KR102060795B1 - 반사 방지층 및 비침 방지층 부착 편광판 및 그 제조 방법 - Google Patents

반사 방지층 및 비침 방지층 부착 편광판 및 그 제조 방법 Download PDF

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Abstract

고온 고습 환경하에서도 비침 방지층의 박리 및 주름이 억제된 반사 방지층 및 비침 방지층 부착 편광판이 제공된다. 본 발명의 반사 방지층 및 비침 방지층 부착 편광판은 편광자 및 편광자의 한쪽측에 설치된 보호층을 갖는 편광판과, 보호층에 첩합된 액정 화합물의 배향 고화층인 비침 방지층과, 비침 방지층용 기재와, 비침 방지층용 기재에 첩합된 반사 방지층용 기재와, 반사 방지층용 기재에 직접 형성된 반사 방지층을 구비한다. 본 발명의 실시 형태에 있어서는 반사 방지층용 기재의 수분율이 2.0중량% 이상이다.

Description

반사 방지층 및 비침 방지층 부착 편광판 및 그 제조 방법{ANTI-REFLECTION LAYER AND ANTI-MIRRORING LAYER-ATTACHED POLARIZING PLATE AND MANUFACTURING METHOD THEREOF}
본 발명은 반사 방지층 및 비침 방지층 부착 편광판 및 그 제조 방법에 관한 것이다.
화상 표시 장치(예컨대, 액정 표시 장치, 유기 EL 표시 장치, 양자 도트 표시 장치)에는 그것의 화상 형성 방식에 기인하여, 많은 경우, 표시 셀의 적어도 한쪽측에 편광판이 배치되어 있다. 화상 표시 장치의 시인측에 배치되는 편광판에는 표시 화면으로의 외광의 비침(mirroring)을 방지하기 위하여, 그것의 시인측에 반사 방지층이 설치되는(반사 방지 처리가 실시되는) 것, 및/또는 비침 방지층이 설치되는 것이 널리 알려져 있다. 비침 방지층은 대표적으로는 수지 또는 점착제의 매트릭스와 당해 매트릭스 중에 분산된 미립자를 포함한다. 그런데, 최근 화상 표시 장치의 박형화의 요청에 따라서 편광판의 박형화도 강하게 요청되고 있으며, 이에 부수하여 비침 방지층의 박형화도 요구되고 있다. 그 결과, 액정 화합물의 배향 고화층인 비침 방지층이 검토되고 있다. 그러나 이와 같은 비침 방지층은 고온 고습 환경하에서 박리되기 쉽고 또한 주름이 발생하기 쉽다는 문제가 있다.
일본 특개 2011-191428호 공보
본 발명은 상기 과제를 해결하기 위해 이루어진 것이며, 그 주된 목적은 고온 고습 환경하에서도 비침 방지층의 박리 및 주름이 억제된 반사 방지층 및 비침 방지층 부착 편광판을 제공하는 것이다.
본 발명의 반사 방지층 및 비침 방지층 부착 편광판은 편광자 및 해당 편광자의 한쪽측에 설치된 보호층을 갖는 편광판과, 해당 보호층에 첩합(貼合)된 액정 화합물의 배향 고화층인 비침 방지층과, 비침 방지층용 기재와, 해당 비침 방지층용 기재에 첩합된 반사 방지층용 기재와, 해당 반사 방지층용 기재에 직접 형성된 반사 방지층을 구비하고, 해당 반사 방지층용 기재의 수분율이 2.0중량% 이상이다.
일 실시 형태에 있어서는, 상기 반사 방지층 및 비침 방지층 부착 편광판에 있어서는 65℃ 및 90% RH에서 24시간 유지한 후의 상기 반사 방지층용 기재의 치수 변화율이 0.03% 미만이다.
일 실시 형태에 있어서는, 상기 비침 방지층의 면내 위상차 Re(550)은 220nm∼320nm이다.
일 실시 형태에 있어서는, 상기 반사 방지층 및 비침 방지층 부착 편광판은 상기 비침 방지층과 상기 비침 방지층용 기재와의 사이에 배향막을 추가로 구비하고, 해당 배향막은 폴리비닐알코올계 수지를 포함한다.
본 발명의 다른 국면에 의하면, 상기의 반사 방지층 및 비침 방지층 부착 편광판의 제조 방법이 제공된다. 이 제조 방법은, 편광자 및 보호층을 포함하는 편광자 적층체를 제작하는 것, 반사 방지층용 기재에 반사 방지층을 형성하고 반사 방지 적층체를 제작하는 것, 비침 방지층용 기재에 비침 방지층을 형성하고 비침 방지 적층체를 제작하는 것, 및 해당 편광자 적층체, 해당 비침 방지 적층체 및 해당 반사 방지 적층체를 첩합하는 것을 포함하고, 해당 반사 방지층용 기재의 수분율이 2.0중량% 이상이다.
일 실시 형태에 있어서는, 상기 반사 방지층용 기재는 가습 처리되어 있다.
본 발명에 의하면, 반사 방지층 및 비침 방지층 부착 편광판에서의 반사 방지층용 기재의 수분율을 2.0중량% 이상으로 함으로써, 고온 고습 환경하에서도 비침 방지층의 박리 및 주름이 억제된 반사 방지층 및 비침 방지층 부착 편광판을 실현할 수 있다.
도 1은 본 발명의 일 실시 형태에 따른 반사 방지층 및 비침 방지층 부착 편광판의 개략 단면도이다.
이하, 본 발명의 실시 형태에 관하여 설명하지만, 본 발명은 이러한 실시 형태에는 한정되지 않는다.
A. 반사 방지층 및 비침 방지층 부착 편광판의 전체 구성
도 1은 본 발명의 일 실시 형태에 따른 반사 방지층 및 비침 방지층 부착 편광판의 개략 단면도이다. 반사 방지층 및 비침 방지층 부착 편광판(100)은 편광자(11) 및 보호층(12)을 갖는 편광판(10)과 비침 방지층(40)과 비침 방지층용 기재(50)와 반사 방지층용 기재(20)와 반사 방지층(30)을 이 순서대로 구비한다. 비침 방지층(40)은 대표적으로는 임의의 적절한 접착층(접착제층, 점착제층:도시하지 않음)을 개재하여 편광판(10)의 보호층(12)에 첩합되어 있다. 접착층은 대표적으로는 아크릴계 점착제층이다. 비침 방지층(40)은 액정 화합물의 배향 고화층이다. 본 명세서에 있어서 "배향 고화층"이란 액정 화합물이 층 내에서 소정의 방향으로 배향하고, 그 배향 상태가 고정되어 있는 층을 말한다. 또한, 「배향 고화층」은 액정 모노머를 경화시켜 얻어지는 배향 경화층을 포함하는 개념이다. 비침 방지층(40)은 대표적으로는 비침 방지층용 기재(50)에 형성된 배향막(도시하지 않음)의 표면에 액정 화합물을 포함하는 조성물을 도포하고, 당해 도포층을 고화 및/또는 경화시킴으로써 형성되어 있다. 반사 방지층(30)은 반사 방지층용 기재(20)에 직접 설치되어 있다. 본 명세서에 있어서 "직접"이란 접착층이 개재하지 않은 것을 의미한다. 일 실시 형태에 있어서는, 반사 방지층용 기재(20)는 반사 방지층(30) 측의 표면에 하드 코트층 및/또는 밀착층(어느 것도 도시하지 않음)을 가지고 있어도 된다. 이 구성도 "반사 방지층이 기재에 직접 설치되어 있는" 형태로 포함된다. 반사 방지층(30)의 표면에는 필요에 따라 방오층(도시하지 않음)이 설치되어 있어도 된다.
본 발명의 실시 형태에 있어서는, 반사 방지층용 기재(20)의 수분율은 2.0중량% 이상이고, 바람직하게는 2.4중량% 이상이며, 보다 바람직하게는 2.7중량% 이상이고, 더욱 바람직하게는 3.0중량% 이상이며, 특히 바람직하게는 3.5중량% 이상이다. 반사 방지층용 기재의 수분율의 상한은, 예컨대 5.0중량%이다. 반사 방지층용 기재가 이와 같은 높은 수분율을 가짐으로써 고온 고습 환경하에서의 비침 방지층(액정 화합물의 배향 고화층)의 박리 및 주름이 억제될 수 있다. 본 명세서에 있어서 "반사 방지층용 기재의 수분율"이란 I항에서 후술하는 제조 방법에 있어서 반사 방지 적층체를 첩합할 때의 반사 방지층용 기재의 수분율을 말한다.
편광판(10)의 수분율은 바람직하게는 0.5중량% 이상이고, 바람직하게는 0.6중량% 이상이며, 보다 바람직하게는 0.8중량% 이상이고, 더욱 바람직하게는 1.0중량% 이상이다. 편광판의 수분율의 상한은, 예컨대 2.0중량%이다. 편광판이 이와 같은 높은 수분율을 가짐으로써 편광판의 흡습 팽창이 현저하게 억제될 수 있다. 그 결과, 고온 고습 환경하에서의 편광판의 치수 변화(특히, 편광자의 흡수축 방향의 치수 변화)가 현저하게 억제될 수 있다. 이것과 상기 반사 방지층용 기재의 수분율에 의한 효과와의 상승적인 효과에 의해 본 발명의 실시 형태에 따른 반사 방지층 및 비침 방지층 부착 편광판에 있어서는, 고온 고습 환경하에서의 비침 방지층(액정 화합물의 배향 고화층)의 박리 및 주름이 더욱 억제될 수 있다. 또한, 편광판이 이와 같은 높은 수분율을 가짐으로써, 본 발명의 실시 형태에 의한 반사 방지층 및 비침 방지층 부착 편광판은 고온 고습 환경하에 있어서 가령 컬이 발생하더라도 당해 컬의 방향이 통상과 반대 방향이 된다. 그 결과, 본 발명의 실시 형태에 따른 반사 방지층 부착 편광판은, 가령 컬이 발생하였더라도, 화상 표시 장치에 미치는 악영향이 작아질 수 있다. 이상과 같이, 편광판이 높은 수분율을 갖는 것에 따른 치수 변화의 억제와 컬의 방향과의 상승적인 효과에 의해 반사 방지층 및 비침 방지층 부착 편광판은 화상 표시 장치에 적용된 경우에, 고온 고습 환경하에서의 휨, 박리 및/또는 표시 특성의 저하를 현저하게 억제할 수 있다.
도시예에서는 편광자(11)의 한쪽측에만 보호층(12)이 설치되어 있지만, 목적에 따라 보호층(12)과 반대측에 다른 보호층이 설치되어도 된다. 이 경우, 편광자의 양측에 보호층이 설치되어도 되고, 보호층(12)이 생략되어 다른 보호층만이 설치되어도 된다. 다른 보호층만이 설치되는 경우, 비침 방지층용 기재(50)가 시인측 보호층으로서 기능할 수 있다. 또한, 목적에 따라 임의의 적절한 기능층이 설치되어 있어도 된다. 기능층의 대표예로서는 위상차층, 도전층을 들 수 있다. 기능층의 종류, 수, 조합, 배치 위치, 특성(예컨대, 굴절률 특성, 면내 위상차, 두께 방향 위상차, Nz 계수와 같은 광학 특성)은 목적에 따라 적절하게 설정될 수 있다. 일 실시 형태에 있어서는, 편광자(11)의 보호층(12)과 반대측에 nx>ny>nz의 굴절률 특성을 갖는 제1 위상차층(도시하지 않음)이 설치될 수 있다. 이 경우, 바람직하게는 제1 위상차층의 편광자와 반대측에 nz>nx>ny의 굴절률 특성을 갖는 제2 위상차층이 추가로 설치될 수 있다. 제1 위상차층이 편광자의 시인측과 반대측의 보호층을 겸하여도 된다. 또한, 편광자(11)의 보호층(12)과 반대측에 도전층이 설치되어도 된다. 이와 같은 위치에 도전층을 설치함으로써, 반사 방지층 및 비침 방지층 부착 편광판은 이너 터치 패널형 입력 표시 장치에 바람직하게 이용될 수 있다. 이 경우, 위상차층은 존재하여도 되고, 존재하지 않아도 된다.
이하, 반사 방지층 및 비침 방지층 부착 편광판의 구성 요소에 대해 설명한다.
B. 편광판
B-1. 편광자
편광자(11)는 대표적으로는 이색성 물질을 포함하는 수지 필름으로 구성된다.
수지 필름으로서는, 편광자로서 이용될 수 있는 임의의 적절한 수지 필름을 채용할 수 있다. 수지 필름은 대표적으로는 폴리비닐알코올계 수지(이하, "PVA계 수지"라고 칭한다) 필름이다.
상기 PVA계 수지 필름을 형성하는 PVA계 수지로서는 임의의 적절한 수지가 이용될 수 있다. 예컨대, 폴리비닐알코올, 에틸렌-비닐알코올 공중합체를 들 수 있다. 폴리비닐알코올은 폴리비닐아세테이트를 비누화함으로써 얻어진다. 에틸렌-비닐알코올 공중합체는 에틸렌-비닐아세테이트 공중합체를 비누화함으로써 얻어진다. PVA계 수지의 비누화도는 통상적으로 85몰%∼100몰%이고, 바람직하게는 95.0몰%∼99.95몰%, 더욱 바람직하게는 99.0몰%∼99.93몰%이다. 비누화도는 JIS K 6726-1994에 준하여 구할 수 있다. 이와 같은 비누화도의 PVA계 수지를 이용함으로써 내구성이 우수한 편광자를 얻을 수 있다. 비누화도가 지나치게 높은 경우에는 겔화가 될 우려가 있다.
PVA계 수지의 평균 중합도는 목적에 따라 적절하게 선택될 수 있다. 평균 중합도는 통상적으로 1,000∼10,000이고, 바람직하게는 1,200∼4,500, 더욱 바람직하게는 1,500∼4,300이다. 또한, 평균 중합도는 JIS K 6726-1994에 준하여 구할 수 있다.
수지 필름에 포함되는 이색성 물질로서는 예컨대, 요오드, 유기 염료 등을 들 수 있다. 이들은 단독으로 또는 2종 이상 조합하여 이용될 수 있다. 바람직하게는 요오드가 이용된다. 예컨대 화학 처리에 의한 탈색에 의해 비편광부를 형성하는 경우에, 수지 필름(편광자)에 포함되는 요오드 착체가 적절하게 환원되므로, 예컨대 카메라부에 사용할 때에 적절한 특성을 갖는 비편광부를 형성할 수 있기 때문이다.
수지 필름은 단층의 수지 필름이어도 되고, 이층 이상의 적층체이어도 된다.
단층의 수지 필름으로 구성되는 편광자의 구체예로서는 PVA계 수지 필름에 요오드에 의한 염색 처리 및 연신 처리(대표적으로는 일축 연신)이 실시된 것을 들 수 있다. 상기 요오드에 의한 염색은 예컨대, PVA계 필름을 요오드 수용액에 침지함으로써 실시된다. 상기 일축 연신의 연신 배율은 바람직하게는 3∼7배이다. 연신은 염색 처리 후에 실시하여도 되고, 염색하면서 실시하여도 된다. 또한, 연신하고 나서 염색하여도 된다. 필요에 따라 PVA계 수지 필름에 팽윤 처리, 가교 처리, 세정 처리, 건조 처리 등이 실시된다. 예컨대, 염색 전에 PVA계 수지 필름을 물에 침지하여 수세함으로써 PVA계 필름 표면의 오염이나 블로킹 방지제를 세정할 수 있을뿐만 아니라, PVA계 수지 필름을 팽윤시켜 염색 얼룩 등을 방지할 수 있다.
적층체를 이용하여 얻어지는 편광자의 구체예로서는 수지 기재와 당해 수지 기재에 적층된 PVA계 수지층(PVA계 수지 필름)과의 적층체, 또는 수지 기재와 당해 수지 기재에 도포 형성된 PVA계 수지층과의 적층체를 이용하여 얻어지는 편광자를 들 수 있다. 수지 기재와 당해 수지 기재에 도포 형성된 PVA계 수지층과의 적층체를 이용하여 얻어지는 편광자는, 예컨대, PVA계 수지 용액을 수지 기재에 도포하고 건조시켜 수지 기재상에 PVA계 수지층을 형성하여 수지 기재와 PVA계 수지층과의 적층체를 얻는 것; 당해 적층체를 연신 및 염색하여 PVA계 수지층을 편광자로 하는 것;에 의해 제작될 수 있다. 본 실시 형태에 있어서는, 연신은 대표적으로는 적층체를 붕산 수용액 중에 침지시켜 연신하는 것을 포함한다. 또한, 연신은 필요에 따라 붕산 수용액 중에서의 연신 전에 적층체를 고온(예컨대, 95℃ 이상)에서 공중 연신하는 것을 추가로 포함할 수 있다. 얻어진 수지 기재/편광자의 적층체는 그대로 이용하여도 되고(즉, 수지 기재를 편광자의 보호층으로 하여도 되고), 수지 기재/편광자의 적층체로부터 수지 기재를 박리하고, 당해 박리면에 목적에 따른 임의의 적절한 보호층을 적층하여 이용하여도 된다. 이러한 편광자의 제조 방법의 상세는 예컨대 일본 특개 2012-73580호 공보에 기재되어 있다. 당해 공보는 그 전체의 기재가 본 명세서에 참고로서 원용된다.
편광자의 두께는 바람직하게는 15㎛ 이하이고, 보다 바람직하게는 1㎛∼12㎛이며, 더욱 바람직하게는 3㎛∼10㎛이고, 특히 바람직하게는 3㎛∼8㎛이다. 편광자의 두께가 이와 같은 범위이면, 가열시의 컬을 양호하게 억제할 수 있고, 및 양호한 가열시의 외관 내구성이 얻어진다. 또한, 편광자의 두께가 이와 같은 범위이면 반사 방지층 부착 편광판(결과로서, 화상 표시 장치)의 박형화에 공헌할 수 있다.
편광자는 바람직하게는 파장 380nm∼780nm의 어느 파장에서 흡수 이색성을 나타낸다. 편광자의 단체 투과율은 바람직하게는 43.0%∼46.0%이고, 보다 바람직하게는 44.5%∼46.0%이다. 편광자의 편광도는 바람직하게는 97.0% 이상이고, 보다 바람직하게는 99.0% 이상이며, 더욱 바람직하게는 99.9% 이상이다.
B-2. 보호층
보호층(12)으로서는 임의의 적절한 수지 필름이 이용된다. 수지 필름의 형성 재료로서는 예컨대, (메트)아크릴계 수지, 디아세틸셀룰로오스, 트리아세틸셀룰로오스 등의 셀룰로오스계 수지, 노보넨계 수지 등의 시클로올레핀계 수지, 폴리프로필렌 등의 올레핀계 수지, 폴리에틸렌테레프탈레이트계 수지 등의 에스테르계 수지, 폴리아미드계 수지, 폴리카보네이트계 수지, 이들의 공중합체 수지 등을 들 수 있다. 또한, "(메트)아크릴계 수지"란 아크릴계 수지 및/또는 메타크릴계 수지를 말한다.
일 실시 형태에 있어서는, 상기 (메트)아크릴계 수지로서 글루타르이미드 구조를 갖는 (메트)아크릴계 수지가 이용된다. 글루타르이미드 구조를 갖는 (메트)아크릴계 수지(이하, 글루타르이미드 수지라고도 칭한다)는 예컨대, 일본 특개 2006-309033호 공보, 일본 특개 2006-317560호 공보, 일본 특개 2006-328329호 공보, 일본 특개 2006-328334호 공보, 일본 특개 2006-337491호 공보, 일본 특개 2006-337492호 공보, 일본 특개 2006-337493호 공보, 일본 특개 2006-337569호 공보, 일본 특개 2007-009182호 공보, 일본 특개 2009-161744호 공보, 일본 특개 2010-284840호 공보에 기재되어 있다. 이들의 기재는 본 명세서에 참고로서 원용된다.
보호층(12)의 투습도는 바람직하게는 1.0g/㎡/24hr 이하이고, 보다 바람직하게는 0.8g/㎡/24hr 이하이며, 더욱 바람직하게는 0.6g/㎡/24hr 이하이고, 특히 바람직하게는 0.4g/㎡/24hr 이하이다. 보호층의 투습도가 이와 같은 범위이면, 고온 고습 환경하에서의 치수 변화를 더욱 억제할 수 있으며, 결과로서 비침 방지층의 박리와 주름을 더욱 억제할 수 있다.
보호층의 두께는 대표적으로는 10㎛∼100㎛이고, 바람직하게는 20㎛∼40㎛이다. 보호층은 대표적으로는 접착층(구체적으로는, 접착제층, 점착제층)을 개재하여 편광판에 적층된다. 접착제층은 대표적으로는 PVA계 접착제나 활성화 에너지선 경화형 접착제로 형성된다. 점착제층은 대표적으로는 아크릴계 점착제로 형성된다.
C. 비침 방지층
비침 방지층은 화상 표시 장치의 사용자의 얼굴, 화상 표시 장치의 키보드, 외광(예컨대:형광등) 등의 비침을 방지하기 위해 설치된다. 본 발명의 실시 형태에 있어서는 비침 방지층은 액정 화합물의 배향 고화층이다. 고온 고습 환경하에서의 비침 방지층의 박리 및 주름을 억제한 것이 본 발명의 특징의 하나이다.
비침 방지층은 대표적으로는 액정 화합물의 배향 고화층이다. 본 명세서에 있어서 "배향 고화층"이란 액정 화합물이 층 내에서 소정의 방향으로 배향하고 그 배향 상태가 고정되어 있는 층을 말한다. 또한, 「배향 고화층」은 액정 모노머를 경화시켜 얻어지는 배향 경화층을 포함하는 개념이다. 액정 화합물은 봉상 액정 화합물 이어도 되고, 디스코틱(원반형) 액정 화합물이어도 되며, 그들의 조합이어도 된다.
일 실시 형태에 있어서는, 비침 방지층은 디스코틱 액정 화합물을 포함한다. 보다 상세하게는, 비침 방지층은 디스코틱 액정 화합물을 소정의 방향으로 배향시킨 상태에서 고정화한 층이다. 디스코틱 액정 화합물이란 일반적으로는 벤젠, 1,3,5-트리아진, 칼릭사렌 등과 같은 환상(環狀) 모핵을 분자의 중심에 배치하고, 직쇄의 알킬기, 알콕시기, 치환 벤조일옥시기 등이 그 측쇄로서 방사상으로 치환된 원반상의 분자 구조를 갖는 액정 화합물을 말한다. 디스코틱 액정의 대표예로서는 C. Destrade들의 연구 보고, Mol. Cryst. Liq. Cryst. 71권, 111페이지(1981년)에 기재되어 있는 벤젠 유도체, 트리페닐렌 유도체, 트루센 유도체, 프탈로시아닌 유도체나 B. Kohne들의 연구 보고, Angew. Chem. 96권, 70페이지(1984년)에 기재되어 있는 시클로헥산 유도체 및, J. M. Lehn들의 연구 보고, J. Chem. Soc. Chem. Commun. 1794페이지(1985년), J. Zhang들의 연구 보고, J. Am. Chem. Soc. 116권, 2655페이지(1994 년)에 기재되어 있는 아자크라운계나 페닐아세틸렌계의 매크로 사이클을 들 수 있다. 디스코틱 액정 화합물의 또 다른 구체예로서, 예컨대 일본 특개 2006-133652호 공보, 일본 특개 2007-108732호 공보, 일본 특개 2010-244038호 공보, 일본 특개 2014-214177호 공보에 기재된 화합물을 들 수 있다. 상기 문헌 및 공보의 기재는 본 명세서에 참고로 원용된다. 디스코틱 액정 화합물을 포함하는 비침 방지층은 대표적으로는 nx=nz>ny의 굴절률 특성을 갖는 이른바 네거티브A 플레이트일 수 있다.
다른 실시 형태에 있어서는, 비침 방지층은 봉상 액정 화합물을 포함한다. 보다 상세하게는, 비침 방지층은 봉상 액정 화합물이 소정의 방향(대표적으로는 지상축 방향)으로 나열한 상태로 배향하고 있다(호모지니어스 배향). 봉상 액정 화합물로서는, 예컨대, 액정상이 네마틱상인 액정 화합물(네마틱 액정)을 들 수 있다. 이와 같은 액정 화합물로서, 예컨대, 액정 폴리머나 액정 모노머가 사용 가능하다. 액정 화합물의 액정성 발현 기구는 리오트로픽이어도 서모트로픽이어도 어느 쪽이어도 된다. 액정 폴리머 및 액정 모노머는 각각 단독으로 이용하여도 되고, 조합하여도 된다. 액정 모노머로서는 임의의 적절한 액정 모노머가 채용될 수 있다. 예컨대, 일본 특표 2002-533742(WO00/37585), EP358208(US5211877), EP66137(US4388453), WO93/22397, EP0261712, DE19504224, DE4408171 및 GB2280445 등에 기재된 중합성 메소겐 화합물 등을 사용할 수 있다. 이러한 중합성 메소겐 화합물의 구체예로서는 예컨대, BASF사의 상품명 LC242, Merck사의 상품명 E7, Wacker-Chem사의 상품명 LC-Sillicon-CC3767을 들 수 있다. 액정 모노머로서는, 예컨대 네마틱성 액정 모노머가 바람직하다. 액정 화합물의 구체예는, 예컨대 일본 특개 2006-163343호 공보에 기재되어 있다. 당해 공보의 기재는 본 명세서에 참고로 원용된다. 봉상 액정 화합물을 포함하는 비침 방지층은 대표적으로는 nx>ny=nz의 굴절률 특성을 갖는 이른바 포지티브A 플레이트일 수 있다.
비침 방지층은 대표적으로는 λ/2판으로서 기능할 수 있다. 비침 방지층이 λ/2판으로서 기능하는 경우, 그 배향각(또는 지상축 방향)을 제어함으로써 비침을 양호하게 방지할 수 있다. 이러한 비침 방지층의 면내 위상차 Re(550)은 220nm∼320nm이고, 보다 바람직하게는 240nm∼300nm이며, 더욱 바람직하게는 250nm∼280nm이다. 여기서, Re(550)은 23℃에서의 파장 550nm의 광으로 측정한 면내 위상차이다. Re(550)은 층(필름)의 두께를 d(nm)로 하였을 때, Re(550)=(nx-ny)×d에 의해 구할 수 있다. nx는 면 내의 굴절률이 최대가 되는 방향(즉, 지상축 방향)의 굴절률이고, ny는 면 내에서 지상축과 직교하는 방향(즉, 진상축 방향)의 굴절률이다.
비침 방지층(40)의 지상축과 편광자(11)의 흡수축이 이루는 각도는 바람직하게는 35°∼55°이고, 보다 바람직하게는 40°∼50°이며, 더욱 바람직하게는 약45°이다. λ/2판으로서 기능하는 비침 방지층을 이와 같은 축 각도로 배치함으로써, 비침을 양호하게 방지할 수 있다.
비침 방지층의 두께는 바람직하게는 1㎛∼5㎛이고, 보다 바람직하게는 1㎛∼3㎛이다. 본 발명의 실시 형태에 따르면, 이와 같은 얇은 비침 방지층이어도 고온 고습 환경하에서의 박리 및 주름을 양호하게 억제할 수 있다.
액정 화합물의 배향에 배향막을 이용하는 경우에는 반사 방지층 및 비침 방지층 부착 편광판은 비침 방지층(40)과 비침 방지층용 기재(50)와의 사이에 배향막을 추가로 구비한다. 배향막은 일반적으로는 폴리머 재료를 주성분으로서 포함한다. 폴리머 재료의 대표예로서는 폴리비닐알코올, 폴리이미드 및 그들의 유도체를 들 수 있다. 본 발명의 실시 형태에 있어서는, 변성 또는 미변성의 폴리비닐알코올이 바람직하다. 배향막으로서 예컨대, WO01/88574A1, 특허 제3907735호에 기재된 변성 폴리비닐알코올을 이용할 수 있다. 배향막에는 대표적으로는 배향 처리가 실시된다. 배향 처리의 대표예로서는 러빙 처리, 광 배향 처리를 들 수 있다. 러빙 처리는 업계에서 주지이므로 상세한 설명은 생략한다. 광 배향 처리된 배향막(광 배향막)으로서는 예컨대, WO2005/096041에 기재된 것, Rolic echnologies사 제조의 상품명 LPP-JP265CP 등을 이용할 수 있다. 배향막의 두께는 예컨대 0.01㎛∼10㎛이고, 바람직하게는 0.01㎛∼1㎛이며, 보다 바람직하게는 0.01㎛∼0.5㎛이다.
비침 방지층은 예컨대 이하의 순서로 형성될 수 있다. 먼저 비침 방지층용 기재상에 배향막 형성용 도포액을 도포하고 건조시켜 도포막을 형성한다. 당해 도포막에 소정의 방향으로 러빙 처리를 실시하고, 비침 방지층용 기재상에 배향막을 형성한다. 당해 소정의 방향은 얻어지는 비침 방지층의 지상축 방향에 대응할 수 있다. 다음으로, 형성된 배향막상에 비침 방지층 형성용 도포액(예컨대, 액정 화합물과 필요에 따라 가교성 모노머를 포함하는 용액)을 도포하고 가열한다. 가열에 의해 도포액의 용매를 제거함과 동시에 액정 화합물의 배향을 진행한다. 가열은 1 단계에서 실시하여도 되고, 온도를 바꾸어 다단계로 실시하여도 된다. 이어서, 자외선 조사에 의해 가교성(또는 중합성) 모노머를 가교(또는 중합)시켜, 액정 화합물의 배향을 고정화한다. 이와 같이하여 비침 방지층용 기재상(실질적으로는 배향막상)에 비침 방지층이 형성된다. 또한, 디스코틱 액정 화합물을 배향시키는 방법은 예컨대, 일본 특개 2014-214177호 공보에 기재되어 있고, 봉상 액정 화합물을 배향시키는 방법은, 예컨대 일본 특개 2006-163343호 공보에 기재되어 있다. 이들 공보의 기재는 본 명세서에 참고로서 원용된다. 또한, 배향막은 소망의 배향 상태 및 액정 화합물의 종류 등에 따라서는 생략될 수 있다.
D. 비침 방지층용 기재
비침 방지층용 기재(50)는 비침 방지층(50)을 형성하기 위해 이용된다.
비침 방지층용 기재로서는 임의의 적절한 수지 필름이 이용된다. 수지 필름의 형성 재료로서는 예컨대, 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET) 등의 폴리에스테르계 수지, 노보넨계 수지 등의 시클로올레핀계 수지, 시클로올레핀(예컨대, 노보넨)과 α-올레핀(예컨대, 에틸렌)과의 부가 중합에 의해 얻어지는 수지(COC), 트리아세틸셀룰로오스(TAC) 등의 셀룰로오스계 수지를 들 수 있다.
비침 방지층용 기재의 두께는 목적에 따라 적절하게 설정될 수 있다. 비침 방지층용 기재의 두께는 대표적으로 20㎛∼200㎛이고, 바람직하게는 25㎛∼100㎛이다.
E. 반사 방지층용 기재
E-1. 반사 방지층용 기재 본체
반사 방지층용 기재(20)는 반사 방지층(30)을 형성하기 위해 이용된다. 후술하는 바와 같이, 반사 방지층용 기재에 반사 방지층을 형성하고, 반사 방지층용 기재/반사 방지층의 적층체를 편광판에 첩합함으로써 편광판을 반사 방지층 형성 프로세스(대표적으로는 스퍼터링)에 제공할 필요가 없어진다. 그 결과, 편광판이 고온에 노출되지 않게 되므로 편광판의 수분율을 상기 소망의 범위로 유지할 수 있다.
반사 방지층용 기재의 형성 재료 및 두께는 상기 비침 방지층용 기재와 동일하다.
상기와 같이, 반사 방지층용 기재(20)의 수분율은 2.0중량% 이상이고, 바람직하게는 2.4중량% 이상이며, 보다 바람직하게는 2.7중량% 이상이고, 더욱 바람직하게는 3.0중량% 이상이며, 특히 바람직하게는 3.5중량% 이상이다. 수분율의 상한은, 예컨대 5.0중량%이다. 반사 방지층용 기재가 이와 같은 높은 수분율을 가짐으로써 고온 고습 환경하에서의 반사 방지층용 기재의 팽창 및 수축이 억제될 수 있다. 이에 추종하여, 비침 방지층용 기재의 팽창 및 수축도 억제될 수 있다. 그 결과, 고온 고습 환경하에서도 비침 방지층(액정 화합물의 배향 고화층)이 비침 방지층용 기재의 팽창 및 수축에 추종할 수 있으므로, 비침 방지층의 박리 및 주름이 억제될 수 있다. 반사 방지층용 기재의 이와 같은 높은 수분율은 반사 방지층용 기재를 가습 처리에 제공함으로써 실현될 수 있다. 가습 처리는 반사 방지층용 기재에 상기 소망의 수분율을 부여할 수 있는 한, 임의의 적절한 방법 및 조건에 의해 실시될 수 있다. 가습 처리는 예컨대, 반사 방지층용 기재를 65℃ 및 90% RH의 환경하에 24시간 놓음으로써 실시될 수 있다.
반사 방지층용 기재의 65℃ 및 90% RH에서 24시간 유지한 후의 치수 변화율은 바람직하게는 0.03% 미만이고, 보다 바람직하게는 -0.03%∼0.0%이다. 당해 치수 변화율은 대표적으로는 반송 방향과 직교하는 방향의 치수 변화율이다. 또한, 치수 변화율이 양인 경우 팽창을 나타내고, 음인 경우 수축을 나타낸다.
E-2. 하드 코트층
상기와 같이 반사 방지층용 기재의 반사 방지층 측의 표면에는 하드 코트층이 형성되어 있어도 된다. 하드 코트층을 형성함으로써, 연필 경도의 향상이라는 이점이 있다. 또한, 하드 코트층과 반사 방지층과의 굴절률 차를 적절하게 조정함으로써 반사율을 더욱 저하시킬 수 있다.
하드 코트층은 바람직하게는 충분한 표면 경도, 우수한 기계적 강도 및 우수한 광 투과성을 가진다. 하드 코트층은 이러한 소망의 특성을 갖는 한, 임의의 적절한 수지로부터 형성될 수 있다. 수지의 구체예로서는, 열 경화형 수지, 열가소성 형 수지, 자외선 경화형 수지, 전자선 경화형 수지, 2액 혼합형 수지를 들 수 있다. 자외선 경화형 수지가 바람직하다. 간편한 조작 및 고효율로 하드 코트층을 형성할 수 있기 때문이다.
자외선 경화형 수지의 구체예로서는, 폴리에스테르계, 아크릴계, 우레탄계, 아미드계, 실리콘계, 에폭시계의 자외선 경화형 수지를 들 수 있다. 자외선 경화형 수지에는 자외선 경화형의 모노머, 올리고머, 폴리머가 포함된다. 바람직한 자외선 경화형 수지로서는, 자외선 중합성의 관능기를 바람직하게는 2개 이상, 보다 바람직하게는 3∼6개 갖는 아크릴계 모노머 성분 또는 올리고머 성분을 포함하는 수지 조성물을 들 수 있다. 대표적으로는 자외선 경화형 수지에는 광중합 개시제가 배합되어 있다.
하드 코트층은 임의의 적절한 방법에 의해 형성될 수 있다. 예컨대, 하드 코트층은 반사 방지층용 기재상에 하드 코트층 형성용 수지 조성물을 도공하고, 건조시키며, 건조된 도공막에 자외선을 조사하여 경화시킴으로써 형성될 수 있다.
하드 코트층의 두께는 예컨대 0.5㎛∼20㎛, 바람직하게는 1㎛∼15㎛이다.
하드 코트층 및 하드 코트층과 반사 방지층과의 밀착 구조에 대한 자세한 내용은, 예컨대 일본 특개 2016-224443호 공보에 기재되어 있다. 당해 공보의 기재는 본 명세서에 참고로서 원용된다.
F. 반사 방지층
반사 방지층의 구성으로서는 임의의 적절한 구성이 채용될 수 있다. 반사 방지층의 대표적인 구성으로서는 (1) 광학막 두께가 120nm∼140nm인 굴절률 1.35∼1.55 정도의 저굴절률층의 단일층; (2) 반사 방지층용 기재측으로부터 순서대로 중굴절률층과 고굴절률층과 저굴절률층을 갖는 적층체; (3) 고굴절률층과 저굴절률층과의 교대 다층 적층체; 를 들 수 있다.
저굴절률층을 형성할 수 있는 재료로서는 예컨대, 산화 규소(SiO2), 불화 마그네슘(MgF2)을 들 수 있다. 저굴절률층의 굴절률은 대표적으로는 1.35∼1.55 정도이다. 고굴절률층을 형성할 수 있는 재료로서는, 예컨대, 산화 티탄(TiO2), 산화 니오븀(Nb2O3 또는 Nb2O5), 주석 도핑 산화 인듐(ITO), 안티몬 도핑 산화 주석(ATO), ZrO2-TiO2를 들 수 있다. 고굴절률층의 굴절률은 대표적으로는 1.60∼2.20 정도이다. 중굴절률층을 형성할 수 있는 재료로서는, 예컨대, 산화 티탄(TiO2), 저굴절률층을 형성할 수 있는 재료와 고굴절률층을 형성할 수 있는 재료와의 혼합물(예컨대, 산화 티타늄과 산화 규소와의 혼합물)을 들 수 있다. 중굴절률층의 굴절률은 대표적으로 1.50∼1.85 정도이다. 저굴절률층, 중굴절률층 및 고굴절률층의 두께는 반사 방지층의 층 구조, 소망의 반사 방지 성능 등에 따라 적절한 광학막 두께가 실현되도록 설정될 수 있다.
반사 방지층은 대표적으로는 드라이 프로세스에 의해 형성된다. 드라이 프로세스의 구체예로서는 PVD(Physical Vapor Deposition)법, CVD(Chemical Vapor Deposition)법을 들 수 있다. PVD법으로서는 진공 증착법, 반응성 증착법, 이온빔 어시스트법, 스퍼터링법, 이온 플레이팅법을 들 수 있다. CVD법으로서는 플라즈마 CVD법을 들 수 있다. 바람직하게는 스퍼터링법이다.
반사 방지층의 두께는, 예컨대 20nm∼300nm 정도이다.
반사 방지층은 파장 400nm∼700nm의 범위에서의 최대 반사율과 최소 반사율의 차이가 바람직하게는 2.0% 이하이고, 보다 바람직하게는 1.9% 이하이며, 더욱 바람직하게는 1.8% 이하이다. 최대 반사율과 최소 반사율의 차이가 이와 같은 범위이면 반사광의 착색이 양호하게 방지될 수 있다.
필요에 따라 반사 방지층의 표면에는 방오(防汚)층이 설치될 수 있다. 방오층은 예컨대, 불소기 함유의 실란계 화합물(예컨대, 퍼플루오로폴리에테르기를 갖는 알콕시실란 화합물) 또는 불소기 함유의 유기 화합물을 포함한다. 방오층은 바람직하게는 물 접촉각이 110도 이상의 발수성을 나타낸다.
G. 제1 위상차층
제1 위상차층은 목적에 따라 임의의 적절한 광학적 특성 및/또는 기계적 특성을 갖는 위상차 필름으로 구성될 수 있다. 일 실시 형태에 있어서는, 제1 위상차층은 λ/2판으로서 기능할 수 있다. 제1 위상차층이 λ/2판으로서 기능함으로써 λ/4판으로서 기능하는 제2 위상차층과의 적층 후의 파장 분산 특성(특히, 위상차가 λ/4를 벗어나는 파장 범위)에 대하여 위상차가 적절히 조절될 수 있다. 이와 같은 제1 위상차층의 면내 위상차 Re(550)은 바람직하게는 220nm∼320nm이고, 보다 바람직하게는 240nm∼300nm이며, 더욱 바람직하게는 250nm∼280nm이다.
제1 위상차층의 두께는 λ/2판으로서 가장 적절하게 기능할 수 있도록 설정될 수 있다. 다시 말하면, 두께는 소망의 면내 위상차가 얻어지도록 설정될 수 있다. 구체적으로는, 두께는 바람직하게는 10㎛∼60㎛이고, 보다 바람직하게는 30㎛∼50㎛이다.
제1 위상차층은 바람직하게는 굴절률 특성이 nx>ny>nz의 관계를 나타낸다. 제1 위상차층의 Nz 계수는 바람직하게는 1.1∼3.0이고, 보다 바람직하게는 1.3∼2.7이다. Nz 계수는 Nz=Rth/Re에 의해 구할 수 있다. Rth는 두께 방향의 위상차이고, 예컨대, Rth(550)은 23℃에서의 파장 550nm의 광으로 측정한 두께 방향의 위상차이다. Rth(550)은 Rth=(nx-nz)×d에 의해 구할 수 있다. nz는 두께 방향의 굴절률이다.
제1 위상차층은 그것의 지상축이 편광자의 흡수축과 바람직하게는 10°∼20°, 보다 바람직하게는 12°∼18°, 더욱 바람직하게는 약 15°의 각도를 이루도록 하여 배치될 수 있다. 또한, 본 명세서에서 각도를 언급하는 때는 시계 방향 및 반시계 방향 양쪽을 포함한다.
제1 위상차층은 광 탄성 계수의 절대값이 바람직하게는 2×10-11m2/N 이하, 보다 바람직하게는 2.0×10-13m2/N∼1.5×10-11m2/N, 더욱 바람직하게는 1.0×10-12m2/N∼1.2×10-11m2/N의 수지를 포함한다. 광 탄성 계수의 절대값이 이와 같은 범위이면, 가열시의 수축 응력이 발생한 경우에 위상차 변화가 발생하기 어렵다. 따라서, 이와 같은 광 탄성 계수의 절대값을 갖는 수지를 이용하여 제1 위상차층을 형성함으로써, 반사 방지층 및 비침 방지층 부착 편광판을 화상 표시 장치에 적용한 경우에 열 얼룩이 양호하게 방지될 수 있다.
제1 위상차층은 위상차값이 측정광의 파장에 따라 커지는 역분산 파장 특성을 나타내어도 되며, 위상차값이 측정광의 파장에 따라 작아지는 양의 파장 분산 특성을 나타내어도 되고, 위상차값이 측정광의 파장에 따라서도 거의 변화하지 않는 플랫한 파장 분산 특성을 나타내어도 된다. 플랫한 파장 분산 특성을 나타내는 것이 바람직하다. 구체적으로는, 제1 위상차층의 Re(450)/Re(550)은 바람직하게는 0.99∼1.03이고, Re(650)/Re(550)은 바람직하게는 0.98∼1.02이다. 플랫한 파장 분산 특성을 갖는 λ/2판(제1 위상차층)과 λ/4판(제2 위상차층)을 소정의 축 각도로 배치함으로써 이상적인 역파장 분산 특성에 가까운 특성을 얻는 것이 가능하고, 결과로서 매우 우수한 반사 방지 특성을 실현할 수 있다.
제1 위상차층은 상기와 같은 특성을 만족할 수 있는 임의의 적절한 수지 필름으로 구성될 수 있다. 그러한 수지의 대표예로서는 환상 올레핀계 수지, 폴리카보네이트계 수지, 셀룰로오스계 수지, 폴리에스테르계 수지, 폴리비닐알코올계 수지, 폴리아미드계 수지, 폴리이미드계 수지, 폴리에테르계 수지, 폴리스티렌계 수지, 아크릴계 수지를 들 수 있다. 그 중에서도, 환상 올레핀계 수지가 바람직하게 이용될 수 있다. 제1 위상차층은 예컨대, 상기 수지로부터 형성된 필름을 연신함으로써 얻어진다. 환상 올레핀계 수지 및 수지 필름의 연신 방법(위상차 필름의 형성 방법)의 상세에 대해서는 예컨대, 일본 특개 2015-210459호 공보, 일본 특개 2016-105166호 공보에 기재되어 있다. 이 공보의 기재는 본 명세서에 참고로서 원용된다.
H. 제2 위상차층
제2 위상차층은 목적에 따라 임의의 적절한 광학적 특성 및/또는 기계적 특성을 갖는 위상차 필름으로 구성될 수 있다. 제1 위상차층이 λ/2판으로서 기능하는 경우, 제2 위상차층은 대표적으로는 λ/4판으로서 기능할 수 있다. λ/4판으로서 기능하는 제2 위상차층의 파장 분산 특성을, 상기 λ/2판으로서 기능하는 제1 위상차층의 광학 특성에 따라 보정함으로써, 넓은 파장 범위에서의 원 편광 기능을 발휘할 수 있다. 이와 같은 제2 위상차층의 면내 위상차 Re(550)은 바람직하게는 100nm∼180nm이고, 보다 바람직하게는 110nm∼170nm이며, 더욱 바람직하게는 120nm∼160nm이다.
제2 위상차층의 두께는 λ/4판으로서 가장 적절하게 기능할 수 있도록 구성 될 수 있다. 다시 말하면, 두께는 소망의 면내 위상차가 얻어질 수 있도록 설정될 수 있다. 구체적으로는, 두께는 바람직하게는 10㎛∼50㎛이고, 가장 바람직하게는 20㎛∼40㎛이다.
제2 위상차층은 바람직하게는 굴절률 특성이 nz>nx>ny의 관계를 나타낸다. 제2 위상차층의 Nz 계수는 바람직하게는 -10∼-0.1이고, 보다 바람직하게는 -5∼-1이다.
제2 위상차층은 그것의 지상축이 편광자의 흡수축과 바람직하게는 70°∼80°, 보다 바람직하게는 72°∼78°, 더욱 바람직하게는 약 75°의 각도를 이루도록 하여 배치될 수 있다.
제2 위상차층은 상기와 같은 특성을 만족할 수 있는 임의의 적절한 수지 필름으로 구성될 수 있다. 그와 같은 수지는 대표적으로는 음의 고유 복굴절을 갖는 폴리머일 수 있다. 음의 고유 복굴절을 갖는 폴리머란 폴리머를 연신 등에 의해 배향시킨 경우에 그 배향 방향의 굴절률이 상대적으로 작아지는 것을 가리킨다. 음의 고유 복굴절을 갖는 폴리머로서는 예컨대, 방향족이나 카르보닐기 등의 분극 이방성이 큰 화학 결합이나 관능기가 폴리머의 측쇄에 도입되어 있는 것을 들 수 있다. 구체예로서는 변성 폴리올레핀계 수지(예컨대, 변성 폴리에틸렌계 수지), 아크릴계 수지, 스티렌계 수지, 말레이미드계 수지, 푸마르산 에스테르계 수지 등을 들 수 있다. 제2 위상차층은 예컨대, 상기 수지로부터 형성된 필름을 적절하게 연신함으로써 얻을 수 있다.
I.반사 방지층 및 비침 방지층 부착 편광판의 제조 방법
본 발명의 일 실시 형태에 따른 반사 방지층 및 비침 방지층 부착 편광판의 제조 방법은 편광자 및 보호층을 포함하는 편광판 적층체를 제작하는 것; 반사 방지층용 기재에 반사 방지층을 형성하고, 반사 방지 적층체를 제작하는 것; 비침 방지층용 기재에 비침 방지층을 형성하고 비침 방지 적층체를 제작하는 것; 및 해당 편광자 적층체, 해당 비침 방지 적층체 및 해당 반사 방지 적층체를 첩합하는 것을 포함한다.
편광자 적층체는 임의의 적절한 방법에 의해 제작될 수 있다. 단층의 수지 필름으로부터 구성되는 편광자를 이용하는 경우에는 편광자와 보호층을 구성하는 수지 필름을 임의의 적절한 접착층(접착제층 또는 점착제층)를 개재하여 첩합하면 된다. 수지 기재와 당해 수지 기재에 적층된 PVA계 수지층(PVA계 수지 필름)과의 적층체를 이용하는 경우에는 당해 적층체를 염색 및 연신 처리에 제공하여 PVA계 수지층을 편광자로 하고, 이 적층체를 그대로 편광자 적층체로서 이용하여도 된다. 또는, 이 적층체의 편광자 표면에 보호층을 구성하는 수지 필름을 첩합하여 이용하여도 된다. 이 경우, 수지 기재는 박리하여도 되고, 박리하지 않아도 된다. 수지 기재와 당해 수지 기재에 도포 형성된 PVA계 수지층과의 적층체를 이용하여 얻어지는 편광자를 이용하는 경우에는, 상기 B-1항의 기재와 같이 하여(예컨대, 일본 특개 2012-73580호 공보에 기재된 바와 같이 하여) 수지 기재/편광자의 적층체를 제작하고, 이 적층체를 그대로 편광자 적층체로서 이용하여도 된다. 또는, 이 적층체의 편광자 표면에 보호층을 구성하는 수지 필름을 첩합하여 이용하여도 된다. 이 경우, 수지 기재는 박리하여도 되고, 박리하지 않아도 된다.
반사 방지 적층체는 반사 방지층용 기재에 반사 방지층을 형성함으로써 제작된다. 반사 방지층을 형성할 때, 필요에 따라 반사 방지층용 기재에 미리 표면 처리를 실시해 두어도 된다. 표면 처리로서는, 예컨대 저압 플라즈마 처리, 자외선 조사 처리, 코로나 처리, 화염 처리, 산 또는 알카리 처리를 들 수 있다. 또는 반사 방지층용 기재 표면에 예컨대 SiOx로 이루어지는 밀착층을 형성하여도 된다. 반사 방지층은 상기와 같이 대표적으로 드라이 프로세스(예컨대, 스퍼터링)에 의해 형성된다. 예컨대, 반사 방지층이 고굴절률층과 저굴절률층과의 교대 다층 적층체인 경우, 반사 방지층용 기재 표면에 스퍼터링에 의해 예컨대 Nb2O5막(고굴절률층), SiO2막(저굴절률층), Nb2O5막(고굴절률층) 및 SiO2막(저굴절률층)을 순차적으로 제막함으로써 반사 방지층이 형성될 수 있다.
비침 방지 적층체는 비침 방지층용 기재에 비침 방지층을 형성함으로써 제작된다. 비침 방지층의 형성 순서는 상기 C항에 기재된 바와 같다.
마지막으로, 편광자 적층체, 비침 방지 적층체 및 반사 방지 적층체를 첩합함으로써 반사 방지층 및 비침 방지층 부착 편광판이 얻어질 수 있다. 반사 방지 적층체를 비침 방지 적층체/편광자 적층체의 적층체에 첩합하여도 되고, 반사 방지 적층체/비침 방지 적층체의 적층체를 편광자 적층체에 첩합하여도 된다. 반사 방지층 및 비침 방지층 부착 편광판은 예컨대, 편광자 적층체의 보호층 표면에 임의의 적절한 접착층(예컨대, 접착제층, 점착제층)을 개재하여 비침 방지 적층체의 비침 방지층을 첩합하고, 이어서 비침 방지층용 기재의 표면에 임의의 적절한 접착층을 개재하여 반사 방지 적층체의 반사 방지층용 기재를 첩합함으로써 얻어질 수 있다. 본 발명의 실시 형태에 있어서는 상기와 같이, 첩합시의 반사 방지층용 기재의 수분율은 2.0중량% 이상이다. 이와 같은 수분율은 반사 방지층용 기재를 미리 가습 처리함으로써 실현될 수 있다.
J. 화상 표시 장치
본 발명의 실시 형태에 따른 반사 방지층 및 비침 방지층 부착 편광판은 화상 표시 장치에 적용될 수 있다. 대표적으로는 반사 방지층 및 비침 방지층 부착 편광판은 반사 방지층이 시인측이 되도록 하여 화상 표시 장치의 시인측에 배치될 수 있다. 화상 표시 장치의 대표예로서는 액정 표시 장치, 유기 전계 발광(EL) 표시 장치, 양자 도트 표시 장치를 들 수 있다.
[실시예]
이하, 실시예에 의해 본 발명을 구체적으로 설명하지만, 본 발명은 이들 실시예에 의해 한정되는 것은 아니다. 또한, 각 특성의 측정 방법은 이하와 같다.
(1) 반사 방지층용 기재의 수분율
실시예 및 비교예에서 이용한 반사 방지층용 기재를 반송 방향이 단변이 되도록 200mm×300mm의 크기로 잘라서 측정 시료로 하고, 이 측정 시료의 초기 중량을 측정하였다. 이어서, 이 측정 시료를 120℃에서 24시간 건조하고 건조 중량을 측정하여 하기 식에 의해 수분율을 결정하였다.
수분율(중량%)=[(초기 중량-건조 중량)/초기 중량〕×100
(2) 박리 및 주름
실시예 및 비교예에서 얻어진 반사 방지층 및 비침 방지층 부착 편광판을 편광자의 흡수축 방향이 단변이 되도록 200mm×300mm로 자르고 유리판에 첩합하여 측정 시료로 하였다. 이 측정 시료에 대하여 이하의 두 가지 조건에서 가혹 가습 내구성 시험을 실시하였다. 시험에는 10개의 측정 시료를 사용하고, 각각의 측정 시료에서의 반사 방지층 및 비침 방지층 부착 편광판의 네 모서리의 박리 및 주름을 관측하여 발생률 및 평균 길이를 산출하였다. 또한, 발생률에 대해서는 박리 및 주름의 유무를 육안으로 관찰하고, 40개소(10개의 측정 시료×네 모서리) 중 발생하고 있는 장소의 수로부터 발생률을 구하였다. 평균 길이에 대해서는 자로 길이를 측정하여 그 평균값를 산출하였다.
<시험 조건 1>
측정 시료를 85℃ 및 85% RH의 오븐에 100시간 놓아 두었다.
<시험 조건 2>
측정 시료에서의 반사 방지층 및 비침 방지층 부착 편광판의 주연부(周緣部)에 시린지(syringe)를 이용하여 글리세린을 도포하고 당해 도포 시료를 65℃ 및 90% RH의 오븐에 24시간 놓아 두었다.
[실시예 1]
1. 편광판(편광자 적층체)의 제작
수지 기재로서 장척(長尺)상이고 흡수율 0.75%, Tg 75℃의 비정질의 이소프탈산 공중합 폴리에틸렌테레프탈레이트(IPA 공중합 PET) 필름(두께: 100㎛)을 이용하였다. 기재의 편면에 코로나 처리를 실시하고, 이 코로나 처리면에, 폴리비닐알코올(중합도 4,200, 비누화도 99.2몰%) 및 아세토아세틸 변성 PVA(중합도 1,200, 아세토아세틸 변성도 4.6%, 비누화도 99.0몰% 이상, 일본 합성 화학 공업사 제조, 상품명 "고세화이머Z200")를 9:1의 비로 포함하는 수용액을 25℃에서 도포 및 건조하여 두께 11㎛의 PVA계 수지층을 형성하여, 적층체를 제작하였다.
얻어진 적층체를 120℃의 오븐 내에서 주속이 상이한 롤 사이에서 세로 방향(길이 방향)으로 2.0배로 자유단 일축 연신하였다(공중 보조 연신).
이어서, 적층체를 액체 온도 30℃의 불용화욕(물 100 중량부에 대하여, 붕산을 4중량부 배합하여 얻어진 붕산 수용액)에 30초간 침지시켰다(불용화 처리).
이어서, 액체 온도 30℃의 염색욕에 편광판이 소정의 투과율이 되도록 요오드 농도, 침지 시간을 조정하면서 침지시켰다. 본 실시예에서는 물 100 중량부에 대하여, 요오드를 0.2 중량부 배합하고 요오드화 칼륨을 1.5 중량부 배합하여 얻어진 요오드 수용액에 60초간 침지시켰다(염색 처리).
이어서, 액체 온도 30℃의 가교욕(물 100 중량부에 대하여, 요오드화 칼륨을 3중량부를 배합하고, 붕산을 3중량부 배합하여 얻어진 붕산 수용액)에 30초간 침지시켰다(가교 처리).
그 후, 적층체를 액체 온도 70℃의 붕산 수용액(물 100 중량부에 대하여, 붕산을 4 중량부 배합하고 요오드화 칼륨을 5 중량부를 배합하여 얻어진 수용액)에 침지시키하면서 주속이 상이한 롤 사이에서 세로 방향(길이 방향)으로 총 연신 배율이 5.5배가 되도록 일축 연신을 실시하였다(수중 연신).
그 후, 적층체를 액체 온도 30℃의 세척욕(물 100 중량부에 대하여, 요오드화 칼륨을 4 중량부 배합하여 얻어진 수용액)에 침지시켰다(세정 처리).
이어서, 적층체의 PVA계 수지층(편광자) 표면에 PVA계 수지 수용액(일본 합성 화학 공업사 제조, 상품명 "고세화이머(등록상표)Z-200", 수지 농도: 3중량%)을 도포하고, 보호층을 구성하는 메타크릴 수지 필름(두께: 25㎛, 글루타르이미드 구조를 가짐)을 첩합하여 이것을 60℃로 유지한 오븐에서 5분간 가열하였다. 그 후, 수지 기재를 PVA계 수지층으로부터 박리하였다. 이어서, 적층체의 PVA계 수지층 표면(수지 기재 박리면)에 PVA계 수지 수용액(일본 합성 화학 공업사 제조, 상품명 "고세화이머(등록상표) Z-200」, 수지 농도: 3중량%)을 도포하고, 보호층을 구성하는 메타크릴 수지 필름(두께: 40㎛, 글루타르이미드 구조를 가짐)을 첩합하여 이것을 60℃로 유지한 오븐에서 5분간 가열하였다. 이와 같이 하여, 편광자 적층체(보호층/편광자/보호층의 구성을 갖는 편광판)를 얻었다. 또한, 편광자의 두께는 5㎛, 단체 투과율은 42.3%이었다.
2. 반사 방지 적층체의 제작
코니카미놀타 주식회사 제조의 TAC 필름(제품명: KC2UA, 두께: 25㎛)의 편면에 하드 코트 처리로 하드 코트(HC)층(두께: 7㎛)을 형성함으로써, HC-TAC 필름(두께: 32㎛)을 얻었다. 이 HC-TAC 필름을 반사 방지층용 기재로서 이용하였다. 반사 방지층용 기재의 HC층 표면에, SiOx로 이루어지는 밀착층(두께: 10nm)을 스퍼터링에 의해 형성하고, 또한 당해 밀착층상에 Nb2O5막(고굴절률층), SiO2막(저굴절률층), Nb2O5막(고굴절률층) 및 SiO2막(저굴절률층)을 순차적으로 제막함으로써, 반사 방지층(두께 또는 광학막 두께: 200nm)을 형성하였다. 또한, 반사 방지층상에 퍼플루오로폴리에테르기를 갖는 알콕시실란 화합물로 이루어지는 방오층(두께: 10nm)을 형성하여 반사 방지 적층체를 제작하였다. 이 반사 방지 적층체를 가습 처리(65℃ 및 90% RH의 오븐에 24시간 방치)에 제공하였다. 얻어진 반사 방지 적층체(실질적으로는 반사 방지층용 기재)의 수분율은 3.8중량%이었다.
3. 비침 방지 적층체
비침 방지층용 기재로서의 코니카미놀타 주식회사 제조의 TAC필름(제품명: KC4UY, 두께: 40㎛)의 편면에 일본 특개 2014-214177호 공보의 <실시예 1>에 기재된 방법에 준하여 배향막 및 액정 화합물의 배향 고화층(비침 방지층)을 형성하고, 비침 방지 적층체를 제작하였다. 또한, 비침 방지층은, 면내 위상차 Re(550)이 270nm이고, 그것의 지상축이 편광자의 흡수축에 대하여 45°의 각도를 이루도록 형성하였다.
4. 반사 방지층 및 비침 방지층 부착 편광판의 제작
편광자 적층체(편광판)의 40㎛ 보호층면에 아크릴계 점착제(두께: 20㎛)를 개재하여 비침 방지 적층체의 비침 방지층을 첩합하고, 얻어진 적층체의 비침 방지층용 기재의 표면에 아크릴계 점착제(두께: 20㎛)를 개재하여 반사 방지 적층체의 HC-TAC 필름을 첩합하여 반사 방지층 및 비침 방지층 부착 편광판을 얻었다. 얻어진 반사 방지층 부착 편광판을 상기(2)의 평가에 제공하였다. 결과를 표 1에 나타낸다.
[실시예 2]
반사 방지 적층체의 가습 처리 조건을 "40℃, 92% RH 및 24시간"으로 변경하고, 첩합시의 반사 방지층용 기재의 수분율을 3.1중량%로 한 것 이외에는 실시예 1과 동일하게 하여 반사 방지층 및 비침 방지층 부착 편광판을 제작하였다. 얻어진 편광판을 실시예 1과 동일한 평가에 제공하였다. 결과를 표 1에 나타낸다.
[비교예 1]
반사 방지 적층체에 가습 처리를 실시하지 않고, 첩합시의 반사 방지층용 기재의 수분율을 1.6중량%로 한 것 이외에는 실시예 1과 동일하게 하여 반사 방지층 및 비침 방지층 부착 편광판을 제작하였다. 얻어진 편광판을 실시예 1과 동일한 평가에 제공하였다. 결과를 표 1에 나타낸다.
[비교예 2]
반사 방지 적층체를 72시간 진공 건조하고 첩합시의 반사 방지층용 기재의 수분율을 0.4중량%로 한 것 이외에는 실시예 1과 동일하게 하여 반사 방지층 및 비침 방지층 부착 편광판을 제작하였다. 얻어진 편광판을 실시예 1과 동일한 평가에 제공하였다. 결과를 표 1에 나타낸다.
수분율
(중량%)		 발생률(%)
 평균 길이(mm)
시험 조건1 시험 조건2 시험 조건1 시험 조건2
실시예1 3.8 2.5 12.5 1.0 1.0
실시예2 3.1 5.0 15.0 1.0 1.5
비교예1 1.6 12.5 37.5 2.0 3.5
비교예2 0.4 15.0 57.5 2.5 4.0
＊수분율은 반사 방지층용 기재의 수분율
＊발생률 및 평균 길이는 각각 박리 및 주름의 발생률 및 평균 길이
표 1로부터 분명한 것과 같이, 본 발명의 실시예의 반사 방지층 및 비침 방지층 부착 편광판은 고온 고습 환경하에서의 비침 방지층의 박리 및 주름의 발생률도 평균 길이도 비교예에 비해 현저하게 억제되어 있다. 이와 같은 우수한 특성은 반사 방지층용 기재의 수분율을 조정함으로써 실현되는 것을 알 수 있다.
본 발명의 반사 방지층 및 비침 방지층 부착 편광판은 액정 표시 장치, 유기 EL 표시 장치, 양자 도트 표시 장치와 같은 화상 표시 장치에 바람직하게 이용된다.
10 : 편광판
11 : 편광자
12 : 보호층
20 : 반사 방지층용 기재
30 : 반사 방지층
40 : 비침 방지층
50 : 비침 방지층용 기재
100 : 반사 방지층 및 비침 방지층 부착 편광판

Claims (6)

  1. 편광자 및 상기 편광자의 한쪽측에 설치된 보호층을 갖는 편광판과, 상기 보호층에 첩합된 액정 화합물의 배향 고화층인 비침 방지층과, 비침 방지층용 기재와, 상기 비침 방지층용 기재에 첩합된 반사 방지층용 기재와, 상기 반사 방지층용 기재에 직접 형성된 반사 방지층을 이 순서대로 구비하고,
    상기 반사 방지층용 기재의 수분율이 2.0중량% 이상인,
    반사 방지층 및 비침 방지층 부착 편광판.
  2. 제 1 항에 있어서,
    65℃ 및 90% RH에서 24시간 유지한 후의, 상기 반사 방지층용 기재의 치수 변화율이 0.03% 미만인 반사 방지층 및 비침 방지층 부착 편광판.
  3. 제 1 항에 있어서,
    상기 비침 방지층의 면내 위상차 Re(550)이 220nm∼320nm인 반사 방지층 및 비침 방지층 부착 편광판.
  4. 제 1 항에 있어서,
    상기 비침 방지층과 상기 비침 방지층용 기재와의 사이에 배향막을 추가로 구비하고, 상기 배향막이 폴리비닐알코올계 수지를 포함하는 반사 방지층 및 비침 방지층 부착 편광판.
  5. 청구항 1에 기재된 반사 방지층 및 비침 방지층 부착 편광판의 제조 방법으로서,
    편광자 및 보호층을 포함하는 편광자 적층체를 제작하는 것,
    반사 방지층용 기재에 반사 방지층을 형성하고, 반사 방지 적층체를 제작하는 것,
    비침 방지층용 기재에 비침 방지층을 형성하고 비침 방지 적층체를 제작하는 것, 및
    상기 편광자 적층체, 상기 비침 방지 적층체 및 상기 반사 방지 적층체를 첩합하는 것,
    을 포함하고,
    상기 반사 방지층용 기재의 수분율이 2.0중량% 이상인
    제조 방법.
  6. 제 5 항에 있어서,
    상기 반사 방지층용 기재가 가습 처리되어 있는 제조 방법.
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Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP7302999B2 (ja) * 2019-03-26 2023-07-04 日東電工株式会社 光学積層体および該光学積層体を用いた画像表示装置
WO2021085973A1 (ko) * 2019-11-01 2021-05-06 주식회사 엘지화학 원편광판
JP7257461B2 (ja) 2021-07-29 2023-04-13 日東電工株式会社 光学積層体
JP7234309B2 (ja) 2021-07-29 2023-03-07 日東電工株式会社 光学積層体

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011145682A (ja) 2011-02-04 2011-07-28 Nitto Denko Corp 積層フィルム
JP2015143842A (ja) 2013-12-27 2015-08-06 住友化学株式会社 偏光板用保護フィルム及びそれを用いた偏光板

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007039636A (ja) * 2005-07-07 2007-02-15 Fujifilm Corp セルロースアシレートフィルムおよびその製造方法、並びに、これを用いた反射防止フィルム、偏光板、光学補償フィルムおよび液晶表示装置。
JP2008230036A (ja) * 2007-03-20 2008-10-02 Fujifilm Corp 保護フィルム、及びその製造方法、偏光板、並びに液晶表示装置
JP2008249896A (ja) * 2007-03-29 2008-10-16 Fujifilm Corp 偏光板用保護フィルム、偏光板、及び液晶表示装置
JP2010243858A (ja) * 2009-04-07 2010-10-28 Nitto Denko Corp 偏光板、液晶パネルおよび液晶表示装置
KR20120071745A (ko) * 2010-12-23 2012-07-03 동우 화인켐 주식회사 액정표시장치의 제조방법
JP5547681B2 (ja) * 2011-03-25 2014-07-16 富士フイルム株式会社 位相差板、並びにそれを有する偏光板、３ｄ表示装置及び３ｄ表示システム
JPWO2015005421A1 (ja) * 2013-07-11 2017-03-02 大日本印刷株式会社 防湿性基材の製造方法および防湿性基材、ならびに防湿性基材を用いた偏光板、液晶表示パネル
JP6428202B2 (ja) * 2014-11-28 2018-11-28 住友化学株式会社 光学積層体
JP2016170383A (ja) * 2015-03-10 2016-09-23 住友化学株式会社 プロテクトフィルム付偏光板及び液晶パネル
US10107946B2 (en) * 2015-07-22 2018-10-23 Nitto Denko Corporation Polarizing plate with a retardation layer and image display apparatus

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011145682A (ja) 2011-02-04 2011-07-28 Nitto Denko Corp 積層フィルム
JP2015143842A (ja) 2013-12-27 2015-08-06 住友化学株式会社 偏光板用保護フィルム及びそれを用いた偏光板

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