JP2013152714A - 触覚センサ用前面板 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】透明基体2上に、高抵抗層3と、電気絶縁性を有する絶縁層4とがこの順で積層されてなる触覚センサ用前面板1であって、高抵抗層3の表面抵抗値が1〜100MΩ/□であり、触覚センサ用前面板1の視感透過率が85%以上である触覚センサ用前面板1。
【選択図】図2
Description
このような構成体として、例えば非特許文献1には、ガラス基板上に積層された透明電極が、絶縁層で被覆されてなるタッチパネルが開示されている。
触覚センサ用前面板1は、透明基体2上に、高抵抗層3と、絶縁層4がこの順に積層されている。
具体的には、例えば、無色透明なソーダライムシリケートガラス、アルミノシリケートガラス(SiO2−Al2O3−Na2O系ガラス)、リチウムアルミノシリケートガラス、石英ガラス、無アルカリガラス、その他の各種ガラスからなる透明ガラス板や、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、トリアセチルセルロース、ポリエーテルスルホン、ポリメチルメタクリレート、シクロオレフィンポリマー等から選ばれるプラスチック材料の単独の層からなるプラスチックフィルム、又は上記から選ばれるプラスチック材料の層を二種以上積層してなる積層フィルム等のプラスチックフィルムを用いることができる。
なお、透明基体2は、単一の層で構成されていてもよく、複数の層から構成されていてもよい。
高抵抗層3は、上記範囲の表面抵抗値を有するものであれば、その構成は特に限定されない。例えば、酸化スズおよび酸化チタンを主成分として含む層、酸化ニオブおよび酸化チタンを主成分として含む層を好適に用いることができる。
スズを主成分とする金属ターゲットとしては、スズのみからなるもの、またはスズを主成分として含み、かつスズ以外の金属、例えばAl、Si等の公知のドーパントを本発明の特徴を損なわない範囲でドープしたものを用いることができる。
チタンを主成分とする金属ターゲットとしては、チタンのみからなるもの、またはチタンを主成分として含み、かつチタン以外の公知のドーパントを本発明の特徴を損なわない範囲でドープしたものを用いることができる。
高抵抗層3における、原子比率を上記範囲とすることで、高抵抗層3において、上記所望の範囲の表面抵抗値を得られやすく、また適度な屈折率を有するものとすることができる。
本明細書における各層の「厚さ」は、触針式表面粗さ測定機により測定して得られた厚さである。
以下、この両重合性官能基を意味する用語として(メタ)アクリロル基を使用する。(メタ)アクリレート、(メタ)アクリル酸等の用語も同様である。
なお、以下特に言及しないかぎり、水酸基含有化合物((メタ)アクリロイル基を有しないもの)とは2個以上の水酸基を有する化合物をいう。
この重合性紫外線吸収剤(b−1)を使用することにより、絶縁層形成用組成物中に比較的多量の紫外線吸収剤を配合しても紫外線吸収剤の表面へのブリードや耐擦傷性等の著しい低下を伴わないという効果が発揮される。
重合性紫外線吸収剤(b−1)以外の紫外線吸収剤としては、単量体(A)100質量部に対して20質量部以下が好ましく、10質量部以下がより好ましい。
なお、コロイダルシリカ(D)は、分散安定性を向上させるために粒子表面を加水分解性シラン化合物の加水分解物で修飾されたもの、すなわち、コロイダルシリカ粒子の表面の一部または全部のシラノール基にシラン化合物の加水分解物が保持され、表面特性が改質されたものを用いることもできる。
(式中、R6は、水素原子、メチル基またはトリフルオロメチル基、X3は炭素数1〜6の2価の有機基を示し、Rfは、炭素数4〜6のパーフルオロアルキル基を示す。)
CH2=C(R6)COOR7NR8SO2Rf
CH2=C(R6)COOR7NR8CORf
CH2=C(R6)COOCH2CH(OH)R9Rf
ここで、R7は炭素数1〜6のアルキレン基を、R8は水素原子または炭素数1〜4のアルキル基を、R9は単結合または炭素数1〜4のアルキレン基を示す。
なお、絶縁層形成用組成物(i)が有機溶媒を含む場合、被膜形成後の積層体を、例えば100〜150℃の温度範囲で10分程度保持して、有機溶媒を除去することが好ましい。
なお、密着処理に用いた組成物が有機溶媒を含む場合、密着処理後の積層体を、100〜150℃で30分間程度保持して、当該有機溶媒を除去することが好ましい。
(式中、R10は炭素数1〜6の一価炭化水素基、R11は炭素数1〜6の一価炭化水素基または水素基であり、aは0〜2の整数である)
なお、Toneポリオールとして市販されているもので、上記のものと分子量、ヒドロキシ価、融点、粘度などが異なる種々のものを、接着促進剤(G)として用いることも可能である。
アクリル系共重合体としては、例えば、Mark他著の「Encyclopedia of Polymer Science and Engineering, Vol.4(John Wiley & Sons発行,1986)」374〜375頁に記載されているものを用いることができ、これらは各種コモノマーのラジカル重合で合成することができる。
例えば、アクリロニトリルやメチルメタクリレートのようなモノマーを用いた場合、一般には、共重合体には硬さが与えられ、エチルアクリレートや2−エチルヘキシルアクリレートのようなモノマーを用いた場合、共重合体には柔軟性が与えられる。さらに、ジメチルアミノエチルメタクリレートやアクリル酸のようなモノマーを用いることで、通常、重合に適した反応性部位が与えられる。
絶縁層形成用組成物の硬化体からなる絶縁層4の厚さを1μm以上とすることで、絶縁層4において十分な耐摩耗性や耐候性を得ることができる。一方、絶縁層形成用組成物の硬化体からなる絶縁層4の厚さを100μm以下とすることで、絶縁層4の深部においても硬化が十分に進行し、優れた光透過性を得ることができ、また触覚センサ用前面板1において適度な曲げ強度を得ることができる。
絶縁層4の厚さを50nm以上とすることで、絶縁層4において十分な耐摩耗性や耐候性を得ることができる。また、絶縁層4の厚さを5μm以下とすることで、適度な曲げ強度を有し、かつ十分な光透過性が得られるものとすることができる。また、絶縁層4の厚さを500nm以下とすることで、反射色味の角度依存性を低減でき、視認性に優れたものとすることができる。
アミノ基を有するシランカップリング剤としては、アミノプロピルトリエトキシシラン、アミノプロピルメチルジエトキシシラン、アミノエチル−アミノプロピルトリメトキシシラン、アミノエチル−アミノプロピルメチルジメトキシシラン等が挙げられる。
また、触覚センサ用前面板1における視感反射率は、14%以下が好ましく、2%以下がより好ましく、1%以下がさらに好ましい。
また、触覚センサ用前面板1の動摩擦係数は、0.2以下が好ましく、0.15以下がより好ましい。
ここで、「微小硬度測定試験」は、侵入深さから硬さを算出するこの試験方法であり、これにより、押込み硬さに相当する押込み弾性率(GPa)を知ることができる。この硬さは、触覚センサ用前面板1の「硬さ」、すなわち、耐擦傷性といった機械的強度を表す指針となる。
(紫外線硬化性樹脂a1の調製)
撹拌機を装着した300mLの4つ口フラスコに、酢酸ブチル1級(純正化学社製)の163gと2−プロパノールの41gを入れ、ここに反応型紫外線吸収剤(大塚化学社製、商品名:R-UVA93)の2g、光安定剤(BASF社製、商品名:TINUVIN292)の1g、レベリング剤(ビックケミー社製、商品名:BYK306)の0.65g、光重合開始剤(BASF社製、商品名:Irgacure907)の2.5g、および重合禁止剤ハイドロキノンモノメチルエーテル(純正化学社製)の0.1gを加え、溶解させた。
撹拌機を装着した300mLの4つ口フラスコに、酢酸ブチル1級(純正化学社製)の163gと2−プロパノールの41gを入れ、ここに反応型紫外線吸収剤(大塚化学社製、商品名:R-UVA93)の2g、光安定剤(BASF社製、商品名:TINUVIN292)の1g、レベリング剤(ビックケミー社製、商品名:BYK306)の0.65g、光重合開始剤(BASF社製、商品名:Irgacure907)の2.5g、および重合禁止剤ハイドロキノンモノメチルエーテル(純正化学社製)の0.1gを加え、溶解させた。
撹拌機を装着した300mLの4つ口フラスコに、酢酸ブチル1級(純正化学社製)を122gと2−プロパノールの31gを入れ、ここにフッ素系界面活性剤(AGCセイミケミカル社製、商品名:サーフロンS420)の0.65g、光重合開始剤(BASF社製、商品名:Irgacure907)の2.5gを加え、溶解させた。
熱硬化性の絶縁層形成用組成物として、熱硬化型シリコーンハードコート剤(モメンティブ社製、商品名:PHC587C)を使用した。以下、このシリコーンハードコート剤を熱硬化性樹脂b1と示す。
ガラス基板Q1(旭硝子社製、商品名:ASガラス、縦100mm×横100mm×厚さ1mm)を真空チャンバー内に投入し、チャンバー内の圧力が1×10−4Paとなるまで排気した。その後、ガラス基板Q1上に下記条件で成膜処理を行い、高抵抗層A1を形成した。
GITターゲットは、周波数20kHz、電力密度3W/cm2、反転パルス幅5μsecの条件でパルススパッタリングを行い、TXOターゲットは、周波数20kHz、電力密度4W/cm2、反転パルス幅5μsecの条件でパルススパッタリングを行った。その結果、ガラス基板Q1表面に、厚さ20nmの高抵抗層A1が形成された。
まず、3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン(信越化学製、商品名:KBM503)をエタノールで0.1質量%に希釈し、この希釈液を、上記の高抵抗層A1の表面に約1cm3滴下した後、スピンコーターにより、回転数1000rpmで10秒間、次いで2000rpmで0.5秒間回転させて塗布した。その後、恒温槽に入れて120℃で30分間保持した。こうして、高抵抗層A1の上に密着処理を行った。
まず、密着処理を施した高抵抗層A1の密着処理表面に、紫外線硬化性樹脂a1を約1cm3滴下し、スピンコーターにより、回転数200rpmで10秒間、次いで2000rpmで0.5秒間回転させて被膜を形成した。その後、恒温槽に入れて120℃で10分間保持し、被膜を乾燥させた。
こうして、ガラス基板Q1上に、高抵抗層A1と絶縁層B1とが積層された触覚センサ用前面板1を得た。
絶縁層形成用組成物として、紫外線硬化性樹脂a1に代えて紫外線硬化性樹脂a2を用いたこと以外は、例1と同様にして、ガラス基板Q1上に、厚さ20nmの高抵抗層A1、厚さ10μmの絶縁層B2が積層された触覚センサ用前面板2を得た。
ガラス基板Q1上に、例1と同様にして高抵抗層A1を形成した。この高抵抗層A1の上に、密着処理を施すことなく、以下に示すようにして絶縁層B3を形成した。
すなわち、高抵抗層A1上に熱硬化性樹脂b1を約1cm3滴下し、スピンコーターにより、回転数200rpmで10秒間、次いで2000rpmで0.5秒回転させた後、恒温槽に入れ、120℃で60分間保持して熱硬化性樹脂b1を熱硬化させて、絶縁層B3を形成した。絶縁層B3の厚さは5μmであった。
こうして、ガラス基板Q1上に、高抵抗層A1と絶縁層B3が積層された触覚センサ用前面板3を得た。
ガラス基板Q1を真空チャンバー内に投入し、チャンバー内の圧力が1×10−4Paとなるまで排気した。その後、ガラス基板Q1上に下記条件でマグネトロンスパッタ方式により成膜処理を行い、バリア層C1および高抵抗層A1を順に形成した。
絶縁層形成用組成物として、紫外線硬化性樹脂a2に代えて紫外線硬化性樹脂a3を用い、スピンコーターにより、回転数300rpmで10秒間、次いで2000rpmで0.5秒間回転させて絶縁被膜を形成した以外は例4と同様にして、ガラス基板Q1上に、厚さ20nmのバリア層C1、厚さ20nmの高抵抗層A1、厚さ10μmの絶縁層B5が積層された触覚センサ用前面板5を得た。
ガラス基板Q1上に、例4と同様にして、厚さ20nmのバリア層C1を形成した。次いで、GITターゲットにおけるパルススパッタリングの電力密度を、3W/cm2から3.8W/cm2に変更したこと以外は例1と同様にして、マグネトロンスパッタ方式によりコスパッタリングを行った。こうして、バリア層C1上に、厚さ20nmの高抵抗層A2を形成した。
ガラス基板Q1を真空チャンバー内に投入し、チャンバー内の圧力が1×10−4Paとなるまで排気した後、ガラス基板Q1上に下記条件でマグネトロンスパッタ方式により成膜処理を行い、バリア層C2および高抵抗層A3を順に形成した。
絶縁層の厚さを1μmとしたこと以外は、例6と同様にして、ガラス基板Q1上に、厚さ20nmのバリア層C1、厚さ20nmの高抵抗層A2、厚さ1μmの絶縁層B4、および厚さ15nmの撥水層D1を順に積層し、触覚センサ用前面板8を得た。
ガラス基板Q1に代えて、アルミノシリケートガラスを化学強化処理したガラス基板Q2(縦100mm×横100mm×厚さ0.8mm)を用いたこと以外は、例4と同様にして触覚センサ用前面板9を得た。
ガラス基板Q1に代えて、ガラス基板Q2を用いたこと以外は、例6と同様にして触覚センサ用前面板10を得た。
ガラス基板Q1上に、例4と同様にして、厚さ20nmのバリア層C1を形成した。
次いで、アルゴンガスに2体積%の酸素ガスを混合した混合ガスを導入しながら、酸化ガリウムに酸化インジウムを50質量%混合したターゲット(住友金属鉱山社製、商品名:GIOターゲット)を用いて、圧力0.1Pa、周波数20kHz、電力密度0.8W/cm2、反転パルス幅5μsecの条件でマグネトロンスパッタ方式によりパルススパッタリングを行った。その結果、バリア層C1表面に、厚さ15nmの高抵抗層A4が形成された。
分光光度計(島津製作所製、装置名:SolidSpec-3700)を用いて、触覚センサ用前面板の分光透過率を測定し、その分光透過率から、JIS Z8701において規定されている刺激値Yを算出した。そして、この刺激値Yを視感透過率とした。
分光光度計(島津製作所社製、形式:UV3150PC)により、触覚センサ用前面板の反射率を測定し、その反射率から、視感反射率(JIS Z8701において規定されている反射の刺激値Y)を求めた。前面板の裏面反射を打ち消すために、ガラス基板の裏面を黒色に塗って測定を実施した。
高抵抗層形成後に、測定装置(三菱化学アナリテック社製、装置名:ハイレスタUP(MCP-HT450型))を用いて高抵抗層の表面抵抗値を測定した。10cm□の前面板の中央にプローブをあて、10Vで10秒間通電して測定した。
微小硬さ試験機(フィッシャーインスツルメンツ社製、装置名:ピコデンターHM500)を用いて、触覚センサ用前面板の押し込み弾性率(GPa)をISO14577に準じて測定した。測定には、ビッカーズ圧子を使用した。
ガラス基板の裏面を黒色に塗り、前面板の裏面反射を相殺するようにした前面板を机上に配置し、机上から40cmの高さで昼色光直管蛍光灯(日本電気株式会社製、3波長形昼白色)のスタンドを配置した。
この蛍光灯による照射光の下、前面板表面を種々の角度から目視で観察し、目視する角度による、反射光の色調の変化を評価した。
いずれの角度から目視観察した場合も、前面板表面の色調が単色(主に青色等)であったもの、または、目視角度を10度より超えて変化させた場合でも、色調の変化が緩やかであったものを「○」とし、目視角度を10度以下の範囲で変化させたときに、前面板表面の色調が変化したものを「×」とした。
表面性測定機(新東科学株式会社製、型式名:Type38)を用いて、以下の条件で動摩擦係数の測定を行った。
まず、圧子(試料との接触面積:10mm×30mm)にワイパー(旭化成株式会社製、商品名:Bencot)を固定した後、測定機のステージ上に載置した前面板に圧子を接触させた。この圧子に500gの荷重をかけた状態で、前面板を載置したステージを動かし、摺動速度500mm/min、ストローク20mmで前面板表面を5回摺動し、圧子根元のひずみゲージで摩擦力を測定した。そして、摩擦力の測定値と、圧子にかけた荷重から算出される摩擦係数の平均値を、動摩擦係数とした。
動摩擦係数の測定で用いた圧子を鉄球としたこと以外は、動摩擦係数の測定で用いたのと同じ装置を用い、同じ条件で前面板表面を摺動し、鉄球の滑り始めの時点で測定した摩擦力から算出される摩擦係数を静摩擦係数とした。
触覚センサ用前面板の表面に約1μLの純水の水滴を着滴させ、接触角計(協和界面科学社製、装置名:DM−051)を用いて、水に対する接触角を測定した。
各触覚センサ用前面板1〜11の裏面の4辺に銅製の導電テープを貼り、周波数400Hz前後で、2kVの電圧を印加した。
このような通電状態の各触覚センサ用前面板1〜11表面を指先でなぞり、指先で感知される触覚の大きさにより、触覚センサ感度を評価した。表2中「○」は、指先により触覚が明確に感知されたことを示し、「×」は、指先により触覚が感知されない、もしくは感知されたとしても極めて微弱であるか、または指先により感知される触覚が強すぎて指先が過度の刺激を受けた状態となり、適切なセンサ感度を得られなかったことを示す。
なお、印加電圧(2kV)は、銅箔に厚さ10μmのPETフィルムを張り付けた試料に対し、印加電圧値を750V〜100kVの間で調整しながら電圧供給を行ったところ、約2kV程度で触覚が発現したため、この電圧値に基づいてセンサ感度の評価を行った。
一方、例11では、表面抵抗値が0.7Ω/□で、指先により感知される触覚が過度に高くなっており、適切なセンサ感度を得られず、また、視感透過率が85%未満で、視感反射率が7%を超えており、視認性に劣るものであった。
Claims (6)
- 透明基体上に、高抵抗層と、電気絶縁性を有する絶縁層とがこの順で積層されてなる触覚センサ用前面板であって、
前記高抵抗層の表面抵抗値が1〜100MΩ/□であり、
前記触覚センサ用前面板の視感透過率が85%以上であることを特徴とする触覚センサ用前面板。 - 静摩擦係数が0.2以下である請求項1記載の触覚センサ用前面板。
- 動摩擦係数が0.2以下である請求項1又は2記載の触覚センサ用前面板。
- 前記透明基体と前記高抵抗層との間にバリア層が介設された請求項1乃至3のいずれか1項記載の触覚センサ用前面板。
- 水接触角が80度以上である請求項1乃至4のいずれか1項記載の触覚センサ用前面板。
- 視感反射率が2%以下である請求項1乃至5のいずれか1項記載の触覚センサ用前面板。
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