JP2002055213A - 高反射ミラー - Google Patents
高反射ミラーInfo
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- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/08—Mirrors
- G02B5/0816—Multilayer mirrors, i.e. having two or more reflecting layers
- G02B5/085—Multilayer mirrors, i.e. having two or more reflecting layers at least one of the reflecting layers comprising metal
- G02B5/0858—Multilayer mirrors, i.e. having two or more reflecting layers at least one of the reflecting layers comprising metal the reflecting layers comprising a single metallic layer with one or more dielectric layers
Abstract
(57)【要約】
【課題】 高い反射率を有し、膜総数が少なくて生産性
も高いうえに、剥離、クラック等が生じないようにす
る。 【解決手段】 基板上に、ＴｉＯx層（１≦ｘ≦２）、
Ａｇ層、Ａｌ2Ｏ3層及びＴｉＯ2層をこの順に積層して
高反射ミラーを構成する。また、基板上に、ＳｉＯx層
（１≦ｘ≦２）、Ｃｒ層、Ａｇ層、Ａｌ2Ｏ3層及びＴｉ
Ｏ2層をこの順に積層して高反射ミラーを構成する。
も高いうえに、剥離、クラック等が生じないようにす
る。 【解決手段】 基板上に、ＴｉＯx層（１≦ｘ≦２）、
Ａｇ層、Ａｌ2Ｏ3層及びＴｉＯ2層をこの順に積層して
高反射ミラーを構成する。また、基板上に、ＳｉＯx層
（１≦ｘ≦２）、Ｃｒ層、Ａｇ層、Ａｌ2Ｏ3層及びＴｉ
Ｏ2層をこの順に積層して高反射ミラーを構成する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、金属膜の特徴を生
かした高反射のミラーであり、膜総数が少なくて生産性
が高く、しかも密着性と耐腐食性にも優れており、特
に、カメラ、複写機、プリンタ等の高機能な光学機器に
好適な高反射ミラーに関するものである。
かした高反射のミラーであり、膜総数が少なくて生産性
が高く、しかも密着性と耐腐食性にも優れており、特
に、カメラ、複写機、プリンタ等の高機能な光学機器に
好適な高反射ミラーに関するものである。
【０００２】
【従来の技術】この種の反射鏡として、例えば特開平２
−１０９００３号公報には、基板上に金属酸化物からな
る中間層を設け、その上に金属反射膜を積層し、さらに
必要に応じて、この金属反射膜の上に保護膜を積層した
ものが開示されている。
−１０９００３号公報には、基板上に金属酸化物からな
る中間層を設け、その上に金属反射膜を積層し、さらに
必要に応じて、この金属反射膜の上に保護膜を積層した
ものが開示されている。
【０００３】一方、特開平１１−６４６１２号公報には
下地層とＡｇ層の間にＳｉＯ2 層を挿入した構成が開示
されている。また特開昭５２−４０３４８号公報にはプ
ラスチック基板と金属膜との間にＳｉＯ層を挿入した構
成が開示されている。
下地層とＡｇ層の間にＳｉＯ2 層を挿入した構成が開示
されている。また特開昭５２−４０３４８号公報にはプ
ラスチック基板と金属膜との間にＳｉＯ層を挿入した構
成が開示されている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述の
特開平２−１０９００３号公報に記載のミラーにおいて
は、保護層を増反射構成とする場合に、低屈折率材料と
高屈折率材料を６層以上積層することを必要としている
ため、成膜に時間がかかり、生産性も低い上に、内部応
力が複雑に絡み合うため耐久試験等により反射率の低下
や剥がれ、浮きなどの膜劣化が懸念された。また、低屈
折率材料として酸化シリコンやフッ化マグネシウムを推
奨しているが、耐久性や成膜安定性の観点から見て問題
があった。
特開平２−１０９００３号公報に記載のミラーにおいて
は、保護層を増反射構成とする場合に、低屈折率材料と
高屈折率材料を６層以上積層することを必要としている
ため、成膜に時間がかかり、生産性も低い上に、内部応
力が複雑に絡み合うため耐久試験等により反射率の低下
や剥がれ、浮きなどの膜劣化が懸念された。また、低屈
折率材料として酸化シリコンやフッ化マグネシウムを推
奨しているが、耐久性や成膜安定性の観点から見て問題
があった。
【０００５】一方、特開平１１−６４６１２号公報ある
いは特開昭５２−４０３４８号公報に記載されたミラー
においては、Ａｇ層とＳｉＯ2 層、Ａｇ層とＳｉＯ層と
の密着性は必ずしも良好とは言えないため、Ａｇ層の上
に応力の大きな増反射層を堆積した場合、長時間に及ぶ
恒温恒湿試験等において浮きや剥離、クラック等が生じ
る不安が残るという未解決の課題があった。
いは特開昭５２−４０３４８号公報に記載されたミラー
においては、Ａｇ層とＳｉＯ2 層、Ａｇ層とＳｉＯ層と
の密着性は必ずしも良好とは言えないため、Ａｇ層の上
に応力の大きな増反射層を堆積した場合、長時間に及ぶ
恒温恒湿試験等において浮きや剥離、クラック等が生じ
る不安が残るという未解決の課題があった。
【０００６】本発明の目的は、上記従来技術の問題点を
解決し、高い反射率を有し、膜総数が少なくて生産性も
高いうえに、ガラス基板やプラスチック基板に対する密
着性および耐腐食性に優れた高反射ミラーを提供するこ
とにある。
解決し、高い反射率を有し、膜総数が少なくて生産性も
高いうえに、ガラス基板やプラスチック基板に対する密
着性および耐腐食性に優れた高反射ミラーを提供するこ
とにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
の本発明の一実施態様の高反射ミラーは、基板上に、Ｔ
ｉＯx層（１≦ｘ≦２）、Ａｇ層、Ａｌ2Ｏ3層及びＴｉ
Ｏ2層をこの順に積層して成る。
の本発明の一実施態様の高反射ミラーは、基板上に、Ｔ
ｉＯx層（１≦ｘ≦２）、Ａｇ層、Ａｌ2Ｏ3層及びＴｉ
Ｏ2層をこの順に積層して成る。
【０００８】上記実施態様の高反射ミラーにおいては、
更に、前記ＴｉＯ2層上にＳｉＯ層を形成しても良い。
このＳｉＯ層の膜厚は、好ましくは１〜１０ｎｍの範囲
に形成される。前記ＴｉＯx層、Ａｇ層、Ａｌ2Ｏ3層及
びＴｉＯ2層は基板を加熱することなく形成することが
望ましい。更に、設計主波長をλとしたときに、前記Ｔ
ｉＯx層、Ａｌ2Ｏ3層及びＴｉＯ2層の膜厚はλ／４に形
成されることが望ましい。
更に、前記ＴｉＯ2層上にＳｉＯ層を形成しても良い。
このＳｉＯ層の膜厚は、好ましくは１〜１０ｎｍの範囲
に形成される。前記ＴｉＯx層、Ａｇ層、Ａｌ2Ｏ3層及
びＴｉＯ2層は基板を加熱することなく形成することが
望ましい。更に、設計主波長をλとしたときに、前記Ｔ
ｉＯx層、Ａｌ2Ｏ3層及びＴｉＯ2層の膜厚はλ／４に形
成されることが望ましい。
【０００９】また、Ａｇ層の膜厚は、１５０〜２００ｎ
ｍの範囲に形成されることが望ましい。このような構成
をとることによって、本実施態様の高反射ミラーは、可
視域の光に対して９７％以上の反射率が得られる。
ｍの範囲に形成されることが望ましい。このような構成
をとることによって、本実施態様の高反射ミラーは、可
視域の光に対して９７％以上の反射率が得られる。
【００１０】また、上記目的を達成するための本発明の
他の実施態様の高反射ミラーは、基板上に、ＳｉＯx層
（１≦ｘ≦２）、Ｃｒ層、Ａｇ層、Ａｌ2Ｏ3層及びＴｉ
Ｏ2層をこの順に積層して成る。
他の実施態様の高反射ミラーは、基板上に、ＳｉＯx層
（１≦ｘ≦２）、Ｃｒ層、Ａｇ層、Ａｌ2Ｏ3層及びＴｉ
Ｏ2層をこの順に積層して成る。
【００１１】上記実施態様の高反射ミラーにおいては、
更に、前記ＴｉＯ2層上にＳｉＯ層を形成しても良い。
このＳｉＯ層の膜厚は、好ましくは１〜１０ｎｍの範囲
に形成される。前記ＳｉＯx層、Ｃｒ層、Ａｇ層、Ａｌ2
Ｏ3層及びＴｉＯ2層は基板を加熱することなく形成する
ことが望ましい。更に、設計主波長をλとしたときに、
前記ＳｉＯx層、Ａｌ2Ｏ3層及びＴｉＯ2層の膜厚はλ／
４に形成されることが望ましい。また、Ｃｒ層の膜厚は
１０〜４０ｎｍの範囲に形成されることが望ましい。一
方、Ａｇ層の膜厚は、１５０〜２００ｎｍの範囲に形成
されることが望ましい。このような構成をとることによ
って、本実施態様の高反射ミラーは、可視域の光に対し
て９７％以上の反射率が得られる。
更に、前記ＴｉＯ2層上にＳｉＯ層を形成しても良い。
このＳｉＯ層の膜厚は、好ましくは１〜１０ｎｍの範囲
に形成される。前記ＳｉＯx層、Ｃｒ層、Ａｇ層、Ａｌ2
Ｏ3層及びＴｉＯ2層は基板を加熱することなく形成する
ことが望ましい。更に、設計主波長をλとしたときに、
前記ＳｉＯx層、Ａｌ2Ｏ3層及びＴｉＯ2層の膜厚はλ／
４に形成されることが望ましい。また、Ｃｒ層の膜厚は
１０〜４０ｎｍの範囲に形成されることが望ましい。一
方、Ａｇ層の膜厚は、１５０〜２００ｎｍの範囲に形成
されることが望ましい。このような構成をとることによ
って、本実施態様の高反射ミラーは、可視域の光に対し
て９７％以上の反射率が得られる。
【００１２】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施態様を図面に
基づいて詳細に説明する。
基づいて詳細に説明する。
【００１３】図１は、本発明の高反射ミラーの第１実施
態様の膜構成を示す概略断面図である。図１において、
基板１０は、光学部品において従来から利用されている
材質で、例えばガラス基板や、ポリカーボネート基板、
アクリル基板等の樹脂（プラスチック）基板である。
態様の膜構成を示す概略断面図である。図１において、
基板１０は、光学部品において従来から利用されている
材質で、例えばガラス基板や、ポリカーボネート基板、
アクリル基板等の樹脂（プラスチック）基板である。
【００１４】基板１０上にはＴｉＯ2 やＴｉＯ等を出発
材料とするＴｉＯx層１１が形成されている。ここで、
１≦ｘ≦２である。成膜時には、酸素導入を行なって
も、行なわなくてもよい。この下引層（アンダーコー
ト）はこのあとに成膜するＡｇ層１２に対する密着性と
耐腐食性を強化するもので、膜厚としてはλ／４（λ：
設計主波長）程度あれば充分であり、従来から懸念され
ている短波長域における反射率低下の影響はほとんど受
けない。
材料とするＴｉＯx層１１が形成されている。ここで、
１≦ｘ≦２である。成膜時には、酸素導入を行なって
も、行なわなくてもよい。この下引層（アンダーコー
ト）はこのあとに成膜するＡｇ層１２に対する密着性と
耐腐食性を強化するもので、膜厚としてはλ／４（λ：
設計主波長）程度あれば充分であり、従来から懸念され
ている短波長域における反射率低下の影響はほとんど受
けない。
【００１５】前記ＴｉＯx層１１からなるアンダーコー
トの上にはＡｇ層１２が形成される。Ａｇ層１２の成膜
には、通常の抵抗加熱を用いてもよいが電子ビーム（Ｅ
Ｂ）蒸着にすれば成膜時間が格段に短くて済む。膜厚と
しては１５０〜２００ｎｍが適当である。
トの上にはＡｇ層１２が形成される。Ａｇ層１２の成膜
には、通常の抵抗加熱を用いてもよいが電子ビーム（Ｅ
Ｂ）蒸着にすれば成膜時間が格段に短くて済む。膜厚と
しては１５０〜２００ｎｍが適当である。
【００１６】前記Ａｇ層１２上にはＡｌ2 Ｏ3 層１３が
形成される。第３層であるＡｌ2 Ｏ 3 層１３は、この上
に形成する第４層のＴｉＯ2 層１４とともに保護膜とし
ての効果を有し、かつ、増反射構成における低屈折率誘
電体層と同様の働きをする。
形成される。第３層であるＡｌ2 Ｏ 3 層１３は、この上
に形成する第４層のＴｉＯ2 層１４とともに保護膜とし
ての効果を有し、かつ、増反射構成における低屈折率誘
電体層と同様の働きをする。
【００１７】前記Ａｌ2 Ｏ3 層１３は、従来から知られ
ている通り緻密な膜のため耐水性、引っ掻きにも強く、
安定した成膜を行なうことができる。成膜方法には通常
の真空蒸着法やスパッタリング法が適用できる。
ている通り緻密な膜のため耐水性、引っ掻きにも強く、
安定した成膜を行なうことができる。成膜方法には通常
の真空蒸着法やスパッタリング法が適用できる。
【００１８】前述のように、Ａｌ2 Ｏ3 層１３上には増
反射構成における高屈折率誘電体層であるＴｉＯ2層１
４が形成される。ＴｉＯ2 層１４は、基板加熱等を行な
わなくても室温成膜で高屈折率を出せるため、Ａｌ2 Ｏ
3 層１３と重ねた２層構成で充分に増反射効果が得られ
る。このようにして、Ａｇ層１２の高反射特性を生かし
た極めて高反射率の高反射ミラーを実現できる。
反射構成における高屈折率誘電体層であるＴｉＯ2層１
４が形成される。ＴｉＯ2 層１４は、基板加熱等を行な
わなくても室温成膜で高屈折率を出せるため、Ａｌ2 Ｏ
3 層１３と重ねた２層構成で充分に増反射効果が得られ
る。このようにして、Ａｇ層１２の高反射特性を生かし
た極めて高反射率の高反射ミラーを実現できる。
【００１９】図２は、本発明の高反射ミラーの第２実施
態様の膜構成を示す概略断面図である。図２において、
図１と同一の部材には同一の符号を付し、詳細な説明は
省略する。図２に示すように、必要に応じて、ＴｉＯ2
層１４上に更にＳｉＯ層１５を形成しても良い。ＳｉＯ
層１５の膜厚は、分光特性に影響を与えない程度に薄く
することが望ましい。このように、最上層としてＳｉＯ
層１５を形成することによって、より耐久性に優れたミ
ラーを得ることができる。
態様の膜構成を示す概略断面図である。図２において、
図１と同一の部材には同一の符号を付し、詳細な説明は
省略する。図２に示すように、必要に応じて、ＴｉＯ2
層１４上に更にＳｉＯ層１５を形成しても良い。ＳｉＯ
層１５の膜厚は、分光特性に影響を与えない程度に薄く
することが望ましい。このように、最上層としてＳｉＯ
層１５を形成することによって、より耐久性に優れたミ
ラーを得ることができる。
【００２０】上記の第１及び第２実施態様によれば、膜
総数が４ないし５層と非常に少なく、従って生産性が高
いうえに、基板加熱の困難な樹脂基板においても密着性
が高くて耐久面で問題なく、しかも、高反射率である金
属膜本来の特徴を生かした高機能な高反射ミラーを得る
ことができる。例えば、可視域においてほぼ９７％以上
という高い反射率を有し、しかも耐久性に優れたＡｇ高
反射ミラーを実現できる。
総数が４ないし５層と非常に少なく、従って生産性が高
いうえに、基板加熱の困難な樹脂基板においても密着性
が高くて耐久面で問題なく、しかも、高反射率である金
属膜本来の特徴を生かした高機能な高反射ミラーを得る
ことができる。例えば、可視域においてほぼ９７％以上
という高い反射率を有し、しかも耐久性に優れたＡｇ高
反射ミラーを実現できる。
【００２１】（実施例１）以下のようにして、図１に示
す構成の高反射ミラーを形成した。ポリカーボネート製
の基板１０を窒素ブローにより洗浄した後、真空蒸着装
置により、１×１０-4Ｐａの圧力まで排気したうえで、
反応ガス導入ラインから酸素ガスを導入して１×１０-2
Ｐａの圧力に調整し、この真空度で電子銃によりＴｉＯ
2 を加熱して膜厚１２５ｎｍのＴｉＯx層（本実施例で
はＴｉＯ2 層）１１を成膜した。次いで、ＡｇをＥＢ加
熱により厚さ１５０ｎｍに蒸着しＡｇ層１２を成膜し
た。続いて、前述と同様に酸素ガスを導入して１×１０
-2Ｐａの真空度に調整し、この真空度で電子銃によりＡ
ｌ2 Ｏ3 を厚さλ1 ／４（λ1：設計主波長）に成膜
し、Ａｌ2 Ｏ3層１３を形成した。この上にＡｌ2 Ｏ3層
１３ と同様に、同じ真空度で電子銃によりＴｉＯ2 を
λ2 ／４（λ2 ：設計主波長）成膜し、ＴｉＯ2層１４
を形成した。上記のアンダーコート、Ａｇ膜および増反
射膜の蒸着はすべて基板を加熱することなく連続的に行
なわれた。なお本実施例では、それぞれを区別するた
め、設計主波長をλ1、λ2と記載しているが、通常これ
らは等しい。
す構成の高反射ミラーを形成した。ポリカーボネート製
の基板１０を窒素ブローにより洗浄した後、真空蒸着装
置により、１×１０-4Ｐａの圧力まで排気したうえで、
反応ガス導入ラインから酸素ガスを導入して１×１０-2
Ｐａの圧力に調整し、この真空度で電子銃によりＴｉＯ
2 を加熱して膜厚１２５ｎｍのＴｉＯx層（本実施例で
はＴｉＯ2 層）１１を成膜した。次いで、ＡｇをＥＢ加
熱により厚さ１５０ｎｍに蒸着しＡｇ層１２を成膜し
た。続いて、前述と同様に酸素ガスを導入して１×１０
-2Ｐａの真空度に調整し、この真空度で電子銃によりＡ
ｌ2 Ｏ3 を厚さλ1 ／４（λ1：設計主波長）に成膜
し、Ａｌ2 Ｏ3層１３を形成した。この上にＡｌ2 Ｏ3層
１３ と同様に、同じ真空度で電子銃によりＴｉＯ2 を
λ2 ／４（λ2 ：設計主波長）成膜し、ＴｉＯ2層１４
を形成した。上記のアンダーコート、Ａｇ膜および増反
射膜の蒸着はすべて基板を加熱することなく連続的に行
なわれた。なお本実施例では、それぞれを区別するた
め、設計主波長をλ1、λ2と記載しているが、通常これ
らは等しい。
【００２２】このようにして得られた高反射ミラーの反
射率の分光特性は、図３に示すように、波長４００〜７
００ｎｍの領域で９７％以上であることが確かめられ
た。図３において、横軸は波長（ｎｍ）、縦軸は反射率
（％）を示す。
射率の分光特性は、図３に示すように、波長４００〜７
００ｎｍの領域で９７％以上であることが確かめられ
た。図３において、横軸は波長（ｎｍ）、縦軸は反射率
（％）を示す。
【００２３】（実施例２）以下のようにして、図２に示
す構成の高反射ミラーを形成した。ポリカーボネート製
の基板１０上に、実施例１と同様の手順で、ＴｉＯx層
（本実施例ではＴｉＯ2 層）１１、Ａｇ層１２、Ａｌ2
Ｏ3層１３及びＴｉＯ2層１４を積層した。更に、ＴｉＯ
2層１４上にＳｉＯ層１５を膜厚１０ｎｍに成膜した。
す構成の高反射ミラーを形成した。ポリカーボネート製
の基板１０上に、実施例１と同様の手順で、ＴｉＯx層
（本実施例ではＴｉＯ2 層）１１、Ａｇ層１２、Ａｌ2
Ｏ3層１３及びＴｉＯ2層１４を積層した。更に、ＴｉＯ
2層１４上にＳｉＯ層１５を膜厚１０ｎｍに成膜した。
【００２４】（比較例１）以下のようにして、図４に示
す構成の高反射ミラーを形成した。ポリカーボネート製
の基板２０上に、実施例１と同様の手順でＴｉＯx層
（本比較例ではＴｉＯ2 層）２１及びＡｇ層２２を形成
した。その上にＳｉＯ2 をＥＢ蒸着によりλ 1 ／４成膜
し、ＳｉＯ2層２３を形成した。さらにＴｉＯ2 層２４
の成膜を実施例１と同様に行なった。
す構成の高反射ミラーを形成した。ポリカーボネート製
の基板２０上に、実施例１と同様の手順でＴｉＯx層
（本比較例ではＴｉＯ2 層）２１及びＡｇ層２２を形成
した。その上にＳｉＯ2 をＥＢ蒸着によりλ 1 ／４成膜
し、ＳｉＯ2層２３を形成した。さらにＴｉＯ2 層２４
の成膜を実施例１と同様に行なった。
【００２５】実施例１、２とも恒温恒湿による耐久試験
後の反射率測定、テープテストによる密着力評価とも良
好であった。また、外観上もクモリ、膜ワレ、膜ハガレ
等の異常も確認されなかった。
後の反射率測定、テープテストによる密着力評価とも良
好であった。また、外観上もクモリ、膜ワレ、膜ハガレ
等の異常も確認されなかった。
【００２６】一方、比較例１では、耐久テスト後の密着
力テストによりＡｇ層２２とＳｉＯ 2層２３間で容易に
剥がれ、密着性に乏しいことがわかった。評価テストの
結果を表１にまとめて示す。
力テストによりＡｇ層２２とＳｉＯ 2層２３間で容易に
剥がれ、密着性に乏しいことがわかった。評価テストの
結果を表１にまとめて示す。
【００２７】
【表１】表１
【００２８】図５、本発明の高反射ミラーの第３施態様
の膜構成を示す概略断面図である。図５において、基板
３０は、光学部品において従来から利用されている材質
で、例えばガラス基板や、ポリカーボネート基板、アク
リル基板等の樹脂（プラスチック）基板である。
の膜構成を示す概略断面図である。図５において、基板
３０は、光学部品において従来から利用されている材質
で、例えばガラス基板や、ポリカーボネート基板、アク
リル基板等の樹脂（プラスチック）基板である。
【００２９】基板３０上には、」成膜時に酸素導入を行
ないＳｉＯを出発材料とするＳｉＯ x層３１が形成され
る。そして、この上に膜厚が薄いＣｒ層３２が形成され
る。これらの下引層はこのあとに成膜するＡｇ層３３に
対する密着性と耐腐食性を強化するもので、膜厚として
はＳｉＯx層３１がλ／４（λ：設計主波長）に形成さ
れるのが望ましい。Ｃｒ層３２は、Ａｇ膜３３に対する
密着性を強化するためのもので、１０〜４０ｎｍ程度あ
れば充分であり、従来例に記載されているような短波長
域における反射率低下の影響はほとんど受けない。
ないＳｉＯを出発材料とするＳｉＯ x層３１が形成され
る。そして、この上に膜厚が薄いＣｒ層３２が形成され
る。これらの下引層はこのあとに成膜するＡｇ層３３に
対する密着性と耐腐食性を強化するもので、膜厚として
はＳｉＯx層３１がλ／４（λ：設計主波長）に形成さ
れるのが望ましい。Ｃｒ層３２は、Ａｇ膜３３に対する
密着性を強化するためのもので、１０〜４０ｎｍ程度あ
れば充分であり、従来例に記載されているような短波長
域における反射率低下の影響はほとんど受けない。
【００３０】ＳｉＯx層３１とＣｒ層３２からなる下引
層の上には、Ａｇ層３３が形成される。Ａｇ層３３の成
膜には、通常の抵抗加熱を用いてもよいが電子ビーム
（ＥＢ）蒸着にすれば成膜時間が格段に短くて済む。膜
厚としては１５０〜２００ｎｍが適当である。
層の上には、Ａｇ層３３が形成される。Ａｇ層３３の成
膜には、通常の抵抗加熱を用いてもよいが電子ビーム
（ＥＢ）蒸着にすれば成膜時間が格段に短くて済む。膜
厚としては１５０〜２００ｎｍが適当である。
【００３１】Ａｇ層３３上にはＡｌ2 Ｏ3層３４が形成
される。このＡｌ2 Ｏ3 層３４は、この上に形成するＴ
ｉＯ2層３５とともに保護膜としての効果をもち、加え
て、増反射構成における低屈折率誘電体層と同様の働き
をする。
される。このＡｌ2 Ｏ3 層３４は、この上に形成するＴ
ｉＯ2層３５とともに保護膜としての効果をもち、加え
て、増反射構成における低屈折率誘電体層と同様の働き
をする。
【００３２】Ａｌ2 Ｏ3 層３４は従来から知られている
通り緻密な膜のため、耐水性、引っ掻きにも強く、安定
した成膜を行なうことができる。また、膜形成には通常
の真空蒸着法やスパッタリング法が適用できる。
通り緻密な膜のため、耐水性、引っ掻きにも強く、安定
した成膜を行なうことができる。また、膜形成には通常
の真空蒸着法やスパッタリング法が適用できる。
【００３３】Ａｌ2 Ｏ3 層３４上には増反射構成におけ
る高屈折率誘電体層であるＴｉＯ2層３５が形成され
る。ＴｉＯ2 層３５は、基板加熱等を行なわなくても室
温成膜で高屈折率を出せるため、Ａｌ2 Ｏ3 層３４と重
ねることで充分増反射効果を発揮できる。すなわち、Ａ
ｌ2 Ｏ3 層３４とＴｉＯ2 層３５の２層で、Ａｇ層３３
の高反射特性を生かした高反射ミラーを実現できる。
る高屈折率誘電体層であるＴｉＯ2層３５が形成され
る。ＴｉＯ2 層３５は、基板加熱等を行なわなくても室
温成膜で高屈折率を出せるため、Ａｌ2 Ｏ3 層３４と重
ねることで充分増反射効果を発揮できる。すなわち、Ａ
ｌ2 Ｏ3 層３４とＴｉＯ2 層３５の２層で、Ａｇ層３３
の高反射特性を生かした高反射ミラーを実現できる。
【００３４】図６は、本発明の高反射ミラーの第４実施
態様の膜構成を示す概略断面図である。図６において、
図５と同一の部材には同一の符号を付し、詳細な説明は
省略する。図６に示すように、必要に応じて、ＴｉＯ2
層３５上に更にＳｉＯ層３６を形成しても良い。ＳｉＯ
層３６の膜厚は、分光特性に影響を与えない１〜１０ｎ
ｍの範囲とすることが望ましい。このように、最上層と
してＳｉＯ層３６を形成することによって、より耐久性
に優れたミラーを得ることができる。
態様の膜構成を示す概略断面図である。図６において、
図５と同一の部材には同一の符号を付し、詳細な説明は
省略する。図６に示すように、必要に応じて、ＴｉＯ2
層３５上に更にＳｉＯ層３６を形成しても良い。ＳｉＯ
層３６の膜厚は、分光特性に影響を与えない１〜１０ｎ
ｍの範囲とすることが望ましい。このように、最上層と
してＳｉＯ層３６を形成することによって、より耐久性
に優れたミラーを得ることができる。
【００３５】上記の第３及び第４実施態様によれば、膜
総数が５ないし６層と非常に少なく、従って生産性が高
いうえに、基板加熱の困難な樹脂基板においても密着性
が高くて耐久面で問題なく、しかも、高反射率である金
属膜本来の特徴を生かした高機能な高反射ミラーを得る
ことができる。例えば、可視域においてほぼ９７％以上
という高い反射率を有し、しかも耐久性に優れたＡｇ高
反射ミラーを実現できる。
総数が５ないし６層と非常に少なく、従って生産性が高
いうえに、基板加熱の困難な樹脂基板においても密着性
が高くて耐久面で問題なく、しかも、高反射率である金
属膜本来の特徴を生かした高機能な高反射ミラーを得る
ことができる。例えば、可視域においてほぼ９７％以上
という高い反射率を有し、しかも耐久性に優れたＡｇ高
反射ミラーを実現できる。
【００３６】（実施例３）以下のようにして、図５に示
す構成の高反射ミラーを形成した。ポリカーボネート製
の基板３０を窒素ブローにより洗浄した後、真空蒸着装
置により、１×１０-3Ｐａの圧力まで排気したうえで、
反応ガス導入ラインから酸素ガスを導入して１．０６×
１０-2Ｐａの圧力に調整し、この真空度で抵抗加熱によ
りＳｉＯを加熱して光学膜厚でλ1 ／４（λ1 ：設計主
波長）のＳｉＯ層３１を形成した。続いてＣｒ層３２を
ＥＢ加熱により膜厚２０ｎｍに成膜した。次いで、Ａｇ
をＥＢ加熱により膜厚１５０ｎｍに蒸着し、Ａｇ層３３
を形成した。その上に前述と同様に酸素ガスを導入して
１×１０-2Ｐａの真空度に調整し、この真空度で電子銃
によりＡｌ2 Ｏ3 を光学膜厚がλ2 ／４（λ2 ：設計主
波長）となるように成膜し、Ａｌ2 Ｏ3層３４を形成し
た。この上にＡｌ2 Ｏ3層３４と同様に、同じ真空度で
電子銃によりＴｉＯ2 を光学膜厚がλ3 ／４（λ3 ：設
計主波長）となるように成膜し、ＴｉＯ2層３５を形成
した。これらのアンダーコート、Ａｇ膜および増反射膜
の蒸着はすべて基板を加熱することなく連続的に行なわ
れた。なお本実施例では、それぞれを区別するため、設
計主波長をλ1、λ2、λ3と記載しているが、通常これ
らは等しい。
す構成の高反射ミラーを形成した。ポリカーボネート製
の基板３０を窒素ブローにより洗浄した後、真空蒸着装
置により、１×１０-3Ｐａの圧力まで排気したうえで、
反応ガス導入ラインから酸素ガスを導入して１．０６×
１０-2Ｐａの圧力に調整し、この真空度で抵抗加熱によ
りＳｉＯを加熱して光学膜厚でλ1 ／４（λ1 ：設計主
波長）のＳｉＯ層３１を形成した。続いてＣｒ層３２を
ＥＢ加熱により膜厚２０ｎｍに成膜した。次いで、Ａｇ
をＥＢ加熱により膜厚１５０ｎｍに蒸着し、Ａｇ層３３
を形成した。その上に前述と同様に酸素ガスを導入して
１×１０-2Ｐａの真空度に調整し、この真空度で電子銃
によりＡｌ2 Ｏ3 を光学膜厚がλ2 ／４（λ2 ：設計主
波長）となるように成膜し、Ａｌ2 Ｏ3層３４を形成し
た。この上にＡｌ2 Ｏ3層３４と同様に、同じ真空度で
電子銃によりＴｉＯ2 を光学膜厚がλ3 ／４（λ3 ：設
計主波長）となるように成膜し、ＴｉＯ2層３５を形成
した。これらのアンダーコート、Ａｇ膜および増反射膜
の蒸着はすべて基板を加熱することなく連続的に行なわ
れた。なお本実施例では、それぞれを区別するため、設
計主波長をλ1、λ2、λ3と記載しているが、通常これ
らは等しい。
【００３７】このようにして得られた高反射ミラーの反
射率の分光特性は、図７に示すように、波長４００〜７
００ｎｍの領域で９７％以上であることが確かめられ
た。図７において、横軸は波長（ｎｍ）、縦軸は反射率
（％）を示す。
射率の分光特性は、図７に示すように、波長４００〜７
００ｎｍの領域で９７％以上であることが確かめられ
た。図７において、横軸は波長（ｎｍ）、縦軸は反射率
（％）を示す。
【００３８】（実施例４）以下のようにして、図６に示
す構成の高反射ミラーを形成した。ポリカーボネート製
の基板３０上に、実施例３と同様にＳｉＯ層３１、Ｃｒ
層３２、Ａｇ層３３、Ａｌ2 Ｏ3層３４及びＴｉＯ2層３
５を積層した。更に、ＴｉＯ2層３５上にＳｉＯ層３６
を膜厚１０ｎｍに成膜した。
す構成の高反射ミラーを形成した。ポリカーボネート製
の基板３０上に、実施例３と同様にＳｉＯ層３１、Ｃｒ
層３２、Ａｇ層３３、Ａｌ2 Ｏ3層３４及びＴｉＯ2層３
５を積層した。更に、ＴｉＯ2層３５上にＳｉＯ層３６
を膜厚１０ｎｍに成膜した。
【００３９】（比較例２）以下のようにして、図８に示
す構成の高反射ミラーを形成した。ポリカーボネート製
の基板４０上に実施例３と同様の手順でＣｒ層以外のＳ
ｉＯ層４１、Ａｇ層４３、Ａｌ2 Ｏ3層４４及びＴｉＯ2
層４５を積層し、４層の膜構成を有する高反射ミラーを
製作した。
す構成の高反射ミラーを形成した。ポリカーボネート製
の基板４０上に実施例３と同様の手順でＣｒ層以外のＳ
ｉＯ層４１、Ａｇ層４３、Ａｌ2 Ｏ3層４４及びＴｉＯ2
層４５を積層し、４層の膜構成を有する高反射ミラーを
製作した。
【００４０】実施例３、４とも恒温恒湿による耐久試験
後の反射率測定、テープテストによる密着力評価とも良
好であった。また、外観上もクモリ、膜ワレ、膜ハガレ
等の異常も確認されなかった。
後の反射率測定、テープテストによる密着力評価とも良
好であった。また、外観上もクモリ、膜ワレ、膜ハガレ
等の異常も確認されなかった。
【００４１】一方、比較例２では、耐久テスト後取り出
して観察したところ、浮き、剥離等が激しく密着力テス
トによりＡｇ層４３とＳｉＯ層４１間で容易に剥がれ、
密着性に乏しいことがわかった。評価テストの結果を先
の表１にまとめて示す。
して観察したところ、浮き、剥離等が激しく密着力テス
トによりＡｇ層４３とＳｉＯ層４１間で容易に剥がれ、
密着性に乏しいことがわかった。評価テストの結果を先
の表１にまとめて示す。
【００４２】
【発明の効果】このように本発明の高反射ミラーは、高
い反射率、耐久性を有し、高反射率が時間とともに低下
するおそれがないうえに、膜総数が少なくて製造工程が
簡単であり、従って安価である。
い反射率、耐久性を有し、高反射率が時間とともに低下
するおそれがないうえに、膜総数が少なくて製造工程が
簡単であり、従って安価である。
【図１】本発明の高反射ミラーの第１実施態様を示す概
略断面図である。
略断面図である。
【図２】本発明の高反射ミラーの第２実施態様を示す概
略断面図である。
略断面図である。
【図３】実施例１の高反射ミラーにおける反射率の分光
特性を示すグラフである。
特性を示すグラフである。
【図４】比較例１の高反射ミラーの構成を示す概略断面
図である。
図である。
【図５】本発明の高反射ミラーの第３実施態様を示す概
略断面図である。
略断面図である。
【図６】本発明の高反射ミラーの第４実施態様を示す概
略断面図である。
略断面図である。
【図７】実施例３の高反射ミラーにおける反射率の分光
特性を示すグラフである。
特性を示すグラフである。
【図８】比較例２の高反射ミラーの構成を示す概略断面
図である。
図である。
１０、３０ 基板 １１ ＴｉＯx層 １２、３３ Ａｇ層 １３、３４ Ａｌ2Ｏ3層 １４、３５ ＴｉＯ2層 １５、３６ ＳｉＯ層 ３１ ＳｉＯx層 ３２ Ｃｒ層
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 2H042 DA04 DA09 DA15 DA18 4F100 AA19D AA20E AA21B AA21E AB13C AB24C AK45A AT00A BA10A BA10E EH66 GB90 JB02 JL02 JL11 JN06 4K029 AA11 BA04 BA07 BA44 BA46 BA48 BB02 BC07 BD09 CA02 DB21 EA01 FA04
Claims (15)
- 【請求項１】 基板上に、ＴｉＯx層（１≦ｘ≦２）、
Ａｇ層、Ａｌ2Ｏ3層及びＴｉＯ2層をこの順に積層して
成る高反射ミラー。 - 【請求項２】 更に、前記ＴｉＯ2層上にＳｉＯ層が形
成されて成る請求項１記載の高反射ミラー。 - 【請求項３】 前記ＳｉＯ層の膜厚が、１〜１０ｎｍの
範囲にある請求項２記載の高反射ミラー。 - 【請求項４】 可視域の光に対する反射率が９７％以上
である請求項１乃至３のいずれか一項に記載の高反射ミ
ラー。 - 【請求項５】 前記ＴｉＯx層、Ａｇ層、Ａｌ2Ｏ3層及
びＴｉＯ2層が基板を加熱することなく形成されてなる
請求項１乃至４のいずれか一項に記載の高反射ミラー。 - 【請求項６】 設計主波長をλとしたときに、前記Ｔｉ
Ｏx層、Ａｌ2Ｏ3層及びＴｉＯ2層の膜厚がλ／４である
請求項１乃至５のいずれか一項に記載の高反射ミラー。 - 【請求項７】 前記Ａｇ層の膜厚が、１５０〜２００ｎ
ｍの範囲にある請求項１乃至６のいずれか一項に記載の
高反射ミラー。 - 【請求項８】 基板上に、ＳｉＯx層（１≦ｘ≦２）、
Ｃｒ層、Ａｇ層、Ａｌ2Ｏ3層及びＴｉＯ2層をこの順に
積層して成る高反射ミラー。 - 【請求項９】 更に、前記ＴｉＯ2層上にＳｉＯ層が形
成されて成る請求項８記載の高反射ミラー。 - 【請求項１０】 前記ＳｉＯ層の膜厚が、１〜１０ｎｍ
の範囲にある請求項９記載の高反射ミラー。 - 【請求項１１】 可視域の光に対する反射率が９７％以
上である請求項８乃至１０のいずれか一項に記載の高反
射ミラー。 - 【請求項１２】 前記ＳｉＯx層、Ｃｒ層、Ａｇ層、Ａ
ｌ2Ｏ3層及びＴｉＯ2層が基板を加熱することなく形成
されなる請求項８乃至１１のいずれか一項に記載の高反
射ミラー。 - 【請求項１３】 設計主波長をλとしたときに、前記Ｓ
ｉＯx層、Ａｌ2Ｏ3層及びＴｉＯ2層の膜厚がλ／４であ
る請求項８乃至１２のいすれか一項に記載の高反射ミラ
ー。 - 【請求項１４】 前記Ｃｒ層の膜厚が、１０〜４０ｎｍ
の範囲にある請求項８乃至１３のいずれか一項に記載の
高反射ミラー。 - 【請求項１５】 前記Ａｇ層の膜厚が、１５０〜２００
ｎｍの範囲にある請求項８乃至１４のいずれか一項に記
載の高反射ミラー。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001105845A JP2002055213A (ja) | 2000-06-02 | 2001-04-04 | 高反射ミラー |
| TW090112395A TW503326B (en) | 2000-06-02 | 2001-05-23 | High reflection mirror |
| US09/862,587 US6535336B2 (en) | 2000-06-02 | 2001-05-23 | High reflection mirror |
| CNB011220996A CN1135405C (zh) | 2000-06-02 | 2001-06-01 | 高反射镜 |
Applications Claiming Priority (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000165293 | 2000-06-02 | ||
| JP2000165308 | 2000-06-02 | ||
| JP2000-165293 | 2000-06-02 | ||
| JP2000-165308 | 2000-06-02 | ||
| JP2001105845A JP2002055213A (ja) | 2000-06-02 | 2001-04-04 | 高反射ミラー |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002055213A true JP2002055213A (ja) | 2002-02-20 |
Family
ID=27343603
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001105845A Pending JP2002055213A (ja) | 2000-06-02 | 2001-04-04 | 高反射ミラー |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6535336B2 (ja) |
| JP (1) | JP2002055213A (ja) |
| CN (1) | CN1135405C (ja) |
| TW (1) | TW503326B (ja) |
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| US7445348B2 (en) | 2003-05-15 | 2008-11-04 | Mitsui Chemicals, Inc. | Reflector, use thereof, and method for producing reflector |
| JP2010058111A (ja) * | 2008-08-06 | 2010-03-18 | 憲一 ▲高▼木 | コーティング方法及び該コーティング方法で表面処理したプラスティック製品 |
| WO2011145438A1 (ja) * | 2010-05-19 | 2011-11-24 | 日本電気硝子株式会社 | 反射部材 |
| JP7480125B2 (ja) | 2019-04-08 | 2024-05-09 | 廈門三安光電有限公司 | 複合絶縁反射層 |
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| EP1546431B1 (de) * | 2002-09-30 | 2010-02-10 | Incoat GmbH | Verbundwerkstoff |
| JP3659354B1 (ja) * | 2004-02-02 | 2005-06-15 | セイコーエプソン株式会社 | 装飾品、装飾品の製造方法および時計 |
| TW200630643A (en) * | 2005-02-22 | 2006-09-01 | Asia Optical Co Inc | Reflector and method for producing the same |
| US7641350B2 (en) * | 2005-11-28 | 2010-01-05 | Jds Uniphase Corporation | Front surface mirror for providing white color uniformity for polarized systems with a large range of incidence angles |
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| FR2933394B1 (fr) * | 2008-07-03 | 2011-04-01 | Saint Gobain | Procede de depot de couche mince et produit obtenu |
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| CN108008476B (zh) * | 2017-12-22 | 2019-09-10 | 武汉大学 | 一种激光发生器反射板 |
| CN110499508B (zh) * | 2018-05-18 | 2021-11-12 | 比亚迪股份有限公司 | 金属制品及其制备方法和应用 |
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-
2001
- 2001-04-04 JP JP2001105845A patent/JP2002055213A/ja active Pending
- 2001-05-23 US US09/862,587 patent/US6535336B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2001-05-23 TW TW090112395A patent/TW503326B/zh not_active IP Right Cessation
- 2001-06-01 CN CNB011220996A patent/CN1135405C/zh not_active Expired - Fee Related
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| CN1329259A (zh) | 2002-01-02 |
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|---|---|---|---|
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