JP5380832B2 - 光学積層体の製造方法 - Google Patents
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Description
このため、導電性や屈折率を調整するための機能性層を形成する場合、バインダー材料に機能性を発現する材料を分散し、溶剤等で濃度調整を行った塗布用の組成物を使用することが一般的である(例えば、特許文献1、2等)。
しかしながら、このように浸透してしまうと、機能性材料の機能を最大限に発揮することはできない。また、ハードコート(バインダー)が必須であるため、このバインダー中に機能性材料が存在していても、本願のようにバインダーを介さずに機能性材料が接触し、高機能を発現させることはできない。
すなわち、本発明の製造方法によって、機能性材料(帯電防止、屈折率制御など)の機能を最大限に発揮することができ、高機能を発現する光学積層体を得ることができる。
本発明において、上記組成物aの塗布後に、上記基体の表面に凹凸形状が形成されることが好ましい。
本発明において、上記基体を膨潤又は溶解することが可能な溶剤の塗布後に、基体の表面に凹凸形状が形成されることが好ましい。
上記の本発明において、上記基体が、単層、又は2層以上である。あるいは、透明性基材である。また、上記基体がセルローストリアセテートであり、上記基体を膨潤又は溶解することが可能な溶剤が重量平均分子量100未満のエステル類及び/又はケトン類であることが好ましい。
本発明において、上記基体がセルローストリアセテートであり、上記基体を膨潤又は溶解することが可能な溶剤が、メチルエチルケトン、酢酸エチル、酢酸メチル、シクロヘキサノン及びシクロペンタノンからなる群より選択される少なくとも1種であることが好ましい。
本発明において、上記基体がセルローストリアセテートであり、上記基体を膨潤又は溶解することが可能な溶剤がシクロヘキサノンであることがより好ましい。
本発明において、上記基体が透明性基材であり、上記機能性材料が帯電防止剤であり、かつ、上記樹脂層がハードコート層であることが好ましい。
本発明において、上記基体が透明性基材であり、上記機能性材料が高屈折率剤であり、かつ、上記樹脂層が低屈折率層であることが好ましい。
以下に、本発明を詳細に説明する。
更に、工程(B3)及び(B4)を行うことにより、工程(A2)及び(A3)と同様、基体上に存在している機能性材料を樹脂層で被覆して、基体上に固定することができる。その結果、得られる光学積層体において、機能性材料が持つ機能を充分に発揮させることができる。
そして、機能性材料として有機材料を用いる場合、その重量平均分子量は、機能性材料を基体上へ良好に保持するために5,000〜300,000の範囲が好ましい。
重量平均分子量が5,000未満であると、機能層の上に積層する組成物に基体膨潤溶剤を用いるので、その溶剤によって基体中に入ってしまう可能性が高く、好ましい機能が得られない。一方、300,000を超えると、機能性は向上するがインキ化することが困難である。重量平均分子量の望ましい範囲は、機能性材料の溶剤への分散性と機能発現のバランスを考慮して、50,000〜150,000である。
例えば機能性材料が無機の金属酸化物であった場合、基体とは、材料の有する水酸基などと化学結合を形成するなどして密着することになる。しかしながら、この密着性だけでは非常に弱く、実質的には生産不可能である。
また、凹部に載置された機能性材料は、バインダーを用いないため互いに隣接して接触し、良好な機能を発現する。この機能は凸部によって切断される部分もあるが、大部分の凹部と、小さな凸部には機能性材料が好適に載置され、機能性材料層の全体としては、材料があたかも互いに連接しているように良好な機能性も連続して形成される。
基体上に、基体を膨潤又は溶解することが可能な溶剤と機能性材料を含む組成物aを塗布する工程(A1)を行う。これにより、溶剤によって基体を膨潤又は溶解させることができ、塗布した基体の表面上に機能性材料を載置することができる。
また、上記機能性材料としては、光学積層体に帯電防止等の特性を付与することができる材料であれば特に限定されず、例えば、帯電防止剤、高屈折率剤等を挙げることができる。
上記組成物aを塗布する方法としては、ロールコート法、ミヤバーコート法、グラビアコート法等の塗布方法が挙げられる。
上記工程(A2)における乾燥は、公知の方法により行うことができ、例えば、50〜80℃で30〜600秒間加熱する方法等を挙げることができる。
そして上記樹脂層は、光学積層体における樹脂成分を含む層(基体以外の層)を意味し、例えば、ハードコート層、高屈折率層、低屈折率層等を挙げることができる。上記樹脂層は、従来公知の方法(樹脂成分を含む組成物の塗布等)により形成する。
上記工程(A3)の後に、その他の層(低屈折率層等)を形成してもよい。
また、光学積層体の製造方法は、第1の工程として、基体上に、上記基体を膨潤又は溶解することが可能な溶剤を塗布する工程(B1)を行う。これにより、溶剤によって基体を膨潤又は溶解させることができる。
上記工程(B1)の後、工程(B2)を行う前に、必要に応じて乾燥工程を行う。
上記希釈溶剤として、組成物bに含まれる機能性材料を分散させることが可能な溶剤であれば特に限定されず、従来公知のものを使用することができる。希釈溶剤は、従来、基体に材料を固着させ、密着させて生産性を得るために、基体を溶解、膨潤させるような溶剤を選択することが必須であったが、本製法であれば、あえて溶剤を選択する必要がない。
上記組成物bを塗布する方法として、上記第1の製造方法と同様の塗布方法が挙げられる。
上記工程(B3)における乾燥の方法として、従来公知の方法で行うことができ、例えば、50〜80℃で30〜600秒間加熱する方法等を挙げることができる。
上記樹脂層は、上記第1の製造方法と同様、ハードコート層、高屈折率層等を挙げることができる。上記樹脂層は、従来公知の方法(樹脂成分を含む組成物の塗布等)によって形成する。
また、ランダムな凹凸ではあるが、光学用のフィルムにとって重要な透過率やヘイズに影響を与えないレベルの大きさである。
したがって、物理的に機能性材料を保持できる形状を得るためには、基体を溶解、膨潤させる溶剤を選ぶことが重要である。
この製造方法においては、光透過性基材が上記基体に、帯電防止剤が上記機能性材料に、ハードコート層が上記樹脂層に該当する。上記工程(A1)〜(A3)は上述した方法によって行うことができる。図1で示した光学積層体は、上記工程(A1)を行うことによって、光透過性基材(基体)の表面(ハードコート層側)に凹凸形状が形成されたものである。
また、トリアセチルセルロースの代替基体として旭化成ケミカルズ(株)製のFVシリーズ(低複屈折率、低光弾性率フィルム)も好ましい。
上記帯電防止剤として、第4級アンモニウム塩、ピリジニウム塩、第1〜第3アミノ基等のカチオン性化合物;スルホン酸塩基、硫酸エステル塩基、リン酸エステル塩基、ホスホン酸塩基等のアニオン性化合物;アミノ酸系、アミノ硫酸エステル系等の両性化合物;アミノアルコール系、グリセリン系、ポリエチレングリコール系等のノニオン性化合物;スズ及びチタンのアルコキシドのような有機金属化合物;上記有機金属化合物のアセチルアセトナート塩のような金属キレート化合物等を挙げることができる。上記に列記した化合物を高分子量化した化合物も使用することができる。
また、第3級アミノ基、第4級アンモニウム基又は金属キレート部を有し、かつ、電離放射線により重合可能なモノマー又はオリゴマー又は官能基を有するカップリング剤のような有機金属化合物等の重合性化合物もまた帯電防止剤として使用できる。
分散剤の例としては、以下の式で表される化合物がある。
最小限度の分散剤を使用することで、超微粒子分散性は安定し、塗膜面が滑らかで高透明な光学用途に適した状態にすることができる。この分散の折、バインダーを用いることはないので、光学用途に適した膜の状態で、最も互いの機能性材料同士が近い場所に位置することが可能になり、これによって、その材料の有する機能を最大限に発揮させることが可能になる。導電性機能性材料の場合は、表面抵抗値が、バインダーを介した従来の場合より、3桁〜6桁Ω/□(例えば1×1012を1×106Ω/□へ)良好にできる。機能性材料に対し、分散剤は、0〜30重量%添加することが好ましく、添加量は、少ないほど機能性材料が密着するので好ましい。
上記エステル類、ケトン類の溶剤の重量平均分子量は、100未満であることが好ましく、50〜100であることがより好ましい。100を超えると、基体への浸透性、膨潤性、溶解性が低下するおそれがある。
上記ハードコート層は、帯電防止剤が載置された光透過性基材の表面に、樹脂組成物を含有するハードコート層形成用組成物を塗布することにより形成することができる。
上記バインダー樹脂としては、透明性のものが好ましく、例えば、紫外線又は電子線により硬化する樹脂である電離放射線硬化型樹脂、電離放射線硬化型樹脂と溶剤乾燥型樹脂との混合物又は熱硬化型樹脂を挙げることができる。より好ましくは電離放射線硬化型樹脂である。
上記光重合開始剤の添加量は、上記電離放射線硬化型樹脂固形100質量部に対し、0.1〜10質量部であることが好ましい。
上記電離放射線硬化型樹脂と併用して使用する溶剤乾燥型樹脂として、熱可塑性樹脂を使用することができる。溶剤乾燥型樹脂を併用することによって、塗布面の被膜欠陥を有効に防止することができ、これによってより優れた艶黒感を得ることができる。
上記熱可塑性樹脂は、非結晶性で、かつ有機溶媒(特に複数のポリマーや硬化性化合物を溶解可能な共通溶媒)に可溶であることが好ましい。特に、製膜性、透明性や耐候性のという観点から、スチレン系樹脂、(メタ)アクリル系樹脂、脂環式オレフィン系樹脂、ポリエステル系樹脂、セルロース誘導体(セルロースエステル類等)等が好ましい。
上記低屈折率層は、上記ハードコート層よりも低い屈折率を有するものが好ましい。
本発明の好ましい態様によれば、ハードコート層の屈折率が1.5以上であり、低屈折率層の屈折率が1.5未満であり、好ましくは1.45以下で構成されてなるものが好ましい。
特に、空隙を有する有機系の微粒子として、特開2002−80503号公報で開示されている技術を用いて調製した中空ポリマー微粒子が挙げられる。
そのような具体的として、日本シリカ工業株式会社製の商品名NipsilやNipgelの中から多孔質シリカ微粒子の集合体や、日産化学工業(株)製のシリカ微粒子が鎖状に繋がった構造を有するコロイダルシリカUPシリーズ(商品名)から、本発明の好ましい粒子径の範囲内のものを使用する。
なお、本明細書において、粒子の平均粒子径は、動的光散乱法等の方法で測定した値である。空隙を有する微粒子は、上記低屈折率層中にマトリックス樹脂100質量部に対して、通常0.1〜500質量部程度、好ましくは10〜200質量部程度である。
dA=mλ/(4nA) (I)
(上記式中、
nAは低屈折率層の屈折率を表し、
mは正の奇数を表し、好ましくは1を表し、
λは波長であり、好ましくは480〜580nmの範囲の値である)
を満たすものが好ましい。
120<nAdA<145 (II)
を満たすことが低反射率化の点で好ましい。
上記光透過性基材、光透過性基材を膨潤又は溶解することが可能な溶剤、帯電防止剤、ハードコート層は、上述したものと同様である。
この製造方法においては、光透過性基材/ハードコート層の2層が上記基体に、高屈折率剤が上記機能性材料に、低屈折率層が上記樹脂層に該当する。上記工程(A1)〜(A3)は上述した方法によって行うことができる。図2で示した光学積層体は、上記工程(A1)を行うことによって、光透過性基材/ハードコート層(基体)の表面(低屈折率層側)に凹凸形状が形成されたものである。
上記光透過性基材、ハードコート層、低屈折率層は、上述したものと同様である。
上記高屈折率剤としては、従来公知の高屈折率超微粒子(好ましくは屈折率が1.5以上の超微粒子)を挙げることができる。
なかでも、TiO2を用いると、屈折率の制御のために必要な超微粒子の添加量が少なくて済む利点がある。また、ZrO2を用いると、ZrO2は光学不活性であるため、耐光性、耐湿熱性が非常に良好となり、特に好ましい。
上記屈折率が1.5以上の酸化物の超微粒子は、その平均粒子径が2〜100nmのものが好ましく、より好ましくは5〜30nmである。
ハードコート層に対する浸透性、膨潤性、溶解性のない溶剤も、混合して用いることができる。
この製造方法においては、光透過性基材/ハードコート層の2層が上記基体に、高屈折率剤が上記機能性材料に、低屈折率層が上記樹脂層に該当する。上記工程(B1)〜(B4)は上述した方法によって行うことができる。
上記光透過性基材、ハードコート層、ハードコート層表面を膨潤又は溶解することが可能な溶剤、高屈折率剤、希釈溶剤、低屈折率層は、上述したものと同様である。
上記偏光素子としては特に限定されず、例えば、ヨウ素等により染色し、延伸したポリビニルアルコールフィルム、ポリビニルホルマールフィルム、ポリビニルアセタールフィルム、エチレン−酢酸ビニル共重合体系ケン化フィルム等を使用することができる。
上記偏光素子と本発明の光学積層体とのラミネート処理においては、光透過性基材(好ましくは、トリアセチルセルロースフィルム)にケン化処理を行うことが好ましい。ケン化処理によって、接着性が良好になり帯電防止効果も得ることができる。
光透過性基材(基体)として、富士写真フイルム株式会社製トリアセチルセルロースフィルム(80μm厚)を用い、グラビアコーターにより、シクロヘキサノン溶剤をコーティングした後、70℃の送風オーブン中で2分間乾燥、溶剤除去することにより、溶剤処理フィルムを得て巻き取った。白色干渉式段差計(Zygo社製NewView5000型)にて表面形状を観察した結果、深さ約100nm〜数μmのドーム形状部が一面に形成されていることが分かった(図3)。
下記成分を均一に混合させて帯電防止膜形成組成物を調整した。
・ATO粒子(石原テクノ(株)社製、製品名「SN−100P」):100質量部
・分散剤(ビックケミー・ジャパン製、製品名「ディスパービック 163」):10質 量部
・酢酸ブチル:990質量部
さらに、下記組成を均一に混合溶解し調製したハードコート層形成用組成物(樹脂層)を得られたフィルム上にグラビアコーティングし、乾燥により溶剤を除去した後、紫外線照射装置(フュージョンUVシステムジャパン(株)、光源Hバルブ)を用いて、照射線量100mJ/cm2 で紫外線照射を行い硬化させて、塗膜5μmのハードコート層を形成し帯電防止機能を有する光学積層体の巻き取りを得た。
形成された光学積層体の、層界面密着性を、テープ剥離試験により評価した結果、界面等で剥離することなく、充分な密着性が確保できていることが分かった。また、表面への埃付着性がないことを確認し、ATO分散体添加による帯電防止性能が発現していることが分かった。
下記成分を均一に混合溶解させてハードコート層形成組成物を調製した。
・ペンタエリスリトールトリアクリレート(日本化薬社製、製品名「PET30」):
100質量部
・トルエン:43質量部
・レベリング剤(大日本インキ化学工業社製、商品名「MCF−350−5」):2質量 部
・重合開始剤(チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製、商品名「Irgacure184」):4質量部
光透過性基材(基体)として、富士写真フィルム株式会社製トリアセチルセルロースフィルム(80μm厚)上に、グラビアコーターにより、ポリチオフェン系帯電防止機能層形成インキ(出光テクノファイン社製、商品名「TA2010」)と、シクロヘキサノン溶剤を質量比率9:1で混合した塗布液(機能性材料)を、基体に、あらかじめ求めておいた乾燥膜厚約100nm積層する条件でコーティングした後、70℃の送風オーブン中で2分間乾燥、溶剤除去することにより、帯電防止機能性材料層を基体に載置した巻き取りを得た。ポリチオフェンは基体に固着しており、塗工面が接触する基体の背面を汚すことなく巻き取ることができた。
さらに、上記組成を均一に混合溶解させて調製したハードコート層形成用組成物(樹脂層)を、得られた帯電防止機能性材料層上にグラビアコーティングし、乾燥により溶剤を除去した後、紫外線照射装置(フュージョンUVシステムジャパン(株)、光源Hバルブ)を用いて、照射線量100mJ/cm2 で紫外線照射を行い硬化させて、塗膜5μmの
ハードコート層を形成した光学積層体の巻き取りを得た。
形成された光学積層体の、層界面密着性を、テープ剥離試験により評価した結果、界面等で剥離することなく、充分な密着性が確保できていることが分かった。また、表面への埃付着性がないことを確認し、ポリチオフェンによる帯電防止性能が発現していることが分かった。
実施例1と同様にして作製した基体に、機能性材料を積層した、ATO粒子載置フィルム巻き取りの機能性材料層に、下記組成の低屈折率層形成組成物(樹脂層)を、あらかじめ求めておいた乾燥膜厚約100nmに積層する条件でグラビアコーティングし、乾燥により溶剤を除去した後、紫外線照射装置(フュージョンUVシステムジャパン(株)、光源Hバルブ)を用いて、照射線量100mJ/cm2 で紫外線照射を行い硬化させて、低屈折率層を形成した巻き取りを得た。
形成された光学積層体の、層界面密着性を、テープ剥離試験により評価した結果、界面等で剥離することなく、十分な密着性が確保できていることが分かった。また、表面への埃付着性がないことを確認し、ATO分散体添加による帯電防止性能が発現していること、反射防止性能が発現していることが分かった。
下記成分を均一に混合溶解させて低屈折率層形成組成物を調製した。
・フッ素ポリマー(ダイキン工業社製、製品名「AR110」):100質量部
AR110はフッ素ポリマーをメチルイソブチルケトンで15%に希釈した製品である。
・ペンタエリスリトールトリアクリレート(日本化薬社製、製品名「PET30」):
15質量部
・メチルイソブチルケトン:280質量部
・n−ブタノール:170質量部
・重合開始剤(チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製、商品名「Irgacure184」):1.5質量部
実施例1における、フィルム表面処理溶剤を、浸透、溶解性の高いシクロヘキサノン溶剤から、浸透、溶解性の低いメチルイソブチルケトン溶剤に代えたほかは、実施例1と同様にして溶剤処理巻き取りフィルムを作製した。
その表面を、白色干渉式段差計(Zygo社製NewView5000型)で表面形状を観察した結果、実施例1において確認されたドーム状のような起伏は確認されず、未処理の表面と変わらない表面状態を呈している(図4)。
この巻き取りフィルム上に、実施例1と同様にグラビアコーターにより帯電防止性分散液(機能性材料)を、あらかじめ求めておいた膜厚約500nm積層する条件でコーティングし、乾燥、溶剤除去し、巻き取ったところ、基体にATO粒子を載置することができなかった。そのため、塗工面が、巻き取り時に接触する基体の背面に接着して汚れ、次の工程を実施することができなかった。
実施例1、2、3と比較し、基体となるフィルム表面に適度な凹凸を形成できない場合には、機能性材料層にバインダーがない状態では生産適性がないことがわかった。
すなわち、通常の基体には、本願のような凹凸は存在しないから、従来の機能性材料の組成物は、バインダーを必須としている。
光透過性基材(基体)として、富士写真フイルム株式会社製トリアセチルセルロースフィルム(80μm厚)を用い、グラビアコーターにより、シクロヘキサノン溶剤をコーティングした後、70℃の送風オーブン中で2分間乾燥、溶剤除去することにより、溶剤処理フィルムの巻き取りを得た。白色干渉式段差計(Zygo社製NewView5000型)にて表面形状を観察した結果、深さ約100nm〜数μmのドーム形状部が一面に形成されていることが分かった。(図3)。
下記成分を均一に混合させて帯電防止膜形成組成物を調整した。
・ATO粒子(石原テクノ(株)社製、製品名「SN−100P」):100質量部
・分散剤(ビックケミー・ジャパン製、製品名「ディスパービック 163」):10質 量部
・酢酸ブチル:990質量部
形成された光学積層体の、層界面密着性を、テープ剥離試験により評価した結果、界面等で剥離することなく、充分な密着性が確保できていることが分かった。また、表面抵抗測定器(三菱化学(株)、Hiresta IP MCP-HT260)により表面抵抗値を確認した。
下記成分を均一に混合させてハードコート層形成組成物を調整した。
・ペンタエリスリトールトリアクリレート(日本化薬社製、製品名「PET30」):10 0質量部
・トルエン:43質量部
・レベリング剤(大日本インキ化学工業社製、製品名「MCF−350−5」):2質量部
・重合開始剤(チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製、製品名「Irgacure184」): 4質量部
高屈折率粒子膜形成用組成物
下記成分を均一に混合して高屈折率粒子膜形成組成物を調整した。
・ZrO2粒子(シーアイ化成(株)社製):100質量部
・分散剤(ビックケミー・ジャパン製、製品名「ディスパービック 163」):10質 量部
・トルエン:990質量部
さらに、実施例4で用いたものと同様のハードコート層形成用組成物(樹脂層)を、得られたフィルム上にグラビアコーティングし、乾燥により溶剤を除去した後、紫外線照射装置(フュージョンUVシステムジャパン(株)、光源Hバルブ)を用いて、照射線量100mJ/cm2で紫外線照射を行い硬化させて、塗膜1μmのハードコート層を形成した光学積層体の巻き取りを得た。
形成された光学積層体の、層界面密着性を、テープ剥離試験により評価した結果、界面等で剥離することなく、充分な密着性が確保できていることが分かった。また、ハードコート層を形成する前のZrO2載置フィルムを分光エリプソメーター(ジョバン−イーボン社製、UVSEL)を用いて屈折率を測定した。
実施例4における、帯電防止膜形成組成物をバインダーを含有する下記組成に変更し、あらかじめ求めておいた積層すべき膜厚を約300nmとした以外は、実施例4と同様にして、光学積層体の巻き取りを得た。実施例4との膜厚設定バランスは、膜中に存在する機能性材料の量がほぼ同等になるように設定した。
下記成分を均一に混合させて帯電防止膜形成組成物を調整した。
・ATO粒子(石原テクノ(株)社製、製品名「SN−100P」):100質量部
・バインダー:ペンタエリスリトールトリアクリレート(日本化薬社製、製品名「PET 30」):40質量部
・分散剤(ビックケミー・ジャパン製、製品名「ディスパービック 163」):10質 量部
・重合開始剤(チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製、製品名「Irgacure184」): 2質量部
・酢酸ブチル:1350質量部
実施例4と比較し、帯電防止膜形成用組成物に、バインダーを含有した場合には、しない場合よりも表面抵抗値がかなり低下することがわかった。バインダーを含有しない場合には、帯電防止機能が良好なこともわかった。
高屈折率粒子膜形成用組成物
下記成分を均一に混合させて高屈折率粒子膜形成組成物を調整した。
・ZrO2粒子(シーアイ化成(株)社製):100質量部
・バインダー:ペンタエリスリトールトリアクリレート(日本化薬社製、製品名「PET 30」):40質量部
・分散剤(ビックケミー・ジャパン製、製品名「ディスパービック 163」):10質 量部
・重合開始剤(チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製、製品名「Irgacure184」): 2質量部
・トルエン:1350質量部
形成された光学積層体の層界面密着性を、テープ剥離試験により評価した結果、界面等で剥離することなく、充分な密着性が確保できていることが分かった。また、低屈折率層を形成する前のZrO2載置フィルムを、分光エリプソメーター(ジョバン−イーボン社製、UVSEL)を用いて屈折率を測定した。
実施例5と比較し、高屈折率粒子膜形成用組成物にバインダーを含有した場合には、しない場合よりも屈折率がかなり低下することがわかった。バインダーを含有しない場合には、高屈折率機能が良好になることもわかった。
「本発明の製造方法」によるサンプルは、実施例4のハードコート層形成組成物に用いた溶剤をメチルエチルケトンに変更し、各層を形成する組成物の塗工を手でマイヤーバーを用いて塗工し、乾燥、硬化したものである。
両サンプルは、帯電防止機能を発現する層中に存在する、帯電防止性機能材料であるATO微粒子を同量に設定した。
2 ハードコート層
3 低屈折率層
4 帯電防止剤
5 高屈折率剤
Claims (16)
- 基体の表面に形成され、その形状が不均一であり且つ該基体上にランダムに存在するクレーター形状の凹部表面に、バインダーを介することなく互いに接触するように載置された機能性材料を有し、さらに樹脂層を形成した光学積層体であって、
前記基体上に、該基体を膨潤又は溶解することが可能な溶剤を塗布する工程(B1)、
前記機能性材料と希釈溶剤からなる組成物bを塗布する工程(B2)、
乾燥する工程(B3)、及び、
前記塗布を行った基体上に、前記樹脂層を形成する工程(B4)
を含む方法によって製造され、
前記B1工程後に、基体の表面にクレーター形状が形成され、さらに前記B2及びB3工程を終了した段階で、前記機能性材料は、基体が溶剤によって膨潤又は溶解しても基体中に滲透あるいは埋没することなく、基体上且つ前記クレーター形状の凹部表面に載置されており、該機能性材料を載置したフィルムとして巻き取り可能であることを特徴とする光学積層体。 - 基体が、セルローストリアセテートである請求項1に記載の光学積層体。
- 機能性材料が、帯電防止剤又は高屈折率剤である請求項1又は2に記載の光学積層体。
- 機能性材料が有機材料であり、該有機材料の重量平均分子量が5,000〜300,000である請求項1乃至3のいずれかに記載の光学積層体。
- 機能性材料が無機材料であり、該無機材料を溶剤に分散するための分散剤を、無機材料に対し1〜30重量%有する請求項1乃至3のいずれかに記載の光学積層体。
- 樹脂層が、ハードコート層又は低屈折率層である請求項1乃至5のいずれかに記載の光学積層体。
- 基体上に、前記基体を膨潤又は溶解することが可能な溶剤を塗布する工程(B1)、
機能性材料と希釈溶剤からなる組成物bを塗布する工程(B2)、
乾燥する工程(B3)、及び、
前記塗布を行った基体上に、樹脂層を形成する工程(B4)
を含むことを特徴とする請求項1に記載の光学積層体の製造方法。 - 基体上に、前記基体を膨潤又は溶解することが可能な溶剤を塗布する工程(B1)、
前記B1工程で得られた基体を乾燥し、溶媒を除去し、溶媒処理フィルムとして巻き取りをする工程(B1’)、
前記溶媒処理フィルムに機能性材料と希釈溶剤からなる組成物bを塗布する工程(B2’)、
前記B2’工程で得られた溶媒処理フィルムを乾燥し、溶媒を除去し、機能性材料を積置したフィルムとして巻き取りをする工程(B3’)、及び、
前記機能性材料を積置したフィルムに樹脂層を形成する工程(B4’)
を含むことを特徴とする請求項1に記載の光学積層体の製造方法。 - 機能性材料が無機材料であり、該無機材料を溶剤に分散するための分散剤を、組成物bに含む請求項7又は8に記載の光学積層体の製造方法。
- B1工程後に、基体の表面にクレーター形状が形成される請求項7又は8記載の光学積層体の製造方法。
- B2’工程において、不均一であるクレーター形状の上に10〜500nm膜厚の機能性材料を塗布し、B3’工程において、前記膜厚機能性材料を積置したフィルムとして巻き取りをする請求項10に記載の光学積層体製造方法。
- 基体が、セルローストリアセテートである請求項7乃至11のいずれかに記載の光学積層体の製造方法。
- 基体を膨潤又は溶解することが可能な溶剤が、重量平均分子量100未満のエステル類及び/又はケトン類である請求項7乃至12のいずれかに記載の光学積層体の製造方法。
- 機能性材料が、基体が溶剤によって膨潤又は溶解しても基体中に滲透あるいは埋没することなく、基体上に載置される請求項7乃至13のいずれかに記載の光学積層体の製造方法。
- 機能性材料が、帯電防止剤又は高屈折率剤である請求項7乃至14のいずれかに記載の光学積層体の製造方法。
- 樹脂層が、ハードコート層又は低屈折率層である請求項7乃至15のいずれかに記載の光学積層体の製造方法。
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