WO2011145438A1 - 反射部材 - Google Patents

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reflecting
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武 櫻井
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日本電気硝子株式会社
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    • G02B5/08—Mirrors
    • G02B5/0808—Mirrors having a single reflecting layer

Definitions

  • the present invention relates to a reflective member, and more particularly, to a reflective member having a silver reflective film.
  • a reflection member having a silver reflection film made of silver or an alloy containing silver has been used.
  • the silver reflective film has a higher light reflectance than, for example, a reflective film made of aluminum. For this reason, the reflection member which has a high light reflectivity is realizable by using a silver reflective film.
  • Patent Documents 1 to 3 describe that a protective film is formed on a silver reflective film.
  • Patent Documents 1 to 3 describe a SiO 2 film, a Ni—Cr film, an Al 2 O 3 film, a TiO 2 film, and the like as a protective film.
  • the present invention has been made in view of the above points, and an object thereof is to provide a reflective member having a silver reflective film and having excellent heat resistance.
  • the reflecting member according to the present invention includes a reflecting member main body, a silver reflecting film, and a first protective film.
  • the silver reflecting film is formed on the reflecting member body.
  • the silver reflecting film is made of silver or an alloy containing silver.
  • the first protective film is formed on the silver reflective film.
  • the first protective film is made of Ti, Ta, or Nb.
  • a first protective film made of Ti, Ta or Nb is formed on the silver reflecting film. For this reason, even if it is a case where a reflective member is put in a high temperature atmosphere, a silver reflective film is suitably interrupted from oxygen and sulfur in the air by the 1st protective film. Therefore, it can suppress effectively that a silver reflective film reacts with oxygen and sulfur in air, and the light reflectivity of a silver reflective film falls. Therefore, according to the present invention, a reflective member having excellent heat resistance can be obtained by forming the first protective film made of Ti, Ta or Nb on the silver reflective film. From the viewpoint of obtaining particularly excellent heat resistance, the first protective film is preferably made of Ti.
  • the alloy containing silver examples include an Ag—Pd alloy, an Ag—Pd—Cu alloy, and the like.
  • the silver content in the silver-containing alloy is preferably 90% by mass or more.
  • the reflecting member is preferably formed between the silver reflecting film and the first protective film, and further includes a second protective film made of an oxide.
  • a second protective film made of an oxide By providing the second protective film made of an oxide, migration of silver or the like occurs between the silver reflective film and the first protective film, effectively reducing the light reflectivity of the silver reflective film. Can be suppressed. Therefore, more excellent heat resistance can be realized.
  • the second protective film is not particularly limited as long as it is made of an oxide, but is preferably made of titanium oxide, niobium oxide, zirconium oxide or tantalum oxide.
  • the heat resistance of the second protective film itself can be increased, and the adhesion between the second protective film, the silver reflective film, and the first protective film can be increased.
  • the second protective film does not contain an Ag component such as metal Ag or silver oxide. This is because when the second protective film contains an Ag component, migration may easily occur between the second protective film, the silver reflective film, and the first protective film.
  • the reflecting member main body is not particularly limited, but preferably has excellent heat resistance.
  • the reflecting member main body is preferably made of glass, for example, and more preferably made of silicate glass or silicate crystallized glass.
  • the base film is formed between the reflecting member main body and the silver reflecting film.
  • the base film is not particularly limited as long as it has excellent adhesion to the reflective member main body and the silver reflective film.
  • the base film is preferably made of, for example, titanium oxide, aluminum oxide, or zirconium oxide.
  • the reflecting member further includes a third protective film formed on the surface of the first protective film opposite to the second protective film.
  • the first protective film made of Ti, Ta or Nb generally has lower mechanical durability than the protective film made of oxide. For this reason, it can suppress effectively that a 1st protective film is damaged by providing a 3rd protective film. As a result, higher heat resistance can be obtained.
  • the third protective film has a higher hardness than the first protective film.
  • the third protective film is preferably made of an oxide or a nitride. More specifically, the third protective film is preferably made of, for example, titanium oxide, niobium oxide, tantalum oxide, zirconium oxide, silicon oxide, or silicon nitride.
  • a reflecting member including a silver reflecting film and having excellent heat resistance.
  • FIG. 1 is a schematic cross-sectional view of a reflecting member according to an embodiment of the present invention.
  • FIG. 2 is a schematic cross-sectional view of a reflecting member according to a modification.
  • FIG. 3 is a graph showing the relationship between the heating temperature and the average light reflectance in Example 1 and Comparative Examples 1 and 2.
  • the reflecting member 1 is merely an example.
  • the reflecting member according to the present invention is not limited to the reflecting member 1 at all.
  • FIG. 1 is a schematic cross-sectional view of a reflecting member 1 according to this embodiment.
  • the reflecting member 1 is a member that reflects light incident from the reflecting member main body 11 side by the silver reflecting film 13.
  • the reflection member 1 includes a reflection member main body 11.
  • the reflecting member body 11 transmits light such as sunlight that is to be reflected by the reflecting member 1.
  • the reflecting member main body 11 is a member for ensuring the mechanical strength of the reflecting member 1.
  • the reflecting member body 11 is not particularly limited as long as it can secure the mechanical strength of the reflecting member 1.
  • the reflecting member main body 11 can be formed of glass, ceramics, resin, or the like, for example.
  • the reflection member main body 11 since it is preferable that the reflection member main body 11 has a low coefficient of thermal expansion and excellent heat resistance, it may be made of glass or ceramics such as silicate glass or silicate crystallized glass. preferable.
  • the thermal expansion coefficient of the reflecting member body 11 at 30 ° C. to 380 ° C. is preferably in the range of ⁇ 5 ⁇ 10 ⁇ 7 / K to 90 ⁇ 10 ⁇ 7 / K.
  • the thickness t1 of the reflecting member body 11 is not particularly limited as long as it is a thickness that can ensure the mechanical strength of the reflecting member 1.
  • the thickness t1 of the reflecting member main body 11 can be set to about 0.1 mm to 10 mm, for example.
  • a silver reflecting film 13 is formed on the reflecting member main body 11.
  • the silver reflection film 13 is a film exclusively responsible for the reflection characteristics of the reflection member 1.
  • the silver reflecting film 13 is made of silver or an alloy containing silver. In the alloy containing silver, the content of silver is preferably 90% by mass or more. Note that specific examples of the alloy containing silver include an Ag—Pd alloy and an Ag—Pd—Cu alloy.
  • the thickness t3 of the silver reflecting film 13 is preferably, for example, 100 nm or more, and more preferably 150 nm or more. This is because if the thickness t3 of the silver reflecting film 13 is too small, the light reflectance of the silver reflecting film 13 may be too low. However, if the thickness t3 of the silver reflecting film 13 is too thick, the cost required for forming the silver reflecting film 13 increases. For this reason, the thickness t3 of the silver reflective film 13 is preferably 500 nm or less, and more preferably 300 nm or less.
  • the base film 12 has a function of improving the adhesion strength between the silver reflecting film 13 and the reflecting member body 11. For this reason, the adhesion strength between the base film 12 and the silver reflection film 13 and the adhesion strength between the reflection member body 11 and the silver reflection film 13 are the same as those when the silver reflection film is formed directly on the reflection member body.
  • the base film 12 is formed of a material that is higher than the adhesion strength between the silver reflecting film and the reflecting member body.
  • the material of the base film 12 can be appropriately selected according to the types of the reflecting member body 11 and the silver reflecting film 13.
  • the base film 12 is preferably made of, for example, titanium oxide, aluminum oxide, or zirconium oxide.
  • the thickness t2 of the base film 12 is not particularly limited as long as the adhesion strength between the silver reflecting film 13 and the reflecting member body 11 is improved.
  • the base film 12 can be, for example, not less than 10 nm and not more than 500 nm.
  • a first protective film 15 is formed on the silver reflective film 13.
  • the first protective film 15 is made of Ti, Ta, or Nb.
  • the 1st protective film 15 has low permeability of oxygen and sulfur in the air. Therefore, by forming the first protective film 15 on the silver reflective film 13, the silver reflective film 13 can be suitably protected from oxygen and sulfur in the air, so that the silver reflective film 13 is in the air. It can suppress effectively that the light reflectivity of the silver reflective film 13 falls by reacting with oxygen and sulfur. Therefore, excellent heat resistance can be obtained. From the viewpoint of obtaining particularly excellent heat resistance, it is more preferable that the first protective film 15 is made of Ti.
  • the thickness t5 of the first protective film 15 is preferably 30 nm to 1000 nm, more preferably 50 nm to 500 nm, and still more preferably 100 nm to 400 nm. If the thickness t5 of the first protective film 15 is too thin, the oxygen and sulfur blocking effect may not be sufficiently obtained. If the thickness t5 of the first protective film 15 is too thick, the light reflectance of the reflecting member 1 may be too low, or the first protective film 15 may be easily peeled off.
  • silver easily migrates, for example, when the first protective film made of Ti, Ta, or Nb is formed directly on the silver reflective film, it is between the first protective film made of metal and the silver reflective film. Migration may occur and the light reflectivity of the silver reflective film may be lowered.
  • a second protective film 14 made of an oxide is provided between the silver reflective film 13 and the first protective film 15 made of a metal. Therefore, Ag migration from the silver reflecting film 13 can be effectively suppressed. As a result, a decrease in the light reflectance of the reflecting member 1 can be suppressed.
  • the second protective film 14 can suppress Ag migration, has high adhesion strength to the silver reflective film 13 and the first protective film 15, and has excellent heat resistance. Therefore, the second protective film 14 is preferably made of, for example, titanium oxide, niobium oxide, zirconium oxide, or tantalum oxide. Moreover, it is preferable that the 2nd protective film 14 does not contain Ag components, such as metal Ag and silver oxide.
  • the thickness t4 of the second protective film 14 is not particularly limited as long as Ag migration can be suppressed.
  • the thickness t4 of the second protective film 14 is preferably about 10 nm to 100 nm, for example. If the thickness t4 of the second protective film 14 is too thin, Ag migration may not be sufficiently suppressed. If the thickness t4 of the second protective film 14 is too thick, the second protective film 14 may be easily peeled off.
  • a third protective film 16 is formed on the first protective film 15.
  • the third protective film 16 suitably protects the first protective film 15 made of Ti, Ta or Nb and having low hardness. Therefore, higher heat resistance can be obtained.
  • the third protective film 16 is not particularly limited, but is preferably a film having higher hardness than the first protective film 15. Therefore, the third protective film 16 is preferably made of, for example, titanium oxide, niobium oxide, tantalum oxide, zirconium oxide, silicon oxide, or silicon nitride.
  • the thickness t6 of the third protective film 16 is not particularly limited as long as the thickness can suitably protect the first protective film 15, and can be, for example, about 100 nm to 1000 nm.
  • the formation method of the base film 12, the silver reflective film 13, and the first to third protective films 14 to 16 is not particularly limited.
  • Each of the base film 12, the silver reflective film 13, and the first to third protective films 14 to 16 can be formed by a thin film forming method such as a vapor deposition method, a sputtering method, or a CVD (Chemical Vapor Deposition) method.
  • the first protective film 15 made of Ti, Ta, or Nb is preferably formed in an inert gas atmosphere or a reducing atmosphere.
  • the silver reflective film 13 is preferably heat-treated at about 100 ° C. to 200 ° C., for example. By doing so, silver grain growth in the silver reflective film 13 can be promoted. As a result, higher light reflectance can be obtained.
  • FIG. 2 is a schematic cross-sectional view of a reflecting member according to a modification.
  • the base film 12 is formed between the silver reflective film 13 and the reflective member main body 11, and the second and third protective films 14 and 16 are provided on both sides of the first protective film 15.
  • the base film 12 and the second and third protective films 14 and 16 are not necessarily essential. At least one of the base film 12 and the second and third protective films 14 and 16 may not be formed. Further, for example, as shown in FIG. 2, the base film 12 and the second and third protective films 14 and 16 are not formed, and the reflective member body 11, the silver reflective film 13, and the first protective film 15 are formed.
  • the reflection member may be comprised by these.
  • Example 1 a reflecting member having the same configuration as that of the reflecting member 1 according to the embodiment shown in FIG. 1 except that the second and third protective films 14 and 16 are not formed is as follows. It was produced with. Specifically, an Al 2 O 3 film having a thickness of 20 nm was formed on a glass substrate by a sputtering method. Next, a silver reflective film having a thickness of 150 nm was formed on the Al 2 O 3 film by a sputtering method. Finally, a reflective member according to Example 1 was fabricated by forming a Ti film having a thickness of 150 nm on the silver reflective film by a sputtering method.
  • Example 2 A reflective member according to Example 2 was fabricated in the same manner as in Example 1 except that a 150 nm thick Nb film was formed instead of the Ti film.
  • Comparative Example 1 A reflective member according to Comparative Example 1 was produced in the same manner as in Example 1 except that the Ti film was not formed.
  • Comparative Example 2 A reflective member according to Comparative Example 2 was produced in the same manner as in Example 1 except that an Al film having a thickness of 150 nm was formed instead of the Ti film.
  • Comparative Example 3 A reflective member according to Comparative Example 3 was produced in the same manner as in Example 1 except that a laminate of a 150 nm thick Cu film and a 150 nm thick Al film was formed instead of the Ti film.
  • Comparative Example 4 A reflective member according to Comparative Example 4 was produced in the same manner as in Example 1 except that a Si film having a thickness of 100 nm was formed instead of the Ti film.
  • Comparative Example 5 A reflective member according to Comparative Example 5 was produced in the same manner as in Example 1 except that a laminated body of a Si film having a thickness of 10 nm and a SiN film having a thickness of 100 nm was formed instead of the Ti film.
  • Comparative Example 6 A reflective member according to Comparative Example 6 was produced in the same manner as in Example 1 except that a laminated body of a Si film having a thickness of 100 nm and a Ti film having a thickness of 150 nm was formed instead of the Ti film.
  • Comparative Example 7 A reflective member according to Comparative Example 7 was produced in the same manner as in Example 1 except that a SiN film having a thickness of 100 nm was formed instead of the Ti film.
  • Comparative Example 8 A reflective member according to Comparative Example 8 was produced in the same manner as in Example 1 except that a TiN film having a thickness of 150 nm was formed instead of the Ti film.
  • Example 1 The reflecting member produced in each of Example 1 and Comparative Examples 1 and 2 was left in a constant temperature bath at 25 ° C., 100 ° C. or 200 ° C. for 120 hours at a humidity of 85%. Thereafter, the average light reflectance when light having a wavelength of 400 nm to 2500 nm was incident on each reflecting member at an incident angle of 12 ° was measured using U-4000 manufactured by Hitachi, Ltd. The results are shown in FIG.
  • Example 1 in which the Ti film was formed as the first protective film, the light reflectivity hardly decreased even when heated to 200 ° C. From this result, it is understood that excellent heat resistance can be obtained by forming the Ti film as the first protective film.
  • Heat resistance test 2 The reflecting member prepared in each of Examples 1 and 2 and Comparative Examples 2 to 8 was left in a constant temperature bath at 100 ° C., 200 ° C. or 300 ° C. for 120 hours. Thereafter, the average light reflectance when light having a wavelength of 400 nm to 2500 nm was incident on each reflecting member at an incident angle of 12 ° was measured using U-4000 manufactured by Hitachi, Ltd. And the case where the average light reflectance after the heat test is 93% or more is “ ⁇ ”, and the case where it is less than 93% or peeled between the silver reflective film and the protective film is “x”. evaluated. The results are shown in Table 1 below.
  • Comparative Examples 2 and 3 in which an Al film or a Cu film / Al film was provided as a protective film, the average light reflectance was less than 93% in a 200 ° C. heat resistance test.
  • Comparative Examples 4 to 6 in which a Si film, a Si film / SiN film, or a Si film / Ti film was provided as a protective film, all peeled between the silver reflective film and the Si film after the heat resistance test at 200 ° C. There has occurred.
  • Comparative Examples 7 and 8 in which a SiN film or a TiN film was provided as a protective film, the peeling was performed between the silver reflective film and the protective film. From this result, it can be seen that when the SiN film or the TiN film is provided as a protective film, the mechanical durability of the reflecting member is lowered.
  • Example 1 in which a Ti film or Nb film was provided as a protective film, no peeling occurred in the peeling test, and the average light reflectance was 93% or more even after the heat resistance test at 200 ° C. Met.
  • Example 1 in which the Ti film was provided as a protective film, the average light reflectance was maintained at 93% or more even after the heat resistance test at 300 ° C. From this result, high mechanical durability and high heat resistance can be obtained by providing a Ti film or Nb film as a protective film, and particularly high heat resistance can be obtained when a Ti film is provided as a protective film. I understand.

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Abstract

　銀反射膜を備える反射部材であって、優れた耐熱性を有する反射部材を提供する。　反射部材１は、反射部材本体１１と、銀反射膜１３と、第１の保護膜１５とを備えている。銀反射膜１３は、反射部材本体１１の上に形成されている。銀反射膜１３は、銀または銀を含む合金からなる。第１の保護膜１５は、銀反射膜１３の上に形成されている。第１の保護膜１５は、Ｔｉ，ＴａまたはＮｂからなる。

Description

反射部材
　本発明は、反射部材に関し、特に、銀反射膜を有する反射部材に関する。
　従来、銀や、銀を含む合金からなる銀反射膜を備える反射部材が用いられている。銀反射膜は、例えば、アルミニウムからなる反射膜などと比較して、高い光反射率を有する。このため、銀反射膜を用いることにより、高い光反射率を有する反射部材を実現することができる。
　しかしながら、銀反射膜は、耐候性、特に高温下における耐熱性が悪く、銀反射膜の光反射率が経時的に低下してしまうという問題がある。このような問題に鑑み、例えば、下記の特許文献１～３などにおいて、銀反射膜の上に保護膜を形成することが記載されている。特許文献１～３では、保護膜として、ＳｉＯ２膜、Ｎｉ－Ｃｒ膜、Ａｌ２Ｏ３膜、ＴｉＯ２膜などが記載されている。
特許第２８７６３２５号公報 特公平７－３４８３号公報 特開平８－２３４００４号公報
　しかしながら、銀反射膜の上に保護膜を設けたとしても、十分に優れた耐熱性を有する反射部材が得られない場合がある。
　本発明は、係る点に鑑みてなされたものであり、その目的は、銀反射膜を備える反射部材であって、優れた耐熱性を有する反射部材を提供することにある。
　本発明に係る反射部材は、反射部材本体と、銀反射膜と、第１の保護膜とを備えている。銀反射膜は、反射部材本体の上に形成されている。銀反射膜は、銀または銀を含む合金からなる。第１の保護膜は、銀反射膜の上に形成されている。第１の保護膜は、Ｔｉ，ＴａまたはＮｂからなる。
　本発明においては、銀反射膜の上に、Ｔｉ，ＴａまたはＮｂからなる第１の保護膜が形成されている。このため、反射部材が高温雰囲気中におかれた場合であっても、第１の保護膜によって空気中の酸素や硫黄から銀反射膜が好適に遮断される。よって、銀反射膜が空気中の酸素や硫黄と反応し、銀反射膜の光反射率が低下することを効果的に抑制することができる。従って、本発明に従い、銀反射膜の上に、Ｔｉ，ＴａまたはＮｂからなる第１の保護膜を形成することにより、優れた耐熱性を有する反射部材を得ることができる。特に優れた耐熱性を得る観点からは、第１の保護膜は、Ｔｉからなるものであることが好ましい。
　なお、銀を含む合金の具体例としては、例えば、Ａｇ－Ｐｄ合金、Ａｇ－Ｐｄ－Ｃｕ合金などが挙げられる。銀を含む合金における銀の含有量は、９０質量％以上であることが好ましい。
　本発明においては、反射部材は、銀反射膜と第１の保護膜との間に形成されており、酸化物からなる第２の保護膜をさらに備えていることが好ましい。酸化物からなる第２の保護膜を設けることにより、銀反射膜と第１の保護膜との間で、銀などのマイグレーションが生じ、銀反射膜の光反射率が低下することを効果的に抑制することができる。従って、より優れた耐熱性を実現することができる。
　なお、本発明において、第２の保護膜は、酸化物からなるものである限りにおいて特に限定されないが、酸化チタン、酸化ニオブ、酸化ジルコニウムまたは酸化タンタルからなるものであることが好ましい。この場合、第２の保護膜自体の耐熱性を高くできると共に、第２の保護膜と銀反射膜及び第１の保護膜との密着性を高くできるためである。
　第２の保護膜は、金属Ａｇや酸化銀などのＡｇ成分を含まないものであることが好ましい。第２の保護膜がＡｇ成分を含んでいる場合、第２の保護膜と銀反射膜及び第１の保護膜との間でマイグレーションが生じやすくなる場合があるためである。
　本発明において、反射部材本体は、特に限定されないが、優れた耐熱性を有するものであることが好ましい。具体的には、反射部材本体は、例えば、ガラスからなるものであることが好ましく、珪酸塩系ガラスや珪酸塩系結晶化ガラスなどからなるものであることがより好ましい。
　但し、その場合は、反射部材本体の上に銀反射膜を直接形成すると、銀反射膜の密着性が低くなりやすい。このため、反射部材本体と銀反射膜との間に下地膜が形成されていることが好ましい。下地膜は、反射部材本体と銀反射膜とに対する密着性に優れたものである限りにおいて特に限定されない。下地膜は、例えば、酸化チタン、酸化アルミニウムまたは酸化ジルコニウムからなることが好ましい。
　また、本発明においては、反射部材は、第１の保護膜の第２の保護膜とは反対側の表面の上に形成されている第３の保護膜をさらに備えていることが好ましい。Ｔｉ，ＴａまたはＮｂからなる第１の保護膜は、酸化物からなる保護膜に較べて、一般的に機械的耐久性が低い。このため、第３の保護膜を設けることにより、第１の保護膜が損傷することを効果的に抑制することができる。その結果、より高い耐熱性を得ることができる。
　第３の保護膜は、第１の保護膜よりも高硬度であることが好ましい。具体的には、第３の保護膜は、酸化物または窒化物からなるものであることが好ましい。より具体的には、第３の保護膜は、例えば、酸化チタン、酸化ニオブ、酸化タンタル、酸化ジルコニウム、酸化ケイ素または窒化ケイ素からなることが好ましい。
　本発明によれば、銀反射膜を備える反射部材であって、優れた耐熱性を有する反射部材を提供することができる。
図１は、本発明を実施した一実施形態に係る反射部材の略図的断面図である。 図２は、変形例に係る反射部材の略図的断面図である。 図３は、実施例１及び比較例１，２における加熱温度と平均光反射率との関係を表すグラフである。
　以下、本発明を実施した好ましい形態について、図１に示す反射部材１を例に挙げて説明する。但し、反射部材１は、単なる例示である。本発明に係る反射部材は、反射部材１に何ら限定されない。
　図１は、本実施形態に係る反射部材１の略図的断面図である。
　本実施形態に係る反射部材１は、反射部材本体１１側から入射した光を、銀反射膜１３によって反射する部材である。
　反射部材１は、反射部材本体１１を備えている。反射部材本体１１は、太陽光など、反射部材１により反射させようとする光を透過するものである。反射部材本体１１は、反射部材１の機械的強度を担保するための部材である。反射部材本体１１は、反射部材１の機械的強度を担保できるものである限りにおいて特に限定されない。反射部材本体１１は、例えば、ガラス、セラミックス、樹脂などにより形成することができる。なかでも、反射部材本体１１は、熱膨張率が低く、かつ優れた耐熱性を有するものであることが好ましいため、珪酸塩系ガラスや珪酸塩系結晶化ガラスなどのガラスまたはセラミックスからなることが好ましい。反射部材本体１１の３０℃～３８０℃における熱膨張係数は、－５×１０－７／Ｋ～９０×１０－７／Ｋの範囲内であることが好ましい。
　反射部材本体１１の厚みｔ１は、反射部材１の機械的強度を担保できる厚みである限りにおいて特に限定されない。反射部材本体１１の厚みｔ１は、例えば、０．１ｍｍ～１０ｍｍ程度とすることができる。
　反射部材本体１１の上には、銀反射膜１３が形成されている。銀反射膜１３は、反射部材１の反射特性を専ら担う膜である。銀反射膜１３は、銀または銀を含む合金からなる。銀を含む合金において、銀の含有量は、９０質量％以上であることが好ましい。なお、銀を含む合金の具体例としては、例えば、Ａｇ－Ｐｄ合金、Ａｇ－Ｐｄ－Ｃｕ合金などが挙げられる。
　銀反射膜１３の厚みｔ３は、例えば、１００ｎｍ以上であることが好ましく、１５０ｎｍ以上であることがより好ましい。銀反射膜１３の厚みｔ３が小さすぎると、銀反射膜１３の光反射率が低くなりすぎる場合があるためである。但し、銀反射膜１３の厚みｔ３が厚すぎると、銀反射膜１３の形成に要するコストが高くなる。このため、銀反射膜１３の厚みｔ３は、５００ｎｍ以下であることが好ましく、３００ｎｍ以下であることがより好ましい。
　銀反射膜１３と反射部材本体１１との間には、下地膜１２が設けられている。この下地膜１２は、銀反射膜１３と反射部材本体１１との密着強度を向上する機能を有する。このため、下地膜１２と銀反射膜１３との密着強度、及び反射部材本体１１と銀反射膜１３との密着強度のそれぞれが、銀反射膜が反射部材本体の上に直接形成された場合の銀反射膜と反射部材本体との密着強度よりも高くなるような材料により下地膜１２が形成されている。下地膜１２の材質は、反射部材本体１１と銀反射膜１３との種類等に応じて適宜選択することができる。下地膜１２は、例えば、酸化チタン、酸化アルミニウムまたは酸化ジルコニウムからなることが好ましい。
　下地膜１２の厚みｔ２は、銀反射膜１３と反射部材本体１１との密着強度が向上するような厚みである限りにおいて特に限定されない。下地膜１２は、例えば、１０ｎｍ以上５００ｎｍ以下とすることができる。
　銀反射膜１３の上には、第１の保護膜１５が形成されている。第１の保護膜１５は、Ｔｉ，ＴａまたはＮｂからなる。このため、第１の保護膜１５は、空気中の酸素や硫黄の透過性が低い。よって、第１の保護膜１５を銀反射膜１３の上に形成することにより、銀反射膜１３を空気中の酸素や硫黄から好適に保護することができるため、銀反射膜１３が空気中の酸素や硫黄と反応し、銀反射膜１３の光反射率が低下することを効果的に抑制することができる。従って、優れた耐熱性を得ることができる。特に優れた耐熱性を得る観点からは、第１の保護膜１５がＴｉからなるものであることがより好ましい。
　第１の保護膜１５の厚みｔ５は、３０ｎｍ～１０００ｎｍであることが好ましく、５０ｎｍ～５００ｎｍであることがより好ましく、１００ｎｍ～４００ｎｍであることがさらに好ましい。第１の保護膜１５の厚みｔ５が薄すぎると、上記酸素及び硫黄の遮断効果が十分に得られなくなる場合がある。第１の保護膜１５の厚みｔ５が厚すぎると、反射部材１の光反射率が低くなりすぎたり、第１の保護膜１５が剥離しやすくなったりする場合がある。
　ところで、銀はマイグレーションしやすいため、例えばＴｉ，ＴａまたはＮｂからなる第１の保護膜を銀反射膜の上に直接形成した場合、金属からなる第１の保護膜と銀反射膜との間でマイグレーションが生じ、銀反射膜の光反射率が低くなってしまう場合がある。
　それに対して本実施形態では、銀反射膜１３と、金属からなる第１の保護膜１５との間に酸化物からなる第２の保護膜１４が設けられている。従って、銀反射膜１３からのＡｇのマイグレーションを効果的に抑制することができる。その結果、反射部材１の光反射率の低下を抑制することができる。
　第２の保護膜１４は、Ａｇのマイグレーションを抑制できると共に、銀反射膜１３及び第１の保護膜１５に対する密着強度が高く、かつ優れた耐熱性を有するものであることが好ましい。従って、第２の保護膜１４は、例えば、酸化チタン、酸化ニオブ、酸化ジルコニウムまたは酸化タンタルからなるものであることが好ましい。また、第２の保護膜１４は、金属Ａｇや酸化銀などのＡｇ成分を含まないものであることが好ましい。
　第２の保護膜１４の厚みｔ４は、Ａｇのマイグレーションを抑制できる限りにおいて特に限定されない。第２の保護膜１４の厚みｔ４は、例えば、１０ｎｍ～１００ｎｍ程度であることが好ましい。第２の保護膜１４の厚みｔ４が薄すぎると、Ａｇのマイグレーションを十分に抑制できない場合がある。第２の保護膜１４の厚みｔ４が厚すぎると、第２の保護膜１４が剥離しやすくなる場合がある。
　本実施形態では、第１の保護膜１５の上には、第３の保護膜１６が形成されている。この第３の保護膜１６により、Ｔｉ，ＴａまたはＮｂからなり、低硬度である第１の保護膜１５が好適に保護されている。従って、より高い耐熱性を得ることができる。
　第３の保護膜１６は、特に限定されないが、第１の保護膜１５よりも高硬度な膜であることが好ましい。従って、第３の保護膜１６は、例えば、酸化チタン、酸化ニオブ、酸化タンタル、酸化ジルコニウム、酸化ケイ素または窒化ケイ素からなることが好ましい。
　第３の保護膜１６の厚みｔ６は、第１の保護膜１５を好適に保護できるような厚みである限りにおいて特に限定されず、例えば、１００ｎｍ～１０００ｎｍ程度とすることができる。
　本実施形態において、下地膜１２、銀反射膜１３、第１～第３の保護膜１４～１６のそれぞれの形成方法は特に限定されない。下地膜１２、銀反射膜１３、第１～第３の保護膜１４～１６のそれぞれは、例えば、蒸着法、スパッタリング法やＣＶＤ（Ｃｈｅｍｉｃａｌ　Ｖａｐｏｒ　Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）法などの薄膜形成法により形成することができる。なお、Ｔｉ，ＴａまたはＮｂからなる第１の保護膜１５は、不活性ガス雰囲気または還元性雰囲気で形成することが好ましい。また、銀反射膜１３の形成後に、銀反射膜１３を、例えば、１００℃～２００℃程度で熱処理することが好ましい。そのようにすることで、銀反射膜１３における銀の粒成長を促進できる。その結果、より高い光反射率を得ることができる。
　（変形例）
　図２は、変形例に係る反射部材の略図的断面図である。
　上記実施形態では、銀反射膜１３と反射部材本体１１との間に下地膜１２が形成されており、さらに、第１の保護膜１５の両側に第２及び第３の保護膜１４，１６が形成されている例について説明した。但し、本発明において、下地膜１２並びに第２及び第３の保護膜１４，１６は必ずしも必須ではない。下地膜１２並びに第２及び第３の保護膜１４，１６の少なくとも一つが形成されていなくてもよい。また、例えば、図２に示すように、下地膜１２並びに第２及び第３の保護膜１４，１６が形成されておらず、反射部材本体１１と、銀反射膜１３と第１の保護膜１５とにより反射部材が構成されていてもよい。
　以下、本発明について、具体的な実施例に基づいて、さらに詳細に説明するが、本発明は以下の実施例に何ら限定されるものではなく、その要旨を変更しない範囲において適宜変更して実施することが可能である。
　（実施例１）
　本実施例１では、第２及び第３の保護膜１４，１６が形成されていないこと以外は、図１に示す上記実施形態に係る反射部材１と同様の構成を有する反射部材を下記の要領で作製した。具体的には、ガラス基板の上に、厚み２０ｎｍのＡｌ２Ｏ３膜を、スパッタリング法により形成した。次に、Ａｌ２Ｏ３膜の上に、厚み１５０ｎｍの銀反射膜を、スパッタリング法により形成した。最後に、銀反射膜の上に、厚み１５０ｎｍのＴｉ膜を、スパッタリング法により形成することにより実施例１に係る反射部材を作製した。
　（実施例２）
　Ｔｉ膜に替えて、厚み１５０ｎｍのＮｂ膜を形成したこと以外は、上記実施例１と同様にして実施例２に係る反射部材を作製した。
　（比較例１）
　Ｔｉ膜を形成しなかったこと以外は、上記実施例１と同様にして比較例１に係る反射部材を作製した。
　（比較例２）
　Ｔｉ膜に替えて、厚み１５０ｎｍのＡｌ膜を形成したこと以外は、上記実施例１と同様にして比較例２に係る反射部材を作製した。
　（比較例３）
　Ｔｉ膜に替えて、厚み１５０ｎｍのＣｕ膜と、厚み１５０ｎｍのＡｌ膜との積層体を形成したこと以外は、上記実施例１と同様にして比較例３に係る反射部材を作製した。
　（比較例４）
　Ｔｉ膜に替えて、厚み１００ｎｍのＳｉ膜を形成したこと以外は、上記実施例１と同様にして比較例４に係る反射部材を作製した。
　（比較例５）
　Ｔｉ膜に替えて、厚み１０ｎｍのＳｉ膜と、厚み１００ｎｍのＳｉＮ膜との積層体を形成したこと以外は、上記実施例１と同様にして比較例５に係る反射部材を作製した。
　（比較例６）
　Ｔｉ膜に替えて、厚み１００ｎｍのＳｉ膜と、厚み１５０ｎｍのＴｉ膜との積層体を形成したこと以外は、上記実施例１と同様にして比較例６に係る反射部材を作製した。
　（比較例７）
　Ｔｉ膜に替えて、厚み１００ｎｍのＳｉＮ膜を形成したこと以外は、上記実施例１と同様にして比較例７に係る反射部材を作製した。
　（比較例８）
　Ｔｉ膜に替えて、厚み１５０ｎｍのＴｉＮ膜を形成したこと以外は、上記実施例１と同様にして比較例８に係る反射部材を作製した。
　（耐熱試験１）
　実施例１及び比較例１，２のそれぞれにおいて作製した反射部材を湿度８５％で、２５℃、１００℃または２００℃の恒温槽に１２０時間放置した。その後、各反射部材に、波長４００ｎｍ～２５００ｎｍの光が入射角１２°で入射したときの平均光反射率を、日立製作所社製Ｕ－４０００を用いて測定した。結果を、図３に示す。
　図３に示すように、２５℃では、実施例１及び比較例１，２のいずれの反射部材においても、ほぼ同様の光反射率であった。しかしながら、加熱温度が高くなるにつれ、保護膜を形成していない比較例１やＡｌ膜を保護膜として形成した比較例２では、光反射率が低下する傾向にあった。これは、保護膜を形成していない比較例１やＡｌ膜を保護膜として形成した比較例２においては、銀反射膜が劣化したものと考えられる。なかでも、Ａｌ膜を保護膜として形成した比較例２で、光反射率が大きく低下した理由は、Ａｌ膜と銀反射膜との間でＡｌとＡｇのマイグレーションが生じ、銀反射膜の光反射率が低下してしまったためであると考えられる。
　それに対して、Ｔｉ膜を第１の保護膜として形成した実施例１では、２００℃まで加熱した場合であってもほとんど光反射率は低下しなかった。この結果から、Ｔｉ膜を第１の保護膜として形成することにより、優れた耐熱性が得られることが分かる。
　（耐熱試験２）
　上記実施例１，２及び比較例２～８のそれぞれにおいて作製した反射部材を、１００℃、２００℃または３００℃の恒温槽に１２０時間放置した。その後、各反射部材に、波長４００ｎｍ～２５００ｎｍの光が入射角１２°で入射したときの平均光反射率を、日立製作所社製Ｕ－４０００を用いて測定した。そして、耐熱試験実施後の平均光反射率が、９３％以上である場合を「○」とし、９３％未満である場合または銀反射膜と保護膜との間で剥離した場合を「×」として評価した。結果を下記の表１に示す。
　（剥離試験）
　上記実施例１，２及び比較例２～８のそれぞれにおいて作製した反射部材の下地膜、銀反射膜及び保護膜を貫通するようにカッターナイフで５本の傷を、５ｍｍの間隔で入れ、スリーエム社製＃６１０スコッチテープを５本の傷を跨るように貼った後に、上記スコッチテープを剥がす作業を５回繰り返した。その結果、銀反射膜と保護膜との間で剥離したものを「×」とし、剥離が生じなかったものを「○」として評価した。結果を下記の表１に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000001
　上記表１に示すように、保護膜として、Ａｌ膜またはＣｕ膜／Ａｌ膜を設けた比較例２、３では、２００℃の耐熱性試験で平均光反射率が９３％未満となった。また、保護膜として、Ｓｉ膜，Ｓｉ膜／ＳｉＮ膜またはＳｉ膜／Ｔｉ膜を設けた比較例４～６では、いずれも２００℃の耐熱試験実施後に銀反射膜とＳｉ膜との間で剥離が発生した。保護膜としてＳｉＮ膜またはＴｉＮ膜を設けた比較例７、８では、剥離試験で銀反射膜と保護膜との間で剥離した。この結果から、ＳｉＮ膜やＴｉＮ膜を保護膜として設けた場合は、反射部材の機械的耐久性が低くなることが分かる。
　それに対して、Ｔｉ膜またはＮｂ膜を保護膜として設けた実施例１，２では、剥離試験において剥離が生じることがなく、２００℃の耐熱性試験後においても、平均光反射率は９３％以上であった。特に、Ｔｉ膜を保護膜として設けた実施例１では、３００℃の耐熱性試験後においても、平均光反射率は９３％以上を維持していた。この結果から、Ｔｉ膜またはＮｂ膜を保護膜として設けることにより、高い機械的耐久性と高い耐熱性が得られ、Ｔｉ膜を保護膜として設けた場合は、特に高い耐熱性が得られることが分かる。
１…反射部材
１１…反射部材本体
１２…下地膜
１３…銀反射膜
１４…第２の保護膜
１５…第１の保護膜
１６…第３の保護膜

Claims (9)

  1. 　反射部材本体と、
    　前記反射部材本体の上に形成されており、銀または銀を含む合金からなる銀反射膜と、
    　銀反射膜の上に形成されており、Ｔｉ，ＴａまたはＮｂからなる第１の保護膜と、
    を備える、反射部材。
  2. 　前記第１の保護膜は、Ｔｉからなる、請求項１に記載の反射部材。
  3. 　前記銀反射膜と前記第１の保護膜との間に形成されており、酸化物からなる第２の保護膜をさらに備える、請求項１または２に記載の反射部材。
  4. 　前記第２の保護膜は、酸化チタン、酸化ニオブ、酸化ジルコニウムまたは酸化タンタルからなる、請求項３に記載の反射部材。
  5. 　前記第２の保護膜は、Ａｇ成分を含まない、請求項３または４に記載の反射部材。
  6. 　前記反射部材本体は、ガラスからなり、
    　前記反射部材本体と前記銀反射膜との間に形成されている下地膜をさらに備える、請求項１～５のいずれか一項に記載の反射部材。
  7. 　前記下地膜は、酸化チタン、酸化アルミニウムまたは酸化ジルコニウムからなる、請求項６に記載の反射部材。
  8. 　前記第１の保護膜の前記第２の保護膜とは反対側の表面の上に形成されている第３の保護膜をさらに備える、請求項１～７のいずれか一項に記載の反射部材。
  9. 　前記第３の保護膜は、酸化チタン、酸化ニオブ、酸化タンタル、酸化ジルコニウム、酸化ケイ素または窒化ケイ素からなる、請求項８に記載の反射部材。
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