KR100813737B1 - 반사 방지 필름 - Google Patents

반사 방지 필름 Download PDF

Info

Publication number
KR100813737B1
KR100813737B1 KR1020027015250A KR20027015250A KR100813737B1 KR 100813737 B1 KR100813737 B1 KR 100813737B1 KR 1020027015250 A KR1020027015250 A KR 1020027015250A KR 20027015250 A KR20027015250 A KR 20027015250A KR 100813737 B1 KR100813737 B1 KR 100813737B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
delete delete
layer
antireflective
thickness
inorganic layer
Prior art date
Application number
KR1020027015250A
Other languages
English (en)
Other versions
KR20030003283A (ko
Inventor
최형철
에드워드 피. 린드홀름
윌리엄 케이. 스마이쓰
프라드냐 나가르카르
Original Assignee
쓰리엠 이노베이티브 프로퍼티즈 캄파니
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 쓰리엠 이노베이티브 프로퍼티즈 캄파니 filed Critical 쓰리엠 이노베이티브 프로퍼티즈 캄파니
Publication of KR20030003283A publication Critical patent/KR20030003283A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR100813737B1 publication Critical patent/KR100813737B1/ko

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/10Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
    • G02B1/11Anti-reflection coatings
    • GPHYSICS
    • G06COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
    • G06FELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
    • G06F3/00Input arrangements for transferring data to be processed into a form capable of being handled by the computer; Output arrangements for transferring data from processing unit to output unit, e.g. interface arrangements
    • G06F3/01Input arrangements or combined input and output arrangements for interaction between user and computer
    • G06F3/03Arrangements for converting the position or the displacement of a member into a coded form
    • G06F3/041Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/10Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
    • G02B1/11Anti-reflection coatings
    • G02B1/111Anti-reflection coatings using layers comprising organic materials
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/24Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.]
    • Y10T428/24942Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.] including components having same physical characteristic in differing degree
    • Y10T428/2495Thickness [relative or absolute]
    • Y10T428/24967Absolute thicknesses specified
    • Y10T428/24975No layer or component greater than 5 mils thick
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/26Web or sheet containing structurally defined element or component, the element or component having a specified physical dimension
    • Y10T428/263Coating layer not in excess of 5 mils thick or equivalent
    • Y10T428/264Up to 3 mils
    • Y10T428/2651 mil or less
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/26Web or sheet containing structurally defined element or component, the element or component having a specified physical dimension
    • Y10T428/269Web or sheet containing structurally defined element or component, the element or component having a specified physical dimension including synthetic resin or polymer layer or component
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/31504Composite [nonstructural laminate]
    • Y10T428/31678Of metal
    • Y10T428/31692Next to addition polymer from unsaturated monomers

Abstract

본 발명의 용품은 반사 방지 복합재, 기재, 및 기재상에 퇴적된 무기층을 포함한다. 무기층의 두께는 약 1 nm 내지 약 10 nm이다. 상기 용품은 무기층과 접촉하여 반사 방지 복합재의 외면을 형성하는 중합체 층을 포함한다. 중합체 층의 두께는 약 70 nm 내지 약 120 nm이다.
Figure R1020027015250
반사 방지 복합재, 무기층, 중합체 층, 경화성 조성물, 경질 코팅물

Description

반사 방지 필름 {Antireflection Film}
본 발명은 반사 방지 복합재, 특히 반사 방지 필름에 관한 것이다.
광학적으로 투명한 매체를 통한 정보의 가시성 또는 화상은 휘광을 초래하는 표면의 경향이 감소되는 경우 증진되는 많은 경우가 있다. 휘광 또는 거울같은 휘광은 빛이 입사하는 표면으로부터의 빛의 바람직하지 못한 반사이다. 반사율의 감소는 예를 들어 차량 유리, 보호 안경류, 컴퓨터 모니터 스크린, 텔레비젼 스크린 및 다른 디스플레이 패널을 포함하여 많은 세팅에서 바람직하다.
따라서, 휘광의 양을 감소시키는 그러한 표면에 적용하기 위한 반사 방지 복합재를 제공하는 것이 바람직하다. 표면상의 현재 시판되는 반사 방지 복합재는 통상 무기층, 예를 들어 금속 또는 금속 산화물 층, 및 SiOx(여기서, x는 통상 약 2인 정수값임)를 포함하는 실리카 층을 포함한다. 이외에, 인듐 주석 옥시드(ITO)의 층이 또한 제공될 수 있다. 일단 반사 방지 복합재가 표면에 적용되면, 반사 방지 용품이 형성된다. 그러나, ITO 및 SiOx 모두는 스퍼터링하기가 어렵고 따라서 ITO 및(또는) SiOx를 사용한 반사 방지 용품의 제조 비용이 일반적으로 높다.
<발명의 요약>
한 측면에서, 본 발명의 용품은 반사 방지 복합재, 기재, 기재상에 퇴적된 무기층 및 무기층과 접촉하여 반사 방지 복합재의 외면을 형성하는 중합체 층을 포함한다. 무기층의 두께는 약 1 nm 내지 약 10 nm이다. 중합체 층의 두께는 약 70 nm 내지 약 120 nm이다.
실시 양태에는 하나 이상의 하기 특징이 포함될 수 있다. 예를 들어, 무기층은 금속으로부터 형성될 수 있다. 금속은 니켈을 포함할 수 있다. 니켈의 두께는 약 2 nm 내지 약 3.5 nm일 수 있다. 금속에는 크롬이 포함될 수 있다. 무기층은 질화티타늄을 포함할 수 있다.
중합체 층의 두께는 약 100 nm 내지 약 110 nm일 수 있다. 중합체 층의 굴절률은 약 400 nm 내지 약 700 nm의 파장 범위에 대해 약 1.53 이하일 수 있다.
용품은 기재와 무기층 사이에 배치된 경질 코팅물을 포함할 수 있다.
무기층은 반사 방지 복합재의 전체 요구 투과율에 따라 입사광의 일정 백분율을 흡수할 수 있다. 무기층의 두께는 무기층의 분산 품질에 따라 달라질 수 있다.
반사 방지 복합재의 총 두께는 가시 스펙트럼 파장의 평균 파장의 약 1/4일 수 있다. 반사 방지 복합재의 총 두께는 무기층의 두께와 중합체 층의 두께의 합과 같을 수 있다.
용품의 광순응(photopic) 반사율은 약 400 nm 내지 약 700 nm의 파장 범위에 대해 약 0.5 % 미만일 수 있다. 중합체 층은 경화성 조성물을 동일계에서 무기층에 경화시킴으로써 형성될 수 있다.
기술 및 시스템의 측면에는 하나 이상의 하기 이점이 포함될 수 있다. 단일 무기층 구조물은 또한 다른 무기층의 층들을 포함하는 종래의 반사 방지 복합재의 반사 방지 성능과 실질적으로 동일한 반사 방지 성능을 제공하면서, 두꺼운 실리카 층들 및(또는) 다른 무기층들이 제거되기 때문에 여전히 제조 비용의 실질적인 감소를 제공한다.
무기층 위의 주의깊게 조절된 굴절률의 광학적으로 활성인 외부 중합체 층은 무기층의 두께가 크게 감소될 수 있기 때문에 반사 방지 복합재를 제조 및 생산하는 전체 비용을 감소시킨다. 더욱이, 그러한 광학적으로 활성인 외부 중합체 층을 사용하는 반사 방지 복합재는 양호한 내스크래치성 및 내오염성, 예를 들어 내지문성(antifingerprinting resistance)을 갖는다.
반사 방지 복합재는 광학적으로 투명한 표면으로서 작용하는 유리 표면의 두께를 변화시킴으로써 제조되는 보다 새로운 평판 스크린을 포함하여 CRT 스크린상에 설치될 수 있다. 이러한 두께 변화 때문에, 통상적으로 CRT 스크린상의 휘광을 감소시키는 구실을 하던 착색 유리가 평판 스크린에 사용될 수 없다. 반사 방지 복합재는 핸드 헬드 디바이스에 사용되어온 유기 광 방출 다이오드(LED)에 설치될 수 있다.
하나 이상의 실시 양태의 상세한 사항이 하기 첨부된 도면 및 설명에 제시되어 있다. 다른 특징, 목적 및 이점이 설명, 도면 및 청구의 범위로부터 명백할 것이다.
<도면의 간단한 설명>
도 1은 인듐 주석 옥시드 층, 크롬 또는 니켈의 무기층, 및 외부 중합체 층의 복합재 층이 조정된 반사 방지 복합재에 대한 반사율 및 투과율 곡선의 모사를 나타낸다.
도 2는 경질 코팅된 PET의 기재상에 무기층 및 외부 중합체 층을 포함하는 반사 방지 복합재에 대한 반사율 및 투과율 곡선을 나타낸다.
다양한 도면에서 유사 참조 기호는 유사 요소를 나타낸다.
도 1을 언급하면, 반사율 및 투과율의 이론적인 모사가 경질 코팅된(HC) 폴리에틸렌 테레프탈레이트(PET)로 제조된 표면 또는 기재 및 반사 방지 복합재를 포함하는 중합체 반사 방지 용품에 대해 그래프로 되어 있다. 이 모사에서, 반사 방지 복합재의 각각의 복합재 층의 두께를 조정하여 80% 반사율을 생성하는 반사 방지 복합재를 결정하였다. 반사 방지 복합재는 종래의 반사 방지 복합재에 사용되어온 ITO 층을 포함할 필요가 없다는 것이 드디어 밝혀졌다. 특히, 2종의 반사 방지 복합재를 모사하였다. 제1 반사 방지 복합재는 니켈의 무기층 및 외부 중합체 층을 포함하였다. 제1 반사 방지 복합재는 반사율 곡선(100) 및 투과율 곡선(110)을 나타내었다. 제2 반사 방지 복합재는 반사율 곡선(105) 및 투과율 곡선(115)을 나타내었다.
이들 반사율 곡선(100 및 105)로부터 알 수 있는 바와 같이, 최소 반사율은 사람의 눈이 가장 민감한 파장인 550 nm 파장 근처에서 중심을 이룬다.
따라서, 비교적 높은 굴절률의 무기층 및 비교적 낮은 굴절률의 외부 중합체 층을 포함하는 기재용 반사 방지 복합재가 제공된다. 외부 중합체 층은 경화성 조성물의 층을 퇴적시킨 후 이 층을 동일계에서 경화시킴으로써 무기층상에 형성된다. 요구되는 경화성 조성물의 비교적 두꺼운 층은 용액 코팅 또는 다른 통상의 코팅 기술에 의해 양호한 균일성으로 도포될 수 있다. 또한, 두꺼운 외부 중합체 층의 제공은 무기층의 두께 및 그에 따른 비용을 감소시킬 수 있다. 예를 들어, 하기 기재된 반사 방지 복합재의 한 실시 양태는 두께 2.8 nm 니켈(Ni) 층 및 두께 110 nm 외부 중합체 층을 포함한다.
반사 방지 복합재의 기재는 무기층의 퇴적 및 경화성 코팅물의 경화에 필요한 비교적 온화한 조건을 견딜 수 있는 한, 반사 방지 코팅물이 바람직한 임의의 물질일 수 있다. 기재는 마감처리된 광학 용품, 예를 들어 렌즈, 음극선관(CRT)의 디스플레이 표면 또는 LED 디스플레이일 수 있다. 기재는 플라스틱 필름, 통상 폴리에스테르 필름, 셀룰로오스 트리아세테이트 또는 유리일 수 있다. 적합한 폴리에스테르 필름은 쉽게 상업적으로 시판되는, 예를 들어 상표명 "MELINEX"(미국 델라웨어주 윌밍톤 소재의 ICI Americas Inc. 시판)으로 시판되는 임의의 101 내지 177 ㎛ 폴리에틸렌 테레프탈레이트(PET) 필름이다. 일반적으로, 두께 약 40 ㎛ 내지 약 400 ㎛의 임의의 PET가 사용될 수 있다.
기재가 플라스틱 필름인 경우, 한면 또는 양면상에 코팅물이 제공되어 그의 경도 및 내스크래치성을 개선시키거나 기재에 대한 무기층의 접착성을 개선시키거나 임의의 다른 목적하는 특성, 예를 들어 자외선의 여과 또는 가스 및(또는) 수분에 대한 차단을 제공할 수 있다. 기재상의 경질 코팅물의 두께는 통상 약 1 내지 약 15 ㎛, 바람직하게는 약 2 내지 약 3 ㎛이다. 그러한 경질 코팅물은 적절한 중합성 물질의 열적으로 또는 자외선 조사에 의해 개시되는 유리 라디칼 중합에 의해 제공될 수 있다. 기재에 사용하기 위한 경질 코팅물중 하나는 상표명 "TERRAPIN"(미국 53151 위스콘신주 뉴 베를린 웨스트 린콜른 애비뉴 6700 소재의 Tekra Corporation 시판)으로 시판된다.
상기 기재한 바와 같이, 반사 방지 복합재는 무기층을 포함한다. 이 층은 종래의 반사 방지 복합재에 사용되는 임의의 무기 물질로부터 형성될 수 있다. 무기 물질에는 니켈(Ni), 크롬(Cr), 질화티타늄, 질화실리카, 금속 산화물 또는 높은 굴절률을 갖는 임의의 흡수성 금속이 포함된다. 금속 산화물의 예는 산화티타늄, 산화니켈, 산화크롬, 산화인듐, 산화카드뮴, 갈륨 인듐 옥시드, 오산화니오븀, 인듐 주석 옥시드 및 이산화주석을 포함한다. Ni는 양호한 반사 특성 및 적합한 분산 특성을 갖고, 따라서 무기층은 바람직하게는 하기 기재된 중합체 층을 위한 니켈의 조성물이다.
반사 방지 복합재의 무기층 및 중합체 층의 두께는 이들 층의 총 두께가 반사 방지 특성이 요망되는 파장 범위의 중심의 대략 λ/4이도록 상관되어야 한다. 예를 들어, 총 두께는 반사 방지 특성이 가시 스펙트럼을 포함하는 약 300 nm 내지 약 850 nm의 범위에 대해 요망되는 경우 대략 120 내지 145 nm일 수 있다. 또한, 무기층 및 외부 중합체 층의 두께는 서로에 대해 조정되어 복합 필름으로부터 최소 반사성을 생성할 수 있다.
무기층의 두께는 약 1 nm 내지 약 10 nm, 바람직하게는 약 2 nm 내지 약 3.5 nm인 반면, 외부 중합체 층의 두께는 약 70 nm 내지 약 120 nm, 바람직하게는 약 100 nm 내지 약 110 nm이다. Ni의 반사 방지 층의 두께에 대한 상한은 Ni의 흡수 품질에 따라 달라진다. 보다 큰 두께 값의 경우, Ni은 너무 많은 입사광을 흡수하기 시작하고 % 투과율이 감소된다. 따라서, 투과율 수준은 Ni 층의 두께를 변형시킴으로써 조정될 수 있다. 통상, 두께가 약 2.8 nm인 Ni는 가시 범위의 파장에서 약 20 내지 약 30%의 입사광을 흡수한다.
다른 기술, 예를 들어 e-빔 및 열 증발이 무기층을 기재상으로 퇴적시키는데 사용될 수 있지만, 무기층은 바람직하게는 스퍼터링 또는 화학적 증착에 의해 퇴적된다. 몇몇 유용한 스퍼터링 기술의 예는 DC 스퍼터링, 무선 주파수 스퍼터링, 마그네트론 스퍼터링, 직접 스퍼터링 및 반응성 스퍼터링을 포함한다. 몇몇 유용한 화학적 증착 기술의 예는 저압, 플라즈마 증진 및 레이저 증진 화학적 증착을 포함한다. 무기층의 퇴적은 기재에 손상을 초래하지 않는 온도에서 수행되어야 한다. 이 온도 한계는 사용되는 정확한 기재에 따라 달라진다. 예를 들어, 플라스틱 기재에 대한 온도 한계는 유리 기재에 대한 온도 한계보다 비교적 낮다.
상기 기재된 바와 같이, 반사 방지 복합재의 외부 중합체 층의 굴절률은 약 70 nm 내지 약 120 nm의 두께에 대해 약 400 nm 내지 약 700 nm의 파장 범위에서 약 1.53 이하이다. 이들 범위내의 두께를 갖는 중합체 층은 유기 용매중 적절한 경화성 물질의 용액을 통상의 용액 코팅 기술, 예를 들어 슬롯 코팅을 사용하여 퇴적시키고 용매를 제거하고 생성된 경화성 물질 층을 경화시킴으로써 용이하게 제조된다.
외부 중합체 층의 굴절률을 이 층에 대한 다른 허용가능한 특성, 특히 경도 및 내스크래치성 및 내오염성과 일관되게 가능한 한 낮게 유지하는 것이 바람직하다. 또한, 외부 중합체 층은 반사 방지 복합재에 사용될 수 있는 세정 용매, 예를 들어 에틸 알코올, 수성 암모니아, 아세톤, 가솔린 및 이소프로판올 및 식품 및 화장품에 내성이어야 한다. 더욱이, 중합체는 또한 예를 들어 강철 솜과의 마찰을 견디는 그의 능력에 의해 측정되는 바와 같은 양호한 내구성을 가져야 한다.
적합한 비교적 낮은 굴절률을 제공하기 위해, 외부 중합체 층을 형성하는데 사용되는 경화성 조성물은 바람직하게는 플루오로알켄의 중합체, 예를 들어 폴리(비닐리덴 플루오라이드) 또는 비닐리덴 플루오라이드/테트라플루오로에틸렌 공중합체, 예를 들어 상표명 "KYNAR"(미국 91950 캘리포니아주 내셔날 시티 맥킨리 애비뉴 2220 소재의 San Diego Plastics, Inc. 시판)으로 시판되는 물질을 포함한다. 그러나, 단지 플루오로알켄 중합체로 이루어진 외부 중합체 층이 통상 양호한 스크래치 보호를 제공하기에 너무 연성이기 때문에, 경화성 조성물은 알킬 아크릴레이트 또는 메타크릴레이트 중합체, 예를 들어 상표명 "ELVACITE 2041"(미국 19850-5391 델라웨어주 윌밍톤 실버사이드 로드-맥킨 세컨드 3411 소재의 ICI Acrylics, Inc. 시판)으로 시판되는 물질 또는 상표명 "ACRYLOID A21"(미국 19106-2399 펜실바니아주 필라델피아 인디펜던스 몰 웨스트 100 소재의 Rohm and Haas 시판)으로 시판되는 물질을 포함하는 것이 바람직하다.
외부 중합체 층내에 가교결합을 촉진하고 그에 따라 이 층의 경도를 증가시키기 위해, 경화성 조성물중에 다관능성 아크릴레이트 단량체(다관능성은 관능가 3 이상의 물질을 나타냄)를 포함하는 것이 유리하다. 다관능성 아크릴레이트 단량체중 하나는 상표명 "SR399"(미국 19341 펜실바니아주 엑스톤 토마스 존스 웨이 502 소재의 Sartomer, Inc. 시판)으로 시판되는 물질이며 이 물질은 제조업자에 의해 디펜타에리트리톨 펜타아크릴레이트로서 언급된다.
많은 중합체가 가시 범위내에 음성 분산(negative dispersion)을 갖는다. 즉, 700 nm에서의 그의 굴절률이 400 nm에서의 그의 굴절률보다 작다. 계산으로부터 그러한 음성 분산은 코팅물의 반사 방지 특성에 악영향을 주고 따라서 그러한 음성 분산을 가능한 한 많이 감소시키는 것이 바람직하다. 앞서 언급된 KYNAR 중합체는 경화성 조성물에 사용하기에 매우 적합한 낮은 굴절률 및 작은 음성 분산을 갖는다.
외부 중합체 층에 낮은 굴절률을 제공하는 플루오로알켄 중합체를 사용하고자는 하는 소망과 동일한 층에 경도를 제공하는 아크릴레이트 또는 메타크릴레이트 가교결합제를 사용하고자 하는 소망에 따라, 외부 중합체 층이 이들 두 특성을 절충함으로써 제조되는 것이 제안될 것이다. 경화성 조성물의 조성이 주의깊게 선택되는 경우, 물질의 분리가 경화시 자발적으로 일어나서 아크릴레이트 또는 메타크릴레이트 중합체가 풍부한 외부(및 그에 따른 증진된 경도) 및 플루오로알켄 중합체가 풍부한 내부(및 그에 따른 감소된 굴절률)를 갖는 외부 중합체 층을 생성한다는 것이 드디어 밝혀졌다. 경화시 아크릴레이트 또는 메타크릴레이트 중합체 물질의 그러한 분리의 추가 이점은 가교결합이 산소 함유 분위기, 예를 들어 공기에서 일어나서 박막 자외선 경화시 통상적인 질소 블랭킷에 대한 필요성을 방지하고 그 에 따라 반사 방지 복합재의 제조 비용을 감소시킬 수 있다는 것이다. 대조적으로, 경화성 조성물은 불활성 환경에서, 예를 들어 질소 블랭킷하에 자외선 경화될 수 있다.
경화성 조성물은 임의의 통상적인 방법에 의해 경화될 수 있으나, 바람직하게는 유리 라디칼 경화에 의해 경화되고, 이는 열적으로 또는 자외선 조사에 의해 개시될 수 있지만 후자가 일반적으로 바람직하다. 중합체 기술에서 당업자는 적절한 개시제, 산소 포착제 및 상기 유리 라디칼 경화에 유용한 다른 성분에 익숙할 것이다. 그러나, 반사 방지 복합재에 요망되는 외부 중합체 층의 상대적 박막도 때문에, 요구되는 개시제(들)의 유형 및 비율은 보다 두꺼운 중합체 층의 제조에 의도되는 통상의 조성물과 상이할 수 있다.
반사 방지 복합재는 기재를 제조함으로써 형성되었다. 101 ㎛ PET 필름을 한면상에 앞서 언급된 TERRAPIN 아크릴계 중합체 코팅물로 용매 코팅하고 용매를 증발하고 필름을 자외선 램프하에 두어 중합체 코팅물을 경화시켰다.
그 후, PET의 경질 코팅된 표면을 Ni의 2.8 nm 층으로 직접 스퍼터링(화학적 증착이 사용될 수 있음)하여 코팅하였다.
하기 조성(비율은 용액의 건조 중량 단위임)의 액상 경화성 조성물을 제조함으로써 외부 중합체 층을 제조하였다:
중량%±허용도
폴리(비닐리덴 플루오라이드)(KYNAR) 46.8±2.3
메틸 메타크릴레이트(ACRYLOID A21) 6.9±0.7
디펜타에리트리톨 펜타아크릴레이트(Sartomer SR 399) 30.7±1.5
다관능성 아크릴레이트 단량체(Sartomer CD9051) 3.0±0.3
코팅 첨가제(COATOSIL 35031) 4.0±0.4
접착 촉진제(SILANE A17412) 0.5-3.0±0.3
경화 개시제(DARACURE 11733) 2.0±0.2
경화 개시제(QUANTACURE BMS4) 4.0±0.4
산소 포착제(DIDMA5) 1.6±0.2
1OSI Specialties(미국 06810-5121 코넥티컷주 댄버리 올드 릿지베리 로드 39 소재) 2OSI Specialties(미국 06810-5121 코넥티컷주 댄버리 올드 릿지베리 로드 39 소재) 3Ciba-Geigy Corporation(미국 10591-9005 뉴욕주 태리타운 피.오.박스 2005 화이트 플레인스 로드 540 소재) 4Great Lakes Chemical Corporation 제조 및 Biddle Sawyer Corporation(미국 10121 뉴욕주 뉴욕 펜 플라자 2 소재) 5Aldrich Chemical Company(미국 53233 위스콘신주 밀워키 웨스트 세인트 폴 1001 소재)
ACRYLOID A21 및 QUANTACURE BMS를 10 w/w%로 제조하고 DARACURE 및 DIDMA를 5 w/w%로 제조한 것을 제외하고는 다양한 성분들을 20 w/w%로 메틸 에틸 케톤(MEK)중의 원액으로 제조하였다. 그 후, 다양한 원액의 필수 양을 충분한 추가 MEK와 함께 혼합하여 2.75 w/w% 고체를 함유하는 코팅 용액 2000 g을 제공하였다.
그 후, 이 코팅 용액을 슬롯 코터를 사용하여 Ni의 무기층을 함유하는 필름상으로 코팅하고 용매를 증발하고 필름을 자외선 램프하에 두어 대략 110 nm 두께의 외부 중합체 코팅물을 제조하였다.
도 2를 언급하면, 생성된 반사 방지 용품(기재 및 반사 방지 복합재를 포함함)은 곡선(200)에 의해 나타낸 바와 같이 낮은 표면 반사율을 갖고 곡선(205)에 의해 나타낸 바와 같이 약 80% 투과율을 가졌다. 도 2에 의해 알 수 있는 바와 같이, 반사 방지 용품은 약 450 nm 내지 약 700 nm의 범위에 대해 약 0.4% 근처의 반사율을 나타내는 매우 양호한 반사 방시 특성을 나타낸다. 곡선(200)에 대한 광순응 반사율 값(약 550 nm에 중심을 두며 중심 파장에서 가장 높게 가중된(weighted) 약 450 nm 내지 약 650 nm의 스펙트럼 범위에 대해 반사율의 가중된 평균을 구체화하는 CIE 1931에 따라 측정됨)은 약 0.345%이었고, 이는 도 1의 곡선(100)(Ni)에 대한 0.227%의 예측된 값과 비교할만하다.
많은 실시 양태가 기재되었다. 그럼에도 불구하고, 다양한 변형이 본 발명의 정신 및 범위를 벗어나지 않으면서 이루어질 수 있다는 것이 이해될 것이다. 예를 들어, 개시된 기술의 단계들이 상이한 순서로 수행되고(거나) 개시된 시스템중 성분들이 상이한 방식으로 배합되고(거나) 다른 성분들로 대체되거나 보충되는경우 여전히 유리한 결과가 달성될 수 있다. 따라서, 다른 실시 양태가 하기 청구 범위내에 있다.







Claims (38)

  1. 삭제
  2. 삭제
  3. 삭제
  4. 삭제
  5. 삭제
  6. 삭제
  7. 삭제
  8. 삭제
  9. 삭제
  10. 삭제
  11. 삭제
  12. 삭제
  13. 삭제
  14. 삭제
  15. 기재,
    기재상에 퇴적되며 두께가 약 1 nm 내지 10 nm 미만인 무기층, 및
    무기층과 접촉하여 반사 방지 복합재의 외면을 형성하며 두께가 약 70 내지 약 120 nm인 중합체 층을 주성분으로 하는 것을 특징으로 하는, 반사 방지 복합재를 포함하는 용품.
  16. 제15항에 있어서, 중합체 층이 경화성 조성물을 무기층상에서 제자리(in situ) 경화시킴으로써 형성된 용품.
  17. 제15항에 있어서, 무기층이 금속으로부터 형성된 용품.
  18. 제17항에 있어서, 금속이 니켈을 포함하는 용품.
  19. 제18항에 있어서, 니켈의 두께가 약 2 nm 내지 약 3.5 nm인 용품.
  20. 삭제
  21. 삭제
  22. 제15항에 있어서, 중합체 층의 굴절률이 약 400 nm 내지 약 700 nm의 파장 범위에 대해 1.53 이하인 용품.
  23. 제15항에 있어서, 기재가 경질 코팅된 용품.
  24. 삭제
  25. 제15항에 있어서, 무기층의 두께가 무기층의 분산물에 따라 달라지는 용품.
  26. 삭제
  27. 삭제
  28. 삭제
  29. 삭제
  30. 기재상에 무기 반사 방지 복합재를 퇴적시켜 무기층을 형성하는 단계,
    두께가 약 1 nm 내지 10 nm 미만인 무기층상에 경화성 조성물의 층을 퇴적시키는 단계, 및
    퇴적된 경화성 조성물을 경화시켜 두께 약 70 nm 내지 약 120 nm의 중합체 층을 형성하는 단계
    를 주요 단계로 하는 기재상에 반사 방지 복합재를 제공하는 방법.
  31. 삭제
  32. 삭제
  33. 삭제
  34. 삭제
  35. 삭제
  36. 삭제
  37. 삭제
  38. 삭제
KR1020027015250A 2000-05-15 2001-05-01 반사 방지 필름 KR100813737B1 (ko)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US09/571,742 US6632513B1 (en) 1998-02-19 2000-05-15 Antireflection film
US09/571,742 2000-05-15
PCT/US2001/014062 WO2001088572A2 (en) 2000-05-15 2001-05-01 Antireflection film

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20030003283A KR20030003283A (ko) 2003-01-09
KR100813737B1 true KR100813737B1 (ko) 2008-03-13

Family

ID=24284853

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020027015250A KR100813737B1 (ko) 2000-05-15 2001-05-01 반사 방지 필름

Country Status (9)

Country Link
US (1) US6632513B1 (ko)
EP (1) EP1285286B1 (ko)
JP (1) JP2003533726A (ko)
KR (1) KR100813737B1 (ko)
CN (1) CN1196946C (ko)
AT (1) ATE324599T1 (ko)
AU (1) AU2001259328A1 (ko)
DE (1) DE60119093T2 (ko)
WO (1) WO2001088572A2 (ko)

Families Citing this family (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7351470B2 (en) * 1998-02-19 2008-04-01 3M Innovative Properties Company Removable antireflection film
US20020155265A1 (en) 1998-02-19 2002-10-24 Hyung-Chul Choi Antireflection film
US6800378B2 (en) 1998-02-19 2004-10-05 3M Innovative Properties Company Antireflection films for use with displays
WO2004108984A1 (ja) * 2003-06-06 2004-12-16 Konica Minolta Holdings, Inc. 薄膜形成方法および薄膜形成体
US20050228465A1 (en) * 2004-04-09 2005-10-13 Christa Harris Thermal device for activatable thermochemical compositions
US20060065989A1 (en) * 2004-09-29 2006-03-30 Thad Druffel Lens forming systems and methods
US20060226777A1 (en) * 2005-04-07 2006-10-12 Cunningham David W Incandescent lamp incorporating extended high-reflectivity IR coating and lighting fixture incorporating such an incandescent lamp
US8404303B2 (en) * 2006-09-21 2013-03-26 Solutia Singapore Pte. Ltd. Separated gray metal and titanium nitride solar control members
US20110151222A1 (en) * 2009-12-22 2011-06-23 Agc Flat Glass North America, Inc. Anti-reflective coatings and methods of making the same
JP2013527873A (ja) 2010-04-29 2013-07-04 バテル メモリアル インスティチュート 高屈折率組成物
JP6043951B2 (ja) 2011-08-02 2016-12-14 パナソニックIpマネジメント株式会社 タッチパネル

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1999042860A1 (en) * 1998-02-19 1999-08-26 Polaroid Corporation Antireflection film

Family Cites Families (39)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3793022A (en) 1972-08-01 1974-02-19 Polaroid Corp Diffusion transfer films with anti-reflection layers and processes
US3925081A (en) 1973-04-24 1975-12-09 Polaroid Corp Photographic products containing anti-reflection layer
US4047804A (en) 1973-12-26 1977-09-13 Polaroid Corporation Anti-reflection coatings for photographic bases
JPS5195858A (en) * 1975-01-14 1976-08-23 ****** *** *ku***chi*se*ku*******ka*****************chi***ne********
JPS5944993B2 (ja) 1978-07-11 1984-11-02 帝人株式会社 積層体
US4361598A (en) * 1979-08-10 1982-11-30 Westinghouse Electric Corp. Polymerized solutions for depositing optical oxide coatings
EP0024925B1 (en) 1979-08-31 1983-10-05 Teijin Limited Heat wave-reflective or electrically conductive laminated structure
JPS5761553A (en) * 1980-09-25 1982-04-14 Toray Industries Laminated film
JPS5846301A (ja) * 1981-09-14 1983-03-17 Toray Ind Inc 反射防止膜を有する透明材料
EP0077672B1 (en) 1981-10-19 1986-06-25 Teijin Limited Selectively light transmitting film and preformed laminar structure
US4422721A (en) 1982-08-09 1983-12-27 Optical Coating Laboratory, Inc. Optical article having a conductive anti-reflection coating
JPH065324B2 (ja) 1985-04-30 1994-01-19 東レ株式会社 反射防止性を有する光学物品及びその製造方法
JPS62186202A (ja) * 1986-02-12 1987-08-14 Seiko Epson Corp プラスチツク光学部品の反射防止膜
US4747674A (en) 1986-04-18 1988-05-31 Polaroid Corporation Contrast enhancement filter
DE3789547T2 (de) 1987-02-13 1994-07-14 Toray Industries Entspiegelter optischer Gegenstand und Verfahren zu dessen Herstellung.
JPS63228101A (ja) 1987-03-17 1988-09-22 Nippon Sheet Glass Co Ltd 防汚性を有する帯電防止無反射板
KR960000490B1 (ko) 1987-07-10 1996-01-08 미쓰이세키유가가쿠고교 가부시기가이샤 반사 방지형 펠리클막 및 그 제조 방법
US5246782A (en) 1990-12-10 1993-09-21 The Dow Chemical Company Laminates of polymers having perfluorocyclobutane rings and polymers containing perfluorocyclobutane rings
US5693366A (en) 1989-06-20 1997-12-02 Nippon Sheet Glass Co., Ltd. Process for producing plastic lens comprising a primer layer, a hard coat layer and an antireflection coating
US5106671A (en) 1990-12-10 1992-04-21 Ford Motor Company Transparent anti-reflective coating
US5171414A (en) 1990-12-10 1992-12-15 Ford Motor Company Method of making transparent anti-reflective coating
US5178955A (en) 1990-12-17 1993-01-12 Allied-Signal Inc. Polymeric anti-reflection coatings and coated articles
US5225244A (en) 1990-12-17 1993-07-06 Allied-Signal Inc. Polymeric anti-reflection coatings and coated articles
US5061769A (en) 1990-12-17 1991-10-29 Allied-Signal Inc. Fluoropolymers and fluoropolymer coatings
US5234748A (en) 1991-06-19 1993-08-10 Ford Motor Company Anti-reflective transparent coating with gradient zone
JPH04338901A (ja) 1991-07-15 1992-11-26 Toray Ind Inc Crt用フィルター
US5139879A (en) 1991-09-20 1992-08-18 Allied-Signal Inc. Fluoropolymer blend anti-reflection coatings and coated articles
US5198267A (en) 1991-09-20 1993-03-30 Allied-Signal Inc. Fluoropolymer blend anti-reflection coatings and coated articles
US5118579A (en) 1991-09-20 1992-06-02 Allied-Signal Inc. Fluoropolymer blends for coatings
DE69327420T2 (de) 1992-03-31 2000-05-11 Canon Kk Antireflex-Beschichtung
JPH0618705A (ja) * 1992-03-31 1994-01-28 Canon Inc 光学素子
WO1993024860A1 (en) 1992-06-02 1993-12-09 Mitsubishi Kasei Corporation Composition for forming anti-reflection film on resist and pattern formation method
JP3770625B2 (ja) 1993-03-12 2006-04-26 旭硝子株式会社 反射防止層を有する光学物品
US5744227A (en) 1995-04-03 1998-04-28 Southwall Technologies Inc. Antireflective coatings comprising a lubricating layer having a specific surface energy
EP0749021B1 (en) 1995-06-15 2003-03-26 Sumitomo Chemical Company, Limited Antireflection filter
US5820957A (en) 1996-05-06 1998-10-13 Minnesota Mining And Manufacturing Company Anti-reflective films and methods
JPH10111401A (ja) 1996-08-14 1998-04-28 Daikin Ind Ltd 反射防止処理物品
US6379788B2 (en) 1998-02-19 2002-04-30 3M Innovative Properties Company Antireflection film
JP4178616B2 (ja) * 1998-10-01 2008-11-12 凸版印刷株式会社 反射防止フィルム

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1999042860A1 (en) * 1998-02-19 1999-08-26 Polaroid Corporation Antireflection film

Also Published As

Publication number Publication date
WO2001088572A3 (en) 2002-10-03
KR20030003283A (ko) 2003-01-09
AU2001259328A1 (en) 2001-11-26
DE60119093D1 (de) 2006-06-01
EP1285286B1 (en) 2006-04-26
DE60119093T2 (de) 2007-02-01
JP2003533726A (ja) 2003-11-11
ATE324599T1 (de) 2006-05-15
EP1285286A2 (en) 2003-02-26
US6632513B1 (en) 2003-10-14
CN1196946C (zh) 2005-04-13
CN1429346A (zh) 2003-07-09
WO2001088572A2 (en) 2001-11-22

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US6464822B1 (en) Antireflection film
US6800378B2 (en) Antireflection films for use with displays
JP4314803B2 (ja) 減反射フィルム
WO2003093879A1 (en) Removable antireflection film
WO2000031570A1 (en) Antireflection film
WO2005052956A1 (ja) 透明導電性積層体及びそれを用いた透明タッチパネル
KR100813737B1 (ko) 반사 방지 필름
KR20020042425A (ko) 증착 조성물의 제조방법, 증착 조성물 및 반사방지막을갖는 광학부품의 제조방법
US20060134429A1 (en) Optical laminate
KR20020077152A (ko) 약한 반사색이 있는 반사방지 기판
JP2012025066A (ja) 透明導電性フィルム
JP2001264507A (ja) 減反射材、製造方法および用途
JP4242664B2 (ja) 反射防止フィルム
JP2005181545A (ja) 反射防止フィルム
WO2004077131A2 (ja) 偏光板
JP2001133623A (ja) 赤外線吸収フィルター
JPH08122502A (ja) 反射防止層を有する光学物品
JP2005062584A (ja) 光吸収性反射防止フィルム
JP4479198B2 (ja) 反射防止フィルム
JP2002296405A (ja) 反射干渉色とその色ムラの少ない反射防止基材
JP2002341107A (ja) 導電性反射防止フィルム
JPH03242601A (ja) 反射防止物品
JPH0915402A (ja) 反射防止膜を有する光学物品およびその製造方法
WO2006035475A1 (ja) 積層体およびその製造方法
JPH02303828A (ja) プラスチック基材の広帯域反射防止膜

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
AMND Amendment
E902 Notification of reason for refusal
AMND Amendment
E601 Decision to refuse application
AMND Amendment
J201 Request for trial against refusal decision
B701 Decision to grant
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20130221

Year of fee payment: 6

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20140220

Year of fee payment: 7

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20150130

Year of fee payment: 8

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20160218

Year of fee payment: 9

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20170201

Year of fee payment: 10

LAPS Lapse due to unpaid annual fee