CN104081230A - 红外线反射薄膜 - Google Patents

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CN104081230A CN201380007366.5A CN201380007366A CN104081230A CN 104081230 A CN104081230 A CN 104081230A CN 201380007366 A CN201380007366 A CN 201380007366A CN 104081230 A CN104081230 A CN 104081230A
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藤泽润一
大森裕
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Abstract

本发明提供在基材的一侧的面上依次层叠有反射层和保护层的红外线反射薄膜。该保护层为包含特定的高分子的层，保护层表面的动摩擦因数为0.001～0.45。

Description

红外线反射薄膜
技术领域
本发明涉及在可见光区域具有高透射性且在红外光区域具有高反射性的红外线反射薄膜。
背景技术
红外线反射薄膜主要用于抑制辐射的太阳光的热影响。例如，通过在建筑物、汽车等的窗玻璃上粘贴红外线反射薄膜来屏蔽穿过窗玻璃入射到室内的红外线(尤其是近红外线)，抑制室内温度的上升，由此，能够抑制冷气设备的功耗、实现节能化。
在红外线的反射中会使用基于金属、金属氧化物的层叠结构的红外线反射层。然而，金属、金属氧化物的耐磨性低。因此，在红外线反射薄膜中，通常在红外线反射层上设置保护层。例如，专利文献1中公开了将聚丙烯腈(PAN)用作保护层的材料。聚丙烯腈这样的高分子的红外线的吸收率低，能够屏蔽从室内穿过透光性部件而向外射出的远红外线，因此，还能够实现在冬季、室外温度降低之类的夜间时由绝热效果带来的节能化。
将聚丙烯腈这样的高分子用作保护层的材料时，保护层通过如下操作步骤来形成：首先，使高分子溶解于溶剂从而制备溶液；在红外线反射层上涂布该溶液；接着，使溶液干燥(使溶剂挥发)。
现有技术文献
专利文献
专利文献1：日本特公昭61-51762号公报
发明内容
发明要解决的问题
另外，已知可溶解聚丙烯腈的溶剂只有二甲基甲酰胺(DMF)(沸点：153℃)那样的高沸点溶剂。溶剂的沸点高时，可以通过提高干燥工序的温度来降低干燥工序的时间，但基材为高分子材料时，存在基材因高温而受损的可能性。因此，需要在基材不会受损的程度的温度下进行干燥工序，存在保护层的材料使用聚丙烯腈时干燥工序长时间持续的课题。为了解决该课题，发明人等发现了：将可溶于甲乙酮(MEK)(沸点：80℃)等沸点低的溶剂的丙烯腈与其它单体成分的共聚物用于保护层。
然而，发明人等面临着如下问题：对于丙烯腈与其它单体成分的共聚物而言，保护层的表面不具有充分的滑移性(滑动性)。将聚丙烯腈用于保护层而得到的红外线反射薄膜的滑移性是充分的，因此推测滑移性的问题是由其它单体成分引起的。保护层表面的滑移性差时，例如，在对粘贴有红外线反射薄膜的建筑物、汽车的窗户进行清扫时会产生如下问题：过度的力(应力)作用于该保护层表面，保护层遭到部分性或整体性的破坏，露出耐磨性低的红外线反射层。
因而，本发明是鉴于所述情况而进行的，其课题在于，提供滑移性(滑动性)优异的红外线反射薄膜。
用于解决问题的方案
一种红外线反射薄膜，其在基材的一侧的面上依次层叠有反射层和保护层，
该保护层为包含高分子的层，所述高分子包含下述化学式I的重复单元A、B和C中的至少两种以上重复单元，
前述保护层表面的动摩擦因数为0.001～0.45。
[化学式I]
(R1：H或甲基，R2～R5：H、碳数为1～4的烷基或链烯基)
此处，作为本发明所涉及的红外线反射薄膜的一个方式，可以使前述保护层侧表面的法向发射率为0.20以下。
另外，作为本发明所涉及的红外线反射薄膜的一个方式，可以使前述保护层还包含用于构成前述保护层表面的有机硅成分，
该有机硅成分的量为0.0001～1.0000g/m2。
发明的效果
根据本发明，能够提供滑移性(滑动性)优异的红外线反射薄膜。
附图说明
图1示出了用于说明本发明的一个实施方式的红外线反射薄膜的层叠结构的示意图。
图2示出了用于测定本发明的一个实施方式的红外线反射薄膜的动摩擦因数的球盘(ball on disk)型摩擦磨损试验机的试验部的基本构成的图。
具体实施方式
以下，针对本发明的一个实施方式所述的红外线反射薄膜进行说明。需要说明的是，本实施方式所涉及的红外线反射薄膜是在现有的红外线反射薄膜所具有的隔热特性(近红外线的反射特性)的基础上，还兼有绝热特性(远红外线的反射特性)的红外线反射薄膜。
如图1所示，本实施方式的红外线反射薄膜采用了在基材1的一侧的面1a上依次层叠反射层2和保护层3、并在另一侧的面1b上设置粘合层4的层结构。
基材1使用聚酯系薄膜，例如可以使用由聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯、聚对苯二甲酸丙二醇酯、聚对苯二甲酸丁二醇酯、聚对苯二甲酸环己撑二亚甲基酯、或者组合了其中两种以上的混合树脂制成的薄膜。其中，在它们当中，从性能方面来看，优选为聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)薄膜，特别适合的是双轴拉伸聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)薄膜。
反射层2为在基材1的表面(一侧的面)1a上通过蒸镀而形成的蒸镀层。作为该蒸镀层的形成方法，例如有溅射、真空蒸镀、离子镀等物理蒸镀(PVD)。此处，在真空蒸镀中，通过在真空中用电阻加热、电子束加热、激光加热、电弧放电等方法而使蒸镀物质加热蒸发，从而在基材1上形成反射层2。另外，在溅射中，通过在存在有氩等非活性气体的真空中，使利用辉光放电等进行了加速的Ar+等阳离子冲击靶材(蒸镀物质)并使蒸镀物质溅射蒸发，从而在基材1上形成反射层2。离子镀是组合了真空蒸镀和溅射的方式的蒸镀方法。在该方法中，通过在真空中对利用加热而释放出的蒸发原子在电场中进行离子化和加速，使其在高能状态下附着在基材1上，从而形成反射层2。
反射层2呈用一对金属氧化物层2b、2c夹着半透明金属层2a而成的多层结构，使用上述蒸镀层的形成方法，首先，在基材1的表面(一侧的面)1a上蒸镀金属氧化物层2b，接着，在金属氧化物层2b上蒸镀半透明金属层2a，最后，在半透明金属层2a上蒸镀金属氧化物层2c，从而形成。半透明金属层2a可以使用例如：铝(Al)、银(Ag)、银合金(MgAg、Ag-Pd-Cu合金(APC)、AgCu、AgAuCu、AgPd、AgAu等)、铝合金(AlLi、AlCa、AlMg等)、或者组合其中两种或两层以上的金属材料。金属氧化物层2b、2c是用于赋予反射层2以透明性、防止半透明金属层2a的劣化的层，可以使用例如：氧化铟锡(ITO)、氧化铟钛(IT)、氧化铟锌(IZO)、氧化镓锌(GZO)、氧化铝锌(AZO)、氧化镓铟(IGO)等氧化物。
保护层3为包含高分子的层，所述高分子包含下述化学式I的重复单元A、B和C中的至少两种以上重复单元。作为化学式I中的R1，可以使用H、甲基。另外，作为化学式I中的R2～R5，可以使用H、碳数为1～4的烷基或链烯基。另外，由重复单元A、B和C构成且使用H来作为R1～R5的是氢化丁腈橡胶(HNBR)。
[化学式I]
(R1：H或甲基，R2～R5：H、碳数为1～4的烷基或链烯基)
作为用于获得这些高分子的单体成分，例如可列举出：化学式II所示的丙烯腈(重复单元D)及其衍生物、碳数为4的烷基(重复单元E)及其衍生物、以及丁二烯(重复单元F1或F2)及他们的衍生物的共聚物等。此处，R6表示H或甲基，R7～R18表示H或碳数为1～4的烷基。需要说明的是，F1、F2分别表示丁二烯发生聚合的重复单元，F1成为主要的重复单元。另外，这些高分子也可以是化学式II的丙烯腈(重复单元D)及其衍生物、1,3-丁二烯(重复单元F1)及其衍生物的共聚物即丁腈橡胶、丁腈橡胶中包含的双键的一部分或全部被氢化了的氢化丁腈橡胶。
[化学式II]
(R6：H或甲基，R7～R18：H或碳数为1～4的烷基)
使用部分地截取出上述共聚物的化学式III，针对由丙烯腈、丁二烯以及烷基聚合而成的共聚物与各重复单元A、B和C的关系进行说明。化学式III截取出了用于保护层3的高分子链的一部分，其依次地键合了1,3-丁二烯(重复单元F1)、丙烯腈(重复单元D)以及1,3-丁二烯(重复单元F1)。需要说明的是，化学式III示出了R7、R11～R14为H的键合例。在化学式III中，左侧的丁二烯与丙烯腈的键合了氰基(-CN)的一侧键合，丙烯腈的未键合氰基(-CN)的一侧形成有右侧的丁二烯。在这样的键合例中包含1个重复单元A、1个重复单元B以及2个重复单元C。其中，其为如下组合：重复单元A包含左侧的丁二烯的右侧的碳原子以及丙烯腈的与氰基(-CN)键合的碳原子，重复单元B包含丙烯腈的未与氰基(-CN)键合的碳原子以及右侧的丁二烯的左侧的碳原子。所以，左侧的丁二烯的最左侧的碳原子和右侧的丁二烯的最右侧的碳原子根据要键合的分子的种类而成为重复单元A或重复单元B的一部分碳原子。
[化学式III]
所述保护层3是按照如下操作步骤形成的：使上述的高分子(根据需要与交联剂一起)溶解于溶剂从而制备溶液，在反射层2上涂布该溶液，接着，使溶液干燥(使溶剂挥发)。溶剂为可溶解上述高分子的溶剂，例如可以使用甲乙酮(MEK)、二氯甲烷(dichloromethane)等溶剂。需要说明的是，甲乙酮、二氯甲烷是低沸点的溶剂(甲乙酮为79.5℃、二氯甲烷为40℃)。因此，使用这些溶剂时能够以低的干燥温度使溶剂挥发，由此基材1(或反射层2)不会受到热损伤。
关于保护层3的厚度，作为下限值，为1μm以上。优选为3μm以上。另外，作为上限值，为20μm以下。优选为15μm以下。更优选为10μm以下。保护层3的厚度小时，虽然红外线的反射特性变高但耐磨性受损，无法充分地发挥作为保护层3的功能。保护层3的厚度大时，红外线反射薄膜的绝热特性变差。保护层3的厚度处于上述范围内时，可以获得红外线的吸收小且能适当地保护反射层2的保护层3。
另外，法向发射率如JIS R3106中规定的那样，用法向发射率(εn)＝1-光谱反射率(ρn)来表示。光谱反射率ρn是在常温的热辐射的波长区域5～50μm下测定的。5～50μm的波长区域为远红外线区域，远红外线的波长区域的反射率越高，则法向发射率越小。
另外，化学式I中的k与l与m的比率优选达到k:l:m＝5～50重量％:25～85重量％:0～60重量％(其中，k与l与m的总和为100重量％)。更优选为k:l:m＝15～40重量％:55～85重量％:0～20重量％(其中，k与l与m的总和为100重量％)。进一步优选为k:l:m＝25～40重量％:55～75重量％:0～10重量％(其中，k与l与m的总和为100重量％)。
另外，从对保护层3赋予良好的耐溶剂性的观点出发，保护层3优选具有高分子彼此交联的结构。通过使高分子彼此交联，保护层3的耐溶剂性提高，即使在可溶解高分子的溶剂接触保护层3的情况下，也能够防止保护层3溶出。
作为对高分子彼此间赋予交联结构的手段，可列举出使溶液干燥后照射电子射线的方法。关于电子射线的累积照射剂量，作为下限值，为50kGy以上。优选为100kGy以上。更优选为200kGy以上。另外，作为上限值，为1000kGy以下。优选为600kGy以下。更优选为400kGy以下。需要说明的是，关于累积照射剂量，在照射1次电子射线的情况下是指其照射剂量，在照射多次电子射线的情况下是指其照射剂量的总和。电子射线的单次照射剂量优选为300kGy以下。如果电子射线的累积照射剂量在上述范围内，则能够获得高分子彼此的充分交联。另外，如果电子射线的累积照射剂量在上述范围内，则能够将照射电子射线而产生的高分子、基材1的黄变抑制在最小限度，能够获得着色少的红外线反射薄膜。需要说明的是，这些电子射线的照射条件为加速电压150kV下的照射条件。
另外，优选的是，在使高分子溶解于溶剂时或者使高分子溶解于溶剂后，添加自由基聚合型单体等多官能单体之类的交联剂。特别优选(甲基)丙烯酸酯系单体的自由基聚合型单体。添加多官能单体时，通过多官能单体所包含的官能团与各高分子链进行反应(键合)，高分子彼此变得容易(介由多官能单体)交联。因此，即使将电子射线的累积照射剂量降低(至50kGy左右)，也能得到高分子彼此的充分的交联。因此，使电子射线的累积照射剂量为低照射剂量即可。另外，由于电子射线的累积照射剂量降低，因此能够进一步抑制高分子、基材1的黄变，而且能够提高生产率。
然而，添加剂的添加量变多时，红外线反射薄膜的(以反射层2作为基准)保护层3侧表面的法向发射率会恶化。法向发射率恶化时，红外线反射薄膜的红外线反射特性降低，红外线反射薄膜的绝热特性变差。因此，添加剂的添加量优选相对于高分子为1～35重量％。更优选相对于高分子为2～25重量％。
保护层3表面的动摩擦因数为0.001～0.45。动摩擦因数例如可以利用球盘型摩擦磨损试验机5进行测定。更具体而言，如图2所示，球盘型摩擦磨损试验机5以如下方式构成：其在试样盘6上配置有固定球7，从固定球7的上方负载锤8所带来的载重。在该状态下，用传感器9计测通过试样盘6旋转而产生的摩擦力，用所计测的摩擦力除以从固定球7的上方负载的载重，从而算出摩擦系数。通过使保护层3表面的动摩擦因数为上述范围，能够对保护层3表面赋予良好的滑移性(滑动性)。
作为将保护层3表面的动摩擦因数制备至上述范围的方法，例如可列举出如下方法：准备使包含丙烯腈、丁二烯作为构成单元的高分子和流平剂溶解于溶液而成的高分子溶液，在反射层2上涂布该高分子溶液，接着使其干燥，从而得到保护层3的方法。向包含丙烯腈、丁二烯作为构成单元的高分子中添加的流平剂是出于提高保护层3表面的滑移性(滑动性)的目的而使用的。作为流平剂，优选为有机硅系流平剂等。
关于高分子中所含的流平剂在高分子整体中所占的比率，作为下限值，为0.1重量％以上。优选为0.2重量％以上。更优选为0.5重量％以上。另外，作为上限值，为5重量％以下。优选为2重量％以下。更优选为1重量％以下。
另外，作为将保护层3表面的动摩擦因数制备至上述范围的方法，可列举出如下方法：在照射了电子射线的保护层(通过上述高分子形成的层)上粘贴形成了有机硅成分的基材(剥离衬垫)，使有机硅成分转印至保护层3表面等。此时，优选的是，使用用包含上述那样的流平剂的高分子溶液形成的保护层3。通过使用包含流平剂的高分子溶液，因电子射线的照射而由存在于保护层3表面的流平剂产生的自由基会与有机硅成分键合，因此与不含流平剂的高分子溶液的情况相比，有机硅成分会更良好地转印至保护层3上。因此，能够进一步降低保护层3表面的动摩擦因数。在粘贴之前，保护层可以照射过电子射线，也可以未照射电子射线，在使形成了有机硅成分的基材粘贴于保护层的状态下照射电子射线时，由于通过电子射线而活化了的保护层中包含的高分子与基材中包含的成分会发生键合，因此基材的剥离变得困难。
本发明中的有机硅成分是在分子中硅原子与氧原子交互键合的硅氧烷骨架(硅原子和氧原子的重复单元数通常为10～8000左右)的该硅原子上键合有甲基、甲氧基而成的高分子。也可以是上述甲基被苯基、乙烯基、氨基等有机官能团部分取代而成的化合物。该高分子的末端、侧链可以具有硅烷醇基(-Si-OH)、链烯基、环氧基、(甲基)丙烯酰基等聚合性官能团，对上述高分子中包含的该聚合性官能团的数量没有特别限定，可以在两个末端具有聚合性官能团，在为分支高分子的情况下也可以在两末端和侧链均具有聚合性官能团。另外，只要是保护层的摩擦系数充分地降低即可，硅原子和氧原子的重复数不限定于上述值。
作为形成有这些有机硅成分的透明树脂基材(剥离衬垫)，分类为加热固化型或活性能量射线固化型的透明树脂基材。进而，热固化型还分类为缩合反应型和加成反应型，活性能量射线固化型分类为紫外线固化型(自由基聚合型、阳离子聚合型)和电子射线固化型。
加热固化型的缩合反应型的形成了有机硅成分的透明树脂基材中，例如，将硅氧烷分子的两末端具有硅烷醇基(-Si-OH)的基质聚合物与具有氢原子的聚甲基氢硅氧烷、聚甲基氢硅氧烷的甲基的一部分改性为甲氧基的交联剂在有机锡催化剂下进行脱氢反应或脱醇反应从而得到的交联物被用于有机硅处理。出于调整从剥离衬垫剥离的剥离力的目的，可以在上述交联物中另行添加分子量比基质聚合物低的有机硅聚合物。其中，推测作为上述反应的未反应成分的该基质聚合物、该交联剂以及该低分子量有机硅聚合物的成分有助于降低动摩擦因数。
在加热固化型的加成反应型的形成了有机硅成分的透明树脂基材中，例如使用了如下交联物：硅氧烷分子的两末端或者两末端和侧链具有乙烯基等链烯基的基质聚合物与具有氢原子的聚甲基氢硅氧烷在铂催化剂的存在下进行硅氢化(加成反应)从而得到的交联物。出于调整从剥离衬垫剥离的剥离力的目的，可以在上述交联物中另行添加分子量比基质聚合物低的有机硅聚合物。其中，推测作为上述反应的未反应成分的该基质聚合物、该交联剂以及该低分子量有机硅聚合物的成分有助于降低动摩擦因数。
另外，对于活性能量射线固化型的形成了有机硅成分的透明树脂基材而言，也与上述同样地，推测各材料的未反应成分有助于降低保护层表面的动摩擦因数。由于存在与其它反应型相比有助于降低动摩擦因数的未反应成分更多的倾向，因此作为在透明树脂基材的与该粘合剂层为相反侧的表面形成了有机硅成分的透明树脂基材，优选的是，加热固化型的缩合反应型的形成了有机硅成分的透明树脂基材。
作为用于透明树脂基材的材料，没有特别限定，代表性的是聚对苯二甲酸乙二醇酯。作为在透明树脂基材的表面形成了有机硅成分的透明树脂基材，可以使用三菱树脂株式会社制造的商品名为“DIAFOIL”的“MRE”系列、“MRN”系列等市售的进行了有机硅处理的剥离聚酯薄膜。需要说明的是，在实施例1～3中，作为透明树脂基材(剥离衬垫)而采用了涂覆有加热固化型的缩合型有机硅的基材，在实施例4～5中，作为透明树脂基材(剥离衬垫)而采用了涂覆有加热固化型的加成型有机硅的基材，透明树脂基材(剥离衬垫)不限定于此。
在转印后，构成保护层3的表面的有机硅成分的量(有机硅转印量)的范围为0.0001g/m2～1.0000g/m2。优选为0.0002g/m2～0.5000g/m2、更优选为0.0004g/m2～0.3000g/m2、进一步优选为0.0005g/m2～0.1000g/m2。有机硅转印量为0.0001g/m2以下时，无法对保护层3赋予良好的滑移性，而超过1.0000g/m2时，表面有可能产生白化。
另一方面，通过使有机硅转印量为上述范围，能够对红外线反射薄膜赋予良好的滑移性(滑动性)。需要说明的是，所述有机硅转印量是将用于转印的基材剥离而使有机硅成分露出后，存在于保护层3的表面的有机硅成分的量。
有机硅转印量例如可以使用荧光X射线衍射装置进行测定。更具体而言，如后述实施例所示那样地使用荧光X射线衍射(XRF)，以保护层3表面的有机硅成分层作为对象来进行测定，得到Si-Ka曲线。由所得Si-Ka曲线求出Si元素的强度，将该强度换算为Si元素的量，进而将该Si元素量换算为有机硅转印量(化合物量)，从而能够测定有机硅转印量。
根据包含以上构成的本实施方式的红外线反射薄膜，通过降低反射层2上的层结构的厚度、即保护层3的厚度，从而使(以反射层2作为基准)的保护层3侧表面的法向发射率变小。另外，尤其是，若保护层3使用难以吸收且易透射远红外线的丁腈橡胶、氢化丁腈橡胶、完全氢化丁腈橡胶等，则法向发射率也会因此而变小。由此，远红外线即使入射到保护层3也难以被保护层3吸收而到达反射层2，其结果，变得容易被反射层2反射。因此，通过将本实施方式所涉及的红外线反射薄膜从室内侧粘贴到窗玻璃等透光性部件上，能够屏蔽从室内穿过透光性部件向外射出的远红外线，由此，能够期待在冬季、室内温度降低的夜间的绝热效果。在本实施方式的红外线反射薄膜中，为了实现该目的，将保护层3侧表面的法向发射率设定为0.20以下。更优选的是，法向发射率为0.15以下。
另外，根据本实施方式的红外线反射薄膜，通过提高可见光线透射率(参照JIS A5759)，透光性部件的透光性不会受到阻碍。在本实施方式的红外线反射薄膜中，为了实现该目的，将可见光线透射率设定为50％以上。
另外，近红外线即使入射至(粘合层4和)基材1也难以被(粘合层4和)基材1吸收，从而到达反射层2，其结果，变得容易被反射层2反射。因此，通过将本实施方式所涉及的红外线反射薄膜从室内侧粘贴到窗玻璃等透光性部件上，能够屏蔽穿过窗玻璃等透光性部件而入射至室内的近红外线，由此，与以往的红外线反射薄膜同样地可期待在夏季的遮热效果。
在本实施方式的红外线反射薄膜中，为了实现该目的，将从(以反射层2作为基准)的基材1侧表面入射光时的太阳辐射透射率(参照JIS A5759)设定为60％以下。
并且，根据本实施方式的红外线反射薄膜，如上所述，对保护层3赋予良好的耐溶剂性。即，通过将保护层3中的高分子彼此交联，保护层3的耐溶剂性提高。由此，即使在可溶解高分子的溶剂接触保护层3的情况下，也能够防止保护层3溶出，因此，能够防止因红外线反射层露出而导致的耐磨性降低。
并且，根据以上构成的本实施方式的红外线反射薄膜，如上所述，由于保护层3表面的动摩擦因数为0.001～0.45，因此，保护层3表面的滑移性(滑动性)变得良好，过度的力(应力)不会作用于保护层3表面，保护层3难以遭受部分或整体性的破坏。因此，能够防止耐磨性低的反射层2因保护层3的破坏而露出、反射层2受损这样的事态的产生。另外，由此，能够防止发展成红外线的反射特性受损、红外线反射薄膜不会充分地起作用这样的事态。
实施例
此处，本发明人等制作了本实施方式的红外线反射薄膜(实施例)、并且制作了用于比较的红外线反射薄膜(比较例)。
实施例、比较例的制作方法均如下所示。将厚度为50μm的聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜(三菱树脂株式会社制造商品名“DIAFOIL T602E50”)用作基材1。在该基材1的一侧的面1a上通过DC磁控溅射法形成反射层2。详细而言，使用DC磁控溅射法，在基材1的一侧的面1a上以35nm的厚度形成由氧化铟锡形成的金属氧化物层2b，在其上以18nm的厚度形成由Ag-Pd-Cu合金形成的半透明金属层2a，在其上以35nm的厚度形成由氧化铟锡形成的金属氧化物层2c，将其作为反射层2。然后，在该反射层2上通过涂覆法形成保护层3。另外，保护层3的详细的形成条件分别在实施例、比较例的说明中进行详述。
＜实施例1＞
将10重量％的氢化丁腈橡胶(LANXESS公司制造商品名“THERBAN5065”〔k：33.3、l：63、m：3.7、R1～R3：H〕)与90重量％的甲乙酮(和光纯药工业株式会社制造)混合，在80℃的温度下进行5小时的搅拌溶解，使氢化丁腈橡胶溶解于甲乙酮的溶剂，制备溶液。然后，使用涂膜器在反射层2上涂布溶液，放入空气循环式的干燥烘箱内，以80℃进行10分钟的干燥。由此，形成厚度为5μm的保护层3。其后，使用电子射线照射装置(岩崎电气株式会社制造制品名“EC250/30/20mA”)，从保护层3的表面侧照射电子射线。电子射线的照射条件如下：线速度为3m/分钟、加速电压为150kV、累积照射剂量为600kGy。在本实施例中，将单次照射剂量为200kGy的电子射线照射3次。更具体而言，首先，如上所述，从保护层3的表面侧照射照射剂量为200kGy的电子射线(第1次)，其后，向保护层3的表面粘贴作为剥离衬垫的聚酯系剥离衬垫(三菱树脂株式会社制造商品名“DIAFOIL MRN38”)。接下来，在1分钟后剥离该聚酯系剥离衬垫。接着，从保护层3的表面侧照射照射剂量为200kGy的电子射线(第2次)，其后，向保护层3的表面粘贴新的聚酯系剥离衬垫。接下来，在1分钟后剥离该聚酯系剥离衬垫。同样地，从保护层3的表面侧照射照射剂量为200kGy的电子射线(第3次)，其后，在保护层3的表面再次粘贴新的聚酯系剥离衬垫。接下来，在1分钟后剥离该聚酯系剥离衬垫。通过这样操作，得到实施例1的红外线反射薄膜。
＜实施例2＞
除了使用氢化丁腈橡胶(HNBR：LANXESS公司制造的商品名“THERBAN 5005”〔k：33.3；l：66.7；m：0；R1～R3：H〕)来作为保护层中使用的材料以外，与实施例1相同。
＜实施例3＞
除了使用丙烯腈丁二烯橡胶(NBR：JSR株式会社制造的商品名“JSRN222L”〔k：27.4；l：36.3；m：36.3；R1、R4、R5：H〕)来作为保护层中使用的材料以外，与实施例1相同。
＜实施例4＞
在制备溶液时，作为流平剂，相对于氢化丁腈橡胶的固体成分添加0.5％的DIC CORPORATION制造的商品名“GRANDIC PC4100”，将电子射线的照射设为1次，剥离薄膜为聚酯系剥离衬垫(三菱树脂株式会社制造商品名“DIAFOIL MRE38”)，除此以外，用与实施例1相同的方法来获得红外线反射薄膜。
＜实施例5＞
除了照射电子射线时的照射剂量为80kGy以外，用与实施例4相同的方法来获得红外线反射薄膜。
＜比较例1＞
除了在各次的电子射线照射后不层叠聚酯系剥离衬垫以外，用与实施例1相同的方法来获得红外线反射薄膜。
＜比较例2＞
作为聚酯系剥离衬垫，使用三菱树脂株式会社制造的商品名“DIAFOILMRF38”来代替三菱树脂株式会社制造的商品名“DIAFOIL MRN38”，除此以外，用与实施例1相同的方法来获得红外线反射薄膜。
＜评价＞
接着，分别针对实施例1～5、比较例1～2，通过以下的方法来测定红外线反射薄膜的保护层3表面的动摩擦因数、红外线反射薄膜的法向发射率以及有机硅转印量。将它们的结果示于表1。需要说明的是，动摩擦因数、法向发射率以及有机硅转印量的测定是在照射第3次电子射线后(仅照射1次电子射线时为该照射后)的剥离了聚酯系剥离衬垫的状态下进行。
在实施例1～5、比较例1～2各自的保护层3的表面的动摩擦因数的测定中使用了摩擦磨损试验机(FPR-2100 RHESCA COPORATION制造)。并且，实施例1～5、比较例1～2中的动摩擦因数的测定条件如下：负载载荷为50g、转速为5rpm、旋转半径为5mm、测定时间为60秒、取样时间为500ms。将实施例1～5、比较例1～2中使用的样品介由粘合剂粘贴在玻璃(5cm×4.5cm×1.2mm厚)上来进行制作。动摩擦因数由取样数据的平均值来算出。需要说明的是，保护层3的表面的动摩擦因数为0.001～0.45时，将滑移性(滑动性)记作良好。
法向发射率的测定方法如下所示。使用安装有可变角镜反射附件的傅立叶变换红外光谱(FT-IR)装置(Varian公司制造)，测定波长为5微米～25微米的红外光的正反射率，按照JIS R 3106-2008(板玻璃类的透射率·反射率·辐射率·太阳辐射热取得率的试验方法)来求出。
有机硅转印量的测定使用荧光X射线衍射(XRF)装置(ZSX100e RigakuCorporation制造)来进行。XRF的测定条件如下：X射线源：纵型Rh管、分析面积：30mmφ、分析元素：Si、分光结晶：RX4、输出：50kV、70mA。由上述测定得到Si-Ka曲线，由所得的Si-Ka曲线求出Si元素的强度，由所求出的强度得到Si元素量。接着，将所得Si元素量换算成二甲基硅氧烷的质量，求出有机硅成分的转印量。
[表1]
如表1所示那样，在实施例1的结果中，红外线反射薄膜的保护层3表面的动摩擦因数为0.015(0.001～0.45的范围内)，且法向发射率为0.11(0.20以下)，动摩擦因数和法向发射率均显示了良好的值。另外，有机硅成分的转印量为0.0040g/m2。
另外，在实施例2的结果中，即使在作为用于保护层3的材料而使用了氢化丁腈橡胶(HNBR：LANXESS公司制造商品名“THERBAN 5005”〔k：33.3、l：66.7、m：0、R1～R3：H〕)的情况下，红外线反射薄膜的保护层3表面的动摩擦因数也为0.026(0.001～0.45的范围内)，且法向发射率为0.10(0.20以下)，动摩擦因数和法向发射率均显示了良好的值。另外，有机硅成分的转印量为0.0026g/m2。
并且，在实施例3的结果中，即使在作为用于保护层3的材料而使用了丙烯腈丁二烯橡胶(NBR：JSR公司制造商品名“JSR N222L”〔k：27.4、l：36.3、m：36.3、R1、R4，R5：H〕)的情况下，红外线反射薄膜的保护层3表面的动摩擦因数也为0.030(0.001～0.45的范围内)，且法向发射率为0.14(0.20以下)，动摩擦因数和法向发射率均显示了良好的值。另外，有机硅成分的转印量为0.0021g/m2。
另外，在实施例4的结果中，作为流平剂，相对于氢化丁腈橡胶的固体成分添加0.5％的DIC Corporation制造的商品名“GRANDIC PC4100”，电子射线的照射设为1次，并使用了聚酯系剥离衬垫(三菱树脂株式会社制造商品名“DIAFOIL MRE38”)，即使在该情况下，红外线反射薄膜的保护层3表面的动摩擦因数也为0.066(0.001～0.45的范围内)，且法向发射率为0.12(0.20以下)，动摩擦因数和法向发射率均显示了良好的值。另外，有机硅成分的转印量为0.0014g/m2。
在实施例5的结果中，即使在电子射线照射剂量为80kGy、照射次数为1次的情况下，红外线反射薄膜的保护层3表面的动摩擦因数也为0.086(0.001～0.45的范围内)，且法向发射率为0.12(0.20以下)，动摩擦因数和法向发射率均显示了良好的值。另外，有机硅成分的转印量为0.0006g/m2。
另外，在比较例1的结果中，在各次的电子射线照射后不层叠聚酯系剥离衬垫时，虽然法向发射率为0.11(0.20以下)，但动摩擦因数显示为0.54这一高于0.001～0.45的值，未获得良好的结果。比较例1中，有机硅成分未转印至保护层3(有机硅成分的转印量为0.0000g/m2)，由此可知，有机硅成分的转印有助于滑动性的赋予。
并且，在比较例2的结果中，在作为聚酯系剥离衬垫使用了三菱树脂株式会社制造的商品名“DIAFOIL MRF38”的情况下，如上所述，由于因电子射线而活化了的保护层3中包含的高分子与基材(剥离衬垫)中包含的成分发生键合，因此基材(剥离衬垫)的剥离变得困难，从而无法测定保护层3表面的动摩擦因数、法向发射率以及有机硅成分的转印量。
需要说明的是，本发明所述的红外线反射薄膜不限定于上述实施方式，可在不脱离本发明的主旨的范围内进行各种变更。
例如，在上述实施方式中，针对包含重复单元A和C、或者重复单元A、B和C之中至少任意两种以上的重复单元的高分子进行了说明。然而，并不限定于此。可以在不损害保护层所需特性的范围内包含除这些重复单元以外的其它重复单元。作为其它重复单元，例如可列举出苯乙烯、α-甲基苯乙烯、(甲基)丙烯酸、(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸-2-羟基乙酯、醋酸乙烯酯、(甲基)丙烯酰胺等。它们相对于高分子整体的比率优选为10重量％以下。
另外，在上述实施方式中，通过蒸镀来形成反射层2。然而，并不限定于此。
另外，在上述实施方式中，作为剥离衬垫而使用了聚酯系剥离衬垫，但并不限定于此。
另外，上述实施方式所涉及的红外线反射薄膜是兼具隔热特性和绝热特性的红外线反射薄膜。然而，并不限定于此。本发明的红外线反射薄膜当然也可适用作以往的仅具有遮热特性的红外线反射薄膜。
附图标记说明
1…基材；1a…一侧的面；1b…另一侧的面；2…反射层；2a…半透明金属层；2b、2c…金属氧化物层；3…保护层；4…粘合层

Claims (3)

1.一种红外线反射薄膜，其为在基材的一侧的面上依次层叠有反射层和保护层的红外线反射薄膜，
该保护层为包含高分子的层，所述高分子包含下述化学式I的重复单元A、B和C中的至少两种以上重复单元，
所述保护层表面的动摩擦因数为0.001～0.45，
[化学式I]
化学式I中，R1为H或甲基，R2～R5为H、碳数1～4的烷基或链烯基。
2.根据权利要求1所述的红外线反射薄膜，其中，所述保护层侧表面的法向发射率为0.20以下。
3.根据权利要求1所述的红外线反射薄膜，其中，所述保护层还包含配置在上述高分子上的、构成所述保护层的表面的有机硅成分，
该有机硅成分的量为0.0001～1.0000g/m2。
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