JP2005062584A - 光吸収性反射防止フィルム - Google Patents
光吸収性反射防止フィルム Download PDFInfo
- Publication number
- JP2005062584A JP2005062584A JP2003294118A JP2003294118A JP2005062584A JP 2005062584 A JP2005062584 A JP 2005062584A JP 2003294118 A JP2003294118 A JP 2003294118A JP 2003294118 A JP2003294118 A JP 2003294118A JP 2005062584 A JP2005062584 A JP 2005062584A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- index layer
- refractive index
- layer
- film
- titanium
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 230000003667 anti-reflective effect Effects 0.000 title abstract description 9
- 239000010408 film Substances 0.000 claims abstract description 128
- 239000010936 titanium Substances 0.000 claims abstract description 39
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 39
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 38
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 32
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims abstract description 29
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 28
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims abstract description 28
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims abstract description 28
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 26
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 claims abstract description 9
- 238000005546 reactive sputtering Methods 0.000 claims abstract description 8
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 57
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 22
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 21
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims description 18
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 17
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 13
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 13
- 150000003961 organosilicon compounds Chemical class 0.000 claims description 10
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 claims description 10
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 claims description 9
- 150000004706 metal oxides Chemical group 0.000 claims description 8
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 150000004703 alkoxides Chemical class 0.000 claims description 6
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 230000003301 hydrolyzing effect Effects 0.000 claims description 5
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 claims description 5
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims description 4
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N indium atom Chemical compound [In] APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 claims description 3
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000011701 zinc Substances 0.000 claims description 3
- 229910052684 Cerium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 claims description 2
- WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N antimony atom Chemical compound [Sb] WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000010949 copper Substances 0.000 claims description 2
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 claims description 2
- WPBNNNQJVZRUHP-UHFFFAOYSA-L manganese(2+);methyl n-[[2-(methoxycarbonylcarbamothioylamino)phenyl]carbamothioyl]carbamate;n-[2-(sulfidocarbothioylamino)ethyl]carbamodithioate Chemical compound [Mn+2].[S-]C(=S)NCCNC([S-])=S.COC(=O)NC(=S)NC1=CC=CC=C1NC(=S)NC(=O)OC WPBNNNQJVZRUHP-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 2
- 239000011135 tin Substances 0.000 claims description 2
- 229910052727 yttrium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- VWQVUPCCIRVNHF-UHFFFAOYSA-N yttrium atom Chemical compound [Y] VWQVUPCCIRVNHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- GWXLDORMOJMVQZ-UHFFFAOYSA-N cerium Chemical compound [Ce] GWXLDORMOJMVQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 abstract description 24
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract description 7
- 239000002994 raw material Substances 0.000 abstract description 2
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 abstract 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 180
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 18
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 15
- -1 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 12
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 12
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 11
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 10
- 230000003373 anti-fouling effect Effects 0.000 description 9
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 9
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 9
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N argon Substances [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 7
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 6
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 6
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 6
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 6
- 239000012808 vapor phase Substances 0.000 description 6
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 5
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 5
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 4
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 4
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 4
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 4
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 4
- POILWHVDKZOXJZ-ARJAWSKDSA-M (z)-4-oxopent-2-en-2-olate Chemical compound C\C([O-])=C\C(C)=O POILWHVDKZOXJZ-ARJAWSKDSA-M 0.000 description 3
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N Ozone Chemical compound [O-][O+]=O CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000008033 biological extinction Effects 0.000 description 3
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 3
- 230000031700 light absorption Effects 0.000 description 3
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 3
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 3
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 3
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 3
- 238000002310 reflectometry Methods 0.000 description 3
- 239000004408 titanium dioxide Substances 0.000 description 3
- 229920002799 BoPET Polymers 0.000 description 2
- KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N Butadiene Chemical compound C=CC=C KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N Butyl acetate Natural products CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920000298 Cellophane Polymers 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Chemical compound CC(C)CC(C)=O NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Natural products CCC(C)C(C)=O UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N N-Heptane Chemical compound CCCCCCC IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 2
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 2
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 2
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 2
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 2
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 2
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 2
- YHWCPXVTRSHPNY-UHFFFAOYSA-N butan-1-olate;titanium(4+) Chemical compound [Ti+4].CCCC[O-].CCCC[O-].CCCC[O-].CCCC[O-] YHWCPXVTRSHPNY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 208000028659 discharge Diseases 0.000 description 2
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 2
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 2
- 150000008282 halocarbons Chemical class 0.000 description 2
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N hexanoic acid Chemical compound CCCCCC(O)=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000002484 inorganic compounds Chemical class 0.000 description 2
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000007733 ion plating Methods 0.000 description 2
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- 230000005499 meniscus Effects 0.000 description 2
- 150000004812 organic fluorine compounds Chemical class 0.000 description 2
- 238000005268 plasma chemical vapour deposition Methods 0.000 description 2
- 239000002985 plastic film Substances 0.000 description 2
- 229920006255 plastic film Polymers 0.000 description 2
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 2
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 description 2
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 2
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 2
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 2
- ILJSQTXMGCGYMG-UHFFFAOYSA-N triacetic acid Chemical compound CC(=O)CC(=O)CC(O)=O ILJSQTXMGCGYMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 2
- OEPOKWHJYJXUGD-UHFFFAOYSA-N 2-(3-phenylmethoxyphenyl)-1,3-thiazole-4-carbaldehyde Chemical compound O=CC1=CSC(C=2C=C(OCC=3C=CC=CC=3)C=CC=2)=N1 OEPOKWHJYJXUGD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BGGIUGXMWNKMCP-UHFFFAOYSA-N 2-methylpropan-2-olate;zirconium(4+) Chemical compound CC(C)(C)O[Zr](OC(C)(C)C)(OC(C)(C)C)OC(C)(C)C BGGIUGXMWNKMCP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 229910002012 Aerosil® Inorganic materials 0.000 description 1
- KOGCEWMHMCXBMD-UHFFFAOYSA-N CCCO[Ti]OCCC Chemical compound CCCO[Ti]OCCC KOGCEWMHMCXBMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MBMKFKOVXPKXCV-UHFFFAOYSA-N CCO[Ti]OCC Chemical compound CCO[Ti]OCC MBMKFKOVXPKXCV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N Dioxygen Chemical compound O=O MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 108010010803 Gelatin Proteins 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical class CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 1
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 1
- 229920001328 Polyvinylidene chloride Polymers 0.000 description 1
- 238000003848 UV Light-Curing Methods 0.000 description 1
- BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N Vinyl chloride Chemical compound ClC=C BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004833 X-ray photoelectron spectroscopy Methods 0.000 description 1
- JDOPTLDATIMJDC-UHFFFAOYSA-N [Zr+2].CCC[O-].CCC[O-] Chemical compound [Zr+2].CCC[O-].CCC[O-] JDOPTLDATIMJDC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004423 acyloxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 1
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 1
- LGSNSXWSNMARLH-UHFFFAOYSA-N butan-1-ol titanium Chemical compound C(CCC)O.[Ti].C(CCC)O LGSNSXWSNMARLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIOLTQNBOYMEQK-UHFFFAOYSA-N butan-1-olate;zirconium(2+) Chemical compound [Zr+2].CCCC[O-].CCCC[O-] NIOLTQNBOYMEQK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BSDOQSMQCZQLDV-UHFFFAOYSA-N butan-1-olate;zirconium(4+) Chemical compound [Zr+4].CCCC[O-].CCCC[O-].CCCC[O-].CCCC[O-] BSDOQSMQCZQLDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FFOWIEZZYLIBTD-UHFFFAOYSA-N butan-2-olate zirconium(4+) Chemical compound CCC(C)O[Zr](OC(C)CC)(OC(C)CC)OC(C)CC FFOWIEZZYLIBTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HWCXFDGMZPRMRX-UHFFFAOYSA-N butan-2-olate;titanium(4+) Chemical compound CCC(C)O[Ti](OC(C)CC)(OC(C)CC)OC(C)CC HWCXFDGMZPRMRX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZMIGMASIKSOYAM-UHFFFAOYSA-N cerium Chemical compound [Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce] ZMIGMASIKSOYAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000013522 chelant Substances 0.000 description 1
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 1
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 1
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 1
- 238000003851 corona treatment Methods 0.000 description 1
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 1
- 125000004093 cyano group Chemical group *C#N 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 238000007865 diluting Methods 0.000 description 1
- 229910001882 dioxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 230000009977 dual effect Effects 0.000 description 1
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 1
- 230000005611 electricity Effects 0.000 description 1
- 238000005401 electroluminescence Methods 0.000 description 1
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 1
- ASBGGHMVAMBCOR-UHFFFAOYSA-N ethanolate;zirconium(4+) Chemical compound [Zr+4].CC[O-].CC[O-].CC[O-].CC[O-] ASBGGHMVAMBCOR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005038 ethylene vinyl acetate Substances 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- NBVXSUQYWXRMNV-UHFFFAOYSA-N fluoromethane Chemical compound FC NBVXSUQYWXRMNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000159 gelatin Polymers 0.000 description 1
- 239000008273 gelatin Substances 0.000 description 1
- 235000019322 gelatine Nutrition 0.000 description 1
- 235000011852 gelatine desserts Nutrition 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 238000007756 gravure coating Methods 0.000 description 1
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 1
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 150000002430 hydrocarbons Chemical group 0.000 description 1
- 125000001165 hydrophobic group Chemical group 0.000 description 1
- 238000007735 ion beam assisted deposition Methods 0.000 description 1
- 230000005865 ionizing radiation Effects 0.000 description 1
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 1
- 239000004816 latex Substances 0.000 description 1
- 229920000126 latex Polymers 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- 239000011344 liquid material Substances 0.000 description 1
- 239000007791 liquid phase Substances 0.000 description 1
- 238000001755 magnetron sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 1
- 125000005641 methacryl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052756 noble gas Inorganic materials 0.000 description 1
- TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N octane Chemical compound CCCCCCCC TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- 150000002902 organometallic compounds Chemical class 0.000 description 1
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);zirconium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[Zr+4] RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 1
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 1
- 229960005235 piperonyl butoxide Drugs 0.000 description 1
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 229920003207 poly(ethylene-2,6-naphthalate) Polymers 0.000 description 1
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 1
- 229920006267 polyester film Polymers 0.000 description 1
- 239000011112 polyethylene naphthalate Substances 0.000 description 1
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 1
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 1
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 1
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 1
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 1
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 description 1
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 description 1
- 239000005033 polyvinylidene chloride Substances 0.000 description 1
- 230000002265 prevention Effects 0.000 description 1
- XPGAWFIWCWKDDL-UHFFFAOYSA-N propan-1-olate;zirconium(4+) Chemical compound [Zr+4].CCC[O-].CCC[O-].CCC[O-].CCC[O-] XPGAWFIWCWKDDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000011160 research Methods 0.000 description 1
- 238000009774 resonance method Methods 0.000 description 1
- 229930195734 saturated hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 150000003377 silicon compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- ABTOQLMXBSRXSM-UHFFFAOYSA-N silicon tetrafluoride Chemical compound F[Si](F)(F)F ABTOQLMXBSRXSM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 1
- VCZQFJFZMMALHB-UHFFFAOYSA-N tetraethylsilane Chemical compound CC[Si](CC)(CC)CC VCZQFJFZMMALHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003396 thiol group Chemical group [H]S* 0.000 description 1
- JMXKSZRRTHPKDL-UHFFFAOYSA-N titanium ethoxide Chemical compound [Ti+4].CC[O-].CC[O-].CC[O-].CC[O-] JMXKSZRRTHPKDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VXUYXOFXAQZZMF-UHFFFAOYSA-N titanium(IV) isopropoxide Chemical compound CC(C)O[Ti](OC(C)C)(OC(C)C)OC(C)C VXUYXOFXAQZZMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001567 vinyl ester resin Polymers 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 229920003169 water-soluble polymer Polymers 0.000 description 1
- 229910001928 zirconium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
Images
Abstract
【解決手段】 透明基材フィルム上の少なくとも片面に、ハードコート層を介して、中屈折率層、高屈折率層、低屈折率層がこの順序に積層され、該高屈折率層が、反応性スパッタリングによって形成された酸素のチタンに対する原子数比が1.6〜1.9の範囲にある酸化チタン薄膜からなり、該中屈折率層と低屈折率層の膜厚の比が0.81〜1.21であり、且つ、該中屈折率層と該低屈折率層が金属有機化合物を出発原料とした塗布法にて形成された金属酸化物からなることを特徴とする光吸収性反射防止フィルム。
【選択図】 図1
Description
図1に、本発明の好ましい一実施形態である反射防止フィルムの層構成を示す断面模式図を示す。透明基材フィルム1の表面にハードコート層2を介して、中屈折率層層3、高屈折率層4、低屈折率層5が順次積層されており、好ましくは最外層に防汚層6が形成されている。高屈折率層4は酸素のチタンに対する原子比が1.6〜1.9の範囲にある酸化チタン薄膜からなり、この薄膜は好ましくはチタンを主成分とするターゲットを出発原料とし、希ガスと酸化性ガスからなる混合ガスを用いる反応性スパッタリング法にて形成されている。
本発明に用いられる透明基材フィルムはプラスチックフィルムを用いることが好ましい。プラスチックフィルムを形成するポリマーには、ポリエステル(例えば、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリエチレンナフタレート)、ポリ(メタ)アクリル(例えば、ポリメチルメタクリレート(PMMA))、ポリカーボネート(PC)、ポリスチレン、ポリビニルアルコール、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリエチレン、エチレン−酢酸ビニル共重合体、ポリウレタン、トリアセテート、セロファンを例示することができる。これら中、PET、PC、PMMAが好ましい。
本発明においてハードコート層は、透明性を有し、適度な硬度を有する層を形成することが好ましい。その形成材料には特に限定はなく、例えば電離放射線や紫外線照射による硬化樹脂や熱硬化性樹脂を使用できる。特に、紫外線照射硬化型のアクリル系や有機珪素の樹脂や、熱硬化型のポリシロキサン樹脂が好適である。これらの樹脂は公知のものを用いることができる。さらに、このハードコート層は透明基材フィルムと屈折率が同等もしくは近似していることがより好ましいが、膜厚が3μm以上の場合には特にこの点も必要ない。
反射防止層は中屈折率層、高屈折率層および低屈折率層から構成される。これら3つの層はハードコート層の側から中屈折率層、高屈折率層、低屈折率層の順序に積層される。
本発明において、中屈折率層は、好ましくはチタンまたはジルコニウムのアルコキシドを加水分解してできる金属酸化物薄膜からなる。こうした金属酸化物膜は、チタンまたはジルコニウムのアルコキシドを溶剤で希釈し、塗布、乾燥工程中に加水分解をさせて形成することができる。また、この金属酸化物薄膜中には、平均粒径が1〜100nmの粒子がアルコキシド加水分解物に対して重量比で0.1〜25重量%分散されていることが好ましい。こうした粒子が分散含有されていることにより、金属酸化物膜の表面に微細な凹凸を形成され、本発明の光吸収性反射防止フィルムをロール状に巻き取った際にブロッキングを抑え、きれいに巻き取ることができるようになる。
本発明において高屈折率層は酸化チタン薄膜からなり、この酸化チタン薄膜の酸素のチタンに対する原子数比(以下、酸素/チタン比)は1.6〜1.9の範囲にある。こうすることで、この酸化チタン薄膜は可視光領域の光を吸収し、可視光領域の広い範囲で高い反射防止効果を有し、また透過率が高くなりすぎることを防いでディスプレイの画像コントラスト向上に結びつく。さらには、導電性を有するようになり、帯電防止効果も付与できる。この酸化チタン薄膜の酸素/チタン比が1.6よりも小さい場合には、光の吸収が強いので実用上十分な透過率を得ることができず、1.9よりも大きい場合には可視光領域で光吸収性を示さないので透過率が高くなりすぎるだけでなく、帯電防止効果を付与できるような導電率を示さない。
本発明の低屈折率層は、好ましくは塗布法で形成され、好ましくは有機珪素化合物の加水分解により得られる(二酸化珪素)ゾルを塗工して形成された酸化珪素膜である。
本発明においては、反射防止層の表面に防汚層を設けてもよい。 防汚層は、中屈折率層、高屈折率層そして低屈折率層からなる反射防止層の表面を保護し、更に防汚性を高めるために最外層に形成されるものである。その形成材料としては、透明性を有し、要求性能が満たされる限り、いかなる材料でも制限がなく使用することができる。例えば、疎水基を有する化合物、より具体的には、フルオロカーボンやパーフルオロシラン等、またこれらの高分子化合物等を好ましくは使用することができる。また、指紋拭き取り汚性向上のためには、メチル基の様な発油性を有する高分子化合物が好適である。
本発明の反射防止フィルムは、液晶表示素子(LCD)、プラズマディスプレイパネル(PDP)、エレクトロルミネッセンスディスプレイ(ELD)や陰極管表示素子(CRT)等に適用可能で、従来の反射防止フィルムと同様に、粘着剤、接着剤等を用いてガラス板、プラスチック板、偏光板等と貼り合わせることにより反射防止性を有する光学部材を得ることができる。
島津製作所製UV−3101PC型を用い、反射防止フィルムの反射防止層が形成されていない側に黒色塗料を塗布し、反射防止層が形成されている側に照光して、300nmから800nmの波長範囲で反射率を測定した。
島津製作所製UV−3101PC型を用い、反射防止フィルムの反射防止層が形成されている側に照光し、400nmから1000nmの波長範囲でフィルム裏面の反射を含む透過率を測定した。
低反射波長領域の範囲の大小を判定するために、反射率が1.0%となる低波長側の波長で、反射率が1.0%となる高波長側の波長を除したものをバンド幅比と定義し、これを求めた。
透明基材フィルムの片面にハードコート層と導電層を形成し、この比抵抗を三菱化学社製ハイスタ(4端針法表面抵抗計)を用いて表面抵抗値を測定した。
高屈折率層まで積層した積層フィルムの表面をアルゴンイオンによるスパッタで表面の汚染部を除去し、ESCAにて酸素のチタンに対する原子数比を算出した。
透明フィルム基材として二軸配向ポリエチレンテレフタレート(PET)フィルム(厚さ100μm)を用い、この片面の上にUV硬化性ハードコート剤(JSRデソライトZ7501)を厚さ約5μmになるようにマイクログラビアコーティングにより塗工し、UV硬化させてハードコート層を形成し、次いでハードコート層の上にテトラブチルチタネートの4量体(日本曹達製TBTB−4 )のリグロイン/n−ブタノール(3/1)溶液に、二酸化珪素粒子(日本エアロジル製AEROSILR972 平均粒径20nm)をアルコキシドに対し0.5重量%添加し分散させたものをマイクログラビアコーティングにより塗工し、150℃で2分間乾燥して厚さ110nmになる膜を形成した。更にその上に金属チタンターゲットを使用して、酸素ガス濃度13体積%、アルゴンガス濃度87体積%からなる混合ガスをスパッタガスとして直流マグネトロンスパッタリングにて透明導電性酸化物層を膜厚が25nmになるように形成した。その上に、低屈折率層をテトラエチルシランの加水分解にて得られた二酸化珪素ゾルをマイクログラビアコーティングにより塗工し、乾燥して膜厚が105nmとなるように100℃、1分で乾燥して形成した。中屈折率層と低屈折率層の膜厚の比は0.95となっている。最後に、この上に防汚層としてフッ素系界面活性剤を厚み2nmでマイクログラビアコーティングにより塗工し反射防止フィルムを得た。
高屈折率層形成時の混合ガス組成を、酸素15体積%、アルゴン85体積%とした以外は実施例1と同じである。高屈折率層の波長550nmにおける屈折率は2.35、消衰係数は0.140であった。そのほかの層の屈折率は実施例1に同じである。また、高屈折率層の酸素/チタン比は1.87であった。
低屈折率層の膜厚を100nmとした以外は実施例1と同じである。このとき中屈折率層と低屈折率層の膜厚の比は0.91であった。
低屈折率層の膜厚を100nmとした以外は実施例2と同じである。このとき中屈折率層と低屈折率層の膜厚の比は0.91である。各層の屈折率は実施例2とすべて同じである。また、高屈折率層の酸素/チタン比に関しても実施例2と同じである。こうして得た本発明の光吸収性反射防止フィルムの波長550nmにおける反射率は0.19%であり、透過率は84.6%であった。また、バンド幅比は1.46であり、表面抵抗は5×108Ω/□であった。
高屈折率層形成時の混合ガス組成を、酸素25体積%、アルゴン75体積%とした以外は実施例1と同じである。
低屈折率層の膜厚を85nmとし、中屈折率層の膜厚を100nmとしたこと外は実施例1と同様に実施した。このとき中屈折率層の膜厚と低屈折率層の膜厚の比は0.85であった。各層の屈折率は実施例1とすべて同じである。また、高屈折率層の酸素/チタン比に関しても実施例1と同じである。
中屈折率層の膜厚を85nmとした以外は実施例1と同様に実施した。このとき中屈折率層の膜厚と低屈折率層の膜厚の比は1.24である。
2 ハードコート層
3 中屈折率層
4 高屈折率層
5 低屈折率層
6 防汚層
7 反射防止層
Claims (6)
- 透明基材フィルム、その少なくとも一方の面に設けられたハードコート層、およびハードコート層のうえに設けられた反射防止層からなる光吸収性反射防止フィルムであって、反射防止層は中屈折率層、高屈折率層および低屈折率層から構成され、これら3つの層はハードコート層の側から中屈折率層、高屈折率層、低屈折率層の順序に積層されており、高屈折率層は酸化チタン薄膜であり、この酸化チタン薄膜における酸素のチタンに対する原子数比が1.6〜1.9の範囲にあることを特徴とする、光吸収性反射防止フィルム。
- 酸化チタン薄膜が、チタンを主成分とするターゲットを用いて希ガスと酸化性ガスからなる混合ガスにより酸化させる反応性スパッタリング法により形成されている、請求項1記載の光吸収性反射防止フィルム。
- 中屈折率層がチタンまたはジルコニウムのアルコキシドを塗布し加水分解されてできる金属酸化物薄膜であり、金属酸化物薄膜中には、平均粒径1〜100nmの粒子がアルコキシド加水分解物に対して0.1〜25重量%分散含有されている、請求項1記載の反射防止フィルム。
- 低屈折率層が有機珪素化合物を加水分解して調製したゾル液を塗布して形成された二酸化珪素からなる、膜厚90〜110nmの層である、請求項1記載の反射防止フィルム。
- 粒子が、チタン、珪素、錫、鉄、アルミニウム、銅、マグネシウム、インジウム、アンチモン、マンガン、セリウム、イットリウム、亜鉛およびジルコニウムの金属単体またはこれらの酸化物からなる群から選ばれる少なくとも1種である、請求項3記載の光吸収性反射防止フィルム。
- 中屈折率層の膜厚と低屈折率層の膜厚の比が0.81〜1.21である、請求項1記載の光吸収性反射防止フィルム。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003294118A JP2005062584A (ja) | 2003-08-18 | 2003-08-18 | 光吸収性反射防止フィルム |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003294118A JP2005062584A (ja) | 2003-08-18 | 2003-08-18 | 光吸収性反射防止フィルム |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2005062584A true JP2005062584A (ja) | 2005-03-10 |
Family
ID=34370762
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2003294118A Pending JP2005062584A (ja) | 2003-08-18 | 2003-08-18 | 光吸収性反射防止フィルム |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2005062584A (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010184477A (ja) * | 2009-02-13 | 2010-08-26 | Toppan Printing Co Ltd | 積層フィルム及びその製造方法 |
JP2011186437A (ja) * | 2010-02-12 | 2011-09-22 | Canon Inc | 光学素子用の遮光膜および光学素子 |
JP2011186438A (ja) * | 2010-02-12 | 2011-09-22 | Canon Inc | 光学素子用の反射防止膜、反射防止塗料および光学素子 |
WO2014119506A1 (ja) * | 2013-01-29 | 2014-08-07 | 日東電工株式会社 | 反射防止フィルムおよびその製造方法 |
WO2014119505A1 (ja) * | 2013-01-29 | 2014-08-07 | 日東電工株式会社 | 反射防止フィルムおよびその製造方法 |
-
2003
- 2003-08-18 JP JP2003294118A patent/JP2005062584A/ja active Pending
Cited By (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010184477A (ja) * | 2009-02-13 | 2010-08-26 | Toppan Printing Co Ltd | 積層フィルム及びその製造方法 |
JP2011186437A (ja) * | 2010-02-12 | 2011-09-22 | Canon Inc | 光学素子用の遮光膜および光学素子 |
JP2011186438A (ja) * | 2010-02-12 | 2011-09-22 | Canon Inc | 光学素子用の反射防止膜、反射防止塗料および光学素子 |
US8809421B2 (en) | 2010-02-12 | 2014-08-19 | Canon Kabushiki Kaisha | Antireflection coating film and antireflection coating material for optical element and optical element |
US8958155B2 (en) | 2010-02-12 | 2015-02-17 | Canon Kabushiki Kaisha | Light-shielding film for optical element and optical element having light-shielding film |
WO2014119506A1 (ja) * | 2013-01-29 | 2014-08-07 | 日東電工株式会社 | 反射防止フィルムおよびその製造方法 |
WO2014119505A1 (ja) * | 2013-01-29 | 2014-08-07 | 日東電工株式会社 | 反射防止フィルムおよびその製造方法 |
JP2014145914A (ja) * | 2013-01-29 | 2014-08-14 | Nitto Denko Corp | 反射防止フィルムおよびその製造方法 |
JP2014167620A (ja) * | 2013-01-29 | 2014-09-11 | Nitto Denko Corp | 反射防止フィルムおよびその製造方法 |
US9851473B2 (en) | 2013-01-29 | 2017-12-26 | Nitto Denko Corporation | Anti-reflection film and production method therefor |
JP2019012294A (ja) * | 2013-01-29 | 2019-01-24 | 日東電工株式会社 | 反射防止フィルムおよびその製造方法 |
TWI670511B (zh) * | 2013-01-29 | 2019-09-01 | 日商日東電工股份有限公司 | 抗反射膜及其製造方法 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CA2547466C (en) | Transparent conductive laminate and transparent touch panel comprising the same | |
US20060290409A1 (en) | Transparent conductive laminated body | |
JP5372417B2 (ja) | 反射防止フィルム | |
EP1548469A1 (en) | Anti-reflection film | |
JP2006116754A (ja) | 減反射材及びそれを用いた電子画像表示装置 | |
JP2006235125A (ja) | 反射防止フィルム及びその製造方法 | |
JP2007038447A (ja) | 反射防止積層体、光学部材および液晶表示素子 | |
JP2001350002A (ja) | 反射防止フィルム | |
WO2016152691A1 (ja) | 反射防止フィルム、該反射防止フィルムを用いた表示装置、及び反射防止フィルムの選択方法 | |
JP4826007B2 (ja) | タッチパネル | |
WO2003005069A1 (fr) | Couche mince antireflet et procede de production associe | |
KR100813737B1 (ko) | 반사 방지 필름 | |
JP4242664B2 (ja) | 反射防止フィルム | |
KR100709866B1 (ko) | 표시장치용 저반사율의 휘도 향상 광학필름 및 이를 이용한표시장치 | |
JP2005062584A (ja) | 光吸収性反射防止フィルム | |
JP3965732B2 (ja) | 反射防止フィルム | |
JP2005071901A (ja) | 透明導電性積層フィルム | |
JP2000081510A (ja) | 赤外線吸収フィルタ | |
JP2010032734A (ja) | 反射防止フィルム | |
JP2005181545A (ja) | 反射防止フィルム | |
JP3577866B2 (ja) | 導電性反射防止フィルム | |
JP2001281415A (ja) | 反射防止フィルタ及びその製造方法 | |
JP2001264507A (ja) | 減反射材、製造方法および用途 | |
JP2013174787A (ja) | 光学部材 | |
JP2005297271A (ja) | 光吸収性反射防止フィルムおよびその製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20051031 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20090109 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20090120 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20090319 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20090714 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20091208 |