JP3391500B2 - 導電性反射防止膜および導電性反射防止ガラス - Google Patents
導電性反射防止膜および導電性反射防止ガラスInfo
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、透明基板の表面での光
の反射を低減させるためにこの透明基板上に積層され且
つ導電性を有している導電性反射防止膜に関し、特に傷
付きの防止及び導電性の信頼性向上を共に達成した導電
性反射防止膜に関する。
の反射を低減させるためにこの透明基板上に積層され且
つ導電性を有している導電性反射防止膜に関し、特に傷
付きの防止及び導電性の信頼性向上を共に達成した導電
性反射防止膜に関する。
【０００２】
【従来の技術】テレビ受像機のＣＲＴ等においては、外
部光の反射によって画像が見にくくなったり、動作中の
帯電によって人体等との間で放電が発生したりするのを
防止するために、導電性反射防止膜が用いられている。
部光の反射によって画像が見にくくなったり、動作中の
帯電によって人体等との間で放電が発生したりするのを
防止するために、導電性反射防止膜が用いられている。
【０００３】この様な導電性を有する反射防止膜とし
て、本出願人は、特開昭６３−２６６４０１号公報に記
載されている様に、透明基板上にＩＴＯ層、ＭｇＦ
2 膜、ＴｉＯ2 の化合物膜及びＭｇＦ2 膜をこの順序で
順次に積層した４層の導電性反射防止膜を既に提案し
た。
て、本出願人は、特開昭６３−２６６４０１号公報に記
載されている様に、透明基板上にＩＴＯ層、ＭｇＦ
2 膜、ＴｉＯ2 の化合物膜及びＭｇＦ2 膜をこの順序で
順次に積層した４層の導電性反射防止膜を既に提案し
た。
【０００４】この４層の導電性反射防止膜の基本的な構
成について説明する。ｎi を第ｉ層の膜の屈折率、ｄi
を第ｉ層の膜の幾何学的な膜厚としたときに、光学膜厚
（ｎi ｄi ）を４分の１波長（λ0 ／４）で除した値を
ｋi とすると ｋi ＝４ｎi ｄi ／λ0 （ただし、λ0 は設計の中心と
なる波長）である。
成について説明する。ｎi を第ｉ層の膜の屈折率、ｄi
を第ｉ層の膜の幾何学的な膜厚としたときに、光学膜厚
（ｎi ｄi ）を４分の１波長（λ0 ／４）で除した値を
ｋi とすると ｋi ＝４ｎi ｄi ／λ0 （ただし、λ0 は設計の中心と
なる波長）である。
【０００５】このｋi に光の入射角θをパラメータとし
て含ませた値をδi とすると、 δi ＝２πｎi ｄi ｃｏｓθ／λ0
て含ませた値をδi とすると、 δi ＝２πｎi ｄi ｃｏｓθ／λ0
【０００６】ここで、後述する表１の従来例に示すよう
に光学特性及び電気特性を満足するために最も好ましい
基本的な膜の構成は、図３に示すように透明基板１０側
からＩＴＯ層である第１層３１、ＭｇＦ2 膜である第２
層３２、ＴｉＯ2 の化合物膜である第３層３３、ＭｇＦ
2 膜である第４層３４とすると、各層のｋ値は、ｋ1＝
０．３８、ｋ2 ＝０．２７、ｋ3 ＝２．１０、ｋ4 ＝
１．００である。
に光学特性及び電気特性を満足するために最も好ましい
基本的な膜の構成は、図３に示すように透明基板１０側
からＩＴＯ層である第１層３１、ＭｇＦ2 膜である第２
層３２、ＴｉＯ2 の化合物膜である第３層３３、ＭｇＦ
2 膜である第４層３４とすると、各層のｋ値は、ｋ1＝
０．３８、ｋ2 ＝０．２７、ｋ3 ＝２．１０、ｋ4 ＝
１．００である。
【０００７】また、これらのｋ値の好ましい範囲は、
０．９３≦ｋ4 ≦１．０５
１．９７≦ｋ3 ≦２．１５
０．２５≦ｋ2 ≦０．３７
０．３４≦ｋ1 ≦０．５０
である。
【０００８】ただし、膜厚の範囲は、ある１つの層を考
えたとき、他の層の膜厚が基本的な構成の膜厚に正確に
制御されている場合に前記１つの層が許容され得る膜厚
の範囲として決定されている。
えたとき、他の層の膜厚が基本的な構成の膜厚に正確に
制御されている場合に前記１つの層が許容され得る膜厚
の範囲として決定されている。
【０００９】図７は、表１に示す従来例の分光反射率を
示している。なお、表１及び２中の膜構成は、ｋ値で表
記されている。図７から明らかな様に、ほぼ４３０ｎｍ
〜６８０ｎｍの波長範囲では、反射率が０．３パーセン
ト以下であり、優れた光学特性を有している。また、シ
ート抵抗も３００Ω／□以下であり、優れた電気特性を
有している。
示している。なお、表１及び２中の膜構成は、ｋ値で表
記されている。図７から明らかな様に、ほぼ４３０ｎｍ
〜６８０ｎｍの波長範囲では、反射率が０．３パーセン
ト以下であり、優れた光学特性を有している。また、シ
ート抵抗も３００Ω／□以下であり、優れた電気特性を
有している。
【００１０】
【発明が解決しようとする課題】ところが、従来例は、
光学特性及び電気特性には優れるものの、シャープペン
シルのペン先を試験圧子とするスクラッチ試験（引っか
き法）において３００ｇｆの荷重で傷がつくという問題
があった。
光学特性及び電気特性には優れるものの、シャープペン
シルのペン先を試験圧子とするスクラッチ試験（引っか
き法）において３００ｇｆの荷重で傷がつくという問題
があった。
【００１１】
【課題を解決するための手段】請求項１の導電性反射防
止膜は、ｋi ＝４ｎi ｄi ／λ0 （但し、ｎi ：第ｉ層
の膜の屈折率、ｄi ：第ｉ層の膜の幾何学的な膜厚、λ
0 ：設計の中心となる波長）としたとき、透明基板の表
面上に０．１≦ｋ1 を満足して積層されているＩＴＯ膜
である第１層と、この第１層の上に０．０１≦ｋ2 を満
足して積層されている可視光線領域で透明な金属酸化物
膜である第２層と、この第２層の上に積層されているＭ
ｇＦ2 膜である第３層と、この第３層の上に１．９７≦
ｋ4 ≦２．１５を満足して積層されている第４層と、こ
の第４層の上に０．９３≦ｋ5 ≦１．０５を満足して積
層されている第５層とをそれぞれ具備し、４３０〜６５
０ｎｍの波長範囲における反射率が０．３パーセント以
下であることを特徴とする。
止膜は、ｋi ＝４ｎi ｄi ／λ0 （但し、ｎi ：第ｉ層
の膜の屈折率、ｄi ：第ｉ層の膜の幾何学的な膜厚、λ
0 ：設計の中心となる波長）としたとき、透明基板の表
面上に０．１≦ｋ1 を満足して積層されているＩＴＯ膜
である第１層と、この第１層の上に０．０１≦ｋ2 を満
足して積層されている可視光線領域で透明な金属酸化物
膜である第２層と、この第２層の上に積層されているＭ
ｇＦ2 膜である第３層と、この第３層の上に１．９７≦
ｋ4 ≦２．１５を満足して積層されている第４層と、こ
の第４層の上に０．９３≦ｋ5 ≦１．０５を満足して積
層されている第５層とをそれぞれ具備し、４３０〜６５
０ｎｍの波長範囲における反射率が０．３パーセント以
下であることを特徴とする。
【００１２】また、請求項５の導電性反射防止膜は、ｋ
i ＝４ｎi ｄi ／λ0 （但し、ｎi：第ｉ層の膜の屈折
率、ｄi ：第ｉ層の膜の幾何学的な膜厚、λ0 ：設計の
中心となる波長）としたとき、透明基板の表面上に０．
１≦ｋ1 を満足して積層されているＩＴＯ膜である第１
層と、この第１層の上に０．０１≦ｋ2 を満足して積層
されている可視光線領域で透明な金属酸化物膜である第
２層と、この第２層の上に積層されているＭｇＦ2 膜で
ある第３層と、この第３層の上に０．７０≦ｋ4 ≦０．
８０を満足して積層されている第４層と、この第４層の
上に０．１８≦ｋ5 ≦０．２４を満足して積層されてい
る第５層と、この第５層の上に０．６８≦ｋ6 ≦０．８
０を満足して積層されている第６層と、この第６層の上
に１．０２≦ｋ7 ≦１．１２を満足して積層されている
第７層とをそれぞれ具備し、４３０〜６５０ｎｍの波長
範囲における反射率が０．３パーセント以下であること
を特徴とする導電性反射防止膜。
i ＝４ｎi ｄi ／λ0 （但し、ｎi：第ｉ層の膜の屈折
率、ｄi ：第ｉ層の膜の幾何学的な膜厚、λ0 ：設計の
中心となる波長）としたとき、透明基板の表面上に０．
１≦ｋ1 を満足して積層されているＩＴＯ膜である第１
層と、この第１層の上に０．０１≦ｋ2 を満足して積層
されている可視光線領域で透明な金属酸化物膜である第
２層と、この第２層の上に積層されているＭｇＦ2 膜で
ある第３層と、この第３層の上に０．７０≦ｋ4 ≦０．
８０を満足して積層されている第４層と、この第４層の
上に０．１８≦ｋ5 ≦０．２４を満足して積層されてい
る第５層と、この第５層の上に０．６８≦ｋ6 ≦０．８
０を満足して積層されている第６層と、この第６層の上
に１．０２≦ｋ7 ≦１．１２を満足して積層されている
第７層とをそれぞれ具備し、４３０〜６５０ｎｍの波長
範囲における反射率が０．３パーセント以下であること
を特徴とする導電性反射防止膜。
【００１３】
【作用】請求項１による導電性反射防止膜では、順次に
積層されている第１層〜第５層が所定の関係を有してお
り、しかも第２層がｋ2 ≧０．０１を満足するととも
に、第１層がｋ1 ≧０．１を満足するので、優れた光学
特性及び電気特性を維持しながら、従来例と比べて高い
膜強度を得ることが出来る。
積層されている第１層〜第５層が所定の関係を有してお
り、しかも第２層がｋ2 ≧０．０１を満足するととも
に、第１層がｋ1 ≧０．１を満足するので、優れた光学
特性及び電気特性を維持しながら、従来例と比べて高い
膜強度を得ることが出来る。
【００１４】請求項５による導電性反射防止膜では、順
次に積層されている第１層〜第７層が所定の関係を有し
ており、しかも第２層がｋ2 ≧０．０１を満足するとと
もに、第１層がｋ1 ≧０．１を満足するので、優れた光
学特性及び電気特性を維持しながら、従来例と比べて高
い膜強度を得ることが出来る。
次に積層されている第１層〜第７層が所定の関係を有し
ており、しかも第２層がｋ2 ≧０．０１を満足するとと
もに、第１層がｋ1 ≧０．１を満足するので、優れた光
学特性及び電気特性を維持しながら、従来例と比べて高
い膜強度を得ることが出来る。
【００１５】
【実施例】以下、本発明の実施例を添付図面を参照しな
がら説明する。
がら説明する。
【００１６】本願発明の第１実施例に係る５層の導電性
反射防止膜は、図１に示すように、透明基板１０上に順
次に積層されている第１層〜第５層１１〜１５で構成さ
れている。
反射防止膜は、図１に示すように、透明基板１０上に順
次に積層されている第１層〜第５層１１〜１５で構成さ
れている。
【００１７】この５層の導電性反射防止膜は、前記４層
の導電性反射防止膜の基本的な構成に備える第１層３１
と第２層３２とからなる２層がなす光学アドミタンスと
ほぼ等価的な光学アドミタンスを、接着層を含めた３
層、即ち、第１層１１、第２層（接着層）１２および第
３層１３でつくり出すことによって設計されている。
の導電性反射防止膜の基本的な構成に備える第１層３１
と第２層３２とからなる２層がなす光学アドミタンスと
ほぼ等価的な光学アドミタンスを、接着層を含めた３
層、即ち、第１層１１、第２層（接着層）１２および第
３層１３でつくり出すことによって設計されている。
【００１８】ここで、前記４層の導電性反射防止膜にお
ける第１層３１と第２層３２とが有する等価的な光学ア
ドミタンスをＹ4 とすると、 Ｙ4 ＝Ｃ／Ｂ ここでＢ、Ｃは、
ける第１層３１と第２層３２とが有する等価的な光学ア
ドミタンスをＹ4 とすると、 Ｙ4 ＝Ｃ／Ｂ ここでＢ、Ｃは、
【数１】
と表される。なお、ｎS は基板ガラスである透明基板１
０の屈折率である。
０の屈折率である。
【００１９】ただし、Ｍi は導電性反射防止膜の第ｉ層
の特性マトリクスで
の特性マトリクスで
【数２】
で表される。
【００２０】次に、５層の導電性反射防止膜における第
１〜３番目の層１１〜１３が有する光学アドミタンスを
Ｙ5 とすると、 Ｙ5 ＝Ｃ／Ｂ ここでＢ、Ｃは、
１〜３番目の層１１〜１３が有する光学アドミタンスを
Ｙ5 とすると、 Ｙ5 ＝Ｃ／Ｂ ここでＢ、Ｃは、
【数３】
と表される。
【００２１】従って、接着層として第２層を挿入した後
にＹ5 ＝Ｙ4 となるようにδ3 とδ1 （即ち、ｎ3 、ｄ
3 、ｎ1 、ｄ1 ）を決定することによって５層の導電性
反射防止膜の構成を決定することが出来る。
にＹ5 ＝Ｙ4 となるようにδ3 とδ1 （即ち、ｎ3 、ｄ
3 、ｎ1 、ｄ1 ）を決定することによって５層の導電性
反射防止膜の構成を決定することが出来る。
【００２２】このとき、接着層の厚みは、膜強度の観点
から下限が決定され、第１層１１であるＩＴＯ層の面抵
抗（帯電防止機能）の観点から上限が決定される。この
上限がＩＴＯ層の面抵抗（帯電防止機能）の観点から決
定される理由は、接着層の厚みが大きくなると光学アド
ミタンスを等価にするためには、ＩＴＯ層の膜厚を小さ
くする必要があり、このＩＴＯ層の膜厚の下限が面抵抗
（帯電防止機能）の観点から決まるからである。
から下限が決定され、第１層１１であるＩＴＯ層の面抵
抗（帯電防止機能）の観点から上限が決定される。この
上限がＩＴＯ層の面抵抗（帯電防止機能）の観点から決
定される理由は、接着層の厚みが大きくなると光学アド
ミタンスを等価にするためには、ＩＴＯ層の膜厚を小さ
くする必要があり、このＩＴＯ層の膜厚の下限が面抵抗
（帯電防止機能）の観点から決まるからである。
【００２３】以上のようにして、図１に示すように４層
の基本的な構成の第１層３１と第２層３２とを等価な光
学アドミタンスを有する３層膜で置換し、後述する条件
を満足することにより、本発明の第１実施例に係る導電
性反射防止膜を得ることが出来る。図４において、従来
例の第１層及び第２層と、次の表１に示す実施例３の第
１〜３層との光学アドミタンスが示されている。図４
中、実線が従来例の第１層及び第２層、破線が実施例３
の第１〜３層を示すがこれらの線は重なり合っている。
即ち、それぞれの光学アドミタンスが等価である。
の基本的な構成の第１層３１と第２層３２とを等価な光
学アドミタンスを有する３層膜で置換し、後述する条件
を満足することにより、本発明の第１実施例に係る導電
性反射防止膜を得ることが出来る。図４において、従来
例の第１層及び第２層と、次の表１に示す実施例３の第
１〜３層との光学アドミタンスが示されている。図４
中、実線が従来例の第１層及び第２層、破線が実施例３
の第１〜３層を示すがこれらの線は重なり合っている。
即ち、それぞれの光学アドミタンスが等価である。
【００２４】表１に実施例１〜８及び比較例１〜３を示
す。なお、次の表１及び下記の表２中の膜の構成の数値
はｋi 値を示している。
す。なお、次の表１及び下記の表２中の膜の構成の数値
はｋi 値を示している。
【００２５】
【表１】
【００２６】表１中、電気特性の◎はシート抵抗が３０
０Ω／□以下のものを示し、○はシート抵抗が３００Ω
／□以上であるが帯電防止機能が得られるものを示す。
０Ω／□以下のものを示し、○はシート抵抗が３００Ω
／□以上であるが帯電防止機能が得られるものを示す。
【００２７】また、膜強度の◎はシャープペンシルのペ
ン先を試験圧子とするスクラッチ試験において５００ｇ
ｆの荷重でも傷がつかないものを示し、○は５００ｇｆ
の荷重では傷が付くが、３００ｇｆの荷重では傷が付か
ないものを示す。
ン先を試験圧子とするスクラッチ試験において５００ｇ
ｆの荷重でも傷がつかないものを示し、○は５００ｇｆ
の荷重では傷が付くが、３００ｇｆの荷重では傷が付か
ないものを示す。
【００２８】光学特性については、０．３パーセント以
下の反射率を満足する波長範囲が少なくとも４３０ｎｍ
〜６５０ｎｍであるものを◎とし、ほぼ満足するものを
○とした。
下の反射率を満足する波長範囲が少なくとも４３０ｎｍ
〜６５０ｎｍであるものを◎とし、ほぼ満足するものを
○とした。
【００２９】接着層である第２層１２として、実施例１
〜５はＰｒＴｉＯ3 を用いた例であり、実施例６はＳｉ
Ｏ2 を用いた例であり、実施例７は、Ａｌ2 Ｏ3 を用い
た例であり、実施例８はＴｉＯ2 を用いた例である。
〜５はＰｒＴｉＯ3 を用いた例であり、実施例６はＳｉ
Ｏ2 を用いた例であり、実施例７は、Ａｌ2 Ｏ3 を用い
た例であり、実施例８はＴｉＯ2 を用いた例である。
【００３０】表１から明らかな様に、実施例１〜８は、
優れた光学特性及び電気特性を維持しつつ、高い膜強度
を備えている。なお、図８〜１５は実施例１〜８の分光
反射率をそれぞれ示している。
優れた光学特性及び電気特性を維持しつつ、高い膜強度
を備えている。なお、図８〜１５は実施例１〜８の分光
反射率をそれぞれ示している。
【００３１】これに対して、比較例１は、実施例３にお
ける第５層のｋ値を、０．９２と小さく設定したもので
ある。この比較例１によれば、電気特性及び膜強度は優
れるものの、４３０〜６５０ｎｍの波長範囲で０．３パ
ーセント以下の反射率を満足することが出来ず、実施例
３と比べて光学特性が劣るという問題がある。
ける第５層のｋ値を、０．９２と小さく設定したもので
ある。この比較例１によれば、電気特性及び膜強度は優
れるものの、４３０〜６５０ｎｍの波長範囲で０．３パ
ーセント以下の反射率を満足することが出来ず、実施例
３と比べて光学特性が劣るという問題がある。
【００３２】また、比較例２は、第１層のｋ値を０．０
７に設定して第１〜３層の光学アドミタンスを等価にし
たものである。この比較例２によれば、光学特性及び膜
強度は優れるものの、シート抵抗を小さくすることが出
来ないため、帯電防止機能を得ることが出来ず、実施例
１〜８と比べて電気特性が劣るという問題がある。
７に設定して第１〜３層の光学アドミタンスを等価にし
たものである。この比較例２によれば、光学特性及び膜
強度は優れるものの、シート抵抗を小さくすることが出
来ないため、帯電防止機能を得ることが出来ず、実施例
１〜８と比べて電気特性が劣るという問題がある。
【００３３】更にまた、比較例３は、第２層のｋ値を
０．００８に設定して第１〜３層の光学アドミタンスを
等価にしたものである。この比較例３によれば、光学特
性及び電気特性は優れるものの、スクラッチ試験におい
て３００ｇｆの荷重で傷が付き、実施例１〜８と比べて
膜強度が劣るという問題がある。なお、図２５〜２７に
比較例１〜３の分光反射率をそれぞれ示す。
０．００８に設定して第１〜３層の光学アドミタンスを
等価にしたものである。この比較例３によれば、光学特
性及び電気特性は優れるものの、スクラッチ試験におい
て３００ｇｆの荷重で傷が付き、実施例１〜８と比べて
膜強度が劣るという問題がある。なお、図２５〜２７に
比較例１〜３の分光反射率をそれぞれ示す。
【００３４】表１から、光学特性、電気特性及び膜強度
の全てを満足するｋi 値の条件は、透明基板の表面に積
層されているＩＴＯ層である第１層がｋ1 ≧０．１を満
足し、この第１層の上に積層されており可視光線領域で
透明な金属酸化物膜である第２層がｋ2 ≧０．０１を満
足し、この第２層の上の３層の上に積層されている第４
層が１．９７≦ｋ4 ≦２．１５を満足し、この第４層の
上に積層されている第５層が０．９３≦ｋ5 ≦１．０５
を満足することが必要である。
の全てを満足するｋi 値の条件は、透明基板の表面に積
層されているＩＴＯ層である第１層がｋ1 ≧０．１を満
足し、この第１層の上に積層されており可視光線領域で
透明な金属酸化物膜である第２層がｋ2 ≧０．０１を満
足し、この第２層の上の３層の上に積層されている第４
層が１．９７≦ｋ4 ≦２．１５を満足し、この第４層の
上に積層されている第５層が０．９３≦ｋ5 ≦１．０５
を満足することが必要である。
【００３５】次に図２を参照して本願発明の７層の導電
性反射防止膜について説明する。先ず、６層の導電性反
射防止膜の光学特性及び電気特性を満足するために最も
好ましい基本的な構成は、図２に示すように透明基板１
０側から第１層４１、第２層４２、第３層４３、第４層
４４、第５層４５、第６層４６とすると、各層のｋ値
は、ｋ1 ＝０．３５、ｋ2 ＝０．３２、ｋ3 ＝０．７
５、ｋ4 ＝０．２１、ｋ5 ＝０．７５、ｋ6 ＝１．０８
である。
性反射防止膜について説明する。先ず、６層の導電性反
射防止膜の光学特性及び電気特性を満足するために最も
好ましい基本的な構成は、図２に示すように透明基板１
０側から第１層４１、第２層４２、第３層４３、第４層
４４、第５層４５、第６層４６とすると、各層のｋ値
は、ｋ1 ＝０．３５、ｋ2 ＝０．３２、ｋ3 ＝０．７
５、ｋ4 ＝０．２１、ｋ5 ＝０．７５、ｋ6 ＝１．０８
である。
【００３６】また、これらのｋi 値の好ましい範囲は、
１．０２≦ｋ6 ≦１．１２
０．６８≦ｋ5 ≦０．８０
０．１８≦ｋ4 ≦０．２４
０．７０≦ｋ3 ≦０．８０
０．２７≦ｋ2 ≦０．３７
０．３０≦ｋ1 ≦０．４２
である。この６層の基本的な構成を有する導電性反射膜
の分光反射率を図１６に示す。
の分光反射率を図１６に示す。
【００３７】本願の第２の実施例に係る７層の導電性反
射防止膜は、上述した４層膜から５層膜への展開と同様
に、６層の基本的な構成の第１層４１および第２層４２
のなす光学アドミタンスとほぼ等価的な光学アドミタン
スを７層膜における第１層２１、接着層である第２層２
２及び第３層２３でつくりだすことによって設計され
る。
射防止膜は、上述した４層膜から５層膜への展開と同様
に、６層の基本的な構成の第１層４１および第２層４２
のなす光学アドミタンスとほぼ等価的な光学アドミタン
スを７層膜における第１層２１、接着層である第２層２
２及び第３層２３でつくりだすことによって設計され
る。
【００３８】このとき、第２層２２である接着層の厚み
は、上述した５層の導電性反射防止膜と同様に、膜強度
の観点から下限が決定され、第１層２１であるＩＴＯ層
の面抵抗（帯電防止機能）の観点から上限が決定され
る。
は、上述した５層の導電性反射防止膜と同様に、膜強度
の観点から下限が決定され、第１層２１であるＩＴＯ層
の面抵抗（帯電防止機能）の観点から上限が決定され
る。
【００３９】以上のようにして、図２に示すように６層
の基本的な膜の構成の第１層４１と第２層４２とを等価
の光学アドミタンスを有する３層膜２１〜２３で置換
し、後述する条件を満足することにより、本発明の第２
実施例に係る導電性反射防止膜を得ることが出来る。
の基本的な膜の構成の第１層４１と第２層４２とを等価
の光学アドミタンスを有する３層膜２１〜２３で置換
し、後述する条件を満足することにより、本発明の第２
実施例に係る導電性反射防止膜を得ることが出来る。
【００４０】
【表２】
【００４１】図５において、６層の基本的な構成の第１
層４１及び第２層４２と、表２に示す実施例１１の第１
〜３層２１〜２３との光学アドミタンスが示されてい
る。図５中、実線が６層の基本的な構成の第１層及び第
２層、破線が実施例１１の第１〜３層を示し、これらの
線は重なり合って光学アドミタンスが等価であることを
示している。
層４１及び第２層４２と、表２に示す実施例１１の第１
〜３層２１〜２３との光学アドミタンスが示されてい
る。図５中、実線が６層の基本的な構成の第１層及び第
２層、破線が実施例１１の第１〜３層を示し、これらの
線は重なり合って光学アドミタンスが等価であることを
示している。
【００４２】また、図６において、６層の基本的な構成
の第１層４１及び第２層４２と、実施例１３の第１〜３
層２１〜２３との光学アドミタンスが示されている。図
中、実線が６層の基本的な構成の第１層４１及び第２層
４２、破線が実施例１３の第１〜３層２１〜２３を示
し、光学アドミタンスはほぼ等価になっている。光学ア
ドミタンスにこの程度のズレがあっても、図２１の分光
反射率曲線から明らかなように、４３０ｎｍ〜６５０ｎ
ｍの波長範囲で０．３パーセント以下の反射率を満足し
ている。
の第１層４１及び第２層４２と、実施例１３の第１〜３
層２１〜２３との光学アドミタンスが示されている。図
中、実線が６層の基本的な構成の第１層４１及び第２層
４２、破線が実施例１３の第１〜３層２１〜２３を示
し、光学アドミタンスはほぼ等価になっている。光学ア
ドミタンスにこの程度のズレがあっても、図２１の分光
反射率曲線から明らかなように、４３０ｎｍ〜６５０ｎ
ｍの波長範囲で０．３パーセント以下の反射率を満足し
ている。
【００４３】表２から明らかな様に、実施例９〜１６
は、優れた光学特性及び電気特性を維持しつつ、高い膜
強度を備えている。図１７〜２４に実施例９〜１６の分
光反射率をそれぞれ示す。
は、優れた光学特性及び電気特性を維持しつつ、高い膜
強度を備えている。図１７〜２４に実施例９〜１６の分
光反射率をそれぞれ示す。
【００４４】これに対して、比較例４は、実施例１１に
おける第７層のｋ値を、１．１４と大きく設定したもの
である。この比較例４によれば、電気特性及び膜強度は
優れているものの、４３０〜６５０ｎｍの波長範囲で
０．３パーセント以下の反射率を満足することが出来
ず、実施例１１と比べて光学特性が劣るという問題があ
る。
おける第７層のｋ値を、１．１４と大きく設定したもの
である。この比較例４によれば、電気特性及び膜強度は
優れているものの、４３０〜６５０ｎｍの波長範囲で
０．３パーセント以下の反射率を満足することが出来
ず、実施例１１と比べて光学特性が劣るという問題があ
る。
【００４５】また、比較例５は、第１層のｋ値を０．０
７に設定して第１〜３層の光学アドミタンスを等価にし
たものである。この比較例５によれば、光学特性及び膜
強度は優れているものの、シート抵抗を小さくすること
が出来ないため、帯電防止機能を得ることが出来ず、実
施例９〜１６と比べて電気特性が劣るという問題があ
る。
７に設定して第１〜３層の光学アドミタンスを等価にし
たものである。この比較例５によれば、光学特性及び膜
強度は優れているものの、シート抵抗を小さくすること
が出来ないため、帯電防止機能を得ることが出来ず、実
施例９〜１６と比べて電気特性が劣るという問題があ
る。
【００４６】更にまた、比較例６は、第２層のｋ値を
０．００８に設定して第１〜３層の光学アドミタンスを
等価にしたものである。この比較例６によれば、光学特
性及び電気特性は優れているものの、スクラッチ試験に
おいて３００ｇｆの荷重で傷が付き、実施例９〜１６と
比べて膜強度が劣るという問題がある。なお、図２８〜
３０に比較例４〜６の分光反射率をそれぞれ示す。
０．００８に設定して第１〜３層の光学アドミタンスを
等価にしたものである。この比較例６によれば、光学特
性及び電気特性は優れているものの、スクラッチ試験に
おいて３００ｇｆの荷重で傷が付き、実施例９〜１６と
比べて膜強度が劣るという問題がある。なお、図２８〜
３０に比較例４〜６の分光反射率をそれぞれ示す。
【００４７】表２から、光学特性、電気特性及び膜強度
の全てを満足するｋi 値の条件は、透明基板の表面に積
層されているＩＴＯ層である第１層がｋ1 ≧０．１を満
足し、この第１層の上に積層されており可視光線領域で
透明な金属酸化物膜である第２層がｋ2 ≧０．０１を満
足し、この第２層の上の３層の上に積層されている第４
層が０．７０≦ｋ4 ≦０．８０を満足し、この第４層の
上に積層されている第５層が０．１８≦ｋ5 ≦０．２４
を満足し、この第５層の上に積層されている第６層が
０．６８≦ｋ6 ≦０．８０を満足し、この第６層の上に
積層されている第７層が１．０２≦ｋ7 ≦１．１２を満
足することが必要である。
の全てを満足するｋi 値の条件は、透明基板の表面に積
層されているＩＴＯ層である第１層がｋ1 ≧０．１を満
足し、この第１層の上に積層されており可視光線領域で
透明な金属酸化物膜である第２層がｋ2 ≧０．０１を満
足し、この第２層の上の３層の上に積層されている第４
層が０．７０≦ｋ4 ≦０．８０を満足し、この第４層の
上に積層されている第５層が０．１８≦ｋ5 ≦０．２４
を満足し、この第５層の上に積層されている第６層が
０．６８≦ｋ6 ≦０．８０を満足し、この第６層の上に
積層されている第７層が１．０２≦ｋ7 ≦１．１２を満
足することが必要である。
【００４８】ただし、膜厚範囲は、ある１つの層を考え
たとき、他の層の膜厚が基本的な構成の膜厚に正確に制
御された場合に前記１つの層が許容できる膜厚範囲とし
て決定されている。
たとき、他の層の膜厚が基本的な構成の膜厚に正確に制
御された場合に前記１つの層が許容できる膜厚範囲とし
て決定されている。
【００４９】なお、以上において、波長が５２０ｎｍの
とき、ＰｒＴｉＯ3 の屈折率は２．１５、ＳｉＯ2 の屈
折率は１．４６、Ａｌ2 Ｏ3 の屈折率は１．６３、Ｔｉ
Ｏ2の屈折率は２．３５である。
とき、ＰｒＴｉＯ3 の屈折率は２．１５、ＳｉＯ2 の屈
折率は１．４６、Ａｌ2 Ｏ3 の屈折率は１．６３、Ｔｉ
Ｏ2の屈折率は２．３５である。
【００５０】
【表３】
【００５１】以上の実施例において、各層の形成は真空
蒸着法で行った。このときの各層の蒸着条件を表３に示
す。なお、条件を変えることにより、スパッタリング等
の他の方法で形成しても良い。
蒸着法で行った。このときの各層の蒸着条件を表３に示
す。なお、条件を変えることにより、スパッタリング等
の他の方法で形成しても良い。
【００５２】
【発明の効果】本発明による導電性反射防止膜では、所
定の光学特性を備える基本的な構成の透明基板側の２層
の膜を、この２層の膜の光学アドミタンスと等価な光学
アドミタンスを有する３層膜で置換し、この３層膜を透
明基板側のＩＴＯ層、このＩＴＯ層の上に積層されてい
る透明な金属酸化物膜およびこの金属酸化物膜の上に積
層されるＭｇＦ2 膜から構成し、ＩＴＯ層のｋ値を設定
された値以上とすることにより、帯電防止機能が得られ
ることを可能とする。更に、金属酸化物膜を設定された
値以上とすることにより、３００ｇｆの荷重でも傷が付
くのを防止することが出来る。従って、光学特性、電気
特性及び膜強度の３つを同時に達成することができる。
定の光学特性を備える基本的な構成の透明基板側の２層
の膜を、この２層の膜の光学アドミタンスと等価な光学
アドミタンスを有する３層膜で置換し、この３層膜を透
明基板側のＩＴＯ層、このＩＴＯ層の上に積層されてい
る透明な金属酸化物膜およびこの金属酸化物膜の上に積
層されるＭｇＦ2 膜から構成し、ＩＴＯ層のｋ値を設定
された値以上とすることにより、帯電防止機能が得られ
ることを可能とする。更に、金属酸化物膜を設定された
値以上とすることにより、３００ｇｆの荷重でも傷が付
くのを防止することが出来る。従って、光学特性、電気
特性及び膜強度の３つを同時に達成することができる。
【図１】本発明の第１実施例に係る５層の導電性反射防
止膜の説明図である。
止膜の説明図である。
【図２】本発明の第２実施例に係る７層の導電性反射防
止膜の説明図である。
止膜の説明図である。
【図３】従来例の４層の導電性反射防止膜の基本膜構成
を示す図である。
を示す図である。
【図４】従来例及び実施例３の光学アドミタンスを示す
図である。
図である。
【図５】６層の基本膜構成及び実施例１１の光学アドミ
タンスを示す図である。
タンスを示す図である。
【図６】６層の基本膜構成及び実施例１３の光学アドミ
タンスを示す図である。
タンスを示す図である。
【図７】従来例の分光反射率を示す図である。
【図８】実施例１の分光反射率を示す図である。
【図９】実施例２の分光反射率を示す図である。
【図１０】実施例３の分光反射率を示す図である。
【図１１】実施例４の分光反射率を示す図である。
【図１２】実施例５の分光反射率を示す図である。
【図１３】実施例６の分光反射率を示す図である。
【図１４】実施例７の分光反射率を示す図である。
【図１５】実施例８の分光反射率を示す図である。
【図１６】６層の基本膜構成を示す図である。
【図１７】実施例９の分光反射率を示す図である。
【図１８】実施例１０の分光反射率を示す図である。
【図１９】実施例１１の分光反射率を示す図である。
【図２０】実施例１２の分光反射率を示す図である。
【図２１】実施例１３の分光反射率を示す図である。
【図２２】実施例１４の分光反射率を示す図である。
【図２３】実施例１５の分光反射率を示す図である。
【図２４】実施例１６の分光反射率を示す図である。
【図２５】比較例１の分光反射率を示す図である。
【図２６】比較例２の分光反射率を示す図である。
【図２７】比較例３の分光反射率を示す図である。
【図２８】比較例４の分光反射率を示す図である。
【図２９】比較例５の分光反射率を示す図である。
【図３０】比較例６の分光反射率を示す図である。
１０ 透明基板
１１ 第１層
１２ 第２層
１３ 第３層
１４ 第４層
１５ 第５層
２１ 第１層
２２ 第２層
２３ 第３層
２４ 第４層
２５ 第５層
２６ 第６層
２７ 第７層
３１ 第１層
３２ 第２層
３３ 第３層
３４ 第４層
４１ 第１層
４２ 第２層
４３ 第３層
４４ 第４層
４５ 第５層
４６ 第６層
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(72)発明者 谷中 保則
大阪府大阪市中央区道修町３丁目５番11
号 日本板硝子株式会社内
(72)発明者 副島 亜矢子
大阪府大阪市中央区道修町３丁目５番11
号 日本板硝子株式会社内
(56)参考文献 特開 昭60−246508（ＪＰ，Ａ)
特開 平３−196101（ＪＰ，Ａ)
特開 昭63−266401（ＪＰ，Ａ)
(58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名)
C03C 15/00 - 23/00
B32B 1/00 - 35/00
Claims (9)
- 【請求項１】 ｋi ＝４ｎi ｄi ／λ0 （但し、ｎi ：
第ｉ層の膜の屈折率、ｄi ：第ｉ層の膜の幾何学的な膜
厚、λ0 ：設計の中心となる波長）としたとき、 透明基板の表面上に０．１≦ｋ1 を満足して積層されて
いるＩＴＯ膜である第１層と、 この第１層の上に０．０１≦ｋ2 を満足して積層されて
いる可視光線領域で透明な金属酸化物膜である第２層
と、 この第２層の上に積層されているＭｇＦ2 膜である第３
層と、 この第３層の上に１．９７≦ｋ4 ≦２．１５を満足して
積層されている第４層と、 この第４層の上に０．９３≦ｋ5 ≦１．０５を満足して
積層されている第５層とをそれぞれ具備し、 ４３０〜６５０ｎｍの波長範囲における反射率が０．３
パーセント以下であることを特徴とする導電性反射防止
膜。 - 【請求項２】 前記第５層がＭｇＦ2 膜である請求項１
記載の導電性反射防止膜。 - 【請求項３】 前記第４層が、ＰｒＴｉＯ3 、Ｔｉ
Ｏ2 、ＺｒＴｉＯ4 、ＺｒＯ2 及びＴａ2 Ｏ5 の何れか
から構成される請求項１記載の導電性反射防止膜。 - 【請求項４】 請求項１記載の導電性反射防止膜をガラ
ス基板の表面に備え、その導電性反射防止膜は、第１層
が前記表面上に積層されている導電性反射防止ガラス。 - 【請求項５】 ｋi ＝４ｎi ｄi ／λ0 （但し、ｎi ：
第ｉ層の膜の屈折率、ｄi ：第ｉ層の膜の幾何学的な膜
厚、λ0 ：設計の中心となる波長）としたとき、 透明基板の表面上に０．１≦ｋ1 を満足して積層されて
いるＩＴＯ膜である第１層と、 この第１層の上に０．０１≦ｋ2 を満足して積層されて
いる可視光線領域で透明な金属酸化物膜である第２層
と、 この第２層の上に積層されているＭｇＦ2 膜である第３
層と、 この第３層の上に０．７０≦ｋ4 ≦０．８０を満足して
積層されている第４層と、 この第４層の上に０．１８≦ｋ5 ≦０．２４を満足して
積層されている第５層と、 この第５層の上に０．６８≦ｋ6 ≦０．８０を満足して
積層されている第６層と、 この第６層の上に１．０２≦ｋ7 ≦１．１２を満足して
積層されている第７層とをそれぞれ具備し、 ４３０〜６５０ｎｍの波長範囲における反射率が０．３
パーセント以下であることを特徴とする導電性反射防止
膜。 - 【請求項６】 前記金属酸化物膜が、ＰｒＴｉＯ3 膜、
ＳｉＯ2 膜およびＡｌ2 Ｏ3 膜の何れかである請求項１
または５記載の導電性反射防止膜。 - 【請求項７】 前記第７層がＭｇＦ2 膜である請求項５
記載の導電性反射防止膜。 - 【請求項８】 前記第６層が、ＰｒＴｉＯ3 、Ｔｉ
Ｏ2 、ＺｒＴｉＯ4 、ＺｒＯ2 及びＴａ2 Ｏ5 の何れか
から構成される請求項５記載の導電性反射防止膜。 - 【請求項９】 請求項５記載の前記導電性反射防止膜を
ガラス基板の表面に備え、その導電性反射防止膜は、第
１層が前記表面上に積層されている導電性反射防止ガラ
ス。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP07125293A JP3391500B2 (ja) | 1993-03-05 | 1993-03-05 | 導電性反射防止膜および導電性反射防止ガラス |
| US08/199,625 US5536580A (en) | 1993-03-05 | 1994-02-22 | Conductive antireflection film and conductive antireflection glass |
| US08/450,885 US5582919A (en) | 1993-03-05 | 1995-05-26 | Conductive antireflection film and conductive antireflection glass |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP07125293A JP3391500B2 (ja) | 1993-03-05 | 1993-03-05 | 導電性反射防止膜および導電性反射防止ガラス |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06263483A JPH06263483A (ja) | 1994-09-20 |
| JP3391500B2 true JP3391500B2 (ja) | 2003-03-31 |
Family
ID=13455335
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP07125293A Expired - Fee Related JP3391500B2 (ja) | 1993-03-05 | 1993-03-05 | 導電性反射防止膜および導電性反射防止ガラス |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (2) | US5536580A (ja) |
| JP (1) | JP3391500B2 (ja) |
Families Citing this family (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5719705A (en) * | 1995-06-07 | 1998-02-17 | Sola International, Inc. | Anti-static anti-reflection coating |
| US6436541B1 (en) | 1998-04-07 | 2002-08-20 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Conductive antireflective coatings and methods of producing same |
| EP0975207B1 (en) * | 1998-07-23 | 2007-02-07 | Konica Corporation | Electromagnetic wave attenuating transparent member |
| JP2000147206A (ja) * | 1998-11-11 | 2000-05-26 | Sony Corp | 反射防止体 |
| US6764580B2 (en) * | 2001-11-15 | 2004-07-20 | Chungwa Picture Tubes, Ltd. | Application of multi-layer antistatic/antireflective coating to video display screen by sputtering |
| US6656331B2 (en) | 2002-04-30 | 2003-12-02 | Chunghwa Picture Tubes, Ltd. | Application of antistatic/antireflective coating to a video display screen |
| FR2861182B1 (fr) * | 2003-10-16 | 2006-02-03 | Essilor Int | Substrat organique transparent comprenant un empilement antireflet multicouches resistant a la temperature |
| JP4958594B2 (ja) * | 2007-03-22 | 2012-06-20 | 富士フイルム株式会社 | 反射防止膜、光学素子および光学系 |
| JP7404673B2 (ja) * | 2019-06-26 | 2023-12-26 | 株式会社リコー | 反射防止膜及びその製造方法及び光学部品 |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6051081B2 (ja) * | 1978-01-20 | 1985-11-12 | キヤノン株式会社 | 非球面反射防止膜 |
| US4422721A (en) * | 1982-08-09 | 1983-12-27 | Optical Coating Laboratory, Inc. | Optical article having a conductive anti-reflection coating |
| JPH02225346A (ja) * | 1989-02-27 | 1990-09-07 | Central Glass Co Ltd | 熱線反射ガラス |
| US5168003A (en) * | 1991-06-24 | 1992-12-01 | Ford Motor Company | Step gradient anti-iridescent coatings |
-
1993
- 1993-03-05 JP JP07125293A patent/JP3391500B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1994
- 1994-02-22 US US08/199,625 patent/US5536580A/en not_active Expired - Lifetime
-
1995
- 1995-05-26 US US08/450,885 patent/US5582919A/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH06263483A (ja) | 1994-09-20 |
| US5536580A (en) | 1996-07-16 |
| US5582919A (en) | 1996-12-10 |
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