JP6900213B2 - 反射防止層および映り込み防止層付偏光板およびその製造方法 - Google Patents

Description

本発明は、反射防止層および映り込み防止層付偏光板およびその製造方法に関する。

画像表示装置（例えば、液晶表示装置、有機ＥＬ表示装置、量子ドット表示装置）には、その画像形成方式に起因して、多くの場合、表示セルの少なくとも一方の側に偏光板が配置されている。画像表示装置の視認側に配置される偏光板には、表示画面への外光の映り込みを防止するため、その視認側に反射防止層が設けられる（反射防止処理が施される）こと、および／または、映り込み防止層が設けられることが広く知られている。映り込み防止層は、代表的には、樹脂または粘着剤のマトリクスと当該マトリクス中に分散された微粒子とを含む。ところで、近年、画像表示装置の薄型化の要請に伴い、偏光板の薄型化も強く要請されており、それに付随して映り込み防止層の薄型化も求められている。その結果、液晶化合物の配向固化層である映り込み防止層が検討されている。しかし、このような映り込み防止層は、高温高湿環境下において剥がれやすく、またシワが発生しやすいという問題がある。

特開２０１１−１９１４２８号公報

本発明は上記課題を解決するためになされたものであり、その主たる目的は、高温高湿環境下においても映り込み防止層の剥がれおよびシワが抑制された反射防止層および映り込み防止層付偏光板を提供することにある。

本発明の反射防止層および映り込み防止層付偏光板は、偏光子および該偏光子の一方の側に設けられた保護層を有する偏光板と、該保護層に貼り合わせられた液晶化合物の配向固化層である映り込み防止層と、映り込み防止層用基材と、該映り込み防止層用基材に貼り合わせられた反射防止層用基材と、該反射防止層用基材に直接形成された反射防止層と、を備え、該反射防止層用基材の水分率が２．０重量％以上である。
１つの実施形態においては、上記反射防止層および映り込み防止層付偏光板においては、６５℃および９０％ＲＨで２４時間保持した後の、上記反射防止層用基材の寸法変化率が、０．０３％未満である。
１つの実施形態においては、上記映り込み防止層は、液晶化合物の配向固化層である。
１つの実施形態においては、上記映り込み防止層の面内位相差Ｒｅ（５５０）は２２０ｎｍ〜３２０ｎｍである。
１つの実施形態においては、上記反射防止層および映り込み防止層付偏光板は、上記映り込み防止層と上記映り込み防止層用基材との間に配向膜をさらに備え、該配向膜はポリビニルアルコール系樹脂を含む。
本発明の別の局面によれば、上記の反射防止層および映り込み防止層付偏光板の製造方法が提供される。この製造方法は、偏光子および保護層を含む偏光子積層体を作製すること、反射防止層用基材に反射防止層を形成し、反射防止積層体を作製すること、映り込み防止層用基材に映り込み防止層を形成し、映り込み防止積層体を作製すること、および、該偏光子積層体、該映り込み防止積層体および該反射防止積層体を貼り合わせること、を含み、該反射防止層用基材の水分率が２．０重量％以上である。
１つの実施形態においては、上記反射防止層用基材は加湿処理されている。

本発明によれば、反射防止層および映り込み防止層付偏光板における反射防止層用基材の水分率を２．０重量％以上とすることにより、高温高湿環境下においても映り込み防止層の剥がれおよびシワが抑制された反射防止層および映り込み防止層付偏光板を実現することができる。

本発明の１つの実施形態による反射防止層および映り込み防止層付偏光板の概略断面図である。

以下、本発明の実施形態について説明するが、本発明はこれらの実施形態には限定されない。

Ａ．反射防止層および映り込み防止層付偏光板の全体構成
図１は、本発明の１つの実施形態による反射防止層および映り込み防止層付偏光板の概略断面図である。反射防止層および映り込み防止層付偏光板１００は、偏光子１１および保護層１２を有する偏光板１０と、映り込み防止層４０と、映り込み防止層用基材５０と、反射防止層用基材２０と、反射防止層３０と、をこの順に備える。映り込み防止層４０は、代表的には、任意の適切な接着層（接着剤層、粘着剤層：図示せず）を介して偏光板２０の保護層１２に貼り合わせられている。接着層は、代表的には、アクリル系粘着剤層である。映り込み防止層４０は、液晶化合物の配向固化層である。本明細書において「配向固化層」とは、液晶化合物が層内で所定の方向に配向し、その配向状態が固定されている層をいう。なお、「配向固化層」は、液晶モノマーを硬化させて得られる配向硬化層を包含する概念である。映り込み防止層４０は、代表的には、映り込み防止層用基材５０に形成された配向膜（図示せず）の表面に液晶化合物を含む組成物を塗布し、当該塗布層を固化および／または硬化させることにより形成されている。反射防止層３０は、反射防止層用基材２０に直接形成されている。本明細書において「直接」とは接着層が介在しないことを意味する。１つの実施形態においては、反射防止層用基材２０は、反射防止層３０側の表面にハードコート層および／または密着層（いずれも図示せず）を有していてもよい。この構成も、「反射防止層が基材に直接形成されている」形態に包含される。反射防止層３０の表面には、必要に応じて防汚層（図示せず）が設けられてもよい。

本発明の実施形態においては、反射防止層用基材２０の水分率は２．０重量％以上であり、好ましくは２．４重量％以上であり、より好ましくは２．７重量％以上であり、さらに好ましくは３．０重量％以上であり、特に好ましくは３．５重量％以上である。反射防止層用基材の水分率の上限は、例えば５．０重量％である。反射防止層用基材がこのような高い水分率を有することにより、高温高湿環境下における映り込み防止層（液晶化合物の配向固化層）の剥がれおよびシワが抑制され得る。本明細書において「反射防止層用基材の水分率」とは、Ｉ項で後述する製造方法において反射防止積層体を貼り合わせる際の反射防止層用基材の水分率をいう。

偏光板１０の水分率は、好ましくは０．５重量％以上であり、好ましくは０．６重量％以上であり、より好ましくは０．８重量％以上であり、さらに好ましくは１．０重量％以上である。偏光板の水分率の上限は、例えば２．０重量％である。偏光板がこのような高い水分率を有することにより、偏光板の吸湿膨張が顕著に抑制され得る。その結果、高温高湿環境下における偏光板の寸法変化（特に、偏光子の吸収軸方向の寸法変化）が顕著に抑制され得る。このことと上記反射防止層用基材の水分率による効果との相乗的な効果により、本発明の実施形態による反射防止層および映り込み防止層付偏光板においては、高温高湿環境下における映り込み防止層（液晶化合物の配向固化層）の剥がれおよびシワがさらに抑制され得る。さらに、偏光板がこのような高い水分率を有することにより、本発明の実施形態による反射防止層および映り込み防止層付偏光板は、高温高湿環境下において仮にカールが発生するとしても、当該カールの向きが通常と逆方向となる。その結果、本発明の実施形態による反射防止層付偏光板は、仮にカールが発生したとしても、画像表示装置に与える悪影響が小さくなり得る。以上のように、偏光板が高い水分率を有することによる寸法変化の抑制とカールの向きとの相乗的な効果により、反射防止層および映り込み防止層付偏光板は、画像表示装置に適用された場合に、高温高湿環境下における反り、剥がれ、および／または表示特性の低下を顕著に抑制することができる。

図示例では、偏光子１１の一方の側のみに保護層１２が設けられているが、目的に応じて保護層１２と反対側に別の保護層が設けられてもよい。この場合、偏光子の両側に保護層が設けられてもよく、保護層１２が省略されて別の保護層のみが設けられてもよい。別の保護層のみが設けられる場合、映り込み防止層用基材５０が視認側保護層として機能し得る。さらに、目的に応じて任意の適切な機能層が設けられてもよい。機能層の代表例としては、位相差層、導電層が挙げられる。機能層の種類、数、組み合わせ、配置位置、特性（例えば、屈折率特性、面内位相差、厚み方向位相差、Ｎｚ係数のような光学特性）は、目的に応じて適切に設定され得る。１つの実施形態においては、偏光子１１の保護層１２と反対側に、ｎｘ＞ｎｙ＞ｎｚの屈折率特性を有する第１の位相差層（図示せず）が設けられ得る。この場合、好ましくは、第１の位相差層の偏光子と反対側に、ｎｚ＞ｎｘ＞ｎｙの屈折率特性を有する第２の位相差層がさらに設けられ得る。第１の位相差層が、偏光子の視認側と反対側の保護層を兼ねてもよい。さらに、偏光子１１の保護層１２と反対側に導電層が設けられてもよい。このような位置に導電層を設けることにより、反射防止層および映り込み防止層付偏光板は、インナータッチパネル型入力表示装置に好適に用いられ得る。この場合、位相差層は存在してもよく、存在しなくてもよい。

以下、反射防止層および映り込み防止層付偏光板の構成要素について説明する。

Ｂ．偏光板
Ｂ−１．偏光子
偏光子１１は、代表的には、二色性物質を含む樹脂フィルムで構成される。

樹脂フィルムとしては、偏光子として用いられ得る任意の適切な樹脂フィルムを採用することができる。樹脂フィルムは、代表的には、ポリビニルアルコール系樹脂（以下、「ＰＶＡ系樹脂」と称する）フィルムである。

上記ＰＶＡ系樹脂フィルムを形成するＰＶＡ系樹脂としては、任意の適切な樹脂が用いられ得る。例えば、ポリビニルアルコール、エチレン−ビニルアルコール共重合体が挙げられる。ポリビニルアルコールは、ポリ酢酸ビニルをケン化することにより得られる。エチレン−ビニルアルコール共重合体は、エチレン−酢酸ビニル共重合体をケン化することにより得られる。ＰＶＡ系樹脂のケン化度は、通常８５モル％〜１００モル％であり、好ましくは９５．０モル％〜９９．９５モル％、さらに好ましくは９９．０モル％〜９９．９３モル％である。ケン化度は、ＪＩＳ Ｋ ６７２６−１９９４に準じて求めることができる。このようなケン化度のＰＶＡ系樹脂を用いることによって、耐久性に優れた偏光子を得ることができる。ケン化度が高すぎる場合には、ゲル化してしまうおそれがある。

ＰＶＡ系樹脂の平均重合度は、目的に応じて適切に選択され得る。平均重合度は、通常１０００〜１００００であり、好ましくは１２００〜４５００、さらに好ましくは１５００〜４３００である。なお、平均重合度は、ＪＩＳ Ｋ ６７２６−１９９４に準じて求めることができる。

樹脂フィルムに含まれる二色性物質としては、例えば、ヨウ素、有機染料等が挙げられる。これらは、単独で、または、二種以上組み合わせて用いられ得る。好ましくは、ヨウ素が用いられる。例えば化学処理による脱色により非偏光部を形成する場合に、樹脂フィルム（偏光子）に含まれるヨウ素錯体が適切に還元されるので、例えばカメラ部に使用する際に適切な特性を有する非偏光部を形成することができるからである。

樹脂フィルムは、単層の樹脂フィルムであってもよく、二層以上の積層体であってもよい。

単層の樹脂フィルムから構成される偏光子の具体例としては、ＰＶＡ系樹脂フィルムにヨウ素による染色処理および延伸処理（代表的には、一軸延伸）が施されたものが挙げられる。上記ヨウ素による染色は、例えば、ＰＶＡ系フィルムをヨウ素水溶液に浸漬することにより行われる。上記一軸延伸の延伸倍率は、好ましくは３〜７倍である。延伸は、染色処理後に行ってもよいし、染色しながら行ってもよい。また、延伸してから染色してもよい。必要に応じて、ＰＶＡ系樹脂フィルムに、膨潤処理、架橋処理、洗浄処理、乾燥処理等が施される。例えば、染色の前にＰＶＡ系樹脂フィルムを水に浸漬して水洗することで、ＰＶＡ系フィルム表面の汚れやブロッキング防止剤を洗浄することができるだけでなく、ＰＶＡ系樹脂フィルムを膨潤させて染色ムラなどを防止することができる。

積層体を用いて得られる偏光子の具体例としては、樹脂基材と当該樹脂基材に積層されたＰＶＡ系樹脂層（ＰＶＡ系樹脂フィルム）との積層体、あるいは、樹脂基材と当該樹脂基材に塗布形成されたＰＶＡ系樹脂層との積層体を用いて得られる偏光子が挙げられる。樹脂基材と当該樹脂基材に塗布形成されたＰＶＡ系樹脂層との積層体を用いて得られる偏光子は、例えば、ＰＶＡ系樹脂溶液を樹脂基材に塗布し、乾燥させて樹脂基材上にＰＶＡ系樹脂層を形成して、樹脂基材とＰＶＡ系樹脂層との積層体を得ること；当該積層体を延伸および染色してＰＶＡ系樹脂層を偏光子とすること；により作製され得る。本実施形態においては、延伸は、代表的には積層体をホウ酸水溶液中に浸漬させて延伸することを含む。さらに、延伸は、必要に応じて、ホウ酸水溶液中での延伸の前に積層体を高温（例えば、９５℃以上）で空中延伸することをさらに含み得る。得られた樹脂基材／偏光子の積層体はそのまま用いてもよく（すなわち、樹脂基材を偏光子の保護層としてもよく）、樹脂基材／偏光子の積層体から樹脂基材を剥離し、当該剥離面に目的に応じた任意の適切な保護層を積層して用いてもよい。このような偏光子の製造方法の詳細は、例えば特開２０１２−７３５８０号公報に記載されている。当該公報は、その全体の記載が本明細書に参考として援用される。

偏光子の厚みは、好ましくは１５μｍ以下であり、より好ましくは１μｍ〜１２μｍであり、さらに好ましくは３μｍ〜１０μｍであり、特に好ましくは３μｍ〜８μｍである。偏光子の厚みがこのような範囲であれば、加熱時のカールを良好に抑制することができ、および、良好な加熱時の外観耐久性が得られる。さらに、偏光子の厚みがこのような範囲であれば、反射防止層付偏光板（結果として、画像表示装置）の薄型化に貢献し得る。

偏光子は、好ましくは、波長３８０ｎｍ〜７８０ｎｍのいずれかの波長で吸収二色性を示す。偏光子の単体透過率は、好ましくは４３．０％〜４６．０％であり、より好ましくは４４．５％〜４６．０％である。偏光子の偏光度は、好ましくは９７．０％以上であり、より好ましくは９９．０％以上であり、さらに好ましくは９９．９％以上である。

Ｂ−２．保護層
保護層１２としては、任意の適切な樹脂フィルムが用いられる。樹脂フィルムの形成材料としては、例えば、（メタ）アクリル系樹脂、ジアセチルセルロース、トリアセチルセルロース等のセルロース系樹脂、ノルボルネン系樹脂等のシクロオレフィン系樹脂、ポリプロピレン等のオレフィン系樹脂、ポリエチレンテレフタレート系樹脂等のエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、これらの共重合体樹脂等が挙げられる。なお、「（メタ）アクリル系樹脂」とは、アクリル系樹脂および／またはメタクリル系樹脂をいう。

１つの実施形態においては、上記（メタ）アクリル系樹脂として、グルタルイミド構造を有する（メタ）アクリル系樹脂が用いられる。グルタルイミド構造を有する（メタ）アクリル系樹脂（以下、グルタルイミド樹脂とも称する）は、例えば、特開２００６−３０９０３３号公報、特開２００６−３１７５６０号公報、特開２００６−３２８３２９号公報、特開２００６−３２８３３４号公報、特開２００６−３３７４９１号公報、特開２００６−３３７４９２号公報、特開２００６−３３７４９３号公報、特開２００６−３３７５６９号公報、特開２００７−００９１８２号公報、特開２００９−１６１７４４号公報、特開２０１０−２８４８４０号公報に記載されている。これらの記載は、本明細書に参考として援用される。

保護層１２の透湿度は、好ましくは１．０ｇ／ｍ^２／２４ｈｒ以下であり、より好ましくは０．８ｇ／ｍ^２／２４ｈｒ以下であり、さらに好ましくは０．６ｇ／ｍ^２／２４ｈｒ以下であり、特に好ましくは０．４ｇ／ｍ^２／２４ｈｒ以下である。保護層の透湿度がこのような範囲であれば、高温高湿環境下における寸法変化をさらに抑制することができ、結果として、映り込み防止層の剥がれおよびシワをさらに抑制することができる。

保護層の厚みは、代表的には１０μｍ〜１００μｍであり、好ましくは２０μｍ〜４０μｍである。保護層は、代表的には、接着層（具体的には、接着剤層、粘着剤層）を介して偏光子に積層される。接着剤層は、代表的にはＰＶＡ系接着剤や活性化エネルギー線硬化型接着剤で形成される。粘着剤層は、代表的にはアクリル系粘着剤で形成される。

Ｃ．映り込み防止層
映り込み防止層は、画像表示装置の使用者の顔、画像表示装置のキーボード、外光（例えば、蛍光灯）等の映り込みを防止するために設けられる。本発明の実施形態においては、映り込み防止層は、液晶化合物の配向固化層である。高温高湿環境下における映り込み防止層の剥がれおよびシワを抑制したことが、本発明の特徴の１つである。

映り込み防止層は、代表的には、液晶化合物の配向固化層である。本明細書において「配向固化層」とは、液晶化合物が層内で所定の方向に配向し、その配向状態が固定されている層をいう。なお、「配向固化層」は、液晶モノマーを硬化させて得られる配向硬化層を包含する概念である。液晶化合物は、棒状液晶化合物であってもよく、ディスコティック（円盤状）液晶化合物であってもよく、それらの組み合わせであってもよい。

１つの実施形態においては、映り込み防止層は、ディスコティック液晶化合物を含む。より詳細には、映り込み防止層は、ディスコティック液晶化合物を所定の方向に配向させた状態で固定化した層である。ディスコティック液晶化合物とは、一般的には、ベンゼン、１，３，５−トリアジン、カリックスアレーンなどのような環状母核を分子の中心に配し、直鎖のアルキル基、アルコキシ基、置換ベンゾイルオキシ基等がその側鎖として放射状に置換された円盤状の分子構造を有する液晶化合物をいう。ディスコティック液晶の代表例としては、Ｃ．Ｄｅｓｔｒａｄｅらの研究報告、Ｍｏｌ．Ｃｒｙｓｔ．Ｌｉｑ．Ｃｒｙｓｔ．７１巻、１１１頁（１９８１年）に記載されている、ベンゼン誘導体、トリフェニレン誘導体、トルキセン誘導体、フタロシアニン誘導体や、Ｂ．Ｋｏｈｎｅらの研究報告、Ａｎｇｅｗ．Ｃｈｅｍ．９６巻、７０頁（１９８４年）に記載されているシクロヘキサン誘導体、および、Ｊ．Ｍ．Ｌｅｈｎらの研究報告、Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．Ｃｈｅｍ．Ｃｏｍｍｕｎ．，１７９４頁（１９８５年）、Ｊ．Ｚｈａｎｇらの研究報告、Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．１１６巻、２６５５頁（１９９４年）に記載されているアザクラウン系やフェニルアセチレン系のマクロサイクルが挙げられる。ディスコティック液晶化合物のさらなる具体例として、例えば特開２００６−１３３６５２号公報、特開２００７−１０８７３２号公報、特開２０１０−２４４０３８号公報、特開２０１４−２１４１７７号公報に記載の化合物が挙げられる。上記文献および公報の記載は、本明細書に参考として援用される。ディスコティック液晶化合物を含む映り込み防止層は、代表的には、ｎｘ＝ｎｚ＞ｎｙの屈折率特性を有するいわゆるネガティブＡプレートであり得る。

別の実施形態においては、映り込み防止層は、棒状液晶化合物を含む。より詳細には、映り込み防止層は、棒状液晶化合物が所定の方向（代表的には、遅相軸方向）に並んだ状態で配向している（ホモジニアス配向）。棒状液晶化合物としては、例えば、液晶相がネマチック相である液晶化合物（ネマチック液晶）が挙げられる。このような液晶化合物として、例えば、液晶ポリマーや液晶モノマーが使用可能である。液晶化合物の液晶性の発現機構は、リオトロピックでもサーモトロピックでもどちらでもよい。液晶ポリマーおよび液晶モノマーは、それぞれ単独で用いてもよく、組み合わせてもよい。液晶モノマーとしては、任意の適切な液晶モノマーが採用され得る。例えば、特表２００２−５３３７４２（ＷＯ００／３７５８５）、ＥＰ３５８２０８（ＵＳ５２１１８７７）、ＥＰ６６１３７（ＵＳ４３８８４５３）、ＷＯ９３／２２３９７、ＥＰ０２６１７１２、ＤＥ１９５０４２２４、ＤＥ４４０８１７１、およびＧＢ２２８０４４５等に記載の重合性メソゲン化合物等が使用できる。このような重合性メソゲン化合物の具体例としては、例えば、ＢＡＳＦ社の商品名ＬＣ２４２、Ｍｅｒｃｋ社の商品名Ｅ７、Ｗａｃｋｅｒ−Ｃｈｅｍ社の商品名ＬＣ−Ｓｉｌｌｉｃｏｎ−ＣＣ３７６７が挙げられる。液晶モノマーとしては、例えばネマチック性液晶モノマーが好ましい。液晶化合物の具体例は、例えば特開２００６−１６３３４３号公報に記載されている。当該公報の記載は本明細書に参考として援用される。棒状液晶化合物を含む映り込み防止層は、代表的には、ｎｘ＞ｎｙ＝ｎｚの屈折率特性を有するいわゆるポジティブＡプレートであり得る。

映り込み防止層は、代表的にはλ／２板として機能し得る。映り込み防止層がλ／２板として機能する場合、その配向角（または遅相軸方向）を制御することにより、映り込みを良好に防止することができる。このような映り込み防止層の面内位相差Ｒｅ（５５０）は２２０ｎｍ〜３２０ｎｍであり、より好ましくは２４０ｎｍ〜３００ｎｍであり、さらに好ましくは２５０ｎｍ〜２８０ｎｍである。ここで、Ｒｅ（５５０）は、２３℃における波長５５０ｎｍの光で測定した面内位相差である。Ｒｅ（５５０）は、層（フィルム）の厚みをｄ（ｎｍ）としたとき、Ｒｅ（５５０）＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄによって求められる。ｎｘは面内の屈折率が最大になる方向（すなわち、遅相軸方向）の屈折率であり、ｎｙは面内で遅相軸と直交する方向（すなわち、進相軸方向）の屈折率である。

映り込み防止層４０の遅相軸と偏光子１１の吸収軸とがなす角度は、好ましくは３５°〜５５°であり、より好ましくは４０°〜５０°であり、さらに好ましくは約４５°である。λ／２板として機能する映り込み防止層をこのような軸角度で配置することにより、映り込みを良好に防止することができる。

映り込み防止層の厚みは、好ましくは１μｍ〜５μｍであり、より好ましくは１μｍ〜３μｍである。本発明の実施形態によれば、このような薄い映り込み防止層であっても、高温高湿環境下における剥がれおよびシワを良好に抑制することができる。

液晶化合物の配向に配向膜を用いる場合には、反射防止層および映り込み防止層付偏光板は、映り込み防止層４０と映り込み防止層用基材５０との間に配向膜をさらに備える。配向膜は、一般的には、ポリマー材料を主成分として含む。ポリマー材料の代表例としては、ポリビニルアルコール、ポリイミド、および、それらの誘導体が挙げられる。本発明の実施形態においては、変性または未変性のポリビニルアルコールが好ましい。配向膜として、例えば、ＷＯ０１／８８５７４Ａ１、特許第３９０７７３５号に記載の変性ポリビニルアルコールを用いることができる。配向膜には、代表的には配向処理が施される。配向処理の代表例としては、ラビング処理、光配向処理が挙げられる。ラビング処理は業界で周知であるので、詳細な説明は省略する。光配向処理された配向膜（光配向膜）としては、例えば、ＷＯ２００５／０９６０４１に記載のもの、Ｒｏｌｉｃ ｅｃｈｎｏｌｏｇｉｅｓ社製の商品名ＬＰＰ−ＪＰ２６５ＣＰなどを用いることができる。配向膜の厚みは、例えば０．０１μｍ〜１０μｍであり、好ましくは０．０１μｍ〜１μｍであり、より好ましくは０．０１μｍ〜０．５μｍである。

映り込み防止層は、例えば以下の手順で形成され得る。まず、映り込み防止層用基材上に配向膜形成用塗布液を塗布し、乾燥させて塗布膜を形成する。当該塗布膜に所定の方向にラビング処理を施し、映り込み防止層用基材上に配向膜を形成する。当該所定の方向は、得られる映り込み防止層の遅相軸方向に対応し得る。次に、形成された配向膜上に映り込み防止層形成用塗布液（例えば、液晶化合物と必要に応じて架橋性モノマーとを含む溶液）を塗布し加熱する。加熱により、塗布液の溶媒を除去するとともに液晶化合物の配向を進める。加熱は１段階で行ってもよく、温度を変えて多段階で行ってもよい。次いで、紫外線照射により架橋性（または重合性）モノマーを架橋（または重合）させて、液晶化合物の配向を固定化する。このようにして、映り込み防止層用基材上（実質的には、配向膜上）に映り込み防止層が形成される。なお、ディスコティック液晶化合物を配向させる方法は、例えば特開２０１４−２１４１７７号公報に記載され、棒状液晶化合物を配向させる方法は、例えば特開２００６−１６３３４３号公報に記載されている。これらの公報の記載は、本明細書に参考として援用される。なお、配向膜は、所望の配向状態および液晶化合物の種類等によっては省略され得る。

Ｄ．映り込み防止層用基材
映り込み防止層用基材５０は、映り込み防止層５０を形成するために用いられる。

映り込み防止層用基材としては、任意の適切な樹脂フィルムが用いられる。樹脂フィルムの形成材料としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）等のポリエステル系樹脂、ノルボルネン系樹脂等のシクロオレフィン系樹脂、シクロオレフィン（例えば、ノルボルネン）とα−オレフィン（例えば、エチレン）との付加重合により得られる樹脂（ＣＯＣ）、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）等のセルロース系樹脂が挙げられる。

映り込み防止層用基材の厚みは、目的に応じて適切に設定され得る。映り込み防止層用基材の厚みは、代表的には２０μｍ〜２００μｍであり、好ましくは２５μｍ〜１００μｍである。

Ｅ．反射防止層用基材
Ｅ−１．反射防止層用基材本体
反射防止層用基材２０は、反射防止層３０を形成するために用いられる。後述するように、反射防止層用基材に反射防止層を形成し、反射防止層用基材／反射防止層の積層体を偏光板に貼り合わせることにより、偏光板を反射防止層形成プロセス（代表的には、スパッタリング）に供する必要がなくなる。その結果、偏光板が高温に曝されることがなくなるので、偏光板の水分率を上記所望の範囲に維持することができる。

反射防止層用基材の形成材料および厚みは、上記の映り込み防止層用基材と同様である。

上記のとおり、反射防止層用基材２０の水分率は２．０重量％以上であり、好ましくは２．４重量％以上であり、より好ましくは２．７重量％以上であり、さらに好ましくは３．０重量％以上であり、特に好ましくは３．５重量％以上である。水分率の上限は、例えば５．０重量％である。反射防止層用基材がこのような高い水分率を有することにより、高温高湿環境下における反射防止層用基材の膨張および収縮が抑制され得る。これに追随して、映り込み防止層用基材の膨張および収縮も抑制され得る。その結果、高温高湿環境下においても映り込み防止層（液晶化合物の配向固化層）が映り込み防止層用基材の膨張および収縮に追随し得るので、映り込み防止層の剥がれおよびシワが抑制され得る。反射防止層用基材のこのような高い水分率は、反射防止層用基材を加湿処理に供することにより実現され得る。加湿処理は、反射防止層用基材に上記所望の水分率を付与し得る限り、任意の適切な方法および条件により行われ得る。加湿処理は、例えば、反射防止層用基材を６５℃および９０％ＲＨの環境下に２４時間置くことにより行われ得る。

反射防止層用基材の６５℃および９０％ＲＨで２４時間保持した後の寸法変化率は、好ましくは０．０３％未満であり、より好ましくは−０．０３％〜０．０％である。当該寸法変化率は、代表的には、搬送方向と直交する方向の寸法変化率である。なお、寸法変化率が正である場合は膨張を示し、負である場合は収縮を示す。

Ｅ−２．ハードコート層
上記のとおり、反射防止層用基材の反射防止層側の表面には、ハードコート層が形成されていてもよい。ハードコート層を形成することにより、鉛筆硬度の向上という利点がある。さらに、ハードコート層と反射防止層との屈折率差を適切に調整することにより、反射率をさらに低下させることができる。

ハードコート層は、好ましくは、十分な表面硬度、優れた機械的強度、および優れた光透過性を有する。ハードコート層は、このような所望の特性を有する限り、任意の適切な樹脂から形成され得る。樹脂の具体例としては、熱硬化型樹脂、熱可塑型樹脂、紫外線硬化型樹脂、電子線硬化型樹脂、二液混合型樹脂が挙げられる。紫外線硬化型樹脂が好ましい。簡便な操作および高効率でハードコート層を形成することができるからである。

紫外線硬化型樹脂の具体例としては、ポリエステル系、アクリル系、ウレタン系、アミド系、シリコーン系、エポキシ系の紫外線硬化型樹脂が挙げられる。紫外線硬化型樹脂には、紫外線硬化型のモノマー、オリゴマー、ポリマーが含まれる。好ましい紫外線硬化型樹脂としては、紫外線重合性の官能基を好ましくは２個以上、より好ましくは３〜６個有するアクリル系のモノマー成分またはオリゴマー成分を含む樹脂組成物が挙げられる。代表的には、紫外線硬化型樹脂には、光重合開始剤が配合されている。

ハードコート層は、任意の適切な方法により形成され得る。例えば、ハードコート層は、反射防止層用基材上にハードコート層形成用樹脂組成物を塗工し、乾燥させ、乾燥した塗工膜に紫外線を照射して硬化させることにより形成され得る。

ハードコート層の厚みは、例えば０．５μｍ〜２０μｍ、好ましくは１μｍ〜１５μｍである。

ハードコート層、ならびに、ハードコート層と反射防止層との密着構造についての詳細は、例えば特開２０１６−２２４４４３号公報に記載されている。当該公報の記載は、本明細書に参考として援用される。

Ｆ．反射防止層
反射防止層の構成としては、任意の適切な構成が採用され得る。反射防止層の代表的な構成としては、（１）光学膜厚が１２０ｎｍ〜１４０ｎｍである、屈折率１．３５〜１．５５程度の低屈折率層の単一層；（２）反射防止層用基材側から順に中屈折率層と高屈折率層と低屈折率層とを有する積層体；（３）高屈折率層と低屈折率層との交互多層積層体；が挙げられる。

低屈折率層を形成し得る材料としては、例えば、酸化ケイ素（ＳｉＯ_２）、フッ化マグネシウム（ＭｇＦ_２）が挙げられる。低屈折率層の屈折率は、代表的には１．３５〜１．５５程度である。高屈折率層を形成し得る材料としては、例えば、酸化チタン（ＴｉＯ_２）、酸化ニオブ（Ｎｂ_２Ｏ_３またはＮｂ_２Ｏ_５）、スズドープ酸化インジウム（ＩＴＯ）、アンチモンドープ酸化スズ（ＡＴＯ）、ＺｒＯ_２−ＴｉＯ_２が挙げられる。高屈折率層の屈折率は、代表的には１．６０〜２．２０程度である。中屈折率層を形成し得る材料としては、例えば、酸化チタン（ＴｉＯ_２）、低屈折率層を形成し得る材料と高屈折率層を形成し得る材料との混合物（例えば、酸化チタンと酸化ケイ素との混合物）が挙げられる。中屈折率層の屈折率は、代表的には１．５０〜１．８５程度である。低屈折率層、中屈折率層および高屈折率層の厚みは、反射防止層の層構造、所望の反射防止性能等に応じた適切な光学膜厚が実現されるように設定され得る。

反射防止層は、代表的にはドライプロセスにより形成される。ドライプロセスの具体例としては、ＰＶＤ（Ｐｈｙｓｉｃａｌ Ｖａｐｏｒ Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）法、ＣＶＤ（Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｖａｐｏｒ Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）法が挙げられる。ＰＶＤ法としては、真空蒸着法、反応性蒸着法、イオンビームアシスト法、スパッタリング法、イオンプレーティング法が挙げられる。ＣＶＤ法としては、プラズマＣＶＤ法が挙げられる。好ましくは、スパッタリング法である。

反射防止層の厚みは、例えば２０ｎｍ〜３００ｎｍ程度である。

反射防止層は、波長４００ｎｍ〜７００ｎｍの範囲における最大反射率と最小反射率の差が、好ましくは２．０％以下であり、より好ましくは１．９％以下であり、さらに好ましくは１．８％以下である。最大反射率と最小反射率の差がこのような範囲であれば、反射光の色づきが良好に防止され得る。

必要に応じて、反射防止層の表面には、防汚層が設けられ得る。防汚層は、例えば、フッ素基含有のシラン系化合物（例えば、パーフルオロポリエーテル基を有するアルコキシシラン化合物）またはフッ素基含有の有機化合物を含む。防汚層は、好ましくは、水接触角が１１０度以上の撥水性を示す。

Ｇ．第１の位相差層
第１の位相差層は、目的に応じて任意の適切な光学的特性および／または機械的特性を有する位相差フィルムで構成され得る。１つの実施形態においては、第１の位相差層は、λ／２板として機能し得る。第１の位相差層がλ／２板として機能することにより、λ／４板として機能する第２の位相差層との積層後の波長分散特性（特に、位相差がλ／４を外れる波長範囲）について、位相差が適切に調節され得る。このような第１の位相差層の面内位相差Ｒｅ（５５０）は、好ましくは２２０ｎｍ〜３２０ｎｍであり、より好ましくは２４０ｎｍ〜３００ｎｍであり、さらに好ましくは２５０ｎｍ〜２８０ｎｍである。

第１の位相差層の厚みは、λ／２板として最も適切に機能し得るように設定され得る。言い換えれば、厚みは、所望の面内位相差が得られるように設定され得る。具体的には、厚みは、好ましくは１０μｍ〜６０μｍであり、より好ましくは３０μｍ〜５０μｍである。

第１の位相差層は、好ましくは屈折率特性がｎｘ＞ｎｙ＞ｎｚの関係を示す。第１の位相差層のＮｚ係数は、好ましくは１．１〜３．０であり、より好ましくは１．３〜２．７である。Ｎｚ係数は、Ｎｚ＝Ｒｔｈ／Ｒｅによって求められる。Ｒｔｈは厚み方向の位相差であり、例えば、Ｒｔｈ（５５０）は、２３℃における波長５５０ｎｍの光で測定した厚み方向の位相差である。Ｒｔｈ（５５０）は、Ｒｔｈ＝（ｎｘ−ｎｚ）×ｄによって求められる。ｎｚは厚み方向の屈折率である。

第１の位相差層は、その遅相軸が偏光子の吸収軸と好ましくは１０°〜２０°、より好ましくは１２°〜１８°、さらに好ましくは約１５°の角度をなすようにして配置され得る。なお、本明細書において角度に言及するときは、時計回りおよび反時計回りの両方を包含する。

第１の位相差層は、光弾性係数の絶対値が好ましくは２×１０^−１１ｍ^２／Ｎ以下、より好ましくは２．０×１０^−１３ｍ^２／Ｎ〜１．５×１０^−１１ｍ^２／Ｎ、さらに好ましくは１．０×１０^−１２ｍ^２／Ｎ〜１．２×１０^−１１ｍ^２／Ｎの樹脂を含む。光弾性係数の絶対値がこのような範囲であれば、加熱時の収縮応力が発生した場合に位相差変化が生じにくい。したがって、このような光弾性係数の絶対値を有する樹脂を用いて第１の位相差層を形成することにより、反射防止層および映り込み防止層付偏光板を画像表示装置に適用した場合に熱ムラが良好に防止され得る。

第１の位相差層は、位相差値が測定光の波長に応じて大きくなる逆分散波長特性を示してもよく、位相差値が測定光の波長に応じて小さくなる正の波長分散特性を示してもよく、位相差値が測定光の波長によってもほとんど変化しないフラットな波長分散特性を示してもよい。フラットな波長分散特性を示すことが好ましい。具体的には、第１の位相差層のＲｅ（４５０）/Ｒｅ（５５０）は好ましくは０.９９〜１.０３であり、Ｒｅ（６５０）/Ｒｅ（５５０）は好ましくは０.９８〜１.０２である。フラットな波長分散特性を有するλ／２板（第１の位相差層）とλ／４板（第２の位相差層）とを所定の軸角度で配置することにより、理想的な逆波長分散特性に近い特性を得ることが可能であり、結果として、非常に優れた反射防止特性を実現することができる。

第１の位相差層は、上記のような特性を満足し得る任意の適切な樹脂フィルムで構成され得る。そのような樹脂の代表例としては、環状オレフィン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、セルロース系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリビニルアルコール系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリエーテル系樹脂、ポリスチレン系樹脂、アクリル系樹脂が挙げられる。中でも、環状オレフィン系樹脂が好適に用いられ得る。第１の位相差層は、例えば、上記樹脂から形成されたフィルムを延伸することにより得られる。環状オレフィン系樹脂および樹脂フィルムの延伸方法（位相差フィルムの形成方法）の詳細については、例えば、特開２０１５−２１０４５９号公報、特開２０１６−１０５１６６号公報に記載されている。この公報の記載は、本明細書に参考として援用される。

Ｈ．第２の位相差層
第２の位相差層は、目的に応じて任意の適切な光学的特性および／または機械的特性を有する位相差フィルムで構成され得る。第１の位相差層がλ／２板として機能する場合、第２の位相差層は、代表的にはλ／４板として機能し得る。λ／４板として機能する第２の位相差層の波長分散特性を、上記λ／２板として機能する第１の位相差層の光学特性によって補正することによって、広い波長範囲での円偏光機能を発揮することができる。このような第２の位相差層の面内位相差Ｒｅ（５５０）は、好ましくは１００ｎｍ〜１８０ｎｍであり、より好ましくは１１０ｎｍ〜１７０ｎｍであり、さらに好ましくは１２０ｎｍ〜１６０ｎｍである。

第２の位相差層の厚みは、λ／４板として最も適切に機能し得るように設定され得る。言い換えれば、厚みは、所望の面内位相差が得られるように設定され得る。具体的には、厚みは、好ましくは１０μｍ〜５０μｍであり、最も好ましくは２０μｍ〜４０μｍである。

第２の位相差層は、好ましくは屈折率特性がｎｚ＞ｎｘ＞ｎｙの関係を示す。第２の位相差層のＮｚ係数は、好ましくは−１０〜−０．１であり、より好ましくは−５〜−１である。

第２の位相差層は、その遅相軸が偏光子の吸収軸と好ましくは７０°〜８０°、より好ましくは７２°〜７８°、さらに好ましくは約７５°の角度をなすようにして配置され得る。

第２の位相差層は、上記のような特性を満足し得る任意の適切な樹脂フィルムで構成され得る。そのような樹脂は、代表的には、負の固有複屈折を有するポリマーであり得る。負の固有複屈折を有するポリマーとは、ポリマーを延伸等により配向させた場合に、その配向方向の屈折率が相対的に小さくなるものを指す。負の固有複屈折を有するポリマーとしては、例えば、芳香族やカルボニル基などの分極異方性の大きい化学結合や官能基がポリマーの側鎖に導入されているものが挙げられる。具体例としては、変性ポリオレフィン系樹脂（例えば、変性ポリエチレン系樹脂）、アクリル系樹脂、スチレン系樹脂、マレイミド系樹脂、フマル酸エステル系樹脂等が挙げられる。第２の位相差層は、例えば、上記樹脂から形成されたフィルムを適切に延伸することにより得られ得る。

Ｉ．反射防止層および映り込み防止層付偏光板の製造方法
本発明の１つの実施形態による反射防止層および映り込み防止層付偏光板の製造方法は、偏光子および保護層を含む偏光子積層体を作製すること；反射防止層用基材に反射防止層を形成し、反射防止積層体を作製すること；映り込み防止層用基材に映り込み防止層を形成し、映り込み防止積層体を作製すること；および、該偏光子積層体、該映り込み防止積層体および該反射防止積層体を貼り合わせることを含む。

偏光子積層体は、任意の適切な方法により作製され得る。単層の樹脂フィルムから構成される偏光子を用いる場合には、偏光子と保護層を構成する樹脂フィルムとを任意の適切な接着層（接着剤層または粘着剤層）を介して貼り合わせればよい。樹脂基材と当該樹脂基材に積層されたＰＶＡ系樹脂層（ＰＶＡ系樹脂フィルム）との積層体を用いる場合には、当該積層体を染色および延伸処理に供してＰＶＡ系樹脂層を偏光子とし、この積層体をそのまま偏光子積層体として用いてもよい。あるいは、この積層体の偏光子表面に保護層を構成する樹脂フィルムを貼り合わせて用いてもよい。この場合、樹脂基材は剥離してもよく、剥離しなくてもよい。樹脂基材と当該樹脂基材に塗布形成されたＰＶＡ系樹脂層との積層体を用いて得られる偏光子を用いる場合には、上記Ｂ−１項に記載のようにして（例えば、特開２０１２−７３５８０号公報に記載のようにして）樹脂基材／偏光子の積層体を作製し、この積層体をそのまま偏光子積層体として用いてもよい。あるいは、この積層体の偏光子表面に保護層を構成する樹脂フィルムを貼り合わせて用いてもよい。この場合、樹脂基材は剥離してもよく、剥離しなくてもよい。

反射防止積層体は、反射防止層用基材に反射防止層を形成することにより作製される。反射防止層を形成する際、必要に応じて、反射防止層用基材にあらかじめ表面処理を施しておいてもよい。表面処理としては、例えば、低圧プラズマ処理、紫外線照射処理、コロナ処理、火炎処理、酸またはアルカリ処理が挙げられる。あるいは、反射防止層用基材表面に例えばＳｉＯｘからなる密着層を形成してもよい。反射防止層は、上記のとおり、代表的にはドライプロセス（例えば、スパッタリング）により形成される。例えば、反射防止層が高屈折率層と低屈折率層との交互多層積層体である場合、反射防止層用基材表面にスパッタリングにより例えばＮｂ_２Ｏ_５膜（高屈折率層）、ＳｉＯ_２膜（低屈折率層）、Ｎｂ_２Ｏ_５膜（高屈折率層）、およびＳｉＯ_２膜（低屈折率層）を順次製膜することにより、反射防止層が形成され得る。

映り込み防止積層体は、映り込み防止層用基材に映り込み防止層を形成することにより作製される。映り込み防止層の形成手順は、上記Ｃ項に記載のとおりである。

最後に、偏光子積層体、映り込み防止積層体および反射防止積層体を貼り合わせることにより、反射防止層および映り込み防止層付偏光板が得られ得る。反射防止積層体を、映り込み防止積層体／偏光子積層体の積層体に貼り合わせてもよく、反射防止積層体／映り込み防止積層体の積層体を偏光子積層体に貼り合わせてもよい。反射防止層および映り込み防止層付偏光板は、例えば、偏光子積層体の保護層表面に、任意の適切な接着層（例えば、接着剤層、粘着剤層）を介して映り込み防止積層体の映り込み防止層を貼り合わせ、次いで、映り込み防止層用基材の表面に、任意の適切な接着層を介して反射防止積層体の反射防止層用基材を貼り合わせることにより得られ得る。本発明の実施形態においては、上記のとおり、貼り合わせ時の反射防止層用基材の水分率は２．０重量％以上である。このような水分率は、反射防止層用基材をあらかじめ加湿処理することにより実現され得る。

Ｊ．画像表示装置
本発明の実施形態による反射防止層および映り込み防止層付偏光板は、画像表示装置に適用され得る。代表的には、反射防止層および映り込み防止層付偏光板は、反射防止層が視認側となるようにして画像表示装置の視認側に配置され得る。画像表示装置の代表例としては、液晶表示装置、有機エレクトロルミネセンス（ＥＬ）表示装置、量子ドット表示装置が挙げられる。

以下、実施例によって本発明を具体的に説明するが、本発明はこれら実施例によって限定されるものではない。なお、各特性の測定方法は以下の通りである。

（１）反射防止層用基材の水分率
実施例および比較例で用いた反射防止層用基材を搬送方向が短辺となるように２００ｍｍ×３００ｍｍの大きさに切り出して測定試料とし、この測定試料の初期重量を測定した。次いで、この測定試料を１２０℃で２４時間乾燥し、乾燥重量を測定して、下記式により水分率を決定した。
水分率（重量％）＝〔（初期重量−乾燥重量）／初期重量〕×１００
（２）剥がれおよびシワ
実施例および比較例で得られた反射防止層および映り込み防止層付偏光板を、偏光子の吸収軸方向が短辺となるように２００ｍｍ×３００ｍｍに切り出し、ガラス板に貼り合わせて測定試料とした。この測定試料について、以下の２つの条件で過酷加湿耐久性試験を行った。試験には１０個の測定試料を使用し、それぞれの測定試料における反射防止層および映り込み防止層付偏光板の４隅の剥がれおよびシワを観測し、発生率および平均長さを算出した。なお、発生率については、剥がれおよびシワの有無を目視で観察し、４０か所（１０個の測定試料×４隅）のうち発生している場所の数から発生率を求めた。平均長さについては、定規により長さを測定し、その平均値を算出した。
＜試験条件１＞
測定試料を８５℃および８５％ＲＨのオーブンに１００時間置いた。
＜試験条件２＞
測定試料における反射防止層および映り込み防止層付偏光板の周縁部に、シリンジを用いてグリセリンを塗布し、当該塗布試料を６５℃および９０％ＲＨのオーブンに２４時間置いた。

［実施例１］
１．偏光板（偏光子積層体）の作製
樹脂基材として、長尺状で、吸水率０．７５％、Ｔｇ７５℃の非晶質のイソフタル酸共重合ポリエチレンテレフタレート（ＩＰＡ共重合ＰＥＴ）フィルム（厚み：１００μｍ）を用いた。基材の片面に、コロナ処理を施し、このコロナ処理面に、ポリビニルアルコール（重合度４２００、ケン化度９９．２モル％）およびアセトアセチル変性ＰＶＡ（重合度１２００、アセトアセチル変性度４．６％、ケン化度９９．０モル％以上、日本合成化学工業社製、商品名「ゴーセファイマーＺ２００」）を９：１の比で含む水溶液を２５℃で塗布および乾燥して、厚み１１μｍのＰＶＡ系樹脂層を形成し、積層体を作製した。
得られた積層体を、１２０℃のオーブン内で周速の異なるロール間で縦方向（長手方向）に２．０倍に自由端一軸延伸した（空中補助延伸）。
次いで、積層体を、液温３０℃の不溶化浴（水１００重量部に対して、ホウ酸を４重量部配合して得られたホウ酸水溶液）に３０秒間浸漬させた（不溶化処理）。
次いで、液温３０℃の染色浴に、偏光板が所定の透過率となるようにヨウ素濃度、浸漬時間を調整しながら浸漬させた。本実施例では、水１００重量部に対して、ヨウ素を０．２重量部配合し、ヨウ化カリウムを１．５重量部配合して得られたヨウ素水溶液に６０秒間浸漬させた（染色処理）。
次いで、液温３０℃の架橋浴（水１００重量部に対して、ヨウ化カリウムを３重量部配合し、ホウ酸を３重量部配合して得られたホウ酸水溶液）に３０秒間浸漬させた（架橋処理）。
その後、積層体を、液温７０℃のホウ酸水溶液（水１００重量部に対して、ホウ酸を４重量部配合し、ヨウ化カリウムを５重量部配合して得られた水溶液）に浸漬させながら、周速の異なるロール間で縦方向（長手方向）に総延伸倍率が５．５倍となるように一軸延伸を行った（水中延伸）。
その後、積層体を液温３０℃の洗浄浴（水１００重量部に対して、ヨウ化カリウムを４重量部配合して得られた水溶液）に浸漬させた（洗浄処理）。
続いて、積層体のＰＶＡ系樹脂層（偏光子）表面に、ＰＶＡ系樹脂水溶液（日本合成化学工業社製、商品名「ゴーセファイマー（登録商標）Ｚ−２００」、樹脂濃度：３重量％）を塗布して、保護層を構成するメタクリル樹脂フィルム（厚み：２５μｍ、グルタルイミド構造を有する）を貼り合わせ、これを６０℃に維持したオーブンで５分間加熱した。その後、樹脂基材をＰＶＡ系樹脂層から剥離した。続いて，積層体のＰＶＡ系樹脂層表面（樹脂基材剥離面）に、ＰＶＡ系樹脂水溶液（日本合成化学工業社製、商品名「ゴーセファイマー（登録商標）Ｚ−２００」、樹脂濃度：３重量％）を塗布して、保護層を構成するメタクリル樹脂フィルム（厚み：４０μｍ、グルタルイミド構造を有する）を貼り合わせ、これを６０℃に維持したオーブンで５分間加熱した。このようにして、偏光子積層体（保護層／偏光子／保護層の構成を有する偏光板）を得た。なお、偏光子の厚みは５μｍ、単体透過率は４２．３％であった。

２．反射防止積層体の作製
コニカミノルタ株式会社製のＴＡＣフィルム（製品名：ＫＣ２ＵＡ、厚み：２５μｍ）の片面にハードコート処理によりハードコート（ＨＣ）層（厚み：７μｍ）を形成することにより、ＨＣ−ＴＡＣフィルム（厚み：３２μｍ）を得た。このＨＣ−ＴＡＣフィルムを反射防止層用基材として用いた。反射防止層用基材のＨＣ層表面に、ＳｉＯｘからなる密着層（厚み：１０ｎｍ）をスパッタリングにより形成し、さらに、当該密着層上にＮｂ_２Ｏ_５膜（高屈折率層）、ＳｉＯ_２膜（低屈折率層）、Ｎｂ_２Ｏ_５膜（高屈折率層）、およびＳｉＯ_２膜（低屈折率層）を順次製膜することにより、反射防止層（厚みまたは光学膜厚：２００ｎｍ）を形成した。さらに、反射防止層上にパーフルオロポリエーテル基を有するアルコキシシラン化合物からなる防汚層（厚み：１０ｎｍ）を形成し、反射防止積層体を作製した。この反射防止積層体を加湿処理（６５℃および９０％ＲＨのオーブンに２４時間放置）に供した。得られた反射防止積層体（実質的には、反射防止層用基材）の水分率は３．８重量％であった。

３．映り込み防止積層体
映り込み防止層用基材としてのコニカミノルタ株式会社製のＴＡＣフィルム（製品名：ＫＣ４ＵＹ、厚み：４０μｍ）の片面に、特開２０１４−２１４１７７号公報の＜実施例１＞に記載の方法に準じて配向膜および液晶化合物の配向固化層（映り込み防止層）を形成し、映り込み防止積層体を作製した。なお、映り込み防止層は、面内位相差Ｒｅ（５５０）が２７０ｎｍであり、その遅相軸が偏光子の吸収軸に対して４５°の角度をなすように形成した。

４．反射防止層および映り込み防止層付偏光板の作製
偏光子積層体（偏光板）の４０μｍ保護層面に、アクリル系粘着剤（厚み：２０μｍ）を介して、映り込み防止積層体の映り込み防止層を貼り合わせ、得られた積層体の映り込み防止層用基材の表面に、アクリル系粘着剤（厚み：２０μｍ）を介して、反射防止積層体のＨＣ−ＴＡＣフィルムを貼り合わせ、反射防止層および映り込み防止層付偏光板を得た。得られた反射防止層付偏光板を上記（２）の評価に供した。結果を表１に示す。

［実施例２］
反射防止積層体の加湿処理の条件を「４０℃、９２％ＲＨおよび２４時間」に変更し、貼り合わせ時の反射防止層用基材の水分率を３．１重量％としたこと以外は実施例１と同様にして反射防止層および映り込み防止層付偏光板を作製した。得られた偏光板を実施例１と同様の評価に供した。結果を表１に示す。

［比較例１］
反射防止積層体に加湿処理を行わず、貼り合わせ時の反射防止層用基材の水分率を１．６重量％としたこと以外は実施例１と同様にして反射防止層および映り込み防止層付偏光板を作製した。得られた偏光板を実施例１と同様の評価に供した。結果を表１に示す。

［比較例２］
反射防止積層体を７２時間真空乾燥し、貼り合わせ時の反射防止層用基材の水分率を０．４重量％としたこと以外は実施例１と同様にして反射防止層および映り込み防止層付偏光板を作製した。得られた偏光板を実施例１と同様の評価に供した。結果を表１に示す。

表１から明らかなように、本発明の実施例の反射防止層および映り込み防止層付偏光板は、高温高湿環境下における映り込み防止層の剥がれおよびシワの発生率も平均長さも、比較例に比べて顕著に抑制されている。このような優れた特性は、反射防止層用基材の水分率を調整することにより実現されていることがわかる。

本発明の反射防止層および映り込み防止層付偏光板は、液晶表示装置、有機ＥＬ表示装置、量子ドット表示装置のような画像表示装置に好適に用いられる。

１０ 偏光板
１１ 偏光子
１２ 保護層
２０ 反射防止層用基材
３０ 反射防止層
４０ 映り込み防止層
５０ 映り込み防止層用基材
１００ 反射防止層および映り込み防止層付偏光板

Claims (5)

1. 偏光子および該偏光子の一方の側に設けられた保護層を有する偏光板と、該保護層に貼り合わせられた液晶化合物の配向固化層である映り込み防止層と、映り込み防止層用基材と、該映り込み防止層用基材に貼り合わせられた反射防止層用基材と、該反射防止層用基材に直接形成された反射防止層と、を備え、
   該映り込み防止層の面内位相差Ｒｅ（５５０）が２２０ｎｍ〜３２０ｎｍであり、該映り込み防止層の遅相軸と該偏光子の吸収軸とのなす角度が３５°〜５５°であり、
   該反射防止層用基材の水分率が２．０重量％以上である、
   反射防止層および映り込み防止層付偏光板。
2. ６５℃および９０％ＲＨで２４時間保持した後の、前記反射防止層用基材の寸法変化率が、０．０３％未満である、請求項１に記載の反射防止層および映り込み防止層付偏光板。
3. 前記映り込み防止層と前記映り込み防止層用基材との間に配向膜をさらに備え、該配向膜がポリビニルアルコール系樹脂を含む、請求項１または２に記載の反射防止層および映り込み防止層付偏光板。
4. 請求項１から３のいずれかに記載の反射防止層および映り込み防止層付偏光板の製造方法であって、
   偏光子および保護層を含む偏光子積層体を作製すること、
   反射防止層用基材に反射防止層を形成し、反射防止積層体を作製すること、
   映り込み防止層用基材に映り込み防止層を形成し、映り込み防止積層体を作製すること、および
   該偏光子積層体、該映り込み防止積層体および該反射防止積層体を貼り合わせること、
   を含み、
   該映り込み防止層の面内位相差Ｒｅ（５５０）が２２０ｎｍ〜３２０ｎｍであり、該映り込み防止層の遅相軸と該偏光子の吸収軸とのなす角度が３５°〜５５°であり、
   該反射防止層用基材の水分率が２．０重量％以上である、
   製造方法。
5. 前記反射防止層用基材が加湿処理されている、請求項４に記載の製造方法。
   

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