DE3941795A1 - Optisch wirkende schicht fuer substrate, die insbesondere eine hohe antireflexwirkung aufweist, und verfahren zur herstellung der schicht - Google Patents

Optisch wirkende schicht fuer substrate, die insbesondere eine hohe antireflexwirkung aufweist, und verfahren zur herstellung der schicht

Info

Publication number
DE3941795A1
DE3941795A1 DE3941795A DE3941795A DE3941795A1 DE 3941795 A1 DE3941795 A1 DE 3941795A1 DE 3941795 A DE3941795 A DE 3941795A DE 3941795 A DE3941795 A DE 3941795A DE 3941795 A1 DE3941795 A1 DE 3941795A1
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
layer
substrate
tin
coating
refractive index
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Ceased
Application number
DE3941795A
Other languages
English (en)
Inventor
Joachim Dr Szczyrbowski
Stephan Roegels
Anton Zmelty
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Balzers und Leybold Deutschland Holding AG
Original Assignee
Leybold AG
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Leybold AG filed Critical Leybold AG
Priority to DE3941795A priority Critical patent/DE3941795A1/de
Priority to DE4117258A priority patent/DE4117258A1/de
Publication of DE3941795A1 publication Critical patent/DE3941795A1/de
Ceased legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
    • C23C14/0641—Nitrides
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
    • C03C17/22—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with other inorganic material
    • C03C17/225—Nitrides
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
    • G02B1/11—Anti-reflection coatings
    • G02B1/113—Anti-reflection coatings using inorganic layer materials only
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2217/00—Coatings on glass
    • C03C2217/20—Materials for coating a single layer on glass
    • C03C2217/28—Other inorganic materials
    • C03C2217/281—Nitrides
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2218/00—Methods for coating glass
    • C03C2218/10—Deposition methods
    • C03C2218/15—Deposition methods from the vapour phase

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Geochemistry & Mineralogy (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)

Description

Die Erfindung betrifft eine optisch wirkende Schicht für Substrate, die insbesondere eine hohe Antireflexwirkung aufweist, und Verfahren zur Herstellung der Schicht.
Es gibt eine breite Palette von Schichtsystemen für Substrate, insbesondere für Glas, die bestimmte optische Funktionen erfüllen. Die vorliegende Erfindung betrifft die Gattung der Antireflexschichten, beziehungsweise Antireflexschichtsysteme.
Durch die deutsche Offenlegungsschrift 36 29 996 ist ein Vorsatzaggregat für die Katodenstrahlröhre von Monitoren, Fernsehapparaten und dergleichen, bestehend aus einer Glasscheibe, insbesondere einer Grauglasscheibe, einer vorderseitigen Antireflexionsausrüstung und einer rückseitigen Absorptionsbeschichtung, wobei die Absorptionsbeschichtung Metallatome aufweist, bekannt­ geworden.
In dieser deutschen Offenlegungsschrift wird vorgeschlagen, daß die Absorptionsbeschichtung einschichtig aus Chrom, einer Chrom/Nickel-Legierung oder Siliciden aufgebaut und antistatisch eingerichtet und geerdet, sowie mit einer Dicke versehen ist, welche die Lichttransmission gegenüber der unbeschichteten Glasscheibe um etwa ein Drittel absenkt.
In der US-Patentschrift 38 54 796 wird weiterhin eine Beschichtung vorgeschlagen, die zur Reduzierung der Reflexion dienen soll. Die Beschichtung soll für ein Substrat angewendet werden, das eine Mehrzahl von Schichten aufweist. In der Reihenfolge beginnend beim Substrat ist in der US-Patentschrift folgende Anordnung beschrieben: drei Gruppen von wenigstens zwei Lambda/4-Schichten, die aufeinanderfolgenden Schichten der ersten Gruppe haben einen Brechungsindex, der unterhalb des Brechungsindexes des Substrats liegt. Die Schichten der zweiten Gruppe haben einen sich vergrößernden Brechungsindex und die Schichten der dritten Gruppe haben einen Brechungsindex unterhalb des Brechungsindexes des Substrats. Weitere Einzelheiten sind der genannten US-Schrift zu entnehmen.
Zum Stand der Technik gehört weiterhin die US-Patentschrift 37 61 160. Dort werden eine Breitbandantireflexionsbeschichtung und Substrate, die damit beschichtet sind, vorgeschlagen. Sie weisen wenigstens vier Schichten für Glas mit hohem Index und wenigstens sechs Schichten für Glas mit niedrigem Index auf. Weitere Einzelheiten sind der genannten US-Schrift zu entnehmen.
Weiterhin wird in der US-Patentschrift 36 95 910 ein Verfahren zur Anbringung einer Antireflexbeschichtung auf einem Substrat beschrieben. Diese Beschichtung besteht aus mehreren Einzelschichten. Das Verfahren für die Aufbringung der Antireflexionsschichten erfolgt unter Vakuum, und zwar unter Verwendung von Elektronenstrahlen. Weitere Einzelheiten sind der genannten US-Patentschrift zu entnehmen.
Weiterhin gehört zum Stand der Technik die US-Patentschrift 38 29 197, die einen Antireflexionsbelag, der als Mehrschichtsystem ausgebildet ist, beschreibt. Dieser Belag soll auf einem stark brechenden Substrat angebracht werden. Das Schichtsystem besteht aus fünf einzelnen Schichten, die gegenseitig angepaßt sind, und zwar in Hinsicht auf ihren Brechungsindex und in Hinsicht auf ihre optische Dicke. Durch diese Anpassung soll eine günstige Antireflexionskurve mit einem breiten, flachen, mittleren Teil erreicht werden. Weitere Einzelheiten dieses Vorschlags sind der genannten US-Patentschrift zu entnehmen.
Zum Stand der Technik gehört weiterhin die schweizerische Patentschrift 2 23 344. Diese Schrift befaßt sich mit einem Überzug zur Verminderung der Oberflächenreflexion. Der Überzug besteht aus mindestens drei Schichten mit verschiedenen Brechzahlen. Die Verminderung der Oberflächenreflexion soll nach dieser Schrift durch eine bestimmte Auswahl der Brechzahlen der einzelnen Schichten erzielt werden.
Aus dem zitierten Stand der Technik geht eindrucksvoll hervor, welche Anstrengungen unternommen wurden, um eine befriedigende Antireflexwirkung zu erzielen. Insbesondere sind der Aufwand an Schichtsystemen mit zahlreichen Einzelschichten und der Aufwand an Materialien bei den Gegenständen des Standes der Technik bemerkenswert hoch.
Dies führt notwendigerweise zu verhältnismäßig aufwendigen und daher kostspieligen Herstellungsverfahren. Außerdem muß in vielen Fällen relativ teures Material verwendet werden. Ebenfalls ist die Aufbringung der Materialien in vielen Fällen kompliziert und kostenintensiv.
Der Erfindung liegen folgende Aufgaben zugrunde:
Die Nachteile des Standes der Technik sollen behoben werden.
Es sollen gute Voraussetzungen für die wirtschaftliche Herstellung einer Antireflexbeschichtung für transparente Substrate geschaffen werden.
Transparente Substrate werden in einer Vielzahl moderner Einrichtungen und Geräte benötigt. Die Hersteller dieser Einrichtungen und Geräte stellen hohe Anforderungen in Hinsicht auf die optischen und sonstigen Eigenschaften der Beschichtung dieser Substrate.
Die Erfindung soll diese hohen Anforderungen insbesondere in Hinsicht auf die Entspiegelung, die Kontrasterhöhung und die Erhöhung der Antistatikwirkung erfüllen.
Weiterhin sollen Voraussetzungen dafür geschaffen werden, daß nur eine Schicht benötigt wird, um eine gute Antireflexwirkung zu erzielen.
Die Erfindung macht sich weiterhin zur Aufgabe, Voraussetzungen für den Einsatz eines preisgünstigen Materials zu schaffen.
Mit der Erfindung soll ein Konzept vorgeschlagen werden, bei dem DC-reaktiv mit Magnetron vom Metalltarget gesputtert werden kann.
Die Anwendung nur einer Schicht, der Einsatz eines preisgünstigen Targetmaterials und die Möglichkeit, DC-reaktiv mit Magnetron vom Metalltarget zu sputtern, führen zu einer äußerst wirtschaftlichen Herstellung der erfindungsgemäßen Antireflexbeschichtung.
Die gestellten Aufgaben werden erfindunggemäß dadurch gelöst, daß auf der vom Betrachter abgewandten Substratseite (Rückseite) (9) eine Rückseitenschicht (8), die TiNx aufweist, angeordnet ist.
In der Praxis hat sich besonders bewährt, wenn ein Substrat mit einem Brechungsindex n = 1,52 eingesetzt wird und dabei vorgesehen wird, daß auf der vom Betrachter abgewandten Substratseite (Rückseite) (9) eine Rückseitenschicht (8), die TiNx mit x größer als 1 aufweist, angeordnet ist.
Als besonders wirkungsvoll hat sich herausgestellt, daß bei Glas mit einem Brechnungsindex von n = 1,52 auf der vom Betrachter abgewandten Glasseite (Rückseite) (9) eine Rückseitenschicht (8), die TiNx mit x größer als 1 aufweist, angeordnet ist.
Außerdem kann vorgesehen werden, daß die auf der Rückseite angeordnete TiNx-Schicht (8) eine Dicke von 40 bis 200 Ångström, insbesondere von 60 bis 70 Ångström, aufweist.
Besonders gute Ergebnisse werden dadurch erreicht, daß die auf der Rückseite angeordnete TiNx-Schicht (8) eine Dicke von 70 Ångström aufweist.
Eine weitere Ausführungsform mit besonders guten Ergebnissen besteht darin, daß die Rückseitenschicht (8) TiNx aufweist und eine Dicke von cirka 100 Ångström besitzt.
Bei einem besonders bevorzugten Ausführungsbeispiel wird vorgesehen, daß die auf der Rückseite angeordnete TiNx -Schicht (8) eine Dicke von 70 Ångström besitzt und einen komplexen Brechungsindex mit Realteil n = 1,85 und Imaginärteil k = 1,18 bei einer Wellenlänge 550 nm aufweist, daß das Substrat (1) aus Glas besteht, eine Dicke von z. B. 2 mm besitzt und einen Brechungsindex n = 1,52 aufweist. Obwohl in den vorangegangenen Ausführungsbeispielen das Substrat aus Glas eine Dicke von 2 mm aufweist, kann die Erfindung grundsätzlich aus bei Glassubstraten eingesetzt werden, die andere Dicken aufweisen.
Ein besonders modernes und rationelles Herstellung der TiNx-Schicht wird dadurch erreicht, daß ein Katodenzerstäubungsverfahren, insbesondere ein DC-reaktives Sputtern vom Target mit Magnetron, zur Beschichtung eingesetzt wird.
Im einzelnen kann hierbei vorgesehen werden, daß durch reaktives Sputtern vom Ti-Target mit Magnetron eine Schicht aus TiN bei Anwesenheit eines Sputtergasgemisches, das Ar und N2 umfaßt, gebildet wird, und zwar bei einem Druck von circa 5×10-3 mbar.
Alternativ wird vorgeschlagen, daß ein an sich bekanntes Aufdampfverfahren, Chemical Vapor Deposition (CVD)-Verfahren, Plasma-gestütztes CVD-Verfahren, Pyrolyse-Verfahren, oder Tauchverfahren zur Beschichtung eingesetzt wird.
Eine gute Ableitung elektrostatischer Aufladung und damit eine gute Antistatikwirkung wird dadurch erreicht, daß die TiNx -Schicht einen Flächenwiderstand von 100 bis 500 Ohm pro Quadrat aufweist.
Mit der Erfindung werden folgende Vorteile erzielt.
Die eingangs beschriebenen Aufgaben werden gelöst.
Ganz überraschend hat sich herausgestellt, daß eine sehr hohe Antireflexwirkung alleine schon dadurch erreicht wird, daß auf der vom Betrachter abgewandten Substratseite lediglich eine einzige TiNx-Rückseitenschicht angeordnet ist.
Wenn man die normale Reflexion an der nicht mit TiNx beschichteten Rückseite eines Substrats aus Glas, mit 100% angibt, dann reduziert die TiNx-Schicht diese Reflexion an der Rückseite um 90%. Dies ist ein großer technischer Fortschritt, der mit einfachen Mitteln erzielt wird.
Neben der geschilderten hohen Entspiegelung wird eine markante Kontrasterhöhung erreicht.
Dadurch, daß die TiNx-Schicht elektrisch leitend ist und einen relativ niedrigen Flächenwiderstand aufweist, kann durch Erdung auf einfache Weise die elektrostatische Aufladung reduziert oder verhindert werden. Durch die Reduzierung bzw. Verhinderung der elektrostatischen Aufladung wird die Antistatikwirkung verbessert.
Die Gesamtdicke der Schicht ist, verglichen mit den Schichtsystemen des Standes der Technik, sehr klein. Schon aus diesem Grund sind die Herstellungskosten für die erfindungsgemäße Schicht gering.
Weitere Einzelheiten der Erfindung, der Aufgabenstellung und der erzielten Vorteile sind der folgenden Beschreibung mehrerer Ausführungsbeispiele der Erfindung zu entnehmen.
Diese Ausführungsbeispiele werden anhand von vier Figuren erläutert.
Die Fig. 1 zeigt ein Substrat ohne Beschichtung.
Die Fig. 2 zeigt ein Substrat mit Beschichtung.
Die Fig. 3 und 4 zeigen Transmissions- beziehungsweise Reflexions-Kurven in Prozent über Wellenlängen in nm.
In schematischer Darstellung ist in Fig. 1 ein aus Glas bestehendes Substrat 1 dargestellt. Die Vorderseite trägt die Bezugsziffer 2, die Rückseite trägt die Bezugsziffer 9. Mit Vorderseite ist die dem Betrachter zugewandte Seite gemeint. Mit Rückseite ist die vom Betrachter abgewandte Seite gemeint. Der Pfeil 3 bezeichnet die Blickrichtung des Betrachters.
Mit 4 ist das einfallende Licht bezeichnet. 5 stellt das an der Vorderseite reflektierte Licht (Rg1 = Reflexion am Glas) dar. Mit 6 ist das an der Rückseite reflektierte Licht (Rg2 = Reflexion am Glas) bezeichnet.
Die Reflexionen am Glas und zwar an der Vorderseite und an der Rückseite betragen normalerweise je ca. 4,2%.
Bei einem Glassubstrat, wie es in Fig. 1 gezeigt wird, beträgt daher die Gesamtreflexion:
Rgesamt = Rg1+Rg2 = ca. 8,4%
Fig. 2 zeigt ein Ausführungsbeispiel, bei dem das Substrat 1 aus Glas besteht, das einen Brechungsindex von n = 1,52 aufweist. Die Dicke des Glassubstrats beträgt 2 mm.
Auf der Rückseite 9 des Glassubstrats ist eine TiNx-Schicht 8 angebracht. Diese Schicht kann eine Dicke von 40 bis 200 Ångström aufweisen. Besonders bewährt hat sich eine Dicke von 60 bis 70 Ångström.
Bei der Reflexionsmessung an einem Beispiel, wie es in Fig. 2 dargestellt ist, hat sich ergeben, daß die Reflexion 7 an der Rückseite 9 des Substrats, die die TiNx-Schicht 8 aufweist, um 90% reduziert wird.
Mit anderen Worten: Das an der Rückseite 9 des Glassubstrats nach Fig. 2 reflektierte Licht (Rs) beträgt lediglich 10% des an der Rückseite 9 des Glassubstrats der Fig. 1 reflektierten Lichts.
Damit ergibt sich eine Gesamtreflexion bei dem System nach Fig. 2 von
Rgesamt = Rg1+Rs = ca. 4,6%
Im Gegensatz dazu, siehe oben, beträgt bei dem unbeschichteten Substrat nach Fig. 1:
Rgesamt = Rg1+Rg2 = ca. 8,4%
Damit löst dieses Ausführungsbeispiel die gestellte Aufgabe, Erzielung einer hohen Antireflexwirkung, in eindrucksvoller Weise.
Als Substrat können außer Mineralglas, Floatglas auch Plexiglas, durchsichtige Kunststoffschichten, Folien usw. eingesetzt werden.
Es folgt die Beschreibung zweier Ausführungsbeispiele, bei denen die Reflexion und die Transmission im sichtbaren Wellenbereich des Lichts gemessen wurden. Die Meßergebnisse sind grafisch anhand von Kurven in den Fig. 3 und 4 dargestellt.
Erstes Beispiel:
  • - Substrat: Glas (1), Dicke 2 mm, Brechungskoeffizient n = 1,52
  • - Schicht (8) Material: TiNx, Dicke 120 Ångström Brechungskoeffizient n = 1,85 (Real-) und k = 1,18 (Imaginärteil)
Für dieses Beispiel wurden die Gesamtreflexion und die Transmission in Prozent gemessen, und zwar für einen Wellenlängenbereich von 400 nm bis 700 nm.
Nachfolgend werden die Meßergebnisse für die Gesamtreflexion und die Transmission in einer Tabelle bestimmten Wellenlängen gegenübergestellt:
Die Meßergebnisse werden, wie dargelegt, als Kurven in Fig. 3 grafisch dargestellt. Auf der Abzisse 10 des Koordinatensystems in Fig. 3 sind die Wellenlängen in nm eingetragen. Auf der linken Ordinate 11 des Koordinatensystems sind die Prozentwerte für die Gesamtreflexion eingetragen. Auf der rechten Ordinate 12 des Koordinatensystems sind die Prozentwerte für die Transmission eingetragen.
Aus den Kurven ist deutlich erkennbar, daß die Gesamtreflexionskurve 14 im Kernwellenlängenbereich des sichtbaren Lichts außerordentlich niedrig ist. Sie liegt zwischen 4 und 5%. Im Bereich zwischen 580 und 620 nm unterschreitet die Reflexionskurve sogar die 4%-Grenze. Damit ist die gewünschte hohe Antireflexwirkung in deutlicher Weise erzielt worden. Im gleichen Kernwellenlängenbereich hat die Transmissionskurve 13 relativ hohe Werte.
Das Schichtsystem des zweiten Beispiels ist wie folgt gekennzeichnet:
  • - Substrat: Glas, Dicke 2 mm, Brechungskoeffizient n = 1,52
  • - Schicht (8) Material: TiNx, Dicke 70 Ångström Brechungskoeffizient wie im ersten Beispiel
Für dieses Schichtsystem wurden die Gesamtreflexion in Prozent und die Transmission in Prozent gemessen, und zwar für einen Wellenlängenbereich von 400 nm bis 700 nm.
Nachfolgend werden die Meßergebnisse für die Gesamtreflexion und die Transmission in einer Tabelle bestimmten Wellenlängen gegenübergestellt:
Die Meßergebnisse werden, wie dargelegt, als Kurven in Fig. 4 grafisch dargestellt. Die Abzisse und die Ordinaten tragen die im Zusammenhang mit Fig. 3 beschriebenen Maßeinheiten.
Aus der Gesamtreflexionskurve 16 ist deutlich erkennbar, daß die Reflexion im Bereich zwischen 5 und 4% liegt. Ab 520 nm nähert sie sich der 4%-Linie. Damit ist die gewünschte hohe Antireflexwirkung auch durch dieses Beispiel in überzeugender Weise erzielt worden. Die Transmissionskurve 15 hat im Kernbereich des sichtbaren Lichts ihr Maximum.
Zu der Transmissionskurve 13 (Fig. 3) und zu der Transmissionskurve 15 (Fig. 4) ist grundsätzlich folgendes zu sagen:
Geringe Transmissionswerte, z. B. bei einer Vorsatzscheibe können auf einfache Weise durch Verstärkung der Lichtquelle, z. B. durch Aufdrehen des Potentiometers bei einem LCD, kompensiert werden. Die TiNx-Schicht der beiden letztgenannten Ausführungsbeispiele sind nach dem im folgenden beschriebenen Verfahren hergestellt worden:
Es wurde mit Magnetron gesputtert und zwar in reaktiver Gasatmosphäre.
Als Sputtermaterial wurde TiN und als Sputtergemisch wurde eine Mischung aus Ar und N2 benutzt.
Der Druck während des Sputtervorgangs betrug ca. 5×10-3 mbar.
Als Targetmaterial wurde Ti benutzt.
Liste der Einzelteile
 1 Substrat, Glas
 2 Vorderseite
 3 Pfeil, Blickrichtung
 4 einfallendes Licht
 5 an der Vorderseite reflektiertes Licht
 6 an der Rückseite reflektiertes Licht (Fig. 1)
 7 an der Rückseite reflektiertes Licht (Fig. 2)
 8 Rückseitenschicht, TiNx-Schicht
 9 Rückseite
10 Abzisse
11 linke Ordinate
12 rechte Ordinate
13 Transmissionskurve
14 Reflexionskurve
15 Transmissionskurve
16 Reflexionskurve

Claims (17)

1. Optisch wirkende Schicht für Substrate, die insbesondere eine hohe Antireflexwirkung aufweist, dadurch gekennzeichnet, daß auf der vom Betrachter abgewandten Substratseite (Rückseite) (9) eine Rückseitenschicht (8), die TiNx mit x größer als 1 aufweist, angeordnet ist.
2. Optisch wirkende Schicht für ein Substrat, das einen Brechungsindex n = 1,52 aufweist, dadurch gekennzeichnet, daß auf der vom Betrachter abgewandten Substratseite (Rückseite) (9) eine Rückseitenschicht (8), die TiNx mit x größer als 1 aufweist, angeordnet ist.
3. Optisch wirkende Schicht für ein Substrat, das aus Glas mit einem Brechungsindex vom n gleich 1,52 besteht, dadurch gekennzeichnet, daß auf der vom Betrachter abgewandten Glasseite (Rückseite) (9) eine Rückseitenschicht (8), die TiNx mit x größer als 1 aufweist, angeordnet ist.
4. Schicht nach einem oder mehreren der vorangegangenen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die auf der Rückseite angeordnete TiNx-Schicht (8) eine Dicke von 40 bis 200 Ångström, insbesondere von 60 bis 70 Ångström, aufweist.
5. Schicht nach einem oder mehreren der vorangegangenen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die auf der Rückseite angeordnete TiNx-Schicht (8) eine Dicke von 70 Ångström aufweist.
6. Schicht nach einem oder mehreren der vorangegangenen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die Rückseitenschicht (8) TiNx aufweist und eine Dicke von cirka 100 Ångström besitzt.
7. Schicht nach einem oder mehreren der vorangegangenen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die auf der Rückseite angeordnete TiNx -Schicht (8) eine Dicke von 70 Ångström besitzt und einen komplexen Brechungsindex mit Realteil n = 1,85 und Imaginärteil k = 1,18 bei einer Wellenlänge 550 nm aufweist, daß das Substrat (1) aus Glas besteht, eine Dicke von z. B. 2 mm besitzt und einen Brechungsindex n = 1,52 aufweist.
8. Verfahren zur Herstellung einer Schicht nach einem oder mehreren der vorangegangenen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß ein Katodenzerstäubungsverfahren, insbesondere ein DC-reaktives Sputtern vom Target mit Magnetron, zur Beschichtung eingesetzt wird.
9. Verfahren zur Herstellung einer Schicht nach einem oder mehreren der vorangegangenen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß durch reaktives Sputtern vom Ti-Target mit Magnetron eine Schicht aus TiN bei Anwesenheit eines Sputtergasgemisches, das Ar und N2 umfaßt, gebildet wird, und zwar bei einem Druck von cirka 5×10-3 mbar.
10. Verfahren zur Herstellung einer Schicht nach einem oder mehreren der vorangegangenen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß ein an sich bekanntes Aufdampfverfahren zur Beschichtung eingesetzt wird.
11. Verfahren zur Herstellung einer Schicht nach einem oder mehreren der vorangegangenen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß ein an sich bekanntes Chemical Vapor Deposition (CVD)-Verfahren zur Beschichtung eingesetzt wird.
12. Verfahren zur Herstellung einer Schicht nach einem oder mehreren der vorangegangenen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß ein an sich bekanntes Plasma-gestütztes CVD-Verfahren zur Beschichtung eingesetzt wird.
13. Verfahren zur Herstellung einer Schicht nach einem oder mehreren der vorangegangenen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß ein an sich bekanntes Pyrolyse-Verfahren zur Beschichtung eingesetzt wird.
14. Verfahren zur Herstellung einer Schicht nach einem oder mehreren der vorangegangenen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß ein an sich bekanntes Tauchverfahren zur Beschichtung eingesetzt wird.
15. Schicht nach einem oder mehreren der vorangegangenen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß sie einen Flächenwiderstand von 100 bis 500 Ohm pro Quadrat aufweist.
16. Schicht nach einem oder mehreren der vorangegangenen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß sie einen Flächenwiderstand von 290 Ohm pro Quadrat aufweist.
17. Schicht nach einem oder mehreren der vorangegangenen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß sie einen Flächenwiderstand von 460 Ohm pro Quadrat aufweist.
DE3941795A 1989-12-19 1989-12-19 Optisch wirkende schicht fuer substrate, die insbesondere eine hohe antireflexwirkung aufweist, und verfahren zur herstellung der schicht Ceased DE3941795A1 (de)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE3941795A DE3941795A1 (de) 1989-12-19 1989-12-19 Optisch wirkende schicht fuer substrate, die insbesondere eine hohe antireflexwirkung aufweist, und verfahren zur herstellung der schicht
DE4117258A DE4117258A1 (de) 1989-12-19 1991-05-27 Optisch wirkende schicht fuer substrate, die insbesondere eine hohe antireflexwirkung aufweist

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE3941795A DE3941795A1 (de) 1989-12-19 1989-12-19 Optisch wirkende schicht fuer substrate, die insbesondere eine hohe antireflexwirkung aufweist, und verfahren zur herstellung der schicht

Publications (1)

Publication Number Publication Date
DE3941795A1 true DE3941795A1 (de) 1991-06-20

Family

ID=6395724

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE3941795A Ceased DE3941795A1 (de) 1989-12-19 1989-12-19 Optisch wirkende schicht fuer substrate, die insbesondere eine hohe antireflexwirkung aufweist, und verfahren zur herstellung der schicht

Country Status (1)

Country Link
DE (1) DE3941795A1 (de)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE4117258A1 (de) * 1989-12-19 1992-12-03 Leybold Ag Optisch wirkende schicht fuer substrate, die insbesondere eine hohe antireflexwirkung aufweist
DE19501640A1 (de) * 1995-01-20 1996-07-25 Schott Glaswerke Bildschirme und Vorsatzscheiben für Kathodenstrahlröhren aus Glas mit einem einstellbaren spektralen Transmissionsverlauf und Verfahren zu ihrer Herstellung
US5691044A (en) * 1994-12-13 1997-11-25 Asahi Glass Company, Ltd. Light absorptive antireflector
DE102014113899A1 (de) * 2014-09-25 2016-03-31 Von Ardenne Gmbh Verfahren und Vorrichtung zur homogenen Beschichtung dielektrischer Substrate

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3885855A (en) * 1971-08-16 1975-05-27 Battelle Memorial Institute Filtering antisolar and heat insulating glass
US4116791A (en) * 1976-05-19 1978-09-26 Battelle Memorial Institute Method and apparatus for forming a deposit by means of ion plating using a magnetron cathode target as source of coating material
DD204693A1 (de) * 1981-11-27 1983-12-07 Helmut Bollinger Verfahren zur herstellung waermereflektierender scheiben
DD209176A1 (de) * 1982-09-03 1984-04-25 Adw Ddr Verfahren zur herstellung goldfarben hinterlegter dekore auf glas
DD225860A3 (de) * 1981-12-17 1985-08-07 Forschungsinst M V Ardenne Verfahren zur herstellung selektiv reflektierender titannitridschichten
US4535000A (en) * 1982-11-22 1985-08-13 Gordon Roy G Chemical vapor deposition of titanium nitride and like films
DE8706793U1 (de) * 1987-05-12 1987-08-27 Deutsche Spezialglas Ag, 3223 Delligsen Infrarot-reflektierendes Schutzglas

Patent Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3885855A (en) * 1971-08-16 1975-05-27 Battelle Memorial Institute Filtering antisolar and heat insulating glass
GB1397316A (en) * 1971-08-16 1975-06-11 Battelle Memorial Institute Antisolar and heat insulating light-screen
US4116791A (en) * 1976-05-19 1978-09-26 Battelle Memorial Institute Method and apparatus for forming a deposit by means of ion plating using a magnetron cathode target as source of coating material
DD204693A1 (de) * 1981-11-27 1983-12-07 Helmut Bollinger Verfahren zur herstellung waermereflektierender scheiben
DD225860A3 (de) * 1981-12-17 1985-08-07 Forschungsinst M V Ardenne Verfahren zur herstellung selektiv reflektierender titannitridschichten
DD209176A1 (de) * 1982-09-03 1984-04-25 Adw Ddr Verfahren zur herstellung goldfarben hinterlegter dekore auf glas
US4535000A (en) * 1982-11-22 1985-08-13 Gordon Roy G Chemical vapor deposition of titanium nitride and like films
DE8706793U1 (de) * 1987-05-12 1987-08-27 Deutsche Spezialglas Ag, 3223 Delligsen Infrarot-reflektierendes Schutzglas

Non-Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
- DD-Z: BEISTER, Günter *
- DD-Z: SCHICHT, Heinz: Dekorative und funktionelle Hartstoffschichten auf Flachglassubstraten. In: Silikattechnik 38, 1987, H.8, S.281-283 *
DD-Z: BECKER, Hans-Joachim: Anwendung der Vakuum- beschichtung in der Glasindustrie. In: Silikat- technik 39, 1988, H.9, S.296-300 *
SCHNEIDER, Siegfried: Zur Herstellung von dekorativen Titannitrid-Schichten auf Glasartikeln durch reaktives DC-Plasmatron- sputtern. In: Silikattechnik 39 1988, H.9, S.316-319 *

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE4117258A1 (de) * 1989-12-19 1992-12-03 Leybold Ag Optisch wirkende schicht fuer substrate, die insbesondere eine hohe antireflexwirkung aufweist
US5691044A (en) * 1994-12-13 1997-11-25 Asahi Glass Company, Ltd. Light absorptive antireflector
US5942319A (en) * 1994-12-13 1999-08-24 Asahi Glass Company Ltd. Light absorptive antireflector
DE19501640A1 (de) * 1995-01-20 1996-07-25 Schott Glaswerke Bildschirme und Vorsatzscheiben für Kathodenstrahlröhren aus Glas mit einem einstellbaren spektralen Transmissionsverlauf und Verfahren zu ihrer Herstellung
DE19501640C2 (de) * 1995-01-20 1999-07-01 Schott Glas Recyclierbare Bildschirme für Kathodenstrahlröhren mit einem einstellbaren spektralen Transmissionsverlauf aus Glas und Verfahren zu ihrer Herstellung
US5973448A (en) * 1995-01-20 1999-10-26 Schott Glas Display screen for a cathode ray tube of glass having an adjustable spectral transmission curve and a method for producing the same
DE102014113899A1 (de) * 2014-09-25 2016-03-31 Von Ardenne Gmbh Verfahren und Vorrichtung zur homogenen Beschichtung dielektrischer Substrate

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE3941797A1 (de) Belag, bestehend aus einem optisch wirkenden schichtsystem, fuer substrate, wobei das schichtsystem insbesondere eine hohe antireflexwirkung aufweist, und verfahren zur herstellung des belags
DE69531628T2 (de) Lichtabsorbierender antireflektor
DE3941859C1 (de)
DE3316548C2 (de) Verfahren zur Beschichtung eines transparenten Substrates
DE69931045T2 (de) Lichtabsorbierender antireflektierende körper und verfahren zur seiner herstellung
DE69025019T2 (de) Verfahren zur Herstellung eines Glases mit einer funktionellen Beschichtung
DE3629996A1 (de) Vorsatzaggregat fuer die kathodenstrahlroehre von monitoren, fernsehapparaten und dergleichen
DE3009533A1 (de) Verfahren zur herstellung eines reflexverminderndenmehrschichtenbelages und optischer koerper mit reflexverminderndem mehrschichtenbelag
DE69620065T2 (de) Elektrisch leitender, Antireflektionsbelag
EP0531996B1 (de) Vorsatzaggregat für Bildschirme oder dergleichen
DE69823539T2 (de) Mehrschichtige elektroleitende antireflektierende beschichtung
DE3942990A1 (de) Belag, bestehend aus einem optisch wirkenden schichtsystem, fuer substrate, wobei das schichtsystem insbesondere eine hohe antireflexwirkung aufweist, und verfahren zur herstellung des belags
DE4117257B4 (de) Optisch wirkendes Schichtsystem mit hoher Antireflexwirkung für transparente Substrate
DE102017105372B4 (de) Transparentes Element mit einer Antireflex-Beschichtung und Verfahren zu dessen Herstellung
DE102017104523B4 (de) Verfahren zur Herstellung eines transparenten Elements mit einer Antireflex-Beschichtung mit stabiler Reflektivität und Farbe unter Winkel und unter Abrasion sowie nach dem Verfahren hergestelltes transparentes Element
DE3941795A1 (de) Optisch wirkende schicht fuer substrate, die insbesondere eine hohe antireflexwirkung aufweist, und verfahren zur herstellung der schicht
DE3941796A1 (de) Belag, bestehend aus einem optisch wirkenden schichtsystem, fuer substrate, wobei das schichtsystem insbesondere eine hohe antireflexwirkung aufweist, und verfahren zur herstellung des belags
DE3807600C2 (de) Niederreflektierender, hochtransparenter in Durch- als auch in Außenansicht neutral wirkender Sonnenschutz- und/oder wärmedämmender Belag für ein Substrat aus transparentem Material, Verfahren zur Herstellung des Belags sowie Verwendungen des Belags
WO2003104519A1 (de) Verfahren und vorrichtung zur beschichtung eines substrats mit einem schichtsystem (zno+ag) und beschichtetes substrat
DE2830723A1 (de) Verfahren zur herstellung von infrarotreflektierenden scheiben durch katodenzerstaeubung
DE19541014B4 (de) Antireflexschichtsystem und Verfahren zur Herstellung eines Antireflexschichtsystems
DE4117258A1 (de) Optisch wirkende schicht fuer substrate, die insbesondere eine hohe antireflexwirkung aufweist
DE69213782T2 (de) Verfahren zur Herstellung transparenter Zinkoxidfilme
DE10046810C5 (de) Verfahren zur Herstellung eines wärmereflektierenden Schichtsystems für transparente Substrate und danach hergestelltes Schichtsystem
DE4117256A1 (de) Belag, bestehend aus einem optisch wirkenden schichtsystem, fuer substrate, wobei das schichtsystem insbesondere eine hohe antireflexwirkung aufweist

Legal Events

Date Code Title Description
OM8 Search report available as to paragraph 43 lit. 1 sentence 1 patent law
AG Has addition no.

Ref country code: DE

Ref document number: 4117258

Format of ref document f/p: P

8127 New person/name/address of the applicant

Owner name: BALZERS UND LEYBOLD DEUTSCHLAND HOLDING AG, 63450

8110 Request for examination paragraph 44
8125 Change of the main classification

Ipc: C03C 17/22

8131 Rejection