NL1023880C2 - Emissieverhogende coating, voorwerp waarop de coating is aangebracht, en werkwijze voor het aanbrengen van de coating op een oppervlak. - Google Patents

Emissieverhogende coating, voorwerp waarop de coating is aangebracht, en werkwijze voor het aanbrengen van de coating op een oppervlak. Download PDF

Info

Publication number
NL1023880C2
NL1023880C2 NL1023880A NL1023880A NL1023880C2 NL 1023880 C2 NL1023880 C2 NL 1023880C2 NL 1023880 A NL1023880 A NL 1023880A NL 1023880 A NL1023880 A NL 1023880A NL 1023880 C2 NL1023880 C2 NL 1023880C2
Authority
NL
Netherlands
Prior art keywords
coating
conductive
coating according
metal
conductive film
Prior art date
Application number
NL1023880A
Other languages
English (en)
Inventor
Petrus Antonius Van Nijnatten
Original Assignee
Tno
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Tno filed Critical Tno
Priority to NL1023880A priority Critical patent/NL1023880C2/nl
Priority to PCT/NL2004/000449 priority patent/WO2005005689A1/en
Priority to US10/563,862 priority patent/US20060280958A1/en
Priority to AT04748679T priority patent/ATE491051T1/de
Priority to ES04748679T priority patent/ES2357579T3/es
Priority to EP04748679A priority patent/EP1654398B1/en
Priority to DE200460030453 priority patent/DE602004030453D1/de
Application granted granted Critical
Publication of NL1023880C2 publication Critical patent/NL1023880C2/nl

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C28/00Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D
    • C23C28/30Coatings combining at least one metallic layer and at least one inorganic non-metallic layer
    • C23C28/32Coatings combining at least one metallic layer and at least one inorganic non-metallic layer including at least one pure metallic layer
    • C23C28/322Coatings combining at least one metallic layer and at least one inorganic non-metallic layer including at least one pure metallic layer only coatings of metal elements only
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C28/00Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D
    • C23C28/30Coatings combining at least one metallic layer and at least one inorganic non-metallic layer
    • C23C28/34Coatings combining at least one metallic layer and at least one inorganic non-metallic layer including at least one inorganic non-metallic material layer, e.g. metal carbide, nitride, boride, silicide layer and their mixtures, enamels, phosphates and sulphates
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C28/00Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D
    • C23C28/30Coatings combining at least one metallic layer and at least one inorganic non-metallic layer
    • C23C28/34Coatings combining at least one metallic layer and at least one inorganic non-metallic layer including at least one inorganic non-metallic material layer, e.g. metal carbide, nitride, boride, silicide layer and their mixtures, enamels, phosphates and sulphates
    • C23C28/341Coatings combining at least one metallic layer and at least one inorganic non-metallic layer including at least one inorganic non-metallic material layer, e.g. metal carbide, nitride, boride, silicide layer and their mixtures, enamels, phosphates and sulphates with at least one carbide layer
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C28/00Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D
    • C23C28/30Coatings combining at least one metallic layer and at least one inorganic non-metallic layer
    • C23C28/34Coatings combining at least one metallic layer and at least one inorganic non-metallic layer including at least one inorganic non-metallic material layer, e.g. metal carbide, nitride, boride, silicide layer and their mixtures, enamels, phosphates and sulphates
    • C23C28/345Coatings combining at least one metallic layer and at least one inorganic non-metallic layer including at least one inorganic non-metallic material layer, e.g. metal carbide, nitride, boride, silicide layer and their mixtures, enamels, phosphates and sulphates with at least one oxide layer
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C28/00Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D
    • C23C28/30Coatings combining at least one metallic layer and at least one inorganic non-metallic layer
    • C23C28/34Coatings combining at least one metallic layer and at least one inorganic non-metallic layer including at least one inorganic non-metallic material layer, e.g. metal carbide, nitride, boride, silicide layer and their mixtures, enamels, phosphates and sulphates
    • C23C28/345Coatings combining at least one metallic layer and at least one inorganic non-metallic layer including at least one inorganic non-metallic material layer, e.g. metal carbide, nitride, boride, silicide layer and their mixtures, enamels, phosphates and sulphates with at least one oxide layer
    • C23C28/3455Coatings combining at least one metallic layer and at least one inorganic non-metallic layer including at least one inorganic non-metallic material layer, e.g. metal carbide, nitride, boride, silicide layer and their mixtures, enamels, phosphates and sulphates with at least one oxide layer with a refractory ceramic layer, e.g. refractory metal oxide, ZrO2, rare earth oxides or a thermal barrier system comprising at least one refractory oxide layer
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C28/00Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D
    • C23C28/40Coatings including alternating layers following a pattern, a periodic or defined repetition
    • C23C28/42Coatings including alternating layers following a pattern, a periodic or defined repetition characterized by the composition of the alternating layers
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/31504Composite [nonstructural laminate]
    • Y10T428/31678Of metal

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Ceramic Engineering (AREA)
  • Photovoltaic Devices (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)
  • Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
  • Surface Treatment Of Glass (AREA)

Description

f <
Titel: Emissieverhogende coating, voorwerp waarop de coating is aangebracht, en werkwijze voor het aanbrengen van de coating op een oppervlak
De uitvinding heeft betrekking op een emissieverhogende coating, een voorwerp waarop de coating volgens de uitvinding is aangebracht, en een werkwijze voor het aanbrengen van de coating op een oppervlak.
Een voorkomend probleem met voorwerpen waarvan het 5 oppervlak een lage emissiviteit heeft, is dat de warmte binnen het voorwerp niet goed te controleren is, waardoor het voorwerp te warm kan worden, hetgeen een nadelige invloed kan hebben op het functioneren van het voorwerp. Zo mag bijvoorbeeld wanneer het voorwerp een zonnecel is, het oppervlak niet een te lage emissiviteit hebben omdat anders ten gevolge van 10 de warmteontwikkeling in de actieve laag, de effectiviteit van de actieve laag nadelig wordt beïnvloed.
Het is bekend dat de emissiviteit van een oppervlak met lage emissiviteit verhoogd kan worden door op het oppervlak een coating aan te brengen van een niet-geleidend materiaal, waarbij de coating doorgaans uit 15 meerdere lagen van verschillende niet-geleidende materialen of een enkele dikke laag van een niet-geleidend materiaal is opgebouwd. Hierdoor is de totale dikte van een dergelijke coating hoog en ligt deze in de orde van grootte van de golflengten van de te emitteren straling of is deze nog groter, hetgeen het gebruik van anorganische coatings compliceert vanwege 20 spannings- en hechtingsproblemen met het substraat. Deze anorganische coatings zijn echter juist de materialen die de vakman bij voorkeur toepast vanwege hun goede temperatuur-, UV en gamma-stralingsbestendigheid.
Verrassenderwijs is nu gevonden dat de emissiviteit van een oppervlak met een lage emissiviteit bijzonder goed kan worden verhoogd 25 door op het oppervlak een dunne anorganische coating aan te brengen die is rn>P38 80*
Η I
I 2 I
I opgebouwd uit elektrisch geleidende films en niet-geleidende films die I
I afwisselend op elkaar zijn aangebracht. I
I De uitvinding heeft derhalve betrekking op een I
I emissieverhogende coating voor een oppervlak, welke coating tenminste één I
I 5 elektrisch geleidende film en tenminste twee niet-geleidende films omvat, I
I waarbij de geleidende en niet-geleidende films afwisselend op elkaar zijn I
I aangebracht. I
I Door gebruik te maken van de coating volgens de uitvinding kan I
I een emissiviteit van het oppervlak verkregen worden van meer dan 75 I
I 10 procent. I
I Bij voorkeur wordt de coating volgens de uitvinding toegepast op I
I een oppervlak met lage emissiviteit, bijvoorbeeld een emissiviteit lager dan I
I 25 procent. I
I In een geschikte uitvoeringsvorm is de totale dikte van de coating I
I 15 kleiner dan de golflengte van het door het oppervlak te emitteren straling. I
I Bij voorkeur is de totale dikte van de coating hoogstens 100 micrometer, bij I
I meer voorkeur hoogstens 20 micrometer, en bij nog grotere voorkeur I
I hoogstens 5 micrometer. I
I De coating is bij voorkeur opgebouwd uit twee of meer elektrisch
I 20 geleidende films en twee of meer niet-geleidende films. I
I De vakman zal begrijpen dat het aantal toe te passen elektrisch I
I geleidende films en niet-geleidende films afhangt van de toepassing van I
I coating. I
I De elektrisch geleidende film kan geschikt één of meer metalen I
I 25 omvatten die gekozen zijn uit de groep van zilver, goud, aluminium, koper, I
I chroom, nikkel en rhodium. Bij voorkeur zijn de één of meer metalen I
I gekozen uit de groep van chroom, nikkel en rhodium. I
I Ook kunnen de elektrisch geleidende films één of meer I
I halfgeleiders omvatten die gekozen zijn uit de groep van geleidende I
I 30 metaaloxides, geleidende nitrides, germanium, silicium, zinksulfide, I
1023880· I
3 zinkselenium en zinktellurium. Bij voorkeur zijn de halfgeleiders gedoteerde metaaloxides, bij nog meer voorkeur tin-gedoteerd indium-oxide, fluor-gedoteerd tinoxide, en aluminium-gedoteerd zinkoxide. De halfgeleiders zijn bij voorkeur transparant, dat wil zeggen dat ze transparant zijn voor 5 zichtbaar licht.
De niet-geleidende films omvatten geschikte niet-geleidende metaaloxiden, niet-geleidende fluoriden, niet geleidende carbides of niet-geleidende nitrides. Bij voorkeur worden siliciumoxide, titaniumoxide, aluminiumoxide, magnesiumfluoride, bariumfluoride of calciumfluoride 10 gebruikt. Bij nog meer voorkeur omvat de niet-geleidende film siliciumoxide.
De uitvinding heeft voorts betrekking op een voorwerp met een oppervlak met een lage emissiviteit waarop een coating volgens de 15 uitvinding is aangebracht.
De coating wordt normaal gesproken als toplaag op het voorwerp aangebracht.
In de coating volgens de uitvinding zijn de elektrisch geleidende en de niet-geleidende films afwisselend op elkaar aangebracht. Bij voorkeur is 20 op het oppervlak als eerste film een niet-geleidende film aangebracht. Op het oppervlak kan echter ook eerst een dunne geleidende film zijn aangebracht, alvorens de niet-geleidende films wordt aangebracht.
De geleidende en niet-geleidende films kunnen ieder als zodanig uit verschillende lagen zijn opgebouwd van respectievelijk geleidende en niet-25 geleidende materialen.
In een geschikte uitvoeringsvorm wordt de coating volgens de uitvinding toegepast in een zonnecel. De coating kan dan direct op de film van transparant geleidende oxides worden aangebracht. Wanneer de coating glasachtige materialen zoals siliciumoxide omvat zal zij ook direct als een 30 beschermende toplaag voor de zonnecel fungeren. In een andere en ook 1023880·
I 4 I
I geschikte uitvoeringsvorm van een zonnecel kan er een eerste coating I
I volgens de uitvinding als toplaag op de film van transparant geleidende I
I oxides worden aangebracht, terwijl er een tweede coating volgens de I
I uitvinding aan de onderkant van het substraat van de zonnecel wordt I
I 5 aangebracht. I
I Volgens de uitvinding kan de coating worden aangebracht op I
I voorwerpen met een oppervlak met lage emissiviteit. Dergelijke voorwerpen I
I zijn bij voorkeur zonnecellen die bijvoorbeeld in zonnepanelen gebruikt I
I kunnen worden, lichtreflectoren, lampen, metaalfolies, en voorwerpen die in I
I 10 vacuüm en ruimtevaarttoepassingen gebruikt kunnen worden. I
I De uitvinding heeft derhalve ook betrekking op een zonnecel, I
I lichtreflector of metaalfolie waarop een coating volgens de uitvinding is I
I aangebracht. I
I De uitvinding heeft tevens betrekking op een werkwijze voor I
I 15 het aanbrengen van de emissieverhogende coating volgens de uitvinding op I
I een oppervlak met lage emissiviteit, waarin de geleidende en niet- I
I geleidende films afwisselend op elkaar op het oppervlak zijn aangebracht. I
I Bij voorkeur wordt als eerste film een niet-geleidende film op het oppervlak I
I aangebracht. De films kunnen met de voor de vakman bekende methoden op I
I 20 het oppervlak en op elkaar worden aangebracht. Dergelijke methoden I
I omvatten de sputtermethode, de chemische dampafzettingsmethode en de I
I fysische dampafzettingsmethode. I
I Voorbeeld I
I 25 I
I Een coating volgens de onderhavige uitvinding bestaat uit volgende I
I 5 films: Film 1: 600 nm Si02 (niet-geleidende film) I
I Film 2: 34 nm tin-gedoteerd indium-oxide (geleidende film) I
I Film 3: 1360 nm Si02 (niet-geleidende film) I
I 30 Film 4: 53 nm tin-gedoteerd indium-oxide (geleidende film) I
1023880· I
5 · l
Film 5: 1310 nm Si02 (niet-geleidende film)
De coating heeft een totale dikte van 3357 nm, en film 1 is als eerste film aangebracht op een zonnecel met een elektrisch geleidende 470 5 nm dikke ZnO toplaag.
De thermische emissiviteit van de zonnecel werd gemeten met en zonder coating, waarbij wordt opgemerkt dat de thermische emissiviteit wordt gedefinieerd als een gemiddelde waarde over het gehele golflengtegebied, en er rekening wordt gehouden met de golflengte 10 afhankelijke energieverdeling. De respectievelijke waarden van de thermische emissiviteit zijn weergegeven In Figuur 1, waaruit duidelijk valt op te maken dat de thermische emissiviteit van de zonnecel bij kamertemperatuur voor het coaten 17% was, terwijl deze in aanwezigheid van de coating toeneemt tot 79%. Met andere woorden door gebruik te 15 maken van de coating volgens de uitvinding werd de thermische emissiviteit van de zonnecel ongeveer vijf keer zo groot.
1023880·

Claims (18)

1. Emissieverhogende coating voor een oppervlak, welke coating I tenminste één elektrisch geleidende film en tenminste twee niet-geleidende I films omvat, waarbij de geleidende en niet-geleidende films afwisselend op I elkaar zijn aangebracht. I
2. Coating volgens conclusie 1, waarin de totale dikte van de coating I kleiner is dan de golflengte van de door het oppervlak te emitteren straling. I
3. Coating volgens conclusie 1 of 2, waarin de totale dikte van de I 10 coating hoogstens 100 micrometer is. I
4. Coating volgens conclusie 3, waarin de totale dikte van de coating I hoogstens 20 micrometer is. I
5. Coating volgens één der conclusies 1-3, waarin de totale dikte van I de coating hoogstens 5 is. I
5 I
6. Coating volgens één der conclusies 1-5, waarin de elektrisch I geleidende film een metaal omvat. I
20 I
6 I CONCLUSIES I
7. Coating volgens conclusie 6, waarin de geleidende film een metaal I omvat dat gekozen is uit de groep van chroom, nikkel en rhodium. I
8 I niet-geleidende films afwisselend op elkaar op het oppervlak zijn I aangebracht. I Η
8. Coating volgens één der conclusies 1-7, waarin de elektrisch I 25 geleidende film een halfgeleider omvat dat gekozen is uit de groep van I gedoteerde metaaloxides , geleidende nitrides en carbides. I T0f888O· I
9. Coating volgens conclusie 8, waarin de halfgeleider gekozen is uit de groep van voorkeur tin-gedoteerd indium-oxide, fluor-gedoteerd tinoxide, en aluminium-gedoteerd zinkoxide.
10. Coating volgens één der conclusies 1-9, waarin de niet-geleidende film een niet-geleidend materiaal omvat dat gekozen is uit de groep van niet-geleidende metaaloxides, metaalfluoriden, metaalcarbides en metaalnitrides.
11. Coating volgens conclusie 10, waarin de niet-geleidende films siliciumoxide omvat.
12. Voorwerp met een oppervlak met een lage emissiviteit waarop een coating volgens één der conclusies 1-11 is aangebracht. 15
13. Voorwerp volgens conclusie 12, waarbij op het oppervlak als eerste film een niet-geleidende film is aangebracht.
14. Metaalfolie waarop een coating volgens één der conclusies 1-11 is 20 aangebracht.
15. Zonnecel waarop een coating volgens één der conclusies 1-11 is aangebracht.
16. Lichtreflector waarop een coating volgens één der conclusies 1-11 is aangebracht.
17. Werkwijze voor het aanbrengen van een emissieverhogende coating volgens één der conclusies 1-11 op een oppervlak, waarin de geleidende en f093880·
18. Werkwijze volgens conclusie 17, waarin op het oppervlak als eerste I 5 film een niet-geleidende film is aangebracht. I f0f3880· I
NL1023880A 2003-07-10 2003-07-10 Emissieverhogende coating, voorwerp waarop de coating is aangebracht, en werkwijze voor het aanbrengen van de coating op een oppervlak. NL1023880C2 (nl)

Priority Applications (7)

Application Number Priority Date Filing Date Title
NL1023880A NL1023880C2 (nl) 2003-07-10 2003-07-10 Emissieverhogende coating, voorwerp waarop de coating is aangebracht, en werkwijze voor het aanbrengen van de coating op een oppervlak.
PCT/NL2004/000449 WO2005005689A1 (en) 2003-07-10 2004-06-24 Emision enhancing coating, aticle to which the coating is applied and method for applying the coating to a surface
US10/563,862 US20060280958A1 (en) 2003-07-10 2004-06-24 Emission enhancing coating, article to which the coating is applied and method for applying the coating to a surface
AT04748679T ATE491051T1 (de) 2003-07-10 2004-06-24 Emissionsverbesserte beschichtung, beschichteter artikel und verfahren zum auftragen einer beschichtung
ES04748679T ES2357579T3 (es) 2003-07-10 2004-06-24 Recubrimiento que refuerza las emisiones, articulo al que se aplica el recubrimiento, y método de aplicación del recubrimiento a una superficie.
EP04748679A EP1654398B1 (en) 2003-07-10 2004-06-24 Emision enhancing coating, article to which the coating is applied and method for applying the coating to a surface
DE200460030453 DE602004030453D1 (de) 2003-07-10 2004-06-24 Emissionsverbesserte beschichtung, beschichteter artikel und verfahren zum auftragen einer beschichtung

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
NL1023880A NL1023880C2 (nl) 2003-07-10 2003-07-10 Emissieverhogende coating, voorwerp waarop de coating is aangebracht, en werkwijze voor het aanbrengen van de coating op een oppervlak.
NL1023880 2003-07-10

Publications (1)

Publication Number Publication Date
NL1023880C2 true NL1023880C2 (nl) 2005-01-11

Family

ID=34056981

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
NL1023880A NL1023880C2 (nl) 2003-07-10 2003-07-10 Emissieverhogende coating, voorwerp waarop de coating is aangebracht, en werkwijze voor het aanbrengen van de coating op een oppervlak.

Country Status (7)

Country Link
US (1) US20060280958A1 (nl)
EP (1) EP1654398B1 (nl)
AT (1) ATE491051T1 (nl)
DE (1) DE602004030453D1 (nl)
ES (1) ES2357579T3 (nl)
NL (1) NL1023880C2 (nl)
WO (1) WO2005005689A1 (nl)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102501461A (zh) * 2011-11-10 2012-06-20 中国航天科技集团公司第五研究院第五一〇研究所 一种柔性金属基底高吸热型金属陶瓷复合膜

Citations (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01226765A (ja) * 1988-03-07 1989-09-11 Tokai Konetsu Kogyo Co Ltd 遠赤外線放射部材
JPH0244678A (ja) * 1988-08-03 1990-02-14 Nippon Steel Corp 遠赤外線放射ヒーター材料
JPH02111644A (ja) * 1988-10-19 1990-04-24 Central Glass Co Ltd 車輛用合せガラス
JPH04160167A (ja) * 1990-10-24 1992-06-03 Nachi Fujikoshi Corp 遠赤外線放射体
JPH04357025A (ja) * 1990-07-05 1992-12-10 Asahi Glass Co Ltd 熱線遮断膜
US5251202A (en) * 1991-05-23 1993-10-05 Ricoh Company, Ltd. Optical information recording medium having multi-layered structures for preventing undesired reflection and electric charging
US5270517A (en) * 1986-12-29 1993-12-14 Ppg Industries, Inc. Method for fabricating an electrically heatable coated transparency
EP0698585A1 (en) * 1990-07-05 1996-02-28 Asahi Glass Company Ltd. A low emissivity film
EP0747330A1 (de) * 1995-06-08 1996-12-11 Balzers und Leybold Deutschland Holding Aktiengesellschaft Scheibe aus durchscheinendem Werkstoff sowie Verfahren zu ihrer Herstellung
US20030049464A1 (en) * 2001-09-04 2003-03-13 Afg Industries, Inc. Double silver low-emissivity and solar control coatings

Family Cites Families (21)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3395053A (en) * 1964-11-17 1968-07-30 Nasa Usa Thermal control coating
FR1497609A (fr) * 1966-08-31 1967-10-13 North American Aviation Inc Enduit de régulation du rayonnement pour surface thermoémissive
US4226897A (en) * 1977-12-05 1980-10-07 Plasma Physics Corporation Method of forming semiconducting materials and barriers
US4204125A (en) * 1978-03-27 1980-05-20 Minnesota Mining And Manufacturing Company High resolution X-ray intensifying screen with antireflecting substrate
US4410564A (en) * 1981-10-19 1983-10-18 Raivi S.A. Manufacturing process for heat emitting plates
US4735488A (en) * 1983-11-16 1988-04-05 Optical Coating Laboratory, Inc. Article and coating having improved reflectance suppression
US4828346A (en) * 1985-10-08 1989-05-09 The Boc Group, Inc. Transparent article having high visible transmittance
US4783373A (en) * 1986-04-18 1988-11-08 Optical Coating Laboratory, Inc. Article with thin film coating having an enhanced emissivity and reduced absorption of radiant energy
GB8619193D0 (en) * 1986-08-06 1987-01-14 Pilkington Perkin Elmer Ltd High emissivity article
US5147125A (en) * 1989-08-24 1992-09-15 Viratec Thin Films, Inc. Multilayer anti-reflection coating using zinc oxide to provide ultraviolet blocking
JPH03109237A (ja) * 1989-09-22 1991-05-09 Nippon Electric Glass Co Ltd 表面導電性高放射率ガラス製品
US5532062A (en) * 1990-07-05 1996-07-02 Asahi Glass Company Ltd. Low emissivity film
US5091244A (en) * 1990-08-10 1992-02-25 Viratec Thin Films, Inc. Electrically-conductive, light-attenuating antireflection coating
US5384142A (en) * 1993-06-21 1995-01-24 Recot, Inc. Process for preparing textured dough products
US5923021A (en) * 1995-06-19 1999-07-13 Symbol Technologies, Inc. Light collection systems in electro-optical readers
FR2752235B3 (fr) * 1996-08-07 1998-08-28 Saint Gobain Vitrage Substrat verrier muni d'une couche reflechissante
US5851679A (en) * 1996-12-17 1998-12-22 General Electric Company Multilayer dielectric stack coated part for contact with combustion gases
JPH11257A (ja) * 1997-06-09 1999-01-06 Sm Ind Co Ltd レールキャップ
US6165598A (en) * 1998-08-14 2000-12-26 Libbey-Owens-Ford Co. Color suppressed anti-reflective glass
US6188512B1 (en) * 1998-11-02 2001-02-13 Southwall Technologies, Inc. Dual titanium nitride layers for solar control
US6869644B2 (en) * 2000-10-24 2005-03-22 Ppg Industries Ohio, Inc. Method of making coated articles and coated articles made thereby

Patent Citations (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5270517A (en) * 1986-12-29 1993-12-14 Ppg Industries, Inc. Method for fabricating an electrically heatable coated transparency
JPH01226765A (ja) * 1988-03-07 1989-09-11 Tokai Konetsu Kogyo Co Ltd 遠赤外線放射部材
JPH0244678A (ja) * 1988-08-03 1990-02-14 Nippon Steel Corp 遠赤外線放射ヒーター材料
JPH02111644A (ja) * 1988-10-19 1990-04-24 Central Glass Co Ltd 車輛用合せガラス
JPH04357025A (ja) * 1990-07-05 1992-12-10 Asahi Glass Co Ltd 熱線遮断膜
EP0698585A1 (en) * 1990-07-05 1996-02-28 Asahi Glass Company Ltd. A low emissivity film
JPH04160167A (ja) * 1990-10-24 1992-06-03 Nachi Fujikoshi Corp 遠赤外線放射体
US5251202A (en) * 1991-05-23 1993-10-05 Ricoh Company, Ltd. Optical information recording medium having multi-layered structures for preventing undesired reflection and electric charging
EP0747330A1 (de) * 1995-06-08 1996-12-11 Balzers und Leybold Deutschland Holding Aktiengesellschaft Scheibe aus durchscheinendem Werkstoff sowie Verfahren zu ihrer Herstellung
US20030049464A1 (en) * 2001-09-04 2003-03-13 Afg Industries, Inc. Double silver low-emissivity and solar control coatings

Non-Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
J.B. HEANEY AND J.J. TRIOLO: "evaporated ag coated with double layers of al2o3 and silicon oxide to produce surface films with low solar absorptivity and high thermal emissivity", OPTICS COMMUNICATIONS, vol. 8, no. 3, - July 1973 (1973-07-01), pages 183 - 185, XP008028009 *
MARTIN P M ET AL: "MULTILAYER COATINGS AND OPTICAL MATERIALS FOR TUNED INFRARED EMITTANCE AND THERMAL CONTROL", MATERIALS RESEARCH SOCIETY SYMPOSIUM PROCEEDINGS, MATERIALS RESEARCH SOCIETY, PITTSBURG, PA, US, vol. 555, 30 November 1998 (1998-11-30), pages 3 - 12, XP001041357, ISSN: 0272-9172 *
PATENT ABSTRACTS OF JAPAN vol. 013, no. 549 (C - 662) 7 December 1989 (1989-12-07) *
PATENT ABSTRACTS OF JAPAN vol. 014, no. 205 (E - 0921) 26 April 1990 (1990-04-26) *
PATENT ABSTRACTS OF JAPAN vol. 014, no. 318 (C - 0738) 9 July 1990 (1990-07-09) *
PATENT ABSTRACTS OF JAPAN vol. 016, no. 455 (C - 0987) 22 September 1992 (1992-09-22) *
PATENT ABSTRACTS OF JAPAN vol. 017, no. 226 (M - 1405) 10 May 1993 (1993-05-10) *

Also Published As

Publication number Publication date
EP1654398B1 (en) 2010-12-08
EP1654398A1 (en) 2006-05-10
ES2357579T3 (es) 2011-04-27
DE602004030453D1 (de) 2011-01-20
WO2005005689A1 (en) 2005-01-20
US20060280958A1 (en) 2006-12-14
ATE491051T1 (de) 2010-12-15

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US20190152410A1 (en) Transparent radiative cooling films and structures comprising the same
JP5620479B2 (ja) 積層ガラス板およびその使用
Valkonen et al. Solar optical properties of thin films of Cu, Ag, Au, Cr, Fe, Co, Ni and Al
AR015088A1 (es) ARTíCULO REVESTIDO QUE COMPRENDE UNA O MÁS CAPAS DIELÉCTRICAS Y REFLECTIVAS INFRARROJAS DEPOSITADAS POR PULVERIZACIoN SOBRE UN SUSTRATO.
RU2009143666A (ru) Фронтальный электрод с прозрачным электропроводящим покрытием на структурированной стеклянной подложке для использования в фотоэлектрическом приборе и способ его изготовления
US9888566B2 (en) Enhanced bus bar system for aircraft transparencies
JP6643310B2 (ja) 低放射コーティング、及び低放射コーティングを含む窓戸用機能性建築資材
CN102781867A (zh) 光伏电池
NL1023880C2 (nl) Emissieverhogende coating, voorwerp waarop de coating is aangebracht, en werkwijze voor het aanbrengen van de coating op een oppervlak.
CN104854412B (zh) 光学选择膜
RU2019129499A (ru) Поддающееся термообработке изделие с покрытием, имеющее отражающие ик-излучение слои на основе нитрида циркония и оксида индия-олова
US8115991B2 (en) Switchable infrared filter
JP2018519232A (ja) 熱特性を有し、金属性の終端層を有し、かつ酸化された前終端層を有する積層体、を備えた基材
JPS6223016B2 (nl)
JP7004597B2 (ja) 放射冷却装置
EP3766172A1 (en) Photo voltaic module with enhanced light collection
US9643386B2 (en) Low emissivity film and window having the same
JP2018040883A (ja) 調光デバイス
Abbott et al. Cell‐Mounted Spectral Filters for Thermophotovoltaic Applications
US20210114939A1 (en) Method of producing an optically transparent film
Howari et al. Journal of Modern Materials
KR20160147693A (ko) 태양전지 모듈의 후면 반사용 다층코팅 기판 및 그 제조방법
JPH02284377A (ja) 遠赤外線放射性透明面状発熱体
PL181668B1 (pl) Sposób wytwarzania elementów czynnych ogniw słonecznych
KR20160110061A (ko) 저방사 필름 및 이를 포함하는 창문

Legal Events

Date Code Title Description
PD2B A search report has been drawn up
V1 Lapsed because of non-payment of the annual fee

Effective date: 20120201