JP2001264507A - 減反射材、製造方法および用途 - Google Patents

減反射材、製造方法および用途

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JP2001264507A
JP2001264507A JP2000073448A JP2000073448A JP2001264507A JP 2001264507 A JP2001264507 A JP 2001264507A JP 2000073448 A JP2000073448 A JP 2000073448A JP 2000073448 A JP2000073448 A JP 2000073448A JP 2001264507 A JP2001264507 A JP 2001264507A
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JP2000073448A
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Yoshihiro Morimoto
佳寛 森本
Tomoyuki Ikeda
智之 池田
Yasuhiro Kimura
育弘 木村
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Original Assignee
NOF Corp
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 高い減反射性能と帯電防止能を兼備する減
反射材、その製造方法、および用途を提供する。 【解決手段】 透明基材の片面または両面に直接もしく
は1層以上の層を介してハードコート層、及び減反射層
を備えてなる減反射材であって、該ハードコート層が帯
電防止機能を有することを特徴とする減反射材を提供す
る。透明基材の上に、帯電防止能を有するハードコート
層を形成し、さらにその上に、高屈折率層及び低屈折率
層から構成される減反射層。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、減反射材、その製
造方法およびその用途に関する。
【0002】
【従来の技術】透明基板の最外層に、基板よりも低屈折
率の物質からなる低屈折率層を可視光波長の1/4の膜
厚(約100nm)で形成すると、干渉効果により表面
反射が低減し、透過率が向上することが知られている。
【0003】また、低屈折率層と基板の間に屈折率の異
なる層を一層以上設けることにより、より表面反射を抑
えることのできる多層減反射材が知られており、多層減
反射材は電気製品や光学製品、建材等の透明基板部分に
おける表面反射の低減が必要とされる分野において、減
反射材として応用されている。この多層減反射材におい
ては中間に配置される層の屈折率が光学性能に大きな影
響を与えるので、高屈折率が必要となる層では金属酸化
物などの無機材料が用られている。
【0004】減反射層の形成方法としては、フッ化マグ
ネシウム等を蒸着、スパッタリングするいわゆるドライ
コーティング法(特開昭63−261646号公報)、
および材料を溶液や分散液など液状で基材に塗布し、乾
燥させ、必要に応じて硬化させるウェットコーティング
法(特開平7−48543号公報、特開平9−3140
38号公報)の二方法が知られている。これらのうちド
ライコーティング法は高真空の大型設備が必要で、生産
性が低いなどの問題があった。一方、ウェットコーティ
ング法は設備投資が少なく、また生産性および大面積化
への対応の点で優れている。
【0005】しかしウェットコーティング法では、材料
を溶液もしくは分散液で塗布して、硬化させ層を形成し
なければならないため、高屈折率の層を構成するとき
は、無機材料の微粒子以外にバインダーとして樹脂やモ
ノマーを添加しなければならない。そのため2層減反射
材の重要な因子である高屈折層の屈折率を、ドライコー
ティング法に比べて高くすることが困難である等の問題
があった。
【0006】一方、減反射材を電気製品や光学製品に用
いる際には、静電気による表面への埃の付着を抑えるた
め、帯電防止機能の付与が必須となっている。この帯電
防止機能の発現には、表面抵抗値が1012Ω/cm2
下となる程度の導電性が必要である。この導電性は高屈
折率層の金属酸化物の存在にて達成できるが、そのため
高屈折率層の材料の選択には制限があった。例えば酸化
インジウム錫や酸化アンチモン錫、酸化錫などの導電性
金属酸化物が用いられているが、より屈折率の高い酸化
チタン、酸化セリウム等は導電性を持たないため使用で
きなかった。
【0007】帯電防止フィルムとして、五酸化アンチモ
ン酸亜鉛微粒子を含む帯電防止層と減反射層との組み合
わせ(特開平11−92750号公報)が知られてい
る。しかし、この組み合わせでは、帯電防止性能の要求
を満たすが、減反射性能や表面強度が十分とはならない
等の問題があった。
【0008】また、2層減反射材において、帯電防止機
能を付与するために金属酸化物を高屈折率層以外のハー
ドコート層や低屈折率層等に加えると、これらの層の屈
折率が上昇するため減反射性能が低下する、あるいは、
光の透過性能が減少するため、十分な光学性能が得られ
ないなどの問題があった。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】本発明の第一の目的
は、高い減反射性能と帯電防止能を兼備する減反射材、
第2の目的はその製造方法、および第3の目的は用途を
提供することにある。
【0010】
【課題を解決するための手段】本発明は以下の減反射
材、製造方法、およびその用途を提供する。 (1)透明基材の片面または両面に直接もしくは1層以
上の層を介してハードコート層、及び減反射層を備えて
なる減反射材であって、該ハードコート層が帯電防止機
能を有することを特徴とする減反射材。 (2)減反射層が高屈折率層及び低屈折率層から構成さ
れており、該高屈折率層が、無機材料を構成層中に60
重量%以上含む層である(1)記載の減反射材。 (3)高屈折率層の無機材料が金属酸化物微粒子である
(2)記載の減反射材。 (4)金属酸化物微粒子が酸化チタン、酸化セリウム、
酸化亜鉛からなる群より選択される1種または2種以上
である(3)記載の減反射材。 (5)ハードコート層が構成層中に70重量%以上の有
機化合物を含んでなる(1)から(4)に記載の減反射
材。 (6)ハードコート層の表面抵抗値が1012Ω/cm2
以下である(1)から(5)に記載の減反射材。 (7)低屈折率層が構成層中に含フッ素重合体を含んで
なる(2)から(6)に記載の減反射材。 (8)低屈折率層の含フッ素重合体が下記の式[1]で
示される含フッ素単量体を重合硬化してなるものである
(7)記載の減反射材。
【0011】
【化4】
【0012】[X1、X2は同一もしくは異なる基であっ
て、水素原子もしくはメチル基を示し、Y1は、(i)フ
ッ素原子を2個以上有する炭素数1〜14のフルオロア
ルキレン基、(ii)フッ素原子を4個以上有する炭素数
3〜14のシクロアルキレン基、(iii)―C(Y2)―
HCH2―基(但しY2は、フッ素原子を3個以上有する
炭素数1〜14のフルオロアルキル基、もしくはフッ素
原子を4個以上有する炭素数3〜14のシクロアルキル
基を示す。)、(iv)下記の式[2]で示される基
【0013】
【化5】
【0014】(ここでY3はフッ素原子を2個以上有す
る炭素数1〜14のフルオロアルキル基、X3は水素原
子もしくは炭素数1〜3のアルキル基、Z1は水素原
子、アクリル酸残基、もしくはメタクリル酸残基で示さ
れる基である。)、または(v)下記の一般式[3]で
示される基
【0015】
【化6】
【0016】(ここでY4はフッ素原子を2個以上有す
る炭素数1〜14のフルオロアルキレン基、Z2、Z3
同一もしくは異なる基であって、水素原子、アクリル酸
残基、もしくはメタクリル酸残基で示される基であ
る。)] (9)前記(1)から(8)のいずれか1つに記載の減
反射材の製造方法であって、次の1〜3の工程からなる
製造方法。 工程1(帯電防止ハードコート層の形成) 帯電防止ハードコート層用塗液を、ウェットコーティン
グにより透明基材の表面に塗布し、活性エネルギー線も
しくは熱により硬化してハードコート層を形成する。 工程2(高屈折率層の形成) 前記工程1で作製したハードコート層を形成した基材の
表面に、金属酸化物微粒子を含む高屈折率層用塗液を、
ウェットコーティング法により塗布し、活性エネルギー
線もしくは熱により硬化して高屈折率層を形成する。 工程3(低屈折率層の形成) 前記工程2で作製した、ハードコート層及び高屈折率層
を形成した基材の表面に、含フッ素単量体を含む低屈折
率層用塗液を、ウェットコーティング法により塗布し、
活性エネルギー線もしくは熱により硬化して低屈折率層
を形成する。 (10)前記(1)から(9)のいずれか1つ記載の減
反射材を用いた減反射性電子画像表示装置。
【0017】
【発明の実施形態】本発明に用いる透明基材の材質とし
ては、特に限定されるものではないが、例えば、ガラ
ス、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリカー
ボネート(PC)、ポリメタクリル酸メチル(PMM
A)共重合体、トリアセチルセルロース(TAC)、ポ
リオレフィン(PO)、ポリアミド(PA)、ポリ塩化
ビニル(PVC)等を好ましく挙げることができる。こ
こでいう透明性とは光線透過率で30%以上であり、よ
り好ましくは50%以上、更に好ましくは80%以上で
ある。
【0018】透明基材の形状は、特に限定されるもので
はないが、例えば板状もしくはフィルム状のものが挙げ
られる。生産性、運搬性の点からフィルム状のものが好
ましく挙げられる。フィルムの厚みとしては10〜50
0μmのものが透明性、作業性の点より好ましく挙げら
れる。
【0019】本発明において、ハードコート層は、減反
射層と前記の透明基材との間に、硬度の向上および帯電
防止機能の付与を目的とする層である。この層は無機材
料、有機材料、もしくはこれらの混合物を用いることが
できる。層の形成方法は特に限定されないが、その厚み
は2〜20μmが好ましい。厚みが2μm未満になると
鉛筆硬度の低下など、十分な硬度を得ることが難しく、
20μmを超えると耐屈曲性の低下などの問題が生じる
ため好ましくない。ハードコート層の硬度は、特に限定
はされないが、鉛筆硬度でH以上が好ましい。
【0020】前記の層に用いられる有機材料としては、
例えば多官能もしくは単官能の(メタ)アクリル酸エス
テル、エチルシリケートなどの珪素化合物などが挙げら
れる。また帯電防止能を付与するための材料としては、
例えば四級アンモニウム塩を構成部位として有する有機
単量体や重合体、金属酸化物微粒子が挙げられる。
【0021】前記の四級アンモニウム塩を構成部位とし
て有する有機単量体としては、例えば、塩化(メタ)ア
クリル酸エチルトリメチルアンモニウム、臭化(メタ)
アクリル酸エチルトリメチルアンモニウム、塩化(メ
タ)アクリル酸−2−ヒドロキシプロピルトリメチルア
ンモニウム、臭化(メタ)アクリル酸−2−ヒドロキシ
プロピルトリメチルアンモニウム等の(メタ)アクリル
酸誘導体、塩化ビニルベンジルトリメチルアンモニウ
ム、臭化ビニルベンジルトリメチルアンモニウム等のス
チレン誘導体等が挙げられる。また、重合体としては、
前記単量体の単独重合体や(メタ)アクリル酸誘導体、
スチレン誘導体、イタコン酸誘導体、フマル酸誘導体等
の単量体との共重合体などが挙げられる。有機単量体
や、重合体は、1種類または2種類以上を用いることが
できる。
【0022】前記の金属酸化物微粒子としては、例え
ば、酸化錫、リンドープ酸化錫、酸化インジウム錫、酸
化アンチモン錫、酸化アンチモン亜鉛、酸化亜鉛アルミ
ニウムなどが挙げられる。特に、好ましくは、酸化錫、
酸化インジウム錫、酸化アンチモン錫が挙げられる。
【0023】微粒子の平均粒径は可視光波長以下である
ことが好ましい。可視光波長以上になると透明性が著し
く低下するため好ましくない。特に0.1μm以下であ
ることが好ましい。
【0024】金属酸化物微粒子などの無機物を添加する
場合には、その量が層の構成中30重量%以下であるこ
とが好ましい。30重量部を超えると層の屈折率が上昇
し、減反射層を形成したときの光学性能が劣化するので
好ましくない。
【0025】ハードコート層には前記の化合物以外に本
発明の効果を損なわない範囲において、その他の成分を
含んでも構わない。その他の成分とは特に限定されるも
のではなく、例えば、無機充填剤、無機または有機顔
料、重合体、および重合開始剤、重合禁止剤、酸化防止
剤、分散剤、界面活性剤、光安定剤、光吸収剤、レベリ
ング剤などの添加剤などが挙げられる。またウェットコ
ーティング法において成膜後乾燥させる限りは、任意の
量の溶媒を添加することができる。
【0026】本発明に用いるハードコート層層の表面抵
抗値としては1012Ω/cm2以下であることが好まし
い。1012Ω/cm2を超えると帯電防止効果が十分で
なくなるため好ましくない。本発明によれば、減反射層
を形成した後もハードコート層の表面抵抗値を同程度の
範囲に保つことができる。
【0027】本発明においてハードコート層は、生産性
の面より、ウェットコーティング法により形成すること
が好ましい。ウェットコーティングの方法としては公知
のもので良く、例えばロールコート法、スピンコート
法、ディップコート法などが代表的なものとして挙げら
れる。ロールコート法等、連続的に形成できる方法が生
産性の点より好ましい。また、層を形成した後、活性エ
ネルギー線照射や加熱により硬化反応を行うことができ
る。
【0028】またハードコート層には、必要に応じて、
防眩、ニュートンリング防止、特定波長の光の遮断、密
着性の向上、色調補正等の機能を一種類以上付与するこ
とができる。
【0029】本発明において、減反射層は従来公知のも
のでもよく、層の形成方法も限定されない。例えばドラ
イコーティング法、ウェットコーティング法等の方法を
とることができる。生産性、コストの面より、特にウェ
ットコート法が好ましい。ウェットコーティングの方法
としては公知のもので良く、例えばロールコート法、ス
ピンコート法、ディップコート法などが代表的なものと
して挙げられる。ロールコート法等、連続的に形成でき
る方法が生産性の点より好ましい。
【0030】減反射層は基材上に単層もしくは多層構造
として形成することができる。例えば低屈折率層の単層
もしくは高屈折率層および低屈折率層からなる2層構造
が挙げられる。生産性、コスト、減反射効果の観点よ
り、2層構造のものが好ましく挙げられる。
【0031】減反射層の屈折率としては、形成される層
がその直下の層より低屈折率であることことを要件と
し、その屈折率は1.30〜1.55の範囲にあること
が好ましい。1.55を超える場合はウェットコーティ
ングでは十分な減反射効果を得ることが難しく、また
1.30未満の場合は層を形成するのは現実的に困難で
ある。さらに、2層構造を有する場合は、高屈折率層は
直上に形成される低屈折率層より屈折率を高くすること
が必要であるので、その屈折率は1.60〜1.90の
範囲内であることが好ましい。1.60未満では十分な
減反射効果を得ることが難しく、またウェットコーティ
ングで1.90を超える層を形成するのは困難である。
【0032】本発明の減反射層の厚みは基材の種類、形
状、減反射層の構成によって異なるが、一層あたり可視
光波長と同じ厚みもしくはそれ以下の厚みが好ましい。
例えば、高屈折率層の膜厚は125/nH≦高屈折率層
の厚さ(nm)≦200/nH、及び低屈折率層の膜厚
は、100/nL≦低屈折率層の厚さ(nm)≦165
/nLとして設計される。ただしnH、nLはそれぞれ
高屈折率層、低屈折率層の屈折率である。
【0033】高屈折率層を構成する無機材料としては、
特に限定されるものではないが、例えば酸化亜鉛、酸化
チタン、酸化セリウム、酸化アルミニウム、酸化シラ
ン、酸化タンタル、酸化イットリウム、酸化イッテルビ
ウム、酸化ジルコニウム、酸化インジウム錫、酸化イン
ジウム錫等が挙げられる。特に屈折率の点より酸化チタ
ン、酸化セリウム、酸化亜鉛が好ましく挙げられる。ま
た有機単量体や重合体をバインダーとして用いることが
できる。
【0034】前記の無機材料の微粒子を含む高屈折率層
は、ウェットコーティング法により形成することができ
る。この際、無機材料は、好ましくは層中に60重量%
以上、さらに好ましくは70重量%以上含まれているこ
とが好ましい。60重量%以下では高屈折率層の屈折率
が低くなり、光学性能が低下するため好ましくない。ま
た微粒子の平均粒径は層の厚みを大きく超えないことが
好ましく、特に0.1μm以下であることが好ましい。
平均粒径が大きくなると、散乱が生じるなど、高屈折率
層の光学性能が低下するため好ましくない。
【0035】また必要に応じて微粒子表面を各種カップ
リング剤等により修飾することができる。各種カップリ
ング剤としては例えば、有機置換された珪素化合物、ア
ルミニウム、チタニウム、ジルコニウム、アンチモン等
の金属アルコキシド、有機酸塩等が挙げられる。
【0036】低屈折率層の材料としては酸化珪素、フッ
化ランタン、フッ化マグネシウム、フッ化セリウム、フ
ッ化マグネシウム等の無機物や含フッ素有機物を単独ま
たは混合物として用いることができる。また非フッ素系
単量体や重合体をバインダーとして用いることができ
る。
【0037】前記の含フッ素有機化合物は特に限定され
るものではないが、例えば単官能もしくは多官能の含フ
ッ素(メタ)アクリル酸エステル、含フッ素イタコン酸
エステル、含フッ素マレイン酸エステル、含フッ素珪素
化合物等の単量体、およびそれらの重合体等が挙げられ
る。特に反応性の観点より含フッ素(メタ)アクリル酸
エステルが好ましい。これら含フッ素有機化合物を硬化
させることにより、低屈折率かつ高硬度の層を形成する
ことができる。
【0038】前記の単官能含フッ素(メタ)アクリル酸
エステルとしては、例えば、(メタ)アクリル酸−2,
2,2−トリフルオロエチル、(メタ)アクリル酸−
2,2,3,3,3−ペンタフルオロプロピル、(メ
タ)アクリル酸−2,2,3,3,4,4,4−ヘプタ
フルオロブチル、(メタ)アクリル酸−2,2,3,
3,4,4,5,5,5−ノナフルオロペンチル、(メ
タ)アクリル酸−2,2,3,3,4,4,5,5,
6,6,6−ウンデカフルオロヘキシル、(メタ)アク
リル酸−2,2,3,3,4,4,5,5,6,6,
7,7,7−トリデカフルオロへプチル、(メタ)アク
リル酸−2,2,3,3,4,4,5,5,6,6,
7,7,8,8,8−ペンタデカフルオロオクチル、
(メタ)アクリル酸−2,2,3,3,4,4,5,
5,6,6,7,7,8,8,9,9,9−ヘプタデカ
フルオロノニル、(メタ)アクリル酸−2,2,3,
3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,9,
9,10,10,10−ノナデカフルオロデシル、(メ
タ)アクリル酸−3,3,3−トリフルオロプロピル、
(メタ)アクリル酸−3,3,4,4,4−ペンタフル
オロブチル、(メタ)アクリル酸−3,3,4,4,
5,5,5−ヘプタフルオロペンチル、(メタ)アクリ
ル酸−3,3,4,4,5,5,6,6,6−ノナフル
オロヘキシル、(メタ)アクリル酸−3,3,4,4,
5,5,6,6,7,7,7−ウンデカフルオロヘプチ
ル、(メタ)アクリル酸−3,3,4,4,5,5,
6,6,7,7,8,8,8−トリデカフルオロオクチ
ル、(メタ)アクリル酸−3,3,4,4,5,5,
6,6,7,7,8,8,9,9,9−ペンタデカフル
オロノニル、(メタ)アクリル酸−3,3,4,4,
5,5,6,6,7,7,8,8,9,9,10,1
0,10−ヘプタデカフルオロデシル、(メタ)アクリ
ル酸−3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,
8,9,9,10,10,11,11,11−ノナデカ
フルオロウンデシル、(メタ)アクリル酸−3,3,
4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,9,9,1
0,10,11,11,12,12,12−ヘンエイコ
サフルオロウンデシル、(メタ)アクリル酸−(1−ト
リフルオロメチル)−2,2,2−トリフルオロエチ
ル、(メタ)アクリル酸−(2−ヒドロキシ)−4,
4,5,5,6,6,7,7,7−ノナフルオロヘプチ
ル、(メタ)アクリル酸−(2−ヒドロキシ)−4,
4,5,5,6,6,7,7,8,8,9,9,9−ト
リデカフルオロノニル、(メタ)アクリル酸−(2−ヒ
ドロキシ)−4,4,5,5,6,6,7,7,8,
8,9,9,10,10,11,11,11−ノナデカ
フルオロウンデシル、(メタ)アクリル酸−(2−ヒド
ロキシ)−4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,
9,9,10,10,11,11,12,12,13,
13,13−ヘンエイコサフルオロトリデシル等が挙げ
られる。
【0039】前記の多官能含フッ素(メタ)アクリル酸
エステルとしては、2官能ないし4官能の含フッ素(メ
タ)アクリル酸エステルが好ましく挙げられる。その中
で2官能の含フッ素(メタ)アクリル酸エステルとして
は、例えば、1,2−ジ(メタ)アクリロイルオキシ−
4,4,4−トリフルオロブタン、1,2−ジ(メタ)
アクリロイルオキシ−4,4,5,5,5−ペンタフル
オロペンタン、1,2−ジ(メタ)アクリロイルオキシ
−4,4,5,5,6,6,6−ヘプタフルオロヘキサ
ン、1,2−ジ(メタ)アクリロイルオキシ−4,4,
5,5,6,6,7,7,7−ノナフルオロヘプタン、
1,2−ジ(メタ)アクリロイルオキシ−4,4,5,
5,6,6,7,7,8,8,8−ウンデカフルオロオ
クタン、1,2−ジ(メタ)アクリロイルオキシ−4,
4,5,5,6,6,7,7,8,8,9,9,9−ト
リデカフルオロノナン、1,2−ジ(メタ)アクリロイ
ルオキシ−4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,
9,9,10,10,10−ペンタデカフルオロデカ
ン、1,2−ジ(メタ)アクリロイルオキシ−5,5,
6,6,7,7,8,8,9,9,10,10,10−
トリデカフルオロデカン、1,2−ジ(メタ)アクリロ
イルオキシ−4,4,5,5,6,6,7,7,8,
8,9,9,10,10,11,11,11−ヘプタデ
カフルオロウンデカン、1,2−ジ(メタ)アクリロイ
ルオキシ−4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,
9,9,10,10,11,11,12,12,12−
ノナデカフルオロドデカン、1,2−ジ(メタ)アクリ
ロイルオキシ−5,5,6,6,7,7,8,8,9,
9,10,10,11,11,11−ヘプタデカフルオ
ロドデカン、1,2−ジ(メタ)アクリロイルオキシ−
4−トリフルオロメチル−5,5,5−トリフルオロペ
ンタン、1,2−ジ(メタ)アクリロイルオキシ−5−
トリフルオロメチル−6,6,6−トリフルオロヘキサ
ン、1,2−ジ(メタ)アクリロイルオキシ−3−メチ
ル−4,4,5,5,5−ペンタフルオロペンタン、
1,2−ジ(メタ)アクリロイルオキシ−3−メチル−
4,4,5,5,6,6,6−ヘキサフルオロヘキサ
ン、1,4−ジ(メタ)アクリロイルオキシ−2,2,
3,3−テトラフルオロブタン、1,5−ジ(メタ)ア
クリロイルオキシ−2,2,3,3,4,4−ヘキサフ
ルオロペンタン、1,6−ジ(メタ)アクリロイルオキ
シ−2,2,3,3,4,4,5,5−オクタフルオロ
ヘキサン、1,7−ジ(メタ)アクリロイルオキシ−
2,2,3,3,4,4,5,5,6,6−デカフルオ
ロヘプタン、1,8−ジ(メタ)アクリロイルオキシ−
2,2,3,3,4,4,5,5,6,6,7,7−ド
デカフルオロオクタン、1,9−ジ(メタ)アクリロイ
ルオキシ−2,2,3,3,4,4,5,5,6,6,
7,7,8,8−テトラデカフルオロノナン、1,10
−ジ(メタ)アクリロイルオキシ−2,2,3,3,
4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,9,9−ヘ
キサデカフルオロデカン、1,11−ジ(メタ)アクリ
ロイルオキシ−2,2,3,3,4,4,5,5,6,
6,7,7,8,8,9,9,10,10−オクタデカ
フルオロウンデカン、1,12−ジ(メタ)アクリロイ
ルオキシ−2,2,3,3,4,4,5,5,6,6,
7,7,8,8,9,9,10,10,11,11−エ
イコサフルオロドデカン、2−ヒドロキシ−4,4,4
−トリフルオロブチル−2’,2’−ビス{(メタ)ア
クリロイルオキシメチル}プロピオナート、2−ヒドロ
キシ−4,4,5,5,5−ペンタフルオロペンチル−
2’,2’−ビス{(メタ)アクリロイルオキシメチ
ル}プロピオナート、2−ヒドロキシ−4,4,5,
5,6,6,6−ヘプタフルオロヘキシル−2’,2’
−ビス{(メタ)アクリロイルオキシメチル}プロピオ
ナート、2−ヒドロキシ−4,4,5,5,6,6,
7,7,7−ノナフルオロヘプチル−2’,2’−ビス
{(メタ)アクリロイルオキシメチル}プロピオナー
ト、2−ヒドロキシ−4,4,5,5,6,6,7,
7,8,8,9,9,9−トリデカフルオロノニル−
2’,2’−ビス{(メタ)アクリロイルオキシメチ
ル}プロピオナート、2−ヒドロキシ−4,4,5,
5,6,6,7,7,8,8,9,9,10,10,1
1,11,11−ノナデカフルオロウンデシル−2’,
2’−ビス{(メタ)アクリロイルオキシメチル}プロ
ピオナート、2−ヒドロキシ−4,4,5,5,6,
6,7,7,8,8,9,9,10,10,11,1
1,12,12,13,13,13−ヘンエイコサフル
オロトリデシル−2’,2’−ビス{(メタ)アクリロ
イルオキシメチル}プロピオナート等を好ましく挙げる
ことができる。
【0040】特に好ましくは1,2−ジ(メタ)アクリ
ロイルオキシ−4,4,5,5,6,6,7,7,8,
8,9,9,10,10,11,11,11−ヘプタデ
カフルオロドデカン、1,10−ジ(メタ)アクリロイ
ルオキシ−2,2,3,3,4,4,5,5,6,6,
7,7,8,8,9,9−ヘキサデカフルオロデカン、
2−ヒドロキシ−4,4,5,5,6,6,7,7,
8,8,9,9,10,10,10−ヘプタデカフルオ
ロウンデシル−2’,2’−ビス{(メタ)アクリロイ
ルオキシメチル}プロピオナートが挙げられる。これら
のジ(メタ)アクリル酸エステルは、使用に際して単独
もしくは混合物として用いることができる。
【0041】さらに前記の2官能以外の含フッ素多官能
(メタ)アクリル酸エステルとしては、3官能および4
官能の含フッ素多官能(メタ)アクリル酸エステルが挙
げられる。該3官能の含フッ素多官能(メタ)アクリル
酸エステルの具体例としては、例えば、2−(メタ)ア
クリロイルオキシ−4,4,5,5,6,6,7,7,
7−ノナフルオロヘプチル−2’,2’−ビス{(メ
タ)アクリロイルオキシメチル}プロピオナート、2−
(メタ)アクリロイルオキシ−4,4,5,5,6,
6,7,7,8,8,9,9,9−ウンデカフルオロノ
ニル−2’,2’−ビス{(メタ)アクリロイルオキシ
メチル}プロピオナート、2−(メタ)アクリロイルオ
キシ−4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,9,
9,10,10,11,11,11−ヘプタデカフルオ
ロウンデシル−2’,2’−ビス{(メタ)アクリロイ
ルオキシメチル}プロピオナート、3−{(1−トリフ
ルオロメチル)オクタフルオロシクロペンチル}−2−
アクリロイルオキシプロピル−2’,2’−ビス{(メ
タ)アクリロイルオキシメチル}プロピオナート、3−
{(1−トリフルオロメチル)デカフルオロシクロヘキ
シル}−2−アクリロイルオキシプロピル−2’,2’
−ビス{(メタ)アクリロイルオキシメチル}プロピオ
ナート、3−{(1−トリフルオロメチル)ヘキサフル
オロシクロブチル}−2−アクリロイルオキシプロピル
−2’,2’−ビス{(メタ)アクリロイルオキシメチ
ル}プロピオナート、さらに、1−(メタ)アクリロイ
ルオキシメチル−3,3,4,4,5,5,6,6,6
−ノナフルオロヘキシル−2’,2’−ビス{(メタ)
アクリロイルオキシメチル}プロピオナート、1−(メ
タ)アクリロイルオキシメチル−3,3,4,4,5,
5,6,6,7,7,8,8,8−ウンデカフルオロオ
クチル−2’,2’−ビス{(メタ)アクリロイルオキ
シメチル}プロピオナート、1−(メタ)アクリロイル
オキシメチル−3,3,4,4,5,5,6,6,7,
7,8,8,9,9,10,10,10−ヘプタデカフ
ルオロデシル−2’,2’−ビス{(メタ)アクリロイ
ルオキシメチル}プロピオナート、2−{(1−トリフ
ルオロメチル)オクタフルオロシクロペンチル}−1−
(アクリロイルオキシメチル)エチル−2’,2’−ビ
ス{(メタ)アクリロイルオキシメチル}プロピオナー
ト、2−{(1−トリフルオロメチル)デカフルオロシ
クロヘキシル}−1−(アクリロイルオキシメチル)エ
チル−2’,2’−ビス{(メタ)アクリロイルオキシ
メチル}プロピオナート、2−{(1−トリフルオロメ
チル)ヘキサフルオロシクロブチル}−1−(アクリロ
イルオキシメチル)エチル−2’,2’−ビス{(メ
タ)アクリロイルオキシメチル}プロピオナート等が挙
げられる。特に好ましくは2−(メタ)アクリロイルオ
キシ−4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,9,
9,10,10,11,11,11−ヘプタデカフルオ
ロウンデシル−2’,2’−ビス{(メタ)アクリロイ
ルオキシメチル}プロピオナートが挙げられる。
【0042】また、4官能の含フッ素多官能(メタ)ア
クリル酸エステルの具体的な例としては、1,2,7,
8−テトラ(メタ)アクリロイルオキシ−4,4,5,
5−テトラフルオロオクタン、1,2,8,9−テトラ
(メタ)アクリロイルオキシ−4,4,5,5,6,6
−ヘキサフルオロノナン、1,2,9,10−テトラ
(メタ)アクリロイルオキシ−4,4,5,5,6,
6,7,7−オクタフルオロデカン、1,2,10,1
1−テトラ(メタ)アクリロイルオキシ−4,4,5,
5,6,6,7,7,8,8−デカフルオロウンデカ
ン、1,2,11,12−テトラ(メタ)アクリロイル
オキシ−4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,
9,9−ドデカフルオロドデカン等を好ましくあげるこ
とができる。特に好ましくは1,2,9,10−テトラ
(メタ)アクリロイルオキシ−4,4,5,5,6,
6,7,7−オクタフルオロデカン、1,2,11,1
2−テトラ(メタ)アクリロイルオキシ−4,4,5,
5,6,6,7,7,8,8,9,9−ドデカフルオロ
ドデカンが挙げられる。使用に際しては、前記の含フッ
素多官能(メタ)アクリル酸エステルは、単独もしくは
混合物として用いることができる。
【0043】前記の含フッ素珪素化合物の具体的な例と
しては、(3,3,3−トリフルオロプロピル)トリメ
トキシシラン、(3,3,4,4,4−ペンタフルオロ
ブチル)トリメトキシシラン、(3,3,4,4,5,
5,5−ヘプタフルオロペンチル)トリメトキシシラ
ン、(3,3,4,4,5,5,6,6,6−ノナフル
オロヘキシル)トリメトキシシラン、(3,3,4,
4,5,5,6,6,7,7,7−ウンデカフルオロヘ
プチル)トリメトキシシラン、(3,3,4,4,5,
5,6,6,7,7,8,8,8−トリデカフルオロ)
トリメトキシシラン、(3,3,4,4,5,5,6,
6,7,7,8,8,9,9,9−ペンタデカフルオ
ロ)トリメトキシシラン、(3,3,4,4,5,5,
6,6,7,7,8,8,9,9,10,10,10−
ヘプタデカフルオロ)トリメトキシシラン、(3,3,
4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,9,9,1
0,10,11,11,11−ノナデカフルオロ)トリ
メトキシシラン、(3,3,4,4,5,5,6,6,
7,7,8,8,9,9,10,10,11,11,1
2,12,12−ヘンエイコサフルオロ)トリメトキシ
シラン等を好ましく挙げることができる。
【0044】前記の含フッ素重合体としては、前記の単
官能含フッ素単量体の単独重合体、共重合体、もしくは
フッ素を含まない単量体との共重合体等の直鎖状重合
体、鎖中に炭素環や複素環を含む重合体、環状重合体、
櫛型重合体などが挙げられる。
【0045】前記の非フッ素系単量体としては、従来公
知のものを用いることができる。例えば単官能もしくは
多官能の(メタ)アクリル酸エステルやエチルシリケー
ト等の珪素化合物等が挙げられる。
【0046】高屈折率層、低屈折率層の減反射層には前
記の化合物以外に本発明の効果を損なわない範囲におい
て、その他の成分を含んでも構わない。その他の成分と
は特に限定されるものではなく、例えば、無機充填剤、
無機または有機顔料、重合体、および重合開始剤、重合
禁止剤、酸化防止剤、分散剤、界面活性剤、光安定剤、
光吸収剤、レベリング剤などの添加剤などが挙げられ
る。またウェットコーティング法において成膜後乾燥さ
せる場合は、任意の量の溶媒を添加することができる。
【0047】減反射層はウェットコーティングにより成
膜した後、熱や紫外線、電子線などの活性エネルギー線
の照射や加熱により硬化反応を行って層を形成すること
ができる。また、活性エネルギー線による硬化反応は、
窒素、アルゴンなどの不活性ガス雰囲気下で行うことが
好ましい。
【0048】さらに、透明基材とハードコート層の間、
もしくは減反射層の間に、一層以上の層を形成すること
ができる。この層は無機物、有機物、もしくはこれらの
混合物を用いることができる。その厚みは0.005〜
20μmが好ましく、層の形成方法は、特に限定されな
い。またこれらの層には防眩、ニュートンリング防止、
特定波長の光の遮断、層間の密着性の向上、導電性、色
調補正等の機能を一種類以上付与することができる。
【0049】前記の減反射材は、減反射効果、高光線透
過率および帯電防止能を必要とする用途に用いることが
できる。特に電子画像表示装置の表面反射を抑える目的
で用いることができる。これらの用途に用いる場合には
減反射材の減反射層を形成していない面にあらかじめ接
着層を設け、対象物に貼り合せて用いることができる。
接着層に用いられる材料としては特に限定されるもので
はないが、例えば、アクリル系粘着剤、紫外線硬化型接
着剤、熱硬化型接着剤等を挙げることができる。また、
この接着層には特定波長の光の遮断、コントラスト向
上、色調補正等の機能を一種類以上付与することができ
る。
【0050】前記の電子画像表示装置としては、例え
ば、ブラウン管、プラズマパネルディスプレイ(PD
P)、液晶表示装置等を挙げることができる。該表面に
直接、もしくは前面に配置する透明材料に減反射材の減
反射層を形成していない面が接するように接着層を介し
て密着させ用いることができる。
【0051】
【発明の効果】本発明の減反射材は、高い減反射効果お
よび帯電防止能が得られる。また本発明の製造方法は、
高い減反射効果および帯電防止能を有する減反射材を高
い生産性で製造することができるものである。電子画像
表示装置に使用することができる。
【0052】
【実施例】以下、実施例に基づき更に詳細に説明する。
なお、溶媒乾燥後の膜の屈折率は以下のように測定し
た。 (1) 屈折率1.50のアクリル板(商品名「デラグラ
スA」、旭化成工業株式会社製)上に、ディップコータ
ー(杉山元理化学機器株式会社製)により、減反射層用
塗液をそれぞれ乾燥膜厚でλ/4を示す光の波長が55
0nm程度になるように層の厚さを調整して塗布した。 (2) 乾燥後、紫外線照射装置(岩崎電気株式会社製)
により窒素雰囲気下で120W高圧水銀灯を用いて、4
00mJの紫外線を照射し硬化した。 (3) アクリル板裏面をサンドペーパーで荒らし、黒色
塗料で塗りつぶしたものを分光光度計(「U−best
50」、日本分光株式会社製)により、5°、−5°
正反射率を測定した。 (4) 反射率の極値Rより以下の式により屈折率を計算
した。
【0053】
【数1】
【0054】製造例1 ハードコート層用塗液(HC−
1)の調製 ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート70重量
部、トリアクリル酸テトラメチロールメタン20重量
部、1,6−ビス(3−アクリロイルオキシ−2−ヒド
ロキシプロピルオキシ)ヘキサン10重量部、平均粒径
が0.07μmの酸化インジウム錫微粒子20重量部、
光重合開始剤(商品名「IRGACURE184」、チ
バガイギー株式会社製)4重量部、イソプロパノール1
00重量部を混合しハードコート層用塗液(HC−1)
を調製した。
【0055】製造例2 ハードコート層用塗液(HC−
2)の調製 酸化インジウム錫微粒子に代えて、(塩化2−メタクリ
ロイルオキシエチルトリメチルアンモニウム)−[m−
イソプロペニル−α−メチルビニルベンジルイソシアネ
ート−ω−(2−エチルヘキサノキシ)−ポリ(ヘキサ
ノン酸)付加物]共重合体10重量部を用いた以外は製
造例1と同様にして、ハードコート層用塗液(HC−
2)を調製した。
【0056】製造例3 ハードコート層用塗液(HC−
3)の調製 酸化インジウム錫微粒子に代えて、塩化3−メタクリロ
イルオキシ−2−ヒドロキシプロピルトリメチルアンモ
ニウム40重量部を用いた以外は製造例1と同様にし
て、ハードコート層用塗液(HC−3)を調製した。
【0057】製造例4 ハードコート層用塗液(HC−
4)の調製 ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート70重量
部、トリアクリル酸テトラメチロールメタン20重量
部、1,6−ビス(3−アクリロイルオキシ−2−ヒド
ロキシプロピルオキシ)ヘキサン10重量部、光重合開
始剤(商品名「IRGACURE184」、チバガイギ
ー株式会社製)4重量部、イソプロパノール100重量
部を混合しハードコート層用塗液(HC−4)を調製し
た。
【0058】製造例5 ハードコート層用塗液(HC−
5)の調製 ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート70重量
部、トリアクリル酸テトラメチロールメタン20重量
部、1,6−ビス(3−アクリロイルオキシ−2−ヒド
ロキシプロピルオキシ)ヘキサン10重量部、平均粒径
が0.07μmの酸化インジウム錫微粒子100重量
部、光重合開始剤(商品名「IRGACURE90
7」、チバガイギー株式会社製)4重量部、イソプロパ
ノール100重量部を混合しハードコート層用塗液(H
C−5)を調製した。
【0059】製造例6 高屈折率層用塗液(H−1)の
調製 平均粒径が0.06μmの酸化亜鉛微粒子を85重量
部、トリアクリル酸テトラメチロールメタン15重量
部、ブチルアルコール900重量部、光重合開始剤(商
品名「IRGACURE 907」、チバガイギー株式
会社製)1重量部を混合し高屈折率層用塗液(H−1)
を調整した。溶媒乾燥後の硬化物の屈折率は1.69で
あった。
【0060】製造例7 高屈折率層用塗液(H−2)の
調製 酸化亜鉛微粒子に代えて平均粒径が0.05μmの酸化
セリウム微粒子を用いた以外は製造例6と同様にして高
屈折率層用塗液(H−2)を調製した。溶媒乾燥後の硬
化物の屈折率は1.77であった。
【0061】製造例8 高屈折率層用塗液(H−3)の
調製 酸化亜鉛微粒子に代えて平均粒径が0.03μmの酸化
チタン微粒子を用いた以外は製造例6と同様にして高屈
折率層用塗液(H−3)を調製した。溶媒乾燥後の硬化
物の屈折率は1.78であった。
【0062】製造例9 高屈折率層用塗液(H−4)の
調製 平均粒径が0.03μmの酸化チタン微粒子を50重量
部、トリアクリル酸テトラメチロールメタン50重量
部、ブチルアルコール900重量部、光重合開始剤(商
品名「IRGACURE 907」、チバガイギー株式
会社製)2重量部を混合し高屈折率層用塗液(H−4)
を調製した。溶媒乾燥後の硬化物の屈折率は1.58で
あった。
【0063】製造例10 低屈折率層用塗液(L−1)
の調製 1,2,9,10−テトラアクリロイルオキシ−4,
4,5,5,6,6,7,7−オクタフルオロデカン5
0重量部、シリカ微粒子(商品名「XBA−ST」、日
産化学株式会社製)120重量部、2’,2’−ビス
((メタ)アクリロイルオキシメチル)プロピオン酸
(2−ヒドロキシ)−4,4,5,5,6,6,7,
7,8,8,9,9,10,10,11,11,11−
ノナデカフルオロウンデシル、10重量部、ブチルアル
コール900重量部、光重合開始剤(商品名「KAYA
CURE BMS」、日本化薬株式会社製)5重量部を
混合し低屈折率層用塗液(L−1)を調整した。溶媒乾
燥後の硬化物の屈折率は1.47であった。
【0064】製造例11 低屈折率層用塗液(L−2)
の調製 1,10−ジアクリロイルオキシ−2,2,3,3,
4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,9,9−オ
クタデカフルオロデカン70重量部、テトラアクリル酸
テトラメチロールメタン20重量部、ブチルアルコール
900重量部、光重合開始剤(商品名「KAYACUR
E BMS」、日本化薬株式会社製)5重量部を混合し
低屈折率層用塗液(L−2)を調製した。溶媒乾燥後の
硬化物の屈折率は1.42であった。
【0065】実施例1−1〜1−6 厚みが188μmのPETフィルム(商品名「A410
0」、東洋紡績株式会社製)上に、製造例1で調製した
ハードコート用塗液HC−1をバーコーターを用いて乾
燥膜厚4μm程度になるように塗布し、紫外線照射装置
(岩崎電気株式会社製)により120W高圧水銀灯を用
いて400mJの紫外線を照射し硬化し、ハードコート
処理PETフィルムを作製した。その上に、ディップコ
ーター(杉山元理化学機器株式会社製)により、製造例
6〜8にて調製した減反射層用塗液H−1〜3をそれぞ
れ乾燥膜厚でλ/4を示す光の波長が550nm程度に
なるように層の厚さを調整して塗布した後、紫外線照射
装置(岩崎電気株式会社製)により窒素雰囲気下で12
0W高圧水銀灯を用いて、400mJの紫外線を照射し
硬化した。その上に同様にして、製造例10,11にて
調製した低屈折率層用塗液L−1、2をそれぞれ乾燥膜
厚が、550nmで最小反射率を示すように調製し塗
布、硬化し減反射材を作製した。得られた減反射材の分
光反射率、全光線透過率および表面抵抗値を以下のよう
に測定した。結果をそれぞれ表1に示した。 分光反射率;導電性減反射材の裏面をサンドペーパーで
荒らし、黒色塗料で塗りつぶしたものを分光光度計
(「U−best 50」、日本分光株式会社製)によ
り、5°、−5°正反射率を測定した。 最小反射率;減反射材の裏面をサンドペーパーで荒ら
し、黒色塗料で塗りつぶしたものを分光光度計(「U−
best 50」、日本分光株式会社製)により、40
0nmから800nmの波長範囲の5°、−5°正反射スペ
クトルを測定し、その最小値を読み取った。 全光線透過率;ヘイズメーター(「NDH2000」、
日本電色工業株式会社製)により全光線透過率を測定し
た。 表面抵抗値;表面抵抗計(「DSM8103」、東亜電
波工業株式会社製)により測定した。また、減反射材の
表面をポリプロピレンワイパー(商品名「キムテック
ス」、株式会社クレシア製)で50回摩擦した後、タバ
コの灰に約3mmの距離まで近づけ、静電気による埃の
付着のテストを行った。結果は殆ど灰が付着しないもの
を○、少量の灰が付着するものを△、多量の灰が付着す
るものを×として評価し、表1に示す。
【0066】実施例2−1〜2−6 ハードコート層用塗液にHC−2を用いた以外は実施例
1と同様にして減反射材を作製した。また実施例1と同
様に減反射材の分光反射率、全光線透過率および表面抵
抗値の測定、および埃の付着のテストを行った。結果を
それぞれ表2に示す。
【0067】実施例3−1〜3−6 ハードコート層用塗液にHC−3を用いた以外は実施例
1と同様にして減反射材を作製した。また実施例1と同
様に減反射材の分光反射率、全光線透過率および表面抵
抗値の測定、および埃の付着のテストを行った。結果を
それぞれ表3に示す。
【0068】
【表1】
【0069】
【表2】
【0070】
【表3】
【0071】比較例1および2 それぞれハードコート層用塗液HC−4およびHC−5
を用いた以外は表1中の実施例1−1と同様にして減反
射材を作製した。また実施例1と同様に減反射材の分光
反射率、全光線透過率および表面抵抗値の測定、および
埃の付着のテストを行った。結果を表4に示す。
【0072】比較例3 高屈折率層用塗液H−4を用いた以外は表1中の実施例
1−1と同様にして減反射材を作製した。また実施例1
と同様に減反射材の分光反射率、全光線透過率および表
面抵抗値の測定、および埃の付着のテストを行った。結
果を表4に示す。
【0073】
【表4】
【0074】表1〜3において、実施例として製造され
た減反射材は最小反射率1%以下かつ帯電防止機能を兼
備している。比較例1は表面抵抗値が実施例に比べて高
く、帯電防止能を有さないので表面に埃の付着が起こり
易い。比較例2では最小反射率が高く、減反射効果が十
分に得られていない。比較例3では最小反射率が高く、
減反射効果が劣化している。
【0075】実施例4 実施例1−1で作成した減反射材の裏面にアクリル系粘
着剤シート(商品名「ノンキャリア」、リンテック株式
会社製)をハンドローラーにより貼り、ブラウン管式テ
レビ表面に均一に貼り合せた。その結果、貼り合わせを
行っていない面に対し背景光の反射が抑えられ、非常に
鮮明な画像が得られた。
フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) C08J 7/06 CEZ C09K 3/16 101A C09K 3/16 101 C08L 101:00 G02B 1/10 G02B 1/10 A // C08L 101:00 Z Fターム(参考) 2K009 AA05 AA15 BB11 CC03 CC09 CC26 DD02 EE03 4F006 AA02 AA12 AA17 AA22 AA35 AA36 AA38 AB19 AB24 AB74 BA14 CA05 DA04 EA03 EA05 4F100 AA01D AA01E AA17D AA21D AA25D AH00B AK17B AK42 AR00B AR00C AR00D AR00E AT00A BA03 BA04 BA05 BA07 BA10B BA10D CC00B CC00C DE01D EH46 EJ08 JG04B JK12B JK12C JN01A JN06D JN06E JN18D JN18E YY00B 4J011 AC04 QA03 QA32 SA00 UA01 UA03 VA01 VA09 WA10 XA02 4J100 AL08P AL65P AL67P BB07P BB12P BB18P BC02P CA01 DA64 FA17 JA32 JA43

Claims (10)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 透明基材の片面または両面に直接もしく
    は1層以上の層を介してハードコート層、及び減反射層
    を備えてなる減反射材であって、該ハードコート層が帯
    電防止機能を有することを特徴とする減反射材。
  2. 【請求項2】 減反射層が高屈折率層及び低屈折率層か
    ら構成され、該高屈折率層は、無機材料を構成層中に6
    0重量%以上含む層である請求項1記載の減反射材。
  3. 【請求項3】 高屈折率層の無機材料が金属酸化物微粒
    子である請求項2記載の減反射材。
  4. 【請求項4】 金属酸化物微粒子が酸化チタン、酸化セ
    リウム、酸化亜鉛からなる群より選択される1種または
    2種以上である請求項3記載の減反射材。
  5. 【請求項5】 ハードコート層が構成層中に70重量%
    以上の有機化合物を含んでなる請求項1から4項のいず
    れかに記載の減反射材。
  6. 【請求項6】 ハードコート層の表面抵抗値が1012Ω
    /cm2以下である請求項1から5のいずれかに記載の
    減反射材。
  7. 【請求項7】 低屈折率層が構成層中に含フッ素重合体
    を含んでなる請求項2から6項のいずれか1項に記載の
    減反射材。
  8. 【請求項8】 低屈折率層の含フッ素重合体が下記の式
    [1]で示される含フッ素単量体を重合硬化してなるも
    のである請求項7記載の減反射材。 【化1】 [X1、X2は同一もしくは異なる基であって、水素原子
    もしくはメチル基を示し、Y1は、(i)フッ素原子を2
    個以上有する炭素数1〜14のフルオロアルキレン基、
    (ii)フッ素原子を4個以上有する炭素数3〜14のシ
    クロアルキレン基、(iii)―C(Y2)―HCH2―基
    (但しY2は、フッ素原子を3個以上有する炭素数1〜
    14のフルオロアルキル基、もしくはフッ素原子を4個
    以上有する炭素数3〜14のシクロアルキル基を示
    す)、(iv)下記の式[2]で示される基 【化2】 (ここでY3はフッ素原子を2個以上有する炭素数1〜
    14のフルオロアルキル基、X3は水素原子もしくは炭
    素数1〜3のアルキル基、Z1は水素原子、アクリル酸
    残基、もしくはメタクリル酸残基で示される基であ
    る。)、または(v)下記の一般式[3]で示される基 【化3】 (ここでY4はフッ素原子を2個以上有する炭素数1〜
    14のフルオロアルキレン基、Z2、Z3は同一もしくは
    異なる基であって、水素原子、アクリル酸残基、もしく
    はメタクリル酸残基で示される基である。)]
  9. 【請求項9】 請求項1から8項のいずれか1項に記載
    の減反射材の製造方法であって、次の1〜3の工程から
    なる製造方法。 工程1(ハードコート層の形成) 帯電防止ハードコート層用塗液を、ウェットコーティン
    グにより透明基材の表面に塗布し、活性エネルギー線も
    しくは熱により硬化してハードコート層を形成する。 工程2(高屈折率層の形成) 前記工程1で作製したハードコート層を形成した基材の
    表面に、金属酸化物微粒子を含む高屈折率層用塗液を、
    ウェットコーティング法により塗布し、活性エネルギー
    線もしくは熱により硬化して高屈折率層を形成する。 工程3(低屈折率層の形成) 前記工程2で作製した、ハードコート層及び高屈折率層
    を形成した基材の表面に、含フッ素単量体を含む低屈折
    率層用塗液を、ウェットコーティング法により塗布し、
    活性エネルギー線もしくは熱により硬化して低屈折率層
    を形成する。
  10. 【請求項10】 請求項1から8項のいずれか1項記載
    の減反射材を用いた減反射性電子画像表示装置。
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