WO2007007570A1

WO2007007570A1 - 反射鏡およびその製造方法

Info

Publication number: WO2007007570A1
Application number: PCT/JP2006/313125
Authority: WO
Inventors: Tamotsu Morimoto; Masato Kawasaki; Hideaki Miyazawa
Original assignee: Asahi Glass Company, Limited
Priority date: 2005-07-11
Filing date: 2006-06-30
Publication date: 2007-01-18
Also published as: JPWO2007007570A1; EP1909120A1; US20080112051A1

Abstract

　可視光領域での反射率が高く、耐湿性、耐硫黄性に優れる反射鏡およびその製造方法を提供する。　基材１１と、窒化ケイ素膜１４と、基材１１と窒化ケイ素膜１４との間に設けられた銀膜１３とを有する反射鏡１０であって、１０ｐｐｍの硫化水素を導入し、温度５０°C、相対湿度８０％の雰囲気中に１００時間反射鏡を放置した際、放置前の視感反射率（ＪＩＳ　Ｚ　８７０１（１９８２年）に規定する三刺激値の色度Ｙ）に対する放置後の視感反射率の変化率が、１０％以内である反射鏡１０。また、スパッタ法により銀膜１３を形成した後、化学気相成長法により窒化ケイ素膜１４を形成する反射鏡１０の製造方法。

Description

明細書

反射鏡およびその製造方法

技術分野

[0001] 本発明は、可視光領域で高レ、反射率を有し、耐湿性、耐硫黄性を有する反射鏡およびその製造方法に関する。

背景技術

[0002] 従来より、照明器具、携帯電話、液晶ディスプレイ等に用いられる、ガラス等の基材上に、反射膜としてアルミニウム、銀等の金属膜を製膜した反射鏡が知られている（たとえば、特許文献 1)。最近では、可視光領域の全域にわたり反射率が高いことから、銀膜を有する反射鏡が主に検討されている。しかし、銀は、化学的に不安定であるため、空気中の酸素、水分、亜硫酸ガス、硫化水素等により、酸化銀、硫化銀等に変質して変色しやすいとレ、う問題がある。

[0003] この問題を解決するため、保護膜として酸化アルミニウム等の酸化物膜を銀膜上に製膜した反射鏡が開示されている（特許文献 2)。しかし、該反射鏡では、銀膜の上にスパッタ等の方法により酸化アルミニウム等の酸化物膜を形成する。この場合、酸化性雰囲気下で製膜することから、銀膜表面が酸化され、充分な反射率のものが得られにくい問題がある。また、該保護膜では、空気中の酸素、水分、亜硫酸ガス、硫化水素等による銀の変質を充分に抑えることができず、反射鏡の耐湿性、耐硫黄性は、充分とはいえない。

[0004] また、保護膜として窒化アルミニウム、ダイヤモンドライクカーボン等の膜を銀膜の上に積層した反射鏡が開示されている（特許文献 3)。また、保護膜としてスパッタ法によって窒化ケィ素膜を銀膜の上に製膜した反射鏡が開示されている（特許文献 4) 。しかし、該保護膜であっても、空気中の酸素、水分、亜硫酸ガス、硫化水素等による銀の変質を充分に抑えることができず、反射鏡の耐湿性、耐硫黄性は、充分とはいえない。

特許文献 1 :実開平 5— 73809号公報

特許文献 2 :特開 2001— 343510号公報特許文献 3：特開 2001— 13309号公報

特許文献 4:特開 2001— 337210号公報

発明の開示

発明が解決しょうとする課題

[0005] 本発明は、可視光領域での反射率が高ぐ耐湿性、耐硫黄性に優れる反射鏡およびその製造方法を提供することを目的とする。

課題を解決するための手段

[0006] 本発明の反射鏡は、基材と、窒化ケィ素膜と、基材と窒化ケィ素膜との間に設けられた銀膜とを有する反射鏡であって、 lOppmの硫化水素を導入し、温度 50°C、相対湿度 80%の雰囲気中に反射鏡を 100時間放置した際、放置前の視感反射率 (JIS Z 8701 (1982年）に規定する三刺激値の色度 Y)に対する放置後の視感反射率の変化率が 10%以内であることを特徴とする。

本発明の反射鏡は、温度 60°C、相対湿度 90%の雰囲気中に反射鏡を 100時間放置した際、放置前の視感反射率 CilS Z 8701 (1982年）に規定する三刺激値の色度 Y)に対する放置後の視感反射率の変化率が 5%以内であることが好ましい。

[0007] 本発明の反射鏡は、窒化ケィ素膜上に設けられた硬質炭素からなる保護膜をさらに有することが好ましい。

本発明の反射鏡は、基材と銀膜との間に設けられた酸化物からなる下地膜をさらに有することが好ましい。

前記酸化物は、 TiO (1. 5≤x< 2)で表される酸化チタンであることが好ましい。前記銀膜の膜厚は、 60〜300nmであり、前記窒化ケィ素膜の膜厚は、 2〜20nm であることが好ましい。

前記保護膜の膜厚は、 2〜20nmであることが好ましい。

前記下地膜の膜厚は、：!〜 50nmであることが好ましい。

[0008] また、本発明は、基材と、窒化ケィ素膜と、基材と窒化ケィ素膜との間に設けられた銀膜とを有する反射鏡の製造方法において、スパッタ法により銀膜を形成した後、化学気相成長法により窒化ケィ素膜を形成することを特徴とする。発明の効果

[0009] 本発明の反射鏡は、可視光領域での反射率が高ぐ耐湿性、耐硫黄性に優れる。

本発明の反射鏡の製造方法によれば、可視光領域での反射率が高ぐ耐湿性、耐硫黄性に優れる反射鏡を得ることができる。

図面の簡単な説明

[0010] [図 1]本発明の反射鏡の一例を示す断面図である。

符号の説明

[0011] 10 反射鏡

11 基材

12 下地膜

13 銀膜

14 窒化ケィ素膜

15 保護膜

発明を実施するための最良の形態

[0012] <反射鏡 >

図 1は、本発明の反射鏡の一例を示す断面図である。反射鏡 10は、基材 11と、該基材 11上に設けられた下地膜 12と、該下地膜 12上に設けられた銀膜 13と、該銀膜 13上に設けられた窒化ケィ素膜 14と、該窒化ケィ素膜 14上に設けられた保護膜 15 とを有するものである。

[0013] (基材）

基材 11の材質としては、たとえば、ガラス；ポリエチレンテレフタレート、アクリル樹脂

、ポリカーボネート等のプラスチック等が挙げられる。

基材の形状は、平面、拡散面、凹面、凸面、台形等、各種の反射鏡の基材として求められる形状であればよい。

基材 11としては、軽量化できる点で、プラスチックのフィルムが特に好ましい。基材 11の厚さは、平面形状である場合、 30〜500 /i mが好ましい。

基材 11は、フィルムである場合、下地膜 12、銀膜 13等との密着性を向上させるために、プラズマ処理等が施されていてもよい。

[0014] (下地膜）

下地膜 12は、酸化物からなる膜である。下地膜を設けることにより、これに接する基材 11と銀膜 13との密着性を高めることができる。その結果、反射鏡 10の耐湿性をさらに向上できる。

酸化物としては、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化スズ、酸化インジウム、酸化アルミ二ゥム、酸化クロム、酸化ニオブ等が挙げられる。これらのうち、密着性の点から、酸化チタンが好ましぐ TiO (1. 5≤x< 2)で表される、酸素欠損を有する酸化チタンが特に好ましい。

[0015] 下地膜 12は、単層であってもよぐ複数の層から構成されていてもよい。

下地膜 12の膜厚は、：!〜 50nmが好ましぐ 3〜： 15nmが特に好ましい。下地膜 12 の膜厚が lnm未満では、基材 11と銀膜 13との密着性を向上させる効果が現れにくレ、。下地膜 12の膜厚が 50nmを超えると、下地膜 12表面の凹凸が大きくなり、反射率が低くなつたり、内部応力が高くなるため密着性が低下したりするおそれがある。本発明における「膜厚」は、物理膜厚のことをいい、物理膜厚は、エリプソメーター、触針式段差計等により求めることができる。

[0016] (銀膜）

銀膜 13は、銀または銀合金からなる膜であり、光を反射させる反射膜としての役割を果たす。反射膜を銀膜 13とすることにより、反射鏡 10の可視光領域の反射率を高め、入射角による反射率の依存性を低減させることができる。本発明における「可視光領域」とは、 400〜700nmの波長領域を意味する。また、「入射角」とは、膜面に対して垂直な線に対する角度を意味する。

[0017] 銀合金としては、銀と、金、パラジウム、スズ、ガリウム、インジウム、銅、チタンおよびビスマスからなる群から選ばれる 1種以上のその他の金属とからなる合金力銀膜 13 の耐久性が向上し、反射率がさらに向上するため好ましい。その他の金属としては、高温耐湿性、反射率の点から、金が特に好ましい。

銀膜 13が銀合金からなる膜である場合、銀は、銀膜 13における銀とその他の金属との合計（100原子％)中、 90〜99. 8原子％が好ましい。また、その他の金属は、耐久性の点から 0. 2〜： 10原子％が好ましい。

[0018] 銀膜 13の月莫厚 ίま、 60〜300nm力 S好ましく、 80〜200nm力 S特に好ましレ、₀銀膜 13 の膜厚が 60nm未満では、可視光領域の反射率が低下するおそれがある。銀膜 13 の膜厚が 300nmを超えると、銀膜 13表面に凹凸が発生しやすくなり、これにより光の散乱が生じてしまレ、、可視光領域での反射率が低下するおそれがある。

[0019] (窒化ケィ素膜）

窒化ケィ素膜 14は、窒化ケィ素からなる膜であり、これに接する銀膜 13の変質を抑え、その結果、反射鏡 10の耐湿性、耐硫黄性を向上させる膜である。

窒化ケィ素膜 14は、化学気相成長法 (以下、 CVD法と記す。 )により製膜された窒化ケィ素膜であることが好ましい。 CVD法により製膜された窒化ケィ素膜は、スパッタ法により製膜された窒化ケィ素膜に比べ、膜応力が低い、複雑形状へのカバレッジがよい、ガスバリア性能が高い等の利点を有する。この結果、反射鏡 10の耐硫黄性が向上する。

[0020] 窒化ケィ素膜 14の膜厚は、 2〜20nmが好ましぐ 3〜： 15nmが特に好ましい。窒化ケィ素膜 14の膜厚が 2nm未満では、反射鏡 10の耐湿性、耐硫黄性が不充分となるおそれがある。窒化ケィ素膜 14の膜厚が 20nmを超えると、窒化ケィ素膜 14による着色（吸収）で反射率が低下するおそれがある。

[0021] (保護膜）

保護膜 15は、反射鏡 10の最表面に設けられる、硬質炭素からなる膜である。保護膜 15を設けることにより、反射鏡 10の耐湿性、耐硫黄性をさらに向上できる。

耐硫黄性が向上する理由としては、詳細には解明できてはいないが、以下のとおりであると考えられる。すなわち、硬質炭素中の炭素原子と硫化水素等の含硫黄分子中の硫黄原子との結合エネルギーが高いため、含硫黄分子が保護膜 15表面に付着するためには多くのエネルギーが必要となる。その結果、保護膜 15表面に含硫黄分子が付着しに《なり、耐硫黄性が向上しているものと考えられる。

[0022] 硬質炭素は、ダイヤモンドライクカーボン（以下、 DLCと記す。）、 i—カーボン、ァモルファス炭素、水素化炭素とも呼ばれており、従来より公知のものを適宜用いることができる。硬質炭素からなる膜は、表面平滑性に優れる、表面の摩擦係数が小さい、化学的に不活性である、濡れ性が低いため汚れにくい等の保護膜として優れた特性を有している。

硬質炭素の代表的なものとしては、 DLCが挙げられる。 DLCとは、グラフアイト構造 (SP²軌道）とダイヤモンド構造 (SP³軌道）とが混在したアモルファスのものをいい、ラマン分光で 1400〜： 1600cm— ¹の範囲にピークを有する硬質炭素である。

[0023] 硬質炭素は、硬度が増加し、反射鏡の耐擦傷性および耐候性が向上することから、水素原子を含有することが好ましい。硬質炭素中に水素原子を含有することにより、耐候性が向上する理由は不明だが、硬質炭素中に多数存在する未結合の欠陥が水素原子の添カ卩により安定化されるためと考えられる。ただし、基材 11としてフィルムを使用する場合、保護膜にはフィルムに追随する程度の柔らかさが求められる。そのため、水素原子は、硬質炭素（100原子％)中で 20原子％以下が好ましい。

[0024] 炭素原子は、硬質炭素（100原子％)中で 50質量％以上が好ましぐ 80質量％以上がより好ましぐ 90質量％以上が特に好ましい。

硬質炭素中の炭素原子と水素原子の合計は、硬質炭素（100原子％)中で 95原子 %以上が好ましい。硬質炭素中には、炭素原子、水素原子の他に、フッ素原子が含まれていてもよい。

[0025] 保護膜 15は、反射鏡 10の反射率の点から、透明な膜であることが必要である。具体的には、可視光領域での消衰係数が 0. 1以下が好ましぐ 0. 08以下が特に好ましぐ 0. 05以下が最も好ましい。本発明における「消衰係数」とは、可視光領域における複素屈折率の虚数部を意味し、分光エリプソメーターにより測定できる。

保護膜 15の膜厚は、 2〜20nmが好ましぐ 4〜： !Onmが特に好ましい。保護膜 15 の膜厚が 2nm未満であると、窒化ケィ素膜 14との密着性が向上する効果が現れにくレ、。保護膜 15の膜厚が 20nmを超えると、反射率が低くなるおそれがある。

[0026] (反射鏡の製造方法）

反射鏡 10は、基材 11上に、各膜を順次、スパッタ法、 CVD法、イオンプレーティング法等により製膜することにより得られる。

スパッタ法は、 CVD法およびイオンプレーティング法に比べて、大面積に膜が形成でき、かつ、透明な膜を形成しやすい点で好ましい。また、表面粗さを小さくできるため、反射率を高く保つことができる点で好ましい。

スパッタ法としては、たとえば、交流 (AC)、直流（DC)、高周波（RF)によるスパッタ法が挙げられる。 DCによるスパッタ法には、パルス DCスパッタ法を含む。 ACスパッタ法、ノ^レス DCスパッタ法は、異常放電を防止できる点で有効である。緻密な膜を形成できる点では、 ACまたは DCによる反応性スパッタ法が好ましい。

[0027] 下地膜 12は、スパッタ法により製膜されることが好ましい。雰囲気としては、酸化性ガスを実質的に含まないアルゴン等の希ガス雰囲気が好ましい。酸素等の酸化性ガスは、 18体積％以下が好ましい。

下地膜 12用のターゲットとしては、酸化性ガスを実質的に含まない雰囲気下で酸化物膜を製膜できる点で、酸化物ターゲットが好ましい。酸化物ターゲットとしては、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化スズ、酸化インジウム、酸化アルミニウム、酸化クロムおよび酸化ニオブからなる群から選ばれる 1種以上が挙げられる。

DCスパッタ法で下地膜 12を製膜する場合、高速で製膜できる点で、酸素欠損ターゲットが好ましレ、。酸素欠損ターゲットとしては、たとえば、 TiO (1. 5≤x< 2. 0)として表されるものが挙げられる。

[0028] 銀膜 13は、アルゴンガス雰囲気下で、銀または銀合金からなるターゲットを用いて、スパッタ法により製膜されることが好ましい。

銀ターゲットとしては、銀を 95質量％以上含有するターゲットが好ましい。銀合金タ一ゲットとしては、銀を 95〜99. 7質量％含有し、その他の金属を 0. 3〜5. 0質量％含有するターゲットが好ましレ、。

[0029] 窒化ケィ素膜 14は、 CVD法により製膜されることが好ましい。 CVD法により窒化ケィ素膜 14を製膜することにより、反射鏡 10の耐硫黄性が向上する。

CVD法は、原料物質を含むガスに、熱または光によってエネルギーを与えたり、高周波でプラズマ化したりすることにより、原料物質を反応させ、反応物の膜を析出させる方法である。

原料物質としては、シランガスとアンモニアガスとの混合ガス等が挙げられる。

[0030] 保護膜 15は、炭素（グラフアイト）を主成分とするターゲットを用レ、、スパッタ法、 CV D法、イオンプレーティング法等により製膜できる。硬質炭素からなる膜をァモルファスとすることができ、より緻密な硬質炭素からなる膜が得られることから、スパッタ法が好ましレ、。雰囲気としては、酸化性ガスを実質的に含まないアルゴン等の希ガス雰囲気が好ましい。酸化性ガスは、 1体積％以下が好ましい。

[0031] 反射鏡 10は、 JIS Z 8701の規定による視感反射率が 90%以上であることが好ましぐ 95。/₀以上であることがより好ましぐ 97。/₀以上であることが最も好ましい。これにより、反射鏡 10の反射率が高くなり、プロジェクシヨンテレビ、液晶ディスプレイ等の画像装置に用いた場合、輝度を下げることなく画像を映し出すことができる。

[0032] 反射鏡 10は、温度 60°C、相対湿度 90%の雰囲気中に反射鏡を 100時間放置する、高温耐湿試験を実施した際、高温耐湿試験前の視感反射率 CFIS Z 8701 (19 82年）に規定する三刺激値の色度 Y)に対する高温耐湿試験後の視感反射率の変化率が、 5%以内であることが好適である。これにより、反射鏡 10の耐湿性が充分に高くなる。高温耐湿試験後の視感反射率の変化率は下記式にて求められる。

変化率（％) = { 1—（高温耐湿試験後の視感反射率（％) /高温耐湿試験前の視感反射率（％) ) } X 100

[0033] 反射鏡 10は、 lOppmの硫化水素を導入し、温度 50°C、相対湿度 80%の雰囲気中に反射鏡を 100時間放置する、耐硫化水素試験を実施した際、耐硫化水素試験前の視感反射率 ilS Z 8701 (1982年）に規定する三刺激値の色度 Y)に対する耐硫化水素試験後の視感反射率の変化率が、 10%以内であることが好適である。これにより、反射鏡 10の耐硫黄性が充分に高くなる。耐硫化水素試験後の変視感反射率の変化率は下記式にて求められる。

変化率（％) = { 1—（耐硫化水素試験後の視感反射率（％) /耐硫化水素試験前の視感反射率（％) ) } X 100

実施例

[0034] 次に、実施例により本発明を更に具体的に説明するが、本発明は以下の実施例に限定して解釈されるものではない。

〔実施例 1〕

真空槽内に、基材として、アクリルノヽードコートを施した平坦なポリエチレンテレフタレートフィルム（厚さ： 50 μ m)を配置した。ターゲットとして、 ΤίΟ_χ酸素欠損ターゲット（商品名； τχ〇、旭硝子セラミックス社製）、金を添加した銀合金ターゲット (金含有率 1質量％、銀の含有率 99質量％)を、それぞれ力ソード上部の基材に対向するように設置した。真空槽内を 2 Χ 10— ⁵Paまで排気した。

[0035] 真空槽内にアルゴンガスを 200sccm導入し、 100Wの電力を投入し、イオンビームソース（商品名； LIS— 150、アドバンストエナジー社製）からイオン化されたアルゴンイオンを基材に照射し、基材の乾式洗浄を行った。

[0036] っレ、で、スパッタガスとしてアルゴンガスを真空槽内へ導入した。 Ti〇酸素欠損タ一ゲットを用いて、 DCスパッタリング法により、 0. 15Paの圧力で、周波数 100kHz、電力密度 0. 79W/cm²、反転パルス幅 1 μ秒のパルススパッタを行レ、、基材上に酸化チタン膜 (下地膜)を 5nmの膜厚で製膜した。酸化チタン膜の成分はターゲットと同等であった。

[0037] ついで、残存ガスを排気後、スパッタガスとしてアルゴンガスを真空槽内へ導入した。金を添加した銀合金ターゲットを用いて、 DCスパッタリング法により、 0. 15Paの圧力で、周波数 100kHz、電力密度 2. 46W/cm²、反転パルス幅 5 μ秒のパルススパッタを行い、酸化チタン膜上に金を含む銀合金膜を 150nmの膜厚で製膜した。銀合金膜の成分はターゲットと同等であった。

[0038] ついで、プラズマ CVD装置（アルバック社製、型式： CIH— 130)を用い、銀合金膜の上に、窒化ケィ素膜を製膜した。原料物質 (ソースガス）としては、シランガス（SiH

)およびアンモニアガス（NH )を用いた。原料物質を、 NH /SiHの流量比 20体積

%で供給し、圧力 lOOPaで、原料物質に 27. 12MHzの高周波を 400Wで印加して、原料物質をプラズマ化し、窒化ケィ素膜を 10nmの膜厚で製膜した。このときの基材の温度は 80°Cとした。

得られた反射鏡について、以下の評価を行った。結果を表:!〜 3に示す。

[0039] (1)高温耐湿試験：

反射鏡を 50mm X 100mmに切り出しサンプルに供した。温度 60°C、相対湿度 90 %の雰囲気中にサンプノレを 100時間放置し、放置後の膜剥離および腐食の有無を確認した。〇：膜の剥離もなぐ腐食の検出も見られなかった。

X：膜に剥離および/または腐食の検出が見られた。

[0040] (2)高温試験：

反射鏡を 50mm X 100mmに切り出しサンプルに供した。温度 85°C、相対湿度 30 %以下の雰囲気中にサンプノレを 100時間放置し、放置後の膜剥離および腐食の有無を確認した。

〇：膜の剥離もなぐ腐食の検出も見られなかった。

X：膜に剥離および/または腐食の検出が見られた。

[0041] (3)テープ剥離試験：

反射鏡の膜面をカッターを用いて切断し、ます目を 100個形成した。接着テープ（ニチバン社製)を手の力で強く膜面に貼り付け、勢い良く剥がした後の膜面のます目の剥離の有無を確認した。全く剥離がない場合を 100/100、全て剥離の場合を 0/1 00とした。剥離試験は製膜直後、高温耐湿試験後および高温試験後に行った。

[0042] (4)膜面反射率：

カラーアナライザー（商品名： T〇PSCAN、東京電色社製）を用いて膜面側の反射率を測定し、 JIS Z 8701 (1982年）に規定する三刺激値の色度 Yを計算により求め、視感反射率とした。測定は正反射光および拡散光の両方を測定することにより S CI方式で行った。視感反射率は製膜直後、高温耐湿試験後および高温試験後に測定した。

[0043] (5)耐硫化水素試験：

反射鏡を 50 X 100mmに切り出しサンプルに供した。 lOppmの硫化水素を導入し、温度 50°C、相対湿度 80%の雰囲気中にサンプルを 100時間放置し、放置後の視感反射率、膜剥離および腐食の有無を確認した。視感反射率は、（4)と同様の方法により測定した。

膜剥離および腐食の有無については、以下の基準で評価した。

〇：膜の剥離もなぐ腐食の検出も見られなかった。

△:膜の剥離または腐食の検出が若干見られたものの、実際上問題が生ずる程度ではなかった。 X：膜に剥離および/または腐食の検出が見られた。

[0044] 〔実施例 2〕

実施例 1の窒化ケィ素膜上に DLC膜 (保護膜)を製膜した。

スパッタガスとして、水素およびアルゴンガスをそれぞれ真空槽内へ導入し、水素力 Sスパッタガス中に 50体積％となるように調整した。酸素は意図的には導入していなレ、。グラフアイトターゲット（商品名： IG_ 15、東洋炭素社製、カーボンの含有率 99. 6質量％以上）を用いて、 DCスパッタリング法により、 0. 25Paの圧力で、周波数 100 kHz,電力密度 1.

反転パルス幅 4. 5 μ秒のパルススパッタを行レ、、 D LC膜を 5nmの膜厚で製膜し、実施例 2の反射鏡を得た。得られた反射鏡について、実施例 1と同様の方法で評価した。結果を表：!〜 3に示す。

[0045] 〔比較例 1〕

実施例 1の窒化ケィ素膜をスパッタ法で製膜した以外は、実施例 1と同様にして反射鏡を得た。

スパッタガスとしてアルゴンガスに 30質量⁰ /₀の窒素ガスを混合した混合ガスを真空槽内へ導入した。比抵抗が 0. 004 Ω ' cmのボロン添加多結晶シリコンターゲットを用いて、 DCスパッタリング法により、 0. 25Paの圧力で、周波数 100kHz、電力密度 1. 48W/cm²、反転時間 1 /i秒のパルススパッタを行い、窒化ケィ素膜を 15nmの膜厚で製膜した。得られた反射鏡について、実施例 1と同様の方法で評価した。結果を表：!〜 3に示す。

[0046] 〔比較例 2〕

実施例 1の窒化ケィ素膜の代わりに窒化アルミニウム膜を製膜した以外は、実施例 1と同様にして反射鏡を得た。

スパッタガスとしてアルゴンガスに 30質量⁰ /₀の窒素ガスを混合した混合ガスを真空槽内へ導入した。純度 99. 9質量⁰ /₀のアルミニウムターゲットを用いて、 DCスパッタリング法により、 0. 25Paの圧力で、周波数 100kHz、電力密度 1. 72W/cm²、反転時間 1 μ秒のノ^レススパッタを行レ、、窒化アルミニウム膜を 15nmの膜厚で製膜した。得られた反射鏡について、実施例 1と同様の方法で評価した。結果を表 1〜3に示す。 [0047] [表 1]

[0048] [表 2]

[0049] [表 3]

産業上の利用可能性

[0050] 本発明の反射鏡は、フラットパネルディスプレイ、プロジェクシヨンテレビ、携帯電話等の表示ディスプレイ等の光源用の反射部材、特に、モパイル用パーソナルコンビュータ、携帯電話、 PDA,携帯型のゲーム機器等の電子機器の表示ディスプレイの光源用の反射部材として有用である。なお、 2005年 7月 11曰に出願された日本特許出願 2005— 201541号の明糸田書、特許請求の範囲、図面及び要約書の全内容をここに引用し、本発明の明細書の開示として、取り入れるものである。

Claims

請求の範囲

[1] 基材と、

窒化ケィ素膜と、

基材と窒化ケィ素膜との間に設けられた銀膜と

を有する反射鏡であって、

lOppmの硫化水素を導入し、温度 50°C、相対湿度 80%の雰囲気中に反射鏡を 1 00時間放置した際、放置前の視感反射率 CilS Z 8701 (1982年））に規定する三刺激値の色度 Y)に対する放置後の視感反射率の変化率が、 10%以内である反射

[2] 温度 60°C、相対湿度 90%の雰囲気中に反射鏡を 100時間放置した際、放置前の視感反射率 CJIS Z 8701 (1982年））に規定する三刺激値の色度 Y)に対する放置後の視感反射率の変化率が 5%以内である請求項 1に記載の反射鏡。

[3] 窒化ケィ素膜上に設けられた硬質炭素からなる保護膜をさらに有する請求項 1または 2に記載の反射鏡。

[4] 基材と銀膜との間に設けられた酸化物からなる下地膜をさらに有する請求項 1〜3 のいずれかに記載の反射鏡。

[5] 前記酸化物が、 TiO (1. 5≤x< 2)で表される酸化チタンである請求項 4に記載の反射鏡。

[6] 前記銀膜の膜厚が、 60〜300nmであり、

前記窒化ケィ素膜の膜厚が、 2〜20nmである、請求項:!〜 5のいずれかに記載の反射鏡。

[7] 前記保護膜の膜厚が、 2〜20nmである請求項 3に記載の反射鏡。

[8] 前記下地膜の膜厚が、：!〜 50nmである請求項 4に記載の反射鏡。

[9] 基材と、窒化ケィ素膜と、基材と窒化ケィ素膜との間に設けられた銀膜とを有する反射鏡の製造方法において、

スパッタ法により銀膜を形成した後、化学気相成長法により窒化ケィ素膜を形成することを特徴とする反射鏡の製造方法。