TWI657268B - 附抗反射層及防光眩層之偏光板及其製造方法 - Google Patents

附抗反射層及防光眩層之偏光板及其製造方法 Download PDF

Info

Publication number
TWI657268B
TWI657268B TW107109001A TW107109001A TWI657268B TW I657268 B TWI657268 B TW I657268B TW 107109001 A TW107109001 A TW 107109001A TW 107109001 A TW107109001 A TW 107109001A TW I657268 B TWI657268 B TW I657268B
Authority
TW
Taiwan
Prior art keywords
layer
glare
reflection
base material
polarizing plate
Prior art date
Application number
TW107109001A
Other languages
English (en)
Other versions
TW201837501A (zh
Inventor
八重樫将寬
木村真規子
望月政和
伊﨑章典
北村吉紹
Original Assignee
日商日東電工股份有限公司
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 日商日東電工股份有限公司 filed Critical 日商日東電工股份有限公司
Publication of TW201837501A publication Critical patent/TW201837501A/zh
Application granted granted Critical
Publication of TWI657268B publication Critical patent/TWI657268B/zh

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/30—Polarising elements
    • G02B5/3083—Birefringent or phase retarding elements
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/30—Polarising elements
    • G02B5/3016—Polarising elements involving passive liquid crystal elements
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L29/00—Compositions of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by an alcohol, ether, aldehydo, ketonic, acetal or ketal radical; Compositions of hydrolysed polymers of esters of unsaturated alcohols with saturated carboxylic acids; Compositions of derivatives of such polymers
    • C08L29/02—Homopolymers or copolymers of unsaturated alcohols
    • C08L29/04—Polyvinyl alcohol; Partially hydrolysed homopolymers or copolymers of esters of unsaturated alcohols with saturated carboxylic acids
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
    • G02B1/11—Anti-reflection coatings
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
    • G02B1/14—Protective coatings, e.g. hard coatings
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/30—Polarising elements
    • G02B5/3025—Polarisers, i.e. arrangements capable of producing a definite output polarisation state from an unpolarised input state
    • G02B5/3033—Polarisers, i.e. arrangements capable of producing a definite output polarisation state from an unpolarised input state in the form of a thin sheet or foil, e.g. Polaroid
    • G02B5/3041—Polarisers, i.e. arrangements capable of producing a definite output polarisation state from an unpolarised input state in the form of a thin sheet or foil, e.g. Polaroid comprising multiple thin layers, e.g. multilayer stacks
    • G02B5/305—Polarisers, i.e. arrangements capable of producing a definite output polarisation state from an unpolarised input state in the form of a thin sheet or foil, e.g. Polaroid comprising multiple thin layers, e.g. multilayer stacks including organic materials, e.g. polymeric layers

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Polarising Elements (AREA)
  • Liquid Crystal (AREA)
  • Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)

Abstract

本發明提供即便於高溫高濕環境下仍可抑制防眩光層之剝落及皺褶的附抗反射層及防眩光層之偏光板及其製造方法。本發明之附抗反射層及防眩光層之偏光板具備：具有偏光元件及設置於偏光元件之一側的保護層之偏光板、貼合於保護層上之液晶化合物之配向固化層即防眩光層、防眩光層用基材、貼合於防眩光層用基材上之抗反射層用基材、及直接形成於抗反射層用基材上之抗反射層。於本發明之實施形態中，抗反射層用基材之水分率為2.0重量%以上。

Description

附抗反射層及防光眩層之偏光板及其製造方法
本發明係關於一種附抗反射層及防眩光層之偏光板及其製造方法。
圖像顯示裝置(例如液晶顯示裝置、有機EL顯示裝置、量子點顯示裝置)因其圖像形成方式，多數情況下於顯示單元之至少一側配置有偏光板。對於配置於圖像顯示裝置之視認側之偏光板，為了防止外界光向顯示畫面之映入，眾所周知於其視認側設置抗反射層(實施抗反射處理)、及/或設置防眩光層。防眩光層代表性而言包含樹脂或黏著劑之基質與分散至該基質中之微粒。然，近年來隨著針對圖像顯示裝置之薄型化要求，業界亦強烈要求偏光板之薄型化，伴隨於此，亦要求防眩光層之薄型化。其結果為，研究了作為液晶化合物之配向固化層之防眩光層。但是，此種防眩光層存在於高溫高濕環境下容易剝落，又，容易產生皺褶之問題。 [先前技術文獻] [專利文獻]
[專利文獻1]日本專利特開2011-191428號公報
[發明所欲解決之問題]
本發明係為了解決上述問題而成者，其主要目的在於提供一種即便於高溫高濕環境下亦抑制防眩光層之剝落及皺褶的附抗反射層及防眩光層之偏光板。 [解決問題之技術手段]
本發明之附抗反射層及防眩光層之偏光板具備：具有偏光元件及設置於該偏光元件之一側的保護層之偏光板、貼合於該保護層上之液晶化合物之配向固化層即防眩光層、防眩光層用基材、貼合於該防眩光層用基材上之抗反射層用基材、及直接形成於該抗反射層用基材上之抗反射層，該抗反射層用基材之水分率為2.0重量%以上。 於一實施形態中，關於上述附抗反射層及防眩光層之偏光板，於65℃及90%RH下保持24小時後之上述抗反射層用基材之尺寸變化率未達0.03%。 於一實施形態中，上述防眩光層之面內相位差Re(550)為220 nm～320 nm。 於一實施形態中，上述附抗反射層及防眩光層之偏光板於上述防眩光層與上述防眩光層用基材之間進而具備配向膜，該配向膜包含聚乙烯醇系樹脂。 根據本發明之另一態樣，提供一種上述附抗反射層及防眩光層之偏光板之製造方法。該製造方法包括如下步驟：製作包含偏光元件及保護層之偏光元件積層體；於抗反射層用基材上形成抗反射層而製作抗反射積層體；於防眩光層用基材上形成防眩光層而製作防眩光積層體；及將該偏光元件積層體、該防眩光積層體及該抗反射積層體加以貼合；該抗反射層用基材之水分率為2.0重量%以上。 於一實施形態中，上述抗反射層用基材經加濕處理。 [發明之效果]
根據本發明，藉由將附抗反射層及防眩光層之偏光板中之抗反射層用基材之水分率設定為2.0重量%以上，能夠實現即便於高溫高濕環境下亦抑制防眩光層之剝落及皺褶的附抗反射層及防眩光層之偏光板。
以下，對本發明之實施形態進行說明，但本發明並不限定於該等實施形態。
A.附抗反射層及防眩光層之偏光板之整體構成 圖1係本發明之一實施形態之附抗反射層及防眩光層之偏光板的概略剖視圖。附抗反射層及防眩光層之偏光板100依序具備：具有偏光元件11及保護層12之偏光板10、防眩光層40、防眩光層用基材50、抗反射層用基材20、及抗反射層30。防眩光層40代表性而言係經由任意之適宜之接著層(接著劑層、黏著劑層：未圖示)而貼合於偏光板10之保護層12上。接著層代表性而言為丙烯酸系黏著劑層。防眩光層40係液晶化合物之配向固化層。本說明書中所謂「配向固化層」係指液晶化合物在層內沿特定方向配向，且其配向狀態固定之層。再者，「配向固化層」係包括使液晶單體硬化而獲得之配向硬化層之概念。防眩光層40代表性而言藉由在形成於防眩光層用基材50上之配向膜(未圖示)之表面塗佈包含液晶化合物之組合物並使該塗佈層固化及/或硬化而形成。抗反射層30係直接形成於抗反射層用基材20上。本說明書中所謂「直接」意指不介隔接著層。於一實施形態中，抗反射層用基材20亦可於抗反射層30側之表面具有硬塗層及/或密接層(均未圖示)。該構成亦包含於「抗反射層直接形成於基材上」之形態中。對於抗反射層30之表面，視需要亦可設置防污層(未圖示)。
於本發明之實施形態中，抗反射層用基材20之水分率為2.0重量%以上，較佳為2.4重量%以上，更佳為2.7重量%以上，進而較佳為3.0重量%以上，尤佳為3.5重量%以上。抗反射層用基材之水分率之上限例如為5.0重量%。藉由使抗反射層用基材具有如此之較高水分率，能夠抑制高溫高濕環境下之防眩光層(液晶化合物之配向固化層)之剝落及皺褶。本說明書中所謂「抗反射層用基材之水分率」係指於下文I項中所述之製造方法中貼合抗反射積層體時之抗反射層用基材之水分率。
偏光板10之水分率較佳為0.5重量%以上，較佳為0.6重量%以上，更佳為0.8重量%以上，進而較佳為1.0重量%以上。偏光板之水分率之上限例如為2.0重量%。藉由使偏光板具有如此之較高水分率，能夠顯著地抑制偏光板之吸濕膨脹。其結果為，能夠顯著地抑制高溫高濕環境下之偏光板之尺寸變化(尤其是偏光元件於吸收軸方向上之尺寸變化)。藉由此種效果與因上述抗反射層用基材之水分率帶所獲得之效果之協同效應，對於本發明之實施形態之附抗反射層及防眩光層之偏光板，可進一步抑制高溫高濕環境下之防眩光層(液晶化合物之配向固化層)之剝落及皺褶。進而，藉由使偏光板具有如此之較高水分率，本發明之實施形態之附抗反射層及防眩光層之偏光板即便於高溫高濕環境下假定產生捲曲，該捲曲之方向亦成為與通常相反之方向。其結果為，本發明之實施形態之附抗反射層之偏光板即便假定產生捲曲，對圖像顯示裝置造成之不良影響亦能變得較小。如此，藉由因偏光板具有較高水分率所獲得之尺寸變化之抑制與捲曲方向之協同效應，附抗反射層及防眩光層之偏光板於應用於圖像顯示裝置之情形時，能夠顯著地抑制高溫高濕環境下之翹曲、剝落、及/或顯示特性之下降。
於圖示例中，僅於偏光元件11之一側設置有保護層12，但亦可視目的而於與保護層12相反側設置另一保護層。於該情形時，可於偏光元件之兩側設置保護層，亦可省略保護層12而僅設置另一保護層。於僅設置另一保護層時，防眩光層用基材50可作為視認側保護層而發揮功能。進而，亦可視目的而設置任意之適宜之功能層。作為功能層之代表例，可列舉相位差層、導電層。功能層之種類、數量、組合、配置位置、特性(例如折射率特性、面內相位差、厚度方向相位差、Nz係數之類的光學特性)可視目的而適宜地設定。於一實施形態中，可於偏光元件11之與保護層12相反側設置具有nx＞ny＞nz之折射率特性之第1相位差層(未圖示)。於該情形時，較佳為於第1相位差層之與偏光元件相反側可進而設置具有nz＞nx＞ny之折射率特性之第2相位差層。第1相位差層亦可兼作與偏光元件之視認側相反側之保護層。進而，亦可於偏光元件11之與保護層12相反側設置導電層。藉由在此種位置設置導電層，附抗反射層及防眩光層之偏光板可適宜地用於內置型觸控面板型輸入顯示裝置。於該情形時，相位差層可存在亦可不存在。
以下，對附抗反射層及防眩光層之偏光板之構成要素進行說明。
B.偏光板 B-1.偏光元件 偏光元件11代表性而言係由包含二色性物質之樹脂膜所構成。
作為樹脂膜，可採用可用作偏光元件之任意之適宜之樹脂膜。樹脂膜代表性而言為聚乙烯醇系樹脂(以下，稱為「PVA系樹脂」)膜。
作為形成上述PVA系樹脂膜之PVA系樹脂，可使用任意之適宜之樹脂。例如可列舉聚乙烯醇、乙烯-乙烯醇共聚物。聚乙烯醇係藉由將聚乙酸乙烯酯進行皂化而獲得。乙烯-乙烯醇共聚物係藉由將乙烯-乙酸乙烯酯共聚物進行皂化而獲得。PVA系樹脂之皂化度通常為85莫耳%～100莫耳%，較佳為95.0莫耳%～99.95莫耳%，進而較佳為99.0莫耳%～99.93莫耳%。皂化度可依據JIS K 6726-1994而求出。藉由使用此種皂化度之PVA系樹脂，能夠獲得耐久性優異之偏光元件。於皂化度過高之情形時，有發生凝膠化之虞。
PVA系樹脂之平均聚合度可視目的而適宜地選擇。平均聚合度通常為1000～10000，較佳為1200～4500，進而較佳為1500～4300。再者，平均聚合度可依據JIS K 6726-1994而求出。
作為樹脂膜中所含之二色性物質，例如可列舉碘、有機染料等。該等可單獨使用，或將兩種以上組合而使用。較佳為使用碘。其原因在於，例如於藉由利用化學處理之脫色而形成非偏光部之情形時，由於樹脂膜(偏光元件)中所含之碘絡合物會被適宜地還原，故而在用於例如相機部時能夠形成具有適宜特性之非偏光部。
樹脂膜可為單層之樹脂膜，亦可為兩層以上之積層體。
作為由單層之樹脂膜構成之偏光元件之具體例，可列舉對PVA系樹脂膜實施利用碘之染色處理及延伸處理(代表性而言為單軸延伸)而獲得之膜。上述利用碘之染色例如係藉由將PVA系膜浸漬於碘水溶液中而進行。上述單軸延伸之延伸倍率較佳為3～7倍。延伸可於染色處理後進行，亦可一邊染色一邊進行。此外，亦可於延伸後進行染色。視需要對PVA系樹脂膜實施膨潤處理、交聯處理、洗淨處理、乾燥處理等。例如藉由在染色之前將PVA系樹脂膜浸漬於水中而進行水洗，不僅能夠將PVA系膜表面之污垢、防黏連劑洗淨，而且能夠使PVA系樹脂膜膨潤從而防止染色不均等。
作為使用積層體而獲得之偏光元件之具體例，可列舉使用樹脂基材與積層於該樹脂基材上之PVA系樹脂層(PVA系樹脂膜)之積層體、或者樹脂基材與塗佈形成於該樹脂基材上之PVA系樹脂層之積層體而獲得之偏光元件。使用樹脂基材與塗佈形成於該樹脂基材上之PVA系樹脂層之積層體而獲得之偏光元件例如可藉由如下步驟製作：將PVA系樹脂溶液塗佈於樹脂基材上，使其乾燥而於樹脂基材上形成PVA系樹脂層，從而獲得樹脂基材與PVA系樹脂層之積層體；將該積層體進行延伸及染色而將PVA系樹脂層製成偏光元件。於本實施形態中，延伸代表性而言包括使積層體浸漬於硼酸水溶液中而進行延伸。進而，延伸可視需要在硼酸水溶液中之延伸前進而包括將積層體於高溫(例如，95℃以上)下進行空中延伸。所獲得之樹脂基材/偏光元件之積層體可直接使用(即，可將樹脂基材作為偏光元件之保護層)，亦可將樹脂基材自樹脂基材/偏光元件之積層體剝離，於該剝離面上積層符合目的之任意之適宜之保護層。此種偏光元件之製造方法之詳細情況例如記載於日本專利特開2012-73580號公報中。該公報之全部記載內容係作為參考而援引至本說明書中。
偏光元件之厚度較佳為15 μm以下，更佳為1 μm～12 μm，進而較佳為3 μm～10 μm，尤佳為3 μm～8 μm。若偏光元件之厚度為此種範圍，則能夠良好地抑制加熱時之捲曲，及獲得良好之加熱時之外觀耐久性。進而，若偏光元件之厚度為此種範圍，則可有助於附抗反射層之偏光板(結果是圖像顯示裝置)之薄型化。
偏光元件較佳為於波長380 nm～780 nm中之任一波長下顯示出吸收二色性。偏光元件之單獨體透射率較佳為43.0%～46.0%，更佳為44.5%～46.0%。偏光元件之偏光度較佳為97.0%以上，更佳為99.0%以上，進而較佳為99.9%以上。
B-2.保護層 作為保護層12，使用任意之適宜之樹脂膜。作為樹脂膜之形成材料，例如可列舉(甲基)丙烯酸系樹脂、二乙醯纖維素、三乙醯纖維素等纖維素系樹脂、降𦯉烯系樹脂等環烯烴系樹脂、聚丙烯等烯烴系樹脂、聚對苯二甲酸乙二酯系樹脂等酯系樹脂、聚醯胺系樹脂、聚碳酸酯系樹脂、該等之共聚物樹脂等。再者，所謂「(甲基)丙烯酸系樹脂」係指丙烯酸系樹脂及/或甲基丙烯酸系樹脂。
於一實施形態中，作為上述(甲基)丙烯酸系樹脂，使用具有戊二醯亞胺結構之(甲基)丙烯酸系樹脂。具有戊二醯亞胺結構之(甲基)丙烯酸系樹脂(以下，亦稱為戊二醯亞胺樹脂)例如記載於日本專利特開2006-309033號公報、日本專利特開2006-317560號公報、日本專利特開2006-328329號公報、日本專利特開2006-328334號公報、日本專利特開2006-337491號公報、日本專利特開2006-337492號公報、日本專利特開2006-337493號公報、日本專利特開2006-337569號公報、日本專利特開2007-009182號公報、日本專利特開2009-161744號公報、日本專利特開2010-284840號公報中。該等記載係作為參考援引至本說明書中。
保護層12之透濕度較佳為1.0 g/m2 /24hr以下，更佳為0.8 g/m2 /24hr以下，進而較佳為0.6 g/m2 /24hr以下，尤佳為0.4 g/m2 /24hr以下。若保護層之透濕度為此種範圍，則能夠進一步抑制高溫高濕環境下之尺寸變化，結果能夠進一步抑制防眩光層之剝落及皺褶。
保護層之厚度代表性而言為10 μm～100 μm，較佳為20 μm～40 μm。保護層代表性而言係經由接著層(具體為接著劑層、黏著劑層)積層於偏光元件上。接著劑層代表性而言係由PVA系接著劑、活化能量射線硬化型接著劑所形成。黏著劑層代表性而言係由丙烯酸系黏著劑所形成。
C.防眩光層 防眩光層係為了防止圖像顯示裝置之使用者之臉、圖像顯示裝置之鍵盤、外界光(例如，螢光燈)等之眩光而設置。於本發明之實施形態中，防眩光層是液晶化合物之配向固化層。抑制高溫高濕環境下之防眩光層之剝落及皺褶係本發明之特徵之一。
防眩光層代表性而言為液晶化合物之配向固化層。本說明書中所謂「配向固化層」係指液晶化合物於層內沿特定方向進行配向，且其配向狀態固定之層。再者，「配向固化層」係包括使液晶單體硬化而獲得之配向硬化層在內之概念。液晶化合物可為棒狀液晶化合物，亦可為碟型(圓盤狀)液晶化合物，亦可為該等之組合。
於一實施形態中，防眩光層包含碟型液晶化合物。更詳細而言，防眩光層係使碟型液晶化合物以沿特定之方向配向之狀態固定化而獲得之層。所謂碟型液晶化合物一般係指具有將苯、1,3,5-三𠯤、杯芳烴等環狀母核配置於分子中心，且直鏈之烷基、烷氧基、取代苯甲醯氧基等作為其側鏈以放射狀取代之圓盤狀分子結構的液晶化合物。作為碟型液晶之代表例，可列舉C. Destrade等之研究報告、Mol. Cryst. Liq. Cryst. 71卷、111頁(1981年)中所記載之苯衍生物、聯三伸苯衍生物、參茚并苯衍生物、酞菁衍生物、B.Kohne等之研究報告、Angew. Chem.96卷、70頁(1984年)中所記載之環己烷衍生物、及J. M.Lehn等之研究報告、J. Chem. Soc. Chem. Commun.，1794頁(1985年)、J. Zhang等之研究報告、J. Am. Chem. Soc. 116卷、2655頁(1994年)中所記載之氮雜冠系、苯乙炔系之大環。作為碟型液晶化合物之進一步之具體例，例如可列舉日本專利特開2006-133652號公報、日本專利特開2007-108732號公報、日本專利特開2010-244038號公報、日本專利特開2014-214177號公報中所記載之化合物。上述文獻及公報之記載係作為參考而援引至本說明書中。包含碟型液晶化合物之防眩光層代表性而言可為具有nx=nz＞ny之折射率特性之所謂負型A板。
於另一實施形態中，防眩光層包含棒狀液晶化合物。更詳細而言，防眩光層係以棒狀液晶化合物沿特定方向(代表性而言為遲相軸方向)排列之狀態進行配向(水平配向(homogeneous alignment))。作為棒狀液晶化合物，例如可列舉液晶相為向列相之液晶化合物(向列液晶)。作為此種液晶化合物，例如可使用液晶聚合物或液晶單體。液晶化合物之液晶性之表現機制為溶致或熱致均可。液晶聚合物及液晶單體可分別單獨使用，亦可加以組合。作為液晶單體，可採用任意之適宜之液晶單體。例如可使用日本專利特表2002-533742(WO00/37585)、EP358208 (US5211877)、EP66137(US4388453)、WO93/22397、EP0261712、DE19504224、DE4408171、及GB2280445等中所記載之聚合性液晶原基化合物等。作為此種聚合性液晶原基化合物之具體例，例如可列舉BASF公司之商品名LC242、Merck公司之商品名E7、Wacker-Chem公司之商品名LC-Sillicon-CC3767。作為液晶單體，較佳為例如向列性液晶單體。液晶化合物之具體例係記載於例如日本專利特開2006-163343號公報中。該公報之記載係作為參考而援引至本說明書中。包含棒狀液晶化合物之防眩光層代表性而言可為具有nx＞ny=nz之折射率特性之所謂正型A板。
防眩光層代表性而言可作為λ/2板而發揮功能。防眩光層作為λ/2板而發揮功能時，可藉由控制其配向角(或遲相軸方向)，而良好地防止眩光。此種防眩光層之面內相位差Re(550)為220 nm～320 nm，更佳為240 nm～300 nm，進而較佳為250 nm～280 nm。此處，Re(550)係23℃下利用波長為550 nm之光所測得之面內相位差。Re(550)於將層(膜)之厚度設為d(nm)時根據Re(550)=(nx-ny)×d而求出。nx係面內之折射率成為最大之方向(即遲相軸方向)之折射率，ny係於面內與遲相軸正交之方向(即進相軸方向)之折射率。
防眩光層40之遲相軸與偏光元件11之吸收軸所成之角度較佳為35°～55°，更佳為40°～50°，進而較佳為約45°。藉由將作為λ/2板而發揮功能之防眩光層以此種軸角度進行配置，能夠良好地防止眩光。
防眩光層之厚度較佳為1 μm～5 μm，更佳為1 μm～3 μm。根據本發明之實施形態，即使為如此薄之防眩光層，亦能夠良好地抑制高溫高濕環境下之剝落及皺褶。
於將配向膜用於液晶化合物之配向之情形時，附抗反射層及防眩光層之偏光板於防眩光層40與防眩光層用基材50之間進而具備配向膜。配向膜一般包含聚合物材料作為主要成分。作為聚合物材料之代表例，可列舉聚乙烯醇、聚醯亞胺、及該等之衍生物。於本發明之實施形態中，較佳為改性或未改性之聚乙烯醇。作為配向膜，例如可使用WO01/88574A1、日本專利第3907735號中所記載之改性聚乙烯醇。對於配向膜，代表性而言係實施配向處理。作為配向處理之代表例，可列舉摩擦處理、光配向處理。摩擦處理由於在業界眾所周知，故而省略詳細說明。作為經光配向處理之配向膜(光配向膜)，例如可使用WO2005/096041中所記載之配向膜、Rolic echnologies公司製造之商品名LPP-JP265CP等。配向膜之厚度例如為0.01 μm～10 μm，較佳為0.01 μm～1 μm，更佳為0.01 μm～0.5 μm。
防眩光層例如可藉由以下之步驟而形成。首先，於防眩光層用基材上塗佈配向膜形成用塗佈液，使其乾燥而形成塗佈膜。對該塗佈膜沿特定方向實施摩擦處理，於防眩光層用基材上形成配向膜。該特定之方向可與所獲得之防眩光層之遲相軸方向對應。其次，於所形成之配向膜上塗佈防眩光層形成用塗佈液(例如包含液晶化合物與視需要之交聯性單體之溶液)並加熱。藉由加熱，將塗佈液之溶劑除去，並且進行液晶化合物之配向。加熱可以1個階段進行，亦可改變溫度而以多階段進行。繼而，藉由紫外線照射使交聯性(或聚合性)單體交聯(或聚合)，將液晶化合物之配向固定化。如此進行操作，而於防眩光層用基材上(實質為於配向膜上)形成防眩光層。再者，使碟型液晶化合物配向之方法係記載於例如日本專利特開2014-214177號公報中，使棒狀液晶化合物配向之方法係記載於例如日本專利特開2006-163343號公報中。該等公報之記載係作為參考而援引至本說明書中。再者，配向膜根據所需之配向狀態及液晶化合物之種類等而可省略。
D.防眩光層用基材 防眩光層用基材50係為了形成防眩光層50而使用。
作為防眩光層用基材，使用任意之適宜之樹脂膜。作為樹脂膜之形成材料，例如可列舉聚對苯二甲酸乙二酯(PET)等聚酯系樹脂、降𦯉烯系樹脂等環烯烴系樹脂、藉由環烯烴(例如，降𦯉烯)與α-烯烴(例如，乙烯)之加成聚合而獲得之樹脂(COC)、三乙醯纖維素(TAC)等纖維素系樹脂。
防眩光層用基材之厚度可視目的而適宜地設定。防眩光層用基材之厚度代表性而言為20 μm～200 μm，較佳為25 μm～100 μm。
E.抗反射層用基材 E-1.抗反射層用基材本體 抗反射層用基材20係為了形成抗反射層30而使用。如下文所述藉由在抗反射層用基材上形成抗反射層，將抗反射層用基材/抗反射層之積層體貼合於偏光板上，變得不需要將偏光板供於抗反射層形成製程(代表性而言為濺鍍)。其結果為，由於偏光板變得不會暴露於高溫中，故而能夠將偏光板之水分率維持於上述所需之範圍內。
抗反射層用基材之形成材料及厚度與上述之防眩光層用基材相同。
如上所述，抗反射層用基材20之水分率為2.0重量%以上，較佳為2.4重量%以上，更佳為2.7重量%以上，進而較佳為3.0重量%以上，尤佳為3.5重量%以上。水分率之上限例如為5.0重量%。藉由使抗反射層用基材具有如此之較高水分率，可抑制高溫高濕環境下之抗反射層用基材之膨脹及收縮。追隨於此，亦可抑制防眩光層用基材之膨脹及收縮。其結果為，由於即便於高溫高濕環境下防眩光層(液晶化合物之配向固化層)亦可追隨於防眩光層用基材之膨脹及收縮，故而可抑制防眩光層之剝落及皺褶。抗反射層用基材之如此高之水分率可藉由將抗反射層用基材供於加濕處理而實現。加濕處理只要可對抗反射層用基材賦予上述所需之水分率，則可藉由任意之適宜之方法及條件而進行。加濕處理例如可藉由將抗反射層用基材於65℃及90%RH之環境下放置24小時而進行。
抗反射層用基材於65℃及90%RH下保持24小時後之尺寸變化率較佳為未達0.03%，更佳為-0.03%～0.0%。該尺寸變化率代表性而言為與搬送方向正交之方向之尺寸變化率。再者，尺寸變化率為正時表示膨脹，為負時表示收縮。
E-2.硬塗層 如上所述，亦可於抗反射層用基材之抗反射層側之表面形成硬塗層。藉由形成硬塗層，具有鉛筆硬度提高之優點。進而，藉由適宜地調整硬塗層與抗反射層之折射率差，能夠使反射率進一步下降。
硬塗層較佳為具有充分之表面硬度、優異之機械強度、及優異之透光性。硬塗層只要具有此種所需特性，則可由任意之適宜之樹脂形成。作為樹脂之具體例，可列舉熱硬化型樹脂、熱塑型樹脂、紫外線硬化型樹脂、電子束硬化型樹脂、二液混合型樹脂。較佳為紫外線硬化型樹脂。其原因在於，能夠以簡便之操作及高效率形成硬塗層。
作為紫外線硬化型樹脂之具體例，可列舉聚酯系、丙烯酸系、胺基甲酸酯系、醯胺系、聚矽氧系、環氧系之紫外線硬化型樹脂。紫外線硬化型樹脂中可包含紫外線硬化型之單體、低聚物、聚合物。作為較佳之紫外線硬化型樹脂，可列舉包含具有較佳為2個以上、更佳為3～6個紫外線聚合性之官能基之丙烯酸系之單體成分或低聚物成分的樹脂組合物。代表性而言，紫外線硬化型樹脂中調配有光聚合起始劑。
硬塗層可藉由任意之適宜之方法而形成。例如硬塗層可藉由在抗反射層用基材上塗裝硬塗層形成用樹脂組合物，使其乾燥，對乾燥後之塗裝膜照射紫外線使其硬化而形成。
硬塗層之厚度例如為0.5 μm～20 μm，較佳為1 μm～15 μm。
關於硬塗層、以及硬塗層與抗反射層之密接結構之詳細情況，記載於例如日本專利特開2016-224443號公報中。該公報之記載係作為參考而援引至本說明書中。
F.抗反射層 作為抗反射層之構成，可採用任意之適宜之構成。作為抗反射層之代表性之構成，可列舉(1)光學膜厚為120 nm～140 nm且折射率為1.35～1.55左右之低折射率層之單一層；(2)自抗反射層用基材側起依序具有中折射率層、高折射率層及低折射率層之積層體；(3)高折射率層與低折射率層之交替多層積層體。
作為可形成低折射率層之材料，例如可列舉氧化矽(SiO2 )、氟化鎂(MgF2 )。低折射率層之折射率代表性而言為1.35～1.55左右。作為可形成高折射率層之材料，例如可列舉氧化鈦(TiO2 )、氧化鈮(Nb2 O3 或Nb2 O5 )、摻錫氧化銦(ITO)、摻銻氧化錫(ATO)、ZrO2 -TiO2 。高折射率層之折射率代表性而言為1.60～2.20左右。作為可形成中折射率層之材料，例如可列舉氧化鈦(TiO2 )、可形成低折射率層之材料與可形成高折射率層之材料之混合物(例如氧化鈦與氧化矽之混合物)。中折射率層之折射率代表性而言為1.50～1.85左右。低折射率層、中折射率層及高折射率層之厚度可以實現抗反射層之層結構、與所需之抗反射性能等對應之適宜之光學膜厚之方式設定。
抗反射層代表性而言係藉由乾式製程而形成。作為乾式製程之具體例，可列舉PVD(Physical Vapor Deposition，物理氣相沈積)法、CVD(Chemical Vapor Deposition，化學氣相沈積)法。作為PVD法，可列舉真空蒸鍍法、反應性蒸鍍法、離子束輔助法、濺鍍法、離子鍍法。作為CVD法，可列舉電漿CVD法。較佳為濺鍍法。
抗反射層之厚度例如為20 nm～300 nm左右。
抗反射層於波長400 nm～700 nm之範圍內之最大反射率與最小反射率之差較佳為2.0%以下，更佳為1.9%以下，進而較佳為1.8%以下。若最大反射率與最小反射率之差為此種範圍，則可良好地防止反射光之著色。
視需要可於抗反射層之表面設置防污層。防污層例如包含含氟基之矽烷系化合物(例如具有全氟聚醚基之烷氧基矽烷化合物)或含氟基之有機化合物。防污層較佳為顯示出水接觸角為110度以上之防水性。
G.第1相位差層 第1相位差層可視目的由具有任意之適宜之光學特性及/或機械特性之相位差膜構成。於一實施形態中，第1相位差層可作為λ/2板而發揮功能。藉由使第1相位差層作為λ/2板而發揮功能，針對與作為λ/4板而發揮功能之第2相位差層積層後之波長分散特性(尤其是相位差偏離λ/4之波長範圍)，可適宜地調節相位差。此種第1相位差層之面內相位差Re(550)較佳為220 nm～320 nm，更佳為240 nm～300 nm，進而較佳為250 nm～280 nm。
第1相位差層之厚度可以能夠作為λ/2板最適宜地發揮功能之方式設定。換言之，厚度可以獲得所需之面內相位差之方式設定。具體而言，厚度較佳為10 μm～60 μm，更佳為30 μm～50 μm。
第1相位差層較佳為折射率特性顯示出nx＞ny＞nz之關係。第1相位差層之Nz係數較佳為1.1～3.0，更佳為1.3～2.7。Nz係數係藉由Nz=Rth/Re而求出。Rth為厚度方向之相位差，例如Rth(550)為23℃下利用波長550 nm之光所測得之厚度方向之相位差。Rth(550)係藉由Rth=(nx－nz)×d而求出。nz為厚度方向之折射率。
第1相位差層可以其遲相軸與偏光元件之吸收軸形成較佳為10°～20°、更佳為12°～18°、進而較佳為約15°之角度之方式配置。再者，於本說明書中言及角度時，包括順時針及逆時針兩者。
第1相位差層包含光彈性係數之絕對值較佳為2×10-11 m2 /N以下、更佳為2.0×10-13 m2 /N～1.5×10-11 m2 /N、進而較佳為1.0×10-12 m2 /N～1.2×10-11 m2 /N之樹脂。若光彈性係數之絕對值為此種範圍，則於產生了加熱時之收縮應力之情形時不易產生相位差變化。因此，藉由使用具有此種光彈性係數之絕對值之樹脂而形成第1相位差層，於將附抗反射層及防眩光層之偏光板應用於圖像顯示裝置中之情形時可良好地防止熱不均。
第1相位差層可顯示出相位差值根據測定光之波長而變大之逆分散波長特性，亦可顯示出相位差值根據測定光之波長而變小之正之波長分散特性，亦可顯示出相位差值根據測定光之波長幾乎不變化之平坦之波長分散特性。較佳為顯示出平坦之波長分散特性。具體而言，第1相位差層之Re(450)/Re(550)較佳為0.99～1.03，Re(650)/Re(550)較佳為0.98～1.02。藉由將具有平坦之波長分散特性之λ/2板(第1相位差層)與λ/4板(第2相位差層)以特定之軸角度進行配置，能夠獲得與理想之逆波長分散特性接近之特性，結果能夠實現非常優異之抗反射特性。
第1相位差層可由可滿足如上所述特性之任意之適宜之樹脂膜構成。作為此種樹脂之代表例，可列舉環狀烯烴系樹脂、聚碳酸酯系樹脂、纖維素系樹脂、聚酯系樹脂、聚乙烯醇系樹脂、聚醯胺系樹脂、聚醯亞胺系樹脂、聚醚系樹脂、聚苯乙烯系樹脂、丙烯酸系樹脂。其中，可適宜地使用環狀烯烴系樹脂。第1相位差層例如係藉由將由上述樹脂形成之膜進行延伸而獲得。關於環狀烯烴系樹脂及樹脂膜之延伸方法(相位差膜之形成方法)之詳細情況，例如記載於日本專利特開2015-210459號公報、日本專利特開2016-105166號公報中。該公報之記載係作為參考而援引至本說明書中。
H.第2相位差層 第2相位差層可視目的由具有任意之適宜之光學特性及/或機械特性之相位差膜構成。第1相位差層於作為λ/2板而發揮功能時，第2相位差層代表性而言可作為λ/4板而發揮功能。藉由將作為λ/4板而發揮功能之第2相位差層之波長分散特性利用作為上述λ/2板而發揮功能之第1相位差層之光學特性進行修正，能夠發揮出寬廣波長範圍之圓偏光功能。此種第2相位差層之面內相位差Re(550)較佳為100 nm～180 nm，更佳為110 nm～170 nm，進而較佳為120 nm～160 nm。
第2相位差層之厚度可以作為λ/4板可最適宜地發揮功能之方式設定。換言之，厚度可以獲得所需面內相位差之方式設定。具體而言，厚度較佳為10 μm～50 μm，最佳為20 μm～40 μm。
第2相位差層較佳為折射率特性顯示出nz＞nx＞ny之關係。第2相位差層之Nz係數較佳為-10～-0.1，更佳為-5～-1。
第2相位差層可以其遲相軸與偏光元件之吸收軸形成較佳為70°～80°、更佳為72°～78°、進而較佳為約75°之角度之方式配置。
第2相位差層可由可滿足如上所述特性之任意之適宜之樹脂膜構成。此種樹脂代表性而言可為具有負之固有雙折射之聚合物。所謂具有負之固有雙折射之聚合物係指於藉由延伸等使聚合物配向之情形時配向方向上之折射率相對變小之聚合物。作為具有負之固有雙折射之聚合物，例如可列舉於聚合物之側鏈導入有芳香族或羰基等極化各向異性較大之化學鍵或官能基者。作為具體例，可列舉改性聚烯烴系樹脂(例如改性聚乙烯系樹脂)、丙烯酸系樹脂、苯乙烯系樹脂、順丁烯二醯亞胺系樹脂、反丁烯二酸酯系樹脂等。第2相位差層例如可藉由將由上述樹脂形成之膜適宜地進行延伸而獲得。
I.附抗反射層及防眩光層之偏光板之製造方法 本發明之一實施形態之附抗反射層及防眩光層之偏光板之製造方法包含如下步驟：製作包含偏光元件及保護層之偏光元件積層體；於抗反射層用基材上形成抗反射層而製作抗反射積層體；於防眩光層用基材上形成防眩光層而製作防眩光積層體；及將該偏光元件積層體、該防眩光積層體及該抗反射積層體加以貼合。
偏光元件積層體可藉由任意之適宜之方法而製作。於使用由單層之樹脂膜構成之偏光元件之情形時，只要將偏光元件與構成保護層之樹脂膜經由任意之適宜之接著層(接著劑層或黏著劑層)加以貼合即可。於使用樹脂基材與積層於該樹脂基材上之PVA系樹脂層(PVA系樹脂膜)之積層體之情形時，亦可將該積層體供於染色及延伸處理而將PVA系樹脂層製成偏光元件，將該積層體直接用作偏光元件積層體。或者，亦可於該積層體之偏光元件表面貼合構成保護層之樹脂膜而使用。於該情形時，樹脂基材可剝離，亦可不剝離。於使用利用樹脂基材與塗佈形成於該樹脂基材上之PVA系樹脂層之積層體而獲得之偏光元件之情形時，亦可如上述B-1項中所記載般實施操作(例如，如日本專利特開2012-73580號公報中所記載般實施操作)而製作樹脂基材/偏光元件之積層體，將該積層體直接用作偏光元件積層體。或者，亦可於該積層體之偏光元件表面貼合構成保護層之樹脂膜而使用。於該情形時，樹脂基材可剝離，亦可不剝離。
抗反射積層體係藉由在抗反射層用基材上形成抗反射層而製作。於形成抗反射層時，亦可視需要對抗反射層用基材預先實施表面處理。作為表面處理，例如可列舉低壓電漿處理、紫外線照射處理、電暈處理、火焰處理、酸或鹼處理。或者，亦可於抗反射層用基材表面形成例如由SiOx 形成之密接層。抗反射層如上所述代表性而言係藉由乾式製程(例如濺鍍)而形成。例如，於抗反射層為高折射率層與低折射率層之交替多層積層體時，於抗反射層用基材表面藉由濺鍍依序形成例如Nb2 O5 膜(高折射率層)、SiO2 膜(低折射率層)、Nb2 O5 膜(高折射率層)、及SiO2 膜(低折射率層)，由此可形成抗反射層。
防眩光積層體係藉由在防眩光層用基材上形成防眩光層而製作。防眩光層之形成順序如上述C項之記載所述。
最後，藉由將偏光元件積層體、防眩光積層體及抗反射積層體加以貼合，可獲得附抗反射層及防眩光層之偏光板。可將抗反射積層體貼合於防眩光積層體/偏光元件積層體之積層體上，亦可將抗反射積層體/防眩光積層體之積層體貼合於偏光元件積層體上。附抗反射層及防眩光層之偏光板可藉由例如經由任意之適宜之接著層(例如，接著劑層、黏著劑層)將防眩光積層體之防眩光層貼合於偏光元件積層體之保護層表面，繼而經由任意之適宜之接著層將抗反射積層體之抗反射層用基材貼合於防眩光層用基材之表面而獲得。於本發明之實施形態中，如上所述，貼合時之抗反射層用基材之水分率為2.0重量%以上。此種水分率可藉由將抗反射層用基材預先進行加濕處理而實現。
J.圖像顯示裝置 本發明之實施形態之附抗反射層及防眩光層之偏光板可應用於圖像顯示裝置。代表性而言，附抗反射層及防眩光層之偏光板可以抗反射層成為視認側之方式配置於圖像顯示裝置之視認側。作為圖像顯示裝置之代表例，可列舉液晶顯示裝置、有機電致發光(EL)顯示裝置、量子點顯示裝置。 [實施例]
以下，藉由實施例對本發明進行具體說明，但本發明不受該等實施例所限定。再者，各特性之測定方法如下所述。
(1)抗反射層用基材之水分率 將實施例及比較例中所使用之抗反射層用基材以搬送方向成為短邊之方式切出200 mm×300 mm之大小，作為測定試樣，測定該測定試樣之初期重量。繼而，將該測定試樣於120℃下乾燥24小時，測定乾燥重量，並藉由下述式確定水分率。 水分率(重量%)=〔(初期重量－乾燥重量)/初期重量〕×100 (2)剝落及皺褶 將實施例及比較例中所獲得之附抗反射層及防眩光層之偏光板以偏光元件之吸收軸方向成為短邊之方式切出200 mm×300 mm，貼合於玻璃板上作為測定試樣。對於該測定試樣，於以下之兩條件下進行嚴苛加濕耐久性試驗。試驗係使用10個測定試樣，觀測各個測定試樣中之附抗反射層及防眩光層之偏光板之4個角之剝落及皺褶，算出發生率及平均長度。再者，關於發生率，藉由目視觀察有無剝落及皺褶，由40處(10個測定試樣×4個角)中之發生部位之數量求出發生率。關於平均長度，藉由尺子測定長度，算出其平均值。 ＜試驗條件1＞ 將測定試樣於85℃及85%RH之烘箱中放置100小時。 ＜試驗條件2＞ 於測定試樣中之附抗反射層及防眩光層之偏光板之周緣部，使用注射器塗佈甘油，將該塗佈試樣於65℃及90%RH之烘箱中放置24小時。
[實施例1] 1.偏光板(偏光元件積層體)之製作 作為樹脂基材，使用長條狀且吸水率為0.75%、Tg為75℃之非晶質之間苯二甲酸共聚合聚對苯二甲酸乙二酯(IPA共聚合PET)膜(厚度：100 μm)。對基材之單面實施電暈處理，於該電暈處理面上，於25℃下塗佈以9：1之比例包含聚乙烯醇(聚合度為4200、皂化度為99.2莫耳%)及乙醯乙醯基改性PVA(聚合度為1200、乙醯乙醯基改性度為4.6%、皂化度為99.0莫耳%以上、日本合成化學工業公司製造、商品名「GOHSEFIMER Z200」)之水溶液並進行乾燥，形成厚度為11 μm之PVA系樹脂層，而製作積層體。 將所獲得之積層體於120℃之烘箱內於圓周速度不同之輥間沿縱向(長度方向)進行自由端單軸延伸(空中輔助延伸)至2.0倍。 繼而，使積層體於液溫為30℃之不溶化浴(相對於水100重量份調配4重量份之硼酸而獲得之硼酸水溶液)中浸漬30秒鐘(不溶化處理)。 繼而，於液溫為30℃之染色浴中，以偏光板成為特定透射率之方式一邊調整碘濃度、浸漬時間一邊進行浸漬。於本實施例中，於相對於水100重量份調配0.2重量份之碘、調配1.5重量份之碘化鉀而獲得之碘水溶液中浸漬60秒鐘(染色處理)。 繼而，於液溫為30℃之交聯浴(相對於水100重量份調配3重量份之碘化鉀、調配3重量份之硼酸而獲得之硼酸水溶液)中浸漬30秒鐘(交聯處理)。 其後，一邊將積層體浸漬於液溫為70℃之硼酸水溶液(相對於水100重量份調配4重量份之硼酸、調配5重量份之碘化鉀而獲得之水溶液)中，一邊於圓周速度不同之輥間沿縱向(長度方向)以總延伸倍率成為5.5倍之方式進行單軸延伸(水中延伸)。 其後，將積層體浸漬於液溫為30℃之洗淨浴(相對於水100重量份調配4重量份之碘化鉀而獲得之水溶液)中(洗淨處理)。 繼而，於積層體之PVA系樹脂層(偏光元件)表面塗佈PVA系樹脂水溶液(日本合成化學工業公司製造、商品名「GOHSEFIMER(註冊商標)Z-200」、樹脂濃度：3重量%)，並貼合構成保護層之甲基丙烯酸樹脂膜(厚度：25 μm、具有戊二醯亞胺結構)，將其於維持在60℃之烘箱中加熱5分鐘。其後，將樹脂基材自PVA系樹脂層上剝離。繼而，於積層體之PVA系樹脂層表面(樹脂基材剝離面)塗佈PVA系樹脂水溶液(日本合成化學工業公司製造、商品名「GOHSEFIMER(註冊商標)Z-200」、樹脂濃度：3重量%)，並貼合構成保護層之甲基丙烯酸樹脂膜(厚度：40 μm、具有戊二醯亞胺結構)，將其於維持在60℃之烘箱中加熱5分鐘。如此實施操作，而獲得偏光元件積層體(具有保護層/偏光元件/保護層之構成之偏光板)。再者，偏光元件之厚度為5 μm，單獨體透射率為42.3%。
2.抗反射積層體之製作 藉由在Konica Minolta公司製造之TAC膜(製品名：KC2UA、厚度：25 μm)之單面藉由硬塗處理形成硬塗(HC)層(厚度：7 μm)，而獲得HC-TAC膜(厚度：32 μm)。將該HC-TAC膜用作抗反射層用基材。於抗反射層用基材之HC層表面，藉由濺鍍形成由SiOx 形成之密接層(厚度：10 nm)，進而藉由在該密接層上依序形成Nb2 O5 膜(高折射率層)、SiO2 膜(低折射率層)、Nb2 O5 膜(高折射率層)、及SiO2 膜(低折射率層)，而形成抗反射層(厚度或光學膜厚：200 nm)。進而，於抗反射層上形成由具有全氟聚醚基之烷氧基矽烷化合物形成之防污層(厚度：10 nm)，而製作抗反射積層體。將該抗反射積層體供於加濕處理(於65℃及90%RH之烘箱中放置24小時)。所獲得之抗反射積層體(實質為抗反射層用基材)之水分率為3.8重量%。
3.防眩光積層體 於作為防眩光層用基材之Konica Minolta公司製造之TAC膜(製品名：KC4UY、厚度：40 μm)之單面，依據日本專利特開2014-214177號公報之＜實施例1＞中所記載之方法形成配向膜及液晶化合物之配向固化層(防眩光層)，而製作防眩光積層體。再者，防眩光層之面內相位差Re(550)為270 nm，以其遲相軸相對於偏光元件之吸收軸形成45°之角度之方式形成。
4.附抗反射層及防眩光層之偏光板之製作 於偏光元件積層體(偏光板)之40 μm保護層面上，經由丙烯酸系黏著劑(厚度：20 μm)貼合防眩光積層體之防眩光層，於所獲得之積層體之防眩光層用基材之表面，經由丙烯酸系黏著劑(厚度：20 μm)貼合抗反射積層體之HC-TAC膜，而獲得附抗反射層及防眩光層之偏光板。將所獲得之附抗反射層之偏光板供於上述(2)之評價。將結果示於表1。
[實施例2] 將抗反射積層體之加濕處理之條件變更為「40℃、92%RH及24小時」，將貼合時之抗反射層用基材之水分率設定為3.1重量%，除此以外，與實施例1同樣地操作而製作附抗反射層及防眩光層之偏光板。將所獲得之偏光板供於與實施例1相同之評價。將結果示於表1。
[比較例1] 不對抗反射積層體進行加濕處理，將貼合時之抗反射層用基材之水分率設定為1.6重量%，除此以外，與實施例1同樣地操作而製作附抗反射層及防眩光層之偏光板。將所獲得之偏光板供於與實施例1相同之評價。將結果示於表1。
[比較例2] 將抗反射積層體真空乾燥72小時，將貼合時之抗反射層用基材之水分率設定為0.4重量%，除此以外，與實施例1同樣地操作而製作附抗反射層及防眩光層之偏光板。將所獲得之偏光板供於與實施例1相同之評價。將結果示於表1。
[表1]
由表1明確，本發明之實施例之附抗反射層及防眩光層之偏光板於高溫高濕環境下之防眩光層之剝落及皺褶之發生率及平均長度與比較例相比均顯著地獲得抑制。得知此種優異特性係藉由調整抗反射層用基材之水分率而實現。 [產業上之可利用性]
本發明之附抗反射層及防眩光層之偏光板可適宜地用於液晶顯示裝置、有機EL顯示裝置、量子點顯示裝置之類的圖像顯示裝置。
10‧‧‧偏光板
11‧‧‧偏光元件
12‧‧‧保護層
20‧‧‧抗反射層用基材
30‧‧‧抗反射層
40‧‧‧防眩光層
50‧‧‧防眩光層用基材
100‧‧‧附抗反射層及防眩光層之偏光板
圖1係本發明之一實施形態之附抗反射層及防眩光層之偏光板的概略剖視圖。

Claims (6)

  1. 一種附抗反射層及防眩光層之偏光板，其具備：具有偏光元件及設置於該偏光元件之一側的保護層之偏光板、貼合於該保護層上之液晶化合物之配向固化層即防眩光層、防眩光層用基材、貼合於該防眩光層用基材上之抗反射層用基材、及直接形成於該抗反射層用基材上之抗反射層， 該抗反射層用基材之水分率為2.0重量%以上。
  2. 如請求項1之附抗反射層及防眩光層之偏光板，其中於65℃及90%RH下保持24小時後之上述抗反射層用基材之尺寸變化率未達0.03%。
  3. 如請求項1之附抗反射層及防眩光層之偏光板，其中上述防眩光層之面內相位差Re(550)為220 nm～320 nm。
  4. 如請求項1之附抗反射層及防眩光層之偏光板，其中於上述防眩光層與上述防眩光層用基材之間進而具備配向膜，該配向膜包含聚乙烯醇系樹脂。
  5. 一種如請求項1之附抗反射層及防眩光層之偏光板之製造方法，其包括如下步驟： 製作包含偏光元件及保護層之偏光元件積層體； 於抗反射層用基材上形成抗反射層而製作抗反射積層體； 於防眩光層用基材上形成防眩光層而製作防眩光積層體；及 將該偏光元件積層體、該防眩光積層體及該抗反射積層體加以貼合； 該抗反射層用基材之水分率為2.0重量%以上。
  6. 如請求項5之製造方法，其中上述抗反射層用基材經加濕處理。
TW107109001A 2017-03-21 2018-03-16 附抗反射層及防光眩層之偏光板及其製造方法 TWI657268B (zh)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2017054289A JP6900213B2 (ja) 2017-03-21 2017-03-21 反射防止層および映り込み防止層付偏光板およびその製造方法
JP2017-054289 2017-03-21

Publications (2)

Publication Number Publication Date
TW201837501A TW201837501A (zh) 2018-10-16
TWI657268B true TWI657268B (zh) 2019-04-21

Family

ID=63706308

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW107109001A TWI657268B (zh) 2017-03-21 2018-03-16 附抗反射層及防光眩層之偏光板及其製造方法

Country Status (4)

Country Link
JP (1) JP6900213B2 (zh)
KR (1) KR102060795B1 (zh)
CN (1) CN108627901B (zh)
TW (1) TWI657268B (zh)

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP7302999B2 (ja) * 2019-03-26 2023-07-04 日東電工株式会社 光学積層体および該光学積層体を用いた画像表示装置
CN114341683B (zh) * 2019-11-01 2024-07-02 株式会社Lg化学 圆偏光板
JP7257461B2 (ja) 2021-07-29 2023-04-13 日東電工株式会社 光学積層体
JP7234309B2 (ja) 2021-07-29 2023-03-07 日東電工株式会社 光学積層体

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2015005421A1 (ja) * 2013-07-11 2015-01-15 大日本印刷株式会社 防湿性基材の製造方法および防湿性基材、ならびに防湿性基材を用いた偏光板、液晶表示パネル
TW201627149A (zh) * 2014-11-28 2016-08-01 Sumitomo Chemical Co 光學積層體
JP2016170383A (ja) * 2015-03-10 2016-09-23 住友化学株式会社 プロテクトフィルム付偏光板及び液晶パネル

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007039636A (ja) * 2005-07-07 2007-02-15 Fujifilm Corp セルロースアシレートフィルムおよびその製造方法、並びに、これを用いた反射防止フィルム、偏光板、光学補償フィルムおよび液晶表示装置。
JP2008230036A (ja) * 2007-03-20 2008-10-02 Fujifilm Corp 保護フィルム、及びその製造方法、偏光板、並びに液晶表示装置
JP2008249896A (ja) * 2007-03-29 2008-10-16 Fujifilm Corp 偏光板用保護フィルム、偏光板、及び液晶表示装置
JP2010243858A (ja) * 2009-04-07 2010-10-28 Nitto Denko Corp 偏光板、液晶パネルおよび液晶表示装置
KR20120071745A (ko) * 2010-12-23 2012-07-03 동우 화인켐 주식회사 액정표시장치의 제조방법
JP5273826B2 (ja) 2011-02-04 2013-08-28 日東電工株式会社 積層フィルム
JP5547681B2 (ja) * 2011-03-25 2014-07-16 富士フイルム株式会社 位相差板、並びにそれを有する偏光板、３ｄ表示装置及び３ｄ表示システム
JP6342791B2 (ja) 2013-12-27 2018-06-13 住友化学株式会社 偏光板用保護フィルム及びそれを用いた偏光板
US10107946B2 (en) * 2015-07-22 2018-10-23 Nitto Denko Corporation Polarizing plate with a retardation layer and image display apparatus

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2015005421A1 (ja) * 2013-07-11 2015-01-15 大日本印刷株式会社 防湿性基材の製造方法および防湿性基材、ならびに防湿性基材を用いた偏光板、液晶表示パネル
TW201627149A (zh) * 2014-11-28 2016-08-01 Sumitomo Chemical Co 光學積層體
JP2016170383A (ja) * 2015-03-10 2016-09-23 住友化学株式会社 プロテクトフィルム付偏光板及び液晶パネル

Also Published As

Publication number Publication date
CN108627901A (zh) 2018-10-09
CN108627901B (zh) 2022-03-15
JP2018155998A (ja) 2018-10-04
TW201837501A (zh) 2018-10-16
KR20180107002A (ko) 2018-10-01
JP6900213B2 (ja) 2021-07-07
KR102060795B1 (ko) 2019-12-31

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6859109B2 (ja) 光学補償層付偏光板およびそれを用いた有機ｅｌパネル
JP6453746B2 (ja) 長尺状の光学積層体および画像表示装置
KR20220130839A (ko) 위상차층 부착 편광판 및 유기 el 표시 장치
TWI657268B (zh) 附抗反射層及防光眩層之偏光板及其製造方法
KR102672540B1 (ko) 광학 적층체 및 화상 표시 장치
TWI785140B (zh) 附抗反射層之偏光板及其製造方法
JP7072970B2 (ja) 位相差板、光学補償層付偏光板、画像表示装置、およびタッチパネル付き画像表示装置
TWI737807B (zh) 光學積層體及圖像顯示裝置
TWI244558B (en) Optical film and image display
TW201802503A (zh) 附有光學補償層之偏光板及使用其之有機el面板
JP2019066882A (ja) 光学補償層付偏光板およびそれを用いた有機ｅｌパネル
WO2017154447A1 (ja) 光学補償層付偏光板およびそれを用いた有機ｅｌパネル
WO2017094623A1 (ja) 光学積層体および画像表示装置
JP2024007555A (ja) 位相差層付偏光板およびそれを用いた画像表示装置
CN114207484A (zh) 带相位差层的偏振片及使用其的图像显示装置
CN113785228B (zh) 带相位差层及硬涂层的偏振片的制造方法
JP7126479B2 (ja) 位相差層付偏光板および有機ｅｌ表示装置
JP2018054887A (ja) 偏光板のセット及びそれを用いたｉｐｓモード液晶表示装置
JP2019219434A (ja) 偏光板のセット及びそれを用いたｉｐｓモード液晶表示装置