができる。

本発明の光学積層体は、基体の表面に形成された凹凸形状の凹部表面に、バインダーを介することなく互いに接触するように載置された機能性材料を有し、または、最小限度の分散剤を介するだけで、互いに接触する部分が多く載置された機能性材料を有し、さらに樹脂層を積層して形成した光学積層体である。

また、本発明の光学積層体は、基体が、単層、又は２層以上であり、あるいは、基体が、透明性基材である。また、本発明の光学積層体は、基体が、セルローストリアセテートである。

また、本発明の光学積層体は、機能性材料が、帯電防止剤又は高屈折率剤であり、あるいは、機能性材料が有機材料であって該有機材料の重量平均分子量が５,０００〜３００,０００である。そして、本発明の光学積層体は、機能性材料が無機材料であって、樹脂層が、ハードコート層又は低屈折率層である。

さらに、本発明は、基体上に、上記基体を膨潤又は溶解することが可能な溶剤と機能性材料を含む組成物ａを塗布する工程（Ａ１）、乾燥する工程（Ａ２）、及び、上記塗布を行った基体上に、樹脂層を形成する工程（Ａ３）を含むことを特徴とする光学積層体の製造方法及びその方法による光学積層体である。
本発明において、上記組成物ａの塗布後に、上記基体の表面に凹凸形状が形成されることが好ましい。

また本発明は、基体上に、上記基体を膨潤又は溶解することが可能な溶剤を塗布する工程（Ｂ１）、機能性材料と希釈溶剤とを含む組成物ｂを塗布する工程（Ｂ２）、乾燥する工程（Ｂ３）、及び、上記塗布を行った基体上に、樹脂層を形成する工程（Ｂ４）を含むことを特徴とする光学積層体の製造方法及びその方法により得られた光学積層体である。
本発明において、上記基体を膨潤又は溶解することが可能な溶剤の塗布後に、基体の表面に凹凸形状が形成されることが好ましい。

そして、本発明の光学積層体は、基体の表面に形成された凹凸形状の凹部表面に、バインダーを介することなく互いに接触するように載置された機能性材料を有し、さらに樹脂層を形成した光学積層体である。
上記の本発明において、上記基体が、単層、又は２層以上である。あるいは、透明性基材である。また、上記基体がセルローストリアセテートであり、上記基体を膨潤又は溶解することが可能な溶剤が重量平均分子量１００未満のエステル類及び／又はケトン類であることが好ましい。
本発明において、上記基体がセルローストリアセテートであり、上記基体を膨潤又は溶解することが可能な溶剤が、メチルエチルケトン、酢酸エチル、酢酸メチル、シクロヘキサノン及びシクロペンタノンからなる群より選択される少なくとも１種であることが好ましい。
本発明において、上記基体がセルローストリアセテートであり、上記基体を膨潤又は溶解することが可能な溶剤がシクロヘキサノンであることがより好ましい。
本発明において、上記基体が透明性基材であり、上記機能性材料が帯電防止剤であり、かつ、上記樹脂層がハードコート層であることが好ましい。
本発明において、上記基体が透明性基材であり、上記機能性材料が高屈折率剤であり、かつ、上記樹脂層が低屈折率層であることが好ましい。
以下に、本発明を詳細に説明する。

本発明の製造方法において工程（Ａ１）を行うことにより、使用した溶剤によって基体を膨潤又は溶解させることができるとともに、塗布した基体の表面上に機能性材料を載置することが可能となる。続いて、工程（Ａ２）によって溶剤を乾燥させた後、工程（Ａ３）において、組成物ａの塗布を行った基体上に、樹脂層を形成する。これにより、基体上に存在している機能性材料を樹脂層で被覆して、基体上に固定させることができる。その結果、基体及び樹脂層間に機能性材料が挟まれ、固定された構成を有する光学積層体が得られ、この光学積層体は、機能性材料が持つ機能を充分に発揮することができる。

また、本発明の製造方法において工程（Ｂ１）を行うことにより、使用した溶剤によって基体を膨潤又は溶解させることができる。次に、工程（Ｂ２）において組成物ｂを塗布することにより、溶剤の塗布を行った基体上に機能性材料を載置することができる。
更に、工程（Ｂ３）及び（Ｂ４）を行うことにより、工程（Ａ２）及び（Ａ３）と同様、基体上に存在している機能性材料を樹脂層で被覆して、基体上に固定することができる。その結果、得られる光学積層体において、機能性材料が持つ機能を充分に発揮させることができる。

本発明にいう載置とは、基体が溶剤によって溶解又は膨潤した際にも、それによって機能性材料が基体中に埋没したり滲透せずに、機能性材料が、基体の表面に直接接していることを示す。但し、機能性材料の大きさと基体の構造により、基体中に入り込む部分が多少生じる場合もある。

本発明の製造方法において使用される組成物ａ及びｂは、バインダー成分を必須成分として含まないから、バインダー成分を用いることに起因する種々の不具合を防止することができる。また、バインダー材料にかかるコストを削減することができる。本発明でバインダーとは、熱や電離放射線により架橋、硬化する樹脂モノマー、オリゴマー、プレポリマーをいう。

本発明においては、無機又は有機物からなる機能性材料を、バインダーなしで基体に塗工する。
そして、機能性材料として有機材料を用いる場合、その重量平均分子量は、機能性材料を基体上へ良好に保持するために５,０００〜３００,０００の範囲が好ましい。
重量平均分子量が５,０００未満であると、機能層の上に積層する組成物に基体膨潤溶剤を用いるので、その溶剤によって基体中に入ってしまう可能性が高く、好ましい機能が得られない。一方、３００,０００を超えると、機能性は向上するがインキ化することが困難である。重量平均分子量の望ましい範囲は、機能性材料の溶剤への分散性と機能発現のバランスを考慮して、５０,０００〜１５０,０００である。

また、機能性材料として無機材料を用いる場合、該無機材料を溶剤に分散するために、無機材料に対し、０〜３０重量％の分散剤、好ましく１〜３０重量％、より好ましくは１０〜２５重量％を添加してもよい。分散手法と材料によっては、分散剤なしで溶剤に分散することも可能であるが、長期間にわたって塗工液の安定性を得るには、３０重量％以下の分散剤を添加するのが好ましい。すなわち、本発明は、機能性材料が無機材料である場合は、該無機材料を溶剤に分散するための分散剤を、組成物ａや組成物ｂに含む光学積層体の製造方法である。

本発明の機能性材料は、材料同士が直接接触した状態で基体に形成できる。つまり、従来の技術であれば、材料の間に多量のバインダーが入りこみ、直接接触する部分が少なくなるが、本発明によれば、材料の間にバインダーが入りこまないことによって、機能性材料の有する機能を、最大限に発揮することができる。

さらに、この機能性材料層の上には、オーバーコート層としての樹脂層が設けられるが、この樹脂層は、基体と直接接している機能性材料まで到達し、機能性材料が接触していない空隙部分のみを埋めることとなる。そして、その空隙部分を埋めながら、樹脂層は少なくとも基体表面に到達し接触する。その結果、基体と機能性材料が強固に固定される。オーバーコート層の樹脂層は、基体中に浸透してもしなくてもよい。

この方法により、バインダーを必要最小限にすることができる。基体は溶剤によって膨潤することで、図１、２のような凹凸形状を作ることが好ましい。
例えば機能性材料が無機の金属酸化物であった場合、基体とは、材料の有する水酸基などと化学結合を形成するなどして密着することになる。しかしながら、この密着性だけでは非常に弱く、実質的には生産不可能である。

これに対し、本発明は、凹凸形状により、化学結合のほかに物理的な結合を行うことから、高機能を有する製品を得ることができる。
また、凹部に載置された機能性材料は、バインダーを用いないため互いに隣接して接触し、良好な機能を発現する。この機能は凸部によって切断される部分もあるが、大部分の凹部と、小さな凸部には機能性材料が好適に載置され、機能性材料層の全体としては、材料があたかも互いに連接しているように良好な機能性も連続して形成される。

〔第１の光学積層体の製造方法〕
基体上に、基体を膨潤又は溶解することが可能な溶剤と機能性材料を含む組成物ａを塗布する工程（Ａ１）を行う。これにより、溶剤によって基体を膨潤又は溶解させることができ、塗布した基体の表面上に機能性材料を載置することができる。

上記工程（Ａ１）において、上記基体は、組成物ａを塗布して機能性材料を載置することが可能なもので、光透過性基材、ハードコート層等を挙げることができる。そして基体は、単層、又は２層以上で適宜構成される。
また、上記機能性材料としては、光学積層体に帯電防止等の特性を付与することができる材料であれば特に限定されず、例えば、帯電防止剤、高屈折率剤等を挙げることができる。

上記工程（Ａ１）において、上記基体を膨潤又は溶解することが可能な溶剤とは、基体に対して浸透性、膨潤性、湿潤性、溶解性等を有する溶剤であり、このような性質を有するものであれば特に限定されることなく用いることができる。

基体を膨潤又は溶解することが可能な溶剤として、ケトン類では、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、ジアセトンアルコール；エステル類では、蟻酸メチル、酢酸メチル、酢酸エチル、乳酸エチル；含窒素化合物では、ニトロメタン、アセトニトリル、Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルホルムアミド；グリコール類では、メチルグリコール、メチルグリコールアセテート；エーテル類では、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジオキソラン；ハロゲン化炭化水素では、塩化メチレン、クロロホルム、テトラクロルエタン；その他ジメチルスルホキシド、炭酸プロピレンなどが挙げられる。中でも、基体へ溶剤がアタックする強度と、溶剤の乾燥速度とのバランスがよく、かつ、生産性がよい溶剤として、シクロヘキサノンとメチルエチルケトンが好ましい。また、上記溶剤を一種または二種以上を混合したり、基体を膨潤又は溶解しない溶剤であるメタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、オクタノールなどのアルコール類；ベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベンゼンなどの芳香族炭化水素類などを全溶剤量の４割程度まで混合して用いることもできる。

上記組成物ａは、上記機能性材料、基体を膨潤又は溶解することが可能な溶剤等の成分を混合して分散処理することによって得ることができる。混合分散は、従来公知の方法によって行うことができ、ペイントシェーカー又はビーズミル等を使用することができる。
上記組成物ａを塗布する方法としては、ロールコート法、ミヤバーコート法、グラビアコート法等の塗布方法が挙げられる。

上記工程（Ａ１）において、上記組成物ａの塗布後に、基体の表面に凹凸形状が形成されることが好ましい。このような凹凸形状は、溶剤によって基体が膨潤又は溶解されるために形成される。凹凸形状が形成されると、工程（Ａ３）において、ロール等を用いてライン加工によって樹脂層を形成する際、ロール上に機能性材料が付着することを防止することができる。このような付着を防止できる理由は明らかではないが、機能性材料が凸部ではなく凹部に載置され、凸部のみがロール等の面に接触するためと推察される。

上記工程（Ａ１）の後、乾燥する工程（Ａ２）を行う。これにより、工程（Ａ１）で使用した溶剤等を乾燥、蒸発させることができる。
上記工程（Ａ２）における乾燥は、公知の方法により行うことができ、例えば、５０〜８０℃で３０〜６００秒間加熱する方法等を挙げることができる。

上記工程（Ａ２）の後、上記組成物ａの塗布を行った基体上（基体表面のうち、組成物ａの塗布を行った面上）に、樹脂層を形成する工程（Ａ３）を行う。これにより、基体上に存在している機能性材料を樹脂層で被覆、固定することができる。また、樹脂層は、基体に載置された機能性材料に接し、少なくとも機能性材料の空隙間を通過して基体にも接し、機能性材料を被覆するオーバーコート層としても機能する。すなわち、樹脂層は、オーバーコート層としても設置される。
そして上記樹脂層は、光学積層体における樹脂成分を含む層（基体以外の層）を意味し、例えば、ハードコート層、高屈折率層、低屈折率層等を挙げることができる。上記樹脂層は、従来公知の方法（樹脂成分を含む組成物の塗布等）により形成する。

なお、本発明において「樹脂」は、モノマー、オリゴマー、プレポリマー等の硬化性前駆体を、特別な記載がない限り包含する概念である。
上記工程（Ａ３）の後に、その他の層（低屈折率層等）を形成してもよい。

〔第２の光学積層体の製造方法〕
また、光学積層体の製造方法は、第１の工程として、基体上に、上記基体を膨潤又は溶解することが可能な溶剤を塗布する工程（Ｂ１）を行う。これにより、溶剤によって基体を膨潤又は溶解させることができる。

上記工程（Ｂ１）において、上記基体は、基体を膨潤又は溶解することが可能な溶剤を塗布することが可能なものであれば特に限定されず、上記第１の製造方法と同様、光透過性基材、ハードコート層等を挙げることができる。上記基体を膨潤又は溶解することが可能な溶剤は、上記第１の製造方法に記載した溶剤と同様、基体に対して浸透性、膨潤性、湿潤性、溶解性等を有する溶剤である。上記溶剤を塗布する方法としては、上記第１の製造方法と同様の塗布方法が挙げられる。

上記工程（Ｂ１）において、上記基体を膨潤又は溶解することが可能な溶剤の塗布後に、基体の表面に凹凸形状が形成されることが好ましい。この場合、工程（Ｂ４）において上記と同様の不具合を防止することができる。
上記工程（Ｂ１）の後、工程（Ｂ２）を行う前に、必要に応じて乾燥工程を行う。

上記工程（Ｂ１）の後、機能性材料と希釈溶剤とを含む組成物ｂを塗布する工程（Ｂ２）を行う。これにより、組成物ｂを塗布した基体の表面上に機能性材料を載置することができる。

上記工程（Ｂ１）において、上記機能性材料として、上記第１の製造方法と同様、帯電防止剤、高屈折率剤等を挙げることができる。
上記希釈溶剤として、組成物ｂに含まれる機能性材料を分散させることが可能な溶剤であれば特に限定されず、従来公知のものを使用することができる。希釈溶剤は、従来、基体に材料を固着させ、密着させて生産性を得るために、基体を溶解、膨潤させるような溶剤を選択することが必須であったが、本製法であれば、あえて溶剤を選択する必要がない。

機能性材料の機能を十分に発現するためには、基体中に機能性材料が入り込むことがなく、基体上に緻密に載置されることが好ましいから、むしろ基体を溶解、膨潤しないような溶剤を用いるのが好ましい。基体を溶解、膨潤しない溶剤を使用できることが、本製法の特徴でもある。

希釈溶剤例として、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、オクタノール等のアルコール類；ベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベンゼン等の芳香族炭化水素類；アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、シクロペンタノンを除いたメチルイソブチルケトン等のケトン類；その他、酢酸ブチル、γ−ブチロラクトン、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルジエチレングリコールモノブチルエーテルなどを適宜用いることができる。

溶剤は一種又は二種以上を混合して用いることができる。機能性材料が、有機系導電性材料である場合は、水系溶剤：水、又は、水に水溶性有機溶媒が混和している溶剤、水との親和性が良好な溶剤：アルコール系、グリコールエーテル系、ピロリドン系などが好ましい。
上記組成物ｂを塗布する方法として、上記第１の製造方法と同様の塗布方法が挙げられる。

上記工程（Ｂ２）の後、乾燥する工程（Ｂ３）を行う。これにより、工程（Ｂ２）で使用した希釈溶剤や工程（Ｂ１）で使用した基体を膨潤又は溶解する溶剤を乾燥、蒸発させることができる。
上記工程（Ｂ３）における乾燥の方法として、従来公知の方法で行うことができ、例えば、５０〜８０℃で３０〜６００秒間加熱する方法等を挙げることができる。

上記工程（Ｂ３）の後、上記組成物ｂの塗布を行った基体上（基体表面のうち、組成物ｂの塗布を行った面上）に、樹脂層を形成する工程（Ｂ４）を行う。これにより、基体上に存在している機能性材料を樹脂層で被覆、固定する。
上記樹脂層は、上記第１の製造方法と同様、ハードコート層、高屈折率層等を挙げることができる。上記樹脂層は、従来公知の方法（樹脂成分を含む組成物の塗布等）によって形成する。

以下に、本発明の第１及び第２の製造方法の態様を図を用いて具体的に説明するが、本発明の製造方法は、これらの構成の積層体の製造に限定されるわけではない。

本発明の製造方法によって、（１）光透過性基材１（基体）、ハードコート層２（樹脂層）及び低屈折率層３がこの順に積層され、光透過性基材１とハードコート層２との間に帯電防止剤４（機能性材料）が挟まれ、固定されたもの（図１）、（２）光透過性基材１、ハードコート層２（基体）及び低屈折率層３がこの順に積層され、ハードコート層２と低屈折率層３との間に高屈折率剤５が挟まれ、固定されたもの（図２）、を製造することができる。

これらの図に示されたとおり、凸部には、機能性材料がないか、少ない状態である。よって、この部位だけは、機能性材料が互いに接触していないことになる。しかしながら、凹部表面に載置された機能性材料同士の分子間力、クーロン力等により、凸部表面にも、機能性が付与されると推測され、そのため、得られる光学積層体の機能性は、良好に発現する。

なお、図１、２では、模式的に凹凸形状が均一であるようにあらわしたが、実際の形状は、図３のようにドーム状クレーターが大小様々、深さも様々でランダムである。大きめのクレーターは数百ｎｍ〜約２ｍｍの径を有し、更に凹凸表面全体に、細かなクレーターが多数存在している。深度は、数ｎｍ〜最大３μｍにもなる。

このように、不均一なクレーターがランダムに存在することで、１０ｎｍ〜５００ｎｍ程度の機能性材料をコーティングすることが可能となっている。一般に機能性材料は、１００ｎｍ以上コーティングするため、小さな凹凸は全て埋まり、その部分は、ほぼ均一に機能性材料が載置されると推測される。たとえ、小さなクレーターが機能性材料で埋まってしまっても、他に大きな凸部が存在するため、バインダーなしでも巻き取れるフィルムが生産できる。大きな凸部の機能については上記の理由で問題はないと考える。
また、ランダムな凹凸ではあるが、光学用のフィルムにとって重要な透過率やヘイズに影響を与えないレベルの大きさである。

一方、図４は、巻き取りでの好ましい生産ができない凹凸形状である。これも、ある程度のランダムな大小様々な凹凸形状である。しかし、深度差は最大でも約５００ｎｍで、図３にみられるような大きな深度差がなく、ドーム状のクレーターや、凹凸表面に細かなクレーターも存在しない。
したがって、物理的に機能性材料を保持できる形状を得るためには、基体を溶解、膨潤させる溶剤を選ぶことが重要である。

図１で示した光学積層体を得るための製造方法（上記第１の製造方法）は、光透過性基材（基体）上に、帯電防止剤（機能性材料）と上記光透過性基材を膨潤又は溶解することが可能な溶剤とを含む組成物ａを塗布する工程（Ａ１）、乾燥する工程（Ａ２）、及び、上記塗布を行った光透過性基材上に、ハードコート層（樹脂層）を形成する工程（Ａ３）を含む。
この製造方法においては、光透過性基材が上記基体に、帯電防止剤が上記機能性材料に、ハードコート層が上記樹脂層に該当する。上記工程（Ａ１）〜（Ａ３）は上述した方法によって行うことができる。図１で示した光学積層体は、上記工程（Ａ１）を行うことによって、光透過性基材（基体）の表面（ハードコート層側）に凹凸形状が形成されたものである。

上記光透過性基材は、平滑性、耐熱性を備え、機械的強度に優れたものが好ましい。上記光透過性基材を形成する材料として、アクリル（ポリメチルメタクリレート）、ポリエステル（ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート）、セルローストリアセテート、セルロースジアセテート、セルロースアセテートブチレート、ポリエステル、ポリアミド、ポリイミド、ポリエーテルスルフォン、ポリスルフォン、ポリプロピレン、ポリメチルペンテン、ポリ塩化ビニル、ポリビニルアセタール、ポリエーテルケトン、ポリメタクリル酸メチル、ポリカーボネート、又はポリウレタン等の熱可塑性樹脂が挙げられ、好ましくはポリエステル（ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート）、セルローストリアセテートが挙げられる。本発明の目的を好適に得られる点から、セルローストリアセテートが特に好ましい。

また、上記光透過性基材の他の例として、脂環構造を有した非晶質オレフィンポリマー（Ｃｙｃｌｏ−Ｏｌｅｆｉｎ−Ｐｏｌｙｍｅｒ：ＣＯＰ）フィルムもあり、これは、ノルボルネン系重合体、単環の環状オレフィン系重合体、環状共役ジエン系重合体、ビニル脂環式炭化水素系重合体樹脂等が用いられる基体で、例えば、日本ゼオン(株)製のゼオネックスやゼオノア（ノルボルネン系樹脂）、住友ベークライト(株)製 スミライトＦＳ−１７００、ＪＳＲ(株) アートン（変性ノルボルネン系樹脂）、三井化学(株) アペル（環状オレフィン共重合体）、Ｔｉｃｏｎａ社製のＴｏｐａｓ（環状オレフィン共重合体）、日立化成(株) オプトレッツＯＺ−１０００シリーズ（脂環式アクリル樹脂）等が挙げられる。
また、トリアセチルセルロースの代替基体として旭化成ケミカルズ(株)製のＦＶシリーズ（低複屈折率、低光弾性率フィルム）も好ましい。

上記光透過性基材は、上記熱可塑性樹脂柔軟性に富んだフィルム状体として使用することが好ましいが、硬化性が要求される使用態様に応じて、これら熱可塑性樹脂の板を使用することも可能であり、又は、ガラス板を使用してもよい。

上記光透過性基材の厚さは、２０μｍ以上３００μｍ以下であることが好ましく、より好ましくは上限が２００μｍであり、下限が３０μｍである。光透過性基材が板状体の場合にはこれらの厚さを超える厚さ、３００μｍ以上１ｃｍ以下であってもよい。基体は、その上にハードコート層等を形成するのに際して、接着性向上のために、コロナ放電処理、酸化処理等の物理的な処理のほか、アンカー剤もしくはプライマーと呼ばれる塗料の塗布を予め行ってもよい。上記光透過性基材の材質としては、可視光を透過するものであればよく、無色透明又は有色透明のいずれであってもよい。また半透明であってもよい。

上記帯電防止剤は、導電性を有するものであり、これを添加することにより、光学積層体表面への塵埃の付着や、帯電による工程内不良等を防止することができる。
上記帯電防止剤として、第４級アンモニウム塩、ピリジニウム塩、第１〜第３アミノ基等のカチオン性化合物；スルホン酸塩基、硫酸エステル塩基、リン酸エステル塩基、ホスホン酸塩基等のアニオン性化合物；アミノ酸系、アミノ硫酸エステル系等の両性化合物；アミノアルコール系、グリセリン系、ポリエチレングリコール系等のノニオン性化合物；スズ及びチタンのアルコキシドのような有機金属化合物；上記有機金属化合物のアセチルアセトナート塩のような金属キレート化合物等を挙げることができる。上記に列記した化合物を高分子量化した化合物も使用することができる。
また、第３級アミノ基、第４級アンモニウム基又は金属キレート部を有し、かつ、電離放射線により重合可能なモノマー又はオリゴマー又は官能基を有するカップリング剤のような有機金属化合物等の重合性化合物もまた帯電防止剤として使用できる。

上記帯電防止剤としては、導電性ポリマーも挙げることができる。導電性ポリマーとして、芳香族共役系のポリ（パラフェニレン）、複素環式共役系のポリピロール、ポリチオフェン、脂肪族共役系のポリアセチレン、含ヘテロ原子共役系のポリアニリン、混合型共役系のポリ（フェニレンビニレン）、分子中に複数の共役鎖を持つ共役系である複鎖型共役系、前述の共役高分子鎖を飽和高分子にグラフト又はブロック共重した高分子である導電性複合体等を挙げることができる。

上記帯電防止剤は、導電性金属酸化物微粒子であってもよい。上記導電性金属酸化物微粒子として、ＺｎＯ（屈折率１.９０、以下、カッコ内の値はすべて屈折率を表すものである。）、Ｓｂ₂Ｏ₂（１.７１）、ＳｎＯ₂（１.９９７）、ＣｅＯ₂（１.９５）、酸化インジウム錫（略称 ＩＴＯ；１.９５）、Ｉｎ₂Ｏ₃（２.００）、Ａｌ₂Ｏ₃（１.６３）、アンチモンドープ酸化錫（略称 ＡＴＯ；２.０）、アルミニウムドープ酸化亜鉛（略称 ＡＺＯ；２.０）等を挙げることができる。

微粒子とは、平均粒子径が１ミクロン以下の、いわゆるサブミクロンの大きさのものをいい、平均粒子径が０.１ｎｍ〜０.１μｍのものであることが超微粒子をバインダーに分散した折、ヘイズがほとんどない高透明な膜を形成できるインキを作製できるという観点からみて好ましい。上記導電性金属酸化物微粒子の平均粒子径は、動的光散乱法等によって測定することができる。

上記導電性金属酸化物微粒子など無機の機能性材料として超微粒子を用いる場合、塗工液は、長期間に渡って容易に保存できるように十分な分散安定性を有することが好ましい。超微粒子は、そのままでは凝集しやすいという問題があるが、当該超微粒子に対して良好な分散性を示す分散剤を使用することにより解決することができる。分散剤は、凝集する微粒子間に浸透しながら微粒子表面に吸着し、分散処理の過程で凝集状態をほぐしながら溶剤中への均一分散化を可能とする。

分散剤としては、アニオン系、ノニオン系、カチオン系いずれかのものも使用することができる。
分散剤の例としては、以下の式で表される化合物がある。

繰り返し数ｘ、ｙは、それぞれ１〜１２０の整数であり、式（１）の化合物の重量平均分子量は、１０００〜３００００であることが好ましい。

式（１）のような分散剤の市販品としては、花王(株)製：エマルゲン１０５、レオドールＳＰ−Ｏ１０、ネオペレックＮｏ.６；旭電化工業(株)製：アデカプルロニックＴＲ−７０１、ＴＲ−７０２、ＴＲ−７０４；楠本化成(株)：ＰＬＡＡＤ ＥＤ２１１等が挙げられる。

その他、ポリグリセリン脂肪酸エステル、ソルビタン脂肪酸エステル、ショ糖脂肪酸エステル等の高級脂肪酸エステルが用いられる。ポリグリセリン脂肪酸エステルでは、特にポリグリセリンはα位で縮合した直鎖状ポリグリセリン以外に一部β位で縮合した分岐状ポリグリセリンおよび環状ポリグリセリンを含有していてもよい。ポリグリセリン脂肪酸エステルを構成するポリグリセリンは、より良好な分散状態を得る上で、重量平均重合度が２〜２０程度が好ましいが、より好ましくは２〜１０程度である。脂肪酸としては、分岐状または直鎖状の飽和または不飽和脂肪酸が好ましく、たとえば、カプロン酸、エナンチル酸、カプリル酸、ノナン酸、カプリン酸、ラウリン酸、ミリスチン酸、ベヘニン酸、パルミチン酸、イイソステアリン酸、ステアリン酸、オレイン酸、イソノナン酸、アラキン酸などの脂肪族モノカルボン酸などが好ましく挙げられる。また、高級脂肪酸エステルとして用いられるポリグリセリン脂肪酸エステルの市販品としては、味の素ケミカル社製、アジスパー-PN-411やPA-111、阪本薬品工業社製のＳＹグリスターなどがある。

さらに、スルホン酸アミド系、ε−カプロラクトン系、ハロイドロステアリン酸系、ポリカルボン酸系、ポリエステル系など各種分散剤を使用することができる。アニオン性の極性基を有する分散剤としては、エチレンオキサイド鎖の骨格を有する主鎖にアニオン性の極性基からなる側鎖又はアニオン性の極性基を有する側鎖が結合した分子構造を有し、重量平均分子量が２,０００〜２０,０００の化合物が用いられる。アニオン性の極性基としては、例えば、カルボキシル基、リン酸基、水酸基などが該当する。具体的な市販品には、ソルパース３０００、９０００、１７０００、２００００、２４０００、４１０９０（以上、ゼネカ社製）、Disperbyk-１６１、−１６２、−１６３、−１６４、Disperbyk−１０８、１１０、１１１、１１２、１１６、１４０、１７０、１７１、１７４、１８０、１８２、２２０Ｓ（以上、ビックケミー社製）などが挙げられる。

分散溶剤は、第１の光学積層体の製造方法及び第２の光学積層体の製造方法で記載した溶剤を製造方法に合わせて適宜選択する。

機能性材料の分散方法としては、種種の分散方法で分散することができる。例えば、超音波ミル、ビーズミル、サンドミル、ディスクミルなどの粉砕機を用いるとよい。
最小限度の分散剤を使用することで、超微粒子分散性は安定し、塗膜面が滑らかで高透明な光学用途に適した状態にすることができる。この分散の折、バインダーを用いることはないので、光学用途に適した膜の状態で、最も互いの機能性材料同士が近い場所に位置することが可能になり、これによって、その材料の有する機能を最大限に発揮させることが可能になる。導電性機能性材料の場合は、表面抵抗値が、バインダーを介した従来の場合より、３桁〜６桁Ω／□（例えば１×１０¹²を１×１０⁶Ω／□へ）良好にできる。機能性材料に対し、分散剤は、０〜３０重量％添加することが好ましく、添加量は、少ないほど機能性材料が密着するので好ましい。

機能性材料が、有機系である場合には、一般には分散剤は必要ないが、使用したほうが光学性能が向上する場合には、用いてもよい。

上記光透過性基材を膨潤又は溶解することが可能な溶剤とは、光透過性基材に対する浸透性、膨潤性、湿潤性又は溶解性を有するものであり、例えば、ケトン類；（アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、ジアセトンアルコール）、エステル類；（蟻酸メチル、酢酸メチル、酢酸エチル）、含窒素化合物；ニトロメタン、アセトニトリル、Ｎ−メチルピロリドン、Ｎ,Ｎ−ジメチルホルムアミド、グリコール類；（エチレングリコール、プロピレングリコール）、エーテル類；（テトラヒドロフラン、１,４−ジオキサン、ジオキソラン、エチルプロピルエーテル）、ハロゲン化炭化水素；（塩化メチレン、クロロホルム）、グリコールエーテル類；（メチルセロソルブ、エチルセロソルブ）、その他、ジメチルスルホキシド、炭酸プロピレンが挙げられ、又はこれらの混合物が挙げられ、好ましくはエステル類、ケトン類；（酢酸メチル、酢酸エチル、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、シクロペンタノン）等が挙げられる。その他、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、ブタノール、イソブチルアルコール、２−メトキシエタノール等のアルコール類や、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、ケトン類、エステル類の中でも基材を膨潤、溶解しないようなメチルイソブチルケトンや酢酸ブチルも、上記溶剤と混合して用いる。

上記光透過性基材を膨潤又は溶解する溶剤は、使用する基材の種類に応じて選択するが、基材がセルローストリアセテートである場合は、エステル類、ケトン類が好ましい。
上記エステル類、ケトン類の溶剤の重量平均分子量は、１００未満であることが好ましく、５０〜１００であることがより好ましい。１００を超えると、基体への浸透性、膨潤性、溶解性が低下するおそれがある。

なかでもメチルエチルケトン、酢酸エチル、酢酸メチル、シクロヘキサノン、シクロペンタノンがより好ましく、基材へ溶剤がアタックする強度と、溶剤の乾燥速度とのバランスがよく、かつ、生産性がよい溶剤として、シクロヘキサノンが特に好ましい。この場合、上記光透過性基材が好適に膨潤又は溶解され、その結果、上記目的を良好に達成することができる。

上記製造方法（工程（Ａ３））で形成されるハードコート層は、透明性を有し、ハード性や防眩性等を付与するための層である。
上記ハードコート層は、帯電防止剤が載置された光透過性基材の表面に、樹脂組成物を含有するハードコート層形成用組成物を塗布することにより形成することができる。

上記樹脂組成物として、バインダー樹脂を使用することができる。
上記バインダー樹脂としては、透明性のものが好ましく、例えば、紫外線又は電子線により硬化する樹脂である電離放射線硬化型樹脂、電離放射線硬化型樹脂と溶剤乾燥型樹脂との混合物又は熱硬化型樹脂を挙げることができる。より好ましくは電離放射線硬化型樹脂である。

上記電離放射線硬化型樹脂として、アクリレート系の官能基を有する化合物等の１又は２以上の不飽和結合を有する化合物を挙げることができる。１の不飽和結合を有する化合物としては、例えば、エチル（メタ）アクリレート、エチルヘキシル（メタ）アクリレート、スチレン、メチルスチレン、Ｎ−ビニルピロリドン等を挙げることができる。２以上の不飽和結合を有する化合物としては、例えば、ポリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオール（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１,６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート等の多官能化合物と（メタ）アルリレート等の反応生成物（例えば多価アルコールのポリ（メタ）アクリレートエステル）、等を挙げることができる。なお、本明細書において「（メタ）アクリレート」は、メタクリレート及びアクリレートを指すものである。

上記化合物のほかに、不飽和二重結合を有する比較的低分子量のポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリチオールポリエン樹脂等も上記電離放射線硬化型樹脂として使用することができる。

上記電離放射線硬化型樹脂を紫外線硬化型樹脂として使用する場合には、光重合開始剤又は光重合促進剤を上記ハードコート層形成用組成物に添加することが好ましい。上記光重合開始剤としては、ラジカル重合性不飽和基を有する樹脂系の場合は、アセトフェノン類（例えば、商品名イルガキュア１８４（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）として市販されている１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン）、ベンゾフェノン類、チオキサントン類、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル等を単独又は混合して用いることができる。

また、カチオン重合性官能基を有する樹脂系の場合は、光重合開始剤として、芳香族ジアゾニウム塩、芳香族スルホニウム塩、芳香族ヨードニウム塩、メタセロン化合物、ベンゾインスルホン酸エステル等を単独又は混合物として用いることができる。
上記光重合開始剤の添加量は、上記電離放射線硬化型樹脂固形１００質量部に対し、０.１〜１０質量部であることが好ましい。

上記電離放射線硬化型樹脂は、溶剤乾燥型樹脂（塗布時に固形分を調整するために添加した溶剤を乾燥させるだけで、被膜となるような樹脂：ポリマー）と併用して使用することもできる。
上記電離放射線硬化型樹脂と併用して使用する溶剤乾燥型樹脂として、熱可塑性樹脂を使用することができる。溶剤乾燥型樹脂を併用することによって、塗布面の被膜欠陥を有効に防止することができ、これによってより優れた艶黒感を得ることができる。

上記熱可塑性樹脂として、スチレン系樹脂、（メタ）アクリル系樹脂、酢酸ビニル系樹脂、ビニルエーテル系樹脂、ハロゲン含有樹脂、脂環式オレフィン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、セルロース誘導体、シリコーン系樹脂及びゴム又はエラストマー等を挙げることができる。
上記熱可塑性樹脂は、非結晶性で、かつ有機溶媒（特に複数のポリマーや硬化性化合物を溶解可能な共通溶媒）に可溶であることが好ましい。特に、製膜性、透明性や耐候性のという観点から、スチレン系樹脂、（メタ）アクリル系樹脂、脂環式オレフィン系樹脂、ポリエステル系樹脂、セルロース誘導体（セルロースエステル類等）等が好ましい。

上記光透過性基材の材料が、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）等のセルロース系樹脂の場合、上記熱可塑性樹脂の好ましい具体例として、セルロース系樹脂、例えば、ニトロセルロース、アセチルセルロース、セルロースアセテートプロピオネート、エチルヒドロキシエチルセルロース等が挙げられる。セルロース系樹脂を用いることにより、上記光透過性基材等との密着性と透明性とを向上させることができる。

更に、アセチルセルロース、ニトロセルロース、アセチルブチルセルロース、エチルセルロース、メチルセルロース等のセルロース誘導体の他に、酢酸ビニル及びその共重合体、塩化ビニル及びその共重合体、塩化ビニリデン及びその共重合体等のビニル系樹脂、ポリビニルホルマール、ポリビニルブチラール等のアセタール樹脂、アクリル樹脂及びその共重合体、メタアクリル樹脂及びその共重合体等のアクリル系樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリアミド樹脂、ポリカーボネート樹脂等が挙げられる。

上記バインダー樹脂として使用できる熱硬化性樹脂としては、フェノール樹脂、尿素樹脂、ジアリルフタレート樹脂、メラニン樹脂、グアナミン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、エポキシ樹脂、アミノアルキッド樹脂、メラミン−尿素共縮合樹脂、ケイ素樹脂、ポリシロキサン樹脂等を挙げることができる。熱硬化性樹脂を用いる場合、必要に応じて、架橋剤、重合開始剤等の硬化剤、重合促進剤、溶剤、粘度調整剤等を併用して使用することもできる。

上記ハードコート層形成用組成物に含まれる塗布溶媒としては、ケトン類、エステル類、芳香族炭化水素類であることが好ましい。特に、ケトン系溶媒を用いることで、例えば、トリアセチルセルロース（光透過性基材）の表面とハードコート層との接着性が更に改良する。特に好ましい塗布溶媒は、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノンである。上記塗布溶媒は、ケトン系溶媒以外の溶媒を含んでいてもよい。

上記ハードコート層形成用組成物には、ハードコート層の硬度を高くする、硬化収縮を抑える、屈折率を制御する、防眩性を付与する等の目的に応じて、樹脂、無機微粒子、有機微粒子、分散剤、界面活性剤、帯電防止剤、シランカップリング剤、増粘剤、着色防止剤、着色剤（顔料、染料）、消泡剤、レベリング剤、難燃剤、紫外線吸収剤、接着付与剤、重合禁止剤、酸化防止剤、表面改質剤等を添加してもよい。

上記ハードコート層形成用組成物を塗布した後、乾燥及び活性エネルギー線照射によりハードコート層を形成することが好ましい。上記活性エネルギー線照射としては、紫外線又は電子線による照射を挙げることができる。

紫外線源として、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、低圧水銀灯、カーボンアーク灯、ブラックライト蛍光灯、メタルハライドランプ灯等の光源が挙げられる。紫外線の波長は、１９０〜３８０ｎｍの波長域を使用することができる。電子線源として、コッククロフトワルト型、バンデグラフト型、共振変圧器型、絶縁コア変圧器型、又は直線型、ダイナミトロン型、高周波型等の各種電子線加速器が挙げられる。

上記ハードコート層の層厚は、用途に応じて設計し、一般に０.１〜１００μｍであることが好ましく、０.８〜２０μｍであることがより好ましい。

上記ハードコート層の強度は、ＪＩＳ Ｋ５４００による鉛筆高度試験において、Ｈ以上であることが好ましく、２Ｈ以上であることがより好ましく、３Ｈ以上であることが更に好ましい。また、ＪＩＳ Ｋ５４００に従うテーバー試験で、試験前後の試験片の摩耗量が少ないほど好ましい。

図１に示した光学積層体は、ハードコート層（樹脂層）上に更に低屈折率層を有するものである。
上記低屈折率層は、上記ハードコート層よりも低い屈折率を有するものが好ましい。
本発明の好ましい態様によれば、ハードコート層の屈折率が１.５以上であり、低屈折率層の屈折率が１.５未満であり、好ましくは１.４５以下で構成されてなるものが好ましい。

上記低屈折率層は、１）シリカ又はフッ化マグネシウムを含有する樹脂、２）低屈折率樹脂であるフッ素系樹脂、３）シリカ又はフッ化マグネシウムを含有するフッ素系樹脂、４）シリカ又はフッ化マグネシウムの薄膜等のいずれかで構成されていてもよい。

上記フッ素系樹脂とは、少なくとも分子中にフッ素原子を含む重合性化合物又はその重合体である。重合性化合物は、電離放射線で硬化する官能基（電離放射線硬化性基）や熱で硬化する極性基（熱硬化性極性基）等の硬化反応性の基を有するものが好ましい。また、これらの反応性の基を同時に併せ持つ化合物でもよい。

フッ素原子を含有する電離放射線硬化性基を有する重合性化合物としては、エチレン性不飽和結合を有するフッ素含有モノマーを広く用いることができる。より具体的には、フルオロオレフィン類（例えばフルオロエチレン、ビニリデンフルオライド、テトラフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、パーフルオロブタジエン、パーフルオロ−２,２−ジメチル−１,３−ジオキソール等）を例示することができる。（メタ）アクリロイルオキシ基を有するものとして、２,２,２−トリフルオロエチル（メタ）アクリレート、２,２,３,３,３−ペンタフルオロプロピル（メタ）アクリレート、２−（パーフルオロブチル）エチル（メタ）アクリレート、２−（パーフルオロヘキシル）エチル（メタ）アクリレート、２−（パーフルオロオクチル）エチル（メタ）アクリレート、２−（パーフルオロデシル）エチル（メタ）アクリレート、α−トリフルオロメタクリル酸メチル、α−トリフルオロメタクリル酸エチルのような、分子中にフッ素原子を有する（メタ）アクリレート化合物；分子中に、フッ素原子を少なくとも３個持つ炭素数１〜１４のフルオロアルキル基、フルオロシクロアルキル基又はフルオロアルキレン基と、少なくとも２個の（メタ）アクリロイルオキシ基とを有する含フッ素多官能（メタ）アクリル酸エステル化合物等もある。

フッ素原子を含有する熱硬化性極性基を有する重合性化合物としては、４−フルオロエチレン−パーフルオロアルキルビニルエーテル共重合体；フルオロエチレン−炭化水素系ビニルエーテル共重合体；エポキシ、ポリウレタン、セルロース、フェノール、ポリイミド等の各樹脂のフッ素変性品等を例示することができる。上記熱硬化性極性基として、水酸基、カルボキシル基、アミノ基、エポキシ基等の水素結合形成基が好ましく挙げられる。これらは、塗膜との密着性だけでなく、シリカ等の無機超微粒子との親和性にも優れている。

電離放射線硬化性基と熱硬化性極性基とを併せ持つ重合性化合物（フッ素系樹脂）として、アクリル又はメタクリル酸の部分及び完全フッ素化アルキル、アルケニル、アリールエステル類、完全又は部分フッ素化ビニルエーテル類、完全又は部分フッ素化ビニルエステル類、完全又は部分フッ素化ビニルケトン類等を例示することができる。

フッ素原子を含有する上記重合性化合物の重合体として、上記電離放射線硬化性基を有する重合性化合物の含フッ素（メタ）アクリレート化合物を少なくとも１種類含むモノマー混合物の重合体；含フッ素（メタ）アクリレート化合物の少なくとも１種類と、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレートの如き分子中にフッ素原子を含まない（メタ）アクリレート化合物との共重合体；フルオロエチレン、フッ化ビニリデン、トリフルオロエチレン、クロロトリフルオロエチレン、３,３,３−トリフルオロプロピレン、１,１,２−トリクロロ−３,３,３−トリフルオロプロピレン、ヘキサフルオロプロピレンのような含フッ素モノマーの単独重合体又は共重合体；等が挙げられる。

また、これらの共重合体にシリコーン成分を含有させたシリコーン含有フッ化ビニリデン共重合体も、上記重合性化合物の重合体として用いることができる。この場合のシリコーン成分としては、（ポリ）ジメチルシロキサン、（ポリ）ジエチルシロキサン、（ポリ）ジフェニルシロキサン、（ポリ）メチルフェニルシロキサン、アルキル変性（ポリ）ジメチルシロキサン、アゾ基含有（ポリ）ジメチルシロキサンや、ジメチルシリコーン、フェニルメチルシリコーン、アルキル・アラルキル変性シリコーン、フルオロシリコーン、ポリエーテル変性シリコーン、脂肪酸エステル変性シリコーン、メチル水素シリコーン、シラノール基含有シリコーン、アルコキシ基含有シリコーン、フェノール基含有シリコーン、メタクリル変性シリコーン、アクリル変性シリコーン、アミノ変性シリコーン、カルボン酸変性シリコーン、カルビノール変性シリコーン、エポキシ変性シリコーン、メルカプト変性シリコーン、フッ素変性シリコーン、ポリエーテル変性シリコーン等が例示できる。中でもジメチルシロキサン構造を有するものが好ましい。

更に、分子中に少なくとも１個のイソシアナト基を有する含フッ素化合物と、アミノ基、ヒドロキシル基、カルボキシル基等のイソシアナト基と反応する官能基を分子中に少なくとも１個有する化合物とを反応させて得られる化合物；フッ素含有ポリエーテルポリオール、フッ素含有アルキルポリオール、フッ素含有ポリエステルポリオール、フッ素含有ε−カプロラクトン変性ポリオール等のフッ素含有ポリオールと、イソシアナト基を有する化合物とを反応させて得られる化合物；等も、フッ素系樹脂として用いることができる。

低屈折率層は、例えば原料成分を含む組成物（低屈折率層形成用組成物）を用いて形成することができる。より具体的には、原料成分（樹脂等）及び必要に応じて添加剤（例えば、後述の「空隙を有する微粒子」、重合開始剤、帯電防止剤、防眩剤等）を溶剤に溶解又は分散してなる溶液又は分散液を、低屈折率層形成用組成物として用い、上記組成物による塗膜を形成し、上記塗膜を硬化させることにより低屈折率層を得ることができる。なお、重合開始剤、帯電防止剤、防眩剤等の添加剤は、特に限定されず、公知のものを挙げることができる。

上記低屈折率層形成用組成物に含まれる溶剤は、低屈折率材料を溶解、分散可能なものであれば、適宜用いることができ、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、イソプロピルアルコール（ＩＰＡ）、ｎ−ブタノール、ｔ−ブタノール、ジエチルケトン、ＰＧＭＥ等である。

上記低屈折率層形成用組成物の調製方法は、成分を均一に混合できれば良く、従来公知の方法に従って実施すれば良い。例えば、上記組成物ａの調製で述べた方法によって調製することができる。

塗膜の形成方法は、公知の方法に従えば良い。例えば、上述したハードコート層の形成と同様の方法を用いることができる。得られた塗膜の硬化方法は、組成物の内容等に応じて適宜選択する。例えば、紫外線硬化型であれば、塗膜に紫外線を照射することにより硬化する。

上記低屈折率層においては、低屈折率剤として、空隙を有する微粒子を利用することが好ましい。空隙を有する微粒子はハードコート層の層強度を保持しつつ、その屈折率を下げることができる。本発明において、空隙を有する微粒子とは、微粒子の内部に気体が充填された構造及び／又は気体を含む多孔質構造体を形成し、微粒子本来の屈折率に比べて微粒子中の気体の占有率に反比例して屈折率が低下する微粒子を意味する。

また、本発明にあっては、微粒子の形態、構造、凝集状態、被膜内部での微粒子の分散状態により、内部、及び／又は表面の少なくとも一部にナノポーラス構造の形成が可能な微粒子も含まれる。この微粒子を使用した低屈折率層は、屈折率を１.３０〜１.４５に調節することが可能である。

空隙を有する無機系の微粒子としては、例えば、特開２００１−２３３６１１号公報に記載された方法によって調製されたシリカ微粒子を挙げることができる。特開平７−１３３１０５号公報、特開２００２−７９６１６号公報、特開２００６−１０６７１４号公報等に記載された製法によって得られるシリカ微粒子であってよい。空隙を有するシリカ微粒子は製造が容易でそれ自身の硬度が高いため、バインダーと混合して低屈折率層を形成した際に、その層強度を向上し、かつ、屈折率を１.２０〜１.４５程度の範囲内に調製する。
特に、空隙を有する有機系の微粒子として、特開２００２−８０５０３号公報で開示されている技術を用いて調製した中空ポリマー微粒子が挙げられる。

被膜の内部及び／又は表面の少なくとも一部にナノポーラス構造の形成が可能な微粒子としては先のシリカ微粒子に加え、比表面積を大きくすることを目的として製造され、充填用のカラム及び表面の多孔質部に各種化学物質を吸着させる除放材、触媒固定用に使用される多孔質微粒子又は断熱材や低誘電材に組み込むことを目的とする中空微粒子の分散体や凝集体を挙げることができる。
そのような具体的として、日本シリカ工業株式会社製の商品名ＮｉｐｓｉｌやＮｉｐｇｅｌの中から多孔質シリカ微粒子の集合体や、日産化学工業(株)製のシリカ微粒子が鎖状に繋がった構造を有するコロイダルシリカＵＰシリーズ（商品名）から、本発明の好ましい粒子径の範囲内のものを使用する。

空隙を有する微粒子の平均粒子径は、５ｎｍ以上３００ｎｍ以下であり、好ましくは下限が８ｎｍ以上であり上限が１００ｎｍ以下であり、より好ましくは下限が１０ｎｍ以上であり上限が８０ｎｍ以下である。微粒子の平均粒子径がこの範囲内にあることにより、ハードコート層に優れた透明性を付与する。
なお、本明細書において、粒子の平均粒子径は、動的光散乱法等の方法で測定した値である。空隙を有する微粒子は、上記低屈折率層中にマトリックス樹脂１００質量部に対して、通常０.１〜５００質量部程度、好ましくは１０〜２００質量部程度である。

低屈折率層の形成においては、上記低屈折率層形成用組成物の粘度を好ましい塗布性が得られる範囲である０.５〜５ｃｐｓ（２５℃）、好ましくは０.７〜３ｃｐｓ（２５℃）の範囲のものとする。これにより可視光線の優れた反射防止膜を実現でき、均一で塗布ムラのない薄膜を形成することができ、かつ基体に対する密着性に特に優れた低屈折率層を形成することができる。

樹脂の硬化手段は、上記の手段と同様でよい。硬化処理のために加熱手段が利用される場合には、加熱により、例えばラジカルを発生して、重合性化合物の重合を開始させる熱重合開始剤が、フッ素系樹脂組成物に添加されることが好ましい。

低屈折率層の膜厚（ｎｍ）ｄ_Aは、下記式（Ｉ）：
ｄ_A＝ｍλ／（４ｎ_A） （Ｉ）
（上記式中、
ｎ_Aは低屈折率層の屈折率を表し、
ｍは正の奇数を表し、好ましくは１を表し、
λは波長であり、好ましくは４８０〜５８０ｎｍの範囲の値である）
を満たすものが好ましい。

また、本発明にあっては、低屈折率層は下記数式（II）：
１２０＜ｎ_Aｄ_A＜１４５ （II）
を満たすことが低反射率化の点で好ましい。

図１で示した光学積層体が得られる製造方法（上記第２の製造方法）は、光透過性基材（基体）上に、上記光透過性基材を膨潤又は溶解することが可能な溶剤を塗布する工程（Ｂ１）、帯電防止剤（機能性材料）と希釈溶剤とを含む組成物ｂを塗布する工程（Ｂ２）、乾燥する工程（Ｂ３）、及び、上記塗布を行った光透過性基材上に、ハードコート層（樹脂層）を形成する工程（Ｂ４）を含むものである。この製造方法においては、光透過性基材が上記基体に、帯電防止剤が上記機能性材料に、ハードコート層が上記樹脂層に該当する。上記工程（Ｂ１）〜（Ｂ４）は上述した方法によって行うことができる。
上記光透過性基材、光透過性基材を膨潤又は溶解することが可能な溶剤、帯電防止剤、ハードコート層は、上述したものと同様である。

図２で示した光学積層体を得る製造方法（上記第１の製造方法）は、光透過性基材に形成されたハードコート層（基体）上に、上記ハードコート層を膨潤又は溶解することが可能な溶剤と高屈折率剤（機能性材料）とを含む組成物ａを塗布する工程（Ａ１）、乾燥する工程（Ａ２）、及び、上記塗布を行ったハードコート層上に、低屈折率層（樹脂層）を形成する工程（Ａ３）を含む。
この製造方法においては、光透過性基材／ハードコート層の２層が上記基体に、高屈折率剤が上記機能性材料に、低屈折率層が上記樹脂層に該当する。上記工程（Ａ１）〜（Ａ３）は上述した方法によって行うことができる。図２で示した光学積層体は、上記工程（Ａ１）を行うことによって、光透過性基材／ハードコート層（基体）の表面（低屈折率層側）に凹凸形状が形成されたものである。
上記光透過性基材、ハードコート層、低屈折率層は、上述したものと同様である。
上記高屈折率剤としては、従来公知の高屈折率超微粒子（好ましくは屈折率が１.５以上の超微粒子）を挙げることができる。

屈折率が１.５以上の超微粒子としては、例えば、ＺｎＯ（屈折率１.９０、以下カッコ内の数値は屈折率を表す。）、ＴｉＯ₂（２.３〜２.７）、ＣｅＯ₂（１.９５）、Ｓｂ₂Ｏ₅（１.７１）、ＳｎＯ₂（１.９９７）、ＩＴＯと略して呼ばれることの多い酸化インジウム錫（１.９５）、アンチモンドープの酸化インジウム錫、Ｉｎ₂Ｏ₃（２.００）、Ｙ₂Ｏ₃（１.８７）、Ｌａ₂Ｏ₃（１.９５）、Ａｌ₂Ｏ₃（１.６３）、ＨｆＯ₂（２.００）、ＺｒＯ₂（２.０５）等の酸化物を挙げることができる。
なかでも、ＴｉＯ₂を用いると、屈折率の制御のために必要な超微粒子の添加量が少なくて済む利点がある。また、ＺｒＯ₂を用いると、ＺｒＯ₂は光学不活性であるため、耐光性、耐湿熱性が非常に良好となり、特に好ましい。
上記屈折率が１.５以上の酸化物の超微粒子は、その平均粒子径が２〜１００ｎｍのものが好ましく、より好ましくは５〜３０ｎｍである。

高屈折率超微粒子は、上記した分散剤を適宜用いることで、より長期的に安定な塗工組成物を得ることができる。最小限度の分散剤で、超微粒子分散性は安定し、塗膜面が滑らかで高透明な光学用途に適した状態にすることができる。この分散の際に、バインダーを用いることはないので、光学用途に適した膜の状態で、互いの機能性材料同士が最も近い場所に位置することが可能になり、これによって、その材料の有する機能を最大限に発揮する。溶剤も、上記した溶剤と同様のものが使用でき、分散方法も上記した一般的な方法を用いることができる。

上記ハードコート層を膨潤又は溶解することが可能な溶剤は、ハードコート層に対する浸透性、膨潤性、湿潤性又は溶解性を有するものであればよく、イソプロピルアルコール、メタノール、エタノール、ｎ−ブタノール、ｔ−ブタノール等のアルコール類；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、シクロペンタノン等のケトン類；酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、蟻酸メチル等のエステル類；ハロゲン化炭化水素；トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素；又はこれらの混合物溶剤等を挙げることができる。
ハードコート層に対する浸透性、膨潤性、溶解性のない溶剤も、混合して用いることができる。

図１で示した光学積層体の製造方法（上記第２の製造方法）は、光透過性基材に形成されたハードコート層（基体）上に、上記ハードコート層を膨潤又は溶解する溶剤を塗布する工程（Ｂ１）、高屈折率剤（機能性材料）と希釈溶剤とを含む組成物ｂを塗布する工程（Ｂ２）、乾燥する工程（Ｂ３）、及び、上記塗布を行ったハードコート層上に、低屈折率層（樹脂層）を形成する工程（Ｂ４）を含むものである。
この製造方法においては、光透過性基材／ハードコート層の２層が上記基体に、高屈折率剤が上記機能性材料に、低屈折率層が上記樹脂層に該当する。上記工程（Ｂ１）〜（Ｂ４）は上述した方法によって行うことができる。
上記光透過性基材、ハードコート層、ハードコート層表面を膨潤又は溶解することが可能な溶剤、高屈折率剤、希釈溶剤、低屈折率層は、上述したものと同様である。

本発明の製造方法は、以上に述べた工程を含むものであるが、任意の層として防汚染層、中屈折率層等を形成する工程を含んでもよい。上記防汚染層、中屈折率層は、一般に使用される防汚染剤、中屈折率剤、樹脂等を添加した組成物を調製し、それぞれの層を公知の方法により形成する。

本発明の製造方法は、例えば、光透過性基材／ハードコート層（２層基体）及び防汚染層（樹脂層）がこの順に積層され、ハードコート層と防汚染層との間に低屈折率剤（機能性材料）が挟まれ、固定されたものの製造や、光透過性基材／ハードコート層（２層基体）、高屈折率層（樹脂層）及び低屈折率層がこの順に積層され、ハードコート層と高屈折率層との間に中屈折率剤（機能性材料）が挟まれ、固定されたものの製造や、光透過性基材／ハードコート層／中屈折率層（３層基体）及び低屈折率層（樹脂層）がこの順に積層され、中屈折率層と低屈折率層との間に高屈折率剤（機能性材料）が挟まれ、固定されたものの製造等にも適用することができる。

本発明の製造方法によって得られる光学積層体の可視光透過率は、７０％以上であることが好ましい。７０％未満であると、透明性が確保されないため、ディスプレイ画面等に装着した際に、輝度や色再現性に悪影響を及ぼすおそれがある。上記可視光透過率は、８０％以上であることがより好ましく、９０％以上であることが更に好ましい。

偏光素子の表面に、本発明の製造方法によって得られる光学積層体に設けることによって、偏光板とすることができる。このような偏光板も、本発明の一つである。
上記偏光素子としては特に限定されず、例えば、ヨウ素等により染色し、延伸したポリビニルアルコールフィルム、ポリビニルホルマールフィルム、ポリビニルアセタールフィルム、エチレン−酢酸ビニル共重合体系ケン化フィルム等を使用することができる。
上記偏光素子と本発明の光学積層体とのラミネート処理においては、光透過性基材（好ましくは、トリアセチルセルロースフィルム）にケン化処理を行うことが好ましい。ケン化処理によって、接着性が良好になり帯電防止効果も得ることができる。

本発明は、最表面に上記光学積層体又は上記偏光板を備えてなる画像表示装置でもある。上記画像表示装置は、ＬＣＤ等の非自発光型画像表示装置であっても、ＰＤＰ、ＦＥＤ、ＥＬＤ（有機ＥＬ、無機ＥＬ）、ＣＲＴ等の自発光型画像表示装置であってもよい。

上記非自発発光型の代表的な例であるＬＣＤは、透過性表示体と、上記透過性表示体を背面から照射する光源装置とを備えてなるものである。本発明の画像表示装置がＬＣＤである場合、この透過性表示体の表面に、本発明の光学積層体又は本発明の偏光板が形成される。

本発明が上記光学積層体を有する液晶表示装置の場合、光源装置の光源は光学積層体の下側から照射される。なお、ＳＴＮ型の液晶表示装置には、液晶表示素子と偏光板との間に、位相差板が挿入されてよい。この液晶表示装置の各層間には必要に応じて接着剤層が設けられてよい。

上記自発発光型画像表示装置であるＰＤＰは、表面ガラス基板（表面に電極を形成）と当該表面ガラス基板に対向して間に放電ガスが封入されて配置された背面ガラス基板（電極および、微小な溝を表面に形成し、溝内に赤、緑、青の蛍光体層を形成）とを備えている。本発明の画像表示装置がＰＤＰである場合、上記表面ガラス基板の表面、又はその前面板（ガラス基板又はフィルム基板）に上述の光学積層体を備える。

上記自発発光型画像表示装置は、電圧をかけると発光する硫化亜鉛、ジアミン類物質：発光体をガラス基板に蒸着し、基板にかける電圧を制御して表示を行なうＥＬＤ装置、又は、電気信号を光に変換し、人間の目に見える像を発生させるＣＲＴなどの画像表示装置であってもよい。この場合、上記のような各表示装置の最表面又はその前面板の表面に上述した光学積層体を備えるものである。

本発明の画像表示装置は、いずれの場合も、テレビジョン、コンピュータ、ワードプロセッサなどのディスプレイ表示に使用することができる。特に、ＣＲＴ、液晶パネル、ＰＤＰ、ＥＬＤ、ＦＥＤなどの高精細画像用ディスプレイの表面に好適に使用することができる。

本発明の光学積層体及びその製造方法は、帯電防止剤や微粒子等の機能性材料を基体へ密着、固定させるためのバインダー材料を使用することがないため、得られた積層体において機能性材料が有する機能を充分に発揮することができる。すなわち、本発明によって、機能性材料（帯電防止、屈折率制御など）の機能を最大限に発揮することができ、高機能を発現する光学積層体を得ることができる。

そして本発明の光学積層体は、機能性材料の間にバインダーが入りこまないことから、良好な帯電防止性等の機能を発揮し、かつ自然な色調、特に黒色を好適に実現することができる。従って、本発明の光学積層体は、陰極線管表示装置（ＣＲＴ）、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）等に好適に適用することができる。

以下、本発明を実施例に基づいて説明する。

本発明の内容を下記の実施例により説明するが、本発明の内容はこれらの実施態様に限定して解釈されるものではない。特別に断りの無い限り、「部」及び「％」は質量基準である。

［実施例１］
光透過性基材（基体）として、富士写真フイルム株式会社製トリアセチルセルロースフィルム（８０μｍ厚）を用い、グラビアコーターにより、シクロヘキサノン溶剤をコーティングした後、７０℃の送風オーブン中で２分間乾燥、溶剤除去することにより、溶剤処理フィルムを得て巻き取った。白色干渉式段差計（Ｚｙｇｏ社製ＮｅｗＶｉｅｗ５０００型）にて表面形状を観察した結果、深さ約１００ｎｍ〜数μｍのドーム形状部が一面に形成されていることが分かった（図３）。

帯電防止膜形成用組成物
下記成分を均一に混合させて帯電防止膜形成組成物を調整した。
・ＡＴＯ粒子（石原テクノ(株)社製、製品名「ＳＮ−１００Ｐ」）：１００質量部
・分散剤（ビックケミー・ジャパン製、製品名「ディスパービック １６３」）：１０質 量部
・酢酸ブチル：９９０質量部

上記巻き取りフィルム上に、グラビアコーターにより、上記組成物を均一に分散して調整した、バインダーを含有しない帯電防止膜用組成物（機能性材料）を、あらかじめ求めておいた乾燥膜厚約５００ｎｍに積層する条件でコーティングした。７０℃の送風オーブン中で３０秒間乾燥、溶剤除去することにより、ＡＴＯ粒子を載置した巻き取りフィルムを得た。ＡＴＯは、基体に固着しており、塗工面が接触する基体の背面を汚すことなく巻き取ることができた。なお、上記の「あらかじめ求めておいた」とは、５０μｍ高透明ＰＥＴ基材に組成物をコーティングし、あらかじめどのような場合に膜厚が５００ｎｍにできるかという、グラビアコーティングの塗工条件を決めておいて、実際の基体へコーティングすることを意味する。
さらに、下記組成を均一に混合溶解し調製したハードコート層形成用組成物（樹脂層）を得られたフィルム上にグラビアコーティングし、乾燥により溶剤を除去した後、紫外線照射装置（フュージョンＵＶシステムジャパン(株)、光源Ｈバルブ）を用いて、照射線量１００ｍＪ／ｃｍ² で紫外線照射を行い硬化させて、塗膜５μｍのハードコート層を形成し帯電防止機能を有する光学積層体の巻き取りを得た。
形成された光学積層体の、層界面密着性を、テープ剥離試験により評価した結果、界面等で剥離することなく、充分な密着性が確保できていることが分かった。また、表面への埃付着性がないことを確認し、ＡＴＯ分散体添加による帯電防止性能が発現していることが分かった。

ハードコート層形成用組成物
下記成分を均一に混合溶解させてハードコート層形成組成物を調製した。
・ペンタエリスリトールトリアクリレート（日本化薬社製、製品名「ＰＥＴ３０」）：
１００質量部
・トルエン：４３質量部
・レベリング剤（大日本インキ化学工業社製、商品名「ＭＣＦ−３５０−５」）：２質量 部
・重合開始剤（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製、商品名「Ｉｒｇａｃｕｒｅ１８４」）：４質量部

［実施例２］
光透過性基材（基体）として、富士写真フィルム株式会社製トリアセチルセルロースフィルム（８０μｍ厚）上に、グラビアコーターにより、ポリチオフェン系帯電防止機能層形成インキ（出光テクノファイン社製、商品名「ＴＡ２０１０」）と、シクロヘキサノン溶剤を質量比率９：１で混合した塗布液（機能性材料）を、基体に、あらかじめ求めておいた乾燥膜厚約１００ｎｍ積層する条件でコーティングした後、７０℃の送風オーブン中で２分間乾燥、溶剤除去することにより、帯電防止機能性材料層を基体に載置した巻き取りを得た。ポリチオフェンは基体に固着しており、塗工面が接触する基体の背面を汚すことなく巻き取ることができた。
さらに、上記組成を均一に混合溶解させて調製したハードコート層形成用組成物（樹脂層）を、得られた帯電防止機能性材料層上にグラビアコーティングし、乾燥により溶剤を除去した後、紫外線照射装置（フュージョンＵＶシステムジャパン(株)、光源Ｈバルブ）を用いて、照射線量１００ｍＪ／ｃｍ² で紫外線照射を行い硬化させて、塗膜５μｍのハードコート層を形成した光学積層体の巻き取りを得た。
形成された光学積層体の、層界面密着性を、テープ剥離試験により評価した結果、界面等で剥離することなく、充分な密着性が確保できていることが分かった。また、表面への埃付着性がないことを確認し、ポリチオフェンによる帯電防止性能が発現していることが分かった。

［実施例３］
実施例１と同様にして作製した基体に、機能性材料を積層した、ＡＴＯ粒子載置フィルム巻き取りの機能性材料層に、下記組成の低屈折率層形成組成物（樹脂層）を、あらかじめ求めておいた乾燥膜厚約１００ｎｍに積層する条件でグラビアコーティングし、乾燥により溶剤を除去した後、紫外線照射装置（フュージョンＵＶシステムジャパン(株)、光源Ｈバルブ）を用いて、照射線量１００ｍＪ／ｃｍ² で紫外線照射を行い硬化させて、低屈折率層を形成した巻き取りを得た。
形成された光学積層体の、層界面密着性を、テープ剥離試験により評価した結果、界面等で剥離することなく、十分な密着性が確保できていることが分かった。また、表面への埃付着性がないことを確認し、ＡＴＯ分散体添加による帯電防止性能が発現していること、反射防止性能が発現していることが分かった。

低屈折率層形成用組成物
下記成分を均一に混合溶解させて低屈折率層形成組成物を調製した。
・フッ素ポリマー（ダイキン工業社製、製品名「ＡＲ１１０」）：１００質量部
ＡＲ１１０はフッ素ポリマーをメチルイソブチルケトンで１５％に希釈した製品である。
・ペンタエリスリトールトリアクリレート（日本化薬社製、製品名「ＰＥＴ３０」）：
１５質量部
・メチルイソブチルケトン：２８０質量部
・ｎ−ブタノール：１７０質量部
・重合開始剤（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製、商品名「Ｉｒｇａｃｕｒｅ１８４」）：１.５質量部

［比較例１］
実施例１における、フィルム表面処理溶剤を、浸透、溶解性の高いシクロヘキサノン溶剤から、浸透、溶解性の低いメチルイソブチルケトン溶剤に代えたほかは、実施例１と同様にして溶剤処理巻き取りフィルムを作製した。
その表面を、白色干渉式段差計（Ｚｙｇｏ社製ＮｅｗＶｉｅｗ５０００型）で表面形状を観察した結果、実施例１において確認されたドーム状のような起伏は確認されず、未処理の表面と変わらない表面状態を呈している（図４）。
この巻き取りフィルム上に、実施例１と同様にグラビアコーターにより帯電防止性分散液（機能性材料）を、あらかじめ求めておいた膜厚約５００ｎｍ積層する条件でコーティングし、乾燥、溶剤除去し、巻き取ったところ、基体にＡＴＯ粒子を載置することができなかった。そのため、塗工面が、巻き取り時に接触する基体の背面に接着して汚れ、次の工程を実施することができなかった。
実施例１、２、３と比較し、基体となるフィルム表面に適度な凹凸を形成できない場合には、機能性材料層にバインダーがない状態では生産適性がないことがわかった。
すなわち、通常の基体には、本願のような凹凸は存在しないから、従来の機能性材料の組成物は、バインダーを必須としている。

［実施例４］
光透過性基材（基体）として、富士写真フイルム株式会社製トリアセチルセルロースフィルム（８０μｍ厚）を用い、グラビアコーターにより、シクロヘキサノン溶剤をコーティングした後、７０℃の送風オーブン中で２分間乾燥、溶剤除去することにより、溶剤処理フィルムの巻き取りを得た。白色干渉式段差計（Ｚｙｇｏ社製ＮｅｗＶｉｅｗ５０００型）にて表面形状を観察した結果、深さ約１００ｎｍ〜数μｍのドーム形状部が一面に形成されていることが分かった。（図３）。

帯電防止膜形成用組成物
下記成分を均一に混合させて帯電防止膜形成組成物を調整した。
・ＡＴＯ粒子（石原テクノ(株)社製、製品名「ＳＮ−１００Ｐ」）：１００質量部
・分散剤（ビックケミー・ジャパン製、製品名「ディスパービック １６３」）：１０質 量部
・酢酸ブチル：９９０質量部

この処理フィルム上に、グラビアコーターにより、上記で調整したバインダーを含有しない帯電防止膜形成用組成物（機能性材料）を、あらかじめ求めておいた膜厚約２００ｎｍに積層する条件でコーティングし、７０℃の送風オーブン中で３０秒間乾燥、溶剤除去することにより、膜厚約２００ｎｍのＡＴＯ粒子載置フィルムの巻き取りを得た。帯電防止膜は、基体に固着しており、塗工面が接触する基体の背面を汚すことなく巻き取ることができた。さらに、下記組成を均一に混合溶解させて調製したハードコート層形成用組成物（樹脂層）をフィルム上にグラビアコーティングし、乾燥により溶剤を除去した後、紫外線照射装置（フュージョンＵＶシステムジャパン(株)、光源Ｈバルブ）を用いて、照射線量１００ｍJ／ｃｍ²で紫外線照射を行い硬化させて、塗膜１μｍのハードコート層を形成した光学積層体の巻き取りを得た。
形成された光学積層体の、層界面密着性を、テープ剥離試験により評価した結果、界面等で剥離することなく、充分な密着性が確保できていることが分かった。また、表面抵抗測定器（三菱化学(株)、Hiresta IP MCP-HT260）により表面抵抗値を確認した。

ハードコート層形成用組成物
下記成分を均一に混合させてハードコート層形成組成物を調整した。
・ペンタエリスリトールトリアクリレート（日本化薬社製、製品名「PET３０」）：１０ ０質量部
・トルエン：４３質量部
・レベリング剤（大日本インキ化学工業社製、製品名「MCF−３５０−５」）：２質量部
・重合開始剤（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製、製品名「Irgacure１８４」）： ４質量部

［実施例５]
高屈折率粒子膜形成用組成物
下記成分を均一に混合して高屈折率粒子膜形成組成物を調整した。
・ＺｒＯ₂粒子（シーアイ化成(株)社製）：１００質量部
・分散剤（ビックケミー・ジャパン製、製品名「ディスパービック １６３」）：１０質 量部
・トルエン：９９０質量部

実施例４と同様に表面処理を行ったフィルム基材上に、グラビアコーターにより、上記で調製したバインダーを含有しない高屈折率粒子膜形成組成物（機能性材料）を、あらかじめ求めておいた膜厚約１５０ｎｍに積層する条件でコーティングし、７０℃の送風オーブン中で３０秒間乾燥、溶剤除去することにより、膜厚約１５０ｎｍのＺｒＯ₂載置フィルム巻き取りを得た。高屈折率粒子膜は、基体に固着しており、塗工面が接触する基体の背面を汚すことなく巻き取ることができた。
さらに、実施例４で用いたものと同様のハードコート層形成用組成物（樹脂層）を、得られたフィルム上にグラビアコーティングし、乾燥により溶剤を除去した後、紫外線照射装置（フュージョンＵＶシステムジャパン(株)、光源Hバルブ）を用いて、照射線量１００ｍJ／ｃｍ²で紫外線照射を行い硬化させて、塗膜１μｍのハードコート層を形成した光学積層体の巻き取りを得た。
形成された光学積層体の、層界面密着性を、テープ剥離試験により評価した結果、界面等で剥離することなく、充分な密着性が確保できていることが分かった。また、ハードコート層を形成する前のＺｒＯ₂載置フィルムを分光エリプソメーター（ジョバン−イーボン社製、UVSEL）を用いて屈折率を測定した。

［比較例２］
実施例４における、帯電防止膜形成組成物をバインダーを含有する下記組成に変更し、あらかじめ求めておいた積層すべき膜厚を約３００ｎｍとした以外は、実施例４と同様にして、光学積層体の巻き取りを得た。実施例４との膜厚設定バランスは、膜中に存在する機能性材料の量がほぼ同等になるように設定した。

帯電防止膜形成用組成物
下記成分を均一に混合させて帯電防止膜形成組成物を調整した。
・ＡＴＯ粒子（石原テクノ(株)社製、製品名「ＳＮ−１００Ｐ」）：１００質量部
・バインダー：ペンタエリスリトールトリアクリレート（日本化薬社製、製品名「ＰＥＴ ３０」）：４０質量部
・分散剤（ビックケミー・ジャパン製、製品名「ディスパービック １６３」）：１０質 量部
・重合開始剤（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製、製品名「Irgacure１８４」）： ２質量部
・酢酸ブチル：１３５０質量部

形成された光学積層体の、層界面密着性を、テープ剥離試験により評価した結果、界面等で剥離することなく、充分な密着性が確保できていることが分かった。また、表面抵抗測定器（三菱化学(株)、Hiresta IP MCP-HT260）により表面抵抗値を確認した。
実施例４と比較し、帯電防止膜形成用組成物に、バインダーを含有した場合には、しない場合よりも表面抵抗値がかなり低下することがわかった。バインダーを含有しない場合には、帯電防止機能が良好なこともわかった。

［比較例３］
高屈折率粒子膜形成用組成物
下記成分を均一に混合させて高屈折率粒子膜形成組成物を調整した。
・ＺｒＯ₂粒子（シーアイ化成(株)社製）：１００質量部
・バインダー：ペンタエリスリトールトリアクリレート（日本化薬社製、製品名「ＰＥＴ ３０」）：４０質量部
・分散剤（ビックケミー・ジャパン製、製品名「ディスパービック １６３」）：１０質 量部
・重合開始剤（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製、製品名「Irgacure１８４」）： ２質量部
・トルエン：１３５０質量部

高屈折率粒子膜形成組成物をバインダーを含有する上記組成に変更し、あらかじめ求めておいた積層すべき膜厚を約２００ｎｍとした以外は、実施例５と同様にして、光学積層体の巻き取りを得た。実施例５との膜厚設定バランスは、膜中に存在する機能性材料の量がほぼ同等になるように設定した。
形成された光学積層体の層界面密着性を、テープ剥離試験により評価した結果、界面等で剥離することなく、充分な密着性が確保できていることが分かった。また、低屈折率層を形成する前のＺｒＯ₂載置フィルムを、分光エリプソメーター（ジョバン−イーボン社製、UVSEL）を用いて屈折率を測定した。
実施例５と比較し、高屈折率粒子膜形成用組成物にバインダーを含有した場合には、しない場合よりも屈折率がかなり低下することがわかった。バインダーを含有しない場合には、高屈折率機能が良好になることもわかった。

上記のとおり、実施例１〜５、比較例１〜３の結果より、バインダーなしで機能性膜を形成したほうが、良好な各機能性能が得られること、そのような膜を生産性よく製造するには、基体へ凹凸を形成することが有効であることがわかった。

さらに、本発明をより理解するために、本発明の製造方法によるサンプルのＴＥＭ（電子顕微鏡）断面写真（４万倍、図５参照）と、従来製造方法によるサンプルのＴＥＭ断面写真（４万倍、図６参照）を示す。
「本発明の製造方法」によるサンプルは、実施例４のハードコート層形成組成物に用いた溶剤をメチルエチルケトンに変更し、各層を形成する組成物の塗工を手でマイヤーバーを用いて塗工し、乾燥、硬化したものである。

また、「従来製造方法」によるサンプルは、同様に手塗工であり、比較例１のように基材を溶解しないメチルイソブチルケトン溶剤をマイヤーバー塗工した後、比較例２の帯電防止性組成物をマイヤーバー塗工し、乾燥、硬化した後、その上に実施例４のハードコート組成物をマイヤーバー塗工し、乾燥、硬化したものである。

ＴＥＭ断面観察は、サンプル片を樹脂包埋し切片を作製して観察した。観察は１万倍で実施し、その後、４万倍まで拡大して写真とした。
両サンプルは、帯電防止機能を発現する層中に存在する、帯電防止性機能材料であるＡＴＯ微粒子を同量に設定した。

そのため、図５、図６から明らかなように、バインダーのない本発明製造方法のサンプルの断面写真の帯電防止層は、膜厚が薄い。これに対し、バインダーのある従来製造方法のサンプルの断面写真は、膜厚が厚くなっている。

また、本発明の製造方法サンプルは、樹脂層を積層する場合に、ハードコート層形成組成物をメチルエチルケトン溶剤にてインキ化したが、透明基材中にハードコート層（樹脂層）を積層した浸透層が出現している。一方、従来製造方法のサンプルでは、樹脂層を酢酸ブチルでインキ化したが浸透層はない。そして、機能性材料の基体への載置に関しては、樹脂層の溶剤は影響しない。

本発明の製造方法のサンプルにおいて、樹脂層溶剤を、基体を溶解・膨潤させないものに変更した場合は、図６の基体のように浸透層がない基体断面が現れる。

本発明の製造方法では、基体を溶解または膨潤させる溶剤により、基体に適切な凹凸を形成することが重要である。図５により、基体が緩やかにカーブを描いている様子がわかる。また、凹部に多くの機能性材料が密に存在していることがわかる。凹凸の全体形態は、図３のとおりである。大きなクレーターと共に、微細なクレーターが多数ある構造でありながら、本発明で目指す光学フィルムに用いるための高透明性を維持できる程度の凹凸であるといえる。本発明のバインダーなしの組成物で、巻き取りを問題なく実施するためには、図３のような大きなクレーターの存在は必要であるものの、そのようなクレーターだけが存在したのでは高透明性は維持できない。

ＴＥＭにて断面を観察した切断面は、大きなクレーターのない面であった。よって、ゆるやかな凹凸の凸部上にも、機能性材料が密に薄い膜として存在する画面となっている。

本発明で形成される凹凸断面のほとんどは、このような形態であり、適度に大きなクレーターと大きな凸部が存在していると推測される。そしてそのような構造であるため、高い透明性を維持することができる。

一方、従来製造方法の図６を見ると、図５と比較して、明らかに基体には凹凸が見られない。また、図６はバインダーが多いために、機能性材料層の中に網目構造にバインダーが存在することが観察できる。

図５の本発明の場合は、バインダーを用いないため網目構造は見えず、機能性材料自身が密に積み重なった構造となっている。このように、明らかに緻密度の異なる膜となり、この緻密さが本発明の、高機能性、高帯電防止性を発現するための構造である。そして、本発明を用いた場合は、基体の凹凸形状と、そのうねり上に、機能性材料が緻密に存在することが観察できた。

本発明の製造方法によって得られる光学積層体は、陰極線管表示装置（ＣＲＴ）、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）等に好適に適用することができる。

本発明の製造方法によって得られる光学積層体の概要図の一例。 本発明の製造方法によって得られる光学積層体の概要図の一例。 実施例１にて作製した溶剤処理フィルム表面の観察結果図（図中における最大高低差は、約３μｍ）。 比較例１にて作製した溶剤処理フィルム表面の観察結果図（図中における最大高低差は、約５００ｎｍ）。 本発明の製造方法によって作製した溶剤処理フィルムの断面写真。 従来の製造方法によって作製した溶剤処理フィルムの断面写真。

符号の説明

１ 光透過性基材
２ ハードコート層
３ 低屈折率層
４ 帯電防止剤
５ 高屈折率剤

Claims (25)

1. 基体の表面に形成された凹凸形状の凹部表面に、バインダーを介することなく互いに接触するように載置された機能性材料を有し、さらに樹脂層を形成した光学積層体。
2. 基体が、単層、又は２層以上である請求項１記載の光学積層体。
3. 基体が、透明性基材である請求項１又は２記載の光学積層体。
4. 基体が、セルローストリアセテートである請求項１乃至３のいずれかに記載の光学積層体。
5. 機能性材料が、帯電防止剤又は高屈折率剤である請求項１乃至４のいずれかに記載の光学積層体。
6. 機能性材料が有機材料であり、該有機材料の重量平均分子量が５,０００〜３００,０００である請求項１乃至５のいずれかに記載の光学積層体。
7. 機能性材料が無機材料であり、該無機材料を溶剤に分散するための分散剤を、無機材料に対し１〜３０重量％有する請求項１乃至５のいずれかに記載の光学積層体。
8. 樹脂層が、ハードコート層又は低屈折率層である請求項１乃至７のいずれかに記載の光学積層体。
9. 基体上に、前記基体を膨潤又は溶解することが可能な溶剤と機能性材料からなる組成物ａを塗布する工程（Ａ１）、
   乾燥する工程（Ａ２）、及び、
   前記塗布を行った基体上に、樹脂層を形成する工程（Ａ３）
   を含むことを特徴とする光学積層体の製造方法。
10. 機能性材料が無機材料であり、該無機材料を溶剤に分散するための分散剤を、組成物ａに含む請求項９に記載の光学積層体の製造方法。
11. 組成物ａの塗布後に、基体の表面に凹凸形状が形成される請求項９又は１０記載の光学積層体の製造方法。
12. 基体上に、前記基体を膨潤又は溶解することが可能な溶剤を塗布する工程（Ｂ１）、
    機能性材料と希釈溶剤からなる組成物ｂを塗布する工程（Ｂ２）、
    乾燥する工程（Ｂ３）、及び、
    前記塗布を行った基体上に、樹脂層を形成する工程（Ｂ４）
    を含むことを特徴とする光学積層体の製造方法。
13. 機能性材料が無機材料であり、該無機材料を溶剤に分散するための分散剤を、組成物ｂに含む請求項１２に記載の光学積層体の製造方法。
14. 基体を膨潤又は溶解することが可能な溶剤の塗布後に、基体の表面に凹凸形状が形成される請求項１２又は１３記載の光学積層体の製造方法。
15. 基体が、単層、又は２層以上である請求項９乃至１４のいずれかに記載の光学積層体の製造方法。
16. 基体が、透明性基材である請求項９乃至１５のいずれかに記載の光学積層体の製造方法。
17. 基体が、セルローストリアセテートである請求項９乃至１６のいずれかに記載の光学積層体の製造方法。
18. 基体を膨潤又は溶解することが可能な溶剤が、重量平均分子量１００未満のエステル類及び／又はケトン類である請求項９乃至１７のいずれかに記載の光学積層体の製造方法。
19. 基体を膨潤又は溶解することが可能な溶剤が、メチルエチルケトン、酢酸エチル、酢酸メチル、シクロヘキサノン及びシクロペンタノンからなる群より選択される少なくとも１種である請求項９乃至１８のいずれかに記載の光学積層体の製造方法。
20. 機能性材料が、基体が溶剤によって膨潤又は溶解しても基体中に滲透あるいは埋没することなく、基体上に載置される請求項９乃至１９のいずれかに記載の光学積層体の製造方法。
21. 機能性材料が、帯電防止剤又は高屈折率剤である請求項９乃至２０のいずれかに記載の光学積層体の製造方法。
22. 機能性材料が、有機材料であり、該有機材料の重量平均分子量が５,０００〜３００,０００である請求項９乃至２１のいずれかに記載の光学積層体の製造方法。
23. 樹脂層が、基体に載置された機能性材料に接し、該機能性材料を被覆するオーバーコート層である請求項９乃至２２のいずれかに記載の光学積層体の製造方法。
24. 樹脂層が、ハードコート層又は低屈折率層である請求項９乃至２３のいずれかに記載の光学積層体の製造方法。
25. 請求項９乃至２４のいずれかに記載の製造方法により製造された光学積層体。

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