ES2357579T3 - Recubrimiento que refuerza las emisiones, articulo al que se aplica el recubrimiento, y método de aplicación del recubrimiento a una superficie. - Google Patents

Recubrimiento que refuerza las emisiones, articulo al que se aplica el recubrimiento, y método de aplicación del recubrimiento a una superficie. Download PDF

Info

Publication number
ES2357579T3
ES2357579T3 ES04748679T ES04748679T ES2357579T3 ES 2357579 T3 ES2357579 T3 ES 2357579T3 ES 04748679 T ES04748679 T ES 04748679T ES 04748679 T ES04748679 T ES 04748679T ES 2357579 T3 ES2357579 T3 ES 2357579T3
Authority
ES
Spain
Prior art keywords
coating
conductive
metal
coating according
transparent
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
ES04748679T
Other languages
English (en)
Inventor
Petrus Antonius Van Nijnatten
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nederlandse Organisatie voor Toegepast Natuurwetenschappelijk Onderzoek TNO
Original Assignee
Nederlandse Organisatie voor Toegepast Natuurwetenschappelijk Onderzoek TNO
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nederlandse Organisatie voor Toegepast Natuurwetenschappelijk Onderzoek TNO filed Critical Nederlandse Organisatie voor Toegepast Natuurwetenschappelijk Onderzoek TNO
Application granted granted Critical
Publication of ES2357579T3 publication Critical patent/ES2357579T3/es
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C28/00Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D
    • C23C28/30Coatings combining at least one metallic layer and at least one inorganic non-metallic layer
    • C23C28/32Coatings combining at least one metallic layer and at least one inorganic non-metallic layer including at least one pure metallic layer
    • C23C28/322Coatings combining at least one metallic layer and at least one inorganic non-metallic layer including at least one pure metallic layer only coatings of metal elements only
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C28/00Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D
    • C23C28/30Coatings combining at least one metallic layer and at least one inorganic non-metallic layer
    • C23C28/34Coatings combining at least one metallic layer and at least one inorganic non-metallic layer including at least one inorganic non-metallic material layer, e.g. metal carbide, nitride, boride, silicide layer and their mixtures, enamels, phosphates and sulphates
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C28/00Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D
    • C23C28/30Coatings combining at least one metallic layer and at least one inorganic non-metallic layer
    • C23C28/34Coatings combining at least one metallic layer and at least one inorganic non-metallic layer including at least one inorganic non-metallic material layer, e.g. metal carbide, nitride, boride, silicide layer and their mixtures, enamels, phosphates and sulphates
    • C23C28/341Coatings combining at least one metallic layer and at least one inorganic non-metallic layer including at least one inorganic non-metallic material layer, e.g. metal carbide, nitride, boride, silicide layer and their mixtures, enamels, phosphates and sulphates with at least one carbide layer
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C28/00Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D
    • C23C28/30Coatings combining at least one metallic layer and at least one inorganic non-metallic layer
    • C23C28/34Coatings combining at least one metallic layer and at least one inorganic non-metallic layer including at least one inorganic non-metallic material layer, e.g. metal carbide, nitride, boride, silicide layer and their mixtures, enamels, phosphates and sulphates
    • C23C28/345Coatings combining at least one metallic layer and at least one inorganic non-metallic layer including at least one inorganic non-metallic material layer, e.g. metal carbide, nitride, boride, silicide layer and their mixtures, enamels, phosphates and sulphates with at least one oxide layer
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C28/00Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D
    • C23C28/30Coatings combining at least one metallic layer and at least one inorganic non-metallic layer
    • C23C28/34Coatings combining at least one metallic layer and at least one inorganic non-metallic layer including at least one inorganic non-metallic material layer, e.g. metal carbide, nitride, boride, silicide layer and their mixtures, enamels, phosphates and sulphates
    • C23C28/345Coatings combining at least one metallic layer and at least one inorganic non-metallic layer including at least one inorganic non-metallic material layer, e.g. metal carbide, nitride, boride, silicide layer and their mixtures, enamels, phosphates and sulphates with at least one oxide layer
    • C23C28/3455Coatings combining at least one metallic layer and at least one inorganic non-metallic layer including at least one inorganic non-metallic material layer, e.g. metal carbide, nitride, boride, silicide layer and their mixtures, enamels, phosphates and sulphates with at least one oxide layer with a refractory ceramic layer, e.g. refractory metal oxide, ZrO2, rare earth oxides or a thermal barrier system comprising at least one refractory oxide layer
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C28/00Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D
    • C23C28/40Coatings including alternating layers following a pattern, a periodic or defined repetition
    • C23C28/42Coatings including alternating layers following a pattern, a periodic or defined repetition characterized by the composition of the alternating layers
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/31504Composite [nonstructural laminate]
    • Y10T428/31678Of metal

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Ceramic Engineering (AREA)
  • Photovoltaic Devices (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)
  • Surface Treatment Of Glass (AREA)
  • Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)

Abstract

Recubrimiento para una célula solar que refuerza la emisividad, comprendiendo dicho recubrimiento, por lo menos, una película transparente conductora de la electricidad, en el que el grosor de cada película conductora de la electricidad es de 10 nm a 200 nm y, por lo menos, dos películas no conductoras que comprenden un material no conductor escogido entre el grupo de óxidos metálicos no conductores, fluoruros metálicos, carburos metálicos y nitruros metálicos, teniendo cada una de dichas películas no conductoras un grosor de 500 nm a 1.500 nm, y en el que las películas conductoras y no conductoras han sido aplicadas alternativamente unas encima de otras.

Description

La invención se refiere a un recubrimiento que refuerza las emisiones, a un artículo al cual se aplica el
recubrimiento y a un método para aplicar el recubrimiento a una superficie.
Un problema común de los artículos cuya superficie tiene una emisividad baja es que el calor en el interior del artículo no puede ser controlado de forma adecuada, de modo que el artículo se puede llegar a calentar demasiado, lo cual puede tener un efecto negativo en el funcionamiento del artículo. Por ejemplo, cuando el artículo es una célula solar, la superficie no debe tener una emisividad demasiado baja porque, en otro caso, como resultado de la generación de calor en la capa activa, la efectividad de la capa activa queda afectada negativamente.
Es sabido que se puede incrementar la emisividad de una superficie con una emisividad baja mediante la aplicación de un recubrimiento de un material no conductor a la superficie, estando compuesto habitualmente este recubrimiento por una serie de capas de materiales no conductores diferentes o por una capa única gruesa de un material no conductor. Como resultado, el grosor total de dicho recubrimiento es considerable y es del orden de magnitud de las longitudes de onda de la radiación a emitir, o incluso superior, lo que complica la utilización de recubrimientos inorgánicos debido a los problemas de tensiones y de adherencia con el substrato. Sin embargo, estos recubrimientos inorgánicos son precisamente los materiales utilizados preferentemente por los expertos debido a su buena resistencia a la temperatura, a las radiaciones UV y a los rayos gamma.
El documento US-A-5 251 202 da a conocer un substrato transparente sobre el que se aplica una capa antirreflectante. La capa antirreflectante está compuesta de una primera capa de una película transparente aislante, una capa transparente de una película conductora de la electricidad y una segunda capa transparente aislante. Las dos capas transparentes aislantes dadas a conocer en la Tabla 1 de este documento tienen un grosor de 116 nm y 228 nm, respectivamente. Debido a que la capa antirreflectante está depositada sobre un substrato transparente que ya tiene una emisividad elevada, los recubrimientos ocasionan una disminución de la emisividad del substrato.
Hass y otros (Opt. Commun. 1973, 8(3), 183-185) dan a conocer una técnica en la que se utiliza Ag evaporada recubierta con capas dobles de Al2O3 y de óxido de silicio para producir películas superficiales que tienen una baja capacidad de absorción de la radiación solar y unas emisividades normal y hemisférica elevadas. En este diseño, las capas de Al2O3 y de óxido de silicio no tienen cada una de ellas un grosor de 500 a 1.500 nm. Además, la película de Ag y las películas no conductoras no se aplican de forma alternativa una encima de otra.
De forma sorprendente se ha descubierto que la emisividad de una superficie con una emisividad baja puede incrementarse particularmente de una forma adecuada mediante la aplicación a la superficie de un recubrimiento inorgánico de grosor reducido, estando compuesto dicho recubrimiento, por lo menos, de una película transparente conductora de la electricidad y de películas no conductoras que han sido aplicadas alternativamente una encima de otra.
Por consiguiente, la invención se refiere a un recubrimiento para una célula solar que refuerza la emisión, comprendiendo dicho recubrimiento, por lo menos, una película transparente conductora de la electricidad en la que el grosor de cada película conductora de la electricidad es de 10 nm a 200 nm, y, por lo menos, dos películas no conductoras, que comprenden un material no conductor escogido de entre un grupo de materiales no conductores: óxidos metálicos, fluoruros metálicos, carburos metálicos y nitruros metálicos, cuyas películas no conductoras tienen cada una de ellas un grosor de 500 nm a 1.500 nm, y en el que las películas conductoras y no conductoras han sido aplicadas alternativamente una encima de otra.
Mediante la utilización del recubrimiento según la invención puede obtenerse una emisividad de la superficie superior al 75 por ciento.
Preferentemente, el recubrimiento según la invención se aplica a una superficie con una emisividad baja, por ejemplo, una emisividad inferior al 25 por ciento.
En una realización adecuada, el grosor total del recubrimiento es menor que la longitud de onda de la radiación emitida por la superficie. Preferentemente, el grosor total del recubrimiento es, como máximo, de 100 micras, más preferentemente, como máximo de 20 micras, y todavía más preferentemente, como máximo, de 5 micras.
Preferentemente, por lo menos, una de las dos películas no conductoras es transparente, y todavía más preferentemente, cada una de las dos películas no conductoras es transparente.
Las películas transparentes, tales como las utilizadas en la presente invención, son transparentes a la luz visible.
El recubrimiento está formado preferentemente de dos o más películas conductoras de la electricidad y dos o más películas no conductoras. Por lo menos, una de las películas conductoras de la electricidad es transparente. Preferentemente, dos o más películas conductoras de la electricidad son transparentes, y todavía más preferentemente, todas las películas conductoras de la electricidad presentes son transparentes.
2
Un experto en la materia comprenderá que el número de películas conductoras de la electricidad y de películas no conductoras a utilizar depende de la utilización del recubrimiento.
El grosor de cada película conductora de la electricidad es de 10 nm a 200 nm, preferentemente de 10 nm a 150 nm.
El grosor de cada película no conductora es de 500 nm a 1.500 nm.
La película transparente conductora de la electricidad puede comprender de forma adecuada uno o varios metales escogidos de entre el grupo de oro, aluminio, cobre, cromo, níquel y rodio. Preferentemente, el metal o los varios metales están escogidos de entre el grupo de cromo, níquel y rodio.
Asimismo, las películas conductoras de la electricidad pueden comprender uno o varios semiconductores escogidos de entre el grupo de óxidos metálicos conductores, nitruros conductores, germanio, silicio, sulfuro de cinc, seleniuro de cinc y teluriuro de cinc. Preferentemente, los semiconductores son óxidos metálicos dopados, todavía más preferentemente óxido de indio dopado con estaño, óxido de estaño dopado con fluor y óxido de cinc dopado con aluminio.
Las películas no conductoras comprenden óxidos metálicos no conductores adecuados, fluoruros no conductores, carburos no conductores o nitruros no conductores. Preferentemente, se utilizan óxido de silicio, óxido de titanio, óxido de aluminio, fluoruro de magnesio, fluoruro de bario o fluoruro de calcio. Todavía más preferentemente, la película no conductora comprende óxido de silicio.
La invención se refiere además a un artículo con una superficie con una emisividad baja a la cual ha sido aplicado un recubrimiento según la invención.
Habitualmente, el recubrimiento se aplica al artículo formando la capa superior.
En el recubrimiento según la invención, las películas conductoras de la electricidad y las no conductoras, han sido aplicadas alternativamente una encima de otra. Preferentemente, como primera película, se ha aplicado a la superficie una película no conductora, todavía más preferentemente una película transparente no conductora. No obstante, antes de aplicar las películas no conductoras, puede haber sido aplicada asimismo primero a la superficie, de forma opcional, una película transparente de grosor reducido.
Las películas conductoras y no conductoras pueden estar formadas cada una de ellas de capas diferentes de materiales conductores y no conductores, respectivamente.
En una realización adecuada, se utiliza el recubrimiento según la invención en una célula solar. El recubrimiento puede ser aplicado entonces directamente a la película transparente de óxidos conductores. Cuando el recubrimiento comprende materiales similares al cristal, tales como óxido de silicio, actuará asimismo directamente como una capa superior de protección de la célula solar. En una realización diferente e igualmente adecuada de una célula solar, puede aplicarse un primer recubrimiento según la invención como la capa superior a la película transparente de óxidos conductores, mientras que se aplica un segundo recubrimiento según la invención al lado inferior del substrato de la célula solar.
El recubrimiento puede ser aplicado a artículos con una superficie de una emisividad baja. Dichos artículos son preferentemente células solares que pueden ser utilizados, por ejemplo, en paneles solares, reflectores de la luz, lámparas, láminas metálicas y artículos que pueden ser utilizados en aplicaciones espaciales y en el vacío.
La invención se refiere asimismo a una célula solar, un reflector de la luz o una lámina metálica a los cuales les ha sido aplicado un recubrimiento según la invención.
Asimismo, se da a conocer un método para aplicar el recubrimiento que refuerza la emisión según la invención, a una superficie con una emisividad baja, en la que las películas conductoras y no conductoras han sido aplicadas de forma alternada a la superficie, unas encima de otras. Preferentemente, como primera película se aplica a la superficie una película no conductora, y todavía más preferentemente, una película transparente no conductora. Las películas pueden ser aplicadas a la superficie y una encima de otra con métodos conocidos por los expertos. Dichos métodos comprenden el método de bombardeo iónico, el método de depósito químico de vapor y el método de depósito físico de vapor.
3

Claims (15)

  1. REIVINDICACIONES
    1. Recubrimiento para una célula solar que refuerza la emisividad, comprendiendo dicho recubrimiento, por lo menos, una película transparente conductora de la electricidad, en el que el grosor de cada película conductora de la electricidad es de 10 nm a 200 nm y, por lo menos, dos películas no conductoras que comprenden un material no conductor escogido entre el grupo de óxidos metálicos no conductores, fluoruros metálicos, carburos metálicos y nitruros metálicos, teniendo cada una de dichas películas no conductoras un grosor de 500 nm a
    1.500
    nm, y en el que las películas conductoras y no conductoras han sido aplicadas alternativamente unas encima de otras.
  2. 2.
    Recubrimiento, según la reivindicación 1, en el que el grosor total del recubrimiento es menor que la longitud de onda de la radiación a emitir por la superficie.
  3. 3.
    Recubrimiento, según la reivindicación 1 ó 2, en el que el grosor total del recubrimiento es, como máximo, de 100 micras.
  4. 4.
    Recubrimiento, según la reivindicación 3, en el que el grosor total del recubrimiento es, como máximo, de 20 micras.
  5. 5.
    Recubrimiento, según la reivindicación 4, en el que el grosor total del recubrimiento es, como máximo, de 5 micras.
  6. 6.
    Recubrimiento, según cualquiera de las reivindicaciones 1 a 5, en el que la película conductora de la electricidad comprende un metal.
  7. 7.
    Recubrimiento, según la reivindicación 6, en el que la película conductora de la electricidad comprende un metal escogido de entre el grupo de cromo, níquel y rodio.
  8. 8.
    Recubrimiento, según cualquiera de las reivindicaciones 1 a 7, en el que la película transparente conductora de la electricidad comprende un semiconductor escogido de entre el grupo de óxidos metálicos dopados, nitruros conductores y carburos.
  9. 9.
    Recubrimiento, según la reivindicación 8, en el que el semiconductor ha sido escogido, preferentemente, entre el grupo de óxido de indio dopado con estaño, óxido de estaño dopado con fluor y óxido de cinc dopado con aluminio.
  10. 10.
    Recubrimiento, según cualquiera de las reivindicaciones 1 a 9, en el que cada una de las películas conductoras y no conductoras de la electricidad es transparente.
  11. 11.
    Recubrimiento, según cualquiera de las reivindicaciones 1 a 10, en el que la película no conductora comprende un material no conductor escogido entre el grupo de óxidos metálicos no conductores, fluoruros metálicos, carburos metálicos y nitruros metálicos.
  12. 12.
    Recubrimiento, según la reivindicación 11, en el que las películas no conductoras comprenden óxido de silicio.
  13. 13.
    Célula solar con una superficie de una emisividad baja a la cual se ha aplicado un recubrimiento, según cualquiera de las reivindicaciones 1 a 12.
  14. 14.
    Célula solar, según la reivindicación 13, en la que como primera película se ha aplicado a la superficie una película transparente no conductora.
  15. 15.
    Lámina metálica de una célula solar a la que se ha aplicado un recubrimiento, según una cualquiera de las reivindicaciones 1 a 12.
    4
ES04748679T 2003-07-10 2004-06-24 Recubrimiento que refuerza las emisiones, articulo al que se aplica el recubrimiento, y método de aplicación del recubrimiento a una superficie. Expired - Lifetime ES2357579T3 (es)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
NL1023880A NL1023880C2 (nl) 2003-07-10 2003-07-10 Emissieverhogende coating, voorwerp waarop de coating is aangebracht, en werkwijze voor het aanbrengen van de coating op een oppervlak.
NL1023880 2003-07-10

Publications (1)

Publication Number Publication Date
ES2357579T3 true ES2357579T3 (es) 2011-04-27

Family

ID=34056981

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
ES04748679T Expired - Lifetime ES2357579T3 (es) 2003-07-10 2004-06-24 Recubrimiento que refuerza las emisiones, articulo al que se aplica el recubrimiento, y método de aplicación del recubrimiento a una superficie.

Country Status (7)

Country Link
US (1) US20060280958A1 (es)
EP (1) EP1654398B1 (es)
AT (1) ATE491051T1 (es)
DE (1) DE602004030453D1 (es)
ES (1) ES2357579T3 (es)
NL (1) NL1023880C2 (es)
WO (1) WO2005005689A1 (es)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102501461A (zh) * 2011-11-10 2012-06-20 中国航天科技集团公司第五研究院第五一〇研究所 一种柔性金属基底高吸热型金属陶瓷复合膜

Family Cites Families (31)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3395053A (en) * 1964-11-17 1968-07-30 Nasa Usa Thermal control coating
FR1497609A (fr) * 1966-08-31 1967-10-13 North American Aviation Inc Enduit de régulation du rayonnement pour surface thermoémissive
US4226897A (en) * 1977-12-05 1980-10-07 Plasma Physics Corporation Method of forming semiconducting materials and barriers
US4204125A (en) * 1978-03-27 1980-05-20 Minnesota Mining And Manufacturing Company High resolution X-ray intensifying screen with antireflecting substrate
US4410564A (en) * 1981-10-19 1983-10-18 Raivi S.A. Manufacturing process for heat emitting plates
US4735488A (en) * 1983-11-16 1988-04-05 Optical Coating Laboratory, Inc. Article and coating having improved reflectance suppression
US4828346A (en) * 1985-10-08 1989-05-09 The Boc Group, Inc. Transparent article having high visible transmittance
US4783373A (en) * 1986-04-18 1988-11-08 Optical Coating Laboratory, Inc. Article with thin film coating having an enhanced emissivity and reduced absorption of radiant energy
GB8619193D0 (en) * 1986-08-06 1987-01-14 Pilkington Perkin Elmer Ltd High emissivity article
US5270517A (en) * 1986-12-29 1993-12-14 Ppg Industries, Inc. Method for fabricating an electrically heatable coated transparency
JPH01226765A (ja) * 1988-03-07 1989-09-11 Tokai Konetsu Kogyo Co Ltd 遠赤外線放射部材
JPH0244678A (ja) * 1988-08-03 1990-02-14 Nippon Steel Corp 遠赤外線放射ヒーター材料
JPH02111644A (ja) * 1988-10-19 1990-04-24 Central Glass Co Ltd 車輛用合せガラス
US5147125A (en) * 1989-08-24 1992-09-15 Viratec Thin Films, Inc. Multilayer anti-reflection coating using zinc oxide to provide ultraviolet blocking
JPH03109237A (ja) * 1989-09-22 1991-05-09 Nippon Electric Glass Co Ltd 表面導電性高放射率ガラス製品
JP3053668B2 (ja) * 1990-07-05 2000-06-19 旭硝子株式会社 熱線遮断膜
CA2046161C (en) * 1990-07-05 2001-08-21 Masami Miyazaki Low emissivity film
US5532062A (en) * 1990-07-05 1996-07-02 Asahi Glass Company Ltd. Low emissivity film
US5091244A (en) * 1990-08-10 1992-02-25 Viratec Thin Films, Inc. Electrically-conductive, light-attenuating antireflection coating
JPH04160167A (ja) * 1990-10-24 1992-06-03 Nachi Fujikoshi Corp 遠赤外線放射体
US5251202A (en) * 1991-05-23 1993-10-05 Ricoh Company, Ltd. Optical information recording medium having multi-layered structures for preventing undesired reflection and electric charging
US5384142A (en) * 1993-06-21 1995-01-24 Recot, Inc. Process for preparing textured dough products
DE19520843A1 (de) * 1995-06-08 1996-12-12 Leybold Ag Scheibe aus durchscheinendem Werkstoff sowie Verfahren zu ihrer Herstellung
US5923021A (en) * 1995-06-19 1999-07-13 Symbol Technologies, Inc. Light collection systems in electro-optical readers
FR2752235B3 (fr) * 1996-08-07 1998-08-28 Saint Gobain Vitrage Substrat verrier muni d'une couche reflechissante
US5851679A (en) * 1996-12-17 1998-12-22 General Electric Company Multilayer dielectric stack coated part for contact with combustion gases
JPH11257A (ja) * 1997-06-09 1999-01-06 Sm Ind Co Ltd レールキャップ
US6165598A (en) * 1998-08-14 2000-12-26 Libbey-Owens-Ford Co. Color suppressed anti-reflective glass
US6188512B1 (en) * 1998-11-02 2001-02-13 Southwall Technologies, Inc. Dual titanium nitride layers for solar control
US6869644B2 (en) * 2000-10-24 2005-03-22 Ppg Industries Ohio, Inc. Method of making coated articles and coated articles made thereby
US20030049464A1 (en) * 2001-09-04 2003-03-13 Afg Industries, Inc. Double silver low-emissivity and solar control coatings

Also Published As

Publication number Publication date
WO2005005689A1 (en) 2005-01-20
US20060280958A1 (en) 2006-12-14
NL1023880C2 (nl) 2005-01-11
DE602004030453D1 (de) 2011-01-20
ATE491051T1 (de) 2010-12-15
EP1654398A1 (en) 2006-05-10
EP1654398B1 (en) 2010-12-08

Similar Documents

Publication Publication Date Title
ES2607845T3 (es) Artículo reflectante
US9397240B2 (en) Corrosion resistant solar mirror
ES2347494T3 (es) Electrodo frontal a base de oxido de cinc dopado con itrio para su uso en dispositivo fotovoltaico similares.
US20070241668A1 (en) Organic, Eelectro-Optical Element With Increased Decoupling Efficiency
ES2668200T3 (es) Sistema mejorado de barra colectora para transparencias de aeronaves
JP2015505790A (ja) 銀層の熱処理方法
BR122020007335B1 (pt) Método para preparar um substrato de extração de luz
ES2357579T3 (es) Recubrimiento que refuerza las emisiones, articulo al que se aplica el recubrimiento, y método de aplicación del recubrimiento a una superficie.
US11810992B2 (en) Photovoltaic module with enhanced light collection
JP7004597B2 (ja) 放射冷却装置
US8710496B2 (en) Organic light emitting diode device and fabrication method thereof
ES2579053T3 (es) Tubo receptor de calor, método para fabricar el tubo receptor de calor, captador cilindro-parabólico con el tubo receptor y uso del captador cilindro-parabólico
CN104081230A (zh) 红外线反射薄膜
JP2013532114A (ja) 高温用途のためのライニング材料または反射鏡材料
JPH0258735B2 (es)
Medwick et al. Corrosion resistant solar mirror
KR20210065723A (ko) 증발원 및 이를 포함하는 박막 증착 장치
ES2356176T3 (es) Sustrato con una capa altamente conductora.
JPH0330264B2 (es)
JPH0148346B2 (es)
JP2002222976A (ja) 光電変換装置
KR950020958A (ko) 열선반사 램프
JPS597197B2 (ja) 薄膜発光素子の製造方法