JP2004291500A - 高透過率導電性フィルム、その製造方法、タッチパネルおよびタッチパネル付き表示装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】λ／４機能を有し、光の透過率の高い高透過率透明導電性フィルムを提供する。さらに、薄型、軽量、低コスト、高視認性のタッチパネル、およびタッチパネル付き表示装置を提供すること。
【解決手段】位相差板の少なくとも一方の面に、位相差板側に隣接する層よりも屈折率の低い中間層を積層し、中間層を積層した側の最表面に透明導電膜有し、好ましくは中間層と透明導電膜の間に中間層より屈折率の高い高屈折率層を設けた高透過率導電性フィルムと、それを用いたタッチパネルおよびタッチパネル付き表示装置を作製する。
【選択図】 なし
【解決手段】位相差板の少なくとも一方の面に、位相差板側に隣接する層よりも屈折率の低い中間層を積層し、中間層を積層した側の最表面に透明導電膜有し、好ましくは中間層と透明導電膜の間に中間層より屈折率の高い高屈折率層を設けた高透過率導電性フィルムと、それを用いたタッチパネルおよびタッチパネル付き表示装置を作製する。
【選択図】 なし
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、光の透過率が高い透明導電性フィルム、その製造方法、並びに該フィルムを用いたタッチパネルおよびタッチパネル付き表示装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
現代社会は、高度情報社会と言われており、情報の流通量が増大し、各個人における情報の収集や選択に対する要求が増大している。このような社会的背景においては、情報携帯端末やカーナビゲーションなど移動しながら情報を処理することのできる移動型の情報端末に対するニーズが大きくなり、積極的に開発が進められている。
移動型の情報端末では、操作者とのインターフェイスとしてはキーボードを用いるより、携帯性を重視して、表示装置の表示部に重ねて使用する透明のタッチパネルを搭載することが主流となってきている。
【０００３】
近年は情報量増加に伴い表示装置のカラー化の要求も高まっている。しかし、カラー表示ではカラーフィルタにより透過率が低下し、明度が白黒表示時に比べて極端に低下し、視認性が低下する。そのため、カラー液晶表示装置においては、高明度化および高コントラスト化の要求が高くなる。さらに、表示装置にタッチパネルを搭載した場合は、表面の反射に加え、タッチパネルの内部に存在する高屈折率の透明導電膜と空気との界面での反射率が大きく、明るい環境下でのコントラストの低下が大きく、高コントラスト化の要求がより高まることとなる。
【０００４】
ところで、タッチパネルが装備される表示装置としては、液晶表示装置、ＣＲＴ、ＥＬ、ＰＤＰなどがある。液晶表示装置ではそのほとんどが画面の表示のために偏光板を１枚以上用いている。また、ＥＬではセル内部での反射防止のため、外面側に偏光板と位相差板を組み合わせた円偏光板を設けている。
このような表示装置にタッチパネルを搭載する場合は、前述のように、タッチパネル部の反射率が大きく、反射光が増大し、コントラストが低下することと、さらに装置自体が厚くなるという問題点があった。これに対して液晶表示装置の偏光板と液晶セルの間に抵抗膜式タッチパネルの機能を挿入したインナー型タッチパネルの提案がされている。この方式によれば、界面が減少し、さらにλ／４板と組み合わせることで、界面反射による表示側に再放出される反射光が著しく低減され、視認性が著しく向上する。
【０００５】
上記のようなインナータイプタッチパネルの視認者側の基板である上部基板の必要構成要件は、視認者側より、偏光板、λ／４板、透明導電膜という順に機能性膜が設けられていることであるが、一般的には、透明導電膜はλ／４板に直接設けず、他の透明フィルムに透明導電膜を成膜したのち、該透明フィルムの透明導電膜を設けた面と反対側の面上に、粘着剤を介してλ／４板を貼り付けている。しかし、薄型、低生産コストの観点からは、λ／４板に直接透明導電膜を成膜することが望ましい。
【０００６】
また、上記のような、上部基板に偏光板とλ／４板を有するタッチパネルをＴＮの旋光モードを用いた直線偏光タイプの透過型液晶装置に搭載しようとすると、タッチパネルの下部基板の透明導電膜と液晶セルの視認者側の偏光板との間にλ／４機能を付与する必要がある。この場合にはタッチパネルの下部基板にλ／４板を用い、その表面に直接透明導電膜を形成するのが望ましいが、実用化されてはいない。
【０００７】
また、このような透明導電膜付きλ／４板を作製しても、透過率の向上の要求があるのは容易に想像できる。この場合の透過率向上の手段としては、λ／４板と透明導電膜の間に屈折率の異なる多層の光学干渉層を設けることが考えられる。この多層干渉層の形成に関する従来の技術としては、ゾルゲル法で形成する方法（例えば、特許文献１および特許文献２参照）や蒸着法で形成する方法（例えば、特許文献３参照）などがある。しかし、いずれも生産性やプロセス温度の問題で、フィルム上に安価に成膜するという目的は十分に満たされていない。
さらに、スパッタリング法や蒸着法で多層の干渉層を設けようとしても、用いることが可能な材料が限定され、干渉層のそれぞれの層の屈折率を希望の値に自由に調整することは困難である。
また、ゾルゲル法で多層の干渉層を設ける場合に関しても、スパッタリング法などと同様に屈折率の制御が難しいことと、基板との密着性や膜の脆性の問題で、フィルム基板の上に成膜することに関しては課題が多い。
なお、多層干渉層をλ／４板と透明導電膜の間に設けた例は、特に報告はされていない。
【０００８】
【特許文献１】
特開平１１−５３１１４号公報
【特許文献２】
特開２０００−３０１６４８号公報
【特許文献３】
国際公開ＷＯ００／６３９２４号パンフレット
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の目的は、λ／４機能を有し、光の透過率の高い高透過率透明導電性フィルムを提供することにある。さらに、本発明の他の目的は、薄型、軽量、低コスト、高視認性のタッチパネル、およびタッチパネル付き表示装置を提供することにある。
【００１０】
【課題を解決するための手段】
本発明によれば、下記に列挙する高透過導電性フィルム、タッチパネル、及びタッチパネル付き表示装置が提供され、本発明の上記目的が達成される。
（１）位相差板の少なくとも一方の面に、位相差板側に隣接する層よりも屈折率の低い中間層が積層され、該中間層が積層された側の最表面に透明導電膜を有する高透過率導電性フィルム。
（２）位相差板が、ポリマーフィルムからなる透明支持体上に少なくとも二つの光学異方性層が塗布されて形成されたλ／４板であって、少なくとも一つの光学異方性層が液晶性化合物を含む層であることを特徴とする上記（１）に記載の高透過率導電性フィルム。
（３）中間層が、熱もしくは電離放射線硬化性の含フッ素硬化性樹脂および／または熱もしくは電離放射線硬化性の３官能以上の重合性基を有する硬化性樹脂を主体とする層であることを特徴とする上記（１）または（２）に記載の高透過率導電性フィルム。
（４）中間層の屈折率が１．３５〜１．６である上記（１）〜（３）のいずれかに記載の高透過率導電性フィルム。
（５）ポリマーフィルムと中間層の間にポリマーフィルムより高い屈折率を持つ高屈折率層を有し、高屈折率層の屈折率が１．６〜２．６である上記（１）〜（４）のいずれかに記載の高透過率導電性フィルム。
（６）透明導電膜を形成した反対側の面に屈折率の異なる複数の層を有する反射防止構造を設けた上記（１）〜（５）のいずれかに記載の高透過率導電性フィルム。
（７）波長５５０ｎｍにおける光の透過率が９０％以上であることを特徴とする上記（１）〜（６）のいずれかに記載の高透過率導電性フィルム。
（８）透明導電膜の膜厚が５〜２００ｎｍで、抵抗値が２０００Ω／□以下であることを特徴とする上記（１）〜（７）のいずれかに記載の高透過率導電性フィルム。
【００１１】
（９）高透過率導電性フィルムを構成する層のうち少なくとも２層以上は塗布法で形成し、かつ、少なくとも２層以上の塗布層は、ポリマーフィルムを一回送り出してから巻き取るまでの間の一工程中に連続で形成されることを特徴とする上記（１）〜（８）のいずれかに記載の高透過率導電性フィルムの製造方法。
【００１２】
（１０）透明導電膜を有する上部基板および下部基板が、透明導電膜同士を向かい合わせて配置されてなるタッチパネルにおいて、少なくとも一方の基板が上記（１）〜（８）のいずれかに記載の高透過率導電性フィルムを含むことを特徴とするタッチパネル。
（１１）上部基板が円偏光機能を有していることを特徴とする上記（１０）に記載のインナータイプタッチパネル。
（１２）上記（１０）または（１１）に記載のタッチパネルを搭載したタッチパネル付き表示装置。
【００１３】
【発明の実施の形態】
本発明の高透過率導電性フィルムを用いたタッチパネルおよびタッチパネル付き表示装置の代表的な例を図１、図２に概略断面図として模式的に示す。
図１の例は、半透過型液晶との組み合わせで、タッチパネルの上部基板（視認側の基板）に液晶表示用の円偏光板を使用した、いわゆるインナータイプタッチパネルであり、円偏光板によって内部反射光を遮ることにより、コントラストを向上させることができる。図１において、下部基板２１と、上部基板２２は、空隙を設けた状態で、互いに透明導電膜を向かい合わせて配置され、タッチパネル２３を形成している。上部基板２２のタッチパネルの空隙と反対側の面にはハードコート層１８と反射防止膜１９が、この順序で配置されるのが望ましいが、ハードコート層と反射防止膜はどちらか片方または両方がなくてもよい。
図２の例はＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）型の旋光モードを用いた直線偏光タイプの透過型液晶装置（５１〜５８からなる）の上に、上部基板に円偏光機能を有する低反射タッチパネルを搭載した例である。図２の例において、下部基板８１と、上部基板８２は、空隙を設けた状態で、互いに透明導電膜を向かい合わせて配置され、タッチパネル８３を形成している。上部基板８２のタッチパネルの空隙と反対側の面にはハードコート層７１と反射防止膜７２が、この順序で配置されるのが望ましいが、ハードコート層と反射防止膜はどちらか片方または両方がなくてもよい。
図１、図２のいずれの例でも、λ／４板と透明導電膜の間に、λ／４板より屈折率の高い高屈折率層と高屈折率層より屈折率の低い中間層とを、この順番で設けた本発明の高透過率導電性フィルムの構成を用いている。このような層構成にすることで、各界面での反射による干渉作用で、高透過率化を達成することができる。
図１、２に関しては、タッチパネルを表示装置上に搭載しているが、表示装置に関しては、特に限定されるものではなく、さまざまな表示装置に適用することができる。
なお、本発明のタッチパネル付き表示装置はこの例に限定されず、各種のバリエーションがあることは言うまでもない。
【００１４】
（位相差板）
本発明では、高透過率導電性フィルムの支持体として位相差板を用いる。
位相差板はポリマーフィルムなど単体からなってもよく、複数枚のフィルムを積層することで構成してもよい。以降、位相差板として最もよく使用されるλ／４板を例示して記述する場合があるが、λ／４板に制限されるわけではない。
【００１５】
［位相差板の光学的性質］
位相差板としては、波長λでのレターデーション値（Ｒｅλ）がλ／４であるのが理想である。実際には用いる材料により波長によりλ／４からズレが生じるので、波長４５０ｎｍで測定したレターデーション値（Ｒｅ４５０）が６０乃至１３５ｎｍであり、かつ波長５９０ｎｍで測定したレターデーション値（Ｒｅ５９０）が１００乃至１７０ｎｍであればよい。また、Ｒｅ５９０−Ｒｅ４５０≧２ｎｍであることが好ましく、Ｒｅ５９０−Ｒｅ４５０≧５ｎｍであることがさらに好ましく、Ｒｅ５９０−Ｒｅ４５０≧１０ｎｍであることが最も好ましい。
ここで、レターデーション値（Ｒｅ）は、下記式に従って算出する。
レターデーション値（Ｒｅ）＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄ
式中、ｎｘは、面内の遅相軸方向の屈折率（面内の最大屈折率）であり；ｎｙは、面内の遅相軸に垂直な方向の屈折率であり；そして、ｄは、厚さ（ｎｍ）である。
【００１６】
［位相差板の構成］
位相差板としては、特開平５−２７１１８号および同５−２７１１９号の各公報に記載されたレターデーションが大きい複屈折性フィルムと、レターデーションが小さい複屈折率フィルムとを、それらの光軸が直交するように積層させた位相差板、特開平１０−６８８１６号公報に記載された、特定波長においてλ／４となっているポリマーフィルムと、それと同一材料からなり同じ波長においてλ／２となっているポリマーフィルムとを積層させて、広い波長領域でλ／４が得られる位相差板、特開平１０−９０５２１号公報に記載された二枚のポリマーフィルムを積層することにより広い波長領域でλ／４を達成できる位相差板、ＷＯ００／２６７０５号に記載された変性ポリカーボネートフィルムを用いた広い波長領域でλ／４を達成できる位相差板、ＷＯ００／６５３８４号に記載されたセルロースエステルフィルムを用いた広い波長領域でλ／４を達成できる位相差板等を挙げることができる。また、特開２００１−４８３７号公報に記載された液晶性化合物で形成されたλ／２層とλ／４層の２つの光学異方性層が支持体上に形成されることにより、広い波長領域でλ／４を達成できる位相差板を用いることもできる（以下、このように、少なくとも二つの光学異方性層を有し、少なくとも一つの層が液晶性化合物で形成されたλ／４板を塗布型λ／４板と呼ぶ）。
【００１７】
以下、薄型・軽量化でき、コスト面から言って最も好ましく、また光学特性や遅相軸方向のコントロールが容易である塗布型λ／４板の例を詳しく説明する。塗布型λ／４板は、少なくとも二つの光学異方性層を組み合わせることにより得られる。二つの光学異方性層の組み合わせは、二種類の態様に分類できる。
【００１８】
第一の態様では、第１の光学異方性層の遅相軸と、第２の光学異方性層の遅相軸とを、実質的に６０゜で交差させる。
第１の光学異方性層は、特定の波長（λ）において実質的にλ／２の位相差を有し、第２の光学異方性層は、特定の波長（λ）において実質的にλ／４の位相差を有していることが好ましい。特定の波長（λ）としては、可視領域のほぼ中間である５５０ｎｍであることが特に好ましい。
特定波長（λ）を５５０ｎｍとすると、第１の光学異方性層のレターデーション値は、１５０乃至３５０ｎｍであることが好ましく、１８０乃至３００ｎｍであることがより好ましく、２００乃至２８０ｎｍであることがさらに好ましく、２１０乃至２７０ｎｍであることが最も好ましい。特定波長を５５０ｎｍとすると、第２の光学異方性層のレターデーション値は、６０乃至１７０ｎｍであることが好ましく、７０乃至１５０ｎｍであることがより好ましく、８０乃至１３５ｎｍであることがさらに好ましく、８０乃至１２０ｎｍであることが最も好ましい。
なお、偏光膜とλ／４板とを組み合わせて円偏光板として機能させる場合、偏光膜の偏光軸と、一つの光学異方性層の遅相軸とは、実質的に７５゜で交差させ、そして、偏光膜の偏光軸と、もう一つの光学異方性層の遅相軸とは、実質的に１５゜で交差させることが好ましい。
また、λ／４板が、さらに長手方向を有する透明支持体を有する場合、透明支持体の長手方向と、一つの光学異方性層の遅相軸とを、実質的に７５゜で交差させ、そして、直線偏光膜の偏光軸と、もう一つの光学異方性層の遅相軸とを、実質的に１５゜で交差させることが好ましい。
【００１９】
第二の態様では、第１の光学異方性層の遅相軸と、第２の光学異方性層の遅相軸とを、実質的に直交させる。
４５０ｎｍの波長で測定した第１の光学異方性層のレターデーション値と４５０ｎｍの波長で測定した第２の光学異方性層のレターデーション値との差、および５９０ｎｍの波長で測定した第１の光学異方性層のレターデーション値と５９０ｎｍの波長で測定した第２の光学異方性層のレターデーション値との差は、いずれも実質的に波長差の１／４であることが好ましい。具体的には、Ｒｅ５９０−Ｒｅ４５０≧２ｎｍであることが好ましく、Ｒｅ５９０−Ｒｅ４５０≧５ｎｍであることがさらに好ましく、Ｒｅ５９０−Ｒｅ４５０≧１０ｎｍであることが最も好ましい。
なお、偏光膜とλ／４板とを組み合わせて円偏光板として機能させる場合、偏光膜の偏光軸と、一つの光学異方性層の遅相軸とは、実質的に４５゜で交差させ、そして、偏光膜の偏光軸と、もう一つの光学異方性層の遅相軸とは、実質的に４５゜で交差させることが好ましい。
また、λ／４板が、さらに長手方向を有する透明支持体を有する場合、透明支持体の長手方向と、一つの光学異方性層の遅相軸とを、実質的に４５゜で交差させ、そして、直線偏光膜の偏光軸と、もう一つの光学異方性層の遅相軸とを、実質的に４５゜で交差させることが好ましい。
【００２０】
［塗布型λ／４板の構成］
図３は、塗布型λ／４板の代表的な構成を示す模式図である。
図３に示すλ／４板は、透明支持体（Ｓ）、第１光学異方性層（Ａ）および第２光学異方性層（Ｂ）を有する。
第１光学異方性層（Ａ）の位相差は、実質的にλ／２（波長５５０ｎｍで１５０〜３５０ｎｍ）に調整されている。第２光学異方性層（Ｂ）の位相差は、実質的にλ／４（波長５５０ｎｍで６０〜１７０ｎｍ）に調整されている。
透明支持体（Ｓ）の長手方向（ｓ）と第１光学異方性層（Ａ）の面内の遅相軸（ａ）との角度（α）は７５゜である。また、第２光学異方性層（Ｂ）の面内の遅相軸（ｂ）と透明支持体（Ｓ）の長手方向（ｓ）との角度（β）は１５゜である。そして、第２光学異方性層（Ｂ）の面内の遅相軸（ｂ）と光学異方性層（Ａ）の面内の遅相軸（ａ）との角度（γ）は６０゜である。
図３に示す第１光学異方性層（Ａ）および第２光学異方性層（Ｂ）は、それぞれ棒状液晶性化合物（ｃ１およびｃ２）を含む。棒状液晶性化合物（ｃ１およびｃ２）は、それぞれホモジニアスに配向している。棒状液晶性化合物（ｃ１およびｃ２）の長軸方向が、光学異方性層（ＡおよびＢ）の面内の遅相軸（ａおよびｂ）に相当する。
【００２１】
棒状液晶性化合物（ｃ１およびｃ２）は、配向膜のラビング方向（ｒａおよびｒｂ）によって、配向方向が決定されている。第１光学異方性層（Ａ）の面内の遅相軸（ａ）と配向膜のラビング方向（ｒａ）とは直交している。すなわち、第１光学異方性層（Ａ）の配向膜としては、直交型配向膜を用いている。一方、第２光学異方性層（Ｂ）の面内の遅相軸（ｂ）と配向膜のラビング方向（ｒｂ）とは平行である。すなわち、第２光学異方性層（Ｂ）の配向膜としては、平行型配向膜を用いている。
棒状液晶性化合物（ｃ１およびｃ２）に代えて、円盤状液晶性化合物を用いることもできる。円盤状液晶性化合物を用いる場合も、円盤状液晶性化合物をホモジニアス（円盤を立てた状態）に配向させる。円盤状液晶性化合物の円盤面の方向が、光学異方性層の遅相軸に相当する。
【００２２】
図４は、円偏光板の代表的な構成を示す模式図である。
図４に示す円偏光板は、図３に示した透明支持体（Ｓ）、第１光学異方性層（Ａ）および第２光学異方性層（Ｂ）からなるλ／４板に、さらに偏光膜（Ｐ）を有する。
図３と同様に、透明支持体（Ｓ）の長手方向（ｓ）と第１光学異方性層（Ａ）の面内の遅相軸（ａ）との角度（α）は７５゜である。また、第２光学異方性層（Ｂ）の面内の遅相軸（ｂ）と透明支持体（Ｓ）の長手方向（ｓ）との角度（β）は１５゜である。そして、第２光学異方性層（Ｂ）の面内の遅相軸（ｂ）と光学異方性層（Ａ）の面内の遅相軸（ａ）との角度（γ）は６０゜である。さらに、偏光膜（Ｐ）の偏光軸（ｐ）と透明支持体（Ｓ）の長手方向（ｓ）とは直交している。
【００２３】
図４に示した第１光学異方性層（Ａ）および第２光学異方性層（Ｂ）も、それぞれ棒状液晶性化合物（ｃ１およびｃ２）を含む。棒状液晶性化合物（ｃ１およびｃ２）は、それぞれホモジニアスに配向している。棒状液晶性化合物（ｃ１およびｃ２）の長軸方向が、光学異方性層（ＡおよびＢ）の面内の遅相軸（ａおよびｂ）に相当する。
棒状液晶性化合物（ｃ１およびｃ２）に代えて、円盤状液晶性化合物を用いることもできる。円盤状液晶性化合物を用いる場合も、円盤状液晶性化合物をホモジニアス（円盤を立てた状態）に配向させる。円盤状液晶性化合物の円盤面の方向が、光学異方性層の遅相軸に相当する。
図４に示した円偏光板は、右円偏光を生じる構成である。左円偏光を生じる構成では、λ／２の位相差を有する第１光学異方性層の光軸が−７５゜で、λ／４の位相差を有する第２光学異方性層の光軸が−１５゜となる。従って、第１光学異方性層のラビング方向が＋１５゜で、第２光学異方性層のラビング方向が−１５゜となる。
【００２４】
［光学異方性層］
光学異方性層は、液晶性化合物またはポリマーフィルムから形成することができる。本発明では、少なくとも二つの光学異方性層のうち、少なくとも一つは液晶性化合物から形成するのが好ましく、少なくとも二つの光学異方性層を液晶性化合物から形成することがより好ましい。
【００２５】
ポリマーフィルムからなる光学異方性層に用いられるポリマーの例には、ポリオレフィン（例、ポリエチレン、ポリプロピレン、ノルボルネン系ポリマー）、ポリビニルアルコール、ポリメタクリル酸エステル、ポリアクリル酸エステルおよびセルロースエステルが含まれる。また、これらのポリマーの共重合体あるいはポリマー混合物を用いてもよい。
フィルムの光学異方性は、延伸により得ることが好ましい。延伸は一軸延伸であることが好ましい。一軸延伸は、２つ以上のロールの周速差を利用した縦一軸延伸またはポリマーフィルムの両サイドを掴んで幅方向に延伸するテンター延伸が好ましい。なお、二枚以上のポリマーフィルムを用いて、二枚以上のフィルム全体の光学的性質が前記の条件を満足してもよい。
使用するポリマーの固有複屈折が正の場合には、ポリマーフィルムの面内の屈折率が最大となる方向は、フィルムの延伸方向に相当する。使用するポリマーの固有複屈折が負の場合には、ポリマーフィルムの面内の屈折率が最大となる方向は、フィルムの延伸方向に垂直な方向に相当する。
ポリマーフィルムは、複屈折のムラを少なくするためにソルベントキャスト法により製造することが好ましい。
ポリマーフィルムの厚さは、２０乃至５００μｍであることが好ましく、５０乃至２００μｍであることがさらに好ましく、５０乃至１００μｍであることが最も好ましい。
【００２６】
光学異方性層に用いる液晶性化合物は、棒状液晶性化合物または円盤状液晶性化合物が好ましい。液晶性化合物は、実質的に均一に配向していることが好ましく、実質的に均一に配向している状態で固定されていることがさらに好ましく、重合反応により液晶性化合物が固定されていることが最も好ましい。液晶性化合物は、ホモジニアス配向させることが好ましい。
【００２７】
棒状液晶性化合物としては、アゾメチン類、アゾキシ類、シアノビフェニル類、シアノフェニルエステル類、安息香酸エステル類、シクロヘキサンカルボン酸フェニルエステル類、シアノフェニルシクロヘキサン類、シアノ置換フェニルピリミジン類、アルコキシ置換フェニルピリミジン類、フェニルジオキサン類、トラン類およびアルケニルシクロヘキシルベンゾニトリル類が好ましく用いられる。以上のような低分子液晶性化合物だけではなく、高分子液晶性化合物も用いることができる。棒状液晶性化合物を重合によって配向を固定することがより好ましく、重合性棒状液晶性化合物は、Ｍａｋｒｏｍｏｌ． Ｃｈｅｍ．， １９０巻、２２５５頁（１９８９年）、Ａｄｖａｎｃｅｄ Ｍａｔｅｒｉａｌｓ ５巻、１０７頁（１９９３年）、米国特許４６８３３７号、同５６２２６４８号、同５７７０１０７号、ＷＯ９５／２２５８６号、同９５／２４４５５号、同９７／００６００号、同９８／２３５８０号、同９８／５２９０５号の各明細書、特開平１−２７２５５１号、同６−１６６１６号、同７−１１０４６９号、同１１−８００８１号の各公報に記載がある。
【００２８】
下記式（Ｉ）で表される重合性棒状液晶性化合物が特に好ましい。
式（Ｉ）；
Ｑ１−Ｌ１−Ｃｙ１−Ｌ２−（Ｃｙ２−Ｌ３）ｎ−Ｃｙ３−Ｌ４−Ｑ２
【００２９】
式（Ｉ）において、Ｑ１およびＱ２は、それぞれ独立に、重合性基である。重合性基の重合反応は、付加重合（開環重合を含む）または縮合重合であることが好ましい。言い換えると、重合性基は、付加重合反応または縮合重合反応が可能な官能基であることが好ましい。
重合性基の例を以下に示す。
【００３０】
【化１】
【００３１】
重合性基（Ｑ１およびＱ２）は、不飽和重合性基（Ｑ−１〜Ｑ−７）、エポキシ基（Ｑ−８）またはアジリジニル基（Ｑ−９）であることが好ましく、不飽和重合性基であることがさらに好ましく、エチレン性不飽和重合性基（Ｑ−１〜Ｑ−６）であることが最も好ましい。
【００３２】
式（Ｉ）において、Ｌ１およびＬ４は、それぞれ独立に、二価の連結基である。
Ｌ１およびＬ４は、それぞれ独立に、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＮＲ１−、二価の鎖状脂肪族基、二価の環状基およびそれらの組み合わせからなる群より選ばれる二価の連結基であることが好ましい。上記Ｒ１は、炭素原子数が１乃至７のアルキル基または水素原子である。
組み合わせからなる二価の連結基の例を以下に示す。左側がＱ（Ｑ１またはＱ２）に、右側がＣｙ（Ｃｙ１またはＣｙ２）に結合する。
【００３３】
Ｌ−１：−ＣＯ−Ｏ−二価の鎖状脂肪族基−Ｏ−
Ｌ−２：−ＣＯ−Ｏ−二価の鎖状脂肪族基−Ｏ−二価の環状基−ＣＯ−Ｏ−
Ｌ−３：−ＣＯ−Ｏ−二価の鎖状脂肪族基−Ｏ−二価の環状基−Ｏ−ＣＯ−
Ｌ−４：−ＣＯ−Ｏ−二価の鎖状脂肪族基−Ｏ−二価の環状基−二価の鎖状脂肪族基−
Ｌ−５：−ＣＯ−Ｏ−二価の鎖状脂肪族基−Ｏ−二価の環状基−
Ｌ−６：−ＣＯ−Ｏ−二価の鎖状脂肪族基−Ｏ−二価の環状基−二価の鎖状脂肪族基−ＣＯ−Ｏ−
Ｌ−７：−ＣＯ−Ｏ−二価の鎖状脂肪族基−Ｏ−二価の環状基−Ｏ−ＣＯ−二価の鎖状脂肪族基−
【００３４】
二価の鎖状脂肪族基は、アルキレン基、置換アルキレン基、アルケニレン基、置換アルケニレン基、アルキニレン基または置換アルキニレン基を意味する。アルキレン基、置換アルキレン基、アルケニレン基および置換アルケニレン基が好ましく、アルキレン基およびアルケニレン基がさらに好ましい。
アルキレン基は、分岐を有していてもよい。アルキレン基の炭素原子数は、１乃至１２であることが好ましく、２乃至１０であることがさらに好ましく、３乃至８であることが最も好ましい。
置換アルキレン基のアルキレン部分は、上記アルキレン基と同様である。置換アルキレン基の置換基の例には、ハロゲン原子が含まれる。
アルケニレン基は、分岐を有していてもよい。アルケニレン基の炭素原子数は、２乃至１２であることが好ましく、２乃至８であることがさらに好ましく、２乃至４であることが最も好ましい。
置換アルケニレン基のアルケニレン部分は、上記アルケニレン基と同様である。置換アルケニレン基の置換基の例には、ハロゲン原子が含まれる。
アルキニレン基は、分岐を有していてもよい。アルキニレン基の炭素原子数は、２乃至１２であることが好ましく、２乃至８であることがさらに好ましく、２乃至４であることが最も好ましい。
置換アルキニレン基のアルキニレン部分は、上記アルキニレン基と同様である。置換アルキニレン基の置換基の例には、ハロゲン原子が含まれる。
【００３５】
二価の環状基の定義および例は、後述するＣｙ１〜Ｃｙ３の定義および例と同様である。
Ｒ１は、炭素原子数が１乃至４のアルキル基または水素原子であることが好ましく、炭素原子数が１または２のアルキル基または水素原子であることがさらに好ましく、水素原子であることが最も好ましい。
【００３６】
式（Ｉ）において、Ｌ２またはＬ３は、それぞれ独立に、単結合または二価の連結基である。
二価の連結基は、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＮＲ２−、二価の鎖状脂肪族基、二価の環状基およびそれらの組み合わせからなる群より選ばれる二価の連結基ことが好ましい。上記Ｒ２は、炭素原子数が１乃至７のアルキル基または水素原子である。
二価の鎖状脂肪族基の定義および例は、Ｌ１およびＬ４の定義および例と同様である。
二価の環状基の定義および例は、後述するＣｙ１〜Ｃｙ３の定義および例と同様である。
Ｒ２は、炭素原子数が１乃至４のアルキル基または水素原子であることが好ましく、炭素原子数が１または２のアルキル基または水素原子であることがさらに好ましく、水素原子であることが最も好ましい。
【００３７】
式（Ｉ）において、Ｃｙ１、Ｃｙ２およびＣｙ３は、それぞれ独立に、二価の環状基である。
環状基に含まれる環は、５員環、６員環または７員環であることが好ましく、５員環または６員環であることがさらに好ましく、６員環であることが最も好ましい。
環状基に含まれる環は、縮合環であってもよい。ただし、縮合環よりも単環である方が好ましい。
環状基に含まれる環は、芳香族環、脂肪族環および複素環のいずれでもよい。芳香族環の例には、ベンゼン環およびナフタレン環が含まれる。脂肪族環の例には、シクロヘキサン環が含まれる。複素環の例には、ピリジン環およびピリミジン環が含まれる。
【００３８】
ベンゼン環を有する環状基としては、１，４−フェニレンが好ましい。ナフタレン環を有する環状基としては、ナフタレン−１，５−ジイルおよびナフタレン−２，６−ジイルが好ましい。ピリジン環を有する環状基としては、ピリジン−２，５−ジイルが好ましい。ピリミジン環を有する環状基としては、ピリミジン−２，５−ジイルが好ましい。
環状基は、１，４−フェニレンまたは１，４−シクロへキシレンであることが特に好ましい。
環状基は、置換基を有していてもよい。置換基の例には、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、炭素原子数が１乃至５のアルキル基、炭素原子数が１乃至５のハロゲン置換アルキル基、炭素原子数が１乃至５のアルコキシ基、炭素原子数が１乃至５のアルキルチオ基、炭素原子数が１乃至５のアシル基、炭素原子数が２乃至６のアシルオキシ基、炭素原子数が２乃至６のアルコキシカルボニル基、カルバモイル基、炭素原子数が２乃至６のアルキル置換カルバモイル基および炭素原子数が２乃至６のアミド基が含まれる。
【００３９】
式（Ｉ）において、ｎは、０、１または２である。ｎが２の場合、二つのＬ３およびＣｙ２は、異なっていてもよい。ｎは、１または２であることが好ましく、１であることがさらに好ましい。
【００４０】
円盤状液晶性化合物は、様々な文献（Ｃ． Ｄｅｓｔｒａｄｅ ｅｔ ａｌ．， Ｍｏｌ． Ｃｒｙｓｔ． Ｌｉｑ．Ｃｒｙｓｔ．， ｖｏｌ． ７１， ｐａｇｅ １１１ （１９８１） ；日本化学会編、季刊化学総説、Ｎｏ．２２、液晶の化学、第５章、第１０章第２節（１９９４）；Ｂ． Ｋｏｈｎｅ ｅｔ ａｌ．， Ａｎｇｅｗ． Ｃｈｅｍ． Ｓｏｃ． Ｃｈｅｍ． Ｃｏｍｍ．， ｐａｇｅ１７９４ （１９８５）；Ｊ． Ｚｈａｎｇ ｅｔ ａｌ．， Ｊ． Ａｍ．Ｃｈｅｍ． Ｓｏｃ．， ｖｏｌ． １１６， ｐａｇｅ ２６５５ （１９９４））に記載されている。円盤状液晶性化合物の重合については、特開平８−２７２８４号公報に記載がある。
円盤状液晶性化合物を重合により固定するためには、円盤状液晶性化合物の円盤状コアに、置換基として重合性基を結合させる必要がある。ただし、円盤状コアに重合性基を直結させると、重合反応において配向状態を保つことが困難になる。そこで、円盤状コアと重合性基との間に、連結基を導入する。従って、重合性基を有する円盤状液晶性化合物は、下記式（ＩＩ）で表わされる化合物であることが好ましい。
【００４１】
式（ＩＩ）：Ｄ（−Ｌ−Ｑ）ｎ
式（ＩＩ）において、Ｄは、円盤状コアであり、Ｌは、二価の連結基であり、Ｑは重合性基であり、そして、ｎは４乃至１２の整数である。
【００４２】
式（ＩＩ）において、二価の連結基（Ｌ）は、アルキレン基、アルケニレン基、アリーレン基、−ＣＯ−、−ＮＨ−、−Ｏ−、−Ｓ−およびそれらの組み合わせからなる群より選ばれる二価の連結基であることが好ましい。二価の連結基（Ｌ）は、アルキレン基、アルケニレン基、アリーレン基、−ＣＯ−、−ＮＨ−、−Ｏ−および−Ｓ−からなる群より選ばれる二価の基を少なくとも二つ組み合わせた基であることがさらに好ましく、アルキレン基、アルケニレン基、アリーレン基、−ＣＯ−および−Ｏ−からなる群より選ばれる二価の基を少なくとも二つ組み合わせた基であることが最も好ましい。アルキレン基の炭素原子数は、１乃至１２であることが好ましい。アルケニレン基の炭素原子数は、２乃至１２であることが好ましい。アリーレン基の炭素原子数は、６乃至１０であることが好ましい。アルキレン基、アルケニレン基およびアリーレン基は、置換基（例、アルキル基、ハロゲン原子、シアノ基、アルコキシ基、アシルオキシ基）を有していてもよい。
【００４３】
二価の連結基（Ｌ）の例を以下に示す。左側が円盤状コア（Ｄ）に結合し、右側が重合性基（Ｑ）に結合する。ＡＬはアルキレン基またはアルケニレン基を意味し、ＡＲはアリーレン基を意味する。
Ｌ−１１：−ＡＬ−ＣＯ−Ｏ−ＡＬ−
Ｌ−１２：−ＡＬ−ＣＯ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−
Ｌ−１３：−ＡＬ−ＣＯ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＡＬ−
Ｌ−１４：−ＡＬ−ＣＯ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−
Ｌ−１５：−ＣＯ−ＡＲ−Ｏ−ＡＬ−
Ｌ−１６：−ＣＯ−ＡＲ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−
Ｌ−１７：−ＣＯ−ＡＲ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−
Ｌ−１８：−ＣＯ−ＮＨ−ＡＬ−
Ｌ−１９：−ＮＨ−ＡＬ−Ｏ−
Ｌ−２０：−ＮＨ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−
【００４４】
Ｌ−２１：−Ｏ−ＡＬ−
Ｌ−２２：−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−
Ｌ−２３：−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−
Ｌ−２４：−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−ＮＨ−ＡＬ−
Ｌ−２５：−Ｏ−ＡＬ−Ｓ−ＡＬ−
Ｌ−２６：−Ｏ−ＣＯ−ＡＬ−ＡＲ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−
Ｌ−２７：−Ｏ−ＣＯ−ＡＲ−Ｏ−ＡＬ−ＣＯ−
Ｌ−２８：−Ｏ−ＣＯ−ＡＲ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−
Ｌ−２９：−Ｏ−ＣＯ−ＡＲ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−
Ｌ−３０：−Ｏ−ＣＯ−ＡＲ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−
Ｌ−３１：−Ｓ−ＡＬ−
Ｌ−３２：−Ｓ−ＡＬ−Ｏ−
Ｌ−３３：−Ｓ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−
Ｌ−３４：−Ｓ−ＡＬ−Ｓ−ＡＬ−
Ｌ−３５：−Ｓ−ＡＲ−ＡＬ−
【００４５】
式（ＩＩ）の重合性基（Ｑ）は、重合反応の種類に応じて決定する。重合性基（Ｑ）の定義および例は、式（Ｉ）におけるＱ１およびＱ２の定義および例と同様である。
複数のＬとＱの組み合わせは、異なっていてもよいが、同一であることが好ましい。二種類以上の円盤状液晶性化合物（例えば、二価の連結基に不斉炭素原子を有する分子と有していない分子）を併用してもよい。
【００４６】
液晶性化合物から形成する光学異方性層には、液晶性化合物をホモジニアスで均一に配向させるために水平配向促進剤を添加することが好ましい。
水平配向促進剤は、高分子化合物と低分子化合物とに分類できる。高分子型水平配向促進剤の例には、ポリビニルブチラール、ポリメラミンおよびポリメチルメタクリレートが含まれる。低分子型水平配向促進剤の例は、以下に示す。
【００４７】
【化２】
【００４８】
【化３】
【００４９】
【化４】
【００５０】
【化５】
【００５１】
【化６】
【００５２】
【化７】
【００５３】
【化８】
【００５４】
【化９】
【００５５】
【化１０】
【００５６】
【化１１】
【００５７】
【化１２】
【００５８】
【化１３】
【００５９】
水平配向促進剤は、液晶性化合物の量に対して、０．００１乃至５質量％の範囲で添加することが好ましく、０．０５乃至１質量％の範囲で添加することがさらに好ましい。
【００６０】
光学異方性層は、液晶性化合物および下記の重合性開始剤や他の添加剤を含む塗布液を、配向膜の上に塗布することで形成することができる。
塗布液の調製に使用する溶媒としては、有機溶媒が好ましく用いられる。有機溶媒の例には、アミド（例、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド）、スルホキシド（例、ジメチルスルホキシド）、ヘテロ環化合物（例、ピリジン）、炭化水素（例、ベンゼン、ヘキサン）、アルキルハライド（例、クロロホルム、ジクロロメタン）、エステル（例、酢酸メチル、酢酸ブチル）、ケトン（例、アセトン、メチルエチルケトン）、エーテル（例、テトラヒドロフラン、１，２−ジメトキシエタン）が含まれる。アルキルハライドおよびケトンが好ましい。二種類以上の有機溶媒を併用してもよい。
塗布液の塗布は、公知の方法（例、押し出しコーティング法、ダイレクトグラビアコーティング法、リバースグラビアコーティング法、ダイコーティング法）により実施できる。
【００６１】
配向させた液晶性化合物は、配向状態を維持して固定する。固定化は、液晶性化合物に導入した重合性基（Ｑ）の重合反応により実施することが好ましい。重合反応には、熱重合開始剤を用いる熱重合反応と光重合開始剤を用いる光重合反応とが含まれる。光重合反応が好ましい。光重合開始剤の例には、α−カルボニル化合物（米国特許２３６７６６１号、同２３６７６７０号の各明細書記載）、アシロインエーテル（米国特許２４４８８２８号明細書記載）、α−炭化水素置換芳香族アシロイン化合物（米国特許２７２２５１２号明細書記載）、多核キノン化合物（米国特許３０４６１２７号、同２９５１７５８号の各明細書記載）、トリアリールイミダゾールダイマーとｐ−アミノフェニルケトンとの組み合わせ（米国特許３５４９３６７号明細書記載）、アクリジンおよびフェナジン化合物（特開昭６０−１０５６６７号公報、米国特許４２３９８５０号明細書記載）およびオキサジアゾール化合物（米国特許４２１２９７０号明細書記載）が含まれる。
【００６２】
光重合開始剤の使用量は、塗布液の固形分の０．０１乃至２０質量％であることが好ましく、０．５乃至５質量％であることがさらに好ましい。液晶性化合物の重合のための光照射は、紫外線を用いることが好ましい。照射エネルギーは、２０ｍＪ／ｃｍ２乃至５０Ｊ／ｃｍ２であることが好ましく、１００ｍＪ／ｃｍ２乃至８００ｍＪ／ｃｍ２であることがさらに好ましい。光重合反応を促進するため、加熱条件下で光照射を実施してもよい。また、空気中の酸素（酸素は重合阻害作用を有する）の影響を排除するため、窒素雰囲気下で光照射を実施してもよい。
光学異方性層の厚さは、０．１乃至１０μｍであることが好ましく、０．５乃至５μｍであることがさらに好ましい。
【００６３】
［配向膜］
液晶性化合物を配向させるために配向膜を用いることが好ましい。
配向膜は、有機化合物（好ましくはポリマー）のラビング処理、無機化合物の斜方蒸着、マイクログルーブを有する層の形成、あるいはラングミュア・ブロジェット法（ＬＢ膜）による有機化合物（例、ω−トリコサン酸、ジオクタデシルメチルアンモニウムクロライド、ステアリル酸メチル）の累積のような手段で、設けることができる。さらに、電場の付与、磁場の付与あるいは光照射により、配向機能が生じる配向膜も知られている。ポリマーのラビング処理により形成する配向膜が特に好ましい。ラビング処理は、ポリマー層の表面を、紙や布で一定方向に、数回擦ることにより実施する。
【００６４】
本発明では、棒状液晶性化合物または円盤状液晶性化合物をホモジニアスに配向させることが好ましい。ただし、同じ「ホモジニアス」と称していても、棒状液晶性化合物と円盤状液晶性化合物とは、著しく相違する。従って、配向膜に使用するポリマーは、液晶化合物の種類（棒状液晶性化合物または円盤状液晶性化合物）に応じて決定する必要がある。
棒状液晶性化合物をホモジニアス（水平）に配向させるためには、配向膜の表面エネルギーを低下させないポリマー（通常の配向膜用ポリマー）を用いる。
円盤状液晶性化合物をホモジニアス（垂直）に配向させるためには、配向膜の表面エネルギーを低下させるポリマーを用いる。配向膜の表面エネルギーを低下させるためには、ポリマーの側鎖に炭素原子数が１０乃至１００の炭化水素基を導入することが好ましい。
【００６５】
具体的なポリマーの種類については、液晶セル（主に棒状液晶性化合物）または光学補償シート（主に円盤状液晶性化合物）についての様々な文献に記載がある。
配向膜の厚さは、０．０１乃至５μｍであることが好ましく、０．０５乃至１μｍであることがさらに好ましい。
なお、配向膜を用いて、光学異方性層の液晶化合物を配向させてから、液晶層を透明支持体上に転写してもよい。配向状態で固定された液晶化合物は、配向膜がなくても配向状態を維持することができる。
【００６６】
λ／４板を形成する上で、二つの光学異方性層の組み合わせ方の前記第１の態様では、光学異方性層の面内の遅相軸と透明支持体の長手方向との角度を実質的に７５゜または１５゜に設定することが好ましい。
一般的な配向膜は、ラビング方向と、液晶性化合物からなる光学異方性層の遅相軸方向とが平行になる。光学異方性層の面内の遅相軸と透明支持体の長手方向との角度を実質的に１５゜に設定する場合は、一般的な配向膜（平行型配向膜）を用いて、透明支持体の長手方向に対して１５゜の方向にラビング処理を実施することが好ましい。すなわち、透明支持体の長手方向と、ラビング方向との角度は、なるべく小さい角度（７５゜よりも１５゜）になることが好ましい。
【００６７】
一方、光学異方性層の面内の遅相軸と透明支持体の長手方向との角度を実質的に７５゜に設定する場合は、特別な配向膜（直交型配向膜）を用いて、透明支持体の長手方向に対して１５゜の方向にラビング処理を実施することが好ましい。直交型配向膜を用いると、ラビング方向と、液晶性化合物からなる光学異方性層の遅相軸方向とを実質的に垂直にすることができる。その結果、透明支持体の長手方向と、ラビング方向との角度を、なるべく小さい角度（７５゜よりも１５゜）に設定できる。
【００６８】
直交型配向膜は、下記式（ＩＩＩ）または（ＩＶ）で表される繰り返し単位と、下記式（Ｖ）または（ＶＩ）で表される繰り返し単位とを含むコポリマーを含むことが好ましい。
【００６９】
【化１４】
【００７０】
式（ＩＩＩ）において、Ｒ１は、水素原子（アクリル酸コポリマー）またはメチル（メタクリル酸コポリマー）である。
式（ＩＩＩ）において、Ｍは、プロトン，アルカリ金属（例、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ）イオンまたはアンモニウムイオンである。アンモニウムイオンは、有機基（例、メチル、エチル）により置換されていてもよい。
式（ＩＩＩ）および（ＩＶ）において、ｍは、１０乃至９５モル％である。
【００７１】
式（Ｖ）および（ＶＩ）において、Ｒ２は、水素原子、ハロゲン原子または炭素原子数が１乃至６のアルキル基である。Ｒ２は、水素原子または炭素原子数が１乃至６のアルキル基であることが好ましく、水素原子、メチルまたはエチルであることがさらに好ましく、水素原子またはメチルであることが最も好ましい。
【００７２】
式（Ｖ）において、Ｃｙは、脂肪族環基、芳香族基または複素環基である。
脂肪族環基の脂肪族環は、５員乃至７員環であることが好ましく、５員環または６員環であることがさらに好ましく、６員環であることが最も好ましい。脂肪族環の例には、シクロヘキサン環、シクロヘキセン環およびビシクロ［２．２．１］ヘプタ−２−エン環が含まれる。脂肪族環に、他の脂肪族環、芳香族環または複素環が縮合していてもよい。
芳香族基の芳香族環の例には、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環、フェナントレン環、ピレン環およびナフタセン環が含まれる。芳香族環に、脂肪族環または複素環が縮合していてもよい。
複素環基の複素環は、５員乃至７員環であることが好ましく、５員環または６員環であることがさらに好ましい。複素環は、芳香族性を有することが好ましい。芳香族性複素環は、一般に不飽和であり、好ましくは最多二重結合を有する。複素環の例には、フラン環、チオフェン環、ピロール環、オキサゾール環、イソオキサゾール環、イソチアゾール環、イミダゾール環、ピラゾール環、フラザン環、ピラン環、ピリジン環、ピリダジン環、ピリミジン環およびピラジン環が含まれる。複素環に、他の複素環、脂肪族環または芳香族環が縮合していてもよい。
【００７３】
脂肪族環基、芳香族基および複素環基は、置換基を有していてもよい。置換基の例には、アルキル基（例、メチル、エチル、ｔ−ブチル）、置換アルキル基（例、クロロメチル、ヒドロキシメチル、塩化トリメチルアンモニオ）、アルコキシ基（例、メトキシ）、ハロゲン原子（Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ）、カルボキシル、アシル基（例、ホルミル）、アミノ、スルホ、アリール基（例、フェニル）、アリールオキシ基（例、フェノキシ）およびオキソが含まれる。
【００７４】
式（ＶＩ）において、Ｌ１は、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＮＲ−、−ＳＯ２−、アルキレン基、アルケニレン基、アリーレン基およびそれらの組み合わせからなる群より選ばれる二価の連結基である。Ｒは、水素原子または炭素原子数が１乃至６のアルキル基である。
式（ＶＩ）において、Ｒ３は、少なくとも二個の芳香族環または芳香族性複素環を含む炭素原子数が１０乃至１００である一価の基である。芳香族環および芳香族性複素環の定義および例は、式（Ｖ）のＣｙにおける芳香族環および芳香族性複素環の定義および例と同様である。
式（Ｖ）および（ＶＩ）において、ｎは、９０乃至５モル％である。
【００７５】
式（ＩＶ）で表される繰り返し単位を含むコポリマーは、変性ポリビニルアルコールの一種である。変性ポリビニルアルコールのポリビニルアルコール部分に相当する式（ＩＶ）で表される繰り返し単位は、ケン化度が１００％である必要はない。言い換えると、変性ポリビニルアルコールは、下記式（ＶＩＩ）で表される酢酸ビニルに対応する繰り返し単位を含むことができる。
【００７６】
【化１５】
【００７７】
式（ＶＩＩ）において、ｋは、０．０１乃至２０モル％である。
コポリマーは、さらに重合性基を有する繰り返し単位を含むことができる。重合性基を有する繰り返し単位は、下記式（ＶＩＩＩ）で表されることが好ましい。
【００７８】
【化１６】
【００７９】
式（ＶＩＩＩ）において、Ｒ４は、水素原子、ハロゲン原子または炭素原子数が１乃至６のアルキル基である。Ｒ４は、水素原子または炭素原子数が１乃至６のアルキル基であることが好ましく、水素原子、メチル基またはエチル基であることがさらに好ましく、水素原子またはメチル基であることが最も好ましい。
式（ＶＩＩＩ）において、Ｌ２は、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＮＲ−、−ＳＯ２−、アルキレン基、アルケニレン基、アリーレン基およびそれらの組み合わせからなる群より選ばれる二価の連結基である。Ｒは、水素原子または炭素原子数が１乃至６のアルキル基である。
式（ＶＩＩＩ）において、Ｑは重合性基である。重合性基の定義および例は、液晶性化合物の重合性基の定義および例と同様である。
式（ＶＩＩＩ）において、ｐは、０．１乃至２０モル％である。
配向膜に、二種類以上のポリマーを併用してもよい。
【００８０】
［ポリマーフィルム］
本発明の高透過率導電性フィルムでは、ポリマーフィルムを支持体として用いる。本発明の高透過率導電性フィルムが塗布型λ／４板の場合、ポリマーフィルムそれ自体がλ／４板の透明支持体も兼ねる。
ポリマーフィルムとしては、セルロースエステル（例、トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロース、プロピオニルセルロース、ブチリルセルロース、アセチルプロピオニルセルロース、ニトロセルロース）、ポリアミド、ポリカーボネート、ポリエステル（例、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリ−１，４−シクロヘキサンジメチレンテレフタレート、ポリエチレン−１，２−ジフェノキシエタン−４，４’−ジカルボキシレート、ポリブチレンテレフタレート）、ポリスチレン（例、シンジオタクチックポリスチレン）、ポリオレフィン（例、ポリプロピレン、ポリエチレン、ポリメチルペンテン）、環状ポリオレフィン、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリアリレート、ポリエーテルイミド、ポリメチルメタクリレートおよびポリエーテルケトンが含まれる。ポリマーフィルムとして、複屈折のない（レターデーションの小さな）フィルムを用いることが好ましい。そのようなものとしては、トリアセチルセルロース、ポリカーボネート、ポリスルホン、ポリアリレート、ポリエーテルスルホンなどが望ましい。なかでも、インナータイプタッチパネルに用いる場合などには上部基板は偏光板を有するが、この偏光板に用いられるトリアセチルセルロースと熱や湿度に対する線膨張係数を合わせる観点、またコスト面から、トリアセチルセルロースを用いるのが特に好ましい。トリアセチルセルロースフィルムの作製法は、公開技報番号２００１−１７４５にて公開されたものが好ましく用いられる。
ポリマーフィルムの光透過率は、８０％以上であることが好ましく、８６％以上であることがさらに好ましい。ヘイズは、２．０％以下であることが好ましく、１．０％以下であることがさらに好ましい。屈折率は、１．４〜１．７であることが好ましい。
【００８１】
（ハードコート層）
ポリマーフィルムと高屈折率層の間にはハードコート層を設けることが望ましい。ポリマーフィルムが塗布型λ／４板の場合には、透明支持体と光学異方性層の間にハードコート層を設けてもよいし、光学異方性層と高屈折率層の間に設けてもよい。また、透明支持体の光学異方性層を設けた面とは反対側の面上に、ハードコート層、高屈折率層，２、透明導電膜を設けてもよい（図１の上部基板２０の構成）。ハードコート層に用いる材料としては、フッ素系樹脂、アクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、ウレタン系樹脂、シリコン系樹脂、プロピレン系樹脂、ビニル系樹脂などの高分子を単独、または、混合で用いることができる。また、高分子中に無機酸化物微粒子を分散してコートすることも好ましい。無機酸化物微粒子としては、ＳｉＯ２、Ａｌ２Ｏ３、ＴｉＯ２、ＺｒＯ２、ＳｎＯ２などがあるが、特にＳｉＯ２、Ａｌ２Ｏ３が望ましい。また、無機物のみをスパッタ法などの方法でコートしてもよい。
コートする膜厚としては０．３μｍ以上５０μｍ以下が好ましく、さらに好ましくは０．５ｎｍ以上１０μｍ以下であり、特に好ましくは１μｍ以上４μｍ以下である。
また、ハードコート層の屈折率は、高屈折率層の屈折率以下であることが好ましく、１．６以下であることがより好ましく、１．５５以下であることがさらに好ましい。
【００８２】
（高屈折率層）
本発明に用いる高屈折率層は、ベースとなるλ／４板機能を有するポリマーフィルムより屈折率が高い必要がある。しかし、屈折率が低すぎると光の透過率向上の効果が少なくなる傾向があり、一方、屈折率が高すぎると、特定の波長の光の透過率は高くなるが、可視光全域で高い透過率が得られなくなる可能性がある。したがって、屈折率は１．６〜２．６が好ましく、１．６〜２．０がさらに好ましい。特に好ましくは１．６〜１．９である。
【００８３】
高屈折率層は、無機微粒子と重合性モノマーの硬化物で形成される。例えば、屈折率の高い無機微粒子、アニオン性分散剤、３官能以上の重合性基を有するモノマー、および重合開始剤を含有する硬化性組成物を塗布、乾燥し、熱および／または電離放射線によりモノマーを重合させ硬化させることによって形成することができる。このようにして形成された高屈折率層は、高屈折率を有するポリマー溶液を塗布、乾燥したものと比較して、耐傷性や密着性に優れる。
高屈折率層の屈折率は、主に、上記モノマーが重合、硬化してなる硬化性樹脂と、無機微粒子の屈折率により決まるので、モノマーや無機微粒子の選択により調整することができる。
【００８４】
屈折率の高い無機微粒子としては、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｉｎ、Ｚｎ、Ｓｎ、Ｓｂの酸化物が挙げられ、この中から選ばれる少なくとも１種の金属酸化物を含む無機微粒子が好ましい。無機微粒子の平均粒径は、コールターカウンター法で測定したときの平均粒径で１から１００ｎｍであることが好ましい。１ｎｍ以下では、比表面積が大きすぎるために、塗布液中に分散させた際の安定性に乏しく、好ましくない。１００ｎｍ以上では、上記モノマーが重合、硬化してなる硬化性樹脂との屈折率差に起因する可視光の散乱が発生し、好ましくない。
３官能以上の重合性基を含有するモノマーとしては、多官能（メタ）アクリレートモノマーが挙げられる。また、アニオン性分散剤としては、アニオン性基を含有するモノマー（（メタ）アクリレートモノマーなど）が挙げられる。分散液安定性や、硬化後の膜強度等を確保するために、特開平１１−１５３７０３号公報や特許番号ＵＳ６２１０８５８ Ｂ１等に記載されているような、多官能（メタ）アクリレートモノマーとアニオン性基含有（メタ）アクリレート分散剤とが塗布組成物中に含まれることが好ましい。
重合開始剤は、例えば、紫外線によりラジカルを発生させる、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、ミヒラーのケトン、ベンゾイルベンゾエート、ベンゾイン類、α−アシロキシムエステル、テトラメチルチウラムモノサルファイドおよびチオキサントン等の公知のラジカル発生剤が使用できる。また通常、光酸発生剤として用いられるスルホニウム塩やヨードニウム塩なども紫外線照射によりラジカル発生剤として作用するため、これらを単独で用いてもよい。また、感度を高める目的で重合開始剤に加えて、増感剤を用いてもよい。増感剤の例には、ｎ−ブチルアミン、トリエチルアミン、トリ−ｎ−ブチルホスフィン、およびチオキサントン誘導体等が含まれる。重合開始剤は、単独でも複数開始剤を組み合わせて用いてもよい。重合開始剤の添加量としては、高屈折率層を形成するための硬化性組成物中に含まれる硬化性樹脂の総質量に対し、０．１乃至１５質量％の範囲で使用することが好ましく、１乃至１０質量％の範囲で使用することがさらに好ましい。
硬化させる際に照射する電離放射線としては、ガンマー線、アルファー線、電子線、紫外線などが挙げられるが、なかでも紫外線が好ましい。
【００８５】
（中間層）
本発明に用いる中間層は、高屈折率層より屈折率が低い必要があるが、屈折率が高すぎると透過率の向上効果が少ない。また、屈折率が低すぎると膜の強度が低くなり、タッチパネル化した時の、入力の際に受ける入力ペンからの荷重で破壊される可能性がある。したがって、屈折率は１．３０〜１．６５が望ましく、１．３５〜１．６０が更に望ましい。より望ましくは１．４〜１．５７である。
【００８６】
中間層は、熱もしくは電離放射線の照射により硬化する、含フッ素硬化性樹脂および／または３官能以上の重合性基を有する硬化性樹脂を主体とする層であることが好ましく、さらに、無機微粒子やその他の添加剤を含んでもよい。
熱もしくは電離放射線の照射により硬化する硬化性樹脂としては、同一分子内に２個以上のアクリル基を有する硬化性樹脂が好ましい。具体例としては、エチレングリコールジアクリレート、１，６−へキサンジオールジアクリレート、ビスフェノール−Ａジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート等のポリオールポリアクリレート類、ポリイソシアネート硬化性樹脂とヒドロキシエチルアクリレート等の水酸基含有アクリレートの反応によって得られる多官能のウレタンアクリレートやポリエポキシ硬化性樹脂とヒドロキシエチルアクリレート等の水酸基含有アクリレート（メタアクリレート）の反応によって得られる多官能のエポキシアクリレート等を挙げることができる。さらに、以下のＡ−１からＡ−４４等のエチレン性不飽和基を側鎖に有するポリマーを用いることもできる。
【００８７】
【化１７】
【００８８】
【化１８】
【００８９】
【化１９】
【００９０】
【化２０】
【００９１】
【化２１】
【００９２】
中間層の低屈折率化のために、含フッ素硬化性樹脂を用いるのが好ましい。該含フッ素硬化性樹脂としては、パーフルオロアルキル基含有シラン化合物（例えば（ヘプタデカフルオロ−１，１，２，２−テトラデシル）トリエトキシシラン）等の他、含フッ素モノマーと架橋性基付与のためのモノマーを構成単位とする含フッ素共重合体が挙げられる。
含フッ素モノマー単位の具体例としては、例えばフルオロオレフィン類（例えばフルオロエチレン、ビニリデンフルオライド、テトラフルオロエチレン、ヘキサフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、パーフルオロ−２，２−ジメチル−１，３−ジオキソール等）、（メタ）アクリル酸の部分または完全フッ素化アルキルエステル誘導体類（例えばビスコート６ＦＭ（大阪有機化学製）やＭ−２０２０（ダイキン製）等）、完全または部分フッ素化ビニルエーテル類等であり、これらのなかでも低屈折率、モノマーの扱いやすさの観点で特にヘキサフルオロプロピレンが好ましい。
架橋性基付与のためのモノマーとしてはグリシジルメタクリレートのように分子内にあらかじめ架橋性官能基を有する（メタ）アクリレートモノマーの他、カルボキシル基やヒドロキシル基、アミノ基、スルホン酸基等を有する（メタ）アクリレートモノマー（例えば（メタ）アクリル酸、メチロール（メタ）アクリレート、ヒドロキシアルキル（メタ）アクリレート、アリルアクリレート等）が挙げられる。後者は共重合の後、架橋構造を導入できることが特開平１０−２５３８８号公報および特開平１０−１４７７３９号公報により開示されており、特に好ましい。
また上記含フッ素モノマーを構成単位とするポリマーだけでなく、フッ素原子を含有しないモノマーとの共重合体を用いてもよい。併用可能なモノマー単位には特に限定はなく、例えばオレフィン類（エチレン、プロピレン、イソプレン、塩化ビニル、塩化ビニリデン等）、アクリル酸エステル類（アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸２−エチルヘキシル）、メタクリル酸エステル類（メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸ブチル、エチレングリコールジメタクリレート等）、スチレン誘導体（スチレン、ジビニルベンゼン、ビニルトルエン、α−メチルスチレン等）、ビニルエーテル類（メチルビニルエーテル等）、ビニルエステル類（酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、桂皮酸ビニル等）、アクリルアミド類（Ｎ−ｔｅｒｔブチルアクリルアミド、Ｎ−シクロヘキシルアクリルアミド等）、メタクリルアミド類、アクリロ二トリル誘導体等を挙げることができ、特開平１０−２５３８８号公報および特開平１０−１４７７３９号公報により開示されている。
【００９３】
中間層と透明導電膜の間の密着性を向上するためには、後述の易接着処理を施すが、密着性を効果的に向上するためには、中間層に使用する含フッ素硬化性樹脂や３官能以上の重合性基を有する電離放射線硬化性樹脂が、易接着処理で、分子鎖を切断された時に、表面に−ＣＯＯＨ基および／または−ＯＨ基を発生することが好ましく、特に−ＣＯＯＨ基を発生するのが好ましい。また、そのような官能基を発生する添加成分を加えてもよい。このような官能基を発生するためには、硬化後の分子鎖中に−ＣＯＯ−結合を有する樹脂を選択するのがよい。
【００９４】
中間層の屈折率の調整や硬度付与のために、無機微粒子を含有させることが好ましく、Ｓｉの酸化物からなる微粒子が望ましい。Ｓｉの酸化物からなる微粒子としては、市販の有機溶剤に分散されたシリカゾルをそのまま塗布液に添加しても、市販の各種シリカ紛体を有機溶剤に分散して使用してもよい。
【００９５】
高屈折率層，中間層およびハードコート層の各層は、ディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート、マイクログラビア法やエクストルージョンコート法（米国特許２６８１２９４号明細書）により、塗布により形成することができる。ウエット塗布量を最小化することで乾燥ムラをなくす観点でマイクログラビア法およびグラビア法が好ましく、幅方向の膜厚均一性の観点で特にグラビア法が好ましい。
本発明においては、高透過率導電性フィルムを構成する層（高屈折率層、中間層、および形成する場合は光学異方性層、ハードコート層を含む）のうち少なくとも２層以上は塗布法で形成し、かつ、少なくとも２層以上の塗布層、好ましくは３層以上の塗布層が、該支持体を一回送り出してから巻き取るまでの間の一工程中に連続で形成されることが望ましく、該支持体を一回送り出してから巻き取るまでの間の一工程中に全塗布層が連続で形成されることが特に望ましい。
【００９６】
（易接着処理）
中間層の上に透明導電性膜を処理する前には易接着処理するのが望ましく、用途によっては、易接着処理をしないと透明導電性膜の密着性が不十分で、使用中に膜剥離や膜破壊が発生する可能性がある。易接着処理としては、ＵＶ照射処理、エキシマＵＶ処理、真空プラズマ処理、減圧プラズマ処理、常圧プラズマ処理、コロナ放電処理、イオンビーム照射処理、ケン化処理などがある。密着性改善効果と処理速度の面からは、特に真空プラズマ処理、常圧プラズマ処理、減圧プラズマ処理、コロナ放電処理、イオンビーム照射処理、ケン化処理が好ましい。生産性上の観点からは、易接着処理プロセスは、高屈折率層および中間層の塗布工程後に、ロールで巻き取る前に減圧プラズマ処理、常圧プラズマ処理、コロナ放電処理、イオンビーム処理、ケン化処理連続で処理するか、または、透明導電性膜の形成前に、真空中で真空プラズマ処理で処理し、連続で透明導電膜を形成するのが望ましい。
【００９７】
（透明導電膜）
本発明の高透過率導電性フィルムおよびタッチパネルに用いる透明導電膜は、表面抵抗率が２０００Ω／□以下であることが好ましく、１０００Ω／□以下であることがさらに好ましい。特に好ましくは１００Ω／□以上９００Ω／□以下である。
【００９８】
フィルム上に透明導電膜を形成するには、ロール式の連続スパッタ装置を用いることが好ましい。本発明の高透過率導電性フィルムをアウタータイプの上部基板に用いる場合は透明導電膜と反対側の面にハードコート層と反射防止膜を設けるのが望ましいが、その場合は、透明電極膜を成膜する前に、ハードコート層と反射防止膜を設けるのが望ましい
【００９９】
表面抵抗率が上記のような値の透明導電膜は、導電性微粒子分散物、金属アルコキシドなどを塗布によって設けても構わないし、スパッタリング、真空蒸着法、イオンプレーティング法、ＣＶＤ法などの真空成膜法、あるいは大気圧での気相成長法によって透明導電膜を形成しても構わない。好ましい形成法はスパッタリング、真空蒸着、イオンプレーティングであり、特に好ましくはスパッタリング法である。
【０１００】
真空成膜法としては「透明導電膜の新展開」シーエムシー、澤田豊監修「月刊ディスプレイ」１９９９年９月号に記載の方法を用いることができる。
成膜する透明導電性金属酸化物としてはＩｎ２Ｏ３系（Ｓｎなどのドープ品、ＩＴＯを含む）、ＳｎＯ２系（Ｆ、Ｓｂなどのドープ品を含む）、ＺｎＯ系（Ａｌ、Ｇａなどのドープ品を含む）およびこれらの複合酸化物、例えばＩｎ２Ｏ３−ＺｎＯ系、などが挙げられる。金属窒化物としてはＴｉＮなどが挙げられる。また、銀などと共に成膜してもよい。
【０１０１】
スパッタ法により酸化インジウムを主成分とする膜を成膜する方法としては、インジウムを主成分とする金属ターゲット、または酸化インジウムを主成分とする焼結体ターゲットを用いた反応性スパッタリングが適する。反応を制御する上では、後者が好ましい。特に好ましくは酸化スズを含有する酸化インジウムターゲットを用いた反応性スパッタリングであり、酸化スズを１質量％から２０質量％含むのが望ましく、３質量％から１２質量％含むのが特に望ましい。反応性スパッタリング法においてはスパッタリングガスに、アルゴンなどの不活性ガスを用い、反応性ガスとしては酸素を用いる。また、酸素流量の制御はプラズマエミッションモニター法で行うことが好ましい。放電形式は特に規定しないが、ＤＣマグネトロンスパッタ、ＲＦマグネトロンスパッタ、１対のターゲット間にＡＣ電圧を印加する方法、１対のターゲット間にパルスＤＣ電圧を印加する方法などが好ましい。成膜時の基板の温度は特に規定はないが、基板のガラス転移点以下で可能な範囲で加熱した方が膜強度が向上する傾向がある。
【０１０２】
透明導電膜が形成された状態で、本発明の高透過率導電性フィルムの波長５５０ｎｍにおける光の透過率は、９０％以上であることが好ましく、９２％以上であることがより好ましく、９３％以上であることがさらに好ましく、９４％以上であることが特に好ましい。
さらに、４５０ｎｍ、５５０ｎｍ、６５０ｎｍの全ての波長で、透過率が９０％以上、更に好ましくは９２％以上であると、ディスプレイに搭載した際に、透過光の色変化が少なく、特に好ましい。
【０１０３】
透明導電膜の厚みは、ＩＴＯを用いた場合を例にとると、５〜２００ｎｍが好ましく、より好ましくは５〜１５０ｎｍ、更に好ましくは５ｎｍ〜３０ｎｍ、最も好ましくは７〜２０ｎｍである。
透明導電膜は、タッチパネルに用いる際には、全面を電極として用いる場合と、全面に電極を形成した後にレジスト形成およびエッチングを行ってパターン加工して用いる場合がある。
【０１０４】
（円偏光機能付上部基板）
本発明のタッチパネルでは、外光の反射防止の点から、上部基板が円偏光機能を有することが望ましい。
円偏光機能付上部基板は、偏光能を持つ偏光膜を有し、通常該偏光膜の両面又は片面に保護膜が接着剤層を介して設けられ、さらに片面側には、λ／４板が設けられる。λ／４板として、本発明のλ／４板機能を有する高透過率導電性フィルムを用いるのが、低コストで薄型・軽量化でき、好ましい。
【０１０５】
液晶材料や配向方向、視野角特性などの観点から、λ／４板の遅相軸と偏光膜の透過軸とのなす角度は４５°とするのが好ましい。
また、λ／４板の光の波長に対する位相遅れの公差を補償するために、偏光膜とλ／４板との間にλ／２板を配置することもある。
【０１０６】
また、ポリマーフィルム上に２層の光学異方性層が塗布されて形成されたλ／４板の場合は、第１の光学異方性層であるλ／２層の遅相軸と、第２の光学異方性層であるλ／４層の遅相軸とが、実質的に６０゜で交差しているのが望ましい。さらに、偏光膜との貼り合わせた際に、偏光膜の偏光軸と、一方の光学異方性層の遅相軸とが、実質的に７５゜で交差しており、そして、偏光膜の偏光軸と、もう一方の光学異方性層の遅相軸とが、実質的に１５゜で交差していることが望ましい。
【０１０７】
一般に、λ／４板、λ／２板などの位相差板は疎水性であり、透湿性が低くなるので、通常１０％以上と比較的含水率の高い偏光膜と直に貼り合わせると、偏光膜中の水が偏光板外に揮発するまでの時間が長くなり、偏光度が低下したり、色ムラを生じたりするため、好ましくない。したがって、通常は、λ／４板が偏光膜の保護膜を兼ねることができず、偏光板としては、保護膜／偏光膜／保護膜／（λ／４板）の構成となる。
しかし、最終的に偏光膜の含水率を５％以下の少ない状態に乾燥すると、λ／４板のように透湿性の低いフィルムを偏光膜の保護膜として、偏光膜に直接貼り合わせることができ、結果として、保護膜の使用枚数を減らすこととなり、偏光板全体の厚みを薄くすることができるので、この構成が好ましい。
また、セルロースエステルフィルムを用いたλ／４板を用いると、偏光膜の保護膜として作用し、偏光膜の含水量を特に少ない状態にすることなく、偏光膜に直接貼り合せることができ、非常に好適である。セルロースエステルフィルムを用いたλ／４板としては、セルロースエステルフィルム中に位相差を生じる化合物を混合した後に延伸などの手法で配向させて、λ／４板を作製してもよいし、セルロースエステルフィルムの上に、λ／４の位相差を有する層を塗布など手段で形成してもよい。また、λ／４の位相差を有する層は１層で形成されていてもよいし、上記塗布型λ／４板のように、λ／２の位相差を有する層とλ／４の位相差を有する層を積層して、広帯域のλ／４板を作製してもよい。
【０１０８】
偏光膜の吸収軸は長尺の偏光膜においては一般に長手方向に位置しており、当然このような偏光板も、本発明に使用可能であるが、偏光膜の吸収軸が長手方向に平行でも垂直でもないことがさらに好ましい（かかる長尺の円偏光板を以下単に「斜め配向した」円偏光板と称することもある）。偏光膜の長手方向と吸収軸方向とがなす角度は、好ましくは１０°以上９０°未満、より好ましくは２０°以上７０゜未満、更に好ましくは４０°以上５０゜未満、特に好ましくは４４°以上４６゜未満である。これにより、貼合せ前に偏光板とλ／４板を打ち抜き、枚葉で貼り合せるということをせず、ロール・ツー・ロールの貼合せで連続的に長尺の円偏光版が作製することができ、非常に好適である。
【０１０９】
また、本発明に用いられる円偏光板の単板透過率は、５５０ｎｍで３５％以上、かつ偏光度が５５０ｎｍで８０％以上であることが好ましい。単板透過率は４０％以上であることがより好ましく、偏光度は好ましくは９５．０％以上、より好ましくは９９％以上、特に好ましくは９９．９％以上である。
【０１１０】
（タッチパネル）
本発明のタッチパネルは、例えば、表示装置が液晶表示装置の場合には、液晶セルに近い側の下部基板と、対向する上部基板とからなる。下部基板と上部基板の対向面に、それぞれ透明電極を備えている。
上部基板には上記の円偏光機能付上部基板を用いるとよい。下部基板は、組み合わせる液晶のモードによって変化するが、本発明のλ／４板機能付高透過導電性フィルムを用いるか、または、本発明のλ／４板機能付高透過導電性フィルムのλ／４板機能を除いた透明のポリマーフィルムを用いた高透過率導電性フィルムを用いると非常に効果的であり、画像透過性の良好なタッチパネルが作製可能である。ただし、高透過率化のために高屈折率層，中間層を用いるのは、上部基板か下部基板のどちらか片方でも、充分に効果がある。
上部基板に本発明の高透過率導電性フィルムを用いない場合は、フィルム、プラスチック、ガラスのどれでもよく、透明フィルムの例としては非晶性フィルム、ポリエーテルサルフォン、ポリカーボネート、ポリアリレート、ポリエチレンテレフタレート、セルロースエステル、環状ポリオレフィンなどのポリマーフィルムが挙げられるが、これに限るものではない。
また、インナータイプタッチパネルの場合は、上部基板としては、円偏光板を用いてもよいし、または上記で挙げた透明フィルム上に円偏光板を貼り合わせたものを用いてもよい。また、上部基板表面に反射防止膜やハードコート層を設けた透明フィルムを貼り付けてもよいし、反射防止膜やハードコート層を設けた透明フィルムをλ／４板とは逆側に位置する保護膜として直接偏光膜に貼り付けて、円偏光板として一体化してもよい。
下部基板としては、例えば、ガラスおよび非晶性フィルム、ポリエーテルサルフォン、ポリカーボネート、ポリアリレート、ポリエチレンテレフタレート、セルロースエステル、環状ポリオレフィンなどのポリマーフィルムなどを用いる。
【０１１１】
上部基板および下部基板の表面には透明導電膜が形成されるが、本発明の高透過率導電性フィルムを用いない場合でも、透明導電膜の形成方法は前記の（透明電極膜）の箇所に記載した内容と同様である。
【０１１２】
２つの透明導電膜間には、ギャップが形成される。ギャップ間には通常空気層が存在するが、オプティカル・マッチングを取るために透明導電膜と屈折率の近い液体を充填させることもできる。また、透明導電膜の基板側にアンダーコート層、または、基板と反対側にオーバーコート層を付与し、光反射を低減させることもできる。スティッキング性をなくし、耐久性を改善するために、透明電極膜表面は粗面化されていてもよい。ギャップ間にはスペーサを設けることができる。スペーサとしては、ドット状スペーサを固定基板または可動基板のどちらかに設ける。ドットスペーサのサイズは径２０〜１５０μｍ、高さ５〜２０μｍが望ましく、ピッチ１〜８ｍｍで基板全面に作製されていることが望ましいが、作製密度は基板内で均一でない場合もある。
【０１１３】
タッチパネルによるデータ入力位置検出の方式は、デジタル式（マトリクス式）、アナログ式のどちらでも用いることができる。
デジタル式（マトリクス式）では、固定基板の透明導電膜（例えばＸ列）と可動基板の透明導電膜（例えばＹ列）とによりマトリクスを形成し、押圧による透明導電膜同士の接触位置に対応して、データ位置を検出することができる。
アナログ式では、例えば、固定基板のＸ軸方向の両端部、および、可動基板のＹ軸方向の両端部に電極を形成し、押圧により透明電極同士が接触し、接触位置により生じるＸ方向、Ｙ方向の抵抗値を検出することによって、データ入力位置を検出することができる。
本発明においては、タッチパネルは画像表示装置に組み込んで用いることが好ましいが、タッチパネルが表示部とは別々になっていても構わないし、両者が一体となっていても構わない。
【０１１４】
本発明のタッチパネルは、様々な表示装置と組み合わせて用いることができる。例えば、カソードレイチューブ（ＣＲＴ）、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、フィールド・エミッション・ディスプレイ（ＦＥＤ）、無機ＥＬディスプレイ、有機ＥＬディスプレイ、液晶表示装置などである。本発明のタッチパネルを用いることで、これらタッチパネル付き表示装置の外光の反射を低減することができる。これらの表示装置の中では、液晶表示装置または有機ＥＬディスプレイ、無機ＥＬディスプレイと組み合わせて用いるのが好ましい。
【０１１５】
液晶表示装置と組み合わせて用いる場合は、用いられる液晶モードは特に限定されないが、ＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）型、ＳＴＮ（Ｓｕｐｅｒ Ｔｗｉｓｔｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）型、ＨＡＮ（Ｈｙｂｒｉｄ Ａｌｉｇｎｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）型、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｅｄ Ｂｅｎｄ）型、ＥＣＢ（Ｅｌｅｃｔｒｉｃａｌｌｙ Ｃｏｎｔｒｏｌｌｅｄ Ｂｉｒｅｆｒｉｎｇｅｎｃｅ）型、ＶＡ（Ｖｅｒｔｉｃａｌｌｙ Ａｌｉｇｎｅｄ）型または、ＧＨ（Ｇｕｅｓｔ Ｈｏｓｔ）型であることが好ましい。また、反射型、半透過型、透過型いずれに対しても用いることができる。
【０１１６】
【実施例】
以下、実施例に基づき、本発明を具体的に説明するが、本発明は実施例に限定して解釈されるものではない。
【０１１７】
＜λ／４板の作製＞
（第１配向膜の形成）
厚さ１００μｍ、幅５００ｍｍ、長さ５００ｍの光学的等方性ロール状トリアセチルセルロースフィルム（屈折率１．４８、レターデーション値４ｎｍ）を透明支持体として用いた。
下記のコポリマー（１）の希釈液を透明支持体の片面に連続塗布して、厚さ０．５μｍの第１（直交型）配向膜を形成した。次いで、透明支持体の長手方向に対し右手１６°の方向に連続的にラビング処理を実施した。
【０１１８】
【化２２】
【０１１９】
（第１光学異方性層の形成）
第１配向膜の上に、下記の組成の塗布液をバーコーターを用いて連続的に塗布し、乾燥および加熱（配向熟成）し、さらに紫外線照射して厚さ１．６μｍの第１光学的異方性層を形成した。第１光学的異方性層は、透明支持体の長手方向に対して７４°の方向に遅相軸を有していた。波長５５０ｎｍにおけるレターデーション値は２２５ｎｍであった。
【０１２０】
（第１光学異方性層塗布液組成）
下記の棒状液晶性化合物（１） １４．５質量％
下記の増感剤 １．０質量％
下記の光重合開始剤 ３．０質量％
下記の水平配向促進剤 １．０質量％
メチルエチルケトン ８０．５質量％
【０１２１】
【化２３】
【０１２２】
【化２４】
【０１２３】
【化２５】
【０１２４】
（第２配向膜の形成）
第１光学異方性層の上に、下記のコポリマー（２）の希釈液を連続塗布して、厚さ０．５μｍの第２（平行型）配向膜を形成した。次いで、透明支持体の長手方向に対し左手１６°の方向（第１光学異方性層の遅相軸に対して右手５８゜の方向）に連続的にラビング処理を実施した。
【０１２５】
【化２６】
【０１２６】
（第２光学異方性層の形成）
第２配向膜の上に、下記の組成の塗布液をバーコーターを用いて連続的に塗布、乾燥、および加熱（配向熟成）し、さらに紫外線照射して厚さ０．８μｍの第２光学的異方性層を形成し、λ／４板を作製した。第２光学的異方性層は、透明支持体の長手方向に対して左手１６°の方向に遅相軸を有していた。波長５５０ｎｍにおけるレターデーション値は１１３ｎｍであった。
【０１２７】
（第２光学異方性層塗布液組成）
第１光学異方性層で用いた棒状液晶性化合物（１） １３．０質量％
第１光学異方性層で用いた増感剤 １．０質量％
第１光学異方性層で用いた光重合開始剤 ３．０質量％
第１光学異方性層で用いた水平配向促進剤 １．０質量％
メチルエチルケトン ８２．０質量％
【０１２８】
（λ／４板としての評価）
作製したλ／４板に、光（測定波長は４５０ｎｍ、５５０ｎｍ、５９０ｎｍ）を照射し、通過した光の位相差（レターデーション値：Ｒｅ）を測定した。なお、レターデーション値の測定は、王子計測機器（株）製ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨを用いて行った。
測定した結果は次の通りである。
【０１２９】
【０１３０】
＜導電性フィルムの作製＞
（塗布液Ａの調整）
ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物（ＤＰＨＡ、日本化薬（株）製）３０６質量部を、１６質量部のメチルエチルケトンと２２０質量部のシクロヘキサノンの混合溶媒に溶解した。得られた溶液に、光重合開始剤（イルガキュア９０７、チバガイギー社製）７．５質量部を加え、溶解するまで攪拌した後に、４５０質量部のＭＥＫ−ＳＴ（平均粒径１０〜２０ｎｍ、固形分濃度３０質量％のＳｉＯ２ゾルのメチルエチルケトン分散物、日産化学（株）製）を添加し、撹拌して混合物を得、孔径３μｍのポリプロピレン製フィルター（ＰＰＥ−０３）で濾過して塗布液Ａを調製した。
【０１３１】
（二酸化チタン分散物の調製）
二酸化チタン超微粒子（ＴＴＯ−５５Ｂ、石原テクノ（株）製）３０質量部、ジメチルアミノエチルアクリレート（ＤＭＡＥＡ、興人（株）製）１質量部、リン酸基含有アニオン性分散剤（ＫＡＹＡＲＡＤ ＰＭ０−２１、日本化薬（株）製）６質量部およびシクロヘキサノン６３質量部を、サンドグラインダーによって、コールター法で測定した平均粒径が４２ｎｍになるまで分散し、二酸化チタン分散物を調製した。
【０１３２】
（塗布液Ｂの調製）
シクロヘキサノン５４質量部およびメチルエチルケトン１８質量部に、光重合開始剤（イルガキュア９０７、チバガイギー社製）０．１３質量部および光増感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製）０．０４質量部を溶解した。さらに、上記二酸化チタン分散物２６．４質量部およびジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物（ＤＰＨＡ、日本化薬（株）製）１．６質量部を加え、室温で３０分間撹拌した後、孔径３μｍのポリプロピレン製フィルター（ＰＰＥ−０３）で濾過して、塗布液Ｂを調製した。
【０１３３】
（塗布液Ｃの調整）
ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物（ＤＰＨＡ、日本化薬（株）製）３０６質量部を、１６質量部のメチルエチルケトンと２２０質量部のシクロヘキサノンの混合溶媒に溶解した。得られた溶液に、光重合開始剤（イルガキュア９０７、チバガイギー社製）７．５質量部を加え、溶解するまで攪拌した後、孔径３μｍのポリプロピレン製フィルター（ＰＰＥ−０３）で濾過して塗布液Ｃを調製した。
【０１３４】
（塗布液Ｄの調製）
シクロヘキサノン７５質量部およびメチルエチルケトン１９質量部に、光重合開始剤（イルガキュア９０７、チバガイギー社製）０．１１質量部および光増感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製）０．０４質量部を溶解した。さらに、上記二酸化チタン分散物３．１質量部およびジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物（ＤＰＨＡ、日本化薬（株）製）２．１質量部を加え、室温で３０分間撹拌した後、孔径３μｍのポリプロピレン製フィルター（ＰＰＥ−０３）で濾過して、塗布液Ｄを調製した。
【０１３５】
［実施例１］
（高屈折率層，中間層の作製）
上記の通りに作製したλ／４板のトリアセチルセルロース支持体の光学異方性層のない面上に、上記の塗布液Ａを、グラビアコーターを用いて塗布し、１００℃で２分間乾燥した。次に紫外線を照射して、塗布層を硬化させ、ハードコート層（屈折率：１．５１、膜厚：３μｍ）を形成した。
続いて、ハードコート層上に上記の塗布液Ｂをグラビアコーターを用いて塗布し、１００℃で乾燥した後、紫外線を照射して塗布層を硬化させ、高屈折率層（屈折率：１．９０、膜厚：４０ｎｍ）を設けた。
高屈折率層の上に、上記の塗布液Ｃをグラビアコーターを用いて塗布し、１００℃で乾燥した後、紫外線を照射して塗布層を硬化させ、中間層（屈折率：１．５２５、膜厚：８０ｎｍ）を設けた。このようにしてλ／４板上に高屈折率層，中間層を作製した。
以上のハードコート層および高屈折率層，中間層は、支持体を一回送り出してから巻き取るまでの間の一工程中に連続で形成した。
【０１３６】
（易接着処理および透明導電膜の作製）
高屈折率層、中間層を形成した上記トリアセチルセルロースフィルムをロール式連続スパッタリング装置にセットして、易接着処理および透明導電性膜形成を連続で行った。スパッタ装置は上記２処理を連続で行えるように、異なる真空度に制御可能な２チャンバーを有しているものを用いた。易接着処理は真空槽を１．２ｍＰａの圧力まで排気した後、Ａｒガスを導入して、ガス圧を２．０Ｐａに調整した後、プラズマ処理用のマグネトロン電極にＤＣ電圧を３．８８ｋＷ／ｍ２印加し、その電極の前をフィルムを通過させた。処理時間は３分間とった。その後、スパッタチャンバーに搬送し、スパッタ処理を行った。スパッタチャンバーはＡｒ＋Ｏ２混合ガス（Ｏ２＝１．０％）を導入し、圧力を０．３Ｐａに調整した。基板温度を５０℃、投入電力密度１Ｗ／ｃｍ２で、ＤＣスパッタリングを行ない、厚み１５ｎｍの酸化スズを約１０質量％含有する酸化インジウム・酸化スズ膜（ＩＴＯ）を中間層上に形成した。
【０１３７】
このようにして得られた導電性フィルムＡの透明導電膜側の表面抵抗率を、４端子法にて測定した結果、５０２Ω／□であった。
光の透過率は４５０ｎｍ：９０．５％、５５０ｎｍ：９５．４％、６５０ｎｍ：９３．４％であり、波長５５０ｎｍにおける光の透過率が非常に大きな導電性フィルムが得られた。
【０１３８】
［実施例２］
高屈折率層，中間層を下記の通りに形成した以外は、実施例１と同じ方法で、導電性フィルムＢを作製した。
（高屈折率層，中間層の作製）
上記の通りに作製したλ／４板のトリアセチルセルロース支持体の光学異方性層のない面上に、上記の塗布液Ａを、グラビアコーターを用いて塗布し、１００℃で２分間乾燥した。次に紫外線を照射して、塗布層を硬化させ、ハードコート層（屈折率：１．５１、膜厚：３μｍ）を形成した。
続いて、ハードコート層上に上記の塗布液Ｄをグラビアコーターを用いて塗布し、１００℃で乾燥した後、紫外線を照射して塗布層を硬化させ、高屈折率層（屈折率：１．６３、膜厚：４０ｎｍ）を設けた。
高屈折率層の上に、上記の塗布液Ａをグラビアコーターを用いて塗布し、１００℃で乾燥した後、紫外線を照射して塗布層を硬化させ、中間層（屈折率：１．５１、膜厚：８０ｎｍ）を設けた。このようにしてλ／４板上に高屈折率層，中間層を作製した。
以上のハードコート層および高屈折率層，中間層は、支持体を一回送り出してから巻き取るまでの間の一工程中に連続で形成した。
このようにして得られた導電性フィルムＢの光の透過率は、４５０ｎｍ：９１．０％、５５０ｎｍ：９２．２％、６５０ｎｍ：９１．８％であり、可視光の全領域で透過率の高いニュートラルな色味の透明導電膜が得られた。
【０１３９】
［実施例３］
透明導電膜の膜厚を１２ｎｍにした以外は実施例２と同じ方法で、導電性フィルムＣを作製した。
このようにして得られた導電性フィルムＣの透明導電膜側の表面抵抗率を、４端子法にて測定した結果、６８５Ω／□であった。
光の透過率は、４５０ｎｍ：９２．３％、５５０ｎｍ：９２．８％、６５０ｎｍ：９２．０％であり、可視光の全領域で透過率の高いニュートラルな色味の透明導電膜が得られた。
【０１４０】
［比較例１］
中間層を設けない以外は実施例１と同じ方法で、導電性フィルムＤを作製した。
このようにして得られた導電性フィルムＤの光の透過率は、４５０ｎｍ：８９．１％、５５０ｎｍ：８９．７％、６５０ｎｍ：９０．５％であり、実施例と比較して、低い透過率となった。
【０１４１】
［比較例２］
高屈折率層，中間層を設けない以外は実施例３と同じ方法で、導電性フィルムＥを作製した。
このようにして得られた導電性フィルムＥの光の透過率は、４５０ｎｍ：８９．６％、５５０ｎｍ：９０．３％、６５０ｎｍ：９０．８％であり、実施例と比較して、低い透過率となった。
【０１４２】
＜タッチパネルの作製＞
［実施例４］
（上部基板の作製）
片面にハードコート層と反射防止膜を設けたトリアセチルセルロースフィルムの裏面（ハードコート層および反射防止膜を設けなかった面）と実施例１の導電性フィルムＡの透明導電膜を設けた面の反対側の面がそれぞれ偏光膜と接するように、透明導電膜付き位相差板と反射防止層付きハードコートフィルムを同時に偏光膜に貼り付けた。貼り付ける方向は、偏光膜の透過軸と、第一異方性層の遅相軸とが、１５゜となるようにした。
【０１４３】
（タッチパネルの作製）
上記貼り合わせの後に透明導電膜の上に、表面に２ｍｍピッチのドットスペーサと両端部に銀電極を印刷し、上部基板を作製した。また、実施例１の導電性フィルムＡの透明導電膜上に両端に銀電極を印刷し、下部基板を作製した。それぞれの基板には銀電極印刷前に、透明導電膜と銀電極が接触してはいけないところに絶縁コート膜を印刷した。銀電極および絶縁コートはスクリーン印刷機にて印刷し、硬化を行った。上記下部基板と上部基板を透明導電膜同士が対向するように接着し、その後、フレキシブル電極を取り付け、熱圧着にて固定した。この際、両基板の周囲に１００μｍ厚の絶縁性貼り合せ剤を挟んだ。このようにしてタッチパネルＡ１を作製した。
【０１４４】
［実施例５］
実施例４において、導電性フィルムＡの代わりに実施例２の導電性フィルムＢを用いた以外は実施例４と同じ方法で、タッチパネルＢ１を作製した。
【０１４５】
［実施例６］
実施例４において、導電性フィルムＡの代わりに実施例３の導電性フィルムＣを用いた以外は実施例４と同じ方法で、タッチパネルＣ１を作製した。
【０１４６】
［比較例３］
実施例４において、導電性フィルムＡの代わりに比較例１の導電性フィルムＤを用いた以外は実施例４と同じ方法で、タッチパネルＤ１を作製した。
【０１４７】
［比較例４］
実施例４において、導電性フィルムＡの代わりに比較例２の導電性フィルムＥを用いた以外は実施例４と同じ方法で、タッチパネルＥ１を作製した。
【０１４８】
［実施例７］
（下部基板用透明導電膜付きフィルムの作製）
下部基板として、光学異方性層を設けないトリアセチルセルロースフィルム（屈折率１．４８、レターデーション値４ｎｍ）上に、実施例１と同じ方法で、ハードコート層、高屈折率層、中間層、ＩＴＯ膜を形成し、透明導電膜付きフィルムを作製した。
上記透明導電膜付きフィルムの上に、表面に２ｍｍピッチのドットスペーサと両端部に銀電極を印刷し、下部基板を作製した。
【０１４９】
（タッチパネルの作製）
実施例１の導電性フィルムＡのＩＴＯ膜上に両端に銀電極を印刷し、上部基板を作製した。それぞれの基板には銀電極印刷前に、透明導電膜と銀電極が接触してはいけないところに絶縁コート膜を印刷した。銀電極および絶縁コートはスクリーン印刷機にて印刷し、硬化を行った。上記下部基板と上部基板を透明導電膜同士が対向するように接着し、その後、フレキシブル電極を取り付け、熱圧着にて固定した。この際、両基板の周囲に１００μｍ厚の絶縁性貼り合せ剤を挟んだ。このようにしてタッチパネルＡ２を作製した。
【０１５０】
［実施例８］
実施例７において、導電性フィルムＡの代わりに実施例２の導電性フィルムＢを用いた以外は実施例７と同じ方法で、タッチパネルＢ２を作製した。
【０１５１】
［実施例９］
実施例７において、導電性フィルムＡの代わりに実施例３の導電性フィルムＣを用いた以外は実施例７と同じ方法で、タッチパネルＣ２を作製した。
【０１５２】
［比較例５］
実施例７において、導電性フィルムＡの代わりに比較例１の導電性フィルムＤを用いた以外は実施例７と同じ方法で、タッチパネルＤ２を作製した。
【０１５３】
［比較例６］
実施例７において、導電性フィルムＡの代わりに比較例２の導電性フィルムＥを用いた以外は実施例７と同じ方法で、タッチパネルＥ２を作製した。
【０１５４】
＜タッチパネル付き透過型液晶表示装置の作製＞
［実施例１０］
ＴＮ型液晶セルを使用した、タッチパネル付き透過型液晶表示装置（ＣＡＳＳＩＯＰＥＩＡ ＢＥ−５００−ＢＵ、カシオ計算機（株）製）に設けられているタッチパネル部を取り外し、実施例４で作製したタッチパネルＡ１を取り付け、タッチパネル付き透過型液晶表示装置Ａ１を作製した。
【０１５５】
［実施例１１］
実施例５で作製したタッチパネルＢ１を使用した以外は、実施例１０と同じ方法でタッチパネル付き透過型液晶表示装置Ｂ１を作製した。
【０１５６】
［実施例１２］
実施例６で作製したタッチパネルＣ１を使用した以外は、実施例１０と同じ方法でタッチパネル付き透過型液晶表示装置Ｃ１を作製した。
【０１５７】
［比較例７］
比較例３で作製したタッチパネルＤ１を使用した以外は、実施例１０と同じ方法でタッチパネル付き透過型液晶表示装置Ｄ１を作製した。
【０１５８】
［比較例８］
比較例４で作製したタッチパネルＥ１を使用した以外は、実施例１０と同じ方法でタッチパネル付き透過型液晶表示装置Ｅ１を作製した。
【０１５９】
タッチパネル付き透過型液晶表示装置Ａ１〜Ｅ１を比較した。本発明のＡ１〜Ｃ１はいずれもＤ１、Ｅ１と比較して明るい画像が得られ、視認性が向上した。また、導電性フィルムの透過率が高いほど、明るい画像が得られた。
【０１６０】
＜タッチパネル付き反射型液晶表示装置の作製＞
［実施例１３］
ＴＮ型液晶セルを使用した、タッチパネル付き反射型液晶表示装置（パワーザウルスＭＩ−Ｃ１、シャープ（株）製）に設けられているタッチパネル部を取り外し、偏光板と位相差板を剥がし、実施例７で作製したタッチパネルＡ２を取り付け、タッチパネル付き反射型液晶表示装置Ａ２を作製した。
【０１６１】
［実施例１４］
実施例８で作製したタッチパネルＢ２を使用した以外は、実施例１３と同じ方法でタッチパネル付き反射型液晶表示装置Ｂ２を作製した。
【０１６２】
［実施例１５］
実施例９で作製したタッチパネルＣ２を使用した以外は、実施例１３と同じ方法でタッチパネル付き反射型液晶表示装置Ｃ２を作製した。
【０１６３】
［比較例９］
比較例５で作製したタッチパネルＤ２を使用した以外は、実施例１３と同じ方法でタッチパネル付き反射型液晶表示装置Ｄ２を作製した。
【０１６４】
［比較例１０］
比較例６で作製したタッチパネルＥ２を使用した以外は、実施例１０と同じ方法でタッチパネル付き反射型液晶表示装置Ｅ２を作製した。
【０１６５】
タッチパネル付き反射型液晶表示装置Ａ２〜Ｅ２を比較した。本発明のＡ２〜Ｃ２はいずれもＤ２、Ｅ２と比較して明るい画像が得られ、視認性が向上した。また、導電性フィルムの透過率が高いほど、明るい画像が得られた。
【０１６６】
【発明の効果】
本発明のλ／４板機能を有する高透過率導電性フィルムは、可視光領域の透過率が高く、タッチパネルに用いると、画像透過性が高く、視認性が良化する。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明に係わる、インナータイプタッチパネル搭載表示装置の一例を示す概略断面図である。
【図２】本発明に係わる、アウタータイプタッチパネル搭載表示装置の一例を示す概略断面図である。
【図３】λ／４板の代表的な構成を示す模式図である。
【図４】円偏光板の代表的な構成を示す模式図である。
【符号の説明】
１ バックライト
２ 保護膜
３ 偏光膜
４ λ／４板
５ 液晶セル
６ ポリマーフィルム
７ ハードコート
８ 高屈折率層
９ 中間層
１０ 透明導電膜
１１ 透明導電膜
１２ 中間層
１３ 高屈折率層
１４ ハードコート層
１５ λ／４板
１６ 偏光膜
１７ 保護膜
１８ ハードコート層
１９ 反射防止膜
２０ λ／４機能付き高透過率導電性フィルム
２１ 高透過率導電性フイルム（下部基板）
２２ 上部基板
２３ タッチパネル
２３ タッチパネル搭載半透過型液晶表示装置
５１ バックライト
５２ 保護膜
５３ 偏光膜
５４ 保護膜
５５ 液晶セル
５６ 保護膜
５７ 偏光膜
５８ 保護膜
５９ λ／４板
６０ ハードコート層
６１ 高屈折率層
６２ 中間層
６３ 透明導電膜
６４ 透明導電膜
６５ 中間層
６６ 高屈折率層
６７ ハードコート層
６８ λ／４板
６９ 偏光膜
７０ 保護膜
７１ ハードコート
７２ 反射防止膜
８０ λ／４機能付き高透過率導電性フィルム
８１ λ／４機能付き高透過率導電性フィルム（下部基板）
８２ 上部基板
８３ タッチパネル
８４ タッチパネル搭載透過型液晶表示装置
Ｓ 長尺状透明支持体
ｓ 透明支持体の長手方向
Ａ 第１光学異方性層
ａ 第１光学異方性層の面内の遅相軸
Ｂ 第２光学異方性層
ｂ 第２光学異方性層の面内の遅相軸
ｃ１、ｃ２ 棒状液晶性化合物
Ｐ 偏光膜
ｐ 偏光膜の偏光軸
ｒａ 第１光学異方性層の配向膜のラビング方向
ｒｂ 第２光学異方性層の配向膜のラビング方向
α ａとｓとの角度
β ｂとｓとの角度
γ ａとｂとの角度
【発明の属する技術分野】
本発明は、光の透過率が高い透明導電性フィルム、その製造方法、並びに該フィルムを用いたタッチパネルおよびタッチパネル付き表示装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
現代社会は、高度情報社会と言われており、情報の流通量が増大し、各個人における情報の収集や選択に対する要求が増大している。このような社会的背景においては、情報携帯端末やカーナビゲーションなど移動しながら情報を処理することのできる移動型の情報端末に対するニーズが大きくなり、積極的に開発が進められている。
移動型の情報端末では、操作者とのインターフェイスとしてはキーボードを用いるより、携帯性を重視して、表示装置の表示部に重ねて使用する透明のタッチパネルを搭載することが主流となってきている。
【０００３】
近年は情報量増加に伴い表示装置のカラー化の要求も高まっている。しかし、カラー表示ではカラーフィルタにより透過率が低下し、明度が白黒表示時に比べて極端に低下し、視認性が低下する。そのため、カラー液晶表示装置においては、高明度化および高コントラスト化の要求が高くなる。さらに、表示装置にタッチパネルを搭載した場合は、表面の反射に加え、タッチパネルの内部に存在する高屈折率の透明導電膜と空気との界面での反射率が大きく、明るい環境下でのコントラストの低下が大きく、高コントラスト化の要求がより高まることとなる。
【０００４】
ところで、タッチパネルが装備される表示装置としては、液晶表示装置、ＣＲＴ、ＥＬ、ＰＤＰなどがある。液晶表示装置ではそのほとんどが画面の表示のために偏光板を１枚以上用いている。また、ＥＬではセル内部での反射防止のため、外面側に偏光板と位相差板を組み合わせた円偏光板を設けている。
このような表示装置にタッチパネルを搭載する場合は、前述のように、タッチパネル部の反射率が大きく、反射光が増大し、コントラストが低下することと、さらに装置自体が厚くなるという問題点があった。これに対して液晶表示装置の偏光板と液晶セルの間に抵抗膜式タッチパネルの機能を挿入したインナー型タッチパネルの提案がされている。この方式によれば、界面が減少し、さらにλ／４板と組み合わせることで、界面反射による表示側に再放出される反射光が著しく低減され、視認性が著しく向上する。
【０００５】
上記のようなインナータイプタッチパネルの視認者側の基板である上部基板の必要構成要件は、視認者側より、偏光板、λ／４板、透明導電膜という順に機能性膜が設けられていることであるが、一般的には、透明導電膜はλ／４板に直接設けず、他の透明フィルムに透明導電膜を成膜したのち、該透明フィルムの透明導電膜を設けた面と反対側の面上に、粘着剤を介してλ／４板を貼り付けている。しかし、薄型、低生産コストの観点からは、λ／４板に直接透明導電膜を成膜することが望ましい。
【０００６】
また、上記のような、上部基板に偏光板とλ／４板を有するタッチパネルをＴＮの旋光モードを用いた直線偏光タイプの透過型液晶装置に搭載しようとすると、タッチパネルの下部基板の透明導電膜と液晶セルの視認者側の偏光板との間にλ／４機能を付与する必要がある。この場合にはタッチパネルの下部基板にλ／４板を用い、その表面に直接透明導電膜を形成するのが望ましいが、実用化されてはいない。
【０００７】
また、このような透明導電膜付きλ／４板を作製しても、透過率の向上の要求があるのは容易に想像できる。この場合の透過率向上の手段としては、λ／４板と透明導電膜の間に屈折率の異なる多層の光学干渉層を設けることが考えられる。この多層干渉層の形成に関する従来の技術としては、ゾルゲル法で形成する方法（例えば、特許文献１および特許文献２参照）や蒸着法で形成する方法（例えば、特許文献３参照）などがある。しかし、いずれも生産性やプロセス温度の問題で、フィルム上に安価に成膜するという目的は十分に満たされていない。
さらに、スパッタリング法や蒸着法で多層の干渉層を設けようとしても、用いることが可能な材料が限定され、干渉層のそれぞれの層の屈折率を希望の値に自由に調整することは困難である。
また、ゾルゲル法で多層の干渉層を設ける場合に関しても、スパッタリング法などと同様に屈折率の制御が難しいことと、基板との密着性や膜の脆性の問題で、フィルム基板の上に成膜することに関しては課題が多い。
なお、多層干渉層をλ／４板と透明導電膜の間に設けた例は、特に報告はされていない。
【０００８】
【特許文献１】
特開平１１−５３１１４号公報
【特許文献２】
特開２０００−３０１６４８号公報
【特許文献３】
国際公開ＷＯ００／６３９２４号パンフレット
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の目的は、λ／４機能を有し、光の透過率の高い高透過率透明導電性フィルムを提供することにある。さらに、本発明の他の目的は、薄型、軽量、低コスト、高視認性のタッチパネル、およびタッチパネル付き表示装置を提供することにある。
【００１０】
【課題を解決するための手段】
本発明によれば、下記に列挙する高透過導電性フィルム、タッチパネル、及びタッチパネル付き表示装置が提供され、本発明の上記目的が達成される。
（１）位相差板の少なくとも一方の面に、位相差板側に隣接する層よりも屈折率の低い中間層が積層され、該中間層が積層された側の最表面に透明導電膜を有する高透過率導電性フィルム。
（２）位相差板が、ポリマーフィルムからなる透明支持体上に少なくとも二つの光学異方性層が塗布されて形成されたλ／４板であって、少なくとも一つの光学異方性層が液晶性化合物を含む層であることを特徴とする上記（１）に記載の高透過率導電性フィルム。
（３）中間層が、熱もしくは電離放射線硬化性の含フッ素硬化性樹脂および／または熱もしくは電離放射線硬化性の３官能以上の重合性基を有する硬化性樹脂を主体とする層であることを特徴とする上記（１）または（２）に記載の高透過率導電性フィルム。
（４）中間層の屈折率が１．３５〜１．６である上記（１）〜（３）のいずれかに記載の高透過率導電性フィルム。
（５）ポリマーフィルムと中間層の間にポリマーフィルムより高い屈折率を持つ高屈折率層を有し、高屈折率層の屈折率が１．６〜２．６である上記（１）〜（４）のいずれかに記載の高透過率導電性フィルム。
（６）透明導電膜を形成した反対側の面に屈折率の異なる複数の層を有する反射防止構造を設けた上記（１）〜（５）のいずれかに記載の高透過率導電性フィルム。
（７）波長５５０ｎｍにおける光の透過率が９０％以上であることを特徴とする上記（１）〜（６）のいずれかに記載の高透過率導電性フィルム。
（８）透明導電膜の膜厚が５〜２００ｎｍで、抵抗値が２０００Ω／□以下であることを特徴とする上記（１）〜（７）のいずれかに記載の高透過率導電性フィルム。
【００１１】
（９）高透過率導電性フィルムを構成する層のうち少なくとも２層以上は塗布法で形成し、かつ、少なくとも２層以上の塗布層は、ポリマーフィルムを一回送り出してから巻き取るまでの間の一工程中に連続で形成されることを特徴とする上記（１）〜（８）のいずれかに記載の高透過率導電性フィルムの製造方法。
【００１２】
（１０）透明導電膜を有する上部基板および下部基板が、透明導電膜同士を向かい合わせて配置されてなるタッチパネルにおいて、少なくとも一方の基板が上記（１）〜（８）のいずれかに記載の高透過率導電性フィルムを含むことを特徴とするタッチパネル。
（１１）上部基板が円偏光機能を有していることを特徴とする上記（１０）に記載のインナータイプタッチパネル。
（１２）上記（１０）または（１１）に記載のタッチパネルを搭載したタッチパネル付き表示装置。
【００１３】
【発明の実施の形態】
本発明の高透過率導電性フィルムを用いたタッチパネルおよびタッチパネル付き表示装置の代表的な例を図１、図２に概略断面図として模式的に示す。
図１の例は、半透過型液晶との組み合わせで、タッチパネルの上部基板（視認側の基板）に液晶表示用の円偏光板を使用した、いわゆるインナータイプタッチパネルであり、円偏光板によって内部反射光を遮ることにより、コントラストを向上させることができる。図１において、下部基板２１と、上部基板２２は、空隙を設けた状態で、互いに透明導電膜を向かい合わせて配置され、タッチパネル２３を形成している。上部基板２２のタッチパネルの空隙と反対側の面にはハードコート層１８と反射防止膜１９が、この順序で配置されるのが望ましいが、ハードコート層と反射防止膜はどちらか片方または両方がなくてもよい。
図２の例はＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）型の旋光モードを用いた直線偏光タイプの透過型液晶装置（５１〜５８からなる）の上に、上部基板に円偏光機能を有する低反射タッチパネルを搭載した例である。図２の例において、下部基板８１と、上部基板８２は、空隙を設けた状態で、互いに透明導電膜を向かい合わせて配置され、タッチパネル８３を形成している。上部基板８２のタッチパネルの空隙と反対側の面にはハードコート層７１と反射防止膜７２が、この順序で配置されるのが望ましいが、ハードコート層と反射防止膜はどちらか片方または両方がなくてもよい。
図１、図２のいずれの例でも、λ／４板と透明導電膜の間に、λ／４板より屈折率の高い高屈折率層と高屈折率層より屈折率の低い中間層とを、この順番で設けた本発明の高透過率導電性フィルムの構成を用いている。このような層構成にすることで、各界面での反射による干渉作用で、高透過率化を達成することができる。
図１、２に関しては、タッチパネルを表示装置上に搭載しているが、表示装置に関しては、特に限定されるものではなく、さまざまな表示装置に適用することができる。
なお、本発明のタッチパネル付き表示装置はこの例に限定されず、各種のバリエーションがあることは言うまでもない。
【００１４】
（位相差板）
本発明では、高透過率導電性フィルムの支持体として位相差板を用いる。
位相差板はポリマーフィルムなど単体からなってもよく、複数枚のフィルムを積層することで構成してもよい。以降、位相差板として最もよく使用されるλ／４板を例示して記述する場合があるが、λ／４板に制限されるわけではない。
【００１５】
［位相差板の光学的性質］
位相差板としては、波長λでのレターデーション値（Ｒｅλ）がλ／４であるのが理想である。実際には用いる材料により波長によりλ／４からズレが生じるので、波長４５０ｎｍで測定したレターデーション値（Ｒｅ４５０）が６０乃至１３５ｎｍであり、かつ波長５９０ｎｍで測定したレターデーション値（Ｒｅ５９０）が１００乃至１７０ｎｍであればよい。また、Ｒｅ５９０−Ｒｅ４５０≧２ｎｍであることが好ましく、Ｒｅ５９０−Ｒｅ４５０≧５ｎｍであることがさらに好ましく、Ｒｅ５９０−Ｒｅ４５０≧１０ｎｍであることが最も好ましい。
ここで、レターデーション値（Ｒｅ）は、下記式に従って算出する。
レターデーション値（Ｒｅ）＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄ
式中、ｎｘは、面内の遅相軸方向の屈折率（面内の最大屈折率）であり；ｎｙは、面内の遅相軸に垂直な方向の屈折率であり；そして、ｄは、厚さ（ｎｍ）である。
【００１６】
［位相差板の構成］
位相差板としては、特開平５−２７１１８号および同５−２７１１９号の各公報に記載されたレターデーションが大きい複屈折性フィルムと、レターデーションが小さい複屈折率フィルムとを、それらの光軸が直交するように積層させた位相差板、特開平１０−６８８１６号公報に記載された、特定波長においてλ／４となっているポリマーフィルムと、それと同一材料からなり同じ波長においてλ／２となっているポリマーフィルムとを積層させて、広い波長領域でλ／４が得られる位相差板、特開平１０−９０５２１号公報に記載された二枚のポリマーフィルムを積層することにより広い波長領域でλ／４を達成できる位相差板、ＷＯ００／２６７０５号に記載された変性ポリカーボネートフィルムを用いた広い波長領域でλ／４を達成できる位相差板、ＷＯ００／６５３８４号に記載されたセルロースエステルフィルムを用いた広い波長領域でλ／４を達成できる位相差板等を挙げることができる。また、特開２００１−４８３７号公報に記載された液晶性化合物で形成されたλ／２層とλ／４層の２つの光学異方性層が支持体上に形成されることにより、広い波長領域でλ／４を達成できる位相差板を用いることもできる（以下、このように、少なくとも二つの光学異方性層を有し、少なくとも一つの層が液晶性化合物で形成されたλ／４板を塗布型λ／４板と呼ぶ）。
【００１７】
以下、薄型・軽量化でき、コスト面から言って最も好ましく、また光学特性や遅相軸方向のコントロールが容易である塗布型λ／４板の例を詳しく説明する。塗布型λ／４板は、少なくとも二つの光学異方性層を組み合わせることにより得られる。二つの光学異方性層の組み合わせは、二種類の態様に分類できる。
【００１８】
第一の態様では、第１の光学異方性層の遅相軸と、第２の光学異方性層の遅相軸とを、実質的に６０゜で交差させる。
第１の光学異方性層は、特定の波長（λ）において実質的にλ／２の位相差を有し、第２の光学異方性層は、特定の波長（λ）において実質的にλ／４の位相差を有していることが好ましい。特定の波長（λ）としては、可視領域のほぼ中間である５５０ｎｍであることが特に好ましい。
特定波長（λ）を５５０ｎｍとすると、第１の光学異方性層のレターデーション値は、１５０乃至３５０ｎｍであることが好ましく、１８０乃至３００ｎｍであることがより好ましく、２００乃至２８０ｎｍであることがさらに好ましく、２１０乃至２７０ｎｍであることが最も好ましい。特定波長を５５０ｎｍとすると、第２の光学異方性層のレターデーション値は、６０乃至１７０ｎｍであることが好ましく、７０乃至１５０ｎｍであることがより好ましく、８０乃至１３５ｎｍであることがさらに好ましく、８０乃至１２０ｎｍであることが最も好ましい。
なお、偏光膜とλ／４板とを組み合わせて円偏光板として機能させる場合、偏光膜の偏光軸と、一つの光学異方性層の遅相軸とは、実質的に７５゜で交差させ、そして、偏光膜の偏光軸と、もう一つの光学異方性層の遅相軸とは、実質的に１５゜で交差させることが好ましい。
また、λ／４板が、さらに長手方向を有する透明支持体を有する場合、透明支持体の長手方向と、一つの光学異方性層の遅相軸とを、実質的に７５゜で交差させ、そして、直線偏光膜の偏光軸と、もう一つの光学異方性層の遅相軸とを、実質的に１５゜で交差させることが好ましい。
【００１９】
第二の態様では、第１の光学異方性層の遅相軸と、第２の光学異方性層の遅相軸とを、実質的に直交させる。
４５０ｎｍの波長で測定した第１の光学異方性層のレターデーション値と４５０ｎｍの波長で測定した第２の光学異方性層のレターデーション値との差、および５９０ｎｍの波長で測定した第１の光学異方性層のレターデーション値と５９０ｎｍの波長で測定した第２の光学異方性層のレターデーション値との差は、いずれも実質的に波長差の１／４であることが好ましい。具体的には、Ｒｅ５９０−Ｒｅ４５０≧２ｎｍであることが好ましく、Ｒｅ５９０−Ｒｅ４５０≧５ｎｍであることがさらに好ましく、Ｒｅ５９０−Ｒｅ４５０≧１０ｎｍであることが最も好ましい。
なお、偏光膜とλ／４板とを組み合わせて円偏光板として機能させる場合、偏光膜の偏光軸と、一つの光学異方性層の遅相軸とは、実質的に４５゜で交差させ、そして、偏光膜の偏光軸と、もう一つの光学異方性層の遅相軸とは、実質的に４５゜で交差させることが好ましい。
また、λ／４板が、さらに長手方向を有する透明支持体を有する場合、透明支持体の長手方向と、一つの光学異方性層の遅相軸とを、実質的に４５゜で交差させ、そして、直線偏光膜の偏光軸と、もう一つの光学異方性層の遅相軸とを、実質的に４５゜で交差させることが好ましい。
【００２０】
［塗布型λ／４板の構成］
図３は、塗布型λ／４板の代表的な構成を示す模式図である。
図３に示すλ／４板は、透明支持体（Ｓ）、第１光学異方性層（Ａ）および第２光学異方性層（Ｂ）を有する。
第１光学異方性層（Ａ）の位相差は、実質的にλ／２（波長５５０ｎｍで１５０〜３５０ｎｍ）に調整されている。第２光学異方性層（Ｂ）の位相差は、実質的にλ／４（波長５５０ｎｍで６０〜１７０ｎｍ）に調整されている。
透明支持体（Ｓ）の長手方向（ｓ）と第１光学異方性層（Ａ）の面内の遅相軸（ａ）との角度（α）は７５゜である。また、第２光学異方性層（Ｂ）の面内の遅相軸（ｂ）と透明支持体（Ｓ）の長手方向（ｓ）との角度（β）は１５゜である。そして、第２光学異方性層（Ｂ）の面内の遅相軸（ｂ）と光学異方性層（Ａ）の面内の遅相軸（ａ）との角度（γ）は６０゜である。
図３に示す第１光学異方性層（Ａ）および第２光学異方性層（Ｂ）は、それぞれ棒状液晶性化合物（ｃ１およびｃ２）を含む。棒状液晶性化合物（ｃ１およびｃ２）は、それぞれホモジニアスに配向している。棒状液晶性化合物（ｃ１およびｃ２）の長軸方向が、光学異方性層（ＡおよびＢ）の面内の遅相軸（ａおよびｂ）に相当する。
【００２１】
棒状液晶性化合物（ｃ１およびｃ２）は、配向膜のラビング方向（ｒａおよびｒｂ）によって、配向方向が決定されている。第１光学異方性層（Ａ）の面内の遅相軸（ａ）と配向膜のラビング方向（ｒａ）とは直交している。すなわち、第１光学異方性層（Ａ）の配向膜としては、直交型配向膜を用いている。一方、第２光学異方性層（Ｂ）の面内の遅相軸（ｂ）と配向膜のラビング方向（ｒｂ）とは平行である。すなわち、第２光学異方性層（Ｂ）の配向膜としては、平行型配向膜を用いている。
棒状液晶性化合物（ｃ１およびｃ２）に代えて、円盤状液晶性化合物を用いることもできる。円盤状液晶性化合物を用いる場合も、円盤状液晶性化合物をホモジニアス（円盤を立てた状態）に配向させる。円盤状液晶性化合物の円盤面の方向が、光学異方性層の遅相軸に相当する。
【００２２】
図４は、円偏光板の代表的な構成を示す模式図である。
図４に示す円偏光板は、図３に示した透明支持体（Ｓ）、第１光学異方性層（Ａ）および第２光学異方性層（Ｂ）からなるλ／４板に、さらに偏光膜（Ｐ）を有する。
図３と同様に、透明支持体（Ｓ）の長手方向（ｓ）と第１光学異方性層（Ａ）の面内の遅相軸（ａ）との角度（α）は７５゜である。また、第２光学異方性層（Ｂ）の面内の遅相軸（ｂ）と透明支持体（Ｓ）の長手方向（ｓ）との角度（β）は１５゜である。そして、第２光学異方性層（Ｂ）の面内の遅相軸（ｂ）と光学異方性層（Ａ）の面内の遅相軸（ａ）との角度（γ）は６０゜である。さらに、偏光膜（Ｐ）の偏光軸（ｐ）と透明支持体（Ｓ）の長手方向（ｓ）とは直交している。
【００２３】
図４に示した第１光学異方性層（Ａ）および第２光学異方性層（Ｂ）も、それぞれ棒状液晶性化合物（ｃ１およびｃ２）を含む。棒状液晶性化合物（ｃ１およびｃ２）は、それぞれホモジニアスに配向している。棒状液晶性化合物（ｃ１およびｃ２）の長軸方向が、光学異方性層（ＡおよびＢ）の面内の遅相軸（ａおよびｂ）に相当する。
棒状液晶性化合物（ｃ１およびｃ２）に代えて、円盤状液晶性化合物を用いることもできる。円盤状液晶性化合物を用いる場合も、円盤状液晶性化合物をホモジニアス（円盤を立てた状態）に配向させる。円盤状液晶性化合物の円盤面の方向が、光学異方性層の遅相軸に相当する。
図４に示した円偏光板は、右円偏光を生じる構成である。左円偏光を生じる構成では、λ／２の位相差を有する第１光学異方性層の光軸が−７５゜で、λ／４の位相差を有する第２光学異方性層の光軸が−１５゜となる。従って、第１光学異方性層のラビング方向が＋１５゜で、第２光学異方性層のラビング方向が−１５゜となる。
【００２４】
［光学異方性層］
光学異方性層は、液晶性化合物またはポリマーフィルムから形成することができる。本発明では、少なくとも二つの光学異方性層のうち、少なくとも一つは液晶性化合物から形成するのが好ましく、少なくとも二つの光学異方性層を液晶性化合物から形成することがより好ましい。
【００２５】
ポリマーフィルムからなる光学異方性層に用いられるポリマーの例には、ポリオレフィン（例、ポリエチレン、ポリプロピレン、ノルボルネン系ポリマー）、ポリビニルアルコール、ポリメタクリル酸エステル、ポリアクリル酸エステルおよびセルロースエステルが含まれる。また、これらのポリマーの共重合体あるいはポリマー混合物を用いてもよい。
フィルムの光学異方性は、延伸により得ることが好ましい。延伸は一軸延伸であることが好ましい。一軸延伸は、２つ以上のロールの周速差を利用した縦一軸延伸またはポリマーフィルムの両サイドを掴んで幅方向に延伸するテンター延伸が好ましい。なお、二枚以上のポリマーフィルムを用いて、二枚以上のフィルム全体の光学的性質が前記の条件を満足してもよい。
使用するポリマーの固有複屈折が正の場合には、ポリマーフィルムの面内の屈折率が最大となる方向は、フィルムの延伸方向に相当する。使用するポリマーの固有複屈折が負の場合には、ポリマーフィルムの面内の屈折率が最大となる方向は、フィルムの延伸方向に垂直な方向に相当する。
ポリマーフィルムは、複屈折のムラを少なくするためにソルベントキャスト法により製造することが好ましい。
ポリマーフィルムの厚さは、２０乃至５００μｍであることが好ましく、５０乃至２００μｍであることがさらに好ましく、５０乃至１００μｍであることが最も好ましい。
【００２６】
光学異方性層に用いる液晶性化合物は、棒状液晶性化合物または円盤状液晶性化合物が好ましい。液晶性化合物は、実質的に均一に配向していることが好ましく、実質的に均一に配向している状態で固定されていることがさらに好ましく、重合反応により液晶性化合物が固定されていることが最も好ましい。液晶性化合物は、ホモジニアス配向させることが好ましい。
【００２７】
棒状液晶性化合物としては、アゾメチン類、アゾキシ類、シアノビフェニル類、シアノフェニルエステル類、安息香酸エステル類、シクロヘキサンカルボン酸フェニルエステル類、シアノフェニルシクロヘキサン類、シアノ置換フェニルピリミジン類、アルコキシ置換フェニルピリミジン類、フェニルジオキサン類、トラン類およびアルケニルシクロヘキシルベンゾニトリル類が好ましく用いられる。以上のような低分子液晶性化合物だけではなく、高分子液晶性化合物も用いることができる。棒状液晶性化合物を重合によって配向を固定することがより好ましく、重合性棒状液晶性化合物は、Ｍａｋｒｏｍｏｌ． Ｃｈｅｍ．， １９０巻、２２５５頁（１９８９年）、Ａｄｖａｎｃｅｄ Ｍａｔｅｒｉａｌｓ ５巻、１０７頁（１９９３年）、米国特許４６８３３７号、同５６２２６４８号、同５７７０１０７号、ＷＯ９５／２２５８６号、同９５／２４４５５号、同９７／００６００号、同９８／２３５８０号、同９８／５２９０５号の各明細書、特開平１−２７２５５１号、同６−１６６１６号、同７−１１０４６９号、同１１−８００８１号の各公報に記載がある。
【００２８】
下記式（Ｉ）で表される重合性棒状液晶性化合物が特に好ましい。
式（Ｉ）；
Ｑ１−Ｌ１−Ｃｙ１−Ｌ２−（Ｃｙ２−Ｌ３）ｎ−Ｃｙ３−Ｌ４−Ｑ２
【００２９】
式（Ｉ）において、Ｑ１およびＱ２は、それぞれ独立に、重合性基である。重合性基の重合反応は、付加重合（開環重合を含む）または縮合重合であることが好ましい。言い換えると、重合性基は、付加重合反応または縮合重合反応が可能な官能基であることが好ましい。
重合性基の例を以下に示す。
【００３０】
【化１】
重合性基（Ｑ１およびＱ２）は、不飽和重合性基（Ｑ−１〜Ｑ−７）、エポキシ基（Ｑ−８）またはアジリジニル基（Ｑ−９）であることが好ましく、不飽和重合性基であることがさらに好ましく、エチレン性不飽和重合性基（Ｑ−１〜Ｑ−６）であることが最も好ましい。
【００３２】
式（Ｉ）において、Ｌ１およびＬ４は、それぞれ独立に、二価の連結基である。
Ｌ１およびＬ４は、それぞれ独立に、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＮＲ１−、二価の鎖状脂肪族基、二価の環状基およびそれらの組み合わせからなる群より選ばれる二価の連結基であることが好ましい。上記Ｒ１は、炭素原子数が１乃至７のアルキル基または水素原子である。
組み合わせからなる二価の連結基の例を以下に示す。左側がＱ（Ｑ１またはＱ２）に、右側がＣｙ（Ｃｙ１またはＣｙ２）に結合する。
【００３３】
Ｌ−１：−ＣＯ−Ｏ−二価の鎖状脂肪族基−Ｏ−
Ｌ−２：−ＣＯ−Ｏ−二価の鎖状脂肪族基−Ｏ−二価の環状基−ＣＯ−Ｏ−
Ｌ−３：−ＣＯ−Ｏ−二価の鎖状脂肪族基−Ｏ−二価の環状基−Ｏ−ＣＯ−
Ｌ−４：−ＣＯ−Ｏ−二価の鎖状脂肪族基−Ｏ−二価の環状基−二価の鎖状脂肪族基−
Ｌ−５：−ＣＯ−Ｏ−二価の鎖状脂肪族基−Ｏ−二価の環状基−
Ｌ−６：−ＣＯ−Ｏ−二価の鎖状脂肪族基−Ｏ−二価の環状基−二価の鎖状脂肪族基−ＣＯ−Ｏ−
Ｌ−７：−ＣＯ−Ｏ−二価の鎖状脂肪族基−Ｏ−二価の環状基−Ｏ−ＣＯ−二価の鎖状脂肪族基−
【００３４】
二価の鎖状脂肪族基は、アルキレン基、置換アルキレン基、アルケニレン基、置換アルケニレン基、アルキニレン基または置換アルキニレン基を意味する。アルキレン基、置換アルキレン基、アルケニレン基および置換アルケニレン基が好ましく、アルキレン基およびアルケニレン基がさらに好ましい。
アルキレン基は、分岐を有していてもよい。アルキレン基の炭素原子数は、１乃至１２であることが好ましく、２乃至１０であることがさらに好ましく、３乃至８であることが最も好ましい。
置換アルキレン基のアルキレン部分は、上記アルキレン基と同様である。置換アルキレン基の置換基の例には、ハロゲン原子が含まれる。
アルケニレン基は、分岐を有していてもよい。アルケニレン基の炭素原子数は、２乃至１２であることが好ましく、２乃至８であることがさらに好ましく、２乃至４であることが最も好ましい。
置換アルケニレン基のアルケニレン部分は、上記アルケニレン基と同様である。置換アルケニレン基の置換基の例には、ハロゲン原子が含まれる。
アルキニレン基は、分岐を有していてもよい。アルキニレン基の炭素原子数は、２乃至１２であることが好ましく、２乃至８であることがさらに好ましく、２乃至４であることが最も好ましい。
置換アルキニレン基のアルキニレン部分は、上記アルキニレン基と同様である。置換アルキニレン基の置換基の例には、ハロゲン原子が含まれる。
【００３５】
二価の環状基の定義および例は、後述するＣｙ１〜Ｃｙ３の定義および例と同様である。
Ｒ１は、炭素原子数が１乃至４のアルキル基または水素原子であることが好ましく、炭素原子数が１または２のアルキル基または水素原子であることがさらに好ましく、水素原子であることが最も好ましい。
【００３６】
式（Ｉ）において、Ｌ２またはＬ３は、それぞれ独立に、単結合または二価の連結基である。
二価の連結基は、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＮＲ２−、二価の鎖状脂肪族基、二価の環状基およびそれらの組み合わせからなる群より選ばれる二価の連結基ことが好ましい。上記Ｒ２は、炭素原子数が１乃至７のアルキル基または水素原子である。
二価の鎖状脂肪族基の定義および例は、Ｌ１およびＬ４の定義および例と同様である。
二価の環状基の定義および例は、後述するＣｙ１〜Ｃｙ３の定義および例と同様である。
Ｒ２は、炭素原子数が１乃至４のアルキル基または水素原子であることが好ましく、炭素原子数が１または２のアルキル基または水素原子であることがさらに好ましく、水素原子であることが最も好ましい。
【００３７】
式（Ｉ）において、Ｃｙ１、Ｃｙ２およびＣｙ３は、それぞれ独立に、二価の環状基である。
環状基に含まれる環は、５員環、６員環または７員環であることが好ましく、５員環または６員環であることがさらに好ましく、６員環であることが最も好ましい。
環状基に含まれる環は、縮合環であってもよい。ただし、縮合環よりも単環である方が好ましい。
環状基に含まれる環は、芳香族環、脂肪族環および複素環のいずれでもよい。芳香族環の例には、ベンゼン環およびナフタレン環が含まれる。脂肪族環の例には、シクロヘキサン環が含まれる。複素環の例には、ピリジン環およびピリミジン環が含まれる。
【００３８】
ベンゼン環を有する環状基としては、１，４−フェニレンが好ましい。ナフタレン環を有する環状基としては、ナフタレン−１，５−ジイルおよびナフタレン−２，６−ジイルが好ましい。ピリジン環を有する環状基としては、ピリジン−２，５−ジイルが好ましい。ピリミジン環を有する環状基としては、ピリミジン−２，５−ジイルが好ましい。
環状基は、１，４−フェニレンまたは１，４−シクロへキシレンであることが特に好ましい。
環状基は、置換基を有していてもよい。置換基の例には、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、炭素原子数が１乃至５のアルキル基、炭素原子数が１乃至５のハロゲン置換アルキル基、炭素原子数が１乃至５のアルコキシ基、炭素原子数が１乃至５のアルキルチオ基、炭素原子数が１乃至５のアシル基、炭素原子数が２乃至６のアシルオキシ基、炭素原子数が２乃至６のアルコキシカルボニル基、カルバモイル基、炭素原子数が２乃至６のアルキル置換カルバモイル基および炭素原子数が２乃至６のアミド基が含まれる。
【００３９】
式（Ｉ）において、ｎは、０、１または２である。ｎが２の場合、二つのＬ３およびＣｙ２は、異なっていてもよい。ｎは、１または２であることが好ましく、１であることがさらに好ましい。
【００４０】
円盤状液晶性化合物は、様々な文献（Ｃ． Ｄｅｓｔｒａｄｅ ｅｔ ａｌ．， Ｍｏｌ． Ｃｒｙｓｔ． Ｌｉｑ．Ｃｒｙｓｔ．， ｖｏｌ． ７１， ｐａｇｅ １１１ （１９８１） ；日本化学会編、季刊化学総説、Ｎｏ．２２、液晶の化学、第５章、第１０章第２節（１９９４）；Ｂ． Ｋｏｈｎｅ ｅｔ ａｌ．， Ａｎｇｅｗ． Ｃｈｅｍ． Ｓｏｃ． Ｃｈｅｍ． Ｃｏｍｍ．， ｐａｇｅ１７９４ （１９８５）；Ｊ． Ｚｈａｎｇ ｅｔ ａｌ．， Ｊ． Ａｍ．Ｃｈｅｍ． Ｓｏｃ．， ｖｏｌ． １１６， ｐａｇｅ ２６５５ （１９９４））に記載されている。円盤状液晶性化合物の重合については、特開平８−２７２８４号公報に記載がある。
円盤状液晶性化合物を重合により固定するためには、円盤状液晶性化合物の円盤状コアに、置換基として重合性基を結合させる必要がある。ただし、円盤状コアに重合性基を直結させると、重合反応において配向状態を保つことが困難になる。そこで、円盤状コアと重合性基との間に、連結基を導入する。従って、重合性基を有する円盤状液晶性化合物は、下記式（ＩＩ）で表わされる化合物であることが好ましい。
【００４１】
式（ＩＩ）：Ｄ（−Ｌ−Ｑ）ｎ
式（ＩＩ）において、Ｄは、円盤状コアであり、Ｌは、二価の連結基であり、Ｑは重合性基であり、そして、ｎは４乃至１２の整数である。
【００４２】
式（ＩＩ）において、二価の連結基（Ｌ）は、アルキレン基、アルケニレン基、アリーレン基、−ＣＯ−、−ＮＨ−、−Ｏ−、−Ｓ−およびそれらの組み合わせからなる群より選ばれる二価の連結基であることが好ましい。二価の連結基（Ｌ）は、アルキレン基、アルケニレン基、アリーレン基、−ＣＯ−、−ＮＨ−、−Ｏ−および−Ｓ−からなる群より選ばれる二価の基を少なくとも二つ組み合わせた基であることがさらに好ましく、アルキレン基、アルケニレン基、アリーレン基、−ＣＯ−および−Ｏ−からなる群より選ばれる二価の基を少なくとも二つ組み合わせた基であることが最も好ましい。アルキレン基の炭素原子数は、１乃至１２であることが好ましい。アルケニレン基の炭素原子数は、２乃至１２であることが好ましい。アリーレン基の炭素原子数は、６乃至１０であることが好ましい。アルキレン基、アルケニレン基およびアリーレン基は、置換基（例、アルキル基、ハロゲン原子、シアノ基、アルコキシ基、アシルオキシ基）を有していてもよい。
【００４３】
二価の連結基（Ｌ）の例を以下に示す。左側が円盤状コア（Ｄ）に結合し、右側が重合性基（Ｑ）に結合する。ＡＬはアルキレン基またはアルケニレン基を意味し、ＡＲはアリーレン基を意味する。
Ｌ−１１：−ＡＬ−ＣＯ−Ｏ−ＡＬ−
Ｌ−１２：−ＡＬ−ＣＯ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−
Ｌ−１３：−ＡＬ−ＣＯ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＡＬ−
Ｌ−１４：−ＡＬ−ＣＯ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−
Ｌ−１５：−ＣＯ−ＡＲ−Ｏ−ＡＬ−
Ｌ−１６：−ＣＯ−ＡＲ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−
Ｌ−１７：−ＣＯ−ＡＲ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−
Ｌ−１８：−ＣＯ−ＮＨ−ＡＬ−
Ｌ−１９：−ＮＨ−ＡＬ−Ｏ−
Ｌ−２０：−ＮＨ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−
【００４４】
Ｌ−２１：−Ｏ−ＡＬ−
Ｌ−２２：−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−
Ｌ−２３：−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−
Ｌ−２４：−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−ＮＨ−ＡＬ−
Ｌ−２５：−Ｏ−ＡＬ−Ｓ−ＡＬ−
Ｌ−２６：−Ｏ−ＣＯ−ＡＬ−ＡＲ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−
Ｌ−２７：−Ｏ−ＣＯ−ＡＲ−Ｏ−ＡＬ−ＣＯ−
Ｌ−２８：−Ｏ−ＣＯ−ＡＲ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−
Ｌ−２９：−Ｏ−ＣＯ−ＡＲ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−
Ｌ−３０：−Ｏ−ＣＯ−ＡＲ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−
Ｌ−３１：−Ｓ−ＡＬ−
Ｌ−３２：−Ｓ−ＡＬ−Ｏ−
Ｌ−３３：−Ｓ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−
Ｌ−３４：−Ｓ−ＡＬ−Ｓ−ＡＬ−
Ｌ−３５：−Ｓ−ＡＲ−ＡＬ−
【００４５】
式（ＩＩ）の重合性基（Ｑ）は、重合反応の種類に応じて決定する。重合性基（Ｑ）の定義および例は、式（Ｉ）におけるＱ１およびＱ２の定義および例と同様である。
複数のＬとＱの組み合わせは、異なっていてもよいが、同一であることが好ましい。二種類以上の円盤状液晶性化合物（例えば、二価の連結基に不斉炭素原子を有する分子と有していない分子）を併用してもよい。
【００４６】
液晶性化合物から形成する光学異方性層には、液晶性化合物をホモジニアスで均一に配向させるために水平配向促進剤を添加することが好ましい。
水平配向促進剤は、高分子化合物と低分子化合物とに分類できる。高分子型水平配向促進剤の例には、ポリビニルブチラール、ポリメラミンおよびポリメチルメタクリレートが含まれる。低分子型水平配向促進剤の例は、以下に示す。
【００４７】
【化２】
【化３】
【化４】
【化５】
【化６】
【化７】
【化８】
【化９】
【化１０】
【化１１】
【化１２】
【化１３】
水平配向促進剤は、液晶性化合物の量に対して、０．００１乃至５質量％の範囲で添加することが好ましく、０．０５乃至１質量％の範囲で添加することがさらに好ましい。
【００６０】
光学異方性層は、液晶性化合物および下記の重合性開始剤や他の添加剤を含む塗布液を、配向膜の上に塗布することで形成することができる。
塗布液の調製に使用する溶媒としては、有機溶媒が好ましく用いられる。有機溶媒の例には、アミド（例、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド）、スルホキシド（例、ジメチルスルホキシド）、ヘテロ環化合物（例、ピリジン）、炭化水素（例、ベンゼン、ヘキサン）、アルキルハライド（例、クロロホルム、ジクロロメタン）、エステル（例、酢酸メチル、酢酸ブチル）、ケトン（例、アセトン、メチルエチルケトン）、エーテル（例、テトラヒドロフラン、１，２−ジメトキシエタン）が含まれる。アルキルハライドおよびケトンが好ましい。二種類以上の有機溶媒を併用してもよい。
塗布液の塗布は、公知の方法（例、押し出しコーティング法、ダイレクトグラビアコーティング法、リバースグラビアコーティング法、ダイコーティング法）により実施できる。
【００６１】
配向させた液晶性化合物は、配向状態を維持して固定する。固定化は、液晶性化合物に導入した重合性基（Ｑ）の重合反応により実施することが好ましい。重合反応には、熱重合開始剤を用いる熱重合反応と光重合開始剤を用いる光重合反応とが含まれる。光重合反応が好ましい。光重合開始剤の例には、α−カルボニル化合物（米国特許２３６７６６１号、同２３６７６７０号の各明細書記載）、アシロインエーテル（米国特許２４４８８２８号明細書記載）、α−炭化水素置換芳香族アシロイン化合物（米国特許２７２２５１２号明細書記載）、多核キノン化合物（米国特許３０４６１２７号、同２９５１７５８号の各明細書記載）、トリアリールイミダゾールダイマーとｐ−アミノフェニルケトンとの組み合わせ（米国特許３５４９３６７号明細書記載）、アクリジンおよびフェナジン化合物（特開昭６０−１０５６６７号公報、米国特許４２３９８５０号明細書記載）およびオキサジアゾール化合物（米国特許４２１２９７０号明細書記載）が含まれる。
【００６２】
光重合開始剤の使用量は、塗布液の固形分の０．０１乃至２０質量％であることが好ましく、０．５乃至５質量％であることがさらに好ましい。液晶性化合物の重合のための光照射は、紫外線を用いることが好ましい。照射エネルギーは、２０ｍＪ／ｃｍ２乃至５０Ｊ／ｃｍ２であることが好ましく、１００ｍＪ／ｃｍ２乃至８００ｍＪ／ｃｍ２であることがさらに好ましい。光重合反応を促進するため、加熱条件下で光照射を実施してもよい。また、空気中の酸素（酸素は重合阻害作用を有する）の影響を排除するため、窒素雰囲気下で光照射を実施してもよい。
光学異方性層の厚さは、０．１乃至１０μｍであることが好ましく、０．５乃至５μｍであることがさらに好ましい。
【００６３】
［配向膜］
液晶性化合物を配向させるために配向膜を用いることが好ましい。
配向膜は、有機化合物（好ましくはポリマー）のラビング処理、無機化合物の斜方蒸着、マイクログルーブを有する層の形成、あるいはラングミュア・ブロジェット法（ＬＢ膜）による有機化合物（例、ω−トリコサン酸、ジオクタデシルメチルアンモニウムクロライド、ステアリル酸メチル）の累積のような手段で、設けることができる。さらに、電場の付与、磁場の付与あるいは光照射により、配向機能が生じる配向膜も知られている。ポリマーのラビング処理により形成する配向膜が特に好ましい。ラビング処理は、ポリマー層の表面を、紙や布で一定方向に、数回擦ることにより実施する。
【００６４】
本発明では、棒状液晶性化合物または円盤状液晶性化合物をホモジニアスに配向させることが好ましい。ただし、同じ「ホモジニアス」と称していても、棒状液晶性化合物と円盤状液晶性化合物とは、著しく相違する。従って、配向膜に使用するポリマーは、液晶化合物の種類（棒状液晶性化合物または円盤状液晶性化合物）に応じて決定する必要がある。
棒状液晶性化合物をホモジニアス（水平）に配向させるためには、配向膜の表面エネルギーを低下させないポリマー（通常の配向膜用ポリマー）を用いる。
円盤状液晶性化合物をホモジニアス（垂直）に配向させるためには、配向膜の表面エネルギーを低下させるポリマーを用いる。配向膜の表面エネルギーを低下させるためには、ポリマーの側鎖に炭素原子数が１０乃至１００の炭化水素基を導入することが好ましい。
【００６５】
具体的なポリマーの種類については、液晶セル（主に棒状液晶性化合物）または光学補償シート（主に円盤状液晶性化合物）についての様々な文献に記載がある。
配向膜の厚さは、０．０１乃至５μｍであることが好ましく、０．０５乃至１μｍであることがさらに好ましい。
なお、配向膜を用いて、光学異方性層の液晶化合物を配向させてから、液晶層を透明支持体上に転写してもよい。配向状態で固定された液晶化合物は、配向膜がなくても配向状態を維持することができる。
【００６６】
λ／４板を形成する上で、二つの光学異方性層の組み合わせ方の前記第１の態様では、光学異方性層の面内の遅相軸と透明支持体の長手方向との角度を実質的に７５゜または１５゜に設定することが好ましい。
一般的な配向膜は、ラビング方向と、液晶性化合物からなる光学異方性層の遅相軸方向とが平行になる。光学異方性層の面内の遅相軸と透明支持体の長手方向との角度を実質的に１５゜に設定する場合は、一般的な配向膜（平行型配向膜）を用いて、透明支持体の長手方向に対して１５゜の方向にラビング処理を実施することが好ましい。すなわち、透明支持体の長手方向と、ラビング方向との角度は、なるべく小さい角度（７５゜よりも１５゜）になることが好ましい。
【００６７】
一方、光学異方性層の面内の遅相軸と透明支持体の長手方向との角度を実質的に７５゜に設定する場合は、特別な配向膜（直交型配向膜）を用いて、透明支持体の長手方向に対して１５゜の方向にラビング処理を実施することが好ましい。直交型配向膜を用いると、ラビング方向と、液晶性化合物からなる光学異方性層の遅相軸方向とを実質的に垂直にすることができる。その結果、透明支持体の長手方向と、ラビング方向との角度を、なるべく小さい角度（７５゜よりも１５゜）に設定できる。
【００６８】
直交型配向膜は、下記式（ＩＩＩ）または（ＩＶ）で表される繰り返し単位と、下記式（Ｖ）または（ＶＩ）で表される繰り返し単位とを含むコポリマーを含むことが好ましい。
【００６９】
【化１４】
式（ＩＩＩ）において、Ｒ１は、水素原子（アクリル酸コポリマー）またはメチル（メタクリル酸コポリマー）である。
式（ＩＩＩ）において、Ｍは、プロトン，アルカリ金属（例、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ）イオンまたはアンモニウムイオンである。アンモニウムイオンは、有機基（例、メチル、エチル）により置換されていてもよい。
式（ＩＩＩ）および（ＩＶ）において、ｍは、１０乃至９５モル％である。
【００７１】
式（Ｖ）および（ＶＩ）において、Ｒ２は、水素原子、ハロゲン原子または炭素原子数が１乃至６のアルキル基である。Ｒ２は、水素原子または炭素原子数が１乃至６のアルキル基であることが好ましく、水素原子、メチルまたはエチルであることがさらに好ましく、水素原子またはメチルであることが最も好ましい。
【００７２】
式（Ｖ）において、Ｃｙは、脂肪族環基、芳香族基または複素環基である。
脂肪族環基の脂肪族環は、５員乃至７員環であることが好ましく、５員環または６員環であることがさらに好ましく、６員環であることが最も好ましい。脂肪族環の例には、シクロヘキサン環、シクロヘキセン環およびビシクロ［２．２．１］ヘプタ−２−エン環が含まれる。脂肪族環に、他の脂肪族環、芳香族環または複素環が縮合していてもよい。
芳香族基の芳香族環の例には、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環、フェナントレン環、ピレン環およびナフタセン環が含まれる。芳香族環に、脂肪族環または複素環が縮合していてもよい。
複素環基の複素環は、５員乃至７員環であることが好ましく、５員環または６員環であることがさらに好ましい。複素環は、芳香族性を有することが好ましい。芳香族性複素環は、一般に不飽和であり、好ましくは最多二重結合を有する。複素環の例には、フラン環、チオフェン環、ピロール環、オキサゾール環、イソオキサゾール環、イソチアゾール環、イミダゾール環、ピラゾール環、フラザン環、ピラン環、ピリジン環、ピリダジン環、ピリミジン環およびピラジン環が含まれる。複素環に、他の複素環、脂肪族環または芳香族環が縮合していてもよい。
【００７３】
脂肪族環基、芳香族基および複素環基は、置換基を有していてもよい。置換基の例には、アルキル基（例、メチル、エチル、ｔ−ブチル）、置換アルキル基（例、クロロメチル、ヒドロキシメチル、塩化トリメチルアンモニオ）、アルコキシ基（例、メトキシ）、ハロゲン原子（Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ）、カルボキシル、アシル基（例、ホルミル）、アミノ、スルホ、アリール基（例、フェニル）、アリールオキシ基（例、フェノキシ）およびオキソが含まれる。
【００７４】
式（ＶＩ）において、Ｌ１は、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＮＲ−、−ＳＯ２−、アルキレン基、アルケニレン基、アリーレン基およびそれらの組み合わせからなる群より選ばれる二価の連結基である。Ｒは、水素原子または炭素原子数が１乃至６のアルキル基である。
式（ＶＩ）において、Ｒ３は、少なくとも二個の芳香族環または芳香族性複素環を含む炭素原子数が１０乃至１００である一価の基である。芳香族環および芳香族性複素環の定義および例は、式（Ｖ）のＣｙにおける芳香族環および芳香族性複素環の定義および例と同様である。
式（Ｖ）および（ＶＩ）において、ｎは、９０乃至５モル％である。
【００７５】
式（ＩＶ）で表される繰り返し単位を含むコポリマーは、変性ポリビニルアルコールの一種である。変性ポリビニルアルコールのポリビニルアルコール部分に相当する式（ＩＶ）で表される繰り返し単位は、ケン化度が１００％である必要はない。言い換えると、変性ポリビニルアルコールは、下記式（ＶＩＩ）で表される酢酸ビニルに対応する繰り返し単位を含むことができる。
【００７６】
【化１５】
式（ＶＩＩ）において、ｋは、０．０１乃至２０モル％である。
コポリマーは、さらに重合性基を有する繰り返し単位を含むことができる。重合性基を有する繰り返し単位は、下記式（ＶＩＩＩ）で表されることが好ましい。
【００７８】
【化１６】
式（ＶＩＩＩ）において、Ｒ４は、水素原子、ハロゲン原子または炭素原子数が１乃至６のアルキル基である。Ｒ４は、水素原子または炭素原子数が１乃至６のアルキル基であることが好ましく、水素原子、メチル基またはエチル基であることがさらに好ましく、水素原子またはメチル基であることが最も好ましい。
式（ＶＩＩＩ）において、Ｌ２は、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＮＲ−、−ＳＯ２−、アルキレン基、アルケニレン基、アリーレン基およびそれらの組み合わせからなる群より選ばれる二価の連結基である。Ｒは、水素原子または炭素原子数が１乃至６のアルキル基である。
式（ＶＩＩＩ）において、Ｑは重合性基である。重合性基の定義および例は、液晶性化合物の重合性基の定義および例と同様である。
式（ＶＩＩＩ）において、ｐは、０．１乃至２０モル％である。
配向膜に、二種類以上のポリマーを併用してもよい。
【００８０】
［ポリマーフィルム］
本発明の高透過率導電性フィルムでは、ポリマーフィルムを支持体として用いる。本発明の高透過率導電性フィルムが塗布型λ／４板の場合、ポリマーフィルムそれ自体がλ／４板の透明支持体も兼ねる。
ポリマーフィルムとしては、セルロースエステル（例、トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロース、プロピオニルセルロース、ブチリルセルロース、アセチルプロピオニルセルロース、ニトロセルロース）、ポリアミド、ポリカーボネート、ポリエステル（例、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリ−１，４−シクロヘキサンジメチレンテレフタレート、ポリエチレン−１，２−ジフェノキシエタン−４，４’−ジカルボキシレート、ポリブチレンテレフタレート）、ポリスチレン（例、シンジオタクチックポリスチレン）、ポリオレフィン（例、ポリプロピレン、ポリエチレン、ポリメチルペンテン）、環状ポリオレフィン、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリアリレート、ポリエーテルイミド、ポリメチルメタクリレートおよびポリエーテルケトンが含まれる。ポリマーフィルムとして、複屈折のない（レターデーションの小さな）フィルムを用いることが好ましい。そのようなものとしては、トリアセチルセルロース、ポリカーボネート、ポリスルホン、ポリアリレート、ポリエーテルスルホンなどが望ましい。なかでも、インナータイプタッチパネルに用いる場合などには上部基板は偏光板を有するが、この偏光板に用いられるトリアセチルセルロースと熱や湿度に対する線膨張係数を合わせる観点、またコスト面から、トリアセチルセルロースを用いるのが特に好ましい。トリアセチルセルロースフィルムの作製法は、公開技報番号２００１−１７４５にて公開されたものが好ましく用いられる。
ポリマーフィルムの光透過率は、８０％以上であることが好ましく、８６％以上であることがさらに好ましい。ヘイズは、２．０％以下であることが好ましく、１．０％以下であることがさらに好ましい。屈折率は、１．４〜１．７であることが好ましい。
【００８１】
（ハードコート層）
ポリマーフィルムと高屈折率層の間にはハードコート層を設けることが望ましい。ポリマーフィルムが塗布型λ／４板の場合には、透明支持体と光学異方性層の間にハードコート層を設けてもよいし、光学異方性層と高屈折率層の間に設けてもよい。また、透明支持体の光学異方性層を設けた面とは反対側の面上に、ハードコート層、高屈折率層，２、透明導電膜を設けてもよい（図１の上部基板２０の構成）。ハードコート層に用いる材料としては、フッ素系樹脂、アクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、ウレタン系樹脂、シリコン系樹脂、プロピレン系樹脂、ビニル系樹脂などの高分子を単独、または、混合で用いることができる。また、高分子中に無機酸化物微粒子を分散してコートすることも好ましい。無機酸化物微粒子としては、ＳｉＯ２、Ａｌ２Ｏ３、ＴｉＯ２、ＺｒＯ２、ＳｎＯ２などがあるが、特にＳｉＯ２、Ａｌ２Ｏ３が望ましい。また、無機物のみをスパッタ法などの方法でコートしてもよい。
コートする膜厚としては０．３μｍ以上５０μｍ以下が好ましく、さらに好ましくは０．５ｎｍ以上１０μｍ以下であり、特に好ましくは１μｍ以上４μｍ以下である。
また、ハードコート層の屈折率は、高屈折率層の屈折率以下であることが好ましく、１．６以下であることがより好ましく、１．５５以下であることがさらに好ましい。
【００８２】
（高屈折率層）
本発明に用いる高屈折率層は、ベースとなるλ／４板機能を有するポリマーフィルムより屈折率が高い必要がある。しかし、屈折率が低すぎると光の透過率向上の効果が少なくなる傾向があり、一方、屈折率が高すぎると、特定の波長の光の透過率は高くなるが、可視光全域で高い透過率が得られなくなる可能性がある。したがって、屈折率は１．６〜２．６が好ましく、１．６〜２．０がさらに好ましい。特に好ましくは１．６〜１．９である。
【００８３】
高屈折率層は、無機微粒子と重合性モノマーの硬化物で形成される。例えば、屈折率の高い無機微粒子、アニオン性分散剤、３官能以上の重合性基を有するモノマー、および重合開始剤を含有する硬化性組成物を塗布、乾燥し、熱および／または電離放射線によりモノマーを重合させ硬化させることによって形成することができる。このようにして形成された高屈折率層は、高屈折率を有するポリマー溶液を塗布、乾燥したものと比較して、耐傷性や密着性に優れる。
高屈折率層の屈折率は、主に、上記モノマーが重合、硬化してなる硬化性樹脂と、無機微粒子の屈折率により決まるので、モノマーや無機微粒子の選択により調整することができる。
【００８４】
屈折率の高い無機微粒子としては、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｉｎ、Ｚｎ、Ｓｎ、Ｓｂの酸化物が挙げられ、この中から選ばれる少なくとも１種の金属酸化物を含む無機微粒子が好ましい。無機微粒子の平均粒径は、コールターカウンター法で測定したときの平均粒径で１から１００ｎｍであることが好ましい。１ｎｍ以下では、比表面積が大きすぎるために、塗布液中に分散させた際の安定性に乏しく、好ましくない。１００ｎｍ以上では、上記モノマーが重合、硬化してなる硬化性樹脂との屈折率差に起因する可視光の散乱が発生し、好ましくない。
３官能以上の重合性基を含有するモノマーとしては、多官能（メタ）アクリレートモノマーが挙げられる。また、アニオン性分散剤としては、アニオン性基を含有するモノマー（（メタ）アクリレートモノマーなど）が挙げられる。分散液安定性や、硬化後の膜強度等を確保するために、特開平１１−１５３７０３号公報や特許番号ＵＳ６２１０８５８ Ｂ１等に記載されているような、多官能（メタ）アクリレートモノマーとアニオン性基含有（メタ）アクリレート分散剤とが塗布組成物中に含まれることが好ましい。
重合開始剤は、例えば、紫外線によりラジカルを発生させる、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、ミヒラーのケトン、ベンゾイルベンゾエート、ベンゾイン類、α−アシロキシムエステル、テトラメチルチウラムモノサルファイドおよびチオキサントン等の公知のラジカル発生剤が使用できる。また通常、光酸発生剤として用いられるスルホニウム塩やヨードニウム塩なども紫外線照射によりラジカル発生剤として作用するため、これらを単独で用いてもよい。また、感度を高める目的で重合開始剤に加えて、増感剤を用いてもよい。増感剤の例には、ｎ−ブチルアミン、トリエチルアミン、トリ−ｎ−ブチルホスフィン、およびチオキサントン誘導体等が含まれる。重合開始剤は、単独でも複数開始剤を組み合わせて用いてもよい。重合開始剤の添加量としては、高屈折率層を形成するための硬化性組成物中に含まれる硬化性樹脂の総質量に対し、０．１乃至１５質量％の範囲で使用することが好ましく、１乃至１０質量％の範囲で使用することがさらに好ましい。
硬化させる際に照射する電離放射線としては、ガンマー線、アルファー線、電子線、紫外線などが挙げられるが、なかでも紫外線が好ましい。
【００８５】
（中間層）
本発明に用いる中間層は、高屈折率層より屈折率が低い必要があるが、屈折率が高すぎると透過率の向上効果が少ない。また、屈折率が低すぎると膜の強度が低くなり、タッチパネル化した時の、入力の際に受ける入力ペンからの荷重で破壊される可能性がある。したがって、屈折率は１．３０〜１．６５が望ましく、１．３５〜１．６０が更に望ましい。より望ましくは１．４〜１．５７である。
【００８６】
中間層は、熱もしくは電離放射線の照射により硬化する、含フッ素硬化性樹脂および／または３官能以上の重合性基を有する硬化性樹脂を主体とする層であることが好ましく、さらに、無機微粒子やその他の添加剤を含んでもよい。
熱もしくは電離放射線の照射により硬化する硬化性樹脂としては、同一分子内に２個以上のアクリル基を有する硬化性樹脂が好ましい。具体例としては、エチレングリコールジアクリレート、１，６−へキサンジオールジアクリレート、ビスフェノール−Ａジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート等のポリオールポリアクリレート類、ポリイソシアネート硬化性樹脂とヒドロキシエチルアクリレート等の水酸基含有アクリレートの反応によって得られる多官能のウレタンアクリレートやポリエポキシ硬化性樹脂とヒドロキシエチルアクリレート等の水酸基含有アクリレート（メタアクリレート）の反応によって得られる多官能のエポキシアクリレート等を挙げることができる。さらに、以下のＡ−１からＡ−４４等のエチレン性不飽和基を側鎖に有するポリマーを用いることもできる。
【００８７】
【化１７】
【化１８】
【化１９】
【化２０】
【化２１】
中間層の低屈折率化のために、含フッ素硬化性樹脂を用いるのが好ましい。該含フッ素硬化性樹脂としては、パーフルオロアルキル基含有シラン化合物（例えば（ヘプタデカフルオロ−１，１，２，２−テトラデシル）トリエトキシシラン）等の他、含フッ素モノマーと架橋性基付与のためのモノマーを構成単位とする含フッ素共重合体が挙げられる。
含フッ素モノマー単位の具体例としては、例えばフルオロオレフィン類（例えばフルオロエチレン、ビニリデンフルオライド、テトラフルオロエチレン、ヘキサフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、パーフルオロ−２，２−ジメチル−１，３−ジオキソール等）、（メタ）アクリル酸の部分または完全フッ素化アルキルエステル誘導体類（例えばビスコート６ＦＭ（大阪有機化学製）やＭ−２０２０（ダイキン製）等）、完全または部分フッ素化ビニルエーテル類等であり、これらのなかでも低屈折率、モノマーの扱いやすさの観点で特にヘキサフルオロプロピレンが好ましい。
架橋性基付与のためのモノマーとしてはグリシジルメタクリレートのように分子内にあらかじめ架橋性官能基を有する（メタ）アクリレートモノマーの他、カルボキシル基やヒドロキシル基、アミノ基、スルホン酸基等を有する（メタ）アクリレートモノマー（例えば（メタ）アクリル酸、メチロール（メタ）アクリレート、ヒドロキシアルキル（メタ）アクリレート、アリルアクリレート等）が挙げられる。後者は共重合の後、架橋構造を導入できることが特開平１０−２５３８８号公報および特開平１０−１４７７３９号公報により開示されており、特に好ましい。
また上記含フッ素モノマーを構成単位とするポリマーだけでなく、フッ素原子を含有しないモノマーとの共重合体を用いてもよい。併用可能なモノマー単位には特に限定はなく、例えばオレフィン類（エチレン、プロピレン、イソプレン、塩化ビニル、塩化ビニリデン等）、アクリル酸エステル類（アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸２−エチルヘキシル）、メタクリル酸エステル類（メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸ブチル、エチレングリコールジメタクリレート等）、スチレン誘導体（スチレン、ジビニルベンゼン、ビニルトルエン、α−メチルスチレン等）、ビニルエーテル類（メチルビニルエーテル等）、ビニルエステル類（酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、桂皮酸ビニル等）、アクリルアミド類（Ｎ−ｔｅｒｔブチルアクリルアミド、Ｎ−シクロヘキシルアクリルアミド等）、メタクリルアミド類、アクリロ二トリル誘導体等を挙げることができ、特開平１０−２５３８８号公報および特開平１０−１４７７３９号公報により開示されている。
【００９３】
中間層と透明導電膜の間の密着性を向上するためには、後述の易接着処理を施すが、密着性を効果的に向上するためには、中間層に使用する含フッ素硬化性樹脂や３官能以上の重合性基を有する電離放射線硬化性樹脂が、易接着処理で、分子鎖を切断された時に、表面に−ＣＯＯＨ基および／または−ＯＨ基を発生することが好ましく、特に−ＣＯＯＨ基を発生するのが好ましい。また、そのような官能基を発生する添加成分を加えてもよい。このような官能基を発生するためには、硬化後の分子鎖中に−ＣＯＯ−結合を有する樹脂を選択するのがよい。
【００９４】
中間層の屈折率の調整や硬度付与のために、無機微粒子を含有させることが好ましく、Ｓｉの酸化物からなる微粒子が望ましい。Ｓｉの酸化物からなる微粒子としては、市販の有機溶剤に分散されたシリカゾルをそのまま塗布液に添加しても、市販の各種シリカ紛体を有機溶剤に分散して使用してもよい。
【００９５】
高屈折率層，中間層およびハードコート層の各層は、ディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート、マイクログラビア法やエクストルージョンコート法（米国特許２６８１２９４号明細書）により、塗布により形成することができる。ウエット塗布量を最小化することで乾燥ムラをなくす観点でマイクログラビア法およびグラビア法が好ましく、幅方向の膜厚均一性の観点で特にグラビア法が好ましい。
本発明においては、高透過率導電性フィルムを構成する層（高屈折率層、中間層、および形成する場合は光学異方性層、ハードコート層を含む）のうち少なくとも２層以上は塗布法で形成し、かつ、少なくとも２層以上の塗布層、好ましくは３層以上の塗布層が、該支持体を一回送り出してから巻き取るまでの間の一工程中に連続で形成されることが望ましく、該支持体を一回送り出してから巻き取るまでの間の一工程中に全塗布層が連続で形成されることが特に望ましい。
【００９６】
（易接着処理）
中間層の上に透明導電性膜を処理する前には易接着処理するのが望ましく、用途によっては、易接着処理をしないと透明導電性膜の密着性が不十分で、使用中に膜剥離や膜破壊が発生する可能性がある。易接着処理としては、ＵＶ照射処理、エキシマＵＶ処理、真空プラズマ処理、減圧プラズマ処理、常圧プラズマ処理、コロナ放電処理、イオンビーム照射処理、ケン化処理などがある。密着性改善効果と処理速度の面からは、特に真空プラズマ処理、常圧プラズマ処理、減圧プラズマ処理、コロナ放電処理、イオンビーム照射処理、ケン化処理が好ましい。生産性上の観点からは、易接着処理プロセスは、高屈折率層および中間層の塗布工程後に、ロールで巻き取る前に減圧プラズマ処理、常圧プラズマ処理、コロナ放電処理、イオンビーム処理、ケン化処理連続で処理するか、または、透明導電性膜の形成前に、真空中で真空プラズマ処理で処理し、連続で透明導電膜を形成するのが望ましい。
【００９７】
（透明導電膜）
本発明の高透過率導電性フィルムおよびタッチパネルに用いる透明導電膜は、表面抵抗率が２０００Ω／□以下であることが好ましく、１０００Ω／□以下であることがさらに好ましい。特に好ましくは１００Ω／□以上９００Ω／□以下である。
【００９８】
フィルム上に透明導電膜を形成するには、ロール式の連続スパッタ装置を用いることが好ましい。本発明の高透過率導電性フィルムをアウタータイプの上部基板に用いる場合は透明導電膜と反対側の面にハードコート層と反射防止膜を設けるのが望ましいが、その場合は、透明電極膜を成膜する前に、ハードコート層と反射防止膜を設けるのが望ましい
【００９９】
表面抵抗率が上記のような値の透明導電膜は、導電性微粒子分散物、金属アルコキシドなどを塗布によって設けても構わないし、スパッタリング、真空蒸着法、イオンプレーティング法、ＣＶＤ法などの真空成膜法、あるいは大気圧での気相成長法によって透明導電膜を形成しても構わない。好ましい形成法はスパッタリング、真空蒸着、イオンプレーティングであり、特に好ましくはスパッタリング法である。
【０１００】
真空成膜法としては「透明導電膜の新展開」シーエムシー、澤田豊監修「月刊ディスプレイ」１９９９年９月号に記載の方法を用いることができる。
成膜する透明導電性金属酸化物としてはＩｎ２Ｏ３系（Ｓｎなどのドープ品、ＩＴＯを含む）、ＳｎＯ２系（Ｆ、Ｓｂなどのドープ品を含む）、ＺｎＯ系（Ａｌ、Ｇａなどのドープ品を含む）およびこれらの複合酸化物、例えばＩｎ２Ｏ３−ＺｎＯ系、などが挙げられる。金属窒化物としてはＴｉＮなどが挙げられる。また、銀などと共に成膜してもよい。
【０１０１】
スパッタ法により酸化インジウムを主成分とする膜を成膜する方法としては、インジウムを主成分とする金属ターゲット、または酸化インジウムを主成分とする焼結体ターゲットを用いた反応性スパッタリングが適する。反応を制御する上では、後者が好ましい。特に好ましくは酸化スズを含有する酸化インジウムターゲットを用いた反応性スパッタリングであり、酸化スズを１質量％から２０質量％含むのが望ましく、３質量％から１２質量％含むのが特に望ましい。反応性スパッタリング法においてはスパッタリングガスに、アルゴンなどの不活性ガスを用い、反応性ガスとしては酸素を用いる。また、酸素流量の制御はプラズマエミッションモニター法で行うことが好ましい。放電形式は特に規定しないが、ＤＣマグネトロンスパッタ、ＲＦマグネトロンスパッタ、１対のターゲット間にＡＣ電圧を印加する方法、１対のターゲット間にパルスＤＣ電圧を印加する方法などが好ましい。成膜時の基板の温度は特に規定はないが、基板のガラス転移点以下で可能な範囲で加熱した方が膜強度が向上する傾向がある。
【０１０２】
透明導電膜が形成された状態で、本発明の高透過率導電性フィルムの波長５５０ｎｍにおける光の透過率は、９０％以上であることが好ましく、９２％以上であることがより好ましく、９３％以上であることがさらに好ましく、９４％以上であることが特に好ましい。
さらに、４５０ｎｍ、５５０ｎｍ、６５０ｎｍの全ての波長で、透過率が９０％以上、更に好ましくは９２％以上であると、ディスプレイに搭載した際に、透過光の色変化が少なく、特に好ましい。
【０１０３】
透明導電膜の厚みは、ＩＴＯを用いた場合を例にとると、５〜２００ｎｍが好ましく、より好ましくは５〜１５０ｎｍ、更に好ましくは５ｎｍ〜３０ｎｍ、最も好ましくは７〜２０ｎｍである。
透明導電膜は、タッチパネルに用いる際には、全面を電極として用いる場合と、全面に電極を形成した後にレジスト形成およびエッチングを行ってパターン加工して用いる場合がある。
【０１０４】
（円偏光機能付上部基板）
本発明のタッチパネルでは、外光の反射防止の点から、上部基板が円偏光機能を有することが望ましい。
円偏光機能付上部基板は、偏光能を持つ偏光膜を有し、通常該偏光膜の両面又は片面に保護膜が接着剤層を介して設けられ、さらに片面側には、λ／４板が設けられる。λ／４板として、本発明のλ／４板機能を有する高透過率導電性フィルムを用いるのが、低コストで薄型・軽量化でき、好ましい。
【０１０５】
液晶材料や配向方向、視野角特性などの観点から、λ／４板の遅相軸と偏光膜の透過軸とのなす角度は４５°とするのが好ましい。
また、λ／４板の光の波長に対する位相遅れの公差を補償するために、偏光膜とλ／４板との間にλ／２板を配置することもある。
【０１０６】
また、ポリマーフィルム上に２層の光学異方性層が塗布されて形成されたλ／４板の場合は、第１の光学異方性層であるλ／２層の遅相軸と、第２の光学異方性層であるλ／４層の遅相軸とが、実質的に６０゜で交差しているのが望ましい。さらに、偏光膜との貼り合わせた際に、偏光膜の偏光軸と、一方の光学異方性層の遅相軸とが、実質的に７５゜で交差しており、そして、偏光膜の偏光軸と、もう一方の光学異方性層の遅相軸とが、実質的に１５゜で交差していることが望ましい。
【０１０７】
一般に、λ／４板、λ／２板などの位相差板は疎水性であり、透湿性が低くなるので、通常１０％以上と比較的含水率の高い偏光膜と直に貼り合わせると、偏光膜中の水が偏光板外に揮発するまでの時間が長くなり、偏光度が低下したり、色ムラを生じたりするため、好ましくない。したがって、通常は、λ／４板が偏光膜の保護膜を兼ねることができず、偏光板としては、保護膜／偏光膜／保護膜／（λ／４板）の構成となる。
しかし、最終的に偏光膜の含水率を５％以下の少ない状態に乾燥すると、λ／４板のように透湿性の低いフィルムを偏光膜の保護膜として、偏光膜に直接貼り合わせることができ、結果として、保護膜の使用枚数を減らすこととなり、偏光板全体の厚みを薄くすることができるので、この構成が好ましい。
また、セルロースエステルフィルムを用いたλ／４板を用いると、偏光膜の保護膜として作用し、偏光膜の含水量を特に少ない状態にすることなく、偏光膜に直接貼り合せることができ、非常に好適である。セルロースエステルフィルムを用いたλ／４板としては、セルロースエステルフィルム中に位相差を生じる化合物を混合した後に延伸などの手法で配向させて、λ／４板を作製してもよいし、セルロースエステルフィルムの上に、λ／４の位相差を有する層を塗布など手段で形成してもよい。また、λ／４の位相差を有する層は１層で形成されていてもよいし、上記塗布型λ／４板のように、λ／２の位相差を有する層とλ／４の位相差を有する層を積層して、広帯域のλ／４板を作製してもよい。
【０１０８】
偏光膜の吸収軸は長尺の偏光膜においては一般に長手方向に位置しており、当然このような偏光板も、本発明に使用可能であるが、偏光膜の吸収軸が長手方向に平行でも垂直でもないことがさらに好ましい（かかる長尺の円偏光板を以下単に「斜め配向した」円偏光板と称することもある）。偏光膜の長手方向と吸収軸方向とがなす角度は、好ましくは１０°以上９０°未満、より好ましくは２０°以上７０゜未満、更に好ましくは４０°以上５０゜未満、特に好ましくは４４°以上４６゜未満である。これにより、貼合せ前に偏光板とλ／４板を打ち抜き、枚葉で貼り合せるということをせず、ロール・ツー・ロールの貼合せで連続的に長尺の円偏光版が作製することができ、非常に好適である。
【０１０９】
また、本発明に用いられる円偏光板の単板透過率は、５５０ｎｍで３５％以上、かつ偏光度が５５０ｎｍで８０％以上であることが好ましい。単板透過率は４０％以上であることがより好ましく、偏光度は好ましくは９５．０％以上、より好ましくは９９％以上、特に好ましくは９９．９％以上である。
【０１１０】
（タッチパネル）
本発明のタッチパネルは、例えば、表示装置が液晶表示装置の場合には、液晶セルに近い側の下部基板と、対向する上部基板とからなる。下部基板と上部基板の対向面に、それぞれ透明電極を備えている。
上部基板には上記の円偏光機能付上部基板を用いるとよい。下部基板は、組み合わせる液晶のモードによって変化するが、本発明のλ／４板機能付高透過導電性フィルムを用いるか、または、本発明のλ／４板機能付高透過導電性フィルムのλ／４板機能を除いた透明のポリマーフィルムを用いた高透過率導電性フィルムを用いると非常に効果的であり、画像透過性の良好なタッチパネルが作製可能である。ただし、高透過率化のために高屈折率層，中間層を用いるのは、上部基板か下部基板のどちらか片方でも、充分に効果がある。
上部基板に本発明の高透過率導電性フィルムを用いない場合は、フィルム、プラスチック、ガラスのどれでもよく、透明フィルムの例としては非晶性フィルム、ポリエーテルサルフォン、ポリカーボネート、ポリアリレート、ポリエチレンテレフタレート、セルロースエステル、環状ポリオレフィンなどのポリマーフィルムが挙げられるが、これに限るものではない。
また、インナータイプタッチパネルの場合は、上部基板としては、円偏光板を用いてもよいし、または上記で挙げた透明フィルム上に円偏光板を貼り合わせたものを用いてもよい。また、上部基板表面に反射防止膜やハードコート層を設けた透明フィルムを貼り付けてもよいし、反射防止膜やハードコート層を設けた透明フィルムをλ／４板とは逆側に位置する保護膜として直接偏光膜に貼り付けて、円偏光板として一体化してもよい。
下部基板としては、例えば、ガラスおよび非晶性フィルム、ポリエーテルサルフォン、ポリカーボネート、ポリアリレート、ポリエチレンテレフタレート、セルロースエステル、環状ポリオレフィンなどのポリマーフィルムなどを用いる。
【０１１１】
上部基板および下部基板の表面には透明導電膜が形成されるが、本発明の高透過率導電性フィルムを用いない場合でも、透明導電膜の形成方法は前記の（透明電極膜）の箇所に記載した内容と同様である。
【０１１２】
２つの透明導電膜間には、ギャップが形成される。ギャップ間には通常空気層が存在するが、オプティカル・マッチングを取るために透明導電膜と屈折率の近い液体を充填させることもできる。また、透明導電膜の基板側にアンダーコート層、または、基板と反対側にオーバーコート層を付与し、光反射を低減させることもできる。スティッキング性をなくし、耐久性を改善するために、透明電極膜表面は粗面化されていてもよい。ギャップ間にはスペーサを設けることができる。スペーサとしては、ドット状スペーサを固定基板または可動基板のどちらかに設ける。ドットスペーサのサイズは径２０〜１５０μｍ、高さ５〜２０μｍが望ましく、ピッチ１〜８ｍｍで基板全面に作製されていることが望ましいが、作製密度は基板内で均一でない場合もある。
【０１１３】
タッチパネルによるデータ入力位置検出の方式は、デジタル式（マトリクス式）、アナログ式のどちらでも用いることができる。
デジタル式（マトリクス式）では、固定基板の透明導電膜（例えばＸ列）と可動基板の透明導電膜（例えばＹ列）とによりマトリクスを形成し、押圧による透明導電膜同士の接触位置に対応して、データ位置を検出することができる。
アナログ式では、例えば、固定基板のＸ軸方向の両端部、および、可動基板のＹ軸方向の両端部に電極を形成し、押圧により透明電極同士が接触し、接触位置により生じるＸ方向、Ｙ方向の抵抗値を検出することによって、データ入力位置を検出することができる。
本発明においては、タッチパネルは画像表示装置に組み込んで用いることが好ましいが、タッチパネルが表示部とは別々になっていても構わないし、両者が一体となっていても構わない。
【０１１４】
本発明のタッチパネルは、様々な表示装置と組み合わせて用いることができる。例えば、カソードレイチューブ（ＣＲＴ）、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、フィールド・エミッション・ディスプレイ（ＦＥＤ）、無機ＥＬディスプレイ、有機ＥＬディスプレイ、液晶表示装置などである。本発明のタッチパネルを用いることで、これらタッチパネル付き表示装置の外光の反射を低減することができる。これらの表示装置の中では、液晶表示装置または有機ＥＬディスプレイ、無機ＥＬディスプレイと組み合わせて用いるのが好ましい。
【０１１５】
液晶表示装置と組み合わせて用いる場合は、用いられる液晶モードは特に限定されないが、ＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）型、ＳＴＮ（Ｓｕｐｅｒ Ｔｗｉｓｔｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）型、ＨＡＮ（Ｈｙｂｒｉｄ Ａｌｉｇｎｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）型、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｅｄ Ｂｅｎｄ）型、ＥＣＢ（Ｅｌｅｃｔｒｉｃａｌｌｙ Ｃｏｎｔｒｏｌｌｅｄ Ｂｉｒｅｆｒｉｎｇｅｎｃｅ）型、ＶＡ（Ｖｅｒｔｉｃａｌｌｙ Ａｌｉｇｎｅｄ）型または、ＧＨ（Ｇｕｅｓｔ Ｈｏｓｔ）型であることが好ましい。また、反射型、半透過型、透過型いずれに対しても用いることができる。
【０１１６】
【実施例】
以下、実施例に基づき、本発明を具体的に説明するが、本発明は実施例に限定して解釈されるものではない。
【０１１７】
＜λ／４板の作製＞
（第１配向膜の形成）
厚さ１００μｍ、幅５００ｍｍ、長さ５００ｍの光学的等方性ロール状トリアセチルセルロースフィルム（屈折率１．４８、レターデーション値４ｎｍ）を透明支持体として用いた。
下記のコポリマー（１）の希釈液を透明支持体の片面に連続塗布して、厚さ０．５μｍの第１（直交型）配向膜を形成した。次いで、透明支持体の長手方向に対し右手１６°の方向に連続的にラビング処理を実施した。
【０１１８】
【化２２】
（第１光学異方性層の形成）
第１配向膜の上に、下記の組成の塗布液をバーコーターを用いて連続的に塗布し、乾燥および加熱（配向熟成）し、さらに紫外線照射して厚さ１．６μｍの第１光学的異方性層を形成した。第１光学的異方性層は、透明支持体の長手方向に対して７４°の方向に遅相軸を有していた。波長５５０ｎｍにおけるレターデーション値は２２５ｎｍであった。
【０１２０】
（第１光学異方性層塗布液組成）
下記の棒状液晶性化合物（１） １４．５質量％
下記の増感剤 １．０質量％
下記の光重合開始剤 ３．０質量％
下記の水平配向促進剤 １．０質量％
メチルエチルケトン ８０．５質量％
【０１２１】
【化２３】
【化２４】
【化２５】
（第２配向膜の形成）
第１光学異方性層の上に、下記のコポリマー（２）の希釈液を連続塗布して、厚さ０．５μｍの第２（平行型）配向膜を形成した。次いで、透明支持体の長手方向に対し左手１６°の方向（第１光学異方性層の遅相軸に対して右手５８゜の方向）に連続的にラビング処理を実施した。
【０１２５】
【化２６】
（第２光学異方性層の形成）
第２配向膜の上に、下記の組成の塗布液をバーコーターを用いて連続的に塗布、乾燥、および加熱（配向熟成）し、さらに紫外線照射して厚さ０．８μｍの第２光学的異方性層を形成し、λ／４板を作製した。第２光学的異方性層は、透明支持体の長手方向に対して左手１６°の方向に遅相軸を有していた。波長５５０ｎｍにおけるレターデーション値は１１３ｎｍであった。
【０１２７】
（第２光学異方性層塗布液組成）
第１光学異方性層で用いた棒状液晶性化合物（１） １３．０質量％
第１光学異方性層で用いた増感剤 １．０質量％
第１光学異方性層で用いた光重合開始剤 ３．０質量％
第１光学異方性層で用いた水平配向促進剤 １．０質量％
メチルエチルケトン ８２．０質量％
【０１２８】
（λ／４板としての評価）
作製したλ／４板に、光（測定波長は４５０ｎｍ、５５０ｎｍ、５９０ｎｍ）を照射し、通過した光の位相差（レターデーション値：Ｒｅ）を測定した。なお、レターデーション値の測定は、王子計測機器（株）製ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨを用いて行った。
測定した結果は次の通りである。
【０１２９】
＜導電性フィルムの作製＞
（塗布液Ａの調整）
ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物（ＤＰＨＡ、日本化薬（株）製）３０６質量部を、１６質量部のメチルエチルケトンと２２０質量部のシクロヘキサノンの混合溶媒に溶解した。得られた溶液に、光重合開始剤（イルガキュア９０７、チバガイギー社製）７．５質量部を加え、溶解するまで攪拌した後に、４５０質量部のＭＥＫ−ＳＴ（平均粒径１０〜２０ｎｍ、固形分濃度３０質量％のＳｉＯ２ゾルのメチルエチルケトン分散物、日産化学（株）製）を添加し、撹拌して混合物を得、孔径３μｍのポリプロピレン製フィルター（ＰＰＥ−０３）で濾過して塗布液Ａを調製した。
【０１３１】
（二酸化チタン分散物の調製）
二酸化チタン超微粒子（ＴＴＯ−５５Ｂ、石原テクノ（株）製）３０質量部、ジメチルアミノエチルアクリレート（ＤＭＡＥＡ、興人（株）製）１質量部、リン酸基含有アニオン性分散剤（ＫＡＹＡＲＡＤ ＰＭ０−２１、日本化薬（株）製）６質量部およびシクロヘキサノン６３質量部を、サンドグラインダーによって、コールター法で測定した平均粒径が４２ｎｍになるまで分散し、二酸化チタン分散物を調製した。
【０１３２】
（塗布液Ｂの調製）
シクロヘキサノン５４質量部およびメチルエチルケトン１８質量部に、光重合開始剤（イルガキュア９０７、チバガイギー社製）０．１３質量部および光増感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製）０．０４質量部を溶解した。さらに、上記二酸化チタン分散物２６．４質量部およびジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物（ＤＰＨＡ、日本化薬（株）製）１．６質量部を加え、室温で３０分間撹拌した後、孔径３μｍのポリプロピレン製フィルター（ＰＰＥ−０３）で濾過して、塗布液Ｂを調製した。
【０１３３】
（塗布液Ｃの調整）
ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物（ＤＰＨＡ、日本化薬（株）製）３０６質量部を、１６質量部のメチルエチルケトンと２２０質量部のシクロヘキサノンの混合溶媒に溶解した。得られた溶液に、光重合開始剤（イルガキュア９０７、チバガイギー社製）７．５質量部を加え、溶解するまで攪拌した後、孔径３μｍのポリプロピレン製フィルター（ＰＰＥ−０３）で濾過して塗布液Ｃを調製した。
【０１３４】
（塗布液Ｄの調製）
シクロヘキサノン７５質量部およびメチルエチルケトン１９質量部に、光重合開始剤（イルガキュア９０７、チバガイギー社製）０．１１質量部および光増感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製）０．０４質量部を溶解した。さらに、上記二酸化チタン分散物３．１質量部およびジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物（ＤＰＨＡ、日本化薬（株）製）２．１質量部を加え、室温で３０分間撹拌した後、孔径３μｍのポリプロピレン製フィルター（ＰＰＥ−０３）で濾過して、塗布液Ｄを調製した。
【０１３５】
［実施例１］
（高屈折率層，中間層の作製）
上記の通りに作製したλ／４板のトリアセチルセルロース支持体の光学異方性層のない面上に、上記の塗布液Ａを、グラビアコーターを用いて塗布し、１００℃で２分間乾燥した。次に紫外線を照射して、塗布層を硬化させ、ハードコート層（屈折率：１．５１、膜厚：３μｍ）を形成した。
続いて、ハードコート層上に上記の塗布液Ｂをグラビアコーターを用いて塗布し、１００℃で乾燥した後、紫外線を照射して塗布層を硬化させ、高屈折率層（屈折率：１．９０、膜厚：４０ｎｍ）を設けた。
高屈折率層の上に、上記の塗布液Ｃをグラビアコーターを用いて塗布し、１００℃で乾燥した後、紫外線を照射して塗布層を硬化させ、中間層（屈折率：１．５２５、膜厚：８０ｎｍ）を設けた。このようにしてλ／４板上に高屈折率層，中間層を作製した。
以上のハードコート層および高屈折率層，中間層は、支持体を一回送り出してから巻き取るまでの間の一工程中に連続で形成した。
【０１３６】
（易接着処理および透明導電膜の作製）
高屈折率層、中間層を形成した上記トリアセチルセルロースフィルムをロール式連続スパッタリング装置にセットして、易接着処理および透明導電性膜形成を連続で行った。スパッタ装置は上記２処理を連続で行えるように、異なる真空度に制御可能な２チャンバーを有しているものを用いた。易接着処理は真空槽を１．２ｍＰａの圧力まで排気した後、Ａｒガスを導入して、ガス圧を２．０Ｐａに調整した後、プラズマ処理用のマグネトロン電極にＤＣ電圧を３．８８ｋＷ／ｍ２印加し、その電極の前をフィルムを通過させた。処理時間は３分間とった。その後、スパッタチャンバーに搬送し、スパッタ処理を行った。スパッタチャンバーはＡｒ＋Ｏ２混合ガス（Ｏ２＝１．０％）を導入し、圧力を０．３Ｐａに調整した。基板温度を５０℃、投入電力密度１Ｗ／ｃｍ２で、ＤＣスパッタリングを行ない、厚み１５ｎｍの酸化スズを約１０質量％含有する酸化インジウム・酸化スズ膜（ＩＴＯ）を中間層上に形成した。
【０１３７】
このようにして得られた導電性フィルムＡの透明導電膜側の表面抵抗率を、４端子法にて測定した結果、５０２Ω／□であった。
光の透過率は４５０ｎｍ：９０．５％、５５０ｎｍ：９５．４％、６５０ｎｍ：９３．４％であり、波長５５０ｎｍにおける光の透過率が非常に大きな導電性フィルムが得られた。
【０１３８】
［実施例２］
高屈折率層，中間層を下記の通りに形成した以外は、実施例１と同じ方法で、導電性フィルムＢを作製した。
（高屈折率層，中間層の作製）
上記の通りに作製したλ／４板のトリアセチルセルロース支持体の光学異方性層のない面上に、上記の塗布液Ａを、グラビアコーターを用いて塗布し、１００℃で２分間乾燥した。次に紫外線を照射して、塗布層を硬化させ、ハードコート層（屈折率：１．５１、膜厚：３μｍ）を形成した。
続いて、ハードコート層上に上記の塗布液Ｄをグラビアコーターを用いて塗布し、１００℃で乾燥した後、紫外線を照射して塗布層を硬化させ、高屈折率層（屈折率：１．６３、膜厚：４０ｎｍ）を設けた。
高屈折率層の上に、上記の塗布液Ａをグラビアコーターを用いて塗布し、１００℃で乾燥した後、紫外線を照射して塗布層を硬化させ、中間層（屈折率：１．５１、膜厚：８０ｎｍ）を設けた。このようにしてλ／４板上に高屈折率層，中間層を作製した。
以上のハードコート層および高屈折率層，中間層は、支持体を一回送り出してから巻き取るまでの間の一工程中に連続で形成した。
このようにして得られた導電性フィルムＢの光の透過率は、４５０ｎｍ：９１．０％、５５０ｎｍ：９２．２％、６５０ｎｍ：９１．８％であり、可視光の全領域で透過率の高いニュートラルな色味の透明導電膜が得られた。
【０１３９】
［実施例３］
透明導電膜の膜厚を１２ｎｍにした以外は実施例２と同じ方法で、導電性フィルムＣを作製した。
このようにして得られた導電性フィルムＣの透明導電膜側の表面抵抗率を、４端子法にて測定した結果、６８５Ω／□であった。
光の透過率は、４５０ｎｍ：９２．３％、５５０ｎｍ：９２．８％、６５０ｎｍ：９２．０％であり、可視光の全領域で透過率の高いニュートラルな色味の透明導電膜が得られた。
【０１４０】
［比較例１］
中間層を設けない以外は実施例１と同じ方法で、導電性フィルムＤを作製した。
このようにして得られた導電性フィルムＤの光の透過率は、４５０ｎｍ：８９．１％、５５０ｎｍ：８９．７％、６５０ｎｍ：９０．５％であり、実施例と比較して、低い透過率となった。
【０１４１】
［比較例２］
高屈折率層，中間層を設けない以外は実施例３と同じ方法で、導電性フィルムＥを作製した。
このようにして得られた導電性フィルムＥの光の透過率は、４５０ｎｍ：８９．６％、５５０ｎｍ：９０．３％、６５０ｎｍ：９０．８％であり、実施例と比較して、低い透過率となった。
【０１４２】
＜タッチパネルの作製＞
［実施例４］
（上部基板の作製）
片面にハードコート層と反射防止膜を設けたトリアセチルセルロースフィルムの裏面（ハードコート層および反射防止膜を設けなかった面）と実施例１の導電性フィルムＡの透明導電膜を設けた面の反対側の面がそれぞれ偏光膜と接するように、透明導電膜付き位相差板と反射防止層付きハードコートフィルムを同時に偏光膜に貼り付けた。貼り付ける方向は、偏光膜の透過軸と、第一異方性層の遅相軸とが、１５゜となるようにした。
【０１４３】
（タッチパネルの作製）
上記貼り合わせの後に透明導電膜の上に、表面に２ｍｍピッチのドットスペーサと両端部に銀電極を印刷し、上部基板を作製した。また、実施例１の導電性フィルムＡの透明導電膜上に両端に銀電極を印刷し、下部基板を作製した。それぞれの基板には銀電極印刷前に、透明導電膜と銀電極が接触してはいけないところに絶縁コート膜を印刷した。銀電極および絶縁コートはスクリーン印刷機にて印刷し、硬化を行った。上記下部基板と上部基板を透明導電膜同士が対向するように接着し、その後、フレキシブル電極を取り付け、熱圧着にて固定した。この際、両基板の周囲に１００μｍ厚の絶縁性貼り合せ剤を挟んだ。このようにしてタッチパネルＡ１を作製した。
【０１４４】
［実施例５］
実施例４において、導電性フィルムＡの代わりに実施例２の導電性フィルムＢを用いた以外は実施例４と同じ方法で、タッチパネルＢ１を作製した。
【０１４５】
［実施例６］
実施例４において、導電性フィルムＡの代わりに実施例３の導電性フィルムＣを用いた以外は実施例４と同じ方法で、タッチパネルＣ１を作製した。
【０１４６】
［比較例３］
実施例４において、導電性フィルムＡの代わりに比較例１の導電性フィルムＤを用いた以外は実施例４と同じ方法で、タッチパネルＤ１を作製した。
【０１４７】
［比較例４］
実施例４において、導電性フィルムＡの代わりに比較例２の導電性フィルムＥを用いた以外は実施例４と同じ方法で、タッチパネルＥ１を作製した。
【０１４８】
［実施例７］
（下部基板用透明導電膜付きフィルムの作製）
下部基板として、光学異方性層を設けないトリアセチルセルロースフィルム（屈折率１．４８、レターデーション値４ｎｍ）上に、実施例１と同じ方法で、ハードコート層、高屈折率層、中間層、ＩＴＯ膜を形成し、透明導電膜付きフィルムを作製した。
上記透明導電膜付きフィルムの上に、表面に２ｍｍピッチのドットスペーサと両端部に銀電極を印刷し、下部基板を作製した。
【０１４９】
（タッチパネルの作製）
実施例１の導電性フィルムＡのＩＴＯ膜上に両端に銀電極を印刷し、上部基板を作製した。それぞれの基板には銀電極印刷前に、透明導電膜と銀電極が接触してはいけないところに絶縁コート膜を印刷した。銀電極および絶縁コートはスクリーン印刷機にて印刷し、硬化を行った。上記下部基板と上部基板を透明導電膜同士が対向するように接着し、その後、フレキシブル電極を取り付け、熱圧着にて固定した。この際、両基板の周囲に１００μｍ厚の絶縁性貼り合せ剤を挟んだ。このようにしてタッチパネルＡ２を作製した。
【０１５０】
［実施例８］
実施例７において、導電性フィルムＡの代わりに実施例２の導電性フィルムＢを用いた以外は実施例７と同じ方法で、タッチパネルＢ２を作製した。
【０１５１】
［実施例９］
実施例７において、導電性フィルムＡの代わりに実施例３の導電性フィルムＣを用いた以外は実施例７と同じ方法で、タッチパネルＣ２を作製した。
【０１５２】
［比較例５］
実施例７において、導電性フィルムＡの代わりに比較例１の導電性フィルムＤを用いた以外は実施例７と同じ方法で、タッチパネルＤ２を作製した。
【０１５３】
［比較例６］
実施例７において、導電性フィルムＡの代わりに比較例２の導電性フィルムＥを用いた以外は実施例７と同じ方法で、タッチパネルＥ２を作製した。
【０１５４】
＜タッチパネル付き透過型液晶表示装置の作製＞
［実施例１０］
ＴＮ型液晶セルを使用した、タッチパネル付き透過型液晶表示装置（ＣＡＳＳＩＯＰＥＩＡ ＢＥ−５００−ＢＵ、カシオ計算機（株）製）に設けられているタッチパネル部を取り外し、実施例４で作製したタッチパネルＡ１を取り付け、タッチパネル付き透過型液晶表示装置Ａ１を作製した。
【０１５５】
［実施例１１］
実施例５で作製したタッチパネルＢ１を使用した以外は、実施例１０と同じ方法でタッチパネル付き透過型液晶表示装置Ｂ１を作製した。
【０１５６】
［実施例１２］
実施例６で作製したタッチパネルＣ１を使用した以外は、実施例１０と同じ方法でタッチパネル付き透過型液晶表示装置Ｃ１を作製した。
【０１５７】
［比較例７］
比較例３で作製したタッチパネルＤ１を使用した以外は、実施例１０と同じ方法でタッチパネル付き透過型液晶表示装置Ｄ１を作製した。
【０１５８】
［比較例８］
比較例４で作製したタッチパネルＥ１を使用した以外は、実施例１０と同じ方法でタッチパネル付き透過型液晶表示装置Ｅ１を作製した。
【０１５９】
タッチパネル付き透過型液晶表示装置Ａ１〜Ｅ１を比較した。本発明のＡ１〜Ｃ１はいずれもＤ１、Ｅ１と比較して明るい画像が得られ、視認性が向上した。また、導電性フィルムの透過率が高いほど、明るい画像が得られた。
【０１６０】
＜タッチパネル付き反射型液晶表示装置の作製＞
［実施例１３］
ＴＮ型液晶セルを使用した、タッチパネル付き反射型液晶表示装置（パワーザウルスＭＩ−Ｃ１、シャープ（株）製）に設けられているタッチパネル部を取り外し、偏光板と位相差板を剥がし、実施例７で作製したタッチパネルＡ２を取り付け、タッチパネル付き反射型液晶表示装置Ａ２を作製した。
【０１６１】
［実施例１４］
実施例８で作製したタッチパネルＢ２を使用した以外は、実施例１３と同じ方法でタッチパネル付き反射型液晶表示装置Ｂ２を作製した。
【０１６２】
［実施例１５］
実施例９で作製したタッチパネルＣ２を使用した以外は、実施例１３と同じ方法でタッチパネル付き反射型液晶表示装置Ｃ２を作製した。
【０１６３】
［比較例９］
比較例５で作製したタッチパネルＤ２を使用した以外は、実施例１３と同じ方法でタッチパネル付き反射型液晶表示装置Ｄ２を作製した。
【０１６４】
［比較例１０］
比較例６で作製したタッチパネルＥ２を使用した以外は、実施例１０と同じ方法でタッチパネル付き反射型液晶表示装置Ｅ２を作製した。
【０１６５】
タッチパネル付き反射型液晶表示装置Ａ２〜Ｅ２を比較した。本発明のＡ２〜Ｃ２はいずれもＤ２、Ｅ２と比較して明るい画像が得られ、視認性が向上した。また、導電性フィルムの透過率が高いほど、明るい画像が得られた。
【０１６６】
【発明の効果】
本発明のλ／４板機能を有する高透過率導電性フィルムは、可視光領域の透過率が高く、タッチパネルに用いると、画像透過性が高く、視認性が良化する。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明に係わる、インナータイプタッチパネル搭載表示装置の一例を示す概略断面図である。
【図２】本発明に係わる、アウタータイプタッチパネル搭載表示装置の一例を示す概略断面図である。
【図３】λ／４板の代表的な構成を示す模式図である。
【図４】円偏光板の代表的な構成を示す模式図である。
【符号の説明】
１ バックライト
２ 保護膜
３ 偏光膜
４ λ／４板
５ 液晶セル
６ ポリマーフィルム
７ ハードコート
８ 高屈折率層
９ 中間層
１０ 透明導電膜
１１ 透明導電膜
１２ 中間層
１３ 高屈折率層
１４ ハードコート層
１５ λ／４板
１６ 偏光膜
１７ 保護膜
１８ ハードコート層
１９ 反射防止膜
２０ λ／４機能付き高透過率導電性フィルム
２１ 高透過率導電性フイルム（下部基板）
２２ 上部基板
２３ タッチパネル
２３ タッチパネル搭載半透過型液晶表示装置
５１ バックライト
５２ 保護膜
５３ 偏光膜
５４ 保護膜
５５ 液晶セル
５６ 保護膜
５７ 偏光膜
５８ 保護膜
５９ λ／４板
６０ ハードコート層
６１ 高屈折率層
６２ 中間層
６３ 透明導電膜
６４ 透明導電膜
６５ 中間層
６６ 高屈折率層
６７ ハードコート層
６８ λ／４板
６９ 偏光膜
７０ 保護膜
７１ ハードコート
７２ 反射防止膜
８０ λ／４機能付き高透過率導電性フィルム
８１ λ／４機能付き高透過率導電性フィルム（下部基板）
８２ 上部基板
８３ タッチパネル
８４ タッチパネル搭載透過型液晶表示装置
Ｓ 長尺状透明支持体
ｓ 透明支持体の長手方向
Ａ 第１光学異方性層
ａ 第１光学異方性層の面内の遅相軸
Ｂ 第２光学異方性層
ｂ 第２光学異方性層の面内の遅相軸
ｃ１、ｃ２ 棒状液晶性化合物
Ｐ 偏光膜
ｐ 偏光膜の偏光軸
ｒａ 第１光学異方性層の配向膜のラビング方向
ｒｂ 第２光学異方性層の配向膜のラビング方向
α ａとｓとの角度
β ｂとｓとの角度
γ ａとｂとの角度
Claims (12)
- 位相差板の少なくとも一方の面に、位相差板側に隣接する層よりも屈折率の低い中間層が積層され、該中間層が積層された側の最表面に透明導電膜を有する高透過率導電性フィルム。
- 位相差板が、ポリマーフィルムからなる透明支持体上に少なくとも二つの光学異方性層が塗布されて形成されたλ／４板であって、少なくとも一つの光学異方性層が液晶性化合物を含む層であることを特徴とする請求項１に記載の高透過率導電性フィルム。
- 中間層が、熱もしくは電離放射線硬化性の含フッ素硬化性樹脂および／または熱もしくは電離放射線硬化性の３官能以上の重合性基を有する硬化性樹脂を主体とする層であることを特徴とする請求項１または２のいずれかに記載の高透過率導電性フィルム。
- 中間層の屈折率が１．３５〜１．６である請求項１〜３のいずれかに記載の高透過率導電性フィルム。
- ポリマーフィルムと中間層の間にポリマーフィルムより高い屈折率を持つ高屈折率層を有し、高屈折率層の屈折率が１．６〜２．６である請求項１〜４のいずれかに記載の高透過率導電性フィルム。
- 透明導電膜を形成した反対側の面に屈折率の異なる複数の層を有する反射防止構造を設けた請求項１〜５のいずれかに記載の高透過率導電性フィルム。
- 波長５５０ｎｍにおける光の透過率が９０％以上であることを特徴とする請求項１〜６のいずれかに記載の高透過率導電性フィルム。
- 透明導電膜の膜厚が５〜２００ｎｍで、抵抗値が２０００Ω／□以下であることを特徴とする請求項１〜７のいずれかに記載の高透過率導電性フィルム。
- 高透過率導電性フィルムを構成する層のうち少なくとも２層以上は塗布法で形成し、かつ、少なくとも２層以上の塗布層は、ポリマーフィルムを一回送り出してから巻き取るまでの間の一工程中に連続で形成されることを特徴とする請求項１〜８のいずれかに記載の高透過率導電性フィルムの製造方法。
- 透明導電膜を有する上部基板および下部基板が、透明導電膜同士を向かい合わせて配置されてなるタッチパネルにおいて、少なくとも一方の基板が請求項１〜８のいずれかに記載の高透過率導電性フィルムを含むことを特徴とするタッチパネル。
- 上部基板が円偏光機能を有していることを特徴とする請求項１０に記載のインナータイプタッチパネル。
- 請求項１０または１１に記載のタッチパネルを搭載したタッチパネル付き表示装置。
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